JPWO2016009754A1 - Manufacturing method of conductive resin, conductive resin, conductive paste, and electronic member - Google Patents

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Abstract

本発明の導電樹脂の製造方法は、金属化合物と重合性モノマーとを溶媒に溶解する溶解工程と、金属化合物を溶解する溶媒の存在下で、重合性モノマーを重合する重合工程と、を有している。これにより、高温高湿度などの高負荷条件下に晒された場合においても、優れた導電性を有する導電性樹脂、導電性ペーストおよび電子部材、ならびに導電性樹脂の製造方法を提供することができる。The method for producing a conductive resin of the present invention includes a dissolution step of dissolving a metal compound and a polymerizable monomer in a solvent, and a polymerization step of polymerizing the polymerizable monomer in the presence of a solvent that dissolves the metal compound. ing. Thereby, even when exposed to high load conditions such as high temperature and high humidity, a conductive resin having excellent conductivity, a conductive paste and an electronic member, and a method for producing a conductive resin can be provided. .

Description

本発明は、導電性樹脂の製造方法、導電性樹脂、導電性ペースト及び電子部材に関する。   The present invention relates to a method for producing a conductive resin, a conductive resin, a conductive paste, and an electronic member.

これまで、紙基材フェノール樹脂基板又はガラス布基材エポキシ樹脂基板などのプリント回路基板のランド部にスルーホールを設け、そこに導電性銀ペーストをスクリーン印刷で埋め込み後、加熱硬化してプリント配線板を製造する方法が最近盛んに行われている。しかし、近年は更にファインピッチ化してきているパターン回路においてマイグレーションの問題が多発しており、高導電性化が要求されている。そこで、銅を用いた導電性ペーストが注目されてきている。   Up to now, through holes have been provided in land parts of printed circuit boards such as paper-based phenolic resin substrates or glass cloth-based epoxy resin substrates, and conductive silver paste is embedded in them by screen printing, followed by heat curing and printed wiring. Recently, methods for producing plates have been actively used. However, in recent years, migration problems have frequently occurred in pattern circuits that have become finer pitches, and higher conductivity is required. Therefore, attention has been paid to conductive paste using copper.

たとえば、特許文献1には、樹枝状銅粉を熱硬化性樹脂に混練することで銅ペーストが得られると記載されている。特許文献1に記載の銅ペーストの製造方法は、導電性の低下の原因が強力な分散力をもった混練装置にあることを見出し、弱い分散力で混練する方法を採用している。   For example, Patent Document 1 describes that a copper paste can be obtained by kneading dendritic copper powder into a thermosetting resin. The method for producing a copper paste described in Patent Document 1 finds that the cause of the decrease in conductivity is in a kneading apparatus having a strong dispersion force, and employs a method of kneading with a weak dispersion force.

特開平08−199109号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-199109

特許文献1に記載の銅ペーストの製造方法は、熱硬化性樹脂に銅粉を混練させる工程を採用している。しかしながら、本発明者が検討した結果、上記文献に記載の混練方法では、高温高湿度などの高負荷条件下に晒された場合における導電性に改善の余地があることが見出された。   The method for producing a copper paste described in Patent Document 1 employs a step of kneading copper powder into a thermosetting resin. However, as a result of studies by the present inventors, it has been found that the kneading method described in the above literature has room for improvement in conductivity when exposed to high load conditions such as high temperature and high humidity.

本発明は、以下の構成を含む。
[1]
金属化合物と重合性モノマーとを溶媒に溶解する溶解工程と、
前記金属化合物を溶解する前記溶媒の存在下で、前記重合性モノマーを重合する重合工程と、を含む、
導電性樹脂の製造方法。
[2]
前記重合性モノマーが、水酸基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、イソシアネート基からなる群から選択される一種または二種以上を有する、[1]に記載の導電性樹脂の製造方法。
[3]
前記溶媒が、水、アルコール類、ケトン類、グリコール類からなる群から選択される一種または二種以上を含む、[1]または[2]に記載の導電性樹脂の製造方法。
[4]
前記溶媒が水を含む場合、前記金属化合物および前記重合性モノマーは、前記水に溶解する、[3]に記載の導電性樹脂の製造方法。
[5]
前記金属化合物が、塩化物、フッ化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、過塩素酸塩からなる群から選ばれた金属塩を一種または二種以上含み、
前記金属塩の金属が、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズからなる群から選ばれる、[1]から[4]のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法。
[6]
前記重合性モノマーが、フェノール類、エポキシ化合物、アミン化合物、カルボン酸化合物、無水カルボン酸化合物、チオール化合物、イソシアネート化合物からなる群から選択される一種または二種以上含む、[2]に記載の導電性樹脂の製造方法。
[7]
前記重合性モノマーがフラックス活性を有する、[1]から[6]のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法。
[8]
前記重合性モノマーがフェノール類を含む場合、前記溶媒がさらにアルデヒド類を含み、
前記重合工程は、前記フェノール類と前記アルデヒド類との縮合重合する工程を含む、[6]に記載の導電性樹脂の製造方法。
[9]
前記溶媒が、さらに重合触媒を含む、[1]から[8]のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法。
[10]
[1]から[9]のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法から得られた、導電性樹脂であって、
前記金属化合物に由来する金属微粒子を含む、導電性樹脂。
[11]
前記金属微粒子の含有量が、前記導電性樹脂全体100質量%に対して、0.01質量%以上、25質量%以下である、[10]に記載の導電性樹脂。
[12]
前記金属微粒子のメジアン径が、10nm以上、20μm以下である、[10]または[11]に記載の導電性樹脂。
[13]
[10]から[12]のいずれか1項に記載の導電性樹脂と、導電性微粒子と、を含む、導電性ペースト。
[14]
前記導電性微粒子の含有量が、導電性ペースト全体100質量%に対して、0.1質量%以上、95質量%以下である、[13]に記載の導電性ペースト。
[15]
前記導電性微粒子のメジアン径が、0.1μm以上、100μm以下である、[13]または[14]に記載の導電性ペースト。
[16]
前記導電性微粒子が、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズ、からなる群から選択される一種または二種以上を含む、[13]から[15]のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
[17]
電子部材に用いられる、[13]から[16]のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
[18]
[17]に記載の導電性ペーストを構成部材として備える、電子部材。
The present invention includes the following configurations.
[1]
A dissolution step of dissolving the metal compound and the polymerizable monomer in a solvent;
A polymerization step of polymerizing the polymerizable monomer in the presence of the solvent that dissolves the metal compound,
A method for producing a conductive resin.
[2]
The method for producing a conductive resin according to [1], wherein the polymerizable monomer has one or more selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group, and an isocyanate group.
[3]
The method for producing a conductive resin according to [1] or [2], wherein the solvent contains one or more selected from the group consisting of water, alcohols, ketones, and glycols.
[4]
The method for producing a conductive resin according to [3], wherein when the solvent contains water, the metal compound and the polymerizable monomer are dissolved in the water.
[5]
The metal compound includes one or more metal salts selected from the group consisting of chloride, fluoride, sulfate, nitrate, acetate, perchlorate,
The metal of the metal salt is made of aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, tin. The method for producing a conductive resin according to any one of [1] to [4], which is selected from the group.
[6]
Conductivity according to [2], wherein the polymerizable monomer contains one or more selected from the group consisting of phenols, epoxy compounds, amine compounds, carboxylic acid compounds, carboxylic anhydride compounds, thiol compounds, and isocyanate compounds. For producing a functional resin.
[7]
The method for producing a conductive resin according to any one of [1] to [6], wherein the polymerizable monomer has a flux activity.
[8]
When the polymerizable monomer contains phenols, the solvent further contains aldehydes,
The method for producing a conductive resin according to [6], wherein the polymerization step includes a step of condensation polymerization of the phenols and the aldehydes.
[9]
The method for producing a conductive resin according to any one of [1] to [8], wherein the solvent further contains a polymerization catalyst.
[10]
A conductive resin obtained from the method for producing a conductive resin according to any one of [1] to [9],
A conductive resin containing fine metal particles derived from the metal compound.
[11]
The conductive resin according to [10], wherein the content of the metal fine particles is 0.01% by mass to 25% by mass with respect to 100% by mass of the entire conductive resin.
[12]
The conductive resin according to [10] or [11], wherein the median diameter of the metal fine particles is 10 nm or more and 20 μm or less.
[13]
[10] A conductive paste comprising the conductive resin according to any one of [12] and conductive fine particles.
[14]
The conductive paste according to [13], wherein the content of the conductive fine particles is 0.1% by mass or more and 95% by mass or less with respect to 100% by mass of the entire conductive paste.
[15]
The conductive paste according to [13] or [14], wherein the median diameter of the conductive fine particles is 0.1 μm or more and 100 μm or less.
[16]
The conductive fine particles are made of aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, osmium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, tin. The conductive paste according to any one of [13] to [15], comprising one or more selected from the group.
[17]
The conductive paste according to any one of [13] to [16], which is used for an electronic member.
[18]
An electronic member comprising the conductive paste according to [17] as a constituent member.

