KR20140015067A - 표시소자용 기판 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명의 표시소자용 기판은 매트릭스;　계면층; 및 코팅층이 순차적으로 적층되어 있으며, 상기 매트릭스는 실리콘계 고무를 포함하며, 상기 계면층은 실리콘계 고무를 포함하되 상기 매트릭스 보다 밀도가 높고, 상기 코팅층은 평탄도(Ra)가 30 nm 이하인 것을 특징으로 한다. 본 발명의 표시소자용 기판은 특정 플라즈마 처리에 의해 표면굴곡을 개선할 수 있다.

Description

표시소자용 기판　및 그 제조방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}

본 발명은 표시소자용 기판　및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 특정 매트릭스에 플라즈마 처리하여 계면층을 형성하여 표면굴곡을 개선할 수 있는 표시소자용 기판　및 그 제조방법에 관한 것이다. 　

　

액정 표시 소자나 유기 EL 표시소자용 기판, 컬러필터 기판, 태양전지 기판 등으로 내열성과 투명성이 우수하고, 선팽창계수가 낮은 유리가 사용되고 있다. 최근에는 표시소자용 기판 소재로 소형화, 박형화, 경량화, 내충격성 및 유연성이 요구됨에 따라 유리 기판을 대체하기 위한 소재로서 플라스틱 기판이 각광을 받고 있다.

플라스틱 기판으로 PET(polyethylene terephthalate) 또는 PEN(polyethylene naphthalate) 등과 같은 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 고리형 올레핀 수지, 에폭시계 수지나 아크릴계 수지 등의 소재가 사용되고 있다. 그러나, 이들 소재들은 열팽창계수가 상당히 높아 제품의 휘어짐과 배선의 단선 등의 문제점을 일으킬 수 있다. 폴리아미드계 수지와 같이 낮은 열팽창계수를 갖는 수지를 기판으로 적용하는 기술이 개발된 바 있으나, 폴리아미드계 수지는 투명성이 매우 낮고 높은 복굴절성, 흡습성 등으로 인해 기판 소재로 적합하지 않다.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 유리 섬유포와 함께 이방성이 낮은 실리콘계 러버 화합물을 매트릭스로 이용하여 열팽창성이 매우 낮고, 유연성, 내열성 및 투명성이 제공되는 복합시트가 개발된 바 있다. 그러나, 이러한 복합시트를 디스플레이용으로 기판으로 사용하기 위해서는 기판 제조에 필요한 투습성의 방지 및 복합시트 외부에 대해 가스 통과를 막는 무기막 배리어층이 확보되어야 한다. 그런데, 이러한 무기막 배리어층은 탄성모듈러스가 높고 수지 매트릭스와의 기계적 물성이 상이할 뿐만 아니라, 두 층간의 계면 접착력이 약해서 크랙이 발생하는 등 내굴곡성, 유연성 및 내구성　그리고 표면굴곡이 높은　문제가 있다.　

일본 공개공보 2009-012288에 개시된 바와 같이, 기존 복합시트를 이용한 표시소자용 기판에서는 표면굴곡을 개선하기 위해서 복합시트 제조에 사용되는 코어 수지 또는 이종의 액상 조액을 코어 층의 양측에 도포하여 표면굴곡을 개선하고 있다. 그러나 코팅전 초기 복합시트의 표면 굴곡이 코팅 용액의 종류 및 코팅정도를 좌우하지만 여기에 대한 개선 방법은 없다.

본 발명의 목적은 표면굴곡이 개선된 표시소자용 기판　및 그 제조방법을　제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 내투습성, 투과도, 저열팽창계수, 내굴곡성, 유연성 및 내구성이 우수한 표시소자용 기판　및 그 제조방법을　제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 크랙이 발생하지 않는 표시소자용 기판　및 그 제조방법을　제공하는 것이다.

본 발명의 하나의 관점은 표시소자용 기판에 관한 것이다. 상기 표시소자용 기판은 매트릭스;　계면층; 및 코팅층이 순차적으로 적층되어 있으며, 상기 매트릭스는 실리콘계 고무를 포함하며, 상기 계면층은 실리콘계 고무를 포함하되 상기 매트릭스 보다 밀도가 높고, 상기 코팅층은 평탄도(Ra)가 30 nm 이하인 것을 특징으로 한다.

