KR20130047527A - 노즐 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

노즐 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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KR20130047527A
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Abstract

본 발명은 기판 처리장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 플레이트; 상기 플레이트에 지지된 상기 기판에 약액을 도포하는 노즐 유닛; 상기 플레이트에 놓인 기판과 상기 노즐 유닛간 상대 위치가 변경되도록 상기 기판 또는 상기 노즐 유닛을 이동시키는 구동 유닛을 포함하되, 상기 노즐 유닛은 길이 방향이 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 1 약액을 토출하는 제 1 토출부재; 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 2 약액을 토출하는 제 2 토출부재를 포함한다.

Description

노즐 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{NOZZLE UNIT, SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD}
본 발명은 기판에 약액을 도포하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판에 복수의 약액을 토출하는 노즐 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판 상으로 약액을 공급하는 포토리소그라피, 식각, 이온주입, 증착 그리고 세정의 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정들 중 포토리소그라피 공정은 기판 상에 원하는 패턴을 형성시킨다.
포토리소그라피 공정은 기판 상에 포토 레지스트과 같은 약액을 도포하는 도포공정, 도포된 감광막 위에 특정 패턴을 형성하는 노광공정, 그리고 노광된 감광막에 불필요한 영역을 제거하는 현상공정이 순차적으로 이루어진다.
그 중 일반적으로 기판이 일방향으로 이동하며 고정된 노즐로부터 약액을 공급받는다.
이 중 기판이 이동되는 도포 공정으로는 지지부재가 기판의 저면으로 가스를 분사하여 그 기판을 공중 부양시킨 상태로 이동시킨다. 그러나 가스의 헌팅에 따라 기판은 진동이 발생되고, 가스의 온도에 따라 기판의 영역 간에 온도차가 발생된다.
본 발명은 포토레지스트의 소모량이 절감되는 노즐 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하기 위한 것이다.
또한, 기판상에 포토레지스트가 균일하게 도포되도록 하는 노즐 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판처리 장치는, 기판을 지지하는 플레이트; 상기 플레이트에 지지된 상기 기판에 약액을 도포하는 노즐 유닛; 상기 플레이트에 놓인 기판과 상기 노즐 유닛간 상대 위치가 변경되도록 상기 기판 또는 상기 노즐 유닛을 이동시키는 구동 유닛을 포함하되, 상기 노즐 유닛은 길이 방향이 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 1 약액을 토출하는 제 1 토출부재; 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 2 약액을 토출하는 제 2 토출부재를 포함한다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 기판처리 방법은, 기판을 지지하는 플레이트; 상기 플레이트에 지지된 상기 기판에 약액을 도포하는 노즐 유닛; 상기 플레이트에 놓인 기판과 상기 노즐 유닛간 상대 위치가 변경되도록 상기 기판 또는 상기 노즐 유닛을 이동시키는 구동 유닛을 포함하되, 상기 노즐 유닛은 길이 방향이 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 1 약액을 토출하는 제 1 토출부재; 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 2 약액을 토출하는 제 2 토출부재를 포함하는 기판처리 장치 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서, 상기 기판과 상기 노즐 유닛 간의 상대 위치가 변경되면서 상기 제 1 토출 유닛에서 상기 제 1 약액을 상기 기판으로 토출시키고 상기 제 1 약액이 토출된 면에 상기 제 2 토출유닛이 상기 제 2 약액을 토출하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 노즐 유닛은 길이 방향이 제 1 방향을 따라 제공되고, 기판으로 제 1 약액을 토출하며 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 제 1 유로와, 기판으로 제 2 약액을 토출하며 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 제 2 유로가 형성되는 몸체를 포함하며, 상기 제 1 유로와 상기 제 2 유로는 상기 제 1 방향과 수직인 제 2 방향을 따라 이격되게 형성된다.
