KR20120138877A

KR20120138877A - 자외선 차단 화장료 조성물 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR20120138877A
Application number: KR1020110058286A
Authority: KR
Inventors: 유우영; 김학철; 김용선; 허준원; 심영배
Original assignee: 유우영
Priority date: 2011-06-16
Filing date: 2011-06-16
Publication date: 2012-12-27
Also published as: KR101261751B1

Abstract

본 발명은 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 유효성분으로 포함하는 화장료 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 상기 수화레시틴과 상기 지용성 화합물이 리피드 구조체를 형성함으로써, 자외선 차단효과를 갖는 지용성 화합물의 용해도 상승 및 자외선 차단지수의 향상에 탁월하게 우수한 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다.

Description

자외선 차단 화장료 조성물 및 그 제조방법{COSMETIC COMPOSITION FOR SUNSCREEN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 유효성분으로 포함하는 화장료 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다.

자외선 중 UVA 와 UVB는 피부에 직접 도달하여 홍반, 흑화, 피부암 등을 유발하고, 피부노화의 큰 원인이 되고 있다. 사람의 피부는 이러한 자외선에 노출되어 있는 경우가 대부분인 바, 자외선으로부터 피부를 보호하는 자외선 차단제의 개발이 활발히 이루어지고 있다.

높은 자외선 차단지수를 갖는 자외선 차단제의 개발에 있어, 자외선 차단의 효과가 있는 지용성 화합물의 수준을 높게 유지시키고 화장료에 고루 분산시키는 것이 중요하다. 그러나 자외선 차단 효과를 나타내는 지용성 화합물은 화장료에 사용되는 보습제, 식물성오일, 글리세라이드계 오일 등과 상용성이 좋지 않다. 따라서 에멀젼에 적용시 결정으로 석출되고, 석출된 결정이 유화안정도를 떨어뜨려 화장료에 적용함에 있어 제약이 매우 큰 문제점을 가지고 있다.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결함으로써, 자외선 차단 효과를 나타내는 지용성 화합물의 용해도를 상승시키고, 자외선 차단 지수가 우수한 화장료 조성물 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 유효성분으로 포함하는 화장료 조성물을 제공한다.

또한 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 함유한 용액을 75~95℃로 가열하고 믹서로 교반하는 단계를 포함하고, 상기 단계에서 지용성 화합물이 리피드 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 화장료 조성물의 제조방법을 제공한다.

본 발명의 화장료 조성물은 자외선 차단 효과를 나타내는 지용성 화합물의 용해도를 상승시키고, 자외선 차단지수를 향상시키는데 탁월한 효능을 보인다.

또한 본 발명의 제조방법은 상기 지용성 화합물이 리피드(Lipid) 구조체를 형성하는데 유리한 효과를 가진다.

도 1 의 A는 실시예 1 의 석출 여부를 촬영한 것이고 B는 비교예1 의 석출 여부를 촬영한 것이다.
도 2 는 수화레시틴을 함유한 조성물과 미함유 조성물의 DSC 그래프이다.
도 3은 비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진(Bis ? Ethylhexyloxy phenolmethoxyphenyltriazine)을 수화레시틴을 이용하여 리피드화 한 후 이를 광학현미경으로 촬영한 것이다.

본 발명은 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 유효성분으로 포함하는 화장료 조성물을 제공한다.

또한 본 발명은 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 함유한 용액을 75~95℃로 가열하고 믹서로 교반하는 단계를 포함하는 화장료 조성물의 제조방법을 제공한다.

아울러 상기 조성물의 제조방법은 자외선 차단 효과를 나타내는 지용성 화합물이 리피드 구조체를 형성하는 것에 특징이 있다.

이하, 본 발명을 자세히 설명한다.

자외선 차단 화장료 조성물

본 발명의 화장료 조성물은 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물을 포함한다.

