KR20130088347A - Printed circuit board and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 인쇄회로기판 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 미세 피치화가 가능하고, 종횡비(aspect ratio)가 큰 도전성 포스트를 구현할 수 있는 인쇄회로기판 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed circuit board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a printed circuit board and a method of manufacturing the same, which can realize a conductive post having a fine pitch and a large aspect ratio.
최근, 전자 산업의 발달에 따라 전자 부품의 고성능화, 고기능화, 소형화가 요구되고 있으며, 이에 따라 표면 실장 부품용 기판에서도 소형화 및 기술 집적에 대응하여 고집적화, 박형화, 미세 회로 패턴화의 요구가 대두되고 있다.In recent years, with the development of the electronics industry, high performance, high functionalization, and miniaturization of electronic components are required. Accordingly, the demand for high integration, thinning, and fine circuit patterning has also emerged in response to miniaturization and technology integration in surface mount component substrates. .
특히, 전자 부품의 기판에의 표면 실장 기술에 있어 반도체 칩과 인쇄회로기판의 전기적 연결을 위해 와이어 본딩(wire bonding) 방식 및 플립 칩(flip chip bonding) 본딩 방식이 사용되고 있으나, 와이어 본딩 방식의 경우, 와이어를 이용하여 인쇄회로기판과 연결해야 하기 때문에 모듈의 크기가 커지고 추가적인 공정이 필요할 뿐만 아니라 회로 패턴의 미세 피치 구현에 한계가 있어 플립칩 본딩 방식이 많이 사용되고 있는 실정이다.In particular, a wire bonding method and a flip chip bonding method are used for the electrical connection between the semiconductor chip and the printed circuit board in the surface mounting technology of the electronic component on the substrate. Because of the need to connect to a printed circuit board using wires, the size of the module is increased and an additional process is required, and the flip chip bonding method is widely used because there is a limit in the implementation of the fine pitch of the circuit pattern.
여기서, 플립칩 본딩 방식이란 반도체 칩에 금, 솔더 혹은 기타 금속 등의 소재로 이루어진 외부 접속 단자(즉, 범프)를 형성하고, 기존의 와이어 본딩에 의한 실장 방법과는 반대로, 범프가 형성된 반도체 칩을 뒤집어(flip) 표면이 기판 방향을 향하도록 실장시키는 것이다.Here, the flip chip bonding method is to form an external connection terminal (i.e., bump) made of gold, solder, or other metal material on a semiconductor chip, and a bump formed semiconductor chip as opposed to a conventional mounting method by wire bonding. Flip to mount the surface facing the substrate direction.
이러한 플립칩 본딩 방식은 와이어 본딩을 대체한 플립칩 기술의 적용에 의해 상당한 성과를 보았으나, 범프 피치의 미세화가 여전히 어려운 난제이다.This flip chip bonding method has seen considerable achievement by the application of flip chip technology in place of wire bonding, but it is still difficult to refine the bump pitch.
이에 따라, 솔더 범프 형성 방식보다 더 미세한 범프 피치를 만들기 위하여 솔더 페이스트나 솔더볼 대신에 전기 동도금 공정을 이용한 메탈 포스트(metal post)를 형성하는 기술이 개발되고 있는데, 종래에는 전극 패드를 구비한 베이스 기판 상에 전극 패드를 노출시키는 개구부를 갖는 마스크를 도포한 후, 솔더 페이스트를 개구부에 충전하고, 마스크를 제거한 다음, 솔더 페이스트를 리플로우(reflow)하여 메탈 포스트를 제조하였다.Accordingly, in order to make a finer bump pitch than the solder bump forming method, a technology of forming a metal post using an electrocopper plating process instead of solder paste or solder balls has been developed. In the related art, a base substrate having an electrode pad is developed. After applying a mask having an opening to expose the electrode pads on it, the solder paste was filled into the opening, the mask was removed, and the solder paste was reflowed to prepare a metal post.
