KR20140082335A - 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치 - Google Patents

평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치 Download PDF

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츠토무 이치카와
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Abstract

본 발명은 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고, 상기 화상처리부는, 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 처리하는 전처리부와; 상기 전처리부로부터 입력된 화상에 대해, 에지(edge) 특성을 검출하여 얼룩영역후보를 추출하는 결함후보추출부와; 상기 결함후보추출부로부터 입력된 얼룩영역후보를 판정하는 판정부를 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 제공한다.

Description

평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치{Method and apparatus of inspecting mura of flat display}
본 발명은 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 얼룩을 자동 검출함으로써 검사 공정의 효율화 및 고속화와 제조 공정의 비용을 절감할 수 있는 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD : liquid crystal display), 플라즈마표시장치(PDP : plasma display panel), 유기발광표시장치 (OLED : organic light emitting diode)와 같은 여러가지 평판디스플레이(flat display)가 활용되고 있다.
평판디스플레이에는 여러 가지 요인으로 인해 휘도와 색의 불균일 즉 얼룩이 발생할 수 있다. 얼룩 검사는 일반적으로 검사원에 의해 육안으로 수행되었는데, 이와 같은 경우에는 많은 시간, 인력, 비용이 발생하기 때문에 얼룩 검사의 자동화가 요구되어 왔다.
얼룩 검사 자동화 방법으로서, 종래에는 발광 상태의 디스플레이를 카메라로 촬영하고, 촬영된 화상에 대한 처리를 수행하여 얼룩 검출을 수행하는 방안이 제시되었다. 이와 같은 종래의 얼룩 검사 방법은, 촬영된 화상에 대한 전처리 과정과, 결함후보추출 과정과, 판정 과정으로 구성된다.
여기서, 결함후보추출 과정은, 전처리 과정에서 입력 화상과 배경예측화상의 차분을 통해 생성된 차분화상에 대해 2치화 및 라벨링을 통해 결함후보를 추출하게 된다.
그런데, 차분화상에는 진짜 얼룩 영역뿐만 아니라 그 이외의 영역에도 휘도의 기복이 남아있게 된다.
따라서, 결함후보추출 과정에서 단순한 2치화 처리가 수행되면, 진짜 얼룩 영역이 누락되고 가짜 얼룩 영역이 검출되어, 검출 정밀도 저하 및 오검출 증가가 유발된다. 특히, 휘도 변화가 완만한 부정형 얼룩을 검출하는 것이 쉽지 않게 된다.
이처럼, 종래기술에 따르면, 얼룩 검출에 있어 오검출이 발생하며, 검출 효율이 저하되고, 비용이 상승하는 등의 여러 문제가 발생하게 된다.
본 발명은, 얼룩 검사의 고효율 및 고속화를 도모하고 디스플레이 제조 비용을 절감할 수 있는 방안을 제공하는 데 그 과제가 있다.
전술한 바와 같은 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고, 상기 화상처리부는, 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 처리하는 전처리부와; 상기 전처리부로부터 입력된 화상에 대해, 에지(edge) 특성을 검출하여 얼룩영역후보를 추출하는 결함후보추출부와; 상기 결함후보추출부로부터 입력된 얼룩영역후보를 판정하는 판정부를 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 제공한다.
여기서, 상기 결함후보추출부는, 상기 전처리부로부터 입력된 화상에 대해 LOG(Laplacian Of Gaussian)필터 처리를 수행하는 LOG필터부와; 상기 LOG필터 처리된 화상에 대해, 에지 및 에지 경사를 각각 추출하는 제로크로스검출부 및 경사검출부와; 상기 제로크로스검출부 및 경사검출부의 검출 결과에 따라, 밝은영역과 어두운영역을 판정하는 흑백영역판정부와; 검출 대상의 흑백 여부에 따라 상기 판정된 흰영역과 검은영역 중 대응되는 영역을 메워서, 상기 얼룩영역후보를 추출하는 얼룩영역후보추출부와; 상기 전처리부 또는 LOG필터부로부터 입력된 화상으로부터 에지강도를 검출하는 에지강도검출부와; 상기 검출된 에지강도의 강한 부분을 마스크로 추출하는 마스크추출부와; 상기 전처리부로부터 입력된 화상을 2치화처리하여 상기 얼룩영역후보의 코어를 추출하는 코어추출부와; 상기 얼룩영역후보와 마스크와 코어로부터 상기 얼룩영역후보를 한정하는 얼룩영역후보한정부와; 상기 한정된 얼룩영역후보를 라벨링하는 라벨링부를 포함할 수 있다.
