KR20120076217A - Apparatus for measuring flatness of transparency boards - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A device for measuring the flatness of a flat substrate is provided to obtain a precious measurement result by excluding factors obstructing a measurement of a flat substrate and to rapidly perform quality management of the flat substrate by rapidly obtaining the measurement result of the flat substrate. CONSTITUTION: A device for measuring the flatness of a flat substrate comprises a stage(110), a contact type LVDT(Linear Variable Differential Transformer) unit(120), a bracket(130), an elevating plate(140), an elevating unit(150), a control unit(160), and a display unit(170). A flat substrate is placed on the stage. The contact type LVDT is downwardly moved to the bottom of the flat substrate on the stage, thereby contacting to the bottom of the flat substrate. The bracket supports the contact type LVDT unit. The elevating plate is installed in the lower part of the bracket, thereby guiding the elevation of the bracket. The elevating unit is installed in the lower part of the elevating plate, thereby moving the elevating plate up and down. The control unit controls the operation of the elevating unit and senses signals of the LVDT unit and converts the sensed signals into a data. The display unit visually displays the data.

Description

평판기판의 평탄도 측정장치{APPARATUS FOR MEASURING FLATNESS OF TRANSPARENCY BOARDS}Flatness measuring device for flat boards {APPARATUS FOR MEASURING FLATNESS OF TRANSPARENCY BOARDS}

본 발명은 평판기판의 평탄도 측정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유리기판 또는 투명한 플라스틱기판과 같은 평판기판의 휨 정도를 측정할 때 평판기판의 전체 면적에 걸쳐 직접적인 접촉에 의해 평판기판의 평탄도를 측정하고 이를 디스플레이에 표시함으로써, 평판기판의 휨 정도를 정밀하게 측정하고 이로부터 고품질의 표시장치를 생산할 수 있는 평판기판의 평탄도 측정장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an apparatus for measuring flatness of a flat substrate, and more particularly, flatness of a flat substrate by direct contact over the entire area of the flat substrate when measuring the degree of warpage of the flat substrate such as a glass substrate or a transparent plastic substrate. The present invention relates to an apparatus for measuring flatness of a flat substrate that can accurately measure the degree of warpage of the flat substrate and produce a high quality display device by measuring the degree and displaying the same on a display.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 증가하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 평판디스플레이(Flat Panel Display) 산업분야의 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal display devices (LCDs), plasma display panels (PDPs), and ELDs in the flat panel display industry have been recently developed. Various flat panel display devices such as Electro Luminescent Display (VFD) and Vacuum Fluorescent Display (VFD) have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 이동형 표시장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하여 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송 신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비젼 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is the most used to replace the CRT (Cathode Ray Tube) for the use of mobile display devices because of its excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption. In addition to the use, various developments have been made for a television and a computer monitor for receiving and displaying broadcast signals.

이러한 LCD 표시장치는 투명한 두 기판 사이에 액정층이 형성된 형태로, 상기 액정층을 구동하여 화소별로 광투과율을 조절함으로써 원하는 화상을 표시할 수 있도록 한 표시장치이다.The LCD display device is a display device in which a liquid crystal layer is formed between two transparent substrates, and the display device is configured to display a desired image by adjusting the light transmittance for each pixel by driving the liquid crystal layer.

이러한 표시장치에 주로 사용되는 평판기판은 주로 유리 또는 투명한 플라스틱기판이 사용되는데, 상기 유리기판은 두께가 0.5~0.7 ㎜ 정도로 두껍고 무거우며 유연하지 못한 단점이 있으며 또한 표시장치가 대면적화 되어가기 때문에 쉽게 파손될 염려가 있다.Flat panel substrates used in such display devices are mainly glass or transparent plastic substrates. The glass substrates have a disadvantage of being thick, heavy, and inflexible, with a thickness of about 0.5 to 0.7 mm, and also because the display devices become large in area. There is a risk of breakage.

또한, 디스플레이 박막TFT(Thin Film Transistor) 제조공정 진행시 성막(Deposition)공정과 Photo, 식각(Etch)공정의 Mask Pattern 공정이 반복 진행되면서 평판기판에 스트레스와 휨을 초래하여 초기의 평판기판을 변형시켜 TFT 제조공정 진행시 제품 품질에 문제를 일으키게 된다.In addition, during the manufacturing process of display thin film transistor (TFT), the deposition process and the mask pattern process of photo and etching process are repeatedly performed, which causes stress and warpage on the flat panel substrate. The TFT manufacturing process causes problems in product quality.

아울러, 유리기판 대신에 플라스틱기판을 이용한 더욱 얇고 가볍고 유연한 표시장치가 제안되었다. 가볍고 잘 깨지지 않는 특성이 있는 플라스틱기판은 보통 그 두께가 0.2㎜ 이하이며, 열팽창 계수가 15 ppm 이상이다. 이러한, 플라스틱기판은 얇은 두께로 인해 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor) 또는 컬러 필터(Color Filter) 등을 형성시킬 때, 휘어지고 변형되는 문제가 있다. 이를 해결하기 위해 플라스틱기판은 통상 유리기판과 같은 지지체에 부착되어 공정을 수행한다.In addition, a thinner, lighter and more flexible display device using a plastic substrate has been proposed instead of the glass substrate. Plastic substrates with light and brittle properties usually have a thickness of 0.2 mm or less and a thermal expansion coefficient of 15 ppm or more. Such a plastic substrate has a problem of bending and deformation when forming a thin film transistor or a color filter due to its thin thickness. To solve this problem, a plastic substrate is usually attached to a support such as a glass substrate to perform a process.

상기와 같은 지지체는 주로 유리기판이 사용되는데, 상기 유리기판은 열에 강하고 평탄하며 특히 박막 트랜지스터 또는 컬러 필터 등을 형성시키는 공정 중 사용하게 되는 화학물질에도 잘 견디는 장점이 있다. 이와 같은 유리기판의 장점 때문에, 기존에는 보통 0.5~0.7 ㎜ 두께의 유리기판을 플라스틱기판의 지지체로 사용하는 경우가 많았다. 이 유리기판은 투명하고 박막 트랜지스터 또는 컬러필터 등을 형성시키는 공정 중에 키(key)를 마크할 수도 있어 어셈블리 공정에도 유리한 점이 많다.The support is mainly a glass substrate, which is advantageous in that it is resistant to heat and is flat and particularly resistant to chemicals used during the process of forming thin film transistors or color filters. Due to such advantages of glass substrates, glass substrates of 0.5 to 0.7 mm thickness are usually used as a support for plastic substrates. The glass substrate is transparent, and a key may be marked during the process of forming a thin film transistor, a color filter, or the like, which is advantageous in the assembly process.

이와 같은 유리기판 또는 투명한 플라스틱기판을 포함하는 평판기판은 평판디스플레이 산업분야의 LCD 표시장치뿐만 아니라 PDP 표시장치, ELD 표시장치, VFD 표시장치 등에 모두 설치되는 범용적인 요소로써 앞서 설명한 바와 같은 평판기판은 광투과율이 높아야하며 평판형 표시장치를 형성하기 위해 높은 평탄도가 유지되어야 한다.Such a flat substrate including a glass substrate or a transparent plastic substrate is a universal element installed in not only LCD displays of the flat panel display industry but also PDP displays, ELD displays, and VFD displays. The light transmittance must be high and high flatness must be maintained to form a flat panel display.

따라서, 상기 평판기판의 평탄도를 측정하기 위해 종래에는 광센서를 이용하여 평판기판의 휨 정도를 측정하였다. Therefore, in order to measure the flatness of the flat plate, the bending degree of the flat plate is conventionally measured using an optical sensor.

부연하자면, 평판기판의 평탄도를 측정하기 위한 종래의 광센서를 이용한 평판기판의 평탄도 측정장치는 측정하고자 하는 평판기판이 놓이는 평탄도가 유지된 정반과 상기 정반의 상방에 설치된 발광부와 수광부로 이루어진 광센서 및 상기 광센서의 발광부로부터 조사되는 광이 평판기판의 표면에서 반사되어 수광부로 돌아오는 것을 감지하여 이를 데이터화하는 제어부로 이루어져 상기 광센서의 발광부가 평판기판을 향해 광을 조사하여 평판기판의 표면에서 굴절되어 돌아오는 광을 수광부에서 감지해 평판기판의 평탄도를 측정하게 된다.In other words, the flatness measurement apparatus of the flat panel substrate using a conventional optical sensor for measuring the flatness of the flat panel substrate and the light emitting unit and the light receiving unit provided above the surface plate and the flat surface is maintained It consists of an optical sensor and a control unit for detecting the light emitted from the light emitting unit of the light sensor is reflected from the surface of the flat plate to return to the light receiving unit and to make it into data to the light emitting unit of the light sensor to irradiate the light toward the flat substrate The light that is refracted by the surface of the flat substrate is returned by the light receiver to measure the flatness of the flat substrate.

그러나, 상기와 같은 종래의 광센서를 이용한 평판기판의 평탄도 측정장치는 광센서의 발광부에서 조사되는 광이 평판기판을 투광하거나 산란을 일으키기 때문에 평판기판의 표면으로부터 반사되어 돌아오는 광을 수광부에서 정확하게 감지할 수 없어 평판기판의 평탄도에 대한 정확한 측정결과를 얻기 어려운 문제점이 있다.However, the flatness measuring device of the flat panel using the conventional optical sensor as described above, because the light emitted from the light emitting portion of the optical sensor is transmitted or scattered on the flat substrate to receive the light reflected back from the surface of the flat substrate There is a problem that it is difficult to obtain accurate measurement results for the flatness of the flat plate because it cannot be detected accurately.

상기와 같이 평판기판의 평탄도에 대한 정확한 측정이 이루어지지 않으면 평판기판의 평탄도가 검증되지 않고 이러한 평탄도가 검증되지 않은 평판기판이 표시장치에 설치되면 표시장치의 품질에 대한 신뢰도를 감소시키는 요인으로 작용하게 되어 결국 소비자에게 외면받는 표시장치를 생산하게 되는 문제가 있다.
If the flatness of the flat substrate is not accurately measured as described above, the flatness of the flat substrate is not verified, and if the flat substrate having such flatness is not installed, the reliability of the display apparatus is reduced. As a factor, there is a problem that eventually produces a display device that is ignored by the consumer.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 평판기판의 평탄도(휨)를 측정할 때 상기 평판기판의 표면과 직접 접촉하여 측정함으로써 정밀한 측정을 하는데 방해하는 요인의 간섭을 최소화시켜 정밀한 측정결과를 얻을 수 있는 평판기판의 평탄도 측정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, and when measuring the flatness (bending) of the flat plate by measuring the direct contact with the surface of the flat plate by minimizing the interference of factors that interfere with the precise measurement and precise measurement It is an object of the present invention to provide an apparatus for measuring flatness of a flat substrate which can obtain a result.