本発明によれば、高温高湿度などの高負荷条件下の場合においても、優れた導電性を維持できる導電性樹脂、導電性ペーストおよび電子部材、ならびに導電性樹脂の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a conductive resin, a conductive paste and an electronic member, and a method for producing a conductive resin that can maintain excellent conductivity even under high load conditions such as high temperature and high humidity. it can.

本実施形態に係る導電性樹脂の製造方法は、金属化合物と重合性モノマーとを溶媒に溶解する溶解工程と、当該金属化合物を溶解する溶媒の存在下で、重合性モノマーを重合する重合工程と、を有している。   The method for producing a conductive resin according to the present embodiment includes a dissolution step of dissolving a metal compound and a polymerizable monomer in a solvent, and a polymerization step of polymerizing the polymerizable monomer in the presence of the solvent that dissolves the metal compound. ,have.

発明者が検討したところ、金属化合物を溶解する溶媒の存在下で、重合性モノマーを重合することにより、重合性モノマーが重合することで構成された樹脂の中に、当該金属化合物由来の金属が、非常によく分散することが判明した。詳細なメカニズムは定かでないが、重合性モノマーが金属化合物由来の金属との配位結合を維持しながら重合するために、当該金属が樹脂中に配位することになり、かかる金属が導電性樹脂中に非常によく分散することになる、と考えられる。これにより、金属粒子の分散性に優れた導電性樹脂が得ることができる。   As a result of investigation by the inventor, a metal derived from the metal compound is contained in a resin formed by polymerizing the polymerizable monomer by polymerizing the polymerizable monomer in the presence of a solvent that dissolves the metal compound. Turned out to be very well dispersed. Although the detailed mechanism is not clear, since the polymerizable monomer is polymerized while maintaining the coordinate bond with the metal derived from the metal compound, the metal is coordinated in the resin, and the metal is a conductive resin. It is thought that it will disperse very well inside. Thereby, the electroconductive resin excellent in the dispersibility of a metal particle can be obtained.

本実施形態によれば、上記導電性樹脂の製造方法で得られた導電性樹脂は、高温高湿度などの高負荷条件下の場合においても、優れた導電性を維持することが可能になる導電ペーストを構成することが可能になる。   According to the present embodiment, the conductive resin obtained by the above-described method for producing a conductive resin is capable of maintaining excellent conductivity even under high load conditions such as high temperature and high humidity. It becomes possible to compose a paste.

(導電性樹脂の製造方法)
本実施形態の導電性樹脂の製造方法について説明する。
(Method for producing conductive resin)
The manufacturing method of the conductive resin of this embodiment is demonstrated.

本実施形態に係る導電性樹脂の製造方法は、溶解工程と重合工程とを有している。上記溶解工程は、金属化合物と重合性モノマーとを溶媒(以下、「溶解工程に用いる溶媒」と呼称してもよい)に溶解する。上記重合工程では、金属化合物を溶解する溶媒の存在下で、重合性モノマーを重合する。
本発明者は、かかる重合工程において、金属化合物に由来する金属が、重合性モノマーが重合した樹脂中に配位している導電性樹脂を得ることができると推察している。
The manufacturing method of the conductive resin which concerns on this embodiment has a melt | dissolution process and a superposition | polymerization process. In the dissolution step, the metal compound and the polymerizable monomer are dissolved in a solvent (hereinafter also referred to as “solvent used in the dissolution step”). In the polymerization step, the polymerizable monomer is polymerized in the presence of a solvent that dissolves the metal compound.
The inventor presumes that in such a polymerization step, a conductive resin in which a metal derived from a metal compound is coordinated in a resin in which a polymerizable monomer is polymerized can be obtained.

本実施形態では、導電性樹脂組成物は、上記導電性樹脂と溶媒(本明細書の定義上、溶解工程に用いる溶媒とは別概念とする)とを含むものとする。当該導電性樹脂組成物は、導電性樹脂や溶媒の他の成分を含んでいていてもよい。使用目的に応じて、適切な溶媒の種類や含有量が選択することができる。   In this embodiment, a conductive resin composition shall contain the said conductive resin and a solvent (it is set as a concept different from the solvent used for a melt | dissolution process on the definition of this specification). The conductive resin composition may contain other components of the conductive resin and the solvent. Depending on the purpose of use, an appropriate solvent type and content can be selected.

以下、本実施形態の導電性樹脂の製造方法に用いられる成分として、溶媒、重合性モノマー、および金属化合物について主に説明する。   Hereinafter, a solvent, a polymerizable monomer, and a metal compound are mainly demonstrated as a component used for the manufacturing method of the conductive resin of this embodiment.

本実施形態の溶解工程に用いる溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、水;メタノールやエタノールなどのアルコール類;アセトンやシクロヘキサノンなどのケトン類;エチレングリコールやジエチレングリコールなどのグリコール類、などが挙げられる。これらを単独で使用、又は2種類以上組み合わせて使用することができる。これらの中でも、金属化合物を溶解し易いこと、また環境面での負荷も少なく、ハンドリング良く取り扱うことが可能となることから、水を用いることが好ましい。   The solvent used in the dissolution step of the present embodiment is not particularly limited. For example, water; alcohols such as methanol and ethanol; ketones such as acetone and cyclohexanone; glycols such as ethylene glycol and diethylene glycol; Etc. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use water because it is easy to dissolve the metal compound, and it can be handled with good handling with little environmental load.

本実施形態において、溶媒可溶性金属化合物とは、溶解工程に用いる溶媒中に溶解する特性を有する金属化合物を意味する。また、溶媒可溶性モノマーとは、溶解工程に用いる溶媒中に溶解する特性を有する重合性モノマーを意味する。
例えば、本実施形態において、溶解工程に用いる溶媒として水を用いる場合には、金属化合物および重合性モノマーは、それぞれ水溶性金属化合物および水溶性モノマーを用いることができる。
In the present embodiment, the solvent-soluble metal compound means a metal compound having a property of being dissolved in a solvent used in the dissolution step. The solvent-soluble monomer means a polymerizable monomer having a property of being dissolved in the solvent used in the dissolution step.
For example, in this embodiment, when water is used as the solvent used in the dissolution step, a water-soluble metal compound and a water-soluble monomer can be used as the metal compound and the polymerizable monomer, respectively.

本実施形態の金属化合物としては、特に限定されないが、例えば、塩化物、フッ化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、過塩素酸塩からなる金属塩から選択される一種または二種以上を用いることができる。
当該金属塩を構成する金属としては、特に限定されないが、例えば、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズからなる金属群から選択される一種または二種以上の金属を用いることができる。これらを単独で使用、又は2種類以上組み合わせて使用することができる。これらの中でも、コスト及びマイグレーション抑制の観点では、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅、酢酸銅、がより好ましい。
Although it does not specifically limit as a metal compound of this embodiment, For example, using 1 type, or 2 or more types selected from the metal salt which consists of a chloride, fluoride, a sulfate, nitrate, acetate, and a perchlorate is used. Can do.
The metal constituting the metal salt is not particularly limited. For example, aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, osmium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium One or two or more metals selected from the metal group consisting of calcium, silver, vanadium, and tin can be used. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, copper chloride, copper sulfate, copper nitrate, and copper acetate are more preferable from the viewpoint of cost and migration suppression.