상기 제로크로스검출부는, 상기 LOG필터 처리된 화상신호값이 0인 지점과, 화상신호의 극성이 부(-)에서 정(+)으로 또는 정(+)에서 부(-)로 변화하는 지점을 에지로 검출하고, 상기 얼룩영역후보검출부는, 상기 에지의 경사 방향에 따라 흰영역의 얼룩영역후보와 검은영역의 얼룩영역후보를 검출할 수 있다.
상기 얼룩영역후보한정부는, 상기 얼룩영역후보와 마스크를 논리곱하고 상기 논리곱의 결과와 상기 코어를 논리합하여 상기 얼룩영역후보를 한정할 수 있다.
상기 전처리부는, 상기 카메라로부터 입력된 화상에 대한 배경예측화상을 생성하고, 상기 카메라로부터 입력된 화상과 배경예측화상의 차분화상을 생성하여, 상기 결함후보추출부에 출력할 수 있다.
다른 측면에서, 본 발명은 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고, 상기 화상처리 단계는, 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 처리하는 전처리 단계와; 상기 전처리된 화상에 대해, 에지(edge) 특성을 검출하여 얼룩영역후보를 추출하는 결함후보추출 단계와; 상기 추출된 얼룩영역후보를 판정하는 판정 단계를 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 방법을 제공한다.
여기서, 상기 결함후보추출 단계는, 상기 전처리된 화상에 대해 LOG(Laplacian Of Gaussian)필터 처리를 수행하는 단계와; 상기 LOG필터 처리된 화상에 대해, 에지 및 에지 경사를 검출하는 단계와; 상기 에지 및 에지 경사 검출 결과에 따라, 밝은영역과 어두운영역을 판정하는 단계와; 검출 대상의 흑백 여부에 따라 상기 판정된 흰영역과 검은영역 중 대응되는 영역을 메워서, 상기 얼룩영역후보를 추출하는 단계와; 상기 전처리된 화상 또는 LOG필터 처리된 화상으로부터 에지강도를 검출하는 단계와; 상기 검출된 에지강도의 강한 부분을 마스크로 추출하는 단계와; 상기 전처리된 화상을 2치화처리하여 상기 얼룩영역후보의 코어를 추출하는단계와; 상기 얼룩영역후보와 마스크와 코어로부터 상기 얼룩영역후보를 한정하는 단계와; 상기 한정된 얼룩영역후보를 라벨링하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 에지 검출 단계는, 화상신호값이 0인 지점과, 화상신호의 극성이 부(-)에서 정(+)으로 또는 정(+)에서 부(-)로 변화하는 지점을 에지로 검출하고, 상기 에지의 경사 방향에 따라 흰영역의 얼룩영역후보와 검은영역의 얼룩영역후보를 검출할 수 있다.
상기 얼룩영역후보를 한정하는 단계는, 상기 얼룩영역후보와 마스크를 논리곱하고 상기 논리곱의 결과와 상기 코어를 논리합하여 상기 얼룩영역후보를 한정할 수 있다.
상기 전처리 단계는, 상기 카메라로부터 입력된 화상에 대한 배경예측화상을 생성하는 단계와; 상기 카메라로부터 입력된 화상과 배경예측화상의 차분화상을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 에지 검출 및 에지 근방의 신호 변화의 방향 검출을 기초로 얼룩영역후보를 추출한다. 이와 같은 얼룩영역후보에 대해, 에지 강도 등의 데이터를 사용하여 마스킹(masking)함으로써, 보다 가능성이 높은 얼룩영역후보를 한정할 수 있게 된다. 또한, 얼룩영역후보에 대해, 얼룩의 가능성이 매우 높은 코어 데이터를 사용하여, 얼룩영역후보의 누락을 방지할 수 있게 된다.
따라서, 검출 정밀도가 상당한 정도로 향상될 수 있게 된다. 특히, 종래의 2치화 처리를 통해 검출이 불가능했던 휘도 변화가 완만한 부정형 얼룩 또한 효과적으로 검출할 수 있게 된다.
