KR20140087606A - 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치 - Google Patents

평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140087606A
KR20140087606A KR1020120158103A KR20120158103A KR20140087606A KR 20140087606 A KR20140087606 A KR 20140087606A KR 1020120158103 A KR1020120158103 A KR 1020120158103A KR 20120158103 A KR20120158103 A KR 20120158103A KR 20140087606 A KR20140087606 A KR 20140087606A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
image
pixel
filter
area
processing
Prior art date
Application number
KR1020120158103A
Other languages
English (en)
Inventor
히데오 나카야
츠토무 이치카와
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020120158103A priority Critical patent/KR20140087606A/ko
Publication of KR20140087606A publication Critical patent/KR20140087606A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Image Processing (AREA)

Abstract

본 발명은 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고, 상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고, 상기 배경화상추정부는, 상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차에 따라 화소를 분류하는 제1화소분류수단과; 상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 제공한다.

Description

평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치{Method and apparatus of inspecting mura of flat display}
본 발명은 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 얼룩을 자동 검출함으로써 검사 공정의 효율화 및 고속화와 제조 공정의 비용을 절감할 수 있는 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD : liquid crystal display), 플라즈마표시장치(PDP : plasma display panel), 유기발광표시장치 (OLED : organic light emitting diode)와 같은 여러가지 평판디스플레이(flat display)가 활용되고 있다.
평판디스플레이에는 여러 가지 요인으로 인해 휘도나 색의 불균일 즉 얼룩이 발생할 수 있다. 얼룩 검사는 일반적으로 검사원에 의해 육안으로 수행되었는데, 이와 같은 경우에는 많은 시간, 인력, 비용이 발생하기 때문에 얼룩 검사의 자동화가 요구되어 왔다.
얼룩 검사 자동화 방법으로서, 종래에는 발광 상태의 디스플레이를 카메라로 촬영하고, 촬영된 화상에 대한 처리를 수행하여 얼룩 검출을 수행하는 방안이 제시되었다. 이와 같은 종래의 얼룩 검사 방법은, 촬영된 화상에 대한 전처리 과정과, 결함후보추출 과정과, 판정 과정으로 구성된다.
종래의 전처리 과정에서 검출대상화상을 필터 사이즈가 큰 2차원 로우패스필터(low-pass filter: LPF) 처리를 하여 배경화상을 추정하고, 검출대상화상으로부터 감산처리하여 차분화상을 생성하게 된다.
이와 관련하여, 종래기술에 따른 전처리 과정을 도시한 도 1 및 2를 참조할 수 있다.
도 1에는 전처리 과정에서의 검출대상화상, 추정배경화상, 차분화상과 이들 화상의 밝기를 나타내는 신호파형이 나타나 있다. 검출대상화상에는 중앙 좌측에 검은 얼룩이 있으며, 신호파형은 얼룩 중앙의 커서를 통과하는 수평방향을 따라 검출된 것이다. 도 2는 프레임 끝 부분에서의 종래의 로우패스필터 처리를 개략적으로 도시하고 있다.
추정배경화상을 살펴보면 얼룩이 강하게 남아 있어, 차분화상에는 얼룩이 별로 드러나지 않게 된다. 추정배경화상 생성시 필터범위 내에 얼룩이 포함된 경우, 얼룩의 영향에 의해 필터 출력값에 오차가 발생하게 되고, 이에 따라 추정배경화상에 얼룩이 제거되지 않고 남게 된다.
또한, 화상의 단부 즉 프레임 상하좌우 끝 부근에서의 파형이 검출대상화상과 차이가 있음을 알 수 있다. 이와 관련하여 도 2를 참조하면, 프레임의 상하좌우 끝 부근에서는 필터범위가 외부로 돌출되는데, 돌출된 부분에 대해 특별한처리를 하게 된다. 즉, 프레임 상하좌우 끝을 기준으로 내측의 화상데이터를 외측으로 대칭 반사시켜 돌출된 부분을 메우고, 필터 처리를 수행하게 된다. 이때, 디스플레이패널이나 촬영 등의 여러 요인으로 인해 프레임 상하좌우 끝 근방에서 휘도가 낮아지게 되면, 돌출된 부분을 메운 화상데이터가 바람직한 데이터와 달라질 수 있다. 이에 따라, 프레임 상하좌우 끝 근방에서 오검출이 발생하게 된다.
이처럼, 종래기술에 따르면, 배경화상의 추정 정밀도가 저하되어 오검출이 발생하며, 검출 효율이 저하되고, 비용이 상승하는 등의 여러 문제가 발생하게 된다.