상기 계면층은 상기 매트릭스 표면을 플라즈마 처리하여 형성된 것을 특징으로 한다.

상기 계면층의 밀도는 1.35~2.65 g/cm3일 수 있다. 　

상기 계면층에서　규소 : 산소의 중량비율이 1 : 0.7~1.14 일 수 있다.

상기 계면층은 두께가 1nm 내지 1 ㎛일 수 있다.

상기 매트릭스는 25　℃에서 탄성 모듈러스가 0.01 내지 10 MPa일 수 있다.

상기 매트릭스는 보강재가 함침된 것일 수 있다.

상기 코팅층은 (메타)아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트 수지 및 폴리이미드 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.

상기　코팅층 표면에 가스 배리어층이 더 형성될 수 있다.

본 발명의 다른 관점은 표시소자용 기판의 제조방법에 관한 것이다. 상기 방법은 실리콘계 고무를 포함하는 매트릭스의 최소한 일면을 플라즈마 처리하여 매트릭스의 표면에 계면층을 형성하고; 그리고 상기 계면층 표면을 코팅하여 평탄도(Ra)가 30 nm 이하인 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 한다.

상기 상기 플라즈마 처리는 전력 300~650 W, 아르곤 1~20 cc, 산소 5~40 cc 분위기 하에서 1초~1시간 처리할 수 있다.

다른 구체예에서는 상기 코팅층 표면에 가스 배리어층을 더 형성할 수 있다.

본 발명은 표면굴곡이 개선되고,　내굴곡성, 유연성 및 내구성이 우수하며,　크랙이 발생하지 않는 표시소자용 기판　및 그 제조방법을　제공하는 발명의 효과를 갖는다. 　

도 1은 본 발명의 한 구체예에 따른 표시소자용 기판의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 다른 구체예에 따른 표시소자용 기판의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 한 구체에에 따른 표시소자용 기판의 제조과정을 도시한 것이다.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 그리고, 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다.

　

도 1은 본 발명의 한 구체예에 따른 표시소자용 기판의 단면을 개략적으로 도시한 것이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 표시소자용 기판은 매트릭스(10);　계면층(12); 및 코팅층(20)이 순차적으로 적층되어 있다.

상기 매트릭스(10)는 실리콘계 고무를 포함한다. 구체예에서 상기 매트릭스(10)는 25　℃에서 탄성 모듈러스가 0.01 내지 10 MPa인 실리콘계 고무일 수 있다. 바람직하게는 0.1 내지 1 MPa 일 수 있다. 상기 범위에서 표시소자용 기판이 우수한 유연성, 내열성, 투습성, 내구성 및 평탄도를 가질 수 있다. 본 발명에서 탄성모듈러스는　100N 하중 셀을 가준 MTS 얼라이언스(Alliance) RT/5 시험 프레임을 사용하여 25℃에서 측정한 값이다. 구체적으로, 시험편을 25mm 떨어진 간격의 2개의 공기 그립으로 가중시키고 1mm/분의 크로스헤드 속도에서 끌어당겼다. 하중 및 변위 데이타를 연속적으로 수집하고, 하중 변위 곡선의 초기 부분의 최대 경사를 영률로 취한 것이다.

상기 실리콘 고무로는 평균중합도 5 내지 2000　인 오르가노폴리실록산이 사용될 수 있다. 상기 오르가노폴리실록산의 예로는 폴리디메틸실록산, 폴리메틸페닐실록산, 폴리알킬아릴실록산, 폴리알킬알킬실록산 등이 있다. 이들은 3 차원 적으로 망상 구조의 분자로 되어 있다. 바람직하게는 그물 결합점의 수가 5 내지 500개로 R2SiO마다 1개씩 포함된 구조를 가질 수 있다. 상기 실리콘 고무의 점도는 25　℃에서 5 내지 50만 Cst인 오르가노폴리실록산이 사용될 수 있다. 상기 범위 내에서, 복합시트는 우수한 유연성, 내열성, 투습성, 내구성 및 평탄도를 가질 수 있다.　바람직하게는 상기 실리콘 고무의 점도는 25　℃에서 5 내지 120000　Cst, 더 바람직하게는 100 내지 100000　Cst, 가장 바람직하게는 1000 내지 80000Cst를 가질 수 있다.

