JP2015067830A - Epoxy resin, epoxy resin composition, prepreg and cured product thereof - Google Patents

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篤彦 長谷川
Atsuhiko Hasegawa
篤彦 長谷川
宏一 川井
Koichi Kawai
宏一 川井
政隆 中西
Masataka Nakanishi
政隆 中西
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high purity epoxy resin containing a mesogenic group, which can make an uniformly cured product and has high thermal conductance.SOLUTION: An epoxy resin mixture contains an epoxy resin obtained through the steps (A) to (B), where the total area ratio of a specific epoxy compound in GPC is in a specific range and 3.1 to 20 area% of the resin represented by the formula (3) is contained. Step (A): a specific hydroxyacetophenone-based compound and a specific hydroxybenzaldehyde compound are reacted to obtain a phenolic compound (a). Step (B): the phenolic compound (a) obtained in the step (A) is reacted with epihalohydrin by a known technique to obtain an epoxy resin.

Description

本発明は、新規なエポキシ樹脂およびエポキシ樹脂組成物に関する。また、かかるエポキシ樹脂組成物により形成されるプリプレグ等の硬化物に関する。   The present invention relates to a novel epoxy resin and epoxy resin composition. Moreover, it is related with hardened | cured materials, such as a prepreg formed with this epoxy resin composition.

エポキシ樹脂組成物は、一般的に機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性、電気的性質などに優れた硬化物となり、接着剤、塗料、積層板、成形材料、注型材料などの幅広い分野に利用されている。近年、これらの分野に用いられるエポキシ樹脂の硬化物には、高純度化を始め、難燃性、耐熱性、耐湿性、強靭性、低線膨張率、低誘電率特性など諸特性の一層の向上が求められている。   Epoxy resin compositions are generally cured products with excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, electrical properties, etc., such as adhesives, paints, laminates, molding materials, casting materials, etc. It is used in a wide range of fields. In recent years, cured products of epoxy resins used in these fields have begun to be highly purified and have various properties such as flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, toughness, low linear expansion coefficient, and low dielectric constant characteristics. There is a need for improvement.

特に、エポキシ樹脂組成物の代表的な用途である電気・電子産業分野においては、多機能化、高性能化、コンパクト化を目的とした半導体の高密度実装やプリント配線板の高密度配線化が進んでいるが、高密度実装化や高密度配線化に伴って半導体素子やプリント配線板の内部から発生する熱が増加し、誤作動を引き起こす原因となりうる。そのため、発生した熱をいかにして効率よく外部に放出させるかということが、エネルギー効率や機器設計の上からも重要な課題となっている。これら熱対策としては、メタルコア基板を使用したり、設計の段階で放熱しやすい構造を組んだり、使用する高分子材料(エポキシ樹脂)に高熱伝導フィラーを細密充填したりするなど、様々な工夫がなされている。しかしながら、高熱伝導部位を繋げるバインダー役の高分子材料の熱伝導率が低いため、高分子材料の熱伝導スピードが律速となり、効率的な放熱ができていないのが現状である。   In particular, in the electrical and electronic industry, which is a typical application of epoxy resin compositions, high-density mounting of semiconductors and high-density wiring of printed wiring boards have been promoted for the purpose of multi-function, high performance, and compactness. Although progress is being made, the heat generated from the inside of a semiconductor element or a printed wiring board increases with high-density mounting or high-density wiring, which may cause malfunction. Therefore, how to efficiently release generated heat to the outside is an important issue from the standpoint of energy efficiency and device design. These heat countermeasures include various measures such as using a metal core substrate, constructing a structure that easily dissipates heat at the design stage, and densely filling high thermal conductive filler in the polymer material (epoxy resin) to be used. Has been made. However, since the thermal conductivity of the polymer material acting as a binder that connects the high thermal conductivity sites is low, the thermal conduction speed of the polymer material becomes the rate-determining, and efficient heat dissipation is not possible at present.

エポキシ樹脂の高熱伝導化を実現する手段として、メソゲン基を構造中に導入することが特許文献1に報告されており、同文献にはメソゲン基を有するエポキシ樹脂として、ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂などが記載されている。またビフェニル骨格以外のエポキシ樹脂としてはフェニルベンゾエート型のエポキシ樹脂が記載されているが、該エポキシ樹脂は酸化によるエポキシ化反応によって製造する必要があることから、安全性やコストに難があり実用的とは言えない。ビフェニル骨格を有するエポキシ樹脂を用いた例としては特許文献2〜4が挙げられ、中でも特許文献3には高熱伝導率を有する無機充填材を併用する手法が記載されている。しかしながら、これら文献に記載の手法により得られる硬化物の熱伝導性は市場の要望を満足するレベルでは無く、比較的安価に入手可能なエポキシ樹脂を用いた、より高い熱伝導率を有する硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物が求められている。   As a means for realizing high thermal conductivity of an epoxy resin, it is reported in Patent Document 1 that a mesogenic group is introduced into the structure. In the same document, as an epoxy resin having a mesogenic group, an epoxy resin having a biphenyl skeleton, etc. Is described. In addition, as an epoxy resin other than the biphenyl skeleton, a phenyl benzoate type epoxy resin is described. However, since the epoxy resin needs to be produced by an epoxidation reaction by oxidation, there are difficulties in safety and cost, and it is practical. It can not be said. Examples of using an epoxy resin having a biphenyl skeleton include Patent Documents 2 to 4, and among them, Patent Document 3 describes a technique in which an inorganic filler having high thermal conductivity is used in combination. However, the thermal conductivity of the cured product obtained by the methods described in these documents is not at a level that satisfies the market demand, and a cured product having higher thermal conductivity using an epoxy resin that is available at a relatively low cost. There is a need for an epoxy resin composition that provides.

また、これまでに報告されているメソゲン基を有する高熱伝導性エポキシ樹脂は融点が非常に高く樹脂状の取出しが困難であり、なおかつ溶剤溶解性が劣るものが多い。このようなエポキシ樹脂は硬化の際に完全に融解する前に硬化が始まってしまうため、均一な硬化物を作製することが困難であり、好ましいとは言えない。   In addition, high heat conductive epoxy resins having a mesogenic group that have been reported so far have a very high melting point, making it difficult to take out the resinous form, and many of them have poor solvent solubility. Since such an epoxy resin begins to cure before being completely melted during curing, it is difficult to produce a uniform cured product, which is not preferable.

このような現状を踏まえ、特許文献5ではメソゲン基を有し、かつ低融点である高熱伝導樹脂を開発している。しかしながら、該文献記載のエポキシ樹脂はα,β−不飽和カルボニル部位が高い反応性を示すことから、製造中に分解しやすい傾向に有り、熱伝導率が損なわれてしまう傾向が有った。   In view of such a current situation, Patent Document 5 has developed a high thermal conductive resin having a mesogenic group and a low melting point. However, since the epoxy resin described in this document has a high reactivity at the α, β-unsaturated carbonyl moiety, it tends to be easily decomposed during production, and the thermal conductivity tends to be impaired.

特開平11−323162号公報JP-A-11-323162 特開2004−2573号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-2573 特開2006−63315号公報JP 2006-63315 A 特開2003−137971号公報JP 2003-137971 A 国際公開第2011/093474号International Publication No. 2011/093474

本発明はこのような問題を解決すべく検討の結果なされたものであり、メソゲン基含有のエポキシ樹脂が高純度であることから、その硬化物が高い熱伝導性を有するエポキシ樹脂、本発明のエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物、プリプレグ、およびその硬化物を提供するものである。   The present invention has been made as a result of studies to solve such problems, and since the mesogenic group-containing epoxy resin has a high purity, the cured product of the epoxy resin having high thermal conductivity, An epoxy resin composition containing an epoxy resin, a prepreg, and a cured product thereof are provided.

本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究した結果、本発明を完成させるに到った。
すなわち本発明は、
(1)下記工程(イ)〜(ロ)を経ることにより得られるエポキシ樹脂の内、GPCでの下記式(1)および(2)のエポキシ化物の面積比率の合計(以下、低分子量体面積比率)が、高速液体クロマトグラフィーでの測定において0.5〜5面積%であり、下記式(3)

Figure 2015067830
(式(3)中、R、R、k、lは下記と同じ意味を表し、Yはオキシグリシジル基又は下記式(4)
Figure 2015067830
(式(4)中、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を表す。)
を表し、Yのうち少なくとも一つは上記式(4)である。)
で表される樹脂を高速液体クロマトグラフィーでの測定において3.1〜20面積%含有するエポキシ樹脂混合物、
工程(イ):下記式(1) As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention.
That is, the present invention
(1) The total area ratio of the epoxidized products of the following formulas (1) and (2) in GPC among the epoxy resins obtained through the following steps (a) to (b) (hereinafter referred to as low molecular weight area) Ratio) is 0.5 to 5 area% in the measurement by high performance liquid chromatography, and the following formula (3)
Figure 2015067830
(In the formula (3), R 1 , R 2 , k, and l have the same meaning as described below, and Y represents an oxyglycidyl group or the following formula (4).
Figure 2015067830
(In formula (4), R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
And at least one of Y is represented by the above formula (4). )
An epoxy resin mixture containing 3.1 to 20 area% of the resin represented by
Process (I): following formula (1)