본 발명은, 얼룩 검사의 고효율 및 고속화를 도모하고 디스플레이 제조 비용을 절감할 수 있는 방안을 제공하는 데 그 과제가 있다.
전술한 바와 같은 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고, 상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고, 상기 배경화상추정부는, 상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차에 따라 화소를 분류하는 제1화소분류수단과; 상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 제공한다.
다른 측면에서, 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고, 상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고, 상기 배경화상추정부는, 상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 제2화소분류수단과; 상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고, 상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고, 상기 배경화상추정부는, 상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차 또는 화소값에 따라 화소를 분류하는 제1화소분류수단과; 상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 제2화소분류수단과; 상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하고, 상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 제공한다.
여기서, 상기 전처리부는, 상기 검출대상화상으로부터 상기 추정된 배경화상을 차분연산하여 차분화상을 생성하는 차분연산부를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 화상처리부는, 상기 차분화상에 대해 설정된 문턱값을 기준으로 2치화하고, 상기 2치화된 화상을 기반으로 결함후보영역을 추출하는 결함후보추출부와; 상기 추출된 결함후보영역에 대해 특징량을 계산하고, 상기 계산된 특징량을 기초로 결함 여부를 판정하는 판정부를 포함할 수 있다.
또 다른 측면에서, 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고, 상기 화상처리 단계는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 단계를 포함하는 전처리 단계를 포함하고, 상기 배경화상을 추정하는 단계는, 상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차에 따라 화소를 분류하는 단계와; 상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 단계를 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 방법을 제공한다.
또 다른 측면에서, 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고, 상기 화상처리 단계는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 단계를 포함하는 전처리 단계를 포함하고, 상기 배경화상을 추정하는 단계는, 상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 단계와; 상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 단계를 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 방법를 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와; 상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고, 상기 화상처리 단계는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 단계를 포함하는 전처리 단계를 포함하고, 상기 배경화상을 추정하는 단계는, 상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차 또는 화소값에 따라 화소를 분류하는 단계와; 상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 단계와; 상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하고, 상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 단계를 포함하는 평판디스플레이 얼룩 검사 방법을 제공한다.
여기서, 상기 전처리 단계는, 상기 검출대상화상으로부터 상기 추정된 배경화상을 차분연산하여 차분화상을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 화상처리 단계는, 상기 차분화상에 대해 설정된 문턱값을 기준으로 2치화하고, 상기 2치화된 화상을 기반으로 결함후보영역을 추출하는 단계와; 상기 추출된 결함후보영역에 대해 특징량을 계산하고, 상기 계산된 특징량을 기초로 결함 여부를 판정하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 배경화상을 추정함에 있어, 필터범위에 얼룩이 포함된 경우에는 얼룩 영역을 필터처리에서 제외하고, 그 이외의 영역을 사용하여 필터처리를 수행하게 된다. 그리고, 필터범위가 프레임 외부로 돌출된 경우에는 돌출 영역 및 대칭 영역을 필터처리에서 제외하고, 그 이외의 유효 영역을 사용하여 필터처리를 수행하게 된다.
이에 따라, 얼룩 및/또는 돌출 영역의 영향을 방지하여, 배경화상의 정밀도가 향상될 수 있게 된다.
따라서, 얼룩 결함 검출을 위한 화상처리 과정이 간소화되고 고속화될 수 있게 되며, 이로 인해 디스플레이장치의 제조 비용 또한 감소될 수 있게 된다.
도 1은 종래의 전처리 과정에서의 검출대상화상, 추정배경화상, 차분화상을 도시한 도면.
도 2는 프레임의 끝 부분에서의 종래의 로우패스필터 처리를 개략적으로 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 개략적으로 도시한 블럭도.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 전처리부의 배경화상추정부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 전처리부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 전처리부의 로우패스필터 처리를 개략적으로 도시한 도면.
도 7 및 8은 각각 본 발명의 제1실시예에 따른 배경화상추정부의 처리 플로우의 제1 및 2예를 각각 도시한 도면.
도 9는 본 발명의 제2실시예에 따른 전처리부의 배경화상추정부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도.
도 10은 본 발명의 제2실시예에 따른 전처리부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면.
도 11은 본 발명의 제2실시예에 따른 전처리부의 로우패스필터 처리를 개략적으로 도시한 도면.
도 12는 본 발명의 제2실시예에 따른 배경화상추정부의 처리 플로우의 예를 도시한 도면.
도 13은 본 발명의 제3실시예에 따른 전처리부의 배경화상추정부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도.
