KR20120088980A - 진공 처리 장치 - Google Patents

진공 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20120088980A
KR20120088980A KR1020110010001A KR20110010001A KR20120088980A KR 20120088980 A KR20120088980 A KR 20120088980A KR 1020110010001 A KR1020110010001 A KR 1020110010001A KR 20110010001 A KR20110010001 A KR 20110010001A KR 20120088980 A KR20120088980 A KR 20120088980A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnetic
carrier
electromagnets
processing apparatus
stage
Prior art date
Application number
KR1020110010001A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101271112B1 (ko
Inventor
유환규
변치영
Original Assignee
(주)이루자
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)이루자 filed Critical (주)이루자
Priority to KR1020110010001A priority Critical patent/KR101271112B1/ko
Publication of KR20120088980A publication Critical patent/KR20120088980A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101271112B1 publication Critical patent/KR101271112B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67709Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G54/00Non-mechanical conveyors not otherwise provided for
    • B65G54/02Non-mechanical conveyors not otherwise provided for electrostatic, electric, or magnetic
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16HGEARING
    • F16H49/00Other gearings
    • F16H49/005Magnetic gearings with physical contact between gears
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02Controlled or contamination-free environments or clean space conditions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예는 진공 처리 장치에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 캐리어의 무게로 인하여 하부 이송부에 마찰력이 발생되지 않음으로 인하여 파티클 발생이 억제될 수 있고, 나아가 공정챔버 내부의 진공 누수의 염려를 제거하고자 하는 데 있다.
이를 위해 본 발명의 일 실시예는, 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되며, 그 하단에 제3 마그네틱단이 구비되어 기판을 고정하는 캐리어와, 상기 제3 마그네틱단과 동일극성의 제4 마그네틱단이 구비되어 상기 캐리어를 자기부상한 상태에서 수평이동시키는 이송부가 구비되는 진공 처리 장치를 개시한다.