Figure 2015067830
Figure 2015067830

(式(1)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基又は炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。lはR1の数を表し、0〜4の整数である。)と、
下記式(2)
(In Formula (1), each R 1 is independently present and is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, Represents either a nitro group or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, l represents the number of R 1 , and is an integer of 0 to 4);
Following formula (2)

Figure 2015067830
Figure 2015067830

(式(2)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換若しくは無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基、ホルミル基、アリル基又は炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。kはRの数を表し、0〜4の整数である。)で表される化合物との反応によってフェノール化合物(a)を得る工程、
工程(ロ):工程(イ)により得られるフェノール化合物(a)を、公知の手法にてエピハロヒドリンと反応させることにより本発明のエポキシ樹脂を得る工程、
(In Formula (2), each R 2 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, It represents any of a nitro group, a formyl group, an allyl group, or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, where k represents the number of R 2 and is an integer of 0 to 4. Obtaining a phenol compound (a) by reaction with a compound;
Step (b): A step of obtaining the epoxy resin of the present invention by reacting the phenol compound (a) obtained by the step (i) with epihalohydrin by a known method,

(2)前項(1)に記載のエポキシ樹脂と硬化剤および/または硬化促進剤を含有してなるエポキシ樹脂組成物、
(3)熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材を含有してなる前項(2)に記載のエポキシ樹脂組成物、
(4)半導体封止用途に用いられる前項(2)または(3)に記載のエポキシ樹脂組成物、
(5)前項(2)または(3)に記載のエポキシ樹脂組成物及びシート状の繊維基材からなるプリプレグ、
(6)前項(2)〜(4)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、または前項(5)に記載のプリプレグを硬化してなる硬化物、
に関する。
(2) An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to the preceding item (1) and a curing agent and / or a curing accelerator,
(3) The epoxy resin composition according to item (2), which contains an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more,
(4) The epoxy resin composition according to (2) or (3), which is used for semiconductor sealing applications,
(5) A prepreg comprising the epoxy resin composition according to the preceding item (2) or (3) and a sheet-like fiber base material,
(6) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of (2) to (4), or the prepreg according to (5),
About.

本発明のエポキシ樹脂混合物は、メソゲン基含有エポキシ樹脂を高純度で含むことから、その硬化物が優れた熱伝導性に示し、半導体封止材料、プリプレグを始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等に使用する場合に有用である。また、本発明のエポキシ樹脂は、軟化点が低いことから均一な硬化物を作成しやすく、また開環した下記式(3)で表される樹脂を一定割合で含有することから溶剤溶解性にも優れるため、プリプレグとしても有用である。   Since the epoxy resin mixture of the present invention contains a mesogen group-containing epoxy resin with high purity, the cured product exhibits excellent thermal conductivity, various composite materials including a semiconductor sealing material, a prepreg, an adhesive, This is useful when used in paints. In addition, the epoxy resin of the present invention has a low softening point, so it is easy to produce a uniform cured product, and since it contains a resin represented by the following formula (3) that has been ring-opened at a certain ratio, it is solvent-soluble. And is also useful as a prepreg.

まず、フェノール化合物(a)について説明する。フェノール化合物(a)は下記式(1)で表される化合物と下記式(2)で表される化合物との反応によって得られる。   First, the phenol compound (a) will be described. The phenol compound (a) is obtained by a reaction between a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2).

Figure 2015067830
Figure 2015067830

(式(1)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基、又は炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。lはR1の数を表し、0〜4の整数である。) (In Formula (1), each R 1 is independently present and is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, It represents either a nitro group or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, where l represents the number of R 1 and is an integer of 0 to 4.

式(1)においてRはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の無置換のアルキル基、炭素数6〜10の無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基、又は炭素数1〜10の無置換のアルコキシ基であることが好ましい。 In Formula (1), each R 1 is independently present and is a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, a nitro group, or a carbon number. It is preferable that it is a 1-10 unsubstituted alkoxy group.

フェノール化合物(a)を得るために、式(2)で表される化合物との反応に用いられる式(1)で表される化合物の具体例としては、2−ヒドロキシアセトフェノン、3−ヒドロキシアセトフェノン、4−ヒドロキシアセトフェノン、2’,4’−ジヒドロキシアセトフェノン、2’,5’−ジヒドロキシアセトフェノン、3’,4’−ジヒドロキシアセトフェノン、3’,5’−ジヒドロキシアセトフェノン、2’,3’,4’−トリヒドロキシアセトフェノン、2’,4’,6’−トリヒドロキシアセトフェノン一水和物、4’−ヒドロキシ−3’−メチルアセトフェノン、4’−ヒドロキシ−2’−メチルアセトフェノン、2’−ヒドロキシ−5’−メチルアセトフェノン、4’−ヒドロキシ−3’−メトキシアセトフェノン、2’−ヒドロキシ−4’−メトキシアセトフェノン、4’−ヒドロキシ−3’−ニトロアセトフェノン、4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジメトキシアセトフェノン、4’,6’−ジメトキシ‐2’−ヒドロキシアセトフェノン、2’−ヒドロキシ−3’,4’−ジメトキシアセトフェノン、2’−ヒドロキシ−4’,5’−ジメトキシアセトフェノン、5−アセチルサリチル酸メチル、2’,3’−ジヒドロキシ−4’−メトキシアセトフェノン水和物、が挙げられる。これらのうち、得られるフェノール化合物(a)をエポキシ化した際の溶剤溶解性が高く、かつエポキシ樹脂組成物の硬化物が高い熱伝導性を示すことから、4’−ヒドロキシ−3’−メトキシアセトフェノン、4’−ヒドロキシアセトフェノンが好ましい。   Specific examples of the compound represented by the formula (1) used for the reaction with the compound represented by the formula (2) in order to obtain the phenol compound (a) include 2-hydroxyacetophenone, 3-hydroxyacetophenone, 4-hydroxyacetophenone, 2 ′, 4′-dihydroxyacetophenone, 2 ′, 5′-dihydroxyacetophenone, 3 ′, 4′-dihydroxyacetophenone, 3 ′, 5′-dihydroxyacetophenone, 2 ′, 3 ′, 4′- Trihydroxyacetophenone, 2 ′, 4 ′, 6′-trihydroxyacetophenone monohydrate, 4′-hydroxy-3′-methylacetophenone, 4′-hydroxy-2′-methylacetophenone, 2′-hydroxy-5 ′ -Methylacetophenone, 4'-hydroxy-3'-methoxyacetophenone, 2 ' Hydroxy-4'-methoxyacetophenone, 4'-hydroxy-3'-nitroacetophenone, 4'-hydroxy-3 ', 5'-dimethoxyacetophenone, 4', 6'-dimethoxy-2'-hydroxyacetophenone, 2'- Hydroxy-3 ′, 4′-dimethoxyacetophenone, 2′-hydroxy-4 ′, 5′-dimethoxyacetophenone, methyl 5-acetylsalicylate, 2 ′, 3′-dihydroxy-4′-methoxyacetophenone hydrate, and the like. It is done. Among these, 4′-hydroxy-3′-methoxy has high solvent solubility when the obtained phenol compound (a) is epoxidized and the cured product of the epoxy resin composition exhibits high thermal conductivity. Acetophenone, 4′-hydroxyacetophenone is preferred.

Figure 2015067830
Figure 2015067830

(式(2)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換若しくは無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基、ホルミル基、アリル基又は炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。kはRの数を表し、0〜4の整数である。) (In Formula (2), each R 2 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, Any one of a nitro group, a formyl group, an allyl group, or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, k represents the number of R 4 , and is an integer of 0 to 4)