도 14는 본 발명의 제3실시예에 따른 배경화상추정부의 처리 플로우의 예를 도시한 도면.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 평판디스플레이 얼룩 검사 장치를 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 전처리부의 배경화상추정부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 전처리부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 전처리부의 로우패스필터 처리를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 7 및 8은 각각 본 발명의 제1실시예에 따른 배경화상추정부의 처리 플로우의 제1 및 2예를 각각 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 얼룩 검사 장치(100)는 카메라(110)와 화상처리부(120)를 포함할 수 있다. 한편, 얼룩 검사 장치(100)는 화상처리부(120)를 통한 얼룩 검사 결과를 시각적으로 표시하는 표시부(160)를 더욱 구비할 수 있다.
카메라(110)는 검사 대상이 되는 디스플레이패널(400)을 촬영하여 화상을 발생시키는 수단에 해당된다. 이와 같이 발생된 화상은 화상처리부(120)에 전송된다.
얼룩 검사를 위해, 디스플레이패널(400)에는 검사용 신호가 인가되어 디스플레이패널(400)은 발광하게 되며, 카메라(110)는 발광 상태의 디스플레이패널(400)을 촬영하게 된다.
여기서, 디스플레이패널(400)로서는 다양한 형태의 표시장치가 사용될 수 있다. 예를 들면, 액정표시장치, 유기발광표시장치, 플라즈마표시장치 등이 사용될 수 있는데, 이에 한정되지는 않는다.
화상처리부(120)는 카메라(110)를 통해 촬영된 화상을 입력받고, 해당 입력 화상을 처리하여 얼룩 결함을 검출하는 기능을 하게 된다.
본 발명의 실시예에 따른 화상처리부(120)는 전처리부(130)와, 결함후보추출부(140)와, 판정부(150)를 포함할 수 있다.
전처리부(130)는, 노이즈제거부(131)와 배경화상추정부(132)와 차분연산부(133)을 포함할 수 잇다.
노이즈제거부(131)는 카메라(110)로부터 입력된 화상의 노이즈를 제거하는 기능을 하게 된다. 예를 들면, 평활화필터, 메디안필터 등을 사용하여, 입력 화상의 노이즈를 제거하여 검출대상화상을 출력하게 된다. 이와 같은 검출대상화상에 대해서는 도 5를 참조할 수 있다.
한편, 전처리부(130)는, 경우에 따라, 노이즈제거부(131)를 구비하지 않을 수도 있다.
배경화상추정부(132)는 입력된 화상으로서 검출대상화상에 대한 배경화상을 추정하여 추정배경화상을 출력하게 된다.
차분연산부(133)는, 검출대상화상으로부터 추정배경화상을 차분연산하여 차분화상을 출력하게 된다.
전술한 바와 같은 구성에서, 배경화상추정부(132)는 본 발명의 실시예의 특징적인 구성으로서, 이에 대해 보다 상세하게 설명한다.
제1실시예에 따른 배경화상추정부(132)는 검출대상화상에 로우패스필터 처리를 수행하여 배경화상을 추정하게 되는데, 특히 얼룩의 특성을 제거하는 것에 주요 특징이있다. 이를 위해, 필터처리가 수행되는 단위 영역인 필터범위에서 화소데이터 즉 화소값의 편차가 설정된 값 이내인 화소에 대해 필터처리를 수행하여, 배경화상을 추정하게 된다.
이와 관련하여 도 6을 참조하면, 필터범위는 소정의 크기를 갖게 되고, 이와 같은 필터범위를 수평방향과 수직방향으로 이동시키면서 검출대상화상에 대한 필터 처리를 수행하게 된다. 여기서, 필터범위의 중심에 대응되는 화소는 주목화소에 해당되는데, 주목화소가 지정되면 필터범위가 지정될 수 있게 된다.
여기서, 본 실시예에서는, 필터범위 내에 얼룩으로 의심되는 부분이 존재하는 경우에, 얼룩 의심 부분에 대해서는 필터범위에서 제외한다. 이와 같이 하게 되면, 얼룩이 포함된 필터범위를 처리함에 있어, 얼룩에 의한 필터처리의 영향을 방지할 수 있게 된다. 따라서, 배경화상에 대한 추정 정밀도가 향상될 수 있게 된다.
이를 위해, 배경화상추정부(132)는, 도 4에 도시한 바와 같이, 제1화소분류수단(132a)과 화소선택필터수단(132b)을 포함할 수 있다.
제1화소분류수단(132a)은 설치된 필터범위에 대해 화소값의 분포를 해석하고, 화소값 편차의 기준값을 설정하게 된다. 이로 인해, 기준값을 기준으로 각 화소값의 편차의 대소에 따라 화소를 분류할 수 있게 된다.