상기 매트릭스(10)는 보강재(15)가 함침된 것일 수 있다. 상기 보강재는 상기 매트릭스에 함침되어 있다. 상기 보강재는 유리섬유, 유리 섬유포(glass fiber cloth), 유리 직물(glass fibric), 유리 부직포, 유리 메쉬(glass mesh), 유리 비드, 유리 플레이크(glass flake), 실리카 입자 및 콜로이달 실리카　등이 사용될 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용될 수 있다.

상기 매트릭스(10)의 표면에는 계면층(12)이 형성되어 있다. 상기 계면층은 상기 매트릭스 표면을 플라즈마 처리하여 형성된 것으로, 실리콘계 고무를 포함하되, 플라즈마 처리로 인해 상기 매트릭스 보다 산소의 비율이 높아진다.

구체예에서는 상기 매트릭스의 규소 : 산소 중량비율은 1 : 0.35~0.58 인 반면, 상기 계면층 규소 : 산소의 중량비율은 1 : 0.7~1.14 일 수 있다. 상기 범위에서 투습성이 증가하는 장점이 있다.

또한 상기 계면층은 플라즈마 처리로 인해 동일한 실리콘 고무를 포함하더라도 밀도가 매트릭스보다 높다. 예를 들면 상기 매트릭스의 밀도는 1.11~1.15 g/cm3인 반면, 상기 계면층의 밀도는 1.35~2.65 g/cm3 일 수 있다.

상기 계면층(12)은 두께가 1nm 내지 1㎛, 바람직하게는 10nm ~ 500nm 일 수 있다. 상기 범위에서 투습성이 우수하다.

상기 계면층(12)은 25　℃에서 탄성　모듈러스가 10~90 GPa일 수 있다. 상기 범위에서 본 발명에서 목적으로 하는 크랙이 발생되지 않는다.

상기 계면층(12)의 표면에는 코팅층(20)이 형성된다. 상기 코팅층(20)은 평탄도(Ra)가 30 nm 이하, 바람직하게는 평탄도(Ra)가 1~ 25 nm 인 것을 특징으로 한다. 상기 범위에서 가스 베리어층을 균일하게 형성 시킬 수 있다.

구체예에서, 상기 코팅층(20)은 경화 가능한 수지로서 (메타)아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트 수지 및 폴리이미드 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 아크릴계 수지이다.

상기 코팅층(20)은 롤(Roll) 코팅, 스핀(Spin) 코팅, 딥(Dip) 코팅, 플로우(Flow) 코팅, 스프레이(Spray) 코팅 등의 방법으로 형성되며, 이후 경화과정을 거칠 수 있다.

상기 코팅층(20)의 두께는 특별한 제한은 없으나, 0.01 내지 50 ㎛, 바람직하게는 1 내지 35 ㎛ 일 수 있다. 상기 범위에서 표면굴곡 개선과 함께 매트릭스 고유의 물성을 저해하지 않고 발현할 수 있다.

또한, 상기 코팅층(20)은 550nm　투과도가 85 % 이상, 바람직하게는 90~100 % 인 것이 사용될 수 있다. 상기 범위에서 표면굴곡을 개선할 수 있고 표시소자용 기판에 적용될 수 있다. 또한 상기　코팅층(20)은 25　℃에서 탄성 모듈러스가 100 MPa 이상 10 GPa 미만, 바람직하게는 500 MPa ~5 GPa 일 수 있다. 상기 범위에서 본 발명에서 목적으로 하는 크랙이 발생되지 않는다.

상기　코팅층(20) 표면에 가스 배리어층(30)이 더 형성될 수 있다. 도 2는 본 발명의 다른 구체예에 따른 표시소자용 기판의 단면을 개략적으로 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상기 가스 배리어층(30)은 상기　코팅층(20)의 상부에 형성될 수 있다. 　상기 가스 배리어층(30)은 상기 코팅층(20)의 표면에 물리적 증착, 화학적 증착, 코팅, 스퍼터링, 증발법, 이온 도금법, 습식 코팅법, 유기무기 다층 코팅법 등의 방법으로 형성될 수 있다.

