KR20140072282A - 이형제 용해수 도포 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 주조물을 제조하는 사람이 분진이나 고온, 고압의 수증기 등으로부터 피해를 입지 않도록 분사 노즐을 덮는 후드를 구비하는 이형제 분사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 이형제를 금형에 분사하는 분사 노즐, 분사 노즐과 금형을 감싸는 후드 및 분사 노즐과 후드를 승, 하강 시키는 승하강 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 분사 장치를 제공한다.

Description

이형제 용해수 도포 장치{SHOWER APPARATUS FOR AQUEOUS SOLUTION OF PARTING AGENT}
본 발명은 금형으로부터 주조물을 쉽게 분리할 수 있도록 하는 이형제를 금형에 자동으로 도포하는 이형제 용해수 도포 장치에 관한 것이다.
동일한 주물을 많이 주조하기 위해서 반복 사용하는 주형을 영구 주형이라고 하며, 영구 주형을 사용해서 압력을 주지 않고 주조하는 방법을 영구형 주조라고 한다. 영구형 주조는 거의 금형을 사용하며 이것을 보통 금형 주조라고 한다. 금형 주조되는 금속은 주로 경합금이며 황동과 청동, 아연, 주철도 사용한다.
이러한 영구형 주형, 즉 금형을 이용하여 주조하는 경우, 모래 등으로 제조된 소모성 주형보다 열 전도도가 높아 주물이 급속 냉각되기 때문에 주물조직이 미세하다는 장점이 있다.
이때, 금형의 수명을 증가시키기 위해 매 주조시마다 흑연을 분사하거나, 흑연을 녹인 수용액을 저장하는 수조에 금형을 담금으로써 금형의 내화성을 높여준다. 흑연은 내화제의 기능뿐 아니라, 이형제의 기능, 열 차폐 기능, 냉각속도 조절 기능도 한다.
스프레이 타입으로 이형제 분말을 직접 분사하는 이형제 분사장치는 금형주조되는 금속이 비교적 융점이 낮은 아연이나 알루미늄일 경우 적용이 가능하며, 황동을 이용한 주조 시에는 금속의 융점이 높기 때문에 이형제와 용탕의 반응, 작업의 연속성 및 작업환경을 고려할 때 이러한 분사(spray) 장치를 이용한 이형제의 적용이 어려웠다. 따라서 금형 표면의 온도가 높아 흑연 등의 이형제가 금형 표면에 도형이 되지 않아(라이덴프로스트 현상), 흑연과 같은 이형제가 용해된 용해수를 저장하는 수조에 금형을 담금으로써 이형제 용해수을 금형 전체에 도포하는 방법을 이용해왔다. 즉, 흑연 용해수가 저장된 냉각조에 금형을 담궈서 이형제를 도형하고, 별도의 에어 브러쉬를 이용하여 금형 표면을 청소하는 방법을 이용해왔다.
이러한 방식은 비교적 고온인 금형을 수조에 담금으로써 발생하는 수증기로 인한 화상의 위험과 금형의 표면 뿐 아니라 금형 전체가 냉각된다는 점, 그리고 금형에 이형제를 도포하는 작업이 주로 수작업으로 이루어져야 한다는 단점이 있었다.
본 발명은 주조물을 제조하는 사람이 분진이나 고온, 고압의 수증기 등으로부터 피해를 입지 않도록 분사 노즐을 덮는 후드를 구비하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 이형제를 금형에 분사하는 분사 노즐, 분사 노즐과 금형을 감싸는 후드 및 분사 노즐과 후드를 승, 하강 시키는 승하강 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명은 금형이 탈부착 가능하게 결합되는 금형 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 금형 구동부는 분사 노즐과 가까워지는 방향 및 멀어지는 방향으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 금형 구동부는, 금형의 용탕 주입구의 높이가 낮아지는 방향으로 금형을 회전시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 금형 구동부의 일 측에 설치되며, 용탕 주입 시에 발생하는 가스를 흡입하는 제1 배기 덕트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 후드의 일 측에 결합되는 제2 배기 덕트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 분사 노즐과 연결되며, 이형제를 용해시킨 이형제 용해수를 제조 및 저장하는 탱크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 분사 노즐은 압축 공기를 금형으로 분사하여 금형에 부착된 이물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
또한 본 발명의 다른 일 예로, 분사 노즐은, 이형제 용해수를 유입하는 제1 노즐 파이프, 압축 공기를 유입하는 제2 노즐 파이프를 구비하며, 제1 노즐 파이프와 연통하며 이형제 용해수를 분사하는 제1 분사홀, 제2 노즐 파이프와 연통하며 압축 공기를 분사하는 제2 분사홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치를 제공한다.