한편, 다른 예로서, 제1화소분류수단(132a)은 필터범위의 히스토그램 분석을 통해, 문턱값을 설정할 수 있다. 이로 인해, 문턱값을 기준으로 화소값의 대소에 따라 화소를 분류할 수 있게 된다.
위와 같이, 제1화소분류수단은, 화소값의 편차 또는 화소값에 따라 필터처리 적용여부의 대상 화소를 분류하는 기능을 하게 된다.
화소선택필터수단(132b)은, 제1화소분류수단에 의해 분류된 화소에 대해, 필터 처리를 적용할 화소와 제외할 화소를 선택하여, 적용할 화소에 대한 필터처리를 수행하게 된다.
전술한 바와 같은 구성에 따라, 필터범위 내에서 편차가 작은 화소들에 대해 필터처리를 적용함으로써, 얼룩의 영향이 최소화된 배경화상을 추정할 수 있게 된다. 이와 관련하여, 도 5의 추정배경화상을 살펴보면, 얼룩이 상당히 감소되었음을 알 수 있다.
따라서, 도 5의 차분화상에서는, 검출대상화상의 얼룩이 잘 드러나게 됨을 알 수 있다.
이처럼, 본 발명의 제1실시예에 따르면, 얼룩으로 의심되는 부분에 대해서는 필터처리 범위에서 제외하게 된다. 따라서, 추정배경화상에는 얼룩이 감소되어, 결과적으로 차분화상에 얼룩이 효과적으로 보존될 수 있게 된다.
전술한 바와 같은 제1실시예의 배경화상을 추정하는 과정들의 예들에 대해, 도 7 및 8을 더욱 참조할 수 있다.
배경화상 추정의 제1예와 관련하여, 도 7을 참조하면, 배경화상을 추정함에 있어, 주목화소 지정 단계, 필터범위 지정 단계, 필터범위 내 화소값 분포 해석 단계(예를 들면, 필터범위 내 평균값, 표준편차 연산 단계), 기준값(예를 들면, 2*표준편차) 설정 단계를 수행할 수 있다 (st10 내지 st13).
다음으로, 처리화소 지정 단계, 화소값의 편차와 기준값을 비교하는 단계가 수행될 수 있다 (st14, st15).
여기서, 편차가 기준값보다 작은 경우에는, 필터처리를 위한 잠정값 및 누적필터계수 연산 단계가 진행된다 (st16).
한편, 편차가 기준값보다 큰 경우에는, 해당 화소는 필터처리에 제외되어, st17 단계로 넘어가게 된다. 즉, 얼룩으로 의심되는 경우에는, 필터 처리에서 제외된다.
st17 단계에서는, 처리화소가 필터범위의 최종 처리화소인지를 판단하게 된다. 여기서, 최종 처리화소인 경우에는 st18 단계로 넘어가게 되며, 최종 처리화소가 아닌 경우에는 st14 단계로 되돌아가게 된다.
st18 단계에서는, 필터범위에 대한 필터처리가 수행된다. 즉, 필터범위의 잠정값을 누적필터계수로 나눔으로써, 필터범위의 배경화소값을 산출하게 된다.
다음으로, 필터범위의 주목화소가 최종 주목화소인지를 판단하게 된다. 여기서, 최종 주목화소인 경우에는 배경화상 추정이 종료된다. 최종 주목화소가 아닌 경우에는 st10 단계로 되돌아가, 주목화소를 이동시켜 지정하고 대응되는 필터범위를 지정하여 해당 필터범위에 대한 후속 단계를 진행하게 된다.
한편, 배경화상 추정의 제2예와 관련하여 도 8을 참조할 수 있는데, 전술한 제1예의 st12, st13, st15 단계를 제외하면, 제2예는 제1예와 실질적으로 동일하다 할 것이다.
st22는 필터범위 내 화소값 분포 해석 단계로서 예를 들면, 필터범위 내 히스토그램을 생성하는 단계가 사용될 수 있다. 그리고, st23단계는 문턱값 설정 단계로서, 예를 들면, Otsu 방법(Otsu's method) 등을 통해 생성된 히스토그램으로부터 2치화 문턱값을 설정하는 단계가 사용될 수 있다.
이에 따라, 화소 분류 및 선택과 관련된 st25단계에서는, 이와 같은 문턱값과 화소값을 대비하는 과정이 수행된다.
전술한 전처리부(121)를 통해 생성된 화상 즉 차분화상은, 결함후보추출부(122)에 입력되어 결함후보영역이 추출될 수 있게 된다.
