KR20120126076A - 디지털 병렬 주파수 형광측정을 위한 시스템 및 방법 - Google Patents
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Abstract
개선된 형광 감쇠 시간 측정을 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 디지털로 펄싱된 여기 신호보다 약간 더 빠른 속도로 광 검출기가 샘플링되는 디지털 헤테로다인 기술이 개시된다. 그 결과 교차 상관 주파수가 예를 들어 전계 프로그래밍가능한 게이트 어레이와 같은 저가의 전자회로에 의해 판독될 수 있을 만큼 충분히 낮다. 신호에 있는 위상 정보는 대응하는 광자 검출과 상관을 제공한다.
Description
본 발명은 분석 화학 분야에 관한 것이며, 보다 상세하게는 형광 감쇠 시간의 측정 및 주파수 영역의 형광측정에 관한 것이다.
형광 감쇠 시간의 측정
형광(fluorescence)은 용액(또는 고체 상태나 기체 상태)에 있는 분자들이 복사선을 흡수한 후 방출하는 광이다. 매우 짧은 지속시간을 가진 광의 짧은 펄스로 여기(excitation)될 때, 샘플에 의해 방출되는 형광은 다음 관계식 [1]로 기술된다:
여기서, I0는 시간 t=0에서 형광의 강도이고, τ는 그 강도가 원래의 값의 e-1 값으로 감소하는데 걸리는 시간이다. 값(τ)은 "형광 감쇠 시간(fluorescence decay time)"이라 불린다.
다성분 환경에서, 형광은 다음 관계식 [2]로 기술된다:
여기서, 전지수 인자(pre-exponential factor)라고 불리는 계수{αi(λi)}와 감소 시간(τi)은 혼합물의 ｉ 성분의 형광 감쇠를 특징짓는다. 이들 파라미터는 다음 식 [3]과 같이 혼합물의 ｉ 성분에서 방출되는 총 형광의 일정 분수(fraction)로 정의된 부분 기여에 관련될 수 있다:
특정 측정 상황에서, 형광의 감쇠 시간은 비지수 관계(non-exponential relatio㎱hip)에 의해 가장 잘 기술된다. 임의의 실험 케이스에서, 형광 감쇠 시간을 측정하는 디바이스는 혼합물에 있는 각 성분의 형광 감쇠 시간을 기술하는 값(αi, τi)과 임의의 다른 파라미터를 제공한다.
형광 감쇠 시간의 주파수 영역 및 시간 영역의 측정. 형광 감쇠 시간을 측정하기 위한 도구는 2개의 그룹, 즉 시간 영역 기술과 주파수 영역 기술 중 하나에 속하는 것으로 넓게 분류된다.
시간 영역 기술은 시간 상관된 단일 광자 카운팅(time correlated single photon counting; TCSPC)을 사용한다. 형광 감쇠 시간의 시간 영역 측정을 사용하는 예시적인 장치는 미국 특허 제6,809,816호에 기술된다. 통상적으로, 공통 형광 수명보다 약간 더 긴 기간을 가지고 반복되는 짧은 펄스를 방출하는 레이저가 여기 광원(excitation light source)으로 사용되지만, 다른 광원(LED, 싱크로트론 복사선, 펄스 램프)이 또한 사용될 수 있다. 각 펄스의 도달 시 고정밀도 타이머가 트리거되며, 이 타이머는 여기 펄스의 도달과 광자의 방출 사이에 얼마나 많은 시간이 경과했는지를 기록한다. 이 기술의 정밀도는 클록의 정밀도로 결정된다. 시간 대 진폭 컨버터(time-to-amplitude converter: TAC) 또는 ㎓ 디지털 클록이 사용될 수 있다.
TCSPC 디바이스에 의해 얻어지는 수명 시간 정보를 해석하기 위하여, 이러한 도달 시간의 히스토그램이 형성된다. 단일 지수 감쇠를 위하여, 식 [1]로 한정된 곡선과 유사한 곡선이 수집된다. 감쇠 시간(τ)은 실험 데이터를 이론적인 감쇠 모델에 끼워 맞추기 위하여 최소화 기술을 사용하여 결정된다. 다중 지수 감쇠를 위하여, 식 [2]로 한정된 곡선과 유사한 곡선이 이 도구에 의해 형성된다. 성분들의 감쇠 시간은 실험 데이터에 이론적인 감쇠 모델을 적합화(fit)하기 위하여 최소화 기술을 사용하여 결정된다.
현미경 관찰 응용을 위하여, TCSPC 획득 전자회로는 스캐닝 디바이스(통상, 갈바노-제어된 미러 또는 피에조-제어된 스테이지)에 동기화되며, 히스토그램 획득이 이미지의 각 픽셀에 대해 재시작된다. 주파수 영역 기술은 고가의 ㎓ 전자회로와 TAC를 사용하는 것을 회피하기 위하여 개발되었다. 이는 여기 광원과 광 검출기의 변조를 요구한다. 주파수 영역 분광기에서의 여기 및 방출 광의 개요. 방출 광(102)은 도 1에 도시된 바와 같이 여기 광(104)에 대하여 위상 이동되고 복조된다. 변조된 여기는 여기된 형광단의 수명에 종속하는 위상과 변조량을 가지는 변조된 형광을 초래한다.
주파수 영역 기술에 사용되는 도구는 다중 주파수 위상 형광계(MPF: multifrequency phase fluorometer) 또는 간단히 주파수 영역 형광계라 불린다. 형광의 특성 감쇠 시간을 결정하기 위하여 MPF를 사용할 때, 여기 광원은 주파수(ω)에서 변조된다. 위상 이동(φ)과 변조율(m)이 측정된다. 이러한 측정은 일반적으로 단일 지수 감쇠를 위한 2번 또는 3번의 반복으로부터 다중 지수 감쇠를 위한 20번 내지 25번 반복에 이르기는 범위의 변조 주파수(ω)의 여러 상이한 값에서 반복된다. 감쇠 시간(τi)은 경험 데이터를 적합화하기 위하여 최소화 기술을 사용하여 결정된다.
제1 현대 주파수 영역 도구에서, 광원은 주파수(ω)에서 변조되고, 광 검출기는 주파수(ω+Δω)에서 변조된다. 2개의 주파수는 위상 고정된 주파수 동기화기에 의해 제공된다. 이 접근법은 또한 "헤테로다인(heterodyning)"이라고도 알려져 있다. 출력 신호는 합(2ω)과 차(Δω)의 주파수에 있는 성분들을 포함한다. 일반적으로 1㎐ 내지 20㎑ 범위에 있는 "교차 상관 주파수(cross-correlation frequency)"라고 언급되는 낮은 신호 성분(Δω)dms 형광의 복조와 위상 이동을 결정하는데 사용된다.
Δω 주파수의 위상과 변조로부터 형광의 위상과 변조가 기준 수명(reference lifetime)의 것에 대하여 계산될 수 있다. 수명은 하기 식 [4] 및 [5]와 같이 이 위상과 변조로부터 추론된다:
다중 주파수 위상 형광계
조기(early) 주파수 영역 도구는 3개의 고정된 주파수에서 변조를 특징으로 하며 최고 높은 것은 30㎒이다. 1나노초 정도의 단일 지수 감쇠 시간은 디바이스에 의해 측정될 수 있는 반면, 복소 감소는 해결될 수 없다.