또한, 평판기판의 평탄도를 측정할 때 동일한 조건에서 평판기판의 전면적에 걸쳐 동시에 평탄도를 측정함으로써 신속하게 평판기판의 평탄도를 측정할 수 있는 평판기판의 평탄도 측정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, when measuring the flatness of the flat plate substrate under the same conditions simultaneously to measure the flatness across the entire surface of the flat plate substrate to provide a flatness flatness measuring device that can quickly measure the flatness of the flat substrate There is this.

또한, 평판기판의 평탄도를 측정할 때 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하여 더욱 정밀한 측정결과를 얻을 수 있는 평판기판의 평탄도 측정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a flatness flatness measuring apparatus for flat plate substrates, which can obtain more accurate measurement results by blocking vibrations transmitted from the ground when measuring the flatness of the flat plate.

그리고, 평판기판의 표면과 직접 접촉하는 LVDT 센서의 영점 조절을 간편하고 신속하게 수행할 수 있어 이로부터 평판기판의 평탄도 측정을 편리하게 할 수 있는 평판기판의 평탄도 측정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, the zero point adjustment of the LVDT sensor in direct contact with the surface of the flat substrate can be easily and quickly performed, thereby providing a flatness flatness measuring apparatus that can conveniently measure the flatness of the flat substrate. There is this.

또한, 평판기판의 표면과 직접 접촉하는 LVDT 센서의 높이를 개별적으로 조절할 수 있어 LVDT 센서의 높이 차에 따른 오차를 감소시켜 더욱 정밀한 측정결과를 얻을 수 있는 평판기판의 평탄도 측정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
In addition, the height of the LVDT sensor in direct contact with the surface of the flat substrate can be individually adjusted to reduce the error caused by the height difference of the LVDT sensor to provide a flat panel flatness measuring device that can obtain more accurate measurement results. There is a purpose.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상으로는, 평판기판이 위치하는 스테이지와, 상기 스테이지에 위치한 평판기판의 저면을 향해 승강하여 평판기판의 저면과 접촉하는 접촉형 LVDT 유닛과, 상기 접촉형 LVDT 유닛을 지지하는 브라켓과, 상기 브라켓의 하부에 설치되고 브라켓의 승강을 수직하게 안내하는 승강 플레이트와, 상기 승강 플레이트의 하부에 설치되어 승강 플레이트를 승강시키는 승강 유닛과, 상기 승강 유닛의 작동을 제어하며 상기 평판기판의 저면을 향해 승강하여 접촉한 접촉형 LVDT 유닛의 신호를 감지하고 데이터로 가공하는 제어부 및 상기 제어부에 가공된 데이터를 시각적으로 표시하는 디스플레이부를 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치에 의해 달성된다.According to the technical idea of the present invention for achieving the above object, the stage in which the flat plate substrate is located, the contact type LVDT unit which is lifted toward the bottom of the flat plate substrate located on the stage and in contact with the bottom surface of the flat plate, A bracket for supporting the contact-type LVDT unit, a lifting plate provided at the lower portion of the bracket to vertically guide the lifting and lowering of the bracket, a lifting unit provided at the lower portion of the lifting plate to raise and lower the lifting plate, and Flatness of the flat panel including a control unit for controlling the operation and sensing and processing the signal of the contact type LVDT unit in contact with the lifting and lowering toward the bottom surface of the flat substrate and a display unit for visually displaying the processed data on the control unit Achieved by a measuring device.

여기서, 상기 스테이지는 상기 접촉형 LVDT 유닛이 상기 스테이지를 관통하여 승강하는 관통홀이 형성되고, 상기 관통홀은 상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에 분포되는 것이 바람직하다.The stage may include a through hole through which the contact-type LVDT unit moves up and down through the stage, and the through hole is distributed in an area of a flat substrate positioned on the stage.

또한, 상기 스테이지에 형성된 관통홀은 상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 평판기판의 모서리 부분에 집중 분포되는 것이 바람직하다.In addition, the through-holes formed in the stage is preferably distributed in the corner portion of the flat plate within the area of the flat plate positioned on the stage.

또한, 상기 스테이지에 형성된 관통홀은 상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 평판기판의 연부를 따라 집중 분포되는 것이 바람직하다.In addition, the through-holes formed in the stage are preferably distributed along the edge of the plate substrate within the area of the plate substrate positioned in the stage.

또한, 상기 평판기판이 스테이지 상에서 정해진 위치에 안착될 수 있도록 상기 스테이지로부터 돌출 형성된 스토퍼를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to further include a stopper protruding from the stage so that the plate substrate can be seated at a predetermined position on the stage.

또한, 상기 스토퍼는 원기둥의 형상을 갖고 상기 평판기판의 모서리 일측면과 타측면에 제각기 형성되어 한 조를 이루며 상기 한 조를 이루는 스토퍼가 평판기판의 모서리 2곳 이상을 지지하게 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the stopper has a cylindrical shape and is formed on one side and the other side of the edge of the flat plate, respectively, to form a group, and the stopper forming the pair is preferably formed to support two or more corners of the plate substrate. .

그리고, 상기 접촉형 LVDT 유닛은 상기 브라켓에 고정되는 중공된 홀더와, 상기 홀더의 상단에 위치한 상태에서 회전되게 홀더의 내경에 설치되는 중공부를 갖는 조절 노브와, 상기 조절 노브의 중공부에 형성된 나사산과 치합된 상태에서 상기 조절 노브의 회전에 따라 나사산을 타고 수직하게 승강하는 중공된 승강체 및 상기 승강체에 탑재되고 그 일부가 승강체의 상부로 노출되어 평판기판의 저면과 접촉하고 그에 따른 전기적 신호를 제어부로 보내는 LVDT 센서를 포함하는 것이 바람직하다.The contact type LVDT unit includes a hollow knob fixed to the bracket, an adjustment knob having a hollow portion installed at an inner diameter of the holder to be rotated while being positioned at an upper end of the holder, and a screw thread formed at the hollow portion of the adjustment knob. And a hollow lifting body which is vertically lifted by a thread in accordance with the rotation of the adjustment knob in the state of being engaged with and is mounted on the lifting body, and a part thereof is exposed to the upper part of the lifting body so as to contact the bottom surface of the plate substrate and thereby the electrical It is preferable to include a LVDT sensor for sending a signal to the control unit.

또한, 상기 승강체의 외경과 일체로 형성되어 상기 홀더의 내경 하부를 향해 절곡 연장된 가이드 및 상기 조절 노브의 회전에 따라 나사산을 타고 승강체가 승강하게 될 때 상기 승강체가 회전됨 없이 수직하게 승강하도록 안내하는 상기 홀더의 내경 하부에 형성되어 상기 가이드가 삽입되는 가이드 홈을 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the lifting body is vertically lifted without being rotated when the lifting body is lifted by a screw thread according to the rotation of the guide and the adjustment knob which is formed integrally with the outer diameter of the lifting body and is bent toward the lower inner diameter of the holder. It is preferable to further include a guide groove formed in the lower inner diameter of the holder to guide the guide is inserted.

그리고, 상기 승강 유닛은 상기 승강 플레이트의 저면에 고정되는 로드와, 상기 로드를 승강시키는 동력을 제공하는 구동부 및 상기 구동부가 설치되는 베이스 플레이트를 포함하는 것이 바람직하다.The elevating unit preferably includes a rod fixed to a bottom surface of the elevating plate, a driving unit providing power for raising and lowering the rod, and a base plate on which the driving unit is installed.

또한, 상기 승강 플레이트와 베이스 플레이트는 리니어 베어링에 의해 연결되어 상기 승강 유닛에 의해 승강 플레이트가 상하로 이동할 때 회전됨 없이 수직하게 안내하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the elevating plate and the base plate are connected by a linear bearing to guide vertically without being rotated when the elevating plate moves up and down by the elevating unit.

그리고, 상기 승강 유닛의 하부에 설치되어 상기 스테이지에 위치하는 평판기판이 측정이 시작되기 전에 상기 승강 유닛을 공중 부양시켜 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하는 방진 유닛을 더 포함하는 것이 바람직하다.And, it is preferable to further include a dustproof unit which is installed in the lower portion of the elevating unit and positioned on the stage to lift the elevating unit to levitation before the measurement starts to block the vibration transmitted from the ground.

여기서, 상기 방진 유닛은 상기 승강 유닛의 베이스 플레이트 저면에 설치되는 랜딩부와, 상기 랜딩부에 부합하는 형상을 갖고 공기가 토출되는 토출구가 형성된 삽입부 및 상기 삽입부에 형성된 토출구와 유로로 연결되어 상기 유로를 통해 공기를 공급하는 에어 공급원을 포함하는 것이 바람직하다.Here, the dustproof unit is connected to a landing portion installed on the base plate bottom surface of the elevating unit, an insertion portion having a shape corresponding to the landing portion, and an discharge port through which air is discharged, and a discharge hole formed in the insertion portion and a flow path. It is preferable to include an air supply source for supplying air through the flow path.

또한, 상기 스테이지와 대면하는 면의 평탄도가 유지되고 상기 접촉형 LVDT 유닛이 평판기판의 평탄도를 측정하기에 앞서 스테이지에 위치하여 접촉형 LVDT 유닛의 영점을 조절하는 영점조절지그를 더 포함하는 것이 바람직하다.
The apparatus may further include a zero adjustment jig for maintaining the flatness of the surface facing the stage and adjusting the zero point of the contact type LVDT unit before the contact type LVDT unit measures the flatness of the plate substrate. It is preferable.

본 발명에 의한 평판기판의 평탄도 측정장치는, 평판기판의 평탄도를 측정할 때 상기 접촉형 LVDT 유닛의 LVDT 센서가 평판기판의 저면과 직접 접촉하여 측정함으로써, 평판기판을 측정하는데 방해하는 요인을 배제하기 때문에 정밀한 측정결과를 얻을 수 있어 표시장치에 중대한 문제를 일으키는 평판기판의 사용을 관리할 수 있고 이로부터 우수한 품질을 갖는 표시장치를 제조할 수 있는 효과가 있다.In the flatness measuring apparatus of the flat panel according to the present invention, when measuring the flatness of the flat substrate, the LVDT sensor of the contact type LVDT unit is measured in direct contact with the bottom of the flat substrate, thereby preventing the flat substrate from being measured. Therefore, since accurate measurement results can be obtained, it is possible to manage the use of a flat panel substrate which causes a serious problem in the display device, thereby producing a display device having excellent quality.

또한, 접촉형 LVDT 유닛의 LVDT 센서가 동일한 조건에서 평판기판의 전면적을 걸쳐 동시에 평탄도를 측정하고 측정된 결과가 디스플레이부를 통해 시각적으로 검사자에게 제공되기 때문에 평판기판의 신속한 측정결과를 얻을 수 있고 이로부터 평판기판의 품질관리를 더욱 신속하게 수행할 수 있다.In addition, since the LVDT sensor of the contact type LVDT unit simultaneously measures the flatness across the entire surface of the flat plate under the same conditions, and the measured result is visually provided to the inspector, a quick measurement result of the flat plate can be obtained. The quality control of the flat board can be performed more quickly.