상기 가스 배리어층(30)은 25　℃에서 탄성　모듈러스가 10~500 GPa, 바람직하게는 15~350 GPa 일 수 있다. 상기 범위에서 표시소자용 기판이 우수한 유연성, 내투습성, 기계적 물성 및 내구성을 가짐과 동시에 평탄도와 투습성을 낮출 수 있다.

상기 가스 배리어층(30)은 질화규소, 산화규소, 탄화규소, 질화알루미늄, 산화알루미늄, ITO 및 IZO로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 가스 배리어층(30)은 단일층을 형성하거나 2종 이상의 배리어층이 적층하여 복수층을 형성할 수 있다.

본 발명의 표시소자용 기판은 투습성이 0.01 내지 0.15 g/m2/day, 투과도가 85 % 초과, 바람직하게는 90~100 % 일 수 있다. 또한 상기 표시소자용 기판은 열팽창계수가 1~5 ppm/℃　이며, 표면굴곡이 30 nm 이하, 바람직하게는 0.01~25 nm 을 달성할 수 있다.

　

본 발명의 다른 관점은 표시소자용 기판의 제조방법에 관한 것이다. 도 3은 본 발명의 한 구체에에 따른 표시소자용 기판의 제조과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 도 3(a)에서 보강재(15)가 함침된 매트릭스(10)를 준비한다. 도 3(b)에서 상기 매트릭스(10)의 최소한 일면을 플라즈마 처리하여 매트릭스의 표면에 계면층(12)을 형성한다. 이때 상기 매트릭스(10)와 상기 계면층(12)은 모두 실리콘계 고무를 포함하되, 플라즈마 처리로 인해 계면층(12)의 산소가 매트릭스(10) 보다 크다.

상기 플라즈마 처리는 전력 300~650 W, 아르곤 1~20 cc, 산소 5~40 cc 분위기 하에서 1초~1시간 처리하는 조건으로 할 수 있다. 상기 범위에서 특정 밀도를 갖는 계면층이 형성될 수 있다.

상기 플라즈마 처리 후, 75~120 ℃에서 1분~3시간 열처리를 하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이후 열처리된 표면을 접착력을 향상시키기 위해 제2 플라즈마 처리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이와 같이, 제2 플라즈마 처리를 함으로서, 매트릭스와 이후 형성되는 평탄 코팅층 간의 접착력이 증가될 수 있다. 상기 제2 플라즈마 처리는 전력 300~650 W, 아르곤 1~20 cc, 산소 5~40 cc 분위기 하에서 1초~1시간 처리하는 조건으로 할 수 있다. 　

이후 도 3(c)에 도시된 바와 같이 상기 계면층(12)의 표면은 코팅 과정을 거쳐 평탄도(Ra)가 30 nm 이하인 코팅층(20)이 형성된다. 상기 코팅은 롤(Roll) 코팅, 스핀(Spin) 코팅, 딥(Dip) 코팅, 플로우(Flow) 코팅, 스프레이(Spray) 코팅 등이 가능하며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 코팅층이 형성된 후 통상의 방법으로 경화과정을 거칠 수 있다.

상기 코팅층(20)이 형성된 후, 도 3(d)에 도시된 바와 같이 코팅층(20)의 표면에 가스배리어층(30)을 더 형성시킬 수 있다. 상기 가스 배리어층(30)은 상기 코팅층(20)의 표면에 물리적 증착, 화학적 증착, 코팅, 스퍼터링, 증발법, 이온 도금법, 습식 코팅법, 유기무기 다층 코팅법 등의 방법으로 형성될 수 있다.

　

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다. 여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.

　

실시예

하기 실시예와 비교예에서 사용된 구체적인 성분의 사양은 다음과 같다.