결과적으로, 얼룩 결함 검출을 위한 화상처리 과정이 정밀화되고 고속화될 수 있게 되며, 이로 인해 디스플레이장치의 제조 비용 또한 감소될 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 개략적으로 도시한 블럭도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 얼룩후보추출부를 개략적으로 도시한 블럭도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 전처리부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 결함후보추출부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 판정부의 판정 결과를 도시한 도면.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 얼룩후보추출부를 개략적으로 도시한 블럭도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 얼룩 검사 장치(100)는 카메라(110)와 화상처리부(120)를 포함할 수 있다. 한편, 얼룩 검사 장치(100)는 화상처리부(120)를 통한 얼룩 검사 결과를 시각적으로 표시하는 표시부(130)를 더욱 구비할 수 있다.
카메라(110)는 검사 대상이 되는 디스플레이패널(400)을 촬영하여 화상을 발생시키는 수단에 해당된다. 이와 같이 발생된 화상은 화상처리부(120)에 전송된다.
얼룩 검사를 위해, 디스플레이패널(400)에는 검사용 신호가 인가되어 디스플레이패널(400)은 발광하게 되며, 카메라(110)는 발광 상태의 디스플레이패널(400)을 촬영하게 된다.
여기서, 디스플레이패널(400)로서는 다양한 형태의 표시장치가 사용될 수 있다. 예를 들면, 액정표시장치, 유기발광표시장치, 플라즈마표시장치 등이 사용될 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다.
화상처리부(120)는 카메라(110)를 통해 촬영된 화상을 입력받고, 해당 입력 화상을 처리하여 얼룩 결함을 검출하는 기능을 하게 된다.
본 발명의 실시예에 따른 화상처리부(120)는 전처리부(121)와, 결함 후보 추출부(122)와, 판정부(123)를 포함할 수 있다.
전처리부(121)는 카메라(110)에 의해 촬영된 입력 화상에 대해, 입력 화상의 배경예측화상을 생성하고, 입력 화상과 배경예측화상에 대해 차분 연산을 수행하여, 차분화상을 생성할 수 있다.
이와 관련하여, 도 3을 참조할 수 있다. 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 전처리부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 입력 화상에 대한 배경예측화상을 생성하게 된다. 여기서, 카메라(110)에 의해 촬영된 화상에는 디스플레이패널(400)의 진짜 얼룩 결함 이외에도 디스플레이패널(400)의 구조적 특성 등에 따른 휘도 변화가 반영되어 있다. 예를 들면, 수직이나 수평 방향으로의 선 형상의 얼룩이나 화면 상하좌우단에서의 휘도 하락 등이 입력 화상에 나타나게 된다.
따라서, 디스플레이패널(400)의 구조적 특성 등에 따른 휘도 변화를 나타내는 화상인 배경예측화상을 생성하게 된다.
이와 같이 생성된 배경예측화상과 입력화상을 차분연산하여, 차분화상을 생성하게 된다. 이와 같이 생성된 차분화상에는, 진짜 얼룩이 잘 보존되어 있으며, 디스플레이패널(400)의 구조적 특성 등에 따른 휘도 변화가 상당한 정도로 제거될 수 있게 된다.
한편, 전처리부(121)에서의 위와 같은 과정들을 진행하기에 앞서, 입력 화상에 대해 로우패스 필터(low-pass filter) 등을 사용한 노이즈 제거 처리를 수행할 수 있다. 이와 같이 노이즈 제거 처리가 수행된 입력 화상을 사용하여, 전술한 바와 같은 배경예측화상과 차분화상을 생성할 수 있다.
전술한 바와 같이 전처리부(121)를 통해 생성된 화상으로서 차분화상은 결함후보추출부(122)에 입력된다. 결함후보추출부(122)에 대해 도 4를 더욱 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 결함후보추출부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면이다.
결함후보추출부(122)는 입력된 차분화상을 기초로, 얼룩영역후보와 마스크화상 및 코어화상을 생성하고, 이들에 대한 논리연산을 통해 얼룩후보를 한정하여 최종적으로 추출하게 된다.
