KR20140061371A - Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, prepreg, and curing product of each - Google Patents

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KR20140061371A
KR20140061371A KR1020147002298A KR20147002298A KR20140061371A KR 20140061371 A KR20140061371 A KR 20140061371A KR 1020147002298 A KR1020147002298 A KR 1020147002298A KR 20147002298 A KR20147002298 A KR 20147002298A KR 20140061371 A KR20140061371 A KR 20140061371A
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Abstract

본 발명은 그 경화물이 높은 열 전도성을 갖고, 저점도이며 작업성이 우수한 에폭시 수지를 제공하는 것이다. 하기 식(1)과 하기 식(6)으로 나타내어지는 화합물의 반응에 의해 얻어지는 페놀 화합물(a)과 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(A)를 함유하고, 하기 식(7)으로 나타내어지는 페놀 화합물(b)에 에피할로히드린을 더 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(B) 및/또는 하기 식(8)으로 나타내어지는 페놀 화합물(c)에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(C)를 에폭시 수지.

Figure pct00032
The present invention provides an epoxy resin having a high thermal conductivity, a low viscosity and excellent workability. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin (A) obtained by reacting a phenol compound (a) obtained by the reaction of a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (6) with epihalohydrin, An epoxy resin (B) obtained by further reacting the represented phenolic compound (b) with epihalohydrin and / or an epoxy resin obtained by reacting epihalohydrin with the phenol compound (c) represented by the following formula (8) The resin (C) is an epoxy resin.
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Description

에폭시 수지 혼합물, 에폭시 수지 조성물, 프리프레그 및 그들의 경화물{EPOXY RESIN MIXTURE, EPOXY RESIN COMPOSITION, PREPREG, AND CURING PRODUCT OF EACH}EPOXY RESIN MIXTURE, EPOXY RESIN COMPOSITION, PREPREG, AND CURING PRODUCT OF EACH), epoxy resin composition, prepreg,

본 발명은 신규한 에폭시 수지 혼합물 및 에폭시 수지 조성물에 관한 것이다. 또한 이러한 에폭시 수지 조성물에 의해 형성되는 프리프레그 등의 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to a novel epoxy resin mixture and an epoxy resin composition. And a cured product such as a prepreg formed by the epoxy resin composition.

에폭시 수지 조성물은 일반적으로 기계적 성질, 내수성, 내약품성, 내열성, 전기적 성질 등이 우수한 경화물이 되어 접착제, 도료, 적층판, 성형 재료, 주형 재료 등의 폭 넓은 분야에 이용되고 있다. 최근 이들 분야에 이용되는 에폭시 수지의 경화물에는 고순도화를 비롯하여 난연성, 내열성, 내습성, 강인성, 저선 팽창률, 저유전율 특성 등 여러 특성의 한층 향상이 요구되고 있다.The epoxy resin composition is generally used as a cured product having excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance and electrical properties and is used in a wide range of fields such as adhesives, paints, laminated plates, molding materials and mold materials. In recent years, cured products of epoxy resins used in these fields are required to further improve various properties such as high purity, flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, toughness, low linear expansion coefficient and low dielectric constant characteristics.

특히 에폭시 수지 조성물의 대표적인 용도인 전기·전자 산업 분야에 있어서는 다기능화, 고성능화, 컴팩트화를 목적으로 한 반도체의 고밀도 실장이나 프린트 배선판의 고밀도 배선화가 진행되고 있지만 고밀도 실장화나 고밀도 배선화에 따라 반도체 소자나 프린트 배선판의 내부로부터 발생하는 열이 증가하여 오작동을 일으키는 원인이 될 수 있다. 그 때문에 발생한 열을 어떻게 해서 효율적으로 외부로 방출시키는지라는 것이 에너지 효율이나 기기 설계 상에서도 중요한 과제가 되고 있다. 이들 열 대책으로서는 메탈 코어 기판을 사용하거나, 설계의 단계에서 방열되기 쉬운 구조를 편성하거나, 사용하는 고분자 재료(에폭시 수지)에 고열 전도 필러를 세밀 충전하거나 하는 등 여러가지 연구가 이루어지고 있다. 그러나 고열 전도 부위를 연결하는 바인더역의 고분자 재료의 열 전도율이 낮기 때문에 고분자 재료의 열 전도 스피드가 율속이 되어 효율적인 방열이 불가능한 것이 현상황이다.Particularly in the field of electric and electronic industry, which is a typical application of epoxy resin composition, high density packaging of semiconductors and high density wiring of printed wiring boards aiming at multifunctionalization, high performance and compactness are progressing. However, due to high density packaging or high density wiring, Heat generated from the inside of the printed wiring board increases, which may cause malfunction. Therefore, how to efficiently discharge the generated heat to the outside is an important issue in energy efficiency and device design. As a thermal countermeasure, various studies have been made, such as using a metal core substrate, knitting a structure that is easy to dissipate in the design stage, finely filling a high-temperature conduction filler in a polymer material (epoxy resin) to be used. However, since the thermal conductivity of the polymer material in the binder region connecting the high thermal conductivity region is low, the thermal conduction speed of the polymer material is low and the heat dissipation is not possible efficiently.

에폭시 수지의 고열 전도화를 실현하는 수단으로서 메소겐기를 구조 중에 도입하는 것이 특허문헌 1에 보고되어 있고, 동 문헌에는 메소겐기를 갖는 에폭시 수지로서 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지 등이 기재되어 있다. 또한 비페닐 골격 이외의 에폭시 수지로서는 페닐 벤조에이트형의 에폭시 수지가 기재되어 있지만 상기 에폭시 수지는 산화에 의한 에폭시화 반응에 의해 제조될 필요가 있는 점에서 안전성이나 비용에 어려움이 있어 실용적이라고는 말할 수 없다. 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지를 이용한 예로서는 특허문헌 2~4를 들 수 있고, 그 중에서도 특허문헌 3에는 고열 전도율을 갖는 무기 충전재를 병용하는 방법이 기재되어 있다. 그러나 이들 문헌에 기재된 방법에 의해 얻어지는 경화물의 열 전도성은 시장의 요망을 만족하는 수준은 아니고, 비교적 염가로 입수가능한 에폭시 수지를 이용한 보다 높은 열 전도율을 갖는 경화물을 부여하는 에폭시 수지 조성물이 요구되고 있다.Patent Document 1 discloses that a mesogen group is introduced into a structure as means for realizing high thermal conductivity of an epoxy resin, and an epoxy resin having a biphenyl skeleton is described as an epoxy resin having a mesogen group. As the epoxy resin other than the biphenyl skeleton, a phenylbenzoate-type epoxy resin is described. However, since the epoxy resin needs to be produced by an epoxidation reaction by oxidation, it is said to be practically usable because it has difficulty in safety and cost I can not. Examples of using an epoxy resin having a biphenyl skeleton include Patent Documents 2 to 4, and in particular, Patent Document 3 describes a method of using an inorganic filler having a high thermal conductivity together. However, the thermal conductivity of the cured product obtained by the methods described in these documents is not a level satisfying market demand, and an epoxy resin composition which gives a cured product having a higher thermal conductivity using an epoxy resin which is relatively inexpensive is required have.

또한 높은 열 전도성을 갖는 경화물을 얻기 위해서 에폭시 수지에 요구되는 특성으로서는 물론 경화물로 했을 때에 높은 열 전도성을 나타내는 것을 들 수 있지만 그것에 더불어 수지의 용융 점도가 낮은 것도 또한 중요한 특성이 된다. 일반적으로 고열 전도 필러는 범용 필러와 비교해서 입자 형상이 구상이 아닌 것이 많아 고충전하기 어렵다. 그 때문에 에폭시 수지는 용융 상태에서 저점도일수록 작업성이 향상된다. 따라서 에폭시 수지의 점도를 시장이 요구하는 수준으로 하기 위해서 저점도화가 강하게 요망된다.In addition, in order to obtain a cured product having a high thermal conductivity, properties required for an epoxy resin may be cited as well as those exhibiting high thermal conductivity when formed into a cured product. In addition, a low melt viscosity of the resin is also an important characteristic. Generally, a high-temperature conductive filler is difficult to overcome because its particle shape is not spherical in comparison with a general-purpose filler. Therefore, the workability is improved as the viscosity of the epoxy resin is lowered in the molten state. Therefore, in order to make the viscosity of the epoxy resin to a level required by the market, a low viscosity is strongly desired.

일본 특허 공개 평 11-323162호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-323162 일본 특허 공개 2004-2573호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-2573 일본 특허 공개 2006-63315호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-63315 일본 특허 공개 2003-137971호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-137971

본 발명은 이러한 문제를 해결하기 위해 검토의 결과로 이루어진 것이며, 그 경화물이 높은 열 전도성을 갖고, 저점도이며 작업성이 우수한 에폭시 수지 혼합물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an epoxy resin mixture having a high thermal conductivity, a low viscosity and an excellent workability as a result of a study to solve such a problem.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구한 결과 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.The present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above problems and have completed the present invention.

즉 본 발명은That is,

(1) 하기 식(1)~(5)으로 나타내어지는 화합물의 1종 이상과, (1) at least one compound represented by the following formulas (1) to (5)

하기 식(6)으로 나타내어지는 화합물의 반응에 의해 얻어지는 페놀 화합물(a)과, 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(A)를 함유하고, 하기 식(7)으로 나타내어지는 페놀 화합물(b)에 에피할로히드린을 더 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(B) 및/또는 하기 식(8)으로 나타내어지는 페놀 화합물(c)에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 혼합물.A phenol compound (a) containing an epoxy resin (A) obtained by reacting a phenol compound (a) obtained by a reaction of a compound represented by the following formula (6) with epihalohydrin, (C) obtained by reacting an epihalohydrin with an epoxy resin (B) obtained by further reacting an epihalohydrin with an epihalohydrin and / or a phenol compound (c) represented by the following formula (8) ≪ / RTI >

Figure pct00001
Figure pct00001

[식(1) 중, R1은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 수산기, 니트로기 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. l은 R1의 수를 나타내고, 1~4의 정수이다][In the formula (1), R 1 independently represents any one of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms . l is the number of R 1, is an integer of 1-4;

Figure pct00002
Figure pct00002

[식(2) 중, R2는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~15개의 알킬카르보닐기, 탄소수 2~10개의 알킬에스테르기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 모르폴리닐카르보닐기, 프탈이미드기, 피페로닐기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다][In the formula (2), R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkylester group having 2 to 10 carbon atoms , An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a morpholinylcarbonyl group, a phthalimide group, a piperonyl group or a hydroxyl group]

Figure pct00003
Figure pct00003

[식(3) 중, R3은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 0~10개의 알킬카르보닐기, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 2~10개의 알킬에스테르기, 탄소수 1~10개의 알콕시기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다. n은 탄소수를 나타내고, 0, 1, 2 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. m은 R3의 수를 나타내고, 1≤m≤n+2의 관계를 만족한다][In the formula (3), R 3 independently represents a hydrogen atom, an alkylcarbonyl group having 0 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 2 to 10 carbon atoms , An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group. n represents a carbon number and represents an integer of 0, 1, or 2; m represents the number of R < 3 & gt ;, and satisfies the relationship of 1 ≤ m ≤

Figure pct00004
Figure pct00004

[식(4) 중, R4는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~10개의 알콕시기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다][In the formula (4), R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a hydroxyl group]

Figure pct00005
Figure pct00005

[식(5) 중, R5는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 탄소수 1~10개의 알킬에스테르기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다. 또한 m은 1~10의 정수이다][In the formula (5), R 5 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 1 to 10 carbon atoms Or a hydroxyl group. And m is an integer of 1 to 10]

Figure pct00006
Figure pct00006

[식(6) 중, R6은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 수산기, 니트로기, 포르밀기, 알릴기 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. k는 R6의 수를 나타내고, 1~4의 정수이다](6), R 6 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group, a formyl group, an allyl group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Or an alkoxy group. k represents the number of R < 6 > and is an integer of 1 to 4]

Figure pct00007
Figure pct00007

[식(7) 중, R7, X 및 Y는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기 또는 아릴기, 수산기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. k는 R7의 수를 나타내고, 1~4의 정수를 나타낸다][In the formula (7), R 7 , X and Y each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. k represents the number of R < 7 > and represents an integer of 1 to 4]

Figure pct00008
Figure pct00008

[식(8) 중, R8은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기 또는 아릴기, 수산기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. l은 R8의 수를 나타내고, 1~4의 정수를 나타낸다. A는 직접 결합, 또는 시클로환을 갖는 탄소수 5~15개의 알킬리덴기를 나타낸다][In the formula (8), R 8 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. l represents the number of R 8 , and represents an integer of 1 to 4; A represents a direct bond or an alkylidene group having 5 to 15 carbon atoms and having a cyclic ring,

(2) 상기 (1)에 기재된 페놀 화합물(a)을 함유하고, 페놀 화합물(b) 및/또는 페놀 화합물(c)을 더 함유하는 페놀 화합물 혼합물에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 혼합물.(2) A phenolic compound (b) and / or a phenolic compound (c), which contains the phenolic compound (a) described in the above (1) and is reacted with epihalohydrin By weight.

(3) 상기 (2)에 있어서, (3) In the above (2)

에피할로히드린과 반응시키기 전의 상기 (1)에 기재된 페놀 화합물(a)~(c)의 혼합물 중 페놀 화합물(b) 및 페놀 화합물(c)이 차지하는 비율의 합이 1~30질량%인 페놀 화합물의 혼합물에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 혼합물.The sum of the proportions of the phenol compound (b) and the phenol compound (c) in the mixture of the phenol compounds (a) to (c) according to the above (1) before the reaction with the epihalohydrin is 1 to 30 mass% Wherein the epoxy resin mixture is obtained by reacting a mixture of phenolic compounds with epihalohydrin.

(4) 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 혼합물 및 경화제를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.(4) An epoxy resin composition comprising the epoxy resin mixture according to any one of (1) to (3) and a curing agent.

(5) 상기 (4)에 있어서, (5) In the above (4)

에폭시 수지 혼합물 중 경화제로서 페놀 화합물(a)을 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.Wherein the epoxy resin composition comprises a phenol compound (a) as a curing agent in the epoxy resin mixture.

(6) 상기 (4) 또는 (5)에 있어서, (6) In the above (4) or (5)

열 전도율 20W/m·K 이상의 무기 충전재를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.And an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more.

(7) 상기 (4) 내지 (6) 중 어느 한 항에 있어서, (7) The method according to any one of (4) to (6) above,

반도체 밀봉 용도로 이용되는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.An epoxy resin composition characterized by being used for semiconductor sealing.

(8) 상기 (4) 내지 (6) 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 조성물 및 시트 형상의 섬유 기재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 프리프레그.(8) A prepreg comprising the epoxy resin composition according to any one of (4) to (6) and a sheet-like fiber substrate.