제1 다중 주파수 위상 및 변조 형광계에서, 2개의 위상 고정된 동기화기는 광원(주파수 ω)과 광 검출기(주파수 ω+Δω)에 각각 변조를 제공한다. 교차 상관 주파수(Δω)에서 출력 신호가 측정되고 위상 이동과 복조를 결정하는데 사용된다. 이 도구에서, 오퍼레이터는 1㎒ 내지 300㎒ 범위 내에 있는 수와 변조 주파수를 선택한다. 위상 이동과 복조는 순차 방식으로 각 주파수에 대해 측정된다. 이 도구의 실시예는 예를 들어 미국 특허 제4,840,485호와 미국 특허 제5,212,386호에 기술되어 있다.
여기 광의 변조 주파수는 여기된 상태의 감쇠 속도와 일치하는 범위에 있어야 한다. 예를 들어, 하기 수식 [5']와 같이, 여기된 상태의 수명이 약 1㎱라면, 최상의 변조 주파수는 약 160㎒이어야 한다:
정밀도 있게 초고주파수의 진폭과 위상을 측정하기 위하여, 헤테로다인 원리를 사용하여 고주파수를 먼저 저주파수로 변환하는 방법이 사용되었다. 저 주파수에서 최종 파형을 측정하는 것은 정밀한 디지털 방법을 사용하는 것에 의해 달성된다. 헤테로다인은 지금까지 광 변조 주파수보다 약간 다른 주파수에서 검출기의 이득을 변조하는 것에 의해 달성되었다. 예를 들어, 샘플이 150㎒에서 변조된 광으로 여기된다면, 검출기의 이득은 150㎒와 (예를 들어) 1000㎐만큼 다른 주파수로 변조된다. 헤테로다인으로 인해, 검출기에 의해 생성된 전류는 2개의 주파수들의 합과 차, 즉 300,001,000㎐의 신호와 1000㎐의 차의 신호를 포함한다. 저역 통과 필터는 고주파수 성분으로부터 1000㎐의 저 주파수를 분리한다. 저주파수 전류는 기간마다 다수회, 예를 들어 128회 샘플링된다. 1000㎐에서 주파수의 위상 이동과 변조는 고속 푸리에 변환(FFT) 기술을 사용하여 최종 샘플 파형으로부터 얻어진다. 푸리에 변환은 또한 더 높은 주파수, 즉 2000㎐, 3000㎐ 및 등의 주파수 내지 최대 기간 내 포인트의 절반, 즉 최대 64㎑를 포함한다. 미국 특허 제5,212,386호는 이러한 다중 주파수 시스템의 일례를 기술한다.
이 접근법은 일반적으로 상업적인 다중 주파수 위상과 변조 형광계(multifrequency phase and modulation fluorometer; MPF)에 사용된다. 예로는 일리노이주의 샘페인시에 소재한 ISS사에서 시판하는 K2 시스템 및 크로노스(Chronos) 시스템이 있다. 이들 도구는 직접 변조된 포켈 셀(Pockels cell) 또는 레이저 다이오드 및 발광 다이오드와 함께 크세논 아크 램프와 연속파(CW) 레이저를 사용한다. 현대적인 MPF는 광 검출기의 이득을 변조하는 동기화기와 위상 고정된다면 모드 고정된 레이저와 싱크로트론 복사선과 같은 펄스 소스(pulsed source)와 함께 또한 동작할 수 있다.
1989년에 "평행 다중 주파수" 도구는 미국 특허 제4,937,457호 및 미국 특허 제5,257,202호에 기술되었다. 기본 주파수(ω)에서 펄스 소스를 사용하는 도구에서, 위상 이동 및 변조 데이터는 베이스 고조파(ω) 및 고조파(2ω, 3ω, 등) 내지 최대 약 80개의 고조파에서 수집된다.
예를 들어, 샘플에 도달하는 광이 150㎒에서 변조된다면, 이는 300㎒, 450㎒, 600㎒ 등의 고조파를 포함한다. 이득 변조된 검출기와 혼합한 후에, 1000㎐, 2000㎐ 및 3000㎐ 등의 저 주파수 신호는 모든 고조파를 나타낸다. 푸리에 변환 동작 후에 모든 고조파는 병렬로 측정될 수 있다.
모든 고조파 주파수가 병렬로 측정되더라도, 병렬 다중 주파수 도구에서 검출기의 이득을 변조하여 얻어진 혼합 구조는 매우 비효율적이다. 사실, 검출기 이득을 펄싱하는 동작은 매우 짧은 기간 동안 검출기를 온(ON) 상태로 전환하는 것과 동등하며, 이는 검출기 효율의 상당한 감소를 초래한다. 미국 특허 제5,257,202호는 이 효과를 기술하며, 약 16개의 주파수를 병렬로 제공하며 이 기간의 1/16 동안 검출기를 온으로 유지할 것을 제안한다. 이것은 데이터 획득 속도를 최대화하고 검출기를 오프 상태로 전환한 것으로부터 발생하는 손실을 최소화하는 최적의 듀티 사이클이라는 것이 확인되었다. 이 구조는 소위 병렬 주파수 영역 수명 도구에서 이후로 줄곧 사용되었다.
병렬 획득 방법의 주요 잇점은 데이터 수집을 위한 전자 회로들이 항상 온 상태에 있어 하나의 무선 주파수에서부터 다른 무선 주파수로 변화하는 동안 드리프트가 없다는 것이다. 예를 들어, 단일 주파수에서 데이터를 수집하는 것은 주파수가 스위칭될 때 전자회로가 안정화하는 데까지 대기하는 것으로 인해 긴 데드 시간(dead time)을 가진다. 가열로 인한 전자회로의 드리프트는 고주파수에서 더 크다. 이 데드 시간은 각 주파수에서 측정마다 1-2초 정도일 수 있다. 약 16개의 서로 다른 주파수들이 획득되고 이 드리프트를 보상하는 기준과 샘플 사이를 교대하는 것이 필요하므로, 효과적인 데드 시간은 60초 이상만큼 길 수 있다. 그 결과 총 측정 시간은 수 분 정도이다.
대신에, 높은 반복 주파수 레이저의 고조파 컨텐츠를 사용하여 얻어진 많은 주파수의 병렬 획득을 사용할 때, 단일 주파수 도구에 의해 받는 데드 시간은 일반적으로 데이터 획득의 단 2개의 사이클, 즉 샘플에 대해 하나의 사이클이 사용되고 기준 화합물(reference compound)에 대해 하나의 사이클만이 사용되므로 크게 감소된다. 그러나, 병렬 획득 모드의 단점은 검출기에서 발생하는 펄스 혼합으로 인해 시간의 일부분 동안에만 검출기를 온 상태로 전환한다는 것이다. 일반적으로, 16개의 주파수를 병렬로 획득하는 듀티 사이클은 약 1/16=6.25%이다. 그러므로, 데드 시간을 감소시킬 때 얻어진 것이 측정의 매우 낮은 듀티 사이클에 의해 부분적으로 손실된다.
