JP5502080B2 - Epoxy resin composition, prepreg and cured products thereof - Google Patents

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Description

本発明は、新規なエポキシ樹脂組成物並びに、前記エポキシ樹脂組成物を使用して得られるプリプレグに関する。また、本発明は、前記エポキシ樹脂組成物またはプリプレグを硬化してなる硬化物に関する。   The present invention relates to a novel epoxy resin composition and a prepreg obtained using the epoxy resin composition. Moreover, this invention relates to the hardened | cured material formed by hardening | curing the said epoxy resin composition or prepreg.

エポキシ樹脂組成物は、一般的に機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性、電気的性質などに優れた硬化物となり、接着剤、塗料、積層板、成形材料、注型材料などの幅広い分野に利用されている。近年、これらの分野に用いられるエポキシ樹脂の硬化物には、高純度化を始め、難燃性、耐熱性、耐湿性、強靭性、低線膨張率、低誘電率特性など諸特性の一層の向上が求められている。   Epoxy resin compositions are generally cured products with excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, electrical properties, etc., such as adhesives, paints, laminates, molding materials, casting materials, etc. It is used in a wide range of fields. In recent years, cured products of epoxy resins used in these fields have begun to be highly purified and have various properties such as flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, toughness, low linear expansion coefficient, and low dielectric constant characteristics. There is a need for improvement.

特に、エポキシ樹脂組成物の代表的な用途である電気・電子産業分野においては、多機能化、高性能化、コンパクト化を目的とした半導体の高密度実装やプリント配線板の高密度配線化が進んでいる。しかしながら、高密度実装化や高密度配線化は、半導体素子やプリント配線板の内部から発生する熱を増加させ、機器類の誤作動を引き起こす原因となりうる。そのため、発生した熱をいかにして効率よく外部に放出させるかということが、エネルギー効率や機器設計の上からも重要な課題となっている。
これら熱対策としては、メタルコア基板を使用したり、設計の段階で放熱しやすい構造を組んだり、使用する高分子材料(エポキシ樹脂)に高熱伝導フィラーを細密充填したりするなど、様々な工夫がなされている。しかしながら、高熱伝導部位を繋げるバインダー役の高分子材料の熱伝導率が低いため、高分子材料の熱伝導スピードが律速となり、効率的な放熱ができていないのが現状である。
In particular, in the electrical and electronic industry, which is a typical application of epoxy resin compositions, high-density mounting of semiconductors and high-density wiring of printed wiring boards have been promoted for the purpose of multi-function, high performance, and compactness. Progressing. However, high-density mounting and high-density wiring increase the heat generated from the inside of the semiconductor element and the printed wiring board, and may cause malfunction of the devices. Therefore, how to efficiently release generated heat to the outside is an important issue from the standpoint of energy efficiency and device design.
These heat countermeasures include various measures such as using a metal core substrate, constructing a structure that easily dissipates heat at the design stage, and densely filling high thermal conductive filler in the polymer material (epoxy resin) to be used. Has been made. However, since the thermal conductivity of the polymer material acting as a binder that connects the high thermal conductivity sites is low, the thermal conduction speed of the polymer material becomes the rate-determining, and efficient heat dissipation is not possible at present.

エポキシ樹脂の高熱伝導化を実現する手段として、特許文献1では、メソゲン基をエポキシ樹脂構造中に導入する手法が報告されている。同文献にはメソゲン基を有するエポキシ樹脂として、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂などが記載されている。またビフェニル骨格以外のエポキシ樹脂としてはフェニルベンゾエート型のエポキシ樹脂が記載されているが、該エポキシ樹脂は酸化によるエポキシ化反応によって製造する必要があることから、安全性やコストに難があり実用的とは言えない。
また、特許文献2〜4には、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂を用いた例が記載されており、中でも特許文献3には高熱伝導率を有する無機充填材を併用する手法が記載されている。しかしながら、これら文献に記載の手法により得られる硬化物の熱伝導性は市場の要望を満足するレベルでは無く、比較的安価に入手可能なエポキシ樹脂を用いた、より高い熱伝導率を有する硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物が求められている。
As a means for realizing high thermal conductivity of an epoxy resin, Patent Document 1 reports a method of introducing a mesogenic group into an epoxy resin structure. This document describes an epoxy resin having a biphenyl skeleton as an epoxy resin having a mesogenic group. In addition, as an epoxy resin other than the biphenyl skeleton, a phenyl benzoate type epoxy resin is described. However, since the epoxy resin needs to be produced by an epoxidation reaction by oxidation, there are difficulties in safety and cost, and it is practical. It can not be said.
Patent Documents 2 to 4 describe examples using an epoxy resin having a biphenyl skeleton, and Patent Document 3 describes a technique in which an inorganic filler having high thermal conductivity is used in combination. However, the thermal conductivity of the cured product obtained by the methods described in these documents is not at a level that satisfies the market demand, and a cured product having higher thermal conductivity using an epoxy resin that is available at a relatively low cost. There is a need for an epoxy resin composition that provides.

また、エポキシ樹脂同様、エポキシ樹脂組成物に含有される硬化剤も高熱伝導化を実現する重要な要素と言える。従来、その硬化物が高い熱伝導率を有すると謳ったエポキシ樹脂組成物に含まれる硬化剤としては、特許文献1には4,4’−ジアミノジフェニルベンゾエート、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、特許文献2および3には1,5−ジアミノナフタレンなど、アミン系の硬化剤を使用した例が報告されている。しかしながら、これらのアミン系の硬化剤は硬化促進作用があるため、硬化物を作成するときのライフタイムを確保するのが困難であり、好ましいとは言えない。一方、特許文献4では、フェノール化合物を硬化剤として使用している。特許文献4では具体的にカテコールノボラックが使用されているが、同文献に記載の手法により得られる硬化物の熱伝導性もまた市場の要望を満足するレベルでは無く、より高い熱伝導率を有する硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物の開発が望まれている。   Further, like the epoxy resin, the curing agent contained in the epoxy resin composition can be said to be an important factor for realizing high thermal conductivity. Conventionally, as a curing agent contained in an epoxy resin composition that the cured product has a high thermal conductivity, Patent Document 1 discloses 4,4′-diaminodiphenylbenzoate, 4,4′-diaminodiphenylmethane, References 2 and 3 report examples using amine-based curing agents such as 1,5-diaminonaphthalene. However, since these amine-based curing agents have a curing accelerating action, it is difficult to ensure a lifetime when preparing a cured product, and it is not preferable. On the other hand, in Patent Document 4, a phenol compound is used as a curing agent. In Patent Document 4, catechol novolak is specifically used, but the thermal conductivity of the cured product obtained by the method described in the same document is not at a level that satisfies the market demand, and has a higher thermal conductivity. Development of an epoxy resin composition that gives a cured product is desired.

日本国特開平11−323162号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-323162 日本国特開2004−2573号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-2573 日本国特開2006−63315号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-63315 日本国特開2003−137971号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-137971

本発明はこのような問題を解決すべく検討の結果なされたものであり、その硬化物が高い熱伝導性を有するエポキシ樹脂組成物を提供するものである。   The present invention has been made as a result of studies to solve such problems, and provides an epoxy resin composition whose cured product has high thermal conductivity.

本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究した結果、本発明を完成させるに到った。
すなわち本発明は
(1)
(a’)エポキシ樹脂、
(b)硬化剤として下記式(1)〜(5)
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention.
That is, the present invention provides (1)
(A ′) epoxy resin,
(B) As a hardening | curing agent, following formula (1)-(5)

(式(1)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換若しくは無置換のアリール基、水酸基、又は、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。lはRの数を表し、0〜4の整数である。)(In Formula (1), each R 1 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, Or, it represents either a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, l represents the number of R 1 , and is an integer of 0 to 4).

(式(2)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数1〜15の置換または無置換のアルキルカルボニル基、モルホリニルカルボニル基、炭素数2〜10の置換または無置換のアルキルエステル基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、フタルイミド基、ピペロニル基、又は、水酸基のいずれかを表す。)(In Formula (2), each R 2 is independently present, and is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. 1-15 substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group, morpholinylcarbonyl group, C2-C10 substituted or unsubstituted alkyl ester group, C1-10 substituted or unsubstituted alkoxy group, phthalimide group Represents a piperonyl group or a hydroxyl group.)

(式(3)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数0〜10の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数2〜10の置換または無置換のアルキルエステル基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、又は、水酸基のいずれかを表す。nは炭素数を表し、0、1、2のいずれかの整数を表す。mはRの数を表し、0≦m≦n+2の関係を満たす。)(In Formula (3), each R 3 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 0 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon, It represents any of a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkyl ester group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group. N represents the number of carbon atoms and represents an integer of 0, 1, or 2. m represents the number of R 3 and satisfies the relationship of 0 ≦ m ≦ n + 2.

(式(4)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、又は、水酸基のいずれかを表す。)(In formula (4), each R 4 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. 1 to 10 represents a substituted or unsubstituted alkoxy group or a hydroxyl group.)

(式(5)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、又は、水酸基のいずれかを表す。また、nは1〜10の整数である。)(In Formula (5), each R 5 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. It represents either a substituted or unsubstituted alkoxy group of 1 to 10 or a hydroxyl group, and n is an integer of 1 to 10.)

で表される化合物の一種以上とヒドロキシベンズアルデヒド類との反応によって得られるフェノール化合物、及び
(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材、
を含有してなるエポキシ樹脂組成物、
(2)
(a)前項(1)に記載のフェノール化合物に、さらにエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、
(b’)硬化剤、及び
(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材、
を含有してなるエポキシ樹脂組成物、
(3)
(a)前項(2)に記載のエポキシ樹脂、
(b)前項(1)に記載のフェノール化合物、及び
(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材、
を含有してなるエポキシ樹脂組成物、
(4)
半導体封止用途に用いられる前項(1)〜(3)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、
(5)
前項(1)〜(3)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物及びシート状の繊維基材からなるプリプレグ、
(6)
前項(1)〜(4)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、または前項(5)に記載のプリプレグを硬化してなる硬化物、
に関する。
A phenol compound obtained by reaction of one or more of the compounds represented by formula (II) with hydroxybenzaldehyde, and (c) an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more,
An epoxy resin composition comprising
(2)
(A) an epoxy resin obtained by further reacting an epihalohydrin with the phenol compound described in (1) above;
(B ′) a curing agent, and (c) an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more,
An epoxy resin composition comprising
(3)
(A) the epoxy resin according to item (2),
(B) the phenolic compound according to item (1), and (c) an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more,
An epoxy resin composition comprising
(4)
The epoxy resin composition according to any one of (1) to (3), which is used for semiconductor sealing applications,
(5)
A prepreg comprising the epoxy resin composition according to any one of (1) to (3) and a sheet-like fiber base material,
(6)
A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of (1) to (4) or the prepreg according to (5);
About.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、その硬化物が熱伝導に優れているため、半導体封止材料、プリプレグを始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等に使用する場合に有用である。   The epoxy resin composition of the present invention is useful when used in various composite materials including semiconductor encapsulating materials and prepregs, adhesives, paints and the like because the cured product is excellent in heat conduction.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤及び熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材(以下「(c)成分」と記載する)を含有してなるエポキシ樹脂組成物であって、硬化剤として、下記式(1)〜(5)で表される化合物の一種以上とヒドロキシベンズアルデヒド類との反応によって得られるフェノール化合物(以下、「(b)成分」という)、及び/または、エポキシ樹脂として、該(b)成分に、さらにエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ化合物(以下、「(a)成分」という)を含有する。   The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler (hereinafter referred to as “component (c)”) having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more. As a curing agent, a phenol compound (hereinafter referred to as “component (b)”) obtained by reaction of one or more compounds represented by the following formulas (1) to (5) with hydroxybenzaldehydes, and / or Alternatively, the epoxy resin contains an epoxy compound (hereinafter referred to as “component (a)”) obtained by further reacting epihalohydrin with the component (b).

