KR20130034005A - Curable composition, hardened material, and method for using curable composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (A) 특정의 반복 단위를 갖는 실란 화합물 공중합체, (B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물, (C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 및 (D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 경화성 조성물, 이 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 그리고, 상기 조성물을 광소자 고정재용 접착제 및 광소자 고정재용 밀봉재로서 사용하는 방법이다. 본 발명의 경화성 조성물에 의하면, 고에너지의 광이 조사되는 경우나 고온 상태라도, 착색하여 투명성이 저하되거나 하는 경우가 없어, 장기에 걸쳐 우수한 투명성을 가지며, 또한, 고온에 있어서도 높은 접착력을 갖는 경화물을 얻을 수 있다. 본 발명의 경화성 조성물은 광소자 고정재를 형성할 때에 사용할 수 있고, 특히, 광소자 고정재용 접착제, 및 광소자 고정재용 밀봉제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The present invention provides a curing agent containing (A) a silane compound copolymer having a specific repeating unit, (B) an epoxy compound having an isocyanurate skeleton, (C) an alicyclic acid anhydride having a carboxyl group, and (D) an acid. A curable composition containing a silane coupling agent having an anhydride structure, a cured product obtained by curing the composition, and a method of using the composition as an adhesive for an optical device fixing material and a sealing material for an optical device fixing material. According to the curable composition of this invention, even when high energy light is irradiated or a high temperature state, it does not color and transparency does not fall, it has excellent transparency over a long term, and it has a high adhesive force even at high temperature. You can get the cargo. The curable composition of this invention can be used when forming an optical element fixing material, Especially it can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials, and the sealing agent for optical element fixing materials.

Description

경화성 조성물, 경화물 및 경화성 조성물의 사용 방법{CURABLE COMPOSITION, HARDENED MATERIAL, AND METHOD FOR USING CURABLE COMPOSITION}Curable composition, hardened | cured material, and usage method of curable composition {CURABLE COMPOSITION, HARDENED MATERIAL, AND METHOD FOR USING CURABLE COMPOSITION}

본 발명은 투명성 및 내열성이 우수하고, 또한, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 경화성 조성물, 이 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 그리고, 상기 조성물을 광소자 고정재용 접착제 또는 광소자 고정재용 밀봉제로서 사용하는 방법에 관한 것이다.This invention is excellent in transparency and heat resistance, and also the curable composition from which the hardened | cured material which has high adhesive force is obtained, the hardened | cured material formed by hardening this composition, and the said composition is used as an adhesive for optical element fixing materials, or the sealing agent for optical element fixing materials. It is about how to use.

종래, 경화성 조성물은 용도에 따라 여러가지 개량이 이루어져, 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 산업상 널리 이용되어 오고 있다. 예를 들어, 투명성이 우수한 경화물을 형성하는 경화성 조성물은, 광학 부품의 원료나, 그 코팅제로서, 또 높은 접착력을 갖는 경화물을 형성하는 경화성 조성물은, 접착제나 코팅제로서 바람직하게 사용되는 경우가 많다. Conventionally, the curable composition is variously improved according to a use, and has been widely used industrially as a raw material, an adhesive agent, a coating agent, etc. of an optical component or a molded object. For example, the curable composition which forms the hardened | cured material excellent in transparency is a raw material of an optical component, and the curable composition which forms the hardened | cured material which has a high adhesive force as a raw material of the optical component, and is used suitably as an adhesive agent or a coating agent. many.

또, 최근, 경화성 조성물은 광소자 밀봉체를 제조할 때에, 광소자 고정재용 접착제나 광소자 고정재용 밀봉제 등의 광소자 고정재용 조성물로서도 이용되어 오고 있다.Moreover, in recent years, when manufacturing an optical element sealing body, curable composition has been used also as composition for optical element fixing materials, such as the adhesive agent for optical element fixing materials, and the sealing agent for optical element fixing materials.

광소자에는, 반도체 레이저 (LD) 등의 각종 레이저나 발광 다이오드 (LED) 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광소자, 광 집적 회로 등이 있다. 최근에는, 발광의 피크 파장이 보다 단파장인 청색광이나 백색광의 광소자가 개발되어 널리 사용되어 오고 있다. 이와 같은 발광의 피크 파장이 짧은 발광 소자의 고휘도화가 비약적으로 진행되고, 이것에 수반하여 광소자의 발열량이 더욱 커져 가는 경향이 있다.Optical devices include various lasers such as semiconductor lasers (LD) and light emitting devices such as light emitting diodes (LEDs), light receiving devices, composite optical devices, and optical integrated circuits. In recent years, optical devices of blue or white light having a shorter peak wavelength of light emission have been developed and widely used. Such high luminance of a light emitting device having a short peak wavelength of light emission proceeds dramatically, and there is a tendency that the amount of heat generated by the optical device is further increased.

그런데, 최근에 있어서의 광소자의 고휘도화에 수반하여, 광소자 고정재용 조성물의 경화물이, 보다 높은 에너지의 광이나 광소자로부터 발생하는 보다 고온의 열에 장시간 노출되어, 열화되어 크랙이 발생하거나 박리되거나 한다는 문제가 발생하였다.By the way, in recent years with the high brightness of the optical element, the hardened | cured material of the composition for optical element fixing materials is exposed to higher temperature heat | fever which generate | occur | produces from higher energy light or an optical element for a long time, and it cracks or peels off. Problem occurred.

이 문제를 해결하기 위하여, 특허문헌 1 ~ 3 에 있어서, 폴리실세스퀴옥산 화합물을 주성분으로 하는 광소자 고정재용 조성물이 제안되어 있다. In order to solve this problem, in patent documents 1-3, the composition for optical element fixing materials which has a polysilsesquioxane compound as a main component is proposed.

그러나, 특허문헌 1 ~ 3 에 기재된 폴리실세스퀴옥산 화합물을 주성분으로 하는 광소자 고정재용 조성물의 경화물이어도, 충분한 접착력을 유지하면서, 내열성 및 투명성을 얻는 것은 곤란한 경우가 있었다.However, even if it is the hardened | cured material of the composition for optical element fixing materials which has the polysilsesquioxane compound of patent documents 1-3 as a main component, it may be difficult to acquire heat resistance and transparency, maintaining sufficient adhesive force.

또, 광소자 밀봉용으로 사용하는 조성물로서 특허문헌 4 에는, 지환식 에폭시 수지를 사용하는 에폭시 수지 조성물이, 특허문헌 5 에는, 폴리티올 화합물을 함유하는 에폭시 수지 조성물이 제안되어 있다. Moreover, the epoxy resin composition which contains the polythiol compound in patent document 4 and the epoxy resin composition which uses alicyclic epoxy resin is proposed by patent document 4 as a composition used for optical element sealing.

그러나, 이들의 조성물을 사용하는 경우라도, 시간 경과적 변화에 수반하는 충분한 내광 열화성을 만족시킬 수 없거나, 접착력이 저하되는 경우가 있었다.However, even when using these compositions, sufficient light deterioration resistance with time-dependent change could not be satisfied, or the adhesive force might fall.

일본 공개특허공보 2004-359933호Japanese Laid-Open Patent Publication 2004-359933 일본 공개특허공보 2005-263869호Japanese Laid-Open Patent Publication 2005-263869 일본 공개특허공보 2006-328231호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-328231 일본 공개특허공보 평7-309927호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 7-309927 일본 공개특허공보 2009-001752호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-001752

본 발명은 이러한 종래 기술의 실정을 감안하여 이루어진 것으로서, 내열성 및 투명성이 우수하고, 또한, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 경화성 조성물, 이 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물, 그리고, 상기 조성물을 광소자 고정재용 접착제 또는 광소자 고정재용 밀봉제로서 사용하는 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.This invention is made | formed in view of such a situation of the prior art, The curable composition which is excellent in heat resistance and transparency, and also the hardened | cured material which obtains the hardened | cured material which has high adhesive force, the hardened | cured material formed by hardening this composition, and the said composition is an optical element. An object of the present invention is to provide a method for use as an adhesive for a fixing material or a sealant for an optical device fixing material.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 연구를 거듭한 결과, (A) 특정의 실란 화합물 공중합체, (B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물, (C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 그리고 (D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 조성물의 경화물은, 장기에 걸쳐 우수한 투명성, 내열성을 유지하면서, 또한, 고온에 있어서도 높은 접착력을 갖는 경화물이 되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly researched in order to solve the said subject, As a result, (A) the specific silane compound copolymer, (B) the epoxy compound which has isocyanurate frame | skeleton, and (C) alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group Cured product of the composition containing the curing agent and (D) silane coupling agent having an acid anhydride structure, while maintaining excellent transparency and heat resistance over a long period of time, and also becomes a cured product having a high adhesion even at high temperatures It was found out and completed this invention.

이렇게 하여 본 발명의 제 1 에 의하면, 하기 [1] ~ [9] 의 경화성 조성물이 제공된다. In this way, according to the 1st of this invention, the curable composition of the following [1]-[9] is provided.

[1] (A) 분자 내에, 하기 식 (i), (ii) 및 (iii)[1] In the molecule (A), the following formulas (i), (ii) and (iii)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

[식 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X0 은 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다.] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 0 represents a halogen atom, a cyano group or a group represented by the formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. R <2> represents the C1-C20 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent.]

으로 나타내는 반복 단위 중, (i) 및 (ii), (i) 및 (iii), (ii) 및 (iii), 또는 (i), (ii) 및 (iii) 의 반복 단위를 갖고, 중량 평균 분자량이, 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체, It has a repeating unit of (i) and (ii), (i) and (iii), (ii) and (iii) or (i), (ii) and (iii) among the repeating units represented by A silane compound copolymer having a molecular weight of 1,000 to 30,000,

(B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물, (B) an epoxy compound having an isocyanurate skeleton,

(C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 그리고 (C) a curing agent containing an alicyclic acid anhydride having a carboxyl group, and

(D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제 (D) Silane coupling agent having an acid anhydride structure

를 함유하는 경화성 조성물.Curable composition containing.

[2] 상기 (A) 의 실란 화합물 공중합체가, 식 : R1-CH(XO)-D- 로 나타내는 기의 존재량 ([R1-CH(XO)-D]) 과 R2 의 존재량 ([R2]) 의 몰비로, [R1-CH(XO)-D]:[R2] = 60:40 ~ 5:95 의 실란 화합물 공중합체인 [1] 에 기재된 경화성 조성물. [2] The amount of groups ([R 1 -CH (X O ) -D]) and R 2 in which the silane compound copolymer of the above (A) is represented by the formula: R 1 -CH (X O ) -D- in a molar ratio of the amount present ([R 2]), [ R 1 -CH (X O) -D]: [R 2] = 60: 40 ~ 5: 95 the curable composition according to the silane compound copolymer [1] of .

[3] 상기 (A), (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, (A) 와 [(B)+(C)+(D)] 의 질량비로, (A):[(B)+(C)+(D)] = 90:10 ~ 50:50 인 것을 특징으로 하는 [1] 또는 [2] 에 기재된 경화성 조성물. [3] The content ratio of the components (A), (B), (C) and (D) is a mass ratio of (A) and [(B) + (C) + (D)], (A): [(B) + (C) + (D)] = 90: 10-50: 50 The curable composition as described in [1] or [2] characterized by the above-mentioned.

[4] (A') 식 (1) : R1-CH(XO)-D-Si(OR3)p(X1)3-p [4] (A ') Formula (1): R 1 -CH (X O ) -D-Si (OR 3 ) p (X 1 ) 3-p

[식 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X0 은 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. R3 은 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, p 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다.] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 0 represents a halogen atom, a cyano group or a group represented by the formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. R 3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p represents an integer of 0 to 3.]

로 나타내는 실란 화합물 (1) 의 적어도 1 종, 및At least one of the silane compounds (1) represented by

식 (2) : R2Si(OR4)q(X2)3-q Formula (2): R 2 Si (OR 4 ) q (X 2 ) 3-q

(식 중, R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, R4 는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X2 는 할로겐 원자를 나타내고, q 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다) (In formula, R <2> represents a C1-C20 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent, R <4> represents a C1-C6 alkyl group, X <2> represents a halogen atom, q is an integer of 0-3. Indicates)

로 나타내는 실란 화합물 (2) 의 적어도 1 종을 함유하는 실란 화합물의 혼합물을 축합시켜 얻어지는 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체, Silane compound copolymer whose weight average molecular weights obtained by condensing the mixture of the silane compound containing at least 1 sort (s) of the silane compound (2) represented by 1,000-30,000,

(B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물, (B) an epoxy compound having an isocyanurate skeleton,

(C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 그리고 (C) a curing agent containing an alicyclic acid anhydride having a carboxyl group, and

(D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제 (D) Silane coupling agent having an acid anhydride structure

를 함유하는 경화성 조성물.Curable composition containing.

[5] 상기 (A') 의 실란 화합물 공중합체가, 실란 화합물 (1) 과 실란 화합물 (2) 를, 몰비로, [실란 화합물 (1)]:[실란 화합물 (2)] = 60:40 ~ 5:95 의 비율로 축합시켜 얻어지는 것인 [4] 에 기재된 경화성 조성물. [5] The silane compound copolymer of (A ') contains a silane compound (1) and a silane compound (2) in a molar ratio, [silane compound (1)]: [silane compound (2)] = 60:40 Curable composition as described in [4] obtained by condensing at the ratio of-5:95.

[6] 상기 (A'), (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, (A') 와 [(B)+(C)+(D)] 의 질량비로, (A'):[(B)+(C)+(D)] = 90:10 ~ 50:50 인 것을 특징으로 하는 [4] 또는 [5] 에 기재된 경화성 조성물.[6] The content ratio of the above-mentioned (A '), (B), (C) and (D) component is a mass ratio of (A') and [(B) + (C) + (D)], (A '): [(B) + (C) + (D)] = 90: 10-50: 50 The curable composition as described in [4] or [5] characterized by the above-mentioned.

[7] 상기 (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, [(B)+(C)] 와 (D) 의 질량비로, [(B)+(C)]:(D) = 90:10 ~ 10:90 인 것을 특징으로 하는 [1] 또는 [4] 에 기재된 경화성 조성물. [7] The content ratio of the components (B), (C) and (D) is [(B) + (C)] and (D) in the mass ratio of [(B) + (C)]: (D ) = 90:10-10:90, The curable composition as described in [1] or [4] characterized by the above-mentioned.

[8] 상기 (C) 의 경화제가 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물 및 그 밖의 지환식 산무수물로부터 선택되는 1 종 또는 2 종 이상으로 이루어지고, 그 질량비가, (카르복실기를 갖는 지환식 산무수물):(그 밖의 지환식 산무수물) = 100:0 ~ 10:90 인 [1] 또는 [4] 에 기재된 경화성 조성물. [8] The curing agent of (C) comprises one or two or more selected from alicyclic acid anhydrides having carboxyl groups and other alicyclic acid anhydrides, and the mass ratio thereof is (alicyclic acid anhydrides having carboxyl groups). : (Other alicyclic acid anhydride) = Curable composition as described in [1] or [4] which is 100: 0-10: 90.

[9] 광소자 고정재용 조성물인 [1] 또는 [4] 에 기재된 경화성 조성물.[9] The curable composition according to [1] or [4], which is a composition for an optical device fixing material.

본 발명의 제 2 에 의하면, 하기 [10], [11] 의 경화물이 제공된다. According to the 2nd of this invention, the hardened | cured material of following [10] and [11] is provided.

[10] [1] 또는 [4] 에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물. [10] A cured product obtained by curing the curable composition according to [1] or [4].

[11] 광소자 고정재인 [10] 에 기재된 경화물.[11] The cured product according to [10], which is an optical element fixing material.

본 발명의 제 3 에 의하면, 하기 [12], [13] 의 본 발명의 경화성 조성물을 사용하는 방법이 제공된다. According to the 3rd of this invention, the method of using the curable composition of this invention of following [12] and [13] is provided.

[12] [1] 또는 [4] 에 기재된 경화성 조성물을, 광소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법. [12] A method of using the curable composition according to [1] or [4] as an adhesive for an optical device fixing material.

[13] [1] 또는 [4] 에 기재된 경화성 조성물을, 광소자 고정재용 밀봉제로서 사용하는 방법.[13] A method of using the curable composition according to [1] or [4] as a sealant for an optical device fixing material.

본 발명의 경화성 조성물에 의하면, 고에너지의 광이 조사되는 경우나 고온 상태라도, 착색하여 투명성이 저하되거나 하는 경우가 없어, 장기에 걸쳐 우수한 투명성을 가지며, 또한, 고온에 있어서도 높은 접착력을 갖는 경화물을 얻을 수 있다. According to the curable composition of this invention, even when high energy light is irradiated or a high temperature state, it does not color and transparency does not fall, it has excellent transparency over a long term, and it has a high adhesive force even at high temperature. You can get the cargo.

본 발명의 경화성 조성물은 광소자 고정재를 형성할 때에 사용할 수 있고, 특히, 광소자 고정재용 접착제, 및 광소자 고정재용 밀봉제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used when forming an optical element fixing material, Especially it can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials, and the sealing agent for optical element fixing materials.

이하, 본 발명을, 1) 경화성 조성물, 2) 경화물, 및, 3) 경화성 조성물의 사용 방법으로 항 분류하여 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is classified into 1 class of curable compositions, 2) hardened | cured material, and 3) the usage method of a curable composition, and it demonstrates in detail.

1) 경화성 조성물 1) Curable Composition

본 발명의 경화성 조성물은, The curable composition of the present invention comprises

(A) 분자 내에, 하기 식 (i), (ii) 및 (iii)In the molecule (A), the following formulas (i), (ii) and (iii)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[식 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X0 은 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다.] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 0 represents a halogen atom, a cyano group or a group represented by the formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. R <2> represents the C1-C20 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent.]

