KR20130056828A - Conductive paste and method for preparing conductive paste - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Conductive paste is provided to form excellent conductive patterns with high conductivity and high reliability as a wiring substrate, by a screen printing method. CONSTITUTION: Conductive paste contains thixotropic agent which is formed by activating copper particle, resol type phenol resin, and fatty acid amide wax. The content of the thixotropic agent is 0.05-2 wt%, based on the whole conducting paste. The thixotropic agent allows the fatty acid amide wax to be swelled by xylene or mineral terpene.

Description

도전 페이스트 및 도전 페이스트의 조제 방법 {CONDUCTIVE PASTE AND METHOD FOR PREPARING CONDUCTIVE PASTE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a conductive paste and a method for preparing the conductive paste,

본 발명은, 도전 페이스트 및 도전 페이스트의 조제 방법에 관한 것으로, 특히, 구리를 도전 재료로 하는 스크린 인쇄용의 도전 페이스트와, 이 도전 페이스트를 조제하는 방법에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a conductive paste for screen printing using copper as a conductive material and a method for preparing the conductive paste.

종래, 전자 부품이나 인쇄 배선판 (프린트 기판) 등의 배선 도체의 형성에, 도전 페이스트를 사용하는 방법이 알려져 있다. 도전 페이스트로는, 높은 도전성을 확보하는 관점에서, 은 (Ag) 을 주성분으로 하는 은 페이스트가 주로 적용되고 있었다. 그러나, 은 페이스트는 이온 마이그레이션 (은의 전석) 이 발생하기 쉽고, 그로 인해 배선 사이에서의 쇼트 등의 문제가 발생하여, 배선 기판의 신뢰성을 방해할 우려가 있다. 그래서, 은 페이스트 대신에, 마이그레이션 현상이 잘 발생하지 않는 구리 (Cu) 를 주성분으로 하는 구리 페이스트를 사용함으로써, 전자 부품이나 배선 기판의 신뢰성을 높이는 기술이 제안되어 있다.BACKGROUND ART Conventionally, a method of using a conductive paste for forming wiring conductors such as electronic parts and printed wiring boards (printed boards) has been known. As the conductive paste, a silver paste containing silver (Ag) as a main component has been mainly applied from the viewpoint of ensuring high conductivity. However, the silver paste is liable to cause ion migration (all silver stones), thereby causing a problem such as a short circuit between the wirings, which may hinder the reliability of the wiring board. Therefore, a technique of increasing the reliability of electronic parts and wiring boards by using a copper paste containing copper (Cu) as a main component which does not easily cause migration phenomenon is proposed instead of the silver paste.

한편, 최근, 전자기기에는, 소형 경량화, 고성능화가 강하게 요구되게 되어, 도전 페이스트를 이용하여 형성되는 도체 패턴에 관해서도, 고정세화가 요구되고 있다. 고정세한 도체 패턴을 얻기 위한 기술로는, 포토리소그래피법에 의한 도체 패턴의 형성 기술이 알려져 있고, 그것을 위한 도전 페이스트의 개발이 이루어지고 있다.On the other hand, in recent years, electronic equipment has been strongly demanded for small size, light weight, and high performance, and a conductor pattern formed by using a conductive paste is also required to have high definition. As a technique for obtaining a conductor pattern with high precision, a technique of forming a conductor pattern by a photolithography method is known, and a conductive paste for this purpose has been developed.

예를 들어, 특허문헌 1 에는, 주로 포토리소그래피법에 사용하는 도전 페이스트에 있어서, 수지 중의 산성 관능기와의 반응에 의한 겔화를 억제하는 것을 목적으로 하여, 표면이 피복 처리막과 산화 피막으로 피복된 구리를 함유하는 비 (卑) 금속 입자를 도전성 입자로서 배합하는 기술이 기재되어 있다. 그리고, 특허문헌 1 에는, 틱소트로피성 부여제로서, 폴리에테르·에스테르형 계면활성제, 수소 첨가 피마자유계 화합물, 지방산 아마이드왁스 등을 사용하는 것이 기재되어 있다.For example, in Patent Document 1, for the purpose of suppressing gelation by reaction with an acidic functional group in a resin in a conductive paste mainly used in a photolithography method, the surface of a conductive paste coated with a coating film and an oxide film There is disclosed a technique of mixing base metal particles containing copper as conductive particles. Patent Document 1 discloses a polyether ester type surfactant, a hydrogenated castor oil compound, a fatty acid amide wax and the like as a thixotropic property-imparting agent.

그러나, 특허문헌 1 의 도전 페이스트는, 스크린 인쇄에 의한 고정세한 도전 패턴의 형성에 충분한 틱소트로피성을 갖지 않는 데에다, 특허문헌 1 에 기재된 틱소트로피성 부여제는, 페이스트의 도전성을 저하시키기 쉽다는 난점이 있었다.However, the conductive paste of Patent Document 1 does not have enough thixotropy to form a rigid conductive pattern by screen printing, and the thixotropic property-imparting agent described in Patent Document 1 has a problem of lowering the conductivity of the paste There was a difficulty in being easy.

또, 예를 들어, 특허문헌 2 에는, 산화은 입자를 틱소트로피성 부여제로서 사용한 인쇄 특성 및 현상성이 양호하고 또한 전기 저항값이 낮은 도전 패턴이 얻어지는 감광성 페이스트 조성물이 기재되어 있다.Further, for example, Patent Document 2 describes a photosensitive paste composition which is excellent in printing property and developability using a silver oxide particle as a thixotropic property-providing agent and which can obtain a conductive pattern having a low electrical resistance value.

그러나, 특허문헌 2 의 도전 페이스트도, 스크린 인쇄에 의한 고정세한 도전 패턴의 형성에 충분한 틱소트로피성을 가지고 있지 않다. 이와 같이, 스크린 인쇄법에 사용하는 구리 페이스트로서, 예를 들어, 도전 패턴의 라인과 스페이스가 모두 100 ㎛ 이하인 고정세한 패턴 형성을 가능하게 하는 것은 알려져 있지 않은 것이 현상황이다.However, the conductive paste of Patent Document 2 does not have enough thixotropy to form a fine conductive pattern by screen printing. As described above, it is not known that copper paste used in the screen printing method can form a fine pattern having a line and space of a conductive pattern of 100 mu m or less, for example.

일본 특허 제4466250호Japanese Patent No. 4466250 일본 공개특허공보 2010-39396호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-39396

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 배선 기판으로서의 신뢰성이 높은 구리 분말을 도전재로서 함유하는 도전 페이스트에 있어서, 스크린 인쇄법에 의해 고정세하고 도전성이 양호한 도전 패턴을 형성하는 것이 가능한 도전 페이스트, 및 그러한 도전 페이스트의 조제 방법의 제공을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a conductive paste containing a copper powder having high reliability as a wiring board as a conductive material, Conductive paste, and a method for preparing such a conductive paste.

본 발명은, 이하의 도전 페이스트 및 도전 페이스트의 조제 방법을 제공한다.The present invention provides the following conductive paste and a method for preparing the conductive paste.

(1) 구리 입자 (A) 와, 레졸형 페놀 수지 (B) 와, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 함유하는 도전 페이스트로서,(1) As a conductive paste containing copper particles (A), a resol-type phenol resin (B) and a thixotropic property-imparting agent (C) obtained by activating a fatty acid amide wax,

상기 틱소트로피성 부여제 (C) 의 함유량이, 고형분인 상기 지방산 아마이드왁스로서, 상기 도전 페이스트 전체에 대해 0.05 ∼ 2 질량% 인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.Wherein the content of the thixotropic property-imparting agent (C) is the solid fatty acid amide wax in an amount of 0.05 to 2% by mass based on the whole conductive paste.

(2) 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 는, 상기 지방산 아마이드왁스가 자일렌에 의해 팽윤 처리된 것인, (1) 에 기재된 도전 페이스트.(2) The conductive paste according to (1), wherein the thixotropic property-imparting agent (C) is obtained by swelling the fatty acid amide wax with xylene.

(3) 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 는, 상기 지방산 아마이드왁스가 미네랄 터펜에 의해 팽윤 처리된 것인, (1) 에 기재된 도전 페이스트.(3) The conductive paste according to (1), wherein the thixotropic property-imparting agent (C) is obtained by swelling the fatty acid amide wax with a mineral terpene.

(4) (a) 레졸형 페놀 수지 (B) 와 용매 (D) 로 이루어지는 제 1 비이클을 조제하는 공정과,(4) A process for producing a resin composition, which comprises (a) preparing a first vehicle comprising a resol-type phenol resin (B) and a solvent (D)

(b) 상기 제 1 비이클에, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 첨가하고 교반·혼합하여, 제 2 비이클을 조제하는 공정과,(b) adding a thixotropic property-imparting agent (C), which is obtained by activating the fatty acid amide wax, to the first vehicle, stirring and mixing the same to prepare a second vehicle,

(c) 상기 제 2 비이클에 구리 입자 (A) 를 첨가하여 혼합하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트의 조제 방법.(c) adding copper particles (A) to the second vehicle and mixing them.

(5) 상기 제 2 비이클을 조제하는 공정에 있어서, 상기 제 1 비이클의 용매 (D) 에 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 를, 고형분인 상기 지방산 아마이드왁스로서, 상기 제 1 비이클의 용매 (D) 에 대해 1 질량% 의 비율로 첨가하여 이루어지는 표준액의 전단 속도 1 sec- 1 에서의 점도가, 5 Pa·sec 이상이 되는 혼련 수단을 이용하여, 상기 제 1 비이클과 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 의 혼합물을 교반하는, (4) 에 기재된 도전 페이스트의 조제 방법.(5) In the step of preparing the second vehicle, the thixotropic property-imparting agent (C) is added to the solvent (D) of the first vehicle as the solid fatty acid amide wax in the solvent of the first vehicle ( D) at a shear rate of 1 sec < -1 > of not less than 5 Pa < sec >, the first liquid and the thixotropic property imparting agent (C) is stirred. The method for preparing a conductive paste according to (4)

(6) 상기 혼련 수단은 호모게나이저인, (5) 에 기재된 도전 페이스트의 조제 방법.(6) The method for preparing a conductive paste according to (5), wherein the kneading means is a homogenizer.

본 발명의 도전 페이스트에 의하면, 스크린 인쇄법에 의해, 배선 기판으로서의 신뢰성이 높고, 또한 고정세하며 도전성이 우수한 도전 패턴을 형성할 수 있다.According to the conductive paste of the present invention, it is possible to form a conductive pattern having high reliability as a wiring board, high precision, and excellent conductivity by a screen printing method.

도 1 은 실시예에서 인쇄성 평가 시험에 사용한 스크린판 (L/S = 75 ㎛/75 ㎛) 의 패턴 형상을 나타내는 도면이다.Fig. 1 is a diagram showing a pattern shape of a screen plate (L / S = 75 占 퐉 / 75 占 퐉) used in the printability evaluation test in the embodiment.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 실시형태의 도전 페이스트는, 구리 입자 (A) 와, 레졸형 페놀 수지 (B) 와, 지방산 아마이드왁스를 미리 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 함유한다. 그리고, 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 의 함유량이 고형분인 지방산 아마이드왁스로서, 도전 페이스트 전체에 대해 0.05 ∼ 2 질량% 의 비율로 되어 있다.The conductive paste of the embodiment of the present invention contains the copper particle (A), the resol-type phenol resin (B) and the thixotropic property-imparting agent (C) obtained by previously activating the fatty acid amide wax. The fatty acid amide wax having a solid content of the thixotropic property-imparting agent (C) is 0.05 to 2% by mass relative to the entire conductive paste.

또한, 본 명세서에 있어서 「활성화 처리」는, 지방산 아마이드왁스가 갖는 틱소트로피성 (이하, 틱소성이라고도 한다) 부여 기능을 높이는 처리를 말하고, 예를 들어, 후술하는 특정한 처리 용제에 의한 팽윤 처리를 말한다.In the present specification, the term " activating treatment " refers to a treatment for enhancing the thixotropic property (hereinafter also referred to as tic) of the fatty acid amide wax. For example, a swelling treatment with a specific treating agent It says.

본 발명의 실시형태의 도전 페이스트에 있어서는, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 가 지방산 아마이드왁스분으로서, 도전 페이스트 전체의 0.05 ∼ 2 질량% 함유되어 있으므로, 스크린 인쇄에 적합한 양호한 틱소트로피성을 가지고 있고, 예를 들어 라인과 스페이스가 모두 100 ㎛ 이하인, 고정세한 도전 패턴을 스크린 인쇄에 의해 형성할 수 있다. 또, 형성된 도전 패턴을, 저항률이 낮고, 도전성이 양호하다.In the conductive paste of the embodiment of the present invention, since the thixotropic property-imparting agent (C) obtained by activating the fatty acid amide wax is contained as 0.05 to 2 mass% of the entire conductive paste as the fatty acid amide wax, It is possible to form a fine three-dimensional conductive pattern having a suitable good thixotropic property, for example, both lines and spaces of 100 mu m or less by screen printing. In addition, the formed conductive pattern has a low resistivity and good conductivity.

본 명세서에 있어서는, 도전 패턴에 있어서의 라인의 폭과 스페이스의 폭을 필요에 따라 L/S 로 나타낸다. 라인과 스페이스의 폭이 모두 100 ㎛ 인 경우, L/S 가 100 ㎛/100 ㎛, 또는 L/S = 100 ㎛/100 ㎛ 로 나타낸다.In the present specification, the width of the line and the width of the space in the conductive pattern are expressed by L / S as required. When both the widths of the lines and spaces are 100 占 퐉, L / S is 100 占 퐉 / 100 占 퐉 or L / S = 100 占 퐉 / 100 占 퐉.

스크린 인쇄에 있어서, 도전 페이스트는 기판 상에 설치된 스크린판의 상면에 공급되어, 스퀴지 등으로 가압됨으로써, 스크린판의 메시 사이에 밀어넣어진다. 그 후, 스크린판을 떼어냄으로써, 밀어넣어진 도전 페이스트가 기판 상에 남아, 도전 패턴이 인쇄된다. 이와 같은 공정을 거치는 스크린 인쇄에 있어서, 인쇄 정밀도를 향상시키기 위해서, 도전 페이스트에는 도전 패턴 형상을 양호하게 유지할 수 있는 점도를 가지면서, 인쇄시에 점도가 저하된다는 점도 특성이 요구된다. 구체적으로는, 스퀴지 등으로 가압되거나 하는 높은 전단 응력이 가해진 상태에서는, 메시 사이로 충분히 밀어넣을 수 있으면서, 스크린판의 안측으로 돌지 않을 정도로 낮은 점도를 갖고, 또한 전단 응력이 가해지지 않는 상태 또는 유동이 제지된 상태에서는, 스크린판으로부터의 몰드 분리나 인쇄 패턴 형상을 유지하는 것과 같은 높은 점도를 갖는다는 특성이다.In screen printing, the conductive paste is supplied to the upper surface of the screen plate provided on the substrate, and is pressed between the meshes of the screen plate by being pressed by a squeegee or the like. Thereafter, the screen plate is removed, so that the conductive paste pushed in remains on the substrate, and the conductive pattern is printed. In order to improve the printing precision in the screen printing through such a process, the conductive paste is required to have a viscosity characteristic capable of maintaining the shape of the conductive pattern well, and a viscosity property of decreasing the viscosity at the time of printing. Specifically, in a state in which a high shearing stress is applied by a squeegee or the like, the shear stress can be sufficiently transmitted between the meshes, and the shear stress can not be applied to the screen plate, And has a high viscosity such as to separate the mold from the screen plate and to maintain the shape of the printed pattern in the papermaking state.