先ず、本発明のエポキシ樹脂組成物が硬化剤として含有する(b)成分について説明する。(b)成分は下記式(1)〜(5)で表される化合物の一種以上とヒドロキシベンズアルデヒド類との反応によって得られるフェノール化合物である。   First, (b) component which the epoxy resin composition of this invention contains as a hardening | curing agent is demonstrated. The component (b) is a phenol compound obtained by a reaction between one or more compounds represented by the following formulas (1) to (5) and hydroxybenzaldehydes.

(式(1)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換若しくは無置換のアリール基、水酸基、又は、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。lはRの数を表し、0〜4の整数である。)(In Formula (1), each R 1 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, Or, it represents either a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, l represents the number of R 1 , and is an integer of 0 to 4).

(式(2)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数1〜15の置換または無置換のアルキルカルボニル基、モルホリニルカルボニル基、炭素数2〜10の置換または無置換のアルキルエステル基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、フタルイミド基、ピペロニル基又は水酸基のいずれかを表す。)(In Formula (2), each R 2 is independently present, and is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. 1-15 substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group, morpholinylcarbonyl group, C2-C10 substituted or unsubstituted alkyl ester group, C1-10 substituted or unsubstituted alkoxy group, phthalimide group Represents a piperonyl group or a hydroxyl group.)

式(2)において上記置換基は、カルボニル基、エステル基、アルケニル基、フェニル基、アルコキシ基、エーテル基、フタルイミド基およびピペロニル基からなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。   In the formula (2), the substituent is preferably at least one selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an alkenyl group, a phenyl group, an alkoxy group, an ether group, a phthalimide group, and a piperonyl group.

(式(3)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数0〜10の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数2〜10の置換または無置換のアルキルエステル基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、又は、水酸基、のいずれかを表す。nは炭素数を表し、0、1、2のいずれかの整数を表す。mはRの数を表し、0≦m≦n+2の関係を満たす。)(In Formula (3), each R 3 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 0 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon, Either a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkyl ester group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group. N represents the number of carbon atoms and represents an integer of 0, 1, or 2. m represents the number of R 3 and satisfies the relationship of 0 ≦ m ≦ n + 2.

尚、式中、Rが炭素数0の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基である場合とは、一般式(3)の主骨格であるシクロアルカンを構成する炭素原子を含んでなるカルボニル構造を示し、例えば1,3−シクロペンタンジオン等が挙げられる。
式(3)において上記置換基はエーテル基であることが好ましい。
In the formula, when R 3 is a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 0 carbon atoms, a carbonyl structure containing a carbon atom constituting a cycloalkane which is the main skeleton of the general formula (3) is used. For example, 1,3-cyclopentanedione and the like can be mentioned.
In the formula (3), the substituent is preferably an ether group.

(式(4)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、又は、水酸基のいずれかを表す。)(In formula (4), each R 4 independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. 1 to 10 represents a substituted or unsubstituted alkoxy group or a hydroxyl group.)

(式(5)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜20の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基、又は、水酸基のいずれかを表す。また、nは1〜10の整数である。)(In Formula (5), each R 5 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. It represents either a substituted or unsubstituted alkoxy group of 1 to 10 or a hydroxyl group, and n is an integer of 1 to 10.)

(b)成分を得るために、ヒドロキシベンズアルデヒド類との反応に用いられる式(1)で表される化合物の具体例としては、o−、m−及びp−ヒドロキシアセトフェノンが挙げられる。これらのうち、エポキシ樹脂組成物の硬化物が高い熱伝導性を示すことから、p−ヒドロキシアセトフェノンが好ましい。   Specific examples of the compound represented by the formula (1) used for the reaction with hydroxybenzaldehydes to obtain the component (b) include o-, m- and p-hydroxyacetophenone. Of these, p-hydroxyacetophenone is preferred because the cured product of the epoxy resin composition exhibits high thermal conductivity.

(b)成分を得るために、ヒドロキシベンズアルデヒド類との反応に用いられる式(2)で表される化合物の具体例としては、アセトン、1,3−ジフェニル−2−プロパノン、2−ブタノン、1−フェニル−1,3−ブタンジオン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノン、2−ヘキサノン、3−ヘキサノン、イソアミルメチルケトン、エチルイソブチルケトン、4−メチル−2−ヘキサノン、1,6−ジフェニル−1,6−ヘキサンジオン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−メチル−4−ヘプタノン、5−メチル−3−ヘプタノン、6−メチル−2−ヘプタノン、2,6−ジメチル−4−ヘプタノン、2−オクタノン、3−オクタノン、4−オクタノン、5−メチル−2−オクタノン、2−ノナノン、3−ノナノン、4−ノナノン、5−ノナノン、2−デカノン、3−デカノン、4−デカノン、5−デカノン、2−ウンデカノン、3−ウンデカノン、4−ウンデカノン、5−ウンデカノン、6−ウンデカノン、2−メチル−4−ウンデカノン、2−ドデカノン、3−ドデカノン、4−ドデカノン、5−ドデカノン、6−ドデカノン、2−テトラデカノン、3−テトラデカノン、8−ペンタデカノン、10−ノナデカノン、7−トリデカノン、2−ペンタデカノン、3−ヘキサデカノン、9−ヘプタデカノン、11−ヘンエイコサノン、12−トリコサノン、14−ヘプタコサノン、16−ヘントリアコンタノン、18−ペンタトリアコンタノン、4−エトキシ−2−ブタノン、4−(4−メトキシフェニル)−2−ブタノン、4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノン、4−メトキシフェニルアセトン、メトキシアセトン、フェノキシアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸プロピル、アセト酢酸ブチル、アセト酢酸イソブチル、アセト酢酸sec−ブチル、アセト酢酸tert−ブチル、アセト酢酸3−ペンチル、アセト酢酸アミル、アセト酢酸イソアミル、アセト酢酸ヘキシル、アセト酢酸ヘプチル、アセト酢酸n−オクチル、アセト酢酸ベンジル、アセチルこはく酸ジメチル、アセトニルマロン酸ジメチル、アセトニルマロン酸ジエチル、4−アセチル−5−オキソヘキサン酸エチル、アセト酢酸−2−メトキシエチル、アセト酢酸アリル、4−sec−ブトキシ−2−ブタノン、ベンジルブチルケトン、ビスデメトキシクルクミン、1,1−ジメトキシ−3−ブタノン、1,3−ジアセトキシアセトン、4−ヒドロキシフェニルアセトン、4−(4−ヒドロキシフェニル) −2−ブタノン、イソアミルメチルケトン、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、5−ヘキセン−2−オン、アセトニルアセトン、3,4−ジメトキシフェニルアセトン、ピペロニルメチルケトン、ピペロニルアセトン、フタルイミドアセトン、4−イソプロポキシ−2−ブタノン、4−イソブトキシ−2−ブタノン、アセトキシ−2−プロパノン、N−アセトアセチルモルホリン、1−アセチル−4−ピペリドン、などが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (2) used for the reaction with the hydroxybenzaldehydes to obtain the component (b) include acetone, 1,3-diphenyl-2-propanone, 2-butanone, 1 -Phenyl-1,3-butanedione, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-methyl-2-pentanone, 2-hexanone, 3-hexanone, isoamyl methyl ketone, ethyl isobutyl ketone, 4-methyl-2-hexanone, 1 , 6-diphenyl-1,6-hexanedione, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 2-methyl-4-heptanone, 5-methyl-3-heptanone, 6-methyl-2-heptanone, 2, 6-dimethyl-4-heptanone, 2-octanone, 3-octanone, 4-octanone, 5-methyl-2-octanone, 2 Nonanone, 3-nonanone, 4-nonanone, 5-nonanone, 2-decanone, 3-decanone, 4-decanone, 5-decanone, 2-undecanone, 3-undecanone, 4-undecanone, 5-undecanone, 6-undecanone, 2-methyl-4-undecanone, 2-dodecanone, 3-dodecanone, 4-dodecanone, 5-dodecanone, 6-dodecanone, 2-tetradecanone, 3-tetradecanone, 8-pentadecanone, 10-nonadecanone, 7-tridecanone, 2- Pentadecanone, 3-hexadecanone, 9-heptadecanone, 11-heneicosanone, 12-tricosanone, 14-heptacosanone, 16-hentriacontanone, 18-pentatriacontanone, 4-ethoxy-2-butanone, 4- (4-methoxy Phenyl) -2-butanone, 4 Methoxy-4-methyl-2-pentanone, 4-methoxyphenylacetone, methoxyacetone, phenoxyacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, propyl acetoacetate, butyl acetoacetate, isobutyl acetoacetate, sec-butyl acetoacetate, acetoacetic acid tert-butyl, 3-pentyl acetoacetate, amyl acetoacetate, isoamyl acetoacetate, hexyl acetoacetate, heptyl acetoacetate, n-octyl acetoacetate, benzyl acetoacetate, dimethyl acetylsuccinate, dimethyl acetonylmalonate, acetonylmalon Diethyl acetate, ethyl 4-acetyl-5-oxohexanoate, acetoacetate-2-methoxyethyl, allyl acetoacetate, 4-sec-butoxy-2-butanone, benzylbutylketone, bisdemethoxycurcumin, 1, 1-dimethoxy-3-butanone, 1,3-diacetoxyacetone, 4-hydroxyphenylacetone, 4- (4-hydroxyphenyl) -2-butanone, isoamylmethylketone, 4-hydroxy-2-butanone, 5-hexene 2-one, acetonylacetone, 3,4-dimethoxyphenylacetone, piperonylmethylketone, piperonylacetone, phthalimidoacetone, 4-isopropoxy-2-butanone, 4-isobutoxy-2-butanone, acetoxy- 2-propanone, N-acetoacetylmorpholine, 1-acetyl-4-piperidone, and the like.