로 나타내는 반복 단위 중, (i) 및 (ii), (i) 및 (iii), (ii) 및 (iii), 또는 (i), (ii) 및 (iii) 의 반복 단위를 갖고, 중량 평균 분자량이, 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체, (B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물, (C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 그리고 (D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제를 함유하는 것을 특징으로 한다. In the repeating unit shown by (b), it has a repeating unit of (i) and (ii), (i) and (iii), (ii) and (iii) or (i), (ii) and (iii), and a weight average A silane compound copolymer having a molecular weight of 1,000 to 30,000, an epoxy compound having an isocyanurate skeleton (B), a curing agent containing an alicyclic acid anhydride having a (C) carboxyl group, and a silane having an (D) acid anhydride structure It is characterized by containing a coupling agent.

(A) 실란 화합물 공중합체 (A) Silane Compound Copolymer

본 발명의 경화성 조성물은, (A) 성분으로서 상기 식 (i), (ii) 및 (iii) 으로 나타내는 반복 단위 중, (i) 및 (ii), (i) 및 (iii), (ii) 및 (iii), 또는 (i), (ii) 및 (iii) 의 반복 단위를 갖고, 중량 평균 분자량이, 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체 (이하, 「실란 화합물 공중합체 (A)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유한다. Curable composition of this invention is (i) and (ii), (i) and (iii), (ii) in the repeating unit represented by said Formula (i), (ii) and (iii) as (A) component. And a silane compound copolymer having a repeating unit of (iii) or (i), (ii) and (iii) and having a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 (hereinafter referred to as "silane compound copolymer (A)"). Sometimes).

실란 화합물 공중합체 (A) 는, (i), (ii), (iii) 으로 나타내는 반복 단위를 각각 1 종 갖고 있어도 되고, 2 종 이상 갖고 있어도 된다.The silane compound copolymer (A) may have 1 type, respectively, and may have 2 or more types of repeating units represented by (i), (ii), and (iii).

식 (i) ~ (iii) 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, 수소 원자가 바람직하다. R <1> represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group in formula (i)-(iii), and a hydrogen atom is preferable.

R1 로 나타내는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, t-부틸기, i-부틸기, s-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 1 are methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, t-butyl group, i-butyl group, s-butyl group, n-pen Tyl group, n-hexyl group, etc. are mentioned.

X0 은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자 ; 시아노기 ; 또는 식 : OG 로 나타내는 기 ; 를 나타낸다.X <0> is halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom; Cyano group; Or formula: group represented by OG; Indicates.

G 는 수산기의 보호기를 나타낸다. 수산기의 보호기로는, 특별히 제약되지 않고, 수산기의 보호기로서 알려져 있는 공지된 보호기를 들 수 있다. 예를 들어, 아실계 보호기 ; 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, t-부틸디페닐실릴기 등의 실릴계 보호기 ; 메톡시메틸기, 메톡시에톡시메틸기, 1-에톡시에틸기, 테트라하이드로피란-2-일기, 테트라하이드로푸란-2-일기 등의 아세탈계 보호기 ; t-부톡시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐계 보호기 ; 메틸기, 에틸기, t-부틸기, 옥틸기, 알릴기, 트리페닐메틸기, 벤질기, p-메톡시벤질기, 플루오레닐기, 트리틸기, 벤즈하이드릴기 등의 에테르계 보호기 ; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, G 로는, 아실계 보호기가 바람직하다.G represents a protecting group of a hydroxyl group. There is no restriction | limiting in particular as a protecting group of a hydroxyl group, The well-known protecting group known as a protecting group of a hydroxyl group is mentioned. For example, acyl-type protecting group; Silyl-based protecting groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group and t-butyldiphenylsilyl group; Acetal type protecting groups, such as a methoxymethyl group, a methoxyethoxymethyl group, 1-ethoxyethyl group, tetrahydropyran-2-yl group, and tetrahydrofuran-2-yl group; alkoxycarbonyl protecting groups such as t-butoxycarbonyl group; Ether-based protecting groups such as methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, allyl group, triphenylmethyl group, benzyl group, p-methoxybenzyl group, fluorenyl group, trityl group and benzhydryl group; And the like. Among these, as G, an acyl-type protecting group is preferable.

아실계 보호기는, 구체적으로는, 식 : -C(=O)R5 로 나타내는 기이다. 식 중, R5 는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, s-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기 등의 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기 ; 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다.Acyl-based protecting group, specifically, the formula: -C (= O), a group represented by R 5. In formula, R <5> is C1-C6, such as a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, etc. Alkyl group; Or the phenyl group which may have a substituent is shown.

R5 로 나타내는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, s-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, i-옥틸기 등의 알킬기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 를 들 수 있다.As a substituent of the phenyl group which may have a substituent represented by R <5> , a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n Alkyl groups such as -pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and i-octyl group; Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; .

이들 중에서도, X0 으로는, 입수 용이성, 및, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 점에서, 염소 원자, 식 : OG' 로 나타내는 기 (식 중, G' 는 아실계 보호기를 나타낸다), 및 시아노기로부터 선택되는 기가 바람직하고, 염소 원자, 아세톡시기 및 시아노기로부터 선택되는 기가 보다 바람직하고, 아세톡시기가 특히 바람직하다.Among these, as X 0 , a chlorine atom, a group represented by the formula: OG '(in the formula, G' represents an acyl-based protecting group) in terms of availability and a cured product having a high adhesive strength can be obtained, and cyan A group selected from the furnace group is preferable, a group selected from a chlorine atom, an acetoxy group and a cyano group is more preferable, and an acetoxy group is particularly preferable.

D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. D represents a single bond or a linking group.

연결기로는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 유기기를 들 수 있다. 당해 유기기의 탄소수는 1 ~ 20 이 바람직하고, 1 ~ 10 이 보다 바람직하다. Examples of the linking group include divalent organic groups which may have a substituent. 1-20 are preferable and, as for carbon number of the said organic group, 1-10 are more preferable.

치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 유기기로는, 예를 들어, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 (알킬렌기, 알케닐렌기, 또는 알키닐렌기) 와 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴렌기의 조합으로 이루어지는 2 가의 기 등을 들 수 있다.As a divalent organic group which may have a substituent, for example, the alkylene group which may have a substituent, the alkenylene group which may have a substituent, the alkynylene group which may have a substituent, the arylene group which may have a substituent, and a substituent The divalent group etc. which consist of the combination of the (alkylene group, alkenylene group, or alkynylene group) which may have and arylene group which may have a substituent are mentioned.

치환기를 갖고 있어도 되는 알킬렌기의 알킬렌기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기 등의 탄소수 1 ~ 20, 바람직하게는 탄소수 1 ~ 10 의 알킬렌기를 들 수 있다. As an alkylene group of the alkylene group which may have a substituent, C1-C20, such as methylene group, ethylene group, a propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, and hexamethylene group, Preferably it is C1-C20 10 alkylene groups are mentioned.

치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐렌기의 알케닐렌기로는, 비닐렌기, 프로페닐렌기, 부테닐렌기, 펜테닐렌기 등의 탄소수 2 ~ 20 의 알케닐렌기, 바람직하게는, 탄소수 2 ~ 10 의 알케닐렌기를 들 수 있다. As an alkenylene group of the alkenylene group which may have a substituent, C2-C20 alkenylene groups, such as a vinylene group, a propenylene group, butenylene group, and a pentenylene group, Preferably, it is a C2-C10 alkenylene The group can be mentioned.

치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐렌기의 알키닐렌기로는, 에티닐렌기, 프로피닐렌기 등의 탄소수 2 ~ 20 의 알키닐렌기, 바람직하게는 탄소수 2 ~ 10 의 알키닐렌기를 들 수 있다. As an alkynylene group of the alkynylene group which may have a substituent, C2-C20 alkynylene groups, such as an ethynylene group and a propynylene group, Preferably a C2-C10 alkynylene group is mentioned.

치환기를 갖고 있어도 되는 아릴렌기의 아릴렌기로는, o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 2,6-나프틸렌기 등의 탄소수 6 ~ 20 의 아릴렌기, 바람직하게는 탄소수 6 ~ 10 의 아릴렌기를 들 수 있다.As an arylene group of the arylene group which may have a substituent, C6-C20 arylene groups, such as o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, and 2, 6- naphthylene group, Preferably it is C6 The arylene group of -10 is mentioned.

상기 알킬렌기, 알케닐렌기, 및 알키닐렌기의 치환기로는, 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 메틸티오기, 에틸티오기 등의 알킬티오기 ; 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 알콕시카르보닐기 ; 등을 들 수 있다.As a substituent of the said alkylene group, alkenylene group, and alkynylene group, Halogen atoms, such as a fluorine atom and a chlorine atom; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Alkylthio groups such as methylthio group and ethylthio group; An alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group; And the like.

상기 아릴렌기의 치환기로는, 시아노기 ; 니트로기 ; 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자 ; 메틸기, 에틸기 등의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 메틸티오기, 에틸티오기 등의 알킬티오기 ; 등을 들 수 있다. As a substituent of the said arylene group, Cyano group; Nitro group; Halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; Alkyl groups such as methyl group and ethyl group; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Alkylthio groups such as methylthio group and ethylthio group; And the like.

이들의 치환기는, 알킬렌기, 알케닐렌기, 알키닐렌기 및 아릴렌기 등의 기에 있어서 임의의 위치에 결합하고 있어도 되고, 동일 또는 상이하게 복수 개가 결합하고 있어도 된다.These substituents may be couple | bonded in arbitrary positions in groups, such as an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, and an arylene group, and two or more may be couple | bonded similarly or differently.

치환기를 갖고 있어도 되는 (알킬렌기, 알케닐렌기, 또는 알키닐렌기) 와 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴렌기의 조합으로 이루어지는 2 가의 기로는, 상기 치환기를 갖고 있어도 되는 (알킬렌기, 알케닐렌기, 또는 알키닐렌기) 의 적어도 1 종과, 상기 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴렌기의 적어도 1 종이 직렬로 결합한 기를 들 수 있다. 구체적으로는, 하기 식으로 나타내는 기를 들 수 있다.As a bivalent group which consists of the combination of the (alkylene group, alkenylene group, or alkynylene group) which may have a substituent, and the arylene group which may have a substituent, it may have the said substituent (alkylene group, alkenylene group, or The group which combined at least 1 sort (s) of an alkynylene group) and at least 1 sort (s) of the arylene group which may have the said substituent in series is mentioned. Specifically, group represented by a following formula is mentioned.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

이들 중에서도, D 로는, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 점에서, 탄소수 1 ~ 10 의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1 ~ 6 의 알킬렌기가 보다 바람직하고, 메틸렌기 또는 에틸렌기가 특히 바람직하다.Among these, as D, the hardened | cured material which has a high adhesive force is obtained, a C1-C10 alkylene group is preferable, a C1-C6 alkylene group is more preferable, and a methylene group or ethylene group is especially preferable.

식 (i) ~ (iii) 중, R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. R <2> represents the phenyl group which may have a C1-C20 alkyl group or substituent in formula (i)-(iii).

R2 로 나타내는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, s-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-옥틸기, i-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-도데실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group and n-pen A methyl group, n-hexyl group, n-octyl group, i-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, etc. are mentioned.

R2 로 나타내는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기의 치환기로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, s-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, i-옥틸기 등의 알킬기 ; 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기 ; 불소 원자, 염소 원자 등의 할로겐 원자 등을 들 수 있다.As a substituent of the phenyl group which may have a substituent represented by R <2> , a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n Alkyl groups such as -pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and i-octyl group; Alkoxy groups, such as a methoxy group and an ethoxy group; Halogen atoms such as a fluorine atom and a chlorine atom, and the like.

R2 로 나타내는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기의 구체예로는, 페닐기, 2-클로로페닐기, 4-메틸페닐기, 3-에틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2-메톡시페닐기 등을 들 수 있다.As a specific example of the phenyl group which may have a substituent represented by R <2> , a phenyl group, 2-chlorophenyl group, 4-methylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 2, 4- dimethylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, etc. are mentioned. .

실란 화합물 공중합체 (A) 에 있어서는, 식 : R1-CH(XO)-D- 로 나타내는 기의 존재량 ([R1-CH(XO)-D]) 과 R2 의 존재량 ([R2]) 의 몰비가, [R1-CH(XO)-D]:[R2] = 60:40 ~ 5:95 가 바람직하고, 50:50 ~ 5:95 가 보다 바람직하고, 50:50 ~ 10:90 이 특히 바람직하다. 이와 같은 범위 내임으로써, 투명성 및 접착성이 우수하고, 또한, 내열성이 우수한 경화물이 얻어진다. In the silane compound copolymer (A), the amount of the group represented by the formula: R 1 -CH (X O ) -D- ([R 1 -CH (X O ) -D]) and the amount of R 2 ( The molar ratio of [R 2 ]) is preferably [R 1 -CH (X O ) -D]: [R 2 ] = 60:40 to 5:95, more preferably 50:50 to 5:95, 50: 50-10: 90 are especially preferable. By being in such a range, the hardened | cured material excellent in transparency and adhesiveness and excellent in heat resistance is obtained.

식 : R1-CH(XO)-D- 로 나타내는 기 및 R2 의 존재량은, 예를 들어, 실란 화합물 공중합체 (A) 의 NMR 스펙트럼을 측정하여 정량할 수 있다.The amount of groups represented by the formula: R 1 -CH (X O ) -D- and R 2 can be quantified by measuring the NMR spectrum of the silane compound copolymer (A), for example.

실란 화합물 공중합체 (A) 는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체, 교호 공중합체 등의 어느 공중합체이어도 되는데, 랜덤 공중합체가 특히 바람직하다.The silane compound copolymer (A) may be any copolymer such as a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, an alternating copolymer, and a random copolymer is particularly preferable.

실란 화합물 공중합체 (A) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, 1,000 ~ 30,000 의 범위이고, 바람직하게는 1,500 ~ 6,000 의 범위이다. 당해 범위 내에 있음으로써, 조성물의 취급성이 우수하고, 또한, 접착성, 내열성이 우수한 경화물이 얻어진다. 중량 평균 분자량 (Mw) 은 예를 들어, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용매로 하는 겔·퍼미에이션·크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산값으로서 구할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of a silane compound copolymer (A) is the range of 1,000-30,000, Preferably it is the range of 1,500-6,000. By being in the said range, the hardened | cured material excellent in the handleability of a composition and excellent in adhesiveness and heat resistance is obtained. A weight average molecular weight (Mw) can be calculated | required as a standard polystyrene conversion value by the gel permeation chromatography (GPC) which uses tetrahydrofuran (THF) as a solvent, for example.

실란 화합물 공중합체 (A) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는, 특별히 제한되지 않지만, 통상적으로는 1.0 ~ 3.0 바람직하게는 1.1 ~ 2.0 의 범위이다. 당해 범위 내에 있음으로써, 접착성, 내열성이 우수한 경화물이 얻어진다.Although the molecular weight distribution (Mw / Mn) of a silane compound copolymer (A) is not specifically limited, Usually, 1.0-3.0, Preferably it is the range of 1.1-2.0. By being in the said range, the hardened | cured material excellent in adhesiveness and heat resistance is obtained.

실란 화합물 공중합체 (A) 는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A silane compound copolymer (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

실란 화합물 공중합체 (A) 는 래더형 구조를 갖는 폴리실세스퀴옥산 화합물이다. The silane compound copolymer (A) is a polysilsesquioxane compound having a ladder structure.

실란 화합물 공중합체가 래더형 구조를 갖고 있는 것은, 예를 들어, 반응 생성물의 적외선 흡수 스펙트럼 측정, X 선 회절 측정, NMR 측정을 실시함으로써 확인할 수 있다.That a silane compound copolymer has a ladder structure can be confirmed, for example by performing infrared absorption spectrum measurement, X-ray diffraction measurement, and NMR measurement of a reaction product.

본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, 상기 (A) 성분이, In the curable composition of this invention, the said (A) component,

(A') 식 (1) : R1-CH(XO)-D-Si(OR3)p(X1)3-p (A ') Formula (1): R 1 -CH (X O ) -D-Si (OR 3 ) p (X 1 ) 3-p

[식 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X0 은 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. R3 은 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, p 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다.] [Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 0 represents a halogen atom, a cyano group or a group represented by the formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. R 3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p represents an integer of 0 to 3.]

로 나타내는 실란 화합물 (1) 의 적어도 1 종, 및 At least one of the silane compounds (1) represented by

식 (2) : R2Si(OR4)q(X2)3-q Formula (2): R 2 Si (OR 4 ) q (X 2 ) 3-q

(식 중, R2 는, 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, R4 는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X2 는 할로겐 원자를 나타내고, q 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다) (In formula, R <2> represents a C1-C20 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent, R <4> represents a C1-C6 alkyl group, X <2> represents a halogen atom, q is a 0-3 Represents an integer)

로 나타내는 실란 화합물 (2) 의 적어도 1 종을 함유하는 실란 화합물의 혼합물을 축합시켜 얻어지는, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체 (이하, 「실란 화합물 공중합체 (A')」라고 하는 경우가 있다) 이어도 되고, 실란 화합물 공중합체 (A) 가 실란 화합물 공중합체 (A') 인 것이 바람직하다.Silane compound copolymer (hereinafter referred to as "silane compound copolymer (A ')") having a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 obtained by condensing a mixture of silane compounds containing at least one kind of silane compound (2) represented by It may be sufficient), and it is preferable that a silane compound copolymer (A) is a silane compound copolymer (A ').

[실란 화합물 (1)][Silane compound (1)]

실란 화합물 (1) 은 식 (1) : R1-CH(XO)-D-Si(OR3)p(X1)3- p 로 나타내는 화합물이다. 실란 화합물 (1) 을 사용함으로써, 경화 후에 있어서도 투명성, 접착력이 양호한 실란 화합물 공중합체를 얻을 수 있다.The silane compound (1) is a compound represented by the formula (1): R 1 -CH (X O ) -D-Si (OR 3 ) p (X 1 ) 3- p . By using a silane compound (1), the silane compound copolymer which is excellent in transparency and adhesive force even after hardening can be obtained.