Description

진공 처리 장치{VACCUM PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 진공 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체나 LCD, PDP 등의 평판 디스플레이 패널을 제조하기 위하여는 매우 복잡한 공정을 거치게 된다. 따라서, 각 공정을 수행하기 위하여 웨이퍼 또는 유리 기판을 로딩 또는 언로딩하여야 하는데, 이러한 기판의 로딩 또는 언로딩을 위하여 수직으로 이동하는 캐리어에 의해서 각 공정챔버로 이송되는 방법이 사용되고 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래 기술에 따른 진공 처리 장치의 구성을 설명하자면, 상기 캐리어(130)는 기판의 상부 이송경로의 캐리어 가이드(121) 내부에 위치하는 상부 캐리어바(131)와, 롤러(141)와 접촉하여 롤러(141)의 구동에 의해 수평이송을 위한 구동력을 제공받는 하부 캐리어바(132)로 구성된다.
상기와 같이 구성된 캐리어(130)는 상부 이송부(120) 및 하부 이송부(140)로 이루어진 진공 처리 장치에 의해 공정챔버(100)내에서 또는 각 챔버와 챔버들 사이에서 수평이송된다.
그러나, 이러한 종래 기술에 따른 진공 처리 장치는, 상기 캐리어(130)의 무게로 인하여 하부 이송부(140)에 마찰력이 발생되고, 이러한 마찰력으로 인하여 발생되는 파티클이 공정에 악영향을 줄 수 있다는 문제점이 있었다. 또한, 상기 하부 이송부(140)와 외부의 모터(150)사이에 설치된 피드스루(142)는 충격에 의하여 손상이 될 수 있고, 상기 피드스루(142)에 진공누수가 발생될 염려가 있어 정기적으로 유지보수가 필요하다는 문제점이 있었다.
이와는 다른 예로서, 종래 기술에 따른 진공 처리 장치는, 도 1에 도시된 상기 하부 이송부(140)를 타이밍 밸트(미도시)를 사용하여 구동시킬 수도 있다. 그러나, 상기 타이밍 밸트는 진공 처리 장치의 구동시 끊어져 작업을 중단해야 하는 번거로움이 발생될 수 있다는 문제점이 있었다.
본 발명의 실시예는, 복수 개의 공정챔버 내부에서 기판을 전자석 또는 영구자석과 그의 조합으로 발생되는 자기력을 구동력으로 하여 비접촉식으로 수평이동시키는 것에 의하여, 마찰력이 발생되지 않음으로 인하여 파티클 발생이 억제될 수 있고, 나아가 공정챔버 내부의 진공 누수의 염려를 제거할 수 있는 진공 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 의한 진공 처리 장치는, 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되며, 그 하단에 제3 마그네틱단이 구비되어 기판을 고정하는 캐리어와, 상기 제3 마그네틱단과 동일극성의 제4 마그네틱단이 구비되어 상기 캐리어를 자기부상한 상태에서 수평이동시키는 이송부가 구비된다.
상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 멤브레인의 상면에는 플랜지가 구비되어, 상기 플랜지가 상기 멤브레인 및 상기 공정챔버의 외측 상면에 결합되어 있다.
상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있다.
상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 공정챔버의 외측 상면에는 오링 홈이 형성되어 있다.
상기 캐리어의 양측면에 각각 지지바를 통하여 결합되어 상기 캐리어가 수평으로 이동되도록 구동되는 롤러가 더 구비된다.
상기 제1 마그네틱단 및 상기 제2 마그네틱단은 영구자석 또는 전자석일 수 있다.
상기 제1 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있고, 상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비된다.
상기 제3 마그네틱단 및 상기 제4 마그네틱단은 영구자석이다.
상기 제3 마그네틱단은 영구자석일 수 있고, 상기 제4 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있으며, 상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비된다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 의한 진공 처리 장치는, 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되고, 상기 제2 마그네틱단의 하부에 제3 마그네틱단이 구비되며, 기판을 고정하는 캐리어와, 상기 캐리어의 하단에 지지바를 통하여 연결되어 상기 캐리어를 수평이송하는 롤러와, 상기 캐리어의 양측에 상기 제3 마그네틱단과 동일극성의 제4 마그네틱단이 각각 구비되어 상기 캐리어를 수평이동시키는 이송부가 구비된다.
상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 멤브레인의 상면에는 플랜지가 구비되어, 상기 플랜지가 상기 멤브레인 및 상기 공정챔버의 외측 상면에 결합되어 있다.
상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있다.
상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 공정챔버의 외측 상면에는 오링 홈이 형성되어 있다.
상기 제1 마그네틱단 및 상기 제2 마그네틱단은 영구자석 또는 전자석일 수 있다.
상기 제1 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있고, 상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비된다.
상기 제3 마그네틱단 및 상기 제4 마그네틱단은 영구자석이다.
상기 제3 마그네틱단은 영구자석일 수 있고, 상기 제4 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있으며, 상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비된다.
또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 진공 처리 장치는, 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되고, 기판을 고정하는 캐리어와, 상기 캐리어의 하단에 지지바를 통하여 연결되어 상기 캐리어를 수평이송하는 롤러와, 상기 캐리어의 양측에 이격되어 구비되고, 상기 캐리어가 슬라이드 수평이동 가능하게 지지되는 슬라이딩 가이드부재를 포함한다.