이와 관련하여, 결함후보추출부(122)는, 예를 들면, 입력된 화상에 대해 특징량을 산출하고, 설정된 문턱값을 기준으로 2치화하여 2치화 화상을 생성하게 된다. 그리고, 2치화 화상을 기반으로, 결함후보영역에 식별 번호를 부여하는 라벨링(labeling)을 수행하여, 결함후보영역을 추출하게 된다.
판정부(123)는, 결함후보추출부(122)에 의해 추출된 결함후보영역에 대해 최종적으로 얼룩 결함 여부를 판정하게 된다. 이와 관련하여 예를 들면, 판정부(123)는, 식별 번호가 부여된 결함 후보 영역에 대해 특징량(예를 들면, 휘도값이나 명암비, SEMU값 등의 파라미터)을 계산할 수 있다. 여기서, SEMU는 SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International) Mura의 약어이다. 그리고, 계산된 특징량을 기초로 결함 여부를 최종적으로 판정할 수 있는데, 이와 같은 판정은 축적된 결함 판정 정보 등를 기초로 이루어질 수 있다.
전술한 바와 같은 과정을 통한 화상처리부(120)의 결함 판정 결과는 표시부(160)에 전달되어 화면으로 표시될 수 있게 된다.
도 9는 본 발명의 제2실시예에 따른 전처리부의 배경화상추정부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 10은 본 발명의 제2실시예에 따른 전처리부의 처리 과정에 따른 화상들을 도시한 도면이고, 도 11은 본 발명의 제2실시예에 따른 전처리부의 로우패스필터 처리를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 12는 본 발명의 제2실시예에 따른 배경화상추정부의 처리 플로우의 예를 도시한 도면이다.
본 발명의 제2실시예의 얼룩 검사 장치는, 전처리부의 배경화상추정부를 제외하고는, 제1실시예의 얼룩 검사 장치와 실질적으로 동일하다. 따라서, 이하에서는, 제1실시예와 동일유사한 구성에 대한 구체적인 설명을 생략할 수 있다.
제2실시예에 따른 배경화상추정부(232)는 검출대상화상에 로우패스필터 처리를 수행하여 배경화상을 추정하게 되는데, 특히 화상의 단부 즉 프레임 끝 부분의 특성을 유지하는 것에 주요 특징이있다. 이를 위해, 필터범위가 프레임 외부로 돌출하는 경우에, 돌출된 부분 및 이에 대칭되는 위치의 내측 부분을 제외한 가운데 부분을 필터 처리에 적용하여, 배경화상을 추정하게 된다.
이와 관련하여 도 11을 참조하면, 화상의 단부 측에 대한 필터처리를 수행하기 위해 주목화소가 프레임의 상하좌우 끝 근방에 위치하게 되면, 주목화소에 따라 지정되는 필터범위는 프레임의 상하좌우 끝으로부터 돌출된다.
여기서, 본 실시예에서는, 필터범위가 프레임 외측으로 돌출된 경우에, 필터범위는 돌출 영역과, 필터범위의 중심을 사이에 두고 돌출 영역에 대칭되는 영역과, 돌출 영역 및 대칭 영역 사이의 가운데 영역 즉 유효 영역으로 분할된다.
이때, 돌출 영역과 대칭 영역에 대해서는 필터범위에서 제외하고, 유효 영역을 필터 처리에 적용하게 된다. 이와 같이 하게 되면, 프레임 외측으로 돌출된 필터범위를 처리함에 있어, 돌출된 영역에 의한 필터처리의 영향을 방지할 수 있게 된다. 따라서, 배경화상에 대한 추정 정밀도가 향상될 수 있게 된다.
이를 위해, 배경화상추정부(232)는, 도 9에 도시한 바와 같이, 제2화소분류수단(232a)과 화소선택필터수단(232b)을 포함할 수 있다.
제2화소분류수단(232a)은 설치된 필터범위에 대해, 돌출 영역과 대칭 영역과 유효 영역으로 분할하고, 화소가 어느 영역에 속하는지를 분류하게 된다.
위와 같이, 제2화소분류수단(232a)은, 영역에 따라 필터처리 적용여부의 대상 화소를 분류하는 기능을 하게 된다.
화소선택필터수단(232b)은, 제2화소분류수단에 의해 영역별로 분류된 화소에 대해, 필터처리를 적용할 화소와 제외할 화소를 선택하여, 적용할 화소에 대한 필터처리를 수행하게 된다.