직렬 및 병렬 형광계는 광 검출기의 이득의 변조, 즉 광전자증배관(PMT: photomultiplier tube)의 변조를 요구한다. 이 변조는 미국 특허 제6,317,207호에 기술된 바와 같이 펄싱되거나 사인 곡선으로 변조될 수 있다. 전통적인 아날로그 주파수 영역 접근법에서, PMT는 낮은 헤테로다인 교차 상관 신호를 초래하기 위해 여기 주파수로부터 약간 이동된 주파수에서 구동된다. 이 장치에서 추가적인 제조 문제는 하드웨어의 변동이 무선 주파수 신호를 주입하기 위하여 상당히 번거로울 수 있는 PMT 전압 분할기에 이루어져야 한다는 것이다. 나아가, PMT의 직접 변조는 이들 PMT의 총 수집 효율을 감소시키는데 최대로는 50%이다. 또한, 애벌란치 광다이오드(avalanche photodiode: APD) 및 마이크로채널 판(microchannel plate: MCP)과 같은 일부 검출기는 이득의 직접 변조에 도움이 되지 않는다. 혼합기를 사용하여 신호에 외부 변조를 적용하는 방법이 제안되었으나, 그 동적 범위는 크게 감소된다. 또한, 애벌란치 광다이오드(APD)와 같은 일부 검출기는 이득의 직접 변조에 도움이 되지 않는다.
형광 수명 이미징 현미경 관찰
형광 분광기가 높은 콘트라스트를 가지는 이미지를 제공하기 위해 현미경 관찰로 구현되었다. 형광 수명 이미징 현미경 관찰(fluorescence lifetime imaging microscopy: FLIM)은 여러 응용, 특히 생물학적 응용에 중요한 정보를 제공하기 위해 사용되었다. 예를 들어, 이온 농도는 그 스페트럼을 이동시키고 및/또는 그 수명을 변경시키는 것에 의해 그 주변의 이온 농도의 변화에 대응하는 특정 형광단을 선택하는 것에 의해 얻어질 수 있다. 형광단에서 방출되는 광자의 강도를 관찰하기 위해 스펙트럼의 일부를 필터링하는 것이 이온 농도를 정량화하는 하나의 방법일 수 있다. 생물학적 샘플의 불균일성으로 인해, 강도 정보는 형광단의 농도와 혼합된다. 대안적으로, 형광 방출의 지수적 감쇠 곡선, 즉 형광의 수명이 측정되었다. 예를 들어, FLIM은 간단한 형광 강도 이미징 현미경 관찰에 의해서는 이용가능하지 않은 사람 피부의 가장 바깥 표피에서의 pH 값을 해석하기 위해 사용되었다. FLIM의 중요성에도 불구하고, 기존의 FLIM 디바이스는 형광 강도 이미징 현미경 관찰 시스템과 통합하기에는 번거롭다. 그리하여, 이것은 형광 강도 이미징 현미경 관찰만큼 널리 사용되지 않는다.
분광기에서와 같이, 기존의 FLIM 디바이스는 2개의 카테고리, 즉 시간 영역 디바이스와 주파수 영역 디바이스로 분류된다. 시간 영역 디바이스는 각 광자의 도달 시간에 대해 더 높은 해상도를 제공하나 또한 더 많은 비용을 초래한다. 주파수 영역 디바이스는 일반적으로 피코초(picosecond)의 수명을 해결할 수 없으나 비용이 더 저렴하다. FLIM에 대한 시간/주파수 영역 개념은 현미경 관찰 기술에 더하여 큐벳(cuvette)에 형광 수명 방법으로 직접 사용된다. 수학적 관점으로부터, FLIM의 각 픽셀의 데이터는 큐벳에 벌크 형광 수명 측정으로부터 온 데이터와 다르지 않다. 형광 수명 이미지는 이미지의 각 픽셀이 공간의 특정 영역에 대한 수명 정보를 포함하는 이미지이다.
현미경 관찰의 경우에, 샘플의 사이즈와 신호의 강도가 소형화된다. 시간 해상도는 대부분 FLIM 디바이스에 의해 제한되는 것이 아니라 샘플의 휘도에 의해 제한된다. 수집된 광자의 수가 수 백만일 수 있는 큐벳에서의 형광 수명 측정과는 달리, 현미경 관찰 FLIM 응용은 종종 겨우 100 내지 1000개의 광자만 측정하여 이미지의 세트 픽셀의 수명을 결정한다. FLIM을 위하여, 시간 영역 디바이스에 의해 제공된 각 광자의 도달 시간의 높은 시간 해상도는 종종 필요치 않다. 조직 분광기를 위한 주파수 영역 도구가 지금까지 개발되었으며, 예를 들어 일리노이주의 샘페인시에 소재한 ISS사에서 시판하는 OxiplexTS 시스템과 같은 혈액 내 옥시- 및 디옥시-헤모글로빈 농도의 절대값 결정을 위하여 조직 옥시미터(tissue oximeter)에서 사용되었다. 이 도구는 약 110㎒에서 하나의 단일 변조 주파수에서 동작한다. 본 도구는 의학 연구용으로는 적절하지만, 이는 전자회로에 의해 사용되는 전력이 너무 높아 현재 이용가능한 배터리에 의해서는 합당한 측정 시간을 위한 전력을 제공할 수 없어 휴대용(예를 들어, 스포츠 의학 분야)으로 만들어질 수 없다.
디지털 주파수 영역 분광기
전술된 아날로그 주파수 영역 형광 수명 기술에 더하여, 디지털 주파수 영역 FLIM 디바이스의 구현예가 지금까지 기술되었다. 아날로그 주파수 영역 기술과 같이, 디지털 주파수 영역 FLIM 디바이스에 사용되는 레이저는 변조된다. 그러나, 디지털 주파수 영역 FLIM 디바이스에서는, PMT를 변조하는 대신에 플립플롭이 킬로헤르츠(㎑) 광자 카운팅 디바이스에 추가되었다. 플립플롭은, 외부적으로 동기화되고 이동된 샘플링 클록(주파수 ω+Δω)에 유선으로 연결되어 있어, 이 샘플링 클록의 1/2 기간 동안 광자가 도달할 때 교차 상관된 광자만을 출력한다. 이 디지털 혼합기는 저가의 회로이며 이는 검출기의 이득의 변조를 요구하지 않는다. 그러나, 혼합기 동작은 구형파(square wave)에 의해 검출된 광자에 대응하는 펄스의 입력 열(train)을 곱하는 것에 의해 얻어지며, 그리하여 펄스의 절반만이 카운트된다. 지금까지, 2개의 혼합 회로들이 동일한 펄스 열을 입력으로 가지고 있으나 구형파의 반대 부호를 서로 가지도록 사용된다면, 모든 광자들은 2개의 분리된 스트림으로 처리될 수 있다는 것이 알려져 있다.
교차 상관된 광자는 ㎑ 광자 카운팅 디바이스가 그 위상과 변조를 결정하기 위해 각 기간 동안 수 회 샘플링할 수 있을 만큼 느리다. 이 위상과 변조는 아날로그 주파수 영역 디바이스에 의해 획득된 것과 같은 방식으로 분석된다. 이 기술은 일리노이주의 샘페인시에 소재한 ISS사에서 시판되는 모델 A506 및 A508 카드와 같은 특정 데이터 획득 카드에 사용된 것이다.