본 발명에 의하면, 기판상에 포토레지스트 막을 형성하는데 소모되는 포토레지스트의 량이 절감될 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 기판상에 포토레지스트 막을 균일하게 형성할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 기판 상에 여려 종류의 포토레지스트 막을 형성할 때 소요 되는 시간이 단축될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면.
도 2는 지지대에 결합된 노즐 유닛의 단면을 보여주는 도면.
도 3은 노즐 유닛이 기판에 약액을 도포하는 과정을 보여주는 도면.
도 4는 제 1 토출 부재에서 제 1 약액이 토출되는 상태를 나타내는 도면.
도 5는 또 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛의 단면을 보여주는 도면.
도 6은 또 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛의 단면을 보여주는 도면.
도 7은 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛이 지지대에 결합된 모습을 보여주는 단면도.
도 8은 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛이 지지대에 결합된 모습을 보여주는 단면도.
도 9는 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛을 보여주는 단면도.
도 10은 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛을 보여주는 단면도.
도 11은 다른 실시 예에 따라 결합부재의 모습을 보여주는 도면.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면, 도 1 내지 도 5를 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판(s) 처리 장치를 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하면, 기판(s) 처리 장치는 플레이트(10), 노즐 유닛(30), 기판 이송 부재(20), 노즐 이송 부재(40) 그리고 노즐 유닛 대기부(50)를 포함한다.
플레이트(10)는 제 1 방향으로 설정된 폭을 가지고, 상부에서 바라볼 때 제 1 방향에 수직인 제 2 방향으로 연장된 형상을 가질 수 있다. 기판(s)은 플레이트(10)에 위치된 후, 제 2 방향으로 이동될 수 있다.
플레이트(10)에는 가스 공급홀(11)이 형성된다. 가스 공급홀(11)은 기체 공급라인(미도시)을 통해서 기체 공급부(미도시)에 연결된다. 기체 공급부에서 공급된 기체는 가스 공급홀(11)을 통해 분사된다. 가스 공급홀(11)에서 분사된 기체는 플레이트(10)에 위치된 기판(s)을 부상시킨다.
플레이트(10)의 제 1 방향의 양 측면에는 기판 이송 부재(20)가 설치된다. 기판 이송 부재(20)는 기판이송용 레일(21) 과 파지 부재(22)를 포함한다.
기판이송용 레일(21)은 플레이트(10)의 양 측면에 제 2 방향을 따라 연장되어 형성된다. 각각의 기판이송용 레일(21)에는 파지 부재(22)가 위치된다. 파지 부재(22)는 기판이송용 레일(21)을 따라 제 2 방향으로 이동가능 하게 설치 된다. 기판(s)은, 가스 공급홀(11)에서 분사되는 기체에 의해서 부상된 상태에서 파지 부재(22)에 의해 지지된다. 파지 부재(22)가 제 2 방향으로 이동하면, 기판(s)은 제 2 방향으로 이송된다.
노즐 유닛(30)은 노즐 이송 부재(40)에 결합되어, 플레이트(10)에서 제 1 방향 및 제 2 방향에 수직인 제 3 방향으로 이격되게 위치된다. 노즐 유닛(30)은 기판(s)으로 제 1 약액 및 제 2 약액을 토출한다.
노즐 이송 부재(40)는 지지대(41), 수직프레임(42) 그리고 가이드 레일(43)을 포함한다.
지지대(41)는 제 1 방향으로 길게 연장된 막대 모양으로 형성된다. 노즐 유닛(30)은 하나 이상의 면이 지지대(41)에 결합되어, 플레이트(10)에서 제 3 방향으로 이격되게 위치된다. 또한, 노즐 유닛(30)은 아래에서 설명할 결합부재(60)에 의해서 지지대(41)에 탈착 가능하게 결합된다.
지지대(41)의 제 1 방향 단부는 수직프레임(42)에 연결된다. 수직프레임(42)은 제 3 방향 아래쪽으로 연장되어 형성된다. 수직프레임(42)은 지지대(41)와 일체로 형성되거나, 따로 형성된 후 지지대(41)와 연결될 수 있다.
