KR20130019211A - Surface treatment method of printed circuit board - Google Patents

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KR20130019211A
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박영석
박순용
장세명
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주식회사 엘지화학
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Abstract

PURPOSE: A surface processing method for a printed circuit board is provided to improve the efficiency of a manufacturing process by reducing facility space through applying series processing which is not a batch type. CONSTITUTION: A printed circuit board comprises an insulating layer. The printed circuit board forms a micro circuit pattern. A junction part of anisotropic conductive film is formed at the insulating layer. The insulating layer performs a desmear process which is using permanganate etchant. The desmear process is implemented in the temperature of 60 to 95 °C for less than seven minutes.

Description

인쇄회로기판의 표면 처리 방법 {SURFACE TREATMENT METHOD OF PRINTED CIRCUIT BOARD}Surface treatment method of printed circuit board {SURFACE TREATMENT METHOD OF PRINTED CIRCUIT BOARD}

본 발명은 이방성 도전 필름과의 접착력을 향상시키는 인쇄회로기판의 표면 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for treating a surface of a printed circuit board which improves adhesion to the anisotropic conductive film.

최근 전자기기의 소형화와 제조 원가의 절감 및 제조 공정의 간편성을 추구하는 추세에 맞춰서 이방성 도전 접착 필름(ACF, anisotropic conductive film)의 적용이 증가하고 있다. ACF는 적용이 비교적 간단하고, 미세 패턴의 접속을 가능하게 한다는 점에서 앞으로도 그 사용 분야가 더욱더 넓어질 것으로 보인다. In recent years, the application of an anisotropic conductive film (ACF) is increasing in accordance with the trend of miniaturization of electronic devices, reduction of manufacturing cost, and simplicity of manufacturing process. The application of ACF is expected to be wider in the future in that the application is relatively simple and enables the connection of fine patterns.

그러나, ACF의 문제점 중 하나는 바로 그 접착력에 관한 이슈가 끊임없이 제기되고 있다는 것인데, 대표적으로 FOG(FPCB on Glass) 부분에 적용되는 경우를 들 수 있다. FOG는 연성회로기판(FPCB)을 ACF를 이용해서 LCD 모듈에 접합하는 것을 말하는데, 상기 연성 인쇄회로기판(FPCB, flexible printed circuit board)의 절연체로 주로 사용되는 폴리이미드와 ACF 사이의 접착력이 전반적으로 낮다는 문제점이 있다. 이 접착력이 낮을 경우 ACF에 의한 접속이 불량하여 전자기기의 고장으로 발생되고, 이는 전반적인 품질 불량으로 이어질 수 있는 문제점을 내포하고 있다. However, one of the problems of ACF is that the issue of adhesion is constantly being raised, which is typically applied to FOG (FPCB on Glass) part. FOG refers to bonding a flexible printed circuit board (FPCB) to an LCD module using an ACF. The adhesion between the polyimide and the ACF, which is mainly used as an insulator of the flexible printed circuit board (FPCB), is generally There is a problem of low. If the adhesive force is low, the connection by the ACF is poor, resulting in a failure of the electronic device, which includes a problem that may lead to a general quality defect.

이러한 문제점을 해결하기 위해 FPCB 제조 회사에서는 최종 제품의 표면에 플라즈마를 처리하여 ACF와의 접착력을 안정적으로 확보하고 있다. 그러나, 이 플라즈마 처리 방법은 공정 비용이 높을 뿐 아니라 배치 타입(Batch type)이라 장시간이 소요된다는 단점이 있다. In order to solve this problem, the FPCB manufacturing company is stably securing the adhesive strength to the ACF by treating the surface of the final product plasma. However, this plasma processing method has a disadvantage in that it takes not only a high process cost but also a long time since it is a batch type.

따라서, 배치 타입이 아닌 연속 공정으로 적용할 수 있어, 설비 공간 및 공정 비용을 줄일 수 있으며, 공정의 효율성을 향상시킬 수 있고, 이방성 도전 필름과의 접착력이 향상된 인쇄회로기판을 제조할 수 있는 공정 개발에 대한 연구가 필요하다.Therefore, the process can be applied to a continuous process rather than a batch type, thereby reducing equipment space and process cost, improving process efficiency, and manufacturing a printed circuit board with improved adhesion to anisotropic conductive films. Research on development is needed.

본 발명은 이방성 도전 필름과의 접착력을 향상시킬 수 있는 인쇄회로기판의 표면 처리 방법을 제공하고자 한다. The present invention is to provide a method for treating the surface of a printed circuit board that can improve the adhesion with the anisotropic conductive film.

본 발명은 또한, 상기 방법으로 표면 처리하여 제조되는 인쇄회로기판을 제공하고자 한다.The present invention also provides a printed circuit board manufactured by surface treatment by the above method.

본 발명은 절연층을 포함하고 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판을 제조하는 단계; 상기 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층을 과망간산 에칭액을 사용하여 60 내지 95 ℃의 온도로 체류 시간 7 분 이하에서 디스미어하는 단계;를 포함하는 인쇄회로기판의 표면 처리 방법을 제공한다. The present invention comprises the steps of manufacturing a printed circuit board including an insulating layer and a fine circuit pattern is formed; Desmearing the insulating layer to be an anisotropic conductive film (ACF) junction in the printed circuit board at a temperature of 60 to 95 ℃ less than 7 minutes using a permanganic acid etching solution; Surface treatment method of a printed circuit board comprising a To provide.

본 발명은 또한, 상기 방법으로 표면 처리하여 제조되는 인쇄회로기판을 제공한다.
The present invention also provides a printed circuit board manufactured by surface treatment by the above method.

이하, 발명의 구체적인 구현예에 따른 인쇄회로기판의 표면 처리 방법 및 이로부터 제조되는 인쇄회로기판에 대하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 이는 발명의 하나의 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니며, 발명의 권리범위 내에서 구현예에 대한 다양한 변형이 가능함은 당업자에게 자명하다. Hereinafter, a method for treating a surface of a printed circuit board and a printed circuit board manufactured therefrom according to a specific embodiment of the present invention will be described in detail. It will be apparent to those skilled in the art, however, that this is not intended to limit the scope of the invention, which is set forth as an example of the invention, and that various modifications may be made to the embodiments within the scope of the invention.

본 명세서 전체에서 특별한 언급이 없는 한 "포함" 또는 "함유"라 함은 어떤 구성 요소(또는 구성 성분)를 별다른 제한 없이 포함함을 지칭하며, 다른 구성 요소(또는 구성 성분)의 부가를 제외하는 것으로 해석될 수 없다.&Quot; Including "or" containing ", unless the context clearly dictates otherwise throughout the specification, refers to any element (or component) including without limitation, excluding the addition of another component .

본 발명자들은, ACF와 FPCB의 접착력 저하가 일어나는 원인 파악과 함께, 접착력 향상을 위해서 FPCB 제조 공정 중에 적용할 수 있는 방법을 연구한 결과, FPCB 공정 중에 폴리이미드의 표면 요철을 제거하는 공정을 추가 함으로써 ACF와 FPCB간의 접착력은 현저히 향상시킬 수 있음을 발견하게 본 발명을 완성하게 되었다. The present inventors have investigated the method that can be applied during the FPCB manufacturing process to improve the adhesive strength, together with the cause of the decrease in the adhesive strength of the ACF and FPCB, by adding a step of removing the surface irregularities of the polyimide during the FPCB process The present invention has been completed to discover that the adhesion between ACF and FPCB can be significantly improved.

특히, 도 1에 나타낸 바와 같이, FPCB의 폴리이미드 표면 요철에 의해서 ACF와의 접착시에 ACF 내부에 에어 버블(air bubble)이 발생되며, 이러한 에어 버블로 인해 ACF와 FPCB간의 접착력이 저하될 수 있다. 이때, ACF 내부에 에어 버블(air bubble)이 발생되는 원인은 절연체인 폴리이미드의 요철 부위에 남아있는 에어(Air) 또는 금도금시의 불순물이 ACF 공정 중의 190 ℃ 이상의 고온에서 팽창하면서 ACF와의 계면에 에어 버블(air bubble)을 형성시키기 때문이다. 이러한 ACF 접착시 내부 에어 버블(air bubble) 발생 현상을 나타낸 사진은 도 5에 나타낸 바와 같다. 따라서, 이 에어 버블(air bubble)을 발생시키는 원인인 폴리이미드의 표면 요철을 제거하는 공정을 FPCB 공정 중에 삽입한다면 ACF와 FPCB간의 접착력을 현저히 향상시킬 수 있다. 이러한 방법으로 제조되는 인쇄회로기판은 LCD 모듈(Module), 플라잉 테일(Flying Tail) 등에 효과적으로 적용할 수 있다. In particular, as shown in FIG. 1, air bubbles are generated inside the ACF when the FPCB is adhered to the ACF by the uneven surface of the polyimide, and thus the adhesion between the ACF and the FPCB may be reduced. . At this time, the cause of air bubbles in the ACF is caused by air or gold plating impurities remaining in the uneven portion of the polyimide, which is an insulator, at the interface with the ACF while expanding at a high temperature of 190 ° C. or higher during the ACF process. This is because air bubbles are formed. The photo showing the phenomenon of the internal air bubble (air bubble) when the ACF adhesion is shown in FIG. Therefore, if the process of removing the surface irregularities of the polyimide, which causes the air bubble, is inserted in the FPCB process, the adhesion between the ACF and the FPCB can be significantly improved. The printed circuit board manufactured in this manner can be effectively applied to an LCD module, a flying tail, and the like.

이에 발명의 일 구현예에 따르면, ACF와 접착력을 향상시킬 수 있는 인쇄회로기판의 표면 처리 방법이 제공된다. 본 발명의 인쇄회로기판의 표면 처리 방법은 절연층을 포함하고 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판을 제조하는 단계; 상기 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF)의 접합부가 되는 절연층은 과망간산 에칭액을 사용하여 60 내지 95 ℃의 온도로 체류 시간 7 분 이하에서 디스미어하는 단계;를 포함할 수 있다. Accordingly, according to one embodiment of the invention, there is provided a surface treatment method of a printed circuit board that can improve the adhesion with the ACF. The surface treatment method of the printed circuit board of the present invention comprises the steps of manufacturing a printed circuit board including an insulating layer and a fine circuit pattern is formed; The insulating layer, which is a junction portion of the anisotropic conductive film (ACF) in the printed circuit board, may be desmeared at a residence time of 7 minutes or less at a temperature of 60 to 95 ° C. using an permanganic acid etching solution.

본 발명에서 절연층을 포함하고 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판을 제조하는 단계를 포함하는데, 좀더 구체적으로는 드릴링, 도체층과의 접착력 증진을 위한 디스미어, PTH 도금, 패터닝, ACF와의 접착력 향상을 위한 디스미어, 금도금 등을 공정을 통해 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. The present invention includes a step of manufacturing a printed circuit board including an insulating layer and a fine circuit pattern is formed, more specifically, desmear, PTH plating, patterning, and adhesion to ACF to improve drilling and adhesion to the conductor layer. Through the desmear, gold plating, etc., a printed circuit board having a fine circuit pattern may be manufactured.

이 때, 상기 절연층은 폴리이미드, LCP, 테플론, 에폭시 수지 등의 성분을 1종 이상 포함할 수 있다. In this case, the insulating layer may include one or more components, such as polyimide, LCP, Teflon, epoxy resin.

또한, 상기 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판은 도체로서 구리, 철, 및 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the printed circuit board on which the fine circuit pattern is formed may include at least one selected from the group consisting of copper, iron, and aluminum as a conductor.

이렇게 제조된 인쇄회로기판은 이방성 도전 필름(ACF)와의 접착력을 향상시킬 수 있도록, 이방성 도전 필름(ACF)의 접합부가 되는 절연층을 기존의 플라즈마 공정이 아닌 과망간산 에칭액으로 디스미어 처리하는 것을 특징으로 한다. 특히, 기존의 디스미어 공정은 구리 등의 도체 도금을 위하여 구리와 절연층과의 접차력을 증진시키기 위하여, 미세 회로 형성 이전 단계에서 드릴링을 수행한 후에 적용하는 것에 한정되었으나, 본 발명에서 디스미어 공정은 인쇄회로 기판에 미세회로를 형성한 후에 ACF 부착에 앞서, 인쇄회로기판에서 ACF의 접합부가 되는 절연층에 대해 수행하는 것이다. The printed circuit board manufactured as described above is characterized by desmearing the insulating layer, which is a junction portion of the anisotropic conductive film (ACF), with a permanganic acid etching solution instead of the conventional plasma process, so as to improve adhesion to the anisotropic conductive film (ACF). do. In particular, the conventional desmear process is limited to the application after the drilling is performed in the pre-fine circuit formation step in order to improve the contact force between the copper and the insulating layer for the plating of conductors such as copper, but in the present invention The process is performed after the microcircuits are formed on the printed circuit board and before the ACF is attached, on the insulating layer which becomes the junction of the ACF on the printed circuit board.

이 때, 상기 이방성 도전 필름(ACF)의 접합부가 되는 절연층에 대한 디스미어 단계는 60 내지 95 ℃, 바람직하게는 65 내지 90 ℃, 좀더 바람직하게는 70 내지 90 ℃에서 수행할 수 있다. 또한, 상기 디스미어 단계는 상기 에칭액에서 체류 시간을 7 분 이하 또는 0.5 내지 7 분, 바람직하게는 6 분 이하 또는 1 내지 6 분, 좀더 바람직하게는 5 분 이하 또는 1.5 내지 5 분으로 수행할 수 있다. 상기 디스미어 단계에서 에칭액에서의 체류 시간 등은 우수한 ACF와의 접착력이 나타날 수 있도록 충분한 표면 처리가 이뤄지는 정도에서 조절할 수 있으며, 다만, 언더 컷(under cut)이 발생되지 않도록 하는 측면에서 7 분 이하로 수행할 수 있다. At this time, the desmear step for the insulating layer which is the junction of the anisotropic conductive film (ACF) may be carried out at 60 to 95 ℃, preferably 65 to 90 ℃, more preferably 70 to 90 ℃. In addition, the desmearing step may be performed in the etching solution with a residence time of 7 minutes or less or 0.5 to 7 minutes, preferably 6 minutes or less, or 1 to 6 minutes, more preferably 5 minutes or less, or 1.5 to 5 minutes. have. In the desmear step, the residence time in the etchant can be adjusted to the extent that sufficient surface treatment is performed so that excellent adhesion to ACF can be exhibited, but less than 7 minutes in terms of preventing under cut. Can be done.

이러한 디스미어링 공정을 통해, 폴리이미드 등의 절연층 표면 요철이 효과적으로 제거되어, ACF와의 접착시에 ACF 내부에 에어 버블(air bubble)이 발생을 근본적으로 차단할 수 있다. 이렇게 디스미어 처리된 절연층은 원자현미경(AFM, Atomic Force MicroScope)으로 측정한 표면 조도(Rz)가 2.0 ㎛ 이하 또는 0.1 내지 2.0 ㎛, 바람직하게는 1.8 ㎛ 이하, 좀더 바람직하게는 1.5 ㎛ 이하가 될 수 있다. 상기 절연층의 표면 조도는 ACF와 우수한 접착력을 나타낼 수 있도록 하는 측면에서 2.0 ㎛ 이하가 될 수 있다. Through this desmearing process, the surface irregularities of the insulating layer such as polyimide can be effectively removed, thereby essentially blocking the generation of air bubbles in the ACF during adhesion with the ACF. The desmeared insulating layer has a surface roughness (Rz) of 2.0 μm or less, or 0.1 to 2.0 μm, preferably 1.8 μm or less, more preferably 1.5 μm or less, measured by atomic force microscope (AFM). Can be. The surface roughness of the insulating layer may be 2.0 μm or less in terms of showing good adhesion with ACF.

또한, 본 발명에서 이방성 도전 필름(ACF)가 접합되는 절연층에 대한 디스미어 단계는 과망간산칼륨(KMnO4), 과망간산나트륨(NaMnO4) 등의 과망간산염 1종 이상 및 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH) 등의 알카리 금속 1종 이상을 포함하는 에칭액을 사용하여 수행할 수 있다. 특히, 과망간산나트륨(NaMnO4)과 수산화나트륨(NaOH) 또는 수산화칼륨(KOH)의 혼합액을 사용할 수 있다. 이때, 상기 과망간산염과 알카리금속의 혼합비는 중량 기준으로 0.5:1.0 내지 3.0:1.0, 바람직하게는 1.0:1.0 내지 2.0:1.0, 좀더 바람직하게는 1.1:1.0 내지 1.5:1.0이 될 수 있다. 이때, 상기 과망간산 에칭액의 pH는 12 이상이 될 수 있다. In addition, in the present invention, the desmear step for the insulating layer to which the anisotropic conductive film (ACF) is bonded may include at least one permanganate salt such as potassium permanganate (KMnO 4 ), sodium permanganate (NaMnO 4 ), sodium hydroxide (NaOH), and hydroxide. It can be performed using an etchant containing at least one alkali metal such as potassium (KOH). In particular, a mixed solution of sodium permanganate (NaMnO 4 ) and sodium hydroxide (NaOH) or potassium hydroxide (KOH) can be used. In this case, the mixing ratio of the permanganate salt and the alkali metal may be 0.5: 1.0 to 3.0: 1.0, preferably 1.0: 1.0 to 2.0: 1.0, more preferably 1.1: 1.0 to 1.5: 1.0. In this case, the pH of the permanganic acid etching solution may be 12 or more.

한편, 상기 디스미어된 인쇄회로기판의 절연층은 산 용액으로 처리하는 단계를 추가로 포함할 수 있으며, 이때, 상기 산 용액은 황산, 염산, 및 아세트산 등으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 다만, 물에 대한 세정력 및 산 처리 효과, 경제적인 측면 등에서 황산이나 염산 등을 사용하는 것이 바람직하다. Meanwhile, the insulating layer of the desmeared printed circuit board may further include a step of treating with an acid solution, wherein the acid solution includes one or more selected from the group consisting of sulfuric acid, hydrochloric acid, acetic acid, and the like. can do. However, it is preferable to use sulfuric acid, hydrochloric acid, or the like from the viewpoint of cleaning ability to water, the effect of acid treatment, and economical aspects.

상기 산 용액의 농도는 0.5 내지 10 wt%, 바람직하게는 1.0 내지 6.0 wt%, 좀더 바람직하게는 1.3 내지 5.0 wt%가 될 수 있다. 또한, 상기 산 용액의 pH는 1.0 내지 7.0, 바람직하게는 2.0 내지 6.0, 좀더 바람직하게는 3.0 내지 5.0이 될 수 있다. The concentration of the acid solution may be 0.5 to 10 wt%, preferably 1.0 to 6.0 wt%, more preferably 1.3 to 5.0 wt%. In addition, the pH of the acid solution may be 1.0 to 7.0, preferably 2.0 to 6.0, more preferably 3.0 to 5.0.

상기 산 용액 처리는 1 내지 10 분, 바람직하게는 3 내지 7 분, 좀더 바람직하게는 4 내지 6 분 동안 수행할 수 있다. 또한, 상기 산 용액 처리는 20 내지 80 ℃, 바람직하게는 30 내지 70 ℃, 좀더 바람직하게는 40 내지 60 ℃에서 수행할 수 있다.The acid solution treatment may be carried out for 1 to 10 minutes, preferably 3 to 7 minutes, more preferably 4 to 6 minutes. In addition, the acid solution treatment may be carried out at 20 to 80 ℃, preferably 30 to 70 ℃, more preferably 40 to 60 ℃.

특히, 기존에 FPCB의 폴리이미드 표면 요철을 제거하기 위해 적용한 플라즈마를 처리하는 방법은 제조 비용이 높을 뿐만 아니라, 공정에 오랜 시간이 소요된다는 단점이 있다. 반면에, 본 발명에 따른 디스미어를 처리하는 공정은 공정시간이 짧을 뿐 아니라, 공정 비용도 낮은 효과적인 방법이다. 따라서 본 발명자들은 ACF 인장력 향상을 위하여 기존의 FPCB 제조 공정에 디스미어 공정을 추가하여 ACF와의 접착력을 획기적으로 향상시킬 수 있는 방법을 개발하였다.
In particular, the conventional method of treating the plasma applied to remove the polyimide surface irregularities of the FPCB is not only high in manufacturing cost but also takes a long time in the process. On the other hand, the process of treating the desmear according to the present invention is not only a short process time, but also an effective method having a low process cost. Therefore, the present inventors have developed a method to significantly improve the adhesion with the ACF by adding a desmear process to the existing FPCB manufacturing process to improve the ACF tensile force.

한편, 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 상술한 바와 같은 방법으로 표면 처리하여 제조되는 인쇄회로기판이 제공된다. 이와 같은 방법으로 표면 처리하여 제조되는 인쇄회로기판은 제조비용이 절감되고, 이방성 도전 필름(ACF)과의 접착력이 우수한 특징이 있다. On the other hand, according to another embodiment of the invention, there is provided a printed circuit board manufactured by surface treatment in the same manner as described above. The printed circuit board manufactured by surface treatment in this manner has a feature of reducing manufacturing cost and excellent adhesive strength with an anisotropic conductive film (ACF).

특히, 본 발명의 인쇄회로기판은 상술한 바와 같이 과망간산 에칭액을 사용하여 60 내지 95 ℃의 온도로 체류 시간 7 분 이하에서 디스미어하여 표면 처리된 절연층에 이방성 도전 필름(ACF)을 접합시킨 것이 될 수 있다. In particular, in the printed circuit board of the present invention, the anisotropic conductive film (ACF) is bonded to the surface-treated insulating layer by desmearing at a residence time of 7 minutes or less using a permanganic acid etching solution as described above. Can be.

이러한 표면 처리 공정을 통해 제조된 인쇄회로기판에 대하여, FPCB를 뗀 후의 슬라이드 글래스(slide glass)를 현미경 관찰 결과에 따르면, 에어 버블 면적이 전체 기판 총면적의 30% 이하, 바람직하게는 20% 이하, 좀더 바람직하게는 10% 이하가 될 수 있다. For a printed circuit board manufactured through such a surface treatment process, the slide glass after releasing the FPCB, according to the microscopic observation, shows that the air bubble area is 30% or less, preferably 20% or less, of the total substrate area. More preferably, it may be 10% or less.

또한, 본 발명의 인쇄회로기판은 1 cm 폭으로 테스트하는 박리 강도(Peel strength) 측정하는 시험 조건 하에서 측정한 ACF 필름과의 접착력 강도가 650 gf/cm 이상 또는 650 내지 1,500 gf/cm, 바람직하게는 800 gf/cm 이상, 좀더 바람직하게는 900 gf/cm 이상이 될 수 있다. In addition, the printed circuit board of the present invention has an adhesive strength strength of 650 gf / cm or more or 650 to 1,500 gf / cm, preferably under test conditions for measuring peel strength, which is tested with a width of 1 cm. May be 800 gf / cm or more, more preferably 900 gf / cm or more.

본 발명에 있어서 상기 기재된 내용 이외의 사항은 필요에 따라 가감이 가능한 것이므로, 본 발명에서는 특별히 한정하지 아니한다.In the present invention, matters other than those described above can be added or subtracted as required, and therefore, the present invention is not particularly limited thereto.

본 발명은 인쇄회로기판에 미세 회로 패턴을 형성한 후에 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층을 과망간산 에칭액을 사용하여 특정의 공정 조건으로 디스미어하는 공정을 추가로 적용함으로써, 이방성 도전 필름(ACF)과의 접착력이 향상된 인쇄회로기판을 효과적으로 제조할 수 있다. The present invention further provides an anisotropic conductive film by applying a step of desmearing an insulating layer, which becomes an anisotropic conductive film (ACF) junction, using a permanganic acid etching solution under a specific process condition after forming a fine circuit pattern on a printed circuit board. A printed circuit board having improved adhesion to ACF) can be effectively manufactured.

특히, 본 발명에 따르면, 인쇄회로기판의 표면 처리 공정을 배치 타입이 아닌 연속 공정으로 적용할 수 있어, 설비 공간 및 공정 비용을 줄일 수 있으며, 전체 인쇄회로기판 제조 공정의 효율성을 현저히 향상시킬 수 있다.In particular, according to the present invention, the surface treatment process of the printed circuit board can be applied as a continuous process rather than a batch type, thereby reducing equipment space and process cost, and significantly improving the efficiency of the entire printed circuit board manufacturing process. have.

도 1은 ACF 결합(bonding) 공정 중 에어 버블(air bubble) 발생 현상을 나타낸 사진이다.
도 2는 ACF 접합용 FPCB의 회로부와 절연체(폴리이미드) 부분을 나타낸 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 FPCB를 디스미어 처리한 후 절연체(폴리이미드) 표면을 나타낸 사진이다.
도 4는 본 발명의 비교예 1에 따라 제조된 FPCB의 절연체(폴리이미드) 표면 요철을 나타낸 사진이다.
도 5는 ACF 접착시 내부 에어 버블(air bubble) 발생 현상을 나타낸 사진이다.
도 6은 본 발명의 실시예 1에 따른 슬라이드 글래스(slide glass)의 현미경 사진을 나타낸 사진이다.
도 7은 본 발명의 비교예 1에 따른 슬라이드 글래스(slide glass)의 현미경 사진을 나타낸 사진이다.
1 is a photograph showing an air bubble generation phenomenon during the ACF bonding process.
2 is a photograph showing a circuit portion and an insulator (polyimide) portion of an FPCB for ACF bonding.
3 is a photograph showing the surface of the insulator (polyimide) after desmearing the FPCB prepared according to Example 1 of the present invention.
Figure 4 is a photograph showing the insulator (polyimide) surface irregularities of the FPCB prepared according to Comparative Example 1 of the present invention.
Figure 5 is a photograph showing the phenomenon of internal air bubble (air bubble) generation when ACF adhesion.
FIG. 6 is a photograph showing a micrograph of a slide glass according to Example 1 of the present invention. FIG.
7 is a photograph showing a micrograph of a slide glass according to Comparative Example 1 of the present invention.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example 1 One

12 ㎛ 두께의 동박과 20 ㎛ 두께의 폴리이미드로 이루어진 양면 연성회로기판(FCCL, flexible copper clad laminate)의 한쪽을 완전히 에칭해 내고, 반대쪽에 100/100 회로를 형성하였다. 이때, 좀더 구체적으로는, 상기 기판에 드릴링, 동박과의 접착력 증진을 위한 디스미어링, PTH 도금, 및 패터닝 공정을 통해 미세 패턴을 형성시켰다. One side of a flexible copper clad laminate (FCCL) consisting of 12 μm thick copper foil and 20 μm thick polyimide was completely etched and 100/100 circuits were formed on the opposite side. At this time, more specifically, a fine pattern was formed on the substrate through a desmearing, PTH plating, and patterning process for enhancing adhesion to copper foil.

그리고나서, 이렇게 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층, 즉, 상기 폴리이미드에 대해, NaMnO4와 NaOH의 혼합액(NaMnO4와 NaOH의 중량비= 6:4)을 사용하여 80 ℃에서, 3분 동안 디스미어 공정을 수행하였다. 상기 디스미어 공정을 거친 후, 회로가 형성된 반대면에 커버레이(Coverlay, HGCK-A305L)를 부착하였다. 상기 제품을 ACF 결합(bonding) 설비를 이용하여 슬라이드 글래스(slide glass)에 ACF 필름을 부착하고, 최종 인쇄회로 기판을 제조하였다. Then, this fine circuit insulating layer is an anisotropic conductive film (ACF) joints in printed circuit board pattern is formed, that is, relative to the polyimide, NaMnO 4 and NaOH mixture (NaMnO 4 with NaOH weight ratio = 6: 4 ), The desmear process was carried out at 80 ° C. for 3 minutes. After the desmear process, a coverlay (HGCK-A305L) was attached to the opposite surface on which the circuit was formed. The product was attached to an ACF film on slide glass using an ACF bonding facility, and a final printed circuit board was prepared.

실시예Example 2 2

하기 표 1에 나타낸 바와 같이, 12 ㎛ 두께의 동박과 25 ㎛ 두께의 액정 폴리머(LCP, Kuraray 사 Vecstar 제품)로 이루어진 양면 연성회로기판(FCCL, flexible copper clad laminate)을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄회로기판을 제조하였다.As shown in Table 1, except that a double-sided flexible circuit board (FCCL, flexible copper clad laminate) made of a 12 μm thick copper foil and a 25 μm thick liquid crystal polymer (LCP, manufactured by Vurastar, Kuraray) was used. A printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1.

실시예Example 3~5 3 to 5

하기 표 1에 나타낸 바와 같이 절연층의 두께 및 절연층에 대한 디스미어링 공정 조건을 달리한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄회로기판을 제조하였다.As shown in Table 1, except that the thickness of the insulating layer and the desmearing process conditions for the insulating layer were different, the printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1.

비교예Comparative example 1~2 1-2

하기 표 1에 나타낸 바와 같이, 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층에 대하여 디스미어링 공정을 수행하지 않거나(비교예 1), 상기 디스미어링 공정 시간을 달리한 것(비교예 2)을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄회로기판을 제조하였다.
As shown in Table 1 below, the desmearing process is not performed on the insulating layer serving as the anisotropic conductive film (ACF) junction in the printed circuit board on which the fine circuit pattern is formed (Comparative Example 1), or the desmearing process time. Except for the difference (Comparative Example 2), a printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1.

참조예Reference Example 1 One

미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층에 대하여, 상기 디스미어링 공정 대신에 진공 조건 하에서 플라즈마 장치를 사용하여 플라즈마 표면 처리 공정을 적용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 인쇄회로기판을 제조하였다.
Except for applying the plasma surface treatment process using a plasma apparatus under vacuum conditions, instead of the desmearing process, to the insulating layer serving as an anisotropic conductive film (ACF) junction in a printed circuit board having a fine circuit pattern, A printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1.

상기 실시예 1~5, 비교예 1~2, 및 참조예 1에 따른 인쇄회로기판의 제조 공정에서 절연층 조성 및 표면 처리 공정 조건 등은 하기 표 1에 나타낸 바와 같다.
In the manufacturing process of the printed circuit board according to Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 2, and Reference Example 1, the insulating layer composition, the surface treatment process conditions, and the like are shown in Table 1 below.

구분division FCCLFCCL ACF 접합용 절연층 디스미어링Insulation Desmearing for ACF Bonding 동박
두께
(㎛)
Copper foil
thickness
(Μm)
절연층
성분
Insulating layer
ingredient
절연층
두께
(㎛)
Insulating layer
thickness
(Μm)
약제
조성
drugs
Furtherance
공정
온도
(℃)
fair
Temperature
(℃)
공정
시간
(min)
fair
time
(min)
공정
형태
fair
shape
실시예 1Example 1 1212 폴리이미드Polyimide 2020 KMnO4/
NaOH
KMnO 4 /
NaOH
8080 33 연속
공정
continuity
fair
실시예 2Example 2 1212 LCPLCP 2525 KMnO4/
NaOH
KMnO 4 /
NaOH
8080 33 연속
공정
continuity
fair
실시예 3Example 3 1212 폴리이미드Polyimide 1212 KMnO4/
NaOH
KMnO 4 /
NaOH
8080 33 연속
공정
continuity
fair
실시예 4Example 4 1212 폴리이미드Polyimide 2525 KMnO4/
NaOH
KMnO 4 /
NaOH
8080 33 연속
공정
continuity
fair
실시예 5Example 5 1212 폴리이미드Polyimide 2020 KMnO4/
NaOH
KMnO 4 /
NaOH
8080 33 연속
공정
continuity
fair
비교예 1Comparative Example 1 1212 폴리이미드Polyimide 2020 -- -- -- -- 비교예 2Comparative Example 2 1212 폴리이미드Polyimide 2020 KMnO4/
NaOH
KMnO 4 /
NaOH
8080 88 연속
공정
continuity
fair
참조예 1Reference Example 1 1212 폴리이미드Polyimide 2020 플라
즈마
Pla
Zuma
-
(진공)
-
(vacuum)
2020 배치
타입
arrangement
type

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1~5에서와 같이 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층에 대한 디스미어링 공정은 3분 정도의 짧은 시간에 신속하게 연속 공정으로 수행할 수 있다. 반면에, 참조예 1의 플라즈마 공정은 진공 조건 하에서 20분 정도로 어느 정도의 시간을 체류하여 수행해야 함을 알 수 있다. 또한, 참조예 1의 플라즈마 공정은 진공 조건 하에서 진행될 수 밖에 없어, 별도의 배치 타입으로 반응 공간을 한정하여 수행할 수 밖에 없어 대량 생산 등에 적용이 어려운 단점이 있다.
As shown in Table 1, as in Examples 1 to 5 according to the present invention, the desmearing process for the insulating layer serving as the anisotropic conductive film (ACF) junction in the printed circuit board having the fine circuit pattern is about 3 minutes. It can be carried out in a continuous process quickly in a short time. On the other hand, it can be seen that the plasma process of Reference Example 1 should be carried out by staying at a certain time for about 20 minutes under vacuum conditions. In addition, the plasma process of Reference Example 1 can not only be performed under vacuum conditions, but can be performed by limiting the reaction space to a separate batch type, which is difficult to apply to mass production.

한편, 상기 실시예 1~5, 비교예 1~2, 및 참조예 1에 따라 제조된 인쇄회로기판에 대하여, 다음과 같은 방법으로 물성 평가를 수행하였다.
On the other hand, for the printed circuit board manufactured according to Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 and 2, and Reference Example 1, the physical properties were evaluated by the following method.

a) a) ACFACF 접착부Adhesive 절연층의Insulation layer 조도 Illuminance

미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF) 접합부가 되는 절연층에 대하여, ACF 필름을 부착하기 전에 상기 절연층 샘플을 사용하여 원자현미경(AFM, Atomic Force MicroScope) 장치로 표면 조도(Rz, ㎛)를 측정하였다. For an insulating layer that becomes an anisotropic conductive film (ACF) junction in a printed circuit board on which a fine circuit pattern is formed, the surface roughness (AFM, Atomic Force MicroScope) device is used using the insulating layer sample before attaching the ACF film. Rz, μm) was measured.

b) b) ACFACF 접착력 Adhesion

미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판에서 슬라이드 글래스(slide glass)에 ACF 필름을 부착시킨 상태를 시편으로 하여, 다음과 같은 방법으로 이방성 도전 필름(ACF)의 접착력을 측정하였다. In the printed circuit board on which the fine circuit pattern was formed, the ACF film was attached to the slide glass as a specimen, and the adhesive force of the anisotropic conductive film (ACF) was measured in the following manner.

먼저, ACF 부착 장치(ACF bonding machine)으로 FPCB를 슬라이드 글라스에 붙인 후, 폭 1 cm가 되게 FPCB를 절단해서, 1 cm의 인장력을 측정하였다. 이때, 측정 기기로는 UTM(Zwick 사)라는 장치를 이용하여 접착력을 측정하였다. 이때, FPCB(인쇄회로기판)와 슬라이드 글래스(slide glass)간의 접착력을 90도 각도로 측정하였다. 상기 인장력 측정시, 측정된 접착력 중의 최고값으로 ACF 접착력을 기록하였다. First, the FPCB was attached to the slide glass by an ACF bonding machine, and then the FPCB was cut to have a width of 1 cm, and a tensile force of 1 cm was measured. At this time, the adhesive force was measured using a device called UTM (Zwick). At this time, the adhesive force between the FPCB (printed circuit board) and the slide glass (slide glass) was measured at an angle of 90 degrees. In measuring the tensile force, the ACF adhesive force was recorded as the highest value of the measured adhesive forces.

c) 에어 버블(c) air bubble ( airair bubblebubble ))

현미경(OLYMPUS BX60)을 이용하여 FPCB를 뗀 후의 슬라이드 글래스(slide glass)를 관찰하여 에어 버블(air bubble)의 존재 유무를 관찰하였다. The presence of air bubbles was observed by observing slide glass after removing the FPCB using a microscope (OLYMPUS BX60).

이때, 상기 슬라이드 글래스 면적 중 에어 버블(air bubble)이 차지하는 총면적이 전체 슬라이드 글래스 면적의 10%를 초과하는 경우에 에어 버블(air bubble)이 존재하는 것("있음")으로 평가하고, 이러한 에어 버블(air bubble)의 면적이 전체 슬라이드 글래스 면적의 10% 이하인 경우에는 에어 버블(air bubble)이 발생되지 않은 것("없음")으로 평가하였다. At this time, when the total area occupied by the air bubble in the slide glass area exceeds 10% of the total slide glass area, it is evaluated that the air bubble exists (“is present”), and this air When the area of the bubble (air bubble) is 10% or less of the total slide glass area, it was evaluated that no air bubble ("none") was generated.

d) 언더 컷(d) undercut ( underunder cutcut ))

에폭시 수지를 이용하여 몰드를 만들어서 단면을 연마하여 회로의 단면을 관찰하는 방법으로 언더 컷(under cut)을 측정하였다. 절연층과 동박과의 들뜸이 3 ㎛ 이상인 경우에 언더 컷(under cut)이 존재하는 것("있음")으로 평가하고, 절연층과 동박과의 들뜸이 3 ㎛ 미만인 경우에 언더 컷(under cut)이 발생되지 않은 것("없음")으로 평가하였다.
The under cut was measured by making a mold using an epoxy resin and polishing the cross section to observe the cross section of the circuit. Undercut is evaluated when the insulation layer and the copper foil are 3 micrometers or more ("is present"), and an under cut when the insulation layer and the copper foil is less than 3 micrometers. ) Was assessed as not occurring (“none”).

상기 실시예 1~5, 비교예 1~2, 및 참조예 1에 따라 제조된 인쇄회로기판에 대한 물성 측정 결과는 하기 표 2에 나타낸 바와 같다.
Measurement results of the physical properties of the printed circuit boards manufactured according to Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 2, and Reference Example 1 are as shown in Table 2 below.

구분division ACF 접합용 절연층 표면조도(Rz)Insulation layer surface roughness (Rz) for ACF bonding ACF 접착력
(gf/cm)
ACF Adhesion
(gf / cm)
에어 버블Air bubble 언더컷Undercut
실시예 1Example 1 1.21.2 1,1001,100 없음none 없음none 실시예 2Example 2 1.11.1 1,0001,000 없음none 없음none 실시예 3Example 3 1.21.2 1,0001,000 없음none 없음none 실시예 4Example 4 1.21.2 1,3001,300 없음none 없음none 실시예 5Example 5 1.31.3 1,3501,350 없음none 없음none 비교예 1Comparative Example 1 2.52.5 600  600 있음has exist 없음none 비교예 2Comparative Example 2 1.01.0 1,2001,200 없음none 있음has exist 참조예 1Reference Example 1 1.21.2 1,0001,000 없음none 없음none

한편, 도 3에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 FPCB를 디스미어 처리한 후 절연체(폴리이미드) 표면은 요철이 깎여 나가서 조도가 낮아진 것을 알 수 있다. 그러나, 도 4 에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 비교예 1에 따라 제조된 FPCB의 절연체(폴리이미드) 표면은 요철이 그대로 심하게 남아 있고 조도가 높은 것을 알 수 있다. On the other hand, as shown in Figure 3, after the desmear treatment of the FPCB prepared according to Example 1 of the present invention, the surface of the insulator (polyimide) can be seen that the roughness is cut off and the roughness is lowered. However, as shown in FIG. 4, it can be seen that the surface of the insulator (polyimide) of the FPCB manufactured according to Comparative Example 1 of the present invention remains unevenly severe and has high roughness.