(b)成分を得るために、ヒドロキシベンズアルデヒド類との反応に用いられる式(3)で表される化合物の例としては、シクロペンタノン、3−フェニルシクロペンタノン、1,3−シクロペンタンジオン、シクロヘキサノン、3−メチルシクロヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、4−エチルシクロヘキサノン、4−tert−ブチルシクロヘキサノン、4−ペンチルシクロヘキサノン、3−フェニルシクロヘキサノン、4−フェニルシクロヘキサノン、3,3−ジメチルシクロヘキサノン、3,4−ジメチルシクロヘキサノン、3,5−ジメチルシクロヘキサノン、4,4−ジメチルシクロヘキサノン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン、4−シクロヘキサノンカルボン酸エチル、1,4−シクロヘキサンジオンモノエチレンケタール、ビシクロヘキサン−4,4’ −ジオンモノエチレンケタール、1,3−シクロヘキサンジオン、1,4−シクロヘキサンジオン、ジメドン、4,4’ −ビシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、などが挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (3) used for the reaction with hydroxybenzaldehydes to obtain the component (b) include cyclopentanone, 3-phenylcyclopentanone, 1,3-cyclopentanedione. , Cyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, 4-ethylcyclohexanone, 4-tert-butylcyclohexanone, 4-pentylcyclohexanone, 3-phenylcyclohexanone, 4-phenylcyclohexanone, 3,3-dimethylcyclohexanone, 3,4 -Dimethylcyclohexanone, 3,5-dimethylcyclohexanone, 4,4-dimethylcyclohexanone, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, ethyl 4-cyclohexanonecarboxylate, 1,4-cyclohexanedione monoe Renketaru, bicyclohexane-4,4 '- dione monoethylene ketal, 1,3-cyclohexanedione, 1,4-cyclohexanedione, dimedone, 4,4' - bicyclohexanone, cycloheptanone, and the like.

(b)成分を得るために、ヒドロキシベンズアルデヒド類との反応に用いられる式(4)で表される化合物の例としては、ジアセチル、2,3−ペンタンジオン、3,4−ヘキサンジオン、5−メチル−2,3−ヘキサンジオン、2,3−ヘプタンジオン、などが挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (4) used in the reaction with hydroxybenzaldehydes to obtain the component (b) include diacetyl, 2,3-pentanedione, 3,4-hexanedione, 5- And methyl-2,3-hexanedione, 2,3-heptanedione, and the like.

(b)成分を得るために、ヒドロキシベンズアルデヒド類との反応に用いられる式(5)で表される化合物の具体例としては、アセチルアセトン、ジアセト酢酸エチル、2,5−ヘキサンジオン、3−メチル−2,4−ペンタンジオン、3−エチル−2,4−ペンタンジオン、3−ブチル−2,4−ペンタンジオン、3−フェニル−2,4−ペンタンジオン、3−ブチル−2,4−ペンタンジオン、などが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (5) used for the reaction with the hydroxybenzaldehydes in order to obtain the component (b) include acetylacetone, ethyl diacetoacetate, 2,5-hexanedione, 3-methyl- 2,4-pentanedione, 3-ethyl-2,4-pentanedione, 3-butyl-2,4-pentanedione, 3-phenyl-2,4-pentanedione, 3-butyl-2,4-pentanedione , Etc.

(b)成分を得るために、式(1)〜(5)で表される化合物の一種以上との反応に用いられるヒドロキシベンズアルデヒド類としては、例えばo−、m−およびp−ヒドロキシベンズアルデヒドなどが挙げられる。これらは1種のみを使用しても、2種類以上を併用してもよい。これらのうち、エポキシ樹脂組成物の硬化物が特に高い熱伝導性を示すことから、p−ヒドロキシベンズアルデヒドを単独で使用するのが好ましい。   In order to obtain the component (b), the hydroxybenzaldehydes used in the reaction with one or more of the compounds represented by the formulas (1) to (5) include, for example, o-, m-, and p-hydroxybenzaldehyde. Can be mentioned. These may use only 1 type or may use 2 or more types together. Of these, it is preferable to use p-hydroxybenzaldehyde alone because the cured product of the epoxy resin composition exhibits particularly high thermal conductivity.

(b)成分は、酸性条件下もしくは塩基性条件下、式(1)〜(5)で表される化合物の一種以上とヒドロキシベンズアルデヒド類とのアルドール縮合反応によって得られる。
ヒドロキシベンズアルデヒド類は、式(1)で表される化合物1モルに対して1.0〜1.05モル、式(2)〜式(5)で表される化合物1モルに対して2.0〜3.15モルを使用することがそれぞれ好ましい。
The component (b) is obtained by an aldol condensation reaction between one or more of the compounds represented by formulas (1) to (5) and hydroxybenzaldehyde under acidic conditions or basic conditions.
Hydroxybenzaldehyde is 1.0 to 1.05 mol relative to 1 mol of the compound represented by formula (1), and 2.0 mol relative to 1 mol of the compound represented by formula (2) to formula (5). It is preferred to use ˜3.15 moles respectively.

酸性条件下でアルドール縮合反応を行う場合、用い得る酸性触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、複数の種類を併用してもよい。酸性触媒の使用量は、ヒドロキシベンズアルデヒド類1モルに対して0.01〜1.0モル、好ましくは0.2〜0.5モルである。   When the aldol condensation reaction is performed under acidic conditions, examples of the acidic catalyst that can be used include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, and organic acids such as toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, and oxalic acid. These may be used alone or in combination of a plurality of types. The usage-amount of an acidic catalyst is 0.01-1.0 mol with respect to 1 mol of hydroxy benzaldehydes, Preferably it is 0.2-0.5 mol.

一方、塩基性条件下でアルドール縮合反応を行う場合、用い得る塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属塩、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソブチルアミン、ピリジン及びピペリジン等のアミン誘導体、並びにジメチルアミノエチルアルコール及びジエチルアミノエチルアルコール等のアミノアルコール誘導体が挙げられる。塩基性条件の場合も、先に挙げた塩基性触媒を単独で使用してもよく、複数の種類を併用してもよい。塩基性触媒の使用量は、ヒドロキシベンズアルデヒド類1モルに対して0.1〜2.5モル、好ましくは0.2〜2.0モルである。   On the other hand, when the aldol condensation reaction is performed under basic conditions, usable basic catalysts include metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, diethylamine, Examples include amine derivatives such as triethylamine, tributylamine, diisobutylamine, pyridine and piperidine, and amino alcohol derivatives such as dimethylaminoethyl alcohol and diethylaminoethyl alcohol. Also in the case of basic conditions, the basic catalysts listed above may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. The usage-amount of a basic catalyst is 0.1-2.5 mol with respect to 1 mol of hydroxy benzaldehydes, Preferably it is 0.2-2.0 mol.

(b)成分を得る反応では、必要に応じて溶剤を使用してもよい。用い得る溶剤としては、例えばケトン類のようにヒドロキシベンズアルデヒド類との反応性を有するものでなければ特に制限はないが、原料のヒドロキシベンズアルデヒド類を容易に溶解させる点ではアルコール類を溶剤として用いるのが好ましい。   In the reaction to obtain the component (b), a solvent may be used as necessary. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not have reactivity with hydroxybenzaldehydes such as ketones, but alcohols are used as solvents in terms of easily dissolving the raw hydroxybenzaldehydes. Is preferred.

反応温度は通常10〜90℃であり、好ましくは35〜70℃である。反応時間は通常0.5〜10時間であるが、原料化合物の種類によって反応性に差があるため、この限りではない。反応終了後、樹脂として取り出す場合には、反応物を水洗後または水洗無しに、加熱減圧下で反応液から未反応物や溶媒等を除去する。結晶で取り出す場合、大量の水中に反応液を滴下することにより結晶を析出させる。塩基性条件で反応を行った場合は生成した(b)成分が水中に溶け込むこともありうるので、塩酸を加えるなどして中性〜酸性条件にして結晶として析出させる。   The reaction temperature is usually 10 to 90 ° C, preferably 35 to 70 ° C. Although reaction time is 0.5 to 10 hours normally, since there is a difference in reactivity with the kind of raw material compound, it is not this limitation. When taking out as a resin after completion | finish of reaction, an unreacted substance, a solvent, etc. are removed from a reaction liquid under heating and pressure reduction, after washing | cleaning a reaction substance without water washing. When taking out with a crystal | crystallization, a crystal | crystallization is deposited by dripping a reaction liquid in a lot of water. When the reaction is carried out under basic conditions, the produced component (b) may be dissolved in water, so that it is precipitated as crystals under neutral to acidic conditions by adding hydrochloric acid or the like.

次に、本発明のエポキシ樹脂組成物がエポキシ樹脂として含有する(a)成分について説明する。
本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する(a)成分は、上記手法によって得られた(b)成分とエピハロヒドリンとを反応させ、エポキシ化することにより得られる。なお、エポキシ化の際には、(b)成分を1種類のみ使用しても、2種以上を併用してもよい。また、(b)成分に、(b)成分以外のフェノール化合物を併用しても良い。
併用し得る(b)成分以外のフェノール化合物としては、エポキシ樹脂の原料として通常用いられるフェノール化合物であれば特に制限なく用いることができるが、硬化物が高い熱伝導率を有するという本発明の効果が損なわれる恐れがあるので、併用し得るフェノール化合物の使用量は極力少ないことが好ましく、(b)成分のみを用いることが特に好ましい。
(a)成分としては、特に高い熱伝導率有する硬化物が得られることから、ヒドロキシベンズアルデヒド類と式(3)で表される化合物との反応により得られた(b)成分を用いて得られるエポキシ化物が好ましい。
Next, (a) component which the epoxy resin composition of this invention contains as an epoxy resin is demonstrated.
The component (a) contained in the epoxy resin composition of the present invention is obtained by reacting the component (b) obtained by the above method with epihalohydrin and epoxidizing it. In the case of epoxidation, only one type of component (b) may be used or two or more types may be used in combination. Further, a phenol compound other than the component (b) may be used in combination with the component (b).
The phenol compound other than the component (b) that can be used in combination can be used without particular limitation as long as it is a phenol compound that is usually used as a raw material for epoxy resins, but the effect of the present invention that the cured product has high thermal conductivity. Therefore, the amount of the phenol compound that can be used in combination is preferably as small as possible, and it is particularly preferable to use only the component (b).
As the component (a), a cured product having a particularly high thermal conductivity is obtained, and therefore, it is obtained using the component (b) obtained by the reaction of hydroxybenzaldehydes with the compound represented by the formula (3). Epoxidized products are preferred.