수직프레임(42)은 가이드 레일(43)에 위치된다. 가이드 레일(43)은, 제 1 방향으로 기판이송용 레일(21)의 외측에 형성되고, 제 2 방향으로 연장된다. 수직프레임(42)은 가이드 레일(43)을 따라서 제 2 방향으로 이동가능 하다.
노즐 유닛 대기부(50)는 가이드 레일(43) 안쪽에 제 2 방향으로 설정된 폭을 가지고, 제 1 방향으로 연장된 형상으로 설치된다. 노즐 유닛 대기부(50)는 노즐 유닛(30)이 이동되는 경로상에 배치된다. 즉, 수직프레임(42)이 가이드 레일(43)을 따라서 이동하여, 노즐 유닛(30)이 노즐 유닛 대기부(50)상에 위치될 수 있다.
노즐 유닛 대기부(50)가 플레이트(10)의 위쪽에 위치되는 경우, 노즐 유닛 대기부(50)는 플레이트(10)에서 제 3 방향으로 이격되게 설치된다. 따라서, 플레이트(10)에 위치된 기판(s)은, 플레이트(10)와 노즐 유닛 대기부(50) 사이로 이동 가능하다.
노즐 유닛 대기부(50)에는 복수의 노즐 유닛(30)이 위치될 수 있다. 또한, 노즐 유닛 대기부(50)에는 지지대(41)에 결합되지 않은 노즐 유닛(30)이 구비되어 있을 수 있다. 따라서, 지지대(41)에 결합된 노즐 유닛(30)이 분리되어 노즐 유닛 대기부(50)에 위치하도록 한 후, 노즐 유닛 대기부(50)에 위치한 다른 노즐 유닛(30)이 지지대(41)에 결합되게 하여, 노즐 유닛(30)의 교체가 가능하다. 따라서, 노즐 유닛(30)에서 토출되는 약액의 종류에 따라서, 지지대(41)에 결합되는 노즐 유닛(30)을 교체하여 사용할 수 있다.
도 2는 지지대에 결합된 노즐 유닛의 단면을 보여주는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면 노즐 유닛(30)은 제 1 토출부재, 제 2 토출부재, 석션부재 그리고 배기 유로(330)를 포함한다.
노즐 유닛(30)은, 슬릿 형상으로 연장되는 몸체(300)를 가질 수 있다. 노즐 유닛(30)이 지지대(41)에 결합 되었을 때, 몸체(300)의 연장방향은 제 1 방향이 된다. 몸체(300)에는 제 1 토출부재로 제공되는 제 1 유로(310) 및 제 2 토출부재로 제공되는 제 2 유로(320)가 형성된다. 제 1 유로(310) 및 제 2 유로(320)는 제 1 방향을 따라 형성된다. 또한, 제 1 유로(310)와 제 2 유로(320)는 제 2 방향을 따라 이격 되게 형성된다.
제 1 유로(310)는 제 1 연결관(315)을 통해서 제 1 약액 공급부(317)로 연결되고, 제 2 유로(320)는 제 2 연결관(325)을 통해서 제 2 약액 공급부(327)로 연결된다. 제 1 약액 공급부(317) 및 제 2 약액 공급부(327)에서 공급되는 약액은 다른 종류의 약액일 수 있다. 일 예로 제 1 약액 공급부(317)에서 공급되는 약액은 유기 용제이고, 제 2 약액 공급부(327)에서 공급되는 약액은 감광액일 수 있다.
배기 유로(330)는 제 1 유로(310) 및 제 2 유로(320) 사이에 형성된다. 배기 유로(330)는 배기 연결관(335)을 통해 감압부재에 연결된다. 일 예로 감압부재(371)는 펌프로 제공될 수 있다. 감압부재(371)가 동작하면, 기판(s) 상에서 발생한 흄은 배기 유로(330)로 흡입된 후 감압부재(371)를 통해서 배출된다.