또한, 스테이지에 위치한 평판기판의 평탄도를 측정하기 전에 방진 유닛이 작동을 개시하여 승강 유닛을 포함한 승강 플레이트와 다수의 접촉형 LVDT 유닛이 설치된 브라켓을 공중 부양시킨 상태에서 평판기판의 평탄도를 측정할 수 있어 지면으로부터 전해지는 진동을 차단시켜 더욱 정밀한 측정결과를 얻을 수 있다.In addition, before measuring the flatness of the flat plate placed on the stage, the dustproof unit starts operation to measure the flatness of the flat plate with the lifting plate including the lifting unit and the bracket on which a plurality of contact LVDT units are lifted. In this way, vibrations transmitted from the ground can be blocked to obtain more accurate measurement results.

그리고, 브라켓에 설치된 다수의 접촉형 LVDT 유닛의 영점 조절을 스테이지에 올려지는 영점조절지그에 의해 동시에 설정할 수 있어 유리기판의 평탄도를 측정하기 위한 준비과정이 신속하고 간편하게 이루어져 평판기판의 평탄도 측정을 신속하고 간편하게 수행할 수 있다.In addition, the zero adjustment of the multiple contact type LVDT units installed on the bracket can be set at the same time by the zero adjustment jig mounted on the stage, so the preparation process for measuring the flatness of the glass substrate can be performed quickly and easily. This can be done quickly and easily.

또한, 상기 접촉형 LVDT 유닛의 LVDT 센서를 영점 조절할 때 LVDT 센서의 자체 높이를 개별적으로 조절할 수 있어 LVDT 센서의 높이 차에 따른 오차를 감소시켜 더욱 정밀한 측정결과를 얻을 수 있다.
In addition, when zeroing the LVDT sensor of the contact type LVDT unit, the self-height of the LVDT sensor can be individually adjusted to reduce errors caused by the height difference of the LVDT sensor, thereby obtaining more accurate measurement results.

도 1은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 나타낸 분해 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 정면에서 바라본 부분 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 측면에서 바라본 부분 단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 승강 유닛과 브라켓에 설치된 접촉형 LVDT 유닛 및 스테이지를 확대하여 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 LVDT 센서의 영점조절을 나타낸 단면도이다.
도 7과 도 8은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치에 의한 평판기판의 평탄도 측정을 나타낸 단면도이다.
도 9와 도 10은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 접촉형 LVDT 유닛의 높이 조절을 나타낸 단면도이다.
도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 스테이지에 형성된 관통홀의 분포를 예시한 평면도이다.1 is a perspective view showing a flatness measuring device of a flat substrate according to the present invention.
2 is an exploded perspective view showing a flatness measuring apparatus of a flat substrate according to the present invention.
3 is a partial cross-sectional view of the flatness measuring device according to the present invention viewed from the front.
Figure 4 is a partial cross-sectional view of the flatness measuring device of the flat panel substrate according to the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a contact type LVDT unit and a stage installed in a lifting unit and a bracket in a flatness measuring apparatus of a flat substrate according to the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating the zero point adjustment of the LVDT sensor in the flatness measuring device of the flat panel according to the present invention.
7 and 8 are cross-sectional views showing the flatness measurement of the flat substrate by the flatness measuring device of the flat substrate according to the present invention.
9 and 10 are cross-sectional views showing the height adjustment of the contact type LVDT unit of the flatness measurement apparatus of the flat panel according to the present invention.
11 and 12 are plan views illustrating distribution of through holes formed in a stage among flatness measuring devices of a flat substrate according to the present invention.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary meanings and the inventor may properly define the concept of the term to describe its invention in the best possible way And should be construed in accordance with the principles and meanings and concepts consistent with the technical idea of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 나타낸 사시도이며, 도 2는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 나타낸 분해 사시도이다.1 is a perspective view showing a flatness measurement apparatus of a flat substrate according to the present invention, Figure 2 is an exploded perspective view showing a flatness measurement apparatus of a flat substrate according to the present invention.

도면을 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치(100)는 크게 박스형의 케이스(101) 내부에 평판기판이 위치하는 스테이지(110)가 설치되고, 상기 스테이지(110)의 하부에 순차적으로 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)을 지지하는 브라켓(130)과 상기 브라켓(130)을 수직하게 안내하는 승강 플레이트(140)와 상기 승강 플레이트(140)를 승강시키는 승강 유닛(150)이 설치되며 상기 승강 유닛(150)의 작동을 제어하며 상기 평판기판의 저면을 향해 승강하여 접촉한 접촉형 LVDT 유닛(120)의 신호를 감지하고 데이터로 가공하는 제어부(160) 및 상기 제어부(160)에서 가공된 데이터를 시각적으로 표시하는 디스플레이부(170)로 구성된다.Referring to the drawings, the flatness measuring device 100 of the flat substrate according to the present invention is largely provided with a stage 110 is located inside the box-shaped case 101, the stage 110 of the A bracket 130 supporting a plurality of contact-type LVDT units 120 sequentially, a lifting plate 140 for vertically guiding the bracket 130, and a lifting unit 150 for lifting up and down the lifting plate 140. The control unit 160 and the control unit for controlling the operation of the lifting unit 150, and detects the signal of the contact type LVDT unit 120 in contact with the lifting and lowering toward the bottom surface of the flat plate substrate and processing the data into data. The display unit 170 visually displays the processed data at 160.

상기 케이스(101)는 뼈대를 이루는 다수의 프레임(102)이 박스형을 이루도록 형성되고, 상기 프레임(102)을 기초로하여 상기 프레임(102)과 프레임(102) 사이에 판넬(103)이 설치된다. 이러한 상기 케이스(101)는 전체 형상이 단차를 이루는 계단의 형상을 갖도록 제 1 케이스(101a)와 제 2 케이스(101b)가 연결되는 형상을 갖는다.The case 101 is formed such that a plurality of frames 102 forming a frame form a box shape, and a panel 103 is installed between the frame 102 and the frame 102 based on the frame 102. . The case 101 has a shape in which the first case 101a and the second case 101b are connected to each other so that the entire shape has a stepped step.

상기 제 1 케이스(101a)의 내부에는 앞서 설명한 바와 같이 평판기판이 위치하는 스테이지(110)가 설치되며, 상기 스테이지(110)의 하부에 순차적으로 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)을 지지하는 브라켓(130)과 승강 플레이트(140)와 승강 유닛(150) 및 제어부(160)가 설치된다. 그리고, 상기 제 1 케이스(101a)의 상면에는 슬라이딩 개폐구조를 갖는 도어(104)가 설치되어 상기 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 평탄도를 측정할 때 상기 스테이지(110)로 이물질이 유입되는 것을 방지하게 된다.As described above, the stage 110 in which the flat substrate is positioned is installed in the first case 101a, and a bracket for sequentially supporting the plurality of contact type LVDT units 120 in the lower portion of the stage 110. 130, the lifting plate 140, the lifting unit 150, and the controller 160 are installed. In addition, a door 104 having a sliding opening / closing structure is installed on an upper surface of the first case 101a to allow foreign substances to flow into the stage 110 when measuring the flatness of the flat substrate positioned on the stage 110. Will be prevented.

이와 더불어, 상기 제 1 케이스(101a)의 상면에 설치된 도어(104)는 닫힘과 열림에 따라 평판기판의 평탄도 측정을 개시할 준비가 되었음을 제어부(160)가 인식할 수 있도록 리미트 스위치가 설치될 수도 있다.In addition, the limit switch is installed so that the control unit 160 recognizes that the door 104 installed on the upper surface of the first case 101a is ready to start the flatness measurement of the flat plate as the door 104 is closed and opened. It may be.

부연하자면 상기 제 1 케이스(101a)의 상면에 설치되는 도어(104)는 도 2에 도시된 바와 같이 제 1 케이스(101a)의 상면 내측에 가이드 레일(105)이 형성되고 상기 가이드 레일(105)을 따라 도어(104)가 슬라이딩하여 제 1 케이스(101a)의 상면을 개폐하게 된다.In other words, the door 104 installed on the upper surface of the first case 101a has a guide rail 105 formed inside the upper surface of the first case 101a and the guide rail 105 as shown in FIG. 2. Accordingly, the door 104 slides to open and close the upper surface of the first case 101a.

이와 같은 도어는 도 1에 도시된 바와 같이 그 일부에 관찰창(104a)을 형성하여 제 1 케이스(101a) 내부의 상태를 검사자가 육안으로 확인할 수 있도록 하며 상기 도어(104)의 일측에 도어 손잡이(104b)가 마련되어 상기 도어(104)의 슬라이딩 이동을 검사자가 편리하게 이동시킬 수 있다. 또한, 상기 도어(104)의 이동을 가이드하는 가이드 레일(105) 및 상기 도어(104)의 끝단에 도어의 닫힘과 열림을 감지하고 이를 제어부에 전기적 신호로 알리는 리미트 스위치(미도시)가 설치된다.Such a door forms an observation window 104a in a portion thereof as shown in FIG. 1 to allow the inspector to visually check the state inside the first case 101a, and a door handle on one side of the door 104. A 104b is provided to allow the inspector to conveniently move the sliding movement of the door 104. In addition, a guide rail 105 for guiding the movement of the door 104 and a limit switch (not shown) for detecting the closing and opening of the door and informing the controller by an electrical signal is provided at the end of the door 104. .

그리고, 상기 제 1 케이스(101a)와 연결되며 상기 제 1 케이스(101a)의 높이보다 높게 형성된 제 2 케이스(101b)의 일측면에는 디스플레이부(170)가 설치된다. 상기 디스플레이부(170)는 제 1 케이스(101a)의 내부에 설치된 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 평탄도 측정결과를 검사자가 쉽게 인식할 수 있도록 도식화하거나 또는 이미지와 같은 검사자가 시각적으로 쉽게 인식할 수 있도록 시각적으로 표시하는 것으로 상기와 같은 디스플레이부(170)는 LCD 표시장치 등에 의해 구현될 수 있다.The display unit 170 is installed on one side of the second case 101b that is connected to the first case 101a and is formed higher than the height of the first case 101a. The display unit 170 plots the flatness measurement result of the flat panel located on the stage 110 installed inside the first case 101a so that the inspector can easily recognize or visually recognizes the image by the inspector such as an image. In order to visually display the display unit 170 as described above, the display unit 170 may be implemented by an LCD display device or the like.

그리고, 상기 디스플레이부(170)가 설치된 제 2 케이스(101b)의 일측면 주변에는 전원버튼과 같은 다수의 조작패널(107) 및 외부의 데이터를 제어부와 전기적으로 소통시키는 연결단자(108)가 마련되며, 상기 조작패널(107)의 하부에는 키보드와 같은 입력부(190)를 제 2 케이스(101b)의 내부에 수납시키는 트레이(106)가 설치된다.In addition, a plurality of operation panels 107 such as a power button and a connection terminal 108 for electrically communicating external data with a controller are provided around one side of the second case 101b in which the display unit 170 is installed. The tray 106 for accommodating the input unit 190 such as a keyboard inside the second case 101b is installed below the operation panel 107.