전술한 바와 같은 구성에 따라, 프레임 상하좌우 끝 근방에서는 필터 처리에 적절한 위치에 있는 화소 즉 유효 영역에 속한 화소를 사용하여 필터처리를 수행함으로써, 돌출 영역의 영향이 제거된 배경화상을 추정할 수 있게 된다. 이와 관련하여, 도 10의 추정배경화상을 살펴보면, 프레임 상하좌우 끝 근방에서 검출대상화상과 실질적으로 동일한 배경화상이 추정됨을 알 수 있다.
따라서, 도 10의 차분화상에서는, 프레임 상하좌우 끝 근방에서 신호레벨의 변화가 거의 나타나지 않음을 알 수 있다.
이처럼, 본 발명의 제2실시예에 따르면, 프레임 상하좌우 끝 근방에서는 돌출 영역과 대칭 영역을 필터처리 범위에서 제외하게 된다. 따라서, 추정배경화상에는 프레임 상하좌우 끝 근방이 잘 보존되어, 결과적으로 차분화상의 프레임 상하좌우 끝 근방의 화소값의 레벨 변화가 발생하지 않게 된다.
전술한 바와 같은 제2실시예의 배경화상을 추정하는 과정들의 예에 대해, 도 12를 더욱 참조할 수 있다.
도 12를 참조하면, 배경화상을 추정함에 있어, 주목화소 지정 단계, 필터범위 지정 단계, 영역분할 단계(즉, 돌출 영역, 대칭 영역, 유효 영역으로 분할하는 단계)를 수행할 수 있다 (st30 내지 st32).
다음으로, 처리화소 지정 단계, 화소가 유효영역 내에 속하는지 판단하는 단계가 수행될 수 있다 (st33, st34).
여기서, 유효영역 내에 속하는 경우에는, 필터처리를 위한 잠정값 및 누적필터계수 연산 단계가 진행된다 (st35).
한편, 화소가 유효영역 내에 속하지 않는 경우에는, 해당 화소는 필터처리에 제외되어, st36 단계로 넘어가게 된다.
st36 단계에서는, 처리화소가 필터범위의 최종 처리화소인지를 판단하게 된다. 여기서, 최종 처리화소인 경우에는 st37 단계로 넘어가게 되며, 최종 처리화소가 아닌 경우에는 st33 단계로 되돌아가게 된다.
st37 단계에서는, 필터범위에 대한 필터처리가 수행된다. 즉, 필터범위의 잠정값을 누적필터계수로 나눔으로써, 필터범위의 배경화소값을 산출하게 된다.
다음으로, 필터범위의 주목화소가 최종 주목화소인지를 판단하게 된다 (st38). 여기서, 최종 주목화소인 경우에는 배경화상 추정이 종료된다. 최종 주목화소가 아닌 경우에는 st30 단계로 되돌아가, 주목화소를 이동시켜 지정하고 대응되는 필터범위를 지정하여 해당 필터범위에 대한 후속 단계를 진행하게 된다.
도 13은 본 발명의 제3실시예에 따른 전처리부의 배경화상추정부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 14는 본 발명의 제3실시예에 따른 배경화상추정부의 처리 플로우의 예를 도시한 도면이다.
본 발명의 제3실시예의 얼룩 검사 장치는, 전처리부의 배경화상추정부를 제1 및 2실시예의 배경화상추정부를 합성하여 구성하게 된다. 따라서, 이하에서는, 제1 및 2실시예와 동일유사한 구성에 대한 구체적인 설명을 생략할 수 있다.
도 13을 참조하면, 제3실시예에 따른 배경화상추정부(332)는 제1 및 2화소분류수단(332a, 332b)과 화소선택필터수단(332c)를 포함하게 된다.
제1 및 2화소분류수단(332a, 332b)는, 앞서 제1 및 2실시예에서 설명한 제1 및 2화소분류수단(132a, 232a)와 동일한 기능을 하게 된다. 그리고, 화소선택필터수단(332c)은, 앞서 제1 및 2실시예에서 설명한 화소선택필터수단(132b, 232b)와 동일한 기능을 하게 된다.
따라서, 제3실시예에 따른 배경화상추정부(332)를 사용하게 되면, 필터범위에서 화소값의 편차(또는 화소값)에 따른 분류 및 영역에 따른 화소 분류가 이루어지며, 편차가 작고 유효 영역에 속하는 화소를 사용하여 필터처리가 이루어질 수 있게 된다.
따라서, 필터범위에 얼룩이 존재하는 경우 및 필터범위가 외부로 돌출된 경우 모두에 대해, 정밀도 높은 배경화상을 추정할 수 있게 된다.
한편, 도 14에는 제3실시예의 배경화상을 추정하는 과정들의 일예를 도시하였는데, 이들 단계들은 제1 및 2실시예들의 과정들이 합성된 것으로서, 제1 및 2실시예들에서 설명한 바 있어 구체적인 설명은 생략한다.