本実施形態の重合性モノマーは、特に限定されないが、例えば、縮合重合または付加重合等の重合タイプから、適宜選択できる。この重合性モノマーは、一種または二種以上用いてもよい。
上記重合性モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、フェノール類、エポキシ化合物、アミン化合物、カルボン酸化合物、無水カルボン酸化合物、チオール化合物、イソシアネート化合物、などが挙げられる。これらを単独で使用、又は2種類以上組み合わせて使用することができる。
Although the polymerizable monomer of this embodiment is not specifically limited, For example, it can select suitably from polymerization types, such as condensation polymerization or addition polymerization. One or two or more of these polymerizable monomers may be used.
Although it does not specifically limit as said polymerizable monomer, For example, phenols, an epoxy compound, an amine compound, a carboxylic acid compound, a carboxylic anhydride compound, a thiol compound, an isocyanate compound etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

また、本実施形態の重合性モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、水酸基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、イソシアネート基、などの極性基(極性官能基)を有してもよい。これにより、上記重合性モノマーは、溶液中で金属原子との配位結合を形成することができると推察される。   In addition, the polymerizable monomer of the present embodiment is not particularly limited. For example, the polymerizable monomer may have a polar group (polar functional group) such as a hydroxyl group, an epoxy group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group, and an isocyanate group. Good. Thereby, it is guessed that the said polymerizable monomer can form a coordinate bond with a metal atom in a solution.

本実施形態の重合性モノマーは、フラックス活性を有していてもよい。例えば、上記重合性モノマーに電子供与性のある官能基を導入することにより、フラックス活性を発揮させることが可能になる。電子供与性のある官能基としては、特に限定されないが、例えば、水酸基、エポキシ基、カルボキシル基等が用いられる。これらの中でも、電子供与性の観点から、水酸基を有する重合性モノマーが好ましく、具体的には、フェノール類がより好ましい。これにより、詳細なメカニズムは定かでないが、本実施形態の製造工程において、金属化合物を還元することができるので、樹脂中に高分散している当該金属化合物由来の金属粒子も還元状態が維持されて、高い導電性を発揮できる、と考えられる。   The polymerizable monomer of this embodiment may have flux activity. For example, flux activity can be exhibited by introducing an electron-donating functional group into the polymerizable monomer. Although it does not specifically limit as a functional group with an electron-donating property, For example, a hydroxyl group, an epoxy group, a carboxyl group etc. are used. Among these, from the viewpoint of electron donating property, a polymerizable monomer having a hydroxyl group is preferable, and specifically, phenols are more preferable. Thus, although the detailed mechanism is not clear, in the manufacturing process of the present embodiment, the metal compound can be reduced, so that the metal particles derived from the metal compound highly dispersed in the resin are maintained in the reduced state. Therefore, it is considered that high conductivity can be exhibited.

本実施形態において、上記フェノール類としては、特に限定されるものではないが、例えば、フェノール;o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール等のクレゾール;2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール等のキシレノール;o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール等のエチルフェノール;イソプロピルフェノール、ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノール等のブチルフェノール;p−tert−アミルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノニルフェノール、p−クミルフェノール等のアルキルフェノール;フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール;p−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の1価フェノール置換体;及び1−ナフトール、2−ナフトール等のナフトール、等の1価のフェノール類、ならびに、レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシナフタリン等の多価フェノール類が挙げられる。これらを単独で使用、又は2種類以上組み合わせて使用することができる。   In the present embodiment, the phenols are not particularly limited. For example, phenol; cresols such as o-cresol, m-cresol, and p-cresol; 2,3-xylenol, 2,4-xylenol Xylenol such as 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol; ethylphenol such as o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol; isopropylphenol, Butylphenol such as butylphenol and p-tert-butylphenol; alkylphenol such as p-tert-amylphenol, p-octylphenol, p-nonylphenol and p-cumylphenol; fluorophenol, chlorophenol, bromophenol, iodine Monovalent phenols such as p-phenylphenol, aminophenol, nitrophenol, dinitrophenol and trinitrophenol; and monovalent phenols such as 1-naphthol and 2-naphthol. Examples include phenols and polyhydric phenols such as resorcin, alkylresorcin, pyrogallol, catechol, alkylcatechol, hydroquinone, alkylhydroquinone, phloroglucin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and dihydroxynaphthalene. These can be used alone or in combination of two or more.

本実施形態において、上記フェノール類を用いる場合には、たとえば、重合性モノマーとして、さらにアルデヒド類を用いることができる。すなわち、本実施形態の溶解工程は、フェノール類とアルデヒド類とを、溶解工程に用いる溶媒に溶解する工程を有しても良い。これにより、フェノール類とアルデヒド類との低分子量縮重合体(フェノール樹脂)を容易に合成することができる。これらのフェノール類とアルデヒド類は、水溶性を示す。   In the present embodiment, when the phenols are used, for example, aldehydes can be further used as the polymerizable monomer. That is, the dissolution step of this embodiment may include a step of dissolving phenols and aldehydes in a solvent used in the dissolution step. Thereby, the low molecular weight condensation polymer (phenol resin) of phenols and aldehydes is easily compoundable. These phenols and aldehydes show water solubility.

上記アルデヒド類としては、特に限定されるものではないが、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ポリオキシメチレン、クロラール、ヘキサメチレンテトラミン、フルフラール、グリオキザール、n−ブチルアルデヒド、カプロアルデヒド、アリルアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、アクロレイン、テトラオキシメチレン、フェニルアセトアルデヒド、o−トルアルデヒド、サリチルアルデヒド等が挙げられる。これらを単独で使用、又は2種類以上組み合わせて使用することができる。これらの中でも、反応性及び硬化性の観点から、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドを用いることが好ましい。   The aldehydes are not particularly limited. For example, formaldehyde, paraformaldehyde, trioxane, acetaldehyde, propionaldehyde, polyoxymethylene, chloral, hexamethylenetetramine, furfural, glyoxal, n-butyraldehyde, capro Examples include aldehyde, allyl aldehyde, benzaldehyde, crotonaldehyde, acrolein, tetraoxymethylene, phenylacetaldehyde, o-tolualdehyde, salicylaldehyde and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use formaldehyde and paraformaldehyde from the viewpoints of reactivity and curability.

また、上記エポキシ化合物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ、ビスフェノールF型エポキシ、臭素化ビスフェノール型エポキシ等のビスフェノール型エポキシ;ビフェニル型エポキシ;ビフェニルアラルキル型エポキシ;スチルベン型エポキシ;ナフタレン型エポキシ;ジシクロペンタジエン型エポキシ;ジヒドロキシベンゼン型エポキシ;グリシジルエステル;グリシジルアミン等が挙げられる。これらのうちの1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Further, the epoxy compound is not particularly limited. For example, bisphenol type epoxy such as bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, brominated bisphenol type epoxy; biphenyl type epoxy; biphenyl aralkyl type epoxy; stilbene Type epoxy; naphthalene type epoxy; dicyclopentadiene type epoxy; dihydroxybenzene type epoxy; glycidyl ester; glycidyl amine and the like. One or more of these can be used in combination.

本実施形態において、さらに、触媒を用いることができる。当該触媒は、本実施形態の重合性モノマーの重合を促進させることができる重合触媒である。かかる触媒は、溶解工程に用いる溶媒に加えることにより用いてもよい。これにより、溶媒可溶性モノマーを含む原料成分からなる低分子量重合体を容易に合成することができる。
本実施形態の触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、フェノール類とアルデヒド類とを用いる場合、蓚酸、塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸等の酸性触媒、又は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基性触媒を用いることができる。
In this embodiment, a catalyst can be further used. The catalyst is a polymerization catalyst that can promote the polymerization of the polymerizable monomer of the present embodiment. Such a catalyst may be used by adding to the solvent used in the dissolution step. Thereby, the low molecular weight polymer which consists of a raw material component containing a solvent-soluble monomer is easily compoundable.
The catalyst of the present embodiment is not particularly limited. For example, when phenols and aldehydes are used, an acidic catalyst such as oxalic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, toluenesulfonic acid, or lithium hydroxide, water Basic catalysts such as sodium oxide, magnesium hydroxide, barium hydroxide, calcium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia and triethylamine can be used.

