KR20120075337A - 액처리 장치 및 액처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 처리실 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있고, 기판을 액처리할 때에 비산된 약액 등의 분위기가 처리실 안에 잔존하지 않도록 할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
액처리 장치(10)에서, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통(50) 안의 분위기가 그 컵 외주통(50)의 외측으로 보내지게 된다. 또한, 처리실(20) 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부(56)가 처리실(20) 안에서 컵 외주통(50)의 외측에 형성되어 있다.

Description

액처리 장치 및 액처리 방법{LIQUID PROCESSING METHOD AND LIQUID PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 기판을 수평 상태로 유지한 상태로 회전시키면서 그 기판에 처리액을 공급함으로써 기판의 세정 처리나 에칭 처리, 도금 처리, 현상 처리 등의 액처리를 행하는 액처리 장치 및 액처리 방법에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 웨이퍼 등의 기판(이하, 웨이퍼라고도 함)을 수평 상태로 유지한 상태로 회전시키면서 그 기판의 표면이나 이면에 처리액을 공급함으로써 기판의 세정 처리나 에칭 처리, 도금 처리, 현상 처리 등의 액처리를 수행하는 액처리 장치로서, 여러 가지 종류의 것이 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1 등 참조). 특허문헌 1에는, 기판을 스핀척에 의해 수평으로 유지하여 회전시키고, 스핀척에 의해 유지되어 회전하는 기판 표면에 처리액을 공급하며, 기판을 1장씩 처리하는 매엽식 액처리 장치가 개시되어 있다. 또한, 이러한 매엽식 액처리 장치에서, 처리실의 위쪽에 FFU(팬 필터 유닛)를 설치하고, 이 FFU로부터 N2 가스(질소 가스)나 클린 에어 등의 가스를 다운플로우로 처리실 안으로 보내는 기술이 알려져 있다.
처리실의 위쪽에 FFU가 설치된 액처리 장치의 구성에 대해서 도 13 및 도 14를 이용하여 설명한다. 도 13은 종래의 액처리 장치의 개략적인 구성을 도시하는 측면도이고, 도 14는 도 13에 도시하는 종래의 액처리 장치의 평면도이다. 도 13 및 도 14에 도시하는 바와 같이, 종래의 액처리 장치(200)는 웨이퍼(W)가 수용되고 이 수용된 웨이퍼(W)의 액처리가 행해지는 처리실(챔버)(210)을 구비한다. 도 13 및 도 14에 도시하는 바와 같이, 처리실(210) 안에는, 웨이퍼(W)를 유지하여 회전시키기 위한 유지부(220)가 설치되어 있고, 이 유지부(220) 주위에는 컵(230)이 배치되어 있다. 또한, 종래의 액처리 장치(200)에서는, 유지부(220)에 유지된 웨이퍼(W)에 대하여 컵(230)의 위쪽으로부터 처리액을 공급하기 위한 노즐(240) 및 이 노즐(240)을 지지하는 아암(241)이 처리실(210) 안에 설치되어 있다. 또한, 아암(241)에는 대략 수직 방향으로 연장되는 아암 지지부(242)가 설치되어 있고, 이 아암 지지부(242)에 의해 아암(241)이 지지된다. 그리고, 아암 지지부(242)는 도시하지 않는 구동 기구에 의해 정/역 양방향으로 회전 구동되게 된다. 이것에 의해, 아암(241)은 아암 지지부(242)를 중심으로서 정/역 양방향으로 회전 가능해지고, 이 아암(241)은, 유지부(220)에 의해 유지된 웨이퍼(W)에 처리액을 공급하는 진출 위치(도 14의 실선 참조)와 컵(230)으로부터 후퇴한 후퇴 위치(도 14의 이점쇄선 참조) 사이에서 아암 지지부(242)를 중심으로 하여 회전 이동하게 된다(도 14의 화살표 참조).