식 (1) 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, 수소 원자가 바람직하다. 구체예로는, 실란 화합물 공중합체 (A) 에 있어서의 R1 로서 예시한 것을 들 수 있다. In formula (1), R <1> represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, and a hydrogen atom is preferable. As an example, what was illustrated as R <1> in a silane compound copolymer (A) is mentioned.

식 (1) 중, X0 은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. X0 과 D 로 나타내는 것의 구체예로는, 각각, 실란 화합물 공중합체 (A) 에 있어서의 X0 과 D 로서 예시한 것을 들 수 있다.In formula (1), X <0> represents group represented by halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, a cyano group, or a formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. Specific examples of what represented by X 0 and D are, respectively, those exemplified as X 0 and D of the silane compound copolymer (A).

R3 은 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, s-부틸기, i-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타낸다. R 3 is carbon number such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group The alkyl group of -6 is shown.

X1 은 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등의 할로겐 원자를 나타낸다. X <1> represents halogen atoms, such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

p 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다. p represents the integer of 0-3.

p 가 2 이상일 때, OR3 끼리는 동일하거나, 상이해도 된다. 또, (3-p) 가 2 이상일 때, X1 끼리는 동일하거나, 상이해도 된다.When p is 2 or more, OR <3> may be same or different. Moreover, when (3-p) is 2 or more, X <1> may be same or different.

실란 화합물 (1) 의 구체예로는, 클로로메틸트리메톡시실란, 브로모메틸트리에톡시실란, 2-클로로에틸트리프로폭시실란, 2-브로모에틸트리부톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 3-클로로프로필트리프로폭시실란, 3-클로로프로필트리부톡시실란, 3-브로모프로필트리메톡시실란, 3-브로모프로필트리에톡시실란, 3-브로모프로필트리프로폭시실란, 3-브로모프로필트리부톡시실란, 3-플루오로프로필트리메톡시실란, 3-플루오로프로필트리에톡시실란, 3-플루오로프로필트리프로폭시실란, 3-플루오로프로필트리부톡시실란, 3-요오드프로필트리메톡시실란, 2-클로로에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 4-클로로부틸트리프로폭시실란, 5-클로로펜틸트리프로폭시실란, 2-클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로-3-아세틸프로필트리메톡시실란, 3-클로로-3-메톡시카르보닐프로필트리메톡시실란, o-(2-클로로에틸)페닐트리프로폭시실란, m-(2-클로로에틸)페닐트리메톡시실란, p-(2-클로로에틸)페닐트리에톡시실란, p-(2-플루오로에틸)페닐트리메톡시실란 등의, X0 이 할로겐 원자인 트리알콕시실란 화합물류 ; Specific examples of the silane compound (1) include chloromethyltrimethoxysilane, bromomethyltriethoxysilane, 2-chloroethyltripropoxysilane, 2-bromoethyltributoxysilane, and 3-chloropropyltri Methoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltripropoxysilane, 3-chloropropyltributoxysilane, 3-bromopropyltrimethoxysilane, 3-bromopropyltriethoxysilane , 3-bromopropyltripropoxysilane, 3-bromopropyltributoxysilane, 3-fluoropropyltrimethoxysilane, 3-fluoropropyltriethoxysilane, 3-fluoropropyltripropoxysilane , 3-fluoropropyltributoxysilane, 3-iodinepropyltrimethoxysilane, 2-chloroethyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 4-chlorobutyltripropoxysilane, 5-chloro Pentyltripropoxysilane, 2-chloropropyltrimethoxysilane, 3-cle Rho-3-acetylpropyltrimethoxysilane, 3-chloro-3-methoxycarbonylpropyltrimethoxysilane, o- (2-chloroethyl) phenyltripropoxysilane, m- (2-chloroethyl) phenyl Trialkoxysilane compounds in which X 0 is a halogen atom such as trimethoxysilane, p- (2-chloroethyl) phenyltriethoxysilane and p- (2-fluoroethyl) phenyltrimethoxysilane;

클로로메틸트리클로로실란, 브로모메틸브로모디메톡시실란, 2-클로로에틸디클로로메톡시실란, 2-브로모에틸디클로로에톡시실란, 3-클로로프로필트리클로로실란, 3-클로로프로필트리브로모실란, 3-클로로프로필디클로로메톡시실란, 3-클로로프로필디클로로에톡시실란, 3-클로로프로필클로로디메톡시실란, 3-클로로프로필클로로디에톡시실란, 3-브로모프로필디클로로에톡시실란, 3-브로모프로필트리브로모실란, 3-브로모프로필트리클로로실란, 3-브로모프로필클로로디메톡시실란, 3-플루오로프로필트리클로로실란, 3-플루오로프로필클로로디메톡시실란, 3-플루오로프로필디클로로메톡시실란, 3-플루오로프로필클로로디에톡시실란, 3-요오드프로필트리클로로실란, 4-클로로부틸클로로디에톡시실란, 3-클로로-n-부틸클로로디에톡시실란, 3-클로로-3-아세틸프로필디클로로에톡시실란, 3-클로로-3-메톡시카르보닐프로필트리브로모실란 등의, X0 이 할로겐 원자인 할로게노실란 화합물류 ; Chloromethyltrichlorosilane, bromomethylbromodimethoxysilane, 2-chloroethyldichloromethoxysilane, 2-bromoethyldichloroethoxysilane, 3-chloropropyltrichlorosilane, 3-chloropropyltribromosilane, 3-chloropropyldichloromethoxysilane, 3-chloropropyldichloroethoxysilane, 3-chloropropylchlorodimethoxysilane, 3-chloropropylchlorodiethoxysilane, 3-bromopropyldichloroethoxysilane, 3-bromo Propyltribromosilane, 3-bromopropyltrichlorosilane, 3-bromopropylchlorodimethoxysilane, 3-fluoropropyltrichlorosilane, 3-fluoropropylchlorodimethoxysilane, 3-fluoropropyldichlorome Methoxysilane, 3-fluoropropylchlorodiethoxysilane, 3-iodinepropyltrichlorosilane, 4-chlorobutylchlorodiethoxysilane, 3-chloro-n-butylchlorodiethoxysilane, 3-chloro-3-ace Halogenosilane compounds in which X 0 is a halogen atom such as propylpropyldichloroethoxysilane and 3-chloro-3-methoxycarbonylpropyltribromosilane;

시아노메틸트리메톡시실란, 시아노메틸트리에톡시실란, 1-시아노에틸트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리메톡시실란, 2-시아노에틸트리에톡시실란, 2-시아노에틸트리프로폭시실란, 3-시아노프로필트리메톡시실란, 3-시아노프로필트리에톡시실란, 3-시아노프로필트리프로폭시실란, 3-시아노프로필트리부톡시실란, 4-시아노부틸트리메톡시실란, 5-시아노펜틸트리메톡시실란, 2-시아노프로필트리메톡시실란, 2-(시아노메톡시)에틸트리메톡시실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸트리메톡시실란, o-(시아노메틸)페닐트리프로폭시실란, m-(시아노메틸)페닐트리메톡시실란, p-(시아노메틸)페닐트리에톡시실란, p-(2-시아노에틸)페닐트리메톡시실란 등의, X0 이 시아노기인 트리알콕시실란 화합물류 ; Cyanomethyltrimethoxysilane, cyanomethyltriethoxysilane, 1-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane, 2-cyano Ethyltripropoxysilane, 3-cyanopropyltrimethoxysilane, 3-cyanopropyltriethoxysilane, 3-cyanopropyltripropoxysilane, 3-cyanopropyltributoxysilane, 4-cyano Butyl trimethoxysilane, 5-cyanopentyl trimethoxysilane, 2-cyanopropyltrimethoxysilane, 2- (cyanomethoxy) ethyltrimethoxysilane, 2- (2-cyanoethoxy) ethyltri Methoxysilane, o- (cyanomethyl) phenyltripropoxysilane, m- (cyanomethyl) phenyltrimethoxysilane, p- (cyanomethyl) phenyltriethoxysilane, p- (2-cyano Trialkoxysilane compounds in which X 0 is a cyano group such as ethyl) phenyltrimethoxysilane;

시아노메틸트리클로로실란, 시아노메틸브로모디메톡시실란, 2-시아노에틸디클로로메톡시실란, 2-시아노에틸디클로로에톡시실란, 3-시아노프로필트리클로로실란, 3-시아노프로필트리브로모실란, 3-시아노프로필디클로로메톡시실란, 3-시아노프로필디클로로에톡시실란, 3-시아노프로필클로로디메톡시실란, 3-시아노프로필클로로디에톡시실란, 4-시아노부틸클로로디에톡시실란, 3-시아노-n-부틸클로로디에톡시실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸트리클로로실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸브로모디에톡시실란, 2-(2-시아노에톡시)에틸디클로로프로폭시실란, o-(2-시아노에틸)페닐트리클로로실란, m-(2-시아노에틸)페닐메톡시디브로모실란, p-(2-시아노에틸)페닐디메톡시클로로실란, p-(2-시아노에틸)페닐트리브로모실란 등의, X0 이 시아노기인 할로게노실란 화합물류 ; Cyanomethyltrichlorosilane, cyanomethylbromodimethoxysilane, 2-cyanoethyldichloromethoxysilane, 2-cyanoethyldichloroethoxysilane, 3-cyanopropyltrichlorosilane, 3-cyanopropyl Tribromosilane, 3-cyanopropyldichloromethoxysilane, 3-cyanopropyldichloroethoxysilane, 3-cyanopropylchlorodimethoxysilane, 3-cyanopropylchlorodiethoxysilane, 4-cyanobutylchloro Diethoxysilane, 3-cyano-n-butylchlorodiethoxysilane, 2- (2-cyanoethoxy) ethyltrichlorosilane, 2- (2-cyanoethoxy) ethylbromodiethoxysilane, 2 -(2-cyanoethoxy) ethyldichloropropoxysilane, o- (2-cyanoethyl) phenyltrichlorosilane, m- (2-cyanoethyl) phenylmethoxydibromosilane, p- (2-sia Halogenosilane compounds in which X 0 is a cyano group, such as noethyl) phenyldimethoxychlorosilane and p- (2-cyanoethyl) phenyltribromosilane ;

3-아세톡시프로필트리메톡시실란, 3-아세톡시프로필트리에톡시실란, 3-아세톡시프로필트리프로폭시실란, 3-아세톡시프로필트리부톡시실란, 3-프로피오닐옥시프로필트리메톡시실란, 3-프로피오닐옥시프로필트리에톡시실란, 3-벤조일옥시프로필트리메톡시실란, 3-벤조일옥시프로필트리에톡시실란, 3-벤조일옥시프로필트리프로폭시실란, 3-벤조일옥시프로필트리부톡시실란, 2-트리메틸실릴옥시에틸트리메톡시실란, 3-트리에틸실릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(2-테트라하이드로피라닐옥시)프로필트리프로폭시실란, 3-(2-테트라하이드로푸라닐옥시)프로필트리부톡시실란, 3-메톡시메틸옥시프로필트리메톡시실란, 3-메톡시에톡시메틸옥시프로필트리에톡시실란, 3-(1-에톡시에틸옥시)프로필트리프로폭시실란, 3-(t-부톡시카르보닐옥시)프로필트리메톡시실란, 3-t-부톡시프로필트리메톡시실란, 3-벤질옥시프로필트리에톡시실란, 3-트리페닐메톡시프로필트리에톡시실란 등의, X0 이 상기 식 : OG 로 나타내는 기인 트리알콕시실란 화합물류 ; 3-acetoxypropyltrimethoxysilane, 3-acetoxypropyltriethoxysilane, 3-acetoxypropyltripropoxysilane, 3-acetoxypropyltributoxysilane, 3-propionyloxypropyltrimethoxysilane , 3-propionyloxypropyltriethoxysilane, 3-benzoyloxypropyltrimethoxysilane, 3-benzoyloxypropyltriethoxysilane, 3-benzoyloxypropyltripropoxysilane, 3-benzoyloxypropyltributoxy Silane, 2-trimethylsilyloxyethyltrimethoxysilane, 3-triethylsilyloxypropyltriethoxysilane, 3- (2-tetrahydropyranyloxy) propyltripropoxysilane, 3- (2-tetrahydrofura Nyloxy) propyltributoxysilane, 3-methoxymethyloxypropyltrimethoxysilane, 3-methoxyethoxymethyloxypropyltriethoxysilane, 3- (1-ethoxyethyloxy) propyltripropoxysilane , 3- (t-butoxycarbonyloxy) propyltrimethoxy Is, 3-t- butoxy-trimethoxysilane, 3-benzyloxy, such as the profile triethoxysilane, 3-triphenyl methoxy-ethoxy propyl triethoxysilane, X 0 is the formula: trialkoxy group represented by OG Silane compounds;

3-아세톡시프로필트리클로로실란, 3-아세톡시프로필트리브로모실란, 3-아세톡시프로필디클로로메톡시실란, 3-아세톡시프로필디클로로에톡시실란, 3-아세톡시프로필클로로디메톡시실란, 3-아세톡시프로필클로로디에톡시실란, 3-벤조일옥시프로필트리클로로실란, 3-트리메틸실릴옥시프로필클로로디메톡시실란, 3-트리에틸실릴옥시프로필디클로로메톡시실란, 3-(2-테트라하이드로피라닐옥시)프로필클로로디에톡시실란, 3-(2-테트라하이드로푸라닐옥시)프로필디클로로에톡시실란, 3-메톡시메틸옥시프로필트리브로모실란, 3-메톡시에톡시메틸옥시프로필트리클로로실란, 3-(1-에톡시에틸옥시)프로필클로로디메톡시실란, 3-t-부톡시카르보닐옥시프로필디클로로메톡시실란, 3-t-부톡시프로필클로로디에톡시실란, 3-트리페닐메톡시프로필디클로로에톡시실란, 3-벤질옥시프로필트리브로모실란 등의, X0 이 상기 식 : OG 로 나타내는 기인 할로게노실란 화합물류 ; 등을 들 수 있다. 3-acetoxypropyltrichlorosilane, 3-acetoxypropyltribromosilane, 3-acetoxypropyldichloromethoxysilane, 3-acetoxypropyldichloroethoxysilane, 3-acetoxypropylchlorodimethoxysilane, 3- Acetoxypropylchlorodiethoxysilane, 3-benzoyloxypropyltrichlorosilane, 3-trimethylsilyloxypropylchlorodimethoxysilane, 3-triethylsilyloxypropyldichloromethoxysilane, 3- (2-tetrahydropyranyloxy ) Propylchlorodiethoxysilane, 3- (2-tetrahydrofuranyloxy) propyldichloroethoxysilane, 3-methoxymethyloxypropyltribromosilane, 3-methoxyethoxymethyloxypropyltrichlorosilane, 3- (1-ethoxyethyloxy) propylchlorodimethoxysilane, 3-t-butoxycarbonyloxypropyldichloromethoxysilane, 3-t-butoxypropylchlorodiethoxysilane, 3-triphenylmethoxypropyldichloroe Oxysilane Halogenosilane compounds such as 3-benzyloxypropyltribromosilane, wherein X 0 is a group represented by the formula: OG; And the like.

이들의 실란 화합물 (1) 은 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These silane compounds (1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

이들 중에서도, 실란 화합물 (1) 로는, 보다 우수한 접착성을 갖는 경화물이 얻어지는 점에서, X0 이 할로겐 원자인 트리알콕시실란 화합물류, X0 이 시아노기인 트리알콕시실란 화합물류, 또는 X0 이 상기 식 : OG 로 나타내는 기인 트리알콕시실란 화합물류가 바람직하고, 3-클로로프로필기를 갖는 트리알콕시실란 화합물류, 3-아세톡시프로필기를 갖는 트리알콕시실란 화합물류, 2-시아노에틸기를 갖는 트리알콕시실란 화합물류, 또는 3-시아노프로필기를 갖는 트리알콕시실란 화합물류가 보다 바람직하다.Among these, as a silane compound (1), since the hardened | cured material which has more excellent adhesiveness is obtained, the trialkoxysilane compound whose X <0> is a halogen atom, the trialkoxysilane compound whose X <0> is a cyano group, or X <0> is used. Trialkoxysilane compounds which are group represented by this said formula: OG are preferable, the trialkoxysilane compound which has 3-chloropropyl group, the trialkoxysilane compound which has 3-acetoxypropyl group, and the tree which has 2-cyanoethyl group More preferred are alkoxysilane compounds or trialkoxysilane compounds having a 3-cyanopropyl group.

[실란 화합물 (2)] [Silane compound (2)]

실란 화합물 (2) 는, 식 (2) : R2Si(OR4)q(X2)3- q 로 나타내는 화합물이다. The silane compound (2) is a compound represented by formula (2): R 2 Si (OR 4 ) q (X 2 ) 3- q .

식 (2) 중, R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. 구체예로는, 실란 화합물 공중합체 (A) 에 있어서의 R2 로서 예시한 것을 들 수 있다.In formula (2), R <2> represents the phenyl group which may have a C1-C20 alkyl group or substituent. As an example, what was illustrated as R <2> in a silane compound copolymer (A) is mentioned.

R4 는 상기 R3 과 동일한 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타낸다. R <4> represents the same C1-C6 alkyl group as said R <3> .

X2 는, 상기 X1 과 동일한 할로겐 원자를 나타낸다. X 2 represents the same halogen atom as X 1 described above.

q 는 0 ~ 3 중 어느 정수를 나타낸다. q represents any integer of 0-3.

q 가 2 이상일 때, OR4 끼리는 동일하거나, 상이해도 된다. 또, (3-q) 가 2 이상일 때, X2 끼리는 동일하거나, 상이해도 된다.When q is 2 or more, OR <4> may be same or different. Moreover, when (3-q) is 2 or more, X <2> may be same or different.