그러나, 종래 기술에 의하면, 베이스 기판 상에 마스크를 정확하게 얼라인(align)시키는 것이 중요한데, 회로 패턴이 미세 피치화로 점점 진행됨에 따라 베이스 기판에 마스크를 정확하게 얼라인시키기가 어려운 문제점이 있었다.However, according to the related art, it is important to accurately align the mask on the base substrate, but as the circuit pattern gradually progresses to fine pitch, it is difficult to accurately align the mask on the base substrate.
또한, 메탈 포스트의 피치(pitch)를 일정 수준 이하로 줄이고, 높은 종횡비를 갖는 메탈 포스트를 구현하기 어려운 문제점이 있었다. 즉, 마스크는 금속으로 이루어지기 때문에 마스크에 미세한 구멍을 가공하기가 어려우며, 마스크의 가공 편차(tolerance)가 회로 패턴이 미세해지는 속도를 따라잡기 어려운 문제점이 있었다.
In addition, the pitch of the metal post (pitch) is reduced to a certain level or less, there is a problem that it is difficult to implement a metal post having a high aspect ratio. That is, since the mask is made of metal, it is difficult to process fine holes in the mask, and the processing variation of the mask is difficult to keep up with the speed at which the circuit pattern becomes fine.
본 발명의 사상은 오픈부를 갖는 필름층이 형성된 베이스 기판에 도전성 시트를 압착하여 오픈부 내에 도전성 시트를 삽입시킨 후, 필름층이 형성된 상태에서 도전성 시트를 리플로우(reflow)하여 미세 피치화가 가능하고, 종횡비(aspect ratio)가 큰 도전성 포스트를 보다 용이하게 구현할 수 있는 인쇄회로기판 및 그의 제조방법을 제공함에 있다.
The idea of the present invention is to compress the conductive sheet to the base substrate on which the film layer having the open portion is formed, insert the conductive sheet into the open portion, and then reflow the conductive sheet in the state where the film layer is formed to fine pitch. The present invention provides a printed circuit board and a method of manufacturing the same, which can more easily implement a conductive post having a large aspect ratio.
이를 위해 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판의 제조방법은 전극 패드를 구비한 베이스 기판 상에 상기 전극 패드를 노출시키는 오픈부를 갖는 필름층을 형성하는 단계; 도전성 시트를 제공하는 단계; 상기 베이스 기판과 상기 도전성 시트를 압착하여 상기 오픈부 내에 상기 도전성 시트를 삽입하는 단계; 상기 전극 패드와 상기 도전성 시트를 접합시켜 상기 전극 패드 상에 도전성 포스트를 형성하는 단계; 상기 필름층을 제거하는 단계를 포함한다.To this end, a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes forming a film layer having an open part exposing the electrode pad on a base substrate having an electrode pad; Providing a conductive sheet; Pressing the base substrate and the conductive sheet to insert the conductive sheet into the open portion; Bonding the electrode pad and the conductive sheet to form a conductive post on the electrode pad; Removing the film layer.
상기 도전성 시트는, 연성 재질로 이루어질 수 있다.The conductive sheet may be made of a flexible material.
상기 도전성 시트는, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 중에서 어느 하나 또는 하나 이상의 합금으로 이루어질 수 있다.The conductive sheet is made of copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), aluminum (Al), iron (Fe), titanium (Ti), tin (Sn), nickel (Ni) or molybdenum (Mo). It may be made of any one or more than one alloy.
상기 도전성 시트의 두께는, 상기 필름층의 두께보다 두꺼울 수 있다.The thickness of the conductive sheet may be thicker than the thickness of the film layer.
상기 필름층을 형성하는 단계 이후에, 상기 오픈부를 포함한 상기 필름층 상에 플럭스를 도포하는 단계를 더 포함할 수 있다.After forming the film layer, the method may further include applying flux on the film layer including the open part.
