KR20130025258A - Screen printer cleaning apparatus using bi-diractional rotaion of wiper and method thereof - Google Patents

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KR20130025258A
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Abstract

PURPOSE: A screen printer cleaning device using the two-way rotation of a wiper and a method thereof are provided to utilize a wiper recovery shaft and a wiper supply shaft capable of the two-way rotation, thereby preventing residues on the underside of a stencil mask. CONSTITUTION: A screen printer cleaning device(50) comprises a cleaning block(70), a first shaft(51), and a second shaft(52). The cleaning block pushes a wiper arranged in one side of a stencil mask, thereby contacting the wiper to the stencil mask and moving with the wiper in left and right sides. The first shaft supplies the wiper. The second shaft returns the wiper.

Description

와이퍼의 양방향 회전을 이용한 스크린 프린터 클리닝 장치 및 그 방법{Screen printer cleaning apparatus using bi-diractional rotaion of wiper and Method thereof}Screen printer cleaning apparatus using bi-directional rotation of wiper and method thereof

본 발명은 스크린 프린터기용 스텐실 마스크 클리닝 장치 및 그 방법에 대한 것이다.The present invention relates to a stencil mask cleaning apparatus for a screen printer and a method thereof.

스크린 프린터기는 가정이나 산업현장에서 사용되는 가전제품이나 산업기기의 내부에 저항이나 콘덴서 및 반도체칩 등의 접착 또는 고정하기 전 전자부품이 용이하게 접착 또는 고정할 수 있도록 전기적인 회로가 형성된 회로기판(Printed Circuit Board)상에 납액을 도포하는 장치이다.Screen printers are circuit boards that have electrical circuits formed so that electronic components can be easily glued or fixed before bonding or fixing resistors, capacitors, and semiconductor chips to home appliances or industrial devices used in homes or industrial sites. It is a device to apply lead solution on the printed circuit board.

스크린 프린터 장비을 운용하는 중에는 상시적으로 인쇄를 실시하기 때문에, 스텐실 마스크에 솔더 크림의 잔사가 남게 되고, 특히 인쇄기판과 직접 맞닿은 스텐실 마스크 하면은 주기적으로 클리닝할 필요가 있다. Since the printing is carried out at all times during the operation of the screen printer equipment, the residue of the solder cream remains on the stencil mask, and in particular, the lower surface of the stencil mask directly contacting the printed circuit board needs to be cleaned periodically.

도 1은 종래의 스텐실 마스크 클리닝 장치(10)의 구조를 보여주는 사시도이다. 1 is a perspective view showing the structure of a conventional stencil mask cleaning apparatus 10.

종래의 스텐실 마스크 클리닝 장치는 통상적으로, 와이퍼(15)를 공급하는 공급롤(11)과, 상기 공급롤(11)로부터 인출된 와이퍼(15)를 회수하는 회수롤(12)이 있고, 공급롤(11)과 회수롤(12) 사이에 클리닝 블록(13)이 존재하며, 이 클리닝 블록(13)의 중앙에는 분사 노즐이 와이퍼(15)를 세척하기 위한 세척액(미도시)을 분사한다. The conventional stencil mask cleaning apparatus typically includes a supply roll 11 for supplying the wiper 15 and a recovery roll 12 for recovering the wiper 15 drawn out from the supply roll 11, and a supply roll. A cleaning block 13 exists between the 11 and the recovery roll 12, and a spray nozzle sprays a cleaning liquid (not shown) for cleaning the wiper 15 in the center of the cleaning block 13.

또한, 종래의 스텐실 마스크 클리닝 장치(10)는 단방향으로만 회전하는 모터(18)를 사용함으로써, 와이퍼를 단방향으로만 회전시키기 때문에, 이미 사용된 클리닝 와이퍼를 감는 쪽에만 사용한다. 그리고 이를 위해 와이퍼 공급부(11)가 풀리는 것을 방지하기 위해 풀림 방지 스타퍼(stopper, 14)를 사용했다. 이렇게 단방향으로 회전을 시키기 때문에 반대방향으로 회전을 할 수 없는 제한이 있어, 클리닝 모드 중 전면 방향 클리닝 혹은 후면 방향 클리닝만 할 수 있는 단점이 있다. In addition, the conventional stencil mask cleaning apparatus 10 uses the motor 18 which rotates only in one direction, thereby rotating the wiper only in one direction, and thus is used only for winding the already used cleaning wiper. And for this purpose, the anti-loosening stopper (stopper) 14 was used to prevent the wiper supply 11 from loosening. Since the rotation in one direction there is a restriction that can not be rotated in the opposite direction, there is a disadvantage that only the front cleaning or rear cleaning in the cleaning mode.

도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 종래의 스텐실 마스크 클리닝 방법을 순차적으로 보여주는 측단면도들들 참조하면, 종래의 스텐실 마스크 클리닝 장치(10)는 전술한 바와 같은 구조로 되어 있기 때문에, 이와 같이 클리닝을 수행한 결과, 제거 되었어야 할 솔더 페이스트 잔여물들(도 4의 17)이 스텐실 마스크(16)의 하면에 남아 있게 되는 문제가 발생할 수 있다. As shown in Figures 2 to 4, with reference to the side cross-sectional views sequentially showing a conventional stencil mask cleaning method, since the conventional stencil mask cleaning apparatus 10 has the same structure as described above, As a result of the cleaning, a problem may occur in that solder paste residues (17 of FIG. 4) that should be removed remain on the bottom surface of the stencil mask 16.

본 발명이 해결하려는 과제는, 양방향 회전이 가능한 와이퍼 공급축과 와이퍼 회수축을 사용함으로써 스텐실 마스크 하면에 잔여물이 남지 않게 하고, 더 나아가, 좌, 우 방향의 양방향 클리닝이 모두 가능한 스크린 프린터 클리닝 장치 및 방법을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention, by using the wiper feed shaft and the wiper recovery shaft that can be rotated in both directions, the residue on the lower surface of the stencil mask, furthermore, the screen printer cleaning device capable of both the left and right direction bidirectional cleaning and To provide a way.

본 발명이 해결하려는 다른 과제는, 상기와 같은 스크린 프린터 클리닝 장치에 적합하도록 클리닝 부 또는 진공 흡입부 중 어느 하나가 두 부분 이상으로 나누어진 클리닝 블록을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a cleaning block in which any one of a cleaning part or a vacuum suction part is divided into two or more parts so as to be suitable for the screen printer cleaning device as described above.

본 발명이 해결하려는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Problems to be solved by the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 스크린 프린터 클리닝 장치의 일 태양은 스텐실 마스크의 일면에 위치한 와이퍼를 밀어 상기 스텐실 마스크와 접촉시키고, 상기 와이퍼와 함께 좌, 우 방향으로 이동하는 클리닝 블록; 상기 와이퍼를 공급하는 제1축; 및 상기 와이퍼를 회수하는 제2축을 포함하되, 상기 제1축 및 제2축의 회전 방향은 상기 클리닝 블록이 상기 우 방향으로 이동시에는 시계방향이고, 상기 클리닝 블록이 상기 좌 방향으로 이동시에는 반시계방향일 수 있다. One aspect of the screen printer cleaning apparatus of the present invention for solving the above problems is to push the wiper located on one surface of the stencil mask in contact with the stencil mask, the cleaning block to move in the left and right direction with the wiper; A first shaft supplying the wiper; And a second shaft for recovering the wiper, wherein rotation directions of the first and second axes are clockwise when the cleaning block moves in the right direction, and counterclockwise when the cleaning block moves in the left direction. Can be.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 스크린 프린터 클리닝 방법의 일 태양은 클리닝 블록이 스텐실 마스크의 일면에 위치한 와이퍼를 밀어 상기 스텐실 마스크와 접촉시키는 단계; 상기 와이퍼를 상기 스텐실 마스크에 접촉시킨 채로 상기 클리닝 블록이 상기 와이퍼와 함께 일방향으로 이동하는 단계; 및 상기 클리닝 블록 이동 후 상기 와이퍼 회전과 상기 클리닝 블록의 이동을 동시에 수행하는 단계를 포함할 수 있다. One aspect of the screen printer cleaning method of the present invention for solving the above problems is that the cleaning block is in contact with the stencil mask by pushing a wiper located on one surface of the stencil mask; Moving the cleaning block in one direction with the wiper while making the wiper contact the stencil mask; And simultaneously performing the wiper rotation and the movement of the cleaning block after the cleaning block is moved.

본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Other specific details of the invention are included in the detailed description and drawings.

본 발명에 따른 스크린 프린터 클리닝 장치 및 그 방법에 따르면, 양방향 회전이 가능한 와이퍼 공급축과 와이퍼 회수축을 사용함으로써 좌, 우 방향의 양방향 클리닝이 모두 가능하면서도, 스텐실 마스크 하면에 잔여물이 남지 않게 클리닝 할 수 있다.According to the screen printer cleaning apparatus and method thereof according to the present invention, by using the wiper feed shaft and the wiper return shaft which can rotate in both directions, both directions can be cleaned in both left and right directions, and the residue can be cleaned on the lower surface of the stencil mask. Can be.

도 1은 종래의 스텐실 마스크 클리닝 장치의 구조를 보여주는 사시도이다.
도 2 내지 도 4는 종래의 스텐실 마스크 클리닝 장치를 사용하여 클리닝하는 방법을 순차적으로 보여주는 측단면도들이다.
도 5는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 실시예의 구조를 보여주는 사시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 실시예의 구조를 보여주는 측단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 구성요소인 클리닝 블록의 일 실시예를 보여주는 측단면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 구성요소인 클리닝 블록의 다른 실시예를 보여주는 측단면도이다.
도 9 내지 도 12, 도 14 내지 도 15는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치를 사용하여 일방향으로 클리닝하는 방법을 순차적으로 보여주는 측단면도들이다.
도 13과 도 16은 각각 도 12와 도 15의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 17 내지 20은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치를 사용하여 상기 일방향과 반대 방향으로 클리닝하는 방법을 순차적으로 보여주는 측단면도들이다.
도 21은 도 20의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 22는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 방법을 설명하는 순서도이다. 1 is a perspective view showing the structure of a conventional stencil mask cleaning apparatus.
2 to 4 are side cross-sectional views sequentially illustrating a method of cleaning using a conventional stencil mask cleaning apparatus.
Figure 5 is a perspective view showing the structure of one embodiment of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.
Figure 6 is a side cross-sectional view showing the structure of one embodiment of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.
7 is a side cross-sectional view showing one embodiment of a cleaning block as one component of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.
8 is a side cross-sectional view showing another embodiment of a cleaning block as one component of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.
9 to 12 and 14 to 15 are side cross-sectional views sequentially illustrating a method of cleaning in one direction using a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.
13 and 16 are enlarged views of portions of FIGS. 12 and 15, respectively.
17 to 20 are side cross-sectional views sequentially illustrating a method of cleaning in the opposite direction to the one direction using the stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.
21 is an enlarged view illustrating a portion of FIG. 20 enlarged.
22 is a flowchart illustrating a stencil mask cleaning method according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다. Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

도 5는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 실시예의 구조를 보여주는 사시도이고, 도 6은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 실시예의 구조를 보여주는 측단면도이다.Figure 5 is a perspective view showing the structure of one embodiment of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention, Figure 6 is a side cross-sectional view showing the structure of an embodiment of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention.

우선, 도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치는 클리닝 블록(70), 제1축(51) 및 제2축(52)를 포함한다. First, referring to FIGS. 5 and 6, a stencil mask cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a cleaning block 70, a first axis 51, and a second axis 52.

클리닝 블록(70)은 스텐실 마스크(56)의 하면에 위치한 와이퍼(55)를 아래 방향으로부터 밀어 올려 상기 스텐실 마스크(56)와 접촉시킨다. 그리고 상기 와이퍼(55), 제1축(51) 및 제2축(52)과 함께 일 방향 또는 양 방향으로 이동하여 상기 스텐실 마스크를 클리닝하는 역할을 한다. 본 발명에 따른 클리닝 블록(70)의 실시예들은 도 7 및 도 8에서 설명하도록 한다. The cleaning block 70 pushes the wiper 55 positioned on the lower surface of the stencil mask 56 from the downward direction to contact the stencil mask 56. In addition, the wiper 55, the first shaft 51, and the second shaft 52 move together in one or both directions to clean the stencil mask. Embodiments of the cleaning block 70 according to the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8.

여기서, 제1축(51)은 와이퍼를 공급하고, 제2축(52)은 상기 공급된 와이퍼를 회수한다. Here, the first shaft 51 supplies the wiper, and the second shaft 52 recovers the supplied wiper.

본 발명에서의 제1축(51) 및 제2축(52)으로는 프리 휠 클러치를 사용할 수 있다. 프리 휠 클러치란 한 방향의 클러치를 의미하는 것으로서, 소정의 회전방향으로 회전할 경우에만 축으로부터 힘이 전달받고 상기 소정이 회전 방향과 반대 방향으로 회전시에는 축이 공회전하게 되어 있는 장치이다. 예를 들어, 일반적인 자전거의 경우 이러한 프리 휠 클러치를 사용하고 있기 때문에 운행 중에도 발을 페달에 올려 놓은 채 조작을 하지 않더라도 휠의 움직임이 지속될 수 있다. As the first shaft 51 and the second shaft 52 in the present invention, a free wheel clutch can be used. The free wheel clutch refers to a clutch in one direction, in which a force is transmitted from the shaft only when it rotates in a predetermined rotation direction, and the shaft is idle when the predetermined rotation is made in a direction opposite to the rotation direction. For example, in the case of a general bicycle, such a free wheel clutch is used, so that the wheel may continue to move even when the vehicle is not operated while the foot is put on the pedal.

본 발명에서의 제1축(51) 및 제2축(52)의 프리 휠 클러치가 힘을 받는 회전 방향은 서로 반대 방향일 수 있다. 만약 제1축(51)이 오른쪽에, 제2축(52)이 왼쪽에 위치하고 있다고 가정할 경우, 제1축의 프리 휠 클러치가 힘을 받는 방향은 시계방향이고, 제2축의 프리 휠 클러치가 힘을 받는 방향은 반시계방향이다. In the present invention, the rotation direction in which the free wheel clutch of the first shaft 51 and the second shaft 52 is applied may be opposite to each other. If it is assumed that the first shaft 51 is on the right side and the second shaft 52 is on the left side, the direction in which the free wheel clutch of the first axis is applied in a clockwise direction and the free wheel clutch of the second axis is driven. The direction of receiving is counterclockwise.

따라서, 제1축(51)이 시계방향(도 6의 b)으로 회전하여 와이퍼를 회전시킬 경우 제2축(52)도 마찬가지로 시계방향(도 6의 d)으로 회전하되, 이 때 제2축(52)은 공회전하게 되고, 반대로 제2축(52)이 반시계방향(도 6의 a)으로 회전하여 와이퍼를 회전시킬 경우 제1축(51)도 마찬가지로 반시계방향(도 6의 f)으로 회전하되, 이 때 제1축(51)은 공회전하게 된다. Therefore, when the first shaft 51 rotates clockwise (b of FIG. 6) to rotate the wiper, the second shaft 52 similarly rotates clockwise (d of FIG. 6), wherein the second shaft 52 52 rotates idle, on the contrary, when the second shaft 52 rotates counterclockwise (a in FIG. 6) to rotate the wiper, the first shaft 51 also counterclockwise (f in FIG. 6). While rotating to, the first shaft 51 is idling.

본 발명의 이러한 특징으로 인해 종래의 클리닝 장치와 비교할 때 다양한 측면에서 장점이 존재한다. 예를 들어, 제2축(52)이 반시계방향(도 6의 a)으로 회전하여 와이퍼를 회전시킬 경우 제2축(52) 및 제2축에 감긴 와이퍼는 도 6의 f 방향으로 자유롭게 회전할 수 있게 되는데, 클리닝 작업 수행이 지속되면서 제1축(51)에 감긴 와이퍼의 직경이 커지고 제2축(52)에 감긴 와이퍼의 직경이 작아지게 되었을 경우 계속 회전하면 와이퍼(55)에 과도한 장력이 작용하게 되는 상황을 방지할 수 있다. 즉, 제1축(51)과 제2축(52)이 동일한 회전수만큼 회전하고 있다고 가정할 경우 발생할 수 있는 와이퍼상의 장력을 방지할 수 있게 되는 것이다. This feature of the present invention has advantages in various aspects compared to conventional cleaning devices. For example, when the second shaft 52 rotates counterclockwise (a in FIG. 6) to rotate the wiper, the wiper wound around the second shaft 52 and the second shaft freely rotates in the f direction of FIG. 6. When the cleaning operation is continued, the wiper wound on the first shaft 51 becomes larger and the diameter of the wiper wound on the second shaft 52 becomes smaller. This situation can be prevented. That is, it is possible to prevent the tension on the wiper, which may occur when the first shaft 51 and the second shaft 52 are rotated by the same rotational speed.

또한, 소진된 와이퍼를 교체하는 경우에도 도 6의 e 방향 또는 도 6의 c 방향 중 임의대로 선택하여 와이퍼에 적당한 텐션을 주어 와이퍼를 설치할 수 있다. In addition, even when the exhausted wiper is replaced, the wiper may be installed by giving an appropriate tension to the wiper by arbitrarily selecting either the e direction of FIG. 6 or the c direction of FIG. 6.

도 7은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 구성요소인 클리닝 블록의 일 실시예를 보여주는 측단면도이고, 도 8은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 구성요소인 클리닝 블록의 다른 실시예를 보여주는 측단면도이다.7 is a side cross-sectional view showing an embodiment of a cleaning block as one component of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 8 is another embodiment of a cleaning block as one component of a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention. Is a cross-sectional side view.

본 발명에 따른 스크린 프린터 클리닝 장치(50)에서 사용되는 클리닝 블록(70)은 본 발명에 따른 스크린 프린터 클리닝 장치가 단일한 방향으로의 클리닝이 아니라 양 방향 모두의 클리닝이 가능하다는 점에서 종래의 클리닝 블록과는 다른 구조를 취할 수 있다. The cleaning block 70 used in the screen printer cleaning apparatus 50 according to the present invention is conventional cleaning in that the screen printer cleaning apparatus according to the present invention can be cleaned in both directions instead of cleaning in a single direction. It may take a different structure than the block.

통상적으로, 스텐실 마스크(56)의 클리닝을 확실하게 수행하기 위해 스텐실 마스크(56)와 와이퍼(55) 및 클리닝 블록(70)을 밀접하게 접촉시키도록 하기 위해 클리닝부 이후 진공 흡입부가 지나도록 하는 구조로 되어 있다. Typically, a structure in which a vacuum suction part passes after the cleaning part to bring the stencil mask 56 into close contact with the wiper 55 and the cleaning block 70 in order to reliably clean the stencil mask 56. It is.

도 7을 통해 더 구체적으로 설명하면, 도 7에서 클리닝 장치가 우방향으로 이동하면서 클리닝을 수행한다고 가정할 경우, 스텐실 마스크를 클리닝하는데 기여하는 부위는 우측 클리닝부(72)와 그 이후에 이어지는 우측 진공 흡입부(74)이다. 여기에서 위 우측 클리닝부(72)와 우측 진공 흡입부를 분리하는 우측 분리 홈(76)을 더 포함할 수 있다. More specifically with reference to FIG. 7, when it is assumed that the cleaning apparatus performs cleaning while moving in the right direction in FIG. 7, the portion contributing to cleaning the stencil mask is the right cleaning portion 72 and the right side following it. It is a vacuum suction part 74. Here, the upper right cleaning unit 72 may further include a right separating groove 76 separating the right vacuum suction unit.

반대로 도 7에서 클리닝 장치가 좌방향으로 이동하면서 클리닝을 수행한다고 가정할 경우, 스텐실 마스크를 클리닝하는데 기여하는 부위는 좌측 클리닝부(71)와 그 이후에 이어지는 좌측 진공 흡입부(73)이다. 여기에서 위 좌측 클리닝부(71)와 좌측 진공 흡입부를 분리하는 좌측 분리 홈(75)을 더 포함할 수 있다.In contrast, assuming that the cleaning apparatus moves in the left direction and performs cleaning in FIG. 7, the portions contributing to cleaning the stencil mask are the left cleaning portion 71 and the left vacuum suction portion 73 subsequent thereto. Here, the left cleaning groove 71 may further include a left separation groove 75 separating the left vacuum suction unit.

본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치의 일 구성요소인 클리닝 블록은 도 8과 같은 구성을 취할 수도 있다. 도 8에서 이동 방향에 따라 클리닝 수행에 기여하는 부위를 구체적으로 설명하면 다음과 같다. The cleaning block, which is one component of the stencil mask cleaning apparatus according to the present invention, may have a configuration as shown in FIG. 8. In FIG. 8, a part contributing to the cleaning performed according to the moving direction will be described in detail as follows.

도 8에서 클리닝 장치가 우방향으로 이동하면서 클리닝을 수행한다고 가정할 경우, 스텐실 마스크를 클리닝하는데 기여하는 부위는 중앙 클리닝부(81)와 그 이후에 이어지는 좌측 진공 흡입부(84)이다. 여기에서 중앙 클리닝부(81)와 좌측 진공 흡입부(84)를 분리하는 좌측 분리 홈(86)을 더 포함할 수 있다. Assuming that the cleaning apparatus performs cleaning while moving in the right direction in FIG. 8, the portion contributing to cleaning the stencil mask is the central cleaning portion 81 and the left vacuum suction portion 84 which follows. The apparatus may further include a left separation groove 86 separating the central cleaning unit 81 and the left vacuum suction unit 84.

반대로 도 8에서 클리닝 장치가 좌방향으로 이동하면서 클리닝을 수행한다고 가정할 경우, 스텐실 마스크를 클리닝하는데 기여하는 부위는 중앙 클리닝부(81)와 그 이후에 이어지는 우측 진공 흡입부(83)이다. 여기에서 위 중앙 클리닝부(81)와 우측 진공 흡입부(83)를 분리하는 우측 분리 홈(85)을 더 포함할 수 있다.In contrast, assuming that the cleaning apparatus moves in the left direction and performs cleaning in FIG. 8, the portion contributing to cleaning the stencil mask is the central cleaning portion 81 and the right side vacuum suction portion 83 thereafter. In this case, the upper central cleaning unit 81 and the right vacuum suction unit 83 may further include a right separating groove 85.

도 9 내지 도 12, 도 14 내지 도 15는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치를 사용하여 일방향으로 클리닝하는 방법을 순차적으로 보여주는 측단면도들이고, 도 17 내지 20은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치를 사용하여 상기 일방향과 반대 방향으로 클리닝하는 방법을 순차적으로 보여주는 측단면도들이다. 도 13과 도 16은 각각 도 12와 도 15의 일부분을 확대한 확대도이고, 도 21은 도 20의 일부분을 확대한 확대도이다. 또한, 도 22는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 방법을 설명하는 순서도이다.9 to 12, 14 to 15 are side cross-sectional views sequentially showing a method of cleaning in one direction using the stencil mask cleaning apparatus according to the present invention, Figures 17 to 20 is a stencil mask cleaning apparatus according to the present invention Side cross-sectional views sequentially illustrating a method of cleaning in the opposite direction to the one direction. 13 and 16 are enlarged views of portions of FIGS. 12 and 15, respectively, and FIG. 21 is an enlarged view of portions of FIG. 20. 22 is a flowchart illustrating a stencil mask cleaning method according to the present invention.

본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 방법은 클리닝 블록 스텐실 마스크의 일면에 위치한 와이퍼를 밀어 상기 스텐실 마스크와 접촉시키는 단계(도 22의 S221), 상기 와이퍼를 상기 스텐실 마스크에 접촉시킨 채로 상기 클리닝 블록이 상기 와이퍼와 함께 일방향으로 이동하는 단계(도 22의 S223), 및 상기 클리닝 블록 이동 후 상기 와이퍼 회전과 상기 클리닝 블록의 이동을 동시에 수행하는 단계(도 22의 S225)를 포함할 수 있다. 이를 이하 도 9 내지 도 21을 통해 이해할 수 있다. In the method of cleaning a stencil mask according to the present invention, the step of contacting the stencil mask by pushing a wiper located on one surface of a cleaning block stencil mask (S221 of FIG. 22), and the cleaning block is in contact with the stencil mask. And moving in one direction (S223 of FIG. 22), and simultaneously performing the wiper rotation and the movement of the cleaning block after the cleaning block movement (S225 of FIG. 22). This can be understood through FIGS. 9 to 21.

먼저 도 9 내지 도 16을 통해 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치가 우방향으로 이동하면서 스텐실 마스크를 클리닝하는 과정을 설명한다. First, the process of cleaning the stencil mask while moving the stencil mask cleaning apparatus in the right direction according to the present invention will be described with reference to FIGS. 9 to 16.

본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치에서는 양 방향으로 모두 회전 가능한 모터(미도시)를 사용하고 상기 모터의 회전력은 모터축(59)에 전달되며 이는 제1축(51)과 제2축(52)을 회전시키는 동력이 될 수 있다. 또는 별도의 모터로부터 회전력을 전달받지 않고, 제1축 및/또는 제2축에 모터가 연결되어 회전할 수도 있다. In the stencil mask cleaning apparatus according to the present invention, a motor (not shown) rotatable in both directions is used, and the rotational force of the motor is transmitted to the motor shaft 59, which is the first shaft 51 and the second shaft 52. It can be a power to rotate. Alternatively, the motor may be connected to the first shaft and / or the second shaft to rotate without receiving rotational force from a separate motor.

도 9는 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치(50)가 솔더 페이스트들(57)이 주로 하면에 묻은 스텐실 마스크(56)를 클리닝 하기 전의 모습을 보여주고 있다. 이후 도 10에서 볼 수 있는 것처럼, 클리닝 장치(50)는 클리닝 블록(70)을 상승시켜 스텐실 마스크(56)의 일면에 위치한 와이퍼(55)를 밀어 올려 와이퍼(55)가 상기 스텐실 마스크(56)와 접촉되도록 한다. 9 shows the stencil mask cleaning apparatus 50 according to the present invention before cleaning the stencil mask 56 in which the solder pastes 57 are mainly attached to the lower surface. Then, as shown in FIG. 10, the cleaning device 50 raises the cleaning block 70 to push up the wiper 55 located on one surface of the stencil mask 56 so that the wiper 55 may move the stencil mask 56. Make contact with

다음 도 11에서 볼 수 있는 것처럼, 클리닝 장치(50)가 우측으로 이동하면, 클리닝될 솔더 페이스트들(57)도 이동된다. 클리닝 장치(50)의 이동이 완료된 후 제1축의 시계방향 회전에 의해 와이퍼(55)가 우방향으로 이동하면서 동시에 클리닝 장치(50)도 우측으로 이동시킴으로써, 스텐실 마스크(56)의 일면에 잔존한 솔더 페이스트들(57)을 와이퍼(55)로 닦아낸다(도 12). As can be seen in FIG. 11, when the cleaning apparatus 50 is moved to the right, the solder pastes 57 to be cleaned are also moved. After the movement of the cleaning device 50 is completed, the wiper 55 is moved to the right direction by the clockwise rotation of the first axis, and the cleaning device 50 is also moved to the right side, thereby remaining on one surface of the stencil mask 56. The solder pastes 57 are wiped with the wiper 55 (FIG. 12).

이와 같이 클리닝 장치(50)가 어느 정도의 거리까지 이동하고 있는 도중에는 제1축 및 제2축이 회전을 하지 않고 정지해 있을 수도 있고, 필요에 따라 클리닝 장치(50)가 이동하고 있는 순간에도 항상 회전하고 있을 수도 있다. Thus, while the cleaning apparatus 50 is moving to some distance, the 1st axis | shaft and the 2nd axis | shaft may be stopped without rotation, and if necessary, it will always be at the moment when the cleaning apparatus 50 is moving. It may be rotating.

즉, 도 10과 같이 클리닝이 시작되는 순간부터 도 11에서와 같이 클리닝 장치(50)가 어느 정도 거리만큼 이동이 완료될 때까지는 제1 및 제2축의 회전이 없다가, 도 12에서처럼 클리닝 장치(50)의 이동과 제1 및 제2축의 회전이 동시에 이루어지도록 하여 클리닝을 수행할 수 있다. That is, there is no rotation of the first and second axes until the cleaning device 50 is moved to a certain distance as shown in FIG. 11 from the moment when cleaning starts as shown in FIG. 10, but as shown in FIG. 12. The cleaning may be performed by simultaneously moving the 50 and rotating the first and second shafts.

또한, 도 10과 같이 클리닝이 시작되는 순간부터 도 14에서와 같이 클리닝이 완료될 때까지 클리닝 장치(50)의 이동과 제1 및 제2축의 회전이 동시에 이루어질 수도 있다. In addition, the movement of the cleaning apparatus 50 and the rotation of the first and second axes may be simultaneously performed from the moment when the cleaning starts as shown in FIG. 10 to the completion of the cleaning as shown in FIG. 14.

도 13은 도 12에서 스텐실 마스크(56)의 일면에 잔존한 솔더 페이스트들이 본 발명에 따른 클리닝 장치(50)에 의해 클리닝되는 모습을 확대하여 보여주는 그림이다. 도 12와 도 13에서 보여지는 클리닝이 수행되는 동안에는 클리닝 장치의 이동과 제1 및 제2축의 회전이 동시에 이루어지는 것이 바람직하다. FIG. 13 is an enlarged view of solder paste remaining on one surface of the stencil mask 56 in FIG. 12 being cleaned by the cleaning apparatus 50 according to the present invention. While the cleaning shown in FIGS. 12 and 13 is performed, it is preferable that the movement of the cleaning device and the rotation of the first and second axes are simultaneously performed.

도 14에서 볼 수 있는 바와 같이, 스텐실 마스크(56)의 일면에 잔존한 솔더 페이스트들(57)을 와이퍼(55)로 모두 옮겨진 후, 도 15에서 볼 수 있는 바와 같이, 클리닝 블록을 하강시켜 클리닝을 완료한다. 도 16은 도 15에서 스텐실 마스크의 일면에 잔존한 솔더 페이스트들이 본 발명에 따른 클리닝 장치에 의해 클리닝이 완료된 모습을 확대하여 보여주는 그림이다.As shown in FIG. 14, all the solder pastes 57 remaining on one surface of the stencil mask 56 are transferred to the wiper 55, and then, as shown in FIG. 15, the cleaning block is lowered and cleaned. To complete. FIG. 16 is an enlarged view of the solder paste remaining on one surface of the stencil mask in FIG. 15 when the cleaning is completed by the cleaning apparatus according to the present invention.

다음으로 도 17 내지 도 21을 통해 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치가 좌방향으로 이동하면서 스텐실 마스크를 클리닝하는 과정을 이해할 수 있다. 즉, 도 17은 본 발명에 따른 스텐실 마스크 클리닝 장치(50)가 솔더 페이스트들(57)이 주로 하면에 묻은 스텐실 마스크(56)를 클리닝 하기 전의 모습이고, 이후 도 18에서 볼 수 있는 것처럼, 클리닝 장치(50)가 클리닝 블록(70)을 상승시켜 스텐실 마스크(56)의 일면에 위치한 와이퍼(55)를 밀어 올려 와이퍼(55)가 상기 스텐실 마스크(56)와 접촉되도록 한 후, 좌방향으로 이동한다. 이후, 제2축의 반시계방향 회전에 의해 와이퍼(55)가 좌방향으로 이동하면서 동시에 클리닝 장치(50)도 좌측으로 이동시킴으로써, 스텐실 마스크(56)의 일면에 잔존한 솔더 페이스트들(57)을 와이퍼(55)로 닦아낸다(도 20 및 도 21).Next, the process of cleaning the stencil mask while moving the stencil mask cleaning apparatus according to the present invention to the left direction through FIGS. 17 to 21 may be understood. That is, FIG. 17 is a view of the stencil mask cleaning apparatus 50 according to the present invention before cleaning the stencil mask 56 in which the solder pastes 57 are mainly attached to the lower surface, and as shown in FIG. The device 50 raises the cleaning block 70 to push up the wiper 55 located on one side of the stencil mask 56 so that the wiper 55 comes into contact with the stencil mask 56 and then moves to the left. do. Thereafter, the wiper 55 is moved to the left by the counterclockwise rotation of the second axis, and the cleaning device 50 is also moved to the left to thereby remove the solder pastes 57 remaining on one surface of the stencil mask 56. Wiping with wiper 55 (FIGS. 20 and 21).

이상 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 스크린 프린터 클리닝 장치 및 그 방법에 따르면, 양방향 회전이 가능한 와이퍼 공급축과 와이퍼 회수축을 사용함으로써 좌, 우 방향의 양방향 클리닝이 모두 가능하면서도, 스텐실 마스크 하면에 잔여물이 남지 않게 클리닝 할 수 있는 장점이 있다. As described above, according to the screen printer cleaning apparatus and method thereof according to the present invention, by using the wiper feed shaft and the wiper recovery shaft which can rotate in both directions, both left and right directions can be cleaned, but the residue on the lower surface of the stencil mask There is an advantage that can be cleaned without leaving.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

50: 스크린 프린터 클리닝 장치
51: 제1축
52: 제2축
55: 와이퍼
56: 스텐실 마스크
59: 모터축
70, 80: 클리닝 블록
71, 72, 81: 클리닝부
73, 74, 83, 84: 진공 흡입부
75, 76, 85, 86: 분리 홈50: screen printer cleaning device
51: first axis
52: second axis
55: wiper
56: stencil mask
59: motor shaft
70, 80: cleaning block
71, 72, 81: cleaning unit
73, 74, 83, 84: vacuum suction unit
75, 76, 85, 86: separation groove

Claims (12)