本実施形態において、例えば、フェノール類と、アルデヒド類とを含む原料成分を、蓚酸、塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸等の酸性触媒の存在下、フェノール類(P)に対するアルデヒド類(F)の反応モル比(F/P)を、特に限定されないが、例えば、0.5以上、0.9以下とすることにより、Bステージのノボラック型フェノール樹脂を合成することができる。一方、フェノール類と、アルデヒド類とを含む原料成分を、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基性触媒の存在下、フェノール類(P)に対するアルデヒド類(F)の反応モル比(F/P)を、特に限定されないが、例えば、1.0以上、3.0以下とすることにより、Bステージのレゾール型フェノール樹脂を合成することができる。   In the present embodiment, for example, a raw material component containing phenols and aldehydes is reacted with aldehydes (F) with phenols (P) in the presence of an acidic catalyst such as oxalic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, and toluenesulfonic acid. Although the molar ratio (F / P) is not particularly limited, for example, a B-stage novolac-type phenol resin can be synthesized by setting the molar ratio to 0.5 or more and 0.9 or less. On the other hand, in the presence of a basic catalyst such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, magnesium hydroxide, barium hydroxide, calcium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, triethylamine, etc., the raw material components containing phenols and aldehydes The reaction molar ratio (F / P) of the aldehydes (F) to the phenols (P) is not particularly limited. For example, by setting the reaction molar ratio to 1.0 or more and 3.0 or less, a B-stage resol type phenol Resins can be synthesized.

(導電性樹脂)
本実施形態に係る導電性樹脂について説明する。
本実施形態の導電性樹脂は、金属化合物由来の金属粒子(以下、金属微粒子と呼称してもよい)を有している。金属微粒子を構成する金属原子は、上記導電性樹脂の内部及び/又は表面に分散した状態で存在することができる。導電性樹脂の官能基(極性官能基)と金属原子とが配位結合を形成していると推察されるためである。
(Conductive resin)
The conductive resin according to this embodiment will be described.
The conductive resin of the present embodiment has metal particles derived from a metal compound (hereinafter may be referred to as metal fine particles). The metal atoms constituting the metal fine particles can be present in a dispersed state inside and / or on the surface of the conductive resin. This is because it is presumed that the functional group (polar functional group) of the conductive resin and the metal atom form a coordinate bond.

また、本実施形態に係る導電性樹脂組成物は、上記導電性樹脂と溶媒とを含むものである。本実施形態の導電性樹脂組成物の溶媒としては、特に限定されないが、例えば、導電性ペーストに用いられる溶剤と同種のものから選択してもよい。かかる溶媒としては、溶剤と同じ種類でも異なる種類でもよいが、同じ種類を用いることにより、導電性樹脂組成物を導電性ペーストに好適に用いることができる。   Moreover, the conductive resin composition according to the present embodiment includes the conductive resin and a solvent. Although it does not specifically limit as a solvent of the conductive resin composition of this embodiment, For example, you may select from the same kind as the solvent used for a conductive paste. Such a solvent may be the same or different from the solvent, but by using the same type, the conductive resin composition can be suitably used for the conductive paste.

本実施形態において、導電性樹脂の極性官能基と金属原子との配位結合の有無を調べるには次のような方法が挙げられる。例えば、X線光電子分光法(ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis))において、上記導電性樹脂を分析した際に、導電性樹脂の極性官能基と金属原子との結合が観察されることになる。   In the present embodiment, the following method can be used to examine the presence or absence of a coordinate bond between a polar functional group of a conductive resin and a metal atom. For example, when the conductive resin is analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA (Electron Spectroscopic for Chemical Analysis)), a bond between a polar functional group of the conductive resin and a metal atom is observed.

かかる分析方法を利用した一例として、重合性モノマーが重合して合成された樹脂が、例えば、フェノール樹脂である場合を用いて説明する。
この場合、金属微粒子を構成する金属原子は、フェノール樹脂中の酸素原子に配位することになる。配位結合を形成する酸素原子は、フェノール樹脂が有しているフェノール性水酸基に限定されず、これ以外の官能基に由来する酸素原子であってもよい。このように種々の官能基に由来する酸素原子と金属原子とが相互作用することが可能である。
As an example using such an analysis method, a case where a resin synthesized by polymerization of a polymerizable monomer is, for example, a phenol resin will be described.
In this case, metal atoms constituting the metal fine particles are coordinated to oxygen atoms in the phenol resin. The oxygen atom forming the coordination bond is not limited to the phenolic hydroxyl group possessed by the phenol resin, and may be an oxygen atom derived from a functional group other than this. In this way, oxygen atoms and metal atoms derived from various functional groups can interact.

本実施形態において、上記金属微粒子の含有量の下限値は、導電性樹脂全体100質量%に対して、特に限定されるものではないが、0.01質量%以上が好ましく、0.05質量%以上がより好ましい。金属微粒子の含有量の上限値は、特に限定されないが、例えば、25質量%以下が好ましく、15質量%以下がより好ましい。本実施形態では、導電性樹脂中に上記含有量の範囲の金属微粒子を含ませることができる。上記下限値以上とすることにより、導電性の耐湿信頼性を高める効果を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、溶媒可溶性金属化合物及び/又は還元された金属がシンタリング(凝集)することなく、適正なサイズの金属微粒子を得ることができる。   In the present embodiment, the lower limit of the content of the metal fine particles is not particularly limited with respect to 100% by mass of the entire conductive resin, but is preferably 0.01% by mass or more, and 0.05% by mass. The above is more preferable. Although the upper limit of content of metal fine particles is not specifically limited, For example, 25 mass% or less is preferable and 15 mass% or less is more preferable. In the present embodiment, the fine metal particles in the above content range can be included in the conductive resin. By setting it to the above lower limit or more, it is possible to obtain an effect of improving the reliability of moisture resistance. Moreover, by setting it as the above upper limit value or less, metal fine particles having an appropriate size can be obtained without sintering (aggregation) of the solvent-soluble metal compound and / or the reduced metal.

本実施形態において、上記金属微粒子のメジアン径は、特に限定されるものではないが、10nm以上、20μm以下であることが好ましく、20nm以上、5μm以下であることがより好ましい。上記範囲内とすることにより、後述する導電性ペースト中の導電性微粒子との相乗効果により、導電性ペーストにおける導電性をより高める効果を得ることができる。   In the present embodiment, the median diameter of the metal fine particles is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more and 20 μm or less, and more preferably 20 nm or more and 5 μm or less. By setting it within the above range, an effect of further increasing the conductivity in the conductive paste can be obtained by a synergistic effect with the conductive fine particles in the conductive paste described later.

本実施形態において、金属粒子の粒径は、たとえば透過型電子顕微鏡(TEM)により観察することで決定することができる。より具体的には、樹脂の表面を透過型電子顕微鏡(TEM)にて観察し、任意に選んだ金属粒子100点についてその粒径を測定し、この平均値として金属粒子の平均粒径とすることができる。   In the present embodiment, the particle size of the metal particles can be determined by observing with a transmission electron microscope (TEM), for example. More specifically, the surface of the resin is observed with a transmission electron microscope (TEM), the particle size is measured for 100 arbitrarily selected metal particles, and this average value is used as the average particle size of the metal particles. be able to.