フェノール化合物(a)を得るために、式(1)で表される化合物との反応に用いられる式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば、2−ヒドロキシベンズアルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、2,3‐ジヒドロキシベンズアルデヒド、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド、3,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド、シリンガアルデヒド、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド、イソバニリン、4−ヒドロキシ−3−ニトロベンズアルデヒド、5−ヒドロキシ−2−ニトロベンズアルデヒド、3,4−ジヒドロキシ−5−ニトロベンズアルデヒド、バニリン、o−バニリン、2−ヒドロキシ−1−ナフトアルデヒド、2−ヒドロキシ−5−ニトロ−m−アニスアルデヒド、2−ヒドロキシ−5−メチルイソフタルアルデヒド、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンズアルデヒド、1−ヒドロキシ−2−ナフトアルデヒド、2−ヒドロキシ−5−メトキシベンズアルデヒド、5−ニトロバニリン、5−アリル−3−メトキシサリチルアルデヒド、3,5−ジ−tert−ブチルサリチルアルデヒド、3−エトキシサリチルアルデヒド、4−ヒドロキシイソフタルアルデヒド、4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンズアルデヒド、2,4,6−トリヒドロキシベンズアルデヒド、2,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド、2,3,4−トリヒドロキシベンズアルデヒド、3,4,5−トリヒドロキシベンズアルデヒド、3−エトキシ−4−ヒドロキシベンズアルデヒド、などが挙げられる。これらは1種のみを使用しても、2種類以上を併用してもよい。これらのうち、得られるフェノール化合物(a)をエポキシ化した際の溶剤溶解性が高く、エポキシ樹脂組成物の硬化物が特に高い熱伝導性を示すことから、バニリンを単独で使用するのが好ましい。   Specific examples of the compound represented by the formula (2) used for the reaction with the compound represented by the formula (1) in order to obtain the phenol compound (a) include, for example, 2-hydroxybenzaldehyde, 3-hydroxy Benzaldehyde, 4-hydroxybenzaldehyde, 2,3-dihydroxybenzaldehyde, 2,4-dihydroxybenzaldehyde, 2,5-dihydroxybenzaldehyde, 3,4-dihydroxybenzaldehyde, syringaldehyde, 3,5-di-tert-butyl-4 -Hydroxybenzaldehyde, isovanillin, 4-hydroxy-3-nitrobenzaldehyde, 5-hydroxy-2-nitrobenzaldehyde, 3,4-dihydroxy-5-nitrobenzaldehyde, vanillin, o-vanillin, 2-hydroxy-1-naphthaldehyde 2-hydroxy-5-nitro-m-anisaldehyde, 2-hydroxy-5-methylisophthalaldehyde, 2-hydroxy-4-methoxybenzaldehyde, 1-hydroxy-2-naphthaldehyde, 2-hydroxy-5-methoxybenzaldehyde 5-nitrovanillin, 5-allyl-3-methoxysalicylaldehyde, 3,5-di-tert-butylsalicylaldehyde, 3-ethoxysalicylaldehyde, 4-hydroxyisophthalaldehyde, 4-hydroxy-3,5-dimethylbenzaldehyde 2,4,6-trihydroxybenzaldehyde, 2,4,5-trihydroxybenzaldehyde, 2,3,4-trihydroxybenzaldehyde, 3,4,5-trihydroxybenzaldehyde, 3-ethoxy-4-hydroxybenzaldehyde 'S aldehyde, and the like. These may use only 1 type or may use 2 or more types together. Among these, it is preferable to use vanillin alone because it has high solvent solubility when the resulting phenol compound (a) is epoxidized, and the cured product of the epoxy resin composition exhibits particularly high thermal conductivity. .

フェノール化合物(a)は、酸性条件下もしくは塩基性条件下、式(1)で表される化合物の一種以上と式(2)で表される化合物とのアルドール縮合反応によって得られる。
式(2)で表される化合物は式(1)で表される化合物1モルに対して1.0〜1.05モルを使用する。
The phenol compound (a) is obtained by an aldol condensation reaction between one or more compounds represented by the formula (1) and a compound represented by the formula (2) under acidic conditions or basic conditions.
The compound represented by the formula (2) is used in an amount of 1.0 to 1.05 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (1).

酸性条件下でアルドール縮合反応を行う場合、用い得る酸性触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸のような無機酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、複数の種類を併用してもよい。酸性触媒の使用量は、式(2)で表される化合物1モルに対して0.01〜1.0モル、好ましくは0.2〜0.5モルである。   When the aldol condensation reaction is performed under acidic conditions, examples of the acidic catalyst that can be used include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, and organic acids such as toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, and oxalic acid. These may be used alone or in combination of a plurality of types. The usage-amount of an acidic catalyst is 0.01-1.0 mol with respect to 1 mol of compounds represented by Formula (2), Preferably it is 0.2-0.5 mol.

一方、塩基性条件下でアルドール縮合反応を行う場合、用い得る塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属塩、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソブチルアミン、ピリジン及びピペリジン等のアミン誘導体、並びにジメチルアミノエチルアルコール及びジエチルアミノエチルアルコール等のアミノアルコール誘導体が挙げられる。塩基性条件の場合も、先に挙げた塩基性触媒を単独で使用してもよく、複数の種類を併用してもよい。塩基性触媒の使用量は、式(2)で表される化合物1モルに対して0.1〜2.5モル、好ましくは0.2〜2.0モルである。   On the other hand, when the aldol condensation reaction is performed under basic conditions, usable basic catalysts include metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as potassium carbonate and sodium carbonate, diethylamine, Examples include amine derivatives such as triethylamine, tributylamine, diisobutylamine, pyridine and piperidine, and amino alcohol derivatives such as dimethylaminoethyl alcohol and diethylaminoethyl alcohol. Also in the case of basic conditions, the basic catalysts listed above may be used alone, or a plurality of types may be used in combination. The usage-amount of a basic catalyst is 0.1-2.5 mol with respect to 1 mol of compounds represented by Formula (2), Preferably it is 0.2-2.0 mol.

フェノール化合物(a)を得る反応では、必要に応じて溶剤を使用してもよい。用い得る溶剤としては、例えばケトン類のように式(2)で表される化合物との反応性を有するものでなければ特に制限はないが、原料の式(2)で表される化合物を容易に溶解させる点ではアルコール類を溶剤として用いるのが好ましい。   In the reaction for obtaining the phenol compound (a), a solvent may be used as necessary. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it is not reactive with the compound represented by the formula (2) such as ketones, but the compound represented by the formula (2) as a raw material can be easily used. It is preferable to use alcohols as the solvent in terms of dissolution in the solvent.

反応温度は通常10〜90℃であり、好ましくは35〜70℃である。反応時間は通常0.5〜10時間であるが、原料化合物の種類によって反応性に差があるため、この限りではない。反応終了後、樹脂として取り出す場合には、反応物を水洗後または水洗無しに、加熱減圧下で反応液から未反応物や溶媒等を除去する。結晶で取り出す場合、大量の水中に反応液を滴下することにより結晶を析出させる。塩基性条件で反応を行った場合は生成した本発明のフェノール化合物が水中に溶け込むこともありうるので、塩酸を加えるなどして中性〜酸性条件にして結晶として析出させる。   The reaction temperature is usually 10 to 90 ° C, preferably 35 to 70 ° C. Although reaction time is 0.5 to 10 hours normally, since there is a difference in reactivity with the kind of raw material compound, it is not this limitation. When taking out as a resin after completion | finish of reaction, an unreacted substance, a solvent, etc. are removed from a reaction liquid under heating and pressure reduction, after washing | cleaning a reaction substance without water washing. When taking out with a crystal | crystallization, a crystal | crystallization is deposited by dripping a reaction liquid in a lot of water. When the reaction is carried out under basic conditions, the produced phenolic compound of the present invention may dissolve in water, so that it is precipitated as crystals under neutral to acidic conditions by adding hydrochloric acid or the like.

次に、本発明のエポキシ樹脂混合物について説明する。
本発明のエポキシ樹脂混合物はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)での低分子量体面積比率は、通常0.5〜5面積%以下であり、好ましくは1.0〜5面積%以下であり、特に好ましくは2〜5面積%以下である。本発明を製造する際、低分子量成分が0.5面積%以下の場合、エポキシ樹脂の結晶性が高すぎるため、溶剤溶解性に劣る傾向が有る。低分子量成分が5面積%以上の場合、分解物が多く、その硬化物の熱伝導率が低下する。
尚、本願発明のエポキシ樹脂混合物においては低分子量体を一定上含むが、低分子量体は、上記式(1)及び上記式(2)のエポキシ化物の合計を表す。
Next, the epoxy resin mixture of the present invention will be described.
The epoxy resin mixture of the present invention has a low molecular weight area ratio in gel permeation chromatography (GPC) of usually 0.5 to 5 area% or less, preferably 1.0 to 5 area% or less. Preferably it is 2-5 area% or less. When the present invention is produced, when the low molecular weight component is 0.5 area% or less, the crystallinity of the epoxy resin is too high, and thus the solvent solubility tends to be inferior. When the low molecular weight component is 5% by area or more, there are many decomposition products and the thermal conductivity of the cured product is lowered.
In addition, although the low molecular weight body is included in the epoxy resin mixture of this invention on a certain basis, a low molecular weight body represents the sum total of the epoxidized material of said Formula (1) and said Formula (2).

本発明のエポキシ樹脂混合物はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)において、下記式(3)

Figure 2015067830
(式(3)中、R、R、k、lは下記と同じ意味を表し、Yはオキシグリシジル基又は下記式(4)
Figure 2015067830
(式(4)中、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を表す。)
を表し、Yのうち少なくとも一つは上記式(4)である。)
で表される樹脂を3〜20面積%含有する。当該エポキシ樹脂が含有されていることにより、高い溶剤溶解性を確保することができる。
本発明のエポキシ樹脂混合物中、上記式(3)の含有割合はGPC測定において、通常3.1〜20面積%であり、好ましくは4〜13面積%である。
また、Rは炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 The epoxy resin mixture of the present invention is obtained by the following formula (3) in gel permeation chromatography (GPC).
Figure 2015067830
(In the formula (3), R 1 , R 2 , k, and l have the same meaning as described below, and Y represents an oxyglycidyl group or the following formula (4).
Figure 2015067830
(In formula (4), R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
And at least one of Y is represented by the above formula (4). )
3-20 area% of resin represented by these is contained. By containing the epoxy resin, high solvent solubility can be ensured.
In the epoxy resin mixture of the present invention, the content ratio of the above formula (3) is usually 3.1 to 20% by area, preferably 4 to 13% by area in GPC measurement.
R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group.