상기 지용성 화합물은 비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진(Bis Ethylhexyloxy phenolmethoxyphenyltriazine, 이하 "BEMT"라고 칭함), 옥틸메톡시신나메이트, 옥틸살리실레이트, 옥토크릴렌, 부틸메톡시디벤조일메탄, 옥시벤존, 옥틸트리아존, 멘틸안트라닐레이트 및 3,4-메틸벤질리덴 켐퍼 중에서 선택되는 1종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 지용성 화합물은 BEMT를 포함하는 것이 가장 바람직하다. 상기 BEMT는 수화레시틴과의 결합으로 리피드 구조체를 형성함으로써, 용해도가 상승하고, 높은 자외선 차단지수를 가질 수 있다.

상기 BEMT는 헤테로사이클릭 (Heterocyclic) 화합물로써, 구체적으로는 하기 [화학식 1]로 표시된다. 상기 BEMT는 벤조페논, 벤조트리아졸, 하이드록시페닐 트리아진으로 구성되어있다.

[화학식 1]

상기 BEMT분자는 트리아진을 중심으로 완벽히 교차결합 되어있어 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는바, UVA 영역과 UVB 영역을 동시에 흡수함으로써 자외선 차단 능력이 우수한 화장료 조성물에 적용될 수 있다.

본 발명의 화장료 조성물에서, 유효성분으로서 지용성 화합물의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 0.1 ~ 10중량%, 바람직하게는 1 내지 3 중량% 범위 내에서 제형에 따라 적의하게 배합하여 사용할 수 있다. 만일 함량이 0.1중량% 미만인 경우에는 뚜렷한 효과가 없는 문제점이 있고, 10중량% 초과인 경우에는 함유량의 증가에 따른 뚜렷한 효과의 증가가 나타나지 않는다.

또한 본 발명의 화장료 조성물은 수화레시틴을 포함한다.

상기 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물과 함께 함유되는 상기 수화레시틴은 알코올, 에테르에 용해되며 물과는 에멀젼을 만든다. 상기 수화레시틴은 담황색의 투명 또는 반투명한 점성액으로 거의 약한 특이냄새가 있다. 수화레시틴은 세포막의 구성성분이기 때문에 생체에 적합성이 매우 뛰어나다는 점에서 다른 화장품 원료에는 없는 유용성이 있다. 또 수화레시틴은 동일 분자 중에 두 가닥의 알킬기와 물에 대한 친화성이 높은 극성기를 가진 양친매 구조이기 때문에 계면활성작용이 있다.

그러나 보통의 계면활성제가 물에 용해되어 미셀을 형성하는데 반해 수화레시틴의 경우에는 물에는 용해되지 않지만 다량의 물로 희석하면 2분자 막구조를 가진 소포체로서 분산되는 특성을 가지고 있다.

따라서 수화레시틴 리포좀을 이용함으로써 수용성 성분과 유용성성분을 동일 소포체 내에 넣을 수 있다. 상기 수화레시틴은 자외선 차단효과가 있는 지용성 화합물의 유화 안정도를 높여주며, 바람직하게는 BEMT의 분산성을 극대화 할 수 있다.

또한 본 발명의 화장료 조성물에서 수화레시틴의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 10 중량%인 것이 바람직하다. 만일 함량이 0.1중량% 미만인 경우에는 자외선 차단효과를 기대할 수 없는 문제점이 있고, 10중량%를 초과하는 경우에는 자외선 차단의 뚜렷한 상승효과를 얻을 수 없다.

본 발명의 화장료 조성물에 포함되는 성분은 상기 유효성분 이외에 조성물에 통상적으로 이용되는 성분들을 포함하며, 예컨대 항산화제, 안정화제, 용해화제, 비타민, 안료 및 향료와 같은 통상적인 보조제, 그리고 담체를 포함한다. 그리고 그 이외의 보습제, 유화제, 유화안정제, 피부보호제, 보존제, 점도조절제 등의 첨가제는 조성물 총 중량에 대하여 80~90 중량% 일 수 있다.

상기 비타민이 수용성 비타민으로서는 화장품에 배합 가능한 것이라면 어떠한 것이라도 되지만, 바람직하게는 비타민 B1, 비타민 B2, 비타민 B6, 피리독신, 염산피리독신, 비타민 B12, 판토텐산, 니코틴산, 니코틴산아미드, 엽산, 비타민 C, 비타민 H 등을 들 수 있으며, 그들의 염(티아민염산염, 아스코르빈산나트륨염 등)이나 유도체(아스코르빈산-2-인산나트륨염, 아스코르 빈산-2-인산마그네슘염 등)도 본 발명에서 사용할 수 있는 수용성 비타민에 포함된다. 수용성 비타민은 미생물 변환법, 미생물의 배양물로부터의 정제법, 효소법 또는 화학 합성법 등의 통상의 방법에 의해 수득할 수 있다.

또한 유용성 비타민으로서는 화장품에 배합 가능한 것이라면 어떠한 것이라도 되지만, 바람직하게는 비타민 A, 카로틴, 비타민 D2, 비타민 D3, 비타민 E(d1-α토코페롤, d-α토코페롤, d-δ토코페롤) 등을 들 수 있으며, 그들의 유도체(팔미틴산아스코르빈, 스테아르산아스코르빈, 디팔미틴산아스코르빈, 아세트산dl-α토코페롤, 니코틴산dl-α토코페롤비타민 E, DL-판토테닐알코올, D-판토테닐알코올, 판토테닐에틸에테르 등) 등도 본 발명에서 사용되는 유용성 비타민에 포함된다. 유용성비타민은 미생물 변환법, 미생물의 배양물로부터의 정제법, 효소 또는 화학 합성법 등의 통상의 방법에 의해 취득할 수 있다.

상기 보습제로서는 수용성 저분자 보습제, 지용성 분자 보습제, 수용성 고분자, 지용성 고분자 등을 들 수 있다. 수용성 저분자 보습제로서는 세린, 글루타민, 솔비톨, 만니톨, 피롤리돈-카르복실산나트륨, 글리세린, 프로필렌글리 콜,1,3-부틸렌글리콜, 에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜(중합도 n = 2 이상), 폴리프로필렌글리콜(중합도 n = 2 이상), 폴리글리세린(중합도 n = 2 이상), 락트산, 락트산염 등을 들 수 있다. 지용성 저분자 보습제로서는 콜레스테롤, 콜레스테롤에스테르 등을 들 수 있다. 수용성 고분자로서는 카르복시비닐폴리머, 폴리아스파라긴산염, 트라가칸트, 크산탄검, 메틸셀룰로오스, 히드록시메틸 셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 수용성 키틴, 키토산, 덱스트린 등을 들 수 있다.

지용성 고분자로서는 폴리비닐피롤리돈ㆍ에이코센 공중합체, 폴리비닐 피롤리돈ㆍ헥사데센 공중합체, 니트로셀룰로오스, 덱스트린지방산에스테르, 고분자 실리콘 등을 들 수 있다.

본 발명의 화장료 조성물은 당업계에서 통상적으로 제조되는 어떠한 제형에도 제조될 수 있으며 수성 또는 유성 용액제, 현탁액, 유탁액, 페이스트, 크림제 또는 수성겔제 또는 유성겔제 등으로 제형화될 수 있으나, 이에 한정된 것을 아니다. 보다 상세하게는 선크림, 유연 화장수, 수렴 화장수, 영양 화장수, 영양 크림, 마사지 크림, 에센스, 아이 크림, 책, 스프레이, 파우더, 선로션, 선스프레이, 선젤, 비비크림, 컬러로션, 메이크업베이스 제형으로 제조될 수 있다.

본 발명의 제형이 페이스트, 크림 또는 겔인 경우에는 담체 성분으로서 동물성유, 식물성유, 왁스, 파라핀, 전분, 트라칸트, 셀룰로오스 유도체, 폴리에틸렌 글리콜, 실리콘, 벤토나이트, 실리카, 탈크 또는 산화아연 등이 이용될 수 있다.

본 발명의 제형이 파우더 또는 스프레이인 경우에는 담체 성분으로서 락토스, 탈크, 실리카, 알루미늄 히드록시드, 칼슘 실리케이트 또는 폴리아미드 파우더가 이용될 수 있고, 특히 스프레이인 경우에는 추가적으로 클로로 플루오로히드로카본, 프로판/부탄 또는 디메틸 에테르와 같은 추진체를 포함할 수 있다.

본 발명의 제형이 용액 또는 유탁액인 경우에는 담체 성분으로서 용매, 용해화제 또는 유탁화제가 이용되고, 예컨대 물, 에탄올, 이소프로판올, 에틸 카보네이트, 에틸 아세테이트, 벤질 알코올, 벤질 벤조에이트, 프로필렌 글리콜, 1,3-부틸 글리콜 오일, 글리세롤 지방족 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜 또는 소르비탄의 지방산 에스테르가 있다.

본 발명의 제형이 현탁액인 경우에는 담체 성분으로서 물, 에탄올 또는 프로필렌 글리콜과 같은 액상의 희석제, 에톡실화 이소스테아릴 알코올, 폴리옥시에틸렌 소르비톨 에스테르 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 에스테르와 같은 현탁제,미소결정성 셀룰로오스, 알루미늄 메타히드록시드, 벤토나이트, 아가 또는 트라칸트 등이 이용될 수 있다.

자외선 차단 화장료 조성물의 제조방법

본 발명의 화장료 조성물의 제조방법은 자외선 차단 효과를 갖는 지용성화합물 및 수화레시틴을 함유한 용액을 75~95℃로 가열하고 믹서로 교반하는 단계를 포함하고, 상기 단계에서 지용성 화합물이 리피드 구조체를 형성하는 것을 특징으로 한다.

상기 리피드 구조체는 상기 수화레시틴이 상기 유화 자외선 차단제 사이사이에 위치하는 구조를 의미한다. 즉, 상기 수화레시틴의 포스파티딜 에탄올아민, 포스파티딜 콜린, 포스파티딜 세린 및 N-아실 포스파티딜 에탄올 아민이 난용물질인 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐트리아진의 말단기와의 결합을 통해 유동성 있는 지질구조체를 형성한다.

본 발명의 제조방법에 의하면, 290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물과 수화레시틴과의 결합이 리피드 구조체를 형성함으로써, 자외선 차단 효과를 갖는 지용성 화합물의 용해도가 상승하고, 자외선 차단지수가 향상되는 효과가 있다. 아울러 상기 지용성 화합물의 유화안정도를 높여주며, 바람직하게는 BEMT의 분산성을 극대화하는 화장료 조성물이 제공된다.

이하 본 발명을 실시예 및 비교예를 들어 본 발명의 구성 및 효과를 보다 구체적으로 설명한다. 그러나 이들 실시예 및 비교예는 본 발명에 대한 이해를 돕기 위해 예시의 목적으로만 제공되는 것을 보일 뿐 본 발명의 범주 및 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.

< 실시예 및 비교예 >

< 실시예 1> BEMT 과 수화레시틴 2% 함유 자외선 차단제 제조

하기 표1에 기재된 것과 같은 성분과 함량으로 구성된 실시예1의 자외선 차단용 화장료 조성물을 제조하였다. A상을 80℃까지 가열하고 Homo Mixer를 3000rpm으로 10분간 교반 후 A상과 B상을 각각 80℃까지 가열하고 B상을 A상에 넣고 Homo Mixer를 3000rpm으로 5분간 교반하였다. 다음 C상을 투입하고 Homo Mixer를 3000rpm으로 3분간 교반하였다. 45℃ 냉각후 D상을 투입하고 Homo Mixer를 1500rpm으로 1분간 교반하였다.

상	원료명	함량(%)
A	증류수	79
	비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진	2.0
	수화레시틴	2.0

B	에틸헥실메톡시신아메이트 (Ethylhexyl Methoxycinnamate)	5
	산화티타늄(TiO2)	1.5
	하이드로제네이티드 폴리이소부텐 (Hydrogenated polyisobutene)	5
	PEG-40 스테아레이트(PEG-40 Stearate)	1.5
	스테아르산(Stearic acid)	1
	소르비탄 스테아레이트(Sorbitan stearate)	1

C	소듐아크릴로일디메틸타우레이트코폴리머 (Sodium acrylate/Sodium acryloyldimethyl taurate copolymer), 이소헥사테칸(Isohexadecane), 폴리소르베이트 80(Polysorbate 80)	1

D	메틸파라벤(Methylparaben), 에틸파라벤(Ethylparaben), 프로필파라벤(Propylparaben), 부틸파라벤(Butylparaben), 이소부틸파라벤(Isobutylparaben), 페녹시에탄올(Phenoxyethanol)	1

< 실시예 2> BEMT 과 수화레시틴 2% 함유 자외선 차단제 제조

하기 표2에 기재된 바와 같이, B상에 이소아밀 p-메톡시신나메이트(Isoamyl p-methoxycinnamate)를 추가하고, 각 원료의 함량을 조절하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.

상	원료명	함량(%)
A	증류수	75.5
	비스-에칠헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진	2.0
	수화레시틴	2.0

B	이소아밀 p-메톡시신나메이트(Isoamyl p-methoxycinnamate)	8
	디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 (Diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate)	2
	하이드로제네이티드 폴리이소부텐(Hydrogenated polyisobutene)	5
	PEG-40 스테아레이트(PEG-40 Stearate)	1.5
	스테아르산(Stearic acid)	1
	소르비탄 스테아레이트(Sorbitan stearate)	1

C	소듐아크릴로일디메틸타우레이트코폴리머 (Sodium acrylate/Sodium acryloyldimethyl taurate copolymer), 이소헥사테칸(Isohexadecane), 폴리소르베이트 80(Polysorbate 80)	1

D	메틸파라벤(Methylparaben), 에틸파라벤(Ethylparaben), 프로필파라벤(Propylparaben), 부틸파라벤(Butylparaben), 이소부틸파라벤(Isobutylparaben), 페녹시에탄올(Phenoxyethanol)	1

< 비교예 1> BEMT 2% 함유 자외선 차단제 제조

하기 표3에 기재된 것과 같은 성분과 함량으로 구성된 비교예1의 자외선 차단용 화장료 조성물을 제조하였다.

A상과 B상을 각각 80℃까지 가열하고 B상을 A상에 넣고 Homo Mixer를 3000rpm으로 5분간 교반하였다. 다음 C상을 투입하고 Homo Mixer를 3000rpm으로 3분간 교반하였다. 45℃ 냉각후 D상을 투입하고 Homo Mixer를 1500rpm으로 1분간 교반하였다.

상	원료명	함량(%)
A	증류수	81

B	비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진	2
	에틸헥실메톡시신아메이트 (Ethylhexyl Methoxycinnamate)	5
	산화티타늄(TiO2)	1.5
	하이드로제네이티드 폴리이소부텐 (Hydrogenated polyisobutene)	5
	PEG-40 스테아레이트(PEG-40 Stearate)	1.5
	스테아르산(Stearic acid)	1
	소르비탄 스테아레이트(Sorbitan stearate)	1

C	소듐아크릴로일디메틸타우레이트코폴리머 (Sodium acrylate/Sodium acryloyldimethyl taurate copolymer), 이소헥사테칸(Isohexadecane), 폴리소르베이트 80(Polysorbate 80)	1

D	메틸파라벤(Methylparaben), 에틸파라벤(Ethylparaben), 프로필파라벤(Propylparaben), 부틸파라벤(Butylparaben), 이소부틸파라벤(Isobutylparaben), 녹시에탄올(Phenoxyethanol)	1

< 비교예 2> BEMT 2% 함유 자외선 차단제 제조

하기 표 4에 기재된 바와 같이, B상에 이소아밀 p-메톡시신나메이트(Isoamyl p-methoxycinnamate)를 추가하고, 각 물질의 함량을 조절하는 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.

상	원료명	함량(%)
A	증류수	77.5

B	비스-에칠헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진	2
	이소아밀 p-메톡시신나메이트(Isoamyl p-methoxycinnamate)	8
	디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트 (Diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate)	2
	하이드로제네이티드 폴리이소부텐(Hydrogenated polyisobutene)	5
	PEG-40 스테아레이트(PEG-40 Stearate)	1.5
	스테아르산(Stearic acid)	1
	소르비탄 스테아레이트(Sorbitan stearate)	1

C	소듐아크릴로일디메틸타우레이트코폴리머 (Sodium acrylate/Sodium acryloyldimethyl taurate copolymer), 이소헥사테칸(Isohexadecane), 폴리소르베이트 80(Polysorbate 80)	1

D	메틸파라벤(Methylparaben), 에틸파라벤(Ethylparaben), 프로필파라벤(Propylparaben), 부틸파라벤(Butylparaben), 이소부틸파라벤(Isobutylparaben), 페녹시에탄올(Phenoxyethanol)	1

< 비교예3 >

시중에서 판매되고 있는 자외선 차단제품으로 실험을 하였다. 사용된 제품은 더페이스샵社의 "내추럴선 AQ 슈퍼화이트선크림 SPF50+,PA+++"이고, 이 때 포함된 성분은 스트로브잣나무껍질추출물, 에칠헥실메톡시신나메이트, 에칠헥실 살리실레이트, 티타늄옥사이드, 부틸메톡시디벤조일메탄, 4-메칠벤질리덴캠퍼, 이소 아밀p-메톡시신나메이트, 상백피추출물, 감초추출물, 알로에잎추출물, 종대황 뿌리/줄기/가지추출물, 황련추출물, 아르간트리커넬추출물, 씨케일추출물, 메칠 파라벤, 포타슘하이드록사이드이다.

< 실험예 1> BEMT 의 용해성 평가

실시예 1과 비교예 1 의 방법으로 제조된 BEMT의 용해성을 평가하였다. 현미경을 400배율(a), 1000배율(b)로 하여 촬영한 것 결과 도 1에 나타난 바와 같이, 수화레시틴을 함유한 자외선 차단제(A)가 BEMT만을 함유한 자외선 차단제(B)보다 석출이 덜 된 것으로 보아 BEMT는 수화레시틴과 함께 함유하는 경우 용해성이 더 좋은 것을 확인할 수 있었다.

< 실험예 2> 자외선 차단 지수 비교

실시예 1,2와 비교예1,2의 방법으로 제조된 BEMT함유 조성물의 자외선 차단지수를 in-vitro 테스트하였다. 그 결과, 표 5에 나타난 바와 같이, 수화레시틴을 함유한 자외선 차단제(실시예1,2)가 BEMT만을 함유한 자외선 차단제(비교예1,2)보다 더 높은 자외선 차단지수(SPF : Sun Protection Factor) 및 PFA(Protection Factor of UVA)를 가지는 것을 알 수 있었다.

비교예 3은 이미 시판되고 있는 상용화 제품으로 실험하였다.