ここで、本実施形態の導電性樹脂中において、金属微粒子の金属原子が非常に優れた分散性を発揮しているメカニズムについて、発明者の推察を述べる。
まず、溶媒中に均一溶解した時点での溶媒可溶性金属化合物は、分子レベルで溶媒中に分散しているものと推定される。次いで、溶媒に溶解した溶媒可溶性モノマーと溶媒可溶性金属化合物とを混合した場合、溶媒可溶性モノマーと溶媒可溶性金属化合物とは配位結合を形成すると考えられ、均一溶解することにより、分子レベルで分散しているものと推定される。溶媒可溶性モノマーは、配位結合を形成することができる極性基(官能基)を有することができる。これらの極性基はそれぞれ1対の電子対を有しており、この電子対と金属との間にキレーションが形成されると推定される。
このとき、溶剤溶解性モノマーとしてフラックス活性を有するモノマーを用いた場合には、溶媒可溶性金属化合物は還元された状態となっているものと推定される。
その後、溶媒可溶性モノマーを出発原料成分とした合成反応の過程において、溶媒可溶性金属化合物及び/又は還元された金属は、溶媒可溶性モノマーと配位結合を維持することができる。このため、溶媒可溶性金属化合物及び/又は還元された金属のシンタリング(凝集)の進行を抑制できると推定される。従って、得られる導電性樹脂中に存在する金属微粒子は細かく、且つ導電性樹脂中での分散度は非常に高くなることが推定される。このように導電性樹脂中に存在する金属微粒子は、導電性樹脂の内部及び/又は表面に分散した状態で存在することになると考えられる。したがって、本実施形態においては、導電性の耐湿信頼性を高める効果が得られるものと考えられる。
Here, the inventor's inference will be described with respect to a mechanism in which the metal atom of the metal fine particle exhibits very excellent dispersibility in the conductive resin of the present embodiment.
First, it is presumed that the solvent-soluble metal compound when uniformly dissolved in the solvent is dispersed in the solvent at the molecular level. Next, when the solvent-soluble monomer and the solvent-soluble metal compound dissolved in the solvent are mixed, the solvent-soluble monomer and the solvent-soluble metal compound are considered to form a coordination bond, and are dispersed at the molecular level by being uniformly dissolved. It is estimated that The solvent-soluble monomer can have a polar group (functional group) capable of forming a coordination bond. Each of these polar groups has a pair of electrons, and it is presumed that chelation is formed between the pair of electrons and the metal.
At this time, when a monomer having flux activity is used as the solvent-soluble monomer, it is presumed that the solvent-soluble metal compound is in a reduced state.
Thereafter, in the course of the synthesis reaction using the solvent-soluble monomer as a starting material component, the solvent-soluble metal compound and / or the reduced metal can maintain a coordinate bond with the solvent-soluble monomer. For this reason, it is estimated that the progress of the sintering (aggregation) of the solvent-soluble metal compound and / or the reduced metal can be suppressed. Therefore, it is presumed that the fine metal particles present in the obtained conductive resin are fine and the degree of dispersion in the conductive resin is very high. Thus, it is thought that the metal microparticle which exists in a conductive resin exists in the state disperse | distributed to the inside and / or surface of a conductive resin. Therefore, in this embodiment, it is considered that the effect of improving the reliability of moisture resistance is obtained.

(導電性ペースト)
本実施形態に係る導電性ペーストについて、詳細に説明する。
本実施形態の導電性ペーストは、上記導電性樹脂と、導電性微粒子と、含むことができる。かかる導電性ペーストは、さらに溶剤を含むものでもよい。
(Conductive paste)
The conductive paste according to this embodiment will be described in detail.
The conductive paste of this embodiment can contain the conductive resin and conductive fine particles. Such a conductive paste may further contain a solvent.

本実施形態の導電性ペーストで使用される導電性微粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズからなる群から選択される一種または二種以上の金属原子を含むことができる。かかる導電性微粒子は、当該金属原子から構成される金属または金属原子を含む金属化合物であってもよい。これらの金属又はそれらの金属を含む化合物は、これらのうちの単一の金属原子又はそれらの単一の金属原子を含む化合物からなる導電性微粒子であっても、これらのうちの2種以上の金属原子を用いた合金又はそれらの2種以上の金属原子を含む化合物からなる導電性微粒子であってもよい。また、本実施形態の導電性ペーストで使用される導電性微粒子としては、これらの導電性微粒子を他種の金属でコートした導電性微粒子や、他種の化合物からなる微粒子をこれらの金属又はそれらの金属を含む化合物でコートした導電性微粒子も使用することができる。これらのうちでも、導電性の観点からは、金属又は合金が好ましい。また、導電性、取り扱い性、コスト等の観点からは、電解銅粉が特に好ましい例として挙げられる。また、上記導電性微粒子を構成する金属原子は、金属微粒子を構成する金属原子と、同種でも異種でもよい。   The conductive fine particles used in the conductive paste of the present embodiment are not particularly limited. For example, aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, osmium, One or more metal atoms selected from the group consisting of gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, and tin can be included. Such conductive fine particles may be a metal composed of the metal atom or a metal compound containing the metal atom. Even if these metal or the compound containing those metals are the electroconductive fine particles which consist of a single metal atom of these, or a compound containing those single metal atoms, 2 or more types of these Conductive fine particles made of an alloy using metal atoms or a compound containing two or more metal atoms thereof may be used. In addition, as the conductive fine particles used in the conductive paste of the present embodiment, conductive fine particles obtained by coating these conductive fine particles with other kinds of metals, fine particles made of other kinds of compounds, these metals or those Conductive fine particles coated with a compound containing any of these metals can also be used. Among these, metals or alloys are preferable from the viewpoint of conductivity. Moreover, from the viewpoints of conductivity, handleability, cost, etc., electrolytic copper powder is a particularly preferable example. Further, the metal atoms constituting the conductive fine particles may be the same or different from the metal atoms constituting the metal fine particles.

導電性微粒子の形状については、特に限定されるものではないが、例えば、樹枝状、球状、リン片状、フレーク状、及び箔状等の従来から用いられているものが使用できる。   The shape of the conductive fine particles is not particularly limited, but conventionally used ones such as dendrites, spheres, flakes, flakes, and foils can be used.

本実施形態において、導電性微粒子の粒径は、特に限定されるものではないが、メジアン径が、0.1μm以上、100μm以下であることが好ましく、0.5μm以上、10μm以下であることがより好ましい。上記範囲内とすることにより、樹脂組成物中の金属微粒子との相乗効果により、導電性ペーストにおける導電性をより高める効果を得ることができる。   In the present embodiment, the particle diameter of the conductive fine particles is not particularly limited, but the median diameter is preferably 0.1 μm or more and 100 μm or less, and preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less. More preferred. By setting it within the above range, an effect of further increasing the conductivity in the conductive paste can be obtained due to a synergistic effect with the metal fine particles in the resin composition.

本実施形態において、導電性微粒子の含有量の下限値は、特に限定されるものではないが、導電性ペースト全体100質量%に対して、0.1質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましい。導電性微粒子の含有量の上限値は、特に限定されないが、例えば、95質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、65質量%以下であることがさらに好ましい。本実施形態では、導電ペースト中に上記含有量の範囲の導電性微粒子を含ませることができる。導電性微粒子の含有量がこの範囲であると、良好な導電性が得られる。上限値以下とすることにより、バインド力が不充分となり、導電性微粒子同士が十分に押し付けられず、良好な導電性が発現しないことを抑制することができる。また、下限値以上とすることにより、微粒子同士の接触が少なくなり、良好な導電性が発現しないことを抑制することができる。   In the present embodiment, the lower limit of the content of the conductive fine particles is not particularly limited, but is preferably 0.1% by mass or more and 20% by mass or more with respect to 100% by mass of the entire conductive paste. More preferred is 30% by mass or more. Although the upper limit of content of electroconductive fine particles is not specifically limited, For example, 95 mass% or less is preferable, 80 mass% or less is more preferable, and it is further more preferable that it is 65 mass% or less. In the present embodiment, conductive fine particles in the above-mentioned content range can be included in the conductive paste. When the content of the conductive fine particles is within this range, good conductivity can be obtained. By setting it to the upper limit value or less, it is possible to suppress the binding force from becoming insufficient, the conductive fine particles from being sufficiently pressed against each other, and good conductivity not being expressed. Moreover, it can suppress that contact between microparticles | fine-particles decreases and favorable electroconductivity is not expressed by setting it as a lower limit or more.

