KR20130132756A - 장벽 효과 및 내스크래치 특성이 개선된 투명한 내후성 장벽 필름 - Google Patents

장벽 효과 및 내스크래치 특성이 개선된 투명한 내후성 장벽 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR20130132756A
KR20130132756A KR20137004352A KR20137004352A KR20130132756A KR 20130132756 A KR20130132756 A KR 20130132756A KR 20137004352 A KR20137004352 A KR 20137004352A KR 20137004352 A KR20137004352 A KR 20137004352A KR 20130132756 A KR20130132756 A KR 20130132756A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
adhesive
layer
sio
laminate
Prior art date
Application number
KR20137004352A
Other languages
English (en)
Inventor
요헨 아케르만
클라우디우스 노이만
기르마이 사이오움
플로리안 쉬바거
Original Assignee
에보니크 룀 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에보니크 룀 게엠베하 filed Critical 에보니크 룀 게엠베하
Publication of KR20130132756A publication Critical patent/KR20130132756A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H10K50/8445—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B32B2307/7244—Oxygen barrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B32B2307/7246—Water vapor barrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2553/00—Packaging equipment or accessories not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/80—Constructional details
    • H10K30/88—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111—Flexible substrates
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
    • Y10T428/31797—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31909—Next to second addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31913—Monoolefin polymer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer

Abstract

본 발명은 라미네이션, 압출 라미네이션 (접착 라미네이션, 용융 라미네이션 또는 핫멜트 라미네이션) 또는 압출 코팅에 의해 투명한 내후성 장벽 필름을 제조하는 것에 관한 것이다. 이 필름은 또한 내스크래치성 코팅을 가질 수 있다. 이러한 목적을 위해서, 각각 2개의 외부에 배치된 폴리올레핀 층 또는 폴리에스테르 층으로 이루어지고, 각각 무기물 코팅되고, 내부에서 무기 층에 접착된 2개 이상의 투명한 필름 복합체를 서로에 결합시킨다. 상기 복합체를 내후성의 투명한 필름 (예를 들어, PMMA 또는 PMMA 폴리올레핀 공압출물 또는 PMMA 폴리에스테르 공압출물)에 라미네이팅한다. 무기 산화물 층은 높은 광학 투명도의 특성을 갖고, 동시에 수증기 및 산소에 대한 우수한 장벽 효과를 가지며, PMMA 층은 내후 안정성을 나타낸다.

Description

장벽 효과 및 내스크래치 특성이 개선된 투명한 내후성 장벽 필름 {TRANSPARENT, WEATHER-RESISTANT BARRIER FILM HAVING AN IMPROVED BARRIER EFFECT AND SCRATCH RESISTANCE PROPERTIES}
본 발명은 라미네이션, 압출 라미네이션 (접착제, 용융 또는 핫멜트(hotmelt) 라미네이션) 또는 압출 코팅에 의해 투명한 내후성 장벽 필름을 제조하는 것에 관한 것이다. 필름을 제조하기 위해서, 각각 2개의 외부 폴리올레핀 층 또는 폴리에스테르 층으로 이루어지고, 각각 무기물 코팅되고, 무기 층에 의해 내부에서 서로에 결합된 2개 이상의 투명한 필름 어셈블리를 내후성의 투명한 필름 (예를 들어, PMMA 또는 PMMA-폴리올레핀 공압출물 또는 PMMA-폴리에스테르 공압출물)에 라미네이팅한다. 무기 산화물 층은 수증기 및 산소에 대한 우수한 장벽 효과와 함께 높은 광학 투명도의 특성을 갖고, PMMA 층은 내후 안정성에 기여한다. 필름은 내스크래치성을 증가시키는 코팅을 추가로 포함한다.
폴리메타크릴레이트를 기재로 하는 내후성이고 투명하고 내충격성인 필름은 본 출원인에 의해 상표명 PLEXIGLAS® 하에 시판된다. 특허 DE 38 42 796 A1에는 아크릴레이트를 기재로 하는 투명한 내충격성 성형 조성물을 제조하는 것이 기재되어 있으며, 이것으로부터 제조된 필름 및 성형품, 및 또한 성형 화합물의 제조 방법이 기재되어 있다. 이들 필름은, 열 및 수분에 노출 시 변색되지 않고/거나 취성이 되지 않는다는 이점을 갖는다. 추가로, 이들은 충격 또는 휨 응력에 노출될 때 응력 백화로서 공지된 결함이 회피된다. 이들 필름은 투명하고, 풍화 하에서 열 및 수분에 노출 시에 및 충격 또는 휨 응력에 노출 시에도 투명하게 유지된다.
언급된 투명한 내충격성 필름을 제공하기 위한 성형 조성물의 가공은 용융물을 슬롯 다이를 통해서 압출하고, 이것을 롤러 베드 상에서 매끄럽게 함으로써 이상적으로 성취된다. 이러한 종류의 필름은 영구적인 투명도, 가열 및 냉각에 대한 무감성(insensitivity), 내후성, 낮은 황변 및 취화(embrittlement), 및 주름을 잡거나 또는 접을 때의 낮은 응력 백화를 특징으로 하기 때문에, 이들은 예를 들어, 방수포, 자동차 커버 또는 돛에서의 창으로서 적합하다. 상기 필름은 두께가 1 mm 미만, 예를 들어 0.02 mm 내지 0.5 mm이다. 중요한 한 응용 분야는 단단한 치수 안정성의 하부구조체, 예컨대, 금속 시트, 보드, 합판 패널, 플라스틱 시트 등 상에, 예를 들어, 0.02 mm 내지 0.5 mm 두께의 얇은 표면 코트를 형성하는 것이다. 상기 코팅을 제조하기 위해서, 사용가능한 다양한 방법이 존재한다. 예를 들어, 필름을 성형 조성물로 압출하고, 매끄럽게 하고, 기판 상에 라미네이팅할 수 있다. 압출 코팅의 기술을 통해서, 압출된 스트랜드를 기판의 표면에 적용하고, 롤에 의해 매끄럽게 할 수 있다. 열가소성 물질을 그 자체로 기판으로서 사용할 경우, 두 조성물을 공압출하여 본 발명의 투명한 성형 조성물을 포함하는 표면 층을 형성할 수 있다.
그러나, 수증기 및 산소에 대한 PMMA 필름의 장벽 특성이 불충분하긴 하지만, 여전히, 이러한 특성은 의료 응용, 패키징(packaging) 산업에서의 응용, 특히 실외 용도를 비롯한 전기적 응용에 필요하다.
장벽 특성을 개선시키려는 목적을 위해서, 투명한 무기 층을 중합체 필름에 적용한다. 특히, 규소 산화물 및 알루미늄 산화물 층이 사용되어 왔다. 이들 무기 산화물 층 (SiOx 또는 AlOx)은 진공 코팅 방법 (화학적 방법, JP-A-10025357, JP-A-07074378; 열 또는 전자-빔 증발, 스퍼터링, EP 1 018 166 B1, JP 2000-307136 A, WO 2005-029601 A2)에 의해 적용된다. EP 1018166 B1에는, SiOx 층의 UV 흡수가 SiOx 층 내의 규소 대 산소의 비율에 의해 어떻게 영향을 받을 수 있는 지가 개시되어 있다. 이것은, UV 방사선으로부터 기저 층을 보호하기 위해서 중요하다. 그러나, 규소 대 산소의 비율의 변화는 또한 장벽 효과를 변화시키는 단점이 있다. 따라서, 투명도 및 장벽 효과는 서로에 독립적으로 변화될 수 없다.
이들 무기 산화물 층을 먼저 폴리에스테르 및 폴리올레핀에 적용하는데, 그 이유는 이들 물질은 증발 절차 동안 온도 응력을 견디기 때문이다. 추가로, 무기 산화물 층은 폴리에스테르 및 폴리올레핀에 잘 결합하며, 코팅 전에 이를 코로나 처리에 적용한다. 그러나, 이들 물질은 풍화에 안정하지 않기 때문에, 이들을 예를 들어, WO 94/29106에 기재된 바와 같이, 종종 할로겐화 필름에 라미네이팅한다. 그러나, 할로겐화 필름은 환경적인 기준에서 문제가 된다.
문헌 [U. Moosheimer, Galvanotechnik 90 No. 9, 1999, pp. 2526-2531]에 개시된 바와 같이, 무기 산화물 층으로 PMMA를 코팅하는 것은 수증기 및 산소에 대한 장벽 효과를 개선시키지 않는데, 그 이유는 PMMA가 무정형이기 때문이다. 그러나, 폴리에스테르 및 폴리올레핀과 달리, PMMA는 풍화에 안정적이다.
DE 102009000450.5에서, 출원인은 무기 층과 접착 개선제 간에 효과적인 접착을 제공하는 코팅 물질을 사용한다. 당업자에게 공지된 바와 같이, 유기 층과 무기 층 간의 접착은 이와 관련하여 동일한 종류인 층들 간의 접착보다 성취되기가 더 어렵다.
바젤에서 2008년 6월 25일, "유기 발광체(Organic Light Emitters)" 컨퍼런스에서의 알칸패키징사(AlcanPackaging)에 의한 발표의 일부는, 접착제 층에 의해 서로에 결합된 상이한 규소 산화물-코팅된 PET 필름을 포함하는 다층 라미네이트에 관한 것이었다. 그러나, 이들 라미네이트는 또한 UV 조사 하에서 빠르게 파괴되기 때문에, 실외의 광기전 응용을 위해서는, 이들은 너무 민감성이고, 짧은 수명을 갖는다.
본 발명과 관련된 문제는 넓은 유용성을 갖고, 과도한 풍화 조건 하에서도 수명이 긴 가요성의 광기전 시스템(photovoltaic system)을 제공하는 것이다.
따라서, 본 발명과 관련된 목적은 이러한 종류의 가요성 광기전 시스템을 제공하기 위해서, 내후-안정성이고, 매우 투명하고 (300 nm를 초과하는 파장 범위에서 80% 초과), 수증기 및 산소에 대한 높은 장벽 특성을 보장하는 장벽 필름을 제공하는 것이다.
추가로, 1000 V를 초과하는 부분 방전 전압(partial discharge voltage)이 성취될 것이다.
지지 라미네이트로서, PMMA 층 및 다층을 포함하는 3층 이상의 제1 라미네이트, 및 장벽 라미네이트로서, 2개 이상의 무기 산화물 층을 포함하는 제2 라미네이트의 조합물인 것을 특징으로 하는 혁신적인 다층 필름 라미네이트에 의해 이러한 문제를 해결한다. 한편, 지지 라미네이트 및 장벽 라미네이트를 접착제 층에 의해 서로에 결합시킨다.
특히 풍화에 안정한 지지 라미네이트 및 장벽 라미네이트를 포함하는 필름 라미네이트에 의해 특히 이러한 문제를 해결한다. 개별 층이 진공 증기 코팅, 라미네이션, 압출 라미네이션 (접착제, 용융 또는 핫멜트 라미네이션) 또는 압출 코팅에 의해 서로와 조합된 다층 필름에 의해 이러한 특성이 성취된다. 이러한 목적을 위해서, 통상의 방법, 예를 들어, 문헌 [S.E.M. Selke, J.D. Culter, R.J. Hernandez, "Plastics Packaging", 2nd edition, Hanser-Verlag, ISBN 1 56990-372-7 on pages 226 and 227]에 기재된 것을 사용할 수 있다.
이러한 구조에서, 지지 라미네이트는 필름 라미네이트의 외면에 위치한다. 따라서, 일반적으로 기판에 접착된 장벽 라미네이트는 지지 라미네이트와 기판 사이에 위치한다. 지지 라미네이트 및 장벽 라미네이트는 접착제 층 (이하 접착제 4)에 의해 서로에 결합된다.
이하, 지지 라미네이트로서 지칭되는 제1 라미네이트는 0.1 내지 5.0 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 3.0 중량%, 보다 바람직하게는 2.0 내지 3.0 중량%의 UV 안정화제를 포함하는 외부 PMMA 보호 층, 및 투명한 폴리에스테르 또는 폴리올레핀, 바람직하게는 PET 또는 폴리프로필렌을 포함하는 제2 지지 필름으로 이루어진다. 한편, 보호 층 및 지지 필름은 접착제 층 (이하: 접착제 1)에 의해, 바람직하게는 핫멜트에 의해, 보다 바람직하게는 아크릴레이트-에틸렌 공중합체를 포함하는 핫멜트에 의해 서로에 결합된다.
PMMA 보호 층은 내후 안정성의 특성을 충족시키고; 지지 층은 라미네이트의 부분에 대한 안정성을 제공한다. PMMA의 직접적인 무기 코팅은 본 기술 분야의 상태에 따라서는 가능하지 않기 때문에, 지지 층은 임의로는 표면 상에 무기 층을 보유하는 장벽 라미네이트에 오래 유지되고 단단하게 결합되는 것을 보장하는 것이 추가로 필요하다. 한편, PMMA 층은 풍화의 효과로부터 폴리에스테르 또는 폴리올레핀 지지 필름을 보호한다.
한편, 임의적으로, PMMA 보호 층은 코팅된다. 코팅은 표면 손상을 감소시키고/거나 내마모성을 개선시키고/거나 방오 코팅으로서 제공되며, 내스크래치성 코팅이 특히 중요하다.
추가로, 선행 기술에서와 같이, UV 방사선으로부터의 보호 기능은 무기 산화물 층에 의해는 더 이상 수행되지 않지만, 대신 PMMA 층에 의해 수행된다. 따라서, 산화물 층은 광학 및 장벽 기준에 따라서만 최적화될 수 있다.
한편, 장벽 라미네이트는 무기 장벽 층으로 코팅된 3개 이상의 중합체 필름, 예를 들어 폴리에스테르 필름 또는 폴리올레핀 필름, 바람직하게는 폴리에스테르 필름, 보다 바람직하게는 PET 필름으로 이루어진다. 무기 장벽 층은 바람직하게는 이하에서 SiOx 층으로 지칭되는 규소 산화물 층이다. 무기 산화물 층은 장벽 특성, 특히 대기 산소 및 수증기에 대한 장벽 특성을 충족한다. 한편, 3개 이상의 SiOx-코팅된 필름은 접착제, 바람직하게는 2-성분 폴리우레탄 접착제에 의해 서로에 결합된다. 이러한 방식으로, 지지 라미네이트가 형성된다.
접착제 층은 두 산화물 층이 서로에 결합될 경우에는 접착제 2를, 필름 중 2개가 서로에 결합될 경우에는 접착제 3을 또는 산화물 층이 중합체 필름에 결합될 경우에는 접착제 2a를 포함한다.
이해를 보다 쉽게 하기 위해서, 바람직한 SiOx-코팅된 PET 필름을 기재로 하는 시스템을 하기에 기재한다. 그러나, 이것은 단지 바람직한 한 실시양태를 설명하는 것임을 주목해야 하며, SiOx 층은 다른 무기 산화물 층의 대표로서, PET 필름은 다른 폴리에스테르 또는 폴리올레핀 필름의 대표로서 이해되어야 한다는 것을 주목해야 한다.
지지 라미네이트는 적어도 3개 내지 8개 이하, 바람직하게는 4개 또는 6개의 SiOx-코팅된 PET 필름으로 이루어진다. 한편, 이들은 접착제 층에 의해 서로에 결합된다.
층의 순서는 다양할 수 있다. 한 실시양태에서, PET 필름은 표면 상에, 즉, 후에 지지 라미네이트에 결합되는 면 상에 위치하며, 따라서, 예를 들어 광기전 응용 분야에서는, 태양을 향해있는 면 상에 위치한다. 한편, 이것은 이후에 SiOx 층이 존재하고, SiOx 층 이후에 접착제 층 2a가 존재하고, 접착제 층 2a 이후에 순서대로 PET 필름, 제2 SiOx 층 및 제2 접착제 층 2a가 존재한다. 총 8개 이하의 모든 추가의 필름이 이러한 예시적인 실시양태에서 동일한 배향으로 라미네이팅된다.
바람직한 한 실시양태에서, 무기 층과 산화물 층 간에 접착이 빈번하게 발생하는 문제는, 2개의 무기물 코팅된 필름을 무기 면을 내향으로 대면하게 하고, 유기 필름 면을 외향으로 향하게 하여 서로에 결합시킴으로써 해결된다. 그 후, 이들은 다른 유기 중합체, 예컨대 지지 라미네이트 또는 제2 이중 라미네이트의 바닥 면에 쉽게 결합될 수 있다. 따라서, 장벽 라미네이트에 특히 바람직한 한 구조는 하기 순서를 갖는 것이다.
PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-접착제 3-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET.
따라서, 임의적으로, 마찬가지로 특히 바람직하게는, 시스템은 이들 개별 필름 6개로 이루어진 필름 시스템이다. 이것은 하기 순서를 갖는다.
PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-접착제 3-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-접착제 3-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET.
무기 층들과 접착제 2와의 접착은, 예를 들어 무기 층에 대해서 최적화된 2-성분 폴리우레탄-기재 접착제 (2K-PU 접착제)를 사용하여 성취될 수 있다.
PET 필름, 또는 폴리에테르 또는 폴리올레핀 필름은 마찬가지로 2K-PU 접착제에 의해, 예를 들어, EVA 또는 아크릴레이트-에틸렌을 기재로 하는 핫멜트 접착제에 의해, 또는 압출 라미네이션에 의해 서로에 결합될 수 있다. 후자의 경우, 접착제 3 층은 존재하지 않는다. 대안적으로, PET 필름은 또한 양 면 상에 SiOx로 코팅될 수 있다. 한편, 이들 필름은 단면 코팅된 PET 필름에 라미네이팅된다. 이 경우, 예를 들어 4개의 SiOx 층을 갖는 시스템의 경우, 생성되는 구조는 하기와 같다.
PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET.
2개의 무기물 코팅된 지지 층의 어셈블리 (장벽 층이 존재함)는 두 무기 층이 두 외부 지지 층에 의해 보호된다는 이점을 갖는다. 따라서, 보호 필름을 갖는 라미네이션의 경우, 장벽 층은 손상되지 않는다. 추가로, 어셈블리를 제조하는데 사용되는 접착제는 무기 층에 대해서 최적화될 수 있다.
상세한 설명
본 발명의 이점:
본 발명의 장벽 필름은
● 특히 내후-안정성이고,
● 할로겐을 함유하지 않고,
● 수증기 및 산소에 대해서 높은 장벽 효과 (0.01 g/(m² d) 미만)를 보유하고,
● SiOx 층의 조성에 독립적으로 UV 방사선으로부터 기저 층을 보호하고,
● 무기 진공 증기 코팅의 불연속적인 공정을 위해서 박막이 사용될 수 있기 때문에, 저비용으로 제조될 수 있고,
● 무기 층은 무기 층에만 결합되고, 유기 층은 유기 층에만 결합되기 때문에, 쉽게 제조될 수 있다.
본 발명의 필름 라미네이트의 추가의 특징은, 이것이 1000 V 이상의 부분 방전 전압을 갖고, 300 nm를 초과하는 범위에서 80%를 초과하는 투명도를 갖는다는 것이다.
지지 라미네이트
지지 라미네이트는 지지 필름, 보호 층, 임의적인 내스크래치성 코팅 및 임의적인 접착제 층 1로 이루어진다. 지지 라미네이트는 접착제 층 4에 의해 장벽 라미네이트에 결합된다.
보호 층
보호 층으로서, 그리고 제1 라미네이트의 최외곽 층으로서, 바람직하게는 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA) 또는 내충격성 PMMA (im-PMMA)로 이루어진 필름이 사용된다. 대안적으로, DE 102009000450에 이미 기재된 바와 같이, PMMA 필름 이외에, 보호 층으로서 PVDF/PMMA 2-층 필름 또는 PVDF/PMMA 블렌드로 이루어진 필름이 또한 사용될 수 있다.
PMMA 보호 층은 두께가 10 내지 200 μm, 바람직하게는 20 내지 150 μm, 보다 바람직하게는 30 내지 100 μm이다.
충격 개질된 폴리(메트)아크릴레이트 플라스틱은 20 중량% 내지 80 중량%, 바람직하게는 30 중량% 내지 70 중량%의 폴리(메트)아크릴레이트 매트릭스 및 80 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 70 중량% 내지 30 중량%의, 평균 입자 직경이 10 내지 150 nm (예를 들어, 초원심분리 방법(ultracentrifuge method)으로 측정)인 엘라스토머 입자로 이루어진다.
충격 개질된 폴리(메트)아크릴레이트 플라스틱 (im-PMMA)은 메틸 메타크릴레이트 단위 80 중량% 이상 및 또한 임의로 메틸 메타크릴레이트와 공중합가능한 단량체 단위 0 중량% 내지 20 중량%로부터 중합된 매트릭스 중합체의 분획, 및 매트릭스 중에 분산된, 가교된 폴리(메트)아크릴레이트를 기재로 하는 충격 개질제의 분획으로 이루어진다.
매트릭스 중합체는 보다 특별하게는 80 중량% 내지 100 중량%, 바람직하게는 90 중량% 내지 99.5 중량%의 자유-라디칼 중합 메틸 메타크릴레이트 단위 및 임의로는 0 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 10 중량%의 추가의 자유-라디칼 중합성 공단량체, 예를 들어, C1 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트, 보다 특별하게는 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트 또는 부틸 아크릴레이트로 이루어진다. 매트릭스의 평균 분자량 Mw (중량 평균)은 바람직하게는 90 000 내지 200 000 g/mol, 보다 특별하게는 100 000 내지 150 000 g/mol (교정 표준으로서의 폴리메틸 메타크릴레이트를 기준으로 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정한 Mw) 범위이다. 분자량 Mw는 예를 들어 겔 투과 크로마토그래피 또는 분산광 방법에 의해 측정할 수 있다 (예를 들어, 문헌 [H.F. Mark et al., Encyclopaedia of Polymer Science and Engineering, 2nd Edition, Vol. 10, pages 1 ff., J. Wiley, 1989] 참고).
90 중량% 내지 99.5 중량%의 메틸 메타크릴레이트 및 0.5 중량% 내지 10 중량%의 메틸 아크릴레이트의 공중합체가 바람직하다. 비캣(Vicat) 연화 온도 VST (ISO 306-B50)는 90℃ 이상, 바람직하게는 95 내지 112℃의 범위일 수 있다.
폴리메타크릴레이트 매트릭스는 바람직하게는 2-쉘 또는 3-쉘 구조를 갖는 엘라스토머 입자일 수 있는 충격 개질제를 포함한다.
폴리메타크릴레이트 플라스틱을 위한 충격 개질제는 널리 공지되어 있다. 충격 개질된 폴리메타크릴레이트 성형 조성물의 제조 및 조성은 예를 들어 EP A 0 113 924, EP-A 0 522 351, EP-A 0 465 049 및 EP A 0 683 028에 기재되어 있다.
폴리메타크릴레이트 매트릭스에는 1 중량% 내지 30 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 20 중량%, 보다 바람직하게는 3 중량% 내지 15 중량%, 보다 특별하게는 5% 내지 12 중량%의 충격 개질제가 존재한다. 충격 개질제는 비드 중합 또는 유화 중합에 의해 통상의 방식으로 수득된다.
이의 가장 간단한 것에서, 충격 개질제는 비드 중합에 의해 얻을 수 있고, 평균 크기가 10 내지 150 nm, 바람직하게는 20 내지 100, 보다 특별하게는 30 내지 90 nm 범위인 가교된 입자를 포함한다. 이들 입자는 예를 들어 일반적으로 40 중량% 이상, 바람직하게는 50 중량% 내지 70 중량%의 메틸 메타크릴레이트, 20 중량% 내지 40 중량%, 바람직하게는 25 중량% 내지 35 중량%의 부틸 아크릴레이트 및 0.1 중량% 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 1 중량%의 가교 단량체, 예를 들어 다관능성 (메트)아크릴레이트, 예컨대 알릴 메타크릴레이트, 및 예를 들어, 임의로는 추가의 단량체, 예를 들어, 0 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 5 중량%의 C1-C4 알킬 메타크릴레이트, 예컨대 에틸 아크릴레이트 또는 부틸 메타크릴레이트, 바람직하게는 메틸 아크릴레이트, 또는 다른 비닐계 중합성 단량체, 예컨대 스티렌으로 이루어진다.
바람직한 충격 개질제는 2-층 또는 3-층 코어-쉘 구조를 가질 수 있고, 유화 중합에 의해 수득되는 중합체 입자이다 (예를 들어, EP-A 0 113 924, EP-A 0 522 351, EP-A 0 465 049 및 EP A 0 683 028 참고). 그러나, 본 발명의 목적을 위해서, 이들 유화 중합체에 적합한 입자 크기는 10 내지 150 nm, 바람직하게는 20 내지 120 nm, 보다 바람직하게는 50 내지 100 nm 범위 이내여야 한다.
하나의 코어 및 2개의 쉘을 갖는 3-층 또는 3-상 구조는 하기의 유형일 수 있다: 예를 들어, 가장 안쪽의 (경질) 쉘은 실질적으로 예를 들어, 메틸 메타크릴레이트, 적은 공단량체 분획, 예컨대 에틸 아크릴레이트, 및 가교제 분획, 예를 들어 알릴 메타크릴레이트로 이루어진다. 중간 (연질) 쉘은 예를 들어, 부틸 아크릴레이트 및 임의로는 스티렌으로 구조화될 수 있고, 실질적으로, 최외곽 (경질) 쉘은 통상적으로 매트릭스와의 상용성 및 매트릭스에 대한 효과적인 부착을 생성하는 매트릭스 중합체에 상응한다. 충격 개질제 내의 폴리부틸 아크릴레이트 분획은 내충격 효과에 중요하며, 바람직하게는 바람직하게는 20 중량% 내지 40 중량%, 보다 바람직하게는 25 중량% 내지 35 중량%의 범위로 존재한다.
압출기에서, 충격 개질제 및 매트릭스 중합체를 용융물 중에 혼합하여 충격 개질된 폴리메타크릴레이트 성형 조성물을 제공한다. 일반적으로, 압출된 물질을 먼저 펠릿화한다. 펠릿을 압출 또는 사출 성형에 의해 추가로 가공하여 성형물, 예컨대 시트 또는 사출 성형 부품을 형성할 수 있다.
바람직하게는, 특히 필름을 제조하는 경우 (이에 제한되지 않음), 원칙적으로 EP 0 528 196 A1로부터 공지되고, 하기로 이루어진 2-상 충격 개질된 중합체를 포함하는 시스템을 사용하며, 여기서 경질 상 a1)의 15 중량% 이상은 강인성(tough) 상 a2)와 공유 결합된다.
a1) a11) 메틸 메타크릴레이트 80 중량% 내지 100 중량% (a1) 기준), 및
a12) 하나 이상의 다른 에틸렌계 불포화 자유-라디칼 중합성 단량체 0 중량% 내지 20 중량%로부터 합성된, 유리 전이 온도 Tg가 70℃를 초과하는 응집성(coherent) 경질 상 10 중량% 내지 95 중량%, 및
a2) a21) C1-C10 알킬 아크릴레이트 50 중량% 내지 99.5 중량% (a2) 기준),
a22) 2종 이상의 에틸렌계 불포화 자유-라디칼 중합성 라디칼을 갖는 가교 결합 단량체 0.5 중량% 내지 5 중량%, 및
a23) 임의적인 다른 에틸렌계 불포화 자유-라디칼 중합성 단량체로부터 합성된, 경질 상 내에 분포되고, 유리 전이 온도 Tg가 -10℃ 미만인 강인성 상 90 중량% 내지 5 중량%.
2-상 충격 개질제는 예를 들어, DE-A 38 42 796에 기재된 바와 같이, 수 중에서의 2-단계 유화 중합에 의해 제조할 수 있다. 제1 단계에서, 적어도 50 중량%, 바람직하게는 80 중량%를 초과하는 저급 알킬 아크릴레이트로 이루어지고, 이 상에 대해서 -10℃ 미만의 유리 전이 온도 Tg를 제공하는 강인성 상 a2)가 제조된다. 예를 들어, 사용되는 가교 단량체 a22)는 디올의 (메트)아크릴산 에스테르, 예를 들어, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트 또는 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트, 2개의 비닐 또는 알릴 기를 갖는 방향족 화합물, 예컨대 디비닐벤젠, 또는 그래프트 가교제로서, 2개의 에틸렌계 불포화 자유 라디칼 중합성 라디칼을 갖는 다른 가교제, 예컨대 알릴 메타크릴레이트이다.
3개 이상의 불포화 자유-라디칼 중합성 기, 예컨대 알릴 기 또는 (메트)아크릴로일 기를 갖는 가교 결합제에는, 예를 들어, 트리알릴 시아누레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 및 트리메타크릴레이트, 및 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 및 테트라메타크릴레이트가 포함된다. 이와 관련된 추가의 예는 US 4,513,118에 기재되어 있다.
a23) 하에 언급된 에틸렌계 불포화 자유-라디칼 중합성 단량체는 예를 들어, 아크릴산 및/또는 메타크릴산, 및 또한 1 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 이들의 알킬 에스테르일 수 있고, 알킬 라디칼은 선형, 분지형 또는 환형일 수 있다. 추가로, a23)은 알킬 (메트)아크릴레이트 a21)과 공중합될 수 있는 다른 자유-라디칼 중합성 지방족 공단량체를 포함할 수 있다. 그러나, 방향족 공단량체, 예컨대 스티렌, 알파-메틸스티렌 또는 비닐톨루엔의 유의한 분획은 배제될 것인데, 그 이유는 이들이 특히 풍화 하에서 성형 조성물 A의 일부에 원치 않는 특성을 유발하기 때문이다.
제1 단계에서 강인성 상을 제조할 때, 입자 크기 및 이의 불균일도를 조정하는데 상당한 주의를 기울여야 한다. 본 명세서에서, 강인성 상의 입자 크기는 유화제의 농도에 실질적으로 좌우된다. 입자 크기는 시드 라텍스의 사용을 통해서 이롭게 제어할 수 있다. 평균 크기가 (중량 평균) 130 nm 미만, 바람직하게는 70 nm 미만이고, 입자 크기 불균일도 U80 (U80은 다음 수학식에서와 같이, 초원심분리에 의해 측정된 바와 같은 입자 크기 분포의 적분 평가로부터 측정됨: U80 = [(r90-r10)/r50]-1, 여기서 r10, r50 및 r90은 각각 10%, 50% 및 90%의 입자 반경이 이 값 미만이고, 90%, 50% 및 10%의 입자 반경이 이 값을 초과하는 평균 적분 입자 반경임)이 0.5 미만, 바람직하게는 0.2 미만인 입자는 수 상을 기준으로 0.15 중량% 내지 1.0 중량%의 유화제 농도를 사용하여 성취된다. 이것은 특히 예를 들어, 음이온성 유화제, 예컨대 특히 바람직한 알콕실화 및 술페이트화 파라핀에 적용된다. 사용되는 중합 개시제는 예를 들어, 수 상을 기준으로 0.01 중량% 내지 0.5 중량%의 알칼리 금속 또는 암모늄 퍼옥소디술페이트이며, 중합은 20 내지 100℃의 온도에서 개시된다. 레독스(Redox) 시스템, 예를 들어 0.01 중량% 내지 0.05 중량%의 유기 히드로퍼옥시드 및 0.05 중량% 내지 0.15 중량%의 나트륨 하이드록시메틸술피네이트의 조합을 20 내지 80℃의 온도에서 사용하는 것이 바람직하다.
15 중량% 이상의 양으로 강인성 상 a2)에 공유 결합된 경질 상 a1)은 유리 전이 온도가 70℃ 이상이고, 메틸 메타크릴레이트 만으로 이루어질 수 있다. 공단량체 a12)로서, 경질 상 내에 20 중량% 이하의 하나 이상의 다른 에틸렌계 불포화 자유-라디칼 중합성 단량체가 존재할 수 있고, 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 (메트)아크릴레이트, 바람직하게는 알킬 아크릴레이트는 유리 전이 온도가 상기에 언급된 값보다 작지 않게 하는 양으로 사용된다.
경질 상 a1)의 중합은 유화액에서와 마찬가지로, 예를 들어 또한 강인성 상 a2)의 중합에 사용되는 것과 같은 통상의 보조제를 사용하여 제2 단계에서 진행된다.
바람직한 한 실시양태에서, 경질 상은 경질 상 내의 공단량체 성분 a12)의 구성성분으로서, A를 기준으로, 0.1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 5 중량%의 양으로 저분자량 UV 흡수제 및/또는 공중합성 UV 흡수제를 포함한다. 특히 US 4 576 870에 기재된 종류의 중합성 UV 흡수제에는 2-(2'-히드록시페닐)-5-메타크릴아미도벤조트리아졸 또는 2-히드록시-4-메타크릴로일옥시벤조페논이 포함된다. 저분자량 UV 흡수제는 예를 들어, 2-히드록시벤조페논 또는 2-히드록시페닐벤조트리아졸 또는 페닐 살리실레이트의 유도체일 수 있다. 일반적으로, 저분자량 UV 흡수제는 분자량이 2 x 103 (g/mol) 미만이다. 가공 온도에서 휘발성이 낮고, 중합체 A의 경질 상 a1)과 균일한 혼화성을 갖는 UV 흡수제가 특히 바람직하다.
또한, 폴리메타크릴레이트 및 폴리올레핀 또는 폴리에스테르의 공압출물을 사용할 수 있다. 폴리프로필렌 및 PMMA의 공압출물이 바람직하다. 또한, 할로겐이 존재하지 않는 것의 이점을 포기할 경우, 추가로 플루오르화 할로겐화 층, 예를 들어 PVDF와 PMMA의 공압출물 또는 PVDF와 PMMA의 블렌드가 가능하다.
보호 층은 두께가 20 내지 500 μm이고, 두께가 바람직하게는 50 내지 400 μm, 매우 바람직하게는 200 내지 300 μm이다.
광 안정화제
본 발명에 따라서, 지지 층에 광 안정화제를 첨가할 수 있다.
광 안정화제란 UV 흡수제, UV 안정화제 및 자유-라디칼 스캐빈저(scavenger)를 의미한다.
임의적으로 존재하는 UV 보호제는 예를 들어, 치환체, 예컨대 히드록실 및/또는 알콕시 기가 통상적으로 2 및/또는 4 위치에 위치하는 벤조페논의 유도체이다. 이들에는 2-히드록시-4-n-옥트옥시벤조페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 및 2-히드록시-4-메톡시벤조페논이 포함된다. 추가로, 특히 2-(2-히드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-[2-히드록시-3,5-디-(알파,알파-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3-부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-5-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3-sec-부틸-5-tert-부틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(2-히드록시-5-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 및 페놀, 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)]을 비롯한 치환된 벤조트리아졸이 UV 보호 첨가제로서 매우 적합하다.
벤조트리아졸 이외에, 또한 2-(2'-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어, 페놀, 2-(4,6-디페닐-1,2,5-트리아진-2-일)-5-(헥실옥시) 부류로부터의 UV 흡수제를 사용할 수 있다.
추가로, 사용될 수 있는 UV 보호제는 에틸-2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 2-에톡시-2'-에틸옥살릭 비스아닐리드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에틸옥살릭 비스아닐리드, 및 치환된 벤조산 페닐 에스테르이다.
광 안정화제 및/또는 UV 보호제는 상기에 기재된 바와 같이, 안정화될 폴리알킬 메타크릴레이트 조성물 중에서 저분자량 화합물로서 존재할 수 있다. 그러나, 예를 들어, 매트릭스 중합체 분자 내의 UV 흡수 기는 또한 공중합에 의해 중합성 UV 흡수 화합물, 예컨대 벤조페논 또는 벤조트리아졸 유도체의 아크릴, 메타크릴 또는 아릴 유도체와 공유결합될 수 있다.
또한 화학적으로 상이한 UV 보호제의 혼합물일 수 있는 UV 보호제의 분획은 (메트)아크릴레이트 공중합체를 기준으로, 일반적으로 0.01 중량% 내지 10 중량%, 특히 0.01 중량% 내지 5 중량%, 보다 특별하게는 0.02 중량% 내지 2 중량%이다.
자유-라디칼 스캐빈저/UV 안정화제의 예에는 상표명 HALS (장애형 아민 광 안정화제 하에 공지된 입체 장애형 아민이 포함된다. 이들은 코팅 및 플라스틱, 특히 폴리올레핀 플라스틱에서 에이징 과정을 억제하기 위해서 사용될 수 있다 (문헌 [Kunststoffe, 74 (1984) 10, pp. 620 to 623; Farbe + Lack, Volume 96, 9/1990, pp. 689 to 693]). HALS 화합물의 안정화 작용은 이들이 함유하는 테트라메틸피페리딘 기가 담당한다. 이러한 부류의 화합물은 치환되지 않을 수 있고, 또한 피페리딘 질소 상에서 알킬 또는 아실 기에 의해 치환될 수 있다. 입체 장애형 아민은 UV 영역에서 흡수하지 않는다. 이들은 형성된 임의의 자유 라디칼을 제거하며, 이것은 UV 흡수제는 할 수 없는 것이다. 또한 혼합물의 형태로 사용될 수 있는 안정화 작용을 갖는 HALS 화합물은 하기와 같다.
비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3-8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,5-디온, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 폴리(N-ß-히드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘-숙신산 에스테르) 또는 비스(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트.
특히 바람직한 UV 흡수제는 예를 들어, 티누빈(Tinuvin)® 234, 티누빈® 360, 치마소르브(Chimasorb)® 119 또는 이르가녹스(Irganox)® 1076이다.
자유-라디칼 스캐빈저/UV 안정화제는 (메트)아크릴레이트 공중합체를 기준으로, 0.01 중량% 내지 15 중량%, 특히 0.02 중량% 내지 10 중량%, 보다 특별하게는 0.02 중량% 내지 5 중량%의 양으로 본 발명의 중합체 혼합물 중에 사용된다.
UV 흡수제는 바람직하게는 PMMA 층 내에 존재하지만, 폴리올레핀 층 또는 폴리에스테르 층 내에 존재할 수도 있다.
더욱이, 보호 층은 1000 V의 부분 방전 전압을 보장하도록 충분한 층 두께를 보유한다. PMMA의 경우, 예를 들어, 이것은 두께가 250 μm 이상인 경우이다. 부분 방전 전압은 부분적으로 절연을 형성하는, 전기 방전을 생성하는 전압이다 (DIN EN 60664-1 참고).
내스크래치성 코팅
용어 "내스크래치성 코팅"은 본 발명의 내용에서 표면 스크래치를 감소시키고/거나 내마모성을 개선시키려는 목적을 위해서 적용되는 코팅에 대한 포괄적인 용어인 것으로 이해된다. 예를 들어, 광기전 시스템에서 필름 라미네이트의 사용을 위해서는, 특히 높은 내마모성이 매우 중요하다.
가장 넓은 의미에서, 내스크래치성 코팅의 추가의 중요한 특성은 필름 어셈블리의 광학 특성을 부정적으로 변경하지 않아야 한다는 것이다.
내스크래치성 코팅으로서, 폴리실록산, 예컨대 SDC 테크놀로지즈 인크.(SDC Techologies Inc.)로부터의 CRYSTALCOATTM MP-100, 모멘티브 퍼포먼스 머티어리얼즈(Momentive Performance Materials)로부터의 AS 400 - SHP 401 또는 UVHC3000K를 사용할 수 있다. 이들 코팅 제제를 예를 들어, 롤 코팅, 나이프 코팅, 또는 유동 코팅에 의해 필름 어셈블리 또는 외부 필름의 표면에 적용한다.
고려되는 추가의 코팅 기술의 예에는 PVD (물리적 증착; 물리적 기상 침착) 및 또한 CVD 플라즈마 (화학적 증착; 화학적 기상 침착)가 포함된다.
지지 필름
지지 필름 또는 동의어 지지 층으로서, 바람직하게는 폴리에스테르 (PET, PET-G, PEN) 또는 폴리올레핀 (PE, PP)의 필름을 사용한다. 지지 필름의 선택은 하기의 필수적인 특성에 의해 결정된다: 필름은 매우 투명하고, 가요성이고, 가열 하의 변형에 저항성이어야 한다. 이러한 부류의 특성 프로파일을 갖는 필름은 특히 폴리에스테르 필름, 구체적으로, 공압출된 이축 배향 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 필름인 것으로 밝혀졌다.
지지 층은 두께가 10 내지 500 μm이고, 두께가 바람직하게는 100 내지 400 μm, 매우 바람직하게는 150 내지 300 μm이다.
지지 층은 300 nm 초과, 바람직하게는 350 내지 2000 nm, 보다 바람직하게는 380 내지 800 nm의 파장 범위에서 투명도가 80%를 초과하고, 바람직하게는 85%를 초과하고, 보다 바람직하게는 90%를 초과한다.
접착제 층 1
물질의 조합에 따라서, 예를 들어, 필름 공압출 또는 라미네이션, 예컨대 압출 라미네이션에 의해 PMMA 보호 층 및 지지 필름을 제조한다. 이 경우, 접착제의 선택은 서로에 결합될 기판에 의해 그리고 접착제 층의 투명도에 영향을 미치는 실제 요건에 의해 결정된다. PMMA 및 PET의 조합의 경우, 용융 접착제가 바람직하다. 이러한 용융 접착제의 예는 에틸렌-비닐 아세테이트 핫멜트 (EVA 핫멜트) 또는 아크릴레이트 에틸렌 핫멜트이다. 아크릴레이트-에틸렌 핫멜트가 바람직하다. 접착제 층 1은 일반적으로 두께가 10 내지 100 μm, 바람직하게는 20 내지 80 μm, 보다 바람직하게는 40 내지 70 μm이다.
장벽 라미네이트
이미 언급된 바와 같이, 장벽 라미네이트는 무기 장벽 층이 제공된 중합체 필름으로 이루어진, 상이한 장벽 필름의 순서에 의해 구별된다.
중합체 필름
사용되는 중합체 필름은 바람직하게는 폴리올레핀 (PE, PP) 또는 폴리에스테르 (PET, PET-G, PEN)의 필름이다. 다른 중합체의 필름이 또한 사용될 수 있다 (예를 들어, 폴리아미드 또는 폴리아세트산). 지지 층은 두께가 1 내지 100 μm이고, 두께가 바람직하게는 5 내지 50 μm, 매우 바람직하게는 10 내지 30 μm이다.
중합체 필름의 투명도는 300 nm를 초과하는 파장 범위, 바람직하게는 350 내지 2000 nm, 보다 바람직하게는 380 내지 800 nm의 파장 범위에서 80%를 초과하고, 바람직하게는 85%를 초과하고, 보다 바람직하게는 90%를 초과한다.
장벽 층
장벽 층은 지지 층에 적용되고, 이것은 바람직하게는 무기 산화물, 예를 들어 SiOx 또는 AlOx로 이루어진다. 그러나, 또한 다른 무기 물질 (SiN, SiNxOy, ZrO, TiO2, ZnO, FexOy, 투명한 유기금속 화합물)을 사용할 수 있다. 정확한 층 구조에 대해서는, 실시예를 참고하기 바란다. SiOx 층으로서, 규소 대 산소의 비율이 1:1 내지 1:2, 보다 바람직하게는 1:1.3 내지 1:1.7인 층을 사용하는 것이 바람직하다. 층 두께는 5 내지 300 nm, 바람직하게는 10 내지 100 nm, 보다 바람직하게는 20 내지 80 nm이다.
AlOx의 경우, x는 0.5 내지 1.5, 바람직하게는 1 내지 1.5, 매우 바람직하게는 1.2 내지 1.5 (x가 1.5이면 Al2O3임)의 범위이다.
층 두께는 5 내지 300 nm, 바람직하게는 10 내지 100 nm, 보다 바람직하게는 20 내지 80 nm이다.
무기 산화물은 물리적 진공 침착 (전자-빔 또는 열 공정), 마그네트론(magnetron) 스퍼터링 또는 화학적 진공 침착에 의해 적용될 수 있다. 이것은 (산소의 공급으로) 반응적으로 또는 비반응적으로 수행될 수 있다. 화염, 플라즈마 또는 코로나 전처리가 마찬가지로 가능하다.
접착제 층 2
무기 층들과 접착제 층 2와의 접착은 바람직하게는 무기 층을 위해서 최적화된 2-성분 폴리우레탄-기재 접착제 (2K-PU 접착제)를 사용하여 성취된다. 접착제 2의 층 두께는 0.1 내지 10 μm, 바람직하게는 0.5 내지 5 μm, 보다 바람직하게는 0.5 내지 1 μm이다.
추가로, 접착제 층 2는 임의로는 SiOx에 대한 접착을 증가시키는 성분, 예를 들어 실록산 기를 함유하는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 예를 들어 메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란을 포함한다. 접착제 층 내에서의 실록산 기를 함유하는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트의 양은 0 중량% 내지 48 중량%일 수 있다. 접착제 층은 0.1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 1 중량% 내지 3 중량%의 개시제, 예를 들어, 이르가큐어® 184 또는 이르가큐어® 651을 함유한다. 사슬 전달제로서, 접착제 층은 또한 0 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 10 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 중량% 내지 5 중량%의 황 화합물을 함유할 수 있다. 한 변형예에서, 주 성분의 일부는 0 중량% 내지 30 중량%의 예비중합체로 대체된다. 접착제 성분은 임의로는 접착제에 통상적인 첨가제를 0 중량% 내지 40 중량% 포함한다.
또한, 예를 들어, 장벽 효과를 추가로 개선시키는, 에폭시를 기재로 하는 UV/Vis-경화 시스템, 예컨대 DELO KATIOBOND LP655, LP VE19781 또는 LP VE19663을 사용할 수 있다.
접착제 층 2a
접착제 2a를 사용하여 무기 산화물 층을, 대안적으로 중합체 필름, 바람직하게는 PET 또는 폴리올레핀 필름에 직접 결합시킨다. 물질의 조합에 따라서, 접착제 2a는 접착제 2 또는 접착제 3에 상응할 수 있다.
접착제 층 3
PET 필름, 또는 폴리에스테르 또는 폴리올레핀 필름은 2K-PU 접착제, 예를 들어 EVA 또는 아크릴레이트-에틸렌을 기재로 하는 용융 접착제, 또는 압출 라미네이션에 의해 서로에 결합될 수 있다. 후자의 경우, 접착제 3 층은 존재하지 않는다. 대안적으로, PET 필름은 또한 양 면 상에 SiOx로 코팅될 수 있다. 대안적으로, 접착제 4 하에 기재된 시스템을 사용할 수도 있다.
접착제 층 3은 두께가 1 내지 100 μm, 바람직하게는 2 내지 50 μm, 보다 바람직하게는 5 내지 20 μm이다.
접착제 층 4
접착제 층 4는 지지 라미네이트와 장벽 층 사이에 존재한다. 이것은 둘 사이를 접착시킨다. 접착제 층은 두께가 1 내지 100 μm, 바람직하게는 2 내지 50 μm, 보다 바람직하게는 5 내지 20 μm이다. 접착제 층 4는 이의 조성 및 두께가 접착제 층 3과 동일할 수 있다.
접착제 층 4는 용융 접착제의 형태일 수 있다. 이러한 용융 접착제는 폴리아미드, 폴리올레핀, 열가소성 엘라스토머 (폴리에스테르, 폴리우레탄 또는 코폴리아미드 엘라스토머) 또는 공중합체를 포함할 수 있다. 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 또는 에틸렌-아크릴레이트 또는 에틸렌-메타크릴레이트 공중합체가 바람직하다. 접착제 층은 라미네이션에서의 롤 적용 방법에 의해, 또는 압출 라미네이션 또는 압출 코팅에서의 노즐에 의해 적용될 수 있다.
접착제 층 5
필름 라미네이트는, 바닥 면, 즉, 지지 라미네이트에 대향하는 장벽 라미네이트의 면에 적용된 접착제 5를 포함하는 접착제 층에 의해 기판에 접착될 수 있다. 기판은 예를 들어, 반도체, 예컨대 규소일 수 있다. 이 경우, 접착제는 예를 들어, 핫멜트, 예컨대 에틸렌-비닐 아세테이트 EVA일 수 있다. 핫멜트 층은 일반적으로 두께가 50 내지 500 μm이다.
응용
이러한 장벽 필름은 패키징 산업, 디스플레이 기술, 유기 광기전소자, 박막 광기전소자, 결정질 규소 모듈, 및 유기 LED에서 사용될 수 있다.
실시예
중합체 필름 (예를 들어, PET)을 장벽 층 (예를 들어, SiOx)으로 코팅한다. 이것을 롤 적용 방법에 의해, 접착제 층 2에 의해, SiOx 층이 서로에 대면하도록 제2의 SiOx-코팅된 중합체 필름에 결합시킨다. 생성된 장벽 어셈블리를 감압 접착제에 의해, 라미네이션에 의해 제2 장벽 어셈블리에 결합시킨다. PMMA, 핫멜트 및 PP의 공압출에 의해 생성된 지지 라미네이트를 생성된 필름 어셈블리에 적용한다. 라미네이션을 위한 접착제 층 4로서, 예를 들어, 폴리우레탄-기재 접착 촉진제를 사용할 수 있다. 이것을 롤 적용 방법 (롤 코팅 또는 키스(kiss) 코팅)에 의해 적용할 수 있다.
실시예 1
보호 층: PVDF (층 두께: 10 μm) 및 im-PMMA (층 두께: 50 μm)의 공압출물
접착제 층 1: 아드머(Admer) AT 1955 (층 두께: 50 μm)
지지 필름: PE 다우렉스(Dowlex) 2108G (층 두께: 180 μm)
접착제 층 4: 헨켈(Henkel)로부터의 2-성분 시스템 리오폴(Liofol) LA 2692-21 및 경화제 UR 7395-22
장벽 층을 포함하는 중합체 필름: 알칸 세라미스(Alcan Ceramis) (층 두께 12 μm)
접착제 층 2: DELO KATIOBOND LP655 (층 두께: 1 μm)
중합체 필름, 장벽 층 및 접착제 층 2로 이루어진 장벽 어셈블리를 제2 장벽 어셈블리에 라미네이팅한다.