(a) 매트릭스　:　실리콘 고무(Sylgard 184, MH series,　XD series,　Dow Corning사)를 블랜드하여 투명한 복합시트 제조가 가능하면서 탄성모듈러스가 0.1MPa인 수지를 사용하였다. 규소 : 산소의 중량 비율은 1 : 0.57 이고, 밀도는 1.11　g/cm3 이다.

(b) 보강재　:　유리 섬유포(3313, Nittobo사)를 사용하였다.

(c) 코팅층　: 탄성모듈러스가 3GPa인 아크릴계 경화수지(OER, 미뉴타텍社)를 사용하였다.

(d) 가스 배리어층　: 산화규소 및 질화규소를 사용하였다.

　

실시예 1

유리 기판 위에 보강재(b)를 놓은 후, 상기 보강재 위에 탄성모듈러스가 0.1MPa 인 매트릭스 수지(a)를 도포하였다. 상기 매트릭스 수지 위에 다시 10㎛ 두께의 유리 기판을 놓은 다음, 라미네이션(lamination)을 통해 매트릭스 수지에 보강재를 함침시켰다. 상온에서 경화시킨 후 유리 기판을 제거하고 전력 500W, 아르곤 10cc, 산소 20cc 분위기 하에서 10초간 플라즈마 처리하여 계면층을 형성하였다. 그 후 추가 100℃ 1시간 열처리를 통해　매트릭스에 보강재가 함침된 두께 90㎛의 복합시트를 제조하였다.　상기 시트의 표면을　또 한 번　전력 500W, 아르곤 10cc, 산소 20cc 분위기 하에서 10초간　플라즈마 처리하고 아크릴계 경화수지(c)를 양면에 각각 5㎛ 두께로 코팅한 후,　자외선 경화시켜 100㎛ 두께의 시트를 제조하였다. 스퍼터링 방법으로 산화규소와 질화규소를 번갈아서 가스 배리어층(d)을 형성함으로써 복합시트를 제조하였다. 상기 형성된 계면층의 두께 및 밀도와 규소 : 산소의 중량 비율을 측정하고 표 1에 나타내었다. 　

　

실시예 2

열처리전 10초간 플라즈마 처리　대신에 1분간 플라즈마 처리　한 것을 제외하고는　상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

　

실시예 3

열처리전 10초간 플라즈마 처리　대신에 10분간 플라즈마 처리　한 것을 제외하고는　상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

　

실시예 4

열처리전 10초간 플라즈마 처리　대신에 60분간 플라즈마 처리　한 것을 제외하고는　상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

　

비교예 1

유리 기판 위에 보강재(b)를 놓은 후, 상기 보강재 위에 탄성모듈러스가 0.1MPa 매트릭스 수지(a)를 도포하였다. 상기 매트릭스 수지 위에 유리 기판을 놓은 다음, 라미네이션(lamination)을 통해 매트릭스 수지에 보강재를 함침시켰다. 상온에서 경화시킨 후 유리 기판을 제거하고 플라즈마 처리하지 않고 100℃ 1시간 열처리를 통해　매트릭스에 보강재가 함침된 두께 90㎛의 복합시트를 제조하였다.　상기 시트의 표면을 전력 500W, 아르곤 10cc, 산소 20cc 분위기 하에서 10초간　플라즈마 처리하고 아크릴계 경화수지를 양면에 각각 5㎛ 두께로 코팅한 후　자외선 경화시켜 100㎛ 두께의 시트를 제조하였다. 스퍼터링 방법으로 산화규소와 질화규소를 번갈아서 가스 배리어층(d)을 형성함으로써 복합시트를 제조하였다.

　

비교예 2

매트릭스 수지로 탄성 모듈러스가 4GPa인 아크릴계 경화 수지(CK, 노루표페인트사)를　적용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다. 　

　

상기 실시예와 비교예에서 제조한 표시소자용 기판에 대해 표면굴곡, 투습성　및　투과도를　측정하고 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.

　

물성평가방법

(1)표면굴곡: Optical Surface Profiler(ZYGO, 700s) 장비를 사용하여 평탄도(Ra)를 측정하였다.　

(2) 투습성: MOCON 장비를 사용하여 ASTM F 1249 방법을 사용하여 측정하였다. 준비된 시편을 30mm x 40mm 크기로 자른 후 중앙 부위가 뚫린 지그에 끼워 측정하였다. 25℃에서 수증기압은 상대습도 100%에서 처리하였다.