本実施形態の導電性ペーストには、必要に応じて溶剤を用いることができる。当該溶剤を使用する場合には、スクリーン印刷版の版乾きが抑えられ、かつ印刷後の乾燥のしやすさを兼ね合わせたものを選択することが好ましい。このような溶剤としては、特に限定されるものではないが、グリコールエーテル類が好ましく、設備能力や使用条件等にあわせて、以下に例示するグリコールエーテル類のうちから、適宜選択して用いることができる。例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等、及びこれらのエステル化類等が用いられるが、使用するバインダー樹脂の溶解性や乾燥条件によって適正な沸点、蒸気圧を持つものを選択することができ、二種以上の混合系も使用可能である。   A solvent can be used for the conductive paste of this embodiment as needed. In the case of using the solvent, it is preferable to select a solvent that can suppress the drying of the screen printing plate and is easy to dry after printing. Such a solvent is not particularly limited, but glycol ethers are preferable, and can be appropriately selected and used from the glycol ethers exemplified below in accordance with facility capacity and use conditions. it can. For example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol mono Isopropyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether Diethylene glycol monoisobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol di Butyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and the like, and esterifications thereof are used, but those having an appropriate boiling point and vapor pressure can be selected depending on the solubility and drying conditions of the binder resin to be used. It is also possible to use a mixed system of

本実施形態の導電性ペーストの製造法としては、特に限定されるものではなく、各種の方法が適用可能であるが、構成成分を混合後、三本ロールによって混練して得るのが一般的である。本実施形態においては、混練方法や溶剤などを適切に選択することにより、当該導電性微粒子を、導電性ペーストの内部及び/又は表面によく分散させることが可能になる。本実施形態では、構成成分を混合する順番は特に限定されないが、例えば、溶剤に、導電性樹脂と導電性微粒子を混合してもよいが、溶剤に、導電性樹脂組成物と導電性微粒子を混合してもよい。また、必要に応じて組成物中に各種酸化防止剤、分散剤、微細溶融シリカ、カップリング剤、消泡剤、レベリング剤等を添加することも可能である。   The method for producing the conductive paste of the present embodiment is not particularly limited, and various methods can be applied. Generally, the components are mixed and then kneaded with a three-roll. is there. In the present embodiment, the conductive fine particles can be well dispersed in and / or on the surface of the conductive paste by appropriately selecting a kneading method or a solvent. In this embodiment, the order in which the constituent components are mixed is not particularly limited. For example, the conductive resin and the conductive fine particles may be mixed in a solvent, but the conductive resin composition and the conductive fine particles may be mixed in the solvent. You may mix. In addition, various antioxidants, dispersants, fine fused silica, coupling agents, antifoaming agents, leveling agents and the like can be added to the composition as necessary.

本実施形態に係る電子部材について説明する。
本実施形態の電子部材は、上記導電性ペーストを用いてなることを特徴とする。電子部材としては、特に限定されるものではないが、例えば、上記導電性ペーストを基板スルーホール埋め込み用として用いたプリント回路基板、上記導電性ペーストを導体に用いた電磁波シールド基板等が挙げられる。
The electronic member according to this embodiment will be described.
The electronic member of this embodiment is characterized by using the conductive paste. The electronic member is not particularly limited, and examples thereof include a printed circuit board using the conductive paste for embedding a substrate through hole, and an electromagnetic wave shield substrate using the conductive paste as a conductor.

本実施形態の一例として、上記導電性ペーストを基板スルーホール埋め込み用として用いたプリント回路基板の製造方法を説明するする。例えば、まず、紙基材フェノール樹脂基板又はガラス布基材エポキシ樹脂基板などのプリント回路基板のランド部にスルーホールを設け、そこに上記導電性ペーストをスクリーン印刷等で埋め込んだ後、加熱硬化してプリント配線板を製造することができる。   As an example of this embodiment, a printed circuit board manufacturing method using the conductive paste for embedding a substrate through hole will be described. For example, first, a through hole is formed in a land portion of a printed circuit board such as a paper base phenolic resin substrate or a glass cloth base epoxy resin substrate, and the conductive paste is embedded in the land by screen printing or the like, and then cured by heating. Thus, a printed wiring board can be manufactured.

また、金属微粒子や導電性微粒子に含まれる金属原子として、例えば、銅を利用することにより、電極や配線が形成されている様々な電子機器の部品に好適に使用することができる。これにより、上記電子機器を高温高湿度などの高負荷条件下の場合においても利用することが可能になる。   Moreover, as a metal atom contained in metal fine particles or conductive fine particles, for example, by using copper, it can be suitably used for parts of various electronic devices in which electrodes and wirings are formed. Thereby, the electronic device can be used even under a high load condition such as high temperature and high humidity.

以下に、本発明を実施例及び比較例を用いて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1)
1.樹脂組成物の製造
(樹脂組成物A)
フェノール100質量部と水100質量部、10%塩化銅水溶液27質量部、37%ホルマリン129質量部及びトリエチルアミン5質量部を仕込み、還流条件下で2時間反応させた後に脱水反応を行った。これにより導電性樹脂を得た。その後、かかる導電性樹脂にエチレングリコールモノメチルエーテル90質量部を加えて、銅微粒子の含有量が0.5質量%である樹脂組成物Aを200質量部得た。樹脂組成物A中の銅微粒子のメジアン径は0.1μmであった。
Example 1
1. Production of resin composition (resin composition A)
100 parts by weight of phenol, 100 parts by weight of water, 27 parts by weight of 10% aqueous copper chloride solution, 129 parts by weight of 37% formalin, and 5 parts by weight of triethylamine were added and reacted for 2 hours under reflux conditions, followed by dehydration. Thereby, a conductive resin was obtained. Thereafter, 90 parts by mass of ethylene glycol monomethyl ether was added to the conductive resin to obtain 200 parts by mass of a resin composition A having a copper fine particle content of 0.5% by mass. The median diameter of the copper fine particles in the resin composition A was 0.1 μm.

2.導電性ペーストの製造
導電性微粒子として福田金属箔粉工業株式会社社製FCC−TB(メジアン径6.6μm、見掛密度1.87g/cmである電解銅粉)を100質量部、バインダー樹脂として上記で作製した樹脂組成物Aを15質量部、溶剤としてエチレングリコールモノブチルエーテルとプロピレングリコールモノブチルエーテルとプロピレングリコールモノプロピルエーテルの1:1:2混合溶剤を30質量部、還元剤としてハイドロキノンを5質量部、添加剤としてアミノシランカップリング剤(信越化学社製KBM−573)を3質量部、それぞれ用い、室温で10分間三本ロールで混練して、導電性ペーストを得た。
2. Production of Conductive Paste 100 parts by mass of FCC-TB (electrolytic copper powder having a median diameter of 6.6 μm and an apparent density of 1.87 g / cm 3 ) manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd. as a conductive fine particle 15 parts by mass of the resin composition A prepared above, 30 parts by mass of a 1: 1: 2 mixed solvent of ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monobutyl ether and propylene glycol monopropyl ether as a solvent, and 5 hydroquinone as a reducing agent Using 3 parts by mass of an aminosilane coupling agent (KBM-573 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as an additive and 3 parts by mass, the mixture was kneaded with three rolls at room temperature for 10 minutes to obtain a conductive paste.

3.導電性ペーストの評価
(評価用試験片の作製)
得られた導電性ペーストを、住友ベークライト(株)製紙基材フェノール樹脂基板PLC−2147RH(板厚1.6mm)に設けられた0.5mmφのスルーホールにスクリーン印刷法によって充填し、箱形熱風乾燥機によって150℃、30分間で硬化させて、評価用試験片を作製した。
3. Evaluation of conductive paste (Preparation of test piece for evaluation)
The obtained conductive paste was filled by screen printing into a 0.5 mmφ through hole provided on a paper base phenolic resin substrate PLC-2147RH (plate thickness 1.6 mm) manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd. A test piece for evaluation was produced by curing in a dryer at 150 ° C. for 30 minutes.

初期導通抵抗値:得られた評価用試験片のスルーホール1穴あたりの導通抵抗値を、KEITHLEY社製580MICRO−OHM METERを用いて4端子法で測定して初期導通抵抗値とした。   Initial conduction resistance value: The conduction resistance value per through-hole of the obtained test specimen for evaluation was measured by a four-terminal method using 580MICRO-OHM METER manufactured by KEITHLEY, and used as an initial conduction resistance value.

吸湿試験:その後、温度40℃、湿度90%RHの吸湿条件下にて1000時間吸湿処理を行った。吸湿処理後、評価用試験片のスルーホール内部を断面観察し、導電性ペーストの硬化体にクラックや剥離が生じていないかを目視で確認した。また、吸湿処理後、評価用試験片のスルーホール1穴あたりの導通抵抗値を、再度KEITHLEY社製580MICRO−OHM METERを用いて測定して吸湿後導通抵抗値とした。   Moisture absorption test: Thereafter, a moisture absorption treatment was performed for 1000 hours under moisture absorption conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH. After the moisture absorption treatment, the inside of the through hole of the test piece for evaluation was observed in cross section, and it was visually confirmed whether or not cracks or peeling occurred on the cured body of the conductive paste. Further, after the moisture absorption treatment, the conduction resistance value per through hole of the test piece for evaluation was measured again using 580MICRO-OHM METER manufactured by KEITHLEY, and was defined as the conduction resistance value after moisture absorption.