한편, 도 14에서는 제1실시예의 제1예가 반영되어 있는데, 다른 예로서 제1실시예의 제2예가 반영될 수 있다.
그리고, st44 단계가 st42 및 st43 단계에 선행하여 수행될 수 있다. 또한, st47 단계가 st46 단계에 선행하여 수행될 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 배경화상을 추정함에 있어, 필터범위에 얼룩이 포함된 경우에는 얼룩 영역을 필터처리에서 제외하고, 그 이외의 영역을 사용하여 필터처리를 수행하게 된다. 그리고, 필터범위가 프레임 외부로 돌출된 경우에는 돌출 영역 및 대칭 영역을 필터처리에서 제외하고, 그 이외의 유효 영역을 사용하여 필터처리를 수행하게 된다.
이에 따라, 얼룩 및/또는 돌출 영역의 영향을 방지하여, 배경화상의 정밀도가 향상될 수 있게 된다.
따라서, 얼룩 결함 검출을 위한 화상처리 과정이 간소화되고 고속화될 수 있게 되며, 이로 인해 디스플레이장치의 제조 비용 또한 감소될 수 있게 된다.
전술한 본 발명의 실시예는 본 발명의 일예로서, 본 발명의 정신에 포함되는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명은, 첨부된 특허청구범위 및 이와 등가되는 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.
132: 배경화상추정부 132a: 제1화소분류수단
132b: 화소선택필터수단

Claims (10)

  1. 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고,
    상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고,
    상기 배경화상추정부는,
    상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차에 따라 화소를 분류하는 제1화소분류수단과;
    상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  2. 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고,
    상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고,
    상기 배경화상추정부는,
    상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 제2화소분류수단과;
    상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  3. 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 카메라와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리부를 포함하고,
    상기 화상처리부는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 배경화상추정부를 포함하는 전처리부를 포함하고,
    상기 배경화상추정부는,
    상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차 또는 화소값에 따라 화소를 분류하는 제1화소분류수단과;
    상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 제2화소분류수단과;
    상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하고, 상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 화소선택필터수단을 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  4. 제 1 내지 3 항 중 하나에 있어서,
    상기 전처리부는,
    상기 검출대상화상으로부터 상기 추정된 배경화상을 차분연산하여 차분화상을 생성하는 차분연산부를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  5. 제 4 항 중 하나에 있어서,
    상기 화상처리부는,
    상기 차분화상에 대해 설정된 문턱값을 기준으로 2치화하고, 상기 2치화된 화상을 기반으로 결함후보영역을 추출하는 결함후보추출부와;
    상기 추출된 결함후보영역에 대해 특징량을 계산하고, 상기 계산된 특징량을 기초로 결함 여부를 판정하는 판정부를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 장치.
  6. 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고,
    상기 화상처리 단계는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 단계를 포함하는 전처리 단계를 포함하고,
    상기 배경화상을 추정하는 단계는,
    상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차에 따라 화소를 분류하는 단계와;
    상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  7. 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고,
    상기 화상처리 단계는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 단계를 포함하는 전처리 단계를 포함하고,
    상기 배경화상을 추정하는 단계는,
    상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 단계와;
    상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  8. 카메라를 통해 발광 상태의 디스플레이패널을 촬영하는 단계와;
    상기 카메라에 의해 촬영된 화상을 입력받고 처리하여, 상기 디스플레이패널의 얼룩 결함을 검출하는 화상처리 단계를 포함하고,
    상기 화상처리 단계는, 검사대상화상에 대해 로우패스필터처리를 수행하여 배경화상을 추정하는 단계를 포함하는 전처리 단계를 포함하고,
    상기 배경화상을 추정하는 단계는,
    상기 검사대상화상 내의 필터범위의 화소값의 분포를 해석하여 화소값의 편차 또는 화소값에 따라 화소를 분류하는 단계와;
    상기 검사대상화상 외부로 필터범위가 돌출된 경우에, 상기 필터범위를 상기 돌출 영역과, 상기 필터범위의 중심을 기준으로 상기 돌출 영역과 대칭되는 대칭 영역과, 상기 돌출 영역과 대칭 영역 사이의 유효 영역으로 분할하고, 상기 분할된 영역에 따라 화소를 분류하는 단계와;
    상기 화소값의 편차가 설정된 기준을 만족하고, 상기 유효 영역에 속하는 화소를 선택하여 필터처리를 수행하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  9. 제 6 내지 8 항 중 하나에 있어서,
    상기 전처리 단계는,
    상기 검출대상화상으로부터 상기 추정된 배경화상을 차분연산하여 차분화상을 생성하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 화상처리 단계는,
    상기 차분화상에 대해 설정된 문턱값을 기준으로 2치화하고, 상기 2치화된 화상을 기반으로 결함후보영역을 추출하는 단계와;
    상기 추출된 결함후보영역에 대해 특징량을 계산하고, 상기 계산된 특징량을 기초로 결함 여부를 판정하는 단계를 포함하는
    평판디스플레이 얼룩 검사 방법.