(9) 상기 (4) 내지 (7) 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 조성물, 또는 상기 (8)에 기재된 프리프레그를 경화하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 경화물에 관한 것이다. (9) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of (4) to (7) or the prepreg according to (8).

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 에폭시 수지 혼합물은 용융 점도가 낮기 때문에 작업성이 우수하고, 또한 그 경화물이 열 전도에 우수하기 때문에 반도체 밀봉 재료, 프리프레그를 비롯한 각종 복합 재료, 접착제, 도료 등에 사용하는 경우에 유용하다.The epoxy resin mixture of the present invention is excellent in workability because it has a low melt viscosity and is excellent in heat conduction so that it is useful when it is used for various kinds of composite materials such as semiconductor sealing materials and prepregs, Do.

본 발명의 에폭시 수지 혼합물은 하기 에폭시 수지(A)를 함유하고, 하기 에폭시 수지(B) 및/또는 하기 에폭시 수지(C)를 더 함유하는 혼합물로 이루어진다. 우선은 각각의 에폭시 수지(A)~(C)의 전구체인 페놀 화합물(a)~(c)에 대해서 설명한다.The epoxy resin mixture of the present invention is composed of a mixture containing the following epoxy resin (A) and further containing the following epoxy resin (B) and / or the following epoxy resin (C). First, phenolic compounds (a) to (c) which are precursors of the respective epoxy resins (A) to (C) will be described.

페놀 화합물(a)은 하기 식(1)~(5)으로 나타내어지는 화합물로부터 선택되는 1종 이상과 하기 식(6)으로 나타내어지는 화합물의 반응에 의해 얻어진다. The phenol compound (a) is obtained by reacting at least one compound selected from the compounds represented by the following formulas (1) to (5) with a compound represented by the following formula (6).

Figure pct00009
Figure pct00009

[식(1) 중, R1은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 수산기, 니트로기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. l은 R1의 수를 나타내고, 1~4의 정수이다]Wherein R 1 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms . l is the number of R 1, is an integer of 1-4;

식(1)에 있어서 R1은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 수산기 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기인 것이 바람직하고, 특히 수소 원자, 탄소수 1~3개의 알콕시기가 바람직하다.In the formula (1), each of R 1 s independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms Do.

페놀 화합물(a)을 얻기 위해서 식(6)으로 나타내어지는 화합물과의 반응에 사용되는 식(1)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는 2-히드록시아세토페논, 3-히드록시아세토페논, 4-히드록시아세토페논, 2',4'-디히드록시아세토페논, 2',5'-디히드록시아세토페논, 3',4'-디히드록시아세토페논, 3',5'-디히드록시아세토페논, 2',3',4'-트리히드록시아세토페논, 2',4',6'-트리히드록시아세토페논 1수화물, 4'-히드록시-3'-메틸아세토페논, 4'-히드록시-2'-메틸아세토페논, 2'-히드록시-5'-메틸아세토페논, 4'-히드록시-3'-메톡시아세토페논, 2'-히드록시-4'-메톡시아세토페논, 4'-히드록시-3'-니트로아세토페논, 4'-히드록시-3',5'-디메톡시아세토페논, 4',6'-디메톡시-2'-히드록시아세토페논, 2'-히드록시-3',4'-디메톡시아세토페논, 2'-히드록시-4',5'-디메톡시아세토페논, 5-아세틸살리실산 메틸, 2',3'-디히드록시-4'-메톡시아세토페논 수화물을 들 수 있다. 이들 중 얻어지는 페놀 화합물을 에폭시화했을 때의 용제 용해성이 높고, 또한 에폭시 수지 조성물의 경화물이 높은 열 전도성을 나타내는 점에서 4'-히드록시-3'-메톡시아세토페논, 4'-히드록시아세토페논이 바람직하다.Specific examples of the compound represented by the formula (1) used for the reaction with the compound represented by the formula (6) to obtain the phenol compound (a) include 2-hydroxyacetophenone, 3-hydroxyacetophenone, 4- Dihydroxyacetophenone, 3 ', 4'-dihydroxyacetophenone, 3', 5'-dihydroxyacetophenone, 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone, Phenol, 2 ', 3', 4'-trihydroxyacetophenone, 2 ', 4', 6'-trihydroxyacetophenone monohydrate, 4'- Hydroxy-2'-methylacetophenone, 2'-hydroxy-5'-methylacetophenone, 4'-hydroxy-3'-methoxyacetophenone, , 4'-hydroxy-3'-nitroacetophenone, 4'-hydroxy-3 ', 5'-dimethoxyacetophenone, 4'-dimethoxy- -Hydroxy-3 ', 4'-dimethoxyacetophenone, 2'-hydroxy-4', 5'-dimethoxyacetophenone, Methyl acids, there may be mentioned 2 ', 3'-dihydroxy-4'-methoxy-acetophenone monohydrate. Hydroxy-3'-methoxyacetophenone, 4'-hydroxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethoxypolyethylacetophenone Acetophenone is preferred.

Figure pct00010
Figure pct00010

[식(2) 중, R2는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~15개의 알킬카르보닐기, 탄소수 2~10개의 알킬에스테르기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 모르폴리닐카르보닐기, 프탈이미드기, 피페로닐기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다][In the formula (2), R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkylester group having 2 to 10 carbon atoms , An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a morpholinylcarbonyl group, a phthalimide group, a piperonyl group or a hydroxyl group]

페놀 화합물(a)을 얻기 위해서 식(6)으로 나타내어지는 화합물과의 반응에 사용되는 식(2)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는, 아세톤, 1,3-디페닐-2-프로판온, 2-부탄온, 1-페닐-1,3-부탄디온, 2-펜탄온, 3-펜탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 아세틸아세톤, 2-헥산온, 3-헥산온, 이소아밀메틸케톤, 에틸이소부틸케톤, 4-메틸-2-헥산온, 2,5-헥산디온, 1,6-디페닐-1,6-헥산디온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 4-헵탄온, 2-메틸-4-헵탄온, 5-메틸-3-헵탄온, 6-메틸-2-헵탄온, 2,6-디메틸-4-헵탄온, 2-옥탄온, 3-옥탄온, 4-옥탄온, 5-메틸-2-옥탄온, 2-노난온, 3-노난온, 4-노난온, 5-노난온, 2-데칸온, 3-데칸온, 4-데칸온, 5-데칸온, 2-운데칸온, 3-운데칸온, 4-운데칸온, 5-운데칸온, 6-운데칸온, 2-메틸-4-운데칸온, 2-도데칸온, 3-도데칸온, 4-도데칸온, 5-도데칸온, 6-도데칸온, 2-테트라데칸온, 3-테트라데칸온, 8-펜타데칸온, 10-노나데칸온, 7-트리데칸온, 2-펜타데칸온, 3-헥사데칸온, 9-헵타데칸온, 11-헤네이코산온, 12-트리코산온, 14-헵타코산온, 16-헨트리아콘탄온, 18-펜타트리아콘탄온, 4-에톡시-2-부탄온, 4-(4-메톡시페닐)-2-부탄온, 4-메톡시-4-메틸-2-펜탄온, 4-메톡시페닐아세톤, 메톡시아세톤, 페녹시아세톤, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 아세토아세트산 프로필, 아세토아세트산 부틸, 아세토아세트산 이소부틸, 아세토아세트산 sec-부틸, 아세토아세트산 tert-부틸, 아세토아세트산 3-펜틸, 아세토아세트산 아밀, 아세토아세트산 이소아밀, 아세토아세트산 헥실, 아세토아세트산 헵틸, 아세토아세트산 n-옥틸, 아세토아세트산 벤질, 아세틸숙신산 디메틸, 아세토닐말론산 디메틸, 아세토닐말론산 디에틸, 아세토아세트산-2-메톡시에틸, 아세토아세트산 알릴, 4-sec-부톡시-2-부탄온, 벤질부틸케톤, 비스데메톡시쿠르쿠민, 1,1-디메톡시-3-부탄온, 1,3-디아세톡시아세톤, 4-히드록시페닐아세톤, 4- (4-히드록시페닐)-2-부탄온, 이소아밀메틸케톤, 4-히드록시-2-부탄온, 5-헥센-2-온, 아세토닐아세톤, 3,4-디메톡시페닐아세톤, 피페로닐메틸케톤, 피페로닐아세톤, 프탈이미드아세톤, 4-이소프로폭시-2-부탄온, 4-이소부톡시-2-부탄온, 아세톡시-2-프로판온, N-아세토아세틸모르폴린, 1-아세틸-4-피페리돈 등을 들 수 있다. 이들 중 얻어지는 페놀 화합물을 에폭시화했을 때의 용제 용해성이 높고, 또한 에폭시 수지 조성물의 경화물이 높은 열 전도성을 나타내는 점에서 아세톤이 바람직하다.Specific examples of the compound represented by the formula (2) used for the reaction with the compound represented by the formula (6) to obtain the phenol compound (a) include acetone, 1,3-diphenyl-2-propanone, 2- Butanone, 1-phenyl-1,3-butanedione, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-methyl-2-pentanone, acetylacetone, 2-hexanone, , Ethyl isobutyl ketone, 4-methyl-2-hexanone, 2,5-hexanedione, 1,6-diphenyl-1,6-hexanedione, 2-heptanone, 3- Heptanone, 2-methyl-4-heptanone, 5-methyl-3-heptanone, 6-methyl- Decanone, 3-decanone, 4-decanone, 5-methyl-2-octanone, Decanone, 2-undecaneone, 3-undecaneone, 4-undecaneone, 5-undecaneone, 6-undecaneone, Canon, 5-dodecanone, 6-dodecanone, 2-tetradecanone, 3-tetradecanone, Hexadecanone, 9-heptadecanone, 11-heneicosanic acid, 12-triclosanic acid, 14-pentadecanone, 4-methoxy-2-butanone, 4- (4-methoxyphenyl) -2-butanone, 4-methoxy- Methyl-2-pentanone, 4-methoxyphenylacetone, methoxyacetone, phenoxyacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, propyl acetoacetate, butyl acetoacetate, isobutyl acetoacetate, Butyl acetate, tert-butyl acetate, 3-pentyl acetoacetate, amyl acetoacetate, isoamyl acetoacetate, hexyl acetoacetate, heptyl acetoacetate, n-octyl acetoacetate, benzyl acetoacetate, dimethyl acetylsuccinate, dimethyl acetonylmalonic acid Diethyl, acetoacetic acid-2-methoxyethyl, acetoacetate Allyl, 4-sec-butoxy-2-butanone, benzyl butyl ketone, bisdimethoxyquercumine, 1,1-dimethoxy-3-butanone, 1,3-diacetoxyacetone, , 4- (4-hydroxyphenyl) -2-butanone, isoamylmethylketone, 4-hydroxy-2-butanone, Acetone, piperonylmethylketone, piperonyl acetone, phthalimide acetone, 4-isopropoxy-2-butanone, 4-isobutoxy-2-butanone, Acetylmorpholine, 1-acetyl-4-piperidone, and the like. Of these, acetone is preferable in view of high solvent solubility when epoxidized phenolic compounds are obtained and cured products of epoxy resin compositions exhibiting high thermal conductivity.

Figure pct00011
Figure pct00011

[식(3) 중, R3은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 0~10개의 알킬카르보닐기, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 2~10개의 알킬에스테르기, 탄소수 1~10개의 알콕시기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다. n은 탄소수를 나타내고, 0, 1, 2 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. m은 R3의 수를 나타내고, 1≤m≤n+2의 관계를 만족한다][In the formula (3), R 3 independently represents a hydrogen atom, an alkylcarbonyl group having 0 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 2 to 10 carbon atoms , An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group. n represents a carbon number and represents an integer of 0, 1, or 2; m represents the number of R < 3 & gt ;, and satisfies the relationship of 1 ≤ m ≤

또한 식(3) 중, R3이 탄소수 0개의 치환 또는 무치환의 알킬카르보닐기인 경우란 일반식(3)의 주골격인 시클로알칸을 구성하는 탄소 원자를 포함하여 이루어지는 카르보닐 구조를 나타내고, 예를 들면 1,3-시클로펜탄디온 등을 들 수 있다.In the formula (3), when R 3 is a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 0 carbon atoms, the carbonyl structure of the cycloalkane constituting the main skeleton of the formula (3) For example, 1,3-cyclopentanedione.

페놀 화합물(a)을 얻기 위해서 식(6)으로 나타내어지는 화합물과의 반응에 사용되는 식(3)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는 시클로펜탄온, 3-페닐시클로펜탄온, 2-아세틸시클로펜탄온, 1,3-시클로펜탄디온, 2-메틸-1,3-시클로펜탄디온, 2-에틸-1,3-시클로펜탄디온, 시클로헥산온, 3-메틸시클로헥산온, 4-메틸시클로헥산온, 4-에틸시클로헥산온, 4-tert-부틸시클로헥산온, 4-펜틸시클로헥산온, 3-페닐시클로헥산온, 4-페닐시클로헥산온, 3,3-디메틸시클로헥산온, 3,4-디메틸시클로헥산온, 3,5-디메틸시클로헥산온, 4,4-디메틸시클로헥산온, 3,3,5-트리메틸시클로헥산온, 2-아세틸시클로헥산온, 4-시클로헥산온카르복실산 에틸, 1,4-시클로헥산디온모노에틸렌케탈, 비시클로헥산-4,4'-디온모노에틸렌케탈, 1,4-시클로헥산디온모노-2,2-디메틸트리메틸렌케탈, 2-아세틸-5,5-디메틸-1,3-시클로헥산디온, 1,2-시클로헥산디온, 1,3-시클로헥산디온, 1,4-시클로헥산디온, 2-메틸-1,3-시클로헥산디온, 5-메틸-1,3-시클로헥산디온, 디메돈, 1,4-시클로헥산디온-2,5-디카르복실산 디메틸, 4,4'-비시클로헥산온, 2,2-비스(4-옥소시클로헥실)프로판, 시클로헵탄온 등을 들 수 있다. 이들 중 얻어지는 페놀 화합물을 에폭시화했을 때의 용제 용해성이 높고, 또한 에폭시 수지 조성물의 경화물이 높은 열 전도성을 나타내는 점에서 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 시클로헵탄온, 4-메틸시클로헥산온이 바람직하다.Specific examples of the compound represented by the formula (3) used for the reaction with the compound represented by the formula (6) to obtain the phenol compound (a) include cyclopentanone, 3-phenylcyclopentanone, 2-acetylcyclopentanone , 1,3-cyclopentanedione, 2-methyl-1,3-cyclopentanedione, 2-ethyl-1,3-cyclopentanedione, cyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, , 4-ethylcyclohexanone, 4-tert-butylcyclohexanone, 4-pentylcyclohexanone, 3-phenylcyclohexanone, 4-phenylcyclohexanone, 3,3-dimethylcyclohexanone, 3,4 - dimethylcyclohexanone, 3,5-dimethylcyclohexanone, 4,4-dimethylcyclohexanone, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, 2-acetylcyclohexanone, 4-cyclohexanone carboxylic acid Ethyl, 1,4-cyclohexanedione monoethylene ketal, bicyclohexane-4,4'-dione monoethylene ketal, 1,4-cyclohexanedione mono-2,2-dimethyltrimethylene ketal, 1,2-cyclohexanedione, 1,3-cyclohexanedione, 1,4-cyclohexanedione, 2-methyl-1,3-cyclohexanedione, 5-methyl-1,3-cyclohexanedione, dimedone, dimethyl 1,4-cyclohexanedione-2,5-dicarboxylate, 4,4'-bicyclohexanone, 2,2-bis -Oxocyclohexyl) propane, cycloheptanone, and the like. Among them, cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, and 4-methylcyclohexanone are preferable because the solubility of the phenol compound obtained by epoxidation is high and the cured product of the epoxy resin composition exhibits high thermal conductivity. desirable.