실란 화합물 (2) 의 구체예로는, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란, i-부틸트리메톡시실란, n-펜틸트리에톡시실란, n-헥실트리메톡시실란, i-옥틸트리에톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 메틸디메톡시에톡시실란, 메틸디에톡시메톡시실란 등의 알킬트리알콕시실란 화합물류 ; Specific examples of the silane compound (2) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-butyltriethoxysilane , i-butyltrimethoxysilane, n-pentyltriethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, i-octyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, methyldimethoxyethoxysilane, methyldiethoxy Alkyltrialkoxysilane compounds such as methoxysilane;

메틸클로로디메톡시실란, 메틸디클로로메톡시실란, 메틸클로로디에톡시실란, 에틸클로로디메톡시실란, 에틸디클로로메톡시실란, n-프로필클로로디메톡시실란, n-프로필디클로로메톡시실란 등의 알킬할로게노알콕시실란 화합물류 ; Alkylhalo such as methylchlorodimethoxysilane, methyldichloromethoxysilane, methylchlorodiethoxysilane, ethylchlorodimethoxysilane, ethyldichloromethoxysilane, n-propylchlorodimethoxysilane, n-propyldichloromethoxysilane and the like Genoalkoxysilane compounds;

메틸트리클로로실란, 메틸트리브로모실란, 에틸트리클로로실란, 에틸트리브로모실란, n-프로필트리클로로실란 등의 알킬트리할로게노실란 화합물류 ; Alkyl trihalogenosilane compounds such as methyl trichlorosilane, methyl tribromosilane, ethyl trichlorosilane, ethyl tribromosilane, and n-propyltrichlorosilane;

페닐트리메톡시실란, 4-메톡시페닐트리메톡시실란, 2-클로로페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 2-메톡시페닐트리에톡시실란, 페닐디메톡시에톡시실란, 페닐디에톡시메톡시실란 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐트리알콕시실란 화합물류 ; Phenyltrimethoxysilane, 4-methoxyphenyltrimethoxysilane, 2-chlorophenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 2-methoxyphenyltriethoxysilane, phenyldimethoxyethoxysilane, phenyl die Phenyl trialkoxysilane compounds which may have substituents, such as methoxy methoxysilane;

페닐클로로디메톡시실란, 페닐디클로로메톡시실란, 페닐클로로메톡시에톡시실란, 페닐클로로디에톡시실란, 페닐디클로로에톡시실란 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐할로게노알콕시실란 화합물류 ; Phenyl halogeno alkoxysilane compounds which may have substituents, such as phenyl chloro dimethoxy silane, phenyl dichloro methoxy silane, phenyl chloro methoxy ethoxy silane, phenyl chloro diethoxy silane, and phenyl dichloro ethoxy silane;

페닐트리클로로실란, 페닐트리브로모실란, 4-메톡시페닐트리클로로실란, 2-클로로페닐트리클로로실란, 2-에톡시페닐트리클로로실란 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐트리할로게노실란 화합물 ; 을 들 수 있다. Phenyl trihalogenosilane compound which may have substituents, such as phenyl trichlorosilane, phenyl tribromosilane, 4-methoxyphenyl trichlorosilane, 2-chlorophenyl trichlorosilane, and 2-ethoxyphenyl trichlorosilane; Can be mentioned.

이들의 실란 화합물 (2) 는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These silane compounds (2) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

[실란 화합물의 혼합물] [Mixture of silane compounds]

실란 화합물 공중합체 (A') 를 제조할 때에 사용되는 실란 화합물의 혼합물로는, 실란 화합물 (1) 및 실란 화합물 (2) 로 이루어지는 혼합물이어도 되고, 또한 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 그 밖의 실란 화합물을 함유하는 혼합물이어도 되는데, 실란 화합물 (1) 및 실란 화합물 (2) 로 이루어지는 혼합물이 바람직하다.As a mixture of the silane compound used at the time of manufacturing a silane compound copolymer (A '), the mixture which consists of a silane compound (1) and a silane compound (2) may be sufficient, and that in the range which does not impair the objective of this invention Although the mixture containing an external silane compound may be sufficient, the mixture which consists of a silane compound (1) and a silane compound (2) is preferable.

실란 화합물 (1) 과 실란 화합물 (2) 의 사용 비율은, 몰비로, [실란 화합물 (1)]:[실란 화합물 (2)] = 60:40 ~ 5:95 의 비율인 것이 바람직하고, 50:50 ~ 5:95 인 것이 보다 바람직하고, 50:50 ~ 10:90 인 것이 특히 바람직하다.The use ratio of the silane compound (1) and the silane compound (2) is preferably in a molar ratio of [silane compound (1)]: [silane compound (2)] = 60:40 to 5:95, and 50 It is more preferable that it is: 50-5: 95, and it is especially preferable that it is 50: 50-10: 90.

상기 실란 화합물의 혼합물을 축합시키는 방법으로는, 특별히 제한되지 않지만, 실란 화합물 (1), 실란 화합물 (2), 및 원하는 바에 따라 그 밖의 실란 화합물을 용매에 용해시키고, 소정량의 촉매를 첨가하여, 소정 온도에서 교반하는 방법을 들 수 있다.The method for condensing the mixture of silane compounds is not particularly limited, but the silane compound (1), the silane compound (2), and other silane compounds may be dissolved in a solvent as desired, and a predetermined amount of catalyst may be added to And a method of stirring at a predetermined temperature.

사용하는 촉매는, 산 촉매 및 염기 촉매 중 어느 것이어도 된다. The catalyst to be used may be any of an acid catalyst and a base catalyst.

산 촉매로는 염산, 황산, 질산, 인산 등의 무기산 ; 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 아세트산, 트리플루오로아세트산 등의 유기산 ; 등을 들 수 있다.As an acid catalyst, Inorganic acids, such as hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid; Organic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, acetic acid and trifluoroacetic acid; And the like.

염기 촉매로는, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 리튬디이소프로필아미드, 리튬비스(트리메틸실릴)아미드, 피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센, 아닐린, 피콜린, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 이미다졸 등의 유기염기 ; 수산화테트라메틸암모늄, 수산화테트라에틸암모늄 등의 유기염 수산화물 ; 나트륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 나트륨t-부톡사이드, 칼륨t-부톡사이드 등의 금속 알코올레이트 ; 수소화나트륨, 수소화칼슘 등의 금속 수소화물 ; 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 금속 수산화물 ; 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염 ; 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨 등의 금속 탄산수소염 ; 등을 들 수 있다.Examples of the base catalyst include trimethylamine, triethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, pyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, aniline, picoline Organic bases such as 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and imidazole; Organic salt hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; Metal alcoholates such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide; Metal hydrides such as sodium hydride and calcium hydride; Metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide; Metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and magnesium carbonate; Metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; And the like.

이들 중에서도, 사용하는 촉매로는, 산 촉매가 바람직하고, 무기산이 보다 바람직하다.Among these, as a catalyst to be used, an acid catalyst is preferable and an inorganic acid is more preferable.

촉매의 사용량은 실란 화합물의 총 몰량에 대해, 통상적으로, 0.1 ㏖% ~ 10 ㏖%, 바람직하게는 1 ㏖% ~ 5 ㏖% 의 범위이다.The amount of the catalyst used is usually 0.1 mol% to 10 mol%, preferably 1 mol% to 5 mol%, based on the total molar amount of the silane compound.

사용하는 용매는 실란 화합물의 종류 등에 따라, 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 물 ; 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 프로피온산메틸 등의 에스테르류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸i-부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류 ; 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, i-프로필알코올, n-부틸알코올, i-부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올 등의 알코올류 ; 등을 들 수 있다. 이들의 용매는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent to be used can be suitably selected according to the kind etc. of a silane compound. For example, water; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and methyl propionate; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl i-butyl ketone and cyclohexanone; Alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, i-butyl alcohol, s-butyl alcohol and t-butyl alcohol; And the like. These solvent can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

이들 중에서도, 물, 방향족 탄화수소류, 및 이들의 혼합 용매가 바람직하고, 물과 톨루엔의 혼합 용매가 특히 바람직하다. 물과 톨루엔을 사용하는 경우, 물과 톨루엔의 비율 (용적비) 은, 바람직하게는 1:9 ~ 9:1, 보다 바람직하게는 7:3 ~ 3:7 이다.Among them, water, aromatic hydrocarbons and mixed solvents thereof are preferable, and mixed solvents of water and toluene are particularly preferable. When using water and toluene, the ratio (volume ratio) of water and toluene becomes like this. Preferably it is 1: 9-9: 1, More preferably, it is 7: 3-3: 7.

용매의 사용량은 용매 1 리터당, 실란 화합물의 총 몰량이, 통상적으로는 0.1 ㏖ ~ 10 ㏖, 바람직하게는 0.5 ㏖ ~ 10 ㏖ 이 되는 양이다.The amount of the solvent used is an amount such that the total molar amount of the silane compound per liter of the solvent is usually from 0.1 mol to 10 mol, preferably from 0.5 mol to 10 mol.

실란 화합물을 축합 (반응) 시킬 때의 온도는, 통상적으로는 0 ℃ 에서부터 사용하는 용매의 비점까지의 온도 범위, 바람직하게는 20 ℃ ~ 100 ℃ 의 범위이다. 반응 온도가 지나치게 낮으면 축합 반응의 진행이 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 반응 온도가 지나치게 높아지면 겔화 억제가 곤란해진다. 반응은, 통상적으로는 30 분 내지 20 시간으로 완결된다.The temperature at the time of condensation (reaction) of a silane compound is usually in the temperature range from 0 degreeC to the boiling point of the solvent used, Preferably it is the range of 20 degreeC-100 degreeC. When reaction temperature is too low, advancing of a condensation reaction may become inadequate. On the other hand, when reaction temperature becomes high too much, gelatinization suppression will become difficult. The reaction is usually completed in 30 minutes to 20 hours.

반응 종료 후에는, 산 촉매를 사용한 경우에는, 반응 용액에 탄산수소나트륨 수용액 등의 알칼리 수용액을 첨가함으로써, 염기 촉매를 사용한 경우에는, 반응 용액에 염산 등의 산을 첨가함으로써 중화를 실시하고, 그 때에 발생하는 염을 여과 분리 또는 수세 등에 의해 제거하여, 목적으로 하는 실란 화합물 공중합체를 얻을 수 있다.After the completion of the reaction, when an acid catalyst is used, neutralization is performed by adding an aqueous alkali solution such as an aqueous sodium hydrogen carbonate solution to the reaction solution, and when a base catalyst is used, an acid such as hydrochloric acid is added to the reaction solution. The salt which generate | occur | produces at the time can be removed by filtration separation, water washing, etc., and the target silane compound copolymer can be obtained.

(B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물(B) an epoxy compound having an isocyanurate skeleton

본 발명의 경화성 조성물은 (B) 성분으로서 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물 (이하, 「에폭시 화합물 (B)」라고 하는 경우가 있다) 을 함유한다. The curable composition of this invention contains the epoxy compound (henceforth called "epoxy compound (B)") which has an isocyanurate skeleton as (B) component.

본 발명의 경화성 조성물은 에폭시 화합물 (B) 를 함유하기 때문에 열이력 후에 있어서도, 내열성, 투명성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.Since the curable composition of this invention contains an epoxy compound (B), the hardened | cured material excellent in heat resistance and transparency can be obtained also after heat history.

에폭시 화합물 (B) 로는, 분자 내에, 이소시아누레이트 골격 (하기 (c), 식 중, - 은 결합손을 나타낸다) 및 에폭시 고리를 갖는 화합물이면 특별히 제약되지는 않는다. 또한, 이소시아누레이트 골격 (c) 에는, 하기에 나타내는 바와 같은 호변이성체 (시아누레이트 골격 (c'), 식 중, - 은 결합손을 나타낸다) 가 존재할 수 있지만, 이 골격을 갖는 에폭시 화합물도, 본 발명에 사용하는 에폭시 화합물 (B) 에 함유되는 것으로 한다.The epoxy compound (B) is not particularly limited as long as it is a compound having an isocyanurate skeleton (following (c), in which-represents a bond) and an epoxy ring in the molecule. In addition, although the tautomer (cyanurate skeleton (c ')-in which-represents a bonding hand) may exist in the isocyanurate skeleton (c) below, the epoxy compound which has this skeleton Moreover, it shall be contained in the epoxy compound (B) used for this invention.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

그 중에서도, 에폭시 화합물 (B) 로는, 하기 식 (c-1) ~ (c-3) 에 나타내는 바와 같이, 이소시아누레이트 고리의 1, 3, 5 위치의 질소 원자에 결합하는 수소 원자의 적어도 하나를, 에폭시 고리를 갖는 기 (E) 로 치환한 화합물이 바람직하다.Especially, as an epoxy compound (B), at least of the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom of the 1, 3, 5 position of an isocyanurate ring as shown to following formula (c-1)-(c-3) The compound which substituted one by the group (E) which has an epoxy ring is preferable.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(상기 식 중, E 는 에폭시 고리를 갖는 기를 나타내고, R 은 수소 원자, 유기기 등의 에폭시 고리를 갖는 기 이외의 임의의 기를 나타낸다) (In the formula, E represents a group having an epoxy ring, and R represents any group other than a group having an epoxy ring such as a hydrogen atom or an organic group.)

상기 에폭시 고리를 갖는 기 (E) 로는, 예를 들어, 하기 식As group (E) which has the said epoxy ring, it is a following formula, for example.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 중, a, b, c 는 각각 1 ~ 20 의 정수를 나타내고, 메틸렌기로는, 메틸기, 에틸기 등의 알킬기가 치환되어 있어도 된다) 로 나타내는 기를 들 수 있다.The group shown by (in formula, a, b, c represents the integer of 1-20, respectively, and alkyl groups, such as a methyl group and an ethyl group, may be substituted as a methylene group).

에폭시 화합물 (B) 의 구체예로는, 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 관점에서, 글리시딜이소시아누레이트, 디글리시딜이소시아누레이트, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트, 트리스(글리시독시프로필)이소시아누레이트, 트리스(α-메틸글리시딜)이소시아누레이트, 및 이들의 화합물의 2 종 이상을 함유하는 혼합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy compound (B) include glycidyl isocyanurate, diglycidyl isocyanurate and tris (2,3-epoxypropyl) isocyte from the viewpoint of obtaining a cured product having a high adhesion. An anurate, a tris (glycidoxy propyl) isocyanurate, a tris ((alpha)-methyl glycidyl) isocyanurate, the mixture containing 2 or more types of these compounds, etc. are mentioned.

또, 에폭시 화합물 (B) 로는, 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물로서 시판되고 있는 것 (예를 들어, 상품명 : TEPIC-S, TEPIC-PAS B22, 상품명 : TEPIC-PAS B26 등, 모두 닛산 화학 공업사 제조) 를 그대로 사용할 수도 있다.Moreover, as an epoxy compound (B), what is marketed as an epoxy compound which has an isocyanurate frame | skeleton (For example, brand name: TEPIC-S, TEPIC-PAS B22, brand name: TEPIC-PAS B26, etc. are all Nissan Chemicals. Industrial company) can also be used as it is.

에폭시 화합물 (B) 의 배합량은 특별히 한정되지 않지만, 보다 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 관점에서, 에폭시 당량으로서 50 ~ 300 g/eq 가 바람직하고, 100 ~ 200 g/eq 가 특히 바람직하다. 또한, 에폭시 당량은 JIS K 7236 : 2001 에 준하여 측정되는 값이다.Although the compounding quantity of an epoxy compound (B) is not specifically limited, From a viewpoint of obtaining the hardened | cured material which has higher adhesive force, 50-300 g / eq is preferable and 100-200 g / eq is especially preferable as an epoxy equivalent. In addition, epoxy equivalent is a value measured according to JISK7236: 2001.

(C) 경화제 (C) Curing agent

본 발명의 경화성 조성물은 (C) 성분으로서, 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제 (이하, 「경화제 (C)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유한다. 본 발명의 경화성 조성물은, 경화제 (C) 를 함유하기 때문에, 내열성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.The curable composition of this invention contains the hardening | curing agent (Hereinafter, it may be called "hardening | curing agent (C)") containing alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group as (C) component. Since the curable composition of this invention contains a hardening | curing agent (C), the hardened | cured material excellent in heat resistance can be obtained.

카르복실기를 갖는 지환식 산무수물은, 적어도 하나의 카르복실기가 치환된 지환식 구조를 갖는 산무수물이다. 지환식 구조로는, 포화 고리형 탄화수소 (시클로알칸) 구조, 불포화 고리형 탄화수소 (시클로알켄, 시클로알킨) 구조 등을 들 수 있다.The alicyclic acid anhydride having a carboxyl group is an acid anhydride having an alicyclic structure in which at least one carboxyl group is substituted. As an alicyclic structure, a saturated cyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure, an unsaturated cyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure, etc. are mentioned.

지환식 산무수물로는, 3-메틸-1,2,3,6-테트라하이드로 무수프탈산, 4-메틸-1,2,3,6-테트라하이드로 무수프탈산, 테트라하이드로 무수프탈산, 3-메틸-헥사하이드로 무수프탈산, 4-메틸-헥사하이드로 무수프탈산, 헥사하이드로 무수프탈산, 무수메틸나딕산, 5-노르보르넨-2,3-디카르복실산 무수물, 노르보르난-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸-노르보르난-2,3-디카르복실산 무수물 등을 들 수 있다. As an alicyclic acid anhydride, 3-methyl-1,2,3,6- tetrahydro phthalic anhydride, 4-methyl-1,2,3,6- tetrahydro phthalic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, 3-methyl- Hexahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, norbornane-2,3-dicar Acid anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methyl-norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride and the like.

카르복실기는 지환식 산무수물의 지환식 구조의 임의의 위치에서 치환해도 되고, 치환 위치나 치환하는 카르복실기의 수는 특별히 한정되지 않는다.The carboxyl group may be substituted at any position of the alicyclic structure of the alicyclic acid anhydride, and the substitution position and the number of substituted carboxyl groups are not particularly limited.

이들 중에서도, 헥사하이드로 무수프탈산에 카르복실기가 치환된, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2무수물, 시클로헥산-1,2,3-트리카르복실산-1,2무수물이 바람직하고, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2무수물이 특히 바람직하다. 이 화합물은 입체 이성체가 존재할 수 있지만, 어느 이성체이어도 된다. Among them, cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2 anhydride and cyclohexane-1,2,3-tricarboxylic acid-1,2 anhydride in which carboxyl group is substituted with hexahydrophthalic anhydride This is preferable and cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2 anhydride is especially preferable. The stereoisomer may exist in this compound, but any isomer may be sufficient as it.

카르복실기를 갖는 지환식 산무수물은, 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

경화제 (C) 는 추가로, 다른 경화제를 함유하고 있어도 된다. The curing agent (C) may further contain another curing agent.

다른 경화제로는, 카르복실기를 갖지 않는 지환식 산무수물 (이하, 「그 밖의 지환식 산무수물」이라고 한다), 폴리아젤라인산 무수물 등의 지방족 산무수물, 지방족아민계 경화제, 지환식 아민계 경화제, 제2급 또는 제3급 아민계 경화제, 방향족 아민계 경화제, 디시안디아미드, 삼불화붕소아민 착염, 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. As another hardening | curing agent, alicyclic acid anhydride which does not have a carboxyl group (henceforth "other alicyclic acid anhydride"), aliphatic acid anhydrides, such as a polyazelate anhydride, an aliphatic amine-type hardener, an alicyclic amine-type hardener, agent And secondary or tertiary amine curing agents, aromatic amine curing agents, dicyandiamides, boron trifluoride amine complex salts, and imidazole compounds.

다른 경화제는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Another hardener can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

다른 경화제로는, 고온에 있어서도 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 점에서, 그 밖의 지환식 산무수물이 바람직하다. 그 밖의 지환식 산무수물로는, 상기 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물의 지환식 산무수물로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 그 중에서도, 3-메틸-헥사하이드로 무수프탈산, 4-메틸-헥사하이드로 무수프탈산이 바람직하고, 4-메틸-헥사하이드로 무수프탈산이 특히 바람직하다.As another hardening | curing agent, since the hardened | cured material which has high adhesive force is obtained even at high temperature, another alicyclic acid anhydride is preferable. As another alicyclic acid anhydride, the thing similar to what was illustrated as an alicyclic acid anhydride of the alicyclic acid anhydride which has the said carboxyl group is mentioned. Especially, 3-methyl- hexahydro phthalic anhydride and 4-methyl- hexahydro phthalic anhydride are preferable, and 4-methyl- hexahydro phthalic anhydride is especially preferable.

경화제 (C) 는 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물 및 그 밖의 지환식 산무수물로부터 선택되는 1 종 또는 2 종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하고, 그 질량비는, (카르복실기를 갖는 지환식 산무수물):(그 밖의 지환식 산무수물) = 100:0 ~ 10:90 인 것이 바람직하고, 50:50 ~ 10:90 인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that a hardening | curing agent (C) consists of 1 type (s) or 2 or more types chosen from the alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group, and other alicyclic acid anhydride, The mass ratio is (alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group): Outside alicyclic acid anhydride) = 100: 0-10: 90, It is more preferable that it is 50: 50-10: 90.

(D) 실란 커플링제 (D) silane coupling agent

본 발명의 경화성 조성물은 (D) 성분으로서 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제 (이하, 「실란 커플링제 (D)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유한다. 본 발명의 경화성 조성물은 실란 커플링제 (D) 를 함유하기 때문에 상 분리 (백탁) 되는 일 없이, 투명성이 우수하고, 높은 접착력을 갖는 경화물을 얻을 수 있다.The curable composition of this invention contains the silane coupling agent (henceforth a "silane coupling agent (D)") which has an acid anhydride structure as (D) component. Since the curable composition of this invention contains a silane coupling agent (D), hardened | cured material which is excellent in transparency and has high adhesive force can be obtained, without being phase-separated (cloudy).

실란 커플링제 (D) 는 1 개의 분자 중에, 산무수물 구조를 갖는 기 (Y) 와 가수분해성기 (ORb) 의 양자를 겸비하는 유기 규소 화합물이다. 구체적으로는 하기 식 (d) 로 나타내는 화합물이다.The silane coupling agent (D) is an organosilicon compound having both an acid anhydride group (Y) and a hydrolyzable group (OR b ) in one molecule. Specifically, it is a compound represented by following formula (d).

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 중, Y 는 산무수물 구조를 나타내고, Ra 는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, Rb 는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, i 는 1 ~ 3 의 정수를 나타내고, j 는 0 ~ 2 의 정수를 나타내고, k 는 1 ~ 3 의 정수를 나타내고, i+j+k = 4 이다. In the formula, Y represents an acid anhydride structure, R a represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group which may have a substituent, R b represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, i represents an integer of 1 to 3 J represents an integer of 0 to 2, k represents an integer of 1 to 3, and i + j + k = 4.

Y 로는, 하기 식As Y, the following formula

[화학식 8][Formula 8]

(식 중, h 는 0 ~ 10 의 정수를 나타낸다) 로 나타내는 기 등을 들 수 있고, (Y1) 로 나타내는 기가 특히 바람직하다. The group represented by (in formula, h shows the integer of 0-10) etc. are mentioned, Group represented by (Y1) is especially preferable.

식 (d) 중, Ra, Rb 로 나타내는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기로는, 상기 R1 로 나타내는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기로서 먼저 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있고, 상기 Ra 로 나타내는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기로는, 상기 R2 로 나타내는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기로서 먼저 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있다.Formula (d) wherein the alkyl group of 1 to 6 carbon atoms represented by R a, R b is, there may be mentioned the same groups as alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by the R 1 as a first example, the substituent represented by the above R a Examples of the phenyl group which may have a group similar to those exemplified above as the phenyl group which may have a substituent represented by the above R 2 .

그 중에서도, 식 (d) 로 나타내는 화합물로는, 하기 식 (d-1)Especially, as a compound represented by Formula (d), it is following formula (d-1)

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 중, Rb, h, i, j, k 는 상기와 동일한 의미를 나타낸다) (Wherein, R b , h, i, j, k represent the same meaning as above)

로 나타내는 화합물이 바람직하다. 식 중, h 는 2 ~ 8 인 것이 바람직하다.The compound represented by is preferable. In formula, it is preferable that h is 2-8.

식 (d-1) 로 나타내는 실란 커플링제의 구체예로는, 2-트리메톡시실릴에틸 무수숙신산, 3-트리에톡시실릴프로필 무수숙신산 등을 들 수 있다. Specific examples of the silane coupling agent represented by formula (d-1) include 2-trimethoxysilylethyl succinic anhydride, 3-triethoxysilylpropyl succinic anhydride, and the like.

실란 커플링제 (D) 는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A silane coupling agent (D) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물에 있어서는, 상기 (A), (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, (A) 와 [(B)+(C)+(D)] 의 질량비로, (A):[(B)+(C)+(D)] = 90:10 ~ 50:50 인 것이 바람직하다. 또, 상기 (A'), (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, (A') 와 [(B)+(C)+(D)] 의 질량비로, (A'):[(B)+(C)+(D)] = 90:10 ~ 50:50 인 것이 바람직하다. In the curable composition of this invention, the content rate of said (A), (B), (C) and (D) component is the mass ratio of (A) and [(B) + (C) + (D)]. , (A): [(B) + (C) + (D)] is preferably 90:10 to 50:50. Moreover, the content ratio of said (A '), (B), (C) and (D) component is a mass ratio of (A') and [(B) + (C) + (D)], and (A ' ): [(B) + (C) + (D)] = 90:10-50:50 are preferable.

또한, 상기 (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, [(B)+(C)] 와 (D) 의 질량비로, [(B)+(C)]:(D) = 90:10 ~ 10:90 인 것이 바람직하다. Moreover, the content ratio of said (B), (C), and (D) component is [(B) + (C)]: (D) by the mass ratio of [(B) + (C)] and (D). It is preferable that it is = 90: 10-10: 90.

이와 같은 비율로 각 성분을 사용함으로써, 장기에 걸쳐 투명성, 내열성이 우수하고, 고온에 있어서도 높은 접착력을 갖는 경화물이 얻어지는 경화성 조성물을 얻을 수 있다.By using each component in such a ratio, the curable composition which is excellent in transparency and heat resistance over a long term, and has a hardened | cured material which has high adhesive force even in high temperature can be obtained.

본 발명의 경화성 조성물에는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 추가로 다른 성분을 함유시켜도 된다. The curable composition of this invention may contain another component further in the range which does not impair the objective of this invention.

다른 성분으로는, 경화 촉매, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 희석제 등을 들 수 있다.As another component, a curing catalyst, antioxidant, an ultraviolet absorber, an optical stabilizer, a diluent, etc. are mentioned.

경화 촉매는 경화를 촉진하기 위해서 첨가된다. 경화 촉매로는, 2-메틸이미다졸, 트리페닐포스핀 등을 들 수 있다. 이들 경화 촉매는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.A curing catalyst is added to promote curing. 2-methylimidazole, a triphenyl phosphine, etc. are mentioned as a curing catalyst. These curing catalysts can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

산화 방지제는 가열시의 산화 열화를 방지하기 위해서 첨가된다. 산화 방지제로는, 인계 산화 방지제, 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다.Antioxidant is added in order to prevent oxidative deterioration at the time of heating. As antioxidant, phosphorus antioxidant, a phenolic antioxidant, sulfur type antioxidant, etc. are mentioned.

인계 산화 방지제로는, 트리페닐포스파이트, 디페닐이소데실포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 디이소데실펜타에리트리톨포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭네오펜탄테트라일비스(옥타데실)포스파이트, 시클릭네오펜탄테트라일비스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 시클릭네오펜탄테트라일비스(2,4-디-t-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 비스[2-t-부틸-6-메틸-4-{2-(옥타데실옥시카르보닐)에틸}페닐]하이드로겐포스파이트 등의 포스파이트류 ; 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10-데실옥시-9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 등의 옥사포스파페난트렌옥사이드류 ; 를 들 수 있다.As phosphorus antioxidant, triphenyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, diisodecyl pentaerythritol phosphite, tris (2, 4-di-) t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentane tetrayl bis (octadecyl) phosphite, cyclic neopentane tetrayl bis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentane tetrayl Bis (2,4-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, bis [2-t-butyl-6-methyl-4- {2- (octadecyloxycarbonyl) ethyl} phenyl] hydrogen Phosphites such as phosphite; 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9 Oxaphosphaphenanthrene oxides, such as -oxa-10-phosphazanthanthene-10-oxide and 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphazanthanth-10-oxide ; .

페놀계 산화 방지제로는, 2,6-디-t-부틸-p-크레졸, 디부틸하이드록시톨루엔, 부틸화하이드록시아니솔, 2,6-디-t-부틸-p-에틸페놀, 스테아릴-β-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트 등의 모노페놀류 ; 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{β-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}에틸]2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸 등의 비스페놀류 ; 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-t-부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 테트라키스-[메틸렌-3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 비스[3,3'-비스-(4'-하이드록시-3'-t-부틸페닐)부티릭애시드]글리콜에스테르, 1,3,5-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤질)-S-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)트리온, 토코페놀 등의 고분자형 페놀류 ; 를 들 수 있다.As a phenolic antioxidant, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, dibutylhydroxytoluene, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, ste Monophenols such as aryl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate; 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4'-thiobis (3- Methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- ( Bisphenols such as 3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane; 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3' -Bis- (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 1,3,5-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxy Polymeric phenols such as benzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione and tocophenol; .

황계 산화 방지제로는, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트 등을 들 수 있다.Examples of sulfur-based antioxidants include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, and the like. Can be mentioned.

이들 산화 방지제는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 단, 본 발명의 경화성 조성물은, (B) 성분, (D) 성분을 함유하고 있기 때문에, 특별히 산화 방지제가 없어도, 가열시의 산화 열화는 잘 일어나지 않는다. 산화 방지제를 사용하는 경우, 그 사용량은, 실란 화합물 공중합체 (A) 또는 (A') 100 질량부에 대해, 통상적으로는 0.01 ~ 10 질량부이다.These antioxidants can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. However, since the curable composition of this invention contains (B) component and (D) component, the oxidation deterioration at the time of heating does not produce easily even if there is no antioxidant especially. When using antioxidant, the usage-amount is 0.01-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of silane compound copolymers (A) or (A ').

자외선 흡수제는 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시킬 목적으로 첨가된다. A ultraviolet absorber is added for the purpose of improving the light resistance of the hardened | cured material obtained.

자외선 흡수제로는, 예를 들어, 페닐살리실레이트, p-t-부틸페닐살리실레이트, p-옥틸페닐살리실레이트 등의 살리실산류 ; 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-5-술포벤조페논 등의 벤조페논류 ; 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-t-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-t-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-{(2'-하이드록시-3',3'',4'',5'',6''-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5'-메틸페닐}벤조트리아졸 등의 벤조트리아졸류 ; 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)[{3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐}메틸]부틸말로네이트 등의 힌더드아민류 ; 등을 들 수 있다.As a ultraviolet absorber, For example, Salicylic acids, such as phenyl salicylate, p-t- butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate; 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2 Benzos such as' -dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone Phenones; 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ' , 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'- Hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-t-amylphenyl) benzotriazole, Benzotria, such as 2-{(2'-hydroxy-3 ', 3' ', 4' ', 5' ', 6' '-tetrahydrophthalimidemethyl) -5'-methylphenyl} benzotriazole Sols; Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1, Hindered amines such as 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [{3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl} methyl] butyl malonate; And the like.

이들의 자외선 흡수제는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. These ultraviolet absorbers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

자외선 흡수제의 사용량은 실란 화합물 공중합체 (A) 또는 (A') 100 질량부에 대해, 통상적으로는 0.01 ~ 10 질량부이다.The usage-amount of a ultraviolet absorber is 0.01-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of silane compound copolymers (A) or (A ').

광 안정제는 얻어지는 경화물의 내광성을 향상시킬 목적으로 첨가된다. An optical stabilizer is added for the purpose of improving the light resistance of the hardened | cured material obtained.

광 안정제로는, 예를 들어, 폴리[{6-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)이미노}] 등의 힌더드아민류 등을 들 수 있다.As an optical stabilizer, for example, poly [{6- (1,1,3,3, -tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2 And hindered amines such as 6,6-tetramethyl-4-piperidine) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) imino}]. Can be.

이들의 광 안정제는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. These light stabilizers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

광 안정제의 사용량은 실란 화합물 공중합체 (A) 또는 (A') 100 질량부에 대해, 통상적으로는 0.01 ~ 10 질량부이다.The usage-amount of an optical stabilizer is 0.01-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of silane compound copolymers (A) or (A ').

희석제는 경화성 조성물의 점도를 조정하기 위하여 첨가된다. Diluents are added to adjust the viscosity of the curable composition.

희석제로는, 예를 들어, 글리세린디글리시딜에테르, 부탄디올디글리시딜에테르, 디글리시딜아닐린, 네오펜틸글리콜글리시딜에테르, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 알킬렌디글리시딜에테르, 폴리글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 4-비닐시클로헥센모노옥사이드, 비닐시클로헥센디옥사이드, 메틸화비닐시클로헥센디옥사이드 등을 들 수 있다. As a diluent, For example, glycerin diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, diglycidyl aniline, neopentyl glycol glycidyl ether, cyclohexane dimethanol diglycidyl ether, alkylene diglyci Dyl ether, polyglycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 4-vinylcyclohexene monooxide, vinylcyclohexenedioxide, methylated vinylcyclo Hexene dioxide and the like.

이들의 희석제는 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These diluents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

본 발명의 경화성 조성물은 예를 들어, 상기 (A) 또는 (A'), (B), (C), (D) 성분, 및 원하는 바에 따라 다른 성분을 소정 비율로 배합하고, 공지된 방법에 의해 혼합, 탈포함으로써 얻을 수 있다.The curable composition of this invention mix | blends the said (A) or (A '), (B), (C), (D) component, and the other component in predetermined ratio as desired, for example, to a well-known method, By mixing and defoaming.

이상과 같이 하여 얻어지는 본 발명의 경화성 조성물에 의하면, 고에너지의 광이 조사되는 경우나 고온 상태라도, 착색하여 투명성이 저하되거나 하는 경우가 없어, 장기에 걸쳐 우수한 투명성을 가지며, 또한, 높은 접착력을 갖는 경화물을 얻을 수 있다. According to the curable composition of this invention obtained as mentioned above, even when high energy light is irradiated or high temperature state, it does not color and transparency falls, it has the outstanding transparency over a long term, and also has high adhesive force The hardened | cured material which has is obtained.

따라서, 본 발명의 경화성 조성물은 광학 부품이나 성형체의 원료, 접착제, 코팅제 등으로서 바람직하게 사용된다. 특히, 광소자의 고휘도화에 수반하는, 광소자 고정재의 열화에 관한 문제를 해결할 수 있는 점에서, 본 발명의 경화성 조성물은, 광소자 고정재용 조성물로서 바람직하게 사용할 수 있다.Therefore, the curable composition of this invention is used suitably as a raw material, an adhesive agent, a coating agent, etc. of an optical component or a molded object. In particular, the curable composition of the present invention can be suitably used as a composition for an optical device fixing material in view of solving the problem of deterioration of the optical device fixing material with high brightness of the optical device.

2) 경화물 2) cured product

본 발명의 제 2 는 본 발명의 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물이다. 2nd of this invention is hardened | cured material formed by hardening | curing the curable composition of this invention.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시키는 방법으로는 가열 경화를 들 수 있다. 경화시킬 때의 가열 온도는 통상적으로, 100 ~ 200 ℃ 이고, 가열 시간은 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Heat hardening is mentioned as a method of hardening | curing the curable composition of this invention. The heating temperature at the time of hardening is 100-200 degreeC normally, and a heating time is 10 minutes-20 hours normally, Preferably it is 30 minutes-10 hours.

본 발명의 경화물은 고에너지의 광이 조사되는 경우나 고온 상태라도, 착색하여 투명성이 저하되거나 하는 경우가 없어, 장기에 걸쳐 우수한 투명성을 가지며, 또한, 높은 접착력을 갖는다. Even if high energy light is irradiated or a high temperature state, the hardened | cured material of this invention does not color and transparency falls, it has the outstanding transparency over a long term, and has high adhesive force.