(比較例1)
1.樹脂組成物の製造
(樹脂組成物B)
フェノール100質量部、37%ホルマリン129質量部、トリエチルアミン5質量部を仕込み、還流条件下で2時間反応させた後に脱水反応を行った。その後エチレングリコールモノメチルエーテル40質量部を加えて、樹脂組成物Bを200質量部得た。
2.導電性ペーストの製造及び評価
作製した樹脂組成物Bを用いた以外は実施例1と同様にして導電性ペーストを得た後、実施例1と同様に評価用試験片を作製し、実施例1と同様に評価を行った。以上の結果を表1に示した。
(Comparative Example 1)
1. Production of resin composition (resin composition B)
After adding 100 parts by weight of phenol, 129 parts by weight of 37% formalin, and 5 parts by weight of triethylamine, the mixture was reacted under reflux conditions for 2 hours, and then subjected to a dehydration reaction. Thereafter, 40 parts by mass of ethylene glycol monomethyl ether was added to obtain 200 parts by mass of a resin composition B.
2. Production and Evaluation of Conductive Paste After obtaining a conductive paste in the same manner as in Example 1 except that the produced resin composition B was used, a test piece for evaluation was prepared in the same manner as in Example 1. Example 1 Evaluation was performed in the same manner as above. The above results are shown in Table 1.

Figure 2016009754

表1から明らかなとおり、本発明の導電性樹脂の製造方法により合成され、溶媒可溶性金属化合物由来の金属微粒子を含む樹脂組成物Aを用いた実施例1では、初期段階での優れた導電性を示すだけでなく、高温高湿度などの高負荷条件下に晒された場合においても、良好な導電性を維持できることが分かった。一方、溶媒可溶性金属化合物を用いておらず、樹脂組成物中に金属微粒子を含まない樹脂組成物Bを用いた比較例1では、初期段階での導電性が劣るだけでなく、高温高湿度などの高負荷条件下に晒された場合において、クラックや剥離等が発生していないにもかかわらず、導電性が大幅に低下すること分かった。
Figure 2016009754

As is clear from Table 1, in Example 1 using the resin composition A synthesized by the method for producing a conductive resin of the present invention and containing metal fine particles derived from a solvent-soluble metal compound, excellent conductivity at the initial stage was obtained. It was also found that good conductivity can be maintained even when exposed to high load conditions such as high temperature and high humidity. On the other hand, in Comparative Example 1 using the resin composition B that does not use a solvent-soluble metal compound and does not contain metal fine particles in the resin composition, not only the conductivity at the initial stage is inferior, but also high temperature and high humidity. It has been found that when exposed to high load conditions, the conductivity is greatly reduced despite the absence of cracks or peeling.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
以下、参考形態の例を付記する。
[1] 溶媒と、溶媒可溶性金属化合物と、溶媒可溶性モノマーとを含む原料成分を、溶融混合して合成することを特徴とする樹脂組成物の製造方法。
[2] 前記溶媒が水であり、前記溶媒可溶性金属化合物が水溶性金属化合物であり、前記溶媒可溶性モノマーが水溶性モノマーである[1]に記載の樹脂組成物の製造方法。
[3] 前記溶媒可溶性金属化合物が、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズから選ばれる金属の塩化物、フッ化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、過塩素酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である[1]又は[2]に記載の樹脂組成物の製造方法。
[4] 前記溶媒可溶性モノマーが、フェノール類、エポキシ化合物、アミン化合物、カルボン酸化合物、無水カルボン酸化合物、チオール化合物、イソシアネート化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である[1]から[3]のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
[5] 前記溶媒可溶性モノマーが、フラックス活性を有するモノマーである[1]から[4]のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
[6] 前記溶媒可溶性モノマーが、フェノール類である[1]から[5]のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
[7] 前記原料成分として、さらにアルデヒド類を含む[6]に記載の樹脂組成物の製造方法。
[8] 前記原料成分として、さらに触媒を含む[1]から[7]のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
[9] [1]から[8]のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法により合成されることを特徴とする樹脂組成物。
[10] 前記溶媒可溶性金属化合物由来の金属微粒子が、樹脂組成物の内部及び/又は表面に分散した状態で存在する[9]に記載の樹脂組成物。
[11] 前記金属微粒子の含有量が、樹脂組成物全体の0.01質量%以上、25質量%以下である[10]に記載の樹脂組成物。
[12] 前記金属微粒子のメジアン径が、10nm以上、20μm以下である[10]又は[11]に記載の樹脂組成物。
[13] [9]から[12]のいずれか一項に記載の樹脂組成物と、導電性微粒子と、を含むことを特徴とする導電性ペースト。
[14] 前記導電性微粒子が、導電性ペーストの内部及び/又は表面に分散した状態で存在する[13]に記載の導電性ペースト。
[15] 前記導電性微粒子の含有量が、導電性ペースト全体の0.1質量%以上、95質量%以下である[13]又は[14]に記載の導電性ペースト。
[16] 前記導電性微粒子のメジアン径が、0.1μm以上、100μm以下である[13]から[15]のいずれか一項に記載の導電性ペースト。
[17] 前記導電性微粒子が、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズから選ばれる金属又はそれらの金属を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である[13]から[16]のいずれか一項に記載の導電性ペースト。
[18] 電子部材用に用いられる[13]から[17]のいずれか一項に記載の導電性ペースト。
[19] [18]に記載の導電性ペーストを用いてなることを特徴とする電子部材。
また、本実施形態の樹脂組成物の製造方法は、溶媒と、溶媒可溶性金属化合物と、溶媒可溶性モノマーとを含む原料成分を、溶融混合して合成してもよい。これにより、溶媒可溶性金属化合物由来の金属微粒子が、樹脂の内部及び/又は表面に分散した状態で存在する樹脂組成物を容易に得ることができる。また、本実施形態の樹脂組成物は、上述の樹脂組成物の製造方法により合成することができる。これにより得られた樹脂組成物は、導電性の耐湿信頼性に優れた導電性ペーストに好適に用いることができるものである。また、本実施形態の導電性ペーストは、上述の樹脂組成物と、導電性微粒子と、を含んでもよい。当該導電ペーストは、導電性の耐湿信頼性に優れるため、高温高湿度などの高負荷条件下に晒されるプリント回路基板におけるスルーホール部分等の電子部材に好適に用いることができる。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, these are illustrations of this invention and various structures other than the above are also employable.
Hereinafter, examples of the reference form will be added.
[1] A method for producing a resin composition, comprising melting and mixing raw material components including a solvent, a solvent-soluble metal compound, and a solvent-soluble monomer.
[2] The method for producing a resin composition according to [1], wherein the solvent is water, the solvent-soluble metal compound is a water-soluble metal compound, and the solvent-soluble monomer is a water-soluble monomer.
[3] The solvent-soluble metal compound is aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, osmium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, Production of a resin composition according to [1] or [2], which is at least one selected from the group consisting of chlorides, fluorides, sulfates, nitrates, acetates and perchlorates of metals selected from tin. Method.
[4] The solvent-soluble monomer is at least one selected from the group consisting of phenols, epoxy compounds, amine compounds, carboxylic acid compounds, carboxylic anhydride compounds, thiol compounds, and isocyanate compounds [1] to [3] The manufacturing method of the resin composition as described in any one of these.
[5] The method for producing a resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the solvent-soluble monomer is a monomer having flux activity.
[6] The method for producing a resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the solvent-soluble monomer is a phenol.
[7] The method for producing a resin composition according to [6], further including an aldehyde as the raw material component.
[8] The method for producing a resin composition according to any one of [1] to [7], further including a catalyst as the raw material component.
[9] A resin composition characterized by being synthesized by the method for producing a resin composition according to any one of [1] to [8].
[10] The resin composition according to [9], wherein the metal fine particles derived from the solvent-soluble metal compound are present in a dispersed state in and / or on the surface of the resin composition.
[11] The resin composition according to [10], wherein the content of the metal fine particles is 0.01% by mass or more and 25% by mass or less of the entire resin composition.
[12] The resin composition according to [10] or [11], wherein the median diameter of the metal fine particles is 10 nm or more and 20 μm or less.
[13] A conductive paste comprising the resin composition according to any one of [9] to [12] and conductive fine particles.
[14] The conductive paste according to [13], wherein the conductive fine particles are present in a dispersed state in and / or on the surface of the conductive paste.
[15] The conductive paste according to [13] or [14], wherein the content of the conductive fine particles is 0.1% by mass or more and 95% by mass or less of the entire conductive paste.
[16] The conductive paste according to any one of [13] to [15], wherein a median diameter of the conductive fine particles is 0.1 μm or more and 100 μm or less.
[17] The conductive fine particles are aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, osmium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, tin. The conductive paste according to any one of [13] to [16], which is at least one selected from the group consisting of metals selected from:
[18] The conductive paste according to any one of [13] to [17], which is used for an electronic member.
[19] An electronic member comprising the conductive paste according to [18].
Moreover, the manufacturing method of the resin composition of this embodiment may synthesize | combine by melt-mixing the raw material component containing a solvent, a solvent soluble metal compound, and a solvent soluble monomer. Thereby, the resin composition in which the metal fine particles derived from the solvent-soluble metal compound are present in a state of being dispersed inside and / or on the surface of the resin can be easily obtained. Moreover, the resin composition of this embodiment is compoundable with the manufacturing method of the above-mentioned resin composition. The resin composition obtained by this can be used suitably for the electroconductive paste excellent in electroconductive moisture-resistant reliability. Moreover, the conductive paste of the present embodiment may include the above-described resin composition and conductive fine particles. Since the conductive paste is excellent in conductive moisture resistance reliability, it can be suitably used for an electronic member such as a through-hole portion in a printed circuit board exposed to a high load condition such as high temperature and high humidity.

