KR20140011258A - Method of detection of defects and defects detection device - Google Patents

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KR20140011258A
KR20140011258A KR1020130068212A KR20130068212A KR20140011258A KR 20140011258 A KR20140011258 A KR 20140011258A KR 1020130068212 A KR1020130068212 A KR 1020130068212A KR 20130068212 A KR20130068212 A KR 20130068212A KR 20140011258 A KR20140011258 A KR 20140011258A
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코이치 에카와
마사히로 나카타
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오므론 가부시키가이샤
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Abstract

The detection accuracy of defects can be improved. A defect detection method comprises: an irradiating step for allowing an object to be detected to be irradiated with visible rays and non-visible rays provided by a light source; a data generating step for respectively receiving visible rays and non-visible rays reflected by the object to be detected or passing through the object to be detected, and generating imaging data corresponding to the received amount of each of the visible rays and non-visible rays; and a determination step for determining, if a result obtained by comparison between the variation of the imaging data in a visible ray area and the variation of the imaging data in a non-visible ray area belongs to a stored detection range, the result as a defect. [Reference numerals] (51) R signal processing unit; (52) G signal processing unit; (53) B signal processing unit; (54) IR/UV signal processing unit; (55) Positioning processing unit; (56) Defect detection unit; (56A) Detection threshold memory unit; (57) Determination unit; (57A) Determination threshold memory unit; (58) Output unit; (AA) Transfer direction

Description

결함 검사 방법 및 결함 검사 장치{METHOD OF DETECTION OF DEFECTS AND DEFECTS DETECTION DEVICE}DEFECTS DETECTION DEVICE AND DEFECT DETECTION DEVICES

본 발명은, 피검사물의 결함을 검사하는 방법 및 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and an apparatus for inspecting a defect of an inspected object.

시트형상 물품을 카메라로 촬상하여 얻은 RGB 화상을 사용하여, 시트형상 물품의 결함을 판정할 수 있다. 그리고, 복수의 다른색 영역을 갖는 검사판상(檢査板上)을 통과시킨 시트형상 물품의 RGB 화상 데이터로부터, R성분 화상, G성분 화상, B성분 화상을 합성한 합성 화상을 취득하고, 당해 합성 화상의 변색 영역의 색이 미리 기억한 결함 종별(種別)의 설정 파라미터의 범위에 속하는지에 의해 결함 종별을 판정하는 기술이 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 이 기술에 의하면, 색의 재현성에 폭(편차, 색얼룩 및/또는 퇴색)이 있는 시트형상 물품에서의 오염, 깨짐, 형상불량 등의 결함 검사에서, 모양(模樣)을 결함으로 판정하지 않고, 또한, 흑오염, 비흑오염 및 깨짐의 판별이 가능해진다.The defect of a sheet-like article can be determined using the RGB image obtained by imaging a sheet-like article with a camera. And from the RGB image data of the sheet-like article which passed the test plate image which has several different color gamut, the composite image which synthesize | combined R component image, G component image, and B component image is acquired, and the said synthesis | combination is carried out. Description of the Related Art A technique for determining a defect type is known depending on whether the color of the discolored region of an image falls within a range of a setting parameter of a defect type stored in advance (see Patent Document 1, for example). According to this technique, a defect is not judged as a defect in defect inspection such as contamination, cracking, and defective shape in a sheet-shaped article having a width (deviation, color stain and / or fading) in color reproducibility, In addition, black pollution, non-black pollution and cracking can be discriminated.

그러나, 가시광 영역의 RGB 화상 데이터로 결함을 판정하고 있기 때문에, 시트재와 색이 유사한 결함이나, 투명한 결함은 검출이 곤란해진다. 예를 들면, 어두운 색의 종이의 위에 부착하여 있는 금속분의 검출이나, 물이나 기름 등 투명한 액체의 검출은 곤란하다.However, since defects are determined by RGB image data in the visible light region, defects similar in color to the sheet material and transparent defects are difficult to detect. For example, it is difficult to detect metal powder adhering to dark colored paper or to detect a transparent liquid such as water or oil.

또한, 가시광 영역의 RGB 화상 데이터로 결함을 판정하면, 색이 유사한 결함을 종별하는 것이 곤란해진다. 예를 들면, 철 등의 검은 금속분과, 진한 색의 기름을 판별하는 것은 곤란하다. 또한, 알루미늄 등의 밝은 금속분과, 엷은 색의 기름과의 판별도 곤란하다. 또한, 물과, 투명한 기름과의 판별도 곤란해진다.In addition, when defects are determined by RGB image data in the visible light region, it becomes difficult to classify defects having similar colors. For example, it is difficult to distinguish black metal powder such as iron and dark colored oil. In addition, it is difficult to distinguish between bright metal powder such as aluminum and light oil. In addition, it is difficult to distinguish between water and transparent oil.

한편, 외관이 유사한 경우라도, 피검사물의 기능에 주는 영향이 다른 경우도 있다. 예를 들면 2차전지에 사용된 세퍼레이터에서는, 다소의 오염이 있어도 문제로는 되지 않지만, 금속이 혼입되어 있으면 전기가 도통할 우려가 있다. 이 때문에, 오염은 결함으로 판정할 필요는 없지만, 금속은 결함으로 판정할 필요가 있다. 따라서 색이 유사한 금속분과 오염을 판별할 요구가 있다. 또한, 피검사물에 물이 부착하여 있어도, 그 후에 증발하면 문제가 되지 않는 경우에는, 물이 부착하여 있어도 결함으로 판정할 필요는 없다. 그러나, 피검사물에 증발하기 어려운 기름이 부착하여 있는 경우에는, 결함으로 판정할 필요가 생긴다. 따라서 색이 유사한 물과 투명한 기름을 판별할 요구도 있다.On the other hand, even when the appearance is similar, the influence on the function of the inspected object may be different. For example, in the separator used for a secondary battery, even if there is some contamination, it does not become a problem, but there exists a possibility that electricity may be conducted when metal is mixed. For this reason, contamination does not need to be determined as a defect, but metal needs to be determined as a defect. Therefore, there is a need to discriminate between metal powder and contamination having similar colors. Moreover, even if water adheres to the inspected object and if it does not become a problem if it evaporates after that, it is not necessary to determine it as a defect even if water adheres. However, when oil hardly evaporates on the inspected object, it is necessary to determine it as a defect. Therefore, there is a need to discriminate between water of similar color and transparent oil.

이와 같이, 피검사물의 결함의 종류에 의해서는 허용되는 경우도 있기 때문에, 결함의 종류를 판별하는 것이 바람직하다. 그러나, 가시광 영역의 RGB 화상 데이터만으로는, 이 판별은 곤란하다. 따라서 결함으로서 검출하지 않아도 좋은 경우라도, 결함으로서 검출될 우려가 있다.Thus, since it may be permissible by the kind of defect of a to-be-tested object, it is preferable to determine the kind of defect. However, this determination is difficult only with RGB image data in the visible light region. Therefore, even if it is not necessary to detect it as a defect, there exists a possibility that it may be detected as a defect.

특허 문헌 1 : 일본국 특개2008-256402호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-256402

본 발명은, 상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 이루어진 것이고, 그 목적은, 결함의 검출 정밀도를 향상시키는 것에 있다.This invention is made | formed in view of the above problem, and the objective is to improve the detection precision of a defect.

상기 과제를 달성하기 위해 본 발명에 의한 결함 검사 방법은,In order to achieve the above object, the defect inspection method according to the present invention,

광원으로부터 피검사물에 대해, 가시광과, 비가시광을 조사하는 조사 공정과,An irradiation step of irradiating visible light and invisible light to the inspection object from a light source;

피검사물에서 반사하든지 또는 피검사물을 투과하는 가시광 및 비가시광을 각각 수광하고, 각각의 수광량에 응한 촬상 데이터를 각각 생성하는 데이터 생성 공정과,A data generation step of receiving visible and invisible light that reflects from or passes through the inspected object, respectively, and generates imaging data corresponding to the received amount of light, respectively;

상기 촬상 데이터가 변동한 영역에서의 그 촬상 데이터가 변동한 정도를, 가시광과, 비가시광으로 비교한 결과가, 미리 기억되어 있는 결함이 되는 범위 내에 속하고 있는 경우에는, 결함으로 판정하는 판정 공정을 포함하여 구성된다.Determination process of judging as a defect, when the result which compared the degree to which the image data was fluctuate | varied in the area | region in which the said image data was fluctuate | varied in visible light and an invisible light falls in the range which becomes a previously stored defect. It is configured to include.