이와 같은 특성을 나타내는 유체로서, 예를 들어, 틱소트로피 유체나, 전단 속도 의존성 (이하, 쉐어시닝성이라고도 한다) 을 갖는 유체를 들 수 있다. 틱소트로피성 유체의 점도는, 전단 속도 일정한 전단 응력이 계속적으로 가해짐과 함께, 즉 시간적으로 저하된다. 한편, 쉐어시닝성을 갖는 유체는, 점도의 시간적인 변화는 나타내지 않지만, 가해지는 변형의 속도에 따른 점도 변화를 나타낸다. 즉, 전단 속도의 증가와 함께 점도는 저하되고, 전단 속도의 저하와 함께 점도는 가역적으로 증가한다. 이 때, 전단 응력은 전단 속도의 증가에 맞추어 단조 증가를 나타낸다. 또한, 전단 응력은, 전단 속도와 점도의 곱으로 나타나는 것이다.As a fluid showing such characteristics, for example, a thixotropic fluid or a fluid having a shear rate dependency (hereinafter also referred to as shear thinning property) may be mentioned. The viscosity of the thixotropic fluid is constantly applied with the shear rate constant shear rate, that is, the viscosity is decreased with time. On the other hand, a fluid having a shear thinning property does not show a temporal change in viscosity but shows a change in viscosity with the applied strain rate. That is, the viscosity decreases with the increase of the shear rate, and the viscosity increases reversibly with the decrease of the shear rate. At this time, the shear stress shows an increase in monotonous with increasing shear rate. Shear stress is a product of shear rate and viscosity.

그리고, 이와 같은 틱소트로피성·쉐어시닝성을 향상시키는 첨가제로서, 종래부터 여러 가지의 화합물이나 재료가 알려져 있는데, 본 발명에서 사용되는, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 는, 구리 입자 (A) 와 레졸형 페놀 수지 (B) 를 함유하는 도전 페이스트에 대해, 틱소트로피성·쉐어시닝성을 향상시키는 효과가 크고, 또한 도전성을 저하시키는 경우가 적다.Various compounds and materials have been known as additives for improving the thixotropic property and shear thinning property. The thixotropic property-imparting agent (C) obtained by activating the fatty acid amide wax, which is used in the present invention, ) Has a large effect of improving the thixotropic property and the shear thinning property of the conductive paste containing the copper particles (A) and the resol-type phenol resin (B), and is less likely to lower the conductivity.

이하, 본 발명의 실시형태의 도전 페이스트를 구성하는 각 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, each component constituting the conductive paste of the embodiment of the present invention will be described.

<구리 입자 (A)>Copper particles (A)

구리 입자 (A) 는 도전 페이스트의 도전 성분이 되는 것이다. 구리 입자 (A) 로는, 여러 가지의 구리 입자를 사용할 수 있고, 금속 구리 입자여도 되고, 구리 미립자여도 되며, 또한 금속 구리 입자와 구리 미립자가 복합된 형태인 복합 입자여도 된다. 복합 입자로는, 예를 들어, 금속 구리 입자의 표면에 구리 미립자가 부착 또는 결합한 형태인 것을 들 수 있다.The copper particles (A) become conductive components of the conductive paste. As the copper particles (A), various kinds of copper particles can be used, and they may be metal copper particles, copper fine particles, or composite particles in which metal copper particles and copper fine particles are combined. Examples of the composite particles include those in which copper fine particles are attached or bonded to the surface of the metal copper particles.

구리 입자 (A) 의 평균 입자경은 0.01 ∼ 20 ㎛ 인 것이 바람직하고, 구리 입자 (A) 의 형상에 따라, 상기 범위 내에서 적절히 조정할 수 있다. 구리 입자 (A) 의 평균 입자경이 0.01 ㎛ 이상이면, 이 구리 입자를 함유하는 도전 페이스트의 유동 특성이 양호해진다. 또, 구리 입자 (A) 의 평균 입자경이 20 ㎛ 이하이면, 이 구리 입자를 함유하는 도전 페이스트에 의해 미세 배선을 제조하기 쉬워진다.The average particle diameter of the copper particles (A) is preferably 0.01 to 20 탆, and can be appropriately adjusted within the above range according to the shape of the copper particles (A). When the average particle diameter of the copper particles (A) is 0.01 m or more, the flowability of the conductive paste containing the copper particles becomes good. When the average particle diameter of the copper particles (A) is 20 m or less, it is easy to produce fine interconnections by the conductive paste containing the copper particles.

구리 입자 (A) 가 금속 구리 입자를 함유하는 경우, 그 평균 입자경 (평균 일차 입자경) 은 0.3 ∼ 20 ㎛ 인 것이 바람직하다. 또, 구리 입자 (A) 가 구리 미립자만으로 이루어지는 경우, 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 은 0.01 ∼ 1 ㎛ 인 것이 바람직하다.When the copper particles (A) contain metallic copper particles, the average particle diameter (average primary particle diameter) is preferably 0.3 to 20 탆. When the copper particles (A) consist only of copper fine particles, the average particle size (average aggregate particle size) of the aggregated particles is preferably 0.01 to 1 占 퐉.

구리 입자 (A) 가 금속 구리 입자를 함유하는 경우에 그 평균 입자경 (평균 일차 입자경) 이 0.3 ㎛ 이상인 경우, 및 구리 입자 (A) 가 구리 미립자만으로 이루어지는 경우에 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 이 0.01 ㎛ 이상인 경우에는, 이 구리 입자를 함유하는 도전 페이스트의 유동 특성이 양호해진다. 또, 구리 입자 (A) 가 금속 구리 입자를 함유하는 경우에 그 평균 입자경 (평균 일차 입자경) 이 20 ㎛ 이하인 경우, 및 구리 입자 (A) 가 구리 미립자만으로 이루어지는 경우에 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 이 1 ㎛ 이하인 경우에는, 이 구리 입자를 함유하는 도전 페이스트에 의해 미세 배선을 제조하기 쉬워진다.When the average particle size (average primary particle diameter) of the copper particles (A) contains metallic copper particles of 0.3 mu m or more and when the copper particles (A) consist of only copper microparticles, the average particle size Particle diameter) of not less than 0.01 mu m, the flowability of the conductive paste containing the copper particles is improved. When the average particle size (average primary particle size) of the copper particles (A) contains metallic copper particles of 20 탆 or less and when the copper particles (A) consist of only copper microparticles, the average particle size Average aggregate particle diameter) of 1 mu m or less, it is easy to produce fine interconnections by the conductive paste containing the copper particles.

구리 입자 (A) 로는, 예를 들어, 하기 구리 입자 (A1) ∼ (A5) 를 바람직하게 사용할 수 있다.As the copper particles (A), for example, the following copper particles (A1) to (A5) can be preferably used.

(A1) 금속 구리 입자로서, 그 평균 일차 입자경이 0.3 ∼ 20 ㎛ 인 금속 구리 입자.(A1) A metallic copper particle having an average primary particle diameter of 0.3 to 20 탆.

(A2) 금속 구리 입자로서, 그 평균 일차 입자경이 0.3 ∼ 20 ㎛ 인 금속 구리 입자와, 상기 금속 구리 입자 표면에 부착한 수소화구리 미립자로서, 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 이 20 ∼ 400 ㎚ 인 수소화구리 미립자를 갖는 구리 복합 입자.(A2) metallic copper particles having an average primary particle size of 0.3 to 20 탆 and copper hydrogenated microparticles adhering to the surface of the metallic copper particles, wherein the average particle size (average size of aggregate particle size) Copper composite particles having hydrogenated copper fine particles of 400 nm.

(A3) 수소화구리 미립자로서, 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 이 10 ㎚ ∼ 1 ㎛ 인 수소화구리 미립자.(A3) Copper hydride fine particles having an average particle size (average aggregate particle size) of the agglomerated particles of 10 nm to 1 μm.

(A4) 금속 구리 입자로서, 그 평균 일차 입자경이 0.3 ∼ 20 ㎛ 인 금속 구리 입자와, 상기 금속 구리 입자 표면에 부착한 구리 미립자로서, 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 이 20 ∼ 400 ㎚ 인 구리 미립자를 갖는 복합 금속 구리 입자.(A4) metal copper particles having an average primary particle diameter of 0.3 to 20 占 퐉 and copper microparticles adhered to the surface of the metallic copper particles, wherein the average particle diameter (average aggregate particle diameter) of the aggregated particles is 20 to 400 Lt; RTI ID = 0.0 &gt; nm. &Lt; / RTI &gt;

(A5) 구리 미립자로서, 그 응집 입자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 이 10 ㎚ ∼ 1 ㎛ 인 구리 미립자.(A5) Copper fine particles having an average particle size (average aggregate particle size) of the aggregated particles of 10 nm to 1 μm.

또한, 복합 금속 구리 입자 (A4) 는, 구리 복합 입자 (A2) 의 수소화구리 미립자가 가열 처리에 의해 금속 구리 미립자로 변환된 것으로, 구리 미립자 (A5) 는, 수소화구리 미립자 (A3) 가 가열 처리에 의해 변환된 것이다.The composite metal copper particles (A4) are obtained by converting the copper hydrogenated copper microparticles of the copper composite particles (A2) into metal copper fine particles by a heat treatment. The copper fine particles (A5) Lt; / RTI &gt;

본 명세서에 있어서, 평균 입자경은, 이하와 같이 하여 구한 것이다.In the present specification, the average particle diameter is obtained as follows.

즉, 금속 구리 미립자에 대한 평균 일차 입자경은, 주사형 전자현미경 (이하, 「SEM」이라고 기재한다) 이미지 중에서 무작위로 선택한 100 개의 입자의 Feret 직경을 측정하고, 이들 입자경을 평균하여 산출한 것이다.That is, the average primary particle diameter of the metal copper microparticles is calculated by measuring the Feret diameter of 100 randomly selected particles from an image of a scanning electron microscope (hereinafter referred to as &quot; SEM &quot;) and averaging these particle diameters.

또, 구리 미립자의 평균 입자경 (평균 응집 입자경) 은, 투과형 전자현미경 (이하, 「TEM」이라고 기재한다) 이미지 중에서 무작위로 선택한 100 개의 입자의 Feret 직경을 측정하고, 이들 입자경을 평균하여 산출한 것이다.The average particle size (average aggregate particle size) of copper microparticles was calculated by measuring Feret diameters of 100 particles randomly selected from images of a transmission electron microscope (hereinafter referred to as &quot; TEM &quot;) and averaging these particle diameters .

또, 예를 들어 구리 복합 입자 (A2) 와 같이, 금속 구리 입자와, 이 금속 구리 입자 표면에 부착된 수소화구리 미립자를 함유하는 복합 입자의 경우에는, 이 복합 입자 전체를 SEM 에 의해 관찰하여, 구리 미립자도 함유하는 입자 전체의 Feret 직경을 측정하고, 얻어진 입자경을 평균하여 산출한 것이다.Further, in the case of composite particles containing metal copper particles and copper hydride fine particles adhered to the surface of the metal copper particles, for example, copper composite particles (A2), the whole composite particles are observed by SEM, And the feret diameter of the whole particles containing copper fine particles was also measured and the average particle diameter obtained was averaged.

상기한 바와 같은 구리 입자 (A) 로는, 예를 들어, 구리 입자 표면을 환원 처리하여 이루어지는 「표면 개질 구리 입자」를 들 수 있다.The above-mentioned copper particles (A) include, for example, &quot; surface-modified copper particles &quot; obtained by reducing a surface of a copper particle.

(표면 개질 구리 입자)(Surface-modified copper particles)

본 발명에 있어서의 「표면 개질 구리 입자」는, 구리 입자 표면을 pH 값이 3 이하인 분산매 중에서 환원 처리하여 얻어지는 것으로, 예를 들어, (1) 구리 입자를 분산매로 분산시켜 「구리 분산액」이라고 한 후, (2) 구리 분산액의 pH 값을 소정값 이하로 조정하여, (3) 구리 분산액에 환원제를 첨가하는 하기 (1) ∼ (3) 의 공정을 거친, 습식 환원법에 의해 제조할 수 있다.The "surface-modified copper particles" in the present invention are obtained by reducing the surfaces of copper particles in a dispersion medium having a pH value of 3 or less. For example, (1) copper particles are dispersed in a dispersion medium to form "copper dispersion" (3) adding the reducing agent to the copper dispersion by the following wet reduction method after (2) adjusting the pH value of the copper dispersion to a predetermined value or less, and (3) following the steps of (1) to (3).

(1) ∼ (3) 의 공정에 의해 얻어지는 표면 개질 구리 입자는, 주로 금속 구리 입자로 구성되는 것으로, 그 평균 일차 입자경은 0.3 ∼ 20 ㎛ 인 것이 바람직하다 (금속 구리 입자 (A1)).The surface-modified copper particles obtained by the steps (1) to (3) are mainly composed of metallic copper particles, and the average primary particle diameter thereof is preferably 0.3 to 20 탆 (metallic copper particles (A1)).

표면 개질 구리 입자에 있어서, 그 평균 일차 입자경이 0.3 ㎛ 이상이면, 이 구리 입자를 함유하는 도전 페이스트의 유동 특성이 양호해진다. 또, 평균 일차 입자경이 20 ㎛ 이하이면, 이 구리 입자를 함유하는 도전 페이스트에 의해 미세 배선을 제조하기 쉬워진다.When the average primary particle diameter of the surface-modified copper particles is 0.3 m or more, the flowability of the conductive paste containing the copper particles is improved. If the average primary particle diameter is 20 m or less, fine wiring can be easily produced by the conductive paste containing the copper particles.

이하에, 표면 개질 구리 입자를 제조하는 공정 (1) ∼ (3) 에 대해 설명한다.Processes (1) to (3) for producing surface-modified copper particles will be described below.

(1) 구리 분산액의 제조(1) Preparation of copper dispersion

구리 분산액에 분산시키는 구리 입자는, 도전 페이스트로서 일반적으로 사용되는 구리 입자를 사용할 수 있고, 그 입자 형상은 구상이어도 되고, 판상이어도 된다.Copper particles to be dispersed in the copper dispersion may be copper particles generally used as a conductive paste, and the shape of the particles may be spherical or planar.

구리 분산액에 분산시키는 구리 입자의 평균 입자경은, 0.3 ∼ 20 ㎛ 인 것이 바람직하고, 1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다.The average particle diameter of the copper particles to be dispersed in the copper dispersion is preferably 0.3 to 20 탆, more preferably 1 to 10 탆.

구리 입자의 평균 입자경이 0.3 ㎛ 미만이면, 도전 페이스트의 유동성을 저하시킬 우려가 있다. 한편, 구리 입자의 평균 입자경이 20 ㎛ 를 초과하면, 얻어지는 도전 페이스트에서의 미세 배선의 제조가 곤란해진다. 구리 입자의 평균 입자경을 0.3 ∼ 20 ㎛ 로 함으로써, 유동성이 양호하고, 또한 미세 배선의 제조에 적절한 도전 페이스트로 할 수 있다.If the average particle diameter of the copper particles is less than 0.3 占 퐉, the fluidity of the conductive paste may be lowered. On the other hand, when the average particle diameter of the copper particles exceeds 20 占 퐉, it becomes difficult to prepare the fine wiring in the obtained conductive paste. By setting the average particle diameter of the copper particles to 0.3 to 20 占 퐉, a conductive paste having good flowability and being suitable for the production of fine interconnections can be obtained.

또한, 구리 입자의 평균 입자경은, SEM 이미지 중에서 무작위로 선출한 100 개의 금속 구리 입자의 Feret 직경을 측정하고, 그 평균값을 산출하여 얻은 것이다.The average particle diameter of the copper particles was obtained by measuring the Feret diameter of 100 metal copper particles randomly selected from SEM images and calculating the average value thereof.