本実施形態に係る発明は、高温高湿度などの高負荷条件下に晒された場合においても、良好な導電性を維持できるという、導電性の耐湿信頼性に優れた導電性ペーストを提供することができるものであり、プリント回路基板におけるスルーホール部分や、電磁波シールド基板の導体部分等、に用いた等、耐湿信頼性が求められる電子部材に好適に用いることができる。   The invention according to the present embodiment provides a conductive paste with excellent moisture resistance reliability that can maintain good conductivity even when exposed to high load conditions such as high temperature and high humidity. Therefore, it can be suitably used for an electronic member that requires moisture resistance reliability, such as a through-hole portion in a printed circuit board or a conductor portion of an electromagnetic wave shield substrate.

この出願は、2014年7月14日に出願された日本出願特願2014−144003号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。   This application claims the priority on the basis of Japanese application Japanese Patent Application No. 2014-144003 for which it applied on July 14, 2014, and takes in those the indications of all here.

Claims (18)

金属化合物と重合性モノマーとを溶媒に溶解する溶解工程と、
前記金属化合物を溶解する前記溶媒の存在下で、前記重合性モノマーを重合する重合工程と、を含む、
導電性樹脂の製造方法。
A dissolution step of dissolving the metal compound and the polymerizable monomer in a solvent;
A polymerization step of polymerizing the polymerizable monomer in the presence of the solvent that dissolves the metal compound,
A method for producing a conductive resin.
前記重合性モノマーが、水酸基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、イソシアネート基からなる群から選択される一種または二種以上を有する、請求項1に記載の導電性樹脂の製造方法。   The manufacturing method of the conductive resin of Claim 1 in which the said polymerizable monomer has 1 type, or 2 or more types selected from the group which consists of a hydroxyl group, an epoxy group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group, and an isocyanate group. 前記溶媒が、水、アルコール類、ケトン類、グリコール類からなる群から選択される一種または二種以上を含む、請求項1または2に記載の導電性樹脂の製造方法。   The manufacturing method of the conductive resin of Claim 1 or 2 with which the said solvent contains the 1 type (s) or 2 or more types selected from the group which consists of water, alcohol, ketones, glycols. 前記溶媒が水を含む場合、前記金属化合物および前記重合性モノマーは、前記水に溶解する、請求項3に記載の導電性樹脂の製造方法。   The method for producing a conductive resin according to claim 3, wherein when the solvent contains water, the metal compound and the polymerizable monomer are dissolved in the water. 前記金属化合物が、塩化物、フッ化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、過塩素酸塩からなる群から選ばれた金属塩を一種または二種以上含み、
前記金属塩の金属が、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズからなる群から選ばれる、請求項1から4のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法。
The metal compound includes one or more metal salts selected from the group consisting of chloride, fluoride, sulfate, nitrate, acetate, perchlorate,
The metal of the metal salt is made of aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, tin. The method for producing a conductive resin according to claim 1, which is selected from the group.
前記重合性モノマーが、フェノール類、エポキシ化合物、アミン化合物、カルボン酸化合物、無水カルボン酸化合物、チオール化合物、イソシアネート化合物からなる群から選択される一種または二種以上含む、請求項2に記載の導電性樹脂の製造方法。   The conductive material according to claim 2, wherein the polymerizable monomer contains one or more selected from the group consisting of phenols, epoxy compounds, amine compounds, carboxylic acid compounds, carboxylic anhydride compounds, thiol compounds, and isocyanate compounds. For producing a functional resin. 前記重合性モノマーがフラックス活性を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法。   The method for producing a conductive resin according to claim 1, wherein the polymerizable monomer has a flux activity. 前記重合性モノマーがフェノール類を含む場合、前記溶媒がさらにアルデヒド類を含み、
前記重合工程は、前記フェノール類と前記アルデヒド類との縮合重合する工程を含む、請求項6に記載の導電性樹脂の製造方法。
When the polymerizable monomer contains phenols, the solvent further contains aldehydes,
The method for producing a conductive resin according to claim 6, wherein the polymerization step includes a step of condensation polymerization of the phenols and the aldehydes.
前記溶媒が、さらに重合触媒を含む、請求項1から8のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法。   The method for producing a conductive resin according to claim 1, wherein the solvent further contains a polymerization catalyst. 請求項1から9のいずれか1項に記載の導電性樹脂の製造方法から得られた、導電性樹脂であって、
前記金属化合物に由来する金属微粒子を含む、導電性樹脂。
A conductive resin obtained from the method for producing a conductive resin according to any one of claims 1 to 9,
A conductive resin containing fine metal particles derived from the metal compound.
前記金属微粒子の含有量が、前記導電性樹脂全体100質量%に対して、0.01質量%以上、25質量%以下である、請求項10に記載の導電性樹脂。   11. The conductive resin according to claim 10, wherein the content of the metal fine particles is 0.01% by mass or more and 25% by mass or less with respect to 100% by mass of the entire conductive resin. 前記金属微粒子のメジアン径が、10nm以上、20μm以下である、請求項10または11に記載の導電性樹脂。   The conductive resin according to claim 10 or 11, wherein a median diameter of the metal fine particles is 10 nm or more and 20 µm or less. 請求項10から12のいずれか1項に記載の導電性樹脂と、導電性微粒子と、を含む、導電性ペースト。   A conductive paste comprising the conductive resin according to any one of claims 10 to 12 and conductive fine particles. 前記導電性微粒子の含有量が、導電性ペースト全体100質量%に対して、0.1質量%以上、95質量%以下である、請求項13に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 13, wherein a content of the conductive fine particles is 0.1% by mass or more and 95% by mass or less with respect to 100% by mass of the entire conductive paste. 前記導電性微粒子のメジアン径が、0.1μm以上、100μm以下である、請求項13または14に記載の導電性ペースト。   The electrically conductive paste of Claim 13 or 14 whose median diameter of the said electroconductive fine particles is 0.1 micrometer or more and 100 micrometers or less. 前記導電性微粒子が、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、銅、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、オスミニウム、金、白金、鉄、亜鉛、マンガン、マグネシウム、カルシウム、銀、バナジウム、スズ、からなる群から選択される一種または二種以上を含む、請求項13から15のいずれか1項に記載の導電性ペースト。   The conductive fine particles are made of aluminum, titanium, chromium, cobalt, nickel, copper, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, osmium, gold, platinum, iron, zinc, manganese, magnesium, calcium, silver, vanadium, tin. The electrically conductive paste of any one of Claims 13-15 containing 1 type, or 2 or more types selected from a group. 電子部材に用いられる、請求項13から16のいずれか1項に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 13 to 16, which is used for an electronic member. 請求項17に記載の導電性ペーストを構成部材として備える、電子部材。   An electronic member comprising the conductive paste according to claim 17 as a constituent member.
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