접착제 층 3: 접착제 층 4와 동일함
구조: 도 1 참고
실시예 2
내스크래치성 코팅: CRYSTALCOATTM MP-100 (층 두께: 10 μm)
보호 층: im-PMMA (층 두께: 50 μm)
접착제 층 1: 비넬(Bynel) 22E780 (층 두께: 40 μm)
지지 필름: PP 클리렐(Clyrell) RC124H (층 두께: 200 μm)
접착제 층 4: 62% 라로머(Laromer) UA 9048 V, 31% 헥산디올 디아크릴레이트, 2% 히드록시에틸 메타크릴레이트, 3% 이르가큐어 184, 2% 부틸 아크릴레이트 (층 두께: 10 μm)
중합체 필름: 이축 배향 PET (호스타판(Hostaphan) RNK 층, 두께 12 μm)
장벽 층: SiO1.5
접착제 층 2: 60% 라로머 UA 9048 V, 30% 헥산디올 디아크릴레이트, 2% 히드록시에틸 메타크릴레이트, 3% 이르가큐어 184, 2% 부틸 아크릴레이트, 4% 메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란 (층 두께: 1 μm)
접착제 층 3: 접착제 층 4와 동일함
접착제 층 5: 에티멕스(Etimex)로부터의 EVA 비스타솔라(Vistasolar) 486.00 (층 두께: 200 μm)
구조: 도 2 참고
실시예 3
내스크래치성 코팅: UVHC3000K (층 두께: 15 μm)
보호 층: im-PMMA (층 두께: 70 μm)
접착제 층 1: 비넬 22E780 (층 두께: 30 μm)
지지 필름: 이스트만(Eastman)으로부터의 PET 트리탄(Tritan) FX100 (층 두께: 180 μm)
접착제 층 4: 헨켈로부터의 2-성분 시스템 리오폴 LA 2692-21 및 경화제 UR 7395-22
중합체 필름: 이축 배향 PET (호스타판 RNK, 층 두께 12 μm)
장벽 층: Al2O3
접착제 층 2: DELO KATIOBOND LP VE19663 (층 두께: 0.8 μm)
중합체 필름, 장벽 층 및 접착제 층 2로 이루어진 장벽 어셈블리를 먼저 제2 장벽 어셈블리에 라미네이팅하고, 그 후 제3 장벽 어셈블리에 라미네이팅한다.
접착제 층 3: 접착제 층 4와 동일함
장벽 특성의 측정
필름 시스템의 수증기 투과성은 23℃/85% 상대 습도에서 ASTM F-1249에 따라서 측정한다.
부분 방전 전압은 DIN 61730-1 및 IEC 60664-1 또는 DIN EN 60664-1에 따라서 측정한다.
비교 실시예:
선행 기술 (EP 1 018 166 B1)에 따른 필름, 예를 들어 층 두께가 50 μm인 SiOx-코팅된 ETFE는 수증기 투과성이 0.7 g/(m² d)이다.
4개의 장벽 어셈블리를 갖는 본 발명의 필름은 수증기 투과도가 0.01 g/(m² d) 미만이다 (실시예 3 참고).
실시예의 % 수치는 항상 중량%를 나타낸다.
A 지지 라미네이트
B 전체 장벽 라미네이트
(1) 내스크래치성 코팅
(2) 보호 층
(3) 지지 필름
(4) 중합체 필름
(5) 장벽 층
(6) 반복적인 장벽 라미네이트
(a1) 접착제 층 1
(a2) 접착제 층 2
(a3) 접착제 층 3
(a4) 접착제 층 4
(a5) 접착제 층 5

Claims (14)

  1. 적어도,
    a) 적어도, 외부로부터 내부로, PMMA 보호 층, 접착제 층 접착제 1 및 지지 필름으로 이루어진 내후-안정성 지지 라미네이트,
    b) 1개 이상의 접착제 층 접착제 4, 및
    c) 수증기 및 산소에 대한 장벽 효과를 개선시키는 3개 이상의 무기 산화물 층을 포함하는 장벽 라미네이트
    로 이루어진 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  2. 제1항에 있어서, 접착제 층 접착제 1이 에틸렌-아크릴레이트 핫멜트(hotmelt)이고, 지지 필름이 폴리에스테르 필름 또는 폴리올레핀 필름인 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 지지 필름의 두께가 100 내지 400 μm이고, 접착제 층 접착제 1의 두께가 20 내지 80 μm이고, PMMA 층의 두께가 50 내지 400 μm인 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, PMMA 층이 내스크래치성 코팅을 갖는 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  5. 제1항에 있어서, 장벽 라미네이트가 적어도, 3개 이상의 중합체 필름, 3개 이상의 무기 산화물 층, 및 접착제 2 및/또는 접착제 3을 포함하는 2개 이상의 접착제 층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  6. 제5항에 있어서, 중합체 필름이 두께가, 5 내지 50 μm인 폴리에스테르 필름 또는 폴리올레핀 필름인 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 무기 산화물 층이, x 값이 1.3 내지 1.7인 SiOx 층이고, 산화물 층 각각의 두께가 10 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 무기 산화물 층이, x 값이 1.2 내지 1.5인 AlOx 층이고, 산화물 층 각각의 두께가 10 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 장벽 라미네이트가 구조
    PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-접착제 3-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET,
    PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-접착제 3-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-접착제 3-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET, 또는
    PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET-SiOx-접착제 2-SiOx-PET
    를 갖는 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 외부로부터 내부로, 구조 지지 라미네이트, 접착제 층 접착제 4 및 장벽 라미네이트를 가지며, 접착제 층 접착제 5가 장벽 라미네이트의 바닥 면 상에 적용된 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  11. 제1항에 있어서, 부분 방전 전압이 1000 V 이상이고, 투명도가 300 nm 초과의 범위에서 80%를 초과하는 것을 특징으로 하는 필름 라미네이트.
  12. a) 중합체 필름을 진공 증발 또는 스퍼터링에 의해 무기물 코팅하고, 이 필름을 접착제 층에 의해 2개 이상의 추가의 무기물 코팅된 필름에 결합시키고, 생성된 장벽 라미네이트를 라미네이션, 압출 라미네이션 또는 압출 코팅에 의해 제2항에 따른 내후성 지지 필름과 조합시키거나, 또는
    b) 중합체 필름을 진공 증발 또는 스퍼터링에 의해 양 면 상에 무기물 코팅하고, 이 필름을 접착제 층에 의해 1개 이상의 추가의 무기물 코팅된 필름에 결합시키고, 생성된 장벽 라미네이트를 라미네이션, 압출 라미네이션 또는 압출 코팅에 의해 제2항에 따른 내후성 지지 필름과 조합시키거나, 또는
    c) 중합체 필름을 진공 증발 또는 스퍼터링에 의해 양 면 상에 무기물 코팅하고, 이 필름을 접착제 층에 의해 1개 이상의 추가의 양 면 무기물 코팅된 필름에 결합시키고, 생성된 필름 어셈블리를 압출 코팅에 의해 제2항에 따른 내후성 지지 필름과 조합시키고,
    d) a) 내지 c)에서 언급된 물리적 진공 증발에서, 규소 산화물 또는 알루미늄 산화물을 전자 빔에 의해 증발시키거나, 또는
    e) a) 내지 c)에서 언급된 물리적 진공 증발에서, 규소 산화물 또는 알루미늄 산화물을 열적으로 증발시키는 것
    을 특징으로 하는, 제1항에 따른 필름 라미네이트의 제조 방법.
  13. 패키징 산업, 디스플레이 기술 및 유기 LED에서의 제1항에 따른 필름 라미네이트의 용도.
  14. 유기 광기전소자, 박막 광기전소자 및 결정질 규소 모듈에서의 제1항에 따른 장벽 필름의 용도.