本発明のエポキシ樹脂混合物は、上記手法によって得られたフェノール化合物(a)とアルコール溶剤中、エピハロヒドリンとを反応させ、エポキシ化することにより得られる。なお、エポキシ化の際には、フェノール化合物(a)の内、1種類のみ使用しても、2種以上を併用してもよい。また、フェノール化合物(a)に、フェノール化合物(a)以外のフェノール化合物を併用しても良い。
併用できるフェノール化合物(a)以外のフェノール化合物としては、エポキシ樹脂の原料として通常用いられるフェノール化合物であれば特に制限なく用いることができるが、硬化物が高い熱伝導率を有するという本発明の効果が損なわれる恐れがあるので、併用し得るフェノール化合物の使用量は極力少ないことが好ましく、フェノール化合物(a)のみを用いることが特に好ましい。
本発明のエポキシ樹脂としては、特に優れた溶剤溶解性を示し、なおかつ高い熱伝導率有する硬化物が得られることから、式(2)で表される化合物と式(1)で表される化合物との反応により得られたフェノール化合物(a)のエポキシ化物が好ましい。
The epoxy resin mixture of the present invention can be obtained by reacting the phenol compound (a) obtained by the above method with an epihalohydrin in an alcohol solvent and epoxidizing it. In the case of epoxidation, only one type of phenol compound (a) may be used or two or more types may be used in combination. Moreover, you may use together phenolic compounds other than phenolic compound (a) with phenolic compound (a).
As the phenolic compound other than the phenolic compound (a) that can be used in combination, any phenolic compound that is usually used as a raw material for epoxy resin can be used without particular limitation, but the effect of the present invention that the cured product has high thermal conductivity. The amount of the phenol compound that can be used in combination is preferably as small as possible, and it is particularly preferable to use only the phenol compound (a).
As the epoxy resin of the present invention, a compound represented by the formula (2) and a compound represented by the formula (1) are obtained because they exhibit a particularly excellent solvent solubility and a cured product having high thermal conductivity. The epoxidized product of the phenol compound (a) obtained by the reaction with is preferable.

本発明のエポキシ樹脂混合物を得る反応において、エピハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリン、α−メチルエピクロルヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が使用できるが、工業的に入手が容易なエピクロルヒドリンが好ましい。エピハロヒドリンの使用量は、フェノール化合物(a)の水酸基1モルに対し通常2〜20モル、好ましくは2〜15モル、特に好ましくは2〜4.5モルである。エポキシ樹脂は、アルカリ金属酸化物の存在下でフェノール化合物とエピハロヒドリンとを付加させ、次いで生成した1,2−ハロヒドリンエーテル基を開環させてエポキシ化する反応により得られる。この際、エピハロヒドリンを上記のように通常より顕著に少ない量で使用することで、エポキシ樹脂の分子量を延ばすとともに分子量分布を広げることができる。この結果、得られるエポキシ樹脂は、比較的低い軟化点を有する樹脂状物として系中から取り出せ、優れた溶剤溶解性を示す。   In the reaction for obtaining the epoxy resin mixture of the present invention, epichlorohydrin, α-methylepichlorohydrin, β-methylepichlorohydrin, epibromohydrin, and the like can be used as the epihalohydrin, and epichlorohydrin which is easily available industrially is preferable. The usage-amount of epihalohydrin is 2-20 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of a phenol compound (a), Preferably it is 2-15 mol, Most preferably, it is 2-4.5 mol. The epoxy resin is obtained by a reaction in which a phenol compound and an epihalohydrin are added in the presence of an alkali metal oxide, and then the resulting 1,2-halohydrin ether group is opened to epoxidize. At this time, by using epihalohydrin in an amount significantly smaller than usual as described above, the molecular weight of the epoxy resin can be increased and the molecular weight distribution can be broadened. As a result, the resulting epoxy resin can be removed from the system as a resinous material having a relatively low softening point, and exhibits excellent solvent solubility.

また、エポキシ化の際に、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが反応進行上好ましい。中でも、アルコール類が好ましく、アルコール溶剤の極性により、エポキシ化時のイオン反応を効率良く進行することができ、高純度でエポキシ樹脂を得ることができる。さらに、本発明のメソゲン基含有エポキシ樹脂において、α,β−不飽和カルボニル部位が高い反応性を示し、分解しやすい傾向に有るが、アルコール溶剤を用いることにより、溶媒和されるため、分解反応を受けにくくなる。用い得るアルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールが好ましい。中でも、エポキシ樹脂との相溶性の観点から、メタノールを用いることが特に好ましい。   In addition, during the epoxidation, it is preferable for the reaction to proceed by adding an aprotic polar solvent such as alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran and dioxane. Among these, alcohols are preferable, and the ionic reaction during epoxidation can be efficiently advanced depending on the polarity of the alcohol solvent, and an epoxy resin can be obtained with high purity. Furthermore, in the mesogenic group-containing epoxy resin of the present invention, the α, β-unsaturated carbonyl moiety shows high reactivity and tends to be decomposed, but since it is solvated by using an alcohol solvent, the decomposition reaction It becomes difficult to receive. As the alcohol solvent that can be used, methanol, ethanol, and isopropyl alcohol are preferable. Among these, it is particularly preferable to use methanol from the viewpoint of compatibility with the epoxy resin.

上記アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの使用量に対し通常2〜50質量%、好ましくは4〜35質量%である。また非プロトン性極性溶媒を用いる場合はエピハロヒドリンの使用量に対し通常5〜100質量%、好ましくは10〜80質量%である。   When using the said alcohol, the usage-amount is 2-50 mass% normally with respect to the usage-amount of an epihalohydrin, Preferably it is 4-35 mass%. Moreover, when using an aprotic polar solvent, it is 5-100 mass% normally with respect to the usage-amount of epihalohydrin, Preferably it is 10-80 mass%.

エポキシ化反応に使用できるアルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、これらは固形物をそのまま使用しても、あるいはその水溶液を使用してもよい。水溶液を使用する場合は、該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に、減圧下または常圧下で連続的に留出させた水及びエピハロヒドリンの混合液から分液により水を除去し、エピハロヒドリンのみを反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は、本発明のフェノール化合物の水酸基1モルに対して通常0.9〜3.0モル、好ましくは1.0〜2.5モル、より好ましくは1.0〜2.0モル、特に好ましくは1.0〜1.3モルである。
また、本発明者等は、エポキシ化反応において、特にフレーク状の水酸化ナトリウムを用いることで、水溶液とした水酸化ナトリウムを使用するよりも得られるエポキシ樹脂に含まれるハロゲン量を顕著に低減させることが可能となることを知見するに至った。このハロゲンはエピハロヒドリン由来のものであり、エポキシ樹脂中に多く混入するほど硬化物の熱伝導性の低下が引き起こされる。更にこのフレーク状の水酸化ナトリウムは、反応系内に分割添加されることが好ましい。分割添加を行なうことで、反応温度の急激な減少を防ぐことができ、これにより不純物である1,3−ハロヒドリン体やハロメチレン体の生成を防止することができ、より熱伝導率の高い硬化物の形成が可能となる。
Examples of the alkali metal hydroxide that can be used for the epoxidation reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like, and these may be used as they are, or an aqueous solution thereof may be used. When using an aqueous solution, the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system and separated from a mixture of water and epihalohydrin distilled continuously under reduced pressure or normal pressure. Alternatively, water may be removed and only the epihalohydrin is continuously returned to the reaction system. The usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.9-3.0 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of the phenolic compound of this invention, Preferably it is 1.0-2.5 mol, More preferably, it is 1.0- The amount is 2.0 mol, particularly preferably 1.0 to 1.3 mol.
Further, the present inventors remarkably reduce the amount of halogen contained in the epoxy resin obtained by using flaky sodium hydroxide in the epoxidation reaction, rather than using sodium hydroxide as an aqueous solution. It came to know that it became possible. This halogen is derived from epihalohydrin, and the more it is mixed in the epoxy resin, the lower the thermal conductivity of the cured product. Further, the flaky sodium hydroxide is preferably added in portions in the reaction system. By performing the divided addition, it is possible to prevent a rapid decrease in the reaction temperature, thereby preventing the formation of impurities such as 1,3-halohydrin and halomethylene, and a cured product with higher thermal conductivity. Can be formed.

エポキシ化反応を促進するために、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加することが好ましい。4級アンモニウム塩の使用量としては、本発明のフェノール化合物の水酸基1モルに対し通常0.1〜15gであり、好ましくは0.2〜10gである。   In order to accelerate the epoxidation reaction, it is preferable to add a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride as a catalyst. The amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.1 to 15 g, preferably 0.2 to 10 g, per 1 mol of the hydroxyl group of the phenol compound of the present invention.

反応温度は通常30〜90℃であり、好ましくは35〜80℃である。反応時間は通常0.5〜10時間であり、好ましくは1〜8時間である。中でも、アルコール溶剤を用いた場合、50℃〜90℃が好ましく、60〜85℃がより好ましく、70〜80℃が特に好ましい。
反応終了後、反応物を水洗後、または水洗無しに加熱減圧下で反応液からエピハロヒドリンや溶媒等を除去する。また得られたエポキシ樹脂中に含まれるハロゲン量をさらに低減させるために、回収した本発明のエポキシ樹脂をトルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行ない、閉環を確実なものにすることも出来る。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量は、本発明のフェノール化合物の水酸基1モルに対して通常0.01〜0.3モル、好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。
The reaction temperature is usually 30 to 90 ° C, preferably 35 to 80 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours. Especially, when an alcohol solvent is used, 50 to 90 ° C is preferable, 60 to 85 ° C is more preferable, and 70 to 80 ° C is particularly preferable.
After completion of the reaction, the reaction product is washed with water or without washing with water, and the epihalohydrin, the solvent and the like are removed from the reaction solution under heating and reduced pressure. In order to further reduce the amount of halogen contained in the obtained epoxy resin, the recovered epoxy resin of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, and an alkali metal such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. The reaction can be carried out by adding an aqueous solution of hydroxide to ensure ring closure. In this case, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.01-0.3 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of the phenolic compound of this invention, Preferably it is 0.05-0.2 mol. The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.