본 발명의 예시적인 실시예는 고체, 액체 및 기체 샘플에서 발광(형광 및 인광)의 다중 감쇠 시간을 측정하고 결정하는 개선된 장치 및 방법을 개시한다. 실시예는 발광의 감쇠 시간의 측정에 도움이 되는 사실상 임의의 디바이스에서뿐만 아니라 다중 채널 형광 수명 이미징 공초점(confocal) 현미경에서 그리고 분광형광계에서 구현될 수 있다. 이하에서는 "형광"이라는 단어는 문헌에서 일반적으로 사용하는 것으로 인해 "발광" 대신에 사용될 것이며, 달리 명시하지 않는 한, 형광, 인광 및/또는 발광을 의미하는 것으로 넓게 해석되어야 한다.
본 발명의 예시적인 실시예는 샘플에서 방출되는 모든 광자를 획득할 수 있는 병렬 다중 주파수 위상 형광계를 기술하며 그리하여 고 감도와 고속 데이터 수집을 제공한다. 표준 다중 주파수 위상 및 변조 형광계와는 달리, 광 검출기의 이득은 외부 주파수 생성기를 사용하는 것에 의해 변조되지 않는다. 오히려, 예시적인 실시예에서, 헤테로다인은 디지털로 수행되어서, 사용되는 전자회로 성분의 양을 크게 간소화한다. 본 발명의 실시예는 이득 및/또는 신호의 변조를 획득하지 않으므로, 사실상 임의의 광 검출기(PMT, MCP, APD, 광다이오드)가 동등하게 사용될 수 있다.
본 발명은 다중 주파수의 동시적인 획득을 위한 디지털 병렬 원리의 구현을 가능하게 하는 다른 소프트웨어 알고리즘과 동기화를 허용하는 다른 하드웨어를 사용하는 것에 의해 이전의 데이터 획득 카드에 내재하는 문제를 해결한다. 또한, 본 발명은 특정 선입선출(FIFO) 레지스터가 포화될 때 데이터의 손상이 발생하는 이전의 시스템의 문제를 해결한다. 본 발명은 큐벳과 레이저 스캐닝 현미경에서 풀 디지털 병렬 획득 주파수-영역 형광 측정을 위한 주요한 요구조건을 충족한다. 본 발명의 결과, 지금까지 이해되지 않았던 새로운 예상치 않는 성능이 나타났다.
본 출원에서 제시하는 디지털 병렬 획득 구조는 병렬 획득에 사용되는 혼합 구조의 디지털 버전을 제공하며 유리하게는 100% 듀티 사이클로 샘플링된다. 나아가, 본 발명의 실시예들이 디지털 전화회로만을 사용하므로, 스위칭 시간이 없다. 또한 샘플과 기준 사이에 사이클이 필요 없다. 이러한 개선의 결과, 16개 주파수를 수집하는데 드는 총 데이터 획득 시간은 수 백 초로부터 약 1s 이하로 감소된다. 본 발명의 예시적인 실시예에서 사용되는 디지털 전자회로는 매우 안정적이므로, 측정의 정밀도는 증가하고 전자회로의 노이즈가 감소된다.
본 발명에서 개시된 디지털 병렬 획득 방법은 상당히 저가의 디지털 전자회로로 구현될 수 있다. 이는 공장에서 교정할 필요가 없고 무선 주파수 방출을 생성하지 않는다. 나아가, 이는 매우 낮은 전력을 사용하며 이는 생체 의학, 생명 공학 및 임상 분야에 있는 휴대용 디바이스에서 이 기술을 구현하는데 중요한 잇점이 된다. 디지털 주파수 획득의 원리가 이전에 기술되었으나, 이는 병렬 주파수 영역 데이터 획득 분야에서는 지금까지 적용되지 않았었다.
본 발명은 병렬 디지털 주파수 영역 도구에 필요한 모든 논리 연산을 수행하는 회로를 제공한다. 구체적으로, 본 발명의 실시예는 레이저 다이오드 또는 LED를 진폭 변조하는데 사용되는 주파수 신호를 생성하거나 또는 본질적으로(intri㎱ically) 변조된 레이저와 동기화될 수 있다. 이 신호는 또한 연속파 레이저를 변조하는데 사용되는 전기-광학 변조기(포켈 셀) 또는 음향-광학 변조기를 변조할 수 있다. 데이터가 유효할 때를 결정하는데 필요한 정보가 데이터 스트림 그 자체에 있어서 동기화가 항상 적절히 검출될 수 있다. 이 회로는 2개의 독립적인 채널이나 4개의 채널을 사용하여 동작할 수 있다. 내부 회로는 FIFO가 포화되었는지를 감지하고 시간 정보와 간섭함이 없이 입력 데이터 스트림을 언터럽트한다. 병렬 획득을 위하여, 본 발명의 실시예는 최대 16개의 고조파 주파수를 사용하나 이는 사용되는 특정 칩(320㎒까지)에 의해 제한된다. 실시예는 더 낮은 반복 속도(20㎒ 대신에 10㎒)를 사용하여 32개의 주파수를 달성할 수 있다. 더 빠른 칩이 이용가능하며 이에 최고 높은 주파수에서 2의 인자(factor)가 이들 칩을 사용하여 달성될 수 있다. 그러나, 현재 320㎒까지 구현하는 것이 대부분의 응용에 적절하다. 본 발명의 디지털 회로 실시예의 평균화 원리를 사용하는 것은 광자의 타이밍을 결정하는데 사용되는 윈도우의 폭에 의해서가 아니라 수집되는 광자의 총 수에 의해서만 제한되는 수명 정밀도에 도달하는 검출기에서의 매우 높은 레벨의 지터를 처리할 수 있다.
본 발명은 디지털 전자회로의 동작의 심오한 이해로부터 발생하는 분야에 주목할만한 개선을 포함한다. 그 결과는 매우 안정적인 회로를 제공하며 이는 동작하는데 매우 낮은 전력을 요구한다. 본 발명의 실시예는 센서에 그리고 이미징에 많은 응용을 가지고 있으며 휴대용 디바이스에서 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예는 이전에 알려진 주파수 영역 도구보다 더 작고 더 저렴한 도구를 위한 휴대용 조직 분광기를 형성하는데 사용될 수 있다. 또한, 하나의 변조 주파수 대신에 본 발명에 따라 다중 변조 주파수를 사용하는 것은 더 작은 센서의 설계를 가능하게 하고 이는 유아 분야에 극히 중요하고 일반적으로 제한된 영역에서 혈류역학(hemodynamic) 파라미터를 측정하는데에 매우 중요하다.
본 발명은 동일한 참조 부호가 동일하거나 대응하는 부분을 언급하도록 의도된 예시적이고 비제한적인 첨부 도면에 예시되어 있다.
도 1은 종래 기술에 알려진 바와 같은 방출 광에 대해 여기 광의 위상 이동을 도시하는 파형도;
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 FLIM 응용을 위한 광전자증배관(PMT) 검출기를 사용하는 듀얼 채널 형광 수명 이미징 현미경 관찰(FLIM) 유닛의 개략도;
도 3은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 FLIP 응용을 위한 단일 광자 카운팅 애벌란치 광다이오드(SPAD) 검출기를 사용하는 듀얼 채널 FLIM 유닛의 개략도;
도 4는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 병렬 다중 주파수 위상 형광계의 개략도;
도 5a는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 위상 대 주파수 데이터를 기술하는 웨버(Weber) 그래프를 도시하는 도면;
도 5b는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 위상 대 주파수 데이터를 도시하는 수치 데이터의 표를 도시하는 도면;
도 6은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 다중 채널 FLIM 장치의 개략도;
도 7은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 형광 변동 상관 분광기(FCS)를 사용하여 생성된 자동 상관 그래프를 도시하는 도면;
도 8은 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 FLIM 장치에 의해 측정되는 파라미터의 결정과 데이터 전송의 공정을 디스플레이하는 공정 흐름도.
