KR20140067667A - 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드용 멤브레인 - Google Patents
화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드용 멤브레인 Download PDFInfo
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
도2는 도1의 평면도
도3은 도1의 캐리어 헤드의 구성을 도시한 도면
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드에 사용되는 멤브레인의 구성을 도시한 단면도
도5a는 도4의 'A'부분의 확대도
도5b 및 도5c는 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 멤브레인의 도4의 'A'부분의 확대도
도6은 도4의 멤브레인을 이용한 본 발명의 일 실시예에 따른 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드의 구성을 도시한 도면
도7은 도6의 'B' 부분의 확대도
120: 본체 130: 베이스
140: 리테이너 링 150: 에어 펌프
200: 멤브레인 210: 수평부
211: 수용홈 212: 접촉면
220: 단부 연장부 W: 웨이퍼
Claims (17)
- 웨이퍼를 연마 패드에 가압하면서 화학 기계적 연마 공정을 행하는 캐리어 헤드의 압력 챔버의 하측에 위치하여, 상기 압력 챔버의 압력에 따라 팽창 가능하게 설치되는 멤브레인으로서,
화학 기계적 연마 공정이 행해지는 웨이퍼를 수용하도록 판면에 요입 형성된 수용홈과, 상기 수용홈의 둘레에 상기 웨이퍼의 둘레를 감싸는 환형(annular form)로 연마 패드와 접촉하는 접촉면으로 이루어진 수평부와;
상기 수용홈의 반경 바깥 위치의 상기 수평부의 상면으로부터 링 형태로 상향 연장 형성되어 상기 캐리어 헤드에 고정되되, 상기 수용홈의 반경 바깥 위치로부터 상방으로 연장된 단부 연장부를;
포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 1항에 있어서,
상기 접촉면은 3mm 이상의 폭을 갖는 환형인 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 1항에 있어서,
상기 수용홈은 상기 웨이퍼의 형상에 대응하는 형상과 치수로 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 1항에 있어서,
상기 웨이퍼를 가압하는 수용홈의 가압면을 이루는 제1소재는 상기 접촉면을 이루는 제2소재에 비하여 경도가 더 낮은 소재로 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 4항에 있어서,
상기 단부 연장부는 상기 수용홈의 가압면과 동일한 상기 제1소재로 일체 형성되고, 상기 제1소재의 하면에 상기 환형의 상기 제2소재가 부착된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 5항에 있어서,
상기 제1소재와 상기 제2소재는 부착된 형태로 일체 성형되는 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 4항에 있어서,
상기 제1소재는 가요성 소재인 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 7항에 있어서,
상기 제1가요성 소재는 40 내지 50 쇼어(Shore A) 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 4항에 있어서,
상기 제2소재는 실리콘, 고무, 엔지니어링 플라스틱 중 어느 하나의 소재로 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 단부 연장부는 상기 수평부의 가장자리 끝단으로부터 상방으로 연장 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 단부 연장부는 상기 수평부의 가장자리 끝단으로부터 중심을 향해 이격된 위치에서 상방으로 연장 형성되어, 상기 단부 연장부의 반경 바깥쪽으로 돌출부가 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 제 11항에 있어서,
상기 돌출부는 상기 접촉면의 폭보다는 작게 형성되면서 0.5mm 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드의 멤브레인.
- 본체와;
상기 본체와 함께 회전 구동되는 베이스와;
상기 베이스에 위치 고정되고, 상기 베이스와의 사이에 압력 챔버가 형성되어 상기 압력 챔버의 압력 제어에 의해 화학 기계적 연마 공정 중에 저면에 위치한 웨이퍼를 하방으로 가압하는 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 멤브레인을;
포함하여, 상기 웨이퍼가 상기 멤브레인의 수용홈에 수용된 상태로 상기 웨이퍼의 전체 표면이 상기 가압면에 의해 가압되는 것을 특징으로 하는 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드.
- 제 13항에 있어서,
상기 단부 연장부는 상기 수평부의 가장자리 끝단으로부터 상방으로 연장 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드.
- 제 13항에 있어서,
상기 단부 연장부는 상기 수평부의 가장자리 끝단으로부터 중심을 향해 이격된 위치에서 상방으로 연장 형성되어, 상기 단부 연장부의 반경 바깥쪽으로 돌출부가 형성된 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드.
- 제 15항에 있어서,
상기 돌출부는 상기 접촉면의 폭보다는 작게 형성되면서 0.5mm 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 캐리어 헤드.
- 제 13항에 있어서,
상기 본체와 상기 베이스 중 어느 하나에 지지되도록 설치되고 상기 멤브레인의 바깥을 둘러싸는 리테이너링을;
더 포함하는 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드.
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