反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下で溶剤を留去することにより本発明のエポキシ樹脂が得られる。また、本発明のエポキシ樹脂混合物が結晶として析出する場合は、大量の水に生成した塩を溶解した後に、本発明のエポキシ樹脂混合物の結晶を濾取してもよい。   After completion of the reaction, the produced salt is removed by filtration, washing with water, and the like, and the solvent is distilled off under heating and reduced pressure to obtain the epoxy resin of the present invention. Moreover, when the epoxy resin mixture of this invention precipitates as a crystal | crystallization, after melt | dissolving the salt produced | generated in a lot of water, you may collect the crystal | crystallization of the epoxy resin mixture of this invention by filtration.

上記の通りフレーク状の水酸化ナトリウムを使用して得られる本発明のエポキシ樹脂混合物の全ハロゲン量は1800ppm以下が通常であり、1600ppm以下であることが好ましく、さらに好ましくは1300ppm以下である。全ハロゲン量が多すぎるものは硬化物の電気信頼性に悪影響を及ぼすことに加えて、未架橋の末端として残ることから、硬化時の融解状態時の分子同士の配向が進まずに熱伝導性の低下につながる。   As described above, the total halogen content of the epoxy resin mixture of the present invention obtained using flaky sodium hydroxide is usually 1800 ppm or less, preferably 1600 ppm or less, more preferably 1300 ppm or less. If the total halogen content is too large, the electrical reliability of the cured product will be adversely affected, and it will remain as an uncrosslinked end, so the orientation of the molecules in the molten state during curing will not proceed and the thermal conductivity Leading to a decline.

このようにして得られるエポキシ樹脂混合物においては、エポキシ当量が176〜300g/eqが好ましく、176〜250g/eqがより好ましく、176〜223g/eqが特に好ましい。軟化点は50℃以上が好ましく、57℃以上が特に好ましい。   In the epoxy resin mixture thus obtained, the epoxy equivalent is preferably 176 to 300 g / eq, more preferably 176 to 250 g / eq, and particularly preferably 176 to 223 g / eq. The softening point is preferably 50 ° C. or higher, and particularly preferably 57 ° C. or higher.

以下、本発明のエポキシ樹脂組成物について記載する。本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂混合物及び本発明のフェノール化合物の少なくともどちらか1つを必須成分として含有する。   Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be described. The epoxy resin composition of the present invention contains at least one of the epoxy resin mixture of the present invention and the phenol compound of the present invention as an essential component.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂混合物は単独でまたは他のエポキシ樹脂と併用して使用することが出来る。   In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin mixture of the present invention can be used alone or in combination with other epoxy resins.

他のエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビフェノール、ビスフェノールAD及びビスフェノールI等)やフェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン及びジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒド(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド及びシンナムアルデヒド等)との重縮合物、キシレン等の芳香族化合物とホルムアルデヒドの重縮合物とフェノール類との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物(ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン及びイソプレン等)との重合物、フェノール類とケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン及びベンゾフェノン等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類(ベンゼンジメタノール及びビフェニルジメタノール等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類(α,α’−ジクロロキシレン及びビスクロロメチルビフェニル等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ビスアルコキシメチル類(ビスメトキシメチルベンゼン、ビスメトキシメチルビフェニル及びビスフェノキシメチルビフェニル等)との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、並びにアルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられるが、通常用いられるエポキシ樹脂であればこれらに限定されるものではない。これらは、1種類のみ使用しても、2種以上を併用してもよい。
他のエポキシ樹脂を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全エポキシ樹脂成分に占める本発明のエポキシ樹脂混合物の割合は30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましく、特に好ましくは100質量%(他のエポキシ樹脂を併用しない場合)である。ただし、本発明のエポキシ樹脂をエポキシ樹脂組成物の改質剤として使用する場合は、全エポキシ樹脂中で1〜30質量%となる割合で添加する。
Specific examples of other epoxy resins include bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, bisphenol I, etc.) and phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, aromatic-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted) Naphthol, dihydroxybenzene, alkyl-substituted dihydroxybenzene and dihydroxynaphthalene) and various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkylaldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalaldehyde, crotonaldehyde, cinnamaldehyde, etc.) Of polycondensates with benzene, aromatic compounds such as xylene and formaldehyde Polycondensates of compounds and phenols, phenols and various diene compounds (dicyclopentadiene, terpenes, vinylcyclohexene, norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenylbiphenyl, butadiene and isoprene Etc.), polycondensates of phenols and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone, etc.), phenols and aromatic dimethanols (benzene dimethanol, biphenyl dimethanol, etc.) Polycondensates, phenols and aromatic dichloromethyls (α, α'-dichloroxylene, bischloromethylbiphenyl etc.), phenols and aromatic bisalkoxymethyls Polycondensates with bismethoxymethylbenzene, bismethoxymethylbiphenyl, bisphenoxymethylbiphenyl, etc., polycondensates of bisphenols and various aldehydes, and glycidyl ether epoxy resins obtained by glycidylation of alcohols, alicyclic An epoxy resin, a glycidylamine-based epoxy resin, a glycidyl ester-based epoxy resin, and the like can be mentioned, but the epoxy resin is not limited to these as long as it is a commonly used epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more.
When other epoxy resins are used in combination, the proportion of the epoxy resin mixture of the present invention in the total epoxy resin component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and 70% by mass. % Or more is more preferable, and 100% by mass (when no other epoxy resin is used in combination) is particularly preferable. However, when using the epoxy resin of this invention as a modifier of an epoxy resin composition, it adds in the ratio used as 1-30 mass% in all the epoxy resins.

本発明のエポキシ樹脂組成物において用い得る硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物及びフェノール系化合物等が挙げられる。これら他の硬化剤の具体例を下記(a)〜(e)に示す。
(a)アミン系化合物 ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン及びナフタレンジアミン等
(b)酸無水物系化合物 無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸等
(c)アミド系化合物 ジシアンジアミド、若しくはリノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂等、
Examples of the curing agent that can be used in the epoxy resin composition of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, and phenol compounds. Specific examples of these other curing agents are shown in the following (a) to (e).
(A) Amine-based compounds diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, naphthalenediamine, etc. (b) acid anhydride-based compounds phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride , Tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc. (c) Amide compounds Dicyandiamide or linolenic acid dimer and ethylenediamine Polyamide resin, etc.

(d)フェノール系化合物多価フェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’,5,5’−テトラメチル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン及び1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン等);フェノール類(例えば、フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン及びジヒドロキシナフタレン等)と、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド及びフルフラール等)、ケトン類(p−ヒドロキシアセトフェノン及びo−ヒドロキシアセトフェノン等)、若しくはジエン類(ジシクロペンタジエン及びトリシクロペンタジエン等)との縮合により得られるフェノール樹脂;前記フェノール類と、置換ビフェニル類(4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル及び4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル等)、若しくは置換フェニル類(1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン及び1,4−ビス(ヒドロキシメチル)ベンゼン等)等との重縮合により得られるフェノール樹脂;前記フェノール類及び/又は前記フェノール樹脂の変性物;テトラブロモビスフェノールA及び臭素化フェノール樹脂等のハロゲン化フェノール類
(e)その他イミダゾール類、BF アミン錯体、グアニジン誘導体
(D) Phenol compound polyhydric phenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,2′-dihydroxybiphenyl, 3,3 ′, 5, 5'-tetramethyl- (1,1'-biphenyl) -4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane and 1,1,2,2-tetrakis (4 -Hydroxyphenyl) ethane and the like; phenols (eg, phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene and dihydroxynaphthalene) and aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydro) Phenol resins obtained by condensation with benzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, furfural, etc.), ketones (p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, etc.), or dienes (dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, etc.); Phenols and substituted biphenyls (such as 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl and 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl), or substituted phenyls ( Phenol resins obtained by polycondensation with 1,4-bis (chloromethyl) benzene, 1,4-bis (methoxymethyl) benzene, 1,4-bis (hydroxymethyl) benzene and the like; Or a modified product of the phenol resin; Lumpur A and halogenated phenols such as brominated phenol resin (e) Other imidazoles, BF 3 - amine complex, guanidine derivatives