상기 오픈부 내에 상기 도전성 시트를 삽입하는 단계 이후에, 상기 오픈부 내에 삽입되지 않고 상기 필름층의 상부에 잔존하는 상기 도전성 시트를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.After inserting the conductive sheet into the open portion, the method may further include removing the conductive sheet remaining on the upper portion of the film layer without being inserted into the open portion.
상기 전극 패드 상에 도전성 포스트를 형성하는 단계는, 상기 도전성 시트를 리플로우하여 상기 전극 패드 상에 상기 도전성 시트를 접합시킬 수 있다.In the forming of the conductive post on the electrode pad, the conductive sheet may be bonded to the electrode pad by reflowing the conductive sheet.
상기 필름층의 상부에 잔존하는 상기 도전성 시트를 제거하는 단계는, 상기 도전성 시트를 리플로우하여 상기 전극 패드 상에 상기 도전성 시트를 접합시키는 단계와 동시에 진행될 수 있다.Removing the conductive sheet remaining on the upper portion of the film layer may be performed simultaneously with reflowing the conductive sheet to bond the conductive sheet on the electrode pad.
상기 도전성 포스트는, 종횡비(aspect ratio)가 1.25 이상으로 형성될 수 있다.The conductive post may have an aspect ratio of 1.25 or more.
상기 필름층을 형성하는 단계는, 상기 전극 패드를 구비한 베이스 기판 상에 상기 전극 패드가 노출되도록 개구부를 갖는 레지스트를 형성하는 단계; 상기 레지스트 상에 상기 전극 패드를 노출시키는 오픈부를 갖는 필름층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The forming of the film layer may include forming a resist having an opening on the base substrate including the electrode pads to expose the electrode pads; The method may include forming a film layer having an open part exposing the electrode pad on the resist.
한편, 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판은 전극 패드를 구비한 베이스 기판; 상기 베이스 기판 상에 상기 전극 패드를 노출시키는 개구부가 형성된 레지스트; 상기 전극 패드 상에 일정한 높이를 갖고 형성되는 도전성 포스트를 포함하고, 상기 도전성 포스트의 상면은 곡면으로 이루어진다.On the other hand, a printed circuit board according to an embodiment of the present invention is a base substrate having an electrode pad; A resist formed with an opening exposing the electrode pad on the base substrate; Conductive posts are formed on the electrode pads having a predetermined height, the upper surface of the conductive posts is made of a curved surface.
상기 도전성 포스트는 종횡비(aspect ratio)가 1.25 이상으로 형성될 수 있다.The conductive post may have an aspect ratio of 1.25 or more.
상기 도전성 포스트는 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 중에서 어느 하나 또는 하나 이상의 합금으로 이루어질 수 있다.
The conductive post may be any one of copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), aluminum (Al), iron (Fe), titanium (Ti), tin (Sn), nickel (Ni), or molybdenum (Mo). It may consist of one or more alloys.
상술한 바와 같이 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판 및 그의 제조방법에 따르면, 오픈부를 갖는 필름층이 형성된 베이스 기판에 도전성 시트를 압착하여 오픈부 내에 도전성 시트를 삽입시킨 후, 필름층이 형성된 상태에서 도전성 시트를 리플로우(reflow)하여 미세 피치화가 가능하고, 종횡비(aspect ratio)가 큰 도전성 포스트를 보다 용이하게 구현할 수 있는 장점이 있다.As described above, according to the printed circuit board and the manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention, after the conductive sheet is pressed onto the base substrate on which the film layer having the open portion is formed, the conductive sheet is inserted into the open portion, and then the film layer is By reflowing the conductive sheet in the formed state, fine pitch is possible, and the conductive post having a large aspect ratio can be easily implemented.
보다 구체적으로, 필름층을 노광 및 현상하는 것은 마스크(종래 기술)를 기판에 얼라인시키는 것보다 얼라인먼트의 정밀도를 매우 높일 수 있고, 가공 편차를 매우 작게 줄일 수 있으므로 미세 패턴의 구현이 가능한 장점이 있다.More specifically, exposing and developing the film layer can significantly increase the accuracy of alignment and reduce the processing variation very small than aligning the mask (prior art) to the substrate. have.