KR20137004352A 2010-07-22 2011-05-31 장벽 효과 및 내스크래치 특성이 개선된 투명한 내후성 장벽 필름 KR20130132756A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201010038288 DE102010038288A1 (de) 2010-07-22 2010-07-22 Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie mit verbesserter Barrierewirkung und Kratzfesteigenschaften
DE102010038288.4 2010-07-22
PCT/EP2011/058889 WO2012010361A1 (de) 2010-07-22 2011-05-31 Transparente, witterungsbeständige barrierefolie mit verbesserter barrierewirkung und kratzfesteigenschaften

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20130132756A true KR20130132756A (ko) 2013-12-05

Family

ID=44462068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20137004352A KR20130132756A (ko) 2010-07-22 2011-05-31 장벽 효과 및 내스크래치 특성이 개선된 투명한 내후성 장벽 필름

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20130059139A1 (ko)
EP (1) EP2595803A1 (ko)
JP (1) JP2013539418A (ko)
KR (1) KR20130132756A (ko)
CN (1) CN103003062A (ko)
AU (1) AU2011281877A1 (ko)
DE (1) DE102010038288A1 (ko)
SG (1) SG187180A1 (ko)
TW (1) TW201219225A (ko)
WO (1) WO2012010361A1 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009003225A1 (de) * 2009-05-19 2010-11-25 Evonik Degussa Gmbh Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie, Herstellung durch Lamination, Extrusionslamination oder Extrusionsbeschichtung
DE102011113160A1 (de) 2011-09-14 2013-03-14 Evonik Röhm Gmbh Polymere Materialien für Außenanwendungen mit selbstheilenden Oberflächeneigenschaften nach Verkratzen oder Abrasionsbeschädigung
TWI441729B (zh) * 2012-12-17 2014-06-21 Protective film
DK2996646T3 (da) * 2013-05-17 2022-03-07 Hollister Inc Biologisk nedbrydelig lugtbarrierefilm
DE102013217285A1 (de) * 2013-08-29 2015-03-05 Robert Bosch Gmbh Mehrlagige Kunststofffolie
CN108156813B (zh) * 2015-09-30 2020-12-08 3M创新有限公司 多层阻隔涂层
JPWO2017126609A1 (ja) * 2016-01-20 2018-11-15 凸版印刷株式会社 発光体保護フィルム及びその製造方法、並びに波長変換シート及び発光ユニット
CN106903939A (zh) * 2017-02-27 2017-06-30 合肥中科富华新材料有限公司 一种液晶屏幕保护膜及制备方法
DE102017004563A1 (de) 2017-03-05 2018-09-06 Entex Rust & Mitschke Gmbh Entgasen beim Extrudieren von Polymeren
JP7031659B2 (ja) * 2017-03-14 2022-03-08 Dic株式会社 成形体の製造方法
CN107452891A (zh) * 2017-05-22 2017-12-08 茆胜 兼具柔性和耐磨性能的oled封装结构及封装方法
DE102018001412A1 (de) 2017-12-11 2019-06-13 Entex Rust & Mitschke Gmbh Entgasen beim Extrudieren von Stoffen, vorzugsweise von Kunststoffen
EP3974176B1 (de) * 2020-09-24 2023-08-16 Akzenta Paneele + Profile GmbH Verschleissschutzfolie für dekorpaneel
CN113147106A (zh) * 2021-03-22 2021-07-23 长春工业大学 一种高防潮性稳定的室温气体传感器制备方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3300526A1 (de) 1983-01-10 1984-07-12 Röhm GmbH, 6100 Darmstadt Schlagzaehmodifizierungsmittel
DE3312611A1 (de) 1983-04-08 1984-10-11 Röhm GmbH, 6100 Darmstadt Verfahren zur herstellung uv-geschuetzter mehrschichtiger kunststoff-formkoerper
DE3612791C2 (de) * 1986-04-16 1997-01-16 Roehm Gmbh Polymethacrylatformmasse mit hoher Wärmeformbeständigkeit und hoher thermischer Stabilität, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Herstellung von Formkörpern
DE3842796A1 (de) 1988-12-20 1990-06-21 Roehm Gmbh Klare schlagzaehe acrylat-formmasse
US5063259A (en) 1990-07-03 1991-11-05 Rohm And Haas Company Clear, impact-resistant plastics
DE4121652A1 (de) 1991-06-29 1993-01-07 Roehm Gmbh Schlagzaeh-modifizierungsmittel
DE4125857A1 (de) 1991-08-03 1993-02-04 Roehm Gmbh Mattierte polymethacrylat-folie
EP0655976B1 (de) 1993-06-11 1999-01-13 ISOVOLTAÖsterreichische IsolierstoffwerkeAktiengesellschaft Verfahren zur herstellung fotovoltaischer module sowie eine vorrichtung zur durchführung dieses verfahrens
JPH0774378A (ja) 1993-09-01 1995-03-17 Mitsui Toatsu Chem Inc 太陽電池シート
DE4417559A1 (de) 1994-05-19 1995-11-23 Roehm Gmbh Verfahren zum Entwässern einer wasserhaltigen Kunststoffschmelze in einem Doppelschneckenextruder
JP3701398B2 (ja) 1996-07-12 2005-09-28 大日本印刷株式会社 透明複合フィルム
US5981076A (en) * 1996-12-09 1999-11-09 3M Innovative Properties Company UV protected syndiotactic polystyrene overlay films
JPH11218603A (ja) * 1997-11-27 1999-08-10 Sony Corp 反射防止膜およびその製造方法
EP0969521A1 (de) * 1998-07-03 2000-01-05 ISOVOLTAÖsterreichische IsolierstoffwerkeAktiengesellschaft Fotovoltaischer Modul sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung
US6335479B1 (en) * 1998-10-13 2002-01-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module
JP2000307136A (ja) 1999-04-19 2000-11-02 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルム
US7217344B2 (en) * 2002-06-14 2007-05-15 Streaming Sales Llc Transparent conductive film for flat panel displays
DE10393252T5 (de) * 2002-09-06 2005-09-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Rückseitenschutzschicht für ein Solarzellenmodul und Solarzellenmodul unter Verwendung derselben
US20040229051A1 (en) 2003-05-15 2004-11-18 General Electric Company Multilayer coating package on flexible substrates for electro-optical devices
US20080171184A9 (en) * 2003-04-17 2008-07-17 Minoru Komada Barrier film and laminated material, container for wrapping and image display medium using the saw, and manufacturing method for barrier film
DE102004024429A1 (de) * 2004-05-14 2005-12-08 Röhm GmbH & Co. KG Formkörper, enthaltend eine Polymermischung aus schlagzähmodifizierten Poly(meth)-acrylat und Fluorpolymer
JP2006120365A (ja) * 2004-10-19 2006-05-11 Fuji Electric Holdings Co Ltd 有機ｅｌ素子
DE102006048339A1 (de) * 2006-10-12 2008-04-24 Agfaphoto Gmbh Schutzfolie
DE102009000450A1 (de) 2009-01-28 2010-07-29 Evonik Degussa Gmbh Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie, Herstellung durch Lamination, Extrusionslamination oder Extrusionbeschichtung
DE102009003223A1 (de) * 2009-05-19 2010-12-09 Evonik Degussa Gmbh Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie für die Einkapselung von Solarzellen III
DE102010038292A1 (de) * 2010-07-22 2012-01-26 Evonik Röhm Gmbh Witterungsbeständige Rückseitenfolien

Also Published As

Publication number Publication date
AU2011281877A1 (en) 2013-03-14
WO2012010361A1 (de) 2012-01-26
CN103003062A (zh) 2013-03-27
JP2013539418A (ja) 2013-10-24
DE102010038288A1 (de) 2012-01-26
TW201219225A (en) 2012-05-16
SG187180A1 (en) 2013-02-28
US20130059139A1 (en) 2013-03-07
EP2595803A1 (de) 2013-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20130132756A (ko) 장벽 효과 및 내스크래치 특성이 개선된 투명한 내후성 장벽 필름
AU2010209838B2 (en) Transparent, weather-resistant barrier film, production by lamination, extrusion lamination or extrusion coating
US20120021236A1 (en) Transparent, weathering-resistant barrier foil, production thereof by means of lamination, extrusion lamination or extrusion coating
KR20130132755A (ko) 내후성 백킹 필름
KR102441633B1 (ko) 장식용 적층 시트（hpl）를 위한 ３-층 uv 보호 필름
TW200920770A (en) PMMA/PVDF foil with particularly high weathering resistance and high UV-protective action
US20120107609A1 (en) Solar mirror film composite having particularly high weathering and uv stability
DE102009003223A1 (de) Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie für die Einkapselung von Solarzellen III
DE102009003218A1 (de) Transparente. witterungsbeständige Barrierefolie für die Einkapselung von Solarzellen I

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid