KR20130046266A - 액정표시장치 - Google Patents

액정표시장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130046266A
KR20130046266A KR1020110110752A KR20110110752A KR20130046266A KR 20130046266 A KR20130046266 A KR 20130046266A KR 1020110110752 A KR1020110110752 A KR 1020110110752A KR 20110110752 A KR20110110752 A KR 20110110752A KR 20130046266 A KR20130046266 A KR 20130046266A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pixel
drain electrode
liquid crystal
area
electrode
Prior art date
Application number
KR1020110110752A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101874789B1 (ko
Inventor
조영직
진현철
류호진
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110110752A priority Critical patent/KR101874789B1/ko
Publication of KR20130046266A publication Critical patent/KR20130046266A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101874789B1 publication Critical patent/KR101874789B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136213Storage capacitors associated with the pixel electrode
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134345Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
    • G02F1/134354Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy the sub-pixels being capacitively coupled

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Power Engineering (AREA)

Abstract

본 발명은, 기판 상에서 서로 교차 배열되어 복수 개의 화소를 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 데이터 배선과 상이한 층에서 소정 방향으로 배열되어 있는 공통 배선; 상기 데이터 배선과 연결되어 있는 소스 전극 및 상기 소스 전극과 마주하고 있는 드레인 전극; 상기 소스 전극 및 드레인 전극과 연결되어 전자의 이동 채널이 되는 반도체층; 및 상기 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 화소 전극을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 복수 개의 화소는 제1 화소 및 상기 제1 화소보다 면적이 큰 제2 화소를 포함하여 이루어지고, 제1 화소의 △Vp값이 제2 화소의 △Vp값과 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시장치에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하면서도 화소 별 △Vp값이 균일하게 되어 종래 대비 화상 품질이 향상되는 효과가 있다.

Description

액정표시장치{Liquid Crystal Display Device}
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하게 디자인된 액정표시장치에 관한 것이다.
액정표시장치는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
액정표시장치는 상부 기판, 하부 기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 전계 인가 유무에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다.
이하, 도면을 참조로 하여 종래의 액정표시장치에 대해서 설명하기로 한다.
도 1은 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도이다.
도 1에서 알 수 있듯이, 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치는, 하부 기판(10), 상부 기판(20) 및 상기 양 기판(10, 20) 사이에 형성된 액정층(30)을 포함하여 이루어진다.
상기 하부 기판(10) 상에는, 복수 개의 화소를 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선, 상기 배선들과 연결되는 박막 트랜지스터, 및 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극을 포함하여 이루어진 어레이(array)층(12)이 형성되어 있다.
상기 상부 기판(20) 상에는 광 누설을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(Black matrix)(22)가 형성되어 있고, 상기 블랙 매트릭스(22) 사이에 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터(24)가 형성되어 있다.
이와 같은 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치에서는 일반적으로 복수 개의 화소들 사이의 면적이 동일하게 디자인되어 있다. 그러나, 최근에 액정표시장치의 휘도를 향상시키기 위한 방법으로서, 복수 개의 화소들 사이의 면적을 상이하게 디자인한 액정표시장치가 제안된 바 있다.
도 2는 종래의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 하부 기판(10)의 개략적인 평면도로서, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 상이하게 디자인된 예이다.
도 2에서 알 수 있듯이, 종래의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 하부 기판(10)은, 게이트 배선(12), 데이터 배선(14), 박막 트랜지스터(T), 및 화소 전극(16)을 포함하여 이루어진다.
상기 게이트 배선(12)과 데이터 배선(14)은 서로 교차하도록 형성되어 복수 개의 화소를 정의한다.
상기 박막 트랜지스터(T)는 상기 게이트 배선(12)과 데이터 배선(14)이 교차하는 영역에 형성되어 있다.
상기 화소 전극(16)은 복수 개의 화소 각각에서 상기 박막 트랜지스터(T)와 연결되어 있다.
여기서, 상기 게이트 배선(12)과 데이터 배선(14)에 의해 정의된 복수 개의 화소들은 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 화소를 포함하고, 각각의 화소들은 그 면적이 서로 상이하다.
보다 구체적으로는, 녹색(G) 화소의 면적은 적색(R) 화소의 면적과 청색(B) 화소의 면적보다 크게 형성되어 있고, 적색(R) 화소의 면적과 청색(B) 화소의 면적은 서로 동일하게 형성되어 있다. 이와 같이, 녹색(G) 화소의 면적을 상대적으로 크게 형성한 이유는, 일반적으로, 녹색(G) 광의 휘도가 적색(R) 광의 휘도 및 청색(B) 광의 휘도보다 우수하기 때문에, 녹색(G) 화소의 면적을 상대적으로 증가시킴으로써 액정표시장치의 전체 휘도를 향상시킬 수 있기 때문이다.