또한, 종래의 마스크는 금속으로 이루어지기 때문에 마스크에 미세한 구멍을 가공하기가 어려우나, 필름층은 노광 및 현상 공정에 의해 미세한 구멍을 가공하는 것이 보다 수월하므로 미세한 피치를 갖는 도전성 포스트를 용이하게 구현할 수 있는 장점이 있다.In addition, since the conventional mask is made of metal, it is difficult to process fine holes in the mask, but since the film layer is easier to process fine holes by exposure and development processes, it is possible to easily implement a conductive post having a fine pitch. There is an advantage.
아울러, 종래 기술에 의하면, 솔더 페이스트를 리플로우(reflow)하는 공정은 마스크를 제거한 후, 이루어지기 때문에 리플로우 공정 시 표면 장력으로 인해 메탈 포스트가 원의 형상으로 구현되는 문제점이 있었으나, 본 발명에서는 리플로우 공정 시 필름층이 도전성 시트를 가이드하기 때문에 종횡비가 큰 도전성 포스트를 보다 용이하게 구현할 수 있는 장점이 있다.
In addition, according to the prior art, since the process of reflowing the solder paste is performed after removing the mask, there is a problem that the metal post is realized in the shape of a circle due to the surface tension during the reflow process. Since the film layer guides the conductive sheet during the reflow process, the conductive post having a large aspect ratio can be easily implemented.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판의 단면도이다.
도 2 내지 도 9는 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판의 제조과정을 나타내는 단면도들이다.1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
2 to 9 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms and the inventor may appropriately define the concept of the term in order to best describe its invention It should be construed as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only one of the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판의 단면도를 나타낸다.1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
도 1에 도시한 바와 같이, 인쇄회로기판은 베이스 기판(110), 레지스트(117) 및 도전성 포스트(142)을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the printed circuit board includes a
우선, 베이스 기판(110)은 인쇄회로기판을 지지하는 수단으로서, 프리프레그(prepreg), 폴리 이미드(Polyimide), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET, Polyethyeleneterepthalate), 사이아나이드 에스테르(Cyanide Ester), ABF(Ajinomoto Build up Film) 또는 에폭시(epoxy) 등과 같이 전기 전도율이 작고 전류를 거의 통과시키지 않는 다양한 물질로 이루어질 수 있다.First, the
여기서, 도 1에서와 같은 인쇄회로기판의 구성은 예시적인 것일 뿐이고, 상기 인쇄회로기판은 단면 인쇄회로기판, 양면 인쇄회로기판 및 다층 인쇄회로기판이 될 수 있으며, 본 발명의 기술적 특징은 이와 동일하게 적용될 수 있다.Here, the configuration of the printed circuit board as shown in FIG. 1 is merely exemplary, and the printed circuit board may be a single-sided printed circuit board, a double-sided printed circuit board, and a multilayer printed circuit board, and the technical features of the present invention are the same. Can be applied.