이와 같은 결함후보추출부(122)는 본 발명의 실시예의 특징적인 구성으로서, 이에 대해 도 4를 더욱 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 결함후보추출부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면이다.
도 2를 참조하면, 결함후보추출부(122)는, LOG(Laplacian Of Gaussian)필터부(122a)와, 제로크로스(zero-cross)검출부 및 경사검출부(122b, 122c)와, 흑백영역판정부(122d)와, 얼룩영역후보추출부(122e)와, 에지(edge)강도검출부(122f)와, 마스크생성부(122g)와, 코어검출부(122h)와, 얼룩영역후보한정부(122i)와, 라벨링부(122j)를 포함할 수 있다.
LOG필터부(122a)는 전처리부(121)로부터 입력된 화상인 차분화상에 대해, LOG 필터 처리를 수행하게 된다. LOG 필터 처리 수식은,
Figure pat00001
과 같이 표현된다.
전술한 바와 같이 LOG필터 처리가 수행된 화상에 대해, 제로크로스검출부(122b)는 화상신호의 극성이 변화하는 지점(즉, 부(-)에서 정(+)으로, 또는 정(+)에서 부(-)로 변화하는 지점)을 에지(edge)로 검출하게 된다. 또한, 화상신호값이 0인 지점 또한 에지로 검출할 수 있게 된다.
이와 같은 에지 검출에 따른 에지 화상이 도 4에 도시되어 있다.
위와 같은 에지 검출과 함께, 경사검출부(122c)는 에지의 경사를 검출하게 된다.
제로크로스검출부 및 경사검출부(122b, 122c)의 에지 특성 검출 결과는 흑백영역판정부(122d)에 전달된다. 흑백영역판정부(122d)는, 에지의 경사에 따라 에지에 의해 둘러싸인 폐영역을 밝은영역이나 어두운영역으로 판정하게 된다. 즉, 에지의 경사가 부(-)이면 흰영역의 에지에 해당되므로, 해당 에지로 둘러싸인 폐영역은 흰영역으로 판정된다. 그리고, 에지의 경사가 정(+)이면 검은영역의 에지에 해당되므로, 해당 에지로 둘러싸인 폐영역은 검은영역으로 판정한다.
흑백영역판정부(122d)의 판정 결과는 얼룩영역후보추출부(122e)에 전달된다. 얼룩영역후보추출불(122e)는, 검출 대상이 어두운 얼룩인 경우에는 검은색 영역을 선택하고 선택된 폐영역 내를 메워서 출력하며, 검출 대상이 밝은 얼룩인 경우에는 흰색 영역을 선택하고 선택된 폐영역 내를 메워서 출력하게 된다.
본 발명의 실시예에서는, 화상에 어두운 얼룩이 존재하는 경우를 예로 들었으며, 이에 따라 얼룩영역후보추출부(122e)에 의해 출력된 화상으로서 흑색영역화상이 도 4에 도시되어 있다.
전술한 바와 같은 과정을 통해, 차분화상으로부터 얼룩영역후보가 추출될 수 있게 된다.
한편, 에지강도검출부(122f)는 차분화상을 입력받고, 이에 대해 인접화소 차분의 2승 계산 등을 통해 에지 강도를 검출하게 된다.
한편, 다른 예로서, LOG필터부(122a)를 통해 출력된 화상이 에지강도검출부(122f)에 입력되고, 이를 기초로 에지강도가 검출될 수 있다.
이와 같이 검출된 에지강도는 마스크생성부(122g)에 입력된다. 마스크생성부(122g)는, 에지 강도가 설정된 값보다 강한 부분을 2치화하여 검출하여, 마스크를 생성하게 된다. 이와 같은 마스크는, 얼룩영역후보를 마스킹하여 후보를 한정하기 위한 수단에 해당된다.
한편, 코어검출부(122h)는 차분화상을 입력받고 이를 2치화함으로써, 예를 들면 차분화상에서 검은 영역이 가장 확실한 흑색 코어를 검출하게 된다. 동일한 방식으로, 흰 영역이 가장 확실한 백색코어를 검출할 수 있다. 이와 같은 코어는, 얼룩영역후보가 누락되는 것을 보정하기 위한 수단에 해당된다.