구리 분산액은, 상기 구리 입자를 분말상으로 한 것을, 분산매에 투입하여 얻을 수 있다. 구리 분산액 중의 구리 입자의 농도는, 0.1 ∼ 50 질량% 인 것이 바람직하다.The copper dispersion can be obtained by putting the copper particles in powder form into a dispersion medium. The concentration of the copper particles in the copper dispersion is preferably 0.1 to 50 mass%.

구리 입자의 농도가 0.1 질량% 미만이면, 구리 분산액에 함유되는 분산매량이 과다해져, 생산 효율을 충분한 레벨로 유지하지 못할 우려가 있다. 한편, 구리 입자의 농도가 50 질량% 를 초과하면, 입자끼리의 응집의 영향이 과대해져, 표면 개질 구리 입자의 수율이 저감될 우려가 있다. 구리 분산액의 구리 입자의 농도를 상기 범위로 함으로써, 표면 개질 구리 입자를 고수율로 얻을 수 있다.If the concentration of the copper particles is less than 0.1% by mass, the amount of the dispersion medium contained in the copper dispersion becomes excessive, and the production efficiency may not be maintained at a sufficient level. On the other hand, when the concentration of the copper particles exceeds 50 mass%, the influence of agglomeration of the particles becomes excessive, which may reduce the yield of the surface-modified copper particles. By adjusting the concentration of the copper particles in the copper dispersion to the above range, the surface-modified copper particles can be obtained in high yield.

구리 입자 분산액의 분산매로는, 구리 입자를 분산 가능한 것이면 특별히 한정되지 않지만, 고극성을 갖는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.The dispersion medium of the copper particle dispersion is not particularly limited as long as it can disperse the copper particles, but those having a high polarity can be preferably used.

고극성의 분산매로는, 예를 들어, 물;메탄올, 에탄올, 2-프로판올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜 등의 글리콜류, 및 이들을 혼합한 혼합 매체 등을 사용할 수 있고, 특히 물을 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the high-polarity dispersion medium include water, alcohols such as methanol, ethanol and 2-propanol, glycols such as ethylene glycol, and mixed media obtained by mixing them. .

분산매에 분산시키는 구리 입자는, 입자 표면의 산화를 방지하는 관점에서, 표면 처리제로 입자 표면을 표면 처리한 것이어도 된다. 표면 처리제로는, 스테아르산, 팔미트산, 미리스트산 등의 장사슬 카르복실산을 사용할 수 있다.The copper particles to be dispersed in the dispersion medium may be surface treated with the surface treatment agent to prevent oxidation of the particle surface. As the surface treatment agent, long-chain carboxylic acids such as stearic acid, palmitic acid and myristic acid can be used.

또한, 표면 처리제로서 장사슬 카르복실산을 사용한 경우에는, 구리 입자를 그대로 환원 처리에 제공해도 되는데, 후술하는 환원 반응을 원활하게 진행시키기 위해서, 표면 처리제인 장사슬 카르복실산을 입자 표면으로부터 제거한 후에 분산매로 분산시키는 것이 바람직하다. 장사슬 카르복실산의 제거는, 예를 들어, 산을 사용한 세정 등의 방법에 의해 실시할 수 있다.When a long chain carboxylic acid is used as the surface treatment agent, the copper particles may be provided as it is in the reduction treatment. In order to facilitate the reduction reaction described later, the long chain carboxylic acid, which is a surface treatment agent, And then dispersed in the dispersion medium. Removal of the long chain carboxylic acid can be carried out, for example, by a method such as washing with an acid.

또, 구리 입자의 분산매에 대한 분산성을 향상시키는 관점에서, 구리 입자에 대해 전 (前) 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 전처리를 실시함으로써, 입자 표면이 친수성화 되기 때문에, 물 등의 고극성 분산매에 대한 분산성을 높일 수 있다.From the viewpoint of improving the dispersibility of the copper particles to the dispersion medium, it is preferable to conduct the pre-treatment on the copper particles. By performing the pretreatment, the surface of the particles is made hydrophilic, so that the dispersibility to a high-polarity dispersion medium such as water can be enhanced.

전처리제로는, 예를 들어, 탄소수 6 이하의 지방족 모노카르복실산, 지방족 하이드록시모노카르복실산, 지방족 아미노산 등의 지방족 모노카르복실산류, 및 지방족 폴리카르복실산류 (예를 들어, 탄소수 10 이하의 지방족 폴리카르복실산이나 지방족 하이드록시폴리카르복실산) 를 바람직하게 사용할 수 있다. 보다 바람직하게는, 탄소수 8 이하의 지방족 폴리카르복실산류이고, 구체적으로는, 글리신, 알라닌, 시트르산, 말산, 말레산, 말론산 등을 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the pretreatment agent include aliphatic monocarboxylic acids such as aliphatic monocarboxylic acids having 6 or less carbon atoms, aliphatic hydroxymonocarboxylic acids and aliphatic amino acids, and aliphatic polycarboxylic acids (for example, Of aliphatic polycarboxylic acid or aliphatic hydroxycarboxylic acid) can be preferably used. More preferred are aliphatic polycarboxylic acids having 8 or less carbon atoms, and specific examples thereof include glycine, alanine, citric acid, malic acid, maleic acid and malonic acid.

상기와 같이 하여 얻어진 구리 분산액에는, 분산제를 첨가하는 것이 바람직하다. 분산제로는, 구리 입자에 대해 흡착성을 갖는 수용성의 각종 화합물을 사용할 수 있다. It is preferable to add a dispersant to the copper dispersion thus obtained. As the dispersant, various water-soluble compounds having adsorptivity to copper particles can be used.

분산제로는, 구체적으로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리비닐피롤리돈, 하이드록시프로필셀룰로오스, 프로필셀룰로오스, 에틸셀룰로오스 등의 수용성 고분자 화합물이나, 에틸렌디아민4아세트산, 이미노디2아세트산 등의 킬레이트 화합물 등을 사용할 수 있다.Specific examples of the dispersing agent include water-soluble polymeric compounds such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyvinylpyrrolidone, hydroxypropyl cellulose, propyl cellulose and ethyl cellulose, ethylenediaminetetraacetic acid, iminodi2 And chelate compounds such as acetic acid.

상기 각 처리를 거친 후의 구리 입자 표면에 담지되어 존재하는 표면 처리제, 전처리제, 분산제의 양은, 구리 입자에 대해 겉보기로 0.1 ∼ 10 질량% 인 것이 바람직하다.The amount of the surface treating agent, the pretreatment agent and the dispersing agent which are carried on the surface of the copper particles after subjected to the respective treatments is preferably from 0.1 to 10% by mass relative to the copper particles.

전처리제나 분산제에 의한 구리 입자의 처리는, 물 등의 용매에 전처리제 등을 첨가하여 얻어진 용액에 구리 입자를 첨가하고 교반하여, 이 용액 중에서, 구리 입자 표면에 전처리제 등을 담지하도록 하여 실시할 수 있다.The treatment of the copper particles with a pretreatment agent or a dispersant is carried out by adding copper particles to a solution obtained by adding a pretreatment agent or the like to a solvent such as water and stirring the solution so that a pretreatment agent or the like is carried on the surface of the copper particles .

처리 속도를 높이는 관점에서, 전처리를 실시할 때에는, 용액을 가열하면서 실시하는 것이 바람직하다. 가열 온도로는, 50 ℃ 이상, 용제 (물 등) 의 비점 이하의 온도에서 실시하는 것이 바람직하다. 또한, 용제에 카르복실산 등의 표면 처리제나 분산제를 첨가한 경우에는, 가열 온도는, 이들 화합물의 비점 이하의 온도에서 가열하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of increasing the processing speed, it is preferable to carry out the pretreatment while heating the solution. The heating temperature is preferably 50 ° C or higher and the boiling point of the solvent (water or the like). When a surface treating agent such as a carboxylic acid or a dispersant is added to a solvent, it is preferable to heat the heating temperature at a temperature not higher than the boiling point of these compounds.

가열 처리하는 시간은, 5 분간 이상 3 시간 이하가 바람직하다. 가열 시간이 5 분간 미만이면, 처리 속도를 높이는 효과가 충분히 얻어지지 않을 우려가 있다. 한편, 3 시간을 초과하여 가열 처리를 실시해도, 비용이 과도하게 높아질 우려가 있어, 경제적인 면에서 바람직하지 않다.The time for the heat treatment is preferably from 5 minutes to 3 hours. If the heating time is less than 5 minutes, there is a possibility that the effect of increasing the processing speed may not be sufficiently obtained. On the other hand, even if the heat treatment is performed for more than 3 hours, the cost may be excessively increased, which is not preferable from the economical point of view.

또한, 전처리 등을 실시할 때에는, 구리 입자 표면의 산화를 방지하는 관점에서, 질소 가스, 아르곤 가스 등의 불활성 가스로 처리 용기 내를 치환하여 실시하는 것이 바람직하다. 전처리 후, 용제를 제거하고, 필요에 따라 물 등으로 세정함으로써, 분산액에 분산시키는 구리 입자를 얻을 수 있다.When the pretreatment or the like is carried out, it is preferable that the inside of the processing vessel is replaced with an inert gas such as nitrogen gas or argon gas from the viewpoint of preventing oxidation of the surface of the copper particles. After the pretreatment, the solvent is removed, and if necessary, it is washed with water or the like to obtain copper particles to be dispersed in the dispersion.

(2) 구리 분산액의 pH 값의 조정(2) Adjustment of the pH value of the copper dispersion

상기 (1) 에서 얻어진 구리 분산액의 pH 값을 조정한다. pH 값의 조정은, 구리 분산액에 pH 조정제를 첨가하여 실시할 수 있다. 구리 분산액의 pH 조정제로는, 산을 사용할 수 있고, 예를 들어 포름산, 시트르산, 말레산, 말론산, 아세트산, 프로피온산 등의 카르복실산이나, 황산, 질산, 염산 등의 무기산을 바람직하게 사용할 수 있다. 카르복실산으로는, 상기 서술한 전처리제로서 사용한 카르복실산과 동일한 화합물을 사용할 수 있다.The pH value of the copper dispersion obtained in (1) above is adjusted. The pH value can be adjusted by adding a pH adjuster to the copper dispersion. As the pH adjusting agent of the copper dispersion, an acid can be used, and for example, a carboxylic acid such as formic acid, citric acid, maleic acid, malonic acid, acetic acid or propionic acid, or an inorganic acid such as sulfuric acid, nitric acid, have. As the carboxylic acid, the same compound as the carboxylic acid used as the pretreatment agent described above can be used.

이들 중에서도, 카르복실산은, 구리 입자 표면에 흡착되어, 환원 처리 후의 표면 개질 구리 입자의 표면에 잔존하여 입자 표면을 보호함으로써, 구리의 산화 반응을 억제할 수 있기 때문에, pH 조정제로서 바람직하게 사용할 수 있다. 특히, 포름산은 환원성을 갖는 알데히드기 (-CHO) 를 갖기 때문에, 표면 개질된 구리 입자 표면에 잔존함으로써, 입자 표면의 산화의 진행을 억제할 수 있다. 이와 같은 구리 입자를 배합한 도전 페이스트를 사용함으로써, 산화 피막이 잘 형성되지 않아, 체적 저항률의 상승이 억제된 도전막을 형성할 수 있다.Among them, the carboxylic acid is adsorbed on the surface of the copper particles and remains on the surface of the surface-modified copper particles after the reduction treatment to protect the surface of the particles, so that the oxidation reaction of copper can be suppressed. have. Particularly, since formic acid has an aldehyde group (-CHO) having a reducing property, it remains on the surface of the surface-modified copper particle, so that the progress of oxidation of the particle surface can be suppressed. By using the conductive paste containing such copper particles, it is possible to form a conductive film in which an oxide film is not formed well and an increase in volume resistivity is suppressed.

또한, pH 조정제로는, 반드시 산성분에 한정되는 것은 아니다. 분산액의 pH 값이 낮은 경우에는, pH 조정제로서 염기를 사용할 수 있다.In addition, the pH adjuster is not necessarily limited to acidic components. When the pH value of the dispersion is low, a base may be used as the pH adjuster.

이후의 환원 처리 공정에서, 입자 표면의 산화막의 제거를 원활하게 실시하여, 얻어지는 표면 개질 구리 입자의 표면 산소 농도를 저감시키는 관점에서, 구리 분산액의 pH 값은 3 이하로 하는 것이 바람직하다.The pH value of the copper dispersion is preferably 3 or less from the viewpoint of smoothly removing the oxide film on the surface of the particles and reducing the surface oxygen concentration of the obtained surface-modified copper particles in the subsequent reduction treatment step.

분산액의 pH 값이 3 을 초과하면, 구리 입자 표면에 형성된 산화막을 제거하는 효과가 충분히 얻어지지 않아, 구리 입자 표면의 산소 농도를 충분히 저감시키지 못할 우려가 있다. 한편, 분산액의 pH 값은 0.5 이상으로 하는 것이 바람직하다. 분산액의 pH 값이 0.5 미만이면, 구리 이온이 과도하게 용출되어, 구리 입자의 표면 개질이 원활하게 진행되기 어려워질 우려가 있다. 분산액의 pH 값은, 0.5 이상 2 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 분산액의 pH 값이 3 이하인 경우에는, 이 분산액을 그대로 환원 처리해도 된다.If the pH value of the dispersion exceeds 3, the effect of removing the oxide film formed on the surface of the copper particles can not be sufficiently obtained, and the oxygen concentration on the surface of the copper particles may not be sufficiently reduced. On the other hand, the pH value of the dispersion is preferably 0.5 or more. If the pH value of the dispersion is less than 0.5, copper ions are excessively eluted and the surface modification of the copper particles may not be smoothly progressed. The pH value of the dispersion is more preferably 0.5 or more and 2 or less. When the pH value of the dispersion is 3 or less, the dispersion may be subjected to reduction treatment as it is.

(3) 구리 분산액의 환원 처리(3) Reduction treatment of copper dispersion

pH 값을 조정한 구리 분산액에 환원제를 첨가하여 환원 처리를 실시한다.A reducing agent is added to the copper dispersion whose pH value is adjusted, and reduction treatment is performed.

구리 분산액에 첨가하는 환원제로는, 금속 수소화물, 히드라이드 환원제, 차아인산, 차아인산나트륨 등의 차아인산염, 디메틸아민보란 등의 아민보란, 및 포름산에서 선택되는 적어도 1 종을 사용할 수 있다. 금속 수소화물로는, 수소화리튬, 수소화칼륨, 및 수소화칼슘을 들 수 있다. 히드라이드 환원제로는, 수소화리튬알루미늄, 수소화붕소리튬, 및 수소화붕소나트륨을 들 수 있다. 이들 중, 차아인산, 차아인산나트륨을 바람직하게 사용할 수 있다.As the reducing agent to be added to the copper dispersion, at least one selected from metal hydrides, hydride reducing agents, hypophosphites such as hypophosphorous acid and sodium hypophosphite, amine boranes such as dimethylamine borane, and formic acid can be used. Examples of the metal hydride include lithium hydride, potassium hydride, and calcium hydride. Examples of the hydride reducing agent include lithium aluminum hydride, lithium borohydride, and sodium borohydride. Of these, hypophosphorous acid and sodium hypophosphite are preferably used.

또한, 상기와 같이, 포름산은 pH 조정제로서도 사용되기 때문에, 분산매 중에 포름산을 첨가한 경우에는, 환원제로서 작용함과 함께 pH 조정제로서도 작용한다.In addition, as described above, formic acid is also used as a pH adjusting agent. Therefore, when formic acid is added to the dispersion medium, it acts as a reducing agent and also acts as a pH adjusting agent.