これら他の硬化剤の中ではジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン及びナフタレンジアミンなどのアミン系化合物、並びにカテコールとアルデヒド類、ケトン類、ジエン類、置換ビフェニル類又は置換フェニル類との縮合物などの活性水素基が隣接している構造を有する硬化剤がエポキシ樹脂の配列に寄与するため好ましい。
他の硬化剤は単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。他の硬化剤を併用する場合、本発明のエポキシ樹脂組成物中の全硬化剤成分に占める本発明のフェノール化合物の割合は20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、70質量%以上が更に好ましく、特に好ましくは100質量%(他の硬化剤を併用しない場合)である。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のフェノール化合物を含む全硬化剤の使用量は、全エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜2.0当量が好ましく、0.6〜1.5当量が特に好ましい。
Among these other curing agents, active hydrogen such as amine compounds such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and naphthalenediamine, and condensates of catechol with aldehydes, ketones, dienes, substituted biphenyls or substituted phenyls. A curing agent having a structure in which groups are adjacent is preferable because it contributes to the arrangement of the epoxy resin.
Other curing agents may be used alone or in combination. When another curing agent is used in combination, the proportion of the phenolic compound of the present invention in the total curing agent component in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and 70% by mass. The above is more preferable, and 100% by mass (when no other curing agent is used in combination) is particularly preferable.
In the epoxy resin composition of the present invention, the amount of the total curing agent containing the phenol compound of the present invention is preferably 0.5 to 2.0 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy groups of all epoxy resins, and is preferably 0.6 to 1.5 equivalents are particularly preferred.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要により硬化促進剤を添加しても良い。硬化促進剤の具体例としては、トリフェニルフォスフィン、ビス(
メトキシフェニル) フェニルフォスフィン等のフォスフィン類、2―メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2―エチル,4―メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリスジメチルアミノメチルフェノール、ジアザビシクロウンデセン等の3級アミン類、テトラブチルアンモニウム塩、トリイソプロピルメチルアンモニウム塩、トリメチルデカニルアンモニウム塩、セチルトリメチルアンモニウム塩などの4級アンモニウム塩、トリフェニルベンジルフォスフォニウム塩、トリフェニルエチルフォスフォニウム塩、テトラブチルフォスフォニウム塩などの4級フォスフォニウム塩(4級塩のカウンターイオンはハロゲン、有機酸イオン、水酸化物イオンなど、特に指定は無いが、特に有機酸イオン、水酸化物イオンが好ましい。)、オクチル酸スズ等の金属化合物等が例示される。
硬化促進剤の使用量は、エポキシ樹脂100重量部当たり、通常0.2〜5.0重量部、好ましくは、0.2〜4.0重量部である。
If necessary, a curing accelerator may be added to the epoxy resin composition of the present invention. Specific examples of the curing accelerator include triphenylphosphine, bis (
Methoxyphenyl) Phosphine such as phenylphosphine, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, imidazoles such as 2-ethyl, 4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, trisdimethylaminomethylphenol, dia Tertiary amines such as zabicycloundecene, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium salt, triisopropylmethylammonium salt, trimethyldecanylammonium salt, cetyltrimethylammonium salt, triphenylbenzylphosphonium salt, triphenylethyl Quaternary phosphonium salts such as phosphonium salt and tetrabutylphosphonium salt (counter ion of quaternary salt is not particularly specified, such as halogen, organic acid ion, hydroxide ion, etc. Acid ion, a hydroxide ion.), Metal compounds such as tin octylate and the like.
The usage-amount of a hardening accelerator is 0.2-5.0 weight part normally per 100 weight part of epoxy resins, Preferably, it is 0.2-4.0 weight part.

本発明のエポキシ樹脂組成物は必要に応じて熱伝導に優れた無機充填材を含有させることで、その硬化物にさらに優れた高熱伝導性を付与することができる。
本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する無機充填材は、エポキシ樹脂組成物の硬化物に、より高い熱伝導率を付与する目的で加えられるもので、無機充填材自体の熱伝導率が低すぎる場合には、エポキシ樹脂と硬化剤の組み合わせにより得られた高熱伝導率が損なわれる恐れがある。従って、本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する無機充填材としては、熱伝導率が高いものほど好ましく、通常20W/m・K以上、好ましくは30W/m・K以上、より好ましくは50W/m・K以上の熱伝導率を有するものであれば何ら制限はない。尚、ここでいう熱伝導率とは、ASTM E1530に準拠した方法で測定した値である。この様な特性を有する無機充填材の具体例としては、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン、酸化亜鉛、炭化タングステン、アルミナ、酸化マグネシウム等の無機粉末充填材、合成繊維、セラミックス繊維等の繊維質充填材、着色剤等が挙げられる。これら無機充填材の形状は、粉末(塊状、球状)、単繊維、長繊維等いずれであってもよいが、特に、平板状のものであれば、無機充填材自身の積層効果によって硬化物の熱伝導性がより高くなり、硬化物の放熱性が更に向上するので好ましい。
本発明のエポキシ樹脂組成物における無機充填材の使用量は、エポキシ樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して通常2〜1000質量部であるが、熱伝導率を出来るだけ高める為には、本発明のエポキシ樹脂組成物の具体的な用途における取り扱い等に支障を来たさない範囲で、可能な限り無機充填材の使用量を増やすことが好ましい。これら無機充填材は1種のみを使用しても、2種類以上を併用してもよい。
The epoxy resin composition of the present invention can impart further excellent high heat conductivity to the cured product by containing an inorganic filler excellent in heat conduction as required.
The inorganic filler contained in the epoxy resin composition of the present invention is added for the purpose of imparting higher thermal conductivity to the cured product of the epoxy resin composition, and the thermal conductivity of the inorganic filler itself is too low. In some cases, the high thermal conductivity obtained by the combination of the epoxy resin and the curing agent may be impaired. Therefore, as the inorganic filler contained in the epoxy resin composition of the present invention, the one having higher thermal conductivity is preferable, usually 20 W / m · K or more, preferably 30 W / m · K or more, more preferably 50 W / m. -There is no restriction as long as it has a thermal conductivity of K or higher. In addition, heat conductivity here is the value measured by the method based on ASTM E1530. Specific examples of inorganic fillers having such characteristics include inorganic powder fillers such as boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, titanium nitride, zinc oxide, tungsten carbide, alumina, magnesium oxide, synthetic fibers, Examples thereof include fibrous fillers such as ceramic fibers, and coloring agents. The shape of these inorganic fillers may be any of powder (bulk shape, spherical shape), single fiber, long fiber, etc. However, in particular, if it is a flat plate, the cured product is cured by the lamination effect of the inorganic filler itself. This is preferable because the thermal conductivity becomes higher and the heat dissipation of the cured product is further improved.
Although the usage-amount of the inorganic filler in the epoxy resin composition of this invention is 2-1000 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin components in an epoxy resin composition, in order to raise heat conductivity as much as possible. It is preferable to increase the amount of the inorganic filler as much as possible as long as the handling of the epoxy resin composition of the present invention in a specific application is not hindered. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

また、充填材全体としての熱伝導率を20W/m・K以上に維持できる範囲であれば、熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材に熱伝導率が20W/m・K未満の充填材を併用しても構わないが、出来るだけ熱伝導率の高い硬化物を得るという本発明の目的からして、熱伝導率が20W/m・K未満の充填材の使用は最小限に留めるべきである。併用し得る充填材の種類や形状に特に制限はない。   In addition, if the thermal conductivity of the entire filler can be maintained at 20 W / m · K or more, the thermal conductivity of the inorganic filler with 20 W / m · K or more is less than 20 W / m · K. However, for the purpose of the present invention to obtain a cured product having as high a thermal conductivity as possible, the use of a filler having a thermal conductivity of less than 20 W / m · K is minimal. Should be kept on. There is no particular limitation on the type and shape of the filler that can be used in combination.

本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止用途に用いる場合、硬化物の耐熱性、耐湿性、力学的性質などの点から、エポキシ樹脂組成物中において75〜93質量%を占める割合で熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材使用するのが好ましい。この場合、残部はエポキシ樹脂成分、硬化剤成分及びその他必要に応じて添加される添加剤であり、添加剤としては併用できる他の無機充填材や後述する硬化促進剤等である。   When the epoxy resin composition of the present invention is used for semiconductor sealing applications, heat conduction is performed at a ratio of 75 to 93% by mass in the epoxy resin composition in terms of heat resistance, moisture resistance, mechanical properties, etc. of the cured product. It is preferable to use an inorganic filler having a rate of 20 W / m · K or more. In this case, the balance is an epoxy resin component, a curing agent component, and other additives that are added as necessary. Examples of the additive include other inorganic fillers that can be used in combination and a curing accelerator that will be described later.