그러나, 이와 같은 종래의 다른 실시예에 따른 액정표시장치는 휘도가 향상되는 효과는 있지만, 화소 별 면적이 상이함으로 인해서 화소 별 액정 커패시터(Clc)가 상이하게 되고, 그로 인해서 화소 별 △Vp값이 상이하게 된다.
즉, △Vp값은 액정 커패시터(Clc)에 반비례하기 때문에, 녹색(G) 화소의 △Vp값이 다른 화소의 △Vp값에 비하여 커지게 되고, 이와 같은 화소 별 △Vp값의 상이함으로 인해서 결과적으로 잔상이나 얼룩과 같은 화상 품질 저하를 초래하게 된다.
본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하면서도 화소 별 △Vp값이 균일하도록 디자인함으로써 화상 품질을 향상시킬 수 있는 액정표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 기판 상에서 서로 교차 배열되어 복수 개의 화소를 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 데이터 배선과 상이한 층에서 소정 방향으로 배열되어 있는 공통 배선; 상기 데이터 배선과 연결되어 있는 소스 전극 및 상기 소스 전극과 마주하고 있는 드레인 전극; 상기 소스 전극 및 드레인 전극과 연결되어 전자의 이동 채널이 되는 반도체층; 및 상기 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 화소 전극을 포함하여 이루어지고, 이때, 상기 복수 개의 화소는 제1 화소 및 상기 제1 화소보다 면적이 큰 제2 화소를 포함하여 이루어지고, 제1 화소의 △Vp값이 제2 화소의 △Vp값과 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 제2 화소의 스토리지 커패시터(Cst)가 상기 제1 화소의 스토리지 커패시터(Cst) 보다 작을 수 있다. 또한, 상기 제1 화소의 액정 커패시터(Clc)와 스토리지 커패시터(Cst)의 합이 상기 제2 화소의 액정 커패시터(Clc)와 스토리지 커패시터(Cst)의 합과 동일할 수 있다. 또한, 상기 제2 화소에서 상기 공통 배선과 상기 드레인 전극 사이의 중첩 면적은 상기 제1 화소에서 상기 공통 배선과 상기 드레인 전극 사이의 중첩 면적보다 작을 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제2 화소의 기생 커패시터(Cgs)가 상기 제1 화소의 기생 커패시터(Cgs) 보다 클 수 있다. 또한, 상기 제2 화소 내의 전자 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극의 길이 및 드레인 전극의 길이의 평균값은, 상기 제1 화소 내의 전자 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극의 길이 및 드레인 전극의 길이의 평균값보다 클 수 있다.
이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 상이함으로 인해 발생하는 복수 개의 화소별 액정 커패시터(Clc)의 차이를, 복수 개의 화소 별 스토리지 커패시터(Cst)의 차이에 의해 보상함으로써 모든 화소별로 △Vp값을 동일하게 조절할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 상이함으로 인해 발생하는 복수 개의 화소별 액정 커패시터(Clc)의 차이를, 복수 개의 화소 별 기생 커패시터(Cgs)의 차이에 의해 보상함으로써 모든 화소별로 △Vp값을 동일하게 조절할 수 있다.
결국, 본 발명에 따르면, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하면서도 화소 별 △Vp값이 균일하게 되어 종래 대비 화상 품질이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 종래의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 개략적인 단면도이다.
도 2는 종래의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 하부 기판의 개략적인 평면도이다.
도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 개략적인 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 I-I라인의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 개략적인 평면도이다.
도 5a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 개략적인 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 I-I라인의 단면도이다.
구체적인 실시예에 대해서 설명하기에 앞서서, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하면서도 화소 별 △Vp값이 균일하도록 하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 방법에 대해서 설명하면 다음과 같다.
수학식 1
Figure pat00001
여기서, Cgs는 게이트 전극과 소스 전극 사이의 기생 커패시터이고, Cst는 스토리지 커패시터이고, Clc는 액정 커패시터이고, Vgh는 게이트 하이(high) 전압이고, Vgl은 게이트 로우(low) 전압이다.