석션부재(340)는 몸체(300)의 일 측면에 부착되거나, 몸체(300)에 유로로 형성될 수 있다. 석션부재(340)와 제 2 유로(320) 사이에 제 1 유로(310)가 위치된다. 또한, 석션부재(340)와 배기 유로(330) 사이에 제 1 유로(310)가 위치된다. 석션부재(340)는 감압부재(372)에 연결된다. 감압부재(372)가 동작하면, 석션부재(340)는 제 1 유로(310)에서 토출되는 약액에 흡입압력을 제공한다. 따라서, 제 1 약액은 석션부재(340) 쪽으로 당겨지면서 토출된다.
제 1 유로(310)와 제 2 유로(320)는 배기 유로(330) 쪽으로 경사지게 형성된다. 따라서, 제 1 유로(310) 와 제 2 유로(320)가 제 2 방향을 따라 이격된 거리는 몸체(300)의 하부에서 줄어들게 되어, 기판(s)에 제 1 약액이 도포된 후 제 2 약액이 도포되는 소요되는 시간이 감소된다.
지지대(41)에는 결합부재(60)가 구비된다. 결합부재(60)는 흡입부(61)로 제공될 수 있다. 흡입부(61)는 지지대(41)의 하면에 형성된다. 흡입부(61)는 감압부재(373)에 연결되는 음압부(610)로 제공될 수 있다. 감압부재(373)가 동작하여 음압부(610) 주위의 기체를 흡입되면, 음압부(610)에 음압이 발생하고, 음압부(610)에 인접하게 위치된 노즐 유닛(30)을 지지대(41)에 결합시킨다. 또한, 감압부재(373)가 정지하면, 노즐 유닛(30)은 지지대(41)에서 분리된다.
결합부재(60)는 결합부(630)를 더 포함할 수 있다. 결합부(630)는 지지대(41)와 접하는 노즐 유닛(30)의 외면에 구비된다. 또한, 흡입부(61)는 결합부(630)의 형상에 대응하는 삽입부(620)와 음압부(610)로 형성된다. 따라서, 감압부재(373)가 동작하면, 음압에 의해서 결합부(630)는 삽입부(620)에 삽입된다. 또한, 음압부(610)가 삽입부(620)의 기능을 할께 수행하여, 음압부(610)와 삽입부(620)가 일체로 형성될 수 있다.
도 3은 노즐 유닛이 기판에 약액을 도포하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 3을 참조하면, 기판(s)과 노즐 유닛(30)의 상대 위치가 제 2 방향을 따라서 변하면서, 기판(s)으로 약액이 도포된다. 기판(s)이 파지 부재(22)에 지지된 후, 파지 부재(22)가 기판 이송용 레일(21)을 따라 이동하면서, 기판(s)과 노즐 유닛(30)간의 상대 위치가 변경될 수 있다. 또한, 수직프레임(42)이 가이드 레일(43)을 따라 이동하면서, 기판(s)과 노즐 유닛(30)간의 상대 위치가 변경될 수 있다. 즉, 기판 이송 부재(20) 또는 노즐 이송 부재(40)에 의해서 기판(s)과 노즐 유닛(30)의 상대 위치가 변한다. 따라서, 기판 이송 부재(20) 및 노즐 이송 부재(40)를 구동 유닛이라 칭할 수 있다.
이하에서는 기판(s)이 이동하는 경우를 예로 들어 설명한다. 그러나, 노즐 유닛(30)이 이동하거나, 노즐 유닛(30) 및 기판(s)이 이동하면서 기판(s)에 약액이 도포될 수 있다. 일 예에 의하면, 제 1 약액(318)은 유기 용제이고, 제 2 약액(328)은 감광액이다. 유기 용제는 시너(Thinner)이고 감광액은 포토레지스트 일 수 있다.