KR1020120158103A 2012-12-31 2012-12-31 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치 KR20140087606A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120158103A KR20140087606A (ko) 2012-12-31 2012-12-31 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120158103A KR20140087606A (ko) 2012-12-31 2012-12-31 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20140087606A true KR20140087606A (ko) 2014-07-09

Family

ID=51736503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120158103A KR20140087606A (ko) 2012-12-31 2012-12-31 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20140087606A (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160054150A (ko) * 2014-11-05 2016-05-16 한밭대학교 산학협력단 형태학적 영상 처리와 레이블링을 이용한 얼룩 결함 자동 검출 시스템 및 방법
CN106950226A (zh) * 2016-01-07 2017-07-14 宁波舜宇光电信息有限公司 点阵显示器污坏点检测系统及其应用
KR20190001914A (ko) * 2017-06-28 2019-01-07 가부시키가이샤 도쿄 웰드 화상 처리 방법 및 결함 검사 방법
CN109828394A (zh) * 2019-03-22 2019-05-31 惠科股份有限公司 一种显示面板的检测方法和检测机台

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160054150A (ko) * 2014-11-05 2016-05-16 한밭대학교 산학협력단 형태학적 영상 처리와 레이블링을 이용한 얼룩 결함 자동 검출 시스템 및 방법
CN106950226A (zh) * 2016-01-07 2017-07-14 宁波舜宇光电信息有限公司 点阵显示器污坏点检测系统及其应用
KR20190001914A (ko) * 2017-06-28 2019-01-07 가부시키가이샤 도쿄 웰드 화상 처리 방법 및 결함 검사 방법
CN109828394A (zh) * 2019-03-22 2019-05-31 惠科股份有限公司 一种显示面板的检测方法和检测机台
WO2020192494A3 (zh) * 2019-03-22 2020-11-12 惠科股份有限公司 显示面板的检测方法和检测机台

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114627111B (zh) 一种纺织品缺陷检测识别装置
CN102175700B (zh) 数字x射线图像焊缝分割和缺陷检测方法
KR102203112B1 (ko) 표준 기준 이미지로부터 결정된 속성에 기초한 결함 검출 및 분류
KR101958634B1 (ko) 디스플레이 장치의 무라 검출 장치 및 방법
KR20170024024A (ko) 결함 정량화 방법, 결함 정량화 장치 및 결함 평가값 표시 장치
CN109100363A (zh) 一种贴合异物缺陷与灰尘的区分方法及系统
US20120207379A1 (en) Image Inspection Apparatus, Image Inspection Method, And Computer Program
Samarawickrama et al. Matlab based automated surface defect detection system for ceremic tiles using image processing
CN110007493B (zh) 液晶显示屏中碎亮点检测方法
KR20140087606A (ko) 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치
JP4250931B2 (ja) 外観検査装置および外観検査方法
KR101677070B1 (ko) 형태학적 영상 처리와 레이블링을 이용한 얼룩 결함 자동 검출 시스템 및 방법
KR102242996B1 (ko) 자동차 사출제품의 비정형 불량 검출 방법
JP5088165B2 (ja) 欠陥検出方法および欠陥検出装置
KR101828536B1 (ko) 패널 검사 방법 및 장치
KR101980755B1 (ko) 표시패널의 색감차 얼룩 자동 검사 장치 및 방법
KR20140121068A (ko) 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치
KR101608843B1 (ko) 개선된 베버의 법칙을 이용한 얼룩 결함 자동 검출 시스템 및 방법
JP2011008482A (ja) 欠陥検出方法、欠陥検出装置、および欠陥検出プログラム
KR20140082333A (ko) 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치
KR20140082335A (ko) 평판디스플레이의 얼룩 검사 방법 및 장치
JP2000199745A (ja) 色ムラの検査方法及び装置
JP2001028059A (ja) 色ムラ検査方法及び装置
JP2013200238A (ja) 画像検査方法および画像検査装置
Chen et al. TFT-LCD Mura defects automatic inspection system using linear regression diagnostic model

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid