KR20130102864A - Narrow bezel type liquid crystal display device - Google Patents

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KR20130102864A
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Abstract

PURPOSE: A narrow bezel type liquid crystal display device is provided to improve display quality by linearly overlapping an edge black matrix with the outermost pixel line of a display region. CONSTITUTION: An edge black matrix (183) is formed in the non-display region (NA) of the inner surface of a second substrate. The edge black matrix surrounds a displaying region (AA). The edge black matrix is overlapped with pixel regions. The pixel region is formed in an outermost part within the displaying region. The width of the region overlapped with the outermost pixel region of the edge black matrix is less than half a width of the pixel region.

Description

네로우 베젤 타입 액정표시장치{Narrow bezel type liquid crystal display device}Narrow bezel type liquid crystal display device

본 발명은 액정표시장치(LCD)에 관한 것으로, 특히 편광판 부착 마진 확보 및 빛샘을 방지하면서 네로우 베젤이 구현된 액정표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), and more particularly to a liquid crystal display in which a narrow bezel is implemented while securing a margin with polarizer and preventing light leakage.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다. Recently, liquid crystal displays have been spotlighted as next generation advanced display devices having low power consumption, good portability, high technology value, and high added value.

이러한 액정표시장치 중에서도 각 화소(pixel)별로 전압의 온(on),오프(off)를 조절할 수 있는 스위칭 소자인 박막트랜지스터가 구비된 액티브 매트릭스형 액정표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력이 뛰어나 가장 주목받고 있다.Of these liquid crystal display devices, an active matrix type liquid crystal display device having a thin film transistor, which is a switching device capable of controlling voltage on and off for each pixel, .

일반적인 액정표시장치의 분해사시도인 도 1을 참조하여 그 구조에 대해 설명하면, 도시한 바와 같이, 액정표시장치(1)는 액정층(30)을 사이에 두고 하부기판인 어레이 기판(10)과 상부기판인 컬러필터 기판(20)이 대면 합착된 구성을 가지며, 이러한 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20) 및 액정층(30)을 액정셀 또는 액정패널이라 칭한다. Referring to FIG. 1, which is an exploded perspective view of a general liquid crystal display, a structure thereof will be described. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display 1 includes an array substrate 10, which is a lower substrate, with a liquid crystal layer 30 therebetween. The color filter substrate 20, which is the upper substrate, has a configuration in which the color filter substrate 20 is face-to-face bonded to each other, and the array substrate 10, the color filter substrate 20, and the liquid crystal layer 30 are called liquid crystal cells or liquid crystal panels.

한편, 하부의 어레이 기판(10)은 투명한 제 1 기판(12)의 상면으로 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 복수개의 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16)을 포함하며, 이들 두 배선(14, 16)의 교차지점에는 박막트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(18)과 일대일 대응 접속되어 있다.Meanwhile, the lower array substrate 10 includes a plurality of gate lines 14 and data lines 16 arranged vertically and horizontally on the top surface of the transparent first substrate 12 to define a plurality of pixel regions P. Thin film transistors T are provided at the intersections of the two wires 14 and 16 so as to correspond one-to-one with the pixel electrodes 18 provided in the pixel regions P. FIG.

또한, 상기 어레이 기판(10)과 마주보는 상부의 컬러필터 기판(20)은 투명한 제 2 기판(22)의 배면으로 상기 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16) 그리고 박막트랜지스터(T) 등의 비표시영역을 가리도록 각 화소영역(P)을 테두리하는 격자 형상의 블랙매트릭스(25)가 형성되어 있으며, 이들 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(26a, 26b, 26c)을 포함하는 컬러필터층(26)이 형성되어 있으며, 상기 블랙매트릭스(25)와 컬러필터층(26)의 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(28)이 구비되어 있다.In addition, the upper color filter substrate 20 facing the array substrate 10 is a rear surface of the transparent second substrate 22 such as the gate wiring 14, the data wiring 16, the thin film transistor T, and the like. A grid-like black matrix 25 is formed to cover the non-display area, and the red, green, and red layers are sequentially arranged to correspond to the pixel areas P. A color filter layer 26 including blue color filter patterns 26a, 26b, and 26c is formed, and a transparent common electrode 28 is provided over the entire surface of the black matrix 25 and the color filter layer 26. .

그리고, 도면상에 도시되지는 않았지만, 이들 어레이 기판(10) 및 컬러필터 기판(20)은 그 사이로 개재된 액정층(30)의 누설을 방지하기 위하여 상기 두 기판(10, 20)의 가장자리를 따라 씰패턴(미도시)이 구비되어 봉함된 상태에서 각 기판(10, 20)과 액정층(30)의 경계부분에는 액정의 분자배열 방향에 신뢰성을 부여하는 상, 하부 배향막이 개재되며, 각 기판(10, 20)의 외측면에는 특정 방향의 빛을 통과시키는 제 1 편광판(미도시)과 제 2 편광판(미도시)이 구비되어 있다. 이때, 상기 제 1 편광판(미도시)과 제 2 편광판(미도시)의 광축(미도시)은 서로 수직한 상태가 되도록 배치되고 있는 것이 특징이다. Although not shown in the drawings, the array substrate 10 and the color filter substrate 20 may have edges of the two substrates 10 and 20 to prevent leakage of the liquid crystal layer 30 interposed therebetween. Accordingly, in the sealed state with a seal pattern (not shown), upper and lower alignment layers interposed between the substrates 10 and 20 and the liquid crystal layer 30 provide reliability in the molecular alignment direction of the liquid crystal. The outer surfaces of the substrates 10 and 20 are provided with a first polarizing plate (not shown) and a second polarizing plate (not shown) through which light in a specific direction passes. In this case, the optical axes (not shown) of the first polarizing plate (not shown) and the second polarizing plate (not shown) are arranged to be perpendicular to each other.

또한, 상기 어레이 기판(10)의 외측면으로는 백라이트(back-light)(미도시)가 구비되어 빛을 공급하는 바, 게이트 배선(14)으로 박막트랜지스터(T)의 온(on)/오프(off) 신호가 순차적으로 스캔 인가되어 선택된 화소영역(P)의 화소전극(18)에 데이터배선(16)의 화상신호가 전달되면 이들 사이의 수직전계에 의해 그 사이의 액정분자가 구동되고, 이에 따른 빛의 투과율 변화로 여러 가지 화상을 표시할 수 있다.In addition, a back-light (not shown) is provided on an outer surface of the array substrate 10 to supply light, and the thin film transistor T is turned on / off by the gate line 14. When the (off) signal is sequentially scanned and applied, and the image signal of the data line 16 is transferred to the pixel electrode 18 of the selected pixel region P, the liquid crystal molecules are driven by the vertical electric field therebetween. As a result, various images can be displayed by changing the transmittance of light.

이러한 구성을 갖는 액정표시장치(1)는 구동 방법에 따라 특히 상기 화소전극과 공통전극의 형태 및 위치가 달라질 수 있으며, 상기 공통전극이 상기 화소전극이 형성된 어레이 기판에 형성되는 경우 횡전계형 액정표시장치 또는 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치가 될 수도 있다.In the liquid crystal display device 1 having such a configuration, the shape and position of the pixel electrode and the common electrode may vary, in particular, depending on the driving method. It may be a device or a fringe field switching mode liquid crystal display.

이러한 다양한 구성을 갖는 액정표시장치는 반드시 서로 편광축이 직교하도록 배치된 제 1 및 제 2 편광판(미도시)이 필요로 되고 있다.Liquid crystal display devices having such various configurations require first and second polarizing plates (not shown) arranged so that polarization axes are perpendicular to each other.

최근들어 이러한 구성을 갖는 액정표시장치는 경량 박형을 추구하는 동시에 최종 제품 예를들면 모니터 또는 TV의 슬림한 디자인 구현을 위해 표시영역 외부의 비표시영역의 폭이라 정의되는 베젤을 보다 작게 형성하는 것이 요구되고 있다.Recently, liquid crystal display devices having such a configuration have a smaller bezel defined as a width of a non-display area outside the display area in order to achieve a light weight and to achieve a slim design of a final product such as a monitor or a TV. It is required.

도 2 종래의 일반적인 액정표시장치의 표시영역 일부 및 비표시영역을 절단한 부분에 대한 개략적인 단면도이며, 도 3은 종래의 네로우 베젤을 구현한 액정표시장치의 표시영역 일부 및 비표시영역을 절단한 부분에 대한 개략적인 단면도이다. 설명의 편의를 위해 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였으며, 어레이 기판에 구비되는 구성요소는 도시하지 않았다.FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a portion of a display area and a portion of a non-display area of a conventional liquid crystal display, and FIG. 3 illustrates a portion of a display area and a non-display area of a liquid crystal display device implementing a conventional narrow bezel. It is a schematic sectional drawing about a cut part. For the convenience of description, the same reference numerals are given to the same components, and the components provided in the array substrate are not shown.

도2 및 도 3에 도시한 바와같이, 표시영역(AA) 외측의 비표시영역(NA)에는 특히 컬러필터 기판(61)에 테두리 블랙매트릭스(63)가 구비되고 있으며, 상기 테두리 블래매트릭스(63)에 대응하여 상기 어레이 기판(41)과 컬러필터 기판(61)이 합착되어 패널 상태를 유지하도록 하기 위한 씰패턴(70)이 구비되고 있다. 또한, 상기 컬러필터 기판(61)에 있어서 표시영역(AA)에 대응해서는 각 화소영역의 경계에 대응하여 화소 블랙매트릭스(64)가 구비되고 있으며, 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴으로 이루어진 컬러피터층(66)이 구비되고 있다.As shown in Figs. 2 and 3, in the non-display area NA outside the display area AA, the edge black matrix 63 is provided on the color filter substrate 61, in particular, and the edge block matrix 63 is provided. A seal pattern 70 is attached to the array substrate 41 and the color filter substrate 61 to maintain the panel state. In addition, in the color filter substrate 61, a pixel black matrix 64 is provided to correspond to the boundary of each pixel area in response to the display area AA. Layer 66 is provided.

이때, 네로우 베젤을 구현하지 않은 종래의 일반적인 액정표시장치(40)에 있어서는 도 2를 참조하면, 비표시영역(NA)의 폭이 0.7mm 이상 충분 큰 폭을 가지므로 상기 어레이 기판(41) 및 컬러필터 기판(61) 외측면에 각각 부착되는 제 1 및 제 2 편광판(80, 81)이 표시영역(AA)에 대응해서는 완전히 중첩하도록 배치됨으로써 빛샘이 발생되지 않는다.In this case, in the conventional general liquid crystal display device 40 that does not implement a narrow bezel, referring to FIG. 2, the width of the non-display area NA is large enough to be 0.7 mm or more. And the first and second polarizing plates 80 and 81 attached to the outer surface of the color filter substrate 61 are disposed so as to completely overlap with the display area AA, so that no light leakage occurs.

하지만, 네로우 베젤을 구현하는 액정표시장치(90)의 경우, 도 3을 참조하면, 비표시영역(NA)을 2mm 이하가 되도록 하며 더욱 최소로 함으로써 0.7mm보다 작은 폭을 갖도록 할 수 있으며, 이 경우 특히 상대적으로 더 작은 폭을 갖는 컬러필터 기판(61)에 구비되는 제 2 편광판(82)은 편광판 부착 장비 공차에 의해 부착 오차 발생으로 표시영역(AA)을 완전히 덮지 못함으로써 테두리 블랙매트릭스(63)와 제 2 편광판(82) 사이에 이격영역에서 빛샘이 발생되어 표시품질을 저하시키고 있는 실정이다.However, in the case of the liquid crystal display device 90 implementing the narrow bezel, referring to FIG. 3, the non-display area NA may be 2 mm or less and further minimized to have a width smaller than 0.7 mm. In this case, in particular, the second polarizing plate 82 provided in the color filter substrate 61 having a relatively smaller width does not completely cover the display area AA due to the attachment error caused by the equipment attachment polarizer. The light leakage is generated in the separation area between the 63 and the second polarizing plate 82 to reduce the display quality.

편광판(80, 82)을 어레이 기판(41) 또는 컬러필터 기판(61)의 외측면에 부착하기 위해서는 현 편광판 부착 장비 수준에서는 기판(41, 61)의 테두리로부터 최소 0.7mm의 마진을 요구하는데, 네로우 베젤을 극대화하여 0.7mm보다 작은 폭을 갖도록 구현하는 경우 제 2 편광판(82)의 끝단이 표시영역(AA) 내부에 위치하며 부착되기 때문이다.In order to attach the polarizers 80 and 82 to the outer surface of the array substrate 41 or the color filter substrate 61, a margin of at least 0.7 mm from the edge of the substrates 41 and 61 is required at the current polarizer attachment level. This is because when the narrow bezel is maximized to have a width smaller than 0.7 mm, the end of the second polarizing plate 82 is positioned inside the display area AA and attached.

본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 네로우 베젤을 구현하면서도 편광판 외측으로 발생되는 빛샘을 억제할 수 있는 액정표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device which can suppress light leakage generated outside the polarizing plate while implementing a narrow bezel.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는, 전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는, 다수의 화소영역을 갖는 표시영역과 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역이 정의된 제 1 기판과, 이와 대면하는 제 2 기판 및 이들 두 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하는 액정표시장치에 있어서, 상기 제 2 기판 내측면의 비표시영역에 상기 표시영역을 둘러하며 형성된 테두리 블랙매트릭스가 구비되며, 상기 테두리 블랙매트릭스는 상기 표시영역내의 최외각에 구비되는 다수의 화소영역과 중첩하도록 형성된 것이 특징이다.A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, a display area having a plurality of pixel areas and the display area A liquid crystal display device comprising: a first substrate having a non-display area surrounding the substrate; a second substrate facing the second substrate; and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. An edge black matrix formed around the display area is provided, and the edge black matrix is formed to overlap a plurality of pixel areas provided at the outermost part of the display area.

이때, 상기 테두리 블랙매트릭스는 상기 최외각 화소영역과 중첩되는 측단이 곧은 직선 형태를 이루는 것이 특징이다. In this case, the edge black matrix is characterized in that the side end overlapping the outermost pixel region forms a straight line.

또한, 상기 테두리 블랙매트릭스의 상기 최외각 화소영역과 중첩되는 폭은 상기 화소영역의 폭의 1/2 이하인 것이 특징이며, 상기 제 1 기판 내측면의 상기 표시영역에 서로 교차하여 상기 화소영역을 정의하며 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과; 상기 각 화소영역에 구비된 박막트랜지스터와; 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 각 화소영역에 형성된 화소전극과; 상기 제 2 기판 내측면의 상기 표시영역에 상기 각 화소영역의 경계에 형성된 화소 블랙매트릭스와; 상기 화소 블랙매트릭스와 중첩하며 상기 표시영역에 대응하여 형성된 컬러필터층을 포함한다. The width overlapping the outermost pixel area of the edge black matrix may be 1/2 or less of the width of the pixel area, and the pixel area is defined by crossing the display area of the inner surface of the first substrate. Formed gate wiring lines and data wiring lines; A thin film transistor provided in each pixel area; A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in each pixel area; A pixel black matrix formed at a boundary between the pixel areas in the display area of the inner surface of the second substrate; And a color filter layer overlapping the pixel black matrix and formed to correspond to the display area.

그리고, 상기 제 2 기판의 내측면에서는 상기 컬러필터층을 덮으며 상기 표시영역 전면에 판 형태의 공통전극이 형성된 것이 특징이다.In addition, the inner surface of the second substrate may cover the color filter layer and form a plate-shaped common electrode on the entire display area.

또한, 상기 게이트 배선과 나란하게 이격하며 공통배선이 형성되며, 상기 화소전극과 박막트랜지스터 사이에는 상기 표시영역 전면에 보호층이 구비되며, 상기 화소전극은 각 화소영역에서 다수의 바(bar) 형태를 가지며, 상기 보호층 상부로 상기 각 화소영역에 대응하여 상기 공통배선과 연결되며 상기 다수의 바(bar) 형태의 화소전극과 교대하는 다수의 바(bar) 형태의 공통전극이 형성된 것이 특징이며, 이때, 상기 다수의 바(bar) 형태의 화소전극과 공통전극은 각 화소영역의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 형태를 가지며, 상기 데이터 배선은 각 화소영역의 경계에서 꺾인 구성을 이룸으로써 상기 표시영역 내에서 지그재그 형태를 이루는 것이 특징이다. In addition, a common wiring is formed to be spaced apart from the gate wiring, and a protective layer is provided on the entire display area between the pixel electrode and the thin film transistor, and the pixel electrode has a plurality of bars in each pixel area. And a plurality of bar shaped common electrodes connected to the common wirings corresponding to the respective pixel areas and alternate with the plurality of bar shaped pixel electrodes on the passivation layer. In this case, the plurality of bar-shaped pixel electrodes and the common electrode may be symmetrically bent with respect to the center of each pixel area, and the data line may be bent at the boundary of each pixel area. It is characterized by forming a zigzag shape in the display area.

또한, 상기 각 화소전극은 상기 각 화소영역 내에서 판 형태를 이루며, 상기 화소전극과 박막트랜지스터 사이에는 상기 표시영역 전면에 제 1 보호층이 구비되며, 상기 화소전극 위로 상기 표시영역 전면에 제 2 보호층이 구비되며, 상기 제 2 보호층 위로 상기 표시영역 전면에 판 형태를 가지며 상기 각 화소영역에 대응하여 바(bar) 형태의 다수의 개구를 갖는 공통전극이 구비된 것이 특징이다. In addition, each of the pixel electrodes has a plate shape in each of the pixel areas, and a first protective layer is formed on the entire surface of the display area between the pixel electrode and the thin film transistor, and a second surface of the display area is disposed on the pixel electrode. A passivation layer is provided, and a common electrode having a plate shape in front of the display area over the second passivation layer and having a plurality of bar-shaped openings corresponding to each pixel area.

또한, 상기 제 2 기판 전면에 상기 컬러필터층을 덮으며 오버코트층이 형성된 것이 특징이다.In addition, an overcoat layer is formed on the entire surface of the second substrate to cover the color filter layer.

그리고, 상기 비표시영역 중 구동 IC칩 또는 FPC가 실장되는 영역 이외의 비표시영역은 2mm 이하의 폭을 갖는 것이 특징이다.
The non-display area other than the area where the driving IC chip or the FPC is mounted among the non-display areas has a width of 2 mm or less.

본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치는 2mm 이하의 비표시영역의 폭을 갖는 네로우 베젤을 구현하여 경량 박형의 액정표시장치를 제공하는 효과를 가지며, 나아가 네로우 베젤을 극대화하여 0.7mm 보다 작은 폭을 갖도록 하더라도 테두리 블랙매트릭스가 표시영역 외최각 화소라인과 곧은 직선 형태로서 중첩함으로서 편광판 부착 시 공차에 의해 편광판의 끝단이 표시영역 내부에 위치한다 하더라도 편광판과 중첩하지 않는 표시영역에서 빛샘이 발생되는 것을 억제하여 표시품질을 향상시키는 효과가 있다.
According to an exemplary embodiment of the present invention, a liquid crystal display device has a narrow bezel having a width of a non-display area of 2 mm or less, thereby providing a lightweight thin liquid crystal display device, and further maximizing the narrow bezel 0.7 mm. Even if it has a smaller width, the border black matrix overlaps the outermost pixel line of the display area in a straight line shape. There is an effect of suppressing the generation to improve the display quality.

도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 도시한 평면도
도 2 종래의 일반적인 액정표시장치의 표시영역 일부 및 비표시영역을 절단한 부분에 대한 개략적인 단면도.
도 3 은 종래의 네로우 베젤을 구현한 액정표시장치의 표시영역 일부 및 비표시영역을 절단한 부분에 대한 개략적인 단면도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 대한 평면도.
도 5는 도 4의 A영역을 확대 도시한 도면.
도 6은 도 4의 B영역을 확대 도시한 도면.
도 7은 도 5를 절단선 Ⅶ-Ⅶ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
도 8은 도 5를 절단선 Ⅷ-Ⅷ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도.
1 is a plan view schematically showing a general liquid crystal display device
2 is a schematic cross-sectional view of a portion of a display area and a portion of a non-display area of a conventional LCD according to the related art.
3 is a schematic cross-sectional view of a portion of a display area and a portion of a non-display area of a liquid crystal display device implementing a conventional narrow bezel;
4 is a plan view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
Fig. 5 is an enlarged view of the area A in Fig. 4; Fig.
FIG. 6 is an enlarged view of a region B of FIG. 4. FIG.
Fig. 7 is a cross-sectional view of a portion cut along line VII-VII of Fig. 5; Fig.
FIG. 8 is a cross-sectional view of the portion of FIG. 5 taken along section line VIII-VIII. FIG.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 대한 평면도이며, 도 5는 도 4의 A영역을 확대 도시한 도면이며, 도 6은 도 4의 B영역을 확대 도시한 도면이다. 이때, 각 도면에 있어서는 어레이 기판을 위주로 나타내었으며, 컬러필터 기판에 구비되는 테두리 블랙매트릭스에 대해서는 함께 도시하였다.4 is a plan view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, FIG. 5 is an enlarged view of region A of FIG. 4, and FIG. 6 is an enlarged view of region B of FIG. 4. In this case, the array substrate is mainly shown in each drawing, and the edge black matrix provided in the color filter substrate is shown together.

도시한 바와같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(101)는 화상을 표시하는 사각형 형태의 표시영역(AA)과, 상기 표시영역(AA)의 외측으로 상기 표시영역(AA)을 테두리하는 형태로 비표시영역(NA)이 구비되고 있다.As shown in the drawing, the liquid crystal display device 101 according to an exemplary embodiment of the present invention has a rectangular display area AA for displaying an image, and an edge of the display area AA outside the display area AA. The non-display area NA is provided.

이러한 비표시영역(NA) 중 상/하/좌/우 중 데이터 배선(130)의 끝단이 위치하는 상측 또는 하측에 위치한 부분에 대해서는 도면에 나타나지 않았지만 구동 IC칩(미도시)을 실장한 다수의 FPC(flexible printed circuit board, 미도시)를 개재하여 구동회로기판(미도시)이 구비되고 있으며, 상기 구동회로기판(미도시)이 실장된 상측 또는 하측의 비표시영역(NN)을 제외한 나머지 비표시영역(NA)은 그 폭이 2mm 이하 나아가 편광판 부착 공차 최대치인 0.7mm 이하가 됨으로써 내로우 베젤을 구현하고 있는 것이 특징이다.A portion of the non-display area NA, which is located at the upper side or the lower side of the top, bottom, left, and right of the data line 130, is not shown in the drawing, but a plurality of mounting IC chips (not shown) are shown. A driving circuit board (not shown) is provided through an FPC (flexible printed circuit board) (not shown), except for the non-display area NN on the upper side or the lower side on which the driving circuit board (not shown) is mounted. The display area NA has a width of 2 mm or less and a narrow bezel of the display area NA of 0.7 mm or less, which is the maximum tolerance of the polarizer.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치용 어레이 기판의 표시영역(AA)에는 서로 종횡으로 연장되어 교차함으로서 다수의 화소영역(P)을 정의하는 다수의 데이터 배선(130)과 게이트 배선(103)이 형성되어 있다. 또한, 각 화소영역(P)을 관통하며 상기 게이트 배선(103)과 이격하며 공통배선(108)이 형성되어 있다. 이때 상기 공통배선(108)은 그 자체로 제 1 스토리지 전극(109)을 이룬다.On the other hand, in the display area AA of the array substrate for a liquid crystal display according to the embodiment of the present invention, the plurality of data wires 130 and the gate wires defining the plurality of pixel areas P are formed by extending and crossing each other. 103 is formed. In addition, a common wiring 108 is formed through the pixel region P and spaced apart from the gate wiring 103. In this case, the common wiring 108 forms a first storage electrode 109 by itself.

또한, 상기 각 화소영역(P)에 있어 상기 게이트 배선(103)과 데이터 배선(130)의 교차하는 부근에는 이들 게이트 및 데이터 배선(103, 130)과 연결되며 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)가 형성되어 있다. 이때, 상기 박막트랜지스터(Tr)는 게이트 전극(106), 게이트 절연막(미도시), 반도체층(미도시)과 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)으로 구성되고 있다. In the pixel region P, the thin film transistor Tr, which is connected to the gate and data lines 103 and 130 and is a switching element, is disposed near the intersection of the gate line 103 and the data line 130. Formed. In this case, the thin film transistor Tr includes a gate electrode 106, a gate insulating film (not shown), and source and drain electrodes 133 and 136 spaced apart from each other.

한편, 상기 각 화소영역(P) 내부에는 상기 공통배선(108)과 공통 콘택홀(151)을 통해 연결되며 상기 데이터 배선(130)과 나란하게 최외각 공통전극(172)이 형성되고 있으며, 상기 최외각 공통전극(172)의 연결하며 보조공통패턴(171)이 형성되고 있으며, 상기 보조공통패턴(171)에서 분기하여 상기 최외각 공통전극(172)과 나란하게 다수의 중앙부 공통전극(173)이 형성되어 있다.Meanwhile, an outermost common electrode 172 is formed in each pixel area P through the common wiring 108 and the common contact hole 151 and parallel to the data wiring 130. The auxiliary common pattern 171 is connected to the outermost common electrode 172, and branches from the auxiliary common pattern 171 to parallel the outermost common electrode 172 to form a plurality of central common electrodes 173. Is formed.

또한, 각 화소영역(P) 내부에는 드레인 콘택홀(149)을 통해 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(136)과 연결된 제 2 스토리지 전극(139)과 접촉하며 보조화소패턴(169)이 상기 공통배선(108)과 중첩하고 형성되고 있으며, 상기 보조화소패턴(169)에서 분기하여 다수의 화소전극(170)이 공통전극(172, 173)과 교대하며 형성되어 있다.In addition, each pixel region P contacts the second storage electrode 139 connected to the drain electrode 136 of the thin film transistor Tr through the drain contact hole 149, and the auxiliary pixel pattern 169 is disposed in the pixel region P. The plurality of pixel electrodes 170 are alternately formed with the common electrodes 172 and 173 by being overlapped with the common wiring 108 and branched from the auxiliary pixel pattern 169.

이때, 상기 제 1 스토리지 전극(109)과 상기 제 2 스토리지 전극(139)은 상기 게이트 절연막(110)을 사이에 두고 서로 중첩함으로써 스토리지 커패시터를 이룬다.In this case, the first storage electrode 109 and the second storage electrode 139 overlap each other with the gate insulating layer 110 interposed therebetween to form a storage capacitor.

한편, 상기 최외각 및 중앙부 공통전극(172, 173)과 화소전극(170)은 각 화소영역(P)의 중앙부에 위치한 상기 게이트 배선(103)과 나란한 가상의 기준선을 기준으로 대칭적으로 소정의 각도를 가지며 꺾여진 구성을 이룸으로써 각 화소영역(P)의 중앙부를 기준으로 이의 상부와 하부는 상기 공통전극(172, 173)과 화소전극(170)의 방향을 달리하게 됨으로써 서로 다른 도메인 영역을 이룬다. The outermost and central common electrodes 172 and 173 and the pixel electrode 170 are symmetrically predetermined based on an imaginary reference line parallel to the gate wiring 103 positioned at the center of each pixel region P. FIG. By forming an angled and bent configuration, the upper and lower portions of the pixel region P are different from each other in the direction of the common electrodes 172 and 173 and the pixel electrode 170. Achieve.

또한, 이들 화소전극(170) 및 공통전극(172, 173)의 꺾인 구성을 가짐으로써 상기 데이터 배선(130) 또한 각 화소영역(P)의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 구성을 가지며, 데이터 배선(130)은 각 화소영역(P)별로 분리 형성된 것이 아니라 표시영역(AA) 전체에 대해 연결된 구성을 가지므로 데이터 배선(130)은 표시영역(AA)에 있어서는 각 화소영역(P)의 중앙부를 기준으로 꺾인 지그재그 형태를 이루는 것이 특징이다. In addition, since the pixel electrodes 170 and the common electrodes 172 and 173 have a curved structure, the data wire 130 also has a structure that is symmetrically bent with respect to the central portion of each pixel region P. Since the 130 is not separately formed for each pixel area P but has a configuration connected to the entire display area AA, the data line 130 has a central portion of each pixel area P in the display area AA. It is characterized by a zigzag shape that is bent by reference.

이는 화소전극(170)과 공통전극(172, 173)이 중앙부가 꺾이며 데이터 배선(130)이 지그재그 형태를 이룸으로써 각 화소영역(P)이 이중 도메인 영역을 갖게 되면 도메인 영역 간 보상에 의해 상우, 상좌, 하우, 하좌 측에서 바라볼 때의 색이 반전되어 보이는 컬러쉬프트 현상을 억제할 수 있으므로 표시품질 향상을 위해 전술한 바와 같은 구성을 갖도록 형성하는 것이다.This is because the pixel electrode 170 and the common electrodes 172 and 173 are bent at the center and the data line 130 is zigzag-shaped so that each pixel region P has a double domain region. Since the color shift phenomenon in which the color when viewed from the upper, lower, lower, and lower sides are reversed can be suppressed, it is formed to have the configuration as described above to improve the display quality.

하지만 상기 화소전극(170)과 공통전극(172, 173)은 꺾임없은 직선의 바(bar) 형태를 이룰 수도 있으며, 데이터 배선(130) 또한 꺾임부 없이 곧은 직선 형태를 가지며 연장 형성될 수도 있다.However, the pixel electrode 170 and the common electrodes 172 and 173 may form a straight bar without bending, and the data line 130 may also have a straight straight shape without extension.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)의 경우 화소전극(170)과 공통전극(172, 173)이 동일한 어레이 기판(101)에 형성되어 서로 이웃한 화소전극(170) 및 공통전극(172, 173)이 횡전계를 발생시키는 횡전계형 액정표시장치(100)를 일례로 보이고 있지만, 변형예로서 공통전극(미도시)은 컬러필터 기판(181)에 대응하여 표시영역(AA) 전면에 형성되고 화소전극(미도시)은 어레이 기판(101)에 각 화소영역(P)에 대응하여 판 형태를 이루도록 형성될 수 있으며, 이러한 구성을 갖는 경우 트위스트 네마틱 액정표시장치(미도시)를 이루게 된다.Meanwhile, in the liquid crystal display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention, the pixel electrode 170 and the common electrodes 172 and 173 are formed on the same array substrate 101 so that the pixel electrode 170 and the common pixel electrode are adjacent to each other. Although the transverse electric field type liquid crystal display device 100 in which the electrodes 172 and 173 generate a transverse electric field is shown as an example, as a modification, the common electrode (not shown) corresponds to the color filter substrate 181 to display area AA. The pixel electrode (not shown) may be formed on the front surface of the array substrate 101 to form a plate shape corresponding to each pixel area P. In this case, a twisted nematic liquid crystal display device (not shown) may be provided. Will be achieved.

또한, 또 다른 변형예로서, 화소전극(미도시)은 각 화소영역(P)에 대응하여 판 형태를 이루고, 상기 화소전극(미도시) 위로 절연층을 개재하여 표시영역(AA) 전면에 대응하여 판 형태를 이루며 각 화소영역(P)에 대응하여 바(bar) 형태의 다수의 개구(미도시)를 갖는 공통전극(미도시)이 형성됨으로써 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치(미도시)를 이룰 수도 있다.In still another modification, the pixel electrode (not shown) forms a plate corresponding to each pixel area P, and corresponds to the entire surface of the display area AA through an insulating layer over the pixel electrode (not shown). To form a plate shape and a common electrode (not shown) having a plurality of bar openings (not shown) corresponding to each pixel region P, thereby forming a fringe field switching mode liquid crystal display device (not shown). It can also be achieved.

한편, 이러한 다양한 구성을 갖는 본 발명의 실시예 및 변형예에 따른 액정표시장치(100, 미도시)에 있어 가장 특징적인 것은 일반적으로 상기 비표시영역(NA)에 상기 표시영역(AA)을 둘러싸며 형성되는 컬러필터 기판(181)에 구비되는 테두리 블랙매트릭스(도 2 및 3의 63)를 대신하여 상기 표시영역(AA)을 둘러싸는 형태로 상기 표시영역(AA)의 상/하/좌/우측 최끝단에 각각 구비되는 화소영역(P)과 그 측단이 중첩되며 상기 최끝단 화소영역(P)을 연결한 화소라인에 대해 반듯한 직선 형태를 이루며 테두리 블랙매트릭스(183)가 형성되고 있는 것이 특징이다. On the other hand, the most characteristic of the liquid crystal display device 100 (not shown) according to the embodiments and modifications of the present invention having such various configurations generally surrounds the display area AA in the non-display area NA. Instead of the edge black matrix (63 of FIGS. 2 and 3) formed on the color filter substrate 181, the display region AA is surrounded by the top, bottom, left, and right sides of the display region AA. The pixel region P provided at the rightmost end and the side end thereof overlap each other, and the edge black matrix 183 is formed in a straight line with respect to the pixel line connecting the end pixel area P. to be.

종래의 일방적인 액정표시장치 특히 이중 도메인 구조를 갖는 횡전계형 액정표시장치에 있어서 테두리 블랙매트릭스는 표시영역 외측으로 상기 표시영역을 둘러싸며 형성됨으로써 표시영역의 좌우측에 위치하는 비표시영역에 대응해서는 지그재그 형태의 데이터 배선을 따라 지그재그 형태를 이루며 형성되었다. In a conventional unilateral liquid crystal display device, particularly in a transverse electric field type liquid crystal display device having a dual domain structure, the edge black matrix is formed to surround the display area outside the display area, thereby zigzag to correspond to the non-display areas positioned on the left and right sides of the display area. It was formed in a zigzag shape along the data wiring of the shape.

하지만, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)에 있어서 상기 테두리 블랙매트릭스(183)는 각 측단이 곧은 직선 형태를 가지며 표시영역(AA) 최외각에 위치하는 가로 및 세로 화소라인과 중첩하며 형성되는 것이 특징이다.However, in the liquid crystal display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention, the edge black matrix 183 has a straight line shape at each side thereof and overlaps the horizontal and vertical pixel lines positioned at the outermost portion of the display area AA. It is characterized by being formed.

이렇게 테두리 블랙매트릭스(183)가 표시영역(AA) 내부로 최끝단의 화소영역(P)과 그 일부가 중첩 형성함으로써 구동 IC칩(미도시)이 실장되거나 또는 FPC(미도시)가 실장되는 비표시영역(NA)을 제외한 나머지 비표시영역(NA)이 0.7mm 정도 보다 작은 폭을 갖는 극대화된 네로우 베젤을 구현한다 하더라도, 상기 테두리 블랙매트릭스(183)와 편광판(미도시)의 끝단간에 이격영역이 발생되는 것을 억제하여 빛샘 발생에 의한 표시품질 저하를 억제할 수 있다.As such, the edge black matrix 183 overlaps the last pixel area P and a part of the pixel area P in the display area AA so that the driving IC chip (not shown) or the FPC (not shown) is mounted. Although the non-display area NA except the display area NA implements a maximized narrow bezel having a width smaller than about 0.7 mm, the gap between the edge black matrix 183 and the end of the polarizing plate (not shown) is separated. It is possible to suppress the generation of the region and to suppress the display quality deterioration due to light leakage.

이때, 상기 테두리 블랙매트릭스(183)와 중첩되는 표시영역(AA) 내의 최외각 화소영역(P)의 폭은 상기 최외각 화소영역(P) 폭의 1/2 이하인 것이 바람직하다. In this case, the width of the outermost pixel area P in the display area AA overlapping the edge black matrix 183 may be 1/2 or less of the width of the outermost pixel area P.

이렇게 테두리 블랙매트릭스(183)와 표시영역(AA) 최외각 화소영역(P)의 중첩되는 폭을 화소영역(P) 폭의 1/2 이하로 되도록 하는 이유는 상기 테두리 블랙매트릭스(183)가 최외각 화소영역(P)을 완전히 가리도록 형성하면 표시영역(AA) 내측으로 중첩되는 테두리 블랙매트릭스(183)의 폭이 증가하여 편광판(미도시)의 부착 시 공차 마진을 더욱 확보할 수 있지만, 이 경우 표시영역(AA) 최외각의 화소라인을 통해 나오는 화상은 볼 수 없게 된다. 특히, 컬러필터층(미도시)이 스트라이프 타입으로 구성되는 경우, 최좌측의 적색 화소라인과 최우측의 청색 화소라인이 가려지게 됨으로써 서로 이웃한 3개의 화소영역(P)을 통해 구현되는 풀컬러 구현에 있어 문제가 되며 실질적으로 표시영역(AA) 최외각은 화소라인은 풀컬러 구현이 되지 않으므로 사용자가 시감적으로 느끼게 됨으로서 표시품질이 좋지 않다는 평가를 가질 수 있다. The reason why the overlapping width of the edge black matrix 183 and the outermost pixel area P of the display area AA is less than or equal to 1/2 of the width of the pixel area P is because the edge black matrix 183 is a maximum. If the outer pixel area P is completely covered, the width of the edge black matrix 183 overlapping the inside of the display area AA is increased to further secure a tolerance margin when attaching the polarizer (not shown). In this case, the image coming out of the pixel line of the outermost display area AA cannot be viewed. In particular, when the color filter layer (not shown) is formed in a stripe type, a full color implementation is realized through three pixel areas P adjacent to each other by masking the leftmost red pixel line and the rightmost blue pixel line. Since the pixel line is not implemented in full color, the display area AA may have an evaluation that the display quality is not good because the user may feel visually.

따라서 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 이러한 사용자의 시감 특성을 고려하여 모든 화소영역(P)으로 화상정보가 나오도록 하면서 네로우 베젤 구현에 의해 발생될 수 있는 편광판(미도시) 일측 치우침에 의해 편광판(미도시) 외측으로 표시영역(AA) 일부가 노출된다 하더라도 상기 편광판(미도시) 끝단 외측으로 노출되는 표시영역(AA) 부분이 상기 테두리 블랙매트릭스(183)에 가려지게 됨으로서 빛샘을 억제할 수 있는 것이 특징이다. Therefore, the liquid crystal display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention allows the image information to be output to all the pixel areas P in consideration of the user's visibility characteristics, and may be generated by a narrow bezel implementation (not shown). Even if a portion of the display area AA is exposed to the outside of the polarizer (not shown) by one side bias, a portion of the display area AA that is exposed to the outside of the end of the polarizer (not shown) is covered by the edge black matrix 183. It is characterized by being able to suppress light leakage.

통상적으로 화소영역(P)은 게이트 배선(103)의 연장방향으로 폭 대비 데이터 배선(130)의 연장방향으로 폭이 3배 더 큰 폭을 갖는다. 따라서 표시영역(AA)의 좌우측에 구비되는 테두리 블랙매트릭스(183)의 최외각 화소영역(P)과 중첩되는 폭보다 표시영역(AA)의 상하측에 구비되는 테두리 블랙매트릭스(183)의 최외각 화소영역(P)과 중첩되는 폭이 최대 3배 더 큰 값을 가질 수 있다.Typically, the pixel area P has a width three times larger in the extension direction of the data line 130 than the width in the extension direction of the gate line 103. Therefore, the outermost portion of the edge black matrix 183 provided on the upper and lower sides of the display area AA is larger than the width overlapping the outermost pixel region P of the edge black matrix 183 provided on the left and right sides of the display area AA. The width overlapping the pixel area P may have a maximum value of 3 times.

통상적으로 하나의 화소영역(P)은 100㎛ 내지 600㎛ 정도의 폭을 가지므로 상기 테두리 블랙매트릭스(183)와 최외각 화소영역(P)과의 중첩되는 폭은 50㎛ 내지 300㎛ 정도가 되며, 따라서 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)에 있어서는 종래의 액정표시장치(도 3의 90) 대비 100㎛ 내지 600㎛ 정도 편광판(미도시) 부착 마진이 확보 될 수 있다. Typically, since one pixel area P has a width of about 100 μm to 600 μm, the width overlapping the edge black matrix 183 with the outermost pixel area P is about 50 μm to 300 μm. Therefore, in the liquid crystal display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention, a margin for attaching a polarizing plate (not shown) to about 100 μm to 600 μm can be secured compared to a conventional liquid crystal display device (90 of FIG. 3).

이러한 테두리 블랙매트릭스(183)의 구성은 비표시영역(NA)의 폭이 편광판(미도시) 부착 시 요구되는 최소 공차인 0.7mm 이하가 되는 모델에 적용될 수 있음은 물론 비표시영역(NA)의 폭이 0.7 내지 2mm 정도가 되는 네로우 베젤을 갖는 액정표시장치에도 적용될 수 있음을 자명하다 할 것이다.
The configuration of the edge black matrix 183 may be applied to a model in which the width of the non-display area NA becomes 0.7 mm or less, which is the minimum tolerance required when attaching a polarizer (not shown). It will be apparent that the present invention can be applied to a liquid crystal display having a narrow bezel having a width of about 0.7 to 2 mm.

이후에는 전술한 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 단면 구조에 대해 설명한다.Hereinafter, the cross-sectional structure of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention having the above-described configuration will be described.

도 7은 도 5를 절단선 Ⅶ-Ⅶ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도이며, 도 8은 도 5를 절단선 Ⅷ-Ⅷ를 따라 절단한 부분에 대한 단면도이다. 이때 설명의 편의를 위해 표시영역(AA) 내에 구비되는 다수의 각 화소영역(P) 내에 박막트랜지스터가 형성되는 영역을 스위칭 영역이라 정의하며, 스토리지 커패시터(StgC)가 형성되는 영역을 스토리지 영역(StgA)이라 정의한다.FIG. 7 is a cross-sectional view of a portion taken along the cutting line VII-V and FIG. 8 is a cross-sectional view of a portion taken along the cutting line VII-V. In this case, for convenience of description, an area in which the thin film transistors are formed in each of the pixel areas P included in the display area AA is defined as a switching area, and an area in which the storage capacitor StgC is formed is a storage area StgA. Is defined as).

