KR20120092640A - 유리 제조 공정에서 에지 디렉터로부터의 열손실을 줄이는 방법 및 장치 - Google Patents

유리 제조 공정에서 에지 디렉터로부터의 열손실을 줄이는 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 성형체와, 상기 성형체에 부착된 에지 디렉터와, 상기 에지 디렉터 아래에 배치된 에지 롤 어셈블리를 구비하고, 상기 에지 롤 어셈블리는 에지 롤러 샤프트에 결합된 접촉부재와 상기 에지 디렉터로부터 열손실을 줄이기 위해 샤프트에 의해 배치된 열덮개를 구비하는 유리리본 드로잉 장치에 관한 것이다. 상기 에지 롤 어셈블리를 사용하는 유리 드로잉 방법도 개시된다.

Description

유리 제조 공정에서 에지 디렉터로부터의 열손실을 줄이는 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING HEAT LOSS FROM EDGE DIRECTORS IN A GLASS MAKING PROCESS}
본 출원은 2009년 10월 29일에 출원한 미국출원 제 12/608,452호의 이점을 청구한다. 본 문서 및 공보전체, 특허의 전체 내용 및 여기에 언급된 특허문서는 참조로서 병합된다.
본 발명은 다운드로잉 유리 제조공정에 사용되는 에지 디렉터로부터 열손실을 줄이는 방법 및 장치에 관한 것이다.
박막 유리시트를 형성하는 한 방법은 유리리본이 용융유리의 저장소로부터 드로잉되는 드로잉공정에 의한 것이다. 이것은 예를 들어, 상기 유리리본이 상기 저장소(예를 들어, 포우콜트(Foucault) 또는 콜번(Colburn))로부터 상부로 드로잉되는 업드로잉 공정을 통해 실시되거나, 또는 상기 리본이 전형적으로 성형체로부터 아래로 드로잉되는 다운드로잉 공정(예를 들어 슬롯 또는 퓨전)에 의해 실시된다. 상기 유리리본이 형성되면, 유리의 개별적인 시트는 리본으로부터 절단된다.
종래의 다운드로잉 공정에서, 용융유리는 성형체로부터 유리리본으로 드로잉 된다. 예를 들어, 바람직한 퓨전 다운드로잉 공정에서 용융유리는 한 쌍의 수렴 성형면을 구비하는 성형체 위를 흐른다. 개별 흐름들은 유리의 하나의 리본을 제조하기 위해 성형면 수렴부("루트")에서 합쳐진다. 상기 루트에 위치된 에지 디렉터는 표면 인장 효과에 대한 리본 너비를 유지하는 것을 돕는다.
에지 디렉터에서의 열손실은 그 표면을 흐르는 유리를 냉각시키고 유리의 실투(失透)를 야기시킬 수 있다. 이 열손실의 한 원인은 성형체의 밑면으로부터 하강함에 따라 리본을 안내하는 루트에 아주 근접하게 위치된 에지 롤러인 것으로 추정될 수 있다.
리본을 형성하기 위해 용융유리가 드로잉되는 성형체의 루트의 아래 그리고 인접하게 위치된 에지 롤 어셈블리를 구비한 유리리본 드로잉 장치가 개시된다. 에지 롤 어셈블리는 방사선을 통한 열손실양을 최소화하고, 드로잉 장치를 통해 상부로 흐르는 공기에 의한 대류의 열손실을 줄이기 위해 에지 롤의 샤프트에 위치된 열차폐부 또는 덮개를 포함한다. 즉, 열 덮개는 필수적으로 중공의 튜브이거나 샤프트와 덮개 사이의 에어갭으로 샤프트에 위치될 수 있다. 상기 덮개는 샤프트를 절연시키고 에지 디렉터로부터 샤프트까지 열손실을 최소화하도록 샤프트에 열싱크가 덜 나타나게 만든다. 에어갭은 덮개의 적어도 하나의 끝부에서 공기 중으로 오픈된다. 적어도 하나의 덮개부재의 끝부는 적어도 부분적으로 닫히고, 몇몇 실시예에서는 완전히 닫혀서 폐쇄된다.