본 발명이 제공하는 이형제 용해수 도포 장치는, 분사 노즐을 통해 흑연과 같은 이형제가 용해된 용해수를 금형에 분사함으로써 금형으로부터 주조물이 쉽게 분리되도록 할 수 있다.
또한 본 발명이 제공하는 이형제 용해수 도포 장치는, 분사 노즐을 통해 이형제 용해수를 금형으로 분사할 때, 후드가 분사 노즐과 금형을 감싸줌으로써 이형제 용해수가 비산하는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 발명이 제공하는 이형제 용해수 도포 장치는, 금형이 결합되는 금형 구동부의 일 측에 배기 덕트가 구비되어, 용탕의 주입 과정에서 발생하는 가스를 흡입하여 배기할 수 있어 주조물 제조 공정이 좀 더 쾌적한 환경에서 이루어지도록 할 수 있다.
또한 본 발명이 제공하는 이형제 용해수 도포 장치는, 금형이 결합되는 금형 구동부가 이형제 분사 노즐 측으로 금형을 이동시키는 것 뿐만 아니라, 용탕을 주입하기 용이하도록 금형을 회전시킬 수 있어 주조물 제조 공정이 좀 더 편리하게 이루어지도록 할 수 있다.
또한 본 발명이 제공하는 이형제 용해수 도포 장치는, 이형제 용해수의 도포 전에 압축 공기를 이용해 금형을 청소함으로써 금형을 청소하고 이형제 용해수를 분사하는 공정이 함께 이루어지도록 하여 전체 작업 공정을 매끄럽고 원활히 진행시킬 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 전방에서 바라본 도면,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 좌측에서 바라본 도면,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 후방에서 바라본 도면,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 상부에서 바라본 도면,
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐의 노즐 파이프를 도시한 도면,
도 6 및 도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐의 상부 본체를 도시한 도면,
도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐의 하부 본체를 도시한 도면,
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐을 도시한 도면,
도 10 및 도 11은 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐의 상부 본체를 도시한 도면,
도 12 및 도 13은 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐의 제1 하부 본체를 도시한 도면,
도 14 및 도 15는 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 노즐의 제2 하부 본체를 도시한 도면.
이하 도면을 참조하여, 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 전방에서 바라본 도면이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치는, 이형제를 금형으로 분사하는 분사 노즐(100), 분사 노즐(100)이 이형제를 분사할 때 금형과 분사 노즐(100)을 덮는 후드(200), 분사 노즐(100)과 후드(200)를 승하강 시키는 승하강 장치(300), 금형이 탈부착 가능하게 결합되는 금형 구동부(400), 이형제를 분사하거나 용탕 주입시 발생할 수 있는 가스나, 이형제가 비산되는 것을 흡입하기 위한 제1 배기 덕트(510) 및 제2 배기 덕트(520)를 포함한다.
분사 노즐(100)과 후드(200)는 승하강 장치(300)에 의해 금형이 위치한 곳으로 하강하였다가 상승하며 원래의 위치로 복귀한다. 이형제 분사 장치는 장치의 뼈대를 이루는 프레임을 구비하는데, 이는 상부 프레임(10), 하부 프레임(20), 후방 프레임(30)이다. 승하강 장치(300)는 상부 프레임(10)에 고정되어 있으며, 분사 노즐(100)과 후드(200)는 승하강 장치(300)에 의해 상부 프레임(10)에 대해 승하강 가능하도록 설치되어 있다.