따라서, 본 발명의 경화물은 광학 부품이나 성형체, 접착층, 코팅층 등으로서 바람직하게 사용된다. 특히, 광소자의 고휘도화에 수반하는, 광소자 고정재의 열화에 관한 문제를 해결할 수 있는 점에서, 본 발명의 경화물은 광소자 고정재로서 바람직하게 사용할 수 있다.Therefore, the hardened | cured material of this invention is used suitably as an optical component, a molded object, an adhesive layer, a coating layer, etc. In particular, the cured product of the present invention can be suitably used as an optical device fixing material in view of solving the problem of deterioration of the optical device fixing material with high brightness of the optical device.

본 발명의 경화물이 높은 접착력을 갖는 것은, 예를 들어, 다음과 같이 하여 접착력을 측정함으로써 확인할 수 있다. 즉, 실리콘 칩의 미러면에 경화성 조성물을 도포하고, 도포면을 피착체 상에 실어 압착하고, 가열 처리하여 경화시킨다. 이것을, 미리 소정 온도 (예를 들어, 23 ℃, 100 ℃) 로 가열한 본드 테스터의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체에서 50 ㎛ 높이의 위치로부터, 접착면에 대해 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여 시험편과 피착체의 접착력을 측정한다. It can be confirmed that the hardened | cured material of this invention has a high adhesive force by measuring adhesive force as follows, for example. That is, a curable composition is apply | coated to the mirror surface of a silicon chip, a coating surface is mounted on a to-be-adhered body, it crimped | bonded, and it heat-processes and hardens. This is left for 30 seconds on the measurement stage of the bond tester heated to predetermined temperature (for example, 23 degreeC, 100 degreeC) previously, and it is horizontal direction (shear direction) with respect to an adhesive surface from the position of 50 micrometer height in a to-be-adhered body. ) To measure the adhesion between the specimen and the adherend.

경화물의 접착력은, 23 ℃ 에 있어서 110 N/2 ㎜□ 이상인 것이 바람직하다.It is preferable that the adhesive force of hardened | cured material is 110 N / 2 mmsquare or more in 23 degreeC.

상기 경화물이 투명성이 우수한 것은, 광 투과율을 측정함으로써 확인할 수 있다. 경화물의 광 투과율은, 파장 400 ㎚ 의 광에서는, 80 % 이상이 바람직하고, 84 % 이상이 특히 바람직하고, 파장 450 ㎚ 의 광에서는, 87 % 이상이 바람직하다.It can be confirmed that the said hardened | cured material is excellent in transparency by measuring light transmittance. As for the light transmittance of hardened | cured material, 80% or more is preferable at the light of wavelength 400 nm, 84% or more is especially preferable, and 87% or more is preferable at the light of wavelength 450 nm.

상기 경화물이 장기에 걸쳐 내열성이 우수한 것은, 경화물을 고온 하에 장시간 둔 후에도 투명성의 변화가 작은 점에서 확인할 수 있다. 투명성은 150 ℃에서 500 시간 둔 후에, 파장 400 ㎚ 의 투과율이 초기 투과율의 70 % 이상이 바람직하고, 80 % 이상이 보다 바람직하다.The said hardened | cured material is excellent in heat resistance over a long term can be confirmed by the point that the change of transparency is small, even after leaving hardened | cured material for a long time at high temperature. After 500 hours of transparency at 150 ° C., the transmittance with a wavelength of 400 nm is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more of the initial transmittance.

3) 경화성 조성물의 사용 방법 3) Use of Curable Composition

본 발명의 제 3 은 본 발명의 경화성 조성물을, 광소자 고정재용 접착제 또는 광소자 고정재용 밀봉제로서 사용하는 방법이다. 3rd of this invention is the method of using the curable composition of this invention as an adhesive agent for optical element fixing materials, or the sealing agent for optical element fixing materials.

광소자로는, LED, LD 등의 발광 소자, 수광 소자, 복합 광소자, 광 집적 회로 등을 들 수 있다.As an optical element, light emitting elements, such as LED and LD, a light receiving element, a composite optical element, an optical integrated circuit, etc. are mentioned.

〈광소자 고정재용 접착제〉 〈Glue for optical element fixing material〉

본 발명의 경화성 조성물은 광소자 고정재용 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as an adhesive agent for optical element fixing materials.

본 발명의 경화성 조성물을 광소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법으로는, 접착의 대상으로 하는 재료 (광소자와 그 기판 등) 의 일방 또는 양방의 접착면에 그 조성물을 도포하고, 압착한 후, 가열 경화시켜, 접착의 대상으로 하는 재료끼리를 강고하게 접착시키는 방법을 들 수 있다.As a method of using the curable composition of the present invention as an adhesive for an optical device fixing material, after applying the composition to one or both adhesive surfaces of a material (optical device and its substrate) to be subjected to adhesion, and compressing the composition, The method of making it harden | cure by heat-hardening and adhere | attaching the material made into the object of adhesion | attachment is mentioned.

광소자를 접착하기 위한 주된 기판 재료로는, 소다라임 유리, 내열성 경질 유리 등의 유리류 ; 세라믹스 ; 철, 구리, 알루미늄, 금, 은, 백금, 크롬, 티탄 및 이들 금속의 합금, 스테인리스 (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309 등) 등의 금속 류 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸펜텐, 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리페닐렌술파이드, 폴리에테르이미드, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 노르보르넨계 수지, 시클로올레핀 수지, 유리 에폭시 수지 등의 합성 수지 ; 등을 들 수 있다.As a main substrate material for bonding an optical element, Glass, such as soda-lime glass and heat resistant hard glass; Ceramics; Metals such as iron, copper, aluminum, gold, silver, platinum, chromium, titanium, alloys of these metals, and stainless steel (SUS302, SUS304, SUS304L, SUS309, etc.); Polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyether ether ketone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyetherimide Synthetic resins such as polyimide, polyamide, acrylic resin, norbornene-based resin, cycloolefin resin and glass epoxy resin; And the like.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는 사용하는 경화성 조성물 등에 따라 상이하기도 하지만, 통상적으로, 100 ~ 200 ℃ 이다. 가열 시간은 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although heating temperature at the time of heat-hardening may differ according to the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. The heating time is usually 10 minutes to 20 hours, preferably 30 minutes to 10 hours.

〈광소자 고정재용 밀봉제〉 <Seal Agent for Optical Device Fixing Material>

본 발명의 경화성 조성물은 광소자 밀봉체의 밀봉제로서 바람직하게 사용할 수 있다.The curable composition of this invention can be used suitably as a sealant of an optical element sealing body.

본 발명의 경화성 조성물을 광소자 고정재용 밀봉제로서 사용하는 방법으로는, 예를 들어, 그 조성물을 원하는 형상으로 성형하고, 광소자를 내포한 성형체를 얻은 후, 그것을 가열 경화시킴으로써 광소자 밀봉체를 제조하는 방법 등을 들 수 있다. As a method of using the curable composition of the present invention as a sealant for an optical device fixing material, for example, the composition is molded into a desired shape, a molded article containing an optical device is obtained, and the optical device sealant is formed by heating and curing it. The manufacturing method etc. are mentioned.

본 발명의 경화성 조성물을 원하는 형상으로 성형하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 통상적인 트랜스퍼 성형법이나, 주형법 등의 공지된 몰드법을 채용할 수 있다.It does not specifically limit as a method of shape | molding the curable composition of this invention to a desired shape, A well-known mold method, such as a normal transfer molding method and the casting method, can be employ | adopted.

가열 경화시킬 때의 가열 온도는 사용하는 경화성 조성물 등에 따라 상이하기도 하지만, 통상적으로, 100 ~ 200 ℃ 이다. 가열 시간은 통상적으로 10 분 내지 20 시간, 바람직하게는 30 분 내지 10 시간이다.Although heating temperature at the time of heat-hardening may differ according to the curable composition etc. to be used, it is 100-200 degreeC normally. The heating time is usually 10 minutes to 20 hours, preferably 30 minutes to 10 hours.

얻어지는 광소자 밀봉체는 본 발명의 경화성 조성물을 사용하고 있으므로, 광소자에, 백색이나 청색 발광 LED 등의, 발광의 피크 파장이 400 ~ 490 ㎚ 로 단파장인 것을 사용해도, 열이나 광에 의해 착색 열화되는 경우가 없는 투명성, 내열성이 우수한 것이다.Since the optical element sealing body obtained uses the curable composition of this invention, even if the peak wavelength of light emission, such as a white and blue light emitting LED, is short-wavelength using 400-490 nm, it coloring by heat and light It is excellent in transparency and heat resistance which do not deteriorate.

실시예Example

다음으로 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(중량 평균 분자량 측정) (Weight average molecular weight measurement)

제조예에서 얻은 실란 화합물 공중합체의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 표준 폴리스티렌 환산값으로 하고, 이하의 장치, 및 조건에서 측정하였다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer obtained by the manufacture example was made into the standard polystyrene conversion value, and it measured on the following apparatuses and conditions.

장치명 : HLC-8220 GPC, 토소사 제조 Device name: HLC-8220 GPC, manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : TSKgel GMHXL, TSKgel GMHXL, 및 TSKgel 2000HXL 을 순차 연결한 것 Column: Serial connection of TSKgel GMHXL, TSKgel GMHXL, and TSKgel 2000HXL

용매 : 테트라하이드로푸란 Solvent: tetrahydrofuran

주입량 : 80 ㎕ Injection volume: 80 μl

측정 온도 : 40 ℃ Measurement temperature: 40 ℃

유속 : 1 ㎖/분 Flow rate: 1 ml / min

검출기 : 시차 굴절계Detector: differential refractometer

(IR 스펙트럼의 측정)(Measurement of IR spectrum)

제조예에서 얻은 실란 화합물 공중합체의 IR 스펙트럼은 이하의 장치를 사용하여 측정하였다. The IR spectrum of the silane compound copolymer obtained in the manufacture example was measured using the following apparatus.

푸리에 변환 적외 분광 광도계 (Spectrum 100, 파킨엘머사 제조)Fourier Transform Infrared Spectrophotometer (Spectrum 100, manufactured by Parkin Elmer)

(제조예 1)(Production Example 1)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에, 실란 화합물 (2) 로서 페닐트리메톡시실란 (토쿄 화성 공업사 제조) 16.7 g (84 m㏖) 과, 실란 화합물 (1) 로서 3-아세톡시프로필트리메톡시실란 (아즈맥스사 제조) 8.0 g (36 m㏖), 용매로서 톨루엔 60 ㎖, 및 증류수 30 ㎖ 를 주입한 후, 교반하면서, 촉매로서 인산 (칸토 화학사 제조) 0.15 g (1.5 m㏖) 을 첨가하고, 실온에서 추가로 16 시간 교반을 계속하였다.In a 300 ml eggplant flask, 16.7 g (84 mmol) of phenyltrimethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as the silane compound (2), and 3-acetoxypropyltrimethoxysilane as the silane compound (1) ( 8.0 g (36 mmol) of Azmax Co., Ltd., 60 mL of toluene, and 30 mL of distilled water were injected as a solvent, and 0.15 g (1.5 mmol) of phosphoric acid (Kanto Chemical Co., Ltd.) was added as a catalyst, stirring, Stirring was continued for another 16 hours at room temperature.

반응 종료 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸 100 ㎖ 를 첨가하고, 포화 탄산수소나트륨 수용액으로 중화시켰다. 잠시 가만히 정지시킨 후, 유기층을 분취하였다. 이어서, 유기층을 증류수로 2 회 세정한 후, 무수황산마그네슘으로 건조시켰다. 황산마그네슘을 여과 분리 후, 여과액을 이배퍼레이터로 50 ㎖ 까지 농축하고, 이것을 다량의 n-헥산 중에 적하하여 침전시켜, 침전물을 데칸테이션에 의해 분리하였다. 얻어진 침전물을 메틸에틸케톤에 용해시켜 회수하고, 이배퍼레이터로 용매를 감압 증류 제거하여, 진공 건조시킴으로써, 실란 화합물 공중합체 (A1) 14.7 g 을 얻었다. After the reaction was completed, 100 ml of ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the mixture was neutralized with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After stopping for a while, the organic layer was separated. Subsequently, the organic layer was washed twice with distilled water and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate was separated by filtration, the filtrate was concentrated to 50 ml with an evaporator, which was dropped into a large amount of n-hexane to precipitate, and the precipitate was separated by decantation. The obtained precipitate was dissolved in methyl ethyl ketone and recovered, and the solvent was distilled off under reduced pressure with an evaporator to obtain 14.7 g of a silane compound copolymer (A1) by vacuum drying.

실란 화합물 공중합체 (A1) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 2,700, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.53 이었다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A1) was 2,700, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.53.

또, 실란 화합물 공중합체 (A1) 의 IR 스펙트럼 (푸리에 변환 적외 분광 광도계 (FT-IR)) 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum (Fourier Transform Infrared Spectrophotometer (FT-IR)) data of a silane compound copolymer (A1) is shown below.

Si-Ph : 699 cm-1, 741 cm-1, Si-O : 1132 cm-1, -CO : 1738 cm-1 Si-Ph: 699 cm -1 , 741 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -CO: 1738 cm -1

(제조예 2) (Production Example 2)

제조예 1 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 14.3 g (72 m㏖) 으로 하고, 3-아세톡시프로필트리메톡시실란의 사용량을 10.7 g (48 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A2) 15.9 g 을 얻었다. Preparation Example 1, except that the usage-amount of phenyltrimethoxysilane was 14.3 g (72 mmol) and the usage-amount of 3-acetoxypropyltrimethoxysilane was 10.7 g (48 mmol). In the same manner as the above, 15.9 g of a silane compound copolymer (A2) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A2) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 2,600, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.50 이었다.The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A2) was 2,600, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.50.

또, 실란 화합물 공중합체 (A2) 의 IR 스펙트럼 (푸리에 변환 적외 분광 광도계 (FT-IR)) 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum (Fourier Transform Infrared Spectrophotometer (FT-IR)) data of a silane compound copolymer (A2) is shown below.

Si-Ph : 699 cm-1, 741 cm-1, Si-O : 1132 cm-1, -CO : 1738 cm-1 Si-Ph: 699 cm -1 , 741 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -CO: 1738 cm -1

(제조예 3) (Production Example 3)

제조예 1 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 19.0 g (96 m㏖) 으로 하고, 3-아세톡시프로필트리메톡시실란의 사용량을 5.3 g (24 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A3) 14.9 g 을 얻었다. Preparation Example 1, except that the usage amount of phenyltrimethoxysilane was 19.0 g (96 mmol), and the usage-amount of 3-acetoxypropyltrimethoxysilane was 5.3 g (24 mmol). In the same manner as the above, 14.9 g of a silane compound copolymer (A3) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A3) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 2,500, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.59 였다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A3) was 2,500, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.59.

또, 실란 화합물 공중합체 (A3) 의 IR 스펙트럼 (푸리에 변환 적외 분광 광도계 (FT-IR)) 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum (Fourier Transform Infrared Spectrophotometer (FT-IR)) data of a silane compound copolymer (A3) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 742 cm-1, Si-O : 1132 cm-1, -CO : 1738 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 742 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -CO: 1738 cm -1

(제조예 4)(Production Example 4)

제조예 1 에 있어서, 페닐트리메톡시실란 16.7 g (84 m㏖) 과 3-아세톡시프로필트리메톡시실란 8.0 g (36 m㏖) 을 사용하는 대신에, 페닐트리메톡시실란 (토쿄 화성 공업사 제조) 11.9 g (60 m㏖) 과 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 (토쿄 화성 공업사 제조) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「GlyTMS」라고 기재한다) 14.2 g (60 m㏖) 을 사용하는 것 이외에는, 제조예 1 과 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A4) 16.3 g 을 얻었다. In manufacture example 1, instead of using 16.7 g (84 mmol) of phenyl trimethoxysilane and 8.0 g (36 mmol) of 3-acetoxy propyl trimethoxysilane (Phenyltrimethoxysilane (Tokyo Chemical Co., Ltd.) 14.9 g (60 mmol) and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (in the following Tables 1 and 2, "GlyTMS" is described) 14.2 g (60 mmol) 16.3 g of silane compound copolymer (A4) was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that was used.

실란 화합물 공중합체 (A4) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 2,800, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.56 이었다.  The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A4) was 2,800, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.56.

또, 실란 화합물 공중합체 (A4) 의 IR 스펙트럼 (푸리에 변환 적외 분광 광도계 (FT-IR)) 데이터를 이하에 나타낸다.  Moreover, IR spectrum (Fourier Transform Infrared Spectrophotometer (FT-IR)) data of a silane compound copolymer (A4) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 742 cm-1, Si-O : 1132 cm-1, 에폭시기 : 1254 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 742 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , Epoxy group: 1254 cm -1

(제조예 5) (Production Example 5)

300 ㎖ 의 가지형 플라스크에 실란 화합물 (2) 로서 페닐트리메톡시실란 (토쿄 화성 공업사 제조) 19.0 g (96 m㏖) 과, 실란 화합물 (1) 로서 3-클로로프로필트리메톡시실란 (토쿄 화성 공업사 제조) 4.77 g (24 m㏖), 용매로서 톨루엔 60 ㎖, 증류수 30 ㎖ 를 주입한 후, 교반하면서, 촉매로서 인산 (칸토 화학사 제조) 0.15 g (1.5 m㏖) 을 첨가하고, 실온에서 추가로 16 시간 교반을 계속하였다.19.0 g (96 mmol) of phenyl trimethoxysilane (made by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a silane compound (2) in a 300 ml eggplant flask, and 3-chloropropyl trimethoxysilane (The Tokyo Chemical Co., Ltd.) as a silane compound (1) 4.77 g (24 mmol) of industrial company), 60 ml of toluene and 30 ml of distilled water are injected as a solvent, and 0.15 g (1.5 mmol) of phosphoric acid (made by Kanto Chemical Co., Ltd.) is added as a catalyst, stirring, and it adds at room temperature. Stirring was continued for 16 hours.