Figure pct00012
Figure pct00012

[식(4) 중, R4는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다][In the formula (4), R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group]

식(4)에 있어서 R4는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 무치환 알킬기, 탄소수 6~10개의 무치환 아릴기, 탄소수 1~10개의 무치환 알콕시기, 또는 수산기인 것이 바람직하다.In formula (4), R 4 independently represents a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, .

페놀 화합물(a)을 얻기 위해서 식(6)으로 나타내어지는 화합물과의 반응에 사용되는 식(4)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는 디아세틸, 2,3-펜탄디온, 3,4-헥산디온, 5-메틸-2,3-헥산디온, 2,3-헵탄디온 등을 들 수 있다. 이들 중 얻어지는 페놀 화합물을 에폭시화했을 때의 용제 용해성이 높고, 또한 에폭시 수지 조성물의 경화물이 높은 열 전도성을 나타내는 점에서 디아세틸이 바람직하다.Specific examples of the compound represented by the formula (4) used for the reaction with the compound represented by the formula (6) to obtain the phenol compound (a) include diacetyl, 2,3-pentanedione, 5-methyl-2,3-hexanedione, 2,3-heptanedione, and the like. Among them, diacetyl is preferable in view of high solubility of the solvent when the obtained phenol compound is epoxidized, and cured product of the epoxy resin composition shows high thermal conductivity.

Figure pct00013
Figure pct00013

[식(5) 중, R5는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 탄소수 1~10개의 알킬에스테르기, 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다. 또한 m은 1~10의 정수이다][In the formula (5), R 5 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 1 to 10 carbon atoms , Or a hydroxyl group. And m is an integer of 1 to 10]

식(5)에 있어서 R5는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 1~10개의 알콕시기 또는 수산기인 것이 바람직하다.In the formula (5), R 5 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group.

페놀 화합물(a)을 얻기 위해서 식(6)으로 나타내어지는 화합물과의 반응에 사용되는 식(5)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는 디아세토아세트산 에틸, 2,5-헥산디온, 3-메틸-2,4-펜탄디온, 3-에틸-2,4-펜탄디온, 3-부틸-2,4-펜탄디온, 3-페닐-2,4-펜탄디온, 4-아세틸-5-옥소헥산산 에틸 등을 들 수 있다. 이들 중 얻어지는 페놀 화합물을 에폭시화했을 때의 용제 용해성이 높고, 또한 에폭시 수지 조성물의 경화물이 높은 열 전도성을 나타내는 점에서 3-메틸-2,4-펜탄디온, 3-에틸-2,4-펜탄디온이 바람직하다.Specific examples of the compound represented by the formula (5) used for the reaction with the compound represented by the formula (6) to obtain the phenol compound (a) include ethyl diacetoacetate, 2,5-hexanedione, Ethyl-2,4-pentanedione, 3-butyl-2,4-pentanedione, 3-phenyl-2,4-pentanedione, ethyl 4-acetyl-5-oxohexanoate . Methyl-2,4-pentanedione, 3-ethyl-2,4-pentanedione, 3-methyl-2,4-pentanedione and the like are preferable because the solubility of the phenol compound obtained through epoxidation is high and the cured product of the epoxy resin composition exhibits high thermal conductivity. Pentanedione is preferred.

Figure pct00014
Figure pct00014

[식(6) 중, R6은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 수산기, 니트로기, 포르밀기, 알릴기 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. k는 R6의 수를 나타내고, 1~4의 정수이다](6), R 6 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group, a formyl group, an allyl group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Or an alkoxy group. k represents the number of R < 6 > and is an integer of 1 to 4]

상기 식(6)에 있어서 R6은 각각 독립적으로 존재하고, 탄소수 1~3개의 알콕시기인 것이 바람직하다.In the formula (6), R 6 independently represents an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms.

페놀 화합물(a)을 얻기 위해서 식(1)~(5)으로 나타내어지는 화합물로부터 선택되는 1종 이상과의 반응에 사용되는 식(6)으로 나타내어지는 화합물의 구체예로서는 예를 들면 2-히드록시벤즈알데히드, 3-히드록시벤즈알데히드, 4-히드록시벤즈알데히드, 2,3-디히드록시벤즈알데히드, 2,4-디히드록시벤즈알데히드, 2,5-디히드록시벤즈알데히드, 3,4-디히드록시벤즈알데히드, 시링알데히드, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤즈알데히드, 이소바닐린, 4-히드록시-3-니트로벤즈알데히드, 5-히드록시-2-니트로벤즈알데히드, 3,4-디히드록시-5-니트로벤즈알데히드, 바닐린, o-바닐린, 2-히드록시-1-나프토알데히드, 2-히드록시-5-니트로-m-아니스알데히드, 2-히드록시-5-메틸이소프탈알데히드, 2-히드록시-4-메톡시벤즈알데히드, 1-히드록시-2-나프토알데히드, 2-히드록시-5-메톡시벤즈알데히드, 5-니트로바닐린, 5-알릴-3-메톡시살리실알데히드, 3,5-디-tert-부틸살리실알데히드, 3-에톡시살리실알데히드, 4-히드록시이소프탈알데히드, 4-히드록시-3,5-디메틸벤즈알데히드, 2,4,6-트리히드록시벤즈알데히드, 2,4,5-트리히드록시벤즈알데히드, 2,3,4-트리히드록시벤즈알데히드, 3,4,5-트리히드록시벤즈알데히드, 3-에톡시-4-히드록시벤즈알데히드 등을 들 수 있다. 이들은 1종만을 사용해도 2종류 이상을 병용해도 좋다. 이들 중 얻어지는 페놀 화합물을 에폭시화했을 때의 용제 용해성이 높고, 에폭시 수지 조성물의 경화물이 특히 높은 열 전도성을 나타내는 점에서 바닐린을 단독으로 사용하는 것이 바람직하다.Specific examples of the compound represented by the formula (6) used for the reaction with at least one compound selected from the compounds represented by the formulas (1) to (5) for obtaining the phenol compound (a) include 2-hydroxy Dihydroxybenzaldehyde, 2,4-dihydroxybenzaldehyde, 2,5-dihydroxybenzaldehyde, 3,4-dihydroxybenzaldehyde, 2,3-dihydroxybenzaldehyde, 3-nitrobenzaldehyde, 5-hydroxy-2-nitrobenzaldehyde, 3,4-dihydroxy-benzaldehyde, 3,5-di-tert- butyl-4-hydroxybenzaldehyde, isobutyric acid, 2-hydroxy-1-naphthaldehyde, 2-hydroxy-5-nitro-m-anisaldehyde, 2-hydroxy-5-methylisophthalaldehyde, 2-nitrobenzaldehyde, vanillin, o-vanillin, -Hydroxy-4-methoxybenzaldehyde, 1-hydroxy-2-naphthaldehyde, 2-hydroxy-5-methoxybenz 3-methoxysalicylaldehyde, 3,5-di-tert-butylsalicylaldehyde, 3-ethoxysalicylaldehyde, 4-hydroxyisophthalaldehyde, 4- Dihydroxybenzaldehyde, 2,4,6-trihydroxybenzaldehyde, 2,4,5-trihydroxybenzaldehyde, 2,3,4-trihydroxybenzaldehyde, 3,4,5-tri Hydroxybenzaldehyde, 3-ethoxy-4-hydroxybenzaldehyde, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. It is preferable to use vanillin alone in view of the high solubility of the phenol compound obtained by epoxidation of the obtained phenol compound and high hardness of the cured product of the epoxy resin composition.

페놀 화합물(a)은 산성 조건 하 또는 염기성 조건 하 식(1)~(5)으로 나타내어지는 화합물의 1종 이상과 식(6)으로 나타내어지는 화합물의 알돌 축합반응에 의해 얻어진다.The phenol compound (a) is obtained by aldol condensation reaction of at least one compound represented by the formula (1) to (5) with a compound represented by the formula (6) under an acidic condition or a basic condition.

식(6)으로 나타내어지는 화합물은 식(1)으로 나타내어지는 화합물 1몰에 대하여 1.0~1.05몰, 식(2), 식(3), 식(4) 및 식(5)으로 나타내어지는 화합물 1몰에 대하여 2.0~3.15몰을 사용하는 것이 바람직하다.The compound represented by the formula (6) is used in an amount of 1.0 to 1.05 mol based on 1 mol of the compound represented by the formula (1), the compound 1 represented by the formula (2), the formula (3), the formula (4) It is preferable to use 2.0 to 3.15 moles based on the moles.

산성 조건 하에서 알돌 축합반응을 행하는 경우 사용할 수 있는 산성 촉매로서는 염산, 황산, 질산과 같은 무기산, 톨루엔술폰산, 크실렌술폰산, 옥살산 등의 유기산을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 복수의 종류를 병용해도 좋다. 산성 촉매의 사용량은 식(6)으로 나타내어지는 화합물 1몰에 대하여 바람직하게는 0.01~1.0몰, 보다 바람직하게는 0.2~0.5몰이다.Examples of the acidic catalyst that can be used when the aldol condensation reaction is carried out under acidic conditions include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and organic acids such as toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid and oxalic acid. These may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. The amount of the acidic catalyst to be used is preferably 0.01 to 1.0 mol, more preferably 0.2 to 0.5 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (6).

한편 염기성 조건 하에서 알돌 축합반응을 행하는 경우 사용할 수 있는 염기성 촉매로서는 수산화나트륨 및 수산화칼륨 등의 금속 수산화물, 탄산 칼륨 및 탄산 나트륨 등의 탄산 알칼리 금속, 디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 디이소부틸아민, 피리딘 및 피페리딘 등의 아민 유도체, 및 디메틸아미노에틸알코올 및 디에틸아미노에틸알코올 등의 아미노알코올 유도체를 들 수 있다. 염기성 조건의 경우도 먼저 예시한 염기성 촉매를 단독으로 사용해도 좋고, 복수의 종류를 병용해도 좋다. 염기성 촉매의 사용량은 식(6)으로 나타내어지는 화합물 1몰에 대하여 바람직하게는 0.1~2.5몰, 보다 바람직하게는 0.2~2.0몰이다. On the other hand, as the basic catalyst which can be used in the case of carrying out the aldol condensation reaction under basic conditions, metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, diethylamine, triethylamine, tributylamine, di Amine derivatives such as isobutylamine, pyridine and piperidine, and aminoalcohol derivatives such as dimethylaminoethyl alcohol and diethylaminoethyl alcohol. In the case of basic conditions, the basic catalyst exemplified above may be used singly or a plurality of types may be used in combination. The amount of the basic catalyst to be used is preferably 0.1 to 2.5 mol, more preferably 0.2 to 2.0 mol, per 1 mol of the compound represented by the formula (6).

페놀 화합물(a)을 얻는 반응에서는 필요에 따라 용제를 사용해도 좋다. 사용할 수 있는 용제로서는 예를 들면 케톤류와 같이 (6)으로 나타내어지는 화합물과의 반응성을 갖는 것이 아니면 특별히 제한은 없지만 원료의 식(6)으로 나타내어지는 화합물을 용이하게 용해시키는 점에서는 알코올류를 용제로서 사용하는 것이 바람직하다. In the reaction for obtaining the phenol compound (a), a solvent may be used if necessary. The solvent which can be used is not particularly limited as long as it has no reactivity with the compound represented by the formula (6) such as a ketone. In view of easily dissolving the compound represented by the formula (6) of the raw material, Is preferably used.

반응 온도는 통상 10~90℃이며, 바람직하게는 35~70℃이다. 반응 시간은 통상 0.5~10시간이지만 원료 화합물의 종류에 따라 반응성에 차가 있기 때문에 한계는 없다. 반응 종료 후 수지로서 인출하는 경우에는 반응물을 수세 후 또는 수세없이 가열 감압 하에서 반응액으로부터 미반응물이나 용매 등을 제거한다. 결정으로 인출하는 경우 대량의 수중에 반응액을 적하함으로써 결정을 석출시킨다. 염기성 조건에서 반응을 행한 경우는 생성된 본 발명의 페놀 화합물이 수중에 용해될 수 있으므로 염산을 첨가하는 등 하여 중성~산성 조건으로 해서 결정으로서 석출시킨다. The reaction temperature is usually 10 to 90 占 폚, preferably 35 to 70 占 폚. The reaction time is usually from 0.5 to 10 hours, but there is no limit to the reactivity depending on the kind of the raw material compound. When the resin is withdrawn as a resin after the completion of the reaction, unreacted materials, solvents and the like are removed from the reaction solution under heating and decompression after washing with water or without washing with water. When the crystal is drawn out, the reaction solution is dropped into a large amount of water to precipitate crystals. When the reaction is carried out under basic conditions, the produced phenolic compound of the present invention can be dissolved in water, and thus precipitated as crystals under neutral to acidic conditions by adding hydrochloric acid or the like.

페놀 화합물(b)은 하기 식(7)으로 나타내어진다. The phenol compound (b) is represented by the following formula (7).

Figure pct00015
Figure pct00015

[식 중, R7, X 및 Y는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기 또는 아릴기, 수산기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. k는 R7의 수를 나타내고, 1~4의 정수를 나타낸다]Wherein R 7 , X and Y each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. k represents the number of R < 7 > and represents an integer of 1 to 4]

식(7)에 있어서 열 전도율을 높게 유지할 수 있는 관점에서 R7, X 및 Y는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~3개의 알킬기인 것이 바람직하다. It is preferable that R 7 , X and Y are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of maintaining a high thermal conductivity in the formula (7).