구분	제형적용샘플		결과
구분	주성분	함량	SPF	PFA
실시예 1	비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 에틸헥실메톡시신아메이트 산화티타늄	2.00% 5.00% 1.50%	35	14
실시예 2	비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 이소아밀 p-메톡시신아메이트 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트	2.00% 2.00% 8.00%	38	12
비교예1	비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 에틸헥실메톡시신아메이트 산화티타늄	2.00% 5.00% 1.50%	26	9
비교예2	비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 이소아밀 p-메톡시신아메이트 디에틸아미노하이드록시벤조일헥실벤조에이트	2.00% 2.00% 8.00%	26	11
비교예 3	더페이스샵社 내추럴선AQ슈퍼화이트선크림 (SPF50+,PA+++)	Unknown	29	11

실시예, 비교예의 자외선 차단지수 비교

< 실험예 3> BEMT 의 DSC 측정

본 발명의 BEMT 함유 조성물의 상전이 온도를 측정하기 위해 DSC 그래프를 분석하였다. 그 결과, 도2에 나타난 바와 같이, BEMT가 액상으로 상전이하는 온도는 79.62℃임에 반하여, 수화레시틴을 함유하는 BEMT가 액상으로 상전이하는 온도는 71.31℃ 인바, 상전이 온도의 현저한 차이가 발생함을 확인 할 수 있었다.

즉, BEMT 함유 조성물의 제조 공정에서 BEMT의 용해성을 높이기 위하여 공정 온도는 약 80℃ 전후로 유지되는데, BEMT은 상기 공정 온도와 상전이 온도가 비슷하여 결정으로 석출되기 쉬운 반면, 본 발명품의 BEMT 함유 조성물의 경우 상전이 온도가 낮아져 용해성이 매우 우수해진다는 사실을 알 수 있었다.

< 실험예 4> 리피드 구조체 형성여부의 관찰

도 3의 (a)는 상온(25℃)에서 수상 분산 된지 1일 후를 나타낸 것이고, (b)는 상온(25℃)에서 수상 분산 된지 90일 후를 나타낸 것이다. 이는 수화레시틴이 BEMT의 사이사이에 위치하면 조밀 쌓임구조(Close-packed structure)를 형성하고 레시틴의 포스파티딜에탄올 아민, 포스파티딜 콜린, 포스파티딜 세린 및 N-아실 포스파티딜 에탄올아민이 난용물질의 말단기와 결합을 통해 Lipid구조체를 형성하여 수상에 분산하여도 경시변화에 따른 BEMT가 재결정 및 응집현상을 초래하지 않고 안정하게 되는 것을 보여주었다.

Claims

290nm ~ 400nm에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 유효성분으로 포함하는 화장료 조성물.
제 1항에 있어서,
상기 지용성 화합물은 비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진, 옥틸메톡시신나메이트, 옥틸살리실레이트, 옥토크릴렌, 부틸메톡시디벤조일메탄, 옥시벤존, 옥틸트리아존, 멘틸안트라닐레이트 및 3,4-메틸벤질리덴 켐퍼 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물.
제 1항에 있어서,
상기 수화레시틴은 상기 화장료 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 ~ 10 중량%인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물.
제 1항에 있어서,
상기 지용성 화합물은 상기 화장료 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 ~ 10중량%인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물.
290nm ~ 400nm 에서 흡수피크를 갖는 지용성 화합물 및 수화레시틴을 함유한 용액을 75~95℃로 가열하고 믹서로 교반하는 단계를 포함하고,
상기 단계에서 지용성 화합물이 리피드 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 화장료 조성물의 제조방법.
제 5항에 있어서,
상기 지용성 화합물은 비스-에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진, 옥틸메톡시신나메이트, 옥틸살리실레이트, 옥토크릴렌, 부틸메톡시디벤조일메탄, 옥시벤존, 옥틸트리아존, 멘틸안트라닐레이트 및 3,4-메틸벤질리덴 켐퍼 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물의 제조방법.
제 5항에 있어서
상기 수화레시틴은 상기 화장료 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 ~ 10 중량%인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물의 제조방법.
제 5항에 있어서,
상기 지용성 화합물은 상기 화장료 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 ~ 10중량%인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물의 제조방법.