本発明のエポキシ樹脂組成物には硬化促進剤を含有させることもできる。使用できる硬化促進剤としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール及び2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエチレンジアミン、トリエタノールアミン及び1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン及びトリブチルホスフィン等の有機ホスフィン類、オクチル酸スズなどの金属化合物、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート及びテトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート及びN−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩などが挙げられる。硬化促進剤は、エポキシ樹脂100質量部に対して0.01〜15質量部が必要に応じ用いられる。   The epoxy resin composition of the present invention may contain a curing accelerator. Examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, triethylenediamine, Tertiary amines such as triethanolamine and 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, organic phosphines such as triphenylphosphine, diphenylphosphine and tributylphosphine, metal compounds such as tin octylate, Tetrasubstituted phosphonium tetrasubstituted borates such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and tetraphenylphosphonium ethyltriphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate and N Such as tetraphenyl boron salts such methylmorpholine tetraphenylborate and the like. 0.01-15 mass parts is used for a hardening accelerator as needed with respect to 100 mass parts of epoxy resins.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてシランカップリング剤、離型剤及び顔料等種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂並びに各種熱可塑性樹脂等を添加することができる。熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の具体例としては、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、マレイミド樹脂、シアナート樹脂、イソシアナート化合物、ベンゾオキサジン化合物、ビニルベンジルエーテル化合物、ポリブタジエンおよびこの変性物、アクリロニトリル共重合体の変性物、インデン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ジシクロペンタジエン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂、または熱可塑性樹脂は本発明のエポキシ樹脂組成物中において60質量%以下を占める量が用いられる。   If necessary, various compounding agents such as a silane coupling agent, a release agent and a pigment, various thermosetting resins, various thermoplastic resins, and the like can be added to the epoxy resin composition of the present invention. Specific examples of thermosetting resins and thermoplastic resins include vinyl ester resins, unsaturated polyester resins, maleimide resins, cyanate resins, isocyanate compounds, benzoxazine compounds, vinyl benzyl ether compounds, polybutadiene and its modified products, and acrylonitrile. Examples include modified polymers, indene resins, fluororesins, silicone resins, polyetherimides, polyethersulfones, polyphenylene ethers, polyacetals, polystyrenes, polyethylenes, and dicyclopentadiene resins. The thermosetting resin or thermoplastic resin is used in an amount occupying 60% by mass or less in the epoxy resin composition of the present invention.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成分を均一に混合することにより得られ、その好ましい用途としては半導体封止材やプリント配線版等が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は従来知られているのと同様の方法で容易にその硬化物とすることが出来る。例えば、本発明のエポキシ樹脂組成物の必須成分であるエポキシ樹脂、硬化剤及び熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材、並びに必要により硬化促進剤、配合剤、各種熱硬化性樹脂や各種熱可塑性樹脂等を、必要に応じて押出機、ニーダ又はロール等を用いて均一になるまで充分に混合して得られた本発明のエポキシ樹脂組成物を、溶融注型法あるいはトランスファー成型法やインジェクション成型法、圧縮成型法などによって成型し、更にその融点以上で2〜10時間加熱することにより本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物を得ることが出来る。前述の方法でリードフレーム等に搭載された半導体素子を封止することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物を半導体封止用途に用いることができる。
The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above-mentioned components, and preferred applications thereof include semiconductor encapsulants and printed wiring boards.
The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by the same method as conventionally known. For example, an epoxy resin that is an essential component of the epoxy resin composition of the present invention, a curing agent, an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more, and a curing accelerator, a compounding agent, and various thermosetting resins as necessary. And various thermoplastic resins, etc., if necessary, using an extruder, kneader or roll, etc., until the mixture is sufficiently mixed until uniform, the melt casting method or transfer molding A cured product of the epoxy resin composition of the present invention can be obtained by molding by a method, an injection molding method, a compression molding method, or the like, and further heating for 2 to 10 hours above the melting point. By sealing the semiconductor element mounted on the lead frame or the like by the above-described method, the epoxy resin composition of the present invention can be used for semiconductor sealing applications.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物は溶剤を含むワニスとすることもできる。該ワニスは、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤のうち、少なくとも一方に本発明のエポキシ樹脂、もしくは本発明のフェノール樹脂の少なくとも一方を含み、必要に応じて熱伝導率が20W/m・K以上の無機充填材などのその他の成分を含む混合物を、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のエステル類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ及びソルベントナフサ等の石油系溶剤等の有機溶剤と混合することにより得ることが出来る。溶剤の量はワニス全体に対し通常10〜95質量%、好ましくは15〜85質量%である。
上記のようにして得られるワニスをガラス繊維、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維及び紙などの繊維基材に含浸させた後に加熱によって溶剤を除去すると共に、本発明のエポキシ樹脂組成物を半硬化状態とすることにより、本発明のプリプレグを得ることが出来る。尚、ここで言う「半硬化状態」とは、反応性の官能基であるエポキシ基が一部未反応で残っている状態を意味する。該プリプレグを熱プレス成型して硬化物を得ることが出来る。
Moreover, the epoxy resin composition of this invention can also be made into the varnish containing a solvent. The varnish includes, for example, at least one of the epoxy resin of the present invention or the phenol resin of the present invention in at least one of an epoxy resin and a curing agent, and if necessary, has a thermal conductivity of 20 W / m · K or more. Mixtures containing other components such as inorganic fillers, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, N, N′-dimethylformamide, N, N′-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether Glycol ethers such as Tell, ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, dialkyl adipate, It can be obtained by mixing with a cyclic ester such as γ-butyrolactone, an organic solvent such as petroleum ether such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha and solvent naphtha. The amount of the solvent is usually 10 to 95% by mass, preferably 15 to 85% by mass with respect to the whole varnish.
The varnish obtained as described above is impregnated into a fiber substrate such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber and paper, and then the solvent is removed by heating, and the epoxy resin composition of the present invention By making a semi-cured state, the prepreg of the present invention can be obtained. Here, the “semi-cured state” means a state in which an epoxy group which is a reactive functional group partially remains unreacted. The prepreg can be hot press molded to obtain a cured product.

以下、本発明を実施例で更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。合成例、実施例、比較例において部は質量部を意味する。
なお、エポキシ当量、融点、軟化点、全塩素量、熱伝導率は以下の条件で測定した。
・エポキシ当量
JIS K−7236に記載された方法で測定し、単位はg/eq.である。
・融点
Seiko Instruments Inc.製 EXSTAR6000
測定試料 2mg〜5mg 昇温速度 10℃/min.
・軟化点
JIS K−7234に準拠した方法で測定し、単位は℃である。
・GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)
メーカー:東ソー株式会社
カラム:HXL‐L(1本)、G3000HXL(1本)、G2000HXL(2本)
流速:1.065ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:UV(254nm)・全塩素量
試料のブチルカルビトール溶液に1N−KOHプロピレングリコール溶液を添加し、10分間還流することにより遊離する塩素量(モル)を硝酸銀滴定法により測定し、試料の重量で除した値。
・熱伝導率
ASTM E1530に準拠した方法で測定し、単位はW/m・Kである。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples. In the synthesis examples, examples, and comparative examples, “part” means “part by mass”.
The epoxy equivalent, melting point, softening point, total chlorine content, and thermal conductivity were measured under the following conditions.
-Epoxy equivalent Measured by the method described in JIS K-7236, the unit is g / eq. It is.
Melting point Seiko Instruments Inc. EXSTAR6000 made
Measurement sample 2 mg to 5 mg Temperature rising rate 10 ° C./min.
-Softening point It measures by the method based on JISK-7234, and a unit is (degreeC).
・ GPC (gel permeation chromatography)
Manufacturer: Tosoh Corporation Column: H XL -L (1), G3000H XL (1), G2000H XL (2)
Flow rate: 1.065 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent: THF (tetrahydrofuran)
Detector: UV (254 nm) and total chlorine amount Add 1N-KOH propylene glycol solution to butyl carbitol solution of sample, and measure the amount of chlorine released (mol) by refluxing for 10 minutes by silver nitrate titration method. The value divided by the weight of.
-Thermal conductivity It measures by the method based on ASTM E1530, and a unit is W / m * K.

合成例1
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、4’−ヒドロキシアセトフェノン136部、バニリン152部およびエタノール200部を仕込み、溶解した。これに97質量%硫酸20部を添加後60℃
まで昇温し、この温度で10時間反応後、反応液を水1200部に注入し、晶析させた。結晶を濾別後、水600部で2回水洗し、その後真空乾燥し、黄色結晶のフェノール化合物1を256部得た。得られた結晶のDSC測定による吸熱ピーク温度は233℃であった。
Synthesis example 1
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 136 parts of 4′-hydroxyacetophenone, 152 parts of vanillin and 200 parts of ethanol and dissolved. After adding 20 parts of 97% by mass sulfuric acid to this, 60 ° C.
The reaction solution was poured into 1200 parts of water and allowed to crystallize. The crystals were separated by filtration, washed twice with 600 parts of water, and then vacuum-dried to obtain 256 parts of phenol compound 1 as yellow crystals. The endothermic peak temperature of the obtained crystal as measured by DSC was 233 ° C.