구리 분산액에 첨가하는 환원제는, 입자 표면의 구리 원자량에 대해 대과잉으로 첨가하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 분산액에 함유되는 구리 입자의 전체 몰 수에 대해, 몰비로 1 배량 이상의 환원제를 첨가하는 것이 바람직하고, 구리 입자의 전체 구리 원자의 몰 수에 대해, 몰비로 1.2 ∼ 10 배량의 환원제를 사용하는 것이 좋다.The reducing agent to be added to the copper dispersion is preferably added in excess to the amount of copper atoms on the surface of the particles. Concretely, it is preferable to add a reducing agent in a molar ratio of 1 or more to the total number of moles of the copper particles contained in the dispersion. It is preferable to add a reducing agent in a molar ratio of 1.2 to 10 times the mole number of the total copper atoms of the copper particles .

구리의 전체 몰 수에 대해, 10 배를 초과하는 양의 환원제를 첨가하면, 비용 면에서 불리해져, 생산 비용이 과도하게 높아질 우려가 있다. 또, 환원제로부터의 분해 생성물의 양이 과다해져, 그 제거가 번잡해질 우려도 있다.When the reducing agent is added in an amount exceeding 10 times the total molar amount of copper, the cost is disadvantageously lowered and the production cost may be excessively increased. Further, the amount of the decomposition products from the reducing agent becomes excessive, and the removal thereof may become troublesome.

환원 반응은, 분산매의 온도를 5 ∼ 60 ℃ 로 하여 실시하는 것이 바람직하고, 35 ∼ 50 ℃ 로 하여 실시하는 것이 보다 바람직하다. 분산액의 온도를 60 ℃ 이하로 함으로써, 구리 분산액으로부터 분산매를 증발시켜 제거했을 때의, 분산액 전체의 농도 변화의 영향을 저감시킬 수 있다.The reduction reaction is preferably carried out at a temperature of 5 to 60 캜, more preferably 35 to 50 캜. By setting the temperature of the dispersion liquid at 60 占 폚 or less, it is possible to reduce the influence of the concentration change of the entire dispersion liquid when the dispersion medium is removed by evaporation from the copper dispersion liquid.

구리 입자의 환원은, 상기와 같이 구리 분산액에 환원제를 첨가하여 실시하거나, 또는 환원제를 첨가한 분산매에 구리 입자를 분산시켜 실시할 수 있다.The reduction of the copper particles can be carried out by adding a reducing agent to the copper dispersion as described above, or by dispersing the copper particles in a dispersion medium containing a reducing agent.

또한, 구리 입자 표면의 산화막의 제거를 원활하게 실시하는 관점에서는, 환원제를 첨가 후의 구리 분산액의 pH 값은, 반응 개시 시점에서 반응 종료시까지 3 이하 상태를 유지하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of smoothly removing the oxide film on the surface of the copper particles, it is preferable that the pH value of the copper dispersion after the addition of the reducing agent is kept at 3 or less from the start of the reaction to the end of the reaction.

구리 분산액의 산화 환원 전위는, 환원제의 첨가량이나 종류 등에 따라 적절히 조정할 수 있다. 구리 이온의 환원 반응을 원활하게 진행시키는 관점에서, 구리 분산액의 산화 환원 전위는, 표준 수소 전극 (SHE) 의 전위에 대해 100 ∼ 300 mV 인 것이 바람직하고, 100 ∼ 220 mV 인 것이 보다 바람직하다.The redox potential of the copper dispersion can be appropriately adjusted depending on the amount and kind of the reducing agent to be added. From the viewpoint of facilitating the reduction reaction of the copper ion, the redox potential of the copper dispersion is preferably 100 to 300 mV, more preferably 100 to 220 mV with respect to the potential of the standard hydrogen electrode (SHE).

또한, 산화 환원 전위는, 표준 전극으로부터의 전위차로서 구할 수 있다. 본 명세서에서는, 산화 환원 전위는, 표준 전극으로서 표준 수소 전극을 이용하여 측정한 전위차로 표기한다.The redox potential can be obtained as a potential difference from the standard electrode. In the present specification, the redox potential is expressed as a potential difference measured using a standard hydrogen electrode as a standard electrode.

환원제의 분해가 거의 종료된 후, 표면 개질된 구리 입자를 분산액으로부터 분리하여, 필요에 따라 물 등으로 세정, 건조시켜 표면 개질 구리 입자, 즉 구리 입자 (A) 분말을 얻을 수 있다.After the decomposition of the reducing agent is almost completed, the surface-modified copper particles are separated from the dispersion, washed with water or the like, if necessary, and dried to obtain the surface-modified copper particles, that is, the copper particles (A).

상기 (1) ∼ (3) 의 표면 처리를 실시함으로써, 출발 원료로서의 구리 입자 표면에 존재하고 있던 산화구리 (Cu2O, CuO) 를 구리 원자로 환원할 수 있기 때문에, 도전성을 저해하는 요인이 되는 산화구리의 존재량을 저감시킬 수 있다.By performing the surface treatments of (1) to (3) above, copper oxide (Cu 2 O, CuO) present on the surface of copper particles as a starting material can be reduced to copper atoms, The amount of copper oxide present can be reduced.

또한, 환원제 분해물 등의 부생물은, 통상 분산매에 가용인 성분이기 때문에, 여과나 원심 분리함으로써 이들 성분으로부터 분리시킬 수 있다.Further, since the by-products such as the decomposition product of the reducing agent are usually components soluble in the dispersion medium, they can be separated from these components by filtration or centrifugation.

또, 상기 (1) ∼ (3) 의 표면 처리 후의 구리 입자 표면에서는, 환원제에 의해 구리 원자의 일부가 환원되어, 수소화구리가 생성되는 경우가 있다. 그 때문에, 표면 처리 후의 구리 입자는, 분산액으로부터 분리된 후, 40 ∼ 120 ℃ 에서 가열 처리함으로써, 수소화구리를 구리로 변화시켜도 된다.On the surface of the copper particles after the surface treatments (1) to (3), a part of copper atoms is reduced by a reducing agent to generate copper hydride. Therefore, after the surface-treated copper particles are separated from the dispersion, the copper hydride may be changed to copper by heat treatment at 40 to 120 ° C.

본 발명의 구리 입자 (A) 로는, 이와 같이 제조되는 「표면 개질 구리 입자」이외에, 금속 구리 입자 표면의 적어도 일부에 금속 구리 미립자가 부착된 「복합 금속 구리 입자」도 사용할 수 있다.As the copper particles (A) of the present invention, "composite metal copper particles" in which metal copper fine particles are adhered to at least a part of the surface of the metal copper particles may be used in addition to the "surface-modified copper particles" thus produced.

<레졸형 페놀 수지 (B)>&Lt; Resoluble phenol resin (B) >

본 발명의 실시형태의 도전 페이스트에 함유되는 레졸형 페놀 수지 (B) 로는, 통상적인 도전 페이스트의 수지 바인더로서 사용되는 공지된 레졸형 페놀 수지를 사용할 수 있다.As the resol-type phenol resin (B) contained in the conductive paste of the embodiment of the present invention, a known resol-type phenol resin used as a resin binder for ordinary conductive paste can be used.

레졸형 페놀 수지 (B) 로서, 구체적으로는, 페놀류와 알데히드류로부터 제조되는 미변성 레졸형 페놀 수지, 페놀류 및 알데히드류에, 각종 변성제를 첨가하여 제조되는 변성 레졸형 페놀 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the resol-type phenol resin (B) include modified resol-type phenol resins prepared by adding various modifiers to unmodified resol-type phenol resins, phenols and aldehydes produced from phenols and aldehydes .

상기 페놀 또는 그 유도체 (페놀류) 로는, 예를 들어 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 카테콜, 레조르시놀, 하이드로퀴논, 자일레놀, 피로갈롤, 비스페놀 A, 비스페놀 F, p-페닐페놀, p-tert-부틸페놀, p-tert-옥틸페놀, α-나프톨, β-나프톨 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 2 종 이상 사용할 수 있다.Examples of the phenol or its derivatives (phenols) include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, catechol, resorcinol, hydroquinone, xylenol, pyrogallol, bisphenol A, bisphenol F, p-tert-butylphenol, p-tert-octylphenol,? -naphthol,? -naphthol, and the like.

상기 알데히드류로는, 포름알데히드, 파라포름알데히드, 트리옥산, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 폴리옥시메틸렌, 클로랄, 푸르푸랄, 글리옥살, n-부틸알데히드, 카프로알데히드, 알릴알데히드, 벤즈알데히드, 크로톤알데히드, 아크롤레인, 테트라옥시메틸렌, 페닐아세트알데히드, o-톨루알데히드, 살리실알데히드 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 2 종 이상 사용할 수 있다.Examples of the aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, trioxane, acetaldehyde, propionaldehyde, polyoxymethylene, chloral, furfural, glyoxal, n-butylaldehyde, caproaldehyde, allylaldehyde, benzaldehyde, crotonaldehyde , Acrolein, tetraoxymethylene, phenylacetaldehyde, o-tolualdehyde, salicylaldehyde and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

자경성 (自硬性) 의 레졸형 페놀 수지를 사용하는 경우에는, 레졸형 페놀 수지에 대해, 산이나 경화제를 첨가해도 되고, 경화도를 저하시키기 위해서, 노볼락형 페놀 수지를 첨가해도 된다. 또, 그것들을 조합하여 첨가해도 된다.When a resol-type phenol resin having self-hardness is used, an acid or a curing agent may be added to the resol-type phenol resin, and a novolak-type phenol resin may be added in order to lower the degree of curing. They may be added in combination.

레졸형 페놀 수지 (B) 로서, 시판되는 것도 사용할 수 있다. 예를 들어, 분말상 페놀 수지 (군에이 화학사 제조, 상품명:레지톱, PGA-4528, PGA-2473, PGA-4704, PGA-4504, 스미토모 베이크라이트사 제조, 상품명:스미라이트레진 PR-UFC-504, PR-EPN, PR-ACS-100, PR-ACS-150, PR-12687, PR-13355, PR-16382, PR-217, PR-310, PR-311, PR-50064, PR-50099, PR-50102, PR-50252, PR-50395, PR-50590, PR-50590B, PR-50699, PR-50869, PR-51316, PR-51326B, PR-51350B, PR-51510, PR-51541B, PR-51794, PR-51820, PR-51939, PR-53153, PR-53364, PR-53497, PR-53724, PR-53769, PR-53804, PR-54364, PR-54458A, PR-54545, PR-55170, PR-8000, PR-FTZ-1, PR-FTZ-15), 프레이크상 페놀 수지 (스미토모 베이크라이트사 제조, 상품명:스미라이트레진 PR-12686R, PR-13349, PR-50235A, PR-51363F, PR-51494G, PR-51618G, PR-53194, PR-53195, PR-54869, PR-F-110, PR-F-143, PR-F-151F, PR-F-85G, PR-HF-3, PR-HF-6), 액상 페놀 수지 (스미토모 베이크라이트사 제조, 상품명:스미라이트레진 PR-50087, PR-50607B, PR-50702, PR-50781, PR-51138C, PR-51206, PR-51663, PR-51947A, PR-53123, PR-53338, PR-53365, PR-53717, PR-54135, PR-54313, PR-54562, PR-55345, PR-940, PR-9400, PR-967), 레졸형 액상 페놀 수지 (군에이 화학사 제조, 상품명:레지톱 PL-4826, PL-2390, PL-4690, PL-3630, PL-4222, PL-4246, PL-2211, PL-3224, PL-4329, 스미토모 베이크라이트사 제조, 상품명:스미라이트레진 PR-50273, PR-51206, PR-51781, PR-53056, PR-53311, PR-53416, PR-53570, PR-54387), 미립상 페놀 수지 (에어워터사 제조, 상품명:벨팔, R800, R700, R600, R200, R100, S830, S870, S890, S895, S290, S190), 진구상 페놀 수지 (군에이 화학사 제조, 상품명:마릴린 GU-200, FM-010, FM-150, HF-008, HF-015, HF-075, HF-300, HF-500, HF-1500), 고형 페놀 수지 (군에이 화학사 제조, 상품명:레지톱 PS-2601, PS-2607, PS-2655, PS-2768, PS-2608, PS-4609, PSM-2222, PSK-2320, PS-6132) 등이 예시된다.Commercially available resol-type phenolic resins (B) may also be used. For example, a powdery phenolic resin (trade name: RegisTop, PGA-4528, PGA-2473, PGA-4704, PGA-4504, manufactured by Sumitomo Bakelite, trade name: SUMILITE RESIN PR-UFC-504 , PR-EPN, PR-ACS-100, PR-ACS-150, PR-12687, PR-13355, PR-16382, PR-217, PR-310, PR-311, PR- -50102, PR-50252, PR-50395, PR-50590, PR-50590B, PR-50699, PR-50869, PR-51316, PR-51326B, PR-51350B, PR-51510, , PR-51820, PR-51939, PR-53153, PR-53364, PR-53497, PR-53724, PR-53769, PR-53804, PR-54364, PR-54458A, PR-54545, PR- (Trade name: SUMILITE RESIN PR-12686R, PR-13349, PR-50235A, PR-51363F, PR-FTZ-15) manufactured by Sumitomo Bakelite Co., PR-F-151G, PR-51618G, PR-53194, PR-53195, PR-54869, PR-F-110, PR- HF-6), liquid phenolic resin (Sumitomo Bakelite, trade name: SUMILITE RESIN PR-50087, PR-50607B, PR-50 PR-54135, PR-54313, PR-54562, PR-54038, PR-51138C, PR-51206, PR-51663, PR-51947A, PR-53123, PR- PL-4690, PL-3630, PL-3630), a resol type liquid phenolic resin (trade name: Regent PL-4826, PL- PR-51301, PR-53056, PR-53311, PR-53056, PR- R800, R600, R200, R100, S830, S870, S890, S895, S290, S190) manufactured by Air Water Co., Ltd., Jean- FM-010, FM-150, HF-008, HF-015, HF-075, HF-300, HF-500 and HF-1500) manufactured by Nippon Kayaku Co., Phenol resin (PS-2607, PS-2655, PS-2768, PS-2608, PS-4609, PSM-2222, PSK- .

본 발명에 사용하는 레졸형 페놀 수지 (B) 에 대해서는, 분자량도 특별히 제한되지 않지만, 용액화되었을 때의 용액 점도의 관점에서, 질량 평균 분자량으로서 200 ∼ 10000 이 바람직하고, 300 ∼ 3000 이 보다 바람직하다. 레졸형 페놀 수지 (B) 로는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The resolubilized phenol resin (B) used in the present invention is not particularly limited in its molecular weight, but from the viewpoint of solution viscosity upon solution, the mass average molecular weight is preferably 200 to 10000, more preferably 300 to 3000 Do. As the resol-type phenol resin (B), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

도전 페이스트 중의 레졸형 페놀 수지 (B) 의 함유량은, 구리 입자 (A) 의 체적과 구리 입자 사이에 존재하는 공극의 체적의 비율에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 구리 입자 (A) 100 질량% 에 대해 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다. 레졸형 페놀 수지 (B) 의 함유량을 5 질량% 이상으로 하면, 도전 페이스트로서 충분한 유동 특성이 얻어진다. 한편, 레졸형 페놀 수지 (B) 의 함유량이 50 질량% 이하이면, 경화 후의 수지 성분에 의해 구리 입자간의 접촉이 방해되는 경우가 거의 없어, 도전 페이스트로부터 얻어지는 도전막의 체적 저항률을 상승시킬 우려가 없다.The content of the resol-type phenol resin (B) in the conductive paste can be appropriately selected in accordance with the ratio of the volume of the voids existing between the volume of the copper particles (A) and the copper particles. Is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 5 to 20 mass%, based on 100 mass% of the copper particles (A). When the content of the resol-type phenol resin (B) is 5 mass% or more, sufficient flow characteristics can be obtained as a conductive paste. On the other hand, when the content of the resol-type phenol resin (B) is 50 mass% or less, contact between the copper particles is hardly interrupted by the resin component after curing, and there is no fear of increasing the volume resistivity of the conductive film obtained from the conductive paste .