베이스 기판(110)은 상면에 전극 패드(115)가 형성될 수 있는데, 전극 패드(115)는 서브트랙티브(Subtractive) 공법, 애디티브(Additive) 공법 또는 세미 애디티브(Semi additive) 공법 등과 같이 다양한 공법을 사용하여 형성될 수 있다.The
이때, 전극 패드(115)는 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 등의 금속 물질로 이루어질 수 있다.In this case, the
레지스트(117, resist)는 베이스 기판(110) 상에 전극 패드(115)를 노출시키는 개구부(OP)가 형성될 수 있다. 이때, 레지스트(130)는 포토 레지스트(Photo Resist), 포토 솔더 레지스트(Photo Solder Resist) 또는 드라이 필름(Dry Film) 등과 같은 다양한 감광성 물질로 이루어질 수 있으며, 이에 국한되지 않고 다양한 물질로 대체할 수 있음은 물론이다.The
도전성 포스트(142)는 전극 패드(115) 상에 일정한 높이를 갖고 형성되며, 상면은 곡면으로 이루어질 수 있다.The
보다 구체적으로 설명하면, 도전성 포스트(142)는 하기에서 자세하게 설명할 레지스트(117) 상에 오픈부(CP)가 형성된 필름층(120)을 형성하고, 필름층(120)이 형성된 베이스 기판(110)에 도전성 시트(140)를 압착 및 삽입한 후, 필름층(120)이 존재하는 상태에서 도전성 시트(140)를 리플로우하여 형성될 수 있다. 이와 같이, 필름층(120)이 존재하는 상태에서 도전성 시트(140)를 리플로우하기 때문에 도전성 포스트(142)의 상면은 곡면으로 이루어질 수 있다.In more detail, the
또한, 도전성 포스트(142)는 종횡비(aspect ratio)가 1.25 이상으로 형성될 수 있다. 보다 자세하게 설명하면, 종횡비란 도전성 포스트(142)의 높이(h)/도전성 포스트(142)의 지름을 의미하는데, 종래 기술로는 지름이 작고 높이가 큰 도전성 포스트를 형성하기 어려운 문제점이 있었으나, 본 발명의 일실시예에서는 리플로우 공정 시에 필름층(120)이 도전성 시트(140)를 가이드하기 때문에 형상의 흐트러짐없이 종횡비가 큰 도전성 포스트(142)를 구현할 수 있다.In addition, the
게다가, 도전성 포스트(142)는 구리(Cu)로 이루어질 수 있으며, 이외에 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 등과 같은 다양한 금속 물질로 이루어질 수 있다.
In addition, the
이하에서는 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판의 제조과정에 대하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a manufacturing process of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention will be described.
도 2 내지 도 9는 본 발명의 일실시예에 의한 인쇄회로기판의 제조과정을 나타내는 단면도들을 나타낸다.2 to 9 are cross-sectional views showing a manufacturing process of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 전극 패드(115)를 구비한 베이스 기판(110)을 마련한다. 이때, 베이스 기판(110) 상에는 전극 패드(115)가 노출되도록 개구부(OP)를 갖는 레지스트(117)를 더 형성할 수 있다.Referring to FIG. 1, a
여기서, 베이스 기판(110)은 인쇄회로기판을 지지하는 수단으로서, 프리프레그(prepreg), 폴리 이미드(Polyimide), 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET, Polyethyeleneterepthalate), 사이아나이드 에스테르(Cyanide Ester), ABF(Ajinomoto Build up Film) 또는 에폭시(epoxy) 등과 같이 전기 전도율이 작고 전류를 거의 통과시키지 않는 다양한 물질로 이루어질 수 있다.Here, the
또한, 베이스 기판(110)은 상면에 전극 패드(115)가 형성될 수 있는데, 전극 패드(115)는 서브트랙티브(Subtractive) 공법, 애디티브(Additive) 공법 또는 세미 애디티브(Semi additive) 공법 등과 같이 다양한 공법을 사용하여 형성될 수 있다. 이때, 전극 패드(115)는 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 등의 다양한 금속 물질로 이루어질 수 있다.In addition, an
그리고, 레지스트(117)는 베이스 기판(110) 상에 전극 패드(115)가 노출되도록 개구부(OP)가 형성되는 수단으로서, 포토 레지스트(Photo Resist), 포토 솔더 레지스트(Photo Solder Resist) 또는 드라이 필름(Dry Film) 등과 같은 다양한 감광성 물질로 이루어질 수 있으며, 이에 국한되지 않고 다양한 물질로 대체할 수 있음은 물론이다.The resist 117 is a means in which the opening OP is formed to expose the