도시한 바와같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 하부의 어레이 기판(101)과 상부의 컬러필터 기판(181) 및 이들 두 기판(101, 181) 사이에 개재된 액정층(190)과, 상기 어레이 기판(101) 및 컬러필터 기판(181) 외측면에 부착된 제 1 및 제 2 편광판(210, 220)을 포함하여 구성되고 있다.As shown, the liquid crystal display device 100 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a lower array substrate 101, an upper color filter substrate 181, and a liquid crystal layer interposed between the two substrates 101 and 181. And the first and second polarizers 210 and 220 attached to the outer surface of the array substrate 101 and the color filter substrate 181.

우선, 상기 어레이 기판(101)에는 표시영역(AA)에 대응하여 일방향으로 연장하는 게이트 배선(도 5의 103)이 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(도 5의 103)에서 이격하여 나란하게 공통배선(도 5의 108)이 형성되어 있다. 이때, 상기 스위칭 영역(TrA)에 대응하여 상기 게이트 배선(도 5의 103)에서 분기하거나 또는 그 자체로써 그 일부 영역이 게이트 전극(106)을 형성하고 있으며, 상기 스토리지 영역에 대응하여 상기 공통배선(도 5의 108)이 그 자체로 제 1 스토리지 전극(109)을 이루고 있다.First, the gate substrate 103 in FIG. 5 is formed in the array substrate 101 to extend in one direction corresponding to the display area AA, and the common wiring is spaced apart from the gate wiring 103 in FIG. (108 of FIG. 5) is formed. In this case, a portion of the gate line 106 branches from the gate line 103 in correspondence with the switching region TrA, or a portion thereof forms the gate electrode 106, and the common line corresponds to the storage region. 108 in FIG. 5 forms the first storage electrode 109 in itself.

다음, 상기 게이트 배선(도 5의 103)과 게이트 전극(106)과 상기 공통배선(도 5의 108) 및 제 1 스토리지 전극(109) 위로 전면에 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 게이트 절연막(110)이 형성되어 있다. Next, an inorganic insulating material, for example, silicon oxide (SiO 2 ), is disposed on the gate wiring (103 in FIG. 5), the gate electrode 106, the common wiring (108 in FIG. 5), and the first storage electrode 109. Alternatively, a gate insulating layer 110 made of silicon nitride (SiNx) is formed.

또한, 상기 게이트 절연막(110) 위로 상기 스위칭 영역(TrA)에는 순수 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(120a)과 불순물 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹콘택층(120b)으로 구성된 반도체층(120)이 형성되어 있다.In addition, a semiconductor layer 120 including an active layer 120a made of pure amorphous silicon and an ohmic contact layer 120b made of impurity amorphous silicon is formed in the switching region TrA on the gate insulating layer 110.

그리고, 상기 게이트 절연막(110) 위로 상기 게이트 배선(도 5의 103)과 교차하여 상기 화소영역(P)을 정의하는 데이터 배선(130)이 형성되어 있다. 이때, 상기 데이터 배선(130)은 지그재그 형태를 이루는 것을 보이고 있지만, 직선 형태를 이룰 수도 있다. A data line 130 is formed on the gate insulating layer 110 to intersect the gate line 103 in FIG. 5 to define the pixel region P. Referring to FIG. In this case, although the data wire 130 is shown to form a zigzag shape, it may also form a straight line.

상기 스위칭 영역(TrA)에는 상기 반도체층(120) 위로 상기 데이터 배선(130)에서 분기하여 소스 전극(133)이 형성되어 있으며, 상기 소스 전극(133)과 이격하며 드레인 전극(136)이 형성되어 있다. In the switching region TrA, a source electrode 133 is formed on the semiconductor layer 120 by branching from the data line 130, and a drain electrode 136 is spaced apart from the source electrode 133. have.

이때, 상기 스위칭 영역(TrA)에 순차 적층된 게이트 전극(106)과 게이트 절연막(110)과 반도체층(120) 및 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 이룬다. In this case, the gate electrode 106, the gate insulating layer 110, the semiconductor layer 120, and the source and drain electrodes 133 and 136 spaced apart from each other are sequentially stacked in the switching region TrA. ).

또한, 상기 스토리지 영역(StgA)에는 상기 게이트 절연막(110) 상부로 상기 제 1 스토리지 전극(109)에 대응하여 상기 드레인 전극(136)이 연장함으로써 제 2 스토리지 전극(139)이 형성되어 있다. 이때, 상기 스토리지 영역(StgA)에 순차 적층된 상기 제 1 스토리지 전극(109)과 게이트 절연막(110)과 제 2 스토리지 전극(139)은 스토리지 커패시터(StgC)를 이룬다. In addition, a second storage electrode 139 is formed in the storage region StgA by extending the drain electrode 136 on the gate insulating layer 110 to correspond to the first storage electrode 109. In this case, the first storage electrode 109, the gate insulating layer 110, and the second storage electrode 139 sequentially stacked in the storage region StgA form a storage capacitor StgC.

다음, 상기 데이터 배선(130)과 소스 및 드레인 전극(133, 136)과 제 2 스토리지 전극(139) 위로 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(127)과 연결된 상기 제 2 스토리지 전극(139)과, 상기 공통배선(미도시)에 대응하여 각각 이들을 노출시키는 드레인 콘택홀(149) 및 공통 콘택홀(151)을 갖는 제 1 보호층(141)과 제 2 보호층(146)이 형성되어 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(141)은 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어지고 있으며, 상기 제 2 보호층(146)은 유기절연물질 예를들면 벤조사이클로부텐(BCB) 또는 포토아크릴(photo acryl)로 이루어짐으로써 평탄한 표면을 이루는 것이 특징이다.Next, the second storage electrode 139 connected to the drain electrode 127 of the thin film transistor Tr over the data line 130, the source and drain electrodes 133 and 136, and the second storage electrode 139. The first protective layer 141 and the second protective layer 146 having the drain contact hole 149 and the common contact hole 151 respectively exposed to the common wiring (not shown) are formed. In this case, the first protective layer 141 is made of an inorganic insulating material, for example, silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx), and the second protective layer 146 is made of an organic insulating material, for example, benzo. It consists of cyclobutene (BCB) or photo acryl (photo acryl) is characterized by a flat surface.

이렇게 보호층(141, 146)을 이중층 구조를 이루도록 한 것은, 박막트랜지스터(Tr)에 있어서 소스 전극(133) 및 드레인 전극(136) 사이로 노출되는 채널이 형성되는 액티브층(120a)과 유기절연물질로 이루어진 제 2 보호층(141)이 직접 접촉함으로써 발생될 수 있는 상기 액티브층(120a) 오염에 의한 박막트랜지스터(Tr)의 특성 저하를 억제하기 위함이며, 나아가 평탄한 표면을 갖는 상기 제 2 보호층(146) 형성에 의해 이의 상부에 구비되는 바(bar) 형태의 화소전극(170)과 공통전극(172, 173) 간에 발현되는 횡전계의 세기를 극대화하기 위함이다.The protective layers 141 and 146 have a double layer structure. The active layer 120a and the organic insulating material in which the channel exposed between the source electrode 133 and the drain electrode 136 are formed in the thin film transistor Tr. In order to suppress the deterioration of the characteristics of the thin film transistor Tr due to the contamination of the active layer 120a which may be generated by the direct contact of the second protective layer 141, the second protective layer having a flat surface. This is to maximize the strength of the transverse electric field generated between the pixel electrode 170 having a bar shape and the common electrodes 172 and 173 provided on the upper portion 146.

하지만, 상기 보호층(141, 146)은 반드시 이중층 구조를 갖도록 형성할 필요는 없으며, 상기 제 1 또는 제 2 보호층(141, 146) 중 어느 한 층을 생략하여 단일층 구조의 보호층(미도시)을 이루도록 할 수도 있다.However, the protective layers 141 and 146 are not necessarily formed to have a double layer structure, and any one of the first and second protective layers 141 and 146 may be omitted, thereby providing a single layer protective layer (not shown). May be achieved.

한편, 상기 제 2 보호층(146) 위로 각 화소영역(P) 내에는 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로서 이루어지거나, 또는 불투명 금속물질 예를들면 몰리브덴(Mo) 또는 몰리티타늄(MoTi)으로서 이루어지며 상기 공통 콘택홀(미도시)을 통해 상기 공통배선(미도시)과 접촉하는 2개의 최외각 공통전극(172)이 형성되고 있으며, 상기 최외각 공통전극(172)의 일끝단과 연결되며 보조공통패턴(171)이 구비되고 있으며, 상기 보조공통패턴(171)에서 분기하여 다수의 바(bar) 형태의 중앙부 공통전극(173)이 형성되고 있다. On the other hand, in each pixel region P above the second protective layer 146, a transparent conductive material, for example, indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), or an opaque metal material. For example, two outermost common electrodes 172 formed of molybdenum (Mo) or molybdenum (MoTi) and contacting the common wiring (not shown) are formed through the common contact hole (not shown). The auxiliary common pattern 171 is connected to one end of the outermost common electrode 172 and branched from the auxiliary common pattern 171 to form a central bar common electrode 173 having a plurality of bars. It is being formed.

