KR20130030016A - 샤워헤드 및 이의 제작 방법 - Google Patents

샤워헤드 및 이의 제작 방법 Download PDF

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이재무
이창엽
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엘아이지에이디피 주식회사
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Abstract

본 발명에 따른 샤워헤드는 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판 및 상기 연결공에 연결되는 토출관 및 상기 평판의 일면에서 상기 토출관에 인접되어 구비되는 유입부재를 포함하고, 상기 유입부재를 통해 용가재가 상기 평판과 상기 토출관이 접촉되는 부위로 유입되어 상기 평판과 상기 토출관이 브레이징된다. 또한 본 발명에 따른 샤워헤드의 제조방법은 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판의 상기 연결공에 토출관을 연결시키는 토출관 형성단계 및 상기 평판의 일면에서 상기 토출관에 인접되도록 유입부재를 위치키시는 유입부재 위치단계 및 상기 유입부재의 표면에 용가재를 도포하여, 상기 용가재가 상기 평판과 상기 토출관이 접촉되는 부위로 유입되는 용가재 유입단계 및 상기 용사재로 상기 평판과 상기 토출관을 브레이징하는 브레이징단계를 포함한다.

Description

샤워헤드 및 이의 제작 방법 {Shower head and Method of Manufacture using the same}
본 발명은 샤워헤드에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 외부로부터 공급되는 공정가스를 공정챔버의 내부로 균일하게 분사시키는 샤워헤드 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 샤워헤드는 식각공정, 증착공정등을 통칭하는 기판처리장치에 구비된다. 기판처리장치는 공정챔버, 공정챔버의 내부로 공정가스를 분사하는 샤워헤드 및 샤워헤드에 대향되어 기판이 지지되는 서셉터를 포함한다. 이러한 기판처리장치는 샤워헤드를 통해 공정챔버의 내부로 공정가스를 확산하여 서셉터의 상부에 지지되는 기판에 소정의 공정을 실시한다.
샤워헤드는 외부로부터 공정가스가 유입되는 가스공급관 및 샤워헤드의 내부에 구비되어 공정가스의 토출경로를 제공하는 토출관을 포함할 수 있다. 이러한 가스공급관 및 토출관은 평판과 접촉되는 부위에 용가재가 유입된 상태에서 용접된다. 그러나 종래의 샤워헤드는 가스공급관 및 토출관이 샤워헤드와 접촉되는 부위로 유입되어야 하는 용가재가 제대로 유입되지 못하는 문제점이 있었다.
따라서 종래의 샤워헤드는 가스공급관 및 토출관이 샤워헤드와 제대로 결합되지 않는 문제점이 있었다. 이에 따라 가스공급관 및 토출관을 샤워헤드에 용접시키는 기술은 샤워헤드의 불량을 최소화할 수 있어, 그 결합 기술에 대한 연구 개발이 지속되고 있는 실정이다.
그 중에 한 가지 방법으로 대한민국 공개특허공보 제10-2011-0008654호(2011-01-27, 이하 공개 발명이라 칭한다.)가 개시되어 있다.
상기 공개 발명의 구조에 대해서 간단히 설명하면 샤워헤드본체, 샤워헤드본체에 형성되는 공급라인 및 공급라인에 삽입되는 튜브를 포함한다. 이러한 공개 발명은 공급라인과 튜브가 접촉되는 부위의 상측에 말단 홀이 형성된다. 이후 공개 발명은 말단 홀을 통해 용가재를 투입하여, 공급라인과 튜브의 접촉부위를 진공 브레이징(vacuum brazing)시키는 기술이다.
그러나 상기와 같이 말단 홀을 형성하여 브레이징을 실시할 경우, 말단 홈의 내부는 불규칙적으로 브레이징되는 문제점이 있을 수 있다. 이에 따라 공개 발명은 공급라인과 튜브가 견고히 결합되지 못하는 문제점이 있을 수 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2011-0008654호(2011-01-27)
본 발명의 목적은 가스공급관 및 토출관이 견고히 결합되는 샤워헤드 및 이의 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 샤워헤드는 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판 및 상기 연결공에 연결되는 토출관 및 상기 평판의 일면에서 상기 토출관에 인접되어 구비되는 유입부재를 포함하고, 상기 유입부재를 통해 용가재가 상기 평판과 상기 토출관이 접촉되는 부위로 유입되어 상기 평판과 상기 토출관이 브레이징된다.
상기 유입부재는 상기 평판의 일면에 상기 토출관의 둘레를 따라 형성되는 수용홈에 수용될 수 있다.
상기 평판은 복수개로 이격되어 적층되고 상기 복수개의 평판의 테두리를 연결하는 외벽이 구비되어, 상기 평판과 상기 외벽에 의해 정의되는 챔버가 형성될 수 있다.
상기 챔버는 복수개로 형성되고, 상기 복수개의 챔버의 각각에는 서로 다른 가스를 공급하는 공급관이 각각 구비될 수 있다.
상기 용가재는 니켈합금이 사용될 수 있다.
한편 본 발명에 따른 샤워헤드의 제조방법은 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판의 상기 연결공에 토출관을 연결시키는 토출관 형성단계 및 상기 평판의 일면에서 상기 토출관에 인접되도록 유입부재를 위치키시는 유입부재 위치단계 및 상기 유입부재의 표면에 용가재를 도포하여, 상기 용가재가 상기 평판과 상기 토출관이 접촉되는 부위로 유입되는 용가재 유입단계 및 상기 용사재로 상기 평판과 상기 토출관을 브레이징하는 브레이징단계를 포함한다.
상기 샤워헤드의 제조방법은 상기 연결공의 둘레를 따라 상기 유입부재가 수용되는 수용홈을 형성하는 수용홈 형성단계를 더 포함할 수 있다.
상기 평판은 복수개로 이격되어 적층되고 상기 복수개의 평판의 테두리를 연결하는 외벽이 구비되어 상기 평판과 상기 외벽에 의해 정의되는 챔버가 형성될 수 있다.
상기 챔버는 복수개로 형성되고 상기 복수개의 챔버의 각각에는 서로 다른 가스를 공급하는 공급관이 각각 구비될 수 있다.
상기 용가재는 니켈합금이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 샤워헤드는 가스공급관 및 토출관이 샤워헤드에 견고히 브레이징되는 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 샤워헤드는 외부로부터 공급되는 공정가스의 혼합 및 유출이 방지되는 효과가 있다.
또한 본 발명에 따른 샤워헤드는 제조과정에서의 불량을 최소화하여, 생산성 및 경제성을 향상시키는 효과가 있다.
또한 상기와 같은 본 발명의 기술적 효과는 상기에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있다.
도 1은 본 실시예에 따른 화학기상 증착장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 실시예에 따른 샤워헤드를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 실시예에 따른 샤워헤드의 A를 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 실시예에 따른 샤워헤드의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 5는 다른 실시예에 따른 샤워헤드를 나타낸 단면도이다.
도 6은 다른 실시예에 따른 샤워헤드의 A를 나타낸 단면도이다.
도 7은 다른 실시예에 따른 샤워헤드의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
이하, 본 발명에 따른 샤워헤드 및 이의 제조 방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. 본 실시예에서는 샤워헤드 및 이의 제조 방법의 이해를 돕기 위해 화학기상 증착장치를 실시예로 설명하였으나. 본 발명에 따른 샤워헤드 및 이의 제조 방법은 기판의 처리를 위한 다양한 공정장치에서 사용될 수 있다.
도 1은 본 실시예에 따른 화학기상 증착장치를 나타낸 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이. 화학기상 증착장치는 공정챔버(10)를 포함한다. 공정챔버(10)의 내부에는 도시되지 않은 가스 공급 장치로부터 유입되는 공정가스(G1, G2)를 공정챔버(10)의 내부로 확산시키는 샤워헤드(100)가 포함된다. 이러한 샤워헤드(100)에 대해서는 이후에서 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
공정챔버(10)의 내부에는 샤워헤드(100)와 대향되는 서셉터(20)가 구비된다. 이러한 서셉터(20)의 상부에는 기판(S)이 지지된다. 또한 서셉터(20)의 하부에는 서셉터(20)를 지지하며 서셉터(20)를 회전시키는 회전축(30)이 구비된다. 이러한 회전축(30)은 공정챔버(10)의 하부를 관통하도록 구비되며 도시되지 않은 동력 전달 장치에 의해 회전될 수 있다.
또한 도시되지 않았지만 공정챔버(10)에는 가열수단과 배기수단이 구비될 수 있다. 가열수단은 공정챔버(10)의 하부에 구비되어 공정에 필요한 온도가 설정되도록 한다. 이에 따라 가열수단은 공정가스(G1, G2)에 포함되는 원료물질이 원활하게 기판(S)에 증착되도록 한다. 또한 배기수단은 공정챔버(10)의 내부를 진공분위기로 연출시키기 위해 구비될 수 있다.
도 2는 본 실시예에 따른 샤워헤드를 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 3은 본 실시예에 따른 샤워헤드의 A를 나타낸 단면도이다.
도 2 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 샤워헤드(100)는 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판(110)이 서로 이격되어 적층된다. 이러한 평판(110)의 테두리에는 평판(110)을 연결하는 외벽(120)이 형성된다.
따라서 제 1평판(111)과 제 2평판(112)의 사이에는 제 1가스챔버(131)가 형성되고 제 2평판(112)과 제 3평판(112)의 사이에는 제 2가스챔버(132)가 형성된다. 또한 제 3평판(113)과 제 4평판(114)의 사이에는 냉매가스가 유입되는 냉매챔버(133)가 형성된다. 본 실시예에서는 평판(110)의 테두리에 하나의 외벽(120)을 형성하는 실시예를 설명하였으나 샤워헤드(100)의 외벽(120)은 평판(110)의 테두리에 각각 형성되어 서로 연결될 수 있다.
제 1가스챔버(131)는 제 1가스공급관(141)과 연결되고 제 2가스챔버(132)는 제 2가스공급관(142)과 연결된다. 이에 따라 제 1가스공급관(141)은 외부로부터 유입되는 제 1가스(G1)를 제 1가스챔버(131)의 내부로 유입시키고, 제 2가스공급관(142)은 외부로부터 유입되는 제 2가스(G2)를 제 2가스챔버(132)의 내부로 유입시킨다. 또한 냉매공급관(143)은 냉매챔버(133)에 연결되어 외부로부터 유입되는 냉매가스를 냉매챔버(143)의 내부로 유입시킨다.
또한 평판(110)에는 제 1, 2토출관(151, 152)이 선택적으로 연결된다.
예를 들면 제 1토출관(151)은 제 1가스챔버(131)로부터 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)에 동축으로 각각 형성되는 연결공을 통해 샤워헤드(100)의 외부와 연결된다. 이러한 제 1토출관(151)은 복수개로 구비되어 샤워헤드(100)에 전면적에 대하여 균일한 간격으로 이격 설치된다. 따라서 제 1토출관(151)은 제 1가스챔버(131)로 유입되는 제 1가스(G1)를 샤워헤드(100)의 외부로 균일하게 확산시킨다. 또한 제 1토출관(151)이 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)에 연결되는 각각의 일면에는 제 1토출관(151)에 인접되도록 유입부재(160)가 각각 위치된다.
유입부재(160)는 제 1토출관(151)을 에워싸도록 구비될 수 있다. 따라서 브레이징을 위해 각각의 유입부재(160)의 표면에 도포되는 용가재(161)는 용가재(161)의 응집력 및 용가재(161)와 유입부재(160)의 부착력에 의해 제 1토출관(151)이 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)과 접촉되는 부위로 스스로 유입된다. 이러한 용가재(161)로는 니켈합금(Nickel alloy)이 사용될 수 있다.
제 2토출관(152)은 제 2가스챔버(132)로부터 제 3, 4평판(113, 114)에 동축으로 형성되는 연결공을 통해 샤워헤드(100)의 외부와 연결된다. 이러한 제 2토출관(152)은 복수개로 구비되어 샤워헤드(100)의 전면적에 대하여 균일한 간격으로 이격 설치된다. 따라서 제 2토출관(152)은 제 2가스챔버(132)로 유입되는 제 2가스(G2)를 샤워헤드(100)의 외부로 균일하게 확산시킨다. 또한 제 2토출관(152)이 제 3, 4평판(113, 114)과 연결되는 각각의 일면에는 제 2토출관(152)에 인접되도록 유입부재(160)가 각각 위치된다.
유입부재(160)는 제 2토출관(152)을 에워싸도록 구비될 수 있다. 따라서 브레이징을 위해 각각의 유입부재(160)의 표면에 도포되는 용가재(161)는 용가재(161)의 응집력 및 용가재(161)와 유입부재(160)의 부착력에 의해 제 2토출관(152)이 제 3, 4평판(113, 114)과 접촉되는 부위로 스스로 유입될 수 있다. 이러한 용가재(161)로는 니켈합금(Nickel alloy)이 사용될 수 있다.
이하, 본 실시예에 따른 샤워헤드의 제조방법의 이해를 돕기 위해 실시예를 순차적으로 설명하였으나, 본 실시예에 따른 샤워헤드의 제조방법의 순서는 사용환경 및 작업자에 의해 변경되어 제조될 수 있다.
도 4는 본 실시예에 따른 샤워헤드의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 샤워헤드의 제조방법은 토출관 형성단계(S100), 유입부재 위치단계(S200), 용가재 유입단계(S300), 브레이징단계(S400) 및 외관 형성단계(S500)를 포함한다.
토출관 형성단계(S100)는 서로 이격되도록 적층되는 평판(110)에 제 1, 2토출관(151, 152)을 선택적으로 연결시키는 단계이다.
예를 들면 제 1토출관(151)은 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)에 동일한 축으로 형성되는 연결공에 연결된다. 또한 제 2토출관(152)은 제 3, 4평판(113, 114)에 동일한 축으로 형성되는 연결공에 연결된다. 이러한 제 1, 2토출관(151, 152)은 복수개로 구비되어 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)의 전면적에 대하여 균일하게 이격 설치된다.
유입부재 위치단계(S200)는 제 1, 2토출관(151, 152)이 평판(110)과 연결되는 일면에서 제 1, 2토출관(151, 152)에 인접되도록 유입부재(160)를 위치시키는 단계이다.
예를 들면 유입부재 위치단계(S200)에서는 제 1토출관(151)이 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)에 각각 연결되는 일면과 제 2토출관(152)이 제 3, 4평판(113, 114)에 각각 연결되는 일면에서 제 1, 2토출관(151, 152)에 인접되도록 유입부재(160)를 위치시킨다.
용가재 유입단계(S300)는 유입부재(160)를 통해 제 1, 2토출관(151, 152)이 평판(110)과 접촉되는 부위로 용가재(161)를 유입시키는 단계이다.
예를 들면 평판(110)에 위치되는 유입부재(160)의 표면에는 용가재(161)가 도포된다. 이에 따라 용가재(161)는 용가재(161)의 응집력과 용가재(161)와 유입부재(160)의 부착력에 의해 제 1, 2토출관(151, 152)이 평판(110)에 접촉되는 부위로 스스로 유입된다. 이러한 용가재(161)로는 니켈합금(Nickel alloy)이 사용될 수 있다.
브레이징단계(S400)는 유입되는 용가재(161)로 제 1, 2토출관(151, 152)과 평판(110)을 브레이징하는 단계이다.
예를 들면 브레이징단계(S400)에서는 유입부재(160)를 통해 접촉부위로 유입되는 용가재(161)를 기반으로 제 1, 2토출관(151, 152)을 평판(110)과 브레이징한다. 이러한 브레이징의 방법으로는 경납브레이징, 연납브레이징 및 진공브레이징등을 포함하는 다양한 브레이징방법이 사용될 수 있다.
외관 형성단계(S500)는 평판(110)의 테두리에 외벽(120)을 형성하여 샤워헤드(100)의 외관을 형성하는 단계이다.
예를 들면 외관 형성단계(S500)에서는 제 1, 2토출관(151, 152)이 브레이징되는 평판(110)의 테두리에 제 1, 2가스공급관(141, 142) 및 냉매공급관(143)이 구비된 외벽(120)을 평판(110)을 연결한다. 이에 따라 제 1평판(111)과 제 2평판(112)의 사이에는 제 1가스챔버(131)가 형성되고, 제 2평판(112)과 제 3평판(113)의 사이에는 제 2가스챔버(132)가 형성된다. 또한 제 3평판(113)과 제 4평판(114)의 사이에는 냉매챔버(133)가 형성된다.
이하 다른 실시예에 따른 샤워헤드 및 이의 제조방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. 이하의 설명에서 상술된 샤워헤드 및 이의 제조방법과 유사한 구성요소 및 제조방법에 대해서는 상세한 설명을 생략하도록 한다. 따라서 이하의 설명에서 상세한 설명이 생략된 구성 요소에 대해서는 상술된 설명을 참조하여 이해할 수 있을 것이다.
도 5는 다른 실시에에 따른 샤워헤드를 나타낸 단면도이고, 도 6은 다른 실시예에 따른 샤워헤드의 A를 나타낸 단면도이다.
도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 샤워헤드(100)는 외부로부터 공정가스(G1, G2)가 유입되는 제 1, 2가스공급관(141, 142)과 냉매가 유입되는 냉매공급관(143)이 연결된다. 따라서 공정가스(G1, G2)는 제 1, 2가스챔버(131, 132)의 내부에서 일차적으로 확산되어 샤워헤드(100)의 내부에 구비되는 제 1, 2토출관(151, 152)을 통해 샤워헤드(100)의 외부로 균일하게 확산된다.
또한 제 1토출부(151)가 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)과 각각 연결되는 일면과 제 2토출부(152)가 제 3, 4평판(113, 114)과 연결되는 일면에는 제 1, 2토출관(113, 114)의 둘레를 따라 수용홈(170)이 형성될 수 있다. 이에 따라 유입부재(160)는 수용홈(170)의 내부에 수용될 수 있다.