또한, 도 13에 도시하는 바와 같이, 처리실(210)의 위쪽에는 FFU(팬 필터 유닛)(250)가 설치되어 있고, 이 FFU(250)로부터 N2 가스(질소 가스)나 클린 에어 등의 가스가 항상 다운플로우로 처리실(210) 안으로 보내지게 된다. 또한, 처리실(210)의 바닥부에는 배기부(260)가 형성되어 있고, 이 배기부(260)에 의해 처리실(210) 내의 분위기가 배기되게 된다. 이와 같이, FFU(250)로부터 처리실(210) 안에 클린 에어 등의 가스가 다운플로우로 보내지고, 이 가스가 배기부(260)에 의해 배기됨으로써, 처리실(210) 안의 분위기가 치환되게 된다.
일본 특허 공개 제2009-94525호 공보
그러나, 도 13 및 도 14에 도시하는 바와 같은 종래의 액처리 장치(200)에서는, 노즐(240)을 지지하는 아암(241)이나 이 아암(241)을 지지하는 아암 지지부(242)가 처리실(210) 안에 설치되어 있기 때문에, 컵(230)의 외측 영역의 스페이스가 커지고, 이러한 컵(230)의 외측 영역에서는 처리실(210) 안의 분위기가 치환되기 어려워진다. 구체적으로는, 도 13 및 도 14에서 참조 부호 X로 표시되는 영역은 컵(230)의 외측에 위치하기 때문에, FFU(250)로부터 처리실(210) 안에 다운플로우로 보내진 가스가 체류되기 쉬워, 이러한 영역에서는 분위기가 적절히 치환되지 않을 우려가 있다. 이 때문에, 종래의 액처리 장치(200)에서는, 처리실(210) 안에서 웨이퍼(W)를 액처리할 때에 참조 부호 X로 표시되는 영역에 약액 등이 비산되면, 이 약액의 분위기가 그 영역에서 잔존하여, 그 후의 웨이퍼(W)의 처리에서 이 잔존한 약액의 분위기에 의해 웨이퍼(W)가 오염되는 등의 악영향을 미칠 우려가 있다. 구체적으로는, 처리 후의 웨이퍼(W)를 포함하는 여러 가지 건조물에 대해 약액 등이 재부착되면, 파티클의 원인이 된다고 하는 문제가 있다. 또한, 잔존한 약액에서의 알칼리성이나 산성 분위기가 화학 반응을 일으킴으로써, 결정물이 생성되어, 파티클의 원인이 된다고 하는 문제가 있다.
본 발명은 이러한 점을 고려하여 이루어진 것으로, 처리실 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있고, 기판을 액처리할 때에 비산된 약액 등의 분위기가 처리실 안에 잔존하지 않도록 할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 액처리 장치는 기판을 수평 상태로 유지하여 회전시키기 위한 기판 유지부 및 그 기판 유지부 주위에 배치되는 컵이 내부에 설치된 처리실과, 상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대하여 처리액을 공급하기 위한 노즐과, 상기 노즐을 지지하고, 상기 처리실 안으로 진출한 진출 위치와 상기 처리실로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 수평 방향으로 이동 가능하게 되어 있는 아암과, 상기 처리실에 인접하여 설치되고, 그 처리실로부터 후퇴한 상기 아암이 대기하기 위한 아암 대기부와, 상기 처리실 안에서 상기 컵의 주위에 배치되어, 위쪽 위치와 아래쪽 위치 사이에서 승강 가능하게 되어 있는 컵 외주통을 구비하고, 상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기가 그 컵 외주통의 외측으로 보내지도록 되어 있고, 상기 처리실 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부가 상기 처리실 안에서 상기 컵 외주통의 외측에 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 액처리 방법은, 처리실 내부에 설치된 기판 유지부에 의해 기판을 수평 상태로 유지시키는 공정과, 상기 처리실 안에서 컵 주위에 배치되어 있는 컵 외주통을 아래쪽 위치로부터 위쪽 위치로 이동시켜, 컵 외주통 안의 영역을 외부로부터 격리시키는 공정과, 노즐을 지지하는 아암을, 상기 처리실에 인접하여 설치된 아암 대기부로부터 상기 처리실 안으로 진출시키는 공정과, 상기 기판 유지부에 의해 기판을 회전시키고, 상기 처리실 안으로 진출한 아암의 노즐을 통해, 상기 기판 유지부에 의해 유지되어 회전하는 기판에 처리액을 공급하는 공정을 포함하고, 상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기가 그 컵 외주통의 외측으로 보내지며, 상기 처리실 안에서 상기 컵 외주통의 외측에 형성되는 배기부에 의해, 상기 처리실 안의 분위기가 배기되는 것을 특징으로 한다.