(a)成分を得る反応において、エピハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリン、α−メチルエピクロルヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が使用できるが、工業的に入手が容易なエピクロルヒドリンが好ましい。エピハロヒドリンの使用量は、(b)成分の水酸基1モルに対し通常2〜20モル、好ましくは4〜15モルである。   In the reaction for obtaining the component (a), epichlorohydrin, α-methylepichlorohydrin, β-methylepichlorohydrin, epibromohydrin and the like can be used as the epihalohydrin, but epichlorohydrin which is easily available industrially is preferable. The usage-amount of epihalohydrin is 2-20 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of (b) component, Preferably it is 4-15 mol.

エポキシ化反応に使用できるアルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、これらは固形物をそのまま使用しても、あるいはその水溶液を使用してもよい。水溶液を使用する場合は、該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に、減圧下または常圧下で連続的に留出させた水及びエピハロヒドリンの混合液から分液により水を除去し、エピハロヒドリンのみを反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は、(b)成分の水酸基1モルに対して通常0.9〜3.0モル、好ましくは1.0〜2.5モル、より好ましくは1.1〜2.0モルである。   Examples of the alkali metal hydroxide that can be used for the epoxidation reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like, and these may be used as they are, or an aqueous solution thereof may be used. When using an aqueous solution, the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system and separated from a mixture of water and epihalohydrin distilled continuously under reduced pressure or normal pressure. Alternatively, water may be removed and only the epihalohydrin is continuously returned to the reaction system. The amount of alkali metal hydroxide used is usually 0.9 to 3.0 mol, preferably 1.0 to 2.5 mol, more preferably 1.1 to 2 mol per mol of the hydroxyl group of component (b). 0.0 mole.

エポキシ化反応を促進するために、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加することが好ましい。4級アンモニウム塩の使用量としては、(b)成分の水酸基1モルに対し通常0.1〜15gであり、好ましくは0.2〜10gである。   In order to accelerate the epoxidation reaction, it is preferable to add a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst. The amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.1 to 15 g, preferably 0.2 to 10 g, relative to 1 mol of the hydroxyl group of component (b).

また、エポキシ化の際に、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが反応進行上好ましい。   In addition, during the epoxidation, it is preferable for the reaction to proceed by adding an aprotic polar solvent such as alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran and dioxane.

上記アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの使用量に対し通常2〜50質量%、好ましくは4〜20質量%である。また非プロトン性極性溶媒を用いる場合はエピハロヒドリンの使用量に対し通常5〜100質量%、好ましくは10〜80質量%である。   When using the said alcohol, the usage-amount is 2-50 mass% normally with respect to the usage-amount of an epihalohydrin, Preferably it is 4-20 mass%. Moreover, when using an aprotic polar solvent, it is 5-100 mass% normally with respect to the usage-amount of epihalohydrin, Preferably it is 10-80 mass%.

反応温度は通常30〜90℃であり、好ましくは35〜80℃である。反応時間は通常0.5〜10時間であり、好ましくは1〜8時間である。
反応終了後、反応物を水洗後、または水洗無しに加熱減圧下で反応液からエピハロヒドリンや溶媒等を除去する。また(a)成分中に含まれる加水分解性ハロゲンの量をさらに低減させるために、回収した(a)成分をトルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行なっても良い。かかる操作を行なうことで閉環を確実なものにすることができる。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量は、(b)成分の水酸基1モルに対して通常0.01〜0.3モル、好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。
The reaction temperature is usually 30 to 90 ° C, preferably 35 to 80 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours.
After completion of the reaction, the reaction product is washed with water or without washing with water, and the epihalohydrin, the solvent and the like are removed from the reaction solution under heating and reduced pressure. In order to further reduce the amount of hydrolyzable halogen contained in the component (a), the recovered component (a) is dissolved in a solvent such as toluene and methyl isobutyl ketone, and sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. You may react by adding the aqueous solution of an alkali metal hydroxide. By performing such an operation, the ring closure can be ensured. In this case, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.01-0.3 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of (b) component, Preferably it is 0.05-0.2 mol. The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.

反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下で溶剤を留去することにより(a)成分が得られる。また、(a)成分が結晶として析出する場合は、大量の水に生成した塩を溶解した後に、(a)成分の結晶を濾取してもよい。   After completion of the reaction, the produced salt is removed by filtration, washing with water, etc., and the solvent is distilled off under heating and reduced pressure to obtain component (a). In addition, when the component (a) is precipitated as crystals, the crystals of the component (a) may be filtered out after dissolving a salt generated in a large amount of water.

以下、本発明のエポキシ樹脂組成物について記載する。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と硬化剤と熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材とを含み、且つ、エポキシ樹脂としての(a)成分及び硬化剤としての(b)成分の少なくともどちらか1つを必須成分として含有する。
Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be described.
The epoxy resin composition of the present invention comprises an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more, and (a) component as an epoxy resin and (b) as a curing agent. At least one of the components is contained as an essential component.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂である(a)成分は単独でまたは他のエポキシ樹脂(以下、「(a’)成分」という)と併用して使用することが出来る。   In the epoxy resin composition of the present invention, the component (a) which is an epoxy resin can be used alone or in combination with another epoxy resin (hereinafter referred to as “component (a ′)”).

(a’)成分の具体例としては、ビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビフェノール、ビスフェノールAD及びビスフェノールI等)やフェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン及びジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒド(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド及びシンナムアルデヒド等)との重縮合物、キシレン等の芳香族化合物とホルムアルデヒドの重縮合物とフェノール類との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物(ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン及びイソプレン等)との重縮合物、フェノール類とケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン及びベンゾフェノン等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類(ベンゼンジメタノール及びビフェニルジメタノール等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類(α,α’−ジクロロキシレン及びビスクロロメチルビフェニル等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ビスアルコキシメチル類(ビスメトキシメチルベンゼン、ビスメトキシメチルビフェニル及びビスフェノキシメチルビフェニル等)との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、並びにアルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられるが、通常用いられるエポキシ樹脂であればこれらに限定されるものではない。これらは、1種類のみ使用しても、2種以上を併用してもよい。
(a’)成分を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全エポキシ樹脂成分に占める(a)成分の割合は30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましく、特に好ましくは100質量%((a’)成分を併用しない場合)である。ただし、(a)成分をエポキシ樹脂組成物の改質剤として使用する場合は、全エポキシ樹脂中で1〜30質量%となる割合で添加する。
Specific examples of the component (a ′) include bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, bisphenol I, etc.) and phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, aromatic-substituted phenol, naphthol, alkyl). Substituted naphthol, dihydroxybenzene, alkyl-substituted dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkylaldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalaldehyde, crotonaldehyde, cinnamaldehyde, etc. ), Polycondensates of xylene and other aromatic compounds with formaldehyde Polyphenols and phenols, phenols and various diene compounds (dicyclopentadiene, terpenes, vinylcyclohexene, norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenylbiphenyl, butadiene, isoprene, etc.) Polycondensates, phenols and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone, etc.), phenols and aromatic dimethanols (benzene dimethanol, biphenyl dimethanol, etc.) Polycondensates, phenols and aromatic dichloromethyls (such as α, α'-dichloroxylene and bischloromethylbiphenyl), phenols and aromatic bisalkoxymethyls ( Polycondensates with smethoxymethylbenzene, bismethoxymethylbiphenyl, bisphenoxymethylbiphenyl, etc.), polycondensates of bisphenols and various aldehydes, and glycidyl ether epoxy resins and alicyclic epoxies obtained by glycidylation of alcohols, etc. Resins, glycidylamine epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, and the like can be mentioned, but are not limited thereto as long as they are usually used epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more.
When the component (a ′) is used in combination, the proportion of the component (a) in the total epoxy resin component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and 70% by mass. The above is more preferable, and particularly preferable is 100% by mass (when the component (a ′) is not used in combination). However, when using (a) component as a modifier of an epoxy resin composition, it adds in the ratio used as 1-30 mass% in all the epoxy resins.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、硬化剤である(b)成分は単独でまたは他の硬化剤と併用して使用することができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する他の硬化剤(以下、「(b’)成分」という)としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物及びフェノール系化合物等が挙げられる。これら(b’)成分の具体例を下記(a)〜(e)に示す。
(a)アミン系化合物
ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン及びナフタレンジアミン等
(b)酸無水物系化合物
無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸等
(c)アミド系化合物
ジシアンジアミド、若しくはリノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂等、
In the epoxy resin composition of the present invention, the component (b), which is a curing agent, can be used alone or in combination with other curing agents.
Examples of other curing agents (hereinafter referred to as “component (b ′)”) contained in the epoxy resin composition of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, and phenol compounds. It is done. Specific examples of these components (b ′) are shown in the following (a) to (e).
(A) Amine-based compounds Diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, naphthalenediamine, etc. (b) Acid anhydride-based compounds Phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride , Tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc. (c) Amide compounds Dicyandiamide or linolenic acid dimer and ethylenediamine Polyamide resin, etc.

(d)フェノール系化合物
多価フェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’−テトラメチル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン及び1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等);フェノール類(例えば、フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン及びジヒドロキシナフタレン等)と、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド及びフルフラール等)、ケトン類(p−ヒドロキシアセトフェノン及びo−ヒドロキシアセトフェノン等)、若しくはジエン類(ジシクロペンタジエン及びトリシクロペンタジエン等)との縮合により得られるフェノール樹脂;前記フェノール類と、置換ビフェニル類(4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル及び4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル等)、若しくは置換フェニル類(1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン及び1,4−ビス(ヒドロキシメチル)ベンゼン等)等との重縮合により得られるフェノール樹脂;前記フェノール類及び/又は前記フェノール樹脂の変性物;テトラブロモビスフェノールA及び臭素化フェノール樹脂等のハロゲン化フェノール類
(e)その他イミダゾール類、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体
(D) Phenol compounds Polyphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,2′-dihydroxybiphenyl, 3,3 ′, 5, 5'-tetramethyl- (1,1'-biphenyl) -4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane and 1,1,2,2-tetrakis (4 -Hydroxyphenyl) ethane and the like; phenols (eg, phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene and dihydroxynaphthalene) and aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydro) Phenolic resins obtained by condensation with xybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, furfural, etc.), ketones (p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, etc.), or dienes (dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, etc.); Phenols and substituted biphenyls (such as 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl and 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl), or substituted phenyls ( Phenol resins obtained by polycondensation with 1,4-bis (chloromethyl) benzene, 1,4-bis (methoxymethyl) benzene, 1,4-bis (hydroxymethyl) benzene and the like; Or a modified product of the phenol resin; Lumpur A and halogenated phenols such as brominated phenol resin (e) Other imidazoles, BF 3 - amine complex, guanidine derivatives