복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하게 디자인되면 복수 개의 화소들 사이의 액정 커패시터(Clc)가 서로 상이하게 된다. 여기서, 상기 수학식 1을 참조하면, 화소 별로 액정 커패시터(Clc)가 서로 상이하게 되면 화소 별로 △Vp값이 불균일하게 됨을 알 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서는, 면적이 서로 상이한 복수 개의 화소 별로 스토리지 커패시터(Cst)를 상이하게 디자인함으로써, 결과적으로 화소 별로 △Vp값을 균일하게 조절하도록 한다. 예를 들어, 제1 화소의 면적이 제2 화소의 면적에 비하여 크게 형성되어 제1 화소의 액정 커패시터(Clc)가 제2 화소의 액정 커패시터(Clc)에 비하여 크게 될 경우, 제1 화소의 스토리지 커패시터(Cst)가 제2 화소의 스토리지 커패시터(Cst)에 비하여 작게 되도록 디자인함으로써, 결과적으로 제1 화소의 △Vp값과 제2 화소의 △Vp값을 균일하게 할 수 있다.
즉, 제1 화소의 액정 커패시터(Clc)와 제1 화소의 스토리지 커패시터(Cst)의 합을 제2 화소의 액정 커패시터(Clc)와 제2 화소의 스토리지 커패시터(Cst)의 합과 동일하게 디자인함으로써, 제1 화소의 △Vp값과 제2 화소의 △Vp값을 균일하게 할 수 있는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에서는, 면적이 서로 상이한 복수 개의 화소 별로 게이트 전극과 소스 전극 사이의 기생 커패시터(Cgs)(이하, 본 명세서에서 게이트 전극과 소스 전극 사이의 기생 커패시터를 '기생 커패시터(Cgs)'로 약칭하기로 한다)를 상이하게 디자인함으로써, 결과적으로 화소 별로 △Vp값을 균일하게 조절하도록 한다. 예를 들어, 제1 화소의 면적이 제2 화소의 면적에 비하여 크게 형성되어 제1 화소의 액정 커패시터(Clc)가 제2 화소의 액정 커패시터(Clc)에 비하여 크게 될 경우, 제1 화소의 기생 커패시터(Cgs)가 제2 화소의 기생 커패시터(Cgs)에 비하여 크게 되도록 디자인함으로써, 결과적으로 제1 화소의 △Vp값과 제2 화소의 △Vp값을 균일하게 할 수 있다.
한편, 화소별 특정 값, 예를 들어, 액정 커패시터(Clc), 스토리지 커패시터(Cst), △Vp값 등이 동일하도록 디자인되었다 하더라도 실제로는 공정 오차 등과 같은 여러 가지 원인에 의해서 화소별 특정 값이 완전히 동일하지 않게 될 수 있다. 따라서, 본 명세서 전체에서 화소별로 액정 커패시터(Clc), 스토리지 커패시터(Cst), △Vp값 등이 동일 또는 균일하다는 것은, 최종 완성품 상태에서 완전히 동일 또는 균일하다는 것을 의미하는 것은 아니고, 제품 설계상으로 동일하게 디자인되어 있다는 것이며, 최종 완성품 상태에서는 다소의 오차가 발생하는 것까지도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 설명하기로 한다.
도 3a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 개략적인 평면도이고, 도 3b는 도 3a의 I-I라인의 단면도이다. 도 3a에는 편의상 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 3개의 화소만을 도시하였다.
도 3a 및 도 3b에 도시한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터는, 면적이 서로 상이한 복수 개의 화소 별로 스토리지 커패시터(Cst)를 상이하게 디자인함으로써 결과적으로 화소 별로 △Vp값을 균일하게 조절한 실시예이다.
도 3a에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 트랜지스터 기판은, 기판(100), 게이트 배선(110), 공통 배선(120), 데이터 배선(140), 소스 전극(150), 및 드레인 전극(160)을 포함하여 이루어진다.
상기 기판(100)은 유리 또는 투명한 플라스틱과 같은 투명한 재료로 이루어질 수 있다.
상기 게이트 배선(110)은 상기 기판(100) 상에서 제1 방향, 예로서 가로 방향으로 배열되어 있다. 상기 게이트 배선(110)의 영역 중에서 상기 소스 전극(150)과 오버랩되는 영역은 게이트 전극(110a)으로 기능한다. 도시된 바와 같이, 상기 게이트 전극(110a)은 다른 영역의 게이트 배선(110)보다 상하로 돌출된 영역을 추가로 포함하여 형성될 수 있다.
상기 공통 배선(120)의 일 부분은 상기 게이트 배선(110)과 나란하게 배열되어 있다. 상기 공통 배선(120)은 상기 게이트 배선(110)과 동일한 층에서 동일한 물질로 이루어질 수 있고, 이 경우 상기 공통 배선(120)은 상기 게이트 배선(110)과 중첩하지 않도록 형성된다.