<틱소트로피성 부여제 (C)><Thixotropic property-imparting agent (C)>

본 발명의 도전 페이스트에 함유되는 틱소트로피성 부여제 (C) 는, 지방산 아마이드왁스에 대해, 그 틱소성 부여 기능을 높이는 활성화 처리를 실시하여 이루어지는 것이다.The thixotropic property-imparting agent (C) contained in the conductive paste of the present invention is obtained by subjecting the fatty acid amide wax to an activation treatment for enhancing the thixotropic property-imparting function.

지방산 아마이드왁스는, 분자 내에 장사슬 지방산기와 아미드기를 갖고, 계면 활성 작용을 가지며, 또한 열적·화학적으로 안정적인 상온에서 고체인 화합물이다. 분자 내에 친유성의 장사슬 지방산기와 친수성의 아미드기의 양방의 기를 가짐으로써, 수지 조성물에 틱소트로피성을 부여하는 기능을 한다. 또, 지방산 아마이드왁스는, 도전 페이스트에 첨가한 경우에, 전기 저항을 상승시키는 비율이 작다는 이점이 있다.The fatty acid amide wax is a compound which has a long chain fatty acid group and an amide group in the molecule and has a surfactant action and is thermally and chemically stable and is solid at room temperature. Having both groups of a lipophilic long chain fatty acid group and a hydrophilic amide group in the molecule, thereby giving a thixotropic property to the resin composition. In addition, the fatty acid amide wax has an advantage that when it is added to the conductive paste, the ratio of raising the electrical resistance is small.

본 발명에서 사용되는 지방산 아마이드왁스의 분자 구조, 분자량 등은 특별히 제한되지 않지만, 융점이 110 ∼ 130 ℃ 인 것이 바람직하다. 바람직한 지방산 아마이드왁스로서, 예를 들어, 이하의 화학식으로 나타내는, 수소 첨가 피마자유 지방산과 프라이머리디아민의 축합 반응 생성물을 들 수 있다.The molecular structure, molecular weight and the like of the fatty acid amide wax used in the present invention are not particularly limited, but it is preferable that the fatty acid amide wax has a melting point of 110 to 130 ° C. Preferable examples of the fatty acid amide wax include condensation reaction products of a hydrogenated castor oil fatty acid and a primary diamine represented by the following chemical formula.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

이와 같은 지방산 아마이드왁스의 활성화 처리로는, 지방산 아마이드왁스의 틱소성 부여 기능을 높이는 처리이면 특별히 제한되지 않지만, 효과 면에서 특정한 처리 용제에 의한 팽윤 (프레 팽윤) 처리가 바람직하다. 팽윤 처리에 사용 가능한 용제는, 지방산 아마이드왁스의 분자 구조나 분자량 등에 따라 상이한데, 예를 들어, 상기 화학식으로 나타내는 수소 첨가 피마자유 지방산과 프라이머리디아민의 축합 반응 생성물의 팽윤 처리에는, 자일렌 또는 미네랄 터펜이 바람직하다. 여기서, 미네랄 터펜은, 미네랄 스피릿이라고도 불리는 석유계 용제의 1 종이다. 또, 지방산 아마이드왁스의 팽윤 처리에는, 자일렌 또는 미네랄 터펜과 함께, 알코올을 병용할 수도 있다.The activation treatment of the fatty acid amide wax is not particularly limited as long as it is a treatment for enhancing the function of imparting the tack plasticity of the fatty acid amide wax, but from the viewpoint of the effect, the swelling (pre-swelling) treatment with a specific treatment agent is preferable. For example, in the swelling treatment of the condensation reaction product of the hydrogenated castor oil fatty acid and the primary diamine represented by the above formula, xylene or the like can be used for the swelling treatment of the condensation reaction product of the fatty acid amide wax and the primary diamine, Mineral terpenes are preferred. Here, the mineral terpene is one kind of a petroleum solvent which is also called mineral spirit. In addition, alcohol may be used together with xylene or mineral terpene for the swelling treatment of the fatty acid amide wax.

지방산 아마이드왁스를 용제에 의해 팽윤 처리한 틱소트로피성 부여제 (C) 의 시판품으로는, 디스퍼론 6900-20X, 디스퍼론 6850-20X, 디스퍼론 A670-30M (모두, 쿠스모토 화성사의 상품명) 등이 있다. 디스퍼론 6900-20X 및 디스퍼론 6850-20X 는, 상기 화학식으로 나타내는 지방산 아마이드왁스를, 자일렌과 에탄올 및 메탄올의 혼합 용제에 의해 프레 팽윤 페이스트상의 틱소트로피성 부여제이고, 디스퍼론 A670-30M 은, 상기 화학식으로 나타내는 지방산 아마이드왁스를, 미네랄 터펜과 벤질알코올의 혼합 용제에 의해 프레 팽윤한 페이스트상의 틱소트로피성 부여제이다. 어느 틱소트로피성 부여제도, 상기 레졸형 페놀 수지 (B) 를 함유하는 비이클에 양호한 틱소트로피성을 부여할 수 있다. 또, 팽윤 구조가 매우 강력하여 내열성, 시간 경과적 안정성이 우수하였다.Examples of commercially available products of the thixotropic property imparting agent (C) that has been swollen with fatty acid amide wax by a solvent include Disperon 6900-20X, Disperon 6850-20X, and Disperon A670-30M (all trade names of Kusumoto Chemical Co., Ltd.) . Disperon 6900-20X and Disperon 6850-20X were prepared by dissolving the fatty acid amide wax represented by the above formula in a thixotropic property-imparting agent on a pre-swelling paste by a mixed solvent of xylene and ethanol and methanol, and Disperon A670-30M , And a fatty acid amide wax represented by the above formula is pre-swollen by a mixed solvent of mineral terpene and benzyl alcohol. Any thixotropic property imparting system and a vehicle containing the resol-type phenol resin (B) can impart good thixotropy to the vehicle. In addition, the swelling structure was very strong, and the heat resistance and the time-course stability were excellent.

상기한 지방산 아마이드왁스를 용제에 의해 팽윤 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 에 있어서, 지방산 아마이드왁스의 함유 비율 (농도) 은 특별히 한정되지 않지만, 팽윤 처리에 의한 지방산 아마이드왁스의 활성화의 효율과 사용의 용이함에서, 2 ∼ 50 질량% 의 범위가 바람직하다.The content (concentration) of the fatty acid amide wax in the thixotropic property-imparting agent (C) obtained by subjecting the fatty acid amide wax to swelling with a solvent is not particularly limited, but the efficiency of activation of the fatty acid amide wax by swelling treatment And from the viewpoint of ease of use, it is preferably in the range of 2 to 50 mass%.

또, 틱소트로피성 부여제 (C) 의 함유량은, 틱소트로피성 부여제 (C) 중의 고형분인 지방산 아마이드왁스분이, 도전 페이스트 전체의 0.05 ∼ 2 질량% 의 비율을 차지하는 양으로 하고, 0.1 ∼ 1.5 질량% 가 바람직하다. 틱소트로피성 부여제 (C) 의 함유량이, 지방산 아마이드왁스로서 도전 페이스트 전체의 0.05 질량% 이상이면, 도전 페이스트가 충분한 틱소트로피성을 갖고, L/S 가 100 ㎛/100 ㎛ 이하인 고정세한 배선 패턴을 스크린 인쇄에 의해 형성할 수 있다. 한편, 지방산 아마이드왁스로서 도전 페이스트 전체의 2 질량% 이하이면, 도전 페이스트의 저항률을 높이는 경우도 거의 없어, 도전성이 양호한 도전 패턴이 얻어진다.The content of the thixotropic property-imparting agent (C) is such that the amount of fatty acid amide wax which is a solid content in the thixotropic property-imparting agent (C) accounts for 0.05 to 2% by mass of the entire conductive paste, % By mass is preferable. When the content of the thixotropic property-imparting agent (C) is 0.05% by mass or more as the total amount of the conductive paste as the fatty acid amide wax, the conductive paste has sufficient thixotropic properties and has a high fineness with an L / S of 100 m / The pattern can be formed by screen printing. On the other hand, when the amount of the fatty acid amide wax is 2% by mass or less of the entire conductive paste, the resistivity of the conductive paste is hardly increased, and a conductive pattern with good conductivity can be obtained.

<그 밖의 성분>&Lt; Other components >

본 발명의 도전 페이스트는, 상기 (A) ∼ (C) 의 각 성분에 추가로, 용제나 각종 첨가제 (레벨링제, 커플링제, 점도 조정제, 산화 방지제, 밀착제 등) 등의 그 밖의 성분을, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 함유하고 있어도 된다. 특히, 적당한 유동성을 갖는 페이스트체를 얻기 위해서, 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 그리고, 이와 같은 용제로서, 레졸형 페놀 수지 (B) 를 용해시킬 수 있는 용매 (D) 를 함유시키는 것이 바람직하다.The conductive paste of the present invention may further contain other components such as a solvent and various additives (leveling agent, coupling agent, viscosity adjuster, antioxidant, adhesion agent, etc.) in addition to the components (A) But may be contained in a range that does not impair the effects of the present invention. Particularly, in order to obtain a paste having suitable fluidity, it is preferable to contain a solvent. As such a solvent, it is preferable to include a solvent (D) capable of dissolving the resol-type phenol resin (B).

레졸형 페놀 수지 (B) 를 용해시킬 수 있는 용매 (D) 로는, 아세트산부틸, 아세트산-3-메톡시부틸, 1-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르(에틸카르비톨), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(부틸카르비톨), 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 테르피네올, 디에틸렌글리콜 등을 들 수 있다. 이들의 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the solvent (D) capable of dissolving the resol-type phenol resin (B) include butyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 1-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether , Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, cyclohexanol, ethylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl Diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, terpineol, diethylene glycol, and the like can be given. One of these may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

용액화했을 때의 용액 점도와 페이스트를 건조시키기 어려운 관점에서, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등이 바람직하다.From the viewpoint of solubility of the solution and difficulty in drying the paste, it is preferable to use a solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene Glycol monoethyl ether acetate and the like are preferable.

레졸형 페놀 수지 (B) 를 용해시킬 수 있는 상기 용매 (D) 는, 레졸형 페놀 수지 (B) 100 질량% 에 대해 10 ∼ 1000 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 200 질량% 가 보다 바람직하다. 본 발명의 실시형태의 도전 페이스트에 있어서, 레졸형 페놀 수지 (B) 에 대한 상기 용매 (D) 의 함유 비율을 상기 범위로 함으로써, 스크린 인쇄에 있어서의 작업성이 양호하고, 또한 고정세한 도전 패턴의 형성이 가능해진다.The solvent (D) capable of dissolving the resol-type phenol resin (B) is preferably 10 to 1000 mass%, more preferably 20 to 200 mass%, based on 100 mass% of the resol-type phenol resin (B). In the conductive paste of the embodiment of the present invention, by setting the content ratio of the solvent (D) to the resol-type phenol resin (B) within the above range, workability in screen printing is good, It becomes possible to form a pattern.

또, 인쇄용 페이스트체로서 적당한 점도 범위로 하는 관점에서, 도전 페이스트에 함유되는 용제 전체의 양은, 구리 입자 (A) 에 대해 1 ∼ 10 질량% 의 범위가 바람직하다. 이 용제에는, 상기 레졸형 페놀 수지 (B) 를 용해시킬 수 있는 용매 (D), 및 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 중에 함유되는 지방산 아마이드왁스의 팽윤 처리용의 용제 등도 포함된다.The total amount of the solvent contained in the conductive paste is preferably in the range of 1 to 10 mass% with respect to the copper particles (A) from the viewpoint of setting the viscosity range suitable for a printing paste body. This solvent also includes a solvent (D) capable of dissolving the resol-type phenol resin (B) and a solvent for swelling the fatty acid amide wax contained in the thixotropic property-imparting agent (C).

본 발명의 실시형태의 도전 페이스트는, 상기 (A) ∼ (C) 의 각 성분 및 상기 용제 등의 그 밖의 성분을, 예를 들어, 이하에 나타내는 바와 같이 혼합하여 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 도전 페이스트의 조제 방법은, (a) 레졸형 페놀 수지 (B) 와 용매 (D) 로 이루어지는 제 1 비이클을 조제하는 공정과, (b) 상기 제 1 비이클에, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 첨가하고 교반·혼합하여, 제 2 비이클을 조제하는 공정과, (c) 상기 제 2 비이클에 구리 입자 (A) 를 첨가하여 혼합하는 공정을 구비한다. 이하, 각 공정에 대해 설명한다.The conductive paste of the embodiment of the present invention can be obtained by mixing each of the components (A) to (C) and other components such as the solvent, for example, as shown below. That is, the method for preparing a conductive paste of the present invention comprises the steps of: (a) preparing a first vehicle comprising a resol-type phenol resin (B) and a solvent (D); (b) adding to the first vehicle a fatty acid amide wax (C) a step of adding and mixing copper particles (A) to the second vehicle, and (c) a step of mixing and adding the copper particles (A) to the second vehicle. Respectively. Each step will be described below.

<(a) 제 1 비이클을 조제하는 공정>< (a) Step of preparing first vehicle >

레졸형 페놀 수지 (B) 를, 이 수지를 용해시킬 수 있는 상기 용매 (D) 에 용해시켜 이루어지는 제 1 비이클을 조제한다. 제 1 비이클에 있어서의 상기 용매 (D) 의 함유 비율은, 상기한 바와 같이, 상기 레졸형 페놀 수지 (B) 100 질량% 에 대해 10 ∼ 1000 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 200 질량% 가 보다 바람직하다. 본 발명의 실시형태의 도전 페이스트에 있어서, 레졸형 페놀 수지 (B) 에 대한 상기 용매 (D) 의 함유 비율을 상기 범위로 함으로써, 스크린 인쇄에 있어서의 작업성이 양호해지고, 또한 고정세한 도전 패턴의 형성이 가능해진다.A first vehicle is prepared by dissolving the resol-type phenol resin (B) in the solvent (D) capable of dissolving the resin. The content of the solvent (D) in the first vehicle is preferably 10 to 1000% by mass, more preferably 20 to 200% by mass, based on 100% by mass of the resol-type phenol resin (B) desirable. In the conductive paste of the embodiment of the present invention, by setting the content ratio of the solvent (D) to the resol-type phenol resin (B) within the above range, workability in screen printing becomes good, It becomes possible to form a pattern.

또, 제 1 비이클의 25 ℃ 에 있어서의 점도 (이하, 점도 (25 ℃) 로 나타낸다) 를 5 Pa·sec 이하로 하는 것이 바람직하다. 제 1 비이클의 점도 (25 ℃) 를 5 Pa·sec 이하로 함으로써, 스크린 인쇄에 적합한 양호한 틱소트로피성을 갖는 도전 페이스트가 얻어진다.It is preferable that the viscosity of the first vehicle at 25 캜 (hereinafter referred to as the viscosity (25 캜)) is 5 Pa · sec or less. By setting the viscosity (25 캜) of the first vehicle to 5 Pa · sec or less, a conductive paste having good thixotropy suitable for screen printing can be obtained.

<(b) 제 2 비이클을 조제하는 공정>< (b) Step of preparing second vehicle >

상기 (a) 공정에서 얻어진 제 1 비이클에, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리 (예를 들어, 특정한 용제에 의한 팽윤 처리) 하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 첨가한다. 그리고, 혼합물을 교반하고, 지방산 아마이드왁스를 제 1 비이클 중에 균일하게 분산시켜, 제 2 비이클을 얻는다.A thixotropic property-imparting agent (C) obtained by activating a fatty acid amide wax (for example, swelling treatment with a specific solvent) is added to the first vehicle obtained in the step (a). Then, the mixture is stirred, and the fatty acid amide wax is uniformly dispersed in the first vehicle to obtain the second vehicle.