여기서, 물질에 가시광 영역의 파장의 광, 및 비가시광 영역의 파장의 광을 조사하는 때의 각 파장의 광의 흡수률은, 물질마다 다르다. 이 때문에, 가시광 영역의 파장의 광과, 비가시광 영역의 파장의 광을 물질에 조사한 때의 반사광 또는 투과광의 강도는, 물질마다 및 광의 파장마다 다르다. 즉, 가시광 영역의 파장의 광과, 비가시광 영역의 파장의 광을 피검사물에 대해 조사한 때의 반사광 또는 투과광의 강도는, 결함이 존재하고 있을 때에는, 그 결함에 응한 강도가 된다. 이 때문에, 피검사물에 결함이 존재하지 않는 경우의 촬상 데이터와, 피검사물에 결함이 존재하는 경우의 촬상 데이터에는, 차가 생긴다. 즉, 피검사물에 결함이 존재하면, 촬상 데이터가 변동한다. 그리고, 이 촬상 데이터의 변동의 정도는, 물질마다 및 광의 파장마다 다르다. 이 때문에, 가시광 영역의 파장의 광의 촬상 데이터의 변동의 정도와, 비가시광 영역의 파장의 광의 촬상 데이터의 변동의 정도를 비교한 결과는, 결함의 유무 및 결함의 종류에 응하여 변한다. 따라서 각 파장의 광의 촬상 데이터의 변동의 정도를 비교한 결과를, 결함의 종류에 응하여 미리 기억하여 두면, 결함의 유무 및 결함의 종류의 판별이 가능해진다. 또한, 예를 들면, 피검사물의 색과 유사한 색의 결함으로 가시광만으로는 판별할 수가 없는 결함의 종류를, 비가시광을 병용함으로써 판별할 수 있다. 따라서 결함이 있다고 하여도 허용되는 결함의 경우에는, 결함이 존재하지 않는다고 판정할 수도 있다.Here, the absorption rate of the light of each wavelength at the time of irradiating the material with the light of the wavelength of a visible region and the light of the wavelength of an invisible region is different for every substance. For this reason, the intensity | strength of the reflected light or transmitted light at the time of irradiating the material with the light of the wavelength of a visible light region, and the light of the wavelength of an invisible light region differs for every material and for every wavelength of light. That is, the intensity of the reflected light or transmitted light when the light of the wavelength of the visible light region and the light of the wavelength of the non-visible light region is irradiated to the inspection object is the intensity corresponding to the defect when the defect is present. For this reason, a difference arises in the imaging data when a defect does not exist in an inspected object and the imaging data when a defect exists in an inspected object. In other words, if a defect exists in the inspected object, the imaging data fluctuates. The degree of variation of the captured image data differs for each material and for each wavelength of light. For this reason, the result of comparing the degree of variation of the imaging data of the light of the wavelength of the visible light region with the degree of the variation of the imaging data of the light of the wavelength of the invisible light region varies depending on the presence or absence of a defect and the type of the defect. Therefore, if the result of comparing the degree of fluctuation of the imaging data of the light of each wavelength is memorize | stored in advance according to the kind of defect, the presence or absence of a defect and the kind of defect can be discriminated. For example, the kind of defect which cannot be discriminated only by visible light by the defect of the color similar to the color of a to-be-tested object can be discriminated by using invisible light together. Therefore, in the case of a defect which is permitted even if there exists a defect, it can also be determined that a defect does not exist.

또한, 본 발명에서는, 상기 비가시광은, 적외광 또는 자외광의 적어도 한쪽이라도 좋다. 이들 파장의 광을 이용하면, 물질의 종류에 의해서는 촬상 데이터가 보다 현저하게 변동하기 때문에, 외관으로는 판단할 수가 없는 결함을 보다 정확하게 검출하는 것이 가능해진다.In the present invention, the invisible light may be at least one of infrared light or ultraviolet light. When the light having these wavelengths is used, the imaging data is more remarkably changed depending on the kind of the substance, so that defects that cannot be judged externally can be detected more accurately.

또한, 본 발명에서는, 상기 데이터 생성 공정에서 생성된 촬상 데이터를, 미리 촬상한 결함이 없는 피검사물의 촬상 데이터로 제산한 값인 제산치(除算値)를, 상기 촬상 데이터가 변동한 정도로서 가시광 및 비가시광에서 각각 구하고,Moreover, in this invention, the division value which is the value which divided | segmented the imaging data produced | generated by the said data generation process into the imaging data of the to-be-tested object which image | photographed before the defect does not have visible light and a ratio to the extent which the said imaging data changed. Each from visible light,

상기 판정 공정에서, 가시광의 상기 제산치와, 비가시광의 상기 제산치와의 차를, 미리 기억되어 있는 결함의 종류마다의 값과 비교함으로써, 결함의 종류를 판별하여도 좋다.In the determination step, the kind of defect may be determined by comparing the difference between the dividing value of visible light and the dividing value of invisible light with a value for each kind of defect stored in advance.

이와 같이 결함이 없는 촬상 데이터를 기준으로 하여 구한 각각의 비(제산치)를 비교함에 의해, 광원의 광량의 변동, 결함마다의 투과률 또는 반사률의 차이(違), 피검사물의 투과률 또는 반사률의 차이에 의한 오차를 저감할 수 있다. 이에 의해, 외란의 영향이나, 결함 또는 피검사물의 변화의 영향을 받기 어렵다 할 수 있기 때문에, 결함의 판정 정밀도를 향상시킬 수 있다.By comparing the respective ratios (division values) calculated based on the imaging data without defects as described above, the variation in the amount of light of the light source, the difference in transmittance or reflectance for each defect, the transmittance of the inspected object or The error due to the difference in reflectance can be reduced. Thereby, since it may be hard to be influenced by the influence of disturbance, a defect, or the change of an inspection object, the determination precision of a defect can be improved.

또한, 본 발명에서는, 상기 조사 공정에서 상기 적외광을 조사하는 경우에는, 장파장측보다도 단파장측의 가시광을 조사하여도 좋다.Moreover, in this invention, when irradiating the said infrared light in the said irradiation process, you may irradiate the visible light of a short wavelength side rather than a long wavelength side.

또한, 본 발명에서는, 상기 조사 공정에서 상기 자외광을 조사하는 경우에는, 단파장측보다도 장파장측의 가시광을 조사하여도 좋다.Moreover, in this invention, when irradiating the said ultraviolet light in the said irradiation process, you may irradiate the visible light of a long wavelength side rather than a short wavelength side.

즉, 파장의 차가 보다 큰 광에 의하면, 결함에 대한 촬상 데이터의 변동의 정도의 차가 보다 현저하게 나타나기 때문에, 결함의 판정 정밀도를 향상시킬 수 있다. 또한, 장파장측보다도 단파장측의 가시광이란, 가시광 영역의 중심이 되는 파장보다도 짧은 파장의 가시광으로 하여도 좋고, 가시광중의 B성분으로 하여도 좋다. 또한, 단파장측보다도 장파장측의 가시광이란, 가시광 영역의 중심이 되는 파장보다도 긴 파장의 가시광으로 하여도 좋고, 가시광중의 R성분으로 하여도 좋다.That is, when light with a larger difference in wavelength is shown, the difference in the degree of variation of the imaging data with respect to the defect is more remarkable, so that the accuracy of determining the defect can be improved. The visible light on the shorter wavelength side than the long wavelength side may be visible light having a wavelength shorter than the wavelength serving as the center of the visible light region or may be a B component in the visible light. The visible light on the longer wavelength side than the short wavelength side may be visible light having a wavelength longer than the wavelength serving as the center of the visible light region, or may be an R component in the visible light.

또한, 본 발명에서는, 가시광의 상기 제산치와, 비가시광의 상기 제산치와의 차가 임계치 이하인 경우에는, 금속을 포함한 결함으로 판정하여도 좋다.Moreover, in this invention, when the difference between the said dividing value of visible light and the said dividing value of invisible light is below a threshold value, you may judge as a defect containing a metal.

여기서, 조사된 광이 가시광 영역 또는 비가시광 영역의 파장의 광이라도, 금속이라면, 촬상 데이터가 같게 변동한다. 즉, 촬상 데이터의 변동의 정도의 차가 작다. 이 때문에, 촬상 데이터의 변동의 정도의 차가 임계치 이하인 경우에는, 금속을 포함한 결함으로 판정할 수 있다. 이 임계치는, 결함에 금속이 포함되어 있을 때의 촬상 데이터의 변동의 정도의 차의 상한치이다. 또한, 금속의 종류에 의해, 촬상 데이터의 변동의 정도가 변하기 때문에, 촬상 데이터의 변동의 정도에 응하여, 금속의 종류를 판별할 수 있다.Here, even if the irradiated light is light having a wavelength in the visible light region or in the invisible light region, the imaging data fluctuates equally if it is a metal. In other words, the difference in the degree of fluctuation of the imaging data is small. For this reason, when the difference of the degree of the fluctuation | variation of the imaging data is below a threshold, it can determine with the defect containing a metal. This threshold is an upper limit of the difference of the degree of the fluctuation | variation of the imaging data when a metal is contained in a defect. In addition, since the degree of variation in the imaging data changes depending on the type of metal, the type of metal can be determined in accordance with the degree of variation in the imaging data.

또한, 본 발명에서는, Si계의 반도체 수광 소자로 가시광 및 비가시광을 각각 수광할 수 있다. Si계의 반도체 수광 소자에 의하면, 적외광, 가시광, 자외광을 수광할 수 있다. 또한, 염가로 다화소(多畵素)가 가능해지기 때문에, 광범위한 계측이나 고속으로의 계측이 가능해진다.In the present invention, the visible light and the invisible light can be received by the Si-based semiconductor light receiving element, respectively. According to the Si type semiconductor light receiving element, infrared light, visible light, and ultraviolet light can be received. In addition, since the pixel can be made inexpensively, a wide range of measurements and a high speed measurement are possible.

또한, 본 발명에서는, 1대의 카메라에, 가시광 및 비가시광을 수광하는 소자를 각각 구비하여도 좋다. 이와 같이 함으로써, 장치의 소형화가 가능해진다.In the present invention, one camera may be provided with elements that receive visible light and invisible light, respectively. In this way, the size of the apparatus can be reduced.

또한, 본 발명에서는, 가시광과 비가시광을 분광 소자로 분광하여, 가시광 및 비가시광을 각각 수광하여도 좋다. 이와 같이 함으로써, 각 파장의 광의 촬상 위치의 차를 수정하기 위한 위치맞춤이 불필요하다게 되기 때문에, 처리의 간소화가 가능해진다.In the present invention, the visible light and the invisible light may be spectroscopically analyzed with a spectroscopic element to receive the visible light and the invisible light, respectively. By doing in this way, the alignment for correcting the difference of the imaging position of the light of each wavelength becomes unnecessary, and the process can be simplified.

또한, 본 발명에서는, 상기 광원이, 파장 영역에 제한이 있는 광원이라도 좋다.In the present invention, the light source may be a light source with a limited wavelength range.

또한, 본 발명에서는, 상기 광원으로부터 조사하는 광을 파장 필터에 통하여, 파장 영역을 제한하여도 좋다.In the present invention, the wavelength region may be limited by the wavelength filter for the light irradiated from the light source.

이와 같이, 파장 영역을 제한함에 의해, 물질과의 상호작용이 보다 현저한 파장의 광을 이용할 수 있기 때문에, 결함의 판정 정밀도를 향상시킬 수 있다.In this way, by limiting the wavelength range, light having a wavelength of more significant interaction with the substance can be used, so that the accuracy of determination of defects can be improved.

또한, 상기 과제를 달성하기 위해 본 발명에 의한 결함 검사 장치는,Moreover, in order to achieve the said subject, the defect inspection apparatus by this invention is

광원으로부터 피검사물에 대해, 가시광과, 비가시광을 조사하는 조사부와,An irradiation section for irradiating visible light and invisible light to the inspection object from the light source,

피검사물에서 반사하든지 또는 피검사물을 투과하는 가시광 및 비가시광을 각각 수광하고, 각각의 수광량에 응한 촬상 데이터를 각각 생성하는 데이터 생성부와,A data generation unit for receiving visible and invisible light that reflects from or passes through the object to be inspected, and generates imaging data corresponding to the amount of received light, respectively;

상기 촬상 데이터가 변동한 영역에서의 그 촬상 데이터가 변동한 정도를, 가시광과, 비가시광으로 비교한 결과가, 미리 기억되어 있는 결함이 되는 범위 내에 속하고 있는 경우에는, 결함으로 판정하는 판정부를 구비한다.When the result of comparing the degree of fluctuation of the image data in the region where the image data has changed with visible light and invisible light is within the range of the previously stored defect, a determination unit for judging it as a defect. Equipped.

본 발명에 의하면, 결함의 검출 정밀도를 향상시킬 수 있다.According to this invention, the detection precision of a defect can be improved.

도 1은 실시례 1에 관한 결함 검사 장치의 블록도.
도 2는 각 신호 처리부에서 처리된 후의 화소와 반사비와의 관계를 도시한 도면.
도 3은 도 2에 도시한 각 신호를 서로 겹친 도면.
도 4는 결함이 물인 경우의 화소와 반사비와의 관계를 도시한 도면.
도 5는 결함이 금속인 경우의 화소와 반사비와의 관계를 도시한 도면.
도 6은 실시례 1에 관한 결함의 종류를 판별하는 플로를 도시한 플로 차트.
도 7은 실시례 2에 관한 결함 검사 장치의 블록도.
도 8은 실시례 3에 관한 결함 검사 장치의 블록도.
도 9는 실시례 3에 관한 센서의 배치를 도시한 도면.
도 10은 실시례 4에 관한 결함 검사 장치의 블록도.
도 11은 실시례 4에 관한 카메라의 내부 구조를 도시한 도면.
1 is a block diagram of a defect inspection apparatus according to a first embodiment.
2 is a diagram illustrating a relationship between a pixel and a reflection ratio after processing in each signal processing unit.
3 is a diagram in which each of the signals shown in FIG. 2 is overlapped with each other;
4 is a diagram showing a relationship between a pixel and a reflection ratio when the defect is water;
5 is a diagram showing a relationship between a pixel and a reflection ratio when the defect is a metal;
Fig. 6 is a flowchart showing a flow for determining the type of defects according to the first embodiment.
7 is a block diagram of a defect inspection apparatus according to a second embodiment.
8 is a block diagram of a defect inspection apparatus according to the third embodiment.
9 is a diagram showing an arrangement of sensors according to Example 3. FIG.
10 is a block diagram of a defect inspection apparatus according to a fourth embodiment.
11 is a diagram showing an internal structure of a camera according to the fourth embodiment.

이하에 도면을 참조하여, 본 발명을 실시하기 위한 형태를, 실시례에 의거하여 예시적으로 상세히 설명한다. 단, 이 실시례에 기재되어 있는 구성 부품의 치수, 재질, 형상, 그 상대 배치 등은, 특히 기재가 없는 한은, 본 발명의 범위를 그들만으로 한정하는 취지의 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, with reference to drawings, the form for implementing this invention is demonstrated in detail based on an Example. However, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the component parts described in this example are not intended to limit the scope of the present invention only to them unless otherwise specified.

(실시례 1)(Example 1)

도 1은, 본 실시례에 관한 결함 검사 장치(1)의 블록도이다. 결함 검사 장치(1)는, 피검사물(2)에 가시광을 조사하는 가시광원(31)과, 피검사물(2)에 자외광 또는 적외광의 적어도 한쪽을 조사하는 IR/UV광원(32)과, 피검사물(2)에서 반사한 가시광을 수광하는 가시광 카메라(41)와, 피검사물(2)에서 반사한 자외광 또는 적외광을 수광하는 IR/UV광 카메라(42)와, 가시광 카메라(41) 및 IR/UV광 카메라(42)가 수광한 광을 처리하여 결함의 검출 및 결함의 종류를 판별하는 처리 장치(5)를 구비하여 구성되어 있다.1 is a block diagram of a defect inspection apparatus 1 according to the present embodiment. The defect inspection apparatus 1 includes a visible light source 31 for irradiating visible light to the inspected object 2, an IR / UV light source 32 for irradiating at least one of ultraviolet light or infrared light to the inspected object 2; And a visible light camera 41 for receiving visible light reflected from the inspected object 2, an IR / UV light camera 42 for receiving ultraviolet light or infrared light reflected from the inspected object 2, and a visible light camera 41 And the processing apparatus 5 which processes the light received by the IR / UV optical camera 42 to detect the defect and determine the type of the defect.

피검사물(2)은, 예를 들면 시트형상으로 형성되어 있고, 도 1의 화살표 방향으로 반송되고 있다. 또한, 피검사물(2)은, 시트형상일 필요는 없다. 피검사물(2)로는, 종이, 필름, 수지, 셀룰로오스 등을 예시할 수 있다. 또한, 피검사물(2)은, 2차전지에 사용하는 세퍼레이터, 액정에 사용되는 광학 시트 등이라도 좋다. 또한, 본 실시례에서는, 광원(3) 및 카메라(4)를 고정하고, 피검사물(2)을 이동시키고 있지만, 이에 대신하여, 피검사물(2)을 고정하고, 광원(3) 및 카메라(4)를 이동시켜도 좋다.The inspected object 2 is formed in a sheet shape, for example, and is conveyed in the arrow direction of FIG. In addition, the to-be-tested object 2 does not need to be a sheet form. As the inspection object 2, paper, a film, resin, cellulose, etc. can be illustrated. The test object 2 may be a separator used for a secondary battery, an optical sheet used for liquid crystal, or the like. In addition, in this embodiment, although the light source 3 and the camera 4 are fixed and the to-be-tested object 2 is moved, instead, the to-be-tested object 2 is fixed and the light source 3 and the camera ( 4) may be moved.

결함 검사 장치(1)는, 가시광원(31) 및 IR/UV광원(32)으로부터 피검사물(2)에 조사된 광의 반사광을 가시광 카메라(41) 및 IR/UV광 카메라(42)에서 수광함에 의해 얻어지는 화상에 의거하여 결함을 추출한다. 또한, 결함의 종류를 판별한다. 결함 검사 장치(1)는, 이물, 구멍, 주름, 얼룩 등을 결함으로서 검출할 수 있다.The defect inspection apparatus 1 receives the reflected light of the light irradiated from the visible light source 31 and the IR / UV light source 32 to the test object 2 by the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42. A defect is extracted based on the image obtained by this. Also, the type of defect is determined. The defect inspection apparatus 1 can detect a foreign material, a hole, a wrinkle, a stain, etc. as a defect.

또한, 가시광원(31)과 IR/UV광원(32)을 구별하지 않는 경우에는, 단지 「광원(3)」이라고 칭한다. 또한, 가시광 카메라(41)와 IR/UV광 카메라(42)를 구별하지 않는 경우에는, 단지 「카메라(4)」라고 칭한다. 광원(3)에는, LED 등의 파장 영역이 제한된 것을 이용하든지, 또는, 파장 필터를 이용하여 파장 영역을 제한한 것을 이용할 수 있다. 그리고, 물질과의 상호작용이 보다 현저한 파장을 이용함으로써 결함의 검출이나 결함 종별의 판정 정밀도를 향상시킨다. 또한, 본 실시례에서는, 가시광원(31)과 IR/UV광원(32)이, 본 발명에서 조사부(照射釜)에 상당한다. 또한, 본 실시례에서는, 가시광원(31)과 IR/UV광원(32)에 의해 피검사물(2)에 광을 조사하는 것이, 본 발명에서의 조사 공정에 상당한다.In addition, when the visible light source 31 and the IR / UV light source 32 are not distinguished, it is only called "light source 3." In the case where the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42 are not distinguished, only the "camera 4" is called. The light source 3 may be one in which a wavelength range such as an LED is limited, or one in which the wavelength range is limited using a wavelength filter. Further, by using the wavelength with which the interaction with the substance is more significant, the accuracy of detection of defects and determination of defect types is improved. In the present embodiment, the visible light source 31 and the IR / UV light source 32 correspond to the irradiation section in the present invention. In addition, in this embodiment, irradiating light to the inspected object 2 by the visible light source 31 and the IR / UV light source 32 corresponds to the irradiation process in the present invention.

카메라(4)는, 예를 들면 4096개의 수광 소자를 직렬로 배치한 CCD 이미지 센서를 구비하여 구성되어 있다. 각각의 수광 소자에서는, 수광량에 응하여 광이 전하로 변환된다. 이 때문에, 결함에서 반사한 광이 결상하는 개소의 수광 소자에서는, 다른 수광 소자에 대해, 전하의 양이 작아진다. 또한, 본 실시례에서는, 가시광 카메라(41)는, R, G, B의 각 성분용의 3개의 CCD 이미지 센서를 구비하고 있다. 또한, IR/UV광 카메라(42)는, 적외광 또는 자외광의 적어도 한쪽을 검출하는 CCD 이미지 센서를 구비하고 있다. 각 수광 소자로부터 출력되는 전하는, 촬상 데이터로서 처리 장치(5)에 입력된다. 그리고, 본 실시례에서는, 가시광 카메라(41), IR/UV광 카메라(42)가, 본 발명에서의 데이터 생성부에 상당한다. 또한, 본 실시례에서는, 가시광 카메라(41), IR/UV광 카메라(42)에 의해 촬상 데이터를 생성하는 것이, 본 발명에서의 데이터 생성 공정에 상당한다.The camera 4 is comprised, for example with the CCD image sensor which arrange | positioned 4096 light receiving elements in series. In each light receiving element, light is converted into electric charge in response to the amount of light received. For this reason, in the light receiving element where the light reflected by the defect forms an image, the amount of electric charge is small with respect to the other light receiving element. In addition, in this embodiment, the visible light camera 41 is provided with three CCD image sensors for each component of R, G, and B. As shown in FIG. Moreover, the IR / UV optical camera 42 is equipped with the CCD image sensor which detects at least one of an infrared light or an ultraviolet light. Electric charges output from each light receiving element are input to the processing apparatus 5 as image pickup data. In the present embodiment, the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42 correspond to the data generating unit in the present invention. In this embodiment, the generation of the imaging data by the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42 corresponds to the data generation step in the present invention.

또한, 본 실시례에서는, 피검사물(2)의 폭 전체를 카메라(4)로 촬상 가능하게, 피검사물(2)의 폭에 맞추어서, 피검사물(2)의 폭방향으로 복수의 카메라(4)를 구비할 수 있다. 또한, 가시광 카메라(41)와 IR/UV광 카메라(42)는, 반송 방향으로 어긋내여 배치되어 있다.In addition, in this embodiment, a plurality of cameras 4 are arranged in the width direction of the inspected object 2 in accordance with the width of the inspected object 2 so that the entire width of the inspected object 2 can be captured by the camera 4. It may be provided. In addition, the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42 are arranged shifted in the conveyance direction.

또한, 처리 장치(5)에는, 가시광 카메라(41)로부터 출력되는 촬상 데이터를 RGB의 성분마다 각각 처리하는, R신호 처리부(51), G신호 처리부(52), B신호 처리부(53)와, IR/UV광 카메라(42)로부터 출력되는 촬상 데이터를 처리하는 IR/UV신호 처리부(54)가 구비된다. R신호 처리부(51)는 R성분의 신호(R신호)를 처리하고, G신호 처리부(52)는 G성분의 신호(G신호)를 처리하고, B신호 처리부(53)는 B성분의 신호(B신호)를 처리하고, IR/UV신호 처리부(54)는 적외광 또는 자외광의 신호(IR/UV광신호)를 처리한다. 이 처리에 의해, 수광 소자(화소)마다의 반사비가 구하여진다.In addition, the processing device 5 includes an R signal processing unit 51, a G signal processing unit 52, and a B signal processing unit 53 for processing the imaging data output from the visible light camera 41 for each of the RGB components, An IR / UV signal processor 54 for processing the imaging data output from the IR / UV optical camera 42 is provided. The R signal processor 51 processes the R component signal (R signal), the G signal processor 52 processes the G component signal (G signal), and the B signal processor 53 processes the B component signal ( B signal), and the IR / UV signal processing section 54 processes infrared or ultraviolet light signals (IR / UV light signals). By this process, the reflection ratio for each light receiving element (pixel) is obtained.

여기서, 반사비(反射比)란, 각 수광 소자의 전하(촬상 데이터)를, 미리 구하여 둔 결함이 없을 때의 각 수광 소자의 전하(촬상 데이터)로 제산(除算)한 값이다. 즉, 결함이 없는 피검사물(2)의 촬상 데이터를 미리 구하여 두고, 이 값에 대한, 결함 판정시의 촬상 데이터의 비를, 반사비로 한다. 「미리 구하여 둔 결함이 없을 때의 각 수광 소자의 전하」는, 촬상을 복수회 행한 때의 각 수광 소자의 전하의 평균치로 하여도 좋다. 이 반사비는, 수광량의 감소 정도가 클수록, 작은 값이 되고, 촬상 데이터가 변동한 정도와 상관 관계에 있다. 그리고, 결함이 없는 경우에는, 반사비는 1에 가까운 값이 된다. 반사비는, R신호, G신호, B신호, IR/UV광신호의 각각에 관해 산출된다. 또한, 본 실시례에서는 반사비가, 본 발명에서의 제산치(除算値)에 상당한다.Here, the reflection ratio is a value obtained by dividing the electric charges (imaging data) of each light receiving element by the electric charges (imaging data) of each light receiving element when there is no defect obtained in advance. That is, the imaging data of the to-be-tested object 2 without a defect is calculated | required previously, and let ratio of the imaging data at the time of defect determination with respect to this value be a reflection ratio. The "charge of each light receiving element when there is no defect previously calculated | required" may be made into the average value of the charge of each light receiving element at the time of image pick-up multiple times. This reflection ratio becomes smaller as the reduction degree of light reception amount is larger, and is correlated with the degree to which the image pickup data has fluctuated. And when there is no defect, a reflection ratio becomes a value near one. The reflection ratio is calculated for each of the R signal, the G signal, the B signal, and the IR / UV optical signal. In addition, in this Example, a reflection ratio corresponds to the division value in this invention.

여기서, 도 2는, 각 신호 처리부(51, 52, 53, 54)에서 처리된 후의 화소와 반사비와의 관계를 도시한 도면이다. 횡축은 화소이고, 종축은 반사비이다. 결함이 결상한 부분의 화소에서는, 반사비가 저하된다. 그리고, 이 저하의 정도는, R신호, G신호, B신호, IR/UV광신호에서 각각 다르다. 또한, 피검사물(2)에 결함이 존재하지 않는 경우라도, 피검사물(2)의 표면의 요철 등의 영향에 의해, 반사비는 각 화소에서 약간 다르다.Here, FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the pixel and the reflection ratio after being processed by each signal processing unit 51, 52, 53, 54. The horizontal axis is pixels, and the vertical axis is reflection ratio. In the pixel of the part where the defect imaged, the reflection ratio falls. The degree of degradation is different for the R signal, the G signal, the B signal, and the IR / UV optical signal. In addition, even when a defect does not exist in the inspected object 2, the reflection ratio is slightly different in each pixel under the influence of unevenness on the surface of the inspected object 2 or the like.

또한, 처리 장치(5)는, 가시광 카메라(41)로부터 얻어지는 반사비와, IR/UV광 카메라(42)로부터 얻어지는 반사비와의 위치맞춤을 행하는 위치맞춤 처리부(55)를 구비하고 있다. 여기서, 가시광 카메라(41)와, IR/UV광 카메라(42)는, 피검사물(2)의 반송 방향으로 어긋내여 배치되어 있기 때문에, 가시광 카메라(41)에서 촬상된 개소가, IR/UV광 카메라(42)에서 촬상된 위치에 도달하기 까지는 시간이 걸린다. 가시광 카메라(41)와 IR/UV광 카메라(42)로부터 얻어지는 같은 장소의 반사비를 비교하기 위해, 위치맞춤 처리부(55)는, 가시광 카메라(41)의 반사비와, IR/UV광 카메라(42)의 반사비와의 위치맞춤을 행한다.Moreover, the processing apparatus 5 is equipped with the alignment processing part 55 which performs alignment of the reflection ratio obtained from the visible light camera 41, and the reflection ratio obtained from the IR / UV optical camera 42. As shown in FIG. Here, since the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42 are arranged to be shifted in the conveyance direction of the inspected object 2, the point picked up by the visible light camera 41 is the IR / UV light. It takes time to reach the position picked up by the camera 42. In order to compare the reflection ratio of the same place obtained from the visible light camera 41 and the IR / UV light camera 42, the alignment processing unit 55 includes the reflection ratio of the visible light camera 41 and the IR / UV light camera ( Alignment with the reflection ratio of 42) is performed.

여기서, 피검사물(2)의 반송 속도와, 가시광 카메라(41)로부터 IR/UV광 카메라(42)까지의 거리는 미리 설정되어 있기 때문에, 이들의 값에 의거하여, 가시광 카메라(41)에서 촬상된 개소가, IR/UV광 카메라(42)에서 촬상 되기까지의 시간 지연을 산출할 수 있다. 즉, 이 시간 지연분만큼 데이터를 비켜놓음에 의해, 위치맞춤을 행할 수가 있다. 마찬가지로, R신호, G신호, B신호에서 각각 다른 개소를 촬상하고 있는 경우나, 자외광 및 적외광에서 각각 다른 개소를 촬상하고 있는 경우에는, 이들의 위치맞춤을 행한다.Here, since the conveyance speed of the inspected object 2 and the distance from the visible light camera 41 to the IR / UV light camera 42 are set in advance, based on these values, the image captured by the visible light camera 41 is captured. The time delay until the point is picked up by the IR / UV optical camera 42 can be calculated. In other words, by aligning the data by this time delay, the alignment can be performed. Similarly, in the case where imaging different locations are respectively taken from the R signal, the G signal, and the B signal, or when imaging different locations from the ultraviolet light and the infrared light, they are aligned.