또한, 상기 제 2 보호층(131) 위로 각 화소영역(P) 내에는 상기 공통전극(172, 173)과 동일한 물질로 이루어지며 상기 드레인 콘택홀(149)을 통해 상기 드레인 전극(136) 연결된 제 2 스토리지 전극(139)과 접촉하며 이와 중첩하는 보조화소패턴(169)이 구비되고 있으며, 상기 보조화소패턴(169)에서 분기하여 상기 다수의 각 공통전극(172, 73)과 교대하며 다수의 바(bar) 형태의 화소전극(170)이 형성되어 있다.In addition, each pixel region P is formed of the same material as the common electrodes 172 and 173 on the second passivation layer 131 and connected to the drain electrode 136 through the drain contact hole 149. The auxiliary pixel pattern 169 is provided in contact with and overlaps with the second storage electrode 139. The second pixel pattern 169 branches from the auxiliary pixel pattern 169 and alternates with each of the plurality of common electrodes 172 and 73. A bar electrode pixel electrode 170 is formed.

이때, 도면에 있어서는 상기 다수의 공통전극(172, 173) 및 화소전극(170)은 각 화소영역(P) 내에서 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 구조를 이룸으로써 이중 도메인을 이루는 것을 일례로 보이고 있지만, 상기 다수의 공통전극(172, 173) 및 화소전극(170)은 곧은 직선 형태를 이룰 수도 있다.In this case, in the drawing, the plurality of common electrodes 172 and 173 and the pixel electrode 170 form a double domain by forming a symmetrically bent structure with respect to the center part in each pixel region P. However, the plurality of common electrodes 172 and 173 and the pixel electrode 170 may have a straight line shape.

또한, 도면에 나타나지 않았지만, 본 발명의 변형예에 따른 액정표시장치용 어레이 기판의 경우, 상기 제 2 보호층(146) 상부에 바(bar) 형태를 가지며 서로 교대하며 형성된 공통전극(172, 173) 및 화소전극(170)을 대신하여, 상기 제 2 보호층(146) 상부로 각 화소영역(P) 내에 투명 도전성 물질로서 판 형태의 화소전극(미도시)이 상기 드레인 콘택홀(149)을 통해 상기 드레인 전극(136)과 접촉하며 형성되고, 상기 판 형태의 화소전극(미도시)을 덮으며 제 3 보호층(미도시)이 형성되고, 상기 제 3 보호층(미도시) 위로 표시영역(AA) 전면에 판 형태를 가지며 상기 각 화소영역(P) 대응하여 바(bar) 형태의 개구(미도시)가 다수 구비된 공통전극(미도시)이 형성될 수도 있다. 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(미도시)의 경우 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치용 어레이 기판(미도시)을 이룬다. 이 경우 상기 공통배선(도 5의 108)은 생략될 수도 있다.In addition, although not shown in the drawing, in the case of the array substrate for a liquid crystal display device according to a modification of the present invention, the common electrodes 172 and 173 having a bar shape on the second protective layer 146 and alternately formed with each other. And a plate-shaped pixel electrode (not shown) as a transparent conductive material in each pixel region P on the second passivation layer 146 instead of the pixel electrode 170. And a third passivation layer (not shown) formed in contact with the drain electrode 136, covering the plate-shaped pixel electrode (not shown), and a display area over the third passivation layer (not shown). A common electrode (not shown) having a plate shape on the front surface of the AA and having a plurality of bar-shaped openings (not shown) corresponding to each pixel area P may be formed. An array substrate having such a configuration forms an array substrate (not shown) for a fringe field switching mode liquid crystal display device. In this case, the common wiring 108 of FIG. 5 may be omitted.

또한, 도면에 나타나지 않았지만, 본 발명의 또 다른 변형예에 따른 액정표시장치용 어레이 기판(미도시)의 경우, 상기 제 2 보호층(146) 상부에 바(bar) 형태를 가지며 서로 교대하며 형성된 공통전극(172, 173) 및 화소전극(170)을 대신하여 상기 제 2 보호층(146) 상부에 각 화소영역(P) 내에 투명 도전성 물질로서 판 형태의 화소전극(미도시)이 상기 드레인 콘택홀(149)을 통해 상기 드레인 전극(136)과 연결된 제 2 스토리지 전극(139)과 접촉하며 형성될 수도 있다. 이 경우 상기 바(bar) 형태의 공통전극(172, 173)은 생략되며 이와 대면하고 있는 컬러필터 기판(181)의 내측면 전면에 형성된 구성을 이룬다. 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(미도시)은 트위스트 네마틱 액정표시장치용 어레이 기판이 된다. 이 경우 상기 공통배선(도 5의 108)은 생략될 수도 있다.In addition, although not shown in the drawings, in the case of an array substrate (not shown) for a liquid crystal display device according to another modified embodiment of the present invention, the second protective layer 146 is formed on the bar (bar) and alternately formed with each other Instead of the common electrodes 172 and 173 and the pixel electrode 170, a plate-shaped pixel electrode (not shown) is formed as a transparent conductive material in each pixel region P on the second protective layer 146. It may be formed in contact with the second storage electrode 139 connected to the drain electrode 136 through the hole 149. In this case, the bar-shaped common electrodes 172 and 173 are omitted and form a configuration formed on the entire inner surface of the color filter substrate 181 facing them. An array substrate having such a configuration (not shown) becomes an array substrate for twisted nematic liquid crystal display device. In this case, the common wiring 108 of FIG. 5 may be omitted.

한편, 전술한 구성을 갖는 본 발명의 실시예 및 다양한 변형예에 따른 어레이 기판(101, 미도시)에 대응하여 위치하는 컬러필터 기판(181)의 구성을 살펴보면, 상기 컬러필터 기판(181)의 내측면에는 각 화소영역(P)의 경계 및 상기 박막트랜지스터(Tr)에 대응하여 화소 블랙매트릭스(184)가 구비되고 있으며, 상기 표시영역(AA)을 둘러싸며 표시영역(AA)의 최외각 화소라인과 중첩하며 테두리 블랙매트릭스(183)가 형성되고 있다.On the other hand, the configuration of the color filter substrate 181 positioned corresponding to the array substrate 101 (not shown) according to the embodiment of the present invention having the above-described configuration and various modifications of the color filter substrate 181 On the inner side, a pixel black matrix 184 is provided corresponding to the boundary of each pixel region P and the thin film transistor Tr, and surrounds the display region AA and the outermost pixel of the display region AA. The border black matrix 183 is formed while overlapping the line.

또한, 표시영역(AA)에 대응하여 상기 화소 블랙매트릭스(184)와 일부 중첩하며 상기 화소 블랙매트릭스(184)에 의해 포획된 영역에는 각 화소영역(P)에 순차 대응하는 형태로 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(적, 녹, 청)을 포함하는 컬러필터층(186)이 형성되어 있다.In addition, the area partially overlapped with the pixel black matrix 184 corresponding to the display area AA and captured by the pixel black matrix 184 may correspond to each pixel area P in a sequential order such as red, green, and green. A color filter layer 186 including a blue color filter pattern (red, green, blue) is formed.

그리고, 상기 컬러필터층(186)의 보호를 위해 상기 컬러필터층(186)을 덮으며 오버코트층(189)이 형성되고 있다.In addition, an overcoat layer 189 is formed to cover the color filter layer 186 to protect the color filter layer 186.

이러한 컬러필터 기판(181)의 구성은 하부에 위치하는 어레이 기판(101)에 공통전극(172, 173)과 화소전극(170)이 모두 구비되는 경우가 되며, 상기 어레이 기판(101)이 본 발명의 변형예에 따른 트위스트 네마틱 액정표시장치용 어레이 기판(미도시)인 경우, 상기 오버코트층(189)을 대신하여 투명 도전성 물질로 이루어진 공통전극(미도시)이 전면에 형성된다. The configuration of the color filter substrate 181 may include a case in which both the common electrodes 172 and 173 and the pixel electrode 170 are provided on the array substrate 101 disposed below the array substrate 101. In the case of an array substrate (not shown) for a twisted nematic liquid crystal display device according to a modified example, a common electrode (not shown) made of a transparent conductive material is formed on the entire surface instead of the overcoat layer 189.