상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 멤브레인의 상면에는 플랜지가 구비되어, 상기 플랜지가 상기 멤브레인 및 상기 공정챔버의 외측 상면에 결합되어 있다.
상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있다.
상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 공정챔버의 외측 상면에는 오링 홈이 형성되어 있다.
상기 제1 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있고, 상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비되어 있다.
상기 제2 마그네틱단은 영구자석이다.
상기 멤브레인은 그 단면이 홈 형상으로 구비된다.
상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있다.
본 발명에서는, 복수 개의 공정챔버 내부에서 기판을 전자석 또는 영구자석과 그의 조합으로 발생되는 자기력을 구동력으로 하여 비접촉식으로 수평이동시키고 있기 때문에, 마찰력이 발생되지 않음으로 인하여 파티클 발생이 억제될 수 있고, 나아가 공정챔버 내부의 진공 누수의 염려를 제거할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에서는, 설치공간 및 비용을 절약시켜 공정효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2의 A부분을 확대한 도면이다.
도 4는 도 2의 B부분을 확대한 도면이다.
도 5는 도 2의 A부분에 대한 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 진공 처리 장치는 복수 개의 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 스퍼터링하는 인라인 스퍼터링 장치에 적용될 수 있다. 여기서, 인라인 스퍼터링 장치를 구성하는 공정챔버로는, 대기압과 진공 상태를 전환시키는 로드락 챔버(Load-lock chamber), 기판을 가열시키는 버퍼 히팅 챔버(Buffer heater chamber), 기판 표면에 막을 코팅하는 복수 개의 프로세서 챔버(Process chamber) 등이 있으며, 이때 기판은 수직으로 이동하는 캐리어(Carrier)에 의하여 각각에 챔버들로 이송된다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이고, 도 3은 도 2의 A부분을 확대한 도면이며, 도 4는 도 2의 B부분을 확대한 도면이며, 도 5는 도 2의 A부분에 대한 다른 실시예를 나타내는 도면이다.
도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 처리 장치(10)는, 외측 상면에 개구부(11a)가 형성된 복수 개의 공정챔버(11)가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 장치로서, 상기 기판을 스프터링하는 스퍼터링 장치에 구비될 수 있다.
보다 구체적으로 설명하자면, 본 진공 처리 장치(10)는, 그 상면에 제1 마그네틱단(13)이 구비되고, 상기 개구부(11a)를 덮는 멤브레인(12)과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단(13)과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단(21)이 구비되며, 그 하단에 제3 마그네틱단(22)이 구비되어 기판을 고정하는 캐리어(20)와, 상기 제3 마그네틱단(22)과 동일극성의 제4 마그네틱단(23)이 구비되어 상기 캐리어(20)를 자기부상한 상태에서 수평이동시키는 이송부(B)가 구비되어 있다.
상기 공정챔버(11)는 외측 상면에 개구부(11a)를 형성하여 상기 개구부(11a)를 덮는 멤브레인(12)이 구비되도록 설계되어 있다. 이때, 상기 멤브레인(12)은 SUS재질로 이루어지고, 그 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성된다. 여기서, 상기 멤브레인(12)의 두께는 상기 멤브레인(12) 상에 구비되는 제1 마그네틱단(13)과 상기 제2 마그네틱단(21)과의 사이에 발생되는 자기력이 작용될 수 있는 최소한의 두께로 설계되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 멤브레인(12)의 상면에 제1 마그네틱단(13)이 구비된다. 즉, 상기 멤브레인(12) 중 상기 개구부(11a)를 덮고 있는 부위 상에 상기 제1 마그네틱단(13)이 구비되어 있다.
또한, 상기 개구부(11a)의 양측이고, 또한 상기 멤브레인(12)의 상면에는 각각 플랜지(15)가 구비되어 있다. 이때, 상기 플랜지(16)는 소정의 결합수단(17)에 의하여 상기 멤브레인(12) 및 상기 공정챔버(11)의 상면에 결합되어 있다.
또한, 상기 개구부(11a)의 양측이고, 또한 상기 공정챔버(11)의 외측 상면에는 오링 홈(16)이 형성되어 있다. 상기 오링 홈(16)에는 오링이 구비되어 있다.
한편, 상기 멤브레인(12)의 구조에 대한 다른 실시예로서, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 멤브레인(12)은 그 단면이 홈 형상으로 구비될 수도 있다. 이에 따라, 상기 제1 마그네틱단(13)은 상기 홈 내부에 구비된다. 또한, 상기 멤브레인(12)의 두께는 상기 공정챔버(11)의 두께보다 얇게 형성될 수 있고, 더욱 바람직하게는 상기 홈 형상의 하면부의 두께가 상기 홈의 양측벽의 두께보다 얇게 형성된다.
본 진공 처리 장치(10)에서는, 상기 개구부(11a)가 형성된 공정챔버(11)를 일 예로 하여 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 공정챔버(11)의 외측 상면에 그 두께가 얇도록 홈을 형성하여 그 홈 내부에 제1 마그네틱단(13)을 구비하는 것도 적용될 수 있다 할 것이다.
한편, 상기 공정챔버(11)의 구조는 이후에 설명되는 실시예에서도 공통적으로 적용될 수 있다.
상기 제1 마그네틱단(13)은 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 이때, 상기 제1 마그네틱단(13)이 전자석일 경우 상기 제1 마그네틱단(13)은 복수 개의 전자석(EM1~EM10)으로 구성되고, 상기 복수 개의 전자석(EM1~EM10) 각각은 별도의 전원공급부(P1~P5)가 구비되도록 설계되어있다.
상기 캐리어(20)는 그 상단 및 하단에 각각 제2 마그네틱단(21) 및 제3 마그네틱단(22)이 구비되어 있다. 이때, 상기 제2 마그네틱단(21)은 상기 제1 마그네틱단(13)과 반대극성을 가지는 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 또한, 상기 제2 마그네틱단(22)은 상기 제1 마그네틱단(13)과의 간격(G)이 0 이상 100mm미만으로 형성되는 것이 바람직하다.
여기서, 복수 개의 전자석(EM1~EM10)으로 이루어진 상기 제1 마그네틱단(13)과 영구자석(S)인 상기 제2 마그네틱단(21)은 자석의 인력의 작용을 이용하여 동작한다.
이를 참조하여, 본 진공 처리 장치의 캐리어(20)의 상부(A)의 동작을 설명하자면, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 영구자석(S)에 근접하는 전자석(EM1, EM2)에는 상기 영구자석(S)과 동일한 극성인 'S'극을 띄도록 전원공급부(P1)(14)를 제어하고, 상기 전자석(EM1, EM2)의 우측에 위치한 전자석(EM3, EM4)은 "N"극을 띄도록 전원공급부(P2)(14)를 제어한다. 이와 같이 상기 극성을 제어하면, 상기 영구자석(S)과 전자석(EM1, EM2)은 척력이 작용하고, 상기 영구자석(S)과 상기 전자석(EM1, EM2)의 우측에 위치하는 전자석(EM3, EM4)은 인력이 작용하여 서로를 끌어당기게 된다.
또한, 상기 캐리어(20)의 하단에는 영구자석인 제3 마그네틱단(22)이 구비된다.
이때, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제3 마그네틱단(22)의 하부(B)에는 상기 제3 마그네틱단(22)과 동일극성의 제4 마그네틱단(23)이 설치되어 있다. 또한, 상기 제4 마그네틱단(23)은 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 여기서, 상기 제4 마그네틱단(23)이 영구자석일 경우에는, 제3 마그네틱단(22)과 제4 마그네틱단(23)은 서로간에는 항상 척력이 작용하고 있다. 또한, 도시되어 있지는 않지만, 상기 제4 마그네틱단(23)이 복수 개의 전자석으로 구성될 경우에는, 상기 복수 개의 전자석은 상기 제1 마그네틱단(13)과 상기 제2 마그네틱단(21)과 동일한 원리로 각각 별도의 전원공급부가 구비되도록 설계하여, 인력 및 척력을 동시에 적용하여 상기 캐리어(20)를 이동시킬 수 있다.
또한, 상기 캐리어(20)의 양측면에 각각 지지바(24)를 통하여 결합되어 상기 캐리어(20)가 수평으로 이동되도록 구동되는 롤러(30)가 더 구비된다. 상기 롤러(30)는 상기 공정챔버(11)의 내벽 상에 한 쌍의 고정바(31)를 통하여 고정되어 있다.
상기와 같이 구성된 본 진공 처리 장치는, 상기 캐리어(20)의 상단은 상기 제1 마그네틱단(13)과 상기 제2 마그네틱단(21)에 인력과 척력이 작용하고, 상기 캐리어(20)의 하단은 상기 제3 마그네틱단(22)과 상기 제4 마그네틱단(23)의 척력에 의하여 자기부상하게 됨과 동시에, 상기 캐리어(20)의 양측에 구비된 롤러(30)를 통하여 상기 캐리어(20)에 장착되는 기판을 비접촉상태에서 수평으로 이송시킬 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.'
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치(10')는, 외측 상면에 개구부(11a')가 형성된 복수 개의 공정챔버(11')가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 장치로서, 상기 기판을 스프터링하는 스퍼터링 장치에 구비될 수 있다.
보다 구체적으로 설명하자면, 본 진공 처리 장치(10')는, 그 상면에 제1 마그네틱단(13')이 구비되고, 상기 개구부(11a')를 덮는 멤브레인(12')과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단(13')과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단(21')이 구비되고, 상기 제2 마그네틱단(21')의 하부에 제3 마그네틱단(22')이 구비되며, 기판을 고정하는 캐리어(20')와, 상기 캐리어(20')의 하단에 상기 공정챔버(11')의 내벽과 지지바(31')를 통하여 연결되어 상기 캐리어(20')를 수평이송하는 롤러(30')와, 상기 캐리어(20')의 양측에 상기 제3 마그네틱단(22')과 동일극성의 제4 마그네틱단(23')이 각각 구비되어 상기 캐리어(20')를 수평이동시키는 이송부(C')가 구비된다.
상기 제1 마그네틱단(13') 및 상기 제2 마그네틱단(21')은 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 이때, 상기 제1 마그네틱단(13')이 전자석일 경우, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제1 마그네틱단(13')은 복수 개의 전자석(EM1~EM10)으로 구성되고, 상기 복수 개의 전자석(EM1~EM10) 각각은 별도의 전원공급부(P1~P5)가 구비되도록 설계되어있다.
상기 캐리어(20')는 그 상단에 제2 마그네틱단(21')이 구비되고, 상기 제2 마그네틱단(21')의 하부에 제3 마그네틱단(22')이 구비되어 있다. 이때, 상기 제2 마그네틱단(21')은 상기 제1 마그네틱단(13')과 반대극성을 가지는 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 또한, 상기 제2 마그네틱단(21')은 상기 제1 마그네틱단과(13')의 간격(G')이 0 이상 100mm미만으로 형성되는 것이 바람직하다.
여기서, 복수 개의 전자석(EM1~EM10)으로 이루어진 상기 제1 마그네틱단(13')과 영구자석인 상기 제2 마그네틱단(21')은 자석의 인력의 작용을 이용하여 동작된다.
이와 도 3을 참조하여, 본 진공 처리 장치의 캐리어(20')의 상부(A')의 동작을 설명하자면, 상기 영구자석(S)에 근접하는 전자석(EM1, EM2)에는 상기 영구자석(S)과 동일한 극성인 'S'극을 띄도록 전원공급부(P1)(14)를 제어하고, 상기 전자석(EM1, EM2)의 우측에 위치한 전자석(EM3, EM4)은 'N'극을 띄도록 전원공급부(P2)(14)를 제어한다. 이와 같이 상기 극성을 제어하면, 상기 영구자석(S)과 전자석(EM1, EM2)은 척력이 작용하고, 상기 영구자석(S)과 상기 전자석(EM1, EM2)의 우측에 위치하는 전자석(EM3, EM4)은 인력이 작용하여 서로를 끌어당기게 된다.
또한, 상기 캐리어(20')의 상단에 구비된 상기 제2 마그네틱단(21')의 하부에는, 영구자석인 제3 마그네틱단(22')이 구비된다. 이때, 상기 캐리어(20')의 양측이고, 또한 상기 제3 마그네틱단(22')과 이격된 수평위치에 상기 제3 마그네틱단(22')과 동일극성의 제4 마그네틱단(23')이 설치되어 있다. 또한, 상기 제4 마그네틱단(23')은 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 여기서, 상기 제4 마그네틱단(23')이 영구자석일 경우에는, 제3 마그네틱단(22')과 제4 마그네틱단(23')은 서로간에는 항상 척력이 작용하고 있다. 또한, 상기 제4 마그네틱단(23')이 복수 개의 전자석으로 구성될 경우에는, 상기 복수 개의 전자석은 상기 제1 마그네틱단(13')과 상기 제2 마그네틱단(21')과 동일한 원리로 각각 별도의 전원공급부가 구비되도록 설계하여, 인력 및 척력을 동시에 적용하여 상기 캐리어(20')를 이동시킬 수 있다.
한편, 상기 캐리어(20')의 하단(B')에 지지바(31')를 통하여 연결되어 상기 캐리어(20')를 수평이송하는 롤러(30')가 구비되어 있다.
상기와 같이 구성된 본 진공 처리 장치는, 상기 캐리어(20')의 상단은 상기 제1 마그네틱단(13')과 상기 제2 마그네틱단(21')에 인력과 척력이 작용하고, 상기 캐리어(20')의 양측은 상기 제3 마그네틱단(22')과 상기 제4 마그네틱단(23')의 척력이 작용함과 동시에, 상기 캐리어(20')의 하단에 구비된 롤러(30')를 통하여 상기 캐리어(20')에 장착되는 기판을 수평으로 이송시킬 수 있다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 진공 처리 장치(10")는, 외측 상면에 개구부(11a")가 형성된 복수 개의 공정챔버(11")가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 장치로서, 상기 기판을 스프터링하는 스퍼터링 장치에 구비될 수 있다.
보다 구체적으로 설명하자면, 본 진공 처리 장치(10")는, 그 상면에 제1 마그네틱단(13")이 구비되고, 상기 개구부(11a")를 덮는 멤브레인(12")과, 그 상단에 상기 제1 마그네틱단(13")과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단(21")이 구비되고, 기판을 고정하는 캐리어(20")와, 상기 캐리어(20")의 하단에 지지바(미도시)를 통하여 연결되어 상기 캐리어(20")를 수평이송하는 롤러(30")와, 상기 캐리어(30")의 양측에 이격되어 구비되고, 상기 캐리어(30")가 슬라이드 수평이동 가능하게 지지되는 슬라이딩 가이드부재(25")를 포함한다.
상기 제1 마그네틱단(13") 및 상기 제2 마그네틱단(21")은 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 이때, 상기 제1 마그네틱단(13")이 전자석일 경우 상기 제1 마그네틱단(13")은 복수 개의 전자석(EM1~EM10)으로 구성되고, 상기 복수 개의 전자석(EM1~EM10) 각각은 별도의 전원공급부(P1~P5)가 구비되도록 설계되어있다.
이때, 상기 제2 마그네틱단(21")은 상기 제1 마그네틱단(13")과 반대극성을 가지는 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 또한, 상기 제2 마그네틱단(21")은 상기 제1 마그네틱단(13")과의 간격(G")이 0 이상 100mm미만으로 형성되는 것이 바람직하다.
여기서, 복수 개의 전자석으로 이루어진 상기 제1 마그네틱단(13")과 영구자석인 상기 제2 마그네틱단(21")은 자석의 인력의 작용을 이용한 구성으로서, 복수 개의 전자석(EM1 ~ EM10)과 각각의 전자석에 연결되는 전원공급부(P1~P5)로 이루어져 있다.
이와 도 3을 참조하여, 본 진공 처리 장치(10")의 캐리어(20")의 상부(A")의 동작을 설명하자면, 상기 영구자석(S)에 근접하는 전자석(EM1, EM2)에는 상기 영구자석(S)과 동일한 극성인 'S'극을 띄도록 전원공급부(P1)(14)를 제어하고, 상기 전자석(EM1, EM2)의 우측에 위치한 전자석(EM3, EM4)은 'N'극을 띄도록 전원공급부(P2)(14)를 제어한다. 이와 같이 상기 극성을 제어하면, 상기 영구자석(S)과 전자석(EM1, EM2)은 척력이 작용하고, 상기 영구자석(S)과 상기 전자석(EM1, EM2)의 우측에 위치하는 전자석(EM3, EM4)은 인력이 작용하여 서로를 끌어당기게 된다.
또한, 상기 캐리어(20")의 양측에는 슬라이딩 가이드 부재(25")가 이격되도록 구비되어, 상기 캐리어(20")가 슬라이드 수평이동 가능하게 지지되도록 한다. 상기 슬라이딩 가이드 부재(25")는 상기 공정 챔버(11")의 내측 하표면과 고정바(26")를 통하여 연결되어 고정되어있다.
한편, 상기 캐리어(20")의 하단(B")에 지지바(미도시)를 통하여 연결되어 상기 캐리어(20")를 수평이송하는 롤러(30")가 구비되어 있다.
상기와 같이 구성된 본 진공 처리 장치(10")는, 상기 캐리어(20")의 상단은 상기 제1 마그네틱단(13")과 상기 제2 마그네틱단(21")에 인력과 척력이 작용하고, 상기 캐리어(20")의 양측은 슬라이딩 가이드 부재(25")로 지지됨과 동시에, 상기 캐리어(20")의 하단에 구비된 롤러(30")를 통하여 상기 캐리어(20")에 장착되는 기판을 수평으로 이송시킬 수 있다.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 진공 처리 장치를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.
10: 진공 처리 장치 11: 공정챔버
11a: 개구부 12: 멤브레인
13: 제1 마그네틱단 14: 전원공급부
15: 플랜지 16: 오링홈
17: 결합수단 20: 캐리어
21: 제2 마그네틱단 22: 제3 마그네틱단
23: 제4 마그네틱단 30: 롤러
31: 지지바

Claims (25)

  1. 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서,
    그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과,
    그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되며, 그 하단에 제3 마그네틱단이 구비되어 기판을 고정하는 캐리어와,
    상기 제3 마그네틱단과 동일극성의 제4 마그네틱단이 구비되어 상기 캐리어를 자기부상한 상태에서 수평이동시키는 이송부가 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 멤브레인의 상면에는 플랜지가 구비되어, 상기 플랜지가 상기 멤브레인 및 상기 공정챔버의 외측 상면에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 공정챔버의 외측 상면에는 오링 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 캐리어의 양측면에 각각 지지바를 통하여 결합되어 상기 캐리어가 수평으로 이동되도록 구동되는 롤러가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 마그네틱단 및 상기 제2 마그네틱단은 영구자석 또는 전자석일 수 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있고,
    상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제3 마그네틱단 및 상기 제4 마그네틱단은 영구자석인 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제3 마그네틱단은 영구자석일 수 있고,
    상기 제4 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있으며,
    상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  10. 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서,
    그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과,
    그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되고, 상기 제2 마그네틱단의 하부에 제3 마그네틱단이 구비되며, 기판을 고정하는 캐리어와,
    상기 캐리어의 하단에 지지바를 통하여 연결되어 상기 캐리어를 수평이송하는 롤러와,
    상기 캐리어의 양측에 상기 제3 마그네틱단과 동일극성의 제4 마그네틱단이 각각 구비되어 상기 캐리어를 수평이동시키는 이송부가 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 멤브레인의 상면에는 플랜지가 구비되어, 상기 플랜지가 상기 멤브레인 및 상기 공정챔버의 외측 상면에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 공정챔버의 외측 상면에는 오링 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 제1 마그네틱단 및 상기 제2 마그네틱단은 영구자석 또는 전자석일 수 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  15. 제10항에 있어서,
    상기 제1 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있고,
    상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 제3 마그네틱단 및 상기 제4 마그네틱단은 영구자석인 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  17. 제10항에 있어서,
    상기 제3 마그네틱단은 영구자석일 수 있고,
    상기 제4 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있으며,
    상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  18. 그 외측 상면에 개구부가 형성된 복수 개의 공정챔버가 인라인 형태로 배열되어 그 내부에서 이송되는 기판을 진공 처리하는 진공 처리 장치에 있어서,
    그 상면에 제1 마그네틱단이 구비되고, 상기 개구부를 덮는 멤브레인과,
    그 상단에 상기 제1 마그네틱단과 동일 또는 반대극성의 제2 마그네틱단이 구비되고, 기판을 고정하는 캐리어와,
    상기 캐리어의 하단에 지지바를 통하여 연결되어 상기 캐리어를 수평이송하는 롤러와,
    상기 캐리어의 양측에 이격되어 구비되고, 상기 캐리어가 슬라이드 수평이동 가능하게 지지되는 슬라이딩 가이드부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 멤브레인의 상면에는 플랜지가 구비되어, 상기 플랜지가 상기 멤브레인 및 상기 공정챔버의 외측 상면에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 개구부의 양측이고, 또한 상기 공정챔버의 외측 상면에는 오링 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  22. 제18항에 있어서,
    상기 제1 마그네틱단은 복수 개의 전자석일 수 있고,
    상기 복수 개의 전자석은 각각 별도의 전원공급부가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 제2 마그네틱단은 영구자석인 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  24. 제1항, 제10항, 제18항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 멤브레인은 그 단면이 홈 형상으로 구비되는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 멤브레인의 두께는 상기 공정챔버의 두께보다 얇게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
KR1020110010001A 2011-02-01 2011-02-01 진공 처리 장치 KR101271112B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110010001A KR101271112B1 (ko) 2011-02-01 2011-02-01 진공 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110010001A KR101271112B1 (ko) 2011-02-01 2011-02-01 진공 처리 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120088980A true KR20120088980A (ko) 2012-08-09
KR101271112B1 KR101271112B1 (ko) 2013-06-04

Family

ID=46873964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110010001A KR101271112B1 (ko) 2011-02-01 2011-02-01 진공 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101271112B1 (ko)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9246377B2 (en) 2013-12-30 2016-01-26 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for transferring substrate
WO2016085277A1 (ko) * 2014-11-27 2016-06-02 한국알박㈜ 기판 이송 장치
JP2016165743A (ja) * 2015-03-10 2016-09-15 昭和アルミニウム缶株式会社 缶体搬送装置および印刷装置
TWI575643B (zh) * 2014-11-27 2017-03-21 Ulvac韓國股份有限公司 基板轉移裝置
WO2019223872A1 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 Applied Materials, Inc. Magnetic levitation system for transporting a carrier, carrier for a magnetic levitation system, processing system for vertically processing a substrate, and method of transporting a carrier
WO2019223871A1 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 Applied Materials, Inc. Apparatus for transportation of a carrier, processing system for vertically processing a substrate, and a method of switching a transport path of a carrier
KR20200023767A (ko) * 2018-08-27 2020-03-06 엘지전자 주식회사 반송 장치
CN112640073A (zh) * 2018-08-29 2021-04-09 应用材料公司 用于运输第一载体及第二载体的设备、用于垂直处理基板的处理系统及用于其的方法
WO2021228390A1 (en) * 2020-05-13 2021-11-18 Applied Materials, Inc. Carrier transport system, a carrier for a substrate, vacuum processing apparatus, and method of transportation of a carrier in a vacuum chamber
CN113767464A (zh) * 2019-06-17 2021-12-07 应用材料公司 磁悬浮系统和悬浮载体的方法
WO2022073588A1 (en) * 2020-10-06 2022-04-14 Applied Materials, Inc. Carrier transport system, carrier therefor, vacuum processing apparatus, and method of transportation of a carrier in a vacuum chamber

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07435Y2 (ja) * 1988-10-11 1995-01-11 旭硝子株式会社 真空処理炉の搬送装置
KR100675559B1 (ko) * 2005-10-19 2007-02-02 세메스 주식회사 자기부상 반송장치
KR20080046761A (ko) * 2006-11-23 2008-05-28 엘지디스플레이 주식회사 기판이송장치 및 이를 구비하는 박막 형성 장치
KR100880877B1 (ko) * 2007-11-02 2009-01-30 한국기계연구원 자기부상형 기판 이송장치

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9246377B2 (en) 2013-12-30 2016-01-26 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for transferring substrate
WO2016085277A1 (ko) * 2014-11-27 2016-06-02 한국알박㈜ 기판 이송 장치
TWI575643B (zh) * 2014-11-27 2017-03-21 Ulvac韓國股份有限公司 基板轉移裝置
JP2016165743A (ja) * 2015-03-10 2016-09-15 昭和アルミニウム缶株式会社 缶体搬送装置および印刷装置
WO2016143438A1 (ja) * 2015-03-10 2016-09-15 昭和アルミニウム缶株式会社 缶体搬送装置および印刷装置
CN112189058A (zh) * 2018-05-24 2021-01-05 应用材料公司 用于运输载体的设备、用于竖直地处理基板的处理系统以及切换载体的运输路径的方法
WO2019223871A1 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 Applied Materials, Inc. Apparatus for transportation of a carrier, processing system for vertically processing a substrate, and a method of switching a transport path of a carrier
WO2019223872A1 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 Applied Materials, Inc. Magnetic levitation system for transporting a carrier, carrier for a magnetic levitation system, processing system for vertically processing a substrate, and method of transporting a carrier
CN112218971A (zh) * 2018-05-24 2021-01-12 应用材料公司 用于运输载体的磁悬浮系统、用于磁悬浮系统的载体、用于竖直处理基板的处理系统以及运输载体的方法
KR20210011449A (ko) * 2018-05-24 2021-02-01 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 캐리어를 운송하기 위한 장치, 기판을 수직으로 프로세싱하기 위한 프로세싱 시스템, 및 캐리어의 운송 경로를 스위칭하는 방법
KR20200023767A (ko) * 2018-08-27 2020-03-06 엘지전자 주식회사 반송 장치
CN112640073A (zh) * 2018-08-29 2021-04-09 应用材料公司 用于运输第一载体及第二载体的设备、用于垂直处理基板的处理系统及用于其的方法
CN113767464A (zh) * 2019-06-17 2021-12-07 应用材料公司 磁悬浮系统和悬浮载体的方法
WO2021228390A1 (en) * 2020-05-13 2021-11-18 Applied Materials, Inc. Carrier transport system, a carrier for a substrate, vacuum processing apparatus, and method of transportation of a carrier in a vacuum chamber
CN114981471A (zh) * 2020-05-13 2022-08-30 应用材料公司 载体运输系统、用于基板的载体、真空处理设备和载体在真空腔室中运输载体的方法
WO2022073588A1 (en) * 2020-10-06 2022-04-14 Applied Materials, Inc. Carrier transport system, carrier therefor, vacuum processing apparatus, and method of transportation of a carrier in a vacuum chamber

Also Published As

Publication number Publication date
KR101271112B1 (ko) 2013-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101271112B1 (ko) 진공 처리 장치
US10636687B2 (en) Apparatus for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber, system for vacuum processing of a substrate, and method for transportation of a substrate carrier in a vacuum chamber
KR100707390B1 (ko) 기판 이송장치
KR101386685B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101409524B1 (ko) 기판 이송 장치
KR101854034B1 (ko) 비접촉 주행 모듈 및 이를 포함하는 이송 장치
KR101531656B1 (ko) 자기 부상 이송 장치
KR100633637B1 (ko) 자기 구동 수단을 가지는 기판 이송 셔틀
TW201843003A (zh) 載體、遮罩裝置、真空系統及操作一真空系統之方法
KR101848849B1 (ko) 기판 이송 장치
KR20160063969A (ko) 기판 이송 장치
KR20080104695A (ko) 기판 이송 장치
KR102107973B1 (ko) 진공 챔버 내의 기판을 프로세싱하기 위한 장치 및 시스템, 및 마스크 캐리어에 대해 기판 캐리어를 정렬하는 방법
WO2020200443A1 (en) Carrier transport system, vacuum deposition system, and method of transporting a carrier in a vacuum chamber
CN109690751B (zh) 基板处理装置
TWI687533B (zh) 用於一基板之真空處理之設備、用於具有有機材料之裝置之製造的系統、及用以密封連接二壓力區域之一開孔之方法
JP2008508738A (ja) 基板を搬送するための装置ならびにプロセスシステム
CN107062828B (zh) 一种真空干燥装置
KR101353527B1 (ko) 기판 이송장치
KR20110062182A (ko) 캐리어 및 이를 구비한 기판이송장치
KR102123482B1 (ko) 진공 시스템에서 사용하기 위한 캐리어, 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 기판의 진공 프로세싱을 위한 방법
KR101708710B1 (ko) 기판 이송 장치
JP2009051608A (ja) 搬送装置
KR101462596B1 (ko) 기판 처리장치
KR102089350B1 (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160530

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170510

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180530

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190530

Year of fee payment: 7