これら(b’)成分の中ではジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン及びナフタレンジアミンなどのアミン系化合物、並びにカテコールとアルデヒド類、ケトン類、ジエン類、置換ビフェニル類又は置換フェニル類との縮合物などが好ましい。これらの成分が活性水素基同士が隣接している構造を有すためであり、これによりエポキシ樹脂が良好に配列される。例えば、カテコールとの縮合物の場合、熱硬化により反応する水酸基が互いにオルト位にあるため、並列的に並んだように重合する。一方、アミンでは熱硬化の際に反応する水素基が窒素原子を介して並列的に並んでいるので、当該場合も並列的に並んだように重合する。
(b’)成分は単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。
(b’)成分を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全硬化剤成分に占める(b)成分の割合は20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましく、特に好ましくは100質量%((b’)成分を併用しない場合)である。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、(b)成分を含む全硬化剤の使用量は、全エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜2.0当量が好ましく、0.6〜1.5当量が特に好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物としては、エポキシ樹脂として(a)成分を100質量%使用し、硬化剤として(b)成分を100質量%使用する場合が最も好ましい。
Among these components (b ′), amine compounds such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and naphthalenediamine, and condensates of catechol and aldehydes, ketones, dienes, substituted biphenyls or substituted phenyls are preferable. . This is because these components have a structure in which active hydrogen groups are adjacent to each other, whereby the epoxy resin is well arranged. For example, in the case of a condensate with catechol, since the hydroxyl groups that react by thermosetting are in the ortho positions, they are polymerized so as to be arranged in parallel. On the other hand, in the case of amines, hydrogen groups that react during thermosetting are arranged in parallel via nitrogen atoms, and in this case, polymerization is performed so that they are also arranged in parallel.
Component (b ′) may be used alone or in combination.
When the component (b ′) is used in combination, the proportion of the component (b) in the total curing agent component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and 70% by mass. The above is more preferable, and particularly preferable is 100% by mass (when the component (b ′) is not used in combination).
In the epoxy resin composition of the present invention, the use amount of the total curing agent including the component (b) is preferably 0.5 to 2.0 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy groups of all epoxy resins, and 0.6 to 1 .5 equivalents are particularly preferred.
As the epoxy resin composition of the present invention, it is most preferable to use 100% by mass of component (a) as an epoxy resin and 100% by mass of component (b) as a curing agent.

本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する無機充填材は、エポキシ樹脂組成物の硬化物に、より高い熱伝導率を付与する目的で加えられるもので、無機充填材自体の熱伝導率が低すぎる場合には、エポキシ樹脂と硬化剤の組み合わせにより得られた高熱伝導率が損なわれる恐れがある。従って、本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する無機充填材としては、熱伝導率が高いものほど好ましく、通常20W/m・K以上、好ましくは30W/m・K以上、より好ましくは50W/m・K以上の熱伝導率を有するものであれば何ら制限はない。尚、ここでいう熱伝導率とは、ASTM E1530に準拠した方法で測定した値である。この様な特性を有する無機充填材の具体例としては、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン、酸化亜鉛、炭化タングステン、アルミナ、酸化マグネシウム等の無機粉末充填材、合成繊維、セラミックス繊維等の繊維質充填材、着色剤等が挙げられる。これら無機充填材の形状は、粉末(塊状、球状)、単繊維、長繊維等いずれであってもよいが、特に、平板状のものであれば、無機充填材自身の積層効果によって硬化物の熱伝導性がより高くなり、硬化物の放熱性が更に向上するので好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物における無機充填材の使用量は、エポキシ樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して通常2〜1000質量部、好ましくは400〜1000質量部であるが、熱伝導率を出来るだけ高める為には、本発明のエポキシ樹脂組成物の具体的な用途における取り扱い等に支障を来たさない範囲で、可能な限り無機充填材の使用量を増やすことが好ましい。これら無機充填材は1種のみを使用しても、2種類以上を併用してもよい。
The inorganic filler contained in the epoxy resin composition of the present invention is added for the purpose of imparting higher thermal conductivity to the cured product of the epoxy resin composition, and the thermal conductivity of the inorganic filler itself is too low. In some cases, the high thermal conductivity obtained by the combination of the epoxy resin and the curing agent may be impaired. Therefore, as the inorganic filler contained in the epoxy resin composition of the present invention, the one having higher thermal conductivity is preferable, usually 20 W / m · K or more, preferably 30 W / m · K or more, more preferably 50 W / m. -There is no restriction as long as it has a thermal conductivity of K or higher. In addition, heat conductivity here is the value measured by the method based on ASTM E1530. Specific examples of inorganic fillers having such characteristics include inorganic powder fillers such as boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, titanium nitride, zinc oxide, tungsten carbide, alumina, magnesium oxide, synthetic fibers, Examples thereof include fibrous fillers such as ceramic fibers, and coloring agents. The shape of these inorganic fillers may be any of powder (bulk shape, spherical shape), single fiber, long fiber, etc. However, in particular, if it is a flat plate, the cured product is cured by the lamination effect of the inorganic filler itself. This is preferable because the thermal conductivity becomes higher and the heat dissipation of the cured product is further improved.
Although the usage-amount of the inorganic filler in the epoxy resin composition of this invention is 2-1000 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin components in an epoxy resin composition, Preferably it is 400-1000 mass parts, but is heat conduction. In order to increase the rate as much as possible, it is preferable to increase the amount of the inorganic filler as much as possible within a range that does not hinder the handling of the epoxy resin composition of the present invention in a specific application. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

また、充填材全体としての熱伝導率を20W/m・K以上に維持できる範囲であれば、熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材に熱伝導率が20W/m・K以下の充填材を併用しても構わないが、出来るだけ熱伝導率の高い硬化物を得るという本発明の目的からして、熱伝導率が20W/m・K以下の充填材の使用は最小限に留めるべきである。併用し得る充填材の種類や形状に特に制限はない。   Further, if the thermal conductivity of the entire filler can be maintained at 20 W / m · K or more, the thermal conductivity of the inorganic filler with 20 W / m · K or more is 20 W / m · K or less. However, in order to obtain a cured product having as high a thermal conductivity as possible, the use of a filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or less is minimal. Should be kept on. There is no particular limitation on the type and shape of the filler that can be used in combination.

本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止用途に用いる場合ならびにプリプレグ用途に用いる場合には、硬化物の耐熱性、耐湿性、力学的性質などの点から、エポキシ樹脂組成物中において60〜93質量%を占める割合で熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材使用するのが好ましい。この場合、残部はエポキシ樹脂成分、硬化剤成分及びその他必要に応じて添加される添加剤であり、添加剤としては併用しうる他の無機充填材や後述する硬化促進剤等である。   When the epoxy resin composition of the present invention is used for semiconductor sealing applications and prepreg applications, it is 60 to 93 in the epoxy resin composition from the viewpoint of heat resistance, moisture resistance, mechanical properties, etc. of the cured product. It is preferable to use an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more in a proportion of mass%. In this case, the balance is an epoxy resin component, a curing agent component, and other additives that are added as necessary. Examples of the additive include other inorganic fillers that can be used in combination and a curing accelerator that will be described later.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂としての(a)成分及び硬化剤としての(b)成分の少なくともどちらか1つを必須成分として含有していればよく、上記で説明した態様以外に、エポキシ樹脂(特に限定されないが、例えば上記(a’)成分が好ましい)と(b)成分と(c)成分とを含む組成物、あるいは(a)成分と硬化剤(特に限定されないが、例えば上記(b’)成分が好ましい)と(c)成分とを含む組成物であっても、その硬化物は(a)成分と(b)成分と(c)成分とを含む組成物と同様に優れた熱伝導性を有する。   The epoxy resin composition of the present invention may contain at least one of the component (a) as an epoxy resin and the component (b) as a curing agent as an essential component. An epoxy resin (not particularly limited, for example, the component (a ′) is preferred) and a component (b) and a component (c), or a component (a) and a curing agent (not particularly limited, Even if it is a composition containing said (b ') component and (c) component, the hardened | cured material is the same as the composition containing (a) component, (b) component, and (c) component. Excellent thermal conductivity.

本発明のエポキシ樹脂組成物には硬化促進剤を含有させることもできる。使用できる硬化促進剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール及び2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエチレンジアミン、トリエタノールアミン及び1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン及びトリブチルホスフィン等の有機ホスフィン類、オクチル酸スズなどの金属化合物、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート及びテトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート及びN−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩などが挙げられる。硬化促進剤は、エポキシ樹脂100質量部に対して0.01〜15質量部が必要に応じ用いられる。   The epoxy resin composition of the present invention may contain a curing accelerator. Examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, triethylenediamine, Tertiary amines such as triethanolamine and 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, organic phosphines such as triphenylphosphine, diphenylphosphine and tributylphosphine, metal compounds such as tin octylate, Tetrasubstituted phosphonium tetrasubstituted borates such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and tetraphenylphosphonium ethyltriphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate and N Such as tetraphenyl boron salts such methylmorpholine tetraphenylborate and the like. 0.01-15 mass parts is used for a hardening accelerator as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resins.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてシランカップリング剤、離型剤及び顔料等種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂並びに各種熱可塑性樹脂等を添加することができる。熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の具体例としては、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、マレイミド樹脂、シアナート樹脂、イソシアナート化合物、ベンゾオキサジン化合物、ビニルベンジルエーテル化合物、ポリブタジエンおよびこの変性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、インデン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ジシクロペンタジエン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂は本発明のエポキシ樹脂組成物中において60質量%以下を占める量が用いられる。   If necessary, various compounding agents such as a silane coupling agent, a release agent and a pigment, various thermosetting resins, various thermoplastic resins, and the like can be added to the epoxy resin composition of the present invention. Specific examples of thermosetting resins and thermoplastic resins include vinyl ester resins, unsaturated polyester resins, maleimide resins, cyanate resins, isocyanate compounds, benzoxazine compounds, vinyl benzyl ether compounds, polybutadiene and its modified products, and acrylonitrile. Examples include modified polymers, indene resins, fluororesins, silicone resins, polyetherimides, polyethersulfones, polyphenylene ethers, polyacetals, polystyrenes, polyethylenes, and dicyclopentadiene resins. The thermosetting resin or thermoplastic resin is used in an amount occupying 60% by mass or less in the epoxy resin composition of the present invention.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成分を均一に混合することにより得られ、その好ましい用途としては半導体封止材やプリント配線版等が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は従来知られているのと同様の方法で容易にその硬化物とすることが出来る。本発明の硬化物の形成は、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤及び熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材、並びに必要により硬化促進剤、配合剤、各種熱硬化性樹脂や各種熱可塑性樹脂等を、押出機、ニーダ又はロール等を用いて均一になるまで充分に混合してエポキシ樹脂組成物を得た後、該エポキシ樹脂組成物を溶融注型法、トランスファー成型法、インジェクション成型法あるいは圧縮成型法などによって成型し、次いでその融点以上で2〜10時間加熱することにより行なうことができる。本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止用途に用いる場合には、上記の方法でリードフレーム等に搭載された半導体素子を封止すればよい。
The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above-mentioned components, and preferred applications thereof include semiconductor encapsulants and printed wiring boards.
The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by the same method as conventionally known. Formation of the cured product of the present invention includes, for example, an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more, and, if necessary, a curing accelerator, a compounding agent, various thermosetting resins, and various heat. After thoroughly mixing a plastic resin or the like with an extruder, kneader, or roll until it becomes uniform to obtain an epoxy resin composition, the epoxy resin composition is melt-cast, transfer molding, injection molding It can be carried out by molding by the method or compression molding method and then heating for 2 to 10 hours above its melting point. When the epoxy resin composition of the present invention is used for semiconductor sealing applications, the semiconductor element mounted on a lead frame or the like may be sealed by the above method.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物は溶剤を含むワニスとすることもできる。該ワニスは、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤及び熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材、並びに必要に応じてその他の成分を含む混合物を、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のエステル類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ及びソルベントナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤と混合することにより得ることが出来る。溶剤の量はワニス全体に対し通常10〜95質量%、好ましくは15〜85質量%である。
上記のようにして得られるワニスをガラス繊維、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維及び紙などのシート状の繊維基材に含浸させた後に加熱によって溶剤を除去すると共に、該ワニスを半硬化状態とすることにより、本発明のプリプレグを得ることが出来る。尚、ここで言う「半硬化状態」とは、反応性の官能基であるエポキシ基が一部未反応で残っている状態を意味する。該プリプレグを熱プレス成型して硬化物を得ることが出来る。
Moreover, the epoxy resin composition of this invention can also be made into the varnish containing a solvent. The varnish includes, for example, a mixture containing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more, and other components as necessary, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl. Ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, N, N′-dimethylformamide, N, N′-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl Glycol ethers such as ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cello Rub acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, esters such as dialkyl glutarate, dialkyl succinate, dialkyl adipate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum It can be obtained by mixing with an organic solvent such as a petroleum solvent such as naphtha and solvent naphtha. The amount of the solvent is usually 10 to 95% by mass, preferably 15 to 85% by mass with respect to the whole varnish.
The varnish obtained as described above is impregnated into a sheet-like fiber base material such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber and paper, and then the solvent is removed by heating, and the varnish is half-finished. By setting it to a cured state, the prepreg of the present invention can be obtained. Here, the “semi-cured state” means a state in which an epoxy group which is a reactive functional group partially remains unreacted. The prepreg can be hot press molded to obtain a cured product.

以下、本発明を実施例で更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。合成例、実施例、比較例において部は質量部を意味する。なお、エポキシ当量、融点、熱伝導率は以下の条件で測定した。
・エポキシ当量
JIS K−7236に記載された方法で測定し、単位はg/eq.である。
・融点
Seiko Instruments Inc.製 EXSTAR6000
測定試料 2mg〜5mg 昇温速度 10℃/min.
・熱伝導率
ASTM E1530に準拠した方法で測定
・水酸基当量
JIS K−0070に記載の方法に準拠した方法で測定し、単位はg/eq.である。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples. In the synthesis examples, examples, and comparative examples, “part” means “part by mass”. The epoxy equivalent, melting point, and thermal conductivity were measured under the following conditions.
-Epoxy equivalent Measured by the method described in JIS K-7236, the unit is g / eq. It is.
Melting point Seiko Instruments Inc. EXSTAR6000 made
Measurement sample 2 mg to 5 mg Temperature rising rate 10 ° C./min.
-Thermal conductivity Measured by a method based on ASTM E1530-Hydroxyl equivalent Measured by a method based on the method described in JIS K-0070, and the unit is g / eq. It is.

合成例1
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、p−ヒドロキシアセトフェノン136部、p−ヒドロキシベンズアルデヒド124部およびエタノール300部を仕込み、溶解した。これに97%硫酸51.0部を添加後60℃まで昇温し、この温度で8時間反応後、反応液を水1200部に注入し、晶析させた。結晶を濾別後、水600部で2回水洗し、その後真空乾燥し、赤褐色結晶のフェノール化合物1を220部得た。得られた結晶の融点はDSC測定により203℃であった。
Synthesis example 1
In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 136 parts of p-hydroxyacetophenone, 124 parts of p-hydroxybenzaldehyde and 300 parts of ethanol were charged and dissolved. After 51.0 parts of 97% sulfuric acid was added thereto, the temperature was raised to 60 ° C., and after reaction at this temperature for 8 hours, the reaction solution was poured into 1200 parts of water for crystallization. The crystals were separated by filtration, washed twice with 600 parts of water, and then vacuum-dried to obtain 220 parts of phenol compound 1 as reddish brown crystals. The melting point of the obtained crystal was 203 ° C. by DSC measurement.

合成例2
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、アセトン29部、p−ヒドロキシベンズアルデヒド124gおよびエタノール300部を仕込み、溶解した。これに50%水酸化ナトリウム水溶液80部を添加後45℃まで昇温し、この温度で120時間反応後、反応液を1.5N塩酸800mLに注入し、晶析させた。結晶を濾別後、水600部で2回水洗し、その後真空乾燥し、黄色結晶のフェノール化合物2を210部得た。得られた結晶の融点はDSC測定により101℃であった。
Synthesis example 2
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 29 parts of acetone, 124 g of p-hydroxybenzaldehyde, and 300 parts of ethanol and dissolved. After adding 80 parts of 50% aqueous sodium hydroxide solution to this, the temperature was raised to 45 ° C., and after reacting at this temperature for 120 hours, the reaction solution was poured into 800 mL of 1.5N hydrochloric acid for crystallization. The crystals were separated by filtration, washed twice with 600 parts of water, and then vacuum-dried to obtain 210 parts of phenol compound 2 as yellow crystals. The melting point of the obtained crystal was 101 ° C. by DSC measurement.

合成例3
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、シクロヘキサノン49部、p−ヒドロキシベンズアルデヒド124部およびエタノール250部を仕込み、溶解した。これに37%塩酸25部を添加後60℃まで昇温し、この温度で10時間反応後、反応液を水1000部に注入し、晶析させた。結晶を濾別後、水800部で2回水洗し、その後真空乾燥し、黄色結晶のフェノール化合物3を210部得た。得られた結晶の融点はDSC測定により289℃であった。
Synthesis example 3
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 49 parts of cyclohexanone, 124 parts of p-hydroxybenzaldehyde and 250 parts of ethanol and dissolved. After adding 25 parts of 37% hydrochloric acid to this, the temperature was raised to 60 ° C., and after reacting at this temperature for 10 hours, the reaction solution was poured into 1000 parts of water for crystallization. The crystals were separated by filtration, washed twice with 800 parts of water, and then vacuum-dried to obtain 210 parts of phenol compound 3 as yellow crystals. The melting point of the obtained crystal was 289 ° C. by DSC measurement.

合成例4
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに窒素パージを施しながら、合成例1で得られたフェノール化合物1を120部、エピクロルヒドリン925部、ジメチルスルホキシド(DMSO)139部を加え、撹拌下、45℃にまで昇温し、溶解し、フレーク状の水酸化ナトリウム40部を90分間かけて分割添加した後、45℃のまま1.5時間、その後70℃に昇温し30分間反応を行なった。反応終了後、ロータリーエバポレーターを用いて70℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤を800部留去した。残留物を水1500部に注入し結晶を析出させた。結晶を濾過後、600部のメタノールで洗浄し、その後70℃で真空乾燥することでエポキシ樹脂1を166部得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は200g/eq.、融点はDSCで108℃であった。
Synthesis example 4
While purging a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer with nitrogen purge, add 120 parts of the phenol compound 1 obtained in Synthesis Example 1, 925 parts of epichlorohydrin, and 139 parts of dimethyl sulfoxide (DMSO). The solution was heated to 45 ° C., dissolved, and 40 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and then kept at 45 ° C. for 1.5 hours, then heated to 70 ° C. and reacted for 30 minutes. I did it. After completion of the reaction, 800 parts of excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 70 ° C. using a rotary evaporator. The residue was poured into 1500 parts of water to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed with 600 parts of methanol, and then vacuum dried at 70 ° C. to obtain 166 parts of epoxy resin 1. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 200 g / eq. The melting point was 108 ° C. by DSC.

合成例5
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに窒素パージを施しながら、合成例2で得られたフェノール化合物2を133部、エピクロルヒドリン925部、DMSO139部を加え、撹拌下、45℃まで昇温し、溶解し、フレーク状の水酸化ナトリウム40部を90分間かけて分割添加した後、45℃のまま1.5時間、その後70℃に昇温し30分間反応を行なった。反応終了後、ロータリーエバポレーターを用いて70℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤を800部留去した。残留物を水1500部に注入し結晶を析出させた。結晶を濾過後600部のメタノールで洗浄し、その後70℃で真空乾燥することでエポキシ樹脂2を180部得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は220g/eq.、融点はDSCで117℃であった。
Synthesis example 5
While purging a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer with nitrogen purge, add 133 parts of phenol compound 2 obtained in Synthesis Example 2, 925 parts of epichlorohydrin, and 139 parts of DMSO, and rise to 45 ° C. with stirring. After warming, dissolving, and adding 40 parts of flaky sodium hydroxide over 90 minutes, the reaction was continued at 45 ° C for 1.5 hours, then heated to 70 ° C and reacted for 30 minutes. After completion of the reaction, 800 parts of excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 70 ° C. using a rotary evaporator. The residue was poured into 1500 parts of water to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed with 600 parts of methanol, and then vacuum dried at 70 ° C. to obtain 180 parts of epoxy resin 2. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 220 g / eq. The melting point was 117 ° C. by DSC.

合成例6
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに窒素パージを施しながら、合成例3で得られたフェノール化合物3を153部、エピクロルヒドリン925部、DMSO139部を加え、撹拌下、45℃にまで昇温し、溶解し、フレーク状の水酸化ナトリウム40部を90分間かけて分割添加した後、45℃のまま1.5時間、その後70℃に昇温し30分間反応を行なった。反応終了後、ロータリーエバポレーターを用いて70℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤を800部留去した。残留物を水1500部に注入し結晶を析出させた。結晶を濾過後600部のメタノールで洗浄し、その後70℃で真空乾燥することでエポキシ樹脂3を199部得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は219g/eq.、融点はDSCで145℃であった。
Synthesis Example 6
While purging a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer with nitrogen purge, add 153 parts of the phenol compound 3 obtained in Synthesis Example 3, 925 parts of epichlorohydrin, and 139 parts of DMSO, and stir to 45 ° C. The mixture was heated and dissolved, and 40 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the reaction was continued at 45 ° C. for 1.5 hours and then at 70 ° C. for 30 minutes. After completion of the reaction, 800 parts of excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 70 ° C. using a rotary evaporator. The residue was poured into 1500 parts of water to precipitate crystals. The crystals were filtered, washed with 600 parts of methanol, and then vacuum dried at 70 ° C. to obtain 199 parts of epoxy resin 3. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 219 g / eq. The melting point was 145 ° C. by DSC.