한 실시예에서, 유리리본을 드로잉하는 장치는 유리리본을 공급하기 위해 퓨전 성형체와 같은 성형체를 구비하며, 상기 성형체는 루트에서 함께 합쳐지는 수렴 성형면들을 구비한다. 또한 성형체는 루트에서 교차하는 에지 디렉터를 포함한다. 에지 디렉터는 수렴 성형면과 에지 댐 사이로 뻗어있는 웹표면을 구비하며 - 필수적으로 세로부재는 용융유리의 흐름을 유지하기 위하여 성형체의 끝부에 위치된다. 몇몇 실시예에서, 에지 디렉터는 백금 또는 백금-로듐 합금과 같은 백금 합금으로부터 제작되며, 내화성 (예를 들어 세라믹) 성형체에 고정된다.
성형체 바로 아래 위치되고 에지 디렉터에 근접한 에지 롤 어셈블리는 유리리본의 에지 부분을 접촉하기 위해 접촉부재 또는 롤을 구비한다. 에지 롤 샤프트는 접촉부재에 결합되고 덮개부재는 접촉부재에 인접한 샤프트에 배치되어 샤프트의 외면과 덮개부재의 내면 사이에 갭이 존재한다. 샤프트는 바람직하게 중공이며, 공기 또는 물과 같은 냉매를 이송하기 위한 하나 또는 그 이상의 통로 또는 파이프를 구비하며, 접촉부재에 접촉한다. 접촉부재가 중공의 적어도 일부분을 포함함으로써 접촉냉매가 그 내부로부터 접촉부재를 냉각시킬 수 있다. 또한 리턴 통로가 샤프트에 제공됨으로써 냉매가 샤프트와 접촉부재로부터 제거될 수 있다. 예를 들어, 냉매를 재활용하기 위함이다.
바람직하게, 덮개부재는 샤프트와 동심이며 중공(존재한다면, 그것을 통해 확장되는 샤프트 또는 지지대를 제외하고)이다. 몇몇 실시예에서, 저방사 재료가 덮개부재를 제작하기 위해 선택된다. 덮개부재는 접촉부재에 인접하게 위치되며, 접촉부재로부터 샤프트의 적어도 일부를 지나거나 샤프트의 적어도 일부 근처로 뻗어있으며, 샤프트와 덮개부재의 내면 사이에 환형의 갭을 형성한다. 덮개부재는 폐쇄된 한 끝부를 가지며, 덮개부재를 접촉부재의 끝부에 고정함으로써 내부 체적은 샤프트의 경계, 덮개부재의 내부 및 접촉부재의 끝부로부터 형성된다.
몇몇 예에서, 에지 롤 샤프트는 샤프트를 회전시키도록 설정된 구동장치에 결합된다. 예를 들어, 에지 롤 샤프트는 전기 모터에 결합될 수 있다. 덮개부재 직경은 접촉부재의 최대 외경과 같거나 더 작으나, 샤프트보다 더 큰 내경으로 덮개의 내면과 샤프트의 외면 사이에 환형의 갭이 형성된다.
몇몇 실시예에서, 에지 롤 어셈블리는 다수의 덮개부재를 구비하며, 다수의 덮개부재 중 각각의 덮개부재는 인접한 덮개부재와 동심이며 인접한 덮개부재 사이에 갭이 존재한다. 상기와 같이, 덮개부재는 샤프트에 결합되거나, 덮개부재는 드로잉장치의 바깥부분에 결합되어 샤프트에 의해 회전하지 않는다.
또다른 실시예에서, 성형체로부터 유리리본을 드로잉하기 위한 에지 롤 어셈블리는 유리리본의 에지부에 접촉하기 위한 접촉부재를 구비하는 것이 개시되며, 에지 롤 샤프트가 접촉부재에 결합되고 덮개부재가 샤프트와 동심으로 배치됨으로써 샤프트의 외면과 덮개부재의 내면 사이에 갭이 존재한다. 예를 들어, 덮개부재는 샤프트 길이의 1/2보다 더 길게 뻗어있으나, 바람직하게 적어도 10cm의 접촉부재로부터 뻗는다. 에지 롤 샤프트는 바람직하게 샤프트와 접촉부재를 회전시키기 위한 구동장치에 의해 구동되도록 설정된다. 덮개부재의 외경은 바람직하게 접촉부재의 최대 외경과 동일하거나 더 작다. 몇몇 예에서, 에지 롤 어셈블리는 샤프트에 동심으로 배치된 다수의 덮개부재를 구비한다. 덮개부재는 샤프트에 결합된다.
여전히 또다른 실시예에서, 유리를 드로잉하는 방법은 유리리본의 에지 부분을 접촉시키기 위한 접촉부재를 구비하는 에지 롤 어셈블리에 연속적인 유리리본을 접촉시키는 다운드로잉 공정의 연속적인 유리리본을 제작하는 방법을 포함하는 것이 나타나며, 에지 롤 샤프트가 접촉부재와 상기 접촉부재에 인접한 샤프트에 동심으로 배치된 덮개부재에 결합됨으로써 샤프트의 외면과 덮개부재의 내면 사이에 갭이 존재한다.
본 발명은 더 쉽게 이해될 수 있고, 다른 목적, 특징, 상세부 및 그 이점들이 도면을 참조하여 어떠한 제한적용 없이 다음의 상세한 설명들로부터 좀 더 명백해질 것이다. 모든 추가적인 시스템, 방법, 특징 및 이점들이 상세한 설명 및 본 발명 내에 포함되며, 청구항들로부터 보호된다.
본 발명에 따르면, 다운드로잉 유리 제조공정에 사용되는 에지 디렉터로부터 열손실을 줄일 수 있다.
도 1은 에지 디렉터와 이 에지 디렉터 아래에 위치된 한 쌍의 에지 롤 어셈블리를 구비하는 바람직한 퓨전 성형체의 부분 단면 사시도를 나타낸다.
도 2는 에지 롤 배치 및 에지 디렉터와 관련한 열 덮개를 나타내는 도 1 장치의 일부 정면도이다.
도 3은 열 차폐부 또는 에지 롤 어셈블리의 샤프트에 위치된 덮개를 포함하는 에지 롤 어셈블리를 나타내는 본 발명에 따른 실시예의 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 에지 롤의 또다른 실시예를 나타내며, 다수의 동심의 열 덮개는 에지 롤에 결합된다.
설명의 목적을 위해 그리고 한정하지 않기 위해, 다음의 상세한 설명에서, 특정 상세부를 나타내는 다양한 예시의 실시예들이 본 발명의 전체적인 이해를 제공하기 위해 명시된다. 그러나, 이들이 본 발명의 이점을 가진다는 것은 당업자들에게 명백하며, 본 발명은 여기에 나타난 특정 상세부분 외에 다른 실시예에서도 실시될 수 있다.
게다가, 알려진 장치, 방법, 재료들의 설명이 본 발명의 설명을 모호하게 하지 않기 위해 생략될 수 있다. 끝으로, 어디에 적용되든 비슷한 참조번호들은 비슷한 요소들을 나타낸다.
예시의 퓨전-타입 다운드로잉 공정에서, 용융유리는 성형체의 윗면의 윗부분에 개방된 채널을 구비하는 성형체에 공급된다. 용융유리는 채널면 위를 흐르고 개별 흐름이 수렴면 지점(예를 들어 "루트")을 따르는 선에서 만나기 전에 성형체의 수렴 외면에 흘러내린다. 그곳에서, 개별 흐름들이 성형체로부터 아래로 흐르는 하나의 유리리본이 되도록 합쳐지거나 융합된다
성형체의 끝부는 리본의 본체보다 더 두꺼운 단면의 안정된 베드를 형성하기 위해 유리 흐름의 에지를 안내하는 에지 디렉터에 항상 맞춰지며 루트의 길이를 효과적으로 증가함으로써 표면 인장에 대한 리본의 너비를 유지하는 것을 도울 수 있다.
리본의 에지를 따라 위치된 다양한 롤러들(또는 "롤들")은 드로우하는 것을 보조하거나, 리본을 아래로 당기거나 및/또는 인장력을 리본에 적용시켜 리본의 너비를 유지하는 것을 돕는다. 몇몇 롤들은 모터에 의에 회전되며, 반면에 다른 롤들은 휠이 없다. 에지 롤은 유리리본 사이에 꽉맞게 쌍으로 배치된다. 따라서, 리본의 길이 아래의 주어진 수직 위치에 대하여, 에지 롤의 한 쌍은 리본의 한 에지에 배치될 것이고 그 동일한 수직 위치에 위치된 에지 롤의 두번째 쌍은 네 개의 전체 롤에 대하여 리본의 다른 에지에 배치될 것이다.
유리시트의 본체가 성형체의 면을 따라 노출되는 실질적으로 일정한 수평 열 환경은 성형체의 한쪽 끝 근처의 기하학적 조건에 의해 방해된다. 따라서, 성형체의 끝부는 성형체의 유리 흐름의 본체보다 더 낮은 온도에서 실질적으로 더 큰 표면영역으로 노출된다. 특히, 에지 디렉터 바로 아래에 있는 에지 롤은 뜨거운 유리가 에지 디렉터에 달라붙는 것을 방지하기 위해 실질적으로 낮은 온도에서 능동적으로 유지된다. 예를 들어, 공기와 같이 번호 6으로 나타나는 작동 유체는 에지 롤 샤프트의 파이프 8과 같은 통로를 통해 흐를 수 있고 접촉부재(도 2 참조)를 냉각시키기 위해 롤 접촉 부재(용융유리를 접촉시키는 에지 롤 어셈블리의 부분)의 내면에 영향을 받는다. 샤프트를 통하는 하나 이상의 냉각통로가 제공된다.
에지 롤 샤프트 사이와 근처의 입구들 역시 드로잉 장치의 하부의 더 낮은 표면들에 에지 디렉터를 노출시킨다. 게다가, 에지 디렉터의 기하학적 구조는 표면들 위의 유리 흐름을 퍼지게 하고 느리게 하며, 더 높은 냉각률에서, 성형체의 사이드부의 유리보다 에지 디렉터의 유리가 시간이 지날수록 차가워지게 한다. 에지 디렉터는 또한 성형체 그 자체보다 대류 및 복사열 손실에 직접적으로 노출되는 더 큰 표면 영역을 가진다.
에지 모서리로부터의 열 손실은 에지 모서리를 흐르는 유리의 온도가 성형체의 루트에서의 유리의 온도보다 더 낮게 만든다. 에지 디렉터에서의 이러한 낮은 유리온도는 에지 디렉터에 형성되는 실투를 피하기 위하여 이상적으로 유리 액상 온도 근처 또는 그 이상이어야 한다. 만약 유리 온도가 실질적으로 유리의 액상 온도 이하라면, 실투가 빨리 형성되어 결과적으로 유리 흐름 불안정성과 열등한 시트 형성 특성을 초래한다. 에지 디렉터에 형성된 실투된 유리는, 만약 그 유리가 깨져 유리 흐름에 혼입된다면 용융유리를 오염시킬 수도 있다.
현재, 드로잉을 위한 유리 구성은 최악의 실투 문제점을 피하기 위하여 충분히 낮은 액상의 온도(또는 높은 액상의 점도)를 가지도록 선택된다. 비교적 낮은 액상의 점도를 가지는 유리 구성에 있어서, 실투 성형률은 장치의 수리를 반드시 하기 전에 유리 형성 장치(예를 들어 성형체 및 또는 에지 디렉터)의 작동 수명을 제한하는 가장 큰 기여요인이다. 그러한 실투를 재용해시키기 위해 성형체에 정상보다 훨씬 뜨거운 유리를 흘려보내는 예전 시도들, 및 에지 모서리로부터 실투를 기계적으로 제거하는 시도들은 상기 문제점을 개선시키지 못하였다.
실투 형성은 성형체를 지나는 유리 온도 패턴과, 온도가 성형체의 루트 중앙에서 가장 높고 에지 디렉터를 지나 급격하게 떨어지는 에지 디렉터에 의해 이루어진다. 전형적으로, 에지 디렉터의 낮은 부분의 유리는 액상 온도로 떨어지고, 실투 생성을 증진시킨다. 만약 유리 온도가 충분히 액상 온도 아래이고 유리가 충분히 천천히 흐른다면, 실투 형성률은 결과적으로 에지 디렉터를 지나는 유리의 흐름을 방해하여 시트 형성 공정을 관리하기 어렵게 만들 만큼 높아질 것이다.
도 1은 채널 또는 트로프(14)와 수렴 성형면(16)을 포함하는 성형체(12)를 구비하는 일 실시예에 따른 바람직한 퓨전 다운 드로잉 장치(10)를 나타낸다. 수렴 성형면(16)은 루프(18)에서 만난다. 트로프(14)에는 트로프의 벽을 넘쳐흘러 개별 스트림으로 성형체의 외면을 따라 하강하는 용융유리(19)가 소스(도시하지 않음)로부터 제공된다. 수렴 성형면(16)을 따라 흐르는 용융유리의 개별 스트림은 루트(18)에서 만나고 유리리본(20)을 형성한다. 상기 유리리본이 성형체로부터 하강할 때, 용융재료는 성형체의 바닥부에서 점성 상태에서 점탄성 상태로 변화되며 최종 탄성 상태로 된다.
유리리본(20)이 최종 두께와 점성에 도달하면, 리본은 독립적인 유리시트 또는 판유리를 제공하도록 너비를 가로질러 분리된다. 용융유리가 성형체로 계속해서 공급되고, 리본의 길이가 늘어남에 따라, 추가적인 유리시트가 리본으로부터 분리된다.
에지 디렉터(22)는 수렴 성형면(16)과 에지 댐(26) 사이로 뻗어있는 웹부(24)를 구비한다. 몇몇 실시예에서, 웹부(24)의 일부분은 루트(18)의 아래로 뻗어있다. 그러나, 도 1에 도시된 에지 디렉터는 단지 도시를 위한 것이며, 다른 에지 디렉터 형상들도 가능하다. 전체적으로, 성형체의 각 코너마다 하나씩 4개의 에지 디렉터 웹부가 있다. 다른 실시예에서, 가열요소(도시되지 않음)는 에지 디렉터를 가열하기 위해 에지 디렉터 웹부 내에 위치된다.
에지 롤 어셈블리(32)는 에지 디렉터(22) 아래의 예정된 수직 위치에 배치되고, 리본에 견인력을 인가하는데 사용되는 구동 에지 롤 및/또는 리본을 안내하고 리본 너비를 지나는 인장을 유지하는 것을 돕는 비구동 아이들러(idler) 롤들을 포함한다. 구동 에지 롤들은 구동장치에 의해 구동되며, 보통 전기모터이다. 에지 롤들은 전형적으로 쌍으로 배치되며, 한 쌍의 롤의 각각의 롤은 리본의 에지의 반대측에 위치된다. 추가적으로, 에지 롤 쌍들은 쌍으로 배치되는데, 한 쌍의 롤이 주어진 수직 위치로 리본 에지마다 배치된다.
도 3은 일 실시예에 따른 바람직한 에지 롤 어셈블리(32)를 나타낸다. 에지 롤 어셈블리(32)는 접촉부재(34), 에지 롤 샤프트(36) 및 열 차폐부 또는 덮개(38)를 구비한다. 덮개(38)는 에지 롤 샤프트에 끼워지는 튜브 또는 실린더를 구비한다. 튜브는 바람직하게는 샤프트와 동심이다. 덮개(38)는 관통 플랜지(39)와 같이 에지 롤 샤프트(36)에 결합된다. 대안적으로, 덮개(38)는 접촉부재(34)에 결합된다. 다른 실시예에서, 덮개(38)는 샤프트(36)에 대하여 독립적으로 부유된다. 즉, 덮개는 외부 지지대에 결합되고 상기 덮개는 에지 롤 샤프트에 부착되지 않으며 샤프트에 의해 회전하지 않는다. 덮개의 내면과 에지 롤 샤프트의 외면 사이의 에어갭(40)이 샤프트(36)로부터 덮개(38)를 절연함으로써 주위 환경과 샤프트 사이의 대부분의 열전달이 이러한 열전달을 크게 방해하는 실질적으로 일련의 흡수-전도-방사 저항을 형성한다. 또다른 실시예에서, 접촉부재(34)의 외면은 널링(41)과 같이 직물화되어 있는데, 접촉면과 유리 사이의 그립감을 향상시키기 위한 것이다. 에어갭(40)은 아래에 도시된 바와 같이 몇몇 실시예를 제외하고 샤프트(36) 주위에 360도로 둘러싸며, 갭은 스페이서 또는 스포크에 의해 배치된다.
도 4에 나타난 또다른 실시예에서, 증가하는 반경의 다수의 열 차폐부 또는 덮개(38)는 에지 롤 샤프트(36)와 동심으로 배치되고, 각각의 덮개와 인접한 덮개(또는 가장 안쪽 덮개부재에 대한 에지 롤 샤프트) 사이의 에어갭(40)으로 전체 내열성을 증가시킴으로써 차폐막 효과를 증가시킨다. 필요하다면, 동심 실린더 사이의 스페이서(42)(예를 들어 스포크)는 실린더 사이의 일정한 갭을 유지하는데 사용된다. 그러나, 지지부와 실린더 사이의 접촉영역은 가능한 한 어떤 열전도경로를 줄이기 위해 최소화되어야 한다. 도 4의 에지 롤 어셈블리(32)는 구동 모터(44)를 포함하여 나타난다.
하나 또는 그 이상의 덮개(38)는 유리리본(20)의 에지를 접촉시키는 롤 접촉부재(34)의 베이스로부터 구동모터(44)까지 샤프트(36)의 완전히 노출된 길이를 연장시키거나, 샤프트(36)의 일부를 덮는다. 덮개의 길이는 드로잉 장치에 가능한 공간에 의해서만 제한된다. 그러나, 바람직하게 각각의 덮개는 적어도 10cm의 길이 L을 가진다. 최외부 덮개(38)의 외경은 샤프트(36)의 직경보다 더 커야하며 덮개의 내면과 샤프트의 외면 사이는 갭이 제공되나, 롤 접촉부재(34)의 가장 넓은 부분의 직경만큼 크다. 접촉부재의 직경과 거의 동일한 직경은 에지 롤이 유리리본을 죌때 에지 롤 쌍의 샤프트들간 형성된 점을 감소시켜 에지 디렉터와 드로잉 장치의 낮은 부분 간 시야 벡터 또는 "뷰"의 라인을 최소화라고, 또 이러한 더 차가운 표면에 대한 방사열 전달을 줄일 수도 있다. 접촉표면의 직경보다 더 큰 직경은 롤 쌍이 서로 조여질 때(그러한 롤 쌍의 두 덮개가 접촉될 때)그러한 롤 쌍의 근처까지 지연시킨다. 최외경 덮개의 직경을 최대화하는 것의 부수적인 효과는 에지 롤을 지나 에지 디렉터까지 위로 흐르는 공기의 흐름을 실질적으로 막음으로써 에지 디렉터로부터 대류열손실을 줄인다. 다운드로우 공정이 드로잉 장치의 탑에서 가장 뜨거운 온도를 갖는데, 이는 드로잉 장치를 통해 공기를 상류로 흐르게 하는 상당한 굴뚝 효과를 생성한다는 것을 이해햐야 한다.
차폐되는 에지 롤 샤프트의 가장 중요한 섹션은 실질적인 롤 접촉부재에 가장 인접한 부분이다. 이 섹션은 에지 디렉터 상부의 가장 직접적인 뷰(view)를 가지며 따라서 에지 디렉터 온도에 가장 크게 영향을 준다. 따라서, 덮개는 가능한 한 접촉부재에 가까이 위치된다.
덮개(38)는 예를 들어 플랜지(39)를 통해 샤프트에 기계적으로 결합되는데, 나사에 의해 고정되거나 용접된다. 이러한 고정장치는 아무런 트랙션 또는 방사형 응력을 전달하지 않으며, 단지 샤프트와 관련하여 제자리에 덮개를 고정하는데 사용된다. 몇몇 실시예에서, 덮개는 드로잉 장치의 외부 구성요소에 결합되며 덮개는 샤프트에 결합되지 않고 샤프트에 의해 회전하지 않는다.
덮개(38)는 에지 디렉터(22) 및 성형체(12)의 끝부로부터의 열방사성 뷰 요소를 실질적으로 두개의 더 차가운 물체로 인터럽트한다. 에지 롤 샤프트(36)는 내부적으로 냉각됨으로써 용융유리의 부착을 방지하며, 유리리본을 하향드로잉된 그대로 냉각하기 위해 성형체보다 더 낮은 온도인 드로잉 장치의 저부에 대한 샤프트들간 그리고 그 변의 뷰를 방지한다. 따라서 덮개(38)는 에지 디렉터(22)와 드로잉 장치의 다른 상부를 에지의 과도한 열손실로부터 이격되는 것을 돕는다.
본 발명의 상기 언급된 실시예, 특히 모든 "바람직한" 실시예들은 단지 실행가능한 실시예들이며, 본 발명의 특징을 명확히 이해시키기 위해 기술한다. 본 발명의 의도 및 특징으로부터 벗어남 없이 상기에 언급된 본 발명에 대하여 많은 변동 및 수정이 생길 수 있다. 이러한 모든 수정 및 변형은 본 공보 및 본 발명의 범위내에서 포함되도록 의도되며 다음의 청구항들로부터 보호된다.
10: 드로잉 장치 12: 성형체
14: 트로프 16: 수렴 성형면
19: 용융유리 20: 유리리본
22: 에지 디렉터 24: 웹부
32: 에지 롤 어셈블리 34: 접촉부재
36: 에지 롤 샤프트 38: 덮개
40: 에어갭

Claims (19)

  1. 유리리본을 공급하며, 루트에서 함께 합쳐지는 수렴 성형면들을 구비한 성형체;
    상기 루트를 교차하는 에지 디렉터; 및
    상기 유리리본의 에지부를 접촉하는 접촉부재, 상기 접촉부재에 결합된 에지 롤 샤프트, 및 상기 접촉부재에 인접한 샤프트에 배치된 덮개부재를 구비하는 에지 디렉터 아래에 배치된 에지 롤 어셈블리를 구비하며,
    상기 샤프트의 외면과 상기 덮개부재의 내면 사이에 갭이 존재하는 유리리본 드로잉 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개부재는 상기 샤프트와 동심원인 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 에지 롤 샤프트는 상기 샤프트를 회전시키도록 구성된 구동장치에 결합된 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개부재의 외경은 상기 접촉부재의 최대 외경과 같거나 또는 더 작은 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 에지 롤 어셈블리는 다수의 덮개부재를 구비하고, 다수의 덮개부재 각각의 덮개부재는 인접한 덮개부재와 동심이며 인접한 덮개부재들 간 갭이 존재하는 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개부재는 상기 샤프트에 결합된 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개부재의 적어도 하나의 끝부는 공기 중에 개방된 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개부재는 하나의 끝부에서 적어도 부분적으로 폐쇄된 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 덮개부재는 튜브를 구비한 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 에지 롤 어셈블리는 상기 에지 디렉터에 인접한 성형체의 바로 아래에 위치된 것을 특징으로 하는 유리리본 드로잉 장치.
  11. 유리리본의 에지 부분을 접촉하는 접촉부재;
    상기 접촉부재에 결합된 에지 롤 샤프트; 및
    상기 샤프트와 동심으로 배치된 덮개부재를 구비하며,
    상기 샤프트의 외면과 상기 덮개부재의 내면 사이에 갭이 존재하는 성형체로부터 유리리본을 드로잉하는 에지 롤 어셈블리.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 덮개부재는 상기 샤프트 길이의 1/2보다 더 길게 뻗어있는 것을 특징으로 하는 에지 롤 어셈블리.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 에지 롤 샤프트는 샤프트를 회전시키기 위해 구동장치에 의해 구동되도록 구성되며, 상기 덮개부재는 상기 샤프트에 의해 회전하는 것을 특징으로 하는 에지 롤 어셈블리.
  14. 청구항 11에 있어서,
    상기 덮개부재의 외경은 상기 접촉부재의 최대 외경과 같거나 또는 더 작은 것을 특징으로 하는 에지 롤 어셈블리.
  15. 청구항 11에 있어서,
    상기 에지 롤 어셈블리는 샤프트에 대해 동심으로 배치된 다수의 덮개부재를 구비한 것을 특징으로 하는 에지 롤 어셈블리.
  16. 청구항 11에 있어서,
    상기 덮개부재는 상기 샤프트에 결합된 것을 특징으로 하는 에지 롤 어셈블리.
  17. 유리리본을 제조하기 위해 성형체에 융융유리를 흐르게 하는 단계; 및
    유리리본의 에지부를 접촉하는 접촉부재, 상기 접촉부재에 결합된 에지 롤 샤프트, 및 상기 접촉부재에 인접한 샤프트에 동심으로 배치된 덮개부재를 구비한 에지 롤 어셈블리에 유리리본을 접촉시키는 단계를 포함하며,
    상기 용융유리는 적어도 하나의 에지 디렉터에 흐르며, 상기 에지 디렉터로부터 방사열 손실을 줄이기 위해 상기 샤프트의 외면과 상기 덮개부재의 내면 사이에 환형의 갭이 존재하는 유리 드로잉 방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 에지 롤 샤프트는 회전하고 상기 덮개부재는 상기 샤프트에 의해 회전하는 것을 특징으로 하는 유리 드로잉 방법.
  19. 청구항 17에 있어서,
    용융유리가 개별 스트림으로 흐르는 수렴 성형면들을 구비하고, 상기 에지 디렉터는 수렴 성형면들 중 어느 하나에 부착되는 것을 특징으로 하는 유리 드로잉 방법.

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