전술한 바와 같이, 서로 병렬적으로 생성된 얼룩영역후보와 마스크와 코어는, 얼룩영역후보한정부(122i)에 입력된다.
얼룩영역후보한정부(122i)는 입력된 결과들에 대한 논리연산을 통해, 얼룩영역 후보 검출의 정밀도를 높이게 된다.
이와 관련하여 예를 들면, 에지 특성이 반영된 얼룩영역후보와 마스크를 논리곱(즉, AND 연산)하여, 얼룩영역후보를 한정하게 된다. 즉, 보다 확실한 얼룩영역후보를 검출하게 된다.
그리고, 위와 같은 논리곱의 결과와 코어를 논리합(즉, OR 연산)하여, 얼룩영역후보의 누락을 보정하게 된다.
이처럼, 논리연산을 통해 얼룩후보영역을 한정함으로써, 확실한 결함 후보를 추출할 수 있게 된다.
위와 같은 얼룩영역후보한정부(122i)의 결과는, 라벨링부(122j)에 전달된다. 라벨링부(122i)는, 한정된 얼룩영역후보에 대해 식별 번호를 부여하는 라벨링 처리를 수행하게 된다.
전술한 바와 같은 여러 과정을 통해, 결함후보추출부(122)는 얼룩영역후보를 추출하게 된다.
다음으로, 판정부(123)는 결함후보추출부(122)에 의해 추출된 얼룩영역후보에 대해 최종적으로 얼룩 결함 여부를 판정하게 된다. 이와 관련하여 예를 들면, 판정부(123)는, 얼룩영역후보에 대해 특징량(예를 들면, 휘도값이나 명암비, SEMU 값 등의 파라미터)을 계산할 수 있다. 여기서, SEMU는 SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International) Mura의 약어이다. 그리고, 계산된 특징량을 기초로 결함 여부를 최종적으로 판정할 수 있는데, 이와 같은 판정은 축적된 결함 판정 정보 등를 기초로 이루어질 수 있다. 이와 관련하여, 도 5를 참조하면, 판정부(123)에 의해 판정결과를 도시하고 있다.
전술한 바와 같은 과정을 통한 화상처리부(120)의 결함 판정 결과는 표시부(130)에 전달되어 화면으로 표시될 수 있게 된다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 에지 검출 및 에지 근방의 신호 변화의 방향 검출을 기초로 얼룩영역후보를 추출한다. 이와 같은 얼룩영역후보에 대해, 에지 강도 등의 데이터를 사용하여 마스킹(masking)함으로써, 보다 가능성이 높은 얼룩영역후보를 한정할 수 있게 된다. 또한, 얼룩영역후보에 대해, 얼룩의 가능성이 매우 높은 코어 데이터를 사용하여, 얼룩영역후보의 누락을 방지할 수 있게 된다.
따라서, 검출 정밀도가 상당한 정도로 향상될 수 있게 된다. 특히, 종래의 2치화 처리를 통해 검출이 불가능했던 휘도 변화가 완만한 부정형 얼룩 또한 효과적으로 검출할 수 있게 된다.
결과적으로, 얼룩 결함 검출을 위한 화상처리 과정이 정밀화되고 고속화될 수 있게 되며, 이로 인해 디스플레이장치의 제조 비용 또한 감소될 수 있게 된다.
전술한 본 발명의 실시예는 본 발명의 일예로서, 본 발명의 정신에 포함되는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명은, 첨부된 특허청구범위 및 이와 등가되는 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.