또한, 처리 장치(5)는, 결함을 검출하는 결함 검출부(56)와, 결함의 크기의 임계치를 기억하는 검출 임계치 기억부(56A)를 구비하고 있다. 이 임계치는, 결함으로서 검출할 필요가 있는 크기의 하한치로서 미리 기억되어 있다. 이 임계치는, 피검사물(2)의 종류나 유저의 요구 등에 의해 결정된다.Moreover, the processing apparatus 5 is provided with the defect detection part 56 which detects a defect, and the detection threshold value storage part 56A which stores the threshold of the magnitude | size of a defect. This threshold value is stored in advance as a lower limit of the magnitude that needs to be detected as a defect. This threshold value is determined by the type of the inspected object 2, the user's request, or the like.

여기서, 결함이 있다고 하여도 결함이 작은 경우에는, 허용되는 경우도 있다. 이 허용된 범위를 초과할 때의 결함의 크기를 임계치로서 설정한다. 즉, 결함 검출부(56)는, 결함의 크기가 임계치 이상인 경우에 결함이 존재한다고 판정하고, 결함의 크기가 임계치 미만인 경우에는 결함이 없는 것으로 판정한다. 결함의 크기는, 반사비의 저하량이나, 반사비가 저하된 화소수가 되어 나타난다. 예를 들면, 도 2에 도시한 파형에 의거하여 결함의 크기를 구할 수 있다. 또한, 어느 하나의 반사비가 임계치 이하로 된 경우에, 결함으로서 검출하여도 좋다. 또한, 어느 하나의 반사비가 임계치 이하로 된 화소가 임계치 이상인 경우에, 결함으로서 검출하여도 좋다.Here, even if there is a defect, when the defect is small, it may be allowed. The size of a defect when exceeding this allowed range is set as a threshold. That is, the defect detection part 56 determines that a defect exists when the magnitude | size of a defect is more than a threshold value, and determines that there is no defect, when the magnitude | size of a defect is less than a threshold value. The size of the defect is represented by the decrease in the reflection ratio and the number of pixels in which the reflection ratio is reduced. For example, the magnitude of a defect can be calculated | required based on the waveform shown in FIG. In addition, when any reflection ratio becomes below a threshold, you may detect as a defect. In addition, when the pixel whose reflection ratio falls below the threshold is above the threshold, it may be detected as a defect.

또한, 처리 장치(5)는, 결함이 검출된 때에 결함의 종류를 판별하는 판정부(57)와, 결함의 종류를 판별하기 위한 임계치를 기억하는 판정 임계치 기억부(57A)를 구비하고 있다. 판정부(57)는, 각 신호 처리부(51, 52, 53, 54)에서 처리된 화소와 반사비와의 관계에 의거하여, 결함의 종류를 판별한다. 그리고, 결함의 유무 및 결함의 종류가 출력부(58)로부터 출력된다. 또한, 본 실시례에서는, 판정부(57)에 의해 결함의 종류를 판별하는 것이, 본 발명에서의 판정 공정에 상당한다.Moreover, the processing apparatus 5 is equipped with the determination part 57 which determines the kind of defect, and the determination threshold value storage part 57A which stores the threshold value for determining the kind of defect, when a defect is detected. The determination unit 57 determines the kind of the defect based on the relationship between the pixel processed by each signal processing unit 51, 52, 53, 54 and the reflection ratio. Then, the presence or absence of a defect and the kind of the defect are output from the output unit 58. In addition, in this embodiment, determining the kind of defect by the determination part 57 is corresponded to the determination process in this invention.

여기서, 도 3은, 도 2에 도시한 각 신호를 서로 겹친 도면이다. 이와 같이, 각 신호의 반사비의 저하의 정도는 각각 다르다. 그리고, 각 신호의 반사비의 저하의 정도는, 물질마다 특유한 값으로 된다. 여기서, 예를 들면, 자외광의 파장은, 분자나 원자의 결합 에너지와 가깝기 때문에 물질에 흡수되기 쉽다. 또한, 자외광의 파장은 비교적 짧기 때문에 산란되기 쉽다. 한편, 적외광의 파장은, 분자의 진동 에너지와 가깝기 때문에 물질에 흡수되기 쉽다. 또한, 적외광의 파장은 비교적 길기 때문에, 산란되기 어렵다. 이들 각 파장의 광과 물질과의 상호작용을 이용함으로써, 결함의 종류를 판별할 수 있다.3 is a diagram in which the signals shown in FIG. 2 are superimposed on each other. Thus, the degree of fall of the reflection ratio of each signal differs, respectively. The degree of decrease in the reflection ratio of each signal is a value unique to each substance. Here, for example, since the wavelength of ultraviolet light is close to the binding energy of a molecule and an atom, it is easy to be absorbed by a substance. In addition, since the wavelength of ultraviolet light is relatively short, it is easy to scatter. On the other hand, since the wavelength of infrared light is close to the vibration energy of a molecule, it is easy to be absorbed by a substance. Moreover, since the wavelength of infrared light is comparatively long, it is hard to scatter. By using the interaction between the light of each wavelength and the substance, the kind of defect can be determined.

예를 들면, 도 4는, 결함이 물(水)인 경우의 화소와 반사비와의 관계를 도시한 도면이다. 결함이 결상(結像)하는 화소의 반사비는, 다른 화소의 반사비와 비교하여 낮아지지만, 이 저하량(저하률로 하여도 좋다)은, 가시광과 적외광 또는 자외광(이하, IR/UV광이라고도 한다)에서 다르다. 따라서 물이 결상한 화소에서는, 가시광의 반사비와, 적외광(IR 광)의 반사비에서 차가 생긴다.For example, FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the pixel and the reflection ratio when the defect is water. Although the reflection ratio of the pixel in which a defect forms an image becomes low compared with the reflection ratio of another pixel, this fall amount (it may be set as a reduction rate) is visible light, an infrared light, or an ultraviolet light (hereinafter, IR / Also called UV light). Therefore, in the pixel where water is formed, a difference occurs between the reflection ratio of visible light and the reflection ratio of infrared light (IR light).

이 가시광의 반사비와, IR/UV광의 반사비와의 차는, 물질에 특유한 것이다. 즉, 물질에 가시광과 IR/UV광을 각각 조사한 때에는, 각각의 광의 흡수률이 물질마다 다르기 때문에, 각각의 광이 물질에서 반사한 비율, 및, 각각의 광이 물질을 투과하는 비율이 물질마다 다르다. 이 때문에, 결함이 결상하는 화소에서는, 가시광 및 IR/UV광의 반사비가, 결함을 형성하고 있는 물질에 응한 값으로 된다.The difference between the reflectance ratio of visible light and the reflectance ratio of IR / UV light is unique to the material. In other words, when irradiated visible light and IR / UV light to a material, the absorption rate of each light is different for each material, so that the ratio of each light reflected from the material and the rate at which each light transmits the material are different for each material. . For this reason, in the pixel in which a defect forms an image, the reflection ratio of visible light and IR / UV light becomes a value corresponding to the substance which forms a defect.

따라서 가시광의 반사비와, IR/UV광의 반사비와의 차를, 혼입될 우려가 있는 물질마다 미리 실험 또는 계산 등에 의해 구하여 두면, 이 반사비의 차에 의거하여, 결함의 종류를 판별할 수 있다.Therefore, if the difference between the reflectance ratio of visible light and the reflectance ratio of IR / UV light is obtained beforehand by experiment or calculation for each substance that may be mixed, the kind of defect can be determined based on the difference of the reflectance ratio. have.

또한, 도 5는, 결함이 금속인 경우의 화소와 반사비와의 관계를 도시한 도면이다. 결함이 금속의 경우에는, 가시광의 반사비와 IR/UV광의 반사비가 거의 같아지기 때문에, 양 반사비의 차가 작다. 이 때문에, 가시광의 반사비와 IR/UV광의 반사비와의 차(차의 절대치로 하여도 좋다)가 임계치 이하인 경우에는, 결함이 금속이라고 판별할 수가 있다. 이 임계치는, 미리 실험 등에 의해 구할 수 있다. 또한, 금속의 종류에 의해 반사비가 변하기 때문에, 반사비에 의거하여 금속의 종류를 판별할 수 있다. 예를 들면, 피검사물(2)이 전기를 절연하는 시트인 경우에는, 오염이 있어도 전기의 도통을 차단할 수 있다면 문제는 없지만, 시트에 금속이 혼입되어 있으면 전기가 도통하기 때문에 문제가 된다. 따라서 결함이 금속인지의 여부를 판정할 수 있으면, 오염을 허용할 수 있고, 금속만을 결함으로서 검출할 수 있다.5 is a diagram showing the relationship between the pixel and the reflection ratio when the defect is a metal. In the case where the defect is a metal, the difference between the two reflectance ratios is small because the reflectance ratio of visible light and the reflectance ratio of IR / UV light are almost the same. For this reason, when the difference between the reflection ratio of visible light and the reflection ratio of IR / UV light (which may be the absolute value of the difference) is less than or equal to the threshold value, it can be determined that the defect is a metal. This threshold value can be obtained by experiment or the like in advance. In addition, since the reflection ratio changes depending on the type of metal, it is possible to determine the type of metal based on the reflection ratio. For example, in the case where the inspected object 2 is a sheet which insulates electricity, there is no problem if the conduction of electricity can be interrupted even if there is contamination, but there is a problem because electricity is conducted when metal is mixed in the sheet. Therefore, if it is possible to determine whether the defect is a metal, contamination can be allowed and only the metal can be detected as the defect.

이와 같이, 가시광의 반사비와 IR/UV광의 반사비와의 차에 응하여 결함의 종류를 판별할 수 있다. 여기서, 반사비의 차를 이용함에 의해, 피검사물(2)이나 결함의 상태의 영향이나, 광량의 변동의 영향을 작게 할 수 있다. 예를 들면, 피검사물(2)의 색이나 결함의 색에 의해, 수광 소자의 수광량이 변한다. 또한, 광량이 변동하면, 수광 소자의 수광량이 변하기 때문에, 결함이 없어도 반사비가 변동한다. 이와 같이, 가시광 및 IR/UV광의 반사비는, 결함이 없어도 변화할 수 있다. 이에 대해, 가시광의 반사비와 IR/UV광의 반사비와의 차를 취함에 의해, 광량의 변동 등에 의한 각 수광 소자의 수광량의 변화분을 지울 수 있다. 즉, 피검사물(2)의 색이나 표면의 상태의 영향, 및 광량의 변동의 영향을 작게 할 수 있기 때문에, 결함의 검출 정밀도 및 결함의 종별의 판별 정밀도를 향상시킬 수 있다.Thus, the kind of defect can be discriminated according to the difference between the reflection ratio of visible light and the reflection ratio of IR / UV light. Here, by using the difference of the reflection ratio, the influence of the state of the to-be-tested object 2 and a defect, and the influence of the fluctuation | variation of light quantity can be made small. For example, the light receiving amount of the light receiving element changes depending on the color of the inspected object 2 or the color of the defect. In addition, when the amount of light varies, the amount of light received by the light receiving element changes, so that the reflection ratio changes even without a defect. In this way, the reflection ratio of visible light and IR / UV light can change even without a defect. On the other hand, by taking the difference between the reflection ratio of visible light and the reflection ratio of IR / UV light, it is possible to erase the change in the light reception amount of each light receiving element due to the variation in the light amount. That is, since the influence of the color of the inspected object 2, the influence of the state of a surface, and the fluctuation | variation of a light quantity can be made small, the detection precision of a defect and the determination precision of the classification of a defect can be improved.

또한, 가시광의 반사비와 IR/UV광의 반사비의 차(差)에 대신하여, 비(比)를 이용하여, 결함의 종류를 판별하여도 좋다.In addition, instead of the difference between the reflectance ratio of visible light and the reflectance ratio of IR / UV light, the kind of defect may be determined using ratio.

또한, 가시광은, R성분, G성분, B성분중의 어느 하나 또는 2개만을 이용하여 결함의 종류를 판별하여도 좋다. 또한, 적외광 또는 자외광의 한쪽 또는 양쪽을 이용하여 결함의 종류를 판별하여도 좋다. 또한, R성분, G성분, B성분중의 어느 하나와, 적외광 또는 자외광의 한쪽을 선택할 때에, 파장의 차가 커지는 조합을 선택하면 좋다. 예를 들면, 파장이 짧은 자외광과 조합시키는 것은, 가시광중에서도 파장이 긴 R성분으로 하고, 파장이 긴 적외광과 조합시키는 것은, 가시광중에서도 파장이 짧은 B성분으로 한다. 이에 의해, 결함의 반사비의 차가 보다 현저하게 나타나기 때문에, 판정 정밀도를 높일 수 있다.In addition, visible light may discriminate | determine the kind of defect using only one or two of R component, G component, and B component. In addition, one or both of infrared light or ultraviolet light may be used to determine the type of defect. In addition, when selecting any one of R component, G component, and B component and an infrared light or an ultraviolet light, what is necessary is just to select the combination which becomes large in a difference of a wavelength. For example, the combination with ultraviolet light having a short wavelength is an R component having a long wavelength even in the visible light, and the combination with an infrared light having a long wavelength is a B component having a short wavelength even in the visible light. Thereby, since the difference of the reflection ratio of a defect appears more remarkably, determination precision can be improved.

또한, 카메라(4)의 수광 소자에는, Si(실리콘)계의 반도체를 이용하면 좋다. Si계의 반도체 수광 소자를 이용하면, 자외광, 가시광, 적외광을 어느 것이나 검출할 수 있다. 또한, 다화소화(多畵素化)가 가능하고, 광범위 또는 고속의 계측이 가능해지고, 비용도 낮게 억제할 수도 있다.In addition, a Si (silicon) -based semiconductor may be used for the light receiving element of the camera 4. By using a Si-based semiconductor light receiving element, any of ultraviolet light, visible light and infrared light can be detected. In addition, multiple pixels can be made, a wide range or high speed measurement can be performed, and cost can also be suppressed low.

다음에, 도 6은, 본 실시례에 관한 결함의 종류를 판별하는 플로를 도시한 플로 차트이다.Next, FIG. 6 is a flowchart showing a flow for determining the kind of defects according to the present embodiment.

스텝 S101에서는, 카메라(4)에 의해 피검사물(2)이 촬상되고, 이 데이터가 처리 장치(5)에 받아들여진다.In step S101, the inspection object 2 is imaged by the camera 4, and this data is received by the processing device 5.

스텝 S102에서는, 카메라(4)로부터 출력된 신호가, R신호 처리부(51), G신호 처리부(52), B신호 처리부(53), IR/UV신호 처리부(54)의 각각에서 처리된다. 그리고, 각 신호 처리부는, 각 화소에 대한 반사비를 산출한다.In step S102, the signal output from the camera 4 is processed by each of the R signal processing unit 51, the G signal processing unit 52, the B signal processing unit 53, and the IR / UV signal processing unit 54. Each signal processor calculates a reflection ratio for each pixel.

스텝 S103에서는, 각 신호 처리부에 의해 처리된 데이터의 위치맞춤이 행하여진다. 위치맞춤 처리부(55)는, 피검사물(2)의 반송 속도, 각 카메라(4)의 거리에 의거하여, 위치맞춤을 행한다.In step S103, alignment of the data processed by each signal processing unit is performed. The alignment processing unit 55 performs alignment based on the conveyance speed of the inspected object 2 and the distance of each camera 4.

스텝 S104에서는, 결함 검출부(56)에 의한 결함의 검출이 행하여진다. 예를 들면, 결함검출부(56)는, 결함의 크기가, 검출 임계치 기억부(56A)에 의해 기억되어 있는 임계치 이상일 때에, 결함으로서 검출한다. 또한, 예를 들면, 어느 하나의 반사비가 검출 임계치 기억부(56A)에 의해 기억되어 있는 임계치 이하일 때에, 결함으로서 검출하여도 좋다.In step S104, the defect is detected by the defect detector 56. For example, the defect detection part 56 detects as a defect, when the magnitude | size of a defect is more than the threshold stored by the detection threshold value storage part 56A. For example, when any one reflection ratio is below the threshold stored by the detection threshold value storage part 56A, you may detect as a defect.

스텝 S105에서는, 스텝 S104에서 결함이 검출되었는지의 여부가 판정된다. 스텝 S105에서 긍정 판정이 이루어진 경우에는, 스텝 S106으로 진행한다. 한편, 스텝 S105로 부정 판정 이루어진 경우에는, 결함이 없는 것으로 하여 본 루틴을 종료시킨다.In step S105, it is determined whether or not a defect is detected in step S104. If affirmative determination is made in step S105, the flow proceeds to step S106. On the other hand, when a negative determination is made in step S105, this routine is ended as if there is no defect.

스텝 S106에서는, 판정부(57)에 의해 결함의 종류가 판별된다. 판정부(57)는, 가시광의 반사비와, IR/UV광의 반사비와의 차와, 판정 임계치 기억부(57A)에 기억되어 있는 임계치를 비교함에 의해, 결함을 종별(種別)한다. 예를 들면, 가시광의 반사비와, IR/UV광의 반사비와의 차가 임계치 이하인 경우에는, 결함이 금속이라고 판정한다. 그리고, 미리 기억되어 있는 금속마다의 반사비에 의거하여, 금속의 종류를 판별한다. 또한, 예를 들면, 기름에 대해 물은, 적외광을 흡수하기 쉽기 때문에, 가시광의 B성분의 반사비와 적외광의 반사비와의 차가 비교적 커지는 것을 이용하여, 기름과 물을 판별할 수 있다. 또한, 판정 임계치 기억부(57A)에, 가시광과 IR/UV광과의 반사비의 차와, 물질과의 관계를 기억시켜 두고, 이 관계에 따라 물질을 특정하여도 좋다.In step S106, the type of the defect is determined by the determination unit 57. The determination unit 57 classifies the defect by comparing the difference between the reflection ratio of the visible light and the reflection ratio of the IR / UV light and the threshold stored in the determination threshold storage unit 57A. For example, when the difference between the reflection ratio of visible light and the reflection ratio of IR / UV light is less than or equal to the threshold, it is determined that the defect is a metal. Then, the type of metal is determined based on the reflection ratio for each metal stored in advance. For example, since water easily absorbs infrared light with respect to oil, oil and water can be discriminated by using a relatively large difference between the reflection ratio of B component of visible light and the reflection ratio of infrared light. . In addition, the determination threshold storage unit 57A may store a difference between the reflection ratio between visible light and IR / UV light and a relationship with a substance, and may specify a substance according to this relationship.