도 7은 다른 실시예에 따른 샤워헤드의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 샤워헤드의 제조방법은 수용홈 형성단계(S110), 토출관 형성단계(S210), 유입부재 위치단계(S310), 용가재 유입단계(S410), 브레이징단계(S510) 및 외관 형성단계(S610)를 포함할 수 있다.
수용홈 형성단계(S110)는 평판(110)에 형성되는 연결공의 둘레를 따라 유입부재(160)가 수용될 수 있는 수용홈(170)을 형성하는 단계이다. 예를 들면 수용홈(170)은 제 1토출관(151)이 제 2, 3, 4평판(112, 113, 114)과 각각 연결되는 일면과 제 2토출관(152)이 제 3, 4평판(113, 114)과 연결되는 일면에서 연결공의 둘레를 따라 형성될 수 있다.
토출관 형성단계(S210)는 서로 이격되도록 적층되는 평판(110)에 형성되는 연결공에 제 1, 2토출관(151, 152)을 연결하는 단계이다.
유입부재 위치단계(S310)는 수용홈 형성단계(S110)에서 형성되는 수용홈(170)에 유입부재(160)를 위치시키는 단계이다.
용가재 유입단계(S410)는 유입부재(160)와 수용홈(170)을 통해 제 1, 2토출관(151, 152)과 평판(110)이 각각 연결되는 연결공의 내면으로 용가재(161)를 유입시키는 단계이다. 이로 인해 수용홈(170)은 용가재(161)를 수용홈(170)의 내부로부터 연결공의 내면으로 용이하게 유입시켜 평판(110)의 상부면에 용가재(161)가 번지는 것을 방지시킬 수 있다.
브레이징단계(S510)는 제 1, 2토출관(151, 152)과 평판(110)을 브레이징하는 단계이다.
외관 형성단계(S610)는 평판(110)의 테두리에 제 1, 2가스공급관(141, 142) 및 냉매공급관(143)이 구비되는 외벽(120)을 형성하여 샤워헤드(100)의 외관을 형성하는 단계이다.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 실시예들은, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서, 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.
100 : 샤워헤드
110 : 평판
120 : 외벽
160 : 유입부재
170 : 수용홈

Claims (10)

  1. 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판;
    상기 연결공에 연결되는 토출관; 및
    상기 평판의 일면에서 상기 토출관에 인접되어 구비되는 유입부재를 포함하고, 상기 유입부재를 통해 용가재가 상기 평판과 상기 토출관이 접촉되는 부위로 유입되어 상기 평판과 상기 토출관이 브레이징되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 유입부재는,
    상기 평판의 일면에 상기 토출관의 둘레를 따라 형성되는 수용홈에 수용되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 평판은 복수개로 이격되어 적층되고 상기 복수개의 평판의 테두리를 연결하는 외벽이 구비되어, 상기 평판과 상기 외벽에 의해 정의되는 챔버가 형성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 챔버는 복수개로 형성되고, 상기 복수개의 챔버의 각각에는 서로 다른 가스를 공급하는 공급관이 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 용가재는,
    니켈합금이 사용되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드.
  6. 적어도 하나 이상의 연결공이 형성되는 평판의 상기 연결공에 토출관을 연결시키는 토출관 형성단계;
    상기 평판의 일면에서 상기 토출관에 인접되도록 유입부재를 위치키시는 유입부재 위치단계;
    상기 유입부재의 표면에 용가재를 도포하여, 상기 용가재가 상기 평판과 상기 토출관이 접촉되는 부위로 유입되는 용가재 유입단계; 및
    상기 용사재로 상기 평판과 상기 토출관을 브레이징하는 브레이징단계를 포함하는 샤워헤드의 제조방법.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 연결공의 둘레를 따라 상기 유입부재가 수용되는 수용홈을 형성하는 수용홈 형성단계를 더 포함하는 샤워헤드의 제조방법.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 평판은 복수개로 이격되어 적층되고 상기 복수개의 평판의 테두리를 연결하는 외벽이 구비되어 상기 평판과 상기 외벽에 의해 정의되는 챔버가 형성되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드의 제조방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 챔버는 복수개로 형성되고 상기 복수개의 챔버의 각각에는 서로 다른 가스를 공급하는 공급관이 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드의 제조방법.
  10. 제 6항에 있어서, 상기 용가재는,
    니켈합금이 사용되는 것을 특징으로 하는 샤워헤드의 제조방법.
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