(実施例1)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに窒素パージを施しながら、合成例1で得られたフェノール化合物1を141部、エピクロルヒドリン291部、メタノール29部、水9部を加え、撹拌下、75℃にまで昇温し、溶解し、フレーク状の水酸化ナトリウム45部を90分間かけて分割添加した後、75℃のまま1時間反応を行なった。反応終了後、エピクロルヒドリン109部を添加し、水洗し塩を取り除いた。続いて、ロータリーエバポレーターを用いて140℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤を留去した。残留物をメチルイソブチルケトン(以下、MIBK)400部に溶解した後に、水洗し更に塩を除去した後、MIBK溶液を75℃に昇温し、撹拌下で30%水酸化ナトリウム水溶液28部を添加し、75分間反応を行なった後、洗浄水が中性になるまで水洗を行なった。得られた溶液を、ロータリーエバポレーターを用いて180℃で減圧下にMIBK等を留去することでエポキシ樹脂混合物(以下、エポキシ樹脂1)を68部得た。得られたエポキシ樹脂1のエポキシ当量は221g/eq.、軟化点は57℃であった。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)での低分子量体面積比率は、2.9面積%であった、上記式(3)で表される樹脂の面積比率は、7.6面積%であった。
Example 1
While purging a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 141 parts of phenol compound 1 obtained in Synthesis Example 1, 291 parts of epichlorohydrin, 29 parts of methanol, and 9 parts of water were added and stirred. The mixture was heated to 75 ° C., dissolved, 45 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the reaction was carried out for 1 hour at 75 ° C. After completion of the reaction, 109 parts of epichlorohydrin was added and washed with water to remove salt. Subsequently, excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure at 140 ° C. using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 400 parts of methyl isobutyl ketone (hereinafter referred to as MIBK), washed with water to remove salts, and then the MIBK solution was heated to 75 ° C. and 28 parts of 30% aqueous sodium hydroxide solution was added with stirring. Then, after reacting for 75 minutes, washing was performed until the washing water became neutral. The obtained solution was distilled off MIBK and the like under reduced pressure at 180 ° C. using a rotary evaporator to obtain 68 parts of an epoxy resin mixture (hereinafter referred to as epoxy resin 1). The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin 1 is 221 g / eq. The softening point was 57 ° C. The area ratio of the low molecular weight body in gel permeation chromatography (GPC) was 2.9 area%, and the area ratio of the resin represented by the above formula (3) was 7.6 area%.

(比較例1)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに窒素パージを施しながら、合成例1で得られたフェノール化合物1を177部、エピクロルヒドリンを363部、ジメチルスルホキシド(以下、DMSO)を182部、水を4部加え、撹拌下、70℃にまで昇温し、溶解し、フレーク状の水酸化ナトリウム56部を90分間かけて分割添加した後、70℃
のまま3時間反応を行なった。反応終了後、反応液にエピクロルヒドリンを363部加え、水洗を行った。水洗後の有機層を、ロータリーエバポレーターを用いて135℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤を留去した。残留物をメチルイソブチルケトン(以下、MIBK)382部に溶解した後に水洗し塩を取り除いた。水洗後、MIBK溶液を75℃に昇温し、撹拌下で30%水酸化ナトリウム水溶液17部を添加し、1時間反応を行なった後、洗浄水が中性になるまで水洗を行ない、得られた溶液を、ロータリーエバポレーターを用いて180℃で減圧下にMIBK等を留去することでエポキシ樹脂2を200部得た。得られたエポキシ樹脂混合物(以下、エポキシ樹脂2)のエポキシ当量は217g/eq.、軟化点は55℃であった。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)での低分子量体面積比率は、7.6面積%、また上記式(3)で表される樹脂の面積比率は、3.0面積%であった。
(Comparative Example 1)
While purging a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer with nitrogen purge, 177 parts of phenol compound 1 obtained in Synthesis Example 1, 363 parts of epichlorohydrin, 182 parts of dimethyl sulfoxide (hereinafter, DMSO), 4 parts of water was added, the temperature was raised to 70 ° C. with stirring, the mixture was dissolved, 56 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and then 70 ° C.
The reaction was carried out for 3 hours. After completion of the reaction, 363 parts of epichlorohydrin was added to the reaction solution and washed with water. The organic layer after washing with water was distilled off excess solvent such as epichlorohydrin under reduced pressure at 135 ° C. using a rotary evaporator. The residue was dissolved in 382 parts of methyl isobutyl ketone (hereinafter referred to as MIBK) and then washed with water to remove the salt. After washing with water, the MIBK solution was heated to 75 ° C., added with 17 parts of 30% aqueous sodium hydroxide solution with stirring, reacted for 1 hour, and then washed with water until the washing water became neutral. 200 parts of epoxy resin 2 was obtained by distilling MIBK etc. off under reduced pressure using a rotary evaporator at 180 ° C. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin mixture (hereinafter referred to as epoxy resin 2) was 217 g / eq. The softening point was 55 ° C. The area ratio of the low molecular weight substance in gel permeation chromatography (GPC) was 7.6 area%, and the area ratio of the resin represented by the above formula (3) was 3.0 area%.

(実施例2、3、比較例2、3)
各種成分を表1の割合(部)で配合し、ミキシングロールで混練、タブレット化後、トランスファー成形で樹脂成形体を調製し、160℃で2時間、更に180℃で8時間加熱を行い、本発明のエポキシ樹脂組成物及び比較用樹脂組成物の硬化物を得た。これら硬化物の熱伝導率を測定した結果を表1に示した。
(Examples 2 and 3, Comparative Examples 2 and 3)
Various components are blended in the proportions (parts) shown in Table 1, kneaded with a mixing roll, converted into a tablet, a resin molded product is prepared by transfer molding, and heated at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours. Hardened | cured material of the epoxy resin composition of invention and the resin composition for a comparison was obtained. The results of measuring the thermal conductivity of these cured products are shown in Table 1.

Figure 2015067830
Figure 2015067830

(溶解性試験)
これらの操作によって得られたエポキシ樹脂1、2を含む各種エポキシ樹脂の60℃におけるメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン(以下、MEK)、シクロヘキサノンに対する樹脂濃度30%、40%、50%それぞれでの溶解性を表2に示した。

Figure 2015067830
(Solubility test)
The solubility of various epoxy resins including epoxy resins 1 and 2 obtained by these operations in methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as MEK) and cyclohexanone at 60 ° C. at 30%, 40% and 50% respectively. It is shown in Table 2.
Figure 2015067830

以上の結果から、本発明で得られたエポキシ樹脂は高純度であることから、その硬化物が高い熱伝導率を示し、特にIC封止材料、積層材料、電気絶縁材料等などの電気・電子分野に有用である。   From the above results, since the epoxy resin obtained in the present invention is highly pure, the cured product exhibits high thermal conductivity, and in particular, electrical / electronic such as IC sealing materials, laminated materials, electrical insulating materials, etc. Useful in the field.

Claims (6)

下記工程(イ)〜(ロ)を経ることにより得られるエポキシ樹脂の内、GPCでの下記式(1)および(2)のエポキシ化物の面積比率の合計が、高速液体クロマトグラフィーでの測定において0.5〜5面積%であり、下記式(3)
Figure 2015067830
(式(3)中、R、R、k、lは下記と同じ意味を表し、Yはオキシグリシジル基又は下記式(4)
Figure 2015067830
(式(4)中、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基を表す。)
を表し、Yのうち少なくとも一つは上記式(4)である。)
で表される樹脂を高速液体クロマトグラフィーでの測定において3.1〜20面積%含有するエポキシ樹脂混合物。
工程(イ):下記式(1)
Figure 2015067830
(式(1)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換または無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基又は炭素数1〜10の置換または無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。lはR1の数を表し、0〜4の整数である。)と、
下記式(2)
Figure 2015067830
(式(2)中、Rはそれぞれ独立して存在し、水素原子、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数6〜10の置換若しくは無置換のアリール基、水酸基、ニトロ基、ホルミル基、アリル基又は炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルコキシ基のいずれかを表す。kはRの数を表し、0〜4の整数である。)で表される化合物との反応によってフェノール化合物(a)を得る工程。
工程(ロ):工程(イ)により得られるフェノール化合物(a)を、公知の手法にてエピハロヒドリンと反応させることにより本発明のエポキシ樹脂を得る工程。
Among the epoxy resins obtained by going through the following steps (a) to (b), the total area ratio of the epoxidized products of the following formulas (1) and (2) in GPC is measured by high performance liquid chromatography. 0.5 to 5 area%, the following formula (3)
Figure 2015067830
(In the formula (3), R 1 , R 2 , k, and l have the same meaning as described below, and Y represents an oxyglycidyl group or the following formula (4).
Figure 2015067830
(In formula (4), R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
And at least one of Y is represented by the above formula (4). )
The epoxy resin mixture which contains 3.1-20 area% in the measurement by high performance liquid chromatography.
Process (I): following formula (1)
Figure 2015067830
(In Formula (1), each R 1 is independently present and is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, Represents either a nitro group or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, l represents the number of R 1 , and is an integer of 0 to 4);
Following formula (2)
Figure 2015067830
(In Formula (2), each R 2 is independently present, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, It represents any of a nitro group, a formyl group, an allyl group, or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, where k represents the number of R 2 and is an integer of 0 to 4. A step of obtaining a phenol compound (a) by reaction with a compound.
Step (b): A step of obtaining the epoxy resin of the present invention by reacting the phenol compound (a) obtained in step (a) with epihalohydrin by a known method.
請求項1に記載のエポキシ樹脂と硬化剤および/または硬化促進剤を含有してなるエポキシ樹脂組成物。 An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to claim 1 and a curing agent and / or a curing accelerator. 熱伝導率20W/m・K以上の無機充填材を含有してなる請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 2, comprising an inorganic filler having a thermal conductivity of 20 W / m · K or more. 半導体封止用途に用いられる請求項2または請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition of Claim 2 or Claim 3 used for a semiconductor sealing use. 請求項2または請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物及びシート状の繊維基材からなるプリプレグ。 A prepreg comprising the epoxy resin composition according to claim 2 or 3 and a sheet-like fiber base material. 請求項2〜4のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、または請求項5に記載のプリプレグを硬化してなる硬化物、 Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition as described in any one of Claims 2-4, or the prepreg of Claim 5.
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