그리고 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(101)과 컬러필터 기판(181)의 테두리 더욱 정확히는 상기 표시영역(AA)을 둘러싸는 상기 테두리 블랙매트릭스(183)와 중접하며 씰패턴(미도시)이 구비되고 있으며, 상기 씰패턴(미도시)으로 둘러싸인 영역 내부에 액정층(190)이 구비되고 있다. In addition, an edge of the array substrate 101 and the color filter substrate 181 having such a configuration may be more precisely overlapped with the edge black matrix 183 surrounding the display area AA and provided with a seal pattern (not shown). The liquid crystal layer 190 is provided in an area surrounded by the seal pattern (not shown).

전술한 구성을 갖는 본 발명의 실시예 및 변형예에 따른 액정표시장치(100, 미도시)는 2mm 보다 작은 비표시영역(NA)의 폭을 갖는 네로우 베젤을 구현하여 경량 박형의 액정표시장치(100)를 제공하는 효과를 가지며, 나아가 네로우 베젤을 극대화하여 비표시영역(183)의 폭이 0.7mm 이하가 되도록 구성하더라도 테두리 블랙매트릭스(183)가 표시영역(AA) 최외각 화소라인과 곧은 직선 형태로서 중첩함으로서 편광판(210, 220) 부착 시 공차에 의해 편광판의 끝단이 표시영역(AA) 내부에 위치한다 하더라도 상기 편광판(210, 220)과 중첩하지 않는 표시영역(AA)에서 빛샘이 발생되는 것을 억제하여 표시품질을 향상시키는 효과가 있다.
The liquid crystal display device 100 (not shown) according to the embodiments and modifications of the present invention having the above-described configuration implements a narrow bezel having a width of the non-display area NA smaller than 2 mm to reduce the weight of the liquid crystal display device. In addition, even if the narrow bezel is configured to maximize the narrow bezel so that the width of the non-display area 183 is 0.7 mm or less, the black matrix 183 of the edges of the display area AA and the outermost pixel line may be provided. By overlapping in a straight line shape, light leakage occurs in the display area AA that does not overlap the polarizing plates 210 and 220 even when the ends of the polarizing plates are located inside the display area AA due to tolerances when the polarizing plates 210 and 220 are attached. There is an effect of suppressing the generation to improve the display quality.

100 : 액정표시장치
103 : 게이트 배선
130 : 데이터 배선
183 : 테두리 블랙매트릭스
AA : 표시영역
NA : 비표시영역
P : 화소영역
100: liquid crystal display device
103: gate wiring
130: Data wiring
183: Black Matrix
AA: Display Area
NA: non-display area
P: pixel area

Claims (10)

다수의 화소영역을 갖는 표시영역과 상기 표시영역을 둘러싸는 비표시영역이 정의된 제 1 기판과, 이와 대면하는 제 2 기판 및 이들 두 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하는 액정표시장치에 있어서,
상기 제 2 기판 내측면의 비표시영역에 상기 표시영역을 둘러하며 형성된 테두리 블랙매트릭스가 구비되며, 상기 테두리 블랙매트릭스는 상기 표시영역내의 최외각에 구비되는 다수의 화소영역과 중첩하도록 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
A liquid crystal display device comprising: a display substrate having a plurality of pixel regions; a first substrate having a non-display region surrounding the display region; a second substrate facing the liquid crystal layer; and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. ,
The edge black matrix formed around the display area is provided on the non-display area of the inner surface of the second substrate, and the edge black matrix is formed to overlap the plurality of pixel areas provided at the outermost part of the display area. LCD display device.
제 1 항에 있어서,
상기 테두리 블랙매트릭스는 상기 최외각 화소영역과 중첩되는 측단이 곧은 직선 형태를 이루는 것이 특징인 액정표시장치.
The method of claim 1,
And wherein the edge black matrix has a straight line with a side end overlapping the outermost pixel area.
제 1 항에 있어서,
상기 테두리 블랙매트릭스의 상기 최외각 화소영역과 중첩되는 폭은 상기 화소영역의 폭의 1/2 이하인 것이 특징인 액정표시장치.
The method of claim 1,
And a width overlapping the outermost pixel area of the edge black matrix is 1/2 or less of the width of the pixel area.
제 3 항에 있어서,
상기 제 1 기판 내측면의 상기 표시영역에 서로 교차하여 상기 화소영역을 정의하며 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과;
상기 각 화소영역에 구비된 박막트랜지스터와;
상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 각 화소영역에 형성된 화소전극과;
상기 제 2 기판 내측면의 상기 표시영역에 상기 각 화소영역의 경계에 형성된 화소 블랙매트릭스와;
상기 화소 블랙매트릭스와 중첩하며 상기 표시영역에 대응하여 형성된 컬러필터층
을 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 3, wherein
Gate wiring and data wiring intersecting the display region of the inner surface of the first substrate to define the pixel region;
A thin film transistor provided in each pixel area;
A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in each pixel area;
A pixel black matrix formed at a boundary between the pixel areas in the display area of the inner surface of the second substrate;
A color filter layer overlapping the pixel black matrix and formed to correspond to the display area
Liquid crystal display comprising a.
제 4 항에 있어서,
상기 제 2 기판의 내측면에서는 상기 컬러필터층을 덮으며 상기 표시영역 전면에 판 형태의 공통전극이 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
5. The method of claim 4,
And a plate-shaped common electrode formed on the entire surface of the display area and covering the color filter layer on the inner side of the second substrate.
제 4 항에 있어서,
상기 게이트 배선과 나란하게 이격하며 공통배선이 형성되며,
상기 화소전극과 박막트랜지스터 사이에는 상기 표시영역 전면에 보호층이 구비되며,
상기 화소전극은 각 화소영역에서 다수의 바(bar) 형태를 가지며,
상기 보호층 상부로 상기 각 화소영역에 대응하여 상기 공통배선과 연결되며 상기 다수의 바(bar) 형태의 화소전극과 교대하는 다수의 바(bar) 형태의 공통전극이 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
5. The method of claim 4,
The common wiring is spaced parallel to the gate wiring,
A protective layer is provided in front of the display area between the pixel electrode and the thin film transistor.
The pixel electrode has a plurality of bars in each pixel area.
And a plurality of bar shaped common electrodes formed on the passivation layer to be connected to the common wirings corresponding to the respective pixel areas and alternate with the plurality of bar shaped pixel electrodes. .
제 6 항에 있어서,
상기 다수의 바(bar) 형태의 화소전극과 공통전극은 각 화소영역의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 형태를 가지며,
상기 데이터 배선은 각 화소영역의 경계에서 꺾인 구성을 이룸으로써 상기 표시영역 내에서 지그재그 형태를 이루는 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to claim 6,
The plurality of bar-shaped pixel electrodes and the common electrode may be symmetrically bent with respect to the center of each pixel area.
And the data line is zigzag in the display area by forming a configuration bent at the boundary of each pixel area.
제 4 항에 있어서,
상기 각 화소전극은 상기 각 화소영역 내에서 판 형태를 이루며,
상기 화소전극과 박막트랜지스터 사이에는 상기 표시영역 전면에 제 1 보호층이 구비되며,
상기 화소전극 위로 상기 표시영역 전면에 제 2 보호층이 구비되며,
상기 제 2 보호층 위로 상기 표시영역 전면에 판 형태를 가지며 상기 각 화소영역에 대응하여 바(bar) 형태의 다수의 개구를 갖는 공통전극이 구비된 것이 특징인 액정표시장치.
5. The method of claim 4,
Each pixel electrode has a plate shape in each pixel area,
A first passivation layer is disposed in front of the display area between the pixel electrode and the thin film transistor.
A second passivation layer is formed over the pixel electrode in front of the display area;
And a common electrode having a plate shape in front of the display area over the second passivation layer and having a plurality of bar-shaped openings corresponding to each pixel area.
제 6 항 또는 제 8 항에 있어서,
상기 제 2 기판 전면에 상기 컬러필터층을 덮으며 오버코트층이 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
9. The method according to claim 6 or 8,
And an overcoat layer covering the color filter layer on the entire surface of the second substrate.
제 5 항, 제 6 항 및 제 8 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 비표시영역 중 구동 IC칩 또는 FPC가 실장되는 영역 이외의 비표시영역은 2mm 이하의 폭을 갖는 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to any one of claims 5, 6 and 8,
And a non-display area other than the area in which the driving IC chip or the FPC is mounted among the non-display areas has a width of 2 mm or less.
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