금형 구동부(400)는 금형 구동부 프레임(401)과, 금형 구동부 프레임(401)에 고정 설치된 제1 금형 고정부(402), 금형 구동부 프레임(402)에 대해 이동가능하게 설치된 제2 금형 고정부(404) 및 금형 구동 장치(410)를 포함한다. 금형 구동부 프레임(401)에 금형 구동 장치(410)가 고정 설치되고, 금형 구동 장치(410)가 제2 금형 고정부(404)를 좌, 우로 이동시킨다. 제1 금형 고정부(402)와 제2 금형 고정부(404)에는 주조물을 만들기 위해 용탕이 주입되는 금형이 고정되는 부분으로, 금형은 제1 금형 고정부(402)에 고정되는 부분과 제2 금형 고정부(404)에 고정되는 부분으로 나뉘어져 있다. 용탕을 주입할 때는 제2 금형 고정부(404)가 이동하여 두 부분으로 나뉘어진 금형이 서로 결합되며, 용탕 주입후 주조물이 성형되면 제2 금형 고정부(404)를 다시 이동시켜 금형이 서로 분리되도록 하여 주조물을 꺼낼 수 있다.
하부 프레임(20) 상에는 후술할 금형 구동부(400)를 전, 후방으로 이동시키는 금형 이동 장치(420)가 설치되며, 금형 이동 장치(420) 상에 금형 회전 장치(430)가 설치된다. 전술한 바와 같이 용탕을 주입할 때는 금형 이동 장치(420)가 금형 구동부(400)를 전방으로 이동시킨 다음, 금형 구도 장치(410)가 제2 금형 고정부(404)를 우측으로 이동시켜 제1 금형 고정부(402)에 고정된 금형과 제2 금형 고정부(404)에 고정된 금형이 서로 결합되도록 한다. 그 다음 금형 회전 장치(430)가 금형 구동부 프레임(401)을 회전시켜 금형이 기울어지게 한 다음 금형의 용탕 주입구를 통해 용탕을 주입한다.
도 2은 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 우측에서 바라본 도면이다. 분사 노즐(100)과 후드(200)는 승하강 장치(300)에 의해 승하강 되는데, 승하강 장치(300)는 상부 프레임(10)에 고정 설치되어 있다. 분사 노즐(100)은 제1 승하강 장치(310)에 의해 승하강되며, 후드(200)는 제2 승하강 장치(320)에 의해 승하강된다. 승하강 장치(300)로는 일반적으로 사용되는 유압 실린더 혹은 공압 실린더를 사용할 수 있다. 제1 승하강 장치(310)는 상부 프레임(10)에 설치되며, 피스톤 로드가 상부 프레임(10)의 상부에서 상하 운동한다. 제1 승하강 장치(310)의 피스톤 로드의 단부과 분사 노즐(100)의 상단이 고정되어, 피스톤이 상부로 이동할 때 분사 노즐(100)도 상부로 이동하고, 피스톤 로드가 하부로 내려갈 때 분사 노즐(100)도 하부로 내려간다. 제2 승하강 장치(320)는 상부 프레임(10)에 설치되되, 제2 승하강 장치(320)의 피스톤 로드가 상부 프레임(10)의 하부에서 상하 운동한다. 제2 승하강 장치(320)의 피스톤 로드의 단부는 후드(200)의 상면과 결합되어, 피스톤 로드가 하강할 때 후드(200)도 하강하고, 피스톤 로드가 상승할 때 후드(200)도 상승하게 된다.
한편 분사 노즐(100)에서 분사된 이형제 용해수을 수집하여 배출하기 위해, 이형제 용해수 수집부(700)와 수집된 이형제 용해수을 외부로 배출하기 위한 밸브(710)가 분사 노즐(100)과 후드(200)의 하부에 마련된다. 이형제 용해수 수집부(700)와 밸브(710)는 하부 프레임(20)에 고정 설치된다.