스텐실 마스크의 일면에 위치한 와이퍼를 밀어 상기 스텐실 마스크와 접촉시키고, 상기 와이퍼와 함께 좌, 우 방향으로 이동하는 클리닝 블록;
상기 와이퍼를 공급하는 제1축; 및
상기 와이퍼를 회수하는 제2축을 포함하되,
상기 제1축 및 제2축의 회전 방향은 상기 클리닝 블록이 상기 우 방향으로 이동시에는 시계방향이고, 상기 클리닝 블록이 상기 좌 방향으로 이동시에는 반시계방향인 스크린 프린터 클리닝 장치.A cleaning block which pushes a wiper positioned on one surface of the stencil mask to come into contact with the stencil mask and moves in a left and right direction together with the wiper;
A first shaft supplying the wiper; And
A second shaft for recovering the wiper;
And rotation directions of the first and second axes are clockwise when the cleaning block moves in the right direction and counterclockwise when the cleaning block moves in the left direction. 제1항에 있어서,
상기 클리닝 블록이 상기 와이퍼를 상기 스텐실 마스크에 접촉한 채 우방향으로 이동 후, 상기 제1축 및 제2축이 시계방향으로 회전하는 스크린 프린터 클리닝 장치.The method of claim 1,
And the first and second axes rotate clockwise after the cleaning block moves in the right direction while the wiper is in contact with the stencil mask. 제1항에 있어서,
상기 클리닝 블록이 상기 와이퍼를 상기 스텐실 마스크에 접촉한 채 좌방향으로 이동 후, 상기 제1축 및 제2축이 반시계방향으로 회전하는 스크린 프린터 클리닝 장치.The method of claim 1,
And the first axis and the second axis rotate counterclockwise after the cleaning block moves to the left while the wiper is in contact with the stencil mask. 제1항에 있어서,
상기 제1축 및 제2축은 각각 프리 휠 클러치를 사용하는 스크린 프린터 클리닝 장치.The method of claim 1,
And each of the first shaft and the second shaft uses a free wheel clutch. 제4항에 있어서,
상기 제1축 및 제2축의 프리 휠 클러치가 힘을 받는 회전 방향은 서로 반대 방향이어서, 상기 제1축 또는 제2축의 어느 하나가 힘을 받는 방향으로 회전하는 동안 다른 축은 공회전하는 스크린 프린터 클리닝 장치.5. The method of claim 4,
The rotation direction in which the freewheel clutches of the first and second shafts are applied to each other is opposite to each other, so that the other shaft is idle while the one of the first and second shafts rotates in the direction of the force. . 제1항에 있어서,
상기 클리닝 블록은,
진공 흡입부,
상기 진공 흡입부의 양 쪽에 위치하는 제1 및 제2 클리닝부, 및
상기 제1 및 제2 클리닝부와 상기 진공 흡입부를 분리하는 분리 홈을 포함하는 스크린 프린터 클리닝 장치.The method of claim 1,
The cleaning block,
Vacuum suction,
First and second cleaning units positioned at both sides of the vacuum suction unit, and
And a separation groove separating the first and second cleaning units and the vacuum suction unit. 제1항에 있어서,
상기 클리닝 블록은,
클리닝부,
상기 클리닝부의 양 쪽에 위치하는 제1 및 제2 진공 흡입부, 및
상기 제1 및 제2 진공 흡입부와 상기 클리닝부를 분리하는 분리 홈을 포함하는 스크린 프린터 클리닝 장치.The method of claim 1,
The cleaning block,
Cleaning,
First and second vacuum suction parts positioned at both sides of the cleaning part, and
And a separation groove separating the first and second vacuum suction parts and the cleaning part. 클리닝 블록이 스텐실 마스크의 일면에 위치한 와이퍼를 밀어 상기 스텐실 마스크와 접촉시키는 단계;
상기 와이퍼를 상기 스텐실 마스크에 접촉시킨 상태로 상기 클리닝 블록이 상기 와이퍼와 함께 일방향으로 이동하는 단계; 및
상기 클리닝 블록 이동 후 상기 와이퍼 회전과 상기 클리닝 블록의 이동을 동시에 수행하는 단계를 포함하는 스크린 프린터 클리닝 방법. A cleaning block pushing the wiper on one side of the stencil mask to contact the stencil mask;
Moving the cleaning block in one direction with the wiper while the wiper is in contact with the stencil mask; And
And simultaneously rotating the wiper and moving the cleaning block after moving the cleaning block. 제8항에 있어서,
상기 일방향이 우방향인 경우에는 상기 와이퍼의 회전 방향이 시계 방향인 스크린 프린터 클리닝 방법.9. The method of claim 8,
And the rotation direction of the wiper is clockwise when the one direction is the right direction. 제8항에 있어서,
상기 일방향이 좌방향인 경우에는 상기 와이퍼의 회전 방향이 반시계 방향인 스크린 프린터 클리닝 방법.9. The method of claim 8,
And the rotation direction of the wiper is a counterclockwise direction when the one direction is a left direction. 제9항에 있어서,
상기 와이퍼는 각각 프리 휠 클러치를 사용하는 제1축 및 제2축에 의해 회전하는 스크린 프린터 클리닝 방법.10. The method of claim 9,
And the wiper rotates by a first shaft and a second shaft using a free wheel clutch, respectively. 제11항에 있어서,
상기 제1축 및 제2축의 프리 휠 클러치가 힘을 받는 회전 방향은 서로 반대 방향이어서, 상기 제1축 또는 제2축의 어느 하나가 힘을 받는 방향으로 회전하는 동안 다른 축은 공회전하는 스크린 프린터 클리닝 방법.The method of claim 11,
The rotation direction in which the freewheel clutches of the first and second shafts are applied to each other is opposite to each other so that one of the first and second shafts is idle while the other shaft rotates in the direction of the applied force. .
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