다음으로, 도 2를 참조하면, 레지스트(117)상에 전극 패드(115)를 노출시키는 오픈부(CP)를 갖는 필름층(120)을 형성한다. 여기서, 필름층(120)은 포토 레지스트(Photo Resist), 포토 솔더 레지스트(Photo Solder Resist) 또는 드라이 필름(Dry Film) 등과 같은 다양한 감광성 물질로 이루어질 수 있으며, 이에 국한되지 않고 다양한 물질로 대체할 수 있음은 물론이다.Next, referring to FIG. 2, a
그 다음, 도 3에 도시한 바와 같이, 오픈부(CP)를 포함한 필름층(120) 상에 스프레이(spray)를 이용하여 플럭스(flux, 130)를 도포한다. 여기서, 플럭스(130)는 금속 또는 합금을 용해할 때 용해한 금속면이 대기와 닿는 것을 방해할 목적으로 금속의 표면에 용해한 염류에 의한 얇은 층을 만들기 위해 사용하는 혼합염으로서, 본 발명의 일실시예에서는금속 물질(도전성 시트)을 납땜이나 용접 등의 방식을 이용하여 전극 패드(115) 상에 접합할 때, 접착면의 산화를 방지하여 금속 물질(도전성 시트)과 전극 패드(115)를 완전히 접합시키기 위해 사용된다.Next, as shown in FIG. 3, the
그런 후, 도 4에 도시한 바와 같이, 도전성 시트(140)를 제공한다. 여기서, 도전성 시트(140)는 시트(sheet) 형태의 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 중에서 어느 하나 또는 하나 이상의 합금으로 이루어질 수 있다.Then, as shown in FIG. 4, the
이때, 도전성 시트(140)는 강도가 무른 연성 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들어 보다 구체적으로 설명하면, 도전성 시트(140)는 일반적인 금속의 기계적 강도보다 무른 저강도로 이루어질 수 있는데, 일반적인 금속의 기계적 강도(stainless steel의 young’s modulus)가 200GPa이면, 도전성 시트(140)의 기계적 강도(Tin의 young’s modulus)는 50GPa로 이루어질 수 있다. In this case, the
다음으로, 도 5에 도시한 바와 같이, 베이스 기판(110)과 도전성 시트(140)를 압착하여 필름층(120)의 오픈부(CP) 내에 도전성 시트(140)를 삽입한다. 즉, 물리적인 외력을 이용하여 도전성 시트(140)를 필름층(120)의 오픈부(CP) 내에 삽입하는데, 이때, 도전성 시트(140)의 두께는 필름층(120)의 두께보다 두껍게 형성되어 필름층(120)의 오픈부(CP) 내에 도전성 시트(140)가 완전하게 삽입될 수 있게 한다. 이때, 도전성 시트(140)의 두께는 대략 수십 ~ 수백 ㎛ 범위에서 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 5, the
그 후, 도 6에 도시한 바와 같이, 필름층(120)의 상부에 잔존하는 도전성 시트(140)를 제거하는데, 보다 구체적으로, 필름층(120)의 오픈부(CP) 내에 삽입되지 않고 필름층(120)의 상부에 남아있는 도전성 시트(140)를 스퀴지(squeeze, 150) 등을 이용하여 제거한다.Thereafter, as shown in FIG. 6, the
그 다음, 도 7에서와 같이, 전극 패드(115)와 도전성 시트(140)를 접합시켜 전극 패드(115) 상에 도전성 포스트(142)를 형성한다. 보다 자세하게 설명하면, 도전성 시트(140)를 리플로우(reflow)하여 용융시킴으로써 도전성 시트(140)를 전극 패드(115)에 접합시킬 수 있는데, 이때, 리플로우 공정의 진행 시 필름층(120)이 제거되지 않고 남아있어 도전성 시트(140)를 가이드하기 때문에 도전성 시트(140)가 기존의 형상을 유지하여 종횡비가 큰 도전성 포스트(142)를 구현할 수 있게 된다.Next, as shown in FIG. 7, the conductive pad 141 is formed on the
한편, 본 발명의 일실시예에서는 필름층(120)의 상부에 잔존하는 도전성 시트(140)를 제거한 후, 도전성 시트(140)를 리플로우하는 공정이 순차적으로 진행하도록 설명하였으나, 상술한 방식 외에 필름층(120)의 상부에 잔존하는 도전성 시트(140)를 제거하는 단계는 도전성 시트(140)를 리플로우하여 전극 패드(115) 상에 도전성 시트(140)를 접합시키는 단계와 동시에 진행되는 것도 가능하다.Meanwhile, in one embodiment of the present invention, after removing the
즉, 필름층(120)의 상부에 잔존하는 도전성 시트(140)를 제거할 때 가열 동작도 함께 진행함으로써 필름층(120)의 상부에 잔존하는 도전성 시트(140)의 제거 동작과 오픈부(CP) 내에 있는 도전성 시트(140)의 용융 및 접합 동작을 동시에 실시할 수 있게 한다.That is, when the