상기 공통 배선(120)의 다른 부분은 상기 데이터 배선(140)과 나란하게 배열되어 있다. 상기 공통 배선(120)이 상기 게이트 배선(110)과 동일한 층에서 동일한 물질로 이루어진 경우 상기 공통 배선(120)과 상기 데이터 배선(140) 사이의 쇼트(short) 문제는 발생하지 않으므로, 상기 공통 배선(120)을 상기 데이터 배선(140)과 중첩하도록 형성할 수 있고, 그에 따라 광투과율 저하를 최소화할 수 있다. 한편, 상기 데이터 배선(140)과 중첩하는 공통 배선(120)의 다른 부분은 생략하는 것도 가능하다.
상기 데이터 배선(140)은 상기 기판(100) 상에서 제2 방향, 예로서 세로 방향으로 배열되어 있다. 따라서, 상기 게이트 배선(110)과 데이터 배선(140)이 교차배열됨으로써 복수 개의 화소, 예를 들어, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 화소가 정의된다.
여기서, 복수 개의 화소들 사이의 면적은 서로 상이하다. 구체적으로, 액정표시장치의 전체 휘도가 향상될 수 있도록, 녹색(G) 화소의 면적이 적색(R) 화소의 면적 및 청색(B) 화소의 면적보다 크게 형성된다. 이를 위해서, 녹색(G) 화소를 정의하는 데이터 배선(140) 사이의 간격이 적색(R) 화소 또는 청색(B) 화소를 정의하는 데이터 배선(140) 사이의 간격에 비하여 크게 형성될 수 있다. 또한, 적색(R) 화소의 면적과 청색(B) 화소의 면적은 서로 동일하게 형성된다. 이를 위해서, 적색(R) 화소를 정의하는 데이터 배선(140) 사이의 간격은 청색(B) 화소를 정의하는 데이터 배선(140) 사이의 간격과 동일하게 형성된다. 따라서, 전술한 수학식 1을 참조하면, 녹색(G) 화소의 액정 커패시터(Clc)가 적색(R) 또는 청색(B) 화소의 액정 커패시터(Clc)에 비하여 크게 된다.
한편, 반드시 녹색(G) 화소의 면적이 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소의 면적에 비하여 크게 형성되어야 하는 것은 아니고, 본 발명은 면적이 상이한 복수 개의 화소를 구비한 어떠한 액정표시장치에도 적용될 수 있다.
상기 데이터 배선(140)은 상기 게이트 배선(110) 및 공통 배선(120)과는 상이한 층에 형성된다. 상기 데이터 배선(140)은 곧은 직선 형태로 형성될 수도 있고, 굽은 직선 형태로 형성될 수도 있다.
상기 소스 전극(150)은 상기 데이터 배선(140)에서 분기되어 있다. 이와 같은 소소 전극(150)은 상기 데이터 배선(140)에서 분기되어 상기 게이트 전극(110a)과 중첩되도록 연장되어 있다. 상기 소스 전극(150)은 도시된 바와 같이 U자 형상으로 형성될 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 당업계에 공지된 다양한 형상으로 변경형성될 수 있다.
상기 드레인 전극(160)은 상기 소스 전극(150)과 마주하고 있다. 상기 소스 전극(150)이 U자형으로 형성된 경우, 상기 드레인 전극(160)은 상기 U자 형상의 내부 공간으로부터 외부 공간으로 연장된 구조로 형성되어 있다. 특히, 상기 드레인 전극(160)은 상기 공통 배선(120)이 형성된 영역까지 연장됨으로써 상기 공통 배선(120)과 중첩하도록 형성된다.
상기 드레인 전극(160)은 제1 콘택홀(H1)을 통해서 화소 전극(미도시)과 전기적으로 연결된다. 따라서, 화소 전극과 공통 배선(120) 사이의 스토리지 커패시터(Storage Capacitor: Cst)는, 게이트 절연막(미도시)을 사이에 두고 중첩된 드레인 전극(160)과 공통 배선(120)에 의해 얻어질 수 있다. 즉, 게이트 절연막(미도시)을 사이에 두고 중첩된 드레인 전극(160)과 공통 배선(120)사이에서 스토리지 커패시터(Cst)가 형성된다.
이때, 복수 개의 화소들은 각각의 스토리지 커패시터(Cst)가 서로 상이하도록 디자인된다. 구체적으로는, 녹색(G) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)는 적색(R) 화소의 스토리지 커패시터(Cst) 및 청색(B) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)보다 작게되도록 디자인된다. 또한, 적색(R) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)는 청색(B) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)와 동일하도록 디자인된다.