스텝 S107에서는, 결함을 검출한 것 및 결함의 종류가 출력부(58)로부터 출력된다. 이 때에는, 예를 들면, 결함의 화상을 출력하여도 좋다. 또한, 결함이 존재하는 위치 및 결함의 종류를 기억하거나, 결함이 존재한 위치에 표시를 하거나 하여도 좋다. 또한, 결함이 존재할 때에 경보를 발하거나, 결함이 존재하는 것이나 결함의 종류를 디스플레이에 표시하거나 하여도 좋다. 또한, 스텝 S106에서 판별된 결함의 종류가, 허용되는 것이면, 결함이 없다고 출력된다.In step S107, the defect is detected and the type of the defect is output from the output unit 58. At this time, for example, an image of a defect may be output. In addition, the position where the defect exists and the kind of the defect may be stored, or the mark may be displayed on the position where the defect exists. In addition, an alarm may be issued when there is a defect, or a defect may be present or the type of the defect may be displayed on the display. In addition, if the kind of defect determined in step S106 is acceptable, it is output that there is no defect.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시례에 의하면, 피검사물(2)의 결함을 검출하고, 또한, 결함의 종류를 판별할 수 있다. 그리고, 가시광만으로는 검출할 수가 없는 결함을, 자외광 또는 적외광에 의한 물질과의 상호작용을 이용하여 검출할 수 있다. 또한, 피검사물(2)라고 유사한 색의 결함으로서 가시광만으로는 판별할 수 없는 결함의 종류를, 비가시광을 병용함으로써 판별할 수 있다. 또한, Si계의 반도체 수광 소자를 이용함에 의해, 자외광, 가시광, 적외광을 어느 것이나 검출할 수 있다. 또한, 다화소화가 가능하고, 광범위 또는 고속의 계측이 가능해지고, 비용도 낮게 억제할 수도 있다. 또한, 정상적인 부분을 기준으로 하여 반사비를 산출하고, 이 반사비를 가시광과 IR/UV광으로 비교함에 의해, 광량의 변동이나 결함마다의 반사비의 차이(違)에 의한 오차를 저감할 수 있다. 따라서 외란이나 결함의 상태의 변화에 영향받기 어렵다.As explained above, according to this embodiment, the defect of the to-be-tested object 2 can be detected and the kind of defect can be discriminated. And the defect which cannot be detected only by visible light can be detected using interaction with the substance by ultraviolet light or infrared light. Moreover, the kind of defect which cannot be discriminated only by visible light as a defect of the color similar to the to-be-tested object 2 can be discriminated by using invisible light together. In addition, any of ultraviolet light, visible light, and infrared light can be detected by using a Si-based semiconductor light receiving element. In addition, multiple pixels can be made, a wide range or high speed measurement can be performed, and cost can also be suppressed low. In addition, by reflecting the reflection ratio on the basis of the normal part and comparing the reflection ratio with visible light and IR / UV light, errors due to variations in the amount of light and differences in the reflection ratio for each defect can be reduced. have. Therefore, it is hard to be affected by the change of the disturbance or the state of the defect.

(실시례 2)(Practical example 2)

도 7은, 본 실시례에 관한 결함 검사 장치(1)의 블록도이다. 본 실시례는, 광원(3)이, 카메라(4)에 대해 피검사물(2)의 반대측에 구비되는 점에서, 실시례 1과 상위하다. 기타의 장치 등은 실시례 1과 같기 때문에, 설명을 생략한다.7 is a block diagram of the defect inspection apparatus 1 according to the present embodiment. This embodiment differs from Example 1 in that the light source 3 is provided on the side opposite to the inspection object 2 with respect to the camera 4. Since other devices and the like are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.

본 실시례에서는, 피검사물(2)에서의 가시광과, 자외광 또는 적외광과의 투과비에 의거하여, 결함의 검출 및 결함 종별의 판정을 실시한다. 여기서, 투과비란, 각 수광 소자의 전하(촬상 데이터)를, 미리 구하여 둔 결함이 없을 때의 각 수광 소자의 전하(촬상 데이터)로 제산한 값이다. 즉, 결함이 없는 피검사물(2)의 촬상 데이터를 미리 구하여 두고, 이 값에 대한, 결함 판정시의 촬상 데이터의 비를, 투과비로 한다. 「미리 구하여 둔 결함이 없을 때의 각 수광 소자의 전하」는, 촬상을 복수회 행한 때의 각 수광 소자의 전하의 평균치로 하여도 좋다. 이 투과비는, 수광량의 감소 정도가 클수록, 작은 값이 되어, 촬상 데이터가 변동한 정도와 상관 관계에 있다. 그리고, 결함이 없는 경우에는, 투과비는 1에 가까운 값인 된다. 투과비는, R신호, G신호, B신호, IR/UV광신호의 각각에 관해 산출된다. 또한, 본 실시례에서는 투과비가, 본 발명에서의 제산치에 상당한다.In this embodiment, the defect is detected and the defect type is determined based on the transmission ratio between the visible light in the inspected object 2 and the ultraviolet light or the infrared light. Here, the transmission ratio is a value obtained by dividing the electric charge (imaging data) of each light receiving element by the electric charge (imaging data) of each light receiving element when there is no defect previously obtained. That is, the imaging data of the to-be-tested object 2 without a defect is calculated | required previously, and let ratio of the imaging data at the time of defect determination with respect to this value be a transmission ratio. The "charge of each light receiving element when there is no defect previously calculated | required" may be made into the average value of the charge of each light receiving element at the time of image pick-up multiple times. This transmission ratio becomes smaller as the reduction degree of light reception amount is larger, and is correlated with the degree to which the image pickup data has fluctuated. In the absence of a defect, the transmission ratio is a value close to one. The transmission ratio is calculated for each of the R signal, the G signal, the B signal, and the IR / UV optical signal. In addition, in a present Example, a transmission ratio corresponds to the division value in this invention.

가시광, 자외광, 적외광의 투과비는, 실시례 1에서 설명한 반사비와 마찬가지로, 물질마다 다르다. 이 때문에, 결함이 결상하는 개소의 화소에서는, 가시광과 IR/UV광에서 투과비에 차가 생긴다. 이 차는, 물질에 특유한 값으로 된다. 즉, 물질에 가시광과 IR/UV광을 조사한 때에는, 그 물질에서의 각각의 광의 흡수률이 물질마다 다르기 때문에, 각각의 광이 물질을 빠져 나가는 비율이 물질마다 다르다.The transmission ratios of visible light, ultraviolet light and infrared light are different for each material as in the reflection ratio described in Example 1. For this reason, a difference occurs in the transmission ratio between visible light and IR / UV light in the pixel where the defect is formed. This difference is a value unique to the substance. That is, when visible light and IR / UV light are irradiated to a material, since the absorption rate of each light in the material is different for each material, the rate at which each light exits the material is different for each material.

따라서 가시광의 투과비와, IR/UV광의 투과비와의 차를, 혼입될 우려가 있는 물질마다 미리 실험 또는 계산 등에 의해 구하여 두면, 이 투과비의 차에 의거하여, 결함의 종류를 판별할 수 있다.Therefore, if the difference between the transmission ratio of visible light and the transmission ratio of IR / UV light is obtained beforehand by experiment or calculation for each substance that may be mixed, the kind of defect can be determined based on the difference of the transmission ratio. have.

또한, 피검사물(2)의 종류나 혼입될 수 있는 물질의 종류에 응하여, 투과비 또는 반사비의 어느쪽으로 결함의 종류를 판별하는지 결정하여도 좋다. 예를 들면, 어느쪽을 이용한 것이 보다 적당한 것인지를, 실험 등에 의해 구하여도 좋다. 또한, 예를 들면, 피검사물(2)이 얇은 경우에는 투과비를 이용하고, 두꺼운 경우에는 반사비를 이용하다는 것과 같이, 피검사물(2)의 두께에 응하여 선택하여도 좋다. 또한, 투과광 및 반사광의 양쪽을 이용하여도 좋다.In addition, depending on the kind of the inspection object 2 or the kind of substance which may be mixed, it may be determined whether the type of the defect is determined by the transmission ratio or the reflection ratio. For example, it may be determined by experiment or the like which one is more suitable. Further, for example, when the inspected object 2 is thin, the transmittance ratio is used, and when the inspected object 2 is thick, it may be selected depending on the thickness of the inspected object 2. In addition, you may use both transmitted light and reflected light.

(실시례 3)(Example 3)

도 8은, 본 실시례에 관한 결함 검사 장치(1)의 블록도이다. 본 실시례에서는, 카메라(4)가 1대만 구비된다. 이 1대의 카메라(4)로, 실시례 1에 관한 가시광 카메라(41)와, IR/UV광 카메라(42)를 겸하고 있다. 즉, 본 실시례에 관한 카메라(4)는, R, G, B의 적어도 1성분을 계측하는 수광 소자 및 적외광 또는 자외광의 적어도 한쪽을 계측하는 수광 소자를 구비하고 있다. 그리고, 가시광원(31)과, IR/UV광원(32)은, 동일한 장소에 광을 조사한다. 기타의 장치 등은 실시례 1과 같기 때문에, 설명을 생략한다.8 is a block diagram of the defect inspection apparatus 1 according to the present embodiment. In this embodiment, only one camera 4 is provided. This single camera 4 serves as a visible light camera 41 and an IR / UV light camera 42 according to the first embodiment. That is, the camera 4 which concerns on a present Example is equipped with the light receiving element which measures at least 1 component of R, G, and B, and the light receiving element which measures at least one of infrared light or an ultraviolet light. The visible light source 31 and the IR / UV light source 32 emit light at the same place. Since other devices and the like are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.