実施例1〜3および比較例1〜3
各種成分を表1の割合(部)で配合し、ミキシングロールによる混練とそれに続くタブレット化の後、トランスファー成形で樹脂成型体を調製した。次いで、該樹脂成型体を160℃で2時間、更に180℃で8時間加熱することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物及び比較用樹脂組成物の硬化物を得た。これら硬化物の熱伝導率を測定した結果を表1に示した。
Examples 1-3 and Comparative Examples 1-3
Various components were blended in the proportions (parts) shown in Table 1, and after kneading with a mixing roll and subsequent tableting, a resin molded body was prepared by transfer molding. Next, the resin molded body was heated at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours to obtain a cured product of the epoxy resin composition of the present invention and the comparative resin composition. The results of measuring the thermal conductivity of these cured products are shown in Table 1.

エポキシ樹脂4:下記式(6)及び(7)で表されるエポキシ樹脂を等モル含有するビフェニル型エポキシ樹脂(商品名:YL−6121H ジャパンエポキシレジン製 エポキシ当量175g/eq.)   Epoxy resin 4: Biphenyl type epoxy resin containing an equimolar amount of the epoxy resin represented by the following formulas (6) and (7) (trade name: YL-6121H made by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent of 175 g / eq.)

硬化剤1:1,5−ナフタレンジアミン(東京化成工業製、アミン当量40g/eq.)
無機充填材1:球状アルミナ(商品名:DAW−100 電気化学工業製、熱伝導率38W/m・K)
無機充填材2:窒化ホウ素(商品名:SGP 電気化学工業製、熱伝導率60W/m・K)
無機充填材3:溶融シリカ(商品名:MSR2212 龍森製、熱伝導率1.38W/m・K)
Curing agent 1: 1,5-naphthalenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry, amine equivalent 40 g / eq.)
Inorganic filler 1: spherical alumina (trade name: DAW-100, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 38 W / m · K)
Inorganic filler 2: Boron nitride (trade name: SGP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 60 W / m · K)
Inorganic filler 3: fused silica (trade name: MSR2212, made by Tatsumori, thermal conductivity 1.38 W / m · K)

実施例4
ジメチルホルムアミド1000部に合成例6で得られたエポキシ樹脂3を100部添加し、さらにこれを70℃で溶解させた後、室温に戻した。
ジメチルホルムアミド48部に硬化剤である1,5−ナフタレンジアミン(東京化成製、アミン当量40g/eq.)18部を70℃で溶解させた後、室温に戻した。上記のエポキシ樹脂溶液と硬化剤溶液を、撹拌羽タイプのホモミキサで混合・撹拌して均一なワニスにし、さらに無機充填材(商品名:SGP 電気化学工業製、熱伝導率60W/m・K)224部(樹脂固形分100体積部に対し50体積部)、およびジメチルホルムアミド100部を加えて混合・撹拌し、本発明のエポキシ樹脂組成物を調製した。
このエポキシ樹脂組成物のワニスを、厚さ0.2mmのガラス繊維織布(商品名:7628/AS890AW 旭シュエーベル製)に含浸させ、加熱乾燥してプリプレグを得た。このプリプレグ4枚とその両側に配した銅箔を重ね合わせた後、温度175℃、圧力4MPaの条件で90分間加熱加圧成型して一体化し、厚さ0.8mmの積層板を得た。この積層板の熱伝導率を測定したところ、4.8W/m・Kであった。
Example 4
100 parts of the epoxy resin 3 obtained in Synthesis Example 6 was added to 1000 parts of dimethylformamide, and this was dissolved at 70 ° C., and then returned to room temperature.
In 48 parts of dimethylformamide, 18 parts of 1,5-naphthalenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry, amine equivalent 40 g / eq.) As a curing agent was dissolved at 70 ° C., and then returned to room temperature. The above epoxy resin solution and the curing agent solution are mixed and stirred with a stirring blade type homomixer to make a uniform varnish, and further an inorganic filler (trade name: SGP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 60 W / m · K) 224 parts (50 parts by volume with respect to 100 parts by volume of resin solid content) and 100 parts of dimethylformamide were added and mixed and stirred to prepare the epoxy resin composition of the present invention.
The varnish of this epoxy resin composition was impregnated into a 0.2 mm thick glass fiber woven fabric (trade name: 7628 / AS890AW, manufactured by Asahi Schwer) and dried by heating to obtain a prepreg. After the four prepregs and the copper foils arranged on both sides thereof were superposed, they were integrated by heating and pressing for 90 minutes under the conditions of a temperature of 175 ° C. and a pressure of 4 MPa to obtain a laminate having a thickness of 0.8 mm. The thermal conductivity of the laminate was measured and found to be 4.8 W / m · K.

比較例4
実施例4におけるエポキシ樹脂3をエポキシ樹脂4(YL−6121H)100部に、1,5−ナフタレンジアミンの量を23部に、無機充填材の量を234部にそれぞれ変更したこと以外は実施例4と同様の操作手順により積層板を得た。この積層板の熱伝導率を測定したところ、3.6W/m・Kであった。
Comparative Example 4
Example 4 except that the epoxy resin 3 in Example 4 was changed to 100 parts of epoxy resin 4 (YL-6121H), the amount of 1,5-naphthalenediamine was changed to 23 parts, and the amount of inorganic filler was changed to 234 parts. A laminate was obtained by the same operation procedure as in No. 4. The heat conductivity of this laminate was measured and found to be 3.6 W / m · K.

実施例5
各種成分を表2の割合(部)で配合し、十分に混合した後に型に直接入れ、175℃で加圧成型することにより樹脂成型体を調製した。次いで、該樹脂成型体を160℃で2時間、更に180℃で8時間加熱することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物を得た。この硬化物の熱伝導率を測定した結果を表2に示した。
Example 5
Various components were blended in the proportions (parts) shown in Table 2, mixed well, then directly put into a mold, and pressure molded at 175 ° C. to prepare a resin molded body. Subsequently, the cured product of the epoxy resin composition of the present invention was obtained by heating the resin molding at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours. The results of measuring the thermal conductivity of the cured product are shown in Table 2.

実施例6〜8および比較例5〜7
各種成分を表2の割合(部)で配合し、ミキシングロールによる混練とそれに続くタブレット化の後、トランスファー成形で樹脂成型体を調製した。次いで、該樹脂成型体を160℃で2時間、更に180℃で8時間加熱することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物及び比較用樹脂組成物の硬化物を得た。これら硬化物の熱伝導率を測定した結果を表2に示した。尚、表2におけるエポキシ樹脂3、硬化剤1、無機充填材1及び2は実施例1〜3で用いたものと同じである。
Examples 6-8 and Comparative Examples 5-7
Various components were blended in the proportions (parts) shown in Table 2, and after kneading with a mixing roll and subsequent tableting, a resin molded body was prepared by transfer molding. Next, the resin molded body was heated at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours to obtain a cured product of the epoxy resin composition of the present invention and the comparative resin composition. The results of measuring the thermal conductivity of these cured products are shown in Table 2. In addition, the epoxy resin 3, the hardening | curing agent 1, and the inorganic fillers 1 and 2 in Table 2 are the same as what was used in Examples 1-3.

エポキシ樹脂5:下記式(8)で表されるエポキシ樹脂(商品名:NC−3000 日本化薬製 エポキシ当量276g/eq.)   Epoxy resin 5: epoxy resin represented by the following formula (8) (trade name: NC-3000, Epoxy equivalent 276 g / eq. Manufactured by Nippon Kayaku)

硬化剤2:合成例3によって得られたフェノール化合物3(水酸祈当量153g/eq.)
硬化剤3:下記式(9)で表されるフェノールノボラック樹脂(商品名:H−1、 明和化成製 水酸基当量105g/eq.)
Curing agent 2: Phenol compound 3 obtained by Synthesis Example 3 (hydroxy pray equivalent 153 g / eq.)
Curing agent 3: Phenol novolak resin represented by the following formula (9) (trade name: H-1, Meiwa Kasei's hydroxyl equivalent 105 g / eq.)

硬化剤4:下記式(10)で表されるカテコールノボラック樹脂(水酸基当量59g/eq.、軟化点104℃)   Curing agent 4: Catechol novolak resin represented by the following formula (10) (hydroxyl equivalent: 59 g / eq., Softening point: 104 ° C.)

硬化促進剤:トリフェニルホスフィン(北興化学工業製)   Curing accelerator: Triphenylphosphine (manufactured by Hokuko Chemical)

実施例9
ジメチルホルムアミド1000部にエポキシ樹脂5(NC−3000) 100部、合成例3で得られたフェノール化合物3 56部を70℃で溶解させた後、室温に戻した。
ジメチルホルムアミド48部に硬化促進剤であるトリフェニルホスフィン(北興化学工業製)1部を70℃で溶解させた後、室温に戻した。上記のエポキシ樹脂溶液と硬化促進剤溶液を、撹拌羽タイプのホモミキサで混合・撹拌して均一なワニスにし、さらに無機充填材(商品名:SGP 電気化学工業製、熱伝導率60W/m・K)296部(樹脂固形分100体積部に対し50体積部)、およびジメチルホルムアミド100部を加えて混合・撹拌し、本発明のエポキシ樹脂組成物を調製した。
このエポキシ樹脂組成物のワニスを、厚さ0.2mmのガラス繊維織布(商品名:7628/AS890AW 旭シュエーベル製)に含浸させ、加熱乾燥してプリプレグを得た。このプリプレグ4枚とその両側に配した銅箔を重ね合わせた後、温度175℃、圧力4MPaの条件で90分間加熱加圧成型して一体化し、厚さ0.8mmの積層板を得た。この積層板の熱伝導率を測定したところ、4.5W/m・Kであった。
Example 9
In 1000 parts of dimethylformamide, 100 parts of epoxy resin 5 (NC-3000) and 56 parts of phenol compound 3 obtained in Synthesis Example 3 were dissolved at 70 ° C. and then returned to room temperature.
1 part of triphenylphosphine (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.) as a curing accelerator was dissolved in 48 parts of dimethylformamide at 70 ° C. and then returned to room temperature. The above epoxy resin solution and curing accelerator solution are mixed and stirred with a stirring blade type homomixer to obtain a uniform varnish, and further an inorganic filler (trade name: SGP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 60 W / m · K). ) 296 parts (50 parts by volume with respect to 100 parts by volume of resin solids) and 100 parts of dimethylformamide were added and mixed and stirred to prepare the epoxy resin composition of the present invention.
The varnish of this epoxy resin composition was impregnated into a 0.2 mm thick glass fiber woven fabric (trade name: 7628 / AS890AW, manufactured by Asahi Schwer) and dried by heating to obtain a prepreg. After the four prepregs and the copper foils arranged on both sides thereof were superposed, they were integrated by heating and pressing for 90 minutes under the conditions of a temperature of 175 ° C. and a pressure of 4 MPa to obtain a laminate having a thickness of 0.8 mm. The heat conductivity of this laminate was measured and found to be 4.5 W / m · K.