상기 혼합물의 교반 수단은, 혼합물에 높은 전단 응력을 가하고, 지방산 아마이드왁스를 제 1 비이클 중에 균일하게 분산시키는 것이 가능한 수단이면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 호모게나이저, 스터러, 카우레스 날개를 갖는 디스퍼 (카우레스 디스퍼) 등의 각종 교반·혼합 수단을 이용할 수 있다.The means for agitating the mixture is not particularly limited so long as it is a means capable of applying a high shear stress to the mixture and uniformly dispersing the fatty acid amide wax in the first vehicle. For example, various stirring and mixing means such as a homogenizer, a stirrer and a disper with a cowless blade (crows dispenser) can be used.

이와 같이, 제 2 비이클을 조제하는 공정에 있어서, 혼합물의 교반 수단은 특별히 한정되지 않지만, 교반 강도에 의해 틱소트로피성 부여제 (C) 에 의해 부여되는 틱소트로피성의 크기가 바뀌기 때문에, 이하에 나타내는 조건에서의 점도를 측정하고, 측정된 점도 (이하, 표준 점도라고 하는 경우가 있다) 를 지표로 하여 교반 수단이 틱소성 부여에 미치는 영향의 크기를 평가할 수 있다.As described above, in the step of preparing the second vehicle, the stirring means of the mixture is not particularly limited, but the size of the thixotropic property imparted by the thixotropic property-imparting agent (C) varies depending on the stirring strength. The viscosity at the conditions can be measured and the magnitude of the influence of the stirring means on the tie plasticity can be evaluated using the measured viscosity (hereinafter, sometimes referred to as standard viscosity) as an index.

즉, 먼저, 상기한 제 1 비이클에 함유되는 용매 (D) 와 동일한 용제 (예를 들어, 에틸카르비톨) 에 틱소트로피성 부여제 (C) 를, 고형분인 지방산 아마이드왁스의 용매 (D) 에 대한 비율이 1 질량% 가 되도록 첨가하여, 표준액을 조제한다. 그리고, 이 표준액을 전단 속도 1 sec- 1 로 교반했을 때의 점도 (표준 점도) 를, 각종 교반 수단에 대해 측정한다. 본 발명에 있어서는, 이렇게 하여 측정된 표준 점도가 5 Pa·sec 이상이 되는 교반 수단을 이용하여, 제 1 비이클과 틱소트로피성 부여제 (C) 의 혼합물을 교반하여, 혼련하는 것이 바람직하다.That is, first, a thixotropic property-imparting agent (C) is added to the same solvent (for example, ethylcarbitol) as the solvent (D) contained in the first vehicle, and the solvent (D) of fatty acid amide wax To 1% by mass, to prepare a standard solution. Then, the buffer solution a shear rate of 1 sec - a (standard viscosity) viscosity when stirred with a 1, and measured for the various types of agitation means. In the present invention, it is preferable that the mixture of the first vehicle and the thixotropic property-imparting agent (C) is stirred and kneaded by using the stirring means having a standard viscosity measured in this way of 5 Pa · sec or more.

상기 표준 점도가 5 Pa·sec 이상이 되는 수단을 이용하여 교반·혼련한 경우에는, 표준 점도가 5 Pa·sec 미만이 되는 교반 수단을 사용한 경우에 비해, 더욱 스크린 인쇄에 적절한 양호한 틱소트로피성을 갖는 도전 페이스트가 얻어진다. 표준 점도가 5 Pa·sec 이상이 되는 교반·혼련 수단으로는, 예를 들어, 롤밀, 비즈밀, 회전 원반식 분산기, 유화 (乳化)·분산 시험 장치, 3 축 유성 방식 분산·혼합·혼련기, 자전·공전 믹서, 호모게나이저, 초음파 유화기 등을 들 수 있다.In the case of stirring and kneading using the means that the standard viscosity is equal to or higher than 5 Pa · sec, compared with the case where the standard viscosity is less than 5 Pa · sec, a better thixotropy suitable for screen printing Is obtained. As a stirring / kneading means having a standard viscosity of 5 Pa · sec or more, for example, a roll mill, a bead mill, a rotary kneader, an emulsification / dispersion testing apparatus, a three- , A rotation / revolution mixer, a homogenizer, and an ultrasonic emulsifier.

여기서, 호모게나이저에는, 여러 가지 형식이 있고, 원반 회전식, 초음파 인가 방식, 특수 형상의 날개가 고속 회전하는 방식 등을 들 수 있다. 특히, 특수 형상의 날개가 고속 회전하는 방식으로는, Willems 의 원리에 기초하여, 고속 분산 ∼ 미쇄 ∼ 균일화의 일련의 호모지네이션을 실시하는 장치가 있고, 고속 회전하는 내측 날과 외측 날의 창의 사이에서 일어나는 초음파, 고주파 등의 효과가 더해져, 고속 분산, 미쇄, 균일화 효과가 큰 호모게나이저가 알려져 있다. 일반적인 호모게나이저는, 회전·슬라이딩·진동부를 가지고 있고, 그 속도가 보다 큰 것은, 고속 호모게나이저라고 한다.Here, the homogenizer includes various types, such as a disk rotating type, an ultrasonic wave applying method, and a method in which a blade of a special shape rotates at a high speed. Particularly, as a method of rotating the blades of a special shape at a high speed, there is an apparatus for performing a series of homogenization of high-speed dispersion to microstructure to homogenization based on the principle of Willems. There is known a homogenizer which has a high speed dispersion, a fine chain, and a homogenization effect. A common homogenizer has a rotating, sliding, and oscillating part, and a faster homogenizer is called a high-speed homogenizer.

<(c) 구리 입자의 첨가·혼합 공정>< (c) Addition and mixing process of copper particles >

상기 (b) 공정에서 얻어진 제 2 비이클에 구리 입자 (A) 를 첨가하여 혼합한다. 혼합 수단은 특별히 한정되지 않고, 공지된 교반·혼합 장치를 사용할 수 있다.Copper particles (A) are added to the second vehicle obtained in the step (b) and mixed. The mixing means is not particularly limited, and a known stirring / mixing apparatus can be used.

본 발명의 실시형태의 도전 페이스트의 조제 방법에 있어서, 상기 (A) ∼ (D) 의 각 성분을 혼합할 때에는, 레졸형 페놀 수지 (B) 의 경화나 용제의 휘발이 발생하지 않을 정도의 온도에서, 가열하면서 실시할 수도 있다. 혼합, 교반시의 온도는, 10 ∼ 40 ℃ 로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 20 ∼ 30 ℃ 로 한다. 특히, (c) 구리 입자의 첨가·혼합 공정에서는, 10 ℃ 이상의 온도로 함으로써, 도전 페이스트의 점도를 충분히 저하시킬 수 있고, 교반을 원활하게 충분히 실시할 수 있다. 또, 구리 입자 (A) 표면에 생성된 수소화구리를 구리 원자로 할 수 있다. 한편, (c) 구리 입자의 첨가·혼합 공정에서의 온도가 120 ℃ 를 초과하면, 페이스트 중에서 레졸형 페놀 수지 (B) 의 경화가 발생하거나, 구리 입자 (A) 끼리의 융착이 발생하거나 할 우려가 있다.In the method for preparing a conductive paste according to the embodiment of the present invention, when mixing the respective components (A) to (D), it is preferable that the temperature is set at such a temperature as not to cause curing of the resol- , While heating. The temperature at the time of mixing and stirring is preferably 10 to 40 占 폚. More preferably 20 to 30 占 폚. Particularly, in the step (c) of adding and mixing the copper particles, the viscosity of the conductive paste can be sufficiently lowered by setting the temperature to 10 ° C or higher, and the stirring can be sufficiently carried out smoothly. In addition, the copper hydride produced on the surface of the copper particles (A) can be a copper atom. On the other hand, if the temperature in the step (c) of adding and mixing the copper particles exceeds 120 캜, the curing of the resol-type phenol resin (B) in the paste may occur or fusion bonding of the copper particles (A) .

또한, (c) 구리 입자의 첨가·혼합 공정에서는, 구리 입자 (A) 가 산화되는 것을 방지하기 위해서, 불활성 가스로 치환한 용기 내에서 혼합하는 것이 바람직하다.In addition, in the step (c) of adding and mixing the copper particles, it is preferable to mix them in a container substituted with an inert gas in order to prevent the copper particles (A) from being oxidized.

이상 설명한 조제 방법에 의하면, 스크린 인쇄에 적합한 양호한 틱소트로피성을 갖고, 또한 도전성이 우수한 도전 페이스트를 얻을 수 있다.According to the preparation method described above, a conductive paste having good thixotropic property suitable for screen printing and excellent in conductivity can be obtained.

본 발명의 도전 페이스트를 이용하여 기재 상에 도전 패턴 (배선 패턴) 등의 도전막을 형성하여, 인쇄 배선판과 같은 도전막이 형성된 기재를 얻을 수 있다. 도전막이 형성된 기재는, 본 발명의 실시형태의 도전 페이스트를 기재의 표면에 스크린 인쇄와 같은 인쇄법에 의해 도포하고, 도전 페이스트막을 형성한 후, 가열하여 도전 페이스트막 중의 용제 등의 휘발성 성분을 제거함과 함께, 레졸형 페놀 수지를 경화시킴으로써 제조할 수 있다.A conductive film such as a conductive pattern (wiring pattern) is formed on a substrate using the conductive paste of the present invention to obtain a substrate having a conductive film such as a printed wiring board. The substrate on which the conductive film is formed can be obtained by applying the conductive paste of the embodiment of the present invention to the surface of the substrate by a printing method such as screen printing to form a conductive paste film and then heating to remove volatile components such as a solvent in the conductive paste film Can be produced by curing a resol-type phenol resin.

기재로는, 유리 기판, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 나 폴리에틸렌나프탈 레이트 (PEN) 와 같은 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등의 플라스틱 기재, 유리 섬유 강화 수지 기판, 세라믹스 기판 등을 사용할 수 있다.As the substrate, a glass substrate, a polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), a plastic substrate such as polycarbonate or polyimide, a glass fiber reinforced resin substrate, a ceramics substrate or the like can be used.

본 발명의 실시형태의 도전 페이스트는, 틱소트로피성이 우수하고, 인쇄시에 있어서의 고전단 응력 하에서는, 메시 사이로 충분히 밀어넣을 수 있으면서, 스크린판의 안측으로 돌지 않을 정도로 점도가 낮은 데에다, 인쇄막의 레벨링성이 높아, 몰드 분리성이 양호하다. 따라서, 상기 기재 상에 본 발명의 도전 페이스트를 스크린 인쇄함으로써, 표면 및 측면에 있어서의 요철의 발생이 억제된 매끄러운 배선 형상을, 특히, L/S 가 100 ㎛/100 ㎛ 이하인 고정세한 도전 패턴에 있어서, 효율적으로 형성할 수 있다.The conductive paste of the embodiment of the present invention is excellent in thixotropy and can be sufficiently pushed between meshes under high shear stress at the time of printing but has a viscosity low enough not to turn into the inside of the screen plate, The leveling property of the film is high, and the mold separability is good. Therefore, by screen printing the conductive paste of the present invention on the base material, it is possible to obtain a smooth wiring shape in which the generation of irregularities on the surface and the side is suppressed, particularly, the fine wiring pattern with L / S of 100 m / It is possible to efficiently form the film.

스크린 인쇄 등의 인쇄법에 의해 형성된 도전 페이스트막의 가열 온도는, 100 ∼ 180 ℃ 로 하는 것이 바람직하다. 가열 온도가 100 ℃ 미만이면, 레졸형 페놀 수지를 충분히 경화시키는 것이 곤란해진다. 한편, 가열 온도가 180 ℃ 를 초과하면, 예를 들어 플라스틱 필름 등의 기재를 사용한 경우, 기재가 변형될 우려가 있다. 가열 방법으로는, 온풍 가열, 열복사, IR 가열 등의 방법을 들 수 있다. 또한, 가열은, 공기 중에서 실시해도 되고, 또 산소량이 적은 질소 분위기 하 등에서 실시해도 된다.The heating temperature of the conductive paste film formed by the printing method such as screen printing is preferably 100 to 180 캜. If the heating temperature is less than 100 ° C, it is difficult to sufficiently cure the resol-type phenol resin. On the other hand, if the heating temperature exceeds 180 ° C, for example, when a base material such as a plastic film is used, there is a possibility that the base material is deformed. Examples of the heating method include hot air heating, thermal radiation, IR heating, and the like. The heating may be carried out in air or in a nitrogen atmosphere with a small amount of oxygen.

기재 상에 형성되는 배선 패턴 등의 도전막의 두께는, 안정적인 도전성을 확보하고, 또한 배선 형상을 유지하기 쉽게 하는 관점에서, 1 ∼ 200 ㎛ 인 것이 바람직하고, 5 ∼ 100 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 또, 도전막의 체적 저항률은 1.0 × 10-4 Ω㎝ 이하인 것이 바람직하다. 도전막의 체적 저항률이 1.0 × 10-4 Ω㎝ 를 초과하면, 전자 기기용의 도전체로서 충분한 도전성을 얻지 못할 우려가 있다.The thickness of the conductive film such as a wiring pattern formed on the substrate is preferably 1 to 200 占 퐉, more preferably 5 to 100 占 퐉, from the viewpoint of ensuring stable conductivity and facilitating the maintenance of the wiring shape. The conductive film volume resistivity is preferably not more than 1.0 × 10 -4 Ω㎝. If the volume resistivity of the conductive film exceeds 1.0 x 10 &lt; -4 &gt; [Omega] cm, there is a fear that sufficient electrical conductivity can not be obtained as a conductor for electronic devices.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다. 예 1 ∼ 7 은 본 발명의 실시예이고, 예 8 ∼ 11 은 비교예이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the examples. Examples 1 to 7 are examples of the present invention, and Examples 8 to 11 are comparative examples.

(예 1)(Example 1)

[구리 입자 (표면 개질 구리 입자) (A) 의 제조][Preparation of copper particles (surface-modified copper particles) (A)] [

이하에 나타내는 바와 같이, 구리 입자에 환원 처리를 실시하여, 구리 입자 (표면 개질 구리 입자) (A) 를 얻었다. 먼저, 유리제 비커에 포름산 3.0 g 과 50 질량% 차아인산 수용액 9.0 g 을 투입하고, 이 비커를 워터 배스에 넣어 40 ℃ 로 유지하였다.As shown below, the copper particles were subjected to a reduction treatment to obtain copper particles (surface-modified copper particles) (A). First, 3.0 g of formic acid and 9.0 g of a 50 mass% aqueous solution of hypophosphorous acid were added to a glass beaker, and the beaker was placed in a water bath and kept at 40 캜.

이어서, 이 비커 안에 구리 입자 (미츠이 금속 광업사 제조, 상품명:1400 YP, 평균 일차 입자경 7 ㎛) 5.0 g 을 서서히 첨가하고, 30 분간 교반하여 구리 분산액을 얻었다. 얻어진 구리 분산액으로부터, 원심 분리기를 사용하여 회전수 3000 rpm 으로 10 분간 원심 분리하여, 침전물을 회수하였다. 이 침전물을 증류수 30 g 으로 분산시키고, 원심 분리에 의해 다시 응집물을 침전시켜, 침전물을 분리하였다. 얻어진 침전물을, -35 ㎪ 의 감압 하, 80 ℃ 에서 60 분간 가열하고, 잔류 수분을 휘발시켜 서서히 제거하여, 입자 표면이 개질된 구리 입자 (A) 를 얻었다.Subsequently, 5.0 g of copper particles (trade name: 1400 YP, manufactured by Mitsui Mining and Mining Co., Ltd., average primary particle size: 7 mu m) was gradually added to the beaker and stirred for 30 minutes to obtain a copper dispersion. The resulting copper dispersion was centrifuged at a rotation number of 3000 rpm for 10 minutes using a centrifugal separator, and the precipitate was recovered. The precipitate was dispersed with 30 g of distilled water, and the agglomerates were again precipitated by centrifugation, and the precipitates were separated. The resulting precipitate was heated at 80 DEG C for 60 minutes under a reduced pressure of -35 DEG C, and the residual moisture was removed by volatilization to obtain copper particles (A) having modified particle surfaces.