화소별 스토리지 커패시터(Cst)는 전술한 바와 같이 게이트 절연막(미도시)을 사이에 두고 중첩된 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이에서 형성될 수 있으며, 따라서, 스토리지 커패시터(Cst)는 게이트 절연막의 두께 및 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적에 따라 변경될 수 있다.
여기서, 각각의 화소별로 게이트 절연막의 두께는 동일하므로, 결과적으로 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적으로 상이하게 디자인함으로써 화소별 스토리지 커패시터(Cst)가 상이하도록 조절할 수 있다.
구체적으로, 녹색(G) 화소에서의 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적을 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소에서의 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적보다 작게 되도록 디자인함으로써, 녹색(G) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)가 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)보다 작게 되도록 할 수 있다.
한편, 녹색(G) 화소에서의 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적을 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소에서의 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적보다 작게 되도록 디자인하는 구체적인 방법은 다음과 같다.
첫째, 모든 화소에서 공통 배선(120)은 동일한 패턴으로 형성하되, 녹색(G) 화소에서 공통 배선(120)과 중첩하는 드레인 전극(160)의 면적을 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소에서 공통 배선(120)과 중첩하는 드레인 전극(160)의 면적에 비하여 작게 디자인하는 방법이 있다.
둘째, 모든 화소에서 드레인 전극(160)은 동일한 패턴으로 형성하되, 녹색(G) 화소에서 드레인 전극(160)과 중첩하는 공통 배선(120)의 면적을 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소에서 드레인 전극(160)과 중첩하는 공통 배선(120)의 면적에 비하여 작게 디자인하는 방법이 있다.
셋째, 녹색(G) 화소의 드레인 전극(160)과 공통 배선(120)의 패턴을 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소의 드레인 전극(160)과 공통 배선(120)의 패턴과 상이하게 하는 방법이 있다.
결과적으로, 앞서 설명한 복수 개의 화소별 액정 커패시터(Clc)의 차이가 복수 개의 화소별 스토리지 커패시터(Cst)의 차이에 의해서 보상될 수 있어, 모든 화소별로 △Vp값이 균일하게 조절될 수 있다.
즉, 녹색(G) 화소의 액정 커패시터(Clc)와 녹색(G) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)의 합은, 적색(R) 화소의 액정 커패시터(Clc)와 적색(R) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)의 합과 동일하게 되고, 또한 청색(B) 화소의 액정 커패시터(Clc)와 청색(B) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)의 합과도 동일하게 된다.
이하에서는, 도 3b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 단면 구조에 대해서 설명하기로 한다.
도 3b에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에는 게이트 전극(110a) 및 공통 배선(120)이 소정 거리를 두고 이격 형성되어 있다. 상기 게이트 전극(110a) 및 공통 배선(120)은 서로 동일한 재료로 이루어질 수 있다.
상기 게이트 전극(110a) 및 공통 배선(120) 상에는 게이트 절연막(130)이 형성되어 있다.
상기 게이트 절연막(130) 상에는 반도체층(135)이 형성되어 있다. 구체적으로 도시하지는 않았지만, 상기 반도체층(135)은 액티브층 및 상기 액티브층 상에 형성된 오믹콘택층의 조합으로 이루어질 수 있다.
상기 반도체층(135) 상에는 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)이 서로 마주하도록 형성되어 있다. 여기서, 상기 드레인 전극(160)은 상기 공통 배선(120)과 중첩하도록 연장되어 있다. 따라서, 게이트 절연막(130)을 사이에 두고 서로 중첩하게 형성된 드레인 전극(160)과 공통 배선(120)에 의해서 스토리지 커패시터(Cst)가 형성될 수 있다.
상기 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160) 상에는 보호막(170)이 형성되어 있다. 상기 보호막(170)에는 제1 콘택홀(H1)이 구비되어 있고, 상기 제1 콘택홀(H1)에 의해서 상기 드레인 전극(160)의 소정 영역이 노출된다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 개략적인 평면도이다. 도 4에 도시한 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터는, 면적이 서로 상이한 복수 개의 화소 별로 기생 커패시터(Cgs)를 상이하게 디자인함으로써 결과적으로 화소 별로 △Vp값을 균일하게 조절한 실시예이다.
도 4에서 알 수 있듯이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 트랜지스터 기판은, 기판(100), 게이트 배선(110), 공통 배선(120), 데이터 배선(140), 소스 전극(150), 및 드레인 전극(160)을 포함하여 이루어진다. 전술한 실시예와 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다.
우선, 전술한 실시예와 마찬가지로, 녹색(G) 화소의 면적이 적색(R) 화소의 면적 및 청색(B) 화소의 면적보다 크게 형성되며, 따라서, 녹색(G) 화소의 액정 커패시터(Clc)가 적색(R) 또는 청색(B) 화소의 액정 커패시터(Clc)에 비하여 크게 된다.