더욱이, 도 6에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예 1에 따른 슬라이드 글래스(slide glass)의 현미경 사진을 통해 에어 버블이 전혀 발생하지 않아 ACF 접착력이 높음을 알 수 있다. 그러나, 도 7 에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 비교예 1에 따른 슬라이드 글래스(slide glass)의 현미경 사진을 통해 에어 버블이 다수 발생하여 ACF 접착력이 현저히 떨어지게 됨을 알 수 있다. In addition, as shown in Figure 6, through the micrograph of the slide glass (slide glass) according to the first embodiment of the present invention it can be seen that the air bubbles do not occur at all, ACF adhesion is high. However, as shown in FIG. 7, it can be seen that a large number of air bubbles are generated through the micrograph of the slide glass according to Comparative Example 1 of the present invention, which significantly reduces the ACF adhesion.

또한, 상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1~5의 인쇄회로기판은 에어 버블 및 언더 컷이 전혀 발생하지 않음과 동시에, ACF 접착력이 1,100 내지 1,350 gf/cm으로 매우 우수한 성능을 나타냄을 알 수 있다.In addition, as shown in Table 2, the printed circuit boards of Examples 1 to 5 according to the present invention do not generate air bubbles and undercuts at the same time, and have excellent ACF adhesion strength of 1,100 to 1,350 gf / cm. It can be seen that.

반면에, 비교예 1의 인쇄회로기판은 언더 컷은 발생하지 않았으나 에어 버블이 발생하며 ACF 접착력도 600 gf/cm으로 현저히 떨어짐을 알 수 있다. 이와 같이 ACF 접착력이 650 gf/cm 미만인 경우에는 최종 완제품으로 판매가 된 후, 사용자가 전자기기를 사용하는 과정에서 전자기기를 떨어뜨린다거나 전자기기가 휘어지는 힘을 받으면, ACF 접합 부분이 떨어져서 접속 불량이 발생하는 문제가 발생할 수 있어 좋지 않다. On the other hand, in the printed circuit board of Comparative Example 1, the undercut did not occur, but air bubbles were generated, and the ACF adhesive force was also noticeably dropped to 600 gf / cm. In this case, if the ACF adhesive strength is less than 650 gf / cm, after the product is sold as a final product, if the user drops the electronic device in the process of using the electronic device or if the electronic device is bent, the ACF connection part may fall off, resulting in poor connection. This is not good because it can cause problems.

한편, 비교예 2의 인쇄회로기판은 에어 버블이 발생하지 않으며 ACF 접착력도 실시예 1~5와 유사한 정도로 나타났으나, 언더 컷이 발생하여 미세 회로로 회로가 패터닝이 될 때, 회로 동박과 절연체(폴리이미드)와의 접착력이 약해져 회로 동박이 분리가 되는 문제가 있음을 알 수 있다.On the other hand, the printed circuit board of Comparative Example 2 does not generate air bubbles and the ACF adhesive strength is similar to those of Examples 1 to 5, but when the undercut occurs and the circuit is patterned into a fine circuit, the circuit copper foil and the insulator It turns out that there exists a problem that adhesive force with (polyimide) becomes weak and a circuit copper foil isolate | separates.

Claims (9)

절연층을 포함하고 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판을 제조하는 단계;
상기 인쇄회로기판에서 이방성 도전 필름(ACF)의 접합부가 되는 절연층은 과망간산 에칭액을 사용하여 60 내지 95 ℃의 온도로 체류 시간 7 분 이하에서 디스미어하는 단계;
를 포함하는 인쇄회로기판의 표면 처리 방법.
Manufacturing a printed circuit board including an insulating layer and a fine circuit pattern formed thereon;
Desmearing the insulating layer to be a junction portion of the anisotropic conductive film (ACF) in the printed circuit board at a residence time of 7 minutes or less at a temperature of 60 to 95 ℃ using a permanganic acid etching solution;
Surface treatment method of a printed circuit board comprising a.
제1항에 있어서,
상기 디스미어 단계 이후에 이방성 도전 필름(ACF)의 접합부가 되는 절연층의 표면 조도(Rz)는 2 ㎛ 이하인 인쇄회로기판의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The surface roughness (Rz) of the insulating layer to be the junction of the anisotropic conductive film (ACF) after the desmear step is 2 ㎛ or less surface treatment method.
제1항에 있어서,
상기 디스미어 단계는 과망간산염 및 알카리 금속을 포함하는 에칭액을 사용하여 수행하는 인쇄회로기판의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The desmear step is a surface treatment method of a printed circuit board is performed using an etching solution containing permanganate and alkali metal.
제1항에 있어서,
상기 절연층은 폴리이미드, LCP, 테플론, 및 에폭시 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 인쇄회로기판의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The insulating layer is a surface treatment method of a printed circuit board comprising one or more selected from the group consisting of polyimide, LCP, Teflon, and epoxy resin.
제1항에 있어서,
상기 미세 회로 패턴이 형성된 인쇄회로기판은 도체로서 구리, 철, 및 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 인쇄회로기판의 표면 처리 방법.
The method of claim 1,
The printed circuit board on which the fine circuit pattern is formed includes at least one selected from the group consisting of copper, iron, and aluminum as conductors.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 표면 처리하여 제조되는 인쇄회로기판.A printed circuit board manufactured by surface treatment by the method according to any one of claims 1 to 5. 제6항에 있어서,
과망간산 에칭액을 사용하여 60 내지 95 ℃의 온도로 체류 시간 7 분 이하에서 디스미어하여 표면 처리된 절연층에 이방성 도전 필름(ACF)을 접합시킨 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
A printed circuit board in which an anisotropic conductive film (ACF) is bonded to a surface-treated insulating layer by desmearing at a temperature of 60 to 95 ° C. using a permanganic acid etching solution for 7 minutes or less.
제6항에 있어서,
에어 버블의 면적이 전체 기판 총면적의 30% 이하인 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
A printed circuit board having an air bubble area of 30% or less of the total substrate area.
제6항에 있어서,
ACF 필름과의 접착력이 650 gf/cm인 인쇄회로기판.
The method according to claim 6,
Printed circuit board with 650 gf / cm adhesion to ACF film.
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