반응 종료 후, 반응 혼합물에 아세트산에틸 100 ㎖ 를 첨가하고, 포화 탄산수소나트륨 수용액으로 중화시켰다. 잠시 가만히 정지시킨 후, 유기층을 분취하였다. 이어서, 유기층을 증류수로 2 회 세정한 후, 무수황산마그네슘으로 건조시켰다. 황산마그네슘을 여과 분리 후, 여과액을 다량의 n-헥산 중에 적하하여 재침전시키고, 헥산을 제거하여 침전물을 꺼냈다. 얻어진 침전물을 메틸에틸케톤에 용해시켜 회수하고, 이배퍼레이터로 용매를 감압 증류 제거하여, 진공 건조시킴으로써, 실란 화합물 공중합체 (A5) 13.6 g 을 얻었다.After the reaction was completed, 100 ml of ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the mixture was neutralized with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. After stopping for a while, the organic layer was separated. Subsequently, the organic layer was washed twice with distilled water and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After magnesium sulfate was separated by filtration, the filtrate was added dropwise in a large amount of n-hexane to reprecipitate, and hexane was removed to remove the precipitate. The obtained precipitate was dissolved in methyl ethyl ketone and recovered, and the solvent was distilled off under reduced pressure with an evaporator to obtain 13.6 g of a silane compound copolymer (A5) by vacuum drying.

실란 화합물 공중합체 (A5) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,000, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.59 였다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A5) was 3,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.59.

또, 실란 화합물 공중합체 (A5) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A5) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 741 cm-1, Si-O : 1132 cm-1, -Cl : 648 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 741 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -Cl: 648 cm -1

(제조예 6)(Production Example 6)

제조예 5 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 16.7 g (84 m㏖) 으로 하고, 3-클로로프로필트리메톡시실란의 사용량을 7.15 g (36 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 5 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A6) 13.4 g 을 얻었다.In Production Example 5, except that the amount of phenyltrimethoxysilane used was 16.7 g (84 mmol), and the amount of 3-chloropropyltrimethoxysilane was used in 7.15 g (36 mmol), In the same manner, 13.4 g of a silane compound copolymer (A6) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A6) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,300, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.59 였다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A6) was 3,300, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.59.

또, 실란 화합물 공중합체 (A6) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A6) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 742 cm-1, Si-O : 1133 cm-1, -Cl : 648 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 742 cm -1 , Si-O: 1133 cm -1 , -Cl: 648 cm -1

(제조예 7) (Production Example 7)

제조예 5 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 14.3 g (72 m㏖) 으로 하고, 3-클로로프로필트리메톡시실란의 사용량을 9.54 g (48 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 5 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A7) 13.0 g 을 얻었다.In Production Example 5, except that the usage-amount of phenyltrimethoxysilane was 14.3 g (72 mmol), and the usage-amount of 3-chloropropyltrimethoxysilane was 9.54 g (48 mmol), In the same manner, 13.0 g of a silane compound copolymer (A7) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A7) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,400, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.61 이었다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A7) was 3,400, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.61.

또, 실란 화합물 공중합체 (A7) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A7) is shown below.

Si-Ph : 699 cm-1, 741 cm-1, Si-O : 1132 cm-1, -Cl : 648 cm-1 Si-Ph: 699 cm -1 , 741 cm -1 , Si-O: 1132 cm -1 , -Cl: 648 cm -1

(제조예 8) (Preparation Example 8)

제조예 5 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 11.9 g (60 m㏖) 으로 하고, 3-클로로프로필트리메톡시실란의 사용량을 11.9 g (60 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 5 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A8) 12.9 g 을 얻었다.In Production Example 5, except that the usage-amount of phenyltrimethoxysilane was 11.9 g (60 mmol), and the usage-amount of 3-chloropropyltrimethoxysilane was 11.9 g (60 mmol), In the same manner, 12.9 g of a silane compound copolymer (A8) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A8) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,600, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.63 이었다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A8) was 3,600, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.63.

또, 실란 화합물 공중합체 (A8) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A8) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 741 cm-1, Si-O : 1133 cm-1, -Cl : 648 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 741 cm -1 , Si-O: 1133 cm -1 , -Cl: 648 cm -1

(제조예 9)(Preparation Example 9)

제조예 5 에 있어서, 3-클로로프로필트리메톡시실란 4.77 g 대신에, 2-시아노에틸트리메톡시실란 (아즈맥스사 제조) 4.21 g (24 m㏖) 을 사용한 것 이외에는 제조예 5 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A9) 13.5 g 을 얻었다.In Production Example 5, the same as in Production Example 5 except that 4.21 g (24 mmol) of 2-cyanoethyltrimethoxysilane (manufactured by Azmax) was used instead of 4.77 g of 3-chloropropyltrimethoxysilane. 13.5 g of silane compound copolymers (A9) were obtained.

실란 화합물 공중합체 (A9) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 2,900, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.58 이었다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A9) was 2,900, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.58.

또, 실란 화합물 공중합체 (A9) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A9) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 741 cm-1, Si-O : 1131 cm-1, -CN : 2252 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 741 cm -1 , Si-O: 1131 cm -1 , -CN: 2252 cm -1

(제조예 10)(Preparation Example 10)

제조예 9 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 16.7 g (84 m㏖) 으로 하고, 2-시아노에틸트리메톡시실란의 사용량을 6.31 g (36 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 9 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A10) 13.3 g 을 얻었다.Preparation Example 9, except that the usage amount of phenyltrimethoxysilane was 16.7 g (84 mmol) and the usage amount of 2-cyanoethyltrimethoxysilane was 6.31 g (36 mmol). In the same manner as the above, 13.3 g of a silane compound copolymer (A10) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A10) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,200, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.64 였다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A10) was 3,200, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.64.

또, 실란 화합물 공중합체 (A10) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A10) is shown below.

Si-Ph : 699 cm-1, 742 cm-1, Si-O : 1131 cm-1, -CN : 2253 cm-1 Si-Ph: 699 cm -1 , 742 cm -1 , Si-O: 1131 cm -1 , -CN: 2253 cm -1

(제조예 11) (Manufacture example 11)

제조예 9 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 14.3 g (72 m㏖) 으로 하고, 2-시아노에틸트리메톡시실란의 사용량을 8.41 g (48 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 9 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A11) 12.8 g 을 얻었다.Preparation Example 9, except that the amount of phenyltrimethoxysilane used was 14.3 g (72 mmol) and the amount of 2-cyanoethyltrimethoxysilane was 8.41 g (48 mmol). In the same manner as in the above, 12.8 g of a silane compound copolymer (A11) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A11) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,300, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.62 였다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A11) was 3,300, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.62.

또, 실란 화합물 공중합체 (A11) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A11) is shown below.

Si-Ph : 699 cm-1, 742 cm-1, Si-O : 1131 cm-1, -CN : 2253 cm-1 Si-Ph: 699 cm -1 , 742 cm -1 , Si-O: 1131 cm -1 , -CN: 2253 cm -1

(제조예 12) (Production Example 12)

제조예 9 에 있어서, 페닐트리메톡시실란의 사용량을 11.9 g (60 m㏖) 으로 하고, 2-시아노에틸트리메톡시실란의 사용량을 10.5 g (60 m㏖) 으로 한 것 이외에는 제조예 9 와 동일하게 하여, 실란 화합물 공중합체 (A12) 12.3 g 을 얻었다.Preparation Example 9, except that the usage amount of phenyltrimethoxysilane was 11.9 g (60 mmol) and the usage amount of 2-cyanoethyltrimethoxysilane was 10.5 g (60 mmol). In the same manner as in the above, 12.3 g of a silane compound copolymer (A12) was obtained.

실란 화합물 공중합체 (A12) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 3,500, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 1.61 이었다. The weight average molecular weight (Mw) of the silane compound copolymer (A12) was 3,500, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.61.

또, 실란 화합물 공중합체 (A12) 의 IR 스펙트럼 데이터를 이하에 나타낸다. Moreover, IR spectrum data of a silane compound copolymer (A12) is shown below.

Si-Ph : 700 cm-1, 742 cm-1, Si-O : 1133 cm-1, -CN : 2252 cm-1 Si-Ph: 700 cm -1 , 742 cm -1 , Si-O: 1133 cm -1 , -CN: 2252 cm -1

(실시예 1) (Example 1)

제조예 1 에서 얻은 실란 화합물 공중합체 (A1) 10 g 에, 에폭시 화합물 (B) 로서 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물 (닛산 화학 공업사 제조 TEPIC-PAS B26, 에폭시 당량 137 g/eq) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「B1」이라고 기재한다) 1.5 g, 경화제 (C) 로서 4-메틸시클로헥산-1,2-디카르복실산 무수물 (토쿄 화성 공업사 제조) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「C1」이라고 기재한다) 0.375 g 및 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물 (미츠비시 가스 화학사 제조) (카르복실기를 갖는 지환식 산무수물) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「C2」라고 기재한다) 0.75 g, 그리고, 실란 커플링제 (D) 로서 3-트리에톡시실릴프로필 무수숙신산 (아즈맥스사 제조) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「D1」이라고 기재한다) 0.375 g 을 첨가하고, 전체 용량을 충분히 혼합, 탈포함으로써, 경화성 조성물 (1) 을 얻었다.Epoxy compound (TEPIC-PAS B26 by Nissan Chemical Industries, Ltd., epoxy equivalent 137 g / eq) which has isocyanurate frame | skeleton as an epoxy compound (B) to 10 g of silane compound copolymers (A1) obtained by the manufacture example 1 (following) In the 1st table | surface and 2nd table | surface, 4-methylcyclohexane- 1, 2- dicarboxylic acid anhydride (made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as 1.5 g and a hardening | curing agent (C) (the 1st table | surface) 0.375 g and cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2- anhydride (made by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) (alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group) in a 2nd table | surface (In the following 1st table | surface and 2nd table | surface, it describes as "C2.)) 0.75g and 3-triethoxysilylpropyl succinic anhydride (made by Azmax company) as a silane coupling agent (D) (the 1st table | surface) Curable composition by adding 0.375 g of a 2nd table, "it is described as" D1 ", and fully mixing and defoaming whole capacity. (1) was obtained.

(실시예 2 ~ 7)(Examples 2-7)

하기 제 1 표 에 따라, 실란 화합물 공중합체, 에폭시 화합물, 경화제 및 실란 커플링제를 사용하고, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (2) ~ (7) 을 얻었다. According to the following 1st table | surface, curable compositions (2)-(7) were obtained like Example 1 using the silane compound copolymer, an epoxy compound, a hardening | curing agent, and a silane coupling agent.

또한, 하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「B2」는 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물 (닛산 화학 공업사 제조 TEPIC-PAS B22, 에폭시 당량 179 g/eq) 을 나타낸다.In addition, in the following 1st table | surface and 2nd table | surface, "B2" shows the epoxy compound (TEPIC-PAS B22 by Nissan Chemical Industries, Ltd., epoxy equivalent 179g / eq) which has an isocyanurate skeleton.

(비교예 1, 2) (Comparative Examples 1 and 2)

하기 제 1 표 에 따라, 실란 화합물 공중합체, 에폭시 화합물, 경화제 및 실란 커플링제를 사용하여 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (8), (9) 를 얻었다.According to the following 1st table | surface, curable compositions (8) and (9) were obtained like Example 1 using the silane compound copolymer, an epoxy compound, a hardening | curing agent, and a silane coupling agent.

(비교예 3) (Comparative Example 3)

실시예 1 에 있어서, 에폭시 화합물 (B) 대신에, 3,4-에폭시시클로헥산카르복실산3,4-에폭시시클로헥실메틸 (시그마 알드리치사 제조) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「BF1」이라고 기재한다) 1.5 g 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (10) 을 얻었다.In Example 1, 3, 4- epoxycyclohexane carboxylic acid 3, 4- epoxy cyclohexylmethyl (made by Sigma-Aldrich) instead of an epoxy compound (B) (In the following 1st table | surface, 2nd table | surface, BF1 "), and the curable composition (10) was obtained like Example 1 except having used 1.5 g.

(비교예 4) (Comparative Example 4)

실시예 1 에 있어서, 제조예 1 에서 얻은 실란 화합물 공중합체 (A1) 대신에, 제조예 4 에서 얻은 실란 화합물 공중합체 (A4) 를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (11) 을 얻었다.In Example 1, except having used the silane compound copolymer (A4) obtained by the manufacture example 4 instead of the silane compound copolymer (A1) obtained by the manufacture example 1, it carried out similarly to Example 1, and the curable composition (11 )

(비교예 5)(Comparative Example 5)

실시예 1 에 있어서, 실란 커플링제 (D1) 대신에, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 (토쿄 화성 공업사 제조) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「DF1」라고 기재한다) 0.375 g 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (12) 를 얻었다.In Example 1, 3-glycidoxy propyl trimethoxysilane (made by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) (it describes as "DF1" in the following 1st table | surface and 2nd table | surface) instead of a silane coupling agent (D1) 0.375 Except having used g, it carried out similarly to Example 1, and obtained the curable composition (12).

(비교예 6) (Comparative Example 6)

실시예 1 의 실란 커플링제 (D1) 로서 오르토규산테트라메틸 (토쿄 화성 공업사 제조) (하기 제 1 표, 제 2 표 중, 「DF2」라고 기재한다) 0.375 g 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (13) 을 얻었다.Example 1 except that 0.375 g of orthosilicate tetramethyl (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (described as "DF2" in the following Tables 1 and 2) was used as the silane coupling agent (D1) of Example 1. In the same manner, the curable composition (13) was obtained.

(실시예 8) (Example 8)

제조예 5 에서 얻은 실란 화합물 공중합체 (A5) 10 g 에, 에폭시 화합물 (B) 로서 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물 (닛산 화학 공업사 제조 TEPIC-PAS B26, 에폭시 당량 137 g/eq) 1.5 g, 경화제 (C) 로서 4-메틸시클로헥산-1,2-디카르복실산 무수물 (토쿄 화성 공업사 제조) 0.38 g 및 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물 (미츠비시 가스 화학사 제조) 0.75 g, 그리고, 실란 커플링제 (D) 로서 3-트리에톡시실릴프로필 무수숙신산 (아즈맥스사 제조) 0.38 g 을 첨가하고, 전체 용량을 충분히 혼합, 탈포함으로써, 경화성 조성물 (14) 를 얻었다.1.5 g of epoxy compounds (TEPIC-PAS B26 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., epoxy equivalent 137 g / eq) having an isocyanurate skeleton as an epoxy compound (B) in 10 g of the silane compound copolymer (A5) obtained in Production Example 5. As the curing agent (C), 0.38 g of 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride ( Curable composition by adding 0.75 g of Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and 0.38 g of 3-triethoxysilylpropyl succinic anhydride (manufactured by Azmax Corporation) as the silane coupling agent (D), and fully mixing and defoaming the entire capacity. (14) was obtained.

(실시예 9 ~ 15, 비교예 7 ~ 16) (Examples 9-15, Comparative Examples 7-16)

하기 제 2 표 에 따라, 실란 화합물 공중합체, 에폭시 화합물, 경화제 및 실란 커플링제를 사용하여 실시예 8 과 동일하게 하여, 경화성 조성물 (15) ~ (31) 을 얻었다.According to the following 2nd table | surface, curable compositions (15)-(31) were obtained like Example 8 using the silane compound copolymer, an epoxy compound, a hardening | curing agent, and a silane coupling agent.

Figure pct00010
Figure pct00010

Figure pct00011
Figure pct00011

실시예 1 ~ 15 및 비교예 1 ~ 16 에서 얻은 경화성 조성물 1 ~ 31 의 경화물에 대해, 하기와 같이 하여, 접착력, 초기 투과율, 및 가열 후의 투과율을 측정하였다. About the hardened | cured material of curable compositions 1-31 obtained in Examples 1-15 and Comparative Examples 1-16, the adhesive force, initial stage transmittance | permeability, and the transmittance | permeability after heating were measured as follows.

측정 결과를 하기 제 3 표, 제 4 표 에 나타낸다.The measurement results are shown in the following third table and fourth table.

(접착력 시험) (Adhesion test)

2 ㎜ 의 사각 실리콘 칩의 미러면에, 경화성 조성물 1 ~ 31 의 각각을 두께가 약 2 ㎛ 가 되도록 도포하고, 도포면을 피착체 (은도금 구리판) 상에 실어 압착하였다. 그 후, 180 ℃ 에서 2 시간 가열 처리하여 경화시켜 시험편 부착 피착체를 얻었다. 이 시험편 부착 피착체를, 미리 소정 온도 (23 ℃, 100 ℃) 로 가열한 본드 테스터 (시리즈 4000, 데이지사 제조) 의 측정 스테이지 상에 30 초간 방치하고, 피착체에서 50 ㎛ 높이의 위치로부터, 스피드 200 ㎛/s 로 접착면에 대해 수평 방향 (전단 방향) 으로 응력을 가하여 23 ℃ 및 100 ℃ 에 있어서의, 시험편과 피착체의 접착력 (N/2 ㎜□) 을 측정하였다.Each of the curable compositions 1-31 was apply | coated to the mirror surface of the 2 mm square silicon chip so that thickness might be set to about 2 micrometers, and the coated surface was mounted on the to-be-adhered body (silver-plated copper plate), and was crimped | bonded. Then, it heat-processed at 180 degreeC for 2 hours and hardened | cured and obtained the to-be-adhered body with a test piece. This to-be-adhered to-be-adhered body was left to stand on the measurement stage of the bond tester (Series 4000, Daisy company) heated to predetermined temperature (23 degreeC, 100 degreeC) previously, and from a position of 50 micrometer height in a to-be-adhered body, Stress was applied in the horizontal direction (shear direction) to the adhesive surface at a speed of 200 μm / s, and the adhesive force (N / 2 mm □) between the test piece and the adherend at 23 ° C. and 100 ° C. was measured.

