KR20120114237A - Curable resin composition and cured product thereof - Google Patents

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KR20120114237A
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마사타카 나카니시
요시히로 카와다
치에 사사키
시즈카 아오키
나오후사 미야가와
켄이치 쿠보키
즈이칸 스즈키
마사토 야리타
히로오 코야나기
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닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 환경 중의 가스 등에 대한 부식성이나 내열 착색성 또는 광인출 효과라는 광학성이 우수한 경화물을 부여하는 경화성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 경화성 수지 조성물은 오르가노폴리실록산(A)과 아연염 및/또는 아연착체(C)를 필수 성분으로 한다. 단, 오르가노폴리실록산(A)은 이하의 조건을 만족한다.
오르가노폴리실록산(A): 적어도 그 분자 중에 글리시딜기 및/또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 에폭시 수지.
An object of this invention is to provide the curable resin composition which gives the hardened | cured material excellent in the optical property, such as corrosiveness, heat-resistant coloring property, or light extraction effect, to a gas in an environment. Curable resin composition of this invention has organopolysiloxane (A), a zinc salt, and / or a zinc complex (C) as an essential component. However, organopolysiloxane (A) satisfy | fills the following conditions.
Organopolysiloxane (A): The epoxy resin which has a glycidyl group and / or an epoxycyclohexyl group at least in the molecule | numerator.

Description

경화성 수지 조성물 및 그 경화물{CURABLE RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF}Curable resin composition and its hardened | cured material {CURABLE RESIN COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF}

본 발명은 전기 전자 재료 용도, 특히 광반도체 용도에 바람직한 경화성 수지 조성물 및 그 경화물에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to curable resin composition and its hardened | cured material suitable for an electric and electronic material use, especially an optical semiconductor use.

종래부터 LED 제품 등의 광반도체 소자의 밀봉 재료로서 에폭시 수지 조성물이 성능과 경제성의 밸런스의 점에서 채용되어 왔다. 특히, 내열성, 투명성, 기계 특성의 밸런스가 우수한 비스페놀A형 에폭시 수지로 대표되는 글리시딜에테르 타입의 에폭시 수지 조성물이 널리 사용되어 왔다.Conventionally, an epoxy resin composition has been employed as a sealing material for optical semiconductor elements such as LED products in terms of balance between performance and economy. In particular, glycidyl ether type epoxy resin compositions represented by bisphenol A epoxy resins having excellent balance of heat resistance, transparency and mechanical properties have been widely used.

그러나 LED 제품의 발광 파장의 단파장화(주로 청색 발광을 하는 LED 제품에서 480㎚)가 진행된 결과 단파장의 광의 영향으로 상기 밀봉 재료가 LED칩 상에서 착색되어 최종적으로는 LED 제품으로서 조도가 저하되어버린다는 지적이 되어 있다.However, the shortening of the emission wavelength of LED products (mainly 480 nm in LED products emitting blue light) results in that the sealing material is colored on the LED chip under the influence of the short wavelength of light, resulting in lower illumination as an LED product. It is pointed out.

그래서 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'에폭시시클로헥실카르복실레이트로 대표되는 지환식 에폭시 수지는 방향환을 갖는 글리시딜에테르 타입의 에폭시 수지 조성물과 비교하여 투명성의 점에서 우수하기 때문에 LED 밀봉재로서 적극적으로 검토가 이루어져 왔다(특허문헌 1, 2).Therefore, the alicyclic epoxy resin represented by 3, 4- epoxycyclohexyl methyl-3 ', 4' epoxy cyclohexyl carboxylate is excellent in transparency compared with the glycidyl ether type epoxy resin composition which has an aromatic ring. Therefore, examination has been made actively as an LED sealing material (patent documents 1 and 2).

또한, 최근의 LED 제품은 조도나 TV의 백라이트 등에 한층 고휘도화가 진행되어 LED 점등 시에는 많은 발열을 수반하게 되어왔기 때문에 상기 지환식 에폭시 수지를 사용한 수지 조성물에서도 LED칩 상에서 착색을 일으켜 최종적으로 LED 제품으로서 조도가 저하되어버려 내구성의 면에서도 과제를 남기고 있다(특허문헌 3).In addition, the recent LED products have been further enhanced in the illumination or TV backlight, and accompanied with a lot of heat generation when the LED lights up, so even in the resin composition using the alicyclic epoxy resin, the coloring on the LED chip finally results in LED products. As a result, the illuminance is reduced, leaving a problem in terms of durability (Patent Document 3).

일본국 특허 공개 평 9-213997호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 9-213997 일본국 특허 3618238호 공보Japanese Patent No. 3618238 WO/2005-100445호 공보WO / 2005-100445 publication 일본국 특허 공개 2007-324256호Japanese Patent Publication No. 2007-324256 일본국 특허 공개 2000-174347호Japanese Patent Publication No. 2000-174347

상기 에폭시 수지의 내구성의 관점으로부터 실리콘 수지나 실리콘 변성 에폭시 수지 등으로 대표되는 실록산 골격(구체적으로는 Si-0 결합을 가진 골격)을 도입한 수지를 밀봉재로서 사용하는 검토가 행해지고 있다(특허문헌 3).From the viewpoint of the durability of the said epoxy resin, the examination which uses resin which introduce | transduced the siloxane skeleton (specifically, the skeleton which has a Si-0 bond) represented by silicone resin, silicone modified epoxy resin, etc. as a sealing material is performed (patent document 3). ).

일반적으로 상기 실록산 골격을 도입한 수지는 에폭시 수지보다 열과 광에 대하여 안정된 것이 알려져 있다. 그 때문에 LED 제품의 밀봉재에 적용할 경우 LED칩 상의 착색이라는 관점에서는 에폭시 수지보다 내구성이 우수하다고 말해지고 있다. 그러나 실록산 골격을 도입한 수지류는 에폭시 수지에 비해 내가스 투과성이 뒤떨어진다. 그 때문에 LED 밀봉재로서 실리콘 수지나 실리콘 변성 에폭시 수지를 사용할 경우에는 LED칩 상에서의 착색은 문제가 되지 않지만 내부의 구성 부재의 열화, 착색이 일어난다는 문제가 발생하고 있다. 특히, 생활 환경 중에서 사용할 경우 여러 가지 화합물이 부유하고 있고, 이러한 화합물이 내부로 침투함으로써 문제를 발생시키는 계기가 된다. 예를 들면, 조명 용도에 상기 수지가 사용된 경우 환경 중의 가스 등이 LED의 밀봉재를 투과함으로써 LED 패키지 내의 구성 부재인 금속 리드 프레임 상에 도금된 은 성분(반사율을 높이기 위해서 은 도금이 실시되어 있다)을 변색 또는 흑화시켜버려 최종적으로 LED 제품으로서의 성능을 저하시킨다는 과제를 안고 있다(특허문헌 5, 6).In general, it is known that resins incorporating the siloxane skeleton are more stable to heat and light than epoxy resins. Therefore, when applied to the sealing material of LED products, it is said that durability is superior to epoxy resin from the viewpoint of coloring on an LED chip. However, resins incorporating a siloxane skeleton are inferior in gas permeability compared to epoxy resins. Therefore, when using a silicone resin or a silicone modified epoxy resin as a LED sealing material, coloring on an LED chip does not become a problem, but the problem that the internal structural member deteriorates and coloring occurs. In particular, when used in a living environment, various compounds are suspended, and these compounds penetrate into the interior, which is an opportunity to cause problems. For example, when the said resin is used for lighting use, the silver component plated on the metal lead frame which is a structural member in an LED package by the gas etc. in an environment permeate | transmits the LED sealing material (silver plating is performed in order to raise a reflection factor). ) Have a problem of discoloring or blackening and finally lowering the performance as an LED product (Patent Documents 5 and 6).

이 내가스 투과성의 문제를 해결하기 위해서 특허문헌 5, 6에서는 내가스 투과성의 보호제를 피복하는 금속부를 무기 재료로 피복한다는 등의 방법이 사용되어 있지만 공정이 증가하여 생산성이 악화된다는 문제가 있었다. In order to solve this gas permeability problem, Patent Literatures 5 and 6 use a method such as coating a metal part covering the gas permeability protective agent with an inorganic material, but there is a problem that the productivity increases due to the increase in the process.

본 발명은 상기 종래 기술을 감안하여 이루어진 것이며, 그 목적으로 하는 것은 전기 전자 재료 용도, 특히 광반도체 밀봉재로서 요구되는 제물성을 만족하는 경화물을 부여할 수 있는 경화성 수지 조성물을 제공하는 것이며, 특히 환경 중의 가스 등에 대한 부식성이나 내열 착색성 또는 광인출 효과라는 광학 특성이 우수한 경화물을 부여할 수 있는 경화성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.This invention is made | formed in view of the said prior art, and the objective is to provide the curable resin composition which can provide the hardened | cured material which satisfy | fills the product property calculated | required as an electrical / electronic material use, especially an optical semiconductor sealing material, and especially It is providing the curable resin composition which can provide the hardened | cured material excellent in the optical characteristic, such as corrosiveness, heat-resistant coloring property, or the light extraction effect with respect to gas in an environment.

본 발명자들은 상기한 바와 같은 실상황을 감안하여 예의 검토한 결과 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors came to complete this invention, as a result of earnestly examining in view of the actual situation mentioned above.

즉, 본 발명은That is,

(1)(One)

오르가노폴리실록산(A)과 아연염 및/또는 아연착체(C)를 필수 성분으로 하는 경화성 수지 조성물, 단 오르가노폴리실록산(A)은 이하의 조건을 만족한다. Curable resin composition and organopolysiloxane (A) which make organopolysiloxane (A) and a zinc salt and / or a zinc complex (C) an essential component satisfy | fill the following conditions.

오르가노폴리실록산(A):Organopolysiloxane (A):

적어도 그 분자 중에 글리시딜기 및/또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 에폭시 수지,An epoxy resin having at least a glycidyl group and / or an epoxycyclohexyl group in its molecule,

(2)(2)

(1)에 있어서, 상기 아연염 및/또는 아연착체(C)가 인산 에스테르 및 인산으로부터 선택되는 1종 이상의 산의 아연염과 상기 산 및 상기 아연염을 배위자로서 갖는 아연착체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 경화성 수지 조성물,(1) The zinc salt and / or zinc complex (C) is selected from the group consisting of zinc salts of at least one acid selected from phosphate esters and phosphoric acid and zinc complexes having the acid and the zinc salt as ligands. At least one curable resin composition,

(3)(3)

(1)에 있어서, 상기 아연염 및/또는 아연착체(C)가 탄소수 1?30개의 카르복실산의 아연염과 상기 산 및 상기 아연염을 배위자로서 갖는 아연착체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 경화성 수지 조성물,The zinc salt and / or zinc complex (C) is at least 1 selected from the group consisting of a zinc salt of carboxylic acid having 1 to 30 carbon atoms and a zinc complex having the acid and the zinc salt as ligands (1). Curable resin composition,

(4)(4)

(1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, 2개 이상의 카르복실기를 갖고, 지방족 탄화수소기를 주골격으로 하는 다가 카르복실산(B)을 함유하는 경화성 수지 조성물,Curable resin composition in any one of (1)-(3) which has a 2 or more carboxyl group and contains the polyhydric carboxylic acid (B) which makes an aliphatic hydrocarbon group main skeleton,

(5)(5)

(4)에 있어서, 상기 다가 카르복실산(B)이 탄소수 5개 이상의 2?6관능의 다가 알코올과 포화 지방족 환상산 무수물의 반응에 의해 얻어진 화합물인 경화성 수지 조성물,Curable resin composition as described in (4) whose said polyhydric carboxylic acid (B) is a compound obtained by reaction of C5 or more C2-C6 polyhydric alcohol and saturated aliphatic cyclic anhydride,

(6)(6)

(1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 산 무수물을 함유하는 경화성 수지 조성물,Curable resin composition in any one of (1)-(5) containing acid anhydride,

(7)(7)

(1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 힌더드 아민계 광안정제 및/또는 인 함유 산화 방지제를 함유하는 경화성 수지 조성물,Curable resin composition in any one of (1)-(6) containing a hindered amine light stabilizer and / or phosphorus containing antioxidant,

(8)(8)

상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 경화성 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 경화물에 관한 것이다.It is related with the hardened | cured material formed by hardening | curing curable resin composition in any one of said (1)-(7).

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명의 경화성 수지 조성물은 내부식 가스성이나 내열 착색성 또는 광인출 효과라는 광학 특성이 우수한 점에서 광학 재료 중에서도 특히 조명 등의 생활 환경 중에서 사용하는 광반도체용(LED 제품 등) 접착재, 밀봉재로서 매우 유용하다.The curable resin composition of the present invention has excellent optical properties such as corrosion resistance gas resistance, heat resistance colorability, or light extraction effect, and is very suitable as an optical material (LED product, etc.) adhesive and sealing material for optical semiconductors, especially in living environments such as lighting. useful.

이하 본 발명의 경화성 수지 조성물에 대해서 기재한다.Hereinafter, it describes about curable resin composition of this invention.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 오르가노폴리실록산(A)과 아연염 및/또는 아연착체(C)를 필수 성분으로 한다.The epoxy resin composition of this invention has organopolysiloxane (A), a zinc salt, and / or a zinc complex (C) as an essential component.

오르가노폴리실록산(A)은 적어도 그 분자 중에 글리시딜기 및/또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 에폭시 수지인 것을 특징으로 하고, 일반적으로 글리시딜기 또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 트리알콕시실란을 원료로 사용하는 졸겔 반응에 의해 얻어진다.The organopolysiloxane (A) is at least an epoxy resin having a glycidyl group and / or an epoxycyclohexyl group in its molecule, and generally a trialkoxysilane having a glycidyl group or an epoxycyclohexyl group is used as a raw material. It is obtained by the sol-gel reaction.

구체적으로는 일본국 특허 공개 2004-256609호 공보, 일본국 특허 공개 2004-346144호 공보, WO 2004/072150호 공보, 일본국 특허 공개 2006-8747호 공보, WO 2006/003990호 공보, 일본국 특허 공개 2006-104248호 공보, WO 2007/135909호 공보, 일본국 특허 공개 2004-10849호 공보, 일본국 특허 공개 2004-359933호 공보, WO 2005/100445호 공보, 일본국 특허 공개 2008-174640호 공보 등에 기재된 3차원으로 확장되는 망눈상의 구조를 갖는 실세스퀴옥산 타입의 오르가노폴리실록산을 들 수 있다.Specifically, Japanese Patent Publication No. 2004-256609, Japanese Patent Publication No. 2004-346144, WO 2004/072150, Japanese Patent Publication No. 2006-8747, WO 2006/003990, Japanese Patent Publication Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-104248, WO 2007/135909, Japanese Patent Publication 2004-10849, Japanese Patent Publication 2004-359933, WO 2005/100445, Japanese Patent Publication 2008-174640 And organopolysiloxanes of silsesquioxane type having a three-dimensionally expanded manganese structure as described.

오르가노폴리실록산의 구조에 대해서는 특별히 한정되지 않지만 단순한 3차원 망눈 구조의 실록산 화합물이면 지나치게 단단하기 때문에 경도를 완화하는 구조가 요망된다. 본 발명에 있어서는 특히 실리콘 세그먼트와 졸겔 반응에 의해 얻어지는 상기 실세스퀴옥산 구조를 1분자 중에 갖는 블록 구조체가 바람직하다(이하 블록형 실록산 화합물(A1)이라고 칭한다).Although it does not specifically limit about the structure of organopolysiloxane, If it is a siloxane compound of a simple three-dimensional mesh structure, since it is too hard, the structure which relaxes hardness is desired. Especially in this invention, the block structure which has the said silsesquioxane structure obtained by a silicon segment and sol-gel reaction in 1 molecule is preferable (henceforth a block-type siloxane compound (A1)).

블록형 실록산 화합물(A1)은 통상의 블록 공중합체와 같은 직쇄에 반복 단위를 갖는 화합물이 아니라 3차원으로 확장되는 망눈상의 구조를 갖고, 실세스퀴옥산 구조를 코어로 하여 쇄상의 실리콘 세그먼트가 연장되어 다음의 실세스퀴옥산 구조에 결합한다는 구조가 된다. 본 구조가 본 발명의 경화성 수지 조성물의 경화물에 경도와 유연성의 밸런스를 부여하는 의미에서 유효하다.The block-type siloxane compound (A1) is not a compound having a repeating unit in a straight chain like a conventional block copolymer, but has a mesh-like structure that extends in three dimensions, and the chain silicon segment extends using the silsesquioxane structure as a core. It becomes the structure which couple | bonds with next silsesquioxane structure. This structure is effective in the sense of providing the balance of hardness and flexibility to the hardened | cured material of curable resin composition of this invention.

블록형 실록산 화합물(A1)은 예를 들면 하기하는 바와 같이 일반식(1)로 나타내어지는 알콕시실란 화합물(a)과 일반식(2)로 나타내어지는 실리콘 오일(b)을 원료로 해서 제조할 수 있고, 필요에 따라 일반식(3)으로 나타내어지는 알콕시실란 화합물(c)을 원료로 해서 사용할 수도 있다. 블록형 실록산 화합물(A1)의 쇄상 실리콘 세그먼트는 실리콘 오일(b)로부터 형성되고, 3차원의 망눈상 실세스퀴옥산 세그먼트는 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))으로부터 형성된다. 이하 각 원료에 대해서 상세하게 설명한다.Block type siloxane compound (A1) can be manufactured using the alkoxysilane compound (a) represented by General formula (1) and silicone oil (b) represented by General formula (2) as a raw material, for example, as follows. Moreover, the alkoxysilane compound (c) represented by General formula (3) can also be used as a raw material as needed. The chain silicone segment of the block siloxane compound (A1) is formed from silicone oil (b), and the three-dimensional manganese silsesquioxane segment is an alkoxysilane (a) (and an alkoxysilane (c) used as necessary). Is formed from. Each raw material is demonstrated in detail below.

알콕시실란 화합물(a)은 하기 식(1)로 나타내어진다.The alkoxysilane compound (a) is represented by following formula (1).

XSi(OR2)3 (1)XSi (OR 2 ) 3 (1)

(식(1) 중 X는 글리시딜기 및/또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 유기기를 나타낸다. 복수 존재하는 R2는 탄소수 1?10개의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기를 나타내고, 서로 동일해도 달라도 좋다)(In formula (1), X represents the organic group which has a glycidyl group and / or an epoxycyclohexyl group. Two or more R <2> represents a C1-C10 linear, branched, or cyclic alkyl group, and is the same as each other. May be different)

일반식(1) 중의 X로서는 글리시딜기 및/또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 유기기이면 특별히 제한은 없다. 예를 들면, β-글리시독시에틸, γ-글리시독시프로필, γ-글리시독시부틸 등의 글리시독시 탄소수 1?4개의 알킬기, 글리시딜기, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸기, γ-(3,4-에폭시시클로헥실)프로필기, β-(3,4-에폭시시클로헵틸)에틸기, β-(3,4에폭시시클로헥실)프로필기, β-(3,4-에폭시시클로헥실)부틸기, β-(3,4-에폭시시클로헥실)펜틸기 등의 옥시란기를 가진 탄소수 5?8개의 시클로알킬기로 치환된 탄소수 1?5개의 알킬기를 들 수 있다. 이들 중에서 글리시독시기로 치환된 탄소수 1?3개의 알킬기, 에폭시기를 갖는 탄소수 5?8개의 시클로알킬기로 치환된 탄소수 1?3개의 알킬기, 예를 들면 β-글리시독시에틸기, γ-글리시독시프로필기, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸기가 바람직하고, 특히 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸기가 바람직하다.X in General formula (1) does not have a restriction | limiting in particular if it is an organic group which has glycidyl group and / or an epoxycyclohexyl group. For example, glycidoxy C1-4 alkyl groups, glycidyl groups, (beta)-(3, 4- epoxy cyclohexyl), such as (beta)-glycidoxy ethyl, (gamma)-glycidoxy propyl, and (gamma)-glycidoxy butyl, ) Ethyl group, (gamma)-(3, 4- epoxycyclohexyl) propyl group, (beta)-(3, 4- epoxycycloheptyl) ethyl group, (beta)-(3, 4- epoxycyclohexyl) propyl group, (beta)-(3, 4- C1-C5 alkyl group substituted by the C5-C8 cycloalkyl group which has oxirane groups, such as an epoxy cyclohexyl) butyl group and (beta)-(3, 4- epoxycyclohexyl) pentyl group, is mentioned. Among these, a C1-3 alkyl group substituted with a glycidoxy group, a C1-3 alkyl group substituted with a C5-8 cycloalkyl group having an epoxy group, for example, β-glycidoxyethyl group and γ-glycidoxy A propyl group and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group are preferable, and a β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group is particularly preferable.

여기서 X가 글리시딜기인 알콕시실란 화합물과 X가 에폭시시클로헥실기인 알콕시실란 화합물을 병용할 경우에는 X가 에폭시시클로헥실기인 알콕시실란 화합물을 알콕시실란 화합물(a)의 총량의 80% 이상으로 사용하는 것이 바람직하다.When an alkoxysilane compound wherein X is a glycidyl group and an alkoxysilane compound where X is an epoxycyclohexyl group is used, the alkoxysilane compound where X is an epoxycyclohexyl group is 80% or more of the total amount of the alkoxysilane compound (a). It is preferable to use.

일반식(1) 중의 복수 존재하는 R2는 탄소수 1?10개의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기를 나타내고, 서로 동일해도 달라도 좋다. 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 이들 R2는 상용성, 반응성 등의 반응 조건의 관점으로부터 메틸기 또는 에틸기가 바람직하고, 특히 메틸기가 바람직하다. Two or more R <2> in General formula (1) represents a C1-C10 linear, branched, or cyclic alkyl group, and may be same or different. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group Etc. can be mentioned. These R <2> has preferable methyl group or ethyl group from a viewpoint of reaction conditions, such as compatibility and reactivity, and especially a methyl group is preferable.

알콕시실란(a)으로서 바람직한 구체예로서는 β-글리시독시에틸트리메톡시실란, β-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있고, 특히 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란이 바람직하다. 이들 알콕시실란 화합물(a)은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋고, 후술하는 알콕시실란(c)과 병용할 수도 있다.Specific examples of preferred alkoxysilanes (a) include β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltrie. Oxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, etc. are mentioned, Especially β- (3,4- Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane is preferred. These alkoxysilane compounds (a) may be used independently, 2 or more types may be used, and they may be used together with the alkoxysilane (c) mentioned later.

실리콘 오일(b)은 하기 식(2)Silicone oil (b) is a following formula (2)

Figure pct00001
Figure pct00001

(식(2) 중 복수 존재하는 R3은 탄소수 1?10개의 알킬기, 탄소수 6?14개의 아릴기, 탄소수 2?10개의 알케닐기를 나타내고, 서로 동일해도 달라도 좋다. m은 반복 단위수를 나타낸다)로 나타내어지는 구조를 갖는 말단이 시라놀기를 갖는 쇄상 실리콘 오일이다.(In formula (2), two or more R <3> represents a C1-C10 alkyl group, a C6-C14 aryl group, and a C2-C10 alkenyl group, and may mutually be same or different. M represents a repeating unit number. The terminal which has a structure represented by) is a linear silicone oil which has a silanol group.

일반식(2)의 식 중 복수 존재하는 R3은 탄소수 1?10개의 알킬기, 탄소수 6?14개의 아릴기, 탄소수 2?10개의 알케닐기를 나타내고, 서로 동일해도 달라도 좋다.Two or more R <3> in the formula of General formula (2) represents a C1-C10 alkyl group, a C6-C14 aryl group, and a C2-C10 alkenyl group, and may be same or different.