도 1은 종래 기술에 알려진 바와 같은 방출 광에 대해 여기 광의 위상 이동을 도시하는 파형도;
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 FLIM 응용을 위한 광전자증배관(PMT) 검출기를 사용하는 듀얼 채널 형광 수명 이미징 현미경 관찰(FLIM) 유닛의 개략도;
도 3은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 FLIP 응용을 위한 단일 광자 카운팅 애벌란치 광다이오드(SPAD) 검출기를 사용하는 듀얼 채널 FLIM 유닛의 개략도;
도 4는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 병렬 다중 주파수 위상 형광계의 개략도;
도 5a는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 위상 대 주파수 데이터를 기술하는 웨버(Weber) 그래프를 도시하는 도면;
도 5b는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 위상 대 주파수 데이터를 도시하는 수치 데이터의 표를 도시하는 도면;
도 6은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 다중 채널 FLIM 장치의 개략도;
도 7은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 형광 변동 상관 분광기(FCS)를 사용하여 생성된 자동 상관 그래프를 도시하는 도면;
도 8은 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 FLIM 장치에 의해 측정되는 파라미터의 결정과 데이터 전송의 공정을 디스플레이하는 공정 흐름도.
디지털 헤테로다인에서, 교차 상관 주파수(fcc)는 데이터를 수집하는 프로브에 사용되는 샘플링 주파수(fs)와 광원의 여기 주파수(fexc) 사이의 차로서, 즉, 하기 식 [6]과 같으며;
fcc는 샘플링 주파수의 정수 분수(integer fraction)인 값을 가지는 것이 편리하며; 예시적인 구현예에서는 다음 식 [7]과 같이 된다:
그 결과, 다음 식 [8]과 같이 된다:
즉, 여기 광(fexc) 파형의 신호와 샘플링 주파수 파형의 신호는 시간 t=0에서 동위상에 있다면, 이들은 샘플링 주파수 파형의 256개의 기간 후에 동위상으로 복귀한다. 이 시간은 또한 하기 식 [9]와 같이 된다:
다시 말해, 샘플링 주파수(fs)가 주어지면, 교차 상관 주파수(fcc)의 역(inverse)은 여기 펄스의 전체 255개의 파형을 통해 샘플링 윈도우가 슬라이딩하는 시간이다; 이들은 샘플의 방출 응답의 파형의 수에 대응한다.
샘플링 윈도우는 샘플에 의해 방출되는 모든 광자를 카운트하기 위하여, 즉 100% 듀티 사이클을 가지기 위하여 특정 요구조건을 받으며, 측정이 정밀도 있게 수행될 것을 보장한다. 예시적인 실시예에서, 8개의 샘플링 윈도우가 생성되며, 각각의 윈도우는 펄스폭(Δt)을 가진다. 각 샘플링 윈도우는 이전의 것에 비해 다음 식 [10]과 같은 각도만큼 위상 이동된다:
샘플링 윈도우의 4배와 같거나 또는 하기 식 [10']:
와 같은 고속 클록이 또한 카운터에서 태그 작업을 수행하기 위해, 즉 도달 시간에 대응하는 샘플링 윈도우 수로 입사하는 광자를 태그(tag)하기 위해 생성된다. 여기 펄스와 광자의 도달을 기록하는 윈도우를 관련시키기 위하여, 여기 펄스에 대하여 그 위상을 아는 것이 필요하다. 이 작업은 카운터를 작동시키는 교차 상관 주파수 신호에 의해 수행된다. 이것은 샘플링 윈도우와 여기 클록 주파수 사이의 상대적인 위상 차의 측정을 제공한다. 각 광자 카운트에서, 회로는 도달 윈도우(wa)를 식별하는 값과 교차 상관 카운터 값(pcc)을 제공한다. 이들 파라미터는 다음과 식 [11]과 같이 위상 색인(phase index)(p)에 결합된다:
여기서 nw는 사용되는 윈도우의 수이다. 위상 색인은 검출된 각 광자에 대해 위상 색인의 히스토그램인 교차 상관 위상 히스토그램 H(p)를 생성하는데 사용된다.
각 픽셀에서 강도 이미지는, 다음 식 [12]에 의해 제공된다:
다른 파라미터는 이런 점에서 용이하게 계산되고 디스플레이될 수 있다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 FLIM 응용을 위한 PMT 검출기를 사용하는 듀얼-채널 FLIM 유닛(200)의 개략도이다. 도 2에서, FastFLIM 유닛은 2개의 별개의 광전자증배관(PMT)을 사용한다. 각 검출기로부터 오는 신호는 채널{CH1(201) 및 CH2(202)}로 가며 증폭기(204, 206)와 상수 분수 판별기(co㎱tant fraction discriminator)(208, 210)에 의해 신호 컨디셔닝(증폭 및 포맷) 후에 신호는 전계 프로그래밍가능한 게이트 어레이(FPGA) 모듈(212)로 간다. FPGA 모듈(212)은 또한 프레임 클록(214)과 외부 클록(216)으로부터 입력을 수신하며 USB 연결(218)을 통해 출력을 제공한다.
도 3은 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 FLIM 응용을 위한 단일 광자 카운팅 애벌란치 광다이오드(SPAD) 검출기를 사용하는 듀얼-채널 FLIM 유닛(300)의 개략도이다. 도 3에서, FasFLIM 유닛(300)은 2개의 별개의 단일 광자 카운팅 애벌란치 광다이오드(SPAD)(미도시)를 사용한다. 각 SPAD로부터 오는 신호는 FPGA 모듈(304)의 채널{CH1(301) 및 CH2(302)}에 입력으로 제공된다. FPGA 모듈(304)은 또한 프레임 클록(306)과 외부 클록(308)으로부터 입력을 수신하며 USB 연결(310)을 통해 출력을 제공한다.
도 2 및 도 3에 대해 전술된 실시예에서, 프레임 클록(214, 306)은 광원을 변조하기 위해 제공된다. 데이터는 범용 직렬 버스(USB) 포트 프로토콜을 사용하여 컴퓨터로 전송된다.
이하의 예에서, 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 2-채널 도구가 기술된다. 2-채널 디지털 병렬 형광계 전자회로는 캘리포니아주의 산요세시에 소재한 Xilinx사에서 제조하는 FPGA 칩 모델 Spartan-3E FPGA, Part no. XC3S100E-TQ144에서 스캐닝 조정으로 구현된다. 이 칩은 저비용, 콤팩트함 및 디지털 클록 관리(DCM)를 위한 전용 회로를 위해 선택된 것이다. DCM은 분수 주파수 조절을 수행할 수 있는 고 품질 디지털 클록을 제공하지만, 일반적으로 충분히 빠른 클록 성능과 주파수 이동 능력을 구비하는 임의의 회로가 사용될 수 있다. 측정의 결과를 전송하기 위하여, FPGA 칩은 캘리포니아주의 산요세시에 소재한 Cypress Semiconductors사에 의해 제조된 USB 칩 모델 CY7C60813A에 연결된다. 2개의 칩의 조합은 애리조나주의 피닉스시에 소재한 Avnet Electronics Marketing사에 의해 팩킹되고 저비용의 범용 목적의 평가 키트로 시판된다.
FPGA는 2개의 클록 매니저를 포함한다. 20㎒ 클록 신호가 입력으로 인가되면, 2개의 클록은 분수 
를 입력과 곱하여 생성되며, 여기서 nc와 mc는 1 내지 32의 범위에 있는 정수이다. 이 예에서, 상기 수식 [7]의 요건에 부합하기 위하여, 값(n1 = n2 = 32, m1 = 17, 및 m2 = 15)이 사용된다. 주파수는 샘플링 클록을 4배한 클록을 생성하기 위하여 4로 더 나누어진다. 요약하면, 하기 식 [13]과 같이 된다:
그리하여, 교차 상관 주파수는 하기 수식 [14]이다:
일례로서, 하나의 구현예에서, 다른 주파수들이 사용될 수 있으나, 주파수 fexc=20㎒가 사용되고 이로부터 fs = 20.07843㎒이다. 그리하여, 교차 상관 주파수는 78.43㎑이다. 1/78.43 = 12.75㎲의 시간에, 샘플링 주파수 파형은 여기 신호의 255개의 파형을 포함한다. fexc = 20㎒를 사용하면, 고속 클록은 fc = 80.313㎒에서 생성된다; 샘플링 주파수는 fs=20.07843㎒이며, 교차 상관 주파수는 fcc = 78.43㎑이다.
좁은 펄스 시리즈는 광자 스트림을 운반하는 동일한 신호에 연결된다. 각 펄스에 대해, 보상 펄스가 있으며, 이로 광자들이 전혀 손실되지 않는다. 원칙적으로 이들 펄스는 매우 좁게 만들어질 수 있다. 그러나, 이 예에서 사용되는 특정 전자 칩으로 인해, 이 펄스는 약 2㎱보다 더 좁게 만들어질 수 없다.
얼마나 많은 고조파가 수집될 수 있는지를 평가하기 위해, 약 33㎱의 기간에 대응하는 약 30㎒의 레이저 반복 속도를 고려한다. 이 기간이 약 2㎱의 영역으로 분할된다면, 약 16개의 윈도우가 광자에 제공되어 수집될 수 있다.
이들 16개의 윈도우는 15개의 고조파를 생성할 수 있다. 따라서, 디지털 병렬 형광계는 30㎒ 신호의 모든 고조파와 최대 15개의 고조파, 즉 300㎒를 측정할 수 있다. 이들 주파수는 분광형광계 및 현미경(FLIM)에서 대부분의 수명을 측정하는데 적합하다. 사실, 0.5㎱의 수명은 300㎒에서 약 45도의 위상 이동을 생성할 수 있다.
본 발명에 따른 디지털 접근법을 사용하는 위상 측정의 정밀도는 매우 높다. 예시적인 실시예에서, 위상은 0.1도 정도의 정밀도로 측정될 수 있다. 이 정밀도는 수 피코초만의 에러를 초래한다. 이 정밀도는 약 2㎱의 윈도우로 얻어질 수 있다는 것이 주목된다. 이것은 여러 윈도우에서 많은 광자를 평균하는 것으로 인한 것이다. 하나의 단일 광자의 시간 감쇠를 측정하기 위해, 수명 축의 입도(granularity)는 여전히 2㎱, 즉 윈도우의 폭이다.
본 발명의 여러 예시와 예시적인 실시예는 형광 측정과 이미징 분야를 대변혁할 가능성을 가지고 매우 낮은 비용의 디지털 회로를 사용하여 병렬 디지털 획득과 본 원리의 구현을 제공한다.
본 발명의 구현으로 해결될 수 있는 특정 문제는 데이터 획득의 확산을 제한하는 데이터를 출력할 때 사용되는 FIFO 요청기의 포화이다. 이 내재하는 한계는 예시의 동작을 고려할 때 이해될 수 있다. 예시적으로 특정 예가 16개의 윈도우와 20㎒의 레이저 반복 속도를 가지고 동작한다고 가정해 보자. 이 조건 하에서 각 윈도우는 50㎱/16=3.125㎱ 폭이다. 윈도우마다 단 하나의 광자만이 검출될 수 있는데 이는 회로가 광자의 검출에 의해서 레벨 1로 설정되었기 때문이다. 그러나, 3.125㎱ 이후 제2 윈도우가 활성화되며, 제2 광자가 도달하는 경우 이것이 기록될 수 있다. 그러나, 검출기의 펄스 길이는 10㎱보다 더 길어서 최대 카운팅 속도는 실제로 이 회로에 의해서 제한되는 것이 아니라 검출기에 의해 제한된다. 이 기간의 16개의 위상에서 기록된 데이터는 광자가 검출될 때마다 데이터 판독 레지스터(FIFO)로 전송되거나 또는 데이터 인에이블 라인에서 전이(tra㎱ition)가 검출된다. 판독의 입도는 매우 작고 여기에는 데드 시간이 있다.
그러나, FIFO의 출력은 USB 칩에 의해 허용되는 최대 주파수에서만 판독될 수 있다. UBS 전송이 고속이라 하더라도 여기에는 데이터 전송 요청을 처리하는데 지연 시간이 존재한다. 일반적인 컴퓨터와 운영 시스템에서 이러한 지연은 약 3ms 이다. 이 3ms 시간 간격 동안 FIFO가 다 차면, 일부 데이터가 손실될 수 있다. 데이터의 동기화는 데이터보다 더 중요하므로, 데이터 입력은 중단되지만, 데이터 인에이블 입력 라인은 FIFO가 그 용량의 80%에 도달할 때 중단되지 않는다. FIFO는 8192개의 개체의 용량을 가지며, 여기서 우리는 약 6400개의 위치를 사용한다. 3ms의 시간 동안 6400개를 초과하는 광자가 검출되는 경우 회로는 포화된다. 이것은 2ms의 기간 동안 약 2㎒의 유지 속도에 상당한다.
이 제한은 더 큰 FIFO를 사용하여 용이하게 제거될 수 있으나, 현미경 관찰의 대부분의 응용에서 이 제한에는 도달되지 않는다. 이 제한에 도달되면, 레이저는 포화를 회피하도록 감쇠된다. 이 구조를 사용하여 실시예는 검출기 판별기에서 발생하는 광자의 누적에 의해 제한된다. 카드 그 자체는 누적을 추가하지 않으나 카드의 출력은 점진적으로가 아니라 급격히 포화에 도달한다.
다른 예에서, 캘리포니아주, 산요세 소재 Xilinx 사에 의해 제조된 Xilinx 3 보드를 사용하여, 기본 병렬 획득 원리를 모두 구현하지만 다른 응용을 위한 일련의 회로들이 생성되었다. 이 예에서, FIFO에 있는 라인의 수는 16이다. 2개의 독립 데이터 채널을 위한 16개의 윈도우 구현예에서, 8개의 라인이 광자가 검출되는 시간에 윈도우 수를 결정하고, 나아가 2개의 채널 중 어느 것이 광자를 검출하는지를 결정하는데 사용된다. 하나의 라인이 데이터 인에이블 플래그에 대해 사용되고, 7개의 라인은 광자가 검출된 매크로 클록 사이클을 결정하는데 사용된다.
다른 구현예는 Xilinx 3 보드를 사용하여 4개의 동시 데이터 획득 채널에 사용된다. 그러나, FIFO의 라인의 제한된 수로 인해, 2개의 광자가 하나를 초과하는 채널에서 동시에 정확히 도달하는 경우, 광자는 기록되지만, 그 광자에 대한 타이밍은 결정될 수 없다. 이것은 일반적으로 이 이벤트가 희귀하고 소프트웨어가 이들 특정 이벤트를 무시하도록 결정하므로 문제되지 않는다.
Xilinx 3 보드를 사용하는 다른 구현예는 레이저 다이오드나 LED의 강도를 변조하는데 사용되는 기본 클록 주파수에서 좁은 펄스를 빼낸다. 본질적으로 펄싱되는 레이저 소스에서, 신호는 보드의 외부 클록 입력에 연결되어 있어 카드 내부 동작이 외부 레이저 소스와 동기화될 수 있다.
Xilinx 3 보드를 사용하여 16개의 윈도우를 위한 최대 클록 주파수는 약 20㎒인 것으로 발견되었으며 이는 최대 320㎒까지의 고조파를 제공한다. 더 높은 주파수가 사용되는 경우에는, 칩이 오동작하는 것으로 보인다. 이 제한은 본 발명의 시스템과 방법의 고장으로 인한 것이라기보다는 Avnet 보드에서 사용되는 칩의 내부 제한으로 인한 것이다.
본 발명의 병렬 다중 주파수 위상 형광계 실시예는 도 4를 참조하여 기술된다. 도구(400)는 용액이나 고체 샘플(402)에서 형광의 감쇠 시간을 결정하는데 사용된다. 예시적인 실시예에서, 광원(404)은 레이저 다이오드이다. 기준 신호(406)는 이 구현예에서 FastFLIM 유닛(408)에 제공된다. 기준 신호(406)는 내부 클록이 또한 사용될 수 있으므로 엄격히 요구되지는 않는다. 광 검출기(410)는 광전자증배관(예를 들어, 일본의 하마마츠사에 의한 타입 R928), 마이크로채널 플레이트 검출기(예를 들어, 일본의 하마마츠사에 의한 모델 R3809U) 또는 애벌란치 광다이오드(예를 들어, 캐나다의 EG&G Perkin Elmer사에 의한 시리즈 SPCM-AQR)일 수 있다. 광 검출기의 전압 분할기 회로에 변형이 요구되지 않는다. 컴퓨터는 예를 들어 USB 커넥터(414)를 통해 FastFLIM(408)와 통신한다.
도 5a 및 도 5b는 디지털 병렬 획득 원리를 사용한 측정 예를 도시하는 그래프 및 표를 제공한다. 이 예에서, 형광 여기 소스는 최대 300㎒의 주파수가 측정될 수 있도록 20㎒에서 동작하는 레이저이다. 샘플은 pH 10에 있는 플루오레세인(Fluorescein) 용액이다. 플루오레세인을 위한 주파수에 대한 위상과 변조율(웨버 그래프 502)이 도 5a에 도시된다. 수치 데이터는 도 5b에 도시된다. 여기 소스는 473㎚에서 방출하는 레이저 다이오드였다. 4㎱의 수명이 샘플에 대해 기록되었다. 이 예에서 전체 데이터 획득은 약 1s 만큼 지속되었다.
위상과 변조율 곡선의 맞춤은 4.00+/- 0.01㎱의 수명 값을 제공한다. pH 10에 있는 플루오레세인의 기대 수명은 4.00㎱이다.
FLIM 측정을 위한 본 발명의 구현은 도 6을 참조하여 기술된다. FLIM 응용을 위해 2-채널 또는 다중 채널 구현이 실시된다. 광 검출기(602)로부터 오는 신호는 FastFLIM 전자회로(604)에 공급되며, 이 전자회로는 광원(607)을 변조하며 이전의 예에서 기술된 바와 같이 컴퓨터(609)와 통신한다.
공초점(confocal) 현미경(603)의 스캐닝 동작과 동기화될 수 있는 회로를 적절히 구현하기 위해, 현미경에서 데이터 획득이 시작되어야 하는 시간의 순간을 정확히 기록하는 스캐너 전자회로(606)로부터 오는 프레임 신호(605)는 FastFLIM 유닛(604)으로 송신된다. 이 구현에서, 카드는 항상 데이터를 수집하고, 플래그는 현미경의 데이터 유효 라인에 직접 연결된 데이터 스트림에 추가된다. 이 접근법을 사용하면, 현미경(603)이 생성하는 신호의 종류가 무엇이든, 데이터 스트림은 신호를 기록한다.
데이터가 유효할 때를 결정하는 프로그램은 현미경(603)의 유효 데이터의 동일한 논리를 따라가야 한다. 이 신호는 전체 프레임에 걸쳐 동일하게 유지되고 변화하는 신호나 프레임의 시작시에 있는 바로 단일 펄스일 수 있다. 광자가 존재하지 않을 때, 이 신호는 20㎒ 범위에 있는 전자회로의 클록의 각 기간에 기록되며 이로 현미경에서 일반적으로 사용되는 범위(1 내지 200㎲)의 픽셀 체류 시간(dwell time) 동안 충분한 동기화 정밀도를 제공한다.
데이터 분석은 파서(parsor) 그래프 접근법을 사용하는 것에 의해 또는 각 픽셀에서 감쇠 시간을 결정하는 것에 의해 수행된다.
강도 이미징에 더하여, 형광 변동 상관 분광기(FCS)는 공통 형광 현미경에서 수행되는 다른 측정이다. 본 발명의 FastFLIM 회로는 또한 FCS 측정을 할 수 있다. FCS를 수행하는 설정은 FLIM과 동일하다. 교차 상관 클록(fcc)은 광자 도달 시간을 마크하는데 사용된다. 도 7은 10nM 플루오레세인 용액의 자동 상관 그래프(700)이다. 이 곡선(702)은 플루오레세인의 알려진 확산 상수에 맞춰진다.
동일한 전자회로가 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 FLIM과 FCS 측정을 수행할 수 있게 변형된다는 것이 주목된다.
도 8은 측정된 파라미터의 결정과 데이터 전송의 공정을 디스플레이하는 흐름도이다. 도 2 및 도 3에 대하여 전술된 FPGA 모듈과 같은 FPGA 모듈(802)은 프레임 클록(804)과 여기 주파수(806)를 수신한다. FPGA 모듈(802)은 예를 들어 USB 포트를 통해 컴퓨터(808)에 데이터를 전송한다. 컴퓨터(808)는 데이터를 FIFO(810)와 FIFO 디코더(812)를 통해 복수의 채널(814)에 출력한다. 복수의 채널(814)에 있는 데이터는 교차 상관(816)되어 픽셀 매트릭스(818)를 생성한다. 픽셀 매트릭스(818)는 위상 히스토그램(820)을 생성하는데 사용된다. 고속 푸리에 변환(FFT)(822)이 위상 히스토그램(820)에 적용되어 각 픽셀에 대한 값의 매트릭스(824)를 생성한다. 공정의 종료시에, 이미지의 각 픽셀에 대해 이하 값이 제공된다: DC, 평균 안정 상태 강도; AC, 변조 값; φ, 형광의 위상 이동.
이들 3개의 값들은 레이저의 기본 반복 속도의 고조파들 각각에 대해 제공된다. 즉, 20㎒를 사용할 때, 40㎒, 60㎒, 80㎒, ..., 320㎒의 값이 제공된다. 또한, 다른 양들이 실시간으로 디스플레이될 수 있다. 예를 들어, 변조율 m=AC/DC가 실시간으로 디스플레이될 수 있고, 위상을 사용하여 계산된 감쇠 시간이 실시간으로 디스플레이될 수 있고, 이 변조율을 사용하여 계산된 감쇠 시간이 실시간으로 디스플레이될 수 있다. 본 발명에 따른 병렬 다중 주파수 위상 형광계 공정이 도 8을 참조하여 전술된 일반적인 공정의 예이다.
본 발명이 바람직한 실시예와 연계하여 기술되고 예시되었으나, 많은 변경과 변형이 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자에게는 명백할 것이며 본 발명의 사상과 범위를 벗어남이 없이 이루어질 수 있을 것이다. 따라서 본 발명은 이러한 변경과 변형이 본 발명의 범위 내에 포함되도록 의도되므로 전술된 방법이나 구성의 정확한 상세로 제한된 것이 아니다.
Claims (20)
- 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정을 수행하는 방법으로서,
미리 결정된 여기 주파수(excitation frequency)에서 펄스 광 신호를 상기 샘플에 조사하는 단계; 및
미리 결정된 샘플링 속도로 상기 샘플에 의해 방출되는 광을 검출기에 의해 디지털 샘플링하는 단계를 포함하되,
상기 미리 결정된 샘플링 속도는 상기 샘플링 속도와 상기 여기 주파수 사이의 차가 상기 검출기의 최대 카운팅 주파수보다 더 작은 교차 상관 주파수와 같게 선택되는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제1항에 있어서, 상기 샘플링 속도는 외부적으로 동기화되고 상기 여기 주파수에 대하여 이동된 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서, 상기 교차 상관 주파수는 상기 샘플링 주파수의 정수 분수(integer fraction)인 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제3항에 있어서, 상기 교차 샘플링 주파수는 상기 여기 주파수의 256/255배인 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서, 상기 펄스 광은 본질적으로 변조된 레이저에 의해 제공되는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서, 상기 펄스 광은,
주파수 신호를 생성하는 단계; 및
상기 주파수 신호로 레이저 다이오드와 발광 다이오드로 구성된 그룹으로부터 선택된 방출기를 진폭 변조하는 단계에 의해 제공되는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제1항에 있어서, 상기 펄스 광은,
주파수 신호를 생성하는 단계;
상기 주파수 신호로 전기-광학 변조기 또는 음향-광학 변조기를 진폭 변조하여 제1변조 신호를 생성하는 단계; 및
상기 제1변조 신호로 연속파 레이저를 변조하는 단계에 의해 제공되는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제2항에 있어서, 상기 검출기는 킬로헤르츠(kilohertz) 광자 카운팅 디바이스를 포함하는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서, 상기 샘플링은 상기 검출기의 이득을 변조함이 없이 디지털 헤테로다인(digital heterodyning)을 포함하는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서, 상기 여기 주파수는 복수의 고조파 주파수를 포함하는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서, 상기 교차 상관 주파수의 역(inverse)은 상기 펄스 광의 각 파형을 샘플링 윈도우가 샘플링하는 시간인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서,
펄스 폭(Δt)을 각각 구비하는 복수의 샘플링 윈도우를 생성하는 단계로서, 각 샘플링 윈도우는 상기 샘플링 주파수를 360*Δt배한 양만큼 이전의 윈도우에 대하여 위상 이동된 것인, 복수의 샘플링 윈도우를 생성하는 단계;
상기 샘플링 주파수의 4배인 고속 클록을 제공하는 단계; 및
광자가 검출된 샘플링 윈도우를 상기 펄스와 관련시킴으로써 상기 펄스 광의 펄스에 대하여 검출된 광자의 위상을 결정하는 단계를 더 포함하는, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제12항에 있어서, 상기 위상을 결정하는 단계는,
상기 교차 상관 주파수에서 상기 신호로 카운터를 작동시키는 단계; 및
상기 카운터의 대응하는 카운트에 의해 광자가 검출된 특정 샘플링 윈도우를 식별하는 단계를 포함하는 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제13항에 있어서,
상기 특정 샘플링 윈도우 및 대응하는 교차 상관 카운터 값[Pcc]을 식별하는 제1값[Wa]을 각 광자 카운트에 대해 제공하는 단계; 및
상기 제1값과 상기 대응하는 교차 상관 카운터 값을 다음과 같이: P=255-[(Pcc+256*Wa/Nw) mod 256]으로 결합하여 위상 색인[P]을 생성하는 단계를 포함하되, 여기서 Nw는 상기 복수의 샘플링 윈도우의 수인 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제14항에 있어서, 검출된 각 광자에 대해 상기 위상 색인[P]의 교차 상관 위상 히스토그램 H(P)를 생성하는 단계를 더 포함하는, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제14항에 있어서, 출력 디바이스에 강도 이미지를 제공하는 단계를 더 포함하되, 상기 출력 디바이스의 각 픽셀에서의 강도 이미지[I]는 각 광자에 대해 상기 히스토그램 H(P)의 합인 것인, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 제1항에 있어서,
데이터를 컴퓨터에 전달하기 위해 상기 검출기와 통신하는 선입선출(FIFO) 데이터 판독 레지스터를 제공하는 단계로서, 상기 데이터 판독 레지스터는 복수의 입력 라인, 복수의 출력 라인 및 적어도 하나의 데이터 인에이블 라인을 포함하는 것인, 선입선출 데이터 판독 레지스터를 제공하는 단계; 및
상기 레지스터가 상기 데이터 인에이블 라인에 입력을 유지하면서 그 용량의 약 80%에 도달할 때 상기 입력 라인에 대한 입력을 중단하는 것에 의해 상기 데이터 판독 레지스터의 포화를 방지하는 단계를 더 포함하는, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법. - 제17항에 있어서, 상기 레지스터의 상기 출력 라인이 포화 시 상기 레지스터의 포화를 방지하기 위해 상기 펄스 광 신호를 감쇠시키는 단계를 더 포함하는, 샘플에 병렬 다중 주파수 위상 형광측정의 수행방법.
- 고속 형광 수명 이미징 장치로서,
미리 결정된 여기 주파수에서 펄스 광 신호를 상기 샘플에 조사하는 방출기; 및
샘플링 속도와 상기 여기 주파수 사이의 차가 상기 검출기의 최대 카운팅 주파수보다 더 작은 교차 상관 주파수와 같도록 선택된 미리 결정된 샘플링 속도로 상기 샘플에 의해 방출된 광을 검출하는 검출기를 포함하는 고속 형광 수명 이미징 장치. - 제19항에 있어서,
펄스 폭[Δt]을 각각 가지는 복수의 샘플링 윈도우를 생성하도록 구성된 전계 프로그래밍가능한 게이트 어레이[FPGA] 모듈로서, 각 샘플링 윈도우는 상기 샘플링 속도를 360*Δt배한 양만큼 이전의 윈도우에 대해 위상 이동된 것인, 전계 프로그래밍 가능한 게이트(FPGA) 어레이를 더 포함하되,
상기 FPGA 모듈은 광자가 검출된 샘플링 윈도우를 상기 펄스와 관련시키는 것에 의해 상기 펄스 광의 펄스에 대하여 검출된 광자의 위상을 결정하도록 구성된 것인 고속 형광 수명 이미징 장치.
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