가스 공급홀(11)에서 기체가 토출 되어, 기판(s)이 부유된 상태에서 파지부재(22)가 기판 이송용 레일(21)을 따라 제 2 방향으로 이동한다. 이때, 기판(s)은 제 1 토출부재에서 제 2 토출부재 쪽으로 이동한다.
노즐 유닛(30)은 제 1 토출부재가 동작을 시작한 후, 제 2 토출부재가 동작을 시작하도록 제어된다. 따라서, 기판(s)상으로 유기용제가 도포된 후 포토레지스트가 도포된다. 또한, 유기용제 및 포토레지스트의 도포가 기판(s)의 단부에서부터 시작될 수 있다.
도 4는 제 1 토출 부재에서 제 1 약액이 토출되는 상태를 나타내는 도면이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 제 1 토출 부재의 동작 전 또는 동작과 동시에 석션부재는 동작을 시작해서, 제 1 약액(318)은 석션부재 방향으로 흡입압력을 받으면서 토출될 수 있다. 따라서, 제 1 약액(318)이 기판(s)에 도포되는 지점은 석션부재 방향으로 당겨진다. 그리고, 제 1 약액(318)이 도포된 기판(s)에, 제 2 약액(328)가 도포된다.
도 5는 또 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛의 단면을 보여주는 도면이다.
도 5를 참조하면, 노즐 유닛(30)은 제 1 유로(310), 제 2 유로(320) 그리고 배기 유로(330)를 포함한다. 따라서, 노즐 유닛은 석션 부재없이 제공될 수 있다.
도 6은 또 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛의 단면을 보여주는 도면이다.
도 6을 참조하면, 노즐 유닛(30)은 제 1 유로(310) 그리고 제 2 유로(320) 를 포함한다. 따라서, 노즐 유닛은 석션 부재 및 배기 유로 없이 제공될 수 있다.
도 7 및 도 8은 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛이 지지대에 결합된 모습을 보여주는 단면도 이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 노즐 유닛(30)은 제 1 몸체(301)와 제 2 몸체(302)를 포함한다. 제 1 몸체(301) 및 제 2 몸체(302)는 제 1 방향을 따라 형성된다. 제 1 토출부재는 제 1 몸체(301) 내에 제 1 유로(310)로 제공된다. 또한, 제 2 토출부재는 제 2 몸체(302)에 제 2 유로(320)로 제공될 수 있다.
노즐 유닛(30)은 석션 부재를 더 포함할 수 있다. 석션 부재(340)는 제 1 몸체(301)의 일 측면에 부착되거나, 제 1 몸체(301)에 유로로 형성될 수 있다. 석션 부재(340)는 제 1 몸체(301)가 제 2 몸체(302)와 인접하는 곳의 반대 쪽에 위치된다.
제 1 몸체(301) 또는 제 2 몸체(302)에는 배기 유로(330)가 형성될 수 있다. 배기 유로(330)가 제 1 몸체(301)에 형성되는 경우, 제 2 몸체(302)와 인접한 쪽에 제 1 방향을 따라 형성된다. 또한, 배기 유로(330)가 제 2 몸체(302)에 형성되는 경우, 제 1 몸체(301)와 인접한 쪽에 제 1 방향을 따라 형성된다.
지지대(41)는 제 1 지지대(410), 제 2 지지대(420)를 포함할 수 있다. 제 1 지지대(410)에는 제 1 몸체(301)가 결합되고, 제 2 지지대(420)에는 제 2 몸체(302)가 결합된다. 제 1 지지대(410) 또는 제 2 지지대(420)는 상하로 이동 가능하게 설치되어, 제 1 몸체(301)와 제 2 몸체(302) 하단의 상대적 높이는 조절이 가능할 수 있다. 또한, 제 1 지지대(410) 또는 제 2 지지대(420)는 제 2 방향으로 이동이 가능하여, 제 1 몸체(301)와 제 2 몸체(302) 사이의 간격이 조절될 수 있다.