탄소수 1?10개의 알킬기로서는 탄소수 1?10개의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기를 들 수 있고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, i-펜틸기, 아밀기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 옥틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서 내광성이나 내열성을 고려하면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 시클로헥실기가 바람직하다.As a C1-C10 alkyl group, a C1-C10 linear, branched, or cyclic alkyl group is mentioned, for example, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i- Butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, i-pentyl group, amyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group Decyl, etc. are mentioned. Among these, in consideration of light resistance and heat resistance, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and a cyclohexyl group are preferable.

탄소수 6?14개의 아릴기로서는 예를 들면 페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, 크실릴기 등을 들 수 있다.As a C6-C14 aryl group, a phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, xylyl group, etc. are mentioned, for example.

탄소수 2?10개의 알케닐기로서는 비닐기, 1-메틸비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기 등의 알케닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include vinyl groups, 1-methylvinyl groups, allyl groups, propenyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, and alkenyl groups such as hexenyl groups.

R3은 내광성, 내열성의 관점으로부터 메틸기, 페닐기, 시클로헥실기, n-프로필기가 바람직하고, 특히 메틸기, 페닐기가 바람직하다.R 3 is preferably a methyl group, a phenyl group, a cyclohexyl group or an n-propyl group from the viewpoint of light resistance and heat resistance, and particularly preferably a methyl group or a phenyl group.

일반식(2)의 화합물의 반복 단위수 m은 평균값으로 3?200을 나타내고, 바람직하게는 3?100, 보다 바람직하게는 3?50이다. m이 3을 하회하면 경화물이 지나치게 단단해져 저탄성률 특성이 저하된다. m이 200을 상회하면 경화물의 기계 특성이 악화되는 경향이 있어 바람직하지 않다.The repeating unit number m of the compound of the formula (2) represents 3 to 200 as an average value, preferably 3 to 100, and more preferably 3 to 50. When m is less than 3, hardened | cured material will become hard too much and low elastic modulus characteristic will fall. When m exceeds 200, since the mechanical characteristic of hardened | cured material tends to deteriorate, it is unpreferable.

실리콘 오일(b)의 중량 평균 분자량(Mw)은 300?18,000(겔 투과 크로마토그래피(GPC) 측정값)의 범위인 것이 바람직하다. 이들 중에서 저온에서의 탄성률을 고려하면 분자량이 300?10,000의 것이 바람직하고, 조성물화 시의 상용성을 고려하면 300?5,000인 것이 보다 더 바람직하고, 500?3,000인 것이 특히 바람직하다. 중량 평균 분자량이 300을 하회할 경우 특성 세그먼트의 쇄상 실리콘 부분의 특성이 나오기 어려워 블록형으로서의 특성이 손상될 우려가 있고, 18,000을 초과하면 격한 층분리 구조를 갖게 되어 광학 재료에 사용하기에는 투과성이 악화되어 사용하는 것이 곤란해진다. 본 발명에 있어서 실리콘 오일(b)의 분자량으로서는 GPC를 사용해서 하기 조건 하에서 측정된 폴리스티렌 환산, 중량 평균 분자량(Mw)을 산출할 수 있다.It is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of silicone oil (b) is the range of 300-18,000 (gel permeation chromatography (GPC) measurement value). Among these, considering the modulus of elasticity at low temperature, those having a molecular weight of 300 to 10,000 are preferable, considering the compatibility at the time of composition, it is even more preferable that it is 300 to 5,000, and particularly preferably 500 to 3,000. If the weight average molecular weight is less than 300, the characteristic of the chain silicon portion of the characteristic segment is difficult to come out, and the characteristics as a block type may be impaired. If the weight average molecular weight exceeds 18,000, it has a strong layer separation structure, and thus the permeability deteriorates for use in optical materials. It becomes difficult to use it. As molecular weight of a silicone oil (b) in this invention, polystyrene conversion and weight average molecular weight (Mw) measured on condition of the following using GPC can be calculated.

GPC의 각종 조건Conditions of GPC

메이커: 시마즈 세이사쿠쇼Manufacturer: Shimadzu Seisakusho

컬럼: 가드 컬럼 SHODEX GPC LF-G LF-804(3개)Column: Guard Column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3ea)

유속: 1.0㎖/min.Flow rate: 1.0 ml / min.

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

사용 용제: THF(테트라히드로푸란)Solvent used: THF (tetrahydrofuran)

검출기: RI(시차 굴절 검출기)Detector: Differential Refractive Detector (RI)

실리콘 오일(b)의 동점도는 10?200cSt의 범위의 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30?90cSt의 것이다. 10cSt를 하회할 경우에는 블록형 실록산 화합물(A1)의 점도가 지나치게 낮아져서 광반도체 밀봉제로서는 적합하지 않은 경우가 있고, 또한 200cSt를 상회할 경우에는 블록형 실록산 화합물(A1)의 점도가 상승하여 작업성에 폐해가 발생하는 경향이 있어 바람직하지 않다.The kinematic viscosity of the silicone oil (b) is preferably in the range of 10 to 200 cSt, more preferably 30 to 90 cSt. When it is less than 10 cSt, the viscosity of the block-type siloxane compound (A1) may be too low to be suitable as an optical semiconductor sealant, and when it is higher than 200 cSt, the viscosity of the block-type siloxane compound (A1) is increased to work. It is not preferable because it tends to cause adverse effects on sex.

실리콘 오일(b)로서 바람직한 구체예로서는 이하의 제품명을 들 수 있다. 예를 들면, 도레이다우코닝 실리콘사제로서는 PRX-413, BY16-873, 신에츠 카가쿠고교사제로서는 X-21-5841, KF-9701, 모멘티브사제로서는 XC96-723, TSR-160, YR-3370, YF-3800, XF-3905, YF-3057, YF-3807, YF-3802, YF-3897, YF-3804, XF-3905, Gelest사제로서는 DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, DMS-S32, DMS-S33, DMS-S35, DMS-S42, DMS-S45, DMS-S51, PDS-0332, PDS-1615, PDS-9931 등을 들 수 있다. 상기 중에서도 분자량, 동점도의 관점으로부터 PRX-413, BY16-873, X-21-5841, KF-9701, XC96-723, YF-3800, YF-3804, DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21, PDS-1615가 바람직하다. 이들 중에서도 실리콘 세그먼트의 유연성의 특징을 갖게 하기 위해서 분자량의 관점으로부터 X-21-5841, XC96-723, YF-3800, YF-3804, DMS-S14, PDS-1615가 특히 바람직하다. 이들 실리콘 오일(b)은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해서 사용해도 좋다.Specific examples of the silicone oil (b) include the following product names. For example, PRX-413, BY16-873, made by Toray Dou Corning Silicone, X-21-5841, KF-9701, manufactured by Shin-Etsu Kagaku Kogyo Co., Ltd., XC96-723, TSR-160, YR-3370, manufactured by Momentive, YF-3800, XF-3905, YF-3057, YF-3807, YF-3802, YF-3897, YF-3804, XF-3905, manufactured by Gelest, DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21 , DMS-S27, DMS-S31, DMS-S32, DMS-S33, DMS-S35, DMS-S42, DMS-S45, DMS-S51, PDS-0332, PDS-1615, PDS-9931 and the like. Among the above, from the viewpoint of molecular weight and kinematic viscosity, PRX-413, BY16-873, X-21-5841, KF-9701, XC96-723, YF-3800, YF-3804, DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21 and PDS-1615 are preferred. Among these, X-21-5841, XC96-723, YF-3800, YF-3804, DMS-S14, and PDS-1615 are especially preferable from the viewpoint of molecular weight in order to give the flexibility characteristics of the silicone segment. These silicone oils (b) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

이어서, 알콕시실란(c)에 대해서 상세하게 설명한다. 알콕시실란(c)은 하기 식(3)의 구조를 갖는다.Next, the alkoxysilane (c) is demonstrated in detail. The alkoxysilane (c) has a structure of the following formula (3).

R4(OR5)3 (3)R 4 (OR 5 ) 3 (3)

(일반식(3) 중의 R4는 메틸기 또는 페닐기를 나타낸다. 복수 존재하는 R5는 탄소수 1?10개의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기를 나타내고, 서로 동일해도 달라도 좋다)(R <4> in General formula (3) represents a methyl group or a phenyl group. Two or more R <5> represents a C1-C10 linear, branched, or cyclic alkyl group, and may be same or different.)

일반식(3) 중 복수 존재하는 R5는 탄소수 1?10개의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기를 나타내고, 서로 동일해도 달라도 좋다. 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 이들 R5는 상용성, 반응성 등의 반응 조건의 관점으로부터 메틸기 또는 에틸기인 것이 바람직하다.Two or more R <5> in General formula (3) represents a C1-C10 linear, branched or cyclic alkyl group, and may be same or different. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group Etc. can be mentioned. It is preferable that these R <5> is a methyl group or an ethyl group from a viewpoint of reaction conditions, such as compatibility and reactivity.

알콕시실란(c)으로서 바람직한 구체예로서는 메틸트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기 중에서도 메틸트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란이 바람직하다.Preferable specific examples of the alkoxysilane (c) include methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane and the like. Among these, methyl trimethoxysilane and phenyl trimethoxysilane are preferable.

본 발명에 있어서 알콕시실란(c)은 블록형 실록산 화합물(A1)의 분자량조정을 위해서, 조성물로 했을 때의 상용성을 향상시키기 위해서 및 경화물의 내열성, 내광성, 저투습성, 저가스 투과성 등을 조정하기 위해서 알콕시실란(a)과 병용할 수 있다.In the present invention, the alkoxysilane (c) adjusts the heat resistance, light resistance, low moisture permeability, low gas permeability, and the like of the cured product in order to improve the compatibility of the block-type siloxane compound (A1) when the composition is used. In order to do that, it can use together with an alkoxysilane (a).

알콕시실란(c)을 사용할 경우 알콕시실란(a)과 알콕시실란(c)의 합계 몰 중 알콕시실란(c)이 5?70몰%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 5?50몰%가 더욱 바람직하고, 10?40몰%가 특히 바람직하다. 70몰%보다 크면 경화물의 가교 밀도가 뒤떨어져 기계 강도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다.When using an alkoxysilane (c), it is preferable to use an alkoxysilane (c) in the range of 5-70 mol% among the total moles of an alkoxysilane (a) and an alkoxysilane (c), and 5-50 mol% is further used. It is preferable and 10-40 mol% is especially preferable. When it is larger than 70 mol%, since the crosslinking density of hardened | cured material is inferior and mechanical strength falls, it is unpreferable.

알콕시실란(a), 실리콘 오일(b), 알콕시실란(c)의 반응 비율로서는 실리콘 오일(b)의 시라놀기 1당량에 대하여 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용하는 알콕시실란(c)) 중의 알콕시기를 당량값으로서 1.5?200, 바람직하게는 2?200, 특히 바람직하게는 2?100 사이에서 반응을 행하는 것이 바람직하다.As a reaction ratio of an alkoxysilane (a), a silicone oil (b), and an alkoxysilane (c), an alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) with respect to 1 equivalent of the silanol groups of a silicone oil (b). The alkoxy group in) is preferably 1.5 to 200, preferably 2 to 200, and particularly preferably 2 to 100 as an equivalent value.

당량값이 200을 초과하면 블록형 실록산 화합물(A1)을 사용한 경화물이 지나치게 단단해져서 목적의 저탄성률 특성이 저하된다.When the equivalent value exceeds 200, the hardened | cured material using a block type siloxane compound (A1) will become hard too much, and the target low elasticity rate characteristic will fall.

이하, 블록형 실록산 화합물(A1)의 바람직한 제조 방법에 대해서 구체적으로 언급한다.Hereinafter, the preferable manufacturing method of a block type | mold siloxane compound (A1) is mentioned concretely.

블록형 실록산 화합물(A1)의 제조 방법으로서는 이하의 (ⅰ), (ⅱ)로 나타내어지는 제조 공정을 거치는 것이 바람직하다.As a manufacturing method of a block type | mold siloxane compound (A1), it is preferable to go through the manufacturing process shown by following (i) and (ii).

제조 공정(ⅰ): 시라놀 말단 실리콘 오일(b)과 알콕시기를 갖는 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 탈알코올 축합을 행하는 공정Production process (iii): Process of performing de-alcohol condensation of a silanol terminal silicone oil (b) and the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) which has an alkoxy group

제조 공정(ⅱ): 물을 첨가하여 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 알콕시기끼리의 가수 분해 축합을 행하는 공정Manufacturing process (ii): The process of hydrolytic condensation of the alkoxy groups of an alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) by adding water.

제조 공정(ⅰ), (ⅱ)는 각 공정을 경유하면 어떠한 순서대로 반응을 행해도 상관없다.The manufacturing steps (iii) and (ii) may be reacted in any order via the respective steps.

바람직한 제조 방법으로서 구체적으로는 이하의 3종류의 제조 방법을 들 수 있다.Specifically as a preferable manufacturing method, the following three types of manufacturing methods are mentioned.

<제조 방법(가)><Manufacturing method (a)>

우선, 제조 공정(ⅰ)으로서 말단에 시라놀기를 갖는 실리콘 오일(b)과 알콕시기를 갖는 규소 화합물인 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 탈알코올 축합 반응에 의해 실리콘 오일 말단을 알콕시실란 변성함으로써 알콕시실란 변성체(d)를 얻는 공정을 행한다.First, as a manufacturing process (i), the dealcohol condensation reaction of the silicone oil (b) which has a silanol group at the terminal, and the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) which is a silicon compound which has an alkoxy group is carried out. By alkoxysilane modification of the silicone oil terminal, the process of obtaining the alkoxysilane modified body (d) is performed.

이어서, 제조 공정(ⅱ)으로서 알콕시기를 갖는 규소 화합물인 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c)) 및 제조 공정(ⅰ)에서 얻어진 실리콘 오일의 알콕시실란 변성체(d)에 물을 첨가해서 알콕시기끼리의 가수 분해 축합 반응을 행하는 공정을 거침으로써 블록형 실록산 화합물(A1)을 제조하는 방법.Next, the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) which is a silicon compound which has an alkoxy group as manufacturing process (ii), and the alkoxysilane modified body (d) of the silicone oil obtained at the manufacturing process (iii) The method of manufacturing a block type | mold siloxane compound (A1) by going through the process of adding water to a hydrolysis condensation reaction of alkoxy groups.

<제조 방법(나)><Production Method (B)>

우선 제조 공정(ⅰ)으로서 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 물의 첨가에 의한 알콕시기끼리의 가수 분해 축합 반응을 행함으로써 분자 내에 알콕시기를 갖는 실세스퀴옥산(e)을 얻는 공정을 행한다.First, a silsesquioxane having an alkoxy group in the molecule is subjected to hydrolysis condensation reaction between the alkoxy groups by addition of water of the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used if necessary) as the production step (iii). The process of obtaining (e) is performed.

이어서, 제조 공정(ⅱ)으로서 실리콘 오일(b)과 실세스퀴옥산(e)의 반응에 의해 실세스퀴옥산 구조에 잔존하는 알콕시기와 시라놀기의 탈알코올 축합 반응시키는 공정을 거침으로써 블록형 실록산 화합물(A1)을 제조하는 방법.Subsequently, as a manufacturing step (ii), a block-type siloxane is subjected to a step of de-alcohol condensation reaction of the alkoxy group and the silanol group remaining in the silsesquioxane structure by the reaction of the silicone oil (b) and the silsesquioxane (e). Method for preparing compound (A1).

<제조 방법(다)><Manufacturing method (C)>

우선 제조 공정(ⅰ)으로서 말단에 시라놀기를 갖는 실리콘 오일(b)과 알콕시기를 갖는 규소 화합물인 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 탈알코올 축합 반응에 의해 실리콘 오일 말단을 알콕시실란 변성함으로써 알콕시실란 변성체(d)로 한 후 계내에 물을 첨가하고, 원 포트로 제조 공정(ⅱ)으로서 잔존하는 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c)) 및 알콕실란 변성체(d)의 알콕시기끼리의 가수 분해 축합 반응을 행함으로써 블록형 실록산 화합물(A1)을 제조하는 방법.First, as a manufacturing process, by dealcohol condensation reaction of the silicone oil (b) which has a silanol group at the terminal, and the alkoxysilane (a) which is a silicon compound which has an alkoxy group (and the alkoxysilane (c) used as needed) By modifying the silicone oil terminal to an alkoxysilane to make an alkoxysilane modified body (d), water is added to the system, and the alkoxysilane (a) (and alkoxysilane to be used if necessary) which remains as a manufacturing process (ii) in one pot. (c)) and the method of manufacturing block type | mold siloxane compound (A1) by performing hydrolytic condensation reaction of the alkoxy groups of an alkoxysilane modified body (d).

본 발명에 있어서는 제조 공정의 단축의 관점으로부터 차차적으로 원 포트로 반응시키는 상기 제조 방법(다)을 사용하는 것이 바람직하다.In this invention, it is preferable to use the said manufacturing method (c) made to react with a one pot gradually from a viewpoint of shortening of a manufacturing process.

이하 더욱 구체적으로 제조 방법(다)에 대해서 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method (C) will be described more specifically.

원 포트로 반응시킬 경우 상기 제조 방법(다)과 역의 순번, 즉 제조 공정(ⅱ) 후에 제조 공정(ⅰ)을 행하면 제조 공정(ⅱ)에서 형성된 알콕시기를 갖는 실세스퀴옥산올리고머와 실리콘 오일(b)이 상용하지 않고, 후 제조 공정(ⅰ)에 있어서 탈알코올 축합 중합이 진행되지 않아 실리콘 오일이 남겨질 가능성이 높다. 반면에 제조 방법(다)과 같이 제조 공정(ⅰ) 후에 원 포트로 제조 공정(ⅱ)을 행하는 방법을 사용하면 실리콘 오일(b)과 알콕시실란(a)이나 알콕실란(c)의 상용성이 비교적 높기 때문에 상술한 바와 같이 상용되지 않고 반응이 진행되지 않는다는 문제는 회피할 수 있다. 또한, 시라놀기에 대하여 미반응의 저분자 알콕시실란이 다량으로 존재하게 되기 때문에 반응성의 관점으로부터도 바람직하다. 원 포트로 행할 경우 우선 제조 공정(ⅰ)에 있어서 실리콘 오일(b)과 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 탈알코올 축합을 행하고, 실리콘 오일의 말단을 알콕시실릴 변성시켜서 알콕시실란 변성체(d)를 얻는다. 제조 공정(ⅰ)에 있어서는 물을 첨가하지 않고 있으므로 알콕시기끼리의 가수 분해 축합은 일어나지 않고, 시라놀기 1당량에 대하여 알콕시기를 3당량 이상 사용해서 반응시켰을 경우 알콕시실란 변성체(d)는 하기 식(4)로 나타내어지는 구조로 존재하고 있는 것으로 고려된다.In the case of reacting with a single pot, when the production process (iii) is performed in the reverse order to the above production method (c), that is, after the production process (ii), the silsesquioxane oligomer and the silicone oil having an alkoxy group formed in the production process (ii) ( b) is incompatible, and de-alcohol condensation polymerization does not progress in the post-production process, and there is a high possibility of leaving silicone oil. On the other hand, when the manufacturing process (ii) is performed in one pot after the manufacturing process (iii) as in the manufacturing method (c), the compatibility between the silicone oil (b) and the alkoxysilane (a) or alkoxysilane (c) Since it is relatively high, the problem that it is not compatible and reaction does not progress as mentioned above can be avoided. Moreover, since a large amount of unreacted low molecular weight alkoxysilane will exist with respect to a silanol group, it is also preferable from a reactive viewpoint. In the case of one-pot, first, dealcohol condensation of the silicone oil (b) and the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used, if necessary) is carried out in the production process, and the terminal of the silicone oil is alkoxy. The silyl modification is carried out to obtain an alkoxysilane modified body (d). Since no water is added in the production step, hydrolysis and condensation of the alkoxy groups does not occur, and when the alkoxy group is reacted with 3 equivalents or more of alkoxy groups relative to 1 equivalent of a silanol group, the alkoxysilane modified body (d) is represented by the following formula It is considered to exist in the structure shown by (4).

Figure pct00002
Figure pct00002

(식(4) 중 R3 및 m은 상기와 같은 의미를 나타내고, 복수 존재하는 R6는 각각 독립적으로 상기 X 또는 상기 R4를 나타내고, R7은 -OR7과 동일 규소에 결합하는 R6이 상기 X인 경우에는 상기 R2를, -OR7과 동일 규소에 결합하는 R6이 상기 R4인 경우에는 상기 R5를 각각 나타낸다)(In formula (4), R <3> and m show the same meaning as the above, and two or more R <6> represents the said X or said R <4> independently, and R <7> binds the same silicon as -OR <7> and R <6>. If this is the case of the X, the R 6 for combining the R 2, -OR 7 on the same silicon wherein R 4 is, it represents the R 5 each)

제조 공정(ⅰ)에 있어서 시라놀기 1당량에 대하여 알콕시기를 1당량보다 적은 양으로 반응시키면 제조 공정(ⅰ) 종료 시에 알콕시기가 존재하지 않기 때문에 제조 공정(ⅱ)으로 진행하지 않고, 또한 알콕시기를 1?1.5당량 사이에서 반응시키면 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c)) 중의 2개 이상의 알콕시기가 실리콘 오일(b)의 시라놀기와 반응하게 되어 제조 공정(ⅰ) 종료 시에 지나치게 고분자가 되어서 겔화가 일어나버린다. 이것 때문에 시라놀기 1당량에 대하여 알콕시기를 1.5당량 이상으로 반응시킬 필요가 있다. 반응 제어의 관점으로부터는 2당량 이상이 바람직하고, 3당량 이상이 보다 바람직하다.When the alkoxy group is reacted in an amount less than 1 equivalent with respect to 1 equivalent of the silanol group in the production step (v), no alkoxy group is present at the end of the production step (v), and the alkoxy group does not proceed to the production step (ii). Reaction between 1 and 1.5 equivalents causes two or more alkoxy groups in the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used if necessary) to react with the silanol groups of the silicone oil (b), thus completing the production process. The gel becomes excessively high in the gel, causing gelation. For this reason, it is necessary to make an alkoxy group react with 1.5 equivalent or more with respect to 1 equivalent of silanol groups. From a viewpoint of reaction control, 2 equivalent or more is preferable and 3 equivalent or more is more preferable.

제조 공정(ⅰ) 종료 후 그대로 물을 첨가하여 알콕시기끼리의 가수 분해 축합을 행하는 제 2 단 반응(제조 공정(ⅱ))을 행한다.After completion of the production step (iii), water is added as it is to perform a second stage reaction (manufacturing step (ii)) to hydrolyze and condense the alkoxy groups.

제조 공정(ⅱ)에서는 하기에 나타내는 (Ⅰ)?(Ⅲ)의 반응이 일어나고 있다.In manufacturing process (ii), reaction of (I)-(III) shown below is occurring.

(Ⅰ) 계중에 잔존하고 있는 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 알콕시기끼리의 축합 반응.(I) Condensation reaction of the alkoxy groups of the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) which remain in the system.

(Ⅱ) 제조 공정(i)에서 얻어진 알콕시실란 변성체(d)와 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 알콕시기끼리의 축합 반응.(II) Condensation reaction of the alkoxy groups of the alkoxysilane modified body (d) obtained in the manufacturing process (i) and the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed).

(Ⅲ) 제조 공정(i)에서 얻어진 알콕시실란 변성체(d)와 (Ⅰ)에서 생성된 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 부분 축합물의 알콕시기끼리의 축합 반응.(III) Alkoxy groups of the alkoxy groups of the partial condensate of the alkoxysilane modified body (d) obtained in the production process (i) and the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used if necessary) produced in (I) Condensation reaction.

제조 공정(ii)에 있어서는 상기 반응이 복합해서 일어나고, 실세스퀴옥산 세그먼트의 형성과, 또한 실리콘 오일로부터 유래된 쇄상 실리콘 세그먼트의 축합이 동시에 행해진다.In the manufacturing step (ii), the above reaction occurs in combination, and the formation of the silsesquioxane segment and the condensation of the chain silicon segment derived from the silicone oil are simultaneously performed.