다음, 전술한 실시예와 달리, 복수 개의 화소들은 각각의 스토리지 커패시터(Cst)가 서로 동일하도록 디자인된다. 즉, 녹색(G) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)는 적색(R) 화소의 스토리지 커패시터(Cst) 및 청색(B) 화소의 스토리지 커패시터(Cst)와 동일하게 디자인된다. 따라서, 각각의 화소 별로 드레인 전극(160)과 공통 배선(120) 사이의 중첩 면적이 서로 동일하게 된다.
한편, 도 4의 확대도에서 알 수 있듯이, 각각의 화소별로 전자(electron)의 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극(150)의 길이(a) 및 드레인 전극(160)의 길이(b)의 평균값(W), 즉, (a+b)/2의 값이 상이하도록 디자인한다.
상기 전자의 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극(150)의 길이(a)는 굵은 선으로 표기된 부분의 길이로서, 드레인 전극(160)과 마주하는 소스 전극(150)의 부분 중에서 반도체층(135)과 오버랩되는 부분의 길이이다.
상기 전자의 이동 채널 영역에 대응하는 드레인 전극(160)의 길이(b)는 굵은 선으로 표기된 부분의 길이로서, 소스 전극(150)과 마주하는 드레인 전극(160)의 부분 중에서 반도체층(135)과 오버랩되는 부분의 길이이다.
상기 전자(electron)의 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극(150)의 길이(a) 및 드레인 전극(160)의 길이(b)의 평균값(W)(이하, '평균값(W)'으로 약칭함)은 기생 커패시터(Cgs)에 비례하므로, 상기 평균값(W)을 조절함으로써 기생 커패시터(Cgs)를 조절할 수 있다.
구체적으로는, 녹색(G) 화소에서의 상기 평균값(W)은 적색(R) 화소 및 청색(B) 화소에서의 상기 평균값(W)보다 크게 되도록 디자인된다. 또한, 적색(R) 화소에서의 상기 평균값(W)은 청색(B) 화소에서의 상기 평균값(W)과 동일하도록 디자인된다.
결과적으로, 복수 개의 화소별 액정 커패시터(Clc)의 차이가 복수 개의 화소별 기생 커패시터(Cgs)의 차이에 의해서 보상될 수 있어, 모든 화소별로 △Vp값이 동일하게 조절될 수 있다.
한편, 구체적으로 도시하지는 않았지만, 도 3a 및 도 3b에 따른 방법과 도 4에 따른 방법을 병행하는 것도 가능하다. 즉, 복수 개의 화소별 액정 커패시터(Clc)의 차이를 복수 개의 화소 별 스토리지 커패시터(Cst)의 차이 및 복수 개의 화소별 기생 커패시터(Cgs)의 차이의 조합에 의해서 보상함으로써, 모든 화소별로 △Vp값을 동일하게 조절할 수 있다.
이상 설명한 본 발명의 다양한 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판은, 복수 개의 화소들 사이의 면적이 서로 상이하면서도 화소 별 △Vp값이 균일하도록 디자인되는 모습에 대해서 설명하기 위한 것으로서, 도면의 간명화 및 설명의 편의를 위해서, 화소 전극 및/또는 공통 전극에 대해서는 도시하지 않았다.
이하에서는, 소정의 화소 전극과 공통 전극이 추가로 포함된 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판에 대해서 설명하기로 한다.
도 5a는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 박막 트랜지스터 기판의 개략적인 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 I-I라인의 단면도이다.
도 5a에서 알 수 있듯이, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 박막 트랜지스터 기판은, 기판(100), 게이트 배선(110), 공통 배선(120), 데이터 배선(140), 소스 전극(150), 드레인 전극(160), 화소 전극(180), 및 공통 전극(190)을 포함하여 이루어진다.
상기 기판(100), 게이트 배선(110), 공통 배선(120), 데이터 배선(140), 소스 전극(150), 및 드레인 전극(160)의 구체적인 구성은 전술한 도 3a 및 도 3b에 따른 실시예 또는 도 4에 따른 실시예와 동일하므로 그에 대한 반복설명은 생략하기로 한다.
상기 화소 전극(180)과 공통 전극(190)은 각각의 화소 내에서 서로 평행하게 배열되어 있다. 상기 화소 전극(180)과 공통 전극(190)은 서로 동일한 층에서 동일한 투명도전물로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.