페놀 화합물(b)로서는 각종 비스페놀류를 들 수 있다. 구체적으로는 BPF, BPA, BPE, Methylenebis-p-CR, TM-BPF, Bis-C, BisP-MIBK, Bis26X-A, BisP-AP, BisOPP-A, UltriteP, DHBP, BisOC-F, BisP-B, BisP-IBTD, Bis-BA, BisP-IOTD, BisOIPP-A, BisP-DED, BisOSBP-A, BisOTBP-A, Bis2M6B-IBTD, BisOCHP-A, Ph-CC-AP (모두 혼슈 카가쿠 코교 제작) 등을 들 수 있다. Examples of the phenol compound (b) include various bisphenols. BisP-A, BisP-A, UltriteP, DHBP, BisOC-F, BisP-B, BPP, BPA, BPE, Methylenebis-p-CR, TM-BPF, Bis-C, BisP-MIBK, Bis26X- Bis-BPT-A, and Ph-CC-AP (both manufactured by Honshu Kagaku Kogyo Co., Ltd.) And the like.

그 중에서도 열 전도율을 높게 유지할 수 있는 관점에서 BPF, BPA가 바람직하고, 특히 BPF가 바람직하다. Of these, BPF and BPA are preferable from the viewpoint of maintaining a high thermal conductivity, and BPF is particularly preferable.

페놀 화합물(c)은 하기 식(8)으로 나타내어진다.The phenol compound (c) is represented by the following formula (8).

Figure pct00016
Figure pct00016

[식 중, R8은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기 또는 아릴기, 수산기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. l은 R8의 수를 나타내고, 1~4의 정수를 나타낸다. A는 직접 결합, 또는 시클로환을 갖는 탄소수 5~15개의 알킬리덴기를 나타낸다]Wherein each R 8 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. l represents the number of R 8 , and represents an integer of 1 to 4; A represents a direct bond or an alkylidene group having 5 to 15 carbon atoms and having a cyclic ring,

페놀 화합물(c)로서는 A의 개소가 직접 결합인 비페닐 골격의 비페놀이나 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-비페놀 화합물 이외에 각각 상당하는 환상 지방족 케톤류와 페놀류를 반응시킨 페놀 화합물을 들 수 있다. Examples of the phenol compound (c) include cyclic aliphatic ketones and phenols corresponding respectively to biphenol and 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol compounds of the biphenyl skeleton, And the like.

구체적인 화합물로서는 하기에 나타낸 바와 같은 화합물을 들 수 있다. Specific examples of the compound include the following compounds.

Figure pct00017
Figure pct00017

상기 페놀 화합물은 시판품을 입수가능하며, 예를 들면 BisP-CP, BisP-Z, BisP-TMC, BisOC-TMC, BisP-MZ, BisP-3MZ, BisP-IPZ, BisCR-IPZ, Bis26X-IPZ, BisP-TCD, BisOC-CDE, Bis26X-CDE, BisP-CHEP, BisP-COCT, BisP-CPeDE(모두 혼슈 카가쿠 코교 제작), TCDBP(METROPORITAN EXIMCHEM XTD) 등을 들 수 있다.BisP-CP, BisP-Z, BisP-TMC, BisOC-TMC, BisP-MZ, BisP-3MZ, BisP-IPZ, BisCR-IPZ, Bis26X-IPZ, and BisP-PZP are commercially available products. BisP-CPEDE (all manufactured by Honshu Kagaku Kogyo), and TCDBP (METROPORITAN EXIMCHEM XTD).

이어서 본 발명의 에폭시 수지 혼합물에 대하여 설명한다. Next, the epoxy resin mixture of the present invention will be described.

본 발명의 에폭시 수지 혼합물은 상술한 각 페놀 화합물과 에피할로히드린을 반응시켜 에폭시화함으로써 얻어진다. 또한 에폭시화할 때에는 각각의 페놀 화합물(a)~(c)에 에피할로히드린을 미리 반응시켜 에폭시 수지(A)~(C)를 얻고, 각 에폭시 수지를 혼합시켜 얻어도 상관없다. 각각의 페놀 화합물에 에피할로히드린을 반응시키는 방법으로서는 공지의 방법이면 특별히 한정없이 사용할 수 있지만 구체적으로는 예를 들면 일본 특허 공개 평 05-155978호 공보, 일본 특허 공개 2008-179739호 공보에 기재된 방법을 이용할 수 있다. The epoxy resin mixture of the present invention is obtained by epoxidation by reacting each of the phenolic compounds described above with epihalohydrin. Further, in the case of epoxidation, epihalohydrin may be previously reacted with each of the phenol compounds (a) to (c) to obtain epoxy resins (A) to (C), and the respective epoxy resins may be mixed. The method of reacting epihalohydrin with each phenol compound is not particularly limited as long as it is a known method. Specific examples thereof include those described in JP-A-05-155978 and JP-A-2008-179739 The described method can be used.

그러나 제조 상의 관점에서 페놀 화합물(a)~(c)의 혼합물에 에피할로히드린을 반응시켜 에폭시 수지 혼합물을 얻는 것이 바람직하다. 상기 제조 방법으로 함으로써 에폭시 수지(A)~(C)의 혼합물을 얻을 수 있고, 또한 일부 각 페놀 화합물(a)~(c)의 골격이 개환된 글리시딜기로 연결된 에폭시 수지도 생긴다.From the viewpoint of production, however, it is preferable to react the mixture of phenol compounds (a) to (c) with epihalohydrin to obtain an epoxy resin mixture. By the above-described production method, an epoxy resin (A) - (C) mixture can be obtained, and an epoxy resin in which the skeleton of some of the phenol compounds (a) - (c) is linked with a ring-opening glycidyl group.

본 발명의 에폭시 수지 혼합물로서는 특히 저용융 점도를 나타내고, 또한 높은 열 전도율을 갖는 경화물이 얻어지는 점에서 식(6)으로 나타내어지는 화합물과 식(3)으로 나타내어지는 화합물의 반응에 의해 얻어진 페놀 화합물(a)의 에폭시화물인 에폭시 수지(A)를 함유하고, 에폭시 수지(B) 및/또는 에폭시 수지(C)를 더 함유하는 혼합물이 바람직하다. As the epoxy resin mixture of the present invention, a phenol compound obtained by a reaction between a compound represented by the formula (6) and a compound represented by the formula (3) in that a cured product exhibiting a low melt viscosity and a high thermal conductivity is obtained (A) which is an epoxy resin of the epoxy resin (a) and further contains an epoxy resin (B) and / or an epoxy resin (C).

이하 페놀 화합물(a)~(c)의 혼합물에 에피할로히드린을 반응시켜 에폭시 수지 혼합물을 얻는 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method for obtaining an epoxy resin mixture by reacting a mixture of phenolic compounds (a) to (c) with epihalohydrin will be described.

페놀 화합물(a)~(c)의 총량에 차지하는 페놀 화합물(b) 및 페놀 화합물(c)의 양의 합은 1~30질량%, 더욱 바람직하게는 5~30질량%인 것이 바람직하다. 페놀 화합물(b) 및 페놀 화합물(c)의 양의 합의 비율이 30질량% 이하이면 열 전도성이 낮아지는 일이 없고, 1질량% 이상이면 점도가 높아지는 일이 없고, 금속에 대한 밀착성이 저하하는 일이 없어 바람직하다. The sum of the amounts of the phenol compound (b) and the phenol compound (c) in the total amount of the phenol compounds (a) to (c) is preferably 1 to 30 mass%, more preferably 5 to 30 mass%. When the ratio of the sum of the amounts of the phenol compound (b) and the phenol compound (c) is 30 mass% or less, the thermal conductivity is not lowered, and when it is 1 mass% or more, the viscosity is not increased, It is preferable because there is no work.

본 발명의 에폭시 수지 혼합물에 함유되는 에폭시 수지를 얻는 반응에 있어서 에피할로히드린으로서는 에피클로로히드린, α-메틸에피클로로히드린, β-메틸에피클로로히드린, 에피브로모히드린 등을 사용할 수 있지만, 공업적으로 입수가 용이한 에피클로로히드린이 바람직하다. 에피할로히드린의 사용량은 페놀 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 2~20몰, 바람직하게는 2~15몰, 특히 바람직하게는 2~6.5몰이다. 에폭시 수지는 알칼리 금속 산화물의 존재 하에서 페놀 화합물과 에피할로히드린을 부가시키고, 이어서 생성된 1,2-할로히드린에테르기를 폐환시켜 에폭시화하는 반응에 의해 얻어진다. 이 때 에피할로히드린을 상기한 바와 같이 통상보다 현저히 적은 양으로 사용함으로써 에폭시 수지의 분자량을 늘림과 아울러 분자량 분포를 넓게 할 수 있다. 이 결과 얻어지는 에폭시 수지는 비교적 낮은 연화점을 갖는 수지 형상물로서 계 중으로부터 인출하여 우수한 용제 용해성을 나타낸다. As the epihalohydrin, epichlorohydrin,? -Methyl epichlorohydrin,? -Methyl epichlorohydrin,? -Methyl epichlorohydrin, epibromohydrin and the like can be used in the reaction for obtaining the epoxy resin contained in the epoxy resin mixture of the present invention But epichlorohydrin which is industrially easily available is preferable. The amount of the epihalohydrin to be used is generally 2 to 20 mol, preferably 2 to 15 mol, particularly preferably 2 to 6.5 mol based on 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound. The epoxy resin is obtained by adding a phenol compound and an epihalohydrin in the presence of an alkali metal oxide, and then epoxidizing the resulting 1,2-halohydrin ether group by ring closure. At this time, by using epihalohydrin in an amount significantly smaller than usual as described above, the molecular weight of the epoxy resin can be increased and the molecular weight distribution can be widened. The resulting epoxy resin is a resinous material having a relatively low softening point and is drawn out from the system to exhibit excellent solvent solubility.

에폭시화 반응에 사용할 수 있는 알칼리 금속 수산화물로서는 수산화나트륨, 수산화칼륨 등을 들 수 있고, 이들은 고형물을 그대로 사용해도 또는 그 수용액을 사용해도 좋다. 수용액을 사용하는 경우는 상기 알칼리 금속 수산화물의 수용액을 연속적으로 반응계 내에 첨가함과 아울러 감압 하 또는 상압 하에서 연속적으로 증류시킨 물 및 에피할로히드린의 혼합액으로부터 분액에 의해 물을 제거하여 에피할로히드린만을 반응계 내로 연속적으로 되돌리는 방법이어도 좋다. 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 페놀 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.9~3.0몰, 바람직하게는 1.0~2.5몰, 보다 바람직하게는 1.0~2.0몰, 특히 바람직하게는 1.0~1.3몰이다. Examples of alkali metal hydroxides that can be used in the epoxidation reaction include sodium hydroxide and potassium hydroxide. These solids may be used as is, or an aqueous solution thereof may be used. In the case of using an aqueous solution, the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system, and water is removed from the mixture of water and epihalohydrin continuously distilled under reduced pressure or normal pressure, Or a method of continuously returning the hydrin only into the reaction system. The amount of the alkali metal hydroxide to be used is generally 0.9 to 3.0 mol, preferably 1.0 to 2.5 mol, more preferably 1.0 to 2.0 mol, particularly preferably 1.0 to 1.3 mol, based on 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound.

또한 본 발명자 등은 에폭시화 반응에 있어서 특히 플레이크 형상의 수산화나트륨을 사용함으로써 수용액으로 한 수산화나트륨을 사용함으로부터 얻어지는 에폭시 수지에 포함되는 할로겐량을 현저히 저감시키는 것이 가능해지는 것을 찾아내기에 이르렀다. 이 할로겐은 에피할로히드린 유래의 것이며, 에폭시 수지 중에 많이 혼입될수록 경화물의 열 전도성의 저하가 야기된다. 또한 이 플레이크 형상의 수산화나트륨은 반응계 내에 분할 첨가되는 것이 바람직하다. 분할 첨가를 행함으로써 반응 온도의 급격한 감소를 방지할 수 있고, 이것에 의해 불순물인 1,3-할로히드린체나 할로메틸렌체의 생성을 방지할 수 있어 보다 열 전도율이 높은 경화물의 형성이 가능해진다. Further, the inventors of the present invention have found that by using sodium hydroxide in flake form in the epoxidation reaction, it becomes possible to remarkably reduce the amount of halogen contained in the epoxy resin obtained by using sodium hydroxide as an aqueous solution. This halogen is derived from epihalohydrin, and the more the epoxy resin is incorporated, the lower the thermal conductivity of the cured product. Further, it is preferable that this flaky sodium hydroxide is dividedly added into the reaction system. It is possible to prevent the reaction temperature from sharply decreasing by performing the addition in a divided manner, thereby making it possible to prevent the formation of impurity 1,3-halohydrin and halomethylene forms, and to form a cured product having a higher thermal conductivity .

에폭시화 반응을 촉진하기 위해서 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드 등의 4급 암모늄염을 촉매로서 첨가하는 것이 바람직하다. 4급 암모늄염의 사용량으로서는 본 발명의 페놀 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.1~15g이며, 바람직하게는 0.2~10g이다. In order to accelerate the epoxidation reaction, it is preferable to add a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst. The amount of the quaternary ammonium salt to be used is generally 0.1 to 15 g, preferably 0.2 to 10 g, per 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound of the present invention.

또한 에폭시화할 때에 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올류, 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 비프로톤성 극성 용매 등을 첨가하여 반응을 행하는 것이 반응 진행상 바람직하다. 그 중에서도 알코올류 또는 디메틸술폭시드가 바람직하다. 알코올류를 사용한 경우에는 에폭시 수지를 높은 수율로 얻을 수 있다. 한편 디메틸술폭시드를 사용한 경우에는 에폭시 수지 중의 할로겐량을 보다 저감시킬 수 있다. Further, it is preferable to carry out the reaction by adding an aprotic polar solvent such as an alcohol such as methanol, ethanol or isopropyl alcohol or an alcohol such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran or dioxane for epoxidation. Among them, alcohols or dimethylsulfoxide are preferable. When an alcohol is used, an epoxy resin can be obtained in a high yield. On the other hand, when dimethyl sulfoxide is used, the amount of halogen in the epoxy resin can be further reduced.

상기 알코올류를 사용하는 경우 그 사용량은 에피할로히드린의 사용량에 대하여 통상 2~50질량%, 바람직하게는 4~35질량%이다. 또한 비프로톤성 극성 용매를 사용하는 경우는 에피할로히드린의 사용량에 대하여 통상 5~100질량%, 바람직하게는 10~80질량%이다.When the alcohols are used, the amount thereof is usually 2 to 50% by mass, preferably 4 to 35% by mass with respect to the amount of epihalohydrin to be used. When an aprotic polar solvent is used, it is usually 5 to 100% by mass, preferably 10 to 80% by mass based on the amount of epihalohydrin used.

반응 온도는 통상 30~90℃이며, 바람직하게는 35~80℃이다. 반응 시간은 통상 0.5~10시간이며, 바람직하게는 1~8시간이다. The reaction temperature is usually 30 to 90 ° C, preferably 35 to 80 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours.