블록형 실록산 화합물(A1)의 제조는 무촉매에서도 행해지지만 무촉매이면 반응 진행이 느려 반응 시간 단축의 관점으로부터 촉매 존재 하에서 행하는 것이 바람직하다. 사용할 수 있는 촉매로서는 산성 또는 염기성을 나타내는 화합물이면 사용할 수 있다. 산성 촉매의 예로서는 염산, 황산, 질산 등의 무기산이나 포름산, 아세트산, 옥살산 등의 유기산을 들 수 있다. 또한, 염기성 촉매의 예로서는 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 리튬, 수산화 세슘과 같은 알칼리 금속 수산화물, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산수소 나트륨, 탄산수소 칼륨과 같은 알칼리 금속 탄산염 등의 무기염기, 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸렌트리아민, n-부틸아민, 디메틸아미노에탄올, 트리에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드 등의 유기염기를 사용할 수 있다. 이들 중에서도 특히 생성물로부터의 촉매 제거가 용이한 점에서 무기염기가 바람직하고, 특히 수산화 나트륨, 수산화 칼륨이 바람직하다. 촉매의 첨가량은 반응계 중의 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 합계 중량에 대하여 통상 0.001?7.5중량%, 바람직하게는 0.01?5중량%이다.Although preparation of a block type | mold siloxane compound (A1) is performed also without a catalyst, if it is a non-catalyst, it is preferable to carry out reaction in the presence of a catalyst from a viewpoint of shortening reaction time because reaction progresses. As a catalyst which can be used, if it is a compound which shows acidic or basicity, it can be used. Examples of acidic catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid and oxalic acid. Examples of basic catalysts include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, alkali metal hydroxides such as cesium hydroxide, sodium metal carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and alkali metal carbonates such as potassium hydrogen carbonate, ammonia and triethyl. Organic bases, such as an amine, diethylene triamine, n-butylamine, dimethylamino ethanol, triethanolamine, and tetramethylammonium hydrooxide, can be used. Among these, an inorganic base is preferable at the point which is easy to remove a catalyst from a product, and sodium hydroxide and potassium hydroxide are especially preferable. The amount of the catalyst added is usually 0.001 to 7.5% by weight, preferably 0.01 to 5% by weight relative to the total weight of the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used if necessary) in the reaction system.

촉매의 첨가 방법은 직접 첨가하거나 가용성의 용제 등에 용해시킨 상태로 사용한다. 그 중에서도 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 등의 알코올류에 촉매를 미리 용해시킨 상태로 첨가하는 것이 바람직하다. 이때 물 등을 사용한 수용액으로 해서 첨가하는 것은 상기한 바와 같이 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))의 축합을 일방적으로 진행시키고, 그것에 의해 생성된 실세스퀴옥산올리고머와 실리콘 오일(b)이 상용되지 않아 백탁할 가능성이 있다.The addition method of a catalyst is used in the state added directly or dissolved in a soluble solvent etc. Especially, it is preferable to add in the state which melt | dissolved the catalyst in alcohol, such as methanol, ethanol, propanol, butanol, in advance. At this time, adding as an aqueous solution using water or the like unilaterally proceeds the condensation of the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used if necessary) as described above, thereby producing a silsesquioxane oligomer And silicone oil (b) are not commercially available and may be cloudy.

블록형 실록산 화합물(A1)의 제조는 무용제 또는 용제 중에서 행할 수 있다. 또한, 제조 공정 도중에 용제를 추가할 수도 있다. 사용할 경우의 용제로서는 알콕시실란(a), 알콕시실란(c), 실리콘 오일(b), 알콕시실란 변성체(d)를 용해하는 용제이면 특별히 제한은 없다. 이러한 용제로서는 예를 들면 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 테트라히드로푸란과 같은 비프로톤성 극성 용매, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논과 같은 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 에틸, 부탄산 이소프로필 등의 에스테르류, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올과 같은 알코올류, 헥산, 시클로헥산, 톨루엔, 크실렌과 같은 탄화수소 등을 예시할 수 있다. 본 발명에 있어서는 반응 제어의 관점으로부터 알코올류 중에서의 반응이 바람직하고, 메탄올, 에탄올이 보다 바람직하다. 용제의 사용량은 반응이 원활히 진행되는 범위이면 특별히 제한은 없지만 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c)), 실리콘 오일(b)의 화합물의 합계 중량 100부에 대하여 통상 0?900중량부 정도 사용한다. 반응 온도는 촉매량에도 의하지만 통상 20?160℃, 바람직하게는 40?140℃, 특히 바람직하게는 50?150℃이다. 또한, 반응 시간은 각 제조 공정에 있어서 각각 통상 1?40시간, 바람직하게는 5?30시간이다.Production of a block type siloxane compound (A1) can be performed in a non-solvent or a solvent. Moreover, a solvent can also be added in the middle of a manufacturing process. There is no restriction | limiting in particular as a solvent in the case of using, if it is a solvent which melt | dissolves an alkoxysilane (a), an alkoxysilane (c), silicone oil (b), and an alkoxysilane modified body (d). As such a solvent, for example, aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclopentanone, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and Esters such as isopropyl carbonate, alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, toluene and xylene, and the like can be exemplified. In this invention, reaction in alcohols is preferable from a viewpoint of reaction control, and methanol and ethanol are more preferable. The amount of the solvent used is not particularly limited as long as the reaction proceeds smoothly, but is usually 0 based on 100 parts by weight of the total weight of the compounds of the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) to be used if necessary) and the silicone oil (b). Use about 900 parts by weight. Although reaction temperature is based also on catalyst amount, it is 20-160 degreeC normally, Preferably it is 40-140 degreeC, Especially preferably, it is 50-150 degreeC. Moreover, reaction time is 1-40 hours normally in each manufacturing process, Preferably it is 5-30 hours.

반응 종료 후 필요에 따라 담금질 및/또는 수세에 의해 촉매를 제거한다. 수세를 행할 경우 사용하고 있는 용제의 종류에 따라서는 물과 분리 가능한 용제를 첨가하는 것이 바람직하다. 바람직한 용제로서는 예를 들면 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논과 같은 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 에틸, 부탄산 이소프로필 등의 에스테르류, 헥산, 시클로헥산, 톨루엔, 크실렌과 같은 탄화수소 등을 예시할 수 있다.After completion of the reaction, the catalyst is removed by quenching and / or washing with water as necessary. When washing with water, it is preferable to add a solvent that can be separated from water, depending on the kind of solvent used. Preferred solvents include, for example, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclopentanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and isopropyl butyrate, and hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, toluene and xylene Etc. can be illustrated.

본 반응은 수세만으로 촉매의 제거를 행해도 상관없지만 산성, 염기성 조건 중 어느 하나의 조건에서 반응을 행하는 점에서 중화 반응에 의해 담금질을 행한 후에 수세를 행하거나 흡착제를 사용해서 촉매를 흡착한 후에 여과에 의해 흡착제를 제거하는 것이 바람직하다.The reaction may be performed by washing only with water, but the reaction is carried out under either of an acidic or basic condition, and after quenching by neutralization, washing with water or adsorbing the catalyst using an adsorbent is followed by filtration. It is preferable to remove the adsorbent by.

중화 반응에는 산성 또는 염기성을 나타내는 화합물이면 사용할 수 있다. 산성을 나타내는 화합물의 예로서는 염산, 황산, 질산 등의 무기산이나 포름산, 아세트산, 옥살산 등의 유기산을 들 수 있다. 또한, 염기성을 나타내는 화합물의 예로서는 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 리튬, 수산화 세슘과 같은 알칼리 금속 수산화물, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산수소 나트륨, 탄산수소 칼륨과 같은 알칼리 금속 탄산염, 인산, 인산 2수소 나트륨, 인산 수소 2나트륨, 인산 트리나트륨, 폴리 인산, 트리폴리 인산 나트륨과 같은 인산염류 등의 무기염기, 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸렌트리아민, n-부틸아민, 디메틸아미노에탄올, 트리에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드 등의 유기염기를 사용할 수 있다. 이들 중에서도 특히 생성물로부터의 제거가 용이한 점에서 무기염기 또는 무기산이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 중성 부근으로의 pH의 조정이 보다 용이한 인산염류 등이다.Any neutralizing reaction can be used as long as it is an acidic or basic compound. Examples of the compound showing acidity include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid and oxalic acid. Examples of the compound showing basicity include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and cesium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate, phosphoric acid and sodium dihydrogen phosphate. Inorganic bases such as phosphates such as sodium dihydrogen phosphate, trisodium phosphate, polyphosphate and sodium tripolyphosphate, ammonia, triethylamine, diethylenetriamine, n-butylamine, dimethylaminoethanol, triethanolamine, tetramethyl Organic bases, such as ammonium hydrooxide, can be used. Among these, an inorganic base or an inorganic acid is preferable at the point which is easy to remove from a product, More preferably, it is phosphate etc. which are easier to adjust pH to neutral vicinity.

흡착제로서는 활성 백토, 활성탄, 제올라이트, 무기?유기계 합성 흡착제, 이온 교환 수지 등을 예시할 수 있고, 구체예로서는 하기의 제품을 들 수 있다.Examples of the adsorbent include activated clay, activated carbon, zeolite, inorganic and organic synthetic adsorbents, ion exchange resins, and the like, and specific examples thereof include the following products.

활성 백토로서는 예를 들면 토신 카세이사제로서 활성 백토 SA35, SA1, T, R-15, E, 닛카나이트 G-36, G-153, G-168이, 미즈사와 카가쿠고교사제로서 갈레온어스, 미즈카에스 등을 들 수 있다. 활성탄으로서는 예를 들면 아지노모토 화인 테크노사제로서 CL-H, Y-10S, Y-10SF가, 후타무라 카가쿠사제로서 S, Y, FC, DP, SA1000, K, A, KA, M, CW130BR, CW130AR, GM130A 등을 들 수 있다. 제올라이트로서는 예를 들면 유니온쇼와사제로서 몰레큘러시브 3A, 4A, 5A, 13X 등을 들 수 있다. 합성 흡착제로서는 예를 들면 쿄와 카가쿠사제로서 쿄와도 100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 1000, 2000이나, 롬?앤?하스사제로서 앰버리스트 15JWET, 15DRY, 16WET, 31WET, A21, 앰버라이트 IRA400JCl, IRA403BLCl, IRA404JCl이나 다우?케미칼사제로서 다우엑스 66, HCR-S, HCR-W2, MAC-3 등을 들 수 있다.As activated clay, for example, activated clay SA35, SA1, T, R-15, E, Nikkanite G-36, G-153, G-168 are manufactured by Toshin Kasei Co., Ltd., Galeonus is manufactured by Mizusawa Kagaku Kogyo Co., Ltd. Mizukaes etc. are mentioned. As activated carbon, CL-H, Y-10S, Y-10SF are manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., S, Y, FC, DP, SA1000, K, A, KA, M, CW130BR, CW130AR are manufactured by Futamura Kagaku Co., Ltd. And GM130A. Examples of the zeolite include molecular 3A, 4A, 5A, 13X, and the like, manufactured by Union Showa. As a synthetic adsorbent, for example, Kyowa Kawaku Co., Ltd. is 100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 1000, 2000, or Rohm & Haas Co., Ltd. Amberlyst 15JWET, 15DRY, 16WET, 31WET , A21, Amberlite IRA400JCl, IRA403BLCl, IRA404JCl or Dow Chemical Co., Ltd., Dow X 66, HCR-S, HCR-W2, MAC-3, etc. are mentioned.

흡착제를 반응액에 첨가해서 교반, 가열 등의 처리를 행하여 촉매를 흡착한 후에 흡착제를 여과하고, 또한 잔사를 수세함으로써 촉매, 흡착제를 제거할 수 있다.The adsorbent can be added to the reaction solution to carry out treatment such as stirring and heating to adsorb the catalyst, followed by filtering the adsorbent and washing the residue with water to remove the catalyst and the adsorbent.

반응 종료 후 또는 담금질 후 수세, 여과의 타관용 분리 정제 수단에 의해 생성물을 정제할 수 있다. 정제 수단으로서는 예를 들면 컬럼 크로마토그래피, 감압 농축, 증류, 추출 등을 들 수 있다. 이들의 정제 수단은 단독으로 행해도 좋고, 복수를 조합해서 행해도 상관없다.After completion | finish of reaction or after quenching, a product can be refine | purified by the separation and purification means for other pipes of water washing and filtration. As purification means, column chromatography, concentration under reduced pressure, distillation, extraction, etc. are mentioned, for example. These refinement | purification means may be performed independently, and it does not matter even if it combines in plurality.

반응 용매로서 물과 혼합하는 용매를 사용해서 반응했을 경우에는 담금질 후에 증류 또는 감압 농축에 의해 물과 혼합하는 반응 용매를 계중으로부터 제거한 후에 물과 분리 가능한 용제를 사용해서 수세를 행하는 것이 바람직하다.When reacting using a solvent mixed with water as the reaction solvent, it is preferable to remove the reaction solvent mixed with water by distillation or concentration under reduced pressure after quenching and washing with water using a solvent which can be separated from water.

수세 후에는 감압 농축 등에 의해 용제를 제거함으로써 블록형 실록산 화합물(A1)을 얻을 수 있다.After washing with water, the block siloxane compound (A1) can be obtained by removing the solvent by concentration under reduced pressure.

이렇게 해서 얻어지는 블록형 실록산 화합물(A1)의 외관은 통상 무색 투명이며, 25℃에 있어서 유동성을 갖는 액상이다. 또한, 그 분자량은 GPC로 측정한 중량 평균 분자량으로서 800?20,000의 것이 바람직하고, 1,000?10,000인 것이 보다 바람직하고, 특히 1,500?6,000의 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 800보다 하회할 경우에는 내열성이 저하될 우려가 있고, 20,000을 상회할 경우에는 점도가 상승하여 작업성에 폐해가 생긴다. 또한, 분자량은 알콕시실란(a)(및 필요에 따라 사용되는 알콕시실란(c))과 실리콘 오일(b)의 당량비, 실리콘 오일(b)의 분자량, 반응 시의 물의 첨가량, 반응 시간, 반응 온도에 의해 조정 가능하다.The appearance of the block siloxane compound (A1) thus obtained is usually colorless and transparent, and is a liquid having fluidity at 25 ° C. Moreover, as the weight average molecular weight measured by GPC, the thing of 800-20,000 is preferable, It is more preferable that it is 1,000-10,000, It is especially preferable that the thing of 1,500-6,000. If the weight average molecular weight is lower than 800, the heat resistance may be lowered. If the weight average molecular weight is higher than 20,000, the viscosity rises and adversely affects workability. In addition, the molecular weight is the equivalent ratio of the alkoxysilane (a) (and the alkoxysilane (c) used as needed) and the silicone oil (b), the molecular weight of the silicone oil (b), the amount of water added during the reaction, the reaction time, the reaction temperature Adjustable by

상기 중량 평균 분자량은 GPC(겔 투과 크로마토그래피)를 사용해서 하기 조건 하에서 측정된 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)이다.The said weight average molecular weight is the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion measured under the following conditions using GPC (gel permeation chromatography).

GPC의 각종 조건Conditions of GPC

메이커: 시마즈 세이사쿠쇼Manufacturer: Shimadzu Seisakusho

컬럼: 가드 컬럼 SHODEX GPC LF-G LF-804(3개)Column: Guard Column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3ea)

유속: 1.0㎖/min.Flow rate: 1.0 ml / min.

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

사용 용제: THF(테트라히드로푸란)Solvent used: THF (tetrahydrofuran)

검출기: RI(시차 굴절 검출기)Detector: Differential Refractive Detector (RI)

또한, 상기 블록형 실록산 화합물(A1)의 에폭시 당량(JIS K-7236에 기재된 방법으로 측정)은 300?1,600g/eq인 것이 바람직하고, 400?1,000g/eq인 것이 보다 바람직하고, 특히 450?900g/eq인 것이 바람직하다. 에폭시 당량이 300g/eq를 하회할 경우에는 그 경화물이 단단해서 탄성률이 지나치게 높아지는 경향이 있고, 1,600g/eq를 상회할 경우에는 경화물의 기계 특성이 악화되는 경향이 있어 바람직하지 않다.Moreover, it is preferable that the epoxy equivalent (measured by the method of JIS K-7236) of the said block type siloxane compound (A1) is 300-1,600 g / eq, It is more preferable that it is 400-1,000 g / eq, Especially 450 It is preferable that it is? 900 g / eq. When the epoxy equivalent is less than 300 g / eq, the cured product is hard and the modulus of elasticity tends to be too high. When the epoxy equivalent exceeds 1,600 g / eq, the mechanical properties of the cured product tend to be deteriorated, which is not preferable.

블록형 실록산 화합물(A1)의 점도(E형 점도계, 25℃에서 측정)는 50?20,000mPa?s인 것이 바람직하고, 500?10,000mPa?s인 것이 보다 바람직하고, 특히 800?5,000mPa?s인 것이 바람직하다. 점도가 50mPa?s를 하회할 경우에는 점도가 지나치게 낮아서 광반도체 밀봉재 용도로서는 적합하지 않을 우려가 있고, 20,000mPa?s를 상회할 경우에는 점도가 지나치게 높아서 작업성이 뒤떨어지는 경우가 있다.It is preferable that the viscosity (E-type viscosity meter, measured at 25 degreeC) of a block type siloxane compound (A1) is 50-20,000 mPa * s, It is more preferable that it is 500-10,000 mPa * s, Especially 800-5,000 mPa * s Is preferably. When the viscosity is less than 50 mPa · s, the viscosity may be too low and unsuitable for use in the optical semiconductor sealing material. When the viscosity is higher than 20,000 mPa · s, the viscosity may be too high and the workability may be inferior.

블록형 실록산 화합물(A1) 중의 실세스퀴옥산으로부터 유래된 3개의 산소에 결합하고 있는 규소 원자의 전체 규소 원자에 대한 비율은 5?50몰%가 바람직하고, 8?30몰%가 보다 바람직하고, 특히 10?20몰%가 바람직하다. 실세스퀴옥산으로부터 유래된 3개의 산소에 결합하고 있는 규소 원자의 전체 규소 원자에 대한 비율이 5몰%를 하회하면 쇄상 실리콘 세그먼트의 특징으로서 경화물이 지나치게 연해지는 경향이 있고, 표면턱이나 스크래치의 우려가 있다. 또한, 50몰%를 상회하면 실세스퀴옥산 세그먼트의 특징으로서 경화물이 지나치게 단단해져 버리기 때문에 바람직하지 않다.As for the ratio with respect to the total silicon atom of the silicon atom couple | bonded with three oxygen derived from the silsesquioxane in a block-type siloxane compound (A1), 5-50 mol% is preferable, 8-30 mol% is more preferable Especially, 10-20 mol% is preferable. When the ratio of the silicon atoms bonded to the three oxygens derived from the silsesquioxane to the total silicon atoms is less than 5 mol%, the cured product tends to be too soft as a characteristic of the chain silicon segment, and the surface jaw and scratches There is concern. Moreover, when it exceeds 50 mol%, since hardened | cured material becomes too hard as a characteristic of a silsesquioxane segment, it is unpreferable.

존재하는 규소 원자의 비율은 블록형 실록산 화합물(A1)의 1H NMR, 29Si NMR, 원소 분석 등에 의해 구할 수 있다.The ratio of the silicon atom which exists can be calculated | required by 1 H NMR, 29 Si NMR, elemental analysis, etc. of a block type siloxane compound (A1).

본 발명의 경화성 수지 조성물은 바람직한 성분으로서 다가 카르복실산(B)을 함유한다.Curable resin composition of this invention contains polyhydric carboxylic acid (B) as a preferable component.

다가 카르복실산(B)은 적어도 2개 이상의 카르복실기를 갖고, 지방족 탄화수소기를 주골격으로 하는 것을 특징으로 하는 화합물이다. 본 발명에 있어서는 다가 카르복실산이란 단일 구조를 갖는 다가 카르복실산 뿐만 아니라 치환기의 위치가 다르고, 또는 치환기가 다른 복수의 화합물의 혼합물, 즉 다가 카르복실산 조성물도 포함하여 본 발명에 있어서는 그들을 통틀어 다가 카르복실산이라고 칭한다.Polyhydric carboxylic acid (B) is a compound which has at least 2 or more carboxyl groups, and makes an aliphatic hydrocarbon group main skeleton. In the present invention, the term "polyvalent carboxylic acid" includes not only a polyvalent carboxylic acid having a single structure but also a mixture of a plurality of compounds having different positions or different substituents, that is, a polyvalent carboxylic acid composition. It is called polyhydric carboxylic acid.

다가 카르복실산(B)으로서는 특히 2?6관능의 카르복실산이 바람직하고, 탄소수 5개 이상의 2?6관능의 다가 알코올과 산 무수물의 반응에 의해 얻어진 화합물이 보다 바람직하다. 또한, 상기 산 무수물이 포화 지방족 환상 산 무수물인 폴리카르복실산이 바람직하다.As polyhydric carboxylic acid (B), a 2-6 functional carboxylic acid is especially preferable, and the compound obtained by reaction of a C5 or more 2-6 functional polyhydric alcohol and an acid anhydride is more preferable. Moreover, the polycarboxylic acid whose said acid anhydride is saturated aliphatic cyclic acid anhydride is preferable.

2?6관능의 다가 알코올로서는 알코올성 수산기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 시클로헥산디메탄올, 2,4-디에틸펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올 등의 디올류, 글리세린, 트리메틸롤에탄, 트리메틸롤프로판, 트리메틸롤부탄, 2-히드록시메틸-1,4-부탄디올 등의 트리올류, 펜타에리스리톨, 디트리메틸롤프로판 등의 테트라올류, 디펜타에리스리톨 등의 헥사올류 등을 들 수 있다.Although it will not specifically limit, if it is a compound which has an alcoholic hydroxyl group as a 2-6 functional polyhydric alcohol, Ethylene glycol, propylene glycol, 1, 3- propanediol, 1, 2- butanediol, 1, 4- butanediol, 1, 5- pentanediol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, 2,4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol, etc. Triols such as diols, glycerin, trimethylol ethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol, tetraols such as pentaerythritol and ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, and the like. Hexaol etc. are mentioned.

특히 바람직한 다가 알코올로서는 탄소수가 5개 이상인 알코올이며, 특히 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 2,4-디에틸펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올 등이 바람직하고, 그 중에서도 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 2,4-디에틸펜탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올 등의 분기쇄상 구조나 환상 구조를 갖는 다가 알코올이 보다 바람직하다.Particularly preferred polyhydric alcohols are alcohols having 5 or more carbon atoms, in particular 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 2, 4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentylglycol, tricyclodecane dimethanol, norbornenediol and the like are preferable, and 2-ethyl-2-butyl- Polyhydric alcohol which has branched structure or cyclic structure, such as 1, 3- propanediol, neopentyl glycol, 2, 4- diethyl pentanediol, 1, 4- cyclohexane dimethanol, tricyclodecane dimethanol, norbornene diol This is more preferable.

산 무수물로서는 특히 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 무수 나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 부탄테트라카르복실산 무수물, 비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물 등이 바람직하고, 그 중에서도 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물이 바람직하다.Examples of the acid anhydrides include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic acid anhydride, nadic acid anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2, 3-dicarboxylic acid anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, etc. Methylhexahydro phthalic anhydride and cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4- anhydride are especially preferable.

부가 반응의 조건으로서는 특별히 지정은 없지만 구체적인 반응 조건의 1개로서는 산 무수물, 다가 알코올을 무촉매, 무용제의 조건 하, 40?150℃에서 반응시켜 가열하고, 반응 종료 후 그대로 인출한다는 방법을 들 수 있지만 본 반응 조건에 한정되는 것은 아니다.Although conditions for addition reaction are not specifically specified, One of the specific reaction conditions includes a method in which an acid anhydride and a polyhydric alcohol are reacted and heated at 40 to 150 ° C under a catalyst-free and solvent-free condition, and withdrawn after the reaction is completed. However, the reaction conditions are not limited.

이렇게 해서 얻어지는 폴리카르복실산으로서 특히 하기 식(5)As a polycarboxylic acid obtained in this way, following formula (5)

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중 복수 존재하는 Q는 수소 원자, 메틸기, 카르복실기 중 적어도 1종을 나타낸다. P는 상기 다가 알코올로부터 유래된 쇄상, 분기상 또는 환상의 지방족기이다. m은 다가 알코올의 관능기 수(알코올기 수)이며, 바람직하게는 2?6의 정수이다)로 나타내어지는 화합물이 바람직하다.(In the formula, a plurality of Q represents at least one of a hydrogen atom, a methyl group and a carboxyl group. P is a chain, branched or cyclic aliphatic group derived from the polyhydric alcohol. M is the number of functional groups of the polyhydric alcohol (alcohol group Number), preferably an integer of 2 to 6).

본 발명의 경화성 수지 조성물은 산 무수물을 함유하는 것이 바람직하다. 산 무수물로서는 구체적으로는 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 무수 말레산, 테트라히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 무수 나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 부탄테트라카르복실산 무수물, 비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물 등의 산 무수물을 들 수 있다.It is preferable that curable resin composition of this invention contains an acid anhydride. Specific examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic acid, hexahydro phthalic anhydride, and methyl hexa Hydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicar Acid anhydrides, such as an acid anhydride and cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4- anhydride, are mentioned.

특히 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 무수 나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 부탄테트라카르복실산 무수물, 비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물이 바람직하다.In particular methyltetrahydro phthalic anhydride, methylnadic acid anhydride, nadic acid anhydride, hexahydro phthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dica Preference is given to lenic anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride and cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride.

또한, 상기 산 무수물 중 하기 식(6)In addition, in the said acid anhydride, following formula (6)

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 중 Z는 수소 원자, 메틸기, 카르복실기 중 적어도 1종을 나타낸다)으로 나타내어지는 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물이 바람직하고, 그 중에서도 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물이 바람직하다.Hexahydro phthalic anhydride represented by (wherein Z represents at least one of a hydrogen atom, a methyl group and a carboxyl group), methylhexahydro phthalic anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4- Anhydrides are preferred, and methylhexahydrophthalic anhydride and cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride are particularly preferred.

본 발명의 경화성 수지 조성물이 산 무수물을 함유할 경우 그 사용량은 다가 카르복실산(B)과의 비율로 결정되고, 하기 식의 범위가 바람직하다.When the curable resin composition of this invention contains an acid anhydride, the usage-amount is determined by the ratio with polyhydric carboxylic acid (B), and the range of the following formula is preferable.

W1/(W1+W2)=0.05?0.65W1 / (W1 + W2) = 0.05? 0.65

(단, W1은 다가 카르복실산(B)의 배합 중량부, W2는 산 무수물의 배합 중량부를 나타낸다)(W1 is a compounding weight part of polyhydric carboxylic acid (B), W2 represents the compounding weight part of an acid anhydride)

상기에 있어서 W1/(W1+W2)의 범위로서 보다 바람직하게는 0.05?0.65, 더욱 바람직하게는 0.10?0.65, 특히 바람직하게는 0.3?0.6이다. 0.05를 하회하면 경화 시에 산 무수물의 휘발이 많아지는 경향이 강해 바람직하지 않다. 0.65를 초과하면 높은 점도가 되어 취급이 어려워진다. 산 무수물을 함유시키지 않는(소량 잔존할 경우에는 제외한다) 경우 다가 카르복실산(B)의 형상은 상온에서 고형 또는 고형에 가까운 상태 또는 결정이 되기 때문에 문제는 없다.In the above description, the range of W1 / (W1 + W2) is more preferably 0.05 to 0.65, still more preferably 0.10 to 0.65, and particularly preferably 0.3 to 0.6. When it is less than 0.05, the tendency for volatilization of an acid anhydride to increase at the time of hardening is strong, and it is unpreferable. If it exceeds 0.65, the viscosity becomes high and handling becomes difficult. In the case of not containing an acid anhydride (except when there is a small amount remaining), the shape of the polyvalent carboxylic acid (B) is a problem because it becomes a solid or near solid state or crystal at room temperature.

다가 카르복실산(B)과 산 무수물을 병용할 경우 다가 카르복실산(B)의 제조 시에 과잉의 산 무수물 중에서 제조하고, 다가 카르복실산(B)과 산 무수물의 혼합물을 제작한다는 방법도 조작의 간편성의 면에서 바람직하다.When using a polyhydric carboxylic acid (B) and an acid anhydride together, the method of preparing in excess acid anhydride at the time of preparation of a polyhydric carboxylic acid (B), and also preparing the mixture of polyhydric carboxylic acid (B) and an acid anhydride It is preferable at the point of simplicity of operation.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 아연염 및/또는 아연착체(C)를 필수 성분으로서 함유한다. 아연염 및/또는 아연착체(C)는 본 발명에 있어서는 에폭시 수지와 경화제의 경화 촉진제로서 기여한다.Curable resin composition of this invention contains a zinc salt and / or a zinc complex (C) as an essential component. Zinc salt and / or zinc complex (C) contributes as a hardening accelerator of an epoxy resin and a hardening | curing agent in this invention.

아연염 및/또는 아연착체(C)로서는 아연 이온을 중심 원소로 한 염 및/또는 착체이면 특별히 한정되지 않지만 카운터 이온 및/또는 배위자로서 탄소수 1?30개의 알킬기를 갖는 카르복실산, 인산 에스테르 및 인산으로부터 선택되는 적어도 1종의 산을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서는 특히 카르복실산 아연체, 인산 에스테르 아연체가 바람직하고, 특히 상용성의 면으로부터 카르복실산 아연체가 바람직하다.The zinc salt and / or zinc complex (C) is not particularly limited as long as it is a salt and / or a complex containing zinc ions as a center element, but it is a carboxylic acid, a phosphate ester having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms as a counter ion and / or ligand, and It is preferred to have at least one acid selected from phosphoric acid. In this invention, zinc carboxylate and phosphate ester zinc are especially preferable, and zinc carboxylate is especially preferable from a compatibility point.

상기에 있어서 알킬기로서는 메틸기, 이소프로필기, 부틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 이소데실기, 이소스테아릴기, 데카닐기, 세틸기, 운데실렌기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group include methyl, isopropyl, butyl, 2-ethylhexyl, octyl, isodecyl, isostearyl, decanyl, cetyl and undecylene.

카르복실산 아연체로서는 탄소수 1?30개의 카르복실산의 아연염과 탄소수 1?30개의 카르복실산 및 상기 아연염을 배위자로서 갖는 아연착체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 카르복실산 아연체로서는 상기 탄소수 1?30개의 카르복실산이, 바람직하게는 쇄상 분기 구조를 갖는 알킬 또는 올레핀 등의 관능기를 갖는 알킬기의 것이고, 더욱 바람직하게는 탄소수 3?30개의 탄소수의 것이며, 그 중에서도 특히 5?20개의 탄소수의 것이 바람직하다. 이들은 상용성의 면에서 바람직하고, 탄소수가 지나치게 큰(탄소수 30개를 초과한다) 경우 또는 분기 구조나 올레핀 등의 관능기 등의 구조를 가지지 않을 경우 수지와의 상용성이 나빠 바람직하지 않다.As a carboxylic acid zinc body, at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a zinc salt of C1-C30 carboxylic acid, a C1-C30 carboxylic acid, and the zinc complex which has the said zinc salt as a ligand can be used. As a carboxylic acid zinc body, the said C1-C30 carboxylic acid is preferably an alkyl group which has functional groups, such as alkyl or olefin which has a linear branched structure, More preferably, it is C3-C30 carbon number, Especially, the thing of 5-20 carbon atoms is preferable. These are preferable from the viewpoint of compatibility, and are not preferable because they have poor compatibility with resins when the carbon number is too large (more than 30 carbon atoms) or when there is no structure such as a branched structure or a functional group such as olefin.

구체적으로는 2-에틸헥실산 아연, 이소스테아린산 아연, 운데실렌산 아연 등을 들 수 있다.Specifically, zinc 2-ethylhexyl acid, zinc isostearate, zinc undecylenate, etc. are mentioned.

인산 에스테르체로서는 인산 에스테르의 아연염과 인산 에스테르 및 상기 아연염을 배위자로서 갖는 아연착체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 또한, 인산 에스테르체에는 인산 에스테르로부터 유래된 인산도 카운터 이온 및/또는 배위자로서 포함되어 있어도 좋다.As the phosphate ester, at least one member selected from the group consisting of zinc salts of phosphate esters, phosphate esters and zinc complexes having the zinc salts as ligands can be used. The phosphate ester may also contain phosphoric acid derived from the phosphate ester as a counter ion and / or a ligand.

본 발명에 있어서 특히 바람직한 인산 에스테르체로서는 인산 에스테르(모노알킬에스테르체, 디알킬에스테르체, 트리알킬에스테르체 또는 그들의 혼합물)의 아연염 및/또는 아연착체가 바람직하고, 복수의 인산 에스테르체를 함유해도 상관없다. 구체적으로는 인산 에스테르체에 함유되는 인산 에스테르 중 모노알킬에스테르체, 디알킬에스테르체, 트리알킬에스테르체의 몰비(가스 크로마토그래피의 순도로 대체. 단, 트리메틸실릴화를 행할 필요가 있기 때문에 감도에 차이가 나고만다)에 있어서 트리메틸실릴화 처리를 한 단계에서 모노알킬에스테르체의 존재량이 50면적% 이상인 것이 바람직하다.Particularly preferred phosphoric acid esters in the present invention are zinc salts and / or zinc complexes of phosphoric acid esters (monoalkyl esters, dialkyl esters, trialkyl esters or mixtures thereof), and contain a plurality of phosphoric acid esters. It does not matter. Specifically, the molar ratio of the monoalkyl ester, the dialkyl ester, and the trialkyl ester among the phosphate esters contained in the phosphate ester (replaced by the purity of gas chromatography. However, since trimethylsilylation needs to be performed, In the step of trimethylsilylation treatment, the amount of monoalkyl ester produced is preferably 50 area% or more.

이러한 인산 에스테르 아연의 아연염 및/또는 아연착체는 예를 들면 인산 에스테르를 예를 들면 탄산 아연, 수산화 아연 등과 반응시킴으로써 얻을 수 있다(특허문헌 EP699708호 공보).Such zinc salt and / or zinc complex of zinc phosphate ester can be obtained, for example, by reacting phosphate ester with zinc carbonate, zinc hydroxide or the like (Patent Document EP699708).

인산 에스테르로서는 2-에틸헥실인산, 스테아릴인산 등이 바람직하다.As phosphoric acid ester, 2-ethylhexyl phosphoric acid, stearyl phosphoric acid, etc. are preferable.

이러한 인산 에스테르의 아연염 및/또는 아연착체의 상세로서는 인 원자와 아연 원자의 비율(P/Zn)이 1.2?2.3이 바람직하고, 1.3?2.0이 보다 바람직하다. 특히 바람직하게는 1.4?1.9이다. 즉, 특히 바람직한 형태에서는 아연 이온 1몰에 대하여 인산 에스테르(또는 인산 에스테르로부터 유래된 인산)가 2.0몰 이하가 되고, 단순한 이온 구조가 아니라 몇개의 분자가 이온 결합(또는 배위 결합)에 의해 관련된 구조를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이러한 아연염 및/또는 아연착체로서는 예를 들면 일본국 특허 공표 2003-51495호 공보에 기재된 방법으로 얻을 수도 있다.As a detail of the zinc salt and / or zinc complex of such phosphate ester, 1.2-2.3 are preferable and, as for the ratio (P / Zn) of a phosphorus atom and a zinc atom, 1.3-2.0 are more preferable. Especially preferably, it is 1.4-1.9. That is, in a particularly preferred form, the phosphoric acid ester (or phosphoric acid derived from the phosphate ester) is 2.0 moles or less with respect to 1 mole of zinc ions, and a structure in which several molecules are related by ionic bonds (or coordination bonds) rather than simple ionic structures. It is preferable to have a. As such a zinc salt and / or a zinc complex, it can also be obtained by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-51495, for example.

이러한 화합물로서 시판품으로서는 카르복실산 아연체로서 Zn-St, Zn-St 602, Zn-St NZ, ZS-3, ZS-6, ZS-8, ZS-8, ZS-7, ZS-10, ZS-5, ZS-14, ZS-16(닛토 카세이고교제), XK-614(킹인더스트리제), 18% 옥토프 Zn, 12% 옥토프 Zn, 8% 옥토프 Zn(호프 세야쿠제), 인산 에스테르 및/또는 인산 아연체로서 LBT-2000B(SC 유기 카가쿠제), XC-9206(킹인더스트리제)을 들 수 있다.Commercially available products such as Zn-St, Zn-St 602, Zn-St NZ, ZS-3, ZS-6, ZS-8, ZS-8, ZS-7, ZS-10, ZS -5, ZS-14, ZS-16 (manufactured by Nitto Kasei), XK-614 (King Industry Co., Ltd.), 18% Octope Zn, 12% Octope Zn, 8% Octope Zn (Hope Seiyaku), Phosphoric Acid Examples of the ester and / or zinc phosphate include LBT-2000B (manufactured by SC Organic Kagaku) and XC-9206 (manufactured by King Industries).

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서 비율은 오르가노폴리실록산(A)과 아연염 및/또는 아연착체(C)의 비율은 오르가노폴리실록산(A)에 대하여 아연염 및/또는 아연착체(C)가 중량비로 0.01?8중량%, 보다 바람직하게는 0.05?5중량%, 또한 0.1?4중량%이다. 또한, 특히 바람직하게는 0.1?2중량%이다.In the curable resin composition of the present invention, the ratio of the organopolysiloxane (A) and the zinc salt and / or the zinc complex (C) is a zinc salt and / or zinc complex (C) relative to the organopolysiloxane (A). 0.01 to 8% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight, and also 0.1 to 4% by weight. Moreover, Especially preferably, it is 0.1-2 weight%.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 광학 재료, 특히 광반도체 밀봉제에 사용할 경우에는 특히 바람직한 성분으로서 광안정제로서의 힌더드 아민 화합물, 산화 방지재로서의 인계 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서는 특히 힌더드 아민 화합물을 함유하는 것이 바람직하고, 필요에 따라 인계 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.When using curable resin composition of this invention for an optical material, especially an optical semiconductor sealing agent, it is preferable to contain a hindered amine compound as an optical stabilizer and a phosphorus compound as antioxidant as an especially preferable component. In this invention, it is especially preferable to contain a hindered amine compound, and it is preferable to contain a phosphorus compound as needed.

상기 아민 화합물로서는 예를 들면 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)=1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)=1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀 및 3,9-비스(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸의 혼합 에스테르화물, 데칸2산 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-운데칸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)카보네이트, 2,2,6,6,-테트라메틸-4-피페리딜메타크릴레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-[2-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시]에틸]-4-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐-메타아크릴레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)[[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐]메틸]부틸말로네이트, 데칸2산 비스[2,2,6,6-테트라메틸-1(옥틸옥시)-4-피페리디닐]에스테르, 1,1-디메틸에틸히드로퍼옥시드와 옥탄의 반응 생성물, N,N',N",N"'-테트라키스-[4,6-비스-[부틸-(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노]-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, 디부틸아민?1,3,5-트리아진?N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜-1,6-헥사메틸렌디아민과 N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부틸아민의 중축합물, 폴리[[6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일][(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노]헥사메틸렌[(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노]], 숙신산 디메틸과 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리딘에탄올의 중합물, 2,2,4,4-테트라메틸-20-(β-라우릴옥시카르보닐)에틸-7-옥사-3,20-디아자디스피로[5?1?11?2]헨이코산-21-온, β-알라닌,N,-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-도데실에스테르/테트라데실에스테르, N-아세틸-3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)피롤리딘-2,5-디온, 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자디스피로[5,1,11,2]헨이코산-21-온, 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥사-3,20-디아자디시클로-[5,1,11,2]-헨이코산-20-프로판산 도데실에스테르/테트라데실에스테르, 프로판디오익애시드, [(4-메톡시페닐)-메틸렌]-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)에스테르, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀의 고급 지방산 에스테르, 1,3-벤젠디카르복시아미드, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐) 등의 힌더드 아민계 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the amine compound include tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) = 1,2,3,4-butanetetracarboxylate and tetrakis (2,2 , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) = 1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6, Mixed esters of 6-pentamethyl-4-piperidinol and 3,9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane , Decane diacid bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-undecanoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4- I) carbonate, 2,2,6,6, -tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- [2- [3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propy Nyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl-methacrylate, bis (1,2,2,6 , 6-pentamethyl-4-piperidinyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butylmalonate, decanoic acid bis [2,2,6 , 6-tetramethyl-1 (octyloxy) -4-piperidinyl] ester, reaction product of 1,1-dimethylethylhydroperoxide with octane, N, N ', N ", N"'-tetrakis- [4,6-bis- [butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -triazin-2-yl] -4,7-diaza Decane-1,10-diamine, dibutylamine? 1,3,5-triazine? N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexa Polycondensate of methylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1 , 3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidyl) imino]], dimethyl succinate and 4-hydride Polymer of hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-20- (β-lauryloxycarbonyl) ethyl-7-oxa- 3,20-diazadispiro [5? 1? 11? 2] henic acid-21-one, β-alanine, N,-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)- Dodecyl ester / tetradecyl ester, N-acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) pyrrolidine-2,5-dione, 2,2 , 4,4-tetramethyl-7-oxa-3,20-diazadispiro [5,1,11,2] henic acid-21-one, 2,2,4,4-tetramethyl-21-oxa -3,20-diazacyclo- [5,1,11,2] -henicoic acid-20-propanoic acid dodecyl ester / tetradecyl ester, propanedioic acid, [(4-methoxyphenyl) -methylene ] -Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) ester, higher fatty acid ester of 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol, 1,3- Hindered amine compounds, such as benzenedicarboxyamide and N, N'-bis (2,2,6,6- tetramethyl-4- piperidinyl), etc. are mentioned.

상기 광안정재인 아민 화합물로서 이하에 나타내는 시판품을 사용할 수 있다.The commercial item shown below can be used as an amine compound which is the said light stabilizer.

예를 들면, 치바 스페셜리티 케미칼즈제로서 TINUVIN765, TINUVIN770DF, TINUVIN144, TINUVIN123, TINUVIN622LD, TINUVIN152, CHIMASSORB944, 아데카제로서 LA-52, LA-57, LA-62, LA-63P, LA-77Y, LA-81, LA-82, LA-87 등을 들 수 있다.For example, TINUVIN765, TINUVIN770DF, TINUVIN144, TINUVIN123, TINUVIN622LD, TINUVIN152, CHIMASSORB944, Adeka made by Chiba Specialty Chemicals, LA-52, LA-57, LA-62, LA-63P, LA-77Y, LA-81 , LA-82, LA-87 and the like.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서 광안정제의 사용량은 오르가노폴리실록산(A)에 대하여 중량비로 0.005?5중량%, 보다 바람직하게는 0.01?4중량%, 0.1?2중량%이다.In the curable resin composition of this invention, the usage-amount of an optical stabilizer is 0.005 to 5 weight%, More preferably, it is 0.01 to 4 weight% and 0.1 to 2 weight% with respect to organopolysiloxane (A).

상기 인계 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만 예를 들면 1,1,3-트리스(2-메틸-4-디트리데실포스파이트-5-tert-부틸페닐)부탄, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 페닐비스페놀A펜타에리스리톨디포스파이트, 디시클로헥실펜타에리스리톨디포스파이트, 트리스(디에틸페닐)포스파이트, 트리스(디-이소프로필페닐)포스파이트, 트리스(디-n-부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,6-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,6-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)(2-tert-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페닐)(2-tert-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4-메틸-6-tert-부틸페닐)(2-tert-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,3'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-3,3'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,6-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,6-디-tert-부틸페닐)-4,3'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,6-디-tert-부틸페닐)-3,3'-비페닐렌디포스포나이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)-3-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,6-디-n-부틸페닐)-3-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,6-디-tert-부틸페닐)-4-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,6-디-tert-부틸페닐)-3-페닐-페닐포스포나이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸-5-메틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 트리부틸포스페이트, 트리메틸포스페이트, 트리크레실포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리크롤페닐포스페이트, 트리에틸포스페이트, 디페닐크레실포스페이트, 디페닐모노오르소키세닐포스페이트, 트리부톡시에틸포스페이트, 디부틸포스페이트, 디옥틸포스페이트, 디이소프로필포스페이트 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as said phosphorus compound, For example, 1,1, 3- tris (2-methyl-4- ditridecyl phosphite-5-tert- butylphenyl) butane, distearyl pentaerythritol diphosphite, bis ( 2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritoldiphosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritoldiphosphite, phenylbisphenol Apentaerythritoldiphosphite, dicyclohexylpentaerythritol Diphosphite, tris (diethylphenyl) phosphite, tris (di-isopropylphenyl) phosphite, tris (di-n-butylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite , Tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di-tert-butyl Phenyl) (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2'-methylene (4-methyl-6-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2'-ethylidenebis (4-methyl-6-tert-butylphenyl) (2- tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl Phenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di -tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2 , 6-di-tert-butylphenyl) -3,3'-biphenylenediphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2, 4-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-n-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di- tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-pe Phosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tributyl phosphate, trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, triphenyl phosphate, Trichlorophenyl phosphate, triethyl phosphate, diphenylcresyl phosphate, diphenyl monoorthoquixenyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate and the like.

상기 인계 화합물은 시판품을 사용할 수도 있다.A commercial item can also be used for the said phosphorus compound.

예를 들면, 아데카제로서 아데카스타브PEP-4C, 아데카스타브PEP-8, 아데카스타브PEP-24G, 아데카스타브PEP-36, 아데카스타브HP-10, 아데카스타브2112, 아데카스타브260, 아데카스타브522A, 아데카스타브1178, 아데카스타브1500, 아데카스타브C, 아데카스타브135A, 아데카스타브3010, 아데카스타브TPP를 들 수 있다.For example, as adekaze, adecastabPEP-4C, adecastabPEP-8, adecastabPEP-24G, adecastabPEP-36, adecastab HP-10, adecastab 2112, adecas Tab 260, Adecastab 522A, Adecastab 1178, Adecastab 1500, Adecastab C, Adecastab 135A, Adecastab 3010, Adekastab TTP.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서 인계 화합물의 사용량은 오르가노폴리실록산(A)에 대하여 중량비로 0.005?5중량%, 보다 바람직하게는 0.01?4중량%, 0.1?2중량%이다.In the curable resin composition of this invention, the usage-amount of a phosphorus compound is 0.005 to 5 weight%, More preferably, it is 0.01 to 4 weight% and 0.1 to 2 weight% with respect to organopolysiloxane (A).

본 발명의 경화성 수지 조성물은 에폭시 수지로서 오르가노폴리실록산(A)과 경화 촉진제로서 아연염 및/또는 아연착체(C)를 필수 성분으로 하고, 경화제로서 다가 카르복실산(B)과 산 무수물, 첨가제로서 힌더드 아민계 광안정제와 인 함유 산화 방지제를 바람직한 임의 성분으로서 더 함유하지만 이들은 다른 에폭시 수지, 경화제, 각종 첨가제와도 병용할 수 있다.The curable resin composition of this invention makes an organopolysiloxane (A) an epoxy resin and a zinc salt and / or a zinc complex (C) an essential component, and a polyhydric carboxylic acid (B), an acid anhydride, and an additive as a hardening | curing agent. Although hindered amine light stabilizer and phosphorus containing antioxidant are further contained as a preferable arbitrary component, these can also be used together with another epoxy resin, a hardening | curing agent, and various additives.

에폭시 수지 성분에 있어서 오르가노폴리실록산(A)을 다른 에폭시 수지와 병용할 경우 오르가노폴리실록산(A)의 전체 에폭시 수지 중에 차지하는 비율은 60중량% 이상이 바람직하고, 특히 70중량% 이상이 바람직하다.In the epoxy resin component, when organopolysiloxane (A) is used in combination with other epoxy resins, the proportion of the organopolysiloxane (A) in the total epoxy resin is preferably 60% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more.

오르가노폴리실록산(A)과 병용할 수 있는 것 이외의 에폭시 수지로서는 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 트리페닐 메탄형 에폭시 수지, 페놀 아랄킬형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 구체적으로는 비스페놀A, 비스페놀S, 티오디페놀, 플루오렌비스페놀, 테르펜디페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 3,3',5,5'-테트라메틸-[1,1'-비페닐]-4,4'-디올, 하이드로퀴논, 레조르신, 나프탈렌디올, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀류(페놀, 알킬 치환 페놀, 나프톨, 알킬 치환 나프톨, 디히드록시벤젠, 디히드록시나프탈렌 등)와 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-히드록시벤즈알데히드, o-히드록시벤즈알데히드, p-히드록시아세토페논, o-히드록시아세토페논, 디시클로펜타디엔, 푸르푸랄, 4,4'-비스(크롤메틸)-1,1'-비페닐, 4,4'-비스(메톡시메틸)-1,1'-비페닐, 1,4-비스(클로로메틸)벤젠, 1,4-비스(메톡시메틸)벤젠 등의 중축합물 및 이들의 변성물, 테트라브로모비스페놀A 등의 할로겐화 비스페놀류, 알코올류로부터 유도되는 글리시딜에테르화물, 지환식 에폭시 수지, 글리시딜아민계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 에폭시 수지 등의 고형 또는 액상 에폭시 수지를 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다.As epoxy resins other than what can be used together with organopolysiloxane (A), a novolak-type epoxy resin, a bisphenol-A epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a triphenylmethane type epoxy resin, a phenol aralkyl type epoxy resin, etc. are mentioned. Can be. Specifically, bisphenol A, bisphenol S, thiodiphenol, fluorene bisphenol, terpendiphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl- [1,1'-biphenyl] -4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4- Hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol, alkyl substituted phenol, naphthol, alkyl substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene etc.), formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxy Benzaldehyde, p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4'-bis (cromethyl) -1,1'-biphenyl, 4,4'-bis ( Polycondensates such as methoxymethyl) -1,1'-biphenyl, 1,4-bis (chloromethyl) benzene, 1,4-bis (methoxymethyl) benzene, and modified substances thereof and tetrabromobisphenol A Such as halogenated bisphenols and alcohols Solid or liquid epoxy resins, such as a glycidyl ether derivative, an alicyclic epoxy resin, a glycidyl amine epoxy resin, and a glycidyl ester epoxy resin derived from, are not limited to these. These may be used independently and may be used together 2 or more types.

특히, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 광학 용도에 사용하는 것을 주된 목적으로 한다. 광학 용도에 사용할 경우 지환식 에폭시 수지와의 병용은 바람직하다. 지환식 에폭시 수지의 경우 골격에 에폭시시클로헥산 구조를 갖는 화합물이 바람직하고, 시클로헥센 구조를 갖는 화합물의 산화 반응에 의해 얻어지는 에폭시 수지가 특히 바람직하다.In particular, the curable resin composition of this invention makes it the main objective to use for optical uses. When used for an optical use, combined use with an alicyclic epoxy resin is preferable. In the case of an alicyclic epoxy resin, the compound which has an epoxy cyclohexane structure in a frame | skeleton is preferable, and the epoxy resin obtained by the oxidation reaction of the compound which has a cyclohexene structure is especially preferable.

이들 에폭시 수지로서는 시클로헥센카르복실산과 알코올류의 에스테르화 반응 또는 시클로헥센메탄올과 카르복실산류의 에스테르화 반응(Tetrahedron vol.36 p.2409(1980), Tetrahedron Letter p.4475(1980) 등에 기재된 방법) 또는 시클로헥센알데히드의 티셴코 반응(일본국 특허 공개 2003-170059호 공보, 일본국 특허 공개 2004-262871호 공보 등에 기재된 방법), 또한 시클로헥센카르복실산 에스테르의 에스테르 교환 반응(일본국 특허 공개 2006-052187호 공보 등에 기재된 방법)에 의해 제조할 수 있는 화합물을 산화한 것 등을 들 수 있다.As these epoxy resins, the esterification reaction of cyclohexene carboxylic acid and alcohols, or the esterification reaction of cyclohexene methanol and carboxylic acids (Tetrahedron vol. 36 p. 2409 (1980), Tetrahedron Letter p. 4475 (1980), etc.). ) Or a thishenco reaction of cyclohexene aldehyde (method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-170059, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-262871, etc.), or a transesterification reaction of cyclohexene carboxylic acid ester (Japanese Patent Laid-Open) And the method of oxidizing the compound which can be produced by the method described in 2006-052187 and the like.

알코올류로서는 알코올성 수산기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 시클로헥산디메탄올, 2,4-디에틸펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1.3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올 등의 디올류, 글리세린, 트리메틸롤에탄, 트리메틸롤프로판, 트리메틸롤부탄, 2-히드록시메틸-1,4-부탄디올 등의 트리올류, 펜타에리스리톨, 디트리메틸롤프로판 등의 테트라올류 등을 들 수 있다. 또한, 카르복실산류로서는 옥살산, 말레산, 푸말산, 프탈산, 이소프탈산, 아디프산, 시클로헥산디카르복실산 등을 들 수 있지만 이것에 한정되지 않는다.The alcohol is not particularly limited as long as it is a compound having an alcoholic hydroxyl group, but ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, and 1,6-hexane Diols such as diol, cyclohexanedimethanol, 2,4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1.3-propanediol, neopentylglycol, tricyclodecanedimethanol, norbornenediol, glycerin, trimethyl Triols such as rolled ethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol, tetraols such as pentaerythritol and ditrimethylolpropane, and the like. Examples of the carboxylic acids include oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, and the like, but are not limited thereto.

또한, 다른 에폭시 수지로서 시클로헥센알데히드 유도체와 알코올체의 아세탈 반응에 의해 얻어진 아세탈 화합물을 산화 반응에 의해 에폭시화한 에폭시 수지를 들 수 있다.Moreover, the epoxy resin which epoxidized the acetal compound obtained by the acetal reaction of a cyclohexene aldehyde derivative and an alcohol body by an oxidation reaction is mentioned as another epoxy resin.

이들 에폭시 수지의 구체예로서는 ERL-4221, UVR-6105, ERL-4299(모두 상품명, 모두 다우?케미칼제), 셀록사이드 2021P, 에포리드 GT401, EHPE3150, EHPE3150CE(모두 상품명, 모두 다이셀 카가쿠고교제) 및 디시클로펜타디엔디에폭시드 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다(참고 문헌: 총설 에폭시 수지기초편I p76-85).As a specific example of these epoxy resins, ERL-4221, UVR-6105, ERL-4299 (all brand name, all are manufactured by Dow Chemical), Celoxide 2021P, Eporide GT401, EHPE3150, EHPE3150CE (all brand names, all are Daicel Kagaku Kogyo Co., Ltd. products) ) And dicyclopentadiene diepoxide, and the like, but are not limited thereto (Reference: General Epoxy Resin Base Piece I p76-85).

이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다.These may be used independently and may be used together 2 or more types.

본 발명에 있어서의 경화제 성분으로서는 특별히 한정되는 일은 없지만 다가 카르복실산 화합물(B)을 단독으로 또는 산 무수물과 병용해서 사용하는 것이 바람직하고, 이들과 다른 경화제를 병용해서 사용하는 것도 가능하다. 병용할 경우 다가 카르복실산 화합물(B)과 산 무수물의 총 중량이 전체 경화제 중에 차지하는 비율은 30중량% 이상이 바람직하고, 특히 40중량% 이상이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent component in this invention, It is preferable to use a polyhydric carboxylic acid compound (B) individually or in combination with an acid anhydride, It is also possible to use these and other hardening agents in combination. When used in combination, the proportion of the total weight of the polyhydric carboxylic acid compound (B) and the acid anhydride in the total curing agent is preferably 30% by weight or more, particularly preferably 40% by weight or more.

병용할 수 있는 경화제로서는 예를 들면 아민계 화합물, 산 무수물계 화합물, 아미드계 화합물, 페놀계 화합물, 카르복실산계 화합물 등을 들 수 있다. 사용할 수 있는 경화제의 구체예로서는 아민류나 폴리아미드 화합물(디아미노디페닐메탄, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 디아미노디페닐술폰, 이소포론디아민, 디시안디아미드, 리놀렌산의 2량체와 에틸렌디아민으로부터 합성되는 폴리아미드 수지 등), 산 무수물과 실리콘계의 알코올류의 반응물(무수 프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 무수 말레산, 테트라히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 무수 나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 부탄테트라카르복실산 무수물, 비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물 등의 산 무수물과 카르비놀 변성 실리콘 등의 실리콘계 알코올류의 반응물 등), 다가 페놀류(비스페놀A, 비스페놀F, 비스페놀S, 플루오렌비스페놀, 테르펜디페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 3,3',5,5'-테트라메틸-[1,1'-비페닐]-4,4'-디올, 하이드로퀴논, 레조르신, 나프탈렌디올, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀류(페놀, 알킬 치환 페놀, 나프톨, 알킬 치환 나프톨, 디히드록시벤젠, 디히드록시나프탈렌 등)와 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-히드록시벤즈알데히드, o-히드록시벤즈알데히드, p-히드록시아세토페논, o-히드록시아세토페논, 디시클로펜타디엔, 푸르푸랄, 4,4'-비스(클로로메틸)-1,1'-비페닐, 4,4'-비스(메톡시메틸)-1,1'-비페닐, 1,4'-비스(클로로메틸)벤젠, 1,4'-비스(메톡시메틸)벤젠 등의 중축합물 및 이들의 변성물, 테트라브로모비스페놀A 등의 할로겐화 비스페놀류, 테르펜과 페놀류의 축합물), 기타(이미다졸, 트리플루오로보란-아민 착체, 구아니딘 유도체 등) 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋다.As a hardening | curing agent which can be used together, an amine compound, an acid anhydride type compound, an amide type compound, a phenol type compound, a carboxylic acid type compound, etc. are mentioned, for example. Specific examples of the curing agent that can be used include amines and polyamide compounds (diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, dimers of linolenic acid and ethylenediamine Polyamide resins synthesized from the like), and reactants (acid phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride, methyl anhydride) Dixic acid, nadic acid anhydride, hexahydro phthalic anhydride, methylhexahydro phthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2 Acid anhydrides, such as heptane-2, 3- dicarboxylic anhydride and cyclohexane- 1,3, 4- tricarboxylic acid-3, 4- anhydride, and silicone type | system | groups, such as carbinol modified silicone Oligosaccharides), polyhydric phenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpendiphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5) '-Tetramethyl- [1,1'-biphenyl] -4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2- Tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol, alkyl substituted phenol, naphthol, alkyl substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.), formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde , o-hydroxybenzaldehyde, p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4'-bis (chloromethyl) -1,1'-biphenyl, 4, Polycondensates such as 4'-bis (methoxymethyl) -1,1'-biphenyl, 1,4'-bis (chloromethyl) benzene, 1,4'-bis (methoxymethyl) benzene, and modifications thereof Halogenation ratios, such as water and tetrabromobisphenol A Sphenols, condensates of terpenes and phenols), others (imidazole, trifluoroborane-amine complexes, guanidine derivatives, and the like); and the like, but are not limited thereto. These may be used independently and may use 2 or more types.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서 에폭시 수지 성분과 경화제 성분의 배합 비율은 에폭시 수지 성분의 에폭시기 1당량에 대하여 경화제 성분이 0.7?1.2당량, 특히 바람직하게는 0.75?1.1당량이 되는 비율로 경화제를 사용하는 것이 바람직하다.In the curable resin composition of this invention, the compounding ratio of an epoxy resin component and a hardening | curing agent component uses a hardening | curing agent in the ratio which is 0.7-1.2 equivalent, Especially preferably, it is 0.75-1.1 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups of an epoxy resin component. It is desirable to.

에폭시기 1당량에 대하여 0.7당량에 못 미치는 경우 또는 1.2당량을 초과할 경우 모두 경화가 불완전해져 양호한 경화물성이 얻어지지 않을 우려가 있다.When less than 0.7 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups or when exceeding 1.2 equivalent, hardening becomes incomplete and there exists a possibility that favorable hardened | cured material property may not be obtained.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서는 필수 성분인 아연염 및/또는 아연착체(C)가 그대로 경화 촉매로서의 작용을 나타내기 때문에 경화 촉매를 별도 첨가하지 않아도 상관없지만 다른 경화 촉매를 병용할 수도 있다. 사용할 수 있는 경화 촉진제로서는 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 2,4-디아미노-6(2'-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-운데실이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-에틸,4-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진?이소시아누르산 부가물, 2-메틸이미다졸이소시아누르산의 2:3부가물, 2-페닐이미다졸이소시아누르산 부가물, 2-페닐-3,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-히드록시메틸-5-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐-3,5-디시아노에톡시메틸이미다졸의 각종 이미다졸류 및 그들 이미다졸류와 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 나프탈렌디카르복실산, 말레산, 옥살산 등의 다가 카르복실산과 염류, 디시안디아미드 등의 아미드류, 1,8-디아자-비시클로(5.4.0)운데센-7 등의 디아자 화합물 및 그들의 테트라페닐보레이트, 페놀노볼락 등의 염류, 상기 다가 카르복실산류 또는 포스핀산류의 염류, 테트라부틸암모늄브로마이드, 세틸트리메틸암모늄브로마이드, 트리옥틸메틸암모늄브로마이드 등의 암모늄염, 트리페닐포스핀, 트리(톨루일)포스핀, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트 등의 포스핀류나 포스포늄 화합물, 2,4,6-트리스아미노메틸페놀 등의 페놀류, 아민 어덕트, 옥틸산 주석 등의 금속 화합물 등 및 이들 경화 촉진제를 마이크로캡슐로 한 마이크로캡슐형 경화 촉진제 등을 들 수 있다. 이들 경화 촉진제 중 어느 것을 사용할지는 예를 들면 투명성, 경화 속도 작업 조건이라고 하는 얻어지는 투명 수지 조성물에 요구되는 특성에 의해 적당히 선택된다. 경화 촉진제는 에폭시 수지 성분 100중량부에 대하여 통상 0.001?15중량부의 범위에서 사용된다.In the curable resin composition of this invention, since the zinc salt and / or zinc complex (C) which are an essential component show the function as a curing catalyst as it is, it does not need to add a curing catalyst separately, but it can also use another curing catalyst together. As curing accelerators that can be used, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl 2-Undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-unde Silimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-ethyl, 4-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine, 2, 4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine-isocyanuric acid adduct, 2: 3 adduct of 2-methylimidazole isocyanuric acid, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyano Various imidazoles of ethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole and those Polyazoles, polyhydric carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid, oxalic acid, salts, amides such as dicyandiamide, 1,8-diaza Diaza compounds, such as bicyclo (5.4.0) undecene-7, and salts, such as those of tetraphenylborate and phenol novolak, salts of the said polyhydric carboxylic acid or phosphinic acid, tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethylammonium Ammonium salts such as bromide and trioctylmethylammonium bromide, phosphines such as triphenylphosphine, tri (toluyl) phosphine, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, phosphonium compounds, 2,4, Phenols such as 6-trisaminomethylphenol, metal compounds such as amine adducts, octylic acid tin, and the like, and microcapsule-type curing using these curing accelerators as microcapsules And accelerators. Which of these hardening accelerators is used is suitably selected by the characteristic calculated | required by the obtained transparent resin composition called transparency and hardening rate working conditions, for example. A hardening accelerator is normally used in 0.001-15 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resin components.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 이하에 열거하는 여러 가지 첨가제, 보조재를 첨가할 수 있다.The curable resin composition of this invention can add the various additives and auxiliary materials enumerated below.

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 인 함유 화합물을 난연성 부여 성분으로서 함유시킬 수도 있다. 인 함유 화합물로서는 반응형의 것이어도 첨가형의 것이어도 좋다. 인 함유 화합물의 구체예로서는 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리크레실포스페이트, 트리크실레닐포스페이트, 크레실디페닐포스페이트, 크레실-2,6-디크실레닐포스페이트, 1,3-페닐렌비스(디크실레닐포스페이트), 1,4-페닐렌비스(디크실레닐포스페이트), 4,4'-비페닐(디크실레닐포스페이트) 등의 인산 에스테르류; 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 10(2,5-디히드록시페닐)-10H-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 등의 포스판류; 에폭시 수지와 상기 포스판류의 활성 수소를 반응시켜서 얻어지는 인 함유 에폭시 화합물, 적린 등을 들 수 있지만 인산 에스테르류, 포스판류 또는 인 함유 에폭시 화합물이 바람직하고, 1,3-페닐렌비스(디크실레닐포스페이트), 1,4-페닐렌비스(디크실레닐포스페이트), 4,4'-비페닐(디크실레닐포스페이트) 또는 인 함유 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 인 함유 화합물의 함유량은 인 함유 화합물/에폭시 수지=0.1?0.6(중량비)이 바람직하다. 0.1 미만이면 난연성이 불충분하며, 0.6을 초과하면 경화물의 흡습성, 유전 특성에 악영향을 끼칠 우려가 있다.Curable resin composition of this invention can also be made to contain a phosphorus containing compound as a flame retardance provision component. As a phosphorus containing compound, a reactive type or an additive type may be sufficient. Specific examples of the phosphorus-containing compound include trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tricresyl phosphate, tricylelenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl-2,6-dixylenyl phosphate, and 1,3-phenylene bis (dike Phosphoric acid esters such as silenyl phosphate), 1,4-phenylene bis (dixylenyl phosphate), and 4,4'-biphenyl (dixylenyl phosphate); 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10 (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide Phosphanes, such as these; Although phosphorus containing epoxy compounds obtained by making an epoxy resin react with the active hydrogen of the said phosphanes, red phosphorus, etc. are mentioned, Phosphoric acid ester, a phosphane, or a phosphorus containing epoxy compound is preferable, and 1, 3- phenylene bis (dixylenyl Phosphate), 1,4-phenylenebis (dixylenylphosphate), 4,4'-biphenyl (dixylenylphosphate) or phosphorus-containing epoxy compounds are particularly preferred. As for content of a phosphorus containing compound, phosphorus containing compound / epoxy resin = 0.1-0.6 (weight ratio) are preferable. If it is less than 0.1, the flame retardancy is insufficient, and if it is more than 0.6, there is a risk of adversely affecting the hygroscopicity and dielectric properties of the cured product.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에는 필요에 따라 바인더 수지를 배합할 수도 있다. 바인더 수지로서는 부티랄계 수지, 아세탈계 수지, 아크릴계 수지, 에폭시-나일론계 수지, NBR-페놀계 수지, 에폭시-NBR계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 바인더 수지의 배합량은 경화물의 난연성, 내열성을 손상하지 않는 범위인 것이 바람직하고, 에폭시 수지 성분과 경화제 성분 100중량부에 대하여 통상 0.05?50중량부, 바람직하게는 0.05?20중량부가 필요에 따라 사용된다.Moreover, binder resin can also be mix | blended with curable resin composition of this invention as needed. Examples of the binder resins include butyral resins, acetal resins, acrylic resins, epoxy-nylon resins, NBR-phenolic resins, epoxy-NBR resins, polyamide resins, polyimide resins, and silicone resins. It is not limited to. It is preferable that the compounding quantity of binder resin is the range which does not impair flame retardance and heat resistance of hardened | cured material, and is 0.05-50 weight part normally with respect to 100 weight part of epoxy resin components and a hardening | curing agent component, Preferably 0.05-20 weight part is used as needed. do.

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 필요에 따라 무기 충전제를 첨가할 수 있다. 무기 충전제로서는 결정 실리카, 용융 실리카, 알루미나, 지르콘, 규산 칼슘, 탄산 칼슘, 탄화 규소, 질화 규소, 질화 붕소, 지르코니아, 포스테라이트, 스테아타이트, 스피넬, 티타니아, 탈크 등의 분체 또는 이들을 구형화한 비즈 등을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이들 무기 충전재는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋다. 이들 무기 충전제의 함유량은 본 발명의 경화성 수지 조성물 중에 있어서 0?95중량%를 차지하는 양이 사용된다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에는 실란 커플링제, 스테아린산, 팔미트산, 스테아린산 아연, 스테아린산 칼슘 등의 이형제, 안료 등의 여러 가지 배합제, 각종 열경화성 수지를 첨가할 수 있다.An inorganic filler can be added to curable resin composition of this invention as needed. As the inorganic filler, powders such as crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, forsterite, steatite, spinel, titania, talc or spheronized particles Although beads etc. are mentioned, It is not limited to these. In addition, these inorganic fillers may be used independently and may use 2 or more types. The content of these inorganic fillers which occupies 0 to 95 weight% in curable resin composition of this invention is used. The curable resin composition of the present invention can be added a silane coupling agent, stearic acid, palmitic acid, release agents such as zinc stearate, calcium stearate, various compounding agents such as pigments, and various thermosetting resins.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 광학 재료, 특히 광반도체 밀봉제에 사용할 경우에는 상기 사용하는 무기 충전재의 입경으로서 나노 오더 레벨의 충전 재를 사용함으로써 투명성을 저해하지 않고 기계 강도 등을 보완하는 것이 가능하다. 나노 오더 레벨로서의 목표는 평균 입경이 500㎚ 이하, 특히 평균 입경이 200㎚ 이하인 충전재를 사용하는 것이 투명성의 관점에서는 바람직하다.When using the curable resin composition of this invention for an optical material, especially an optical semiconductor sealing agent, it is possible to supplement a mechanical strength etc., without compromising transparency by using a nano order level filler as a particle diameter of the said inorganic filler used. . As a target for nano order level, it is preferable to use the filler of 500 nm or less of average particle diameter, especially 200 nm or less of average particle diameter from a viewpoint of transparency.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 광학 재료, 특히 광반도체 밀봉제에 사용할 경우 필요에 따라 형광체를 첨가할 수 있다. 형광체는 예를 들면 청색 LED 소자로부터 발생한 청색광의 일부를 흡수하고, 파장 변환된 황색광을 발함으로써 백색광을 형성하는 작용을 갖는 것이다. 형광체를 경화성 수지 조성물에 미리 분산시켜 두고나서 광반도체를 밀봉한다. 형광체로서는 특별히 제한이 없고, 종래 공지의 형광체를 사용할 수 있고, 예를 들면 희토류 원소의 알루민산염, 티오갈산염, 오르소규산염 등이 예시된다. 보다 구체적으로는 YAG 형광체, TAG 형광체, 오르소실리케이트 형광체, 티오갈레이트 형광체, 황화물 형광체 등의 형광체를 들 수 있고, YAlO3:Ce, Y3Al5O12:Ce, Y4Al2O9:Ce, Y2O2S:Eu, Sr5(PO4)3Cl:Eu, (SrEu)O?Al2O3 등이 예시된다. 이러한 형광체의 입경으로서는 이 분야에서 공지의 입경의 것이 사용되지만 평균 입경으로서는 1?250㎛, 특히 2?50㎛가 바람직하다. 이들의 형광체를 사용할 경우 그 첨가량은 그 첨가량은 오르가노폴리실록산(A) 등의 유기 성분 100중량부에 대하여 1?80중량부, 바람직하게는 5?60중량부가 바람직하다.When using curable resin composition of this invention for an optical material, especially an optical semiconductor sealing agent, fluorescent substance can be added as needed. The phosphor has a function of absorbing a part of the blue light generated from the blue LED element, and emitting white light by emitting wavelength-converted yellow light. The phosphor is previously dispersed in the curable resin composition, and then the optical semiconductor is sealed. There is no restriction | limiting in particular as fluorescent substance, A conventionally well-known fluorescent substance can be used, For example, aluminate of rare earth elements, thiogallate, orthosilicate, etc. are illustrated. More specifically, there can be a phosphor such as YAG phosphors, TAG phosphor, orthosilicate phosphor, thiogallate phosphor, sulfide phosphor, YAlO 3: Ce, Y 3 Al 5 O 12: Ce, Y 4 Al 2 O 9 : Ce, Y 2 O 2 S: Eu, Sr 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu, (SrEu) O? Al 2 O 3, and the like. As the particle size of such a phosphor, one having a particle size known in the art is used, but the average particle size is preferably 1 to 250 µm, particularly 2 to 50 µm. When using such fluorescent substance, the addition amount is 1-80 weight part with respect to 100 weight part of organic components, such as organopolysiloxane (A), Preferably it is 5-60 weight part.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 광학 재료, 특히 광반도체 밀봉제에 사용할 경우 각종 형광체의 경화 시 침강을 방지할 목적으로 실리카 미분말(에어로실 또는 에어로졸이라고도 불린다)을 비롯한 틱소트로픽성 부여제를 첨가할 수 있다. 이러한 실리카 미분말로서는 예를 들면 Aerosil 50, Aerosil 90, Aerosil 130, Aerosil 200, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil OX50, Aerosil TT600, Aerosil R972, Aerosil R974, Aerosil R202, Aerosil R812, Aerosil R812S, Aerosil R805, RY200, RX200(니폰 에어로실사제) 등을 들 수 있다.When the curable resin composition of the present invention is used in an optical material, especially an optical semiconductor encapsulant, thixotropic imparting agents including fine silica powder (also called aerosil or aerosol) can be added for the purpose of preventing sedimentation upon curing of various phosphors. have. As such a fine silica powder, for example, Aerosil 50, Aerosil 90, Aerosil 130, Aerosil 200, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil OX50, Aerosil TT600, Aerosil R972, Aerosil R974, Aerosil R202, Aerosil R812, Aerosil R812S, Aerosil R805, RY200 And RX200 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.).

본 발명의 경화성 수지 조성물은 산화 방지재로서 페놀계 화합물을 함유할 수 있다.Curable resin composition of this invention can contain a phenol type compound as antioxidant.

페놀 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, n-옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2,4-디-tert-부틸-6-메틸페놀, 1,6-헥산디올-비스-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-이소시아누레이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 펜타에리스리틸-테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,9-비스-[2-[3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)-프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸, 트리에틸렌글리콜-비스[3-(3-t-부틸-5-메틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 2,2'-부틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페놀아크릴레이트, 2-[1-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 2-tert-부틸-4-메틸페놀, 2,4-디-tert-부틸페놀, 2,4-디-tert-펜틸페놀, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 비스-[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-tert-부틸페닐)-부타노익애시드]-글리콜에스테르, 2,4-디-tert-부틸페놀, 2,4-디-tert-펜틸페놀, 2-[1-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 비스-[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-tert-부틸페닐)-부타노익애시드]-글리콜에스테르 등을 들 수 있다.It does not specifically limit as a phenol compound, For example, 2, 6- di-tert- butyl- 4-methyl phenol, n-octadecyl-3- (3, 5- di-tert- butyl- 4-hydroxyphenyl) Propionate, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,4-di-tert-butyl-6-methylphenol, 1 , 6-hexanediol-bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl ) -Isocyanurate, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, pentaerythryl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis- [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -Propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, triethyleneglycol-bis [3- (3-t-butyl-5- Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2'-butylidenebis (4,6-di-tert-butylphenol), 4,4'- Thilidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6- tert-butylphenol), 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenolacrylate, 2- [1- (2-hydroxy- 3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenylacrylate, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4 '-Butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2-tert-butyl-4-methylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-pentyl Phenol, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), bis- [3,3 -Bis- (4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-pentylphenol, 2 -[1- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenylacrylate, bis- [3,3-bis- (4'- Hydroxy-3'-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester And the like.

상기 페놀계 화합물은 시판품을 사용할 수도 있다.A commercial item can also be used for the said phenol type compound.

예를 들면, 치바 스페셜리티 케미칼즈제로서 IRGANOX1010, IRGANOX1035, IRGANOX1076, IRGANOX1135, IRGANOX245, IRGANOX259, IRGANOX295, IRGANOX3114, IRGANOX1098, IRGANOX1520L, 아데카제로서 아데카스타브AO-20, 아데카스타브AO-30, 아데카스타브AO-40, 아데카스타브AO-50, 아데카스타브AO-60, 아데카스타브AO-70, 아데카스타브AO-80, 아데카스타브AO-90, 아데카스타브AO-330, 스미토모 카가쿠고교제로서 SumilizerGA-80, Sumilizer MDP-S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS(F), Sumilizer GP 등을 들 수 있다.For example, IRGANOX1010, IRGANOX1035, IRGANOX1076, IRGANOX1135, IRGANOX245, IRGANOX259, IRGANOX295, IRGANOX3114, IRGANOX1098, IRGANOX1520L, AdekastacaoAO, AdekastaaAOAO, made by Chiba Specialty Chemicals AO-40, Adecastabe AO-50, Adecastabe AO-60, Adecastabe AO-70, Adecastabe AO-80, Adecastabe AO-90, Adecastabe AO-330, Sumitomo Kagaku High School Examples include Sumilizer GA-80, Sumilizer MDP-S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F), Sumilizer GP, and the like.

이외에 수지의 착색 방지제로서 시판되어 있는 첨가재를 사용할 수 있다. 예를 들면, 치바 스페셜리티 케미칼즈제로서 TINUVIN328, TINUVIN234, TINUVIN326, TINUVIN120, TINUVIN477, TINUVIN479, CHIMASSORB2020FDL, CHIMASSORB119FL 등을 들 수 있다.In addition, a commercially available additive can be used as a coloring inhibitor of resin. For example, TINUVIN328, TINUVIN234, TINUVIN326, TINUVIN120, TINUVIN477, TINUVIN479, CHIMASSORB2020FDL, CHIMASSORB119FL, etc. are mentioned as Chiba Specialty Chemicals.

상기 페놀계 화합물을 첨가할 경우 그 배합량으로서는 특별히 한정되지 않지만 본 발명의 경화성 수지 조성물 중에서 0.005?5.0중량%를 차지하는 양으로 첨가할 수 있다.Although it does not specifically limit as the compounding quantity when adding the said phenol type compound, It can add in the quantity which occupies 0.005-5.0 weight% in curable resin composition of this invention.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 각 성분을 균일하게 혼합함으로써 얻어진다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물은 종래 알려져 있는 방법과 마찬가지의 방법으로 용이하게 그 경화물로 할 수 있다.Curable resin composition of this invention is obtained by mixing each component uniformly. Moreover, curable resin composition of this invention can be easily made into the hardened | cured material by the method similar to the method known conventionally.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 예를 들면 에폭시 수지 성분과 경화제 성분과 아연염 및/또는 아연착체(C)를 필요에 따라 압출기, 니더, 롤 또는 플래니터리 믹서 등을 사용해서 균일해질 때까지 충분히 혼합함으로써 얻을 수 있다. 얻어진 경화성 수지 조성물이 액상일 경우에는 포팅(potting)이나 캐스팅(casting) 또는 기재에 함침하거나 금형에 경화성 수지 조성물을 흘려 넣어서 주형하고, 가열에 의해 경화시킴으로써 경화물로 할 수 있다. 한편, 경화성 수지 조성물이 고형일 경우에는 용융 후 주형 또는 트랜스퍼 성형기 등을 사용해서 성형하고, 가열에 의해 더 경화시킴으로써 경화물로 할 수 있다.Curable resin composition of this invention is sufficient until it becomes uniform, for example using an extruder, a kneader, a roll, or a planetary mixer, an epoxy resin component, a hardening | curing agent component, a zinc salt, and / or a zinc complex (C) as needed. It can obtain by mixing. When the obtained curable resin composition is a liquid, it can be made into a hardened | cured material by making it potable, casting, impregnating a base material, pouring curable resin composition into a metal mold, and hardening by heating. On the other hand, when curable resin composition is solid, it can shape into hardened | cured material by shape | molding using a casting mold, a transfer molding machine, etc. after melt | dissolution, and further hardening by heating.

또한, 임의 성분 이외에 경화 촉진제, 아민 화합물, 인 함유 화합물, 페놀 화합물, 바인더 수지, 무기 충전재 등은 상기 혼합 공정에서 첨가, 혼합하면 좋다. 경화 온도, 시간으로서는 80?200℃에서 2?10시간이다. 경화 방법으로서는 고온에서 한번에 경화시킬 수도 있지만 단계적으로 승온해서 경화 반응을 진행시키는 것이 바람직하다. 구체적으로는 80?150℃ 사이에서 초기 경화를 행하고, 100℃?200℃ 사이에서 후경화를 행한다. 경화의 단계로서는 2?8단계로 나누어서 승온하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2?4단계이다.In addition to the optional components, a curing accelerator, an amine compound, a phosphorus containing compound, a phenol compound, a binder resin, an inorganic filler, or the like may be added and mixed in the above mixing step. As hardening temperature and time, it is 2 to 10 hours at 80-200 degreeC. As a hardening method, although it can also harden | cure at high temperature at once, it is preferable to heat up in steps and to advance hardening reaction. Specifically, initial curing is performed at 80 to 150 ° C, and post curing is performed at 100 ° C to 200 ° C. As a step of hardening, it is preferable to divide into 2-8 steps and to heat up, More preferably, it is 2-4 steps.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 톨루엔, 크실렌, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 용제에 용해시켜 경화성 수지 조성물 바니시로 하고, 유리 섬유, 탄소 섬유, 폴리에스테르 섬유, 폴리아미드 섬유, 알루미나 섬유, 종이 등의 기재에 함침시켜서 가열 건조해서 얻은 프리프레그를 열 프레스 성형함으로써 본 발명의 경화성 수지 조성물의 경화물로 할 수 있다. 이때의 용제는 본 발명의 경화성 수지 조성물과 상기 용제의 혼합물 중에서 통상 10?70중량%, 바람직하게는 15?70중량%를 차지하는 양을 사용한다. 또한, 액상 조성물 그대로 RTM(Resin Transfer Molding) 방식으로 카본 섬유를 함유하는 에폭시 수지 경화물을 얻을 수도 있다.In addition, the curable resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and the like as a curable resin composition varnish. It can be set as the hardened | cured material of the curable resin composition of this invention by hot-press-molding the prepreg obtained by impregnating and heat-drying the base material, such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, and paper. The solvent at this time is 10 to 70 weight% normally in the mixture of curable resin composition of this invention and the said solvent, The quantity which preferably occupies 15 to 70 weight% is used. Moreover, the epoxy resin hardened | cured material containing carbon fiber can also be obtained as a liquid composition by Resin Transfer Molding (RTM) system.

또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물을 필름형 밀봉용 조성물로서 사용할 수도 있다. 이러한 필름형 밀봉용 조성물을 얻는 방법으로서는 우선 본 발명의 경화성 수지 조성물을 상기 경화성 수지 조성물 바니시로 하고, 이것을 박리 필름 상에 도포하여 가열 하에서 용제를 제거해서 B스테이지화를 행하는 방법을 들 수 있고, 이것에 의해 필름형 밀봉용 조성물을 시트상의 접착제로서 얻을 수 있다. 이 시트상 접착제는 다층 기판 등에 있어서의 층간 절연층, 광반도체의 일괄 필름 밀봉으로서 사용할 수 있다.Moreover, curable resin composition of this invention can also be used as a composition for film type sealing. As a method of obtaining such a film sealing composition, the method of first performing curable resin composition of this invention as said curable resin composition varnish, apply | coating this on a peeling film, removing a solvent under heating, and performing B stage, Thereby, the composition for film type sealing can be obtained as a sheet-like adhesive agent. This sheet-like adhesive agent can be used as package film sealing of the interlayer insulation layer and optical semiconductor in a multilayer board | substrate.

이어서, 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 광반도체의 밀봉재 또는 다이 본드재로서 사용하는 경우에 대해서 상세하게 설명한다.Next, the case where the epoxy resin composition of this invention is used as a sealing material or die-bonding material of an optical semiconductor is demonstrated in detail.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 고휘도 백색 LED 등의 광반도체의 밀봉재 또는 다이 본드재로서 사용할 경우에는 에폭시 수지, 경화제, 커플링제, 산화 방지제, 광안정제 등의 첨가물을 충분히 혼합함으로써 경화성 수지 조성물을 조제한다. 혼합 방법으로서는 니더, 3개 롤, 만능 믹서, 플래니터리 믹서, 호모 믹서, 호모디스퍼, 비즈 밀 등을 사용해서 상온 또는 가온해서 혼합하면 좋다. 얻어지는 경화성 수지 조성물은 밀봉재 또는 다이 본드재와 밀봉재 양쪽에 사용할 수 있다.When using curable resin composition of this invention as a sealing material or die-bonding material of optical semiconductors, such as a high brightness white LED, curable resin composition is prepared by fully mixing additives, such as an epoxy resin, a hardening | curing agent, a coupling agent, antioxidant, and a light stabilizer. . As a mixing method, you may mix at room temperature or warm using a kneader, three rolls, a universal mixer, a planetary mixer, a homo mixer, a homodisper, a bead mill, etc. Curable resin composition obtained can be used for both a sealing material or a die-bonding material, and a sealing material.

고휘도 백색 LED 등의 광반도체 소자는 일반적으로 사파이어, 스피넬, SiC, Si, ZnO 등의 기판 상에 적층시킨 GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN 등의 반도체 칩을 접착제(다이 본드재)를 사용해서 리드 프레임이나 방열판, 패키지에 접착시켜서 이루어진다. 전류를 흘려보내기 위해서 금 와이어 등의 와이어가 접속되어 있는 타입도 있다. 한편, 그 반도체 칩은 그 주위를 에폭시 수지 등의 밀봉재로 밀봉하고 있다. 밀봉재는 반도체 칩을 열이나 습기로부터 지키고, 또한 렌즈 기능의 역할을 하기 위해서 사용된다.Optical semiconductor devices such as high-brightness white LEDs generally include semiconductor chips such as GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN, etc., stacked on substrates such as sapphire, spinel, SiC, Si, and ZnO. It is made by adhering to a lead frame, a heat sink, and a package using an adhesive agent (die bond material). There is also a type in which wires such as gold wires are connected in order to flow an electric current. On the other hand, the semiconductor chip is sealed around it with sealing materials, such as an epoxy resin. The sealing material is used to protect the semiconductor chip from heat and moisture and to serve as a lens function.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 이 밀봉재나 다이 본드재로서 사용할 수 있다. 공정상으로부터는 본 발명의 경화성 수지 조성물을 다이 본드재와 밀봉재 양쪽에 사용하는 것이 바람직하다.Curable resin composition of this invention can be used as this sealing material and die-bonding material. It is preferable to use curable resin composition of this invention for both a die bond material and a sealing material from a process top.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 사용해서 반도체 칩을 기판에 접착하는 방법으로서는 본 발명의 경화성 수지 조성물을 디스펜서, 포팅 또는 스크린 인쇄에 의해 기판 상에 도포한 후 상기 경화성 수지 조성물 상에 반도체 칩을 놓고 가열 경화를 행하는 방법을 들 수 있다. 이러한 방법에 의해 반도체 칩을 기판에 접착시킬 수 있다. 가열에는 열풍 순환식, 적외선, 고주파 등의 방법을 사용할 수 있다.As a method of adhering a semiconductor chip to a substrate using the curable resin composition of the present invention, the curable resin composition of the present invention is applied onto a substrate by a dispenser, potting or screen printing, and then the semiconductor chip is placed on the curable resin composition and heated. The method of hardening is mentioned. In this way, the semiconductor chip can be adhered to the substrate. For heating, methods such as hot air circulation type, infrared ray, and high frequency can be used.

가열 조건은 예를 들면 80?230℃에서 1분?24시간 정도가 바람직하다. 가열 경화 시에 발생하는 내부 응력을 저감할 목적으로 예를 들면 80?120℃에서 30분?5시간 예비 경화시킨 후에 120?180℃에서 30분?10시간의 조건으로 후경화시킬 수 있다.As for heating conditions, 1 minute-about 24 hours are preferable at 80-230 degreeC. For the purpose of reducing the internal stress generated at the time of heat curing, for example, after preliminary curing at 80 to 120 ° C for 30 minutes to 5 hours, it can be post-cured at 120 to 180 ° C for 30 minutes to 10 hours.

밀봉재의 성형 방식으로서는 상기한 바와 같이 반도체 칩이 고정된 기판을 삽입한 형프레임 내에 밀봉재를 주입한 후에 가열 경화를 행하여 성형하는 주입 방식, 금형 상에 밀봉재를 미리 주입하고, 거기에 기판 상에 고정된 반도체 칩을 침지시켜서 가열 경화를 한 후에 금형으로부터 이형하는 압축 성형 방식 등이 사용되고 있다.As a method of forming a sealing material, as described above, an injection method of molding by heating and curing the sealing material after injecting the sealing material into a mold frame into which a semiconductor chip is fixed, and injecting the sealing material onto the mold in advance, and fixing it thereon The compression molding method etc. which mold-release from a metal mold | die after carrying out heat-hardening by immersing the semiconductor chip which were used are used.

주입 방법으로서는 디스펜서, 트랜스퍼 성형, 사출 성형 등을 들 수 있다. As an injection method, a dispenser, transfer molding, injection molding, etc. are mentioned.

가열은 열풍 순환식, 적외선, 고주파 등의 방법을 사용할 수 있다.Heating can be performed by hot air circulation, infrared, high frequency, or the like.

가열 조건은 예를 들면 80?230℃에서 1분?24시간 정도가 바람직하다. 가열 경화 시에 발생하는 내부 응력을 저감할 목적으로 예를 들면 80?120℃에서 30분?5시간 예비 경화시킨 후에 120?180℃에서 30분?10시간의 조건에서 후경화시킬 수 있다.As for heating conditions, 1 minute-about 24 hours are preferable at 80-230 degreeC. For the purpose of reducing the internal stress generated at the time of heat curing, for example, after precuring at 80 to 120 ° C for 30 minutes to 5 hours, it can be post-cured at 120 to 180 ° C for 30 minutes to 10 hours.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 용도는 상기 용도에만 한정되는 일 없이 에폭시 수지 등의 경화성 수지가 사용되는 일반적인 용도에 적용 가능하다. 예를 들면, 접착제, 도료, 코팅제, 성형 재료(시트, 필름, FRP 등을 포함한다), 절연 재료(프린트 기판, 전선 피복 등을 포함한다), 밀봉재 이외에 밀봉재, 기판용 시아네이트 수지 조성물이나 레지스트용 경화제로서 아크릴산 에스테르계 수지 등 타 수지 등으로의 첨가제 등을 들 수 있다.The use of curable resin composition of this invention is applicable to the general use which curable resin, such as an epoxy resin, is used, without being limited only to the said use. For example, adhesives, paints, coatings, molding materials (including sheets, films, FRP, etc.), insulating materials (including printed boards, wire coatings, etc.), sealing materials, sealing materials, cyanate resin compositions and resists for substrates Additives to other resin, such as acrylic ester resin, etc. are mentioned as a hardening | curing agent for.

접착제로서는 토목용, 건축용, 자동차용, 일반 사무용, 의료용 접착제 이외에 전자 재료용 접착제를 들 수 있다. 이들 중 전자 재료용 접착제로서는 빌드 업 기판 등의 다층 기판의 층간 접착제, 다이 본딩제, 언더 필 등의 반도체용 접착제, BGA 보강용 언더 필, 이방성 도전성 필름(ACF), 이방성 도전성 페이스트(ACP) 등의 실장용 접착제 등을 들 수 있다.Examples of the adhesive include adhesives for electronic materials, in addition to civil engineering, construction, automobile, general office, and medical adhesives. Among these adhesives for electronic materials, interlayer adhesives of multilayer substrates such as build-up substrates, die bonding agents, semiconductor adhesives such as underfills, BGA reinforcement underfills, anisotropic conductive films (ACF), anisotropic conductive pastes (ACP), and the like. Mounting adhesives and the like.

밀봉제로서는 콘덴서, 트랜지스터, 다이오드, 발광 다이오드, IC, LSI용 등의 포팅, 침지, 트랜스퍼 몰드 밀봉, IC, LSI류의 COB, COF, TAB용 등이라는 포팅 밀봉, 플립 칩용 등의 언더 필, QFP, BGA, CSP 등의 IC 패키지류 실장 시의 밀봉(보강용 언더 필을 포함한다) 등을 들 수 있다.As the sealant, potting such as condenser, transistor, diode, light emitting diode, IC, LSI, immersion, transfer mold sealing, potting seal such as COB, COF, TAB for IC, LSI, underfill such as flip chip, QFP And sealing (including reinforcing underfill) when mounting IC packages such as BGA and CSP.

본 발명에서 얻어지는 경화물은 광학 부품 재료를 비롯하여 각종 용도에 사용할 수 있다. 광학용 재료란 가시광, 적외선, 자외선, X선, 레이저 등의 광을 그 재료 중을 통과시키는 용도에 사용하는 재료 일반을 나타낸다. 보다 구체적으로는 램프 타입, SMD 타입 등의 LED용 밀봉재 이외에 이하와 같은 것을 들 수 있다. 액정 디스플레이 분야에 있어서의 기판 재료, 도광판, 프리즘 시트, 편향판, 위상차판, 시야각 보정 필름, 접착제, 편광자 보호 필름 등의 액정용 필름 등의 액정 표시 장치 주변 재료이다. 또한, 차세대 플랫 패널 디스플레이로서 기대되는 컬러 PDP(플라즈마디스플레이)의 밀봉재, 반사 방지 필름, 광학 보정 필름, 하우징재, 전면 유리의 보호 필름, 전면 유리 대체 재료, 접착제, 또한 LED 표시 장치에 사용되는 LED의 몰드재, LED의 밀봉재, 전면 유리의 보호 필름, 전면 유리 대체 재료, 접착제, 또한 플라즈마 어드레스 액정(PALC) 디스플레이에 있어서의 기판 재료, 도광판, 프리즘 시트, 편향판, 위상차판, 시야각 보정 필름, 접착제, 편광자 보호 필름, 또한 유기 EL(일렉트로루미네선스) 디스플레이에 있어서의 전면 유리의 보호 필름, 전면 유리 대체 재료, 접착제, 또한 필드 에미션 디스플레이(FED)에 있어서의 각종 필름 기판, 전면 유리의 보호 필름, 전면 유리 대체 재료, 접착제이다. 광기록 분야에서는 VD(비디오 디스크), CD/CD-ROM, CD-R/RW, DVD-R/DVD-RAM, MO/MD, PD(상변화 디스크), 광 카드용 디스크 기판 재료, 픽업 렌즈, 보호 필름, 밀봉재, 접착제 등이다.The hardened | cured material obtained by this invention can be used for various uses including an optical component material. An optical material shows the general material used for the use which makes light, such as visible light, an infrared ray, an ultraviolet-ray, an X-ray, a laser, pass through the material. More specifically, the following are mentioned besides LED sealing materials, such as a lamp type and a SMD type. Liquid crystal display peripheral materials, such as a board | substrate material, a light guide plate, a prism sheet, a deflection plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive agent, and a polarizer protective film in the liquid crystal display field | area. In addition, LEDs used in sealing materials, antireflection films, optical correction films, housing materials, front glass protective films, front glass replacement materials, adhesives, and LED display devices, which are expected to be the next-generation flat panel displays. Mold material, LED sealing material, protective film of front glass, front glass substitute material, adhesive, substrate material in plasma address liquid crystal (PALC) display, light guide plate, prism sheet, deflection plate, retardation plate, viewing angle correction film, Adhesive film, polarizer protective film, protective film of front glass in organic EL (electroluminescent) display, front glass substitute material, adhesive, and various film substrates in front emission display (FED), front glass Protective film, front glass replacement material, adhesive. In the field of optical recording, VD (video disc), CD / CD-ROM, CD-R / RW, DVD-R / DVD-RAM, MO / MD, PD (phase change disc), disc substrate material for optical card, pickup lens , Protective films, sealants, adhesives and the like.

광학 기기 분야에서는 스틸 카메라 렌즈용 재료, 파인더 프리즘, 타겟 프리즘, 파인더 커버, 수광 센서부이다. 또한, 비디오 카메라의 촬영 렌즈, 파인더이다. 또한, 프로젝션 TV의 투사 렌즈, 보호 필름, 밀봉재, 접착제 등이다. 광 센싱 기기 렌즈용 재료, 밀봉재, 접착제, 필름 등이다. 광부품 분야에서는 광통신 시스템에서의 광 스위치 주변의 섬유 재료, 렌즈, 도파로, 소자의 밀봉재, 접착제 등이다. 광 커넥터 주변의 광섬유 재료, 페룰, 밀봉재, 접착제 등이다. 광 수동 부품, 광 회로 부품에서는 렌즈, 도파로, LED 밀봉재, CCD 밀봉재, 접착제 등이다. 광 전자 집적 회로(OEIC) 주변의 기판 재료, 섬유 재료, 소자의 밀봉재, 접착제 등이다. 광섬유 분야에서는 장식 디스플레이용 조명?라이트 가이드 등, 공업 용도의 센서류, 표시?표식류 등 또한 통신 인프라 스트럭쳐용 및 가정 내의 디지털 기기 접속용의 광섬유이다. 반도체 집적 회로 주변 재료에서는 LSI, 초 LSI 재료용의 마이크로 리소그래피용의 레지스트 재료이다. 자동차?수송기 분야에서는 자동차용 램프 리플렉터, 베어링 리테이너, 기어 부분, 내식 코팅, 스위치 부분, 헤드 램프, 엔진 내 부품, 전장 부품, 각종 내?외장품, 구동 엔진, 브레이크 오일 탱크, 자동차용 방청 강판, 인테리어 패널, 내장재, 보호?결속용 와이어하니스, 연료 호스, 자동차 램프, 유리 대체품이다. 또한, 철도 차량용 복층 유리이다. 또한, 항공기의 구조재의 인성 부여제, 엔진 주변 부재, 보호?결속용 와이어 하네스, 내식 코팅이다. 건축 분야에서는 내장?가공용 재료, 전기 커버, 시트, 유리 중간막, 유리 대체품, 태양 전지 주변 재료이다. 농업용에서는 하우스 피복용 필름이다. 차세대의 광?전자 기능 유기 재료로서는 유기 EL 소자 주변 재료, 유기 포트 리플랙티브 소자, 광-광 변환 디바이스인 광증폭 소자, 광연산 소자, 유기 태양 전지 주변의 기판 재료, 섬유 재료, 소자의 밀봉재, 접착제 등이다.In the field of optical instruments, it is a material for still camera lenses, a finder prism, a target prism, a finder cover, and a light receiving sensor unit. It is also a shooting lens and finder for video cameras. Moreover, it is a projection lens of a projection TV, a protective film, a sealing material, an adhesive agent, etc. Optical sensing device lens materials, sealing materials, adhesives, films and the like. In the field of optical components, fiber materials, lenses, waveguides, sealing materials for devices, adhesives, and the like around optical switches in optical communication systems. Optical fiber materials, ferrules, sealants, adhesives and the like around optical connectors. Optical passive components and optical circuit components include lenses, waveguides, LED sealants, CCD sealants, adhesives, and the like. A substrate material, a fiber material, a sealing material for an element, an adhesive, and the like around an optoelectronic integrated circuit (OEIC). In the optical fiber field, sensors for industrial use such as lighting and light guides for decorative displays, and displays and markers are also optical fibers for communication infrastructures and digital devices in homes. In semiconductor integrated circuit peripheral materials, it is a resist material for microlithography for LSI and ultra LSI materials. In the field of automobiles and transports, automotive lamp reflectors, bearing retainers, gear parts, corrosion resistant coatings, switch parts, headlamps, engine parts, electrical components, various interior and exterior products, drive engines, brake oil tanks, automotive antirust steel plates, Interior panels, interior materials, protective and binding wire harnesses, fuel hoses, automotive lamps and glass replacements. Moreover, it is the multilayer glass for railroad cars. In addition, toughness-imparting agents, structural members of engines, wire harnesses for protection and binding, and corrosion-resistant coatings of structural materials of aircrafts. In the field of construction, the materials are interior and processing materials, electrical covers, sheets, glass interlayers, glass substitutes, and solar cell peripheral materials. In agriculture, it is a house coating film. Next-generation opto-electronic functional organic materials include organic EL element peripheral materials, organic port reflective elements, optical amplification elements that are photo-optical conversion devices, photo-computation elements, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, and sealing materials for elements. , Adhesives and the like.

광학용 재료의 다른 용도로서는 경화성 수지 조성물이 사용되는 일반적인 용도를 들 수 있고, 예를 들면 접착제, 도료, 코팅제, 성형 재료(시트, 필름, FRP 등을 포함한다), 절연 재료(프린트 기판, 전선 피복 등을 포함한다), 밀봉제 이외에 타 수지 등으로의 첨가제 등을 들 수 있다.Other uses of the optical material include general uses in which the curable resin composition is used, and examples thereof include adhesives, paints, coatings, molding materials (including sheets, films, and FRP), and insulating materials (printed boards, electric wires). Coating, etc.), and additives to other resins, etc., in addition to the sealant.

실시예Example

이하, 본 발명을 합성예, 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이들 합성예, 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 합성예, 실시예에 있어서 「부」는 중량부를, 「%」는 중량%를 각각 의미한다. 또한, 실시예 중의 각 물성값은 이하의 방법으로 측정했다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated further in detail by the synthesis example and the Example. In addition, this invention is not limited to these synthesis examples and an Example. In addition, in the following synthesis examples and examples, "part" means a weight part and "%" means weight%, respectively. In addition, each physical property value in an Example was measured with the following method.

(1) 분자량: 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의해 하기 조건 하에서 측정된 폴리스티렌 환산, 중량 평균 분자량을 산출했다.(1) Molecular weight: The polystyrene conversion and the weight average molecular weight measured under the following conditions were computed by the gel permeation chromatography (GPC) method.

GPC의 각종 조건Conditions of GPC

메이커: 시마즈 세이사쿠쇼Manufacturer: Shimadzu Seisakusho

컬럼: 가드 컬럼 SHODEX GPC LF-G LF-804(3개)Column: Guard Column SHODEX GPC LF-G LF-804 (3ea)

유속: 1.0㎖/min.Flow rate: 1.0 ml / min.

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

사용 용제: THF(테트라히드로푸란)Solvent used: THF (tetrahydrofuran)

검출기: RI(시차 굴절 검출기)Detector: Differential Refractive Detector (RI)

(2) 에폭시 당량: JIS K-7236에 기재된 방법으로 측정.(2) Epoxy equivalent: It measures by the method of JISK-7236.

(3) 점도: 토키 산교 가부시키가이샤제 E형 점도계(TV-20)를 사용해서 25℃에서 측정.(3) Viscosity: It measures at 25 degreeC using the Toki Sangyo Co., Ltd. E-type viscosity meter (TV-20).

합성예 1Synthesis Example 1

제조 공정(ⅰ)으로서 β-(3,4에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 106부, 중량 평균 분자량 1700(GPC 측정값)의 시라놀 말단 메틸페닐실리콘오일 234부(시라놀 당량 850, GPC를 사용해서 측정한 중량 평균 분자량의 반으로 해서 산출했다), 0.5% 수산화 칼륨(KOH)메탄올 용액 18부(KOH부수로서는 0.09부)를 반응 용기에 넣고, 배쓰 온도를 75℃로 설정하여 승온했다. 승온 후 환류 하에서 8시간 반응시켰다.106 parts of (beta)-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 234 parts of silanol terminal methylphenyl silicone oil of the weight average molecular weight 1700 (GPC measurement) as a manufacturing process (Cyrolol equivalent of 850, GPC) It calculated as half of the weight average molecular weight measured using, 18 parts of 0.5% potassium hydroxide (KOH) methanol solutions (0.09 parts as KOH number) were put into the reaction container, and the bath temperature was set to 75 degreeC, and it heated up. After heating, the mixture was reacted under reflux for 8 hours.

제조 공정(ⅱ)으로서 메탄올을 305부 추가 후 50% 증류수 메탄올 용액 86.4부를 60분 걸쳐서 적하하고, 환류 하 75℃에서 8시간 반응시켰다. 반응 종료 후 5% 인산 2수소 나트륨 수용액으로 중화 후 80℃에서 메탄올의 증류 회수를 행했다. 메틸이소부틸케톤(MIBK) 380부를 첨가하고, 수세를 3회 반복했다. 이어서, 유기상을 감압 하, 100℃에서 용매를 제거함으로써 반응성 관능기를 갖는 오르가노폴리실록산 화합물(A-1) 300부를 얻었다. 얻어진 화합물의 에폭시 당량은 718g/eq, 중량 평균 분자량은 2200, 외관은 무색 투명이었다.After adding 305 parts of methanol as a manufacturing process (ii), 86.4 parts of 50% distilled-water methanol solutions were dripped over 60 minutes, and it was made to react at 75 degreeC under reflux for 8 hours. After completion of the reaction, methanol was distilled off at 80 ° C. after neutralization with an aqueous 5% sodium dihydrogen phosphate solution. 380 parts of methyl isobutyl ketones (MIBK) were added, and water washing was repeated 3 times. Subsequently, 300 parts of organopolysiloxane compounds (A-1) which have a reactive functional group were obtained by removing a solvent at 100 degreeC under pressure reduction of an organic phase. The epoxy equivalent of the obtained compound was 718 g / eq, the weight average molecular weight was 2200, and the appearance was colorless and transparent.

합성예 2Synthesis Example 2

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼지를 실시하면서 트리시클로데칸디메탄올 20부, 메틸헥사히드로프탈산 무수물(신니혼리카)(주)제, 리카시드MH, 이하 산 무수물(H-1)이라고 칭한다) 100부를 첨가하고, 40℃에서 3시간 반응 후 70℃에서 1시간 가열 교반을 행함으로써(GPC에 의해 트리시클로데칸디메탄올의 소실(1면적% 이하)을 확인했다) 다가 카르복실산(B-1)과 산 무수물(H-1)을 함유하는 경화제 조성물(T-1)이 120부 얻어졌다. 얻어진 경화제 조성물(T-1)은 무색의 액상 수지이며, GPC에 의한 순도는 다가 카르복실산(B-1;하기 식(7))을 55면적%, 산 무수물(H-1)이 45면적%이었다. 또한, 관능기 당량은 201g/eq.이었다. 또한, 25℃에 있어서의 점도는 18900mPa?s(E형 점도계)이었다.20 parts of tricyclodecane dimethanol, methylhexahydrophthalic anhydride (Shin Nihon Rika) Co., Ltd. product, lycaside MH, the following acid anhydride (H), performing nitrogen purge to the flask provided with the stirrer, the reflux condenser, and the stirring apparatus. 100 parts were added, and the reaction was carried out at 40 ° C. for 3 hours, followed by heating and stirring at 70 ° C. for 1 hour (the loss of tricyclodecane dimethanol (1 area% or less) was confirmed by GPC). 120 parts of hardening agent compositions (T-1) containing a carboxylic acid (B-1) and an acid anhydride (H-1) were obtained. The obtained hardening | curing agent composition (T-1) is a colorless liquid resin, The purity by GPC is 55 area% of polyhydric carboxylic acid (B-1; following formula (7)) and 45 area of acid anhydride (H-1). It was%. In addition, the functional group equivalent was 201 g / eq. In addition, the viscosity in 25 degreeC was 18900 mPa * s (E-type viscosity meter).

Figure pct00005
Figure pct00005

합성예 3Synthesis Example 3

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼지를 실시하면서 2,4-디에틸펜탄디올 20부, 산 무수물(H-1) 100부를 첨가하고, 40℃에서 3시간 반응 후 70℃에서 1시간 가열 교반을 행함으로써(GPC에 의해 2,4-디에틸펜탄디올의 소실(1면적% 이하)을 확인했다) 다가 카르복실산(B-2)과 산 무수물(H-1)을 함유하는 경화제 조성물(T-2)이 120부 얻어졌다. 얻어진 경화제 조성물(T-2)은 무색의 액상 수지이며, GPC에 의한 순도는 다가 카르복실산(B-2;하기 식8)을 50면적%, 산 무수물(H-1)이 50면적%이었다. 또한, 관능기 당량은 201g/eq.이었다. 또한, 25℃에 있어서의 점도는 16200mPa?s(E형 점도계)이었다.20 parts of 2,4-diethylpentanediol and 100 parts of acid anhydrides (H-1) were added, carrying out nitrogen purge to the flask provided with the stirrer, the reflux condenser, and the stirring apparatus, and 70 degreeC after reaction at 40 degreeC for 3 hours. The polyvalent carboxylic acid (B-2) and the acid anhydride (H-1) were removed by heating and stirring for 1 hour (GPC confirmed loss of 2,4-diethylpentanediol (1 area% or less)). 120 parts of hardening agent compositions (T-2) containing were obtained. The obtained curing agent composition (T-2) was a colorless liquid resin, and the purity by GPC was 50 area% of polyhydric carboxylic acid (B-2; formula 8) and 50 area% of acid anhydride (H-1). . In addition, the functional group equivalent was 201 g / eq. In addition, the viscosity in 25 degreeC was 16200 mPa * s (E-type viscosity meter).

Figure pct00006
Figure pct00006

합성예 4Synthesis Example 4

제조 공정(ⅰ)으로서 β-(3,4에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 296부, 중량 평균 분자량 1700(GPC 측정값)의 시라놀 말단 메틸페닐실리콘오일 505부(시라놀 당량 850, GPC를 사용해서 측정한 중량 평균 분자량의 반으로 해서 산출했다), 0.5% 수산화 칼륨(KOH)메탄올 용액 40부(KOH부수로서는 0.2부)를 반응 용기에 넣고, 배쓰 온도를 75℃로 설정하여 승온했다. 승온 후 환류 하에서 8시간 반응시켰다.As a manufacturing process, 296 parts of (beta)-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 505 parts (yranol equivalent of 850, GPC) of a silanol terminal methylphenyl silicone oil of the weight average molecular weight 1700 (GPC measurement value) It calculated as half of the weight average molecular weight measured and used, and 40 parts of 0.5% potassium hydroxide (KOH) methanol solutions (0.2 parts as KOH number) were put into the reaction container, and the bath temperature was set to 75 degreeC, and it heated up. After heating, the mixture was reacted under reflux for 8 hours.

제조 공정(ⅱ)으로서 메탄올을 510부 추가 후 50% 증류수 메탄올 용액 130부를 60분 걸쳐서 적하하고, 환류 하 75℃에서 8시간 반응시켰다. 반응 종료 후 5% 인산 2수소 나트륨 수용액으로 중화 후 80℃에서 메탄올의 증류 회수를 행했다. 메틸이소부틸케톤(MIBK) 704부를 첨가하고, 수세를 3회 반복했다. 이어서, 유기상을 감압 하, 100℃에서 용매를 제거함으로써 반응성 관능기를 갖는 오르가노폴리실록산 화합물(A-2) 697부를 얻었다. 얻어진 화합물의 에폭시 당량은 598g/eq, 중량 평균 분자량은 2370, 외관은 무색 투명이었다.After adding 510 parts of methanol as a manufacturing process (ii), 130 parts of 50% distilled-water methanol solutions were dripped over 60 minutes, and it was made to react at 75 degreeC under reflux for 8 hours. After completion of the reaction, methanol was distilled off at 80 ° C. after neutralization with an aqueous 5% sodium dihydrogen phosphate solution. 704 parts of methyl isobutyl ketones (MIBK) were added, and water washing was repeated 3 times. Subsequently, 697 parts of organopolysiloxane compound (A-2) which has a reactive functional group were obtained by removing a solvent at 100 degreeC under pressure reduction of an organic phase. Epoxy equivalent of the obtained compound was 598 g / eq, the weight average molecular weight was 2370, and the external appearance was colorless and transparent.

합성예 5Synthesis Example 5

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에 질소 퍼지를 실시하면서 트리시클로데칸디메탄올 12부, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올 18부, 메틸헥사히드로프탈산 무수물(신니혼리카)(주)제, 리카시드MH(산 무수물(H-1)에 상당) 155부, 1,3,4-시클로헥산트리카르복실산-3,4-무수물(미쓰비시 가스 카가쿠(주)제, H-TMAn, 이하 산 무수물(H-2)이라고 칭한다) 15부를 첨가하고, 40℃에서 3시간 반응 후 70℃에서 1시간 가열 교반을 행함으로써(GPC에 의해 원료 알코올의 소실(1면적% 이하)을 확인했다) 다가 카르복실산(B-1)(B-2)과 산 무수물(H-1)(H-2)을 함유하는 경화제 조성물(T-3)이 200부 얻어졌다. 얻어진 경화제 조성물(T-3)은 무색의 액상 수지이며, GPC에 의한 순도는 다가 카르복실산(B-1, B-2)을 52면적%, 산 무수물(H-1, H-2)이 48면적%이었다. 또한, 관능기 당량은 190g/eq.이었다. 또한, 25℃에 있어서의 점도는 15500mPa?s(E형 점도계)이었다.12 parts of tricyclodecane dimethanol, 18 parts of 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, methylhexahydrophthalic anhydride (Shin Nihon), performing nitrogen purge to the flask provided with the stirrer, the reflux condenser, and the stirring apparatus. RICCA Co., Ltd. product, ricaside MH (equivalent to acid anhydride (H-1)) 155 parts, 1,3,4-cyclohexane tricarboxylic acid-3,4- anhydride (Mitsubishi Gas Kagaku Co., Ltd.) First, 15 parts of H-TMAn, hereinafter referred to as acid anhydride (H-2) were added, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C for 1 hour after reaction at 40 ° C for 3 hours (loss of raw material alcohol by GPC (one area). % Or less)) 200 parts of hardening agent compositions (T-3) containing polyhydric carboxylic acid (B-1) (B-2) and acid anhydride (H-1) (H-2) were obtained. The obtained curing agent composition (T-3) is a colorless liquid resin, and purity by GPC is 52 area% of polyhydric carboxylic acids (B-1, B-2) and acid anhydrides (H-1, H-2). 48 area%. In addition, the functional group equivalent was 190 g / eq. In addition, the viscosity in 25 degreeC was 15500 mPa * s (E-type viscosity meter).

합성예 6Synthesis Example 6

제조 공정(ⅰ)으로서 β-(3,4에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 44부, 중량 평균 분자량 1700(GPC 측정값)의 시라놀 말단 메틸페닐실리콘오일 153부(시라놀당량 850, GPC를 사용해서 측정한 중량 평균 분자량의 반으로 해서 산출했다), 0.5% 수산화 칼륨(KOH)메탄올 용액 11.2부(KOH부수로서는 0.056부)를 반응 용기에 넣고, 배쓰 온도를 75℃로 설정하여 승온했다. 승온 후 환류 하에서 8시간 반응시켰다.44 parts of (beta)-(3,4 epoxycyclohexyl) ethyl trimethoxysilane and 153 parts (yranol equivalent of 850, GPC) of a silanol terminal methylphenyl silicone oil of a weight average molecular weight 1700 (GPC measurement) as a manufacturing process (vi) It calculated | required as half of the weight average molecular weight measured using, and 11.2 parts (0.56 parts as KOH number) of 0.5% potassium hydroxide (KOH) methanol solution were put into the reaction container, and the bath temperature was set to 75 degreeC, and it heated up. After heating, the mixture was reacted under reflux for 8 hours.

제조 공정(ⅱ)으로서 메탄올을 157부 추가 후 50% 증류수 메탄올 용액 19.3부를 60분 걸쳐서 적하하고, 환류 하 75℃에서 8시간 반응시켰다. 반응 종료 후 5% 인산 2수소 나트륨 수용액으로 중화 후 80℃에서 메탄올의 증류 회수를 행했다. 메틸이소부틸케톤(MIBK) 177부를 첨가하고, 수세를 3회 반복했다. 이어서, 유기상을 감압 하, 100℃에서 용매를 제거함으로써 반응성 관능기를 갖는 오르가노폴리실록산 화합물(A-3) 178부를 얻었다. 얻어진 화합물의 에폭시 당량은 1020g/eq, 중량 평균 분자량은 2100, 외관은 무색 투명이었다.After adding 157 parts of methanol as a manufacturing process (ii), 19.3 parts of 50% distilled-water methanol solutions were dripped over 60 minutes, and it reacted at 75 degreeC under reflux for 8 hours. After completion of the reaction, methanol was distilled off at 80 ° C. after neutralization with an aqueous 5% sodium dihydrogen phosphate solution. 177 parts of methyl isobutyl ketones (MIBK) were added, and water washing was repeated 3 times. Subsequently, 178 parts of organopolysiloxane compounds (A-3) which have a reactive functional group were obtained by removing a solvent at 100 degreeC under pressure reduction of an organic phase. The epoxy equivalent of the obtained compound was 1020 g / eq, the weight average molecular weight was 2100, and the appearance was colorless and transparent.

실시예 1, 2, 3, 4, 비교예 1, 2, 3Examples 1, 2, 3, 4, Comparative Examples 1, 2, 3

에폭시 수지로서 합성예 1에서 얻어진 오르가노폴리실록산 화합물(A-1), 경화제로서 합성예 2, 3에서 얻어진 경화제 조성물(T-1), (T-2)(오르가노폴리실록산(A)과 경화제 조성물(T-1), (T-2)의 비율은 관능기 당량으로 1:1), 아연염 및/또는 아연착체로서 인산의 2-에틸헥산에스테르(인산:모노에스테르체:디에스테르체:트리에스테르체 3.5:68.2:26.5:1.8 단, 트리메틸실릴화 처리를 행하고 있기 때문에 감도가 달라 정확한 중량비가 아니다.; 이하, 아연염 및/또는 아연착체(C-1)라고 칭한다)의 아연착체(인:아연=1.7:1 ICP 발광 분광 분석으로 측정, JIS K 0166에 준거) 프로필렌글리콜 용액(일본국 특허 공표 2003-51495호 공보에 준해서 제조, 이하 (C-1)이라고 칭한다), 경화 촉진제로서 4급 포스포늄염(니폰 카가쿠고교제 히시코린 PX4MP, 이하 촉매(I-1)라고 칭한다), 첨가제로서 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세파케이트(치바 재팬제 TINUVIN770DF, 이하 (L-1)이라고 칭한다) 및 인계 화합물로서 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페닐-디-트리데실포스파이트)(ADEKA제 아데카스타브 260, 이하 (M-1)이라고 칭한다)를 사용하여 하기 표 1에 나타내는 배합비(중량부)로 배합하고, 20분간 탈포를 행하여 본 발명 또는 비교용 경화성 수지 조성물을 얻었다.Organopolysiloxane compound (A-1) obtained by the synthesis example 1 as an epoxy resin, the hardening | curing agent composition (T-1) obtained by the synthesis examples 2 and 3 as a hardening | curing agent, (T-2) (organopolysiloxane (A) and hardening | curing agent composition The ratio of (T-1) and (T-2) is 1: 1 in functional group equivalents, 2-ethylhexane ester of phosphoric acid as phosphoric acid salt and / or zinc complex (phosphate: monoester: diester: triester) Sieve 3.5: 68.2: 26.5: 1.8 However, since the trimethylsilylation treatment is performed, the sensitivity is not accurate and is not an accurate weight ratio. Hereinafter, a zinc complex of zinc salt and / or zinc complex (C-1) (phosphorus: Zinc = 1.7: 1 measured by ICP emission spectroscopy, according to JIS K 0166) Propylene glycol solution (manufactured according to Japanese Patent Publication No. 2003-51495, hereinafter referred to as (C-1)), 4 as a curing accelerator A class phosphonium salt (it is called Nippon Kagaku Co., Ltd. hishicholine PX4MP, hereinafter a catalyst (I-1)), bis (as an additive 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sepacate (TINUVIN770DF manufactured by Chiba Japan, hereinafter referred to as (L-1)) and 4,4'-butylidene bis (3- Using methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecylphosphite) (ADEKASTAB 260 manufactured by ADEKA, hereinafter referred to as (M-1)), and blended in the compounding ratio (parts by weight) shown in Table 1 below. Defoaming was performed for 20 minutes, and the curable resin composition for this invention or comparison was obtained.

얻어진 경화성 수지 조성물을 시험편용 금형에 서서히 주형하고, 그 주형물을 120℃×3시간의 예비 경화 후 150℃×1시간의 조건에서 경화시켜 각종 시험용의 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물에 대해서 이하의 경도, 열 내구성 투과율 시험의 시험을 이하에 기재하는 조건으로 평가를 행했다. 결과를 하기 표 1에 함께 나타낸다.The obtained curable resin composition was shape | molded gradually to the metal mold | die for test pieces, the casting material was hardened on condition of 150 degreeC * 1 hour after the precure of 120 degreeC * 3 hours, and the hardened | cured material for various tests was obtained. About the obtained hardened | cured material, the following hardness and the tests of the heat durability transmittance test were evaluated on the conditions described below. The results are shown in Table 1 together.

(경도)(Hardness)

쇼어 AShore A

JIS K 7215 「플라스틱의 듀로미터 경도 시험 방법」에 준거해서 측정했다.It measured based on JISK7215 "the durometer hardness test method of plastic."

(열 내구성 투과율 시험)(Thermal durability transmittance test)

내열 시험 조건: 150℃ 오븐 중 96시간 방치Heat test conditions: 96 hours in 150 ℃ oven

시험편 사이즈: 두께 1㎜Test piece size: Thickness 1mm

평가 조건: 분광 광도계에 의해 400㎚의 투과율을 측정하고, 그 변화율(유지율)을 산출했다.Evaluation conditions: The transmittance | permeability of 400 nm was measured with the spectrophotometer, and the change rate (retention rate) was computed.

(LED 점등 시험)(LED lighting test)

또한, 실시예 및 비교예에서 얻어진 경화성 수지 조성물을 진공 탈포 20분간 실시한 후 시린지에 충전하여 정밀 토출 장치를 사용해서 발광 파장 465㎚를 갖는 발광 소자를 탑재한 표면 실장형 LED에 주형했다. 그 후 소정의 경화 조건(110℃에서 2시간, 또한 150℃에서 3시간)에서 경화시킴으로써 점등 시험용 LED를 얻는다. 점등 시험은 규정 전류의 배인 60㎃(정전류 구동 규정 전류 30㎃)에서의 점등 시험을 행하여 초기 조도를 측정했다.Moreover, after performing curable resin composition obtained by the Example and the comparative example for 20 minutes by vacuum defoaming, it filled in the syringe and cast on the surface mount type LED which mounted the light emitting element which has light emission wavelength 465nm using the precision ejection apparatus. Thereafter, the LED for lighting test is obtained by curing under predetermined curing conditions (2 hours at 110 ° C and 3 hours at 150 ° C). The lighting test performed the lighting test at 60 mA (30 mA of constant current drive specified electric current) which is double of a specified electric current, and measured initial stage roughness.

Figure pct00007
Figure pct00007

실시예 5, 6, 비교예 4Examples 5 and 6, Comparative Example 4

에폭시 수지로서 합성예 2에서 얻어진 오르가노폴리실록산 화합물(A-2), 경화제로서 합성예 2에서 얻어진 경화제 조성물(T-1)(오르가노폴리실록산(A)과 경화제 조성물(T-1)의 비율은 관능기 당량으로 1:0.8), 경화 촉진제로서 아연염 및/또는 아연착체(C-1), 촉매(I-1), 첨가제(L-1)(M-1)를 사용하여 하기 표 2에 나타내는 배합비(중량부)로 배합하고, 20분간 탈포를 행하여 본 발명 또는 비교용의 경화성 수지 조성물을 얻었다.The organopolysiloxane compound (A-2) obtained by the synthesis example 2 as an epoxy resin, and the hardener composition (T-1) (organopolysiloxane (A) and the hardening | curing agent composition (T-1) which were obtained by the synthesis example 2 as a hardening | curing agent are 1: 0.8) as functional group equivalent, zinc salt and / or a zinc complex (C-1), a catalyst (I-1), and an additive (L-1) (M-1) shown as following Table 2 as a hardening accelerator It mix | blended in a compounding ratio (weight part), defoamed for 20 minutes, and obtained curable resin composition for this invention or a comparison.

얻어진 경화성 수지 조성물을 시험편용 금형에 서서히 주형하고, 그 주형물을 120℃×3시간의 예비 경화 후 150℃×1시간의 조건으로 경화시켜 각종 시험용의 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물에 대해서 이하의 내열 특성 시험, 경도, 투과율 시험의 시험을 이하에 기재하는 조건으로 평가를 행했다. 결과를 하기 표 2에 함께 나타낸다.The obtained curable resin composition was shape | molded gradually to the metal mold | die for test pieces, the casting material was hardened on condition of 150 degreeC * 1 hour after the precure of 120 degreeC * 3 hours, and the hardened | cured material for various tests was obtained. About the obtained hardened | cured material, the following heat resistance test, hardness, and the test of the transmittance | permeability test were evaluated on the conditions described below. The results are shown in Table 2 together.

(내열 특성 시험)(Heat resistance test)

측정 조건Measuring conditions

동적 점탄성 측정기: TA-instruments제, DMA- 2980Dynamic Viscoelasticity Meter: Made in TA-instruments, DMA-2980

측정 온도 범위: -30℃?280℃Measuring temperature range: -30 ℃ to 280 ℃

승온 속도: 2℃/분Temperature rise rate: 2 ℃ / min

시험편 사이즈: 5㎜×50㎜로 잘라낸 것을 사용했다(두께는 약 800㎛).Test piece size: The thing cut out to 5 mm x 50 mm was used (thickness about 800 micrometers).

해석 조건Analysis condition

Tg: DMA 측정에 있어서의 Tan-δ의 피크점을 Tg로 했다.Tg: The peak point of Tan-δ in the DMA measurement was defined as Tg.

30℃ 탄성률: 30℃ 시의 탄성률을 측정했다.30 degreeC elastic modulus: The elasticity modulus at 30 degreeC was measured.

(경도 시험)(Hardness test)

쇼어 AShore A

JIS K 7215 「플라스틱의 듀로미터 경도 시험 방법」에 준거해서 측정했다.It measured based on JISK7215 "the durometer hardness test method of plastic."

(투과율 시험)Transmittance test

시험편 사이즈: 두께 1㎜Test piece size: Thickness 1mm

평가 조건: 분광 광도계에 의해 400㎚의 투과율을 측정했다.Evaluation condition: The transmittance | permeability of 400 nm was measured with the spectrophotometer.

또한, 얻어진 경화성 수지 조성물을 사용하여 시린지에 충전하고, 정밀 토출 장치를 사용해서 중심 출광파 465㎚의 칩을 탑재한 외경 5㎜×5㎜ 표면 실장형 LED 패키지(내경 4.4㎜, 외벽 높이 1.25㎜)로 주형했다. 그 주형물을 가열로에 투입하여 120℃에서 1시간, 또한 150℃에서 3시간의 경화 처리를 해서 LED 패키지를 작성했다. 하기 조건으로 LED 패키지를 부식성 가스 중에 방치하고, 밀봉 내부의 은 도금된 리드 프레임부의 색의 변화를 관찰했다(부식 가스 투과성 시험). 결과에 대해서는 표 2에 함께 나타냈다.In addition, an outer diameter of 5 mm x 5 mm surface-mount LED package (inner diameter 4.4 mm, outer wall height 1.25 mm), which was filled with a syringe using the obtained curable resin composition and mounted with a chip having a center emission wave of 465 nm using a precision ejection device, was used. ). The castings were put into a heating furnace and cured at 120 ° C for 1 hour and at 150 ° C for 3 hours to prepare an LED package. The LED package was left to stand in the corrosive gas on condition of the following, and the change of the color of the silver-plated lead frame part inside the sealing was observed (corrosion gas permeability test). The result was combined with Table 2 and shown.

(부식 가스 투과성 시험)Corrosion Gas Permeability Test

측정 조건Measuring conditions

부식 가스: 황화 암모늄 20% 수용액(유황 성분이 은과 반응했을 경우에 검게 변색된다)Corrosive gas: 20% aqueous ammonium sulfide solution (discolors black when sulfur component reacts with silver)

접촉 방법: 광구(鑛口) 유리병 안에 황화 암모늄 수용액의 용기와 상기 LED 패키지를 혼재시키고, 광구 유리병의 덮개를 덮어서 밀폐 상황 하에서 휘발된 황화 암모늄 가스와 LED 패키지를 접촉?폭로시켰다.Contact method: The container of the ammonium sulfide aqueous solution and the said LED package were mixed in the glass bottle, and the cover of the bulb glass bottle was covered, and the volatilized ammonium sulfide gas and the LED package were contacted and exposed in a sealed condition.

부식의 판정: LED 패키지 내부의 리드 프레임이 검게 변색(흑화라고 한다)된 시간을 관찰하고, 그 변색 시간이 길수록 내부식 가스성이 우수하다고 판단했다. 관찰은 1시간 후, 2시간 후, 3시간 후, 4시간 후에 인출해서 확인하고, 평가는 변색이 없는 것을 ○, 다갈색?갈색인 것을 ×, 완전히 흑화된 것을 ××로 했다.Determination of Corrosion: The time when the lead frame inside the LED package was discolored black (called blackening) was observed, and the longer the discoloration time was, the better the corrosion resistance gas was. Observation was withdrawn after 1 hour, 2 hours, 3 hours, and 4 hours, and it confirmed that evaluation did not change color | variation, (circle) and a brownish-brown thing were made into x and a completely blackened thing × x.

Figure pct00008
Figure pct00008

실시예 1?4, 비교예 1?3에 의해 본 발명의 경화성 수지 조성물은 내열 착색성(내열 투과율 시험)이 우수하고, 또한 광의 인출 효율이 좋은 경화물을 부여하여(LED 점등 시험) 광학 특성이 우수한 것을 알 수 있다.According to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3, the curable resin composition of this invention is excellent in heat-coloring property (heat-resistant transmittance test), and gives the hardened | cured material which is excellent in the extraction efficiency of light (LED lighting test), and an optical characteristic is It can be seen that it is excellent.

실시예 5, 6, 비교예 4로부터 본 발명의 경화성 수지 조성물은 내 가스 투과성이 우수한 경화물을 부여하고(부식 가스 투과성 시험), 외부 환경에 약한 반도체 칩이나 LED와 같은 광학 특성이 필요한 분야에 있어서 유용한 것이 명확해졌다.From Examples 5, 6 and Comparative Example 4, the curable resin composition of the present invention provides a cured product having excellent gas permeability (corrosion gas permeability test), and is used in fields requiring optical properties such as semiconductor chips or LEDs that are weak to external environments. It is clear that it is useful.

실시예 7?12, 비교예 5?9Examples 7-12, Comparative Examples 5-9

에폭시 수지로서 합성예 1, 4, 6에서 얻어진 오르가노폴리실록산 화합물(A-1), (A-2), (A-3), 경화제로서 합성예 2, 3에서 얻어진 경화제 조성물(T-1), (T-2)(오르가노폴리실록산(A)과 경화제 조성물(T-1) 또는 (T-2)의 비율은 관능기 당량으로 1:0.8), 산 무수물(H-1)(오르가노폴리실록산(A)과 산 무수물(H-1)의 비율은 관능기 당량으로 1:0.8), 아연염 및/또는 아연착체로서 2-에틸헥산산 아연(C-2), 운데실렌산 아연(C-3), 2-에틸헥산산 아연(이미다졸 화합물 함유 킹인더스트리제 XK-614, 이하 (C-4)이라고 칭한다), 경화 촉진제로서 4급 포스포늄염(니폰 카가쿠고교)제 히시코린 PX-4ET, 이하 촉매(I-2)라고 칭한다), 이미다졸 화합물(시코쿠 카세이제 2E4MZ, 이하 촉매(I-3)라고 칭한다), 첨가제로서 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세파케이트(치바 재팬제 TINUVIN770DF, 이하 (L-1)이라고 칭한다)를 사용하여 하기 표 3, 4에 나타내는 배합비(중량부)로 배합하고 20분간 탈포를 행하여 본 발명 또는 비교용의 경화성 수지 조성물을 얻었다.The organopolysiloxane compound (A-1) obtained by the synthesis examples 1, 4, 6 as an epoxy resin (A-1), (A-2), (A-3) and the hardening | curing agent composition (T-1) obtained by the synthesis examples 2 and 3 as a hardening | curing agent. (T-2) (The ratio of the organopolysiloxane (A) and the curing agent composition (T-1) or (T-2) is 1: 0.8 in functional group equivalents), acid anhydride (H-1) (organopolysiloxane ( The ratio of A) to acid anhydride (H-1) is 1: 0.8 in functional group equivalents, zinc 2-ethylhexanoate (C-2) and zinc undecylenate (C-3) as zinc salts and / or zinc complexes. Zinc 2-ethylhexanoate (Kimidazole compound-containing King Industries XK-614, hereinafter referred to as (C-4)), and a quaternary phosphonium salt (Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.) as a curing accelerator, Bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperi) as an additive, an imidazole compound (hereinafter referred to as Shikoku Kasei 2E4MZ, hereinafter catalyst (I-3)), and an additive Deal) Sepacate (TINUVIN770DF made in Chiba Japan, hereinafter referred to as (L-1) C) by the following Table 3, blended in the blending ratio (parts by weight) shown in the 4 and obtain a curable resin composition for the present invention or a comparative subjected to degassing using a 20 minutes.

얻어진 경화성 수지 조성물을 시험편용 금형에 서서히 주형하고, 그 주형물을 110℃×3시간의 예비 경화 후 140℃×5시간의 조건으로 경화시켜 각종 시험용의 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물에 대해서 부식 가스 투과성 시험(시험 방법 등에 관해서는 관찰을 1시간 후, 2시간 후, 3시간 후, 6시간 후, 10시간 후로 한 것 이외에는 상기와 마찬가지이다)을 행했다. 결과를 하기 표 3, 4에 함께 나타낸다.The obtained curable resin composition was shape | molded gradually to the metal mold | die for test pieces, the casting material was hardened on condition of 140 degreeC * 5 hours after the precure of 110 degreeC * 3 hours, and the hardened | cured material for various tests was obtained. About the obtained hardened | cured material, the corrosive gas permeability test (as for test methods etc., it carried out similarly to the above except having made observation after 1 hour, 2 hours, 3 hours, 6 hours, and 10 hours later) was performed. The results are shown together in Tables 3 and 4 below.

Figure pct00009
Figure pct00009

Figure pct00010
Figure pct00010

실시예 13, 14Example 13, 14

에폭시 수지로서 합성예 6에서 얻어진 오르가노폴리실록산 화합물(A-3), 경화제로서 합성예 5에서 얻어진 경화제 조성물(T-3)(오르가노폴리실록산(A)과 경화제 조성물(T-3)의 비율은 관능기 당량으로 1:0.8), 아연염 및/또는 아연착체(C-1), (C-2), 첨가제로서 힌더드 아민 화합물(아데카제 LA-81, 이하 (L-2)이라고 칭한다), 인 화합물(아데카제 아데카 260, 이하 (L-3)이라고 칭한다)을 사용해서 하기 표 5에 나타내는 배합비(중량부)로 배합하고 20분간 탈포를 행하여 본 발명의 경화성 수지 조성물을 얻었다.The organopolysiloxane compound (A-3) obtained by the synthesis example 6 as an epoxy resin, and the hardening agent composition (T-3) (organopolysiloxane (A) and the hardening | curing agent composition (T-3) which were obtained by the synthesis example 5 as a hardening | curing agent are 1: 0.8), zinc salt and / or zinc complex (C-1), (C-2) as a functional group equivalent, a hindered amine compound as an additive (referred to as Adekace LA-81, hereinafter referred to as (L-2)) , Using a phosphorus compound (made by Adeca 260, hereinafter referred to as (L-3)) at a blending ratio (weight part) shown in Table 5 below, degassing was performed for 20 minutes to obtain a curable resin composition of the present invention.

(부식 가스 투과성 시험)Corrosion Gas Permeability Test

얻어진 경화성 수지 조성물을 시험편용 금형에 서서히 주형하고, 그 주형물을 120℃×1시간의 예비 경화 후 150℃×3시간의 조건으로 경화시켜 각종 시험용의 경화물을 얻었다. 얻어진 경화물에 대해서 부식 가스 투과성 시험(시험 방법 등에 관해서는 상술한 바와 마찬가지)을 행했다. 결과를 하기 표 5에 함께 나타낸다.The obtained curable resin composition was shape | molded gradually to the metal mold | die for test pieces, the casting material was hardened on condition of 150 degreeC * 3 hours after the precure of 120 degreeC * 1 hour, and the hardened | cured material for various tests was obtained. About the obtained hardened | cured material, the corrosive gas permeability test (as mentioned above regarding test methods etc.) was done. The results are shown in Table 5 together.

(LED 점등 시험)(LED lighting test)

얻어진 경화성 수지 조성물을 시린지에 충전하고, 정밀 토출 장치를 사용해서 발광 파장 465㎚를 갖는 발광 소자를 탑재한 표면 실장형 LED(SMD형 5㎜φ 규정 전류 20㎃)에 주형했다. 그 후 소정의 경화 조건(120℃에서 1시간, 또한 150℃에서 3시간)으로 경화시킴으로써 점등 시험용 LED를 얻는다. 점등 시험은 규정 전류인 20㎃를 대폭 초과하는 230㎃의 전류에서의 점등 시험을 행했다. 상세한 조건은 하기에 나타냈다. 측정 항목으로서는 40시간 점등 전후의 조도를 적분구를 사용해서 측정하고, 시험용 LED의 조도의 유지율을 산출했다. 결과를 표 5에 나타낸다.The obtained curable resin composition was filled in the syringe, and it casted to the surface-mount type LED (SMD type 5 mm diameter regulation current 20 mA) which mounted the light emitting element which has a light emission wavelength of 465 nm using the precision discharge apparatus. Then, the LED for lighting test is obtained by hardening | curing by predetermined | prescribed hardening conditions (1 hour at 120 degreeC, and 3 hours at 150 degreeC). The lighting test performed the lighting test in the 230 mA current exceeding 20 mA which is a specified electric current. Detailed conditions are shown below. As a measurement item, illuminance before and after lighting for 40 hours was measured using the integrating sphere, and the retention of illuminance of the test LED was calculated. The results are shown in Table 5.

점등 상세 조건Lighting detailed condition

발광 파장: 중심 발광 파장, 465㎚Emission wavelength: center emission wavelength, 465 nm

구동 방식: 정전류 방식, 230㎃(발광 소자 규정 전류는 20㎃) 직렬로 3개 동시에 점등Driving method: constant current method, 230 ㎃ (light emitting device specified current is 20 ㎃)

구동 환경: 25℃, 65% 습열기 내에서의 점등Driving environment: Light at 25 ° C in 65% moist heat

평가: 20시간, 40시간 후의 조도 및 그 조도 유지율을 각각 측정했다.Evaluation: The illuminance after 20 hours and 40 hours and its roughness retention rate were measured, respectively.

Figure pct00011
Figure pct00011

본 발명을 특정 형태를 참조해서 상세하게 설명했지만 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않고 여러 가지 변경 및 수정이 가능한 것은 당업자에 있어서 명확하다.Although this invention was demonstrated in detail with reference to the specific aspect, it is clear for those skilled in the art for various changes and correction to be possible, without leaving | separating the mind and range of this invention.

또한, 본 출원은 2009년 11월 30일자로 출원된 일본 특허 출원(일본 특허 출원 2009-271469)에 의거하고 있고, 그 전체가 인용에 의해 원용된다. 또한, 여기에 인용되는 모든 참조는 전체로서 받아들여진다.In addition, this application is based on the JP Patent application (Japanese Patent Application 2009-271469) of an application on November 30, 2009, The whole is taken in into the reference. In addition, all references cited herein are accepted in their entirety.

Claims (8)

오르가노폴리실록산(A)과 아연염 및/또는 아염 착체(C)를 필수 성분으로 하는 경화성 수지 조성물로서:
단, 상기 오르가노폴리실록산(A)은 이하의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
오르가노폴리실록산(A): 적어도 그 분자 중에 글리시딜기 및/또는 에폭시시클로헥실기를 갖는 에폭시 수지.
As curable resin composition which makes organopolysiloxane (A) and a zinc salt and / or a chlorine complex (C) an essential component:
However, said organopolysiloxane (A) satisfy | fills the following conditions, The curable resin composition characterized by the above-mentioned.
Organopolysiloxane (A): The epoxy resin which has a glycidyl group and / or an epoxycyclohexyl group at least in the molecule | numerator.
제 1 항에 있어서,
상기 아연염 및/또는 아염 착체(C)는 인산 에스테르 및 인산으로부터 선택되는 1종 이상의 산의 아연염과, 상기 산 및 상기 아연염을 배위자로서 갖는 아염 착체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The zinc salt and / or chlorine complex (C) is at least one selected from the group consisting of zinc salts of at least one acid selected from phosphate esters and phosphoric acid, and chlorine complexes having the acid and the zinc salt as ligands. Curable resin composition characterized by the above-mentioned.
제 1 항에 있어서,
상기 아연염 및/또는 아염 착체(C)는 탄소수 1?30개의 카르복실산의 아연염과, 상기 산 및 상기 아연염을 배위자로서 갖는 아연착체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The zinc salt and / or chlorine complex (C) is at least one member selected from the group consisting of zinc salts of carboxylic acids having 1 to 30 carbon atoms, and zinc complexes having the acid and the zinc salt as ligands. Curable resin composition.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
2개 이상의 카르복실기를 갖고, 지방족 탄화수소기를 주골격으로 하는 다가 카르복실산(B)을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Curable resin composition which has a 2 or more carboxyl group and contains the polyhydric carboxylic acid (B) which makes an aliphatic hydrocarbon group main skeleton.
제 4 항에 있어서,
상기 다가 카르복실산(B)은 탄소수 5개 이상의 2?6관능의 다가 알코올과 포화 지방족 환상산 무수물의 반응에 의해 얻어진 화합물인 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
The method of claim 4, wherein
The said polyhydric carboxylic acid (B) is a compound obtained by reaction of a C5 or more 2- and 6-functional polyhydric alcohol and saturated aliphatic cyclic anhydride, The curable resin composition characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
산 무수물을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Curable resin composition containing an acid anhydride.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
힌더드 아민계 광안정제 및/또는 인 함유 산화 방지제를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화성 수지 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Curable resin composition containing a hindered amine light stabilizer and / or phosphorus containing antioxidant.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 경화물.
Hardened | cured material formed by hardening | curing curable resin composition of any one of Claims 1-7.
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