상기 화소 전극(180)은 화소 전극 연결부(180a)에 연결되어 있고, 상기 화소 전극 연결부(180a)는 제1 콘택홀(H1)을 통해서 드레인 전극(160)과 연결되어 있다. 따라서, 상기 화소 전극(180)은 상기 화소 전극 연결부(180a)를 통해서 상기 드레인 전극(160)과 전기적으로 연결되어 있다.
상기 공통 전극(190)은 공통 전극 연결부(190a)에 연결되어 있다. 따라서, 공통 전극 연결부(190a)에 의해서 복수 개의 화소 각각에 형성되는 복수 개의 공통 전극(190)들이 서로 전기적으로 연결된다. 한편, 상기 공통 전극(190)은 제2 콘택홀(H2)을 통해서 공통 배선(120)과 전기적으로 연결되어 있다.
이와 같은 화소 전극(180)과 공통 전극(190)의 구체적인 형상은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경형성될 수 있다. 예로서, 상기 화소 전극(180)과 공통 전극(190)은 당업계에 공지된 다양한 형태의 IPS(In-Plane Switching) 모드 구조로 형성될 수도 있고, FFS(Fringe Field Switching) 모드 구조로 형성될 수도 있다.
도 5b에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에는 게이트 전극(110a) 및 공통 배선(120)이 소정 거리를 두고 이격 형성되어 있고, 상기 게이트 전극(110a) 및 공통 배선(120) 상에는 게이트 절연막(130)이 형성되어 있다.
상기 게이트 절연막(130) 상에는 반도체층(135)이 형성되어 있고, 상기 반도체층(135) 상에는 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160)이 서로 마주하도록 형성되어 있다. 전술한 바와 같이, 상기 드레인 전극(160)은 상기 공통 배선(120)과 중첩하도록 형성되어 있다.
상기 소스 전극(150) 및 드레인 전극(160) 상에는 보호막(170)이 형성되어 있다. 상기 보호막(170)에는 제1 콘택홀(H1)이 구비되어 있어, 상기 제1 콘택홀(H1)에 의해서 상기 드레인 전극(160)의 소정 영역이 노출된다. 또한, 상기 보호막(170) 및 게이트 절연막(130)에는 제2 콘택홀(H2)이 구비되어 있어, 상기 제2 콘택홀(H2)에 의해서 상기 공통 배선(120)의 소정 영역이 노출된다.
상기 보호막(170) 상에는 화소 전극 연결부(180a), 공통 전극(190), 및 화소 전극(180)가 소정 간격으로 이격 배열되어 있다. 이때, 상기 화소 전극 연결부(180a)는 상기 제1 콘택홀(H1)을 통해서 상기 드레인 전극(160)과 전기적으로 연결되어 있다. 또한, 상기 공통 전극(190)은 상기 제2 콘택홀(H2)을 통해서 상기 공통 배선(120)과 전기적으로 연결되어 있다.
한편, 이상은 본 발명에 따른 액정표시장치를 구성하는 박막 트랜지스터 기판의 구성에 대해서 상세히 설명하였는데, 본 발명에 따른 액정표시장치는 박막 트랜지스터 기판과 더불어 그에 대향하는 컬러 필터 기판 및 상기 양 기판 사이에 형성되는 액정층을 포함하여 이루어진다.
상기 컬러 필터 기판은 화소 영역 이외의 영역으로 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 블랙 매트릭스(Black matrix), 상기 블랙 매트릭스 사이에 형성된 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 컬러필터층, 상기 컬러필터층 상에 형성된 오버코트층을 포함하여 이루어질 수 있다.