다음으로, 도 8에서와 같이, 필름층(120)을 제거하여 도전성 포스트(142)를 완성한다. 여기서, 도전성 포스트(142)는 종횡비(aspect ratio)가 1.25 이상으로 형성될 수 있다. 보다 자세하게 설명하면, 종횡비란 도전성 포스트(142)의 높이(h)/도전성 포스트(142)의 지름을 의미하는데, 종래 기술로는 지름이 작고 높이가 큰 도전성 포스트를 형성하기 어려운 문제점이 있었으나, 본 발명의 일실시예에서는 필름층(120)의 노광 및 현상 공정에 의해 미세한 피치를 갖는 도전성 포스트(142)를 용이하게 구현할 수 있으며, 리플로우 공정 시에도 필름층(120)이 도전성 시트(140)를 가이드하기 때문에 형상의 흐트러짐없이 종횡비가 큰 도전성 포스트(142)를 구현할 수 있는 장점이 있다.Next, as shown in FIG. 8, the
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시 예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the disclosure and the equivalents of the disclosure and / or the scope of the art or knowledge of the present invention. The foregoing embodiments are intended to illustrate the best mode contemplated for carrying out the invention and are not intended to limit the scope of the present invention to other modes of operation known in the art for utilizing other inventions such as the present invention, Various changes are possible. Accordingly, the foregoing description of the invention is not intended to limit the invention to the precise embodiments disclosed. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.
110. 베이스 기판 115. 전극 패드
117. 레지스트 120. 필름층
130. 플럭스 140. 도전성 시트
150. 스퀴지110.
117. Resist 120. Film Layer
130.
150. Squeegee
Claims (13)
도전성 시트를 제공하는 단계;
상기 베이스 기판과 상기 도전성 시트를 압착하여 상기 오픈부 내에 상기 도전성 시트를 삽입하는 단계;
상기 전극 패드와 상기 도전성 시트를 접합시켜 상기 전극 패드 상에 도전성 포스트를 형성하는 단계;
상기 필름층을 제거하는 단계;
를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
Forming a film layer having an open portion exposing the electrode pad on a base substrate having an electrode pad;
Providing a conductive sheet;
Pressing the base substrate and the conductive sheet to insert the conductive sheet into the open portion;
Bonding the electrode pad and the conductive sheet to form a conductive post on the electrode pad;
Removing the film layer;
And a step of forming the printed circuit board.
상기 도전성 시트는,
연성 재질로 이루어지는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The conductive sheet,
A method of manufacturing a printed circuit board made of a flexible material.
상기 도전성 시트는,
구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 중에서 어느 하나 또는 하나 이상의 합금으로 이루어지는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The conductive sheet,
One or more of copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), aluminum (Al), iron (Fe), titanium (Ti), tin (Sn), nickel (Ni) or molybdenum (Mo) Method of manufacturing a printed circuit board made of an alloy.
상기 도전성 시트의 두께는,
상기 필름층의 두께보다 두꺼운 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The thickness of the conductive sheet,
Method of manufacturing a printed circuit board thicker than the thickness of the film layer.