도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 후방에서 바라본 도면, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치를 상부에서 바라본 도면이다. 앞서 설명한 바와 같이, 하부 프레임(20) 상에는 후술할 금형 구동부(400; 도 1 참조)를 전, 후방으로 이동시키는 금형 이동 장치(420)가 설치되며, 금형 이동 장치(420) 상에 금형 회전 장치(430)가 설치된다. 금형 이동 장치(420) 상에는 금형 회전 장치(430)를 설치하기 위한 받침대(422)가 설치된다. 금형 이동 장치(420)는 일반적으로 직선 운동에 사용되는 공압 실린더나 유압 실린더가 채용될 수 있다. 금형 이동 장치(420)의 피스톤이 전, 후방으로 운동할 때, 금형 구동부(400)뿐만 아니라, 피스톤(422) 상에 고정된 받침대(422)와 받침대(422) 상에 설치된 금형 회전 장치(430)도 함께 전, 후방으로 이동하게 된다. 금형 회전 장치(430)는 일반적인 4절 링크 장치인 크랭크 기구의 원리를 이용하였다. 금형 회전 장치(430)는 일 단이 받침대(422) 상에 회전 가능하게 고정되며, 타 단이 금형 구동부 프레임(401)과 회전가능하게 결합된 제1 회전축(431), 금형 구동부 프레임(401)과 회전 가능하게 결합된 제2 회전축(434), 제2 회전축(434)과 피스톤 로드의 일단이 연결되며, 받침대(422) 상에 설치된 왕복 운동 장치(432)를 포함한다. 왕복 운동 장치(432)의 피스톤이 전진하면 후방에서 봤을 때 반시계 방향, 전방에서 봤을 때는 시계 방향으로 금형 구동부(400)가 회전하고, 피스톤이 후퇴하면 금형 구동부(400)가 다시 회전하여 원래의 방향으로 되돌아온다. 제2 회전축(434)은 금형 구동부(400)를 고정 지지할 수 있도록 후방 케이스(30) 또는 하부 케이스(20)에 고정될 수 있으며, 이 때 제2 회전축(434)은 금형 구동부(400) 전, 후방 이동시에도 후방 케이스(30) 또는 하부 케이스(20)와 금형 구동부(400) 모두에 고정된 상태를 유지할 수 있도록 길이가 길어 슬라이드가 가능한 축으로 만들어지거나, 전, 후방 왕복 이동을 할 수 있는 실린더 장치가 채용될 수 있다.
도 5은 본 발명의 제1 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐의 노즐 파이프를 도시한 도면, 도 6 및 도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐의 상부 본체를 도시한 도면, 도 8는 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐의 하부 본체를 도시한 도면이다. 도 5 내지 도 8에 도시된 분사 노즐은 도 1 내지 도 4에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치에 구비된다.
본 발명의 제1 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐(100)은, 노즐 파이프(110), 상부 본체(120) 및 하부 본체(130)의 세 부분으로 이루어져 있다. 노즐 파이프(110)는 내부에 중공(112)이 형성되어 흑연 용해수와 같은 이형제가 유입된다. 노즐 파이프(110)의 상단은 앞서 설명한 바와 같이, 승하강 장치(300) 중 제1 승하강 장치(310)의 피스톤 로드 상단과 연결되어 제1 승하강 장치(310)의 피스톤 로드가 전진할 때 상부로 이동하고, 후퇴할 때 하부로 이동하게 된다. 한편 노즐 파이프(110)의 하부에는 플랜지부가 형성되고, 플랜지부에는 상부 본체(120)와의 체결을 위한 체결홀(114)이 형성된다. 중공(112)의 상부는 흑연 용해수와 같은 이형제 또는 이형제 용해수를 유입할 수 있는 파이프 및 압축 공기를 유입할 수 있는 파이프와 연결되며, 별도로 용해수 저장 탱크, 용해수 제조 장치 등을 더 포함할 수 있다.
노즐 파이프(110)는 노즐 본체와 결합되는데, 노즐 본체는 상부 본체(120)와 하부 본체(130)로 이루어진다. 상부 본체(120)는 노즐 파이프(110)의 중공(112)과 연통하는 연통홀(122), 노즐 파이프(110)를 체결하기 위한 제1 체결홀(124), 연통홀(122)을 통해 유입된 흑연 용해수가 일시적으로 머무를 수 있는 저장 공간(126), 저장 공간(126)의 양 측에 하부로 소정 높이 돌출되는 가림부(127), 하부 본체(130)를 체결하기 위한 제2 체결홀(128)을 포함한다. 저장 공간(126)의 양 측부는 가림부(127)에 의해 일부가 가려짐으로써 하부 본체(130)가 상부 본체(120)의 하부에 체결되면 분사홀로 기능하게 된다. 하부 본체(130)는 상부 본체(120)와의 체결을 위한 체결홀(138)을 구비하며, 하부 본체(130)의 상면은 맞닿는 면인 상부 본체(120)의 하면과 같은 것이 바람직하다.
한편, 이형제 용해수 분사 장치는 노즐 파이프(110)가 용해수 저장 탱크 뿐 아니라, 압축 공기 저장 탱크와 연결되며, 용해수 저장 탱크와 압축 공기 저장 탱크를 번갈아 노즐 파이프(110)에 연결시켜줄 수 있는 밸브를 더 포함할 수 있다. 이를 통해 노즐(100)을 통해 이형제 용해수 뿐만 아니라 압축 공기 또한 금형으로 분사할 수 있는데, 노즐(100)과 후드(200)가 하강 또는 상승할 때 금형으로 고압의 압축 공기를 분사하여 주물 제작후 금형 표면에 잔류하는 아연산화물이나 흑연 분진 등을 제거할 수 있다. 또한 후드(200) 내에서 노즐(100)이 압축 공기를 분사하여 금형 표면을 청소하기 때문에 공장 내부의 환경 개선할 수 있다.
도 9은 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐을 도시한 도면, 도 10 및 도 11는 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐의 상부 본체를 도시한 도면, 도 12 및 도 13는 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐의 제1 하부 본체를 도시한 도면, 도 14 및 도 15은 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐의 제2 하부 본체를 도시한 도면이다. 도 9 내지 도 15에 도시된 노즐은 도 1 내지 도 4에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 이형제 분사 장치에 구비될 수 있다.
본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐(100')은 제1 노즐 파이프(111') 및 제2 노즐 파이프(112'), 제1, 2 노즐 파이프(111', 112')가 체결되는 상부 본체(120'), 상부 본체(120')의 하부에 체결되며, 제1 분사홀(139')이 형성된 제1 하부 본체(130'), 제1 하부 본체(130')의 하부에 체결되며 제2 분사홀(149')이 형성된 제2 하부 본체(140')를 포함한다. 제1 하부 본체(130')에 형성된 제1 분사홀(139')을 통해 분사되는 물질은 압축 공기일 수도 있고, 이형제 용해수일 수도 있으며, 제2 하부 본체(140')에 형성된 제2 분사홀(149')을 통해 분사되는 물질 역시 압축 공기일 수도 있고, 이형제 용해수일 수도 있다. 제1 분사홀(139')과 제2 분사홀(149')을 통해 분사되는 물질이 압축 공기와 이형제 용해수 중에서 선택되며, 각 분사홀(139', 149')을 통해 분사되는 물질이 서로 다르다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 이형제 분사 장치가 구비하는 분사 노즐(100')은 제1 분사홀(139')을 통해 이형제 용해수가 분사되고, 제2 분사홀(149')을 통해 압축 공기가 분사되는 것을 기준으로 설명한다.
도 10 및 도 11를 참조하면, 상부 본체(120')는 제1 노즐 파이프(111')에 형성된 중공이 연통되는 제1 연통홀(121'), 제2 노즐 파이프(112')가 결합되는 제2 연통홀(122')을 포함한다. 제1 노즐 파이프(111')를 통해서는 이형제 용해수가 유입되고, 제2 노즐 파이프(112')를 통해 압축 공기가 유입된다. 제2 연통홀(122')은 후술할 제2 하부 본체(140')와 제2 노즐 파이프(112')가 연통되도록 제2 노즐 파이프(122')의 일부가 관통할 수 있도록 제1 연통홀(121')보다는 큰 크기로 형성된다. 상부 본체(120')에는 제1 노즐 파이프(111')와 제2 노즐 파이프(112')를 체결하기 위한 제1 체결홀(124')과, 제1 하부 본체(130') 및 제2 하부 본체(140')를 체결하기 위한 제2 체결홀(128')이 형성된다.
도 12 및 도 13를 참조하면, 제1 하부 본체(130')는 제1 노즐 파이프(111') 및 제1 연통홀(121')을 통해 유입된 이형제 용해수를 일시적으로 저장하는 저장 공간(136')을 구비한다. 저장 공간(136')에 일시적으로 저장된 용해수를 분사하기 위한 분사홀(139')이 측면에 복수 개 형성된다. 또한, 제1 하부 본체(130')를 상부 본체(120')에 체결하기 위한 체결홀(138')또한 복수 개 구비된다. 한편, 제2 노즐 파이프(112')의 일부가 관통할 수 있는 관통홀(131')을 포함한다. 관통홀(131')을 통해 제2 노즐 파이프(112')의 일부가 후술할 제2 하부 본체(140')까지 연장되어 저장 공간(146')과 연통된다.
도 14 및 도 15을 참조하면, 제2 노즐 파이프(112')가 관통하는 관통홀(131')을 구비하지 않는 것을 제외하면 제2 하부 본체(140')는 제1 하부 본체(130')와 비슷한 구성과 기능을 한다. 제2 노즐 파이프(112')가 저장 공간(146')과 연통하여, 압축 공기가 일시적으로 저장 공간(146')에 저장되며, 측면에 형성된 복수 개의 분사홀(149')을 통해 금형으로 분사된다.
이형제 분사 장치의 작동은 다음과 같다. 먼저 후드(200)가 하강한 다음, 분사 노즐(100, 100')이 하강하면서 압축 공기를 분사하거나, 분사 노즐(100, 100')이 하강 및 상승을 통해 왕복하며 압축 공기를 분사하여 금형을 청소한다. 그 다음 분사 노즐(100, 100')이 하강하면서 이형제 용해수를 분사하여 이형제 용해수를 금형에 도포하고, 다시 분사 노즐(100, 100')을 상승시키며 압축 공기를 분사하여 금형에 남은 잔류물을 제거할 수 있다. 금형의 청소와 이형제 용해수의 도포가 완료되면 후드(200)를 상승시킨다. 이러한 구성을 통해,금형을 청소하고 이형제 용해수를 분사하는 공정이 자동으로 하나의 장치 내에서 함께 이루어지도록 하여 전체 작업 공정을 매끄럽고 원활히 진행시킬 수 있다는 장점이 있다. 물론 상술한 예 외에도, 분사 노즐(100, 100')의 상승 또는 하강 시에 압축 공기 또는 이형제 용해수를 분사하는 순서는 변경될 수 있다.
본 발명의 권리 범위는 상기에서 설명된 실시예에 한정되지 않으며 직선 왕복 운동 장치나 회전 장치 등은 동일한 기능을 하는 관용적인 구성 요소로 대체 가능하다.
100, 100': 분사 노즐
200: 후드
300: 승하강 장치
400: 금형 구동부
410: 제1 금형 구동부 이동 장치
510: 제1 배기 덕트
520: 제2 배기 덕트

Claims (11)

  1. 이형제 용해수를 금형으로 분사하는 분사 노즐;
    분사 노즐과 금형을 감싸는 후드; 및
    분사 노즐과 후드를 승, 하강 시키는 승하강 장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    금형이 탈부착 가능하게 결합되는 금형 구동부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    금형 구동부는, 분사 노즐과 가까워지는 방향 및 멀어지는 방향으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    금형 구동부는, 금형의 용탕 주입구의 높이가 낮아지는 방향으로 금형을 회전시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    금형 구동부의 일 측에 설치되며, 용탕 주입 시에 발생하는 가스를 흡입하는 제1 배기 덕트;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    후드의 일 측에 결합되는 제2 배기 덕트;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    분사 노즐과 연결되며, 이형제를 용해시킨 이형제 용해수를 제조 및 저장하는 탱크;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    분사 노즐은, 이형제 용해수를 유입하는 중공이 형성되며, 승하강 장치와 연결되는 노즐 파이프, 노즐 파이프와 결합되며 용해수를 분사하기 위한 분사홀을 구비하는 노즐 본체를 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    노즐 본체는, 노즐 파이프의 중공과 연통하는 연통홀과 연통홀과 연결되는 분사홀을 구비하는 상부 본체와, 상부 본체의 하부에 결합되는 하부 본체를 포함하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    분사 노즐은 압축 공기를 금형으로 분사하여 금형에 부착된 이물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
  11. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    분사 노즐은, 이형제 용해수를 유입하는 제1 노즐 파이프, 압축 공기를 유입하는 제2 노즐 파이프를 구비하며,
    제1 노즐 파이프와 연통하며 이형제 용해수를 분사하는 제1 분사홀, 제2 노즐 파이프와 연통하며 압축 공기를 분사하는 제2 분사홀을 구비하는 것을 특징으로 하는 이형제 용해수 도포 장치.
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