[페놀 수지 용액 (제 1 비이클) 의 조제][Preparation of phenol resin solution (first vehicle)] [

레졸형 페놀 수지 (군에이 화학사 제조, 상품명:레지탑 PL2211, 메탄올 용액, 수지 고형분 약 50 질량%) 100 g 에, 에틸카르비톨 50 g 을 첨가하여 30 ℃ 로 유지하면서 감압 탈기하였다. 이렇게 하여, 메탄올을 제거하여, 레졸형 페놀 수지의 에틸카르비톨 용액을 조제하였다. 이어서, 얻어진 수지 용액의 일부를 꺼내, 200 ℃ 에서 증발 건고시킴으로써 수지 고형분 농도를 측정하였다. 그리고, 이 측정값을 기초로 하여, 레졸형 페놀 수지의 고형분 농도가 50 질량% 인 에틸카르비톨 용액 (제 1 비이클) 을 조제하였다.50 g of ethyl carbitol was added to 100 g of a resol type phenol resin (trade name: REGITT PL2211, methanol solution, resin solid content: about 50% by mass, manufactured by Guyi Ain Kagaku Co., Ltd.), and the autoclave was degassed under reduced pressure while being maintained at 30 캜. Thus, methanol was removed to prepare an ethylcarbitol solution of the resol-type phenol resin. Subsequently, a part of the obtained resin solution was taken out and evaporated to dryness at 200 DEG C to measure the resin solid content concentration. Based on these measured values, an ethyl carbitol solution (first vehicle) having a solids concentration of 50% by mass of the resol-type phenol resin was prepared.

[틱소트로피성 부여제 (C) 의 첨가 및 교반·혼합][Addition of thixotropic property-imparting agent (C) and stirring / mixing)

상기에서 얻어진 제 1 비이클에, 지방산 아마이드왁스를 자일렌 (에탄올, 메탄올 병용) 에 의해 팽윤 처리한 프레 팽윤물 (쿠스모토 화성사 제조, 상품명:디스퍼론 6900-20X, 고형분 20 질량%) 4.2 g 을 첨가하고, 호모게나이저 (KINEMATICA 사 제조, 장치명:Polytron PT10/35 GT Benchtop Homogenizer, PTA10S 샤프트) 를 사용하여, 1000 ∼ 1300 rpm 의 회전 속도로 1 분간 혼련하였다. 이렇게 하여, 지방산 아마이드왁스를 제 1 비이클에 분산시켜, 제 2 비이클을 얻었다.To the first vehicle obtained above, 4.2 g of a pre-swollen product (product name: Disperon 6900-20X, solid content 20% by mass, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.) in which fatty acid amide wax was swollen with xylene (for ethanol and methanol) And the mixture was kneaded for 1 minute at a rotational speed of 1000 to 1300 rpm using a homogenizer (manufactured by KINEMATICA, a device name: Polytron PT10 / 35 GT Benchtop Homogenizer, PTA10S shaft). Thus, the fatty acid amide wax was dispersed in the first vehicle to obtain the second vehicle.

[도전 페이스트의 조제][Preparation of conductive paste]

이어서, 제 2 비이클 104.2 g 에, 상기 구리 입자 (A) 317 g 을 첨가하고, 자전·공전 믹서 (싱키사 제조, 장치명:아와토리 렌타로 ARE-310) 를 이용하여, 2000 rpm 으로 1 분간 혼련하고, 2200 rpm 으로 0.5 분간 탈포 조작을 실시하여, 도전 페이스트 (1) 를 얻었다. 또한, 이 도전 페이스트 (1) 중에서의 지방산 아마이드왁스 (고형분) 의 함유 비율은 0.2 질량% 였다.Then, 317 g of the copper particles (A) was added to 104.2 g of the second vehicle, and the mixture was stirred at 2000 rpm for 1 minute using a rotary mixer (manufactured by Singkis Co., Ltd., apparatus: ARE- Kneaded, and defoaming operation was performed at 2200 rpm for 0.5 minute to obtain conductive paste (1). The content ratio of the fatty acid amide wax (solid content) in the conductive paste 1 was 0.2 mass%.

(예 2)(Example 2)

지방산 아마이드왁스의 자일렌에 의한 프레 팽윤물인 디스퍼론 6900-20X 를, 도전 페이스트 전체에 대해, 고형분인 지방산 아마이드왁스의 함유 비율로서 0.8 질량% 가 되도록 첨가하였다. 그 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (2) 를 얻었다.Disperson 6900-20X, which is a pre-swollen product of xylene of fatty acid amide wax, was added to the entire conductive paste so that the content of fatty acid amide wax was 0.8% by mass. A conductive paste 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

(예 3)(Example 3)

제 2 비이클의 조제 공정에 있어서, 호모게나이저 대신 스터러 (야마토 과학사 제조, 장치명:MG600H) 를 사용하여, 레졸형 페놀 수지의 에틸카르비톨 용액에 디스퍼론 6900-20X 를 첨가한 혼합물을 30 ∼ 100 rpm 의 회전 속도로 10 분간 교반하였다. 그 이외에는 예 1 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (3) 를 얻었다.In the preparation of the second vehicle, a mixture obtained by adding Disperon 6900-20X to the ethyl carbitol solution of the resol-type phenol resin was prepared by using a stirrer (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd., apparatus name: MG600H) in place of the homogenizer, And the mixture was stirred at a rotation speed of 100 rpm for 10 minutes. A conductive paste 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

(예 4 ∼ 6)(Examples 4 to 6)

지방산 아마이드왁스의 자일렌에 의한 프레 팽윤물인 디스퍼론 6900-20X 를, 도전 페이스트 전체에 대해, 고형분인 지방산 아마이드왁스의 함유 비율로서 예 4 에서는 0.4 질량%, 예 5 에서는 0.8 질량%, 예 6 에서는 1.0 질량% 가 되도록 각각 첨가하였다. 그 이외에는 예 3 과 동일하게 하여 도전 페이스트 4 ∼ 6 을 얻었다.Disperone 6900-20X, which is a pre-swelling product of fatty acid amide wax by xylene, was 0.4% by mass in Example 4, 0.8% by mass in Example 5, and 6% by mass in Example 6 as the content ratio of the solid fatty acid amide wax to the entire conductive paste 1.0% by mass, respectively. Other than that, conductive pastes 4 to 6 were obtained in the same manner as in Example 3.

(예 7)(Example 7)

디스퍼론 6900-20X 대신에, 지방산 아마이드왁스를 미네랄 터펜 (벤질알코올 병용) 에 의해 팽윤 처리한 프레 팽윤물 (쿠스모토 화성사 제조, 상품명:디스퍼론 A670-30M, 고형분 30 질량%) 을, 도전 페이스트 전체에 대해, 고형분인 지방산 아마이드왁스의 함유 비율이 1.0 질량% 가 되도록 첨가하였다. 그 이외에는 예 3 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (7) 를 얻었다.(Disperson A670-30M, solid content 30% by mass, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.) swollen with a fatty acid amide wax with a mineral terpene (for benzyl alcohol combination) instead of Disperon 6900-20X, The content of the solid fatty acid amide wax in the paste was 1.0% by mass. A conductive paste 7 was obtained in the same manner as in Example 3 except for the above.

(예 8)(Example 8)

제 1 비이클에 지방산 아마이드왁스를 첨가하지 않고, 스터러에 의한 교반만을 실시하였다. 그 이외에는 예 3 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (8) 를 얻었다.Only the stirrer was performed without adding the fatty acid amide wax to the first vehicle. A conductive paste 8 was obtained in the same manner as in Example 3 except for the above.

(예 9)(Example 9)

지방산 아마이드왁스를 팽윤 처리하지 않고, 그대로 사용하였다. 그리고, 지방산 아마이드왁스가 도전 페이스트 전체에 대해 0.2 질량% 의 함유 비율이 되도록 첨가하였다. 그 이외에는 예 3 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (9) 를 얻었다.The fatty acid amide wax was used without any swelling treatment. Then, the fatty acid amide wax was added so as to have a content ratio of 0.2 mass% with respect to the entire conductive paste. A conductive paste 9 was obtained in the same manner as in Example 3 except for the above.

(예 10)(Example 10)

디스퍼론 6900-20X 대신에, 지방산 아마이드왁스를 알킬시클로헥산으로 팽윤 처리한 프레 팽윤물 (쿠스모토 화성사 제조, 상품명:디스퍼론 PFA131, 고형분 10 질량%) 을, 도전 페이스트 전체에 대해, 고형분인 지방산 아마이드왁스의 함유 비율이 1.0 질량% 가 되도록 첨가하였다. 그 이외에는 예 3 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (10) 를 얻었다.(Disperon PFA131, solid content 10% by mass, manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd.) in which fatty acid amide wax was swollen with alkylcyclohexane was used in place of Disperon 6900-20X, So that the content of the fatty acid amide wax was 1.0% by mass. A conductive paste 10 was obtained in the same manner as in Example 3 except for the above.

(예 11)(Example 11)

디스퍼론 6900-20X 대신에, 공지된 틱소트로피성 부여제인 산화 폴리에틸렌 (쿠스모토 화성사 제조, 상품명;PF911, 고형분 10 질량%) 을, 도전 페이스트 전체에 대해, 산화 폴리에틸렌이 1.0 질량% 의 함유 비율이 되도록 첨가하였다. 그 이외에는 예 3 과 동일하게 하여 도전 페이스트 (11) 를 얻었다.(PF911, solid content 10% by mass), which is a known thixotropic property-imparting agent (manufactured by Kusumoto Chemical Co., Ltd., trade name, solid content 10% by mass), was used in place of Disperon 6900-20X in a content ratio of 1.0% by mass of polyethylene oxide . A conductive paste 11 was obtained in the same manner as in Example 3 except for the above.

다음으로, 예 1 ∼ 11 에서 얻어진 도전 페이스트 1 ∼ 11 에 대해, 이하에 나타내는 인쇄성 평가 시험을 실시하였다. 또, 도전 페이스트 (1 ∼ 11) 를 유리 기판 위에 스크린 인쇄법에 의해 도포하고, 도포막을 가열·경화시켜 얻어진 도전막의 체적 저항률을 측정하였다. 이들의 결과를, 지방산 아마이드왁스의 함유 비율, 비이클의 교반 수단 등과 함께 표 1 에 나타낸다.Next, for the conductive pastes 1 to 11 obtained in Examples 1 to 11, the following printing evaluation test was carried out. The conductive paste (1 to 11) was applied on a glass substrate by a screen printing method, and the volume resistivity of the conductive film obtained by heating and curing the coating film was measured. These results are shown in Table 1 together with the content ratio of the fatty acid amide wax, means for stirring the vehicle, and the like.

<인쇄성 평가 시험><Printability Evaluation Test>

도 1 에 나타내는, L/S 가 75 ㎛/75 ㎛ 의 패턴을 갖는 스크린판 (토쿄 프로세스사 제조) 을, 스크린 인쇄기 (마이크로·텍사 제조, 장치명:MT-750) 에 장착하였다. 이 스크린 인쇄기를 이용하여, 예 1 ∼ 11 에서 얻어진 도전 페이스트를 두께 1.1 ㎜ 의 유리 기판 위에 스크린 인쇄하였다. 스퀴지 각도를 70 도, 스퀴지 압력을 0.25 ㎫, 스퀴지 속도를 50 ㎜/min, 스크린판과 유리 기판의 클리어런스를 2.5 ㎜ 로 하여 배선 패턴을 인쇄·형성하였다.A screen plate (manufactured by Tokyo Process Co., Ltd.) having a pattern of L / S of 75 占 퐉 / 75 占 퐉 shown in Fig. 1 was mounted on a screen printing machine (manufactured by Microtex Co., Ltd., MT-750). Using this screen printer, the conductive paste obtained in Examples 1 to 11 was screen-printed on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm. A wiring pattern was printed and formed with a squeegee angle of 70 degrees, a squeegee pressure of 0.25 MPa, a squeegee speed of 50 mm / min, and a clearance of 2.5 mm between the screen plate and the glass substrate.

이어서, 배선 패턴이 인쇄된 유리 기판을, 150 ℃ 로 온도 제어된 온풍 순환식의 오븐에 투입하고, 30 분간 가열하여 레졸형 페놀 수지를 경화시킨 후 꺼내었다. 이렇게 하여 얻어진 배선 패턴을, 레이저 현미경을 이용하여 관찰하고, 배선 부분의 선폭을 임의의 10 점에서 측정하여 평균값을 구하였다. 그리고, 이 선폭의 평균값의, 스크린판의 설계값인 75 ㎛ 에 대한 확대 폭의 비율을, 두께율로서 평가하였다.Subsequently, the glass substrate on which the wiring pattern was printed was placed in an oven of a warm-air circulation type which was temperature-controlled at 150 DEG C, and heated for 30 minutes to cure the resol-type phenol resin and take out the resin. The wiring pattern thus obtained was observed using a laser microscope, and the line width of the wiring portion was measured at arbitrary ten points to obtain an average value. The ratio of the average value of the line width to the design value of 75 mu m as the screen plate was evaluated as the thickness ratio.

<도전체막의 체적 저항률>&Lt; Volume resistivity of conductor film &

가로세로 5 ㎝ 이고 두께 5 ㎜ 의 소다라임 유리판에, 범용의 셀로판 테이프를 이용하여, 길이 40 ㎜, 폭 2 ㎜ 가 되는 직사각형의 패턴을 형성할 수 있도록 마스킹하였다. 그 후, 전술한 도전 페이스트 (1 ∼ 11) 를 유리판 상에 도포하고, 마스킹 테이프의 두께에 알맞게 금속 블레이드를 이용하여 도포량을 조정한 후, 150 ℃ 에서 30 분간 건조시켜, 페이스트 인쇄물을 제조하였다. 이 인쇄물의 길이 방향으로 30 ㎜ 떨어진 2 점에서, 저항값계 (케이스레이사 제조, 장치명:밀리옴하이테스터) 를 이용하여 실효 저항값을 측정하였다. 또, 30 ㎜ 떨어진 2 점간의 정확히 한가운데 부근의 배선 단면 형상을, 표면 거칠기·윤곽 형상 측정기 (토쿄 정밀사 제조, 장치명:서프컴 130A) 를 이용하여 측정하였다. 이들의 값을 기초로, 인쇄 패턴의 체적 저항률을 구하였다.Masking was carried out so that a rectangular pattern having a length of 40 mm and a width of 2 mm could be formed on a soda lime glass plate of 5 cm in length and 5 cm in thickness and using a general cellophane tape. Thereafter, the above-mentioned conductive paste (1 to 11) was applied on a glass plate, and the amount of coating was adjusted using a metal blade in accordance with the thickness of the masking tape, followed by drying at 150 DEG C for 30 minutes. The effective resistance value was measured at two points 30 mm apart in the longitudinal direction of the printed matter by using a resistance value meter (manufactured by Kaseya Co., Ltd., Millimoht Testers). In addition, the cross-sectional shape of the wiring near the center between two points separated by 30 mm was measured using a surface roughness and contour shape measuring instrument (manufactured by TOKYO CORPORATION, name: Surfcom 130A). Based on these values, the volume resistivity of the printed pattern was determined.