122: 결함후보추출부 122a: LOG필터부
122b: 제로크로스검출부 122c: 경사검출부
122d: 흑백영역판정부 122e: 얼룩영역후보추출부
122f: 에지강도검출부 122g: 마스크화상생성부
122h: 코어화상생성부 122i: 얼룩영역후보한정부
122j: 라벨링부

Claims (10)

  1. 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고,
    상기 화상처리부는,
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 처리하는 전처리부와;
    상기 전처리부로부터 입력된 화상에 대해, 에지(edge) 특성을 검출하여 얼룩영역후보를 추출하는 결함후보추출부와;
    상기 결함후보추출부로부터 입력된 얼룩영역후보를 판정하는 판정부를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 결함후보추출부는,
    상기 전처리부로부터 입력된 화상에 대해 LOG(Laplacian Of Gaussian)필터 처리를 수행하는 LOG필터부와;
    상기 LOG필터 처리된 화상에 대해, 에지 및 에지 경사를 각각 추출하는 제로크로스검출부 및 경사검출부와;
    상기 제로크로스검출부 및 경사검출부의 검출 결과에 따라, 흰영역과 검은영역을 판정하는 흑백영역판정부와;
    검출 대상의 흑백 여부에 따라 상기 판정된 흰영역과 검은영역 중 대응되는 영역을 메워서, 상기 얼룩영역후보를 추출하는 얼룩영역후보추출부와;
    상기 전처리부 또는 LOG필터부로부터 입력된 화상으로부터 에지강도를 검출하는 에지강도검출부와;
    상기 검출된 에지강도의 강한 부분을 마스크로 추출하는 마스크추출부와;
    상기 전처리부로부터 입력된 화상을 2치화처리하여 상기 얼룩영역후보의 코어를 추출하는 코어추출부와;
    상기 얼룩영역후보와 마스크와 코어로부터 상기 얼룩영역후보를 한정하는 얼룩영역후보한정부와;
    상기 한정된 얼룩영역후보를 라벨링하는 라벨링부를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제로크로스검출부는, 화상신호값이 0인 지점과, 화상신호의 극성이 부(-)에서 정(+)으로 또는 정(+)에서 부(-)로 변화하는 지점을 에지로 검출하고,
    상기 얼룩영역후보검출부는, 상기 에지의 경사 방향에 따라 흰영역의 얼룩영역후보와 검은영역의 얼룩영역후보를 검출하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 얼룩영역후보한정부는, 상기 얼룩영역후보와 마스크를 논리곱하고 상기 논리곱의 결과와 상기 코어를 논리합하여 상기 얼룩영역후보를 한정하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 전처리부는,
    상기 카메라로부터 입력된 화상에 대한 배경예측화상을 생성하고,
    상기 카메라로부터 입력된 화상과 배경예측화상의 차분화상을 생성하여, 상기 결함후보추출부에 출력하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  6. 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고,
    상기 화상처리 단계는,
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 처리하는 전처리 단계와;
    상기 전처리된 화상에 대해, 에지(edge) 특성을 검출하여 얼룩영역후보를 추출하는 결함후보추출 단계와;
    상기 추출된 얼룩영역후보를 판정하는 판정 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 결함후보추출 단계는,
    상기 전처리된 화상에 대해 LOG(Laplacian Of Gaussian)필터 처리를 수행하는 단계와;
    상기 LOG필터 처리된 화상에 대해, 에지 및 에지 경사를 검출하는 단계와;
    상기 에지 및 에지 경사 검출 결과에 따라, 흰영역과 검은영역을 판정하는 단계와;
    검출 대상의 흑백 여부에 따라 상기 판정된 흰영역과 검은영역 중 대응되는 영역을 메워서, 상기 얼룩영역후보를 추출하는 단계와;
    상기 전처리된 화상 또는 LOG필터 처리된 화상으로부터 에지강도를 검출하는 단계와;
    상기 검출된 에지강도의 강한 부분을 마스크로 추출하는 단계와;
    상기 전처리된 화상을 2치화처리하여 상기 얼룩영역후보의 코어를 추출하는단계와;
    상기 얼룩영역후보와 마스크와 코어로부터 상기 얼룩영역후보를 한정하는 단계와;
    상기 한정된 얼룩영역후보를 라벨링하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 에지 검출 단계는, 화상신호값이 0인 지점과, 화상신호의 극성이 부(-)에서 정(+)으로 또는 정(+)에서 부(-)로 변화하는 지점을 에지로 검출하고,
    상기 에지의 경사 방향에 따라 흰영역의 얼룩영역후보와 검은영역의 얼룩영역후보를 검출하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 얼룩영역후보를 한정하는 단계는, 상기 얼룩영역후보와 마스크를 논리곱하고 상기 논리곱의 결과와 상기 코어를 논리합하여 상기 얼룩영역후보를 한정하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 전처리 단계는,
    상기 카메라로부터 입력된 화상에 대한 배경예측화상을 생성하는 단계와;
    상기 카메라로부터 입력된 화상과 배경예측화상의 차분화상을 생성하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
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