(3)투과도: UV/VIS spectrometer (PerkinElmer, Lambda 45) 장비를 사용하여 550nm에서 투과도를 측정하였다.

(3)열팽창계수: TMA(Texas Instrument, Q40) 장비를 사용하고 ASTM E 831 방법을 사용하여 측정하였다.

	계면층 두께	계면층 밀도	계면층의 규소:산소 중량비	평탄화층 코팅 전 표면굴곡 (nm)	평탄화층 코팅 후 표면굴곡 (nm)	투습성 (g/m2/day)	투과도 (%)
실시예 1	50	1.35	0.70	180	26	0.1	90초과
실시예 2	55	1.36	0.71	174	24	0.09	90초과
실시예 3	125	1.57	0.77	161	19	0.06	90초과
실시예 4	500	2.65	1.14	159	17	0.01	90초과
비교예 1	-	1.11	1:0.57	230	40	0.2	90초과
비교예 2	-	1.17	-	210	20	0.2	90초과

상기 표 1에서 나타난 바와 같이, 실시예 1~4는 투습성 및 투과도 모두 우수한 것을 알 수 있다. 그러나 계면층이 형성되지 않은 비교예 1과 매트릭스 수지로 아크릴계 수지를 적용한 비교예 2는 투과율은 실시예와 유사한 반면 투습성은 실시예 보다 높은 것을 알 수 있다.

이상 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야 한다.

10 : 매트릭스 　　　　　　　　　　　　　　　　12 : 계면층
15　: 보강재　　　　　　　　　　　　　　　　　　　20 : 코팅층 　　　　　　　　　　　　　　
30 : 가스 배리어층

Claims (12)

1. 매트릭스;　계면층; 및 코팅층이 순차적으로 적층되어 있으며,
   상기 매트릭스는 실리콘계 고무를 포함하며,
   상기 계면층은 실리콘계 고무를 포함하되 상기 매트릭스 보다 밀도가 높고,
   상기 코팅층은 평탄도(Ra)가 30 nm 이하인 것을 특징으로 하는 표시소자용 기판.
   
   
2. 제1항에 있어서, 상기 계면층은 상기 매트릭스 표면을 플라즈마 처리하여 형성된 것을 특징으로 하는 표시소자용 기판.
   
3. 제1항에 있어서, 상기 계면층의 밀도는 1.35~2.65 g/cm3인 것을 특징으로 하는 표시소자용 기판.
   
4. 제1항에 있어서, 상기 계면층은 규소 : 산소의 중량비율이 1 : 0.7~1.14인 표시소자용 기판.
   
5. 제1항에 있어서, 상기 계면층은 두께가 1nm 내지 1 ㎛인 표시소자용 기판.
   
6. 제1항에 있어서, 상기 매트릭스는 25　℃에서 탄성 모듈러스가 0.01 내지 10 MPa인 표시소자용 기판.
   
7. 제1항에 있어서, 상기 매트릭스는 보강재가 함침된 것인 표시소자용 기판.
   
8. 제1항에 있어서, 상기 코팅층은 (메타)아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트 수지 및 폴리이미드 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 표시소자용 기판.
   
9. 제1항에 있어서, 상기　코팅층 표면에 가스 배리어층이 더 형성된 것을 특징으로 하는 표시소자용 기판.
   
10. 실리콘계 고무를 포함하는 매트릭스의 최소한 일면을 플라즈마 처리하여 매트릭스의 표면에 계면층을 형성하고; 그리고
    상기 계면층 표면을 코팅하여 평탄도(Ra)가 30 nm 이하인 코팅층을 형성하는 것을 특징으로 하는 표시소자용 기판의 제조방법.　　
    
11. 제10항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는 전력 300~650 W, 아르곤 1~20 cc, 산소 5~40 cc 분위기 하에서 1초~1시간 처리하는 조건으로 하는 것인 방법.
    
12. 제1항에 있어서, 상기 코팅층 표면에 가스 배리어층을 더 형성하는 것인 방법.
    
    
    
    
    　
    

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