도 9는 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 9를 참조하면, 제 1 몸체(301) 내에 제 1 유로(310)가 제공되고, 제 2 몸체(302)에 제 2 유로(320)가 제공된다. 또한, 석션 부재(340)는 제 1 몸체(301)의 일 측면에 부착되거나, 제 1 몸체(301)에 유로로 형성될 수 있다. 따라서, 노즐 유닛은 배기 유로 없이 제공될 수 있다.
도 10은 다른 실시 예에 따른 노즐 유닛을 보여주는 단면도이다.
도 10을 참조하면, 제 1 몸체(301) 내에 제 1 유로(310)가 제공되고, 제 2 몸체(302)에 제 2 유로(320)가 제공된다. 따라서, 노즐 유닛은 배기 유로 및 석션 부재 없이 제공될 수 있다.
도 11은 다른 실시 예에 따라 결합부재(60)의 모습을 보여주는 도면이다.
도 11을 참조하면, 결합부재(60)는 전자석(640)을 포함한다. 전자석(640)은 지지대(41)의 하면에 설치되고, 전원(641) 및 스위치(642)에 연결될 수 있다. 노즐 유닛(30)에는 지지대(41)와 접하는 면에 금속판(650)이 설치될 수 있다. 따라서, 스위치(642)를 on하여 전자석(640)에 전원이 인가되면, 금속판(650)은 전자석(640)에 부착되어, 노즐 유닛(30)이 지지대(41)에 결합된다. 또한, 스위치(642)를 off하여 전자석(640)에 전원이 차단되면, 노즐 유닛(30)이 지지대(41)에서 분리된다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10: 플레이트 20: 기판 이송 부재
30: 노즐 유닛 40:노즐 이송 부재
41: 지지대 50: 노즐 유닛 대기부

Claims (26)

  1. 기판을 지지하는 플레이트;
    상기 플레이트에 지지된 상기 기판에 약액을 도포하는 노즐 유닛;
    상기 플레이트에 놓인 기판과 상기 노즐 유닛간 상대 위치가 변경되도록 상기 기판 또는 상기 노즐 유닛을 이동시키는 구동 유닛을 포함하되,
    상기 노즐 유닛은
    길이 방향이 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 1 약액을 토출하는 제 1 토출부재;
    길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되며 상기 기판으로 제 2 약액을 토출하는 제 2 토출부재를 포함하는 기판처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 몸체를 더 구비하고,
    상기 제 1 토출부재는 상기 몸체 내에 형성된 제 1 유로로서 제공되고,
    제 2 토출부재는 상기 몸체 내에 형성된 제 2 유로로서 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 몸체에는, 상기 기판에서 발생하는 흄을 흡입하는 배기유로가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 배기유로는, 상기 제 1 유로와 상기 제 2 유로 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제 1 유로 및 제 2 유로는 하부가 상기 배기유로 쪽으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제 2항에 있어서,
    상기 제 1 토출부재에서 토출되는 상기 제 1 약액에 흡입압력을 제공하는 석션부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 석션부재는, 상기 몸체에 유로로 형성되어 제공되고, 상기 유로와 상기 제 2 유로 사이에 상기 제 1 유로가 위치되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제 2항에 있어서,
    상기 제 1 유로와 상기 제 2 유로는 상기 제 1 방향과 수직인 제 2 방향을 따라 이격 되게 형성되는 기판 처리 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 유닛은 상기 노즐 유닛이 결합되는 지지대;
    상기 지지대의 양측에 설치되어 상기 지지대를 지지하는 수직프레임;
    상기 수직 프레임을 상기 제 1 방향에 수직인 제 2 방향으로 이동 가능하게 지지하는 가이드 레일을 포함하고,
    상기 기판 처리 장치는
    상기 노즐 유닛을 상기 지지대에 탈착 가능하게 결합시키는 결합부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는 상기 지지대에서 분리된 노즐 유닛이 위치되며, 상기 노즐 유닛이 이동되는 경로상에 배치된 노즐 유닛 대기부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제 9항에 있어서,
    상기 결합부재는
    상기 지지대의 하면에 형성되고, 흡입 압력을 제공하는 흡입부를 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 결합부재는
    상기 지지대와 접하는 상기 노즐 유닛의 외면에 구비되고, 상기 노즐 유닛이 상기 지지대에 결합될 때 상기 흡입부에 삽입되는 결합부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  13. 제 1항에 있어서,
    상기 노즐 유닛은 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 제 1 몸체;
    길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 제 2 몸체를 포함하고,
    상기 제 1 토출부재는 상기 제 1 몸체 내에 형성된 제 1 유로로 제공되고,
    상기 제 2 토출부재는 상기 제 2 몸체 내에 형성된 제 2 유로로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 제 1 몸체 또는 제 2 몸체에는, 상기 기판에서 발생하는 흄을 흡입하는 배기유로가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 노즐 유닛.