(접착 내열성)(Adhesion heat resistance)

접착력 시험에 있어서, 100 ℃ 에 있어서의 접착력이, 23 ℃ 에 있어서의 접착력의 50 % 이상인 경우를 「○」, 50 % 미만인 경우를 「×」로 평가하였다.In the adhesive force test, the case where "(circle)" and less than 50% of the case where the adhesive force in 100 degreeC is 50% or more of the adhesive force in 23 degreeC was evaluated as "x".

(초기 투과율의 측정)(Measurement of initial transmittance)

경화성 조성물 1 ~ 31 의 각각을, 길이 25 ㎜, 폭 20 ㎜, 두께 1 ㎜ 가 되도록 주형에 흘려넣고, 140 ℃ 에서 6 시간 가열하여 경화시켜, 시험편을 각각 제작하였다. 얻어진 시험편에 대해, 분광 광도계 (MPC-3100, 시마즈 제작소사 제조) 로, 파장 400 ㎚, 450 ㎚ 의 초기 투과율 (%) 을 측정하였다.Each of curable compositions 1-31 was poured into the mold so that it might be set to length 25mm, width 20mm, and thickness 1mm, and it heated and hardened | cured at 140 degreeC for 6 hours, and produced the test piece, respectively. About the obtained test piece, the initial stage transmittance | permeability (%) of wavelength 400nm and 450nm was measured with the spectrophotometer (MPC-3100, Shimadzu Corporation make).

(초기 투명성)(Initial transparency)

초기 투과율 측정에 있어서, 400 ㎚ 의 투과율이 80 % 이상을 「○」, 70 % 이상 80 % 미만을 「△」, 70 % 미만을 「×」로 평가하였다.In initial stage transmittance | permeability measurement, the transmittance | permeability of 400 nm evaluated "(circle)", 70% or more, and less than 80% of "(circle)", and less than 70% of "(circle)" as "x".

(가열 후의 투과율의 측정)(Measurement of transmittance after heating)

초기 투과율을 측정한 각 시험편을 150 ℃ 의 오븐에 500 시간 투입하고, 다시 파장 400 ㎚, 450 ㎚ 의 투과율 (%) 을 측정하였다. 이것을 가열 후 투과율로 하였다.Each test piece which measured the initial transmittance | permeability was thrown into the oven of 150 degreeC for 500 hours, and the transmittance | permeability (%) of wavelength 400nm and 450nm was measured again. This was made into the transmittance | permeability after heating.

[내열성 (가열 후 투명성)] [Heat resistance (transparency after heating)]

가열 후 투과율 측정에 있어서, 400 ㎚ 의 투과율이, 초기 투과율의 80 % 이상이면 「○」, 70 % 이상 80 % 미만이면 「△」, 70 % 미만이면 「×」로 평가하였다.In the measurement of the transmittance | permeability after heating, when the transmittance | permeability of 400 nm is 80% or more of initial stage transmittance | permeability, it evaluated as "(circle)", 70% or more and less than 80%, it evaluated as "(triangle | delta)" and less than 70% as "x".

Figure pct00012
Figure pct00012

Figure pct00013
Figure pct00013

제 3 표, 제 4 표 로부터, 실시예 1 ~ 15 의 경화성 조성물 (1 ~ 7, 14 ~ 21) 의 경화물은, 23 ℃ 에 있어서 134 N/2 ㎜□ 이상의 높은 접착력을 갖고, 고온 (100 ℃) 에 있어서도, 23 ℃ 에 있어서의 접착력의 58 % 이상의 접착력을 유지하고, 접착 내열성이 우수하였다. 또, 파장 400 ㎚, 450 ㎚ 의 초기 투과율, 가열 후 투과율이 모두 높고, 초기 투명성, 내열성 (가열 후 투명성) 이 우수한 것이었다.From the 3rd table | surface and the 4th table | surface, the hardened | cured material of the curable compositions (1-7, 14-21) of Examples 1-15 has a high adhesive force of 134 N / 2mm @ or more in 23 degreeC, and is high temperature (100 (Degree. C.), the adhesive strength of 58% or more of the adhesive force at 23 ° C. was maintained, and the adhesion heat resistance was excellent. Moreover, the initial transmittance | permeability of wavelength 400nm and 450nm and the transmittance | permeability after heating were all high, and it was excellent in initial stage transparency and heat resistance (transparency after heating).

한편, 비교예 1, 5 ~ 7, 10 ~ 12, 15, 16 의 경화성 조성물 (8, 12, 13, 22, 25 ~ 27, 30, 31) 의 경화물은 초기 투명성이 떨어졌다. 비교예 2, 8, 13 의 경화성 조성물 (9, 23, 28) 의 경화물은 접착력, 접착 내열성 모두 떨어져, 비교예 3, 4, 9, 14 의 경화성 조성물 (10, 11, 24, 29) 의 경화물은 현저하게 내열성 (가열 후 투명성) 이 떨어졌다.On the other hand, the hardened | cured material of the curable compositions (8, 12, 13, 22, 25-27, 30, 31) of Comparative Examples 1, 5-7, 10-12, 15, 16 was inferior to initial stage transparency. Hardened | cured material of the curable compositions (9, 23, 28) of Comparative Examples 2, 8 and 13 was inferior in both the adhesive force and the adhesive heat resistance, and the curable compositions (10, 11, 24 and 29) of Comparative Examples 3, 4, 9 and 14 The cured product was markedly inferior in heat resistance (transparency after heating).

Claims (13)

(A) 분자 내에, 하기 식 (i), (ii) 및 (iii)
[화학식 1]
Figure pct00014

[식 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X0 은 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다.]
로 나타내는 반복 단위 중, (i) 및 (ii), (i) 및 (iii), (ii) 및 (iii), 또는 (i), (ii) 및 (iii) 의 반복 단위를 갖고, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체,
(B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물,
(C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 그리고
(D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제
를 함유하는 경화성 조성물.
In the molecule (A), the following formulas (i), (ii) and (iii)
[Formula 1]
Figure pct00014

[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 0 represents a halogen atom, a cyano group or a group represented by the formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. R <2> represents the C1-C20 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent.]
In the repeating unit shown by (b), it has a repeating unit of (i) and (ii), (i) and (iii), (ii) and (iii) or (i), (ii) and (iii), and a weight average Silane compound copolymer having a molecular weight of 1,000 to 30,000,
(B) an epoxy compound having an isocyanurate skeleton,
(C) a curing agent containing an alicyclic acid anhydride having a carboxyl group, and
(D) Silane coupling agent having an acid anhydride structure
Curable composition containing.
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 의 실란 화합물 공중합체가, 식 : R1-CH(XO)-D- 로 나타내는 기의 존재량 ([R1-CH(XO)-D]) 과 R2 의 존재량 ([R2]) 의 몰비로, [R1-CH(XO)-D]:[R2] = 60:40 ~ 5:95 의 실란 화합물 공중합체인 경화성 조성물.
The method of claim 1,
The silane compound in the copolymer (A), formula: R existing amount of the group represented by 1 -CH (X O) -D- ( [R 1 -CH (X O) -D]) and the amount present in R 2 ([R 2]) in a molar ratio, [R 1 -CH (X O ) -D] of: [R 2] = 60:40 ~ silane compound copolymer composition of the curable 5:95.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 (A), (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, (A) 와 [(B)+(C)+(D)] 의 질량비로, (A):[(B)+(C)+(D)] = 90:10 ~ 50:50 인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
The content ratio of said (A), (B), (C), and (D) component is a mass ratio of (A) and [(B) + (C) + (D)], and (A): [(B ) + (C) + (D)] = 90: 10-50: 50 Curable composition characterized by the above-mentioned.
(A') 식 (1) : R1-CH(XO)-D-Si(OR3)p(X1)3-p
[식 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X0 은 할로겐 원자, 시아노기 또는 식 : OG 로 나타내는 기 (식 중, G 는 수산기의 보호기를 나타낸다) 를 나타내고, D 는 단결합 또는 연결기를 나타낸다. R3 은 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X1 은 할로겐 원자를 나타내고, p 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다.]
로 나타내는 실란 화합물 (1) 의 적어도 1 종, 및
식 (2) : R2Si(OR4)q(X2)3-q
(식 중, R2 는 탄소수 1 ~ 20 의 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, R4 는 탄소수 1 ~ 6 의 알킬기를 나타내고, X2 는 할로겐 원자를 나타내고, q 는 0 ~ 3 의 정수를 나타낸다)
로 나타내는 실란 화합물 (2) 의 적어도 1 종을 함유하는 실란 화합물의 혼합물을 축합시켜 얻어지는, 중량 평균 분자량이 1,000 ~ 30,000 인 실란 화합물 공중합체,
(B) 이소시아누레이트 골격을 갖는 에폭시 화합물,
(C) 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물을 함유하는 경화제, 그리고
(D) 산무수물 구조를 갖는 실란 커플링제
를 함유하는 경화성 조성물.
(A ') Formula (1): R 1 -CH (X O ) -D-Si (OR 3 ) p (X 1 ) 3-p
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 0 represents a halogen atom, a cyano group or a group represented by the formula: OG (wherein G represents a protecting group of a hydroxyl group), and D Represents a single bond or a linking group. R 3 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p represents an integer of 0 to 3.]
At least one of the silane compounds (1) represented by
Formula (2): R 2 Si (OR 4 ) q (X 2 ) 3-q
(In formula, R <2> represents a C1-C20 alkyl group or the phenyl group which may have a substituent, R <4> represents a C1-C6 alkyl group, X <2> represents a halogen atom, q is an integer of 0-3. Indicates)
Silane compound copolymer with a weight average molecular weight of 1,000-30,000 obtained by condensing the mixture of the silane compound containing at least 1 sort (s) of the silane compound (2) represented by
(B) an epoxy compound having an isocyanurate skeleton,
(C) a curing agent containing an alicyclic acid anhydride having a carboxyl group, and
(D) Silane coupling agent having an acid anhydride structure
Curable composition containing.
제 4 항에 있어서,
상기 (A') 의 실란 화합물 공중합체가, 실란 화합물 (1) 과 실란 화합물 (2) 를 몰비로, [실란 화합물 (1)]:[실란 화합물 (2)] = 60:40 ~ 5:95 의 비율로 축합시켜 얻어지는 것인 경화성 조성물.
The method of claim 4, wherein
The silane compound copolymer of the above-mentioned (A ') has a silane compound (1) and a silane compound (2) in a molar ratio, and [silane compound (1)]: [silane compound (2)] = 60: 40-5: 95 Curable composition obtained by condensation at the ratio of.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 (A'), (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, (A') 와 [(B)+(C)+(D)] 의 질량비로, (A'):[(B)+(C)+(D)] = 90:10 ~ 50:50 인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
The method according to claim 4 or 5,
The content ratio of the above-mentioned (A '), (B), (C) and (D) component is a mass ratio of (A') and [(B) + (C) + (D)], and (A '): [(B) + (C) + (D)] = 90: 10-50: 50 Curable composition characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 (B), (C) 및 (D) 성분의 함유 비율이, [(B)+(C)] 와 (D) 의 질량비로, [(B)+(C)]:(D) = 90:10 ~ 10:90 인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
The method according to claim 1 or 4,
The content ratio of the said (B), (C) and (D) component is [(B) + (C)] :( D) = 90 by mass ratio of [(B) + (C)] and (D). Curable composition characterized by the above-mentioned: 10-10: 90.
제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 (C) 의 경화제가 카르복실기를 갖는 지환식 산무수물 및 그 밖의 지환식 산무수물로부터 선택되는 1 종 또는 2 종 이상으로 이루어지고, 그 질량비가 (카르복실기를 갖는 지환식 산무수물):(그 밖의 지환식 산무수물) = 100:0 ~ 10:90 인 경화성 조성물.
The method according to claim 1 or 4,
The hardening | curing agent of said (C) consists of 1 type (s) or 2 or more types chosen from an alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group, and other alicyclic acid anhydrides, and the mass ratio is (alicyclic acid anhydride which has a carboxyl group): (others) Alicyclic acid anhydride) = 100: 0-10:90 curable composition.
제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
광소자 고정재용 조성물인 경화성 조성물.
The method according to claim 1 or 4,
Curable composition which is a composition for optical element fixing materials.
제 1 항 또는 제 4 항에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화물.Hardened | cured material formed by hardening | curing the curable composition of Claim 1 or 4. 제 10 항에 있어서,
광소자 고정재인 경화물.
11. The method of claim 10,
Hardened | cured material which is an optical element fixing material.
제 1 항 또는 제 4 항에 기재된 경화성 조성물을, 광소자 고정재용 접착제로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition of Claim 1 or 4 as an adhesive agent for optical element fixing materials. 제 1 항 또는 제 4 항에 기재된 경화성 조성물을, 광소자 고정재용 밀봉제로서 사용하는 방법.The method of using the curable composition of Claim 1 or 4 as a sealing agent for optical element fixing materials.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150135531A (en) * 2013-08-06 2015-12-02 주식회사 다이셀 Curing resin composition and semiconductor device employing same
WO2018199705A1 (en) * 2017-04-28 2018-11-01 주식회사 엘지화학 Encapsulating composition

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI537339B (en) * 2010-11-30 2016-06-11 Lintec Corp A hardened composition, a hardened product, and a hardened composition
US9181397B2 (en) * 2011-12-22 2015-11-10 Daicel Corporation Curable resin composition and cured product thereof
TW201400572A (en) * 2012-03-23 2014-01-01 Lintec Corp Curable composition, cured product, and method for using curable composition
JP5550162B1 (en) * 2012-10-30 2014-07-16 リンテック株式会社 Curable polysilsesquioxane compound, production method thereof, curable composition, cured product, and method of using curable composition, etc.
JP6327472B2 (en) * 2012-12-28 2018-05-23 三菱瓦斯化学株式会社 Prepreg and film
JP5778875B2 (en) * 2013-01-09 2015-09-16 株式会社ダイセル Curable resin composition and cured product thereof
US9481791B2 (en) * 2013-02-14 2016-11-01 Daicel Corporation Curable resin composition and cured product thereof, encapsulant, and semiconductor device
JP5736524B1 (en) * 2013-08-01 2015-06-17 株式会社ダイセル Curable resin composition and semiconductor device using the same
MY158023A (en) * 2013-08-02 2016-08-30 Daicel Corp Curable resin composition and semiconductor device using same
JP6247059B2 (en) * 2013-09-05 2017-12-13 デクセリアルズ株式会社 Conductive adhesive, solar cell module, and method for manufacturing solar cell module
KR102213302B1 (en) * 2013-09-20 2021-02-05 린텍 가부시키가이샤 Curable composition, curing product, and method for using curable composition
JPWO2015041342A1 (en) * 2013-09-20 2017-03-02 リンテック株式会社 Curable composition, cured product and method of using curable composition
WO2015041339A1 (en) * 2013-09-20 2015-03-26 リンテック株式会社 Curable composition, cured product, and method for using curable composition
WO2015041344A1 (en) * 2013-09-20 2015-03-26 リンテック株式会社 Curable composition, cured product, and method for using curable composition
US10308850B2 (en) 2014-07-23 2019-06-04 Lintec Corporation Curable composition, method for manufacturing curable composition, cured product, method for using curable composition, and optical device
TWI678387B (en) * 2014-08-26 2019-12-01 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, method for producing curable composition, cured product, method for using curable composition, and optical device
TWI660010B (en) * 2014-08-26 2019-05-21 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, cured product, method of using curable composition, and optical device
TWI660009B (en) * 2014-08-26 2019-05-21 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, cured product, method of using curable composition, and optical device
TWI660008B (en) 2014-08-26 2019-05-21 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, method for producing curable composition, cured product, method for using curable composition, and optical device
TWI696662B (en) * 2014-08-26 2020-06-21 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, cured product, method of using curable composition, and optical device
TWI690564B (en) * 2014-08-26 2020-04-11 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, method for producing curable composition, method for using cured material, curable composition, and optical device
US20190169436A1 (en) 2016-05-03 2019-06-06 Dow Silicones Corporation Silsesquioxane resin and silyl-anhydride composition
WO2019044817A1 (en) * 2017-08-28 2019-03-07 住友ベークライト株式会社 Negative photosensitive resin composition, semiconductor device and electronic device
TWI739989B (en) * 2018-01-19 2021-09-21 南韓商東友精細化工有限公司 Photosensitive resin composition, color filter including black matrix, column spacer or black column spacer manufactured using the photosensitive resin composition, and display device including the color filter
TW202118832A (en) * 2019-09-27 2021-05-16 日商琳得科股份有限公司 Curable composition, cured product, and method for using curable composition

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5115099B2 (en) * 2006-09-04 2013-01-09 東レ・ファインケミカル株式会社 Silicone copolymer having acyloxy group and method for producing the same
JP5050684B2 (en) * 2006-10-13 2012-10-17 日立化成工業株式会社 Photosensitive resin composition, method for forming silica-based coating, and apparatus and member provided with silica-based coating
US7736837B2 (en) * 2007-02-20 2010-06-15 Az Electronic Materials Usa Corp. Antireflective coating composition based on silicon polymer
JP5075680B2 (en) * 2007-03-28 2012-11-21 リンテック株式会社 Optical element sealing material and optical element sealing body
JP5425406B2 (en) * 2007-06-29 2014-02-26 リンテック株式会社 Molding material, sealing material and optical element sealing body comprising polysilsesquioxane compound
KR101524058B1 (en) * 2008-02-14 2015-05-29 린텍 가부시키가이샤 Molding material composed of polyorganosiloxane compouind, sealing material, and sealed optical device
TWI443167B (en) * 2008-02-19 2014-07-01 Lintec Corp And a polyorganosiloxane compound as a main component
CN102046700B (en) * 2008-03-26 2015-03-11 琳得科株式会社 Fixing material comprising silane compound polymer and photonic device sealed body

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150135531A (en) * 2013-08-06 2015-12-02 주식회사 다이셀 Curing resin composition and semiconductor device employing same
WO2018199705A1 (en) * 2017-04-28 2018-11-01 주식회사 엘지화학 Encapsulating composition
KR20180121423A (en) * 2017-04-28 2018-11-07 주식회사 엘지화학 Encapsulating composition

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Publication number Publication date
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