100: 기판 110, 110a: 게이트 배선, 게이트 전극
120: 공통 배선 130: 게이트 절연막
135: 반도체층 140: 데이터 배선
150: 소스 전극 160: 드레인 전극
170: 보호막 180: 화소 전극
190: 공통 전극 H1, H2: 제1, 제2 콘택홀

Claims (10)

  1. 기판 상에서 서로 교차 배열되어 복수 개의 화소를 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선;
    상기 데이터 배선과 상이한 층에서 소정 방향으로 배열되어 있는 공통 배선;
    상기 데이터 배선과 연결되어 있는 소스 전극 및 상기 소스 전극과 마주하고 있는 드레인 전극;
    상기 소스 전극 및 드레인 전극과 연결되어 전자의 이동 채널이 되는 반도체층; 및
    상기 드레인 전극과 전기적으로 연결되어 있는 화소 전극을 포함하여 이루어지고,
    이때, 상기 복수 개의 화소는 제1 화소 및 상기 제1 화소보다 면적이 큰 제2 화소를 포함하여 이루어지고, 제1 화소의 △Vp값이 제2 화소의 △Vp값과 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 화소의 스토리지 커패시터(Cst)가 상기 제1 화소의 스토리지 커패시터(Cst) 보다 작은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 화소의 액정 커패시터(Clc)와 스토리지 커패시터(Cst)의 합이 상기 제2 화소의 액정 커패시터(Clc)와 스토리지 커패시터(Cst)의 합과 동일한 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제2 화소에서 상기 공통 배선과 상기 드레인 전극 사이의 중첩 면적은 상기 제1 화소에서 상기 공통 배선과 상기 드레인 전극 사이의 중첩 면적보다 작은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 화소 내의 공통 배선은 상기 제2 화소 내의 공통 배선과 동일한 패턴으로 형성되어 있고, 상기 제2 화소에서 상기 공통 배선과 중첩하는 상기 드레인 전극의 면적은 상기 제1 화소에서 상기 공통 배선과 중첩하는 상기 드레인 전극의 면적보다 작은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 제1 화소 내의 드레인 전극은 상기 제2 화소 내의 드레인 전극과 동일한 패턴으로 형성되어 있고, 상기 제2 화소에서 상기 드레인 전극과 중첩하는 상기 공통 배선의 면적이 상기 제1 화소에서 상기 드레인 전극과 중첩하는 상기 공통 배선의 면적보다 작은 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 제1 화소 내의 드레인 전극과 공통 배선은 상기 제2 화소 내의 드레인 전극과 공통 배선과 서로 상이한 패턴으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제2 화소의 기생 커패시터(Cgs)가 상기 제1 화소의 기생 커패시터(Cgs) 보다 큰 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제2 화소 내의 전자 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극의 길이 및 드레인 전극의 길이의 평균값은, 상기 제1 화소 내의 전자 이동 채널 영역에 대응하는 소스 전극의 길이 및 드레인 전극의 길이의 평균값보다 큰 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 제2 화소는 녹색 화소이고, 상기 제1 화소는 적색 또는 청색 화소인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.
KR1020110110752A 2011-10-27 2011-10-27 액정표시장치 KR101874789B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110110752A KR101874789B1 (ko) 2011-10-27 2011-10-27 액정표시장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110110752A KR101874789B1 (ko) 2011-10-27 2011-10-27 액정표시장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130046266A true KR20130046266A (ko) 2013-05-07
KR101874789B1 KR101874789B1 (ko) 2018-07-06

Family

ID=48658004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110110752A KR101874789B1 (ko) 2011-10-27 2011-10-27 액정표시장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101874789B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200113080A (ko) 2019-03-21 2020-10-06 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 리페어 방법

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101142785B1 (ko) * 2005-06-28 2012-05-08 엘지디스플레이 주식회사 박막트랜지스터를 포함하는 액정표시장치
KR101255327B1 (ko) * 2005-12-27 2013-04-16 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR20080086730A (ko) * 2007-03-23 2008-09-26 삼성전자주식회사 표시 기판 및 이를 갖는 표시 장치
KR101689319B1 (ko) * 2009-12-28 2017-01-02 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101874789B1 (ko) 2018-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10088720B2 (en) TFT array substrate and display device with tilt angle between strip-like pixel electrodes and direction of initial alignment of liquid crystals
US9507230B2 (en) Array substrate, liquid crystal panel and liquid crystal display
US7636144B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US10025147B2 (en) Blue phase liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US10288955B2 (en) Liquid crystal display device
US8922742B2 (en) IPS-type liquid crystal display device having improved capacitance between pixel electrode and counter electrode
US20170160605A1 (en) Curved liquid crystal display
KR101098084B1 (ko) 액정 표시 장치
TWI526761B (zh) 液晶顯示面板
US10620487B2 (en) Pixel structure, array substrate, display device and method for manufacturing the same
KR20090088729A (ko) 표시 장치
US8975631B2 (en) Array substrate, manufacturing method, and display device thereof
CN103946741A (zh) 有源矩阵基板、液晶显示装置以及有源矩阵基板的制造方法
WO2015192435A1 (zh) Tft阵列基板结构
WO2020103774A1 (zh) 阵列基板、显示面板和显示装置
KR20130104429A (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20120089965A (ko) 액정 표시 장치
US20200319519A1 (en) Liquid crystal display panel
CN108490705B (zh) 阵列基板、液晶显示面板与显示装置
US9400409B2 (en) Liquid crystal display
CN108319062B (zh) 阵列基板及液晶显示面板
US10564490B2 (en) Array substrate, method for fabricating the same, and display device
KR20130060603A (ko) 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치용 어레이기판
KR101874789B1 (ko) 액정표시장치
CN107561801A (zh) 一种液晶显示面板及阵列基板

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right