KR20120108542A - 유동접촉분해 공정에서 발생하는 ｃ４ 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제 및 이의 제조방법 - Google Patents

유동접촉분해 공정에서 발생하는 ｃ４ 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 양이온이 전이금속으로 치환된 제올라이트인 것을 특징으로 하는 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 황 화합물 제거용 흡착제는 FCC 공정에서 발생하는 C4 유분처럼 올레핀 함량이 높은 혼합가스 중에 존재하는 황 화합물을 효과적으로 제거할 수 있으며, 기존의 흡착제에 비해 흡착량이 많다.

Description

유동접촉분해 공정에서 발생하는 Ｃ４ 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제 및 이의 제조방법{ADSORBENT FOR REMOVING SULFUR COMPOUNDS IN C4 HYDROCABON MIXTURE FROM FLUIDIZED CATALYTIC CRACKING PROCESS AND PREPARATION METHOD THEREOF}
본 발명은 유동접촉분해 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
국제 유가의 급등과 더불어 석유화학산업의 주원료인 나프타의 가격이 빠르게 상승하고 있고, 중동의 가스분해로 신증설 및 중국의 올레핀 자급률 상승으로 국내 석유화학산업의 경쟁력이 약화되고 있다. 이에 C4 유분과 같은 공정 부산물을 이용한 고부가가치 제품의 생산 기술 개발이 국가경쟁력 향상을 위해서 시급한 상황이다.
최근 에너지기술연구소-SK에너지는 나프타접촉분해(Naphtha catalytic cracking) 공정(이하, 'NCC 공정'으로도 지칭함)의 C4 유분을 이용한 올레핀/파라핀 분리 기술을 개발한 바가 있다. NCC 공정은 원유를 증류해서 얻은 나프타를 750℃ 내지 850℃에서 열분해하여 플라스틱, 나일론, 폴리에스테르 등의 기초원료인 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌류 등을 생성하는 석유화학공업에서 가장 중요한 제조공정 중 하나이다. 국내 NCC 공정에서 생산되는 총 C4 유분은 연간 160만톤으로 전세계 생산량의 약 10%에 달하는 양이다. 상기 기술을 적용하여, C4 유분을 이용한 고부가가치 제품의 생산이 가능할 경우, 연간 100 만톤 규모의 NCC 공정에 적용시 약 1천억원에 달하는 추가 이익이 발생할 뿐 아니라 기술 적용시 기존 설비 대비 에너지비용 20% 및 투자비 30%를 줄일 수 있는 장점이 있다.
한편, 유동접촉분해(Fluidized Catalystic Cracking) 공정(이하, 'FCC 공정'으로도 지칭함)에서도 C4 유분이 발생하므로, 이러한 C4 유분 역시 NCC 공정의 기술을 적용하여 이용할 필요가 있다. 그러나, FCC 공정에서 발생하는 C4 유분의 경우에는, NCC 공정에서와는 달리 황 화합물, 질소 화합물 등의 불순물을 다량 함유하기 때문에, NCC 공정에서 적용될 수 있는 기술이 FCC 공정에서는 그대로 적용될 수 없다는 문제가 있다.
현재까지 FCC 공정에서 발생하는 C4 유분으로부터 황을 제거하는 상용화된 기술은 보고된 바가 없으며, 대부분이 C4 유분이 아닌 가솔린에서의 황 화합물들을 ppm 수준으로 제거하는 데 집중되어 있다. 예를 들면, FCC 공정에서 발생하는 가솔린에서의 황 화합물들을 제거하는 방법으로 Prime G+ 공정이 대표적이며, 전 세계 80개 이상의 유니트가 설계 또는 운전 중이다. 상기 공정은 선택적 수소화 공정(SHU), 스플리터(splitter) 공정 및 선택적 탈황 공정으로 구성된다. 상기 공정은 H2S와 올레핀의 메르캅탄 재조합을 최소화하고, 고심도 탈황이 가능하여 법적 환경 규제치까지 만족할 수 있는 탈황 성능을 보이고 있다. 다른 공정으로서 OATS 공정은 황 화합물, 메르캅탄과 같은 경질 황을 보다 중질의 황 화합물로 전환하여 황 성분을 제거하는 것이며, SCANfiningTM 공정은 선택적 탈황 촉매의 개발과 공정 조건들의 최적화에 기초한 것으로, 올레핀 포화 정도가 보통의 탈황 촉매를 사용한 경우의 1/4 수준으로서 옥탄 손실을 최소화할 수 있는 장점이 있다. 또한, 대한민국특허 공개번호 제10-2005-0009758호는 가솔린의 탈황 제거 방법으로 알루미나 및 산화마그네슘에 금속(Zn, Fe, V, Cu 등)을 도핑시킨 촉매를 이용하여 가솔린 및 디젤유의 황의 함량을 감소시켰음을 개시하고 있고, 대한민국특허 공개번호 제10-2000-0048453호는 USY에 바나듐을 함침시켜 만든 흡착제로 유기황의 양을 감소시키는 방법을 개시하고 있다. 이러한 기술은 대부분이 FCC 공정에서 발생하는 가솔린 내부에 존재하는 황 화합물을 ppm 수준으로 감소시키는 것이다.
FCC 공정에서 발생하는 C4 유분은 FCC 공정에서 발생하는 가솔린과 전체적으로 구성성분이 상이하며, 특히 가솔린과 달리 다량의 올레핀을 함유하고 있어서, FCC 공정에서 발생하는 가솔린 탈황기술로는 FCC 공정에서 발생하는 C4 유분 내에 존재하는 황 화합물을 수 ppb 수준까지 제거할 수 없다.
이에 본 발명자는 유동접촉분해 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거하는 흡착제를 연구하던 중, 제올라이트의 양이온을 전이금속으로 치환한 흡착제를 사용할 경우, 유동접촉분해 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물을 효과적으로 제거할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 목적은 유동접촉분해 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 불순물, 특히 황 화합물을 효과적으로 제거할 수 있는 흡착제 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 양이온이 전이금속으로 치환된 제올라이트인 것을 특징으로 하는 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제를 제공한다.
본 발명에 따른 전이금속은 Ag(I) 또는 Cu(I)인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 제올라이트는 알칼리 및 알칼리 토금속의 규산알루미늄 수화물인 광물을 총칭하는 것을 의미한다. 제올라이트는 상업적으로 쉽게 구할 수 있는 것으로, 대표적으로 제올라이트 X, 제올라이트 Y, 베타-제올라이트, 울트라스테이블Y(USY) 등을 예로 들 수 있다. 이들 제올라이트는 양이온 교환 사이트가 있는 특징이 있으며, 필요에 따라 다양한 양이온 교환을 통하여 제올라이트의 흡착 특성을 조절할 수 있다. 본 발명에 따르면, 제올라이트가 제올라이트 X, 제올라이트 Y, 베타-제올라이트 및 울트라스테이블Y로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 제올라이트의 SiO2/Al2O3 비율은 흡착제의 탈황 성능과 관계가 있으며, 그 범위는 0.5?360인 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 용어 "유동접촉분해(Fluidized Catalystic Cracking; FCC)"란, 반응을 촉매의 존재하에 상온에서 수행함으로써 중질(heavy) 탄화수소 분획을 경질(lighter) 생성물로 전환시키는 공정으로서, 원유에 포함된 높은 온도의 탄화수소 입자들을 좀 더 가치있는 휘발유나 에틸렌계 가스 등의 제품으로 만드는 데 사용되는 공정을 의미한다. FCC 공정 역시 NCC 공정과 마찬가지로 C4 유분은 부산물로 생성되며 대부분 연료로 사용되고 있다.
본 발명에 따른 황 화합물 제거용 흡착제를 FCC 공정에서 발생하는 C4 유분과 접촉시키면 기존의 흡착제에 비해 4배 이상의 탈황 성능을 보여준다. 본 발명에 따른 'FCC 공정에서 발생하는 C4 유분'은 황 화합물을 불순물로 포함하고, 탄소수 4의 올레핀 화합물과 탄소수 4의 파라핀 화합물을 다량 포함하는 혼합물이다. 구체적인 성분은 표 1에 나타낸 바와 같다. 참고로, 표 1에 나타낸 각 성분의 함량은 예시한 것에 불과하다.
성분명 함량(부피%) S 함량(ppmw)


황 화합물


디메틸 디설파이드


-


14.8

9.7
메틸 머캅탄 2.9
디에틸 디설파이드 0.9
불명 0.8
에틸 머캅탄 0.4
메틸 설파이드 0.1


C4 올레핀

트랜스-2-부텐

60.68
16.82

-
시스-2-부텐 12.09
이소부틸렌 15.98
1-부텐 15.53
1,3-부타디엔 0.26
C4 파라핀 이소부탄 38.24 31.08
n-부탄 7.16
기타 1.08
총 100
또한, 본 발명은 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법으로서, 제올라이트를 전이금속의 염과 혼합하여 제올라이트의 양이온을 전이금속으로 이온교환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 제조방법에 따르면, 제올라이트에 존재하는 양이온을 전이금속으로 치환하는 것을 특징으로 한다. 이러한 제올라이트의 양이온 교환은 주로 수용상에서 행해지는데, 수용상에 잘 녹는 전이금속 염의 수용액과 제올라이트를 잘 혼합하면 이온교환이 이루어진다. 또한, 전이금속의 염이 수용상에 잘 녹지 않는 경우에는 고온에서의 소성을 포함하는 고체이온교환법(solid state ion exchange)을 사용하여 제올라이트의 양이온 교환을 수행할 수 있다.
본 발명의 제조방법에 따른 제올라이트는 알칼리 및 알칼리 토금속의 규산알루미늄 수화물인 광물로서 상업적으로 입수한 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 제올라이트 X, 제올라이트 Y, 베타-제올라이트 및 울트라스테이블Y로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나이다. 또한, 상기 제올라이트의 SiO2/Al2O3 비율은 흡착제의 탈황 성능과 관계가 있으며, 바람직하게는 0.5?360이다.
본 발명의 제조방법에 사용되는 전이금속의 염은 질산염, 염산염 등 본 기술 분야에서 공지된 염을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 질산은 수용액에 제올라이트를 첨가하여 교반과 함께 일정시간 반응시켜 얻은 생성물을 세척, 여과 및 300?700K의 온도, 바람직하게는 673K의 온도에서 건조함으로써 Ag(I) 양이온으로 이온 교환된 제올라이트를 제조할 수 있다. 질산은 수용액과 제올라이트의 이온교환 반응 시간이 길어질수록 이온교환이 충분하게 일어나며, 250?350K의 온도에서 1?5시간이면 충분하다. 건조는 물을 제거하기 위한 목적으로 한번에 수행할 수도 있고, 두 단계로 수행할 수도 있다. 본 발명에 따르면, 질산은 수용액의 몰 농도를 조절하여 제올라이트 내 은의 치환량을 조절할 수 있다. 은의 치환량은 탈황 성능과 관련이 있으며, 일반적으로는 은의 치환량이 증가할수록 탈황 성능이 좋다.
본 발명의 다른 실시형태에 있어서, 염화구리와 H+-제올라이트 또는 NH4 +-제올라이트를 고체상으로 혼합한 후 질소 분위기 하 600?900K의 온도에서 소성함으로써 Cu(I) 양이온으로 이온 교환된 제올라이트를 제조할 수 있다. 이러한 소성 단계는 고체 상태에서 이온교환이 이루어지게 하기 위한 목적으로 상기 온도 범위 내에서 하나의 단계 또는 두 단계로 실시할 수 있으며, 소성 과정에서 HCl이 발생하면서, H+ 또는 NH4 + 사이트가 Cu(I)로 치환된다. 본 발명에 따르면, 염화구리는 제올라이트 중량 대비 1?20 중량%를 사용하고, 특히 바람직하게는 제올라이트 중량 대비 10 중량%를 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은 양이온이 전이금속으로 치환된 제올라이트와 황 화합물을 함유하는 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분을 접촉시키는 단계를 포함하는 유동접촉분해 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물의 농도를 감소시키는 방법을 제공한다. 여기서, 제올라이트와 C4 유분의 접촉의 구체적인 방법은 본 기술 분야에 공지된 통상의 방식으로 수행할 수 있으며, 특히, 제올라이트는 Ag(I) 또는 Cu(I)로 치환된 제올라이트가 바람직하다.
본 발명의 흡착제는 FCC 공정에서 발생하는 C4 유분처럼 올레핀 함량이 높은 혼합가스 중에 존재하는 황 화합물을 효과적으로 제거할 수 있으며, 기존의 흡착제에 비해 흡착량이 많다. 따라서 FCC 공정에서 발생하는 C4 유분에 본 발명의 흡착제를 적용함으로써 보다 경제적이고도 간편하게 황 화합물을 효과적으로 제거할 수 있다. 본 발명의 흡착제에 의해 황 화합물이 제거된 C4 유분은 기존에 보고된 NCC 공정에서 발생하는 C4 유분의 고부가가치 석유화학제품 생산 기술이 적용 가능한 상태이다.
도 1은 본 발명의 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 3에서 제조된 흡착제의 DMDS 제거성능 실험 결과를 나타낸 그래프이다.
도 2는 본 발명의 실시예 4, 실시예 5, 실시예 6 및 실시예 7에서 제조된 흡착제의 DMDS 제거성능 실험 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 이온교환되지 않은 베탄-제올라이트의 DMDS 제거성능 실험 결과를 나타낸 그래프이다.
이하，본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 실시예에 의하여 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1: Ag(I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
0.1M 질산은(AgNO3) 수용액 60 ㎖에 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25) 5 g을 첨가한 후 교반시킨 후 313K에서 4시간 동안 놓아두었다. 그 후 2ℓ의 증류수로 세척하고 여과한 뒤, 393K 오븐에서 밤새 건조시킨 것을 673K에서 3시간 동안 건조시켜 Ag(I) 이온이 교환된 제올라이트를 얻었다.
실시예 2: Ag (I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
0.5M 질산은(AgNO3) 수용액 60 ㎖에 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25) 5 g을 첨가한 후 교반시킨 후 313K에서 4시간 동안 놓아두었다. 그 후 2ℓ의 증류수로 세척하고 여과한 뒤, 393K 오븐에서 밤새 건조시킨 것을 673K에서 3시간 동안 건조시켜 Ag(I) 이온이 교환된 제올라이트를 얻었다.
실시예 3: Ag (I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
0.5M 질산은(AgNO3) 수용액 60 ㎖에 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25) 5 g을 첨가한 후 교반시킨 후 313K에서 4시간 동안 놓아둔 다음 제올라이트는 침전시켜 상층부 물과 분리한다. 그런 다음 다시 0.5M 질산은(AgNO3) 수용액 60 ㎖을 첨가하여 313K에서 4시간 동안 놓아두어서 이온교환이 되게 하였다. 그 후 2L의 증류수로 세척하고 여과한 뒤, 393K 오븐에서 밤새 건조시킨 것을 673K에서 3시간 동안 건조시켜 Ag(I) 이온이 교환된 제올라이트를 얻었다.
실시예 4: Cu (I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
3 g의 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25)와 0.3 g의 고체상 염화구리(Ⅰ)(CuCl)를 막자사발과 막자를 이용해 함께 혼합한 뒤, 고온 소성로에서 50 ㎖?min-1의 질소를 흘려주며, 실온에서부터 623K까지 10 K?min-1의 속도로 승온한 후 623에서 2시간 동안 유지한 후, 다시 873K까지 가열하여 6시간 동안 유지시켰다.
실시예 5: Cu (I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
3 g의 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25)와 0.36 g의 고체상 염화구리(Ⅰ)(CuCl)를 막자사발과 막자를 이용해 함께 혼합한 뒤, 고온 소성로에서 50 ㎖?min-1의 질소를 흘려주며, 실온에서부터 623K까지 10 K?min-1의 속도로 승온한 후 623에서 2시간 동안 유지한 후, 다시 873K까지 가열하여 6시간 동안 유지시켰다.
실시예 6: Cu (I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
3 g의 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25)와 0.45 g의 고체상의 염화구리(Ⅰ)(CuCl)를 막자사발과 막자를 이용해 함께 혼합한 뒤, 고온 소성로에서 50 ㎖?min-1의 질소를 흘려주며, 실온에서부터 623K까지 10 K?min-1의 속도로 승온한 후 623에서 2시간 동안 유지한 후, 다시 873K까지 가열하여 6시간 동안 유지시켰다.
실시예 7: Cu (I)이 이온교환된 제올라이트의 제조
3 g의 베타-제올라이트(SiO2/Al2O3 비율=25)와 0.6 g의 고체상의 염화구리(Ⅰ)(CuCl)를 막자사발과 막자를 이용해 함께 혼합한 뒤, 고온 소성로에서 50 ㎖?min-1의 질소를 흘려주며, 실온에서부터 623K까지 10 K?min-1의 속도로 승온한 후 623에서 2시간 동안 유지한 후, 다시 873K까지 가열하여 6시간 동안 유지시켰다.
실험예 1: Ag (I)이 이온교환된 제올라이트의 탈황 성능
상기 실시예 1, 실시예 2, 실시예 3에서 제조된 흡착제를 이용하여 DMDS 제거 성능을 측정하였다. 탈황 성능 실험방법은 다음과 같다.
먼저 0.6 g의 흡착제를 고정층 반응기(i.d.: 9 mm)에 충진한 후, 523K에서 헬륨을 흘리면서 4시간 전처리 재생을 하였다. 흡착 실험을 진행하기 전, 523K에서 2시간 또는 4시간 동안 헬륨을 흘려 전처리를 해주었다. 전처리가 완료되면, 20 ppm의 DMDS가 포함된 C4 혼합가스(60%의 1-부텐, 40% n-부탄)를 150 ml/min의 유량으로 20시간 동안 흘리면서 고정층 흡착탑 외부로 배출되는 가스 중의 DMDS농도를 가스 크로마토그래피(GC)를 이용하여 분석하였다. 표 1에 나타낸 바와 같은 실제 FCC C4 유분의 조성과 유사한 C4 올레핀 및 파라핀의 조성을 맞추기 위해, 실험에 사용되는 모델 가스는 약 20 ppm의 DMDS, 60%의 1-부텐, 그리고 40%의 n-부탄으로 구성하였다.
도 1에 DMDS 제거 성능 실험결과를 나타내었다. 도 1의 결과로부터 실시예 1 내지 3 모두 DMDS 제거 성능을 나타내었음을 알 수 있으며, 특히, Ag(I)이온 교환이 가장 많이 이루어진 실시예 3이 가장 긴 시간 동안 DMDS 제거 성능을 나타내었음을 확인할 수 있다.
실험예 2: Cu (I)이 이온교환된 제올라이트의 탈황 성능
상기 실시예 4, 실시예 5, 실시예 6 및 실시예 7에서 제조된 흡착제를 이용하여 DMDS제거 성능을 측정하였다. 탈황 성능 실험방법은 실험예 1에서와 같다.
도 2에 실시예 4, 실시예 5, 실시예 6 및 실시예 7에서 제조된 흡착제의 탈황 성능 측정 결과를 나타내었다. 도 2의 결과로부터 실시예 4 내지 7에서 제조된 흡착제 모두 탈황 성능을 나타냄을 확인할 수 있으며, 특히, 10 중량%의 염화구리(CuCl)를 사용한 흡착제, 즉, 실시예 4의 경우 약 17시간 동안 DMDS를 완전히 제거하여 가장 높은 탈황 성능을 나타내었다.
실험예 3: 이온교환되지 않은 제올라이트의 탈황 성능
SiO2/Al2O3의 비율이 각각 25, 38, 360인 베타-제올라이트(비교예)를 이용하여 탈황 성능 실험을 수행한 결과를 나타내었다. 탈황 성능 실험방법의 실험예 1 및 실험예 2와 동일하였다. SiO2/Al2O3의 비율이 38인 경우에 가장 높은 탈황 성능을 보이는 것을 볼 수 있다. 이 실험예의 결과로부터, 본 발명의 이온교환된 흡착제가 이온교환되지 않은 흡착제에 비해 월등히 탈황 성능이 높은 것을 알 수 있다.

Claims (14)

  1. 양이온이 전이금속으로 치환된 제올라이트인 것을 특징으로 하는 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전이금속은 Ag(I) 또는 Cu(I)인 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제올라이트는 제올라이트 X, 제올라이트 Y, 베타-제올라이트 및 울트라스테이블Y로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제올라이트의 SiO2/Al2O3 비율이 0.5?360인 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제.
  5. 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법으로서,
    제올라이트를 전이금속의 염과 혼합하여 제올라이트의 양이온을 전이금속으로 이온교환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 전이금속은 Ag(I) 또는 Cu(I)인 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제올라이트는 제올라이트 X, 제올라이트 Y, 베타-제올라이트 및 울트라스테이블Y로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 제올라이트의 SiO2/Al2O3 비율이 0.5?360인 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  9. 제5항에 있어서,
    질산은 수용액에 제올라이트를 첨가하여 교반과 함께 반응시켜 얻은 생성물을 세척, 여과 및 300?700K의 온도에서 건조함으로써 Ag(I) 양이온으로 이온 교환된 제올라이트를 제조하는 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  10. 제5항에 있어서,
    염화구리와 H+-제올라이트 또는 NH4 +-제올라이트를 고체상으로 혼합한 후 질소 분위기 하 600?900K의 온도에서 소성함으로써 Cu(I) 양이온으로 이온 교환된 제올라이트를 제조하는 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 염화구리는 제올라이트 중량 대비 1?20 중량%를 사용하는 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 염화구리는 제올라이트 중량 대비 10 중량%를 사용하는 것을 특징으로 하는 황 화합물 제거용 흡착제의 제조방법.
  13. 양이온이 전이금속으로 치환된 제올라이트와 황 화합물을 함유하는 유동접촉분해(FCC) 공정에서 발생하는 C4 유분을 접촉시키는 단계를 포함하는 유동접촉분해 공정에서 발생하는 C4 유분 중에 존재하는 황 화합물의 농도를 감소시키는 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제올라이트는 Ag(I) 또는 Cu(I)로 치환된 제올라이트인 것을 특징으로 하는 방법.
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