KR20140074447A - 유연성 반도체소자 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
비유연성 기판 위에 형성된 반도체 요소를 유연성 기판으로 전사하는데 사용될 수 있는 반도체 요소 전사 방법이 개시된다. 또한, 그러한 반도체 요소 전사 방법에 기초한 유연성 반도체소자 제조방법이 개시된다. 기판 위에서 성장 또는 형성된 수직형 반도체요소는 그 배열 상태를 유지하면서 수지층으로 매우 효과적으로 전사될 수 있다. 수지층은 수직형 반도체요소를 지지하는 유연성 기판으로서 작용한다.
Description
본 개시는 반도체소자 및 그 제조방법에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 유연성 반도체소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.
다양한 반도체소자 중에는 반도체 물질의 광전기적 특성을 이용하는 광전소자(optoelectronic device)가 있다. 광전소자는 전기적 에너지를 광학적 에너지로 변환하는 소자 및 광학적 에너지를 전기적 에너지로 변환하는 소자를 포함한다. 전기적 에너지를 광학적 에너지로 변환하는 소자로는 LED(light emitting diode), LD(laser diode)와 같은 발광소자(luminous device or light emitting device)가 있다. 광학적 에너지를 전기적 에너지로 변환하는 소자로는 태양전지, 포토다이오드(photodiode)와 같은 광발전소자(photovoltaic device)가 있다.
무기물 반도체 기반의 광전소자(optoelectronic device), 특히, 질화물 반도체 기반의 발광소자는 고효율, 고휘도, 장수명 등 다양한 장점이 있다. 하지만, 질화물 반도체 기반의 발광소자를 제조하기 위해서는, 사파이어 기판이나 실리콘 기판과 같은 비유연성 기판 위에 단결정 질화물층을 에피택셜하게(epitaxially) 성장시켜야 한다.
그러나, 비유연성 기판은 반도체소자를 비유연성으로 만든다. 비유연성 반도체소자는 형태적 변형이 어려울 뿐만 아니라, 저가격화 및 대면적화에도 불리하다. 따라서, 무기물 반도체 재료에 기초하되 유연성 기판을 갖는 유연성 반도체 소자 및 그 제조방법이 요구된다.
본 개시에서는 비유연성 기판 위에 형성된 반도체 요소를 유연성 기판으로 전사하는데 사용될 수 있는 반도체 요소 전사 방법을 제공한다.
본 개시에서는 상기 반도체 요소 전사 방법에 기초한 유연성 반도체소자 제조방법을 제공한다.
본 개시의 일 측면에 따른 반도체 요소 전사 방법의 제1 구현예는,
기판 위에 수직형 반도체요소를 형성하는 단계;
상기 수직형 반도체요소의 표면에 무기 절연층을 형성하고, 상기 무기 절연층의 표면에 OH 기를 도입하는 단계;
상기 무기 절연층 표면에 양친매성층을 형성하는 단계;
상기 양친매성층으로 코팅된 상기 수직형 반도체요소 위에 중합성 조성물을 도포하는 단계;
상기 도포된 중합성 조성물을 경화하여 수지층으로 전환함으로써, 상기 수직형 반도체요소가 상기 수지층 내에 임베드(embed)되도록 하는 단계;
상기 수지층을 상기 수직형 반도체요소와 함께, 상기 기판으로부터 분리하는 단계; 및
상기 수지층의 일부를 식각하여 상기 수직형 반도체요소의 상부가 노출되도록 하는 단계;를 포함한다.
본 개시의 일 측면에 따른 반도체 요소 전사 방법의 제2 구현예는,
기판 위에 수직형 반도체요소를 형성하는 단계;
상기 수직형 반도체요소의 표면에 무기 절연층을 형성하고, 상기 무기 절연층의 표면에 OH 기를 도입하는 단계;
상기 무기 절연층 표면에 양친매성층을 형성하는 단계;
상기 양친매성층으로 코팅된 상기 수직형 반도체요소 위에 중합성 조성물을 도포하는 단계;
상기 도포된 중합성 조성물 위에 지지층을 압착하는 단계;
상기 도포된 중합성 조성물을 경화하여 수지층으로 전환함으로써, 상기 수직형 반도체요소가 상기 수지층 내에 임베드(embed)되도록 하는 단계;
상기 지지층을 상기 수지층 및 상기 수직형 반도체요소와 함께, 상기 기판으로부터 분리하는 단계;
상기 지지층을 제거하는 단계; 및
상기 수지층의 일부를 식각하여 상기 수직형 반도체요소의 상부가 노출되도록 하는 단계;를 포함한다.
본 개시의 다른 측면에 따른 유연성 반도체 소자 제조방법의 일 구현예는,
수지층; 상기 수지층에 임베드된 수직형 반도체요소로서, 그 상부가 상기 수지층 위로 노출되어 있고 그 하부가 상기 수지층 아래로 노출되어 있는 수직형 반도체 요소; 및 선택적으로, 상기 수직형 반도체 요소의 아래에 위치하는 마스크층, 버퍼층 및 하지층 중의 적어도 하나;를 포함하는 유연성 적층체를 준비하는 단계;
상기 유연성 적층체의 상면측에 상기 수직형 반도체요소에 전기적으로 연결된 상부전극을 형성하는 단계; 및
상기 유연성 적층체의 하면측에 상기 수직형 반도체요소에 전기적으로 연결된 하부전극을 형성하는 단계;를 포함한다.
본 개시에서는 비유연성 기판 위에 형성된 반도체 요소를 유연성 기판으로 전사하는데 사용될 수 있는 반도체 요소 전사 방법이 구현된다.
본 개시에서는 상기 반도체 요소 전사 방법에 기초한 유연성 반도체소자 제조방법이 구현된다.
도 1a 내지 도 1g는 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제1 구현예를 보여주는 단면도이다.
도 2a 내지 도 2d는 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제2 구현예를 보여주는 단면도이다.
도 3은 다양한 종류의 결합과 그에 상응하는 결합 파괴용 파장의 관계를 도시하는 그래프이다.
도 2a 내지 도 2d는 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제2 구현예를 보여주는 단면도이다.
도 3은 다양한 종류의 결합과 그에 상응하는 결합 파괴용 파장의 관계를 도시하는 그래프이다.
이하에서는, 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제1 구현예를 도 1을 참조하여 상세하게 설명한다. 도 1은 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제1 구현예를 보여주는 단면도이다.
도 1a는 기판(100) 위에 형성된 수직형 반도체요소(200)를 보여준다.
기판(100)은 결정성 기판 또는 비결정성 기판일 수 있다. 예를 들면, 기판(100)은 사파이어 기판, 실리콘 기판, 등과 같은 결정성 기판일 수 있다. 다른 예를 들면, 기판(100)은 유리, 등과 같은 비결정성 기판일 수 있다. 수직형 반도체요소(200)의 성장과정이 통상적으로 고온에서 수행되므로, 기판(100)은 그러한 온도에서 안정한 기판인 것이 바람직하다.
기판(100)의 표면은, 하지층(110), 버퍼층(120), 마스크층(130) 중에서 선택되는 적어도 하나에 의하여 코팅될 수도 있다. 이러한 층들은 수직형 반도체요소(200)의 성장을 제어하거나 촉진할 수 있다. 물론, 수직형 반도체요소(200)는 기판(100)의 표면으로부터 직접 성장될 수도 있다.
하지층(110)은 예를 들면, 금속층일 수 있다. 더욱 구체적으로, 하지층(110)은 예를 들면, Ti, Hf, Zr 및 Al 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 버퍼층(120)은, 하지층(110)으로 코팅되지 않은 기판(100)의 표면에 비하여, 하지층(110)으로 코팅된 기판(100)의 표면에서 더욱 용이하게 형성될 수 있다.
버퍼층(120)은 예를 들면, Ⅲ-Ⅴ족 계열의 화합물 반도체일 수 있다. 더욱 구체적으로, 버퍼층(120)은 예를 들면, GaN 계열의 반도체, AlN 계열의 반도체, 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 더 더욱 구체적으로, 버퍼층(120)은 예를 들면, GaN, AlN, InGaN, AlGaN, AlInGaN 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 버퍼층(120)은 단일층일 수 있다. 버퍼층(120)은, 예를 들면, 이중층 및 삼중층과 같은 다중층일 수도 있다. 버퍼층(120)은 약 450 내지 약 650 ℃ 정도의 저온에서 형성할 수 있다. 예를 들면, 버퍼층(120)을 그러한 저온에서 GaN으로 형성하는 경우, 버퍼층(120)은 LT(low temperature)-GaN층이라 할 수 있다. 다른 예를 들면, 버퍼층(120)을 그러한 저온에서 AlN으로 형성하는 경우, 버퍼층(300)은 LT-AlN층이라 할 수 있다. 버퍼층(120)은, 하지층(110)의 표면에 형성되는 경우, 하지층(200)의 우선 배향성에 의해, 하지층(110)의 표면과 수직한 방향(즉, c축 방향)으로 우선 배향성을 가질 수 있다. 버퍼층(120)은 패터닝되거나 패터닝되지 않을 수 있다. 버퍼층(120)의 패턴에 따라, 수직형 반도체요소(200)의 배열의 패턴이 결정될 수 있다. 버퍼층(120)은 패터닝되어 있는 경우, 수직형 반도체요소(200)의 배열의 패턴의 결정의 측면에서만 본다면, 마스크층(130)은 필요하지 않을 수도 있다.