이러한 액처리 장치 및 액처리 방법에 의하면, 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기가 그 컵 외주통의 외측으로 보내지도록 되어 있고, 처리실 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부가 처리실 안에서 컵 외주통의 외측에 형성되기 때문에, 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때에는, 배기부에 의해 처리실 안 전체 분위기를 배기할 수 있고, 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에도, 컵 외주통 안의 분위기가 그 컵 외주통의 외측에 보내지기 때문에, 배기부에 의해 컵 외주통 안의 분위기를 배기할 수 있다. 이와 같이 하여, 전술한 바와 같이 액처리 장치 및 액처리 방법에 의하면, 처리실 안, 특히 컵 외주통 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 액처리 장치에서는, 상기 컵 외주통을 세정하기 위한 세정부를 더 구비하여도 좋다.
이 때에, 상기 세정부는 세정액을 저류하기 위한 저류 부분을 가지며, 상기 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때에 그 컵 외주통이 상기 저류 부분에 저류된 세정액에 침지되고, 상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 그 컵 외주통이 상기 저류 부분에 저류된 세정액으로부터 위쪽으로 이격되도록 되어 있어도 좋다.
본 발명의 액처리 장치에서는, 상기 컵 외주통에는 통기용 개구가 형성되고, 상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기는 상기 통기용 개구를 통해 상기 컵 외주통의 외측으로 보내져 상기 배기부에 의해 배기되어도 좋다.
본 발명의 액처리 장치에서는, 상기 처리실과 상기 아암 대기부 사이에는 수직 방향으로 연장되는 벽이 설치되어 있고, 상기 벽에는, 상기 아암이 통과 가능한 개구가 형성되어도 좋다.
본 발명의 액처리 장치 및 액처리 방법에 의하면, 처리실 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있고, 기판을 액처리할 때에 비산된 약액 등의 분위기가 처리실 안에 잔존하지 않도록 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 액처리 장치를 포함하는 액처리 시스템을 위쪽에서 본 평면도이다.
도 2a와 도 2b는 본 발명의 실시형태에 의한 액처리 장치의 개략적인 구성을 도시하는 평면도이다.
도 3은 도 2a와 도 2b에 도시하는 액처리 장치의 측면도이다.
도 4는 도 2a와 도 2b에 도시하는 액처리 장치의 구성의 세부 사항을 도시하는 종단면도로서, 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하는 도면이다.
도 5는 도 2a와 도 2b에 도시하는 액처리 장치의 구성의 세부 사항을 도시하는 종단면도로서, 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시한 도면이다.
도 6은 도 4 등에 도시하는 액처리 장치에서의 컵 외주통의 구성을 도시하는 사시도이다.
도 7은 도 4 등에 도시하는 액처리 장치의 컵 외주통의 세정부의 구성을 도시하는 측단면도로서, (a)는 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하고, (b)는 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하는 도면이다.
도 8은 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때의 처리실에서의 가스의 흐름을 도시하는 도면이다.
도 9는 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때의 처리실에서의 가스의 흐름을 도시하는 도면이다.
도 10은 본 발명에 의한 액처리 장치에서의 컵 외주통의 다른 구성을 도시하는 사시도이다.
도 11은 도 10에 도시하는 컵 외주통을 이용한 경우에 있어서 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때의 처리실에서의 가스의 흐름을 도시하는 도면이다.
도 12는 도 10 등에 도시하는 액처리 장치의 컵 외주통의 세정부의 구성을 도시하는 측단면도로서, (a)는 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하고, (b)는 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하는 도면이다.
도 13은 종래의 액처리 장치의 개략적인 구성을 도시하는 측면도이다.
도 14는 도 10에 도시하는 종래의 액처리 장치의 평면도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 도 1 내지 도 9는 본 실시형태에 의한 액처리 장치를 도시하는 도면이다. 보다 상세하게는, 도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 액처리 장치를 포함하는 액처리 시스템을 위쪽에서 본 평면도이다. 또한, 도 2a와 도 2b는 본 발명의 실시형태에 의한 액처리 장치의 개략적인 구성을 도시하는 평면도이며, 도 3은 도 2a와 도 2b에 도시하는 액처리 장치의 개략적인 구성을 도시하는 측면도이다. 또한, 도 4 및 도 5는 도 2a와 도 2b에 도시하는 액처리 장치의 구성의 세부 사항을 도시하는 종단면도이다. 도 6은 도 4 등에 도시하는 액처리 장치에서의 컵 외주통의 구성을 도시하는 사시도이다. 또한, 도 7은 도 4 등에 도시하는 액처리 장치의 컵 외주통의 세정부의 구성을 도시하는 측단면도이다. 도 8 및 도 9는 각각 컵 외주통이 아래쪽 위치 및 위쪽 위치에 있을 때의 처리실에서의 가스의 흐름을 도시한 도면이다.
먼저, 도 1을 이용하여, 본 실시형태에 의한 액처리 장치를 포함하는 액처리 시스템에 대해서 설명한다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 액처리 시스템은 외부로부터 피처리 기판인 반도체 웨이퍼 등의 기판(W)[이하, 웨이퍼(W)라고도 함]을 수용한 캐리어를 배치하기 위한 배치대(101)와, 캐리어에 수용된 웨이퍼(W)를 취출하기 위한 반송 아암(102)과, 반송 아암(102)에 의해 취출된 웨이퍼(W)를 배치하기 위한 선반 유닛(103)과, 선반 유닛(103)에 배치된 웨이퍼(W)를 수취하고, 그 웨이퍼(W)를 액처리 장치(10) 안에 반송하는 반송 아암(104)을 구비한다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 액처리 시스템에는, 반송 아암(104)을 갖는 반송로를 사이에 두고, 복수(도 1에 도시하는 양태에서는 4개)의 액처리 장치(10)가 설치되어 있다.
다음에, 본 실시형태에 의한 액처리 장치(10)의 개략적인 구성에 대해서 도 2a와 도 2b 및 도 3을 이용하여 설명한다.
도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 본 실시형태에 의한 액처리 장치(10)는 웨이퍼(W)가 수용되고 이 수용된 웨이퍼(W)의 액처리가 행해지는 처리실(챔버)(20)을 구비한다. 도 3에 도시하는 바와 같이, 처리실(20) 안에는, 웨이퍼(W)를 수평 상태로 유지하여 회전시키기 위한 유지부(21)가 설치되어 있고, 이 유지부(21) 주위에는 링형의 회전컵(40)이 배치되어 있다. 또한, 도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 처리실(20) 안에서 회전컵(40) 주위에는 원통형의 컵 외주통(50)이 배치되어 있다. 후술하는 바와 같이, 이 컵 외주통(50)은 웨이퍼(W)의 처리 상황에 따라 승강 가능하게 되어 있다. 이들 유지부(21), 회전컵(40) 및 컵 외주통(50)의 구성의 세부 사항에 대해서는 후술한다.
또한, 액처리 장치(10)에는, 유지부(21)에 유지된 웨이퍼(W)에 대하여 웨이퍼(W)의 위쪽으로부터 처리액을 공급하기 위한 노즐(82a) 및 이 노즐(82a)을 지지하는 노즐 아암(82)이 설치되어 있다. 도 2a와 도 2b에 도시하는 바와 같이, 하나의 액처리 장치(10)에는 복수(구체적으로는 예컨대 6개)의 노즐 아암(82)이 설치되고, 각 노즐 아암(82)의 선단에 노즐(82a)이 설치되어 있다. 또한, 도 3에 도시하는 바와 같이, 각 노즐 아암(82)에는 아암 지지부(84)가 설치되어 있고, 각 아암 지지부(84)는 도시하지 않는 구동 기구에 의해 도 3의 좌우 방향으로 구동되도록 되어 있다. 이것에 의해, 각 노즐 아암(82)은 처리실(20) 안으로 진출한 진출 위치와, 처리실(20)로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 수평 방향으로 직선 운동을 하도록 되어 있다[도 2a와 도 2b 및 도 3에서의 각 노즐 아암(82)에 표시된 화살표 참조]. 또한, 도 3에 도시하는 바와 같이, 각 노즐 아암(82)에는 표면 처리액 공급관(82m)이 설치되어 있고, 각 표면 처리액 공급관(82m)은 표면 처리액 공급부(89)에 접속된다. 그리고, 표면 처리액 공급부(89)로부터 각 표면 처리액 공급관(82m)을 통해 각 노즐 아암(82)의 노즐(82a)에 처리액이 공급되게 된다.
도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 액처리 장치(10)에서, 아암 대기부(80)는 처리실(20)에 인접하여 설치된다. 이 아암 대기부(80)에서, 처리실(20)로부터 후퇴한 노즐 아암(82)이 대기하게 된다. 또한, 아암 대기부(80)와 처리실(20) 사이에는 수직 방향으로 연장되는 벽(90)이 설치된다. 이 벽(90)은 각 노즐 아암(82)이 통과 가능한 개구(88a)가 형성된 아암 세정부(88)를 갖고 있다. 이 아암 세정부(88)에 의해 각 노즐 아암(82)이 세정된다.
또한, 도 3에 도시하는 바와 같이, 처리실(20) 위쪽에는 FFU(팬 필터 유닛)(70)이 설치되어 있고, 이 FFU(70)로부터 N2 가스(질소 가스)나 클린 에어 등의 가스가 다운플로우로 처리실(20) 안으로 보내지게 된다. 또한, 도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 처리실(20)의 바닥부에서의 컵 외주통(50)의 외측에는 배기부(56)가 형성되어 있고, 이 배기부(56)에 의해 처리실(20) 안의 분위기가 배기되도록 되어 있다. 이 배기부(56)에 의해, 처리실(20) 안에서의 컵 외주통(50) 외측의 분위기를 배기할 수 있다. 구체적으로는, 배기부(56)에 의해, 아암 대기부(80) 안의 분위기가 컵 외주통(50) 안에 들어가는 것이 억지된다. 또한, 이 배기부(56)에 의해, 컵 외주통(50) 안의 분위기가 아암 대기부(80)에 나오는 것이 억지된다. 또, 이 배기부(56)는 도 2b에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)을 따라 컵 외주통(50)의 외측에 원환형으로 형성되어도 된다. 배기부(56)가 원환형으로 형성됨으로써, 처리실(20) 안의 분위기를 컵 사방에서 균일하게 배기할 수 있다.
또한, 도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 아암 대기부(80)의 바닥부에는 배기부(58)가 형성되어 있고, 이 배기부(58)에 의해 아암 대기부(80) 안의 분위기가 배기되게 된다. 구체적으로는, 각 노즐 아암(82)을 구동하기 위한 구동 기구(도시 생략)로부터 발생하는 파티클을 배기부(58)를 통해 빼낼 수 있다.
또한, 도 2a와 도 2b에 도시하는 바와 같이, 처리실(20) 및 아암 대기부(80)에는, 액처리 장치(10)의 외부로부터 액세스하기 위한 출입구가 형성되어 있고, 각각의 출입구에는 메인터넌스용의 셔터(60, 62)가 구비된다. 처리실(20) 및 아암 대기부(80)에 각각 메인터넌스용 셔터(60, 62)가 설치되어 있기 때문에, 이들 처리실(20) 안이나 아암 대기부(80) 안의 기기를 개별적으로 메인터넌스할 수 있다. 또한, 처리실(20) 안에서 웨이퍼(W)를 처리하고 있는 중이어도, 셔터(62)를 개방함으로써 아암 대기부(80) 안의 기기를 메인터넌스할 수 있게 된다.
또한, 도 2a와 도 2b에 도시하는 바와 같이, 처리실(20)의 반송로측의 측벽에는, 반송 아암(104)에 의해 처리실(20) 안으로 웨이퍼(W)를 반입하거나 처리실(20)로부터 웨이퍼(W)를 반출하기 위한 개구(94a)가 형성되어 있고, 이 개구(94a)에는, 그 개구(94a)를 개폐하기 위한 셔터(94)가 설치되어 있다.
또한, 도 2a와 도 2b에 도시하는 액처리 장치(10)에서, 처리실(20) 안에서의 컵 외주통(50)의 내부 영역은 클린룸에 대하여 경미한 양압으로 되어 있고, 한편, 처리실(20) 안에서의 컵 외주통(50)의 외측 영역은 클린룸에 대하여 경미한 음압으로 되어 있다. 이 때문에, 처리실(20) 안에서, 컵 외주통(50)의 내부 영역의 기압은 컵 외주통(50)의 외측 영역의 기압보다 높다.
다음에, 도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같은 액처리 장치(10)의 구성의 세부 사항에 대해서 도 4 및 도 5를 이용하여 설명한다.
도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, 유지부(21)는 웨이퍼(W)를 유지하기 위한 원판 형상의 유지 플레이트(26)와, 유지 플레이트(26) 위쪽에 설치된 원판 형상의 리프트핀 플레이트(22)를 구비한다. 리프트핀 플레이트(22)의 상면에는, 웨이퍼(W)를 아래쪽으로부터 지지하기 위한 리프트핀(23)이 둘레 방향으로 등간격으로 3개 설치되어 있다. 또한, 도 4 및 도 5에서는 2개의 리프트핀(23)만을 표시하고 있다. 또한, 리프트핀 플레이트(22)의 아래쪽에는 피스톤 기구(24)가 설치되어 있고, 이 피스톤 기구(24)에 의해 리프트핀 플레이트(22)가 승강하도록 되어 있다. 보다 구체적으로는, 반송 아암(104)(도 1 참조)에 의해 웨이퍼(W)를 리프트핀(23) 위에 배치하거나 리프트핀(23) 위로부터 웨이퍼(W)를 취출할 때에는, 피스톤 기구(24)에 의해 리프트핀 플레이트(22)를 도 4 등에 도시하는 바와 같은 위치로부터 위쪽으로 이동시켜, 이 리프트핀 플레이트(22)는 회전컵(40)보다 위쪽에 위치하게 된다. 한편, 처리실(20) 안에서 웨이퍼(W)를 액처리할 때는, 피스톤 기구(24)에 의해 리프트핀 플레이트(22)를 도 4 등에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치로 이동시켜, 웨이퍼(W) 주위에 회전컵(40)이 위치하게 된다.
유지 플레이트(26)에는, 웨이퍼(W)를 측방으로부터 지지하기 위한 유지 부재(25)가 둘레 방향으로 등간격으로 3개 설치되어 있다. 또한, 도 4 및 도 5에서는 2개의 유지 부재(25)만을 표시하고 있다. 각 유지 부재(25)는 리프트핀 플레이트(22)가 위쪽 위치로부터 도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치로 이동했을 때에 이 리프트핀(23) 위의 웨이퍼(W)를 유지하여, 이 웨이퍼(W)를 리프트핀(23)으로부터 약간 이격시키도록 되어 있다.
또한, 리프트핀 플레이트(22) 및 유지 플레이트(26)의 중심 부분에는 각각 관통 구멍이 형성되어 있고, 이들 관통 구멍을 통과하도록 처리액 공급관(28)이 설치되어 있다. 이 처리액 공급관(28)은 유지 플레이트(26)의 각 유지 부재(25)에 의해 유지된 웨이퍼(W)의 이면에 약액이나 순수 등의 처리액을 공급하도록 되어 있다. 또한, 처리액 공급관(28)은 리프트핀 플레이트(22)와 연동하여 승강하도록 되어 있다. 처리액 공급관(28)의 상단에는, 리프트핀 플레이트(22)의 관통 구멍을 막도록 설치된 헤드 부분(28a)이 형성되어 있다. 또한, 도 4 등에 도시하는 바와 같이, 처리액 공급관(28)에는 처리액 공급부(29)가 접속되어 있고, 이 처리액 공급부(29)에 의해 처리액 공급관(28)에 처리액이 공급되게 된다.