Figure pat00002
Figure pat00002

지방산 아마이드왁스를 자일렌 또는 미네랄 터펜에 의해 팽윤 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 가, 지방산 아마이드왁스분으로서 도전 페이스트 전체의 0.05 ∼ 2 질량% 의 비율로 함유되어 있는 예 1 ∼ 7 (본 발명의 실시예) 의 도전성 페이스트에 의하면, 배선 패턴의 두께율이 75 % 이하이고, 스크린 인쇄법에 의해 고정세한 도전 패턴을 형성할 수 있다. 또, 예 1 ∼ 7 의 도전성 페이스트에 의하면, 체적 저항률이 30 ∼ 45 μΩ㎝ 인, 도전성이 양호한 배선 패턴을 형성할 수 있다.Examples 1 to 7 (in which the thixotropic property-imparting agent (C) obtained by swelling the fatty acid amide wax with xylene or mineral terpene is contained in the proportion of 0.05 to 2% by mass of the whole conductive paste as the fatty acid amide wax component According to the conductive paste of the embodiment of the present invention, the thickness ratio of the wiring pattern is 75% or less, and a conductive pattern with high precision can be formed by the screen printing method. Further, according to the conductive pastes of Examples 1 to 7, it is possible to form a wiring pattern having a good volume conductivity with a volume resistivity of 30 to 45 mu OMEGA cm.

그에 반해, 지방산 아마이드왁스를 첨가하지 않는 예 8, 및 지방산 아마이드왁스를 팽윤 처리하지 않고 그대로 사용한 예 9 에서는, 모두 배선 패턴의 두께율이 높아, 실용적이지 않은 것을 알 수 있다. 또한, 지방산 아마이드왁스를 알킬시클로헥산에 의해 팽윤 처리한 프레 팽윤물을 배합한 예 10, 및 공지된 틱소트로피성 부여제인 산화 폴리에틸렌을 배합한 예 11 에서는, 충분한 도전성을 갖는 배선 패턴이 얻어지지 않은 것을 알 수 있다.On the contrary, in Example 8 in which fatty acid amide wax was not added and Example 9 in which fatty acid amide wax was used without swelling treatment, it was found that the thickness ratio of the wiring pattern was high, which is not practical. Further, in Example 10 in which a pre-swollen material obtained by swelling the fatty acid amide wax with alkylcyclohexane was blended and Example 11 in which polyethylene oxide which is a known thixotropic property-imparting agent was blended, a wiring pattern having sufficient conductivity was not obtained .

(예 12 ∼ 15)(Examples 12 to 15)

다음으로, 제 1 비이클에 틱소트로피성 부여제 (C) 를 첨가한 혼합물을 교반하는 각종 수단에 대해, 틱소트로피성 부여제 (C) 에 의한 틱소성 부여에 교반 수단이 미치는 영향의 크기를, 표준 점도를 지표로 하여 평가하였다.Next, with respect to various means for agitating the mixture in which the thixotropic property-imparting agent (C) is added to the first vehicle, the effect of agitation means on the tie-plasticity imparting by the thixotropic property-imparting agent (C) The standard viscosity was evaluated using the index.

먼저, 상기한 예 1 ∼ 7 의 실시예에 있어서, 제 1 비이클에 용매로서 사용한 에틸카르비톨 100 g 에, 틱소트로피성 부여제 (C) 로서 사용한 디스퍼론 6900-20X 를 5 g 첨가하고, 고형분인 지방산 아마이드왁스의 에틸카르비톨에 대한 함유 비율이 1 질량% 가 되는 표준액을 조제하였다. 그리고, 이 표준액을, 예 12 에서는 호모게나이저 (1) (KINEMATICA 사 제조, 장치명:Polytron PT 10/35 GT Benchtop Homogenizer, PTA10S 샤프트) 를 사용하여, 전단 속도 1 sec- 1 로 교반했을 때의 점도 (표준 점도) 를 측정하였다. 또, 예 13 에서는 호모게나이저 (2) (NISSEI 사 제조, 장치명:AM-7) 를, 예 14 에서는 스터러 (야마토 과학사 제조, 장치명:MG-600H) 를, 예 15 에서는 카우레스 디스퍼 (에이코 정기사 제조, 장치명:VMA 디스퍼매트) 를 각각 사용하여, 전단 속도 1 sec- 1 로 교반했을 때의 표준 점도를 각각 측정하였다.First, in Examples 1 to 7 described above, 5 g of Disperon 6900-20X used as a thixotropic property-imparting agent (C) was added to 100 g of ethylcarbitol used as a solvent in the first vehicle, By weight of the fatty acid amide wax to ethyl carbitol was 1% by weight. Then, a standard solution of, for example, 12 in a homogenizer (1): using (KINEMATICA Corp., device name Polytron Homogenizer PT 10/35 GT Benchtop, PTA10S shaft), a shear rate of 1 sec - viscosity when stirred in 1 (Standard viscosity) was measured. A homogenizer 2 (manufactured by NISSEI Corporation, device name: AM-7) was used in Example 13, a stirrer (MG-600H manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) was used in Example 14, and a kaures disper Eiko positive article manufacture, device name: use the VMA disper mats), respectively, shear rate 1 sec - measured standard viscosity when stirred with 1 each.

점도의 측정은, 콘 플레이트형 측정 지그를 사용하여, 레오미터 (Anton-Paar 사 제조, 장치명:MCR301) 에 의해, 상기 표준액의 전단 속도 1 sec- 1 에서의 정상류의 점도를 측정하였다. 측정 결과를 표 2 에 나타낸다.Measurement of the viscosity using a cone plate-type measurement jig, rheometer: a shear rate 1 sec in the standard solution by (Anton-Paar Co., Ltd., device name MCR301) - to measure the viscosity of a steady flow in the first. The measurement results are shown in Table 2.

Figure pat00003
Figure pat00003

표 2 로부터, 교반 수단이 호모게나이저인 예 12 및 예 13 에서는, 표준 점도가 5 Pa·sec 이상이 되는 데에 반해, 교반 수단이 스터러 또는 디스퍼인 예 14 및 예 15 에서는, 표준 점도가 5 Pa·sec 미만이 되어 있는 것을 알 수 있다.From Table 2, it can be seen that in Examples 12 and 13 in which the stirring means is a homogenizer, the standard viscosity is 5 Pa · sec or more, whereas in Examples 14 and 15 in which the stirring means is a stirrer or a dispenser, Is less than 5 Pa · sec.

그리고, 지방산 아마이드왁스의 함유 비율이 동일하고 비이클의 교반 수단만이 상이한 상기한 예 1 과 예 3, 및 예 2 와 예 5 에 있어서의 인쇄성 평가 시험의 결과를 비교함으로써, 틱소트로피성 부여제 (C) 에 의한 틱소성 부여의 효과를 실현하는 관점에서, 표준 점도가 5 Pa·sec 이상이 되는 교반 수단이 우수한 것을 알 수 있다.By comparing the results of the printability evaluation tests in Examples 1 and 3 and Examples 2 and 5 in which the content ratio of the fatty acid amide wax was the same and only the means for agitating the vehicle was different, the thixotropic property- From the viewpoint of realizing the effect of imparting the tie plasticity by the step (C), the stirring means having a standard viscosity of 5 Pa · sec or more is superior.

즉, 예 1 과 예 3 에서는, 도전 페이스트 전체에 대한 지방산 아마이드왁스의 함유 비율이 0.2 질량% 로 동일하고, 비이클의 교반 수단만이 호모게나이저와 스터러로 상이하다. 그리고, 배선 패턴의 두께 비율은, 예 1 이 69 % 인 데에 반해 예 3 이 75 % 로, 호모게나이저를 사용한 예 1 의 인쇄성이 대폭 높아져 있다. 또, 지방산 아마이드왁스의 함유 비율이 0.8 질량% 로 동일하고, 비이클의 교반 수단만이 호모게나이저와 스터러로 상이한 예 2 와 예 5 에 있어서의 인쇄성의 평가도, 예 2 의 배선 패턴의 두께 비율이 55 % 인 데에 반해, 예 5 가 64 % 이고, 호모게나이저를 사용한 예 2 의 인쇄성이 대폭 높아져 있다. 이와 같이, 제 1 비이클과 틱소트로피성 부여제 (C) 의 혼합물을 교반하는 수단으로서, 표준 점도가 5 Pa·sec 이상이 되는 호모게나이저와 같은 수단을 사용함으로써, 틱소트로피성이 보다 양호한 도전 페이스트가 얻어지는 것을 알 수 있다.That is, in Examples 1 and 3, the content ratio of the fatty acid amide wax to the entire conductive paste is 0.2% by mass, and only the stirring means for the vehicle differs from the homogenizer and the stirrer. The thickness ratio of the wiring pattern is 69% in Example 1, whereas 75% in Example 3, and the printability of Example 1 using the homogenizer is greatly increased. Evaluation of printability in Examples 2 and 5 in which the content ratio of the fatty acid amide wax was the same as 0.8 mass% and only the stirring means of the vehicle differs between the homogenizer and the stirrer, and the thickness of the wiring pattern of Example 2 The ratio of Example 5 was 64%, while the printability of Example 2 using homogenizer was greatly increased. Thus, as means for agitating the mixture of the first vehicle and the thixotropic property-imparting agent (C), by using a means such as a homogenizer having a standard viscosity of 5 Pa · sec or more, a better thixotropic property Paste can be obtained.

본 발명을 상세하게 또 특정한 실시양태를 참조하여 설명했는데, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이나 수정을 더할 수 있는 것은, 당업자에게 있어서 명백하다.While the invention has been described in detail and with reference to specific embodiments thereof, it is evident to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.

본 출원은, 2011년 11월 22일에 출원된 일본 특허 출원 2011-255005 에 기초하는 것으로, 그 내용은 여기에 참조로서 받아들여진다.This application is based on Japanese Patent Application No. 2011-255005 filed on November 22, 2011, the content of which is incorporated herein by reference.

Claims (6)

구리 입자 (A) 와, 레졸형 페놀 수지 (B) 와, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 함유하는 도전 페이스트로서,
상기 틱소트로피성 부여제 (C) 의 함유량이, 고형분인 상기 지방산 아마이드왁스로서, 상기 도전 페이스트 전체에 대해 0.05 ∼ 2 질량% 인 것을 특징으로 하는 도전 페이스트.
As a conductive paste containing a copper particle (A), a resol-type phenol resin (B) and a thixotropic property-imparting agent (C) obtained by activating a fatty acid amide wax,
Wherein the content of the thixotropic property-imparting agent (C) is the solid fatty acid amide wax in an amount of 0.05 to 2% by mass based on the whole conductive paste.
제 1 항에 있어서,
상기 틱소트로피성 부여제 (C) 는, 상기 지방산 아마이드왁스가 자일렌에 의해 팽윤 처리된 것인 도전 페이스트.
The method according to claim 1,
Wherein the thixotropic property-imparting agent (C) is obtained by swelling the fatty acid amide wax with xylene.
제 1 항에 있어서,
상기 틱소트로피성 부여제 (C) 는, 상기 지방산 아마이드왁스가 미네랄 터펜에 의해 팽윤 처리된 것인 도전 페이스트.
The method according to claim 1,
Wherein the thixotropic property-imparting agent (C) is obtained by swelling the fatty acid amide wax with a mineral terpene.
(a) 레졸형 페놀 수지 (B) 와 용매 (D) 로 이루어지는 제 1 비이클을 조제하는 공정과,
(b) 상기 제 1 비이클에, 지방산 아마이드왁스를 활성화 처리하여 이루어지는 틱소트로피성 부여제 (C) 를 첨가하고 교반·혼합하여, 제 2 비이클을 조제하는 공정과,
(c) 상기 제 2 비이클에 구리 입자 (A) 를 첨가하여 혼합하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트의 조제 방법.
(a) a step of preparing a first vehicle comprising a resol-type phenol resin (B) and a solvent (D)
(b) adding a thixotropic property-imparting agent (C), which is obtained by activating the fatty acid amide wax, to the first vehicle, stirring and mixing the same to prepare a second vehicle,
(c) adding copper particles (A) to the second vehicle and mixing them.
제 4 항에 있어서,
상기 제 2 비이클을 조제하는 공정에 있어서, 상기 제 1 비이클의 용매 (D) 에 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 를, 고형분인 상기 지방산 아마이드왁스로서, 상기 제 1 비이클의 용매 (D) 에 대해 1 질량% 의 비율로 첨가하여 이루어지는 표준액의 전단 속도 1 sec- 1 에서의 점도가, 5 Pa·sec 이상이 되는 혼련 수단을 이용하여, 상기 제 1 비이클과 상기 틱소트로피성 부여제 (C) 의 혼합물을 교반하는 도전 페이스트의 조제 방법.
5. The method of claim 4,
(C) is added to the solvent (D) of the first vehicle as the solid fatty acid amide wax in the solvent of the first vehicle (D), and the thixotropic property- (C) at a shear rate of 1 sec &lt; -1 &gt; at a shear rate of 5 Pa · sec or higher is used as a standard solution, which is prepared by adding the first vehicle and the thixotropic property imparting agent (C) Is mixed with the conductive paste.
제 5 항에 있어서,
상기 혼련 수단은 호모게나이저인 도전 페이스트의 조제 방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the kneading means is a homogenizer.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105340023B (en) * 2013-06-27 2017-06-13 东丽株式会社 Conductive paste, the manufacture method of conductive pattern and touch panel
KR102623878B1 (en) * 2015-10-14 2024-01-11 교에이샤 케미칼 주식회사 Thixotropic agents and fluxes and solder pastes containing them
CN106356113B (en) * 2016-09-08 2018-04-10 芜湖桑乐金电子科技有限公司 A kind of corrosion-resistant lubricating graphite slurry and preparation method thereof
JP6939015B2 (en) * 2017-03-29 2021-09-22 住友金属鉱山株式会社 Conductive paste for gravure printing for internal electrodes of multilayer ceramic capacitors
JP7037734B2 (en) * 2019-09-05 2022-03-17 日立金属株式会社 Manufacturing method of thermoelectric conversion module
CN111548194A (en) * 2020-05-29 2020-08-18 南京凯泰化学科技有限公司 Preparation method of printed circuit board

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101563731A (en) * 2006-12-26 2009-10-21 住友电木株式会社 Conductive paste
JP2010039396A (en) 2008-08-08 2010-02-18 Jsr Corp Photosensitive paste composition
JP4466250B2 (en) 2004-07-23 2010-05-26 株式会社村田製作所 Base metal powder, resin composition, method for producing base metal powder, method for producing resin composition, method for producing circuit board, and method for producing ceramic multilayer substrate
CN102069314A (en) * 2010-11-26 2011-05-25 深圳市晨日科技有限公司 Solidifying soldering paste used for large-power LED and preparation method thereof

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05128911A (en) * 1991-11-06 1993-05-25 Furukawa Electric Co Ltd:The Conductive paste
JPH05217422A (en) * 1992-02-04 1993-08-27 Kao Corp Conductive paste and conductive coating
JP4871443B2 (en) * 2000-10-13 2012-02-08 株式会社アルバック Method for producing metal ultrafine particle dispersion
JP2003151351A (en) * 2001-08-30 2003-05-23 Kyocera Corp Conductive paste and method of manufacturing ceramic circuit board
JP4935592B2 (en) * 2007-09-13 2012-05-23 昭栄化学工業株式会社 Thermosetting conductive paste

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4466250B2 (en) 2004-07-23 2010-05-26 株式会社村田製作所 Base metal powder, resin composition, method for producing base metal powder, method for producing resin composition, method for producing circuit board, and method for producing ceramic multilayer substrate
CN101563731A (en) * 2006-12-26 2009-10-21 住友电木株式会社 Conductive paste
JP2010039396A (en) 2008-08-08 2010-02-18 Jsr Corp Photosensitive paste composition
CN102069314A (en) * 2010-11-26 2011-05-25 深圳市晨日科技有限公司 Solidifying soldering paste used for large-power LED and preparation method thereof

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