마스크층(130)은 예를 들면, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 마스크층(130)은 버퍼층(120)을 노출시키는 적어도 하나의 개구부를 갖는다. 개구부는 예를 들면, 홀(hole) 형태를 가질 수 있다. 개구부의 지름은 예를 들면, 수 nm 내지 수 ㎛ 정도일 수 있다. 마스크층(130)은 단층 또는 다층 구조를 가질 수 있다. 마스크층(130)의 두께는 예를 들면, 약 10 내지 약 500 nm 정도, 더욱 구체적으로는, 약 10 내지 약 200 nm 정도일 수 있다. 마스크층(130)의 개구부의 배열에 따라, 수직형 반도체요소(200)의 배열의 패턴이 결정될 수 있다.
수직형 반도체요소(200)는, 마스크층(130)의 개구부에 의해 노출된 버퍼층(120) 영역 상에서 성장될 수 있다. "수직형 반도체요소"라 함은, 반도체요소가 기판면에 수직인 방향으로의 두께를 갖는다는 것을 의미한다. 수직형 반도체요소(200)의 종단면 또는 횡단면의 모양은 특별히 제한되지 않는다. 수직형 반도체요소(200)는 예를 들면, 피라미드(pyramid) 형상, 로드(rod) 형상, 또는 이들과 유사한 형상을 가질 수 있다. 수직형 반도체요소(200)는 수직방향으로 단층 구조 또는 수직방향으로 다층 구조일 수 있다. 수직형 반도체요소(200)는 예를 들면, Ⅲ-Ⅴ족 계열의 화합물 반도체를 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로, 수직형 반도체요소(200)는 예를 들면, GaN 계열의 반도체일 수 있다. GaN 계열의 반도체는 예를 들면, GaN, InGaN, AlGaN, 및 AlInGaN 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 수직형 반도체요소(200)의 적어도 일부는 약 900 내지 약 1100 ℃ 정도의 고온에서 형성될 수 있다. 예를 들어, 수직형 반도체요소(200)의 일부를 그러한 고온 범위에서 GaN으로 형성하는 경우, 이러한 GaN은 HT(high temperature)-GaN이라 할 수 있다. 수직형 반도체요소(200)의 적어도 일부는 HT(high temperature)-GaN 또는 이를 기반으로 하는 물질을 포함할 수 있다. 수직형 반도체요소(200)는 버퍼층(120) 표면으로부터 성장함에 따라, c축 방향으로 우선 배향성을 가질 수 있다. 수직형 반도체요소(200)는 우수한 결정성을 가질 수 있다.
기판(100)의 표면에 대한 하지층(110), 버퍼층(120), 마스크층(130), 또는 수직형 반도체요소(200)의 형성은, 예를 들면, 원자층증착, 화학기상증착, 또는 스퍼터링에 의하여 수행될 수 있다.
도 1b는 수직형 반도체요소(200)의 표면에 형성된 무기 절연층(210)을 보여준다. 무기 절연층(210)은 예를 들면, SiO2 일 수 있다. 무기 절연층(210)의 형성은, 예를 들면, 원자층증착, 화학기상증착, 또는 스퍼터링에 의하여 수행될 수 있다. 무기 절연층(210)을 형성한 다음, 무기 절연층(210)을, 예를 들어, 플라즈마 또는 강산으로 처리함으로써, 무기 절연층(210)의 표면에 -OH기를 풍부하게 도입할 수 있다.
도 1c는 수직형 반도체요소(200)의 표면에 형성된 무기 절연층(210)의 표면에 형성된 양친매성층(300)을 보여준다. 양친매성층(300)은 양친매성 물질로 이루어지거나 양친매성 물질을 함유한다. 양친매성 물질은 가수분해기(hydrolizable group)와 유기작용기(organofunctional group)를 모두 갖는 물질을 의미한다. 가수분해기는 예를 들면, 메톡시실릴(methoxysilyl)기일 수 있다. 유기작용기는 예를 들면, 에폭사이드(epoxide)기일 수 있다. 이러한 가수분해기 및 유기작용기를 갖는 양친매성 물질은 예를 들면, 실란 커플링제일 수 있다. 실란 커플링제는 예를 들면, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane: 3-GPTS)일 수 있다. 3-글리시독시프로필트리메톡시실란의 경우, 가수분해기로서 메톡시실릴(methoxysilyl)기를 가지며, 유기작용기로서 에폭사이드(epoxide)기를 갖는다. 양친매성층(300)은, 예를 들면, 양친매성 물질을 함유하는 용액을 수직형 반도체요소(200)의 표면에 도포한 후 용매를 제거함으로써, 형성될 수 있다. 양친매성 물질 함유 용액의 도포는, 예를 들면, 스핀코팅, 또는 스프레이코팅에 의하여 수행될 수 있다. 양친매성층(300)의 가수분해기(hydrolizable group)는 절연층(210) 표면의 OH기와 가수분해 축합반응에 의하여 결합될 수 있다. 그에 따라, 양친매성층(300)과 무기 절연층(210)은 서로 강하게 접착될 수 있다.
도 1d는, 무기 절연층(210) 및 양친매성층(300)으로 코팅된 수직형 반도체요소(200) 위에 도포된 중합성 조성물 층(400)을 보여준다. 중합성 조성물은 예를 들면, 중합성 모노머; 반응성 희석제; 및 개시제;를 포함하는 조성물일 수 있다. 여기서 중합성 모노머는 중합성 모노머, 중합성 올리고머, 중합성 매크로모노머 등을 포괄한다. 중합성 모노머는 예를 들면, 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate)일 수 있다. 반응성 희석제는 예를 들면, 2-하이드록시프로필-아크릴레이트(2-hydroxypropyl-acrylate: 2-HPA)일 수 있다. 개시제는 예를 들면, 열개시제, 광개시제, 또는 이들의 조합일 수 있다. 광개시제는 예를 들면, 1-하이드록시시클로헥실 페닐 케톤(1-Hydroxycyclohexyl Phenyl Ketone)일 수 있다. 중합성 조성물은 상업적으로도 입수가능하다. 상업적으로 입수가능한 중합성 조성물은 예를 들면, 미뉴타텍의 TSV(우레탄 아크릴레이트, 2-하이드록시프로필-아크릴레이트, 및 1-하이드록시시클로헥실 페닐 케톤을 함유하는 UV 경화성 중합성 조성물) 등이 있다. 중합성 조성물의 도포는, 예를 들면, 스핀코팅, 또는 스프레이코팅에 의하여 수행될 수 있다.
도 1e는, 도포된 중합성 조성물 층(400)을 경화하여 수지층(450)으로 전환함으로써, 수직형 반도체요소(200)가 수지층(450) 내에 임베딩되어 있는 것을 보여준다. 중합성 조성물 층(400)의 경화는, 예를 들면, 열 또는 빛을 중합성 조성물 층(400)에 가함으로써 수행될 수 있다. 중합성 조성물 층(400)이 열개시제를 함유하는 경우에는, 중합성 조성물 층(400)에 열을 가함으로써, 중합성 조성물 층(400)을 경화시킬 수 있다. 중합성 조성물 층(400)이 광개시제를 함유하는 경우에는, 중합성 조성물 층(400)에 빛(예를 들어, 자외선, 구체적인 예를 들면, 약 365 nm의 자외선)을 가함으로써, 중합성 조성물 층(400)을 경화시킬 수 있다. 열경화 온도 또는 광경화 파장은 사용된 열개시제 또는 광개시제에 따라 달라질 수 있다. 경화 과정 동안, 중합성 조성물 중의 중합성 모노머의 중합반응이 진행될 뿐만아니라, 중합성 조성물 중의 중합성 모노머와 양친매성층(300)의 유기작용기 간의 결합이 진행된다. 그에 따라, 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200)는, 무기 절연층(210) 및 양친매성층(300)을 매개로 하여, 강하게 결합된다. 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력은, 기판(100)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력보다 강하다. 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력은, 기판(100)과 하지층(110) 간의 결합력보다 강하다. 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력은, 기판(100)과 버퍼층(120) 간의 결합력보다 강하다.
도 1f는 수지층(450)을 수직형 반도체요소(200)와 함께, 기판(100)으로부터 분리하는 단계를 보여준다. 수지층(450)을 기판(100)으로부터 벗겨내면, 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력이 강하기 때문에, 수직형 반도체요소(200) 역시 수지층(450)에 임베딩된 상태로, 기판(100)으로부터 분리된다. 수직형 반도체요소(200)와 기판(100) 사이에 하지층(110), 버퍼층(120) 및/또는 마스크층(130)이 형성되어 있는 경우, 하지층(110), 버퍼층(120) 및/또는 마스크층(130) 역시, 수직형 반도체요소(200)에 결합된 채, 기판(100)으로부터 분리될 수 있다.
도 1g는, 수지층(450)의 식각에 의하여 그 상부가 노출된 수직형 반도체요소(200)를 보여준다. 수지층(450)의 식각은, 예를 들면, CF4 및 O2를 포함하는 식각 가스를 사용하여 수행될 수 있다. 수지층(450)의 식각을 통해, 수직형 반도체요소(200)의 상부가 수지층(450)의 외부로 돌출될 수 있다. 예를 들어, 수직형 반도체요소(200)의 수직 길이중 상부쪽 약 1/5 내지 약 1/2 정도가 수지층(450) 외부로 돌출될 수 있다. 또 다른 실시예에 있어서, 수지층(450)을 식각하여 수직형 반도체요소(200)의 상부가 노출되도록 하는 단계는, 수지층(450)을 수직형 반도체요소(200)와 함께 기판(100)으로부터 분리하는 단계의 수행 전에 수행될 수도 있다.
도 1a 내지 도 1g에 나타난 일련의 과정을 통하여, 기판 위에서 성장 또는 형성된 수직형 반도체요소(200)는 그 배열 상태를 유지하면서 수지층(450)으로 매우 효과적으로 전사될 수 있다. 나아가, 수지층(450)은 수직형 반도체요소(200)를 지지하는 유연성 기판으로서 작용한다.
이하에서는, 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제2 구현예를 도 2a 내지 도 2d를 참조하여 상세하게 설명한다. 도 2a 내지 도 2d는 본 개시의 반도체 요소 전사 방법의 제2 구현예를 보여주는 단면도이다.
제2 구현예에 있어서, 기판(100) 위에 수직형 반도체요소(200)를 형성하는 단계; 수직형 반도체요소(200)의 표면에 무기 절연층(210)을 형성하고, 무기 절연층(210)의 표면에 OH 기를 도입하는 단계; 무기 절연층(210) 표면에 양친매성층(300)을 형성하는 단계; 양친매성층(300)으로 코팅된 수직형 반도체요소(200) 위에 중합성 조성물(400)을 도포하는 단계; 등은 제1 구현예와 동일하다.
도 2a는, 도포된 중합성 조성물(400) 위에 지지층(500)을 압착하는 단계를 보여준다. 지지층(500)은 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등이 사용될 수 있다.
또 다른 실시예에 있어서, 도포된 중합성 조성물(400)과 접촉하는 지지층(500)의 일면은 접착촉진제(adhesion promoter)로 코팅될 수 있다. 접착촉진제는, 도포된 중합성 조성물(400)의 경화에 의하여 생성되는 수지층(450)과 지지층(500) 사이의 결합력을 더욱 강하게 할 수 있다. 접착촉진제는 지지층의 재질 및 수지층의 재질에 따라 적절히 선택될 수 있다. 또 다른 실시예에 있어서, 도포된 중합성 조성물(400)과 접촉하는 지지층(500)의 일면은 접착방지제(adhesion preventer)로 코팅될 수 있다. 접착방지제는, 도포된 중합성 조성물(400)의 경화에 의하여 생성되는 수지층(450)과 지지층(500) 사이에 과도한 결합력이 발생되는 것을 방지하여, 추후, 수지층(450)과 지지층(500) 사이의 분리를 용이하게 할 수 있다. 접착방지제는 지지층의 재질 및 수지층의 재질에 따라 적절히 선택될 수 있다. 접착방지제로서는, 예를 들면, 우레탄 아크릴레이트 수지 등이 사용될 수 있다.
도포된 중합성 조성물(400) 위에 지지층(500)을 압착함으로써, 지지층(500)이 수직형 반도체요소(200)에 매우 근접할 수 있다. 이때, 도포된 중합성 조성물(400)이 스퀴즈(squeeze)되어, 수직형 반도체요소(200) 위에 존재하는 중합성 조성물(400)의 양이 최소화될 수 있다. 그에 따라, 추후에, 식각에 의하여 제거되어야 하는 수지층(450)의 양도 최소화될 수 있다. 그에 따라, 수지층(450) 식각 공정의 경제성이 향상될 수 있다.
도 2b는, 도포된 중합성 조성물 층(400)을 경화하여 수지층(450)으로 전환함으로써, 수직형 반도체요소(200)가 수지층(450) 내에 임베딩되어 있는 것을 보여준다. 중합성 조성물 층(400)의 경화는, 예를 들면, 열 또는 빛을 중합성 조성물 층(400)에 가함으로써 수행될 수 있다. 중합성 조성물 층(400)이 열개시제를 함유하는 경우에는, 중합성 조성물 층(400)에 열을 가함으로써, 중합성 조성물 층(400)을 경화시킬 수 있다. 중합성 조성물 층(400)이 광개시제를 함유하는 경우에는, 중합성 조성물 층(400)에 빛(예를 들어, 자외선, 구체적인 예를 들면, 약 365 nm의 자외선)을 가함으로써, 중합성 조성물 층(400)을 경화시킬 수 있다. 열경화 온도 또는 광경화 파장은 사용된 열개시제 또는 광개시제에 따라 달라질 수 있다. 경화 과정 동안, 중합성 조성물 중의 중합성 모노머의 중합반응; 및 중합성 조성물 중의 중합성 모노머와 양친매성층(300)의 유기작용기 간의 결합;이 진행될 뿐만아니라, 중합성 조성물 중의 중합성 모노머와 지지층(500) 간의 결합이 진행된다. 앞에서 언급한 바와 같이, 중합성 조성물 중의 중합성 모노머와 지지층(500) 간의 결합력은, 지지층(500)의 일면에 필요에 따라 코팅된 접착촉진제 또는 접착방지제에 의하여 조절될 수도 있다.
경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200)는, 무기 절연층(210) 및 양친매성층(300)을 매개로 하여, 강하게 결합된다. 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력은, 기판(100)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력보다 강하다. 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력은, 기판(100)과 하지층(110) 간의 결합력보다 강하다. 경화된 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력은, 기판(100)과 버퍼층(120) 간의 결합력보다 강하다.
경화된 수지층(450)과 지지층(500) 간의 결합력은, 기판(100)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력보다 강하다. 경화된 수지층(450)과 지지층(500) 간의 결합력은, 기판(100)과 하지층(110) 간의 결합력보다 강하다. 경화된 수지층(450)과 지지층(500) 간의 결합력은, 기판(100)과 버퍼층(120) 간의 결합력보다 강하다.
도 2c는 지지층(500)을, 수지층(450) 및 수직형 반도체요소(200)와 함께, 기판(100)으로부터 분리하는 단계를 보여준다. 지지층(500)을 기판(100)으로부터 벗겨내면, 지지층(500)과 수지층(450) 간의 결합력이 강하고 수지층(450)과 수직형 반도체요소(200) 간의 결합력이 강하기 때문에, 수직형 반도체요소(200)와 수지층(450)도, 지지층(500)에 지지된 채, 기판(100)으로부터 분리된다. 수직형 반도체요소(200)와 기판(100) 사이에 하지층(110), 버퍼층(120) 및/또는 마스크층(130)이 형성되어 있는 경우, 하지층(110), 버퍼층(120) 및/또는 마스크층(130) 역시, 수직형 반도체요소(200)에 결합된 채, 기판(100)으로부터 분리될 수 있다. 지지층(500)의 지지에 의하여 수지층(450)의 강도가 보강되므로, 기판(100)으로부터의 분리시에, 수지층(450)의 손상을 방지할 수 있다. 따라서, 지지층(500)의 채용은 대면적의 반도체 소자를 제조할 경우에 특히 유리하다.
도 2d는 지지층(500)이 제거된 후의 수지층(450)을 보여준다. 지지층(500)의 제거는, 예를 들면, 식각 공정에 의하여 제거될 수 있다. 지지층(500)의 식각은, 예를 들면, CF4 및 O2를 포함하는 식각 가스를 사용하여 수행될 수 있다. 지지층(500)의 제거는, 다른 예를 들면, 광분해 공정에 의하여, 지지층(500)과 수지층(45) 사이의 결합을 파괴함으로써 수행될 수도 있다. 구체적인 예를 들면, 기판으로부터 분리된 지지층(500), 수지층(450) 및 수직형 반도체요소(200)를 포함하는 적층체를 더미 기판 위에 올려놓고, 지지층(500)에 분자결합 파괴용 파장을 조사함으로써, 지지층(500)과 수지층(450) 사이의 결합을 파괴한다. 그 결과, 지지층(500)과 수지층(450) 사이의 부착력은, 더미 기판과 수직형 반도체요소(200) 사이의 부착력 보다 약해진다. 그에 따라, 지지층(500)을 벗겨냄으로써, 간단하게 지지층(500)을 제거할 수 있게 된다. 분자결합 파괴용 파장은, 다양한 종류의 결합의 결합에너지에 해당하는 파장일 수 있다. 다양한 종류의 결합과 그에 상응하는 결합 파괴용 파장의 관계를 도 3에 도시하였다. 예를 들어, 약 172 nm의 파장을 사용함으로써, C=C 결합 이하의 결합에너지를 갖는 대부분 화학적 결합들을 파괴할 수 있다.
제2 구현예에 있어서 수지층(450)의 일부를 식각하여 수직형 반도체요소(200)의 상부가 노출되도록 하는 단계는 제1 구현예와 동일하다.
도 2a 내지 도 2d에 나타난 일련의 과정을 통하여, 기판 위에서 성장 또는 형성된 수직형 반도체요소(200)는 그 배열 상태를 유지하면서 수지층(450)으로 매우 효과적으로 전사될 수 있다. 나아가, 수지층(450)은 수직형 반도체요소(200)를 지지하는 유연성 기판으로서 작용한다. 도 2a 내지 도 2d의 구현예는, 지지층(500)의 채용으로 인하여, 대면적의 유연한 반도체 소자를 제조할 경우에 특히 유리하다.
이하에서는, 본 개시의 유연성 반도체 소자 제조방법의 일 구현예를 상세히 설명한다. 본 개시의 다른 측면에 따른 유연성 반도체 소자 제조방법의 일 구현예는,
수지층; 상기 수지층에 임베드된 수직형 반도체요소로서, 그 상부가 상기 수지층 위로 노출되어 있고 그 하부가 상기 수지층 아래로 노출되어 있는 수직형 반도체 요소; 및 선택적으로, 상기 수직형 반도체 요소의 아래에 위치하는 마스크층, 버퍼층 및 하지층 중의 적어도 하나;를 포함하는 유연성 적층체를 준비하는 단계;
상기 유연성 적층체의 상면측에 상기 수직형 반도체요소에 전기적으로 연결된 상부전극을 형성하는 단계; 및
상기 유연성 적층체의 하면측에 상기 수직형 반도체요소에 전기적으로 연결된 하부전극을 형성하는 단계;를 포함한다.
수지층; 상기 수지층에 임베드된 수직형 반도체요소로서, 그 상부가 상기 수지층 위로 노출되어 있고 그 하부가 상기 수지층 아래로 노출되어 있는 수직형 반도체 요소; 및 선택적으로, 상기 수직형 반도체 요소의 아래에 위치하는 마스크층, 버퍼층 및 하지층 중의 적어도 하나;를 포함하는 유연성 적층체는, 앞에서 설명한 본 개시의 반도체요소 전사 방법의 구현예들에 의하여 준비될 수 있다.
상부전극과 하부전극 중 적어도 하나는 투명전극일 수 있다. 상부전극과 하부전극은 모두 투명전극일 수 있다. 투명전극은, 예를 들면, 그래핀(graphene)으로 형성되거나, ITO(indium tin oxide)와 같은 투명 도전성 산화물(transparent conductive oxide)(TCO)로 형성될 수 있다. 상부전극과 하부전극 중 하나는 투명전극일 수 있고, 다른 하나는 불투명전극일 수 있다. 불투명전극은, 예를 들면, Au, Pd, Al, Pt, Ag, Ti 및 이들의 혼합물 등으로 형성될 수 있다. 그러나 여기서 언급한 상부 및 하부 전극의 구체적인 물질은 예시적인 것이고, 그 밖에 다양한 도전 물질이 상부 및 하부전극 물질로 적용될 수 있다.
100 --- 기판; 110 --- 하지층; 120 --- 버퍼층; 130 --- 마스크층; 200 --- 수직형 반도체 요소; 210 --- 무기 절연층; 300 --- 양친매성층; 400 --- 중합성 조성물 층; 450 --- 수지층; 500 --- 지지층.