比較例8
実施例9におけるフェノール化合物3 56部を式(9)で表されるフェノールノボラック樹脂29部に、無機充填材の量を245部にそれぞれ変更したこと以外は実施例9と同様の操作手順により積層板を得た。この積層板の熱伝導率を測定したところ、3.9W/m・Kであった。
Comparative Example 8
Lamination was carried out in the same procedure as in Example 9, except that 56 parts of phenol compound 3 in Example 9 was changed to 29 parts of phenol novolac resin represented by formula (9) and the amount of inorganic filler was changed to 245 parts. I got a plate. The thermal conductivity of this laminate was measured and found to be 3.9 W / m · K.

比較例9
実施例9におけるフェノール化合物3 56部を式(10)で表されるカテコールノボラック樹脂38部に、無機充填材の量を262部にそれぞれ変更したこと以外は実施例9と同様の操作手順により積層板を得た。この積層板の熱伝導率を測定したところ、4.1W/m・Kであった。
Comparative Example 9
Lamination was carried out in the same procedure as in Example 9, except that 56 parts of phenol compound 3 in Example 9 was changed to 38 parts of catechol novolac resin represented by formula (10) and the amount of inorganic filler was changed to 262 parts. I got a plate. The thermal conductivity of this laminate was measured and found to be 4.1 W / m · K.

比較例10
ジメチルホルムアミド1000部にエポキシ樹脂5(NC−3000) 100部を70℃で溶解させた後、室温に戻した。
ジメチルホルムアミド48部に硬化剤である1,5−ナフタレンジアミン15部を70℃で溶解させた後、室温に戻した。上記のエポキシ樹脂溶液と硬化剤溶液を、撹拌羽タイプのホモミキサで混合・撹拌して均一なワニスにし、さらに無機充填材(商品名:SGP 電気化学工業製、熱伝導率60W/m・K)224部(樹脂固形分100体積部に対し50体積部)、およびジメチルホルムアミド100部を加えて混合・撹拌し、比較例のエポキシ樹脂組成物を調製した。
その後の工程は実施例9と同様の操作手順により積層板を得た。この積層板の熱伝導率を測定したところ、4.4W/m・Kであった。
Comparative Example 10
After dissolving 100 parts of epoxy resin 5 (NC-3000) at 70 ° C. in 1000 parts of dimethylformamide, the temperature was returned to room temperature.
After dissolving 15 parts of 1,5-naphthalenediamine as a curing agent in 70 parts of dimethylformamide at 70 ° C., the temperature was returned to room temperature. The above epoxy resin solution and the curing agent solution are mixed and stirred with a stirring blade type homomixer to make a uniform varnish, and further an inorganic filler (trade name: SGP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., thermal conductivity 60 W / m · K) 224 parts (50 parts by volume with respect to 100 parts by volume of resin solids) and 100 parts of dimethylformamide were added and mixed and stirred to prepare an epoxy resin composition of a comparative example.
Subsequent steps obtained a laminate by the same operation procedure as in Example 9. The heat conductivity of this laminate was measured and found to be 4.4 W / m · K.

以上の結果より、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、優れた熱伝導性を有することが確認できた。したがって本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、電気・電子部品用絶縁材料及び積層板(プリント配線板など)等に使用する場合に極めて有用である。   From the above results, it was confirmed that the cured product of the epoxy resin composition of the present invention had excellent thermal conductivity. Therefore, the cured product of the epoxy resin composition of the present invention is extremely useful when used for insulating materials for electric / electronic parts, laminated boards (printed wiring boards, etc.) and the like.

本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
なお、本出願は、2009年12月21日付で出願された日本特許出願(特願2009−288706)および2009年6月5日付で出願された日本特許出願(特願2009−136455)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。
Although the invention has been described in detail with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.
The present application is based on a Japanese patent application (Japanese Patent Application No. 2009-288706) filed on December 21, 2009 and a Japanese patent application (Japanese Patent Application No. 2009-136455) filed on June 5, 2009. Which is incorporated by reference in its entirety. Also, all references cited herein are incorporated as a whole.

本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、従来のエポキシ樹脂の硬化物と比較して優れた熱伝導性を有する。従って、封止材、プリプレグ等として電気・電子材料、成型材料、注型材料、積層材料、塗料、接着剤、レジスト、光学材料などの広範囲の用途に極めて有用である。   The cured product of the epoxy resin composition of the present invention has excellent thermal conductivity as compared with a cured product of a conventional epoxy resin. Therefore, it is extremely useful for a wide range of applications such as an electric / electronic material, a molding material, a casting material, a laminated material, a paint, an adhesive, a resist, and an optical material as a sealing material and a prepreg.

Claims (6)

(a’)エポキシ樹脂、
(b)硬化剤として、下記式(1)〜(3)

(式(1)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基のいずれかを表す。lはRの数を表し、1〜4の整数である。)

(式(2)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基のいずれかを表す。)

(式(3)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基のいずれかを表す。nは炭素数を表し、0、1、2のいずれかの整数を表す。mはRの数を表し、1≦m≦n+2の関係を満たす。)
で表される化合物の一種以上と、o−、m−およびp−ヒドロキシベンズアルデヒドから選ばれるヒドロキシベンズアルデヒドとの反応によって得られるフェノール化合物、並びに
(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材、
を含有してなる高熱伝導部位を繋げるバインダー役の高分子材料用のエポキシ樹脂組成物。
(A ′) epoxy resin,
(B) As a hardening | curing agent, following formula (1)-(3)

(In the formula (1), R 1 is present independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, the number of .l is R 1 representing one of the alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms Represents an integer of 1 to 4.)

(Equation (2), R 2 is present each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms.)

(In Formula (3), each R 3 is independently present and represents any of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. N represents the number of carbon atoms; Represents an integer of 0, 1, or 2. m represents the number of R 3 and satisfies the relationship of 1 ≦ m ≦ n + 2.
And a phenol compound obtained by a reaction with one or more of the compounds represented by formula (1) and a hydroxybenzaldehyde selected from o-, m- and p-hydroxybenzaldehyde , and (c) an inorganic packing having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more. Material,
An epoxy resin composition for a polymer material that serves as a binder to connect high heat conduction sites containing the selenium.
(a)請求項1に記載のフェノール化合物に、さらにエピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、
(b’)硬化剤、及び
(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材、
を含有してなる高熱伝導部位を繋げるバインダー役の高分子材料用のエポキシ樹脂組成物。
(A) an epoxy resin obtained by further reacting an epihalohydrin with the phenol compound according to claim 1;
(B ′) a curing agent, and (c) an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more,
An epoxy resin composition for a polymer material that serves as a binder to connect high heat conduction sites containing the selenium .
(a)請求項2に記載のエポキシ樹脂、
(b)請求項1に記載のフェノール化合物、及び
(c)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材、
を含有してなる高熱伝導部位を繋げるバインダー役の高分子材料用のエポキシ樹脂組成物。
(A) the epoxy resin according to claim 2,
(B) the phenol compound according to claim 1, and (c) an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more,
An epoxy resin composition for a polymer material that serves as a binder to connect high heat conduction sites containing the selenium .
半導体封止用途に用いられる請求項1〜3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition as described in any one of Claims 1-3 used for a semiconductor sealing use. 請求項1〜3のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物及びシート状の繊維基材からなるプリプレグ。   A prepreg comprising the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3 and a sheet-like fiber base material. 請求項1〜4のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、または請求項5に記載のプリプレグを硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition as described in any one of Claims 1-4, or the prepreg of Claim 5.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012131899A (en) * 2010-12-21 2012-07-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, resin sheet, metal-based circuit board, inverter, and power semiconductor device
EP2692759B1 (en) 2011-03-28 2018-10-31 Hitachi Chemical Company, Ltd. Resin composition, resin sheet, cured resin sheet, resin sheet laminate, cured resin sheet laminate and method for manufacturing same, semiconductor device, and led device
JP5885330B2 (en) * 2011-07-26 2016-03-15 日本化薬株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition, prepreg and cured products thereof
JP5885331B2 (en) * 2011-07-27 2016-03-15 日本化薬株式会社 Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, prepreg and cured products thereof
JP5704720B2 (en) * 2011-07-27 2015-04-22 日本化薬株式会社 Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, prepreg and cured products thereof
JP5840470B2 (en) * 2011-11-25 2016-01-06 日本化薬株式会社 Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, prepreg and cured products thereof
EP3290458B1 (en) * 2015-04-28 2020-10-14 TDK Corporation Resin composition, resin sheet, resin cured product and resin substrate
CN105038131A (en) * 2015-07-31 2015-11-11 苏州天健竹业科技有限公司 Impact-resistant composite for bicycle and preparation method thereof
EP3858885B1 (en) * 2018-09-28 2024-05-08 FUJIFILM Corporation Composition for forming heat conductive materials, heat conductive material, heat conductive sheet, device with heat conductive layer, and film
JP6757787B2 (en) * 2018-12-25 2020-09-23 ナガセケムテックス株式会社 Hollow structure electronic components
WO2021054111A1 (en) * 2019-09-17 2021-03-25 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing heat-conducting material, heat-conducting material, heat-conducting sheet, and device provided with heat-conducting layer
CN116438120A (en) * 2020-11-16 2023-07-14 Swimc有限公司 Aromatic diol compound, diepoxide compound, polymer prepared from such compound, and process for producing the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09100339A (en) * 1994-09-08 1997-04-15 Sumitomo Chem Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device sealed therewith

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3708423B2 (en) * 2000-10-20 2005-10-19 株式会社日鉱マテリアルズ Phenolic curing agent for epoxy resin and epoxy resin composition using the same
JP4955856B2 (en) * 2001-01-26 2012-06-20 パナソニック株式会社 Phosphorus-containing epoxy resin composition, prepreg, resin-coated metal foil, adhesive sheet, laminate, multilayer board, phosphorus-containing epoxy resin varnish for coating, phosphorus-containing epoxy resin sealing material, phosphorus-containing epoxy resin casting material, phosphorus for impregnation Containing epoxy resin varnish
JP2003055434A (en) * 2001-08-15 2003-02-26 Toto Kasei Co Ltd Flame retardant for synthetic resin, and flame- retardant resin composition containing the flame retardant
JP4224765B2 (en) * 2002-10-21 2009-02-18 Dic株式会社 Epoxy resin composition and molded cured product thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09100339A (en) * 1994-09-08 1997-04-15 Sumitomo Chem Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device sealed therewith

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