여기서, 도 9는, 센서의 배치를 도시한 도면이다. R은, 가시광중의 R성분을 검출하고, G는, 가시광중의 G성분을 검출하고, B는, 가시광중의 B성분을 검출하고, IR/UV는, 적외광 또는 자외광을 검출한 센서이다. R, G, B, IR/UV의 각 센서는, 반송 방향으로 어긋내여 배치된다. 이 때문에, 실시례 1과 마찬가지로, 각 센서의 출력 신호의 위치맞춤이 필요해진다. 이와 같은 카메라(4)를 사용함에 의해, 장치의 소형화가 가능해진다.9 is a diagram showing the arrangement of the sensors. R detects R component in visible light, G detects G component in visible light, B detects B component in visible light, and IR / UV detects infrared light or ultraviolet light to be. Each sensor of R, G, B, and IR / UV is arrange | positioned shifting in the conveyance direction. For this reason, similarly to Example 1, alignment of the output signal of each sensor is needed. By using such a camera 4, the apparatus can be miniaturized.

(실시례 4)(Example 4)

도 10은, 본 실시례에 관한 결함 검사 장치(1)의 블록도이다. 또한, 도 11은, 카메라(4)의 내부 구조를 도시한 도면이다. R은, 가시광중의 R성분을 검출하고, G는, 가시광중의 G성분을 검출하고, B는, 가시광중의 B성분을 검출하고, IR/UV는, 적외광 또는 자외광을 검출하는 센서이다. 본 실시례는, 카메라(4)가 1대 구비되는 점에서 실시례 3과 같지만, 분광 소자(43)를 이용하여 가시광 및 IR/UV광을 분광한 후에, 각각의 수광 소자로 계측하는 점에서 실시례 3과 상위하다.10 is a block diagram of the defect inspection apparatus 1 according to the present embodiment. 11 is a diagram showing the internal structure of the camera 4. R detects an R component in visible light, G detects a G component in visible light, B detects a B component in visible light, and IR / UV detects infrared light or ultraviolet light. to be. This embodiment is the same as the third embodiment in that one camera 4 is provided, but after measuring the visible light and the IR / UV light using the spectroscopic element 43, the respective light receiving elements are measured. It differs from Example 3.

즉, 본 실시례에서는, 같은 방향으로 진행된 광을 분광 소자(43)로 분광하여 각 센서에서 수광시키기 때문에, 피검사물(2)의 동일한 위치로부터 반사한 가시광 및 IR/UV광을 1대의 카메라(4)로 촬상할 수 있다. 그리고, 동일한 위치의 데이터를 동시에 얻을 수 있기 때문에, 위치맞춤이 필요없다. 이 때문에, 상기 실시례 1 내지 3에서 필요하게 되는 위치맞춤 처리부(55)가 필요없다. 기타의 장치 등은 실시례 3과 같기 때문에, 설명을 생략한다.That is, in this embodiment, since the light propagated in the same direction is spectroscopically detected by the spectroscopic element 43 and received by each sensor, the visible light and the IR / UV light reflected from the same position of the inspected object 2 are collected by one camera ( 4) can be taken. And since the data of the same position can be obtained simultaneously, alignment is unnecessary. For this reason, the alignment processing part 55 required by the said Embodiments 1-3 is unnecessary. Since other apparatuses etc. are the same as Example 3, description is abbreviate | omitted.

이와 같은 카메라(4)를 사용함에 의해, 위치맞춤의 필요가 없어지기 때문에, 처리의 간략화가 가능해진다. 또한, 위치맞춤의 정밀도의 영향을 받는 일이 없다.By using such a camera 4, the need for alignment is eliminated, so that the processing can be simplified. In addition, the accuracy of alignment is not affected.

1 : 결함 검사 장치
2 : 피검사물
5 : 처리 장치
31 : 가시광원
32 : IR/UV광원
41 : 가시광 카메라
42 : IR/UV광 카메라
43 : 분광 소자
51: R신호 처리부
52: G신호 처리부
53: B신호 처리부
54 : IR/UV신호 처리부
55 : 위치맞춤 처리부
56 : 결함 검출부
56A : 검출 임계치 기억부
57 : 판정부
57A : 판정 임계치 기억부
58 : 출력부
1: defect inspection device
2: test object
5: Processing device
31: visible light source
32: IR / UV light source
41: visible light camera
42: IR / UV light camera
43: spectral element
51: R signal processing unit
52: G signal processing unit
53: B signal processing unit
54: IR / UV signal processing unit
55: alignment processing unit
56: defect detection unit
56A: detection threshold memory
57: judgment unit
57A: Decision threshold storage
58: output unit

Claims (12)

광원으로부터 피검사물에 대해, 가시광과, 비가시광을 조사하는 조사 공정과,
피검사물에서 반사하든지 또는 피검사물을 투과하는 가시광 및 비가시광을 각각 수광하고, 각각의 수광량에 응한 촬상 데이터를 각각 생성하는 데이터 생성 공정과,
상기 촬상 데이터가 변동한 영역에서의 그 촬상 데이터가 변동한 정도를, 가시광과, 비가시광으로 비교한 결과가, 미리 기억되어 있는 결함이 되는 범위 내에 속하고 있는 경우에는, 결함으로 판정하는 판정 공정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
An irradiation step of irradiating visible light and invisible light to the inspection object from a light source;
A data generation step of receiving visible and invisible light that reflects from or passes through the inspected object, respectively, and generates imaging data corresponding to the received amount of light, respectively;
Determination process of judging as a defect, when the result which compared the degree to which the image data was fluctuate | varied in the area | region in which the said image data was fluctuate | varied in visible light and an invisible light falls in the range which becomes a previously stored defect. Defect inspection method comprising a.
제1항에 있어서,
상기 비가시광은, 적외광 또는 자외광의 적어도 한쪽인 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
The method of claim 1,
The invisible light is at least one of infrared light or ultraviolet light.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 데이터 생성 공정에서 생성된 촬상 데이터를, 미리 촬상한 결함이 없는 피검사물의 촬상 데이터로 제산한 값인 제산치를, 상기 촬상 데이터가 변동한 정도로서 가시광 및 비가시광에서 각각 구하고,
상기 판정 공정에서, 가시광의 상기 제산치와, 비가시광의 상기 제산치와의 차를, 미리 기억되어 있는 결함의 종류마다의 값과 비교함으로써, 결함의 종류를 판별하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
The dividing value, which is a value obtained by dividing the image pickup data generated in the data generation step by the image pickup data of an inspection-free object to be picked up in advance, is obtained from visible light and invisible light, respectively, as the degree of variation of the image pickup data,
In the determination step, the type of defect is determined by comparing the difference between the dividing value of visible light and the dividing value of invisible light with a value for each kind of defect stored in advance. .
제2항에 있어서,
상기 조사 공정에서 상기 적외광을 조사하는 경우에는, 장파장측보다도 단파장측의 가시광을 조사하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
When irradiating the said infrared light in the said irradiation process, the visible light of a short wavelength side is irradiated rather than a long wavelength side, The defect inspection method characterized by the above-mentioned.
제2항에 있어서,
상기 조사 공정에서 상기 자외광을 조사하는 경우에는, 단파장측보다도 장파장측의 가시광을 조사하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
When irradiating the said ultraviolet light in the said irradiation process, the visible light of long wavelength side is irradiated rather than a short wavelength side, The defect inspection method characterized by the above-mentioned.
제3항에 있어서,
가시광의 상기 제산치와, 비가시광의 상기 제산치와의 차가 임계치 이하인 경우에는, 금속을 포함한 결함으로 판정하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
The method of claim 3,
And when the difference between the dividing value of visible light and the dividing value of invisible light is equal to or less than a threshold, a defect including a metal is determined.
제2항에 있어서,
Si계의 반도체 수광 소자로 가시광 및 비가시광을 각각 수광하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
A defect inspection method comprising receiving visible light and invisible light with a Si-based semiconductor light receiving element, respectively.
제2항에 있어서,
1대의 카메라에, 가시광 및 비가시광을 수광하는 소자를 각각 구비하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
The one camera is equipped with the element which receives visible light and an invisible light, respectively, The defect inspection method characterized by the above-mentioned.
제2항에 있어서,
가시광과 비가시광을 분광 소자로 분광하여, 가시광 및 비가시광을 각각 수광하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
A visible light and an invisible light are spectroscopically analyzed to receive visible and invisible light, respectively.
제2항에 있어서,
상기 광원이, 파장 영역에 제한이 있는 광원인 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
And the light source is a light source having a limited wavelength range.
제2항에 있어서,
상기 광원으로부터 조사하는 광을 파장 필터에 통하여, 파장 영역을 제한하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 방법.
3. The method of claim 2,
The wavelength inspection ranges the light irradiated from the said light source through a wavelength filter, The defect inspection method characterized by the above-mentioned.
광원으로부터 피검사물에 대해, 가시광과, 비가시광을 조사하는 조사부와,
피검사물에서 반사하든지 또는 피검사물을 투과하는 가시광 및 비가시광을 각각 수광하고, 각각의 수광량에 응한 촬상 데이터를 각각 생성하는 데이터 생성부와,
상기 촬상 데이터가 변동한 영역에서의 그 촬상 데이터가 변동한 정도를, 가시광과, 비가시광으로 비교한 결과가, 미리 기억되어 있는 결함이 되는 범위 내에 속하고 있는 경우에는, 결함으로 판정하는 판정부를 구비하는 것을 특징으로 하는 결함 검사 장치.
An irradiation section for irradiating visible light and invisible light to the inspection object from the light source,
A data generation unit for receiving visible and invisible light that reflects from or passes through the object to be inspected, and generates imaging data corresponding to the amount of received light, respectively;
When the result of comparing the degree of fluctuation of the image data in the region where the image data has changed with visible light and invisible light is within the range of the previously stored defect, a determination unit for judging it as a defect. The defect inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
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