상기 트레이(106)는 앞서 설명한 도어(104)와 유사한 슬라이딩 구조를 갖게 됨으로써, 입력부(190)를 사용하는 경우에 상기 트레이(106)를 제 2 케이스(101b)의 내부로부터 인출시켜 입력하게 되고 입력이 끝난 입력부(190)는 트레이(106)를 제 2 케이스(101b)의 내부로 인입시켜 보관하게 된다.The tray 106 has a sliding structure similar to that of the door 104 described above, and when the input unit 190 is used, the tray 106 is drawn out from the inside of the second case 101b and inputted. The finished input unit 190 draws and holds the tray 106 into the second case 101b.

또한, 상기 디스플레이부(170)가 설치된 제 2 케이스(101b)에는 평판기판의 평탄도를 측정할 때 예기치 못한 오작동 등을 검사자에게 시각 내지 청각으로 알릴 수 있도록 이상유무 알림부(109)가 설치된다.In addition, an abnormality notification unit 109 is installed in the second case 101b provided with the display unit 170 so that an unexpected malfunction or the like may be visually or auditory notified to the inspector when the flatness of the flat panel is measured. .

상기 이상유무 알림부(109)는 예를 들어 도어(104)가 완전히 닫혀지지 않은 상태에서 평판기판의 측정이 시작되거나 또는 기타 평판기판의 평탄도를 측정하는데 올바르지 않은 동작이 발생되었을 때 이를 검사자에게 시각적으로 알릴 수 있는 경광등 또는 검사자에게 청각적으로 알릴 수 있도록 소리를 일정 데시벨(decibel/dB) 이상 출력하는 스피커 등을 포함한다.The abnormality notification unit 109, for example, when the measurement of the flat plate is started or the other operation is not correct to measure the flatness of the flat plate when the door 104 is not completely closed. It includes a beacon that can be notified visually or a speaker that outputs a certain decibel (dB) or more to sound an audible notice to the examiner.

도 3은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 정면에서 바라본 부분 단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치를 측면에서 바라본 부분 단면도이다.3 is a partial cross-sectional view of a flat plate measuring apparatus according to the present invention viewed from the front, and FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a flat plate measuring apparatus according to the present invention viewed from the side.

도면을 참조하여 설명하면, 상기 제 1 케이스(101a)의 내부에는 평탄도를 측정하고자 하는 평판기판이 위치하는 스테이지(110)가 설치되고, 상기 스테이지(110)의 하부에는 평판기판의 저면을 향해 승강하여 평판기판의 저면과 접촉하는 접촉형 LVDT 유닛(120)과 상기 접촉형 LVDT 유닛(120)을 지지하는 브라켓(130)과 상기 브라켓(130)의 하부에 설치되고 브라켓(130)의 승강을 수직하게 안내하는 승강 플레이트(140) 및 상기 승강 플레이트(140)의 하부에 설치되어 승강 플레이트(140)를 승강시키는 승강 유닛(150)이 순차적으로 설치된다.Referring to the drawings, a stage 110 in which a flat substrate to measure flatness is located is installed inside the first case 101a, and a lower portion of the stage 110 faces toward a bottom surface of the flat substrate. Raising and lowering of the bracket 130 and the bracket 130 for supporting the contact type LVDT unit 120 and the contact type LVDT unit 120 and the lower surface of the bracket 130 are raised and lowered The elevating plate 140 to vertically guide and the elevating unit 150 installed below the elevating plate 140 to elevate the elevating plate 140 are sequentially installed.

상기 스테이지(110)는 소정의 두께를 갖고 그 상면이 정밀한 평탄도를 이루도록 가공된 플레이트의 형상을 갖는다. 특히, 상기 스테이지(110)는 온도 내지 상기 스테이지의 상면에 위치하는 평판기판의 하중에 의해 휨 등이 발생하지 않는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 스테이지(110)에는 아래에서 설명되는 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 관통하여 스테이지(110)의 상면에 위치한 평판기판의 저면에 LVDT 센서(124)가 직접 접촉할 수 있는 관통홀(112)이 형성된다.The stage 110 has a predetermined thickness and has a shape of a plate processed so that its upper surface has a precise flatness. In particular, the stage 110 is preferably made of a material that does not cause warpage or the like due to the temperature or the load of the flat substrate located on the upper surface of the stage. In addition, the LVDT sensor 124 of the contact type LVDT unit 120 described below penetrates the stage 110 so that the LVDT sensor 124 directly contacts the bottom surface of the flat substrate located on the upper surface of the stage 110. The through hole 112 can be formed.

특히, 상기 관통홀(112)은 상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에 분포할 수 있도록 형성되어 다수의 LVDT 센서(124)가 관통홀(112)을 통해 스테이지(110)를 관통하여 스테이지(110)의 상방으로 돌출되었을 때 돌출된 LVDT 센서(124) 모두가 평판기판의 저면과 접촉할 수 있게 된다.In particular, the through-hole 112 is formed to be distributed in the area of the flat substrate positioned in the stage, so that a plurality of LVDT sensors 124 penetrates the stage 110 through the through-hole 112 to the stage 110. When protruding upwards of the < RTI ID = 0.0 >), all of the protruding LVDT sensors 124 are in contact with the bottom surface of the flat substrate.

이러한 상기 스테이지(110)에 형성된 관통홀(112)은 도면에 도시된 바와 같이 스테이지(110)에 위치하는 평판기판의 면적 내에 균등하게 분포하도록 형성될 수도 있으며 경우에 따라서는 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이 상기 관통홀(112)이 특정부분에 분포되어 형성될 수도 있을 것이다. 이를 도 11 및 도 12에 의거하여 설명한다.The through-holes 112 formed in the stage 110 may be formed to be evenly distributed in the area of the flat substrate positioned in the stage 110 as shown in the drawing. As shown, the through hole 112 may be formed to be distributed in a specific portion. This will be described with reference to FIGS. 11 and 12.

도 11 및 도 12는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 스테이지에 형성된 관통홀의 분포를 예시한 평면도이다. 도면을 참조하여 설명하면, 본 발명의 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 관통하는 스테이지(110)에 형성된 관통홀(112)은 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 평탄도를 보다 정밀하게 측정할 수 있도록 스테이지(110)에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 특정부분에 집중되어 분포되어 형성된다.11 and 12 are plan views illustrating distribution of through holes formed in a stage among flatness measuring devices of a flat substrate according to the present invention. Referring to the drawings, the through hole 112 formed in the stage 110 through which the LVDT sensor 124 of the contact-type LVDT unit 120 of the present invention penetrates the flatness of the flat substrate located on the stage 110. In order to measure more precisely, it is concentrated and distributed in a specific part in the area of the flat substrate positioned on the stage 110.

부연하자면, 상기 스테이지(110)에 위치하는 평판기판은 제조될 때 가해지는 열에 의해 평판기판의 일부에 휨이 발생하거나 또는 제조된 후 운반 및 적재과정 중에서 발생되는 하중에 의해 휨이 발생할 수 있다. 이러한 평판기판에 발생하는 휨에 의해 외형 변형은 특히 평판기판의 모서리 및 평판기판의 연부를 따라 형성되는 것이 대부분이다.In other words, the flat plate substrate positioned in the stage 110 may be warped by a portion of the flat plate substrate due to heat applied when manufactured, or may be caused by a load generated during the transport and loading process after being manufactured. Due to the bending occurring in the flat board, the external deformation is most often formed along the edge of the flat board and the edge of the flat board.

따라서, 이러한 휨 변형이 형성된 평판기판의 평탄도를 보다 정밀하게 측정할 수 있도록 도 11에 도시된 바와 같이 스테이지(110)에 형성된 관통홀(112)은 상기 스테이지(110)에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 평판기판의 모서리 부분에 집중 분포되어 형성될 수 있다.Therefore, the through-hole 112 formed in the stage 110, as shown in Figure 11 so that the flatness of the flat substrate having such a deflection deformation is formed of the flat substrate located on the stage 110 It may be formed concentrated in the corner portion of the flat plate within the area.

또한, 도 12에 도시된 바와 같이 스테이지(110)에 형성된 관통홀(112)은 상기 스테이지(110)에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 평판기판의 연부를 따라 집중 분포되어 형성될 수 있다.In addition, as illustrated in FIG. 12, the through-holes 112 formed in the stage 110 may be concentrated and distributed along the edges of the flat substrate in the area of the flat substrate positioned in the stage 110.

그리고, 상기와 같이 스테이지(110)에 형성된 관통홀(112)의 분포에 따라 상기 스테이지(110)의 하부에 설치된 접촉형 LVDT 유닛(120)은 상기 스테이지에 형성된 관통홀(112)의 분포와 부합하게 브라켓(130)에 설치된다.In addition, according to the distribution of the through holes 112 formed in the stage 110 as described above, the contact type LVDT unit 120 installed below the stage 110 matches the distribution of the through holes 112 formed in the stage. It is installed on the bracket 130.

이와 함께, 상기 스테이지(110)의 상면에는 도 2의 확대도에 도시된 바와 같은 평판기판이 스테이지(110) 상에서 정해진 위치에 안착될 수 있도록 하는 스토퍼(114)가 형성된다. 상기 스토퍼(114)는 스테이지(110)에 위치하는 평판기판의 면적 중 평판기판의 모서리에 해당하는 부분을 파지할 수 있도록 상기 스테이지(110)의 상면에서 돌출 형성되며 이러한 상기 스토퍼(114)는 바람직하게 원기둥의 형상을 갖고 상기 평판기판의 모서리 일측면과 타측면에 제각기 형성되어 한 조를 이루며 상기 한 조를 이루는 스토퍼(114)가 평판기판의 모서리 2곳 이상을 지지하게 형성된다.In addition, a stopper 114 is formed on the top surface of the stage 110 to allow the flat substrate as shown in the enlarged view of FIG. 2 to be seated at a predetermined position on the stage 110. The stopper 114 protrudes from an upper surface of the stage 110 so as to grip a portion corresponding to the edge of the flat substrate among the areas of the flat substrate positioned on the stage 110, and the stopper 114 is preferable. The stopper 114 having a cylindrical shape is formed on one side and the other side of the flat plate and formed on each side of the flat plate to support two or more corners of the flat plate.

이렇게, 상기 스테이지(110)에 스토퍼(114)가 형성되면 스테이지(110)의 상면 임의위치에 평판기판을 위치시킨 상태에서 평판기판의 일단 모서리를 한 조를 이루는 스토퍼(114)에 끼워 넣은 후 평판기판의 타단 모서리를 또 다른 한 조를 이루는 스토퍼(114)에 끼워 넣어 평판기판을 스테이지(110) 상에서 정해진 위치에 놓이게 한다.As such, when the stopper 114 is formed on the stage 110, the flat plate is inserted into the stopper 114 forming one pair of corners of the flat plate in a state where the flat plate is positioned at an arbitrary position on the upper surface of the stage 110. The other edge of the substrate is inserted into another set of stoppers 114 to place the flat substrate on the stage 110 at a predetermined position.

이와 같은 평판기판을 스테이지(110) 상에서 정해진 위치에 놓이게 하는 한 조를 이루는 스토퍼(114)는 도 2 및 도 11과 도 12에 도시된 바와 같이 한 조를 이루는 스토퍼(114)와 또 다른 한 조를 이루는 스토퍼가 일직선상에 위치하여 형성될 수도 있지만 경우에 따라서는 상기 한 조를 이루는 스토퍼(114)와 또 다른 낱개로 이루어진 스토퍼(미도시)가 대각선 상에 위치함으로써 스테이지(110)에 위치하는 평판기판의 모서리의 어느 한 부분과 상기 모서리의 대각선 상에 위치하는 낱개의 스토퍼에 의해 평판기판을 스테이지(110) 상에서 정해진 위치에 놓이게 할 수도 있다.A pair of stoppers 114 for placing the flat plate on the stage 110 in a predetermined position is another pair of stoppers 114 as a pair as shown in FIGS. 2, 11 and 12. The stopper constituting the stopper may be formed in a straight line, but in some cases, the stopper 114 constituting the pair and a stopper (not shown) made of another piece are positioned on the stage 110 by being positioned on a diagonal line. The flat substrate may be placed on the stage 110 by one stopper positioned at one portion of the edge of the flat substrate and the diagonal stops of the edge.

한편, 상기 스테이지(110)의 하부에 설치되는 접촉형 LVDT 유닛(120)은 브라켓(130)에 의해 지지되며, 상기 접촉형 LVDT 유닛(120) 각각은 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 저면과 가깝게 또는 멀게 그 높이를 자체적으로 조절할 수 있는 구조를 갖는다. 이를 도 9 및 도 10에 의거하여 설명한다.On the other hand, the contact type LVDT unit 120 installed below the stage 110 is supported by the bracket 130, and each of the contact type LVDT units 120 has a bottom surface of the flat substrate located on the stage 110; It has a structure that can adjust its height close or far. This will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

도 9와 도 10은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 접촉형 LVDT 유닛의 높이 조절을 나타낸 단면도이다. 도면을 참조하여 설명하면, 상기 접촉형 LVDT 유닛(120)은 크게 상기 브라켓(130)에 고정되는 중공된 홀더(121)와, 상기 홀더(121)의 상단에 위치한 상태에서 회전되게 홀더(121)의 내경에 설치되는 중공부를 갖는 조절 노브(122)와, 상기 조절 노브(122)의 중공부에 형성된 나사산과 치합된 상태에서 상기 조절 노브(122)의 회전에 따라 나사산을 타고 수직하게 승강하는 중공된 승강체(123) 및 상기 승강체(123)의 내경에 삽입되고 그 일부가 승강체(123)의 상부로 노출되어 평판기판의 저면과 접촉하고 그에 따른 전기적 신호를 제어부로 보내는 LVDT 센서(124)로 이루어진다.9 and 10 are cross-sectional views showing the height adjustment of the contact type LVDT unit of the flatness measurement apparatus of the flat panel according to the present invention. Referring to the drawings, the contact type LVDT unit 120 is a hollow holder 121 which is largely fixed to the bracket 130 and the holder 121 to be rotated in a state located on the upper end of the holder 121. Hollow to rise vertically by riding a screw in accordance with the rotation of the adjustment knob 122 in the state of being in engagement with the thread formed in the hollow portion of the adjustment knob 122 and the adjustment knob 122 is installed on the inner diameter of LVDT sensor 124 is inserted into the lifting body 123 and the inner diameter of the lifting body 123 and part of the lifting body 123 is exposed to the upper portion of the lifting body 123 to contact the bottom surface of the flat plate substrate and transmit electrical signals accordingly to the controller. )

여기서, 상기 LVDT(Linear Variable Differential Transformer, 전기 마이크로미터) 센서(124)란, 선형 거리 차이를 측정하는 전기적 변환기를 일컫는 것으로 기계적 변위가 1차 측 코일과 2차 측 코일 사이에서 발생하는 자속의 변화 즉, 상호 인덕턴스를 변화시키는 트랜듀서(transducer)이다.Here, the LVDT (Linear Variable Differential Transformer) sensor 124 refers to an electrical transducer measuring a linear distance difference, and a change in magnetic flux in which mechanical displacement occurs between the primary side coil and the secondary side coil. In other words, it is a transducer that changes mutual inductance.

이러한 LVDT 센서(124)는 환경 변화에 대한 영향을 적게 받으면서 정밀한 측정을 가능하게 하는 것으로 산업분야, 대학 및 연구실 등에서 대단히 폭 넓게 사용되고 있기 때문에 구조 및 작동에 대한 자세한 설명은 생략한다.Since the LVDT sensor 124 enables precise measurement while being less affected by environmental changes, detailed description of the structure and operation is omitted since it is widely used in industrial fields, universities, and laboratories.

상기와 같은 승강체(123)에 탑재된 LVDT 센서(124)를 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 저면과 가깝게 또는 멀게 그 높이를 조절하기 위해 조절 노브(122)를 회전시키게 되면 상기 조절 노브(122)와 치합된 승강체(123)가 나사산을 따라 상승 또는 하강하게 되는데 이때, 상기 승강체(123)가 회전됨 없이 회전됨 없이 수직하게 상승 또는 하강할 수 있도록 상기 승강체(123)의 하부에는 가이드(125)가 형성되고, 상기 홀더(121)의 내경 하부에 가이드 홈(126)이 형성된다.When the adjustment knob 122 is rotated to adjust the height of the LVDT sensor 124 mounted on the elevating body 123 such that the height is close to or far from the bottom of the flat substrate located on the stage 110, the adjustment knob ( The lifting body 123 engaged with the 122 is raised or lowered along the screw thread. At this time, the lower part of the lifting body 123 may be vertically raised or lowered without being rotated without being rotated. The guide 125 is formed in the guide groove 126 is formed in the lower inner diameter of the holder 121.

부연하자면, 상기 가이드(125)는 상기 승강체(123)의 외경과 일체로 형성되어 상기 홀더(121)의 내경 하부를 향해 절곡된 형상을 갖는다. 또한 상기 가이드(125)가 삽입되는 가이드 홈(126)은 상기 홀더(121)의 내경 하부에 형성되어 LVDT 센서(124)의 높이를 조절하기 위해 조절 노브(122)를 회전시키는 경우 상기 조절 노브(122)에 형성된 나사산을 타고 승강체(123)가 승강하게 된다.In other words, the guide 125 is integrally formed with the outer diameter of the lifting body 123 and has a shape bent toward the lower inner diameter of the holder 121. In addition, the guide groove 126 into which the guide 125 is inserted is formed under the inner diameter of the holder 121 to rotate the adjustment knob 122 to adjust the height of the LVDT sensor 124. The lifting body 123 is moved up and down by the screw thread formed at 122.

이때, 상기 승강체(123)에 형성된 가이드(125)와 홀더(121)에 형성된 가이드 홈(126)의 삽입 구조에 의해 조절 노브(122)를 회전시키더라도 승강체(123)가 회전됨 없이 수직하게 승강하여 LVDT 센서(124)의 높낮이를 자체적으로 조절할 수 있게 된다.At this time, even when the adjustment knob 122 is rotated by the insertion structure of the guide 125 formed in the lifting body 123 and the guide groove 126 formed in the holder 121, the lifting body 123 is vertical without being rotated. As a result, the height of the LVDT sensor 124 can be adjusted by itself.

상기와 같이 자체적으로 높낮이가 조절되는 브라켓(130)에 설치된 접촉형 LVDT 유닛(120)의 하부에는 상기 브라켓(130)의 승강을 수직하게 안내하는 승강 플레이트(140)와 상기 승강 플레이트(140) 및 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)을 지지하는 브라켓(130)을 스테이지(110)를 향해 승강시키는 승강 유닛(150)이 설치된다. 이를 도 5에 의거하여 설명한다.The lifting plate 140 and the lifting plate 140 for vertically guiding the lifting and lowering of the bracket 130 are disposed below the contact-type LVDT unit 120 installed on the bracket 130 whose height is adjusted as described above. An elevating unit 150 is installed to elevate the bracket 130 supporting the plurality of contact-type LVDT units 120 toward the stage 110. This will be described with reference to FIG.

도 5는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 승강 유닛과 브라켓에 설치된 접촉형 LVDT 유닛 및 스테이지를 확대하여 나타낸 단면도이다.5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a contact type LVDT unit and a stage installed in a lifting unit and a bracket in a flatness measuring apparatus of a flat substrate according to the present invention.

도면을 참조하여 설명하면, 상기 접촉형 LVDT 유닛(120)을 포함한 브라켓(130)을 스테이지(110)를 향해 수직하게 안내하는 승강 플레이트(140)가 브라켓(130)의 하부에 설치된다.Referring to the drawings, a lifting plate 140 for vertically guiding the bracket 130 including the contact-type LVDT unit 120 toward the stage 110 is installed at the bottom of the bracket 130.

상기 승강 플레이트(140)는 대략 평탄도 가공이 실시된 판의 형상을 갖는 플레이트의 형상을 갖으며, 상기 승강 플레이트(140)의 상방에 접촉형 LVDT 유닛(120)을 포함한 브라켓(130)을 지지할 수 있도록 상기 승강 플레이트(140)와 브라켓(130)은 일정한 길이를 갖는 서포터(132)에 의해 연결되지만 경우에 따라서는 상기 서포터(132)가 없이도 상기 브라켓(130)이 승강 플레이트(140)의 상면에 직접 고정될 수도 있다.The elevating plate 140 has a shape of a plate having a shape of a plate which has been substantially flattened, and supports a bracket 130 including a contact LVDT unit 120 above the elevating plate 140. The lifting plate 140 and the bracket 130 are connected by the supporter 132 having a predetermined length so that the bracket 130 of the lifting plate 140 may be without the supporter 132 in some cases. It may also be fixed directly to the top surface.

그리고, 상기 승강 플레이트(140)의 하부에는 상기 승강 플레이트(140)를 승강시키는 승강 유닛(150)이 설치된다. 상기 승강 유닛(150)은 크게 상기 승강 플레이트(140)의 저면에 고정되는 로드(152)와, 상기 로드(152)를 승강시키는 동력을 제공하는 구동부(154) 및 상기 구동부(154)가 설치되는 베이스 플레이트(156)로 이루어진다.In addition, an elevating unit 150 for elevating the elevating plate 140 is installed below the elevating plate 140. The elevating unit 150 includes a rod 152 fixed to the bottom of the elevating plate 140, a driver 154 providing power for elevating the rod 152, and the driver 154. It consists of a base plate 156.

상기 로드(152)는 대략 원기둥의 형상을 갖으며 상기 로드(152)의 일부가 구동부(154)에 설치되며 상기 구동부(154)의 동작에 따라 로드(152)가 승강하게 된다. 이렇게 상기 로드(152)를 승강시키는 구동부(154)는 회전운동을 직선운동으로 변환시키는 기계적 구조를 갖는다면 만족할 것이다.The rod 152 has a substantially cylindrical shape and a part of the rod 152 is installed in the driving unit 154, and the rod 152 is raised and lowered according to the operation of the driving unit 154. Thus, the driving unit 154 for elevating the rod 152 will be satisfied if it has a mechanical structure for converting the rotational motion to linear motion.

예컨데, 상기 구동부(154)의 내부에 회전모터(미도시)가 설치되고 회전모터의 축단에 피니언(미도시)이 설치되며 상기 로드(152)에 피니언과 치합하는 래크(미도시)가 마련되어 로드(152)를 소정의 높이만큼 승강시킬 수 있다. 또한, 상기 구동부(154)의 내부에 압력차에 의해 로드를 승강시키는 유압 또는 공압 실린더(미도시)가 설치되어 로드(152)를 소정의 높이만큼 승강시킬 수도 있다. 또한, 상기 구동부(154)의 내부에 리니어 모터(미도시)가 설치되어 상기 리니어 모터의 작동에 따라 로드(152)를 소정의 높이만큼 승강시킬 수 있다. 이와 같은 구동부(154)의 구조는 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 수 있는 것이기 때문에 자세한 설명은 생략한다.For example, a rotation motor (not shown) is installed inside the drive unit 154, a pinion (not shown) is installed at the shaft end of the rotation motor, and a rack (not shown) is engaged with the pinion on the rod 152 to provide a rod. It is possible to elevate 152 by a predetermined height. In addition, a hydraulic or pneumatic cylinder (not shown) for elevating the rod by a pressure difference may be installed in the driving unit 154 to elevate the rod 152 by a predetermined height. In addition, a linear motor (not shown) may be installed inside the driving unit 154 to elevate the rod 152 by a predetermined height according to the operation of the linear motor. Since the structure of the driving unit 154 may be variously modified and implemented by those skilled in the art, detailed description thereof will be omitted.

상기 구동부(154)가 설치되는 베이스 플레이트(156)는 구동부(154)의 로드(152)가 승강하여 상기 로드(152)가 승강 플레이트(140)를 상하로 이동시킬 때 상기 승강 플레이트(140)가 회전됨 없이 수직하게 이동할 수 있도록 리니어 베어링(142)이 설치되는 것이 바람직하다.The base plate 156 on which the driving unit 154 is installed has the lifting plate 140 when the rod 152 of the driving unit 154 moves up and down and the rod 152 moves the lifting plate 140 up and down. It is preferable that the linear bearing 142 be installed so as to move vertically without being rotated.

상기 리니어 베어링(142)은 상기 베이스 플레이트(156)의 사방 귀퉁이에 형성된 중공된 실린더(142a)와 상기 실린더(142a)의 중공에 삽입된 상태에서 수직하게 이동하는 상기 승강 플레이트(140)의 저면에 고정된 피스톤(142b)으로 구성되어 구동부(154)의 작동에 따라 로드(152)가 승강하게 될 때 발생할 수도 있는 로드(152) 또는 승강 플레이트(140)의 미세한 회전을 베이스 플레이트(156)와 승강 플레이트(140)의 사방 귀퉁이에 설치된 리니어 베어링(142)에 의해 방지함으로써, 승강 유닛(150)의 작동에 따라 상기 승강 플레이트(140)와 연계된 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)이 설치된 브라켓(130)의 승강을 수직하게 안내할 수 있게 된다.The linear bearing 142 is formed on a hollow cylinder 142a formed at four corners of the base plate 156 and a bottom surface of the elevating plate 140 vertically moving in a state of being inserted into the hollow of the cylinder 142a. Lifting of the rod 152 or the elevating plate 140 with the base plate 156, which may include a fixed piston 142b and may occur when the rod 152 is raised and lowered according to the operation of the driving unit 154. By preventing by the linear bearing 142 installed on all four corners of the plate 140, according to the operation of the elevating unit 150, a bracket provided with a plurality of contact type LVDT unit 120 associated with the elevating plate 140 ( It is possible to vertically guide the lifting of 130).

그리고, 상기 승강 유닛(150)의 베이스 플레이트(156)의 사방 귀퉁이에는 스테이지(110)를 향하는 소정 길이를 갖는 포스트(116)가 마련되어 상기 스테이지(110)와 베이스 플레이트(156)가 일체로 고정된다.In addition, posts 116 having a predetermined length toward the stage 110 are provided at four corners of the base plate 156 of the elevating unit 150 to fix the stage 110 and the base plate 156 integrally. .

한편, 상기 구동부(154)가 설치되는 베이스 플레이트(156)는 제 1 케이스(101a)의 내부 프레임에 의해 안정적으로 고정될 수도 있지만 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 평탄도를 측정할 때 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하기 위한 방진 유닛(180)이 더 포함될 수도 있다.Meanwhile, the base plate 156 on which the driving unit 154 is installed may be stably fixed by the inner frame of the first case 101a, but the base plate 156 may be stably fixed from the ground when measuring the flatness of the flat plate positioned on the stage 110. A dustproof unit 180 may be further included to block the transmitted vibration.

부연하자면, 상기 방진 유닛(180)은 승강 유닛(150)의 하부에 설치되어 평판기판의 측정이 시작되기 전에 상기 승강 유닛(150)을 공중 부양시켜 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하기 위한 것이다.In other words, the dustproof unit 180 is installed at the lower portion of the elevating unit 150 to lift the elevating unit 150 by air before the measurement of the flat plate is started to block vibration transmitted from the ground.

이러한 상기 방진 유닛(180)은 상기 승강 유닛(150)의 베이스 플레이트(156) 저면에 설치되는 랜딩부(182)와, 상기 랜딩부(182)에 부합하는 형상을 갖고 공기가 토출되는 토출구(184a)가 형성된 삽입부(184) 및 상기 삽입부(184)에 형성된 토출구(184a)와 유로(186a)로 연결되어 상기 유로(186a)를 통해 공기를 공급하는 에어 공급원(186)으로 이루어진다.The dustproof unit 180 has a landing portion 182 installed on the bottom surface of the base plate 156 of the elevating unit 150, and a discharge hole 184a having a shape corresponding to the landing portion 182 and discharging air. ) Is formed of an insertion part 184 and an air supply source 186 connected to the discharge port 184a formed in the insertion part 184 and the flow path 186a to supply air through the flow path 186a.

상기 랜딩부(182)는 역원뿔의 형상을 갖는 것으로 랜딩부(182)의 상부, 즉 역원뿔의 바닥면이 승강 유닛(150)의 베이스 플레이트(156) 저면에 고정되고 랜딩부(182)의 하부, 즉 역원뿔의 꼭지점이 공기가 토출되는 삽입부(184)에 삽입된다.The landing portion 182 has a shape of an inverted cone, and the upper portion of the landing portion 182, that is, the bottom surface of the inverted cone is fixed to the bottom surface of the base plate 156 of the elevating unit 150, and The lower part, ie, the vertex of the inverted cone, is inserted into the insertion part 184 through which air is discharged.

이렇게, 상기 랜딩부(182)가 삽입부(184)에 삽입된 상태에서 에어 공급원(186)으로부터 압축된 공기가 유로(186a)를 따라 삽입부(184)의 토출구(184a)를 통해 분사되면 상기 랜딩부(182)와 삽입부(184) 사이에 간극이 형성되어 상기 승강 유닛(150)을 포함한 상기 승강 유닛(150)의 상부에 설치된 승강 플레이트(140), 브라켓(130), 접촉형 LVDT 유닛(120)을 공중 부양시키게 됨으로써, 케이스(101)가 설치된 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하여 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 스테이지(110)에 위치한 평판기판의 평탄도를 측정할 때 더욱 정밀하게 측정할 수 있게 된다.As such, when the landing part 182 is inserted into the insertion part 184, the compressed air from the air supply source 186 is injected through the discharge port 184a of the insertion part 184 along the flow path 186a. A gap is formed between the landing part 182 and the insertion part 184, and the lifting plate 140, the bracket 130, and the contact type LVDT unit installed on the lifting unit 150 including the lifting unit 150. By levitation of the 120, it blocks the vibration transmitted from the ground on which the case 101 is installed, so that the flatness of the flat substrate on which the LVDT sensor 124 of the contact type LVDT unit 120 is located on the stage 110 is measured. The more accurate the measurement becomes.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치의 동작을 도 6 내지 도 8에 의거하여 설명한다.The operation of the flatness measuring device of the flat substrate according to the present invention having the above configuration will be described with reference to FIGS. 6 to 8.

도 6은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치 중 LVDT 센서의 영점조절을 나타낸 단면도이다. 도면을 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치(100)는 평판기판의 휨 정도를 측정하기 위해 스테이지(110)의 하부에 설치된 접촉형 LVDT 유닛(120)이 스테이지(110)에 형성된 관통홀(112)을 통해 스테이지(110)에 위치한 평판기판을 향해 이동하여 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 평판기판의 저면에 접촉함으로써 평판기판의 평탄도를 측정할 수 있다.6 is a cross-sectional view illustrating the zero point adjustment of the LVDT sensor in the flatness measuring device of the flat panel according to the present invention. Referring to the drawings, the flatness measuring device 100 of the flat substrate according to the present invention is a contact type LVDT unit 120 installed in the lower portion of the stage 110 to measure the degree of bending of the flat substrate stage 110 The LVDT sensor 124 of the contact type LVDT unit 120 contacts the bottom surface of the flat plate to measure the flatness of the flat plate through the through hole 112 formed in can do.

이러한 과정을 수행하기에 앞서 상기 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 모두 동일한 높이에 위치한 상태에서 측정을 개시할 수 있게 영점을 조절해야 한다. 이를 위해 평판기판이 스테이지(110)에 안착되기 앞서 영점조절지그(200)가 스테이지(110)에 위치시킨 상태에서 상기 영점조절지그(200)의 저면과 LVDT 센서(124)를 접촉시켜 영점조절을 하게 된다.Before performing this process, the zero point should be adjusted so that the measurement can be started while the LVDT sensors 124 of the contact type LVDT unit 120 are all located at the same height. To this end, in the state where the zero adjustment jig 200 is positioned on the stage 110 before the flat substrate is seated on the stage 110, the bottom surface of the zero adjustment jig 200 comes into contact with the LVDT sensor 124 to perform zero adjustment. Done.

상기 영점조절지그(200)는 소정의 두께를 갖고 그 상면이 정밀한 평탄도를 이루도록 가공된 플레이트의 형상을 갖는데, 특히, 상기 스테이지(110)의 상면과 대면하는 영점조절지그(200)의 저면은 정밀한 평탄도를 갖도록 형성되며 또한 상기 상기 영점조절지그(200)는 온도와 충격하중에 의해 휨 변형 등이 발생하지 않는 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 이와 같은 상기 영점조절지그(200)의 상면에는 검사자가 영점조절지그(200)를 스테이지의 상면에 올려놓거나 내리기 편리하도록 손잡이(210)가 마련된다.The zero adjustment jig 200 has a predetermined thickness and has a shape of a plate processed so that the upper surface is precise flatness, in particular, the bottom surface of the zero adjustment jig 200 facing the upper surface of the stage 110 is It is preferably formed to have a precise flatness and the zero adjustment jig 200 is preferably made of a material that does not cause bending deformation due to temperature and impact load. The handle 210 is provided on the upper surface of the zero adjustment jig 200 as described above so that the inspector can easily place or lower the zero adjustment jig 200 on the upper surface of the stage.

이때, 브라켓(130)에 설치된 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)은 모두 동일한 높이에 위치하는 것이 바람직하지만 반복되는 측정에 따라 상기 LVDT 센서(124)의 파손에 따른 교체 또는 기타 이유로 인해 어느 하나의 접촉형 LVDT 유닛(120)이 다른 접촉형 LVDT 유닛(120)과 높이가 다른 경우 높이 조절이 필요한 접촉형 LVDT 유닛(120)의 조절 노브(122)를 회전시켜 LVDT 센서(124)의 높낮이를 조절함으로써 다른 접촉형 LVDT 유닛(120)과 높이를 동일하게 설정하게 된다.At this time, the plurality of contact LVDT units 120 installed on the bracket 130 are preferably all located at the same height, but due to the replacement of the LVDT sensor 124 due to the repeated measurement or any other reason When the contact type LVDT unit 120 is different from other contact type LVDT units 120, the height of the LVDT sensor 124 is adjusted by rotating the adjusting knob 122 of the contact type LVDT unit 120 requiring height adjustment. As a result, the height of the other contact type LVDT unit 120 is set to be the same.

상기와 같이 접촉형 LVDT 유닛(120)의 영점조절이 끝난 후에는 스테이지(110)에 위치한 영점조절지그(200)를 제거한 뒤 상기 스테이지(110)에 측정하고자하는 평판기판을 위치시키게 된다.After zero adjustment of the contact-type LVDT unit 120 is completed as described above, after removing the zero adjustment jig 200 positioned on the stage 110, the flat substrate to be measured is positioned on the stage 110.

도 7과 도 8은 본 발명에 따른 평판기판의 평탄도 측정장치에 의한 평판기판의 평탄도 측정을 나타낸 단면도이다. 도면을 참조하여 설명하면 평판기판(S)이 스테이지(110)에 위치하게 되면 방진 유닛(180)이 작동을 개시하게 되어 승강 유닛(150)을 포함한 승강 플레이트(140)과 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)이 설치된 브라켓(130)을 공중 부양시켜 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하게 된다.7 and 8 are cross-sectional views showing the flatness measurement of the flat substrate by the flatness measuring device of the flat substrate according to the present invention. Referring to the drawings, when the flat substrate S is positioned on the stage 110, the dustproof unit 180 starts to operate, and the lifting plate 140 including the lifting unit 150 and the plurality of contact-type LVDT units. The levitation of the bracket 130 is installed 120 to block the vibration transmitted from the ground.

이렇게, 방진 유닛(180)이 작동된 후에는 승강 유닛(150)이 작동을 개시하여 로드(152)를 상승시키게 되고, 이에 따라 승강 플레이트(140) 및 브라켓(130)이 스테이지(110)의 저면을 향해 상승하게 된다.As such, after the dustproof unit 180 is operated, the lifting unit 150 starts operation to raise the rod 152, and thus the lifting plate 140 and the bracket 130 are at the bottom of the stage 110. Will rise towards you.

상기와 같이 브라켓(130)이 스테이지(110)의 저면을 향해 상승하게 됨에 따라서 브라켓(130)에 설치된 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)는 스테이지(110)에 형성된 해당 관통홀(112)을 통해 평판기판(S)의 저면을 향해 접근하게 되면서 접촉하게 되고, 상기 LVDT 센서(124)가 평판기판(S)에 접촉하는 순간 전기적 신호를 제어부(160)가 감지하여 데이터로 가공하게 된다.As the bracket 130 ascends toward the bottom of the stage 110 as described above, the LVDT sensors 124 of the plurality of contact type LVDT units 120 installed in the bracket 130 pass through corresponding holes formed in the stage 110. Approaching toward the bottom surface of the flat plate (S) through the hole 112 is in contact with, and the control unit 160 senses the electrical signal at the moment when the LVDT sensor 124 contacts the flat plate (S) Processing.

상기와 같이 제어부(160)에서 가동된 데이터는 검사자가 측정된 평판기판(S)의 휨 정도를 용이하게 인식할 수 있도록 제 2 케이스(101b)에 설치된 디스플레이부(170)를 통해 시각적으로 표시하게 된다.As described above, the data operated by the controller 160 is visually displayed through the display unit 170 installed in the second case 101b so that the inspector can easily recognize the degree of warpage of the measured flat substrate S. FIG. do.

예컨데, 디스플레이부(170)에서 표시되는 측정이 완료된 평판기판(S)의 휨 정도의 표시는 평판기판(S)의 저면에 접촉한 각각의 LVDT 센서(124)에서 측정된 결과에 따라 평판기판의 휨 정도를 3차원적 이미지로 나타낼 수 있다. 이때, 3차원적 이미지와 더불어 각각의 LVDT 센서(124)에서 측정된 결과를 수치 내지 그래프로 함께 나타낼 수도 있을 것이고, 이와 같은 평판기판(S)의 평탄도 측정에 따라 평판기판(S)의 휨 정도를 파악하여 그 정도가 정해진 범위를 벗어나는 평판기판(S)에 대해서는 표시장치에 사용하지 않도록 관리하게 된다.For example, the display of the degree of warpage of the flat plate S on which the measurement is displayed on the display unit 170 may be performed according to the result measured by each LVDT sensor 124 in contact with the bottom surface of the flat plate S. The degree of warpage can be represented as a three-dimensional image. In this case, the result measured by each LVDT sensor 124 together with the three-dimensional image may be represented together with a numerical value or a graph, and according to the flatness measurement of the flat substrate S, the bending of the flat substrate S may be performed. By grasping the degree, it is managed not to use the display device for the flat panel (S) that is out of the predetermined range.

상기와 같은 본 발명에 의한 평판기판의 평탄도 측정장치(100)는 평판기판(S)의 평탄도를 측정할 때 상기 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 평판기판(S)의 저면과 직접 접촉하여 측정함으로써, 평판기판(S)을 측정하는데 방해하는 요인을 배제하기 때문에 정밀한 측정결과를 얻을 수 있어 표시장치에 중대한 문제를 일으키는 평판기판의 사용을 관리할 수 있고 이로부터 우수한 품질을 갖는 표시장치를 제조할 수 있다.In the flatness measuring apparatus 100 of the flat substrate according to the present invention as described above, the LVDT sensor 124 of the contact type LVDT unit 120 is the flat substrate S when measuring the flatness of the flat substrate S. By directly contacting the bottom surface of the sensor, it is possible to obtain accurate measurement results by eliminating the factors that interfere with the measurement of the flat panel (S), thereby managing the use of the flat panel causing significant problems in the display device. A display device having quality can be manufactured.

또한, 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)가 동일한 조건에서 평판기판(S)의 전면적을 걸쳐 동시에 평탄도를 측정하고 측정된 결과가 디스플레이부(170)를 통해 시각적으로 검사자에게 제공되기 때문에 평판기판(S)의 신속한 측정결과를 얻을 수 있고 이로부터 평판기판(S)의 품질관리를 더욱 신속하게 수행할 수 있다.In addition, the LVDT sensor 124 of the contact type LVDT unit 120 simultaneously measures the flatness across the entire surface of the flat substrate S under the same conditions, and the measured result is visually provided to the inspector through the display unit 170. Therefore, it is possible to obtain a quick measurement result of the flat plate (S), from which the quality control of the flat plate (S) can be performed more quickly.

또한, 스테이지(110)에 위치한 평판기판(S)의 평탄도를 측정하기 전에 방진 유닛(180)이 작동을 개시하여 승강 유닛(150)을 포함한 승강 플레이트(140)와 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)이 설치된 브라켓(130)을 공중 부양시킨 상태에서 평판기판(S)의 평탄도를 측정할 수 있어 지면으로부터 전해지는 진동을 차단시켜 더욱 정밀한 측정결과를 얻을 수 있다.In addition, before measuring the flatness of the flat plate (S) located on the stage 110, the dustproof unit 180 starts to operate the lifting plate 140 including the lifting unit 150 and a plurality of contact LVDT units ( The flatness of the flat plate S can be measured in the state in which the bracket 130 is installed in the air levitation state, it is possible to block the vibration transmitted from the ground to obtain a more accurate measurement results.

그리고, 브라켓(130)에 설치된 다수의 접촉형 LVDT 유닛(120)의 영점 조절을 스테이지(110)에 올려지는 영점조절지그(200)에 의해 동시에 설정할 수 있어 평판기판(S)의 평탄도를 측정하기 위한 준비과정이 신속하고 간편하게 이루어져 평판기판(S)의 평탄도 측정을 신속하고 간편하게 수행할 수 있다.In addition, zero adjustment of the plurality of contact type LVDT units 120 installed on the bracket 130 may be simultaneously set by the zero adjustment jig 200 mounted on the stage 110 to measure the flatness of the flat substrate S. The preparation process is made quickly and simply to measure the flatness of the flat substrate (S) quickly and easily.

또한, 상기 접촉형 LVDT 유닛(120)의 LVDT 센서(124)를 영점 조절할 때 LVDT 센서(124)의 자체 높이를 개별적으로 조절할 수 있어 LVDT 센서(124)의 높이 차에 따른 오차를 감소시켜 더욱 정밀한 측정결과를 얻을 수 있다.
In addition, when zeroing the LVDT sensor 124 of the contact type LVDT unit 120, the self-height of the LVDT sensor 124 can be individually adjusted to reduce the error according to the height difference of the LVDT sensor 124, thereby making it more precise. Measurement results can be obtained.

한편, 본 발명은 앞서 설명한 실시예로 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 수정 및 변형하여 실시할 수 있고, 그러한 수정 및 변형이 가해진 것도 본 발명의 기술적 사상에 속하는 것으로 보아야 한다.
While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. .

100 : 평판기판의 평탄도 측정장치
101 : 케이스 102 : 프레임
103 : 판넬 104 : 도어
104a : 관찰창 104b : 도어 손잡이
105 : 가이드레일 106 : 트레이
107 : 조작패널 108 : 연결단자
109 : 이상유무 알림부 110 : 스테이지
112 : 관통홀 114 : 스토퍼
116 : 포스트 120 : 접촉형 LVDT 유닛
121 : 홀더 122 : 조절 노브
123 : 승강체 124 : LVDT 센서
125 : 가이드 126 : 가이드 홈
130 : 브라켓 132 : 서포터
140 : 승강 플레이트 142 : 리니어 베어링
142a: 실린더 142b : 피스톤
150 : 승강 유닛 152 : 로드
154 : 구동부 156 : 베이스 플레이트
160 : 제어부 170 : 디스플레이부
180 : 방진 유닛 182 : 랜딩부
184 : 삽입부 184a : 토출구
186 : 에어 공급원 186a : 유로
190 : 입력부 200 : 영점조절지그
210 : 손잡이 S : 평판기판100: flatness measuring device of flat board
101: Case 102: Frame
103: Panel 104: Door
104a: observation window 104b: door handle
105: guide rail 106: tray
107: operation panel 108: connection terminal
109: abnormality notification unit 110: stage
112: through hole 114: stopper
116: post 120: contact LVDT unit
121: holder 122: adjustment knob
123: lifting body 124: LVDT sensor
125: guide 126: guide groove
130: bracket 132: supporter
140: lifting plate 142: linear bearing
142a: cylinder 142b: piston
150: lifting unit 152: rod
154: drive unit 156: base plate
160 control unit 170 display unit
180: dustproof unit 182: landing part
184: insertion portion 184a: discharge port
186: air source 186a: euro
190: input unit 200: zero adjustment jig
210: handle S: flat board

Claims (13)

평판기판이 위치하는 스테이지;
상기 스테이지에 위치한 평판기판의 저면을 향해 승강하여 평판기판의 저면과 접촉하는 접촉형 LVDT 유닛;
상기 접촉형 LVDT 유닛을 지지하는 브라켓;
상기 브라켓의 하부에 설치되고 브라켓의 승강을 수직하게 안내하는 승강 플레이트;
상기 승강 플레이트의 하부에 설치되어 승강 플레이트를 승강시키는 승강 유닛;
상기 승강 유닛의 작동을 제어하며 상기 평판기판의 저면을 향해 승강하여 접촉한 접촉형 LVDT 유닛의 신호를 감지하고 데이터로 가공하는 제어부; 및
상기 제어부에 가공된 데이터를 시각적으로 표시하는 디스플레이부;를 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.A stage on which the flat substrate is located;
A contact type LVDT unit which is lifted toward a bottom surface of the flat substrate positioned on the stage and in contact with the bottom surface of the flat substrate;
A bracket for supporting the contact LVDT unit;
An elevating plate installed at the lower portion of the bracket to vertically guide the elevating of the bracket;
An elevating unit installed below the elevating plate to elevate the elevating plate;
A control unit which controls the operation of the elevating unit and detects and processes the signal of the contact type LVDT unit which is lifted and brought into contact with the bottom surface of the flat substrate to process the data; And
And a display unit for visually displaying the processed data on the control unit. 청구항 1에 있어서,
상기 스테이지는,
상기 접촉형 LVDT 유닛이 상기 스테이지를 관통하여 승강하는 관통홀이 형성되고, 상기 관통홀은 상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에 분포되는 것을 특징으로 하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 1,
The stage,
And a through hole through which the contact-type LVDT unit moves up and down through the stage, wherein the through hole is distributed in an area of the flat substrate positioned on the stage. 청구항 2에 있어서,
상기 스테이지에 형성된 관통홀은,
상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 평판기판의 모서리 부분에 집중 분포되는 것을 특징으로 하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 2,
The through hole formed in the stage,
Flatness measurement apparatus of the flat panel, characterized in that concentrated in the corner portion of the flat substrate within the area of the flat substrate located on the stage. 청구항 2에 있어서,
상기 스테이지에 형성된 관통홀은,
상기 스테이지에 위치하는 평판기판의 면적 내에서 평판기판의 연부를 따라 집중 분포되는 것을 특징으로 하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 2,
The through hole formed in the stage,
Flatness measuring device of the flat panel, characterized in that the distribution is concentrated along the edge of the flat substrate in the area of the flat substrate located on the stage. 청구항 1에 있어서,
상기 평판기판이 스테이지 상에서 정해진 위치에 안착될 수 있도록 상기 스테이지로부터 돌출 형성된 스토퍼;를 더 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 1,
And a stopper protruding from the stage to allow the flat substrate to be seated at a predetermined position on the stage. 청구항 5에 있어서,
상기 스토퍼는,
원기둥의 형상을 갖고 상기 평판기판의 모서리 일측면과 타측면에 제각기 형성되어 한 조를 이루며 상기 한 조를 이루는 스토퍼가 평판기판의 모서리 2곳 이상을 지지하게 형성되는 것을 특징으로 하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 5,
The stopper is,
A flat plate having a cylindrical shape and formed on one side and the other side of the flat plate, respectively, to form a group, and the stopper forming the group to support two or more corners of the flat plate. Degree measuring device. 청구항 1에 있어서,
상기 접촉형 LVDT 유닛은,
상기 브라켓에 고정되는 중공된 홀더;
상기 홀더의 상단에 위치한 상태에서 회전되게 홀더의 내경에 설치되는 중공부를 갖는 조절 노브;
상기 조절 노브의 중공부에 형성된 나사산과 치합된 상태에서 상기 조절 노브의 회전에 따라 나사산을 타고 수직하게 승강하는 중공된 승강체; 및
상기 승강체에 탑재되고 그 일부가 승강체의 상부로 노출되어 평판기판의 저면과 접촉하고 그에 따른 전기적 신호를 제어부로 보내는 LVDT 센서;를 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 1,
The contact LVDT unit,
A hollow holder fixed to the bracket;
An adjustment knob having a hollow portion installed at an inner diameter of the holder to be rotated while being positioned at the top of the holder;
A hollow lifting body which vertically lifts and rides a thread according to the rotation of the adjustment knob in a state of being engaged with a screw thread formed in the hollow portion of the adjustment knob; And
And a LVDT sensor mounted on the lifting body and part of the lifting body exposed to the upper portion of the lifting body to contact the bottom surface of the lifting plate and transmit an electrical signal to the control unit. 청구항 7에 있어서,
상기 승강체의 외경과 일체로 형성되어 상기 홀더의 내경 하부를 향해 절곡 연장된 가이드; 및
상기 조절 노브의 회전에 따라 나사산을 타고 승강체가 승강하게 될 때 상기 승강체가 회전됨 없이 수직하게 승강하도록 안내하는 상기 홀더의 내경 하부에 형성되어 상기 가이드가 삽입되는 가이드 홈;을 더 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.
The method of claim 7,
A guide which is integrally formed with the outer diameter of the lifting body and is bent toward the lower inner diameter of the holder; And
And a guide groove formed under the inner diameter of the holder for guiding the lifting body to be vertically lifted without being rotated when the lifting body is lifted by the screw according to the rotation of the adjustment knob. Flatness measuring device.
청구항 1에 있어서,
상기 승강 유닛은,
상기 승강 플레이트의 저면에 고정되는 로드;
상기 로드를 승강시키는 동력을 제공하는 구동부; 및
상기 구동부가 설치되는 베이스 플레이트;를 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 1,
The lifting unit,
A rod fixed to the bottom of the elevating plate;
A driving unit providing power for lifting the rod; And
And a base plate on which the driving unit is installed. 청구항 9에 있어서,
상기 승강 플레이트와 베이스 플레이트는 리니어 베어링에 의해 연결되어 상기 승강 유닛에 의해 승강 플레이트가 상하로 이동할 때 회전됨 없이 수직하게 안내하는 것을 특징으로 하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 9,
And the elevating plate and the base plate are connected by a linear bearing so as to vertically guide the elevating unit without being rotated when the elevating plate moves up and down by the elevating unit. 청구항 1에 있어서,
상기 승강 유닛의 하부에 설치되어 상기 스테이지에 위치하는 평판기판이 측정이 시작되기 전에 상기 승강 유닛을 공중 부양시켜 지면으로부터 전해지는 진동을 차단하는 방진 유닛;을 더 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 1,
And an anti-vibration unit installed at the lower part of the elevating unit to block the vibration transmitted from the ground by lifting the elevating unit before the plate substrate positioned on the stage starts measuring. . 청구항 9 또는 청구항 11에 있어서,
상기 방진 유닛은,
상기 승강 유닛의 베이스 플레이트 저면에 설치되는 랜딩부;
상기 랜딩부에 부합하는 형상을 갖고 공기가 토출되는 토출구가 형성된 삽입부; 및
상기 삽입부에 형성된 토출구와 유로로 연결되어 상기 유로를 통해 공기를 공급하는 에어 공급원;을 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 9 or 11,
The dustproof unit,
A landing part installed on a bottom surface of the base plate of the elevating unit;
An insertion part having a shape corresponding to the landing part and having a discharge port through which air is discharged; And
And an air supply source connected to a discharge port formed in the insertion part and a flow path to supply air through the flow path. 청구항 1에 있어서,
상기 스테이지와 대면하는 면의 평탄도가 유지되고 상기 접촉형 LVDT 유닛이 평판기판의 평탄도를 측정하기에 앞서 스테이지에 위치하여 접촉형 LVDT 유닛의 영점을 조절하는 영점조절지그;를 더 포함하는 평판기판의 평탄도 측정장치.The method according to claim 1,
And a zero adjustment jig for maintaining the flatness of the surface facing the stage and adjusting the zero point of the contact type LVDT unit before the contact type LVDT unit measures the flatness of the plate substrate. Flatness measuring device of the substrate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9739590B2 (en) 2015-03-30 2017-08-22 Samsung Display Co., Ltd. Device for measuring flatness of plate
CN110068261A (en) * 2019-04-30 2019-07-30 中冶建筑研究总院有限公司 A kind of high-precision standard displacement generating device
KR102595425B1 (en) * 2022-11-29 2023-10-31 주식회사 나우산업 Cover deformation inspection jig

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101404522B1 (en) 2014-01-13 2014-06-27 (주) 윈스텍 Bilateral Flatness Level Measuring Apparatus For Substrate
KR101777604B1 (en) * 2015-12-15 2017-09-13 국방과학연구소 Contact flatness measurement device
CN105783728A (en) * 2016-05-06 2016-07-20 汉克科技有限公司 Foot pad detection device and method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59180611U (en) 1983-05-20 1984-12-03 日本電気硝子株式会社 Glass plate flatness measuring device
JP3124659B2 (en) * 1993-09-29 2001-01-15 アイワ株式会社 Calibration method of flatness measuring device
KR960024175U (en) * 1994-12-31 1996-07-22 Flatness Inspection Device of Printer Board
KR100949736B1 (en) * 2008-05-02 2010-03-25 재단법인 포항산업과학연구원 Measuring Apparatus for Flatness

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9739590B2 (en) 2015-03-30 2017-08-22 Samsung Display Co., Ltd. Device for measuring flatness of plate
CN110068261A (en) * 2019-04-30 2019-07-30 中冶建筑研究总院有限公司 A kind of high-precision standard displacement generating device
CN110068261B (en) * 2019-04-30 2024-02-09 中冶建筑研究总院有限公司 High-precision standard displacement generating device
KR102595425B1 (en) * 2022-11-29 2023-10-31 주식회사 나우산업 Cover deformation inspection jig

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