  15. 제 1항에 있어서,
    상기 플레이트에는, 기체가 토출 되면서 상기 기판이 부유된 상태로 상기 플레이트에 지지되도록 하는 가스공급 홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  16. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 약액은 유기 용제이고, 상기 제 2 약액은 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  17. 제 1항 또는 제 2항 중 어느 한 항의 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 방법에 있어서,
    상기 기판과 상기 노즐 유닛 간의 상대 위치가 변경되면서 상기 제 1 토출 유닛에서 상기 제 1 약액을 상기 기판으로 토출시키고 상기 제 1 약액이 토출된 면에 상기 제 2 토출유닛이 상기 제 2 약액을 토출하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  18. 제 17항에 있어서,
    상기 제 1 토출부재가 동작을 시작한 후 상기 제 2 토출부재가 동작을 시작하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  19. 제 17항에 있어서,
    상기 몸체에는, 상기 기판에서 발생하는 흄을 흡입하는 배기유로가 더 형성되고,
    상기 제 1 토출 유닛과 상기 배기유로를 함께 동작시켜, 상기 제 1 약액을 토출 하면서 상기 기판에서 발생한 흄을 흡입하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  20. 제 17항에 있어서,
    상기 플레이트에는, 기체가 토출 되면서 상기 기판이 부유된 상태로 상기 플레이트에 지지되도록 하는 가스공급 홀이 형성되고,
    상기 가스공급 홀에서 상기 기체가 토출되어 상기 기판이 부유된 상태에서 상기 제 1 약액 및 제 2 약액이 상기 기판으로 토출 되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  21. 길이 방향이 제 1 방향을 따라 제공되고, 기판으로 제 1 약액을 토출하며 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 제 1 유로와, 기판으로 제 2 약액을 토출하며 길이 방향이 상기 제 1 방향을 따라 형성되는 제 2 유로가 형성되는 몸체를 포함하며,
    상기 제 1 유로와 상기 제 2 유로는 상기 제 1 방향과 수직인 제 2 방향을 따라 이격되게 형성되는 노즐 유닛.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 몸체에는, 상기 기판에서 발생하는 흄을 흡입하는 배기유로가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 노즐 유닛.
  23. 제 22항에 있어서,
    상기 배기유로는, 상기 제 1 유로와 상기 제 2 유로 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 노즐 유닛.
  24. 제 23항에 있어서,
    상기 제 1 유로 및 제 2 유로는 하부가 상기 배기유로 쪽으로 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 노즐 유닛.
  25. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 1 유로에서 토출되는 상기 제 1 약액에 흡입압력을 제공하는 석션부재를 더 포함하는 노즐 유닛.
  26. 제 25항에 있어서,
    상기 석션부재는, 상기 몸체에 유로로 제공되고, 상기 유로와 상기 제 2 유로 사이에 상기 제 1 유로가 위치되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노즐 유닛.
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