상기 필름층을 형성하는 단계 이후에,
상기 오픈부를 포함한 상기 필름층 상에 플럭스를 도포하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
After the step of forming the film layer,
The method of manufacturing a printed circuit board further comprising the step of applying a flux on the film layer including the open portion.
상기 오픈부 내에 상기 도전성 시트를 삽입하는 단계 이후에,
상기 오픈부 내에 삽입되지 않고 상기 필름층의 상부에 잔존하는 상기 도전성 시트를 제거하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
After inserting the conductive sheet into the open portion,
And removing the conductive sheet remaining on top of the film layer without being inserted into the open portion.
상기 전극 패드 상에 도전성 포스트를 형성하는 단계는,
상기 도전성 시트를 리플로우하여 상기 전극 패드 상에 상기 도전성 시트를 접합시키는 인쇄회로기판의 제조방법.
6. The method according to claim 1 or 5,
Forming a conductive post on the electrode pad,
And reflowing the conductive sheet to bond the conductive sheet on the electrode pad.
상기 필름층의 상부에 잔존하는 상기 도전성 시트를 제거하는 단계는,
상기 도전성 시트를 리플로우하여 상기 전극 패드 상에 상기 도전성 시트를 접합시키는 단계와 동시에 진행되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 7, wherein
Removing the conductive sheet remaining on the upper portion of the film layer,
And reflowing the conductive sheet to bond the conductive sheet on the electrode pad.
상기 도전성 포스트는,
종횡비(aspect ratio)가 1.25 이상으로 형성되는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
The conductive post,
A method of manufacturing a printed circuit board having an aspect ratio of 1.25 or more.
상기 필름층을 형성하는 단계는,
상기 전극 패드를 구비한 베이스 기판 상에 상기 전극 패드가 노출되도록 개구부를 갖는 레지스트를 형성하는 단계;
상기 레지스트 상에 상기 전극 패드를 노출시키는 오픈부를 갖는 필름층을 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판의 제조방법.
The method of claim 1,
Forming the film layer,
Forming a resist having an opening on the base substrate having the electrode pads to expose the electrode pads;
And forming a film layer having an open portion exposing the electrode pad on the resist.
상기 베이스 기판 상에 상기 전극 패드를 노출시키는 개구부가 형성된 레지스트;
상기 전극 패드 상에 일정한 높이를 갖고 형성되는 도전성 포스트를 포함하고,
상기 도전성 포스트의 상면은 곡면으로 이루어지는 인쇄회로기판.
A base substrate having electrode pads;
A resist formed with an opening exposing the electrode pad on the base substrate;
A conductive post formed on the electrode pad and having a predetermined height;
The upper surface of the conductive post is a curved printed circuit board.
상기 도전성 포스트는,
종횡비(aspect ratio)가 1.25 이상으로 형성되는 인쇄회로기판.
The method of claim 11,
The conductive post,
A printed circuit board having an aspect ratio of 1.25 or more.
상기 도전성 포스트는,
구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 철(Fe), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo) 중에서 어느 하나 또는 하나 이상의 합금으로 이루어지는 인쇄회로기판.The method of claim 11,
The conductive post,
One or more of copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), aluminum (Al), iron (Fe), titanium (Ti), tin (Sn), nickel (Ni) or molybdenum (Mo) Printed circuit board made of alloy.
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KR20150047747A (en) * | 2013-10-25 | 2015-05-06 | 엘지이노텍 주식회사 | Printed Circuit Board and Manufacturing Method thereof and Semiconductor Package Using the Same |
Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JP2000208911A (en) * | 1999-01-18 | 2000-07-28 | Nec Toyama Ltd | Manufacture of mounting substrate with solder resist layer formed with bump on electrode pad |
KR20110026344A (en) * | 2009-09-07 | 2011-03-15 | 삼성전기주식회사 | Semiconductor device and pcb mounting the same |
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