반응 종료 후 반응물을 수세 후 또는 수세없이 가열 감압 하에서 반응액으로부터 에피할로히드린이나 용매 등을 제거한다. 또한 얻어진 에폭시 수지 중에 포함되는 할로겐량을 더 저감시키기 위해서 회수한 본 발명의 에폭시 수지 혼합물을 톨루엔, 메틸이소부틸케톤 등의 용제에 용해하고, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리 금속 수산화물의 수용액을 첨가하여 반응을 행하여 폐환을 확실하게 할 수 있다. 이 경우 알칼리 금속 수산화물의 사용량은 본 발명의 페놀 화합물의 수산기 1몰에 대하여 통상 0.01~0.3몰, 바람직하게는 0.05~0.2몰이다. 반응 온도는 통상 50~120℃, 반응 시간은 통상 0.5~2시간이다. After completion of the reaction, the epihalohydrin, the solvent, and the like are removed from the reaction solution after the reaction is washed with water or without heating and under reduced pressure. In order to further reduce the amount of halogen contained in the obtained epoxy resin, the recovered epoxy resin mixture of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, and an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added So that the ring-closing can be ensured. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide to be used is usually 0.01 to 0.3 mol, preferably 0.05 to 0.2 mol, based on 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound of the present invention. The reaction temperature is usually from 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually from 0.5 to 2 hours.

반응 종료 후 생성된 염을 여과, 수세 등에 의해 제거하고, 또한 가열 감압 하에서 용제를 증류 제거함으로써 본 발명의 에폭시 수지 혼합물이 얻어진다. 또한 본 발명의 에폭시 수지 혼합물이 결정으로서 석출되는 경우는 대량의 물에 생성된 염을 용해한 후에 에폭시 수지 혼합물의 결정을 여과 채취해도 좋다. After the completion of the reaction, the resulting salt is removed by filtration, washing with water, etc., and the solvent is distilled off under heating and reduced pressure to obtain an epoxy resin mixture of the present invention. When the epoxy resin mixture of the present invention precipitates as crystals, the crystals of the epoxy resin mixture may be filtered after dissolving salts produced in a large amount of water.

상기한 대로 플레이크 형상의 수산화나트륨을 사용하여 얻어지는 본 발명의 에폭시 수지 혼합물의 전체 할로겐량은 1800ppm 이하가 통상이고, 1600ppm 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 700ppm 이하이다. 전체 할로겐량이 너무 많은 것은 경화물의 전기 신뢰성에 악영향을 끼치는 것과 더불어 미가교의 말단으로서 잔존하는 점에서 경화 시의 융해 상태 시의 분자끼리의 배향이 진행되지 않고 열 전도성의 저하로 이어진다. As described above, the total halogen content of the epoxy resin mixture of the present invention obtained by using flaky sodium hydroxide is usually 1800 ppm or less, preferably 1600 ppm or less, and more preferably 700 ppm or less. Too much of the total halogen content adversely affects the electrical reliability of the cured product, and since the cured product remains at the ends of uncrosslinked molecules, the orientation of the molecules during the cured melt state does not progress, leading to a decrease in thermal conductivity.

본 발명의 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 저점도의 에폭시 수지 혼합물을 얻는다는 관점에서 350g/eq. 이하가 바람직하고, 특히 300g/eq. 이하가 바람직하다. 또한 본 발명의 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 얻어진 에폭시 수지 혼합물에 함유되는 각각의 에폭시 수지의 에폭시 당량의 평균값을 나타낸다. The epoxy equivalent of the epoxy resin mixture of the present invention is 350 g / eq. In view of obtaining a low viscosity epoxy resin mixture. And particularly preferably 300 g / eq. Or less. The epoxy equivalent of the epoxy resin mixture of the present invention represents the average value of the epoxy equivalents of the respective epoxy resins contained in the obtained epoxy resin mixture.

이하 본 발명의 에폭시 수지 조성물에 대하여 기재한다. 본 발명의 에폭시 수지 조성물은 본 발명의 에폭시 수지 혼합물을 필수 성분으로서 함유한다. Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be described. The epoxy resin composition of the present invention contains the epoxy resin mixture of the present invention as an essential component.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서 본 발명의 에폭시 수지 혼합물은 다른 에폭시 수지와 병용해서 사용할 수 있다. In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin mixture of the present invention can be used in combination with other epoxy resins.

다른 에폭시 수지의 구체예로서는 페놀류(페놀, 알킬 치환 페놀, 방향족 치환 페놀, 나프톨, 알킬 치환 나프톨, 디히드록시벤젠, 알킬 치환 디히드록시벤젠 및 디히드록시나프탈렌 등)과 각종 알데히드(포름알데히드, 아세트알데히드, 알킬알데히드, 벤즈알데히드, 알킬 치환 벤즈알데히드, 히드록시벤즈알데히드, 나프토알데히드, 글루타르알데히드, 프탈알데히드, 크로톤알데히드 및 신남알데히드 등)의 중축합물, 크실렌 등의 방향족 화합물과 포름알데히드의 중축합물과 페놀류의 중축합물, 페놀류와 각종 디엔 화합물(디시클로펜타디엔, 테르펜류, 비닐시클로헥센, 노르보르나디엔, 비닐노르보르넨, 테트라히드로인덴, 디비닐벤젠, 디비닐비페닐, 디이소프로페닐비페닐, 부타디엔 및 이소프렌 등)의 중합물, 페놀류와 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세토페논 및 벤조페논 등)의 중축합물, 페놀류와 방향족 디메탄올류(벤젠디메탄올 및 비페닐디메탄올 등)의 중축합물, 페놀류와 방향족 디클로로메틸류(α,α'-디클로로크실렌 및 비스클로로메틸비페닐 등)의 중축합물, 페놀류와 방향족 비스알콕시메틸류(비스메톡시메틸벤젠, 비스메톡시메틸비페닐 및 비스페녹시메틸비페닐 등)의 중축합물, 비스페놀류와 각종 알데히드의 중축합물, 및 알코올류 등을 글리시딜화한 글리시딜에테르계 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 글리시딜아민계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 에폭시 수지 등을 들 수 있지만, 통상 사용되는 에폭시 수지이면 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들은 1종류만 사용해도, 2종류 이상을 병용해도 좋다. Specific examples of other epoxy resins include phenols (phenol, alkyl substituted phenol, aromatic substituted phenol, naphthol, alkyl substituted naphthol, dihydroxybenzene, alkyl substituted dihydroxybenzene and dihydroxynaphthalene) and various aldehydes (formaldehyde, Polycondensation products of aromatic compounds such as xylene and formaldehyde and phenols such as aldehydes, alkyl aldehydes, benzaldehydes, alkyl substituted benzaldehydes, hydroxybenzaldehydes, naphthalaldehydes, glutaraldehyde, phthalaldehyde, crotonaldehyde and cinnamaldehyde) , Polycondensates of phenols and various diene compounds (dicyclopentadiene, terpenes, vinylcyclohexene, norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenyl Biphenyl, butadiene and isoprene), phenols and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, Polycondensates of phenols and aromatic dimethols (such as benzene dimethanol and biphenyl dimethanol), phenols and aromatic dichloromethyls (such as?,? '- dichloro Xylene and bischloromethylbiphenyl), polycondensates of phenols with aromatic bisalkoxymethyls (such as bismethoxymethylbenzene, bismethoxymethylbiphenyl and bisphenoxymethylbiphenyl), bisphenols and bisphenols Glycidyl ether epoxy resin, glycidyl amine epoxy resin, glycidyl ester epoxy resin and the like can be cited as examples of the polycondensate of various aldehydes and glycidylated alcohols and the like. The epoxy resin used is not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

다른 에폭시 수지를 병용하는 경우 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 전체 에폭시 소지 성분에 차지하는 본 발명의 에폭시 수지 혼합물의 비율은 30질량% 이상이 바람직하고, 40질량% 이상이 보다 바람직하고, 70질량% 이상이 더욱 바람직하고, 특히 바람직하게는 100질량%(다른 에폭시 수지를 병용하지 않은 경우)이다. 단 본 발명의 에폭시 수지 혼합물을 에폭시 수지 조성물의 개질제로서 사용하는 경우는 전체 에폭시 수지 중에서 1~30질량%가 되는 비율로 첨가한다. When another epoxy resin is used in combination, the proportion of the epoxy resin mixture of the present invention in the total epoxy resin component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 30 mass% or more, more preferably 40 mass% or more, and more preferably 70 mass% , And particularly preferably 100 mass% (when no other epoxy resin is used). However, when the epoxy resin mixture of the present invention is used as a modifier for the epoxy resin composition, it is added in a proportion of 1 to 30% by mass in the whole epoxy resin.

본 발명의 에폭시 수지 조성물이 함유하는 경화제로서는 예를 들면 아민계 화합물, 산 무수물계 화합물, 아미드계 화합물 및 페놀계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 외의 경화제의 구체예를 하기 (a)~(e)에 나타낸다.Examples of the curing agent contained in the epoxy resin composition of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds and phenol compounds. Specific examples of the other curing agents are shown in (a) to (e) below.

(a) 아민계 화합물 디아미노디페닐메탄, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 디아미노디페닐술폰, 이소포론디아민 및 나프탈렌디아민 등(a) Amine compound The diamine compound diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, naphthalenediamine, etc.

(b) 산 무수물계 화합물 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 무수 말레산, 테트라히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나드산, 헥사히드로 무수 프탈산 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산 등(b) An acid anhydride compound The acid anhydride-based compound is a compound selected from the group consisting of phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride Etc

(c) 아미드계 화합물 디시안디아미드, 또는 리놀렌산의 2량체와 에틸렌디아민으로부터 합성되는 폴리아미드 수지 등(c) amide compound dicyandiamide, or polyamide resin synthesized from dimer of linolenic acid and ethylenediamine

(d) 페놀계 화합물 다가 페놀류(비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 플루오렌비스페놀, 테르펜디페놀, 4,4'-디히드록시비페닐, 2,2'-디히드록시비페닐, 3,3',5,5'-테트라메틸-(1,1'-비페닐)-4,4'-디올, 하이드로퀴논, 레조르신, 나프탈렌디올, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄 및 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄 등; 페놀류(예를 들면 페놀, 알킬 치환 페놀, 나프톨, 알킬 치환 나프톨, 디히드록시벤젠 및 디히드록시나프탈렌 등)와, 알데히드류(포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-히드록시벤즈알데히드, o-히드록시벤즈알데히드 및 푸르푸랄 등), 케톤류(p-히드록시아세토페논 및 o-히드록시아세토페논 등), 또는 디엔류(디시클로펜타디엔 및 트리시클로펜타디엔 등)의 축합에 의해 얻어지는 페놀 수지; 상기 페놀류와, 치환 비페닐류(4,4'-비스(클로르메틸)-1,1'-비페닐 및 4,4'-비스(메톡시메틸)-1,1'-비페닐등), 또는 치환 페닐류(1,4-비스(클로로메틸)벤젠, 1,4-비스(메톡시메틸)벤젠 및 1,4-비스(히드록시메틸)벤젠 등) 등의 중축합에 의해 얻어지는 페놀 수지; 상기 페놀류 및/또는 상기 페놀 수지의 변성물; 테트라브로모비스페놀 A 및 브롬화 페놀 수지 등의 할로겐화 페놀류(d) Phenolic compounds The polyphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpenediphenol, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl, 3, 5 '-tetramethyl- (1,1'-biphenyl) -4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalene diol, tris- (Such as phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, and dihydroxynaphthalene) and aldehydes such as 1,2- (Such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde and furfural), ketones (such as p-hydroxyacetophenone and o-hydroxyacetophenone) Phenanthrene and tricyclopentadiene), phenol resins obtained by condensation of the phenols with substituted biphenyls (4,4'-bis (chlorine (Methoxymethyl) -1,1'-biphenyl, etc.) or substituted phenyls (1,4-bis (chloromethyl) benzene, 1 , 4-bis (methoxymethyl) benzene and 1,4-bis (hydroxymethyl) benzene), etc., phenol resins and / or modified products of the phenol resins, tetrabromobisphenol A and halogenated phenols such as brominated phenol resin

(e) 그 외 이미다졸류, BF3 -아민 착체, 구아니딘 유도체(e) other imidazoles, BF 3 - amine complex, a guanidine derivative

이들 경화제 중에서는 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰 및 나프탈렌디아민 등의 아민계 화합물, 및 카테콜과 알데히드류, 케톤류, 디엔류, 치환 비페닐류 또는 치환 페닐류의 축합물 등의 활성 수소기가 인접하고 있는 구조를 갖는 경화제 외 본 발명의 1성분인 에폭시 수지(A)의 전구체인 페놀 화합물(a)이 에폭시 수지의 배열에 기여하기 때문에 바람직하다.Of these curing agents, amine compounds such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and naphthalene diamine, and condensation products of catechol with condensation products of aldehydes, ketones, dienes, substituted biphenyls or substituted phenyls A phenol compound (a) which is a precursor of the epoxy resin (A), which is one component of the present invention, besides the curing agent having a structure in which hydrogen groups are adjacent is preferable because it contributes to the arrangement of the epoxy resin.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서 경화제의 사용량은, 에폭시 수지의 에폭시기 1당량에 대하여, 0.8~1.2당량이 바람직하고, 0.95~1.05가 특히 바람직하다.The amount of the curing agent to be used in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.8 to 1.2 equivalents, more preferably 0.95 to 1.05, per one equivalent of the epoxy group of the epoxy resin.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 필요에 따라 열 전도가 우수한 무기 충전재를 함유시킴으로써 그 경화물에 더 우수한 고열 전도성을 부여할 수 있다.The epoxy resin composition of the present invention can impart an excellent thermal conductivity to the cured product by containing an inorganic filler having an excellent thermal conductivity as required.

본 발명의 에폭시 수지 조성물이 함유하는 무기 충전재는 에폭시 수지 조성물의 경화물에 보다 높은 열 전도율을 부여할 목적으로 가해지는 것이며, 무기 충전재 자체의 열 전도율이 너무 낮은 경우에는 에폭시 수지와 경화제의 조합에 의해 얻어진 고열 전도율이 손상될 우려가 있다. 따라서 본 발명의 에폭시 수지 조성물이 함유하는 무기 충전재로서는 열 전도율이 높을수록 바람직하고, 통상 20W/m·K 이상, 바람직하게는 30W/m·K 이상, 보다 바람직하게는 50W/m·K 이상의 열 전도율을 갖는 것이면 아무런 제한이 없다. 또한 여기서 말하는 열 전도율이란 ASTM E1530에 준거한 방법으로 측정한 값이다. 이와 같은 특성을 갖는 무기 충전재의 구체예로서는 질화 붕소, 질화 알루미늄, 질화 규소, 탄화 규소, 질화 티탄, 산화 아연, 탄화 텅스텐, 알루미나, 산화 마그네슘 등의 무기 분말 충전재, 합성 섬유, 세라믹스 섬유 등의 섬유질 충전재, 착색제 등을 들 수 있다. 이들 무기 충전재의 형상은 분말(괴상, 구상), 단섬유, 장섬유 등 어느 것이어도 좋지만 특히 평판상의 것이면 무기 충전재 자신의 적층 효과에 의해 경화물의 열 전도성이 보다 높아지고, 경화물의 방열성이 더욱 향상되므로 바람직하다.The inorganic filler contained in the epoxy resin composition of the present invention is added for the purpose of imparting a higher thermal conductivity to the cured product of the epoxy resin composition. When the thermal conductivity of the inorganic filler itself is too low, the combination of the epoxy resin and the curing agent There is a possibility that the high thermal conductivity obtained by the above method may be damaged. Therefore, the inorganic filler contained in the epoxy resin composition of the present invention preferably has a high thermal conductivity, and is usually at least 20 W / m · K, preferably at least 30 W / m · K, more preferably at least 50 W / m · K There is no restriction if it has a conductivity. The thermal conductivity referred to herein is a value measured according to ASTM E1530. Specific examples of the inorganic filler having such properties include inorganic fillers such as boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, titanium nitride, zinc oxide, tungsten carbide, alumina and magnesium oxide, fibrous fillers such as synthetic fibers and ceramics fibers , Coloring agents and the like. The shape of these inorganic fillers may be any of powder (bulk, spherical), short fiber, long fiber and the like, but in the case of a flat plate, the thermal conductivity of the cured product is higher due to the lamination effect of the inorganic filler itself and the heat radiation property of the cured product is further improved desirable.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서의 무기 충전재의 사용량은 에폭시 수지 조성물 중의 수지 성분 100질량부에 대하여 통상 2~1000질량부이지만 열 전도율을 될 수 있는 한 높이기 위해서는 본 발명의 에폭시 수지 조성물의 구체적인 용도에 있어서의 취급 등에 지장을 초래하지 않는 범위에서 가능한 한 무기 충전재의 사용량을 늘리는 것이 바람직하다. 이들 무기 충전재는 1종만을 사용해도 2종류 이상을 병용해도 좋다. The amount of the inorganic filler to be used in the epoxy resin composition of the present invention is usually 2 to 1000 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin component in the epoxy resin composition. However, in order to increase the thermal conductivity as much as possible, It is preferable to increase the amount of the inorganic filler to be used as far as possible without causing any trouble to the handling of the inorganic filler. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

또한 충전재 전체로서의 열 전도율을 20W/m·K 이상으로 유지할 수 있는 범위이면 열 전도율이 20W/m·K 이상인 무기 충전재에 열 전도율이 20W/m·K 미만인 충전재를 병용해도 상관없지만 될 수 있는 한 열 전도율이 높은 경화물을 얻는다는 본 발명의 목적으로부터 열 전도율이 20W/m·K 미만인 충전재의 사용은 최소한으로 한정시켜야 한다. 병용할 수 있는 충전재의 종류나 형상에 특별히 제한은 없다.It is also possible to use a filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or less in combination with an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more as long as the thermal conductivity of the filler as a whole can be maintained at 20 W / m · K or more. For the purposes of the present invention to obtain a cured product with a high thermal conductivity, the use of a filler having a thermal conductivity of less than 20 W / m · K should be limited to a minimum. There is no particular limitation on the type and shape of the filler that can be used in combination.

본 발명의 에폭시 수지 조성물을 반도체 밀봉 용도로 사용하는 경우 경화물의 내열성, 내습성, 역학적 성질 등의 관점에서 에폭시 수지 조성물 중에 있어서 75~93질량%를 차지하는 비율로 열 전도율이 20W/m·K 이상인 무기 충전재를 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우 잔부는 에폭시 수지 성분, 경화제 성분 및 그 외 필요에 따라 첨가되는 첨가제이며, 첨가제로서는 병용할 수 있는 다른 무기 충전재나 후술하는 경화 촉진제 등이다. When the epoxy resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation, the epoxy resin composition preferably has a heat conductivity of 20 W / m · K or more in a proportion of 75 to 93 mass% in the epoxy resin composition in terms of heat resistance, moisture resistance, mechanical properties, It is preferable to use an inorganic filler. In this case, the remainder is an epoxy resin component, a curing agent component, and other additives that are added according to need, and other inorganic fillers that can be used together as an additive, and a curing accelerator described later.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 경화 촉진제를 함유시킬 수 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제로서는 예를 들면 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 및 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 트리에틸렌디아민, 트리에탄올아민 및 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 제 3 급 아민류, 트리페닐포스핀, 디페닐포스핀 및 트리부틸포스핀 등의 유기 포스핀류, 옥틸산 주석 등의 금속 화합물, 테트라페닐포스포늄·테트라페닐보레이트 및 테트라페닐포스포늄·에틸트리페닐보레이트 등의 테트라 치환 포스포늄·테트라 치환 보레이트, 2-에틸-4-메틸이미다졸·테트라페닐보레이트 및 N-메틸모르폴린·테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등을 들 수 있다. 경화 촉진제는 에폭시 수지 100질량부에 대하여 0.01~15질량부가 필요에 따라 사용된다. The epoxy resin composition of the present invention may contain a curing accelerator. Examples of the curing accelerator which can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- Aminomethyl) phenol, triethylenediamine, triethanolamine and tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triphenylphosphine, diphenylphosphine and tributylphosphine Tetraphenylboronate and tetraphenylphosphonium ethyltriphenylborate; tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borates such as tetraphenylphosphonium-ethyltriphenylborate; and organic compounds such as 2-ethyl-4- Methyl imidazole tetraphenyl borate, and tetramhenyl boron salts such as N-methyl morpholine tetraphenyl borate. The curing accelerator is used in an amount of 0.01 to 15 parts by mass based on 100 parts by mass of the epoxy resin.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라 실란 커플링제, 이형제 및 안료 등 여러가지 배합제, 각종 열 경화성 수지 및 각종 열 가소성 수지 등을 첨가할 수 있다. 열 경화성 수지 및 열 가소성 수지의 구체예로서는 비닐에스테르 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 말레이미드 수지, 시아나토 수지, 이소시아나토 화합물, 벤조옥사진 화합물, 비닐벤질에테르 화합물, 폴리부타디엔 및 이 변성물, 아크릴로니트릴 공중합체의 변성물, 인덴 수지, 불소 수지, 실리콘 수지, 폴리에테르이미드, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌에테르, 폴리아세탈, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 디시클로펜타디엔 수지 등을 들 수 있다. 열 경화성 수지, 또는 열 가소성 수지는 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중에 있어서 60질량% 이상을 차지하는 양이 사용된다. Various additives such as a silane coupling agent, a releasing agent and a pigment, various thermosetting resins and various thermoplastic resins can be added to the epoxy resin composition of the present invention, if necessary. Specific examples of the thermosetting resin and the thermoplastic resin include a vinyl ester resin, an unsaturated polyester resin, a maleimide resin, a cyanato resin, an isocyanato compound, a benzoxazine compound, a vinylbenzyl ether compound, a polybutadiene and a modified product thereof, Modified resins of rhenitrile copolymers, indene resins, fluororesins, silicone resins, polyetherimides, polyether sulfone, polyphenylene ether, polyacetal, polystyrene, polyethylene, dicyclopentadiene resins and the like. The thermosetting resin or thermoplastic resin is used in an amount of not less than 60% by mass in the epoxy resin composition of the present invention.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 상기 각 성분을 균일하게 혼합함으로써 얻어지고, 그 바람직한 용도로서는 반도체 밀봉재나 프린트 배선판 등을 들 수 있다. The epoxy resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the components described above, and preferable applications thereof include a semiconductor sealing material and a printed wiring board.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 종래 알려져 있는 것과 동일한 방법으로 용이하게 그 경화물로 할 수 있다. 예를 들면 본 발명의 에폭시 수지 조성물의 필수 성분인 에폭시 수지, 경화제 및 열 전도율이 20W/m·K 이상인 무기 충전재, 및 필요에 따라 경화 촉진제, 배합제, 각종 열 경화성 수지나 각종 열 가소성 수지 등을 필요에 따라 압출기, 니더 또는 롤 등을 이용하여 균일해질 때까지 충분히 혼합하여 얻어진 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 용융 주형법 또는 트랜스퍼 성형법이나 인젝션 성형법, 압축 성형법 등에 의해 성형하고, 또한 그 융점 이상에서 2~10시간 가열함으로써 본 발명의 에폭시 수지 조성물의 경화물을 얻을 수 있다. 상술의 방법으로 리드 프레임 등에 탑재된 반도체 소자를 밀봉함으로써 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 반도체 밀봉 용도로 사용할 수 있다. The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into the cured product by the same method as conventionally known. For example, an epoxy resin, an essential component of the epoxy resin composition of the present invention, a curing agent, an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more, and, if necessary, a curing accelerator, a compounding agent, various thermosetting resins, The epoxy resin composition of the present invention obtained by sufficiently mixing the epoxy resin composition of the present invention with an extruder, a kneader, a roll or the like until it becomes homogeneous is molded by a melt casting method, a transfer molding method, an injection molding method, a compression molding method, By heating for 2 to 10 hours, a cured product of the epoxy resin composition of the present invention can be obtained. The epoxy resin composition of the present invention can be used for semiconductor encapsulation by sealing a semiconductor element mounted on a lead frame or the like by the above-described method.

또한 본 발명의 에폭시 수지 조성물은 용제를 포함하는 바니시로 할 수도 있다. 상기 바니시는 예를 들면 적어도 본 발명의 에폭시 수지 혼합물을 포함하고, 필요에 따라 열 전도율이 20W/m·K 이상인 무기 충전재 등의 그 외의 성분을 포함하는 혼합물을 톨루엔, 크실렌, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온, 시클로펜탄온, N,N'-디메틸포름아미드, N,N'-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, N-메틸피롤리돈, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 글루타르산 디알킬, 숙신산 디알킬, 아디프산 디알킬 등의 에스테르류, γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류, 석유 에테르, 석유 나프타, 물 첨가 석유 나프타 및 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제 등의 유기용제와 혼합함으로써 얻을 수 있다. 용제의 양은 바니시 전체에 대하여 통상 10~95질량%, 바람직하게는 15~85질량%이다. The epoxy resin composition of the present invention may also be a varnish containing a solvent. The varnish may contain at least an epoxy resin mixture according to the present invention, and if necessary, a mixture containing other components such as an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more is dissolved in toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone , N, N'-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol Glycol ethers such as diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether, acetyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve Sorb acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, It can be obtained by mixing with an organic solvent such as esters such as dialkyldialkyl or adipic acid dialkyl, cyclic esters such as? -Butyrolactone, petroleum ether such as petroleum ether, petroleum naphtha, petroleum naphtha with addition of water and solvent naphtha Can be obtained. The amount of the solvent is generally 10 to 95% by mass, preferably 15 to 85% by mass, based on the entire varnish.

상기한 바와 같이 하여 얻어지는 바니시를 유리 섬유, 카본 섬유, 폴리에스테르 섬유, 폴리아미드 섬유, 알루미나 섬유 및 종이 등의 섬유 기재에 함침시킨 후에 가열에 의해 용제를 제거함과 아울러 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 반경화 상태로 함으로써 본 발명의 프리프레그를 얻을 수 있다. 또한 여기서 말하는 「반경화 상태」란 반응성의 관능기인 에폭시기가 일부 미반응으로 잔존하고 있는 상태를 의미한다. 상기 프리프레그를 열 프레스 성형하여 경화물을 얻을 수 있다. After the varnish obtained as described above is impregnated into a fiber base material such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber and paper, the solvent is removed by heating, and the epoxy resin composition The prepreg of the present invention can be obtained. As used herein, the term " semi-cured state " means a state in which an epoxy group, which is a reactive functional group, remains partially unreacted. The prepreg can be hot-pressed to obtain a cured product.

(실시예)(Example)

이하 본 발명을 실시예에서 더욱 상세히 설명하지만 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 합성예, 실시예, 비교예에 있어서 부는 질량부를 의미한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In Synthetic Examples, Examples and Comparative Examples, parts means parts by mass.

또한 에폭시 당량, ICI 점도, 열 전도율은 이하의 조건에서 측정했다. The epoxy equivalent, ICI viscosity and thermal conductivity were measured under the following conditions.

·에폭시 당량· Epoxy equivalent

JIS K-7236에 기재된 방법으로 측정하고, 단위는 g/eq.이다.Measured by the method described in JIS K-7236, and the unit is g / eq.

·용융 점도· Melt viscosity

150℃에 있어서의 콘플레이트법에 의한 용융 점도Melting viscosity measured by cone plate method at 150 ° C

측정 기기: 콘플레이트(ICI) 고온 점도계Measuring instrument: Cone plate (ICI) High temperature viscometer

(RESEACH EQUIPMENT(LONDON) LTD. 제작)(Produced by RESEACH EQUIPMENT (LONDON) LTD.)

·열 전도율· Thermal Conductivity

ASTM E1530에 준거한 방법으로 측정하고, 단위는 W/m·K이다.It is measured by the method according to ASTM E1530, and the unit is W / mK.

합성예 1Synthesis Example 1

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 4'-히드록시아세토페논 136부, 바닐린 152부 및 에탄올 200부를 투입하여 용해했다. 이것에 97질량% 황산 20부를 첨가 후 60℃까지 승온하고, 이 온도에서 10시간 반응 후 반응액을 물 1200부에 주입하여 결정 석출시켰다. 결정을 여과 후 물 600부로 2회 수세하고, 그 후 진공 건조하여 황색 결정의 페놀 화합물 1을 256부 얻었다. 얻어진 결정의 DSC 측정에 의한 흡열 피크 온도는 233℃이었다.136 parts of 4'-hydroxyacetophenone, 152 parts of vanillin and 200 parts of ethanol were added and dissolved in a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and an agitator. After adding 20 parts of 97 mass% sulfuric acid to the mixture, the mixture was heated to 60 ° C, reacted at this temperature for 10 hours, and then 1200 parts of water was poured into the reaction liquid to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed twice with 600 parts of water, and then vacuum dried to obtain 256 parts of phenol compound 1 as a yellow crystal. The endothermic peak temperature determined by DSC measurement of the obtained crystal was 233 ° C.

합성예 2Synthesis Example 2

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 4'-히드록시-3'-메톡시아세토페논 166부, 4-히드록시벤즈알데히드 122부 및 에탄올 200부를 투입하여 용해했다. 이것에 97% 황산 20부를 첨가 후 50℃까지 승온하고, 이 온도에서 10시간 반응 후 반응액을 물 1200부에 주입하여 결정 석출시켰다. 결정을 여과 후 물 600부에서 2회 수세하고, 그 후 진공 건조시켜 다갈색 결정의 페놀 화합물 2를 285부 얻었다. 얻어진 결정의 DSC 측정에 의한 흡열 피크 온도는 193℃이었다.166 parts of 4'-hydroxy-3'-methoxyacetophenone, 122 parts of 4-hydroxybenzaldehyde and 200 parts of ethanol were added and dissolved in a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer. After adding 20 parts of 97% sulfuric acid to the mixture, the mixture was heated to 50 ° C and reacted at this temperature for 10 hours. The reaction mixture was poured into 1200 parts of water to precipitate crystals. The crystals were filtered off, washed twice with 600 parts of water, and then vacuum dried to obtain 285 parts of phenol compound 2 as a brownish crystal. The endothermic peak temperature determined by DSC measurement of the obtained crystal was 193 ° C.

합성예 3Synthesis Example 3

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 4-메틸시클로헥산온 56부, 바닐린 152부 및 에탄올 150부를 투입하여 용해했다. 97질량% 황산 10부를 첨가 후 50℃까지 승온하고, 이 온도에서 10시간 반응 후 트리폴리인산 나트륨 25부를 첨가하여 30분간 교반했다. 그 후 메틸이소부틸케톤(MIBK)을 500부 첨가 후 물 200부로 2회 수세하고, 그 후 에바포레이터로 용제를 증류 제거하여 반고형의 페놀 화합물 3을 304부 얻었다.56 parts of 4-methylcyclohexanone, 152 parts of vanillin and 150 parts of ethanol were added and dissolved in a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and an agitator. After adding 10 parts of 97% by mass sulfuric acid, the temperature was raised to 50 ° C, and after 10 hours of reaction at this temperature, 25 parts of sodium tripolyphosphate was added and stirred for 30 minutes. Thereafter, 500 parts of methyl isobutyl ketone (MIBK) was added, and the mixture was rinsed twice with 200 parts of water. Thereafter, the solvent was distilled off with an evaporator to obtain 304 parts of semi-solid phenol compound 3.

합성예 4Synthesis Example 4

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 아세톤 29부, 바닐린 152부 및 에탄올 300부를 투입하여 용해했다. 이것에 50% 수산화나트륨 수용액 80부를 첨가 후 45℃까지 승온하고, 이 온도에서 120시간 반응 후 반응액을 1.5N 염산 800mL에 주입하여 결정 석출시켰다. 결정을 여과 후 물 600부로 2회 수세하고, 그 후 진공 건조시켜 황색 결정의 페놀 화합물 4를 165부 얻었다. 얻어진 결정의 융점은 DSC 측정에 의해 201℃이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 29 parts of acetone, 152 parts of vanillin and 300 parts of ethanol to dissolve. 80 parts of a 50% aqueous solution of sodium hydroxide was added thereto, and the temperature was raised to 45 ° C. After 120 hours of reaction at this temperature, the reaction solution was poured into 800 mL of 1.5N hydrochloric acid to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed twice with 600 parts of water, and then vacuum-dried to obtain 165 parts of phenol compound 4 as yellow crystals. The melting point of the obtained crystal was found to be 201 占 폚 by DSC measurement.

실시예 1Example 1

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 1에서 얻어진 페놀 화합물 1을 80부, 4,4'-비페놀 20부, 에피클로로히드린 300부, 디메틸술폭시드(이하 DMSO) 75부를 첨가하고, 교반 하 70℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 33부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 70℃ 그대로 2.5시간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 290부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 9부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 1을 130부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 200g/eq. 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 80 parts of the phenol compound 1 obtained in Synthesis Example 1, 20 parts of 4,4'-biphenol, 300 parts of epichlorohydrin, (Hereinafter referred to as " DMSO ") was added, and the mixture was heated to 70 deg. C with stirring to dissolve. 33 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, followed by reaction for 2.5 hours at 70 deg. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 290 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 占 폚, and 9 parts of a 30% sodium hydroxide aqueous solution was added thereto under stirring. The mixture was reacted for 1 hour, washed with water until the washing water became neutral, And then methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure to obtain 130 parts of the epoxy resin mixture 1. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin mixture was 200 g / eq. The melt viscosity was 0.03 Pa · s.

실시예 2Example 2

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 2에서 얻어진 페놀 화합물 2를 80부, 4,4'-비페놀 20부, 에피클로로히드린 300부, DMSO 75부를 첨가하고, 교반 하 70℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 33부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 70℃ 그대로 2.5시간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 290부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 9부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 2를 130부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 201g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 80 parts of the phenol compound 2 obtained in Synthesis Example 2, 20 parts of 4,4'-biphenol, 300 parts of epichlorohydrin, and 75 parts of DMSO The mixture was heated to 70 ° C under stirring to dissolve, 33 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the mixture was reacted at 70 ° C for 2.5 hours. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 290 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 占 폚, and 9 parts of a 30% sodium hydroxide aqueous solution was added under stirring. The mixture was reacted for 1 hour and washed with water until the wash water became neutral. Methyl isobutyl ketone and the like were distilled off under reduced pressure to obtain 130 parts of the epoxy resin mixture 2. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 201 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 3Example 3

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 3에서 얻어진 페놀 화합물 3을 80부, 4,4'-비페놀 20부, 에피클로로히드린 235부, DMSO 59부를 첨가하고, 교반 하 45℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 26부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 45℃ 그대로 1.5시간, 그 후 70℃로 승온하여 30분간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 271부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 8부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 3을 122부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 235g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.80 parts of phenol compound 3 obtained in Synthesis Example 3, 20 parts of 4,4'-biphenol, 235 parts of epichlorohydrin and 59 parts of DMSO were added to a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer, 26 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the mixture was kept at 45 캜 for 1.5 hours, then heated to 70 캜 and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 271 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 占 폚, and 8 parts of a 30% aqueous sodium hydroxide solution was added under stirring. The mixture was reacted for 1 hour and then washed with water until the wash water became neutral. The obtained solution was then filtered through a rotary evaporator Methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure to obtain 122 parts of epoxy resin mixture 3. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 235 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 4Example 4

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 4에서 얻어진 페놀 화합물 4를 80부, 4,4'-비페놀 20부, 에피클로로히드린 261부, DMSO 65부를 첨가하고, 교반 하 45℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 29부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 45℃ 그대로 1.5시간, 그 후 70℃로 승온하여 30분간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 279부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 8부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 4를 126부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 220g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 80 parts of the phenol compound 4 obtained in Synthesis Example 4, 20 parts of 4,4'-biphenol, 261 parts of epichlorohydrin, and 65 parts of DMSO 29 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the mixture was kept at 45 캜 for 1.5 hours, then heated to 70 캜 and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 279 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 占 폚, and 8 parts of a 30% aqueous sodium hydroxide solution was added under stirring. The mixture was reacted for 1 hour and then washed with water until the wash water became neutral. The obtained solution was then filtered through a rotary evaporator And then methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure to obtain 126 parts of the epoxy resin mixture 4. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 220 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 5Example 5

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 1에서 얻어진 페놀 화합물 1을 90부, 비스페놀 F(BPF) 10부, 에피클로로히드린 284부, 디메틸술폭시드(이하, DMSO) 71부를 첨가하고, 교반 하 70℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 32부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 70℃ 그대로 2.5시간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 286부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 9부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 5를 128부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 204g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 90 parts of phenol compound 1 obtained in Synthesis Example 1, 10 parts of bisphenol F (BPF), 284 parts of epichlorohydrin, dimethylsulfoxide , DMSO) was added, and the mixture was heated to 70 deg. C with stirring to dissolve. 32 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the reaction was continued at 70 deg. C for 2.5 hours. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 286 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 占 폚, and 9 parts of a 30% sodium hydroxide aqueous solution was added under stirring. The mixture was reacted for 1 hour and washed with water until the wash water became neutral. And then methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure to obtain 128 parts of the epoxy resin mixture 5. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 204 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 6Example 6

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 2에서 얻어진 페놀 화합물 2를 90부, BPF 10부, 에피클로로히드린 284부, DMSO 71부를 첨가하고, 교반 하 70℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 32부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 70℃ 그대로 2.5시간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 286부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 9부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 6을 129부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 205g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer was charged with 90 parts of the phenol compound 2 obtained in Synthesis Example 2, 10 parts of BPF, 284 parts of epichlorohydrin, and 71 parts of DMSO while nitrogen purging was carried out. And 32 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, followed by reaction at 70 DEG C for 2.5 hours. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 286 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 占 폚, and 9 parts of a 30% sodium hydroxide aqueous solution was added under stirring. The mixture was reacted for 1 hour and washed with water until the wash water became neutral. Methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure to obtain 129 parts of an epoxy resin mixture 6. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 205 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 7Example 7

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 3에서 얻어진 페놀 화합물 3을 90부, BPF 10부, 에피클로로히드린 212부, DMSO 53부를 첨가하고, 교반 하 45℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 24부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 45℃ 그대로 1.5시간, 그 후 70℃로 승온하여 30분간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 264부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 7부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지 혼합물 7을 119부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 250g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer was charged with 90 parts of the phenol compound 3 obtained in Synthesis Example 3, 10 parts of BPF, 212 parts of epichlorohydrin and 53 parts of DMSO while nitrogen purging was carried out. And 24 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes. After that, the mixture was kept at 45 캜 for 1.5 hours, then heated to 70 캜 and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 264 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 DEG C, and 7 parts of a 30% sodium hydroxide aqueous solution was added under stirring. After the reaction was carried out for 1 hour, washing was carried out until the washing water became neutral, and the obtained solution was filtered using a rotary evaporator Methyl isobutyl ketone or the like was distilled off under reduced pressure to obtain 119 parts of an epoxy resin mixture 7. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 250 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 8Example 8

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼징을 실시하면서 합성예 4에서 얻어진 페놀 화합물 4를 90부, BPF 10부, 에피클로로히드린 241부, DMSO 60부를 첨가하고, 교반 하 45℃까지 승온하여 용해하고, 플레이크 형상의 수산화나트륨 27부를 90분간에 걸쳐 분할 첨가한 후 45℃ 그대로 1.5시간, 그 후 70℃로 승온하여 30분간 반응을 행했다. 반응 종료 후 로터리 에바포레이터를 사용하여 135℃에서 감압 하 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물을 MIBK 273부에 용해한 후에 수세하여 염을 제거했다. 수세 후 MIBK 용액을 70℃로 승온하고, 교반 하에서 30% 수산화나트륨 수용액 7부를 첨가하여 1시간 반응을 행한 후 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하고, 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 사용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거 함으로써 에폭시 수지 혼합물 8을 123부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 혼합물의 에폭시 당량은 229g/eq., 용융 점도는 0.03Pa·s이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 90 parts of the phenol compound 4 obtained in Synthesis Example 4, 10 parts of BPF, 241 parts of epichlorohydrin and 60 parts of DMSO while nitrogen purging was carried out. And 27 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes. After that, the mixture was kept at 45 캜 for 1.5 hours, then heated to 70 캜 and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 135 占 폚 using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 273 parts of MIBK and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the temperature of the MIBK solution was raised to 70 DEG C, and 7 parts of a 30% sodium hydroxide aqueous solution was added under stirring. After the reaction was carried out for 1 hour, washing was carried out until the washing water became neutral, and the obtained solution was filtered using a rotary evaporator Methyl isobutyl ketone and the like were distilled off under reduced pressure to obtain 123 parts of an epoxy resin mixture 8. The obtained epoxy resin mixture had an epoxy equivalent of 229 g / eq. And a melt viscosity of 0.03 Pa · s.

실시예 9~24 및 비교예 1, 2Examples 9 to 24 and Comparative Examples 1 and 2

각종 성분을 표1의 비율(부)로 배합하여 믹싱 롤로 혼련, 타블렛화 후 트랜스퍼 성형으로 수지 성형체를 조제해서 160℃에서 2시간, 180℃에서 8시간 더 가열을 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물 및 비교용 수지 조성물의 경화물을 얻었다. 이들 경화물의 열 전도율을 측정한 결과를 표 1에 나타냈다.The components were mixed in a ratio shown in Table 1, kneaded with a mixing roll, made into tablets, and then formed into a resin molding by transfer molding. The resulting mixture was further heated at 160 캜 for 2 hours and at 180 캜 for 8 hours to obtain an epoxy resin composition A cured product of the comparative resin composition was obtained. The results of measuring the thermal conductivity of these cured products are shown in Table 1.

Figure pct00018
Figure pct00018

에폭시 수지 9: 하기 식(9)으로 나타내어지는 에폭시 수지(상품명: NC-3000 니혼 카야쿠 제작 에폭시 당량 276g/eq.)Epoxy resin 9: An epoxy resin (trade name: NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent: 276 g / eq.) Represented by the following formula (9)

Figure pct00019
Figure pct00019

에폭시 수지 10: 하기 식(10) 및 (11)으로 나타내어지는 에폭시 수지를 등 몰 함유하는 비페닐형 에폭시 수지(상품명: YL-6121H 재팬 에폭시 레진 제작 에폭시 당량 175g/eq.)Epoxy resin 10: A biphenyl type epoxy resin (trade name: YL-6121H, manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent: 175 g / eq.) Containing an equimolar amount of an epoxy resin represented by the following formulas (10)

Figure pct00020
Figure pct00020

Figure pct00021
Figure pct00021

경화제 1: 합성예 1에서 얻어진 페놀 화합물 1Curing agent 1: The phenol compound 1 obtained in Synthesis Example 1

경화제 2: 합성예 2에서 얻어진 페놀 화합물 2Curing agent 2: Phenol compound 2 obtained in Synthesis Example 2

경화제 3: 합성예 3에서 얻어진 페놀 화합물 3Curing agent 3: Phenol compound 3 obtained in Synthesis Example 3

경화제 4: 합성예 4에서 얻어진 페놀 화합물 4Curing agent 4: Phenol compound 4 obtained in Synthesis Example 4

경화제 5: 하기 식(12)으로 나타내어지는 페놀 노볼락(상품명: H-1, 메이와 카세이 제작 수산기 당량 105g/eq.)Hardener 5: Phenol novolac (trade name: H-1, manufactured by Meiwa Chemical Co., Ltd., hydroxyl equivalent weight: 105 g / eq.) Represented by the following formula (12)

Figure pct00022
Figure pct00022

경화 촉진제: 트리페닐포스핀(홋코 카가쿠 코교 제작)Curing accelerator: triphenylphosphine (manufactured by Hokko Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

실시예 25~40 및 비교예 3, 4Examples 25 to 40 and Comparative Examples 3 and 4

각종 성분을 표 2의 비율(부)로 배합하여 믹싱 롤로 혼련, 타블렛화 후 트랜스퍼 성형으로 수지 성형체를 조제해서 160℃에서 2시간, 180℃에서 8시간 더 가열을 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물 및 비교용 수지 조성물의 경화물을 얻었다. 이들 경화물의 열 전도율을 측정한 결과를 표 2에 나타냈다.The components were mixed in proportions (parts) shown in Table 2, kneaded with a mixing roll, made into tablets, and then formed into a resin molding by transfer molding. The resulting mixture was further heated at 160 캜 for 2 hours and at 180 캜 for 8 hours, A cured product of the comparative resin composition was obtained. The results of measuring the thermal conductivity of these cured products are shown in Table 2.

Figure pct00023
Figure pct00023

무기 충전재 1: 구상 알루미나(상품명: DAW-100 덴키 카가쿠 코교 제작, 열 도율 38W/m·K)Inorganic filler 1: spherical alumina (trade name: DAW-100 manufactured by Denki Kagakukogyo Co., Ltd., thermal conductivity: 38 W / mK)

무기 충전재 2: 질화 붕소(상품명: SGP 덴키 카가쿠 코교 제작, 열 전도율 60W/m·K)Inorganic filler 2: boron nitride (trade name: SGP manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., thermal conductivity 60 W / mK)

실시예 41Example 41

디메틸포름아미드 1000부에 실시예 1에서 얻어진 에폭시 수지 혼합물 1을 100부 70℃에서 용해시킨 후 실온으로 되돌렸다. 디메틸포름아미드 48부에 경화제인 1,5-나프탈렌디아민(도쿄 카세이 제작, 아민 당량 40g/eq.) 20부를 70℃에서 용해시킨 후 실온으로 되돌렸다. 상기 에폭시 수지 용액과 경화제 용액을 교반 날개 타입의 호모 믹서로 혼합·교반하여 균일한 바니시로 하고, 무기 충전재(상품명: SGP 덴키 카가쿠 코교 제작, 열 전도율 60W/m·K) 228부(수지 고형분 100체적부에 대하여 50체적부) 및 디메틸포름아미드 100부를 더 첨가하여 혼합·교반해서 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 조제했다. 100 parts of the epoxy resin mixture 1 obtained in Example 1 was dissolved in 1,000 parts of dimethylformamide at 70 占 폚 and then returned to room temperature. 20 parts of 1,5-naphthalenediamine (manufactured by Tokyo Kasei, amine equivalent: 40 g / eq.) As a curing agent was dissolved at 48 deg. C in dimethylformamide, and the temperature was returned to room temperature. The epoxy resin solution and the curing agent solution were mixed and stirred with a homogenizer of a stirring blade type to obtain a uniform varnish. 228 parts of an inorganic filler (trade name: SGP Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 60 W / m 占)) 50 parts by volume relative to 100 parts by volume) and 100 parts of dimethylformamide were further added and mixed and stirred to prepare an epoxy resin composition of the present invention.

이 에폭시 수지 조성물의 바니시를 두께 0.2mm의 유리 섬유 직포(상품명: 7628/AS890AW 아사히 슈에벨 제작)에 함침시키고, 가열 건조시켜 프리프레그를 얻었다. 이 프리프레그 4매와 그 양측에 배치한 동박을 포갠 후 온도 175℃, 압력 4MPa의 조건에서 90분간 가열 가압 성형해서 일체화시켜 두께 0.8mm의 적층판을 얻었다. 이 적층판의 열 전도율을 측정한 결과 4.1W/m·K이었다.The varnish of the epoxy resin composition was impregnated with a glass fiber woven fabric (trade name: 7628 / AS890AW, manufactured by Asahi Shovel) having a thickness of 0.2 mm and heated and dried to obtain a prepreg. Four prepregs and copper foils disposed on both sides of the prepregs were superimposed by heating and pressing at a temperature of 175 DEG C and a pressure of 4 MPa for 90 minutes to obtain a laminate having a thickness of 0.8 mm. The thermal conductivity of this laminate was measured to be 4.1 W / m · K.

실시예 42Example 42

실시예 41에 있어서의 에폭시 수지 혼합물 1을 에폭시 수지 혼합물 3 100부로, 1,5-나프탈렌디아민의 양을 17부로, 무기 충전재의 양을 222부로 각각 변경한 것 이외는 실시예 41과 동일한 조작 순서에 의해 적층판을 얻었다. 이 적층판의 열 전도율을 측정한 결과 4.6W/m·K이었다.The same procedure as in Example 41 was repeated, except that the epoxy resin mixture 1 in Example 41 was changed to 100 parts of the epoxy resin mixture 3, the amount of 1,5-naphthalene diamine was changed to 17 parts, and the amount of the inorganic filler was changed to 222 parts To obtain a laminated board. The thermal conductivity of this laminate was measured to be 4.6 W / m · K.

실시예 43Example 43

실시예 41에 있어서의 에폭시 수지 혼합물 1을 에폭시 수지 혼합물 5 100부로, 1,5-나프탈렌디아민의 양을 20부로, 무기 충전재의 양을 228부로 각각 변경한 것 이외는 실시예 41과 동일한 조작 순서에 의해 적층판을 얻었다. 이 적층판의 열 전도율을 측정한 결과 4.1W/m·K이었다.The procedure of the same procedure as that of Example 41 was repeated except that the epoxy resin mixture 1 of Example 41 was changed to 100 parts of the epoxy resin mixture 5, the amount of 1,5-naphthalene diamine was changed to 20 parts, and the amount of the inorganic filler was changed to 228 parts To obtain a laminated board. The thermal conductivity of this laminate was measured to be 4.1 W / m · K.

실시예 44Example 44

실시예 41에 있어서의 에폭시 수지 혼합물 1을 에폭시 수지 혼합물 7 100부로, 1,5-나프탈렌디아민의 양을 16부로, 무기 충전재의 양을 222부로 각각 변경한 것 이외는 실시예 41과 동일한 조작 순서에 의해 적층판을 얻었다. 이 적층판의 열 전도율을 측정한 결과 4.5W/m·K이었다.The procedure of the same procedure as in Example 41 was repeated, except that the epoxy resin mixture 1 of Example 41 was changed to 100 parts of the epoxy resin mixture 7, the amount of 1,5-naphthalene diamine was changed to 16 parts, and the amount of the inorganic filler was changed to 222 parts To obtain a laminated board. The thermal conductivity of this laminate was measured to be 4.5 W / m · K.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 41에 있어서의 에폭시 수지 혼합물 1을 에폭시 수지 10(YL-6121H) 100부로, 1,5-나프탈렌디아민의 양을 23부로, 무기 충전재의 양을 234부로 각각 변경한 것 이외는 실시예 41과 동일한 조작 순서에 의해 적층판을 얻었다. 이 적층판의 열 전도율을 측정한 결과 3.6W/m·K이었다.The procedure of Example 41 was repeated except that the epoxy resin mixture 1 of Example 41 was changed to 100 parts of epoxy resin 10 (YL-6121H), 23 parts of 1,5-naphthalene diamine and 234 parts of inorganic filler, To obtain a laminated board. The thermal conductivity of this laminate was measured to be 3.6 W / m · K.

이상의 결과로부터 본 발명의 에폭시 수지 혼합물을 함유하는 에폭시 수지 조성물의 경화물은 우수한 열 전도성을 갖는 것을 확인할 수 있었다. 따라서 본 발명의 에폭시 수지는 전기·전자 부품용 절연 재료 및 적층판(프린트 배선판 등) 등에 사용하는 경우에 매우 유용하다.From the above results, it was confirmed that the cured product of the epoxy resin composition containing the epoxy resin mixture of the present invention had excellent thermal conductivity. Therefore, the epoxy resin of the present invention is very useful when it is used in an insulating material for electric / electronic parts, a laminate (printed wiring board, etc.).

본 발명을 특정 실시형태를 참조해서 상세히 설명했지만 본 발명의 정신과 범위를 벗어나는 일 없이 여러가지 변경 및 수정이 가능한 것은 당업자에 있어서 명확하다. Although the present invention has been described in detail with reference to specific embodiments thereof, it is apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention.

또한 본 출원은 2011년 7월 27일자로 출원된 일본 특허 출원(일본 특허 출원 2011-163830)에 의거하고 있고, 그 전체가 인용에 의해 원용된다. 또한 여기에 인용되는 모든 참조는 전체로서 받아들여진다.The present application is based on Japanese Patent Application (Japanese Patent Application No. 2011-163830) filed on July 27, 2011, which is incorporated by reference in its entirety. Also, all references cited here are taken as a whole.

본 발명의 에폭시 수지 조성물의 경화물은 종래의 에폭시 수지의 경화물과 비교하여 우수한 열 전도성을 가짐과 아울러 용제 용해성도 우수하다. 따라서 밀봉재, 프리프레그 등으로서 전기·전자 재료, 성형 재료, 주형 재료, 적층 재료, 도료, 접착제, 레지스트, 광학 재료 등의 광범위한 용도로 매우 유용하다.The cured product of the epoxy resin composition of the present invention has excellent thermal conductivity as compared with the conventional cured product of the epoxy resin, and is also excellent in solvent solubility. Therefore, it is very useful for a wide range of applications such as electric and electronic materials, molding materials, mold materials, laminated materials, paints, adhesives, resists and optical materials as sealing materials and prepregs.

Claims (9)

하기 식(1)~(5)으로 나타내어지는 화합물의 1종 이상과,
하기 식(6)으로 나타내어지는 화합물의 반응에 의해 얻어지는 페놀 화합물(a)과, 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(A)를 함유하고, 하기 식(7)으로 나타내어지는 페놀 화합물(b)에 에피할로히드린을 더 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(B) 및/또는 식(8)으로 나타내어지는 페놀 화합물(c)에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 에폭시 수지(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 혼합물.
Figure pct00024

[식(1) 중, R1은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 수산기, 니트로기 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. l은 R1의 수를 나타내고, 1~4의 정수이다]
Figure pct00025

[식(2) 중, R2는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~15개의 알킬카르보닐기, 탄소수 2~10개의 알킬에스테르기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 모르폴리닐카르보닐기, 프탈이미드기, 피페로닐기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다]
Figure pct00026

[식(3) 중, R3은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 0~10개의 알킬카르보닐기, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 2~10개의 알킬에스테르기, 탄소수 1~10개의 알콕시기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다. n은 탄소수를 나타내고, 0, 1, 2 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. m은 R3의 수를 나타내고, 1≤m≤n+2의 관계를 만족한다]
Figure pct00027

[식(4) 중, R4는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~10개의 알콕시기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다]
Figure pct00028

[식(5) 중, R5는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~20개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 탄소수 1~10개의 알콕시기, 탄소수 1~10개의 알킬에스테르기 또는 수산기 중 어느 하나를 나타낸다. 또한 m은 1~10의 정수이다]
Figure pct00029

[식(6) 중, R6은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기, 탄소수 6~10개의 아릴기, 수산기, 니트로기, 포르밀기, 알릴기 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. k는 R6의 수를 나타내고, 1~4의 정수이다]
Figure pct00030

[식(7) 중, R7, X 및 Y는 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기 또는 아릴기, 수산기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. k는 R7의 수를 나타내고, 1~4의 정수를 나타낸다]
Figure pct00031

[식(8) 중, R8은 각각 독립적으로 존재하고, 수소 원자, 탄소수 1~10개의 알킬기 또는 아릴기, 수산기, 또는 탄소수 1~10개의 알콕시기 중 어느 하나를 나타낸다. l은 R8의 수를 나타내고, 1~4의 정수를 나타낸다. A는 직접 결합, 또는 시클로환을 갖는 탄소수 5~15개의 알킬리덴기를 나타낸다]
At least one compound represented by the following formulas (1) to (5)
A phenol compound (a) containing an epoxy resin (A) obtained by reacting a phenol compound (a) obtained by a reaction of a compound represented by the following formula (6) with epihalohydrin, (C) obtained by reacting epihalohydrin with an epoxy resin (B) obtained by further reacting an epihalohydrin with a phenol compound (b) and / or a phenol compound (c) By weight based on the weight of the epoxy resin.
Figure pct00024

[In the formula (1), R 1 independently represents any one of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms . l is the number of R 1, is an integer of 1-4;
Figure pct00025

[In the formula (2), R 2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkylester group having 2 to 10 carbon atoms , An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a morpholinylcarbonyl group, a phthalimide group, a piperonyl group or a hydroxyl group]
Figure pct00026

[In the formula (3), R 3 independently represents a hydrogen atom, an alkylcarbonyl group having 0 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 2 to 10 carbon atoms , An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group. n represents a carbon number and represents an integer of 0, 1, or 2; m represents the number of R < 3 & gt ;, and satisfies the relationship of 1 ≤ m ≤
Figure pct00027

[In the formula (4), R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or a hydroxyl group]
Figure pct00028

[In the formula (5), R 5 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 1 to 10 carbon atoms Or a hydroxyl group. And m is an integer of 1 to 10]
Figure pct00029

(6), R 6 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group, a formyl group, an allyl group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Or an alkoxy group. k represents the number of R < 6 > and is an integer of 1 to 4]
Figure pct00030

[In the formula (7), R 7 , X and Y each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. k represents the number of R < 7 > and represents an integer of 1 to 4]
Figure pct00031

[In the formula (8), R 8 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group, a hydroxyl group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. l represents the number of R 8 , and represents an integer of 1 to 4; A represents a direct bond or an alkylidene group having 5 to 15 carbon atoms and having a cyclic ring,
제 1 항에 기재된 페놀 화합물(a)을 함유하고, 페놀 화합물(b) 및/또는 페놀 화합물(c)을 더 함유하는 페놀 화합물 혼합물에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 혼합물.An epoxy resin obtained by reacting epihalohydrin with a phenol compound mixture containing the phenol compound (a) according to claim 1 and further containing a phenol compound (b) and / or a phenol compound (c) mixture. 제 2 항에 있어서,
에피할로히드린과 반응시키는 제 1 항에 기재된 페놀 화합물(a)~(c)의 혼합물 중 페놀 화합물(b) 및 페놀 화합물(c)이 차지하는 비율의 합이 1~30질량%인 페놀 화합물의 혼합물에 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 혼합물.
3. The method of claim 2,
(B) and the phenol compound (c) in the mixture of the phenol compounds (a) to (c) according to claim 1 reacting with epihalohydrin in an amount of 1 to 30 mass% Is reacted with epihalohydrin to obtain a mixture of epoxy resins.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 혼합물 및 경화제를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.An epoxy resin composition comprising the epoxy resin mixture according to any one of claims 1 to 3 and a curing agent. 제 4 항에 있어서,
에폭시 수지 조성물 중 경화제로서 페놀 화합물(a)을 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.
5. The method of claim 4,
An epoxy resin composition comprising a phenol compound (a) as a curing agent in an epoxy resin composition.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
열 전도율 20W/m·K 이상의 무기 충전재를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.
The method according to claim 4 or 5,
And an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more.
제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
반도체 밀봉 용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.
7. The method according to any one of claims 4 to 6,
An epoxy resin composition characterized by being used for semiconductor encapsulation.
제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 조성물 및 시트 형상의 섬유 기재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 프리프레그.A prepreg characterized by comprising the epoxy resin composition according to any one of claims 4 to 6 and a sheet-like fiber base. 제 4 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 조성물, 또는 제 8 항에 기재된 프리프레그를 경화하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 경화물.A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 4 to 7 or the prepreg according to claim 8.
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