Claims (36)
- 기판 위에 수직형 반도체요소를 형성하는 단계;
상기 수직형 반도체요소의 표면에 무기 절연층을 형성하고, 상기 무기 절연층의 표면에 OH 기를 도입하는 단계;
상기 무기 절연층 표면에 양친매성층을 형성하는 단계;
상기 양친매성층으로 코팅된 상기 수직형 반도체요소 위에 중합성 조성물을 도포하는 단계;
상기 도포된 중합성 조성물을 경화하여 수지층으로 전환함으로써, 상기 수직형 반도체요소가 상기 수지층 내에 임베드(embed)되도록 하는 단계;
상기 수지층을 상기 수직형 반도체요소와 함께, 상기 기판으로부터 분리하는 단계; 및
상기 수지층의 일부를 식각하여 상기 수직형 반도체요소의 상부가 노출되도록 하는 단계;를 포함하는 반도체 요소 전사 방법. - 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 사파이어 기판 또는 실리콘 기판과 같은 결정성 기판인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 유리와 같은 비결정성 기판인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 기판의 표면은, 하지층, 버퍼층 및 마스크층 중에서 선택되는 적어도 하나에 의하여 코팅된 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 하지층은 Ti, Hf, Zr 및 Al 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 버퍼층은 Ⅲ-Ⅴ족 계열의 화합물 반도체인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 버퍼층은 GaN 계열의 반도체, AlN 계열의 반도체, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 버퍼층은 GaN, AlN, InGaN, AlGaN, AlInGaN 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 버퍼층은 패터닝되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 마스크층의 두께가, 10 내지 500 nm 인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 마스크층의 두께가, 10 내지 200 nm 인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수직형 반도체요소는, 피라미드(pyramid) 형상, 로드(rod) 형상, 또는 이들과 유사한 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수직형 반도체요소는, Ⅲ-Ⅴ족 계열의 화합물 반도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수직형 반도체요소는, GaN 계열의 반도체인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수직형 반도체 요소는, GaN, InGaN, AlGaN, 및 AlInGaN 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 무기 절연층은, SiO2인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 무기 절연층은 플라즈마 또는 강산으로 처리되는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 양친매성층은, 가수분해기로서 메톡시실릴(methoxysilyl)기를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 양친매성층은, 유기작용기로서 에폭사이드(epoxide)기를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 양친매성층은 실란 커플링제를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 양친매성층은 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane: 3-GPTS)을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 중합성 조성물은, 중합성 모노머; 반응성 희석제; 및 개시제;를 포함하는 조성물
- 제 22 항에 있어서, 상기 중합성 모노머는, 우레탄 아크릴레이트(urethane acrylate)인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 반응성 희석제는, 2-하이드록시프로필-아크릴레이트(2-hydroxypropyl-acrylate: 2-HPA)인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 개시제는 1-하이드록시시클로헥실 페닐 케톤(1-Hydroxycyclohexyl Phenyl Ketone)인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 경화된 수지층과 상기 수직형 반도체요소 간의 결합력은, 상기 기판과 상기 수직형 반도체요소 간의 결합력보다 강한 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수지층의 식각은, CF4 및 O2를 포함하는 식각 가스를 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 수지층을 식각하여 상기 수직형 반도체요소의 상부가 노출되도록 하는 단계는, 상기 수지층을 상기 수직형 반도체요소와 함께 상기 기판으로부터 분리하는 단계의 수행 전에 수행되는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 기판 위에 수직형 반도체요소를 형성하는 단계;
상기 수직형 반도체요소의 표면에 무기 절연층을 형성하고, 상기 무기 절연층의 표면에 OH 기를 도입하는 단계;
상기 무기 절연층 표면에 양친매성층을 형성하는 단계;
상기 양친매성층으로 코팅된 상기 수직형 반도체요소 위에 중합성 조성물을 도포하는 단계;
상기 도포된 중합성 조성물 위에 지지층을 압착하는 단계;
상기 도포된 중합성 조성물을 경화하여 수지층으로 전환함으로써, 상기 수직형 반도체요소가 상기 수지층 내에 임베드(embed)되도록 하는 단계;
상기 지지층을 상기 수지층 및 상기 수직형 반도체요소와 함께, 상기 기판으로부터 분리하는 단계;
상기 지지층을 제거하는 단계; 및
상기 수지층의 일부를 식각하여 상기 수직형 반도체요소의 상부가 노출되도록 하는 단계;를 포함하는 반도체 요소 전사 방법. - 제 29 항에 있어서, 상기 지지층은, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 도포된 중합성 조성물과 접촉하는 상기 지지층의 일면은 접착촉진제(adhesion promoter)로 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 도포된 중합성 조성물과 접촉하는 상기 지지층의 일면은 접착방지제(adhesion preventer)로 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 경화된 수지층과 상기 지지층 간의 결합력은, 상기 기판과 상기 수직형 반도체요소 간의 결합력보다 강한 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 지지층의 제거는, 식각 공정에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 제 29 항에 있어서, 상기 지지층의 제거는, 광분해 공정에 의하여 상기 지지층과 상기 수지층 사이의 결합을 파괴하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 요소 전사 방법.
- 수지층; 상기 수지층에 임베드된 수직형 반도체요소로서, 그 상부가 상기 수지층 위로 노출되어 있고 그 하부가 상기 수지층 아래로 노출되어 있는 수직형 반도체 요소; 및 선택적으로, 상기 수직형 반도체 요소의 아래에 위치하는 마스크층, 버퍼층 및 하지층 중의 적어도 하나;를 포함하는 유연성 적층체를 준비하는 단계;
상기 유연성 적층체의 상면측에 상기 수직형 반도체요소에 전기적으로 연결된 상부전극을 형성하는 단계; 및
상기 유연성 적층체의 하면측에 상기 수직형 반도체요소에 전기적으로 연결된 하부전극을 형성하는 단계;를 포함하는 유연성 반도체 소자 제조방법.
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