도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, 유지부(21) 주위에는 링형의 회전컵(40)이 배치되어 있다. 이 회전컵(40)은 유지 플레이트(26)에 부착되어 있고, 유지 플레이트(26)와 일체적으로 회전하도록 되어 있다. 보다 상세하게는, 회전컵(40)은 유지 플레이트(26)의 각 유지 부재(25)에 의해 지지된 웨이퍼(W)를 측방으로부터 둘러싸도록 설치되어 있고, 웨이퍼(W)를 액처리할 때에 이 웨이퍼(W)로부터 측방으로 비산된 처리액을 받아내게 된다.
또한, 회전컵(40)의 주위에는, 드레인컵(42), 제1 안내컵(43), 제2 안내컵(44) 및 제3 안내컵(45)이 위쪽으로부터 순서대로 설치되어 있다. 드레인컵(42) 및 각 안내컵(43, 44, 45)은 각각 링형으로 형성되어 있다. 여기서, 드레인컵(42)은 처리실(20)에 고정되어 있다. 한편, 각 안내컵(43, 44, 45)에는 각각 승강 실린더(도시 생략)가 연결되어 있고, 이들 안내컵(43, 44, 45)은 대응하는 승강 실린더에 의해 서로 독립적으로 승강 가능하게 되어 있다.
도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, 드레인컵(42)이나 각 안내컵(43, 44, 45)의 아래쪽에는, 제1 처리액 회수용 탱크(46a), 제2 처리액 회수용 탱크(46b), 제3 처리액 회수용 탱크(46c) 및 제4 처리액 회수용 탱크(46d)가 각각 설치되어 있다. 그리고, 각 안내컵(43, 44, 45)의 상하 방향의 위치에 따라, 웨이퍼(W)를 액처리할 때에 이 웨이퍼(W)로부터 측방으로 비산된 처리액이 이 처리액의 종류에 기초하여, 4개의 처리액 회수용 탱크(46a, 46b, 46c, 46d) 중 어느 하나의 처리액 회수용 탱크에 선택적으로 보내지게 된다. 구체적으로는, 모든 안내컵(43, 44, 45)이 모두 위쪽 위치에 있을 때에는(도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같은 상태), 웨이퍼(W)로부터 측방으로 비산된 처리액은 제4 처리액 회수용 탱크(46d)에 보내지게 된다. 한편, 제3 안내컵(45)만이 아래쪽 위치에 있을 때에는, 웨이퍼(W)로부터 측방으로 비산된 처리액은 제3 처리액 회수용 탱크(46c)에 보내지게 된다. 또한, 제2 안내컵(44) 및 제3 안내컵(45)이 아래쪽 위치에 있을 때에는, 웨이퍼(W)로부터 측방으로 비산된 처리액은 제2 처리액 회수용 탱크(46b)로 보내지게 된다. 또한, 모든 안내컵(43, 44, 45)이 아래쪽 위치에 있을 때에는, 웨이퍼(W)로부터 측방으로 비산된 처리액은 제1 처리액 회수용 탱크(46a)로 보내지게 된다.
또한, 도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, 제4 처리액 회수용 탱크(46d)의 내측에는 배기부(48)가 형성되어 있다. 그리고, 각 안내컵(43, 44, 45)의 상하 방향의 위치가 정해진 위치가 됨으로써, 웨이퍼(W) 주위의 분위기가 배기부(48)에 의해 배기되게 된다.
또한, 본 실시형태의 액처리 장치(10)에서는, 처리실(20) 안에 있어서 드레인컵(42)이나 각 안내컵(43, 44, 45) 주위에 컵 외주통(50)이 설치되어 있다. 이 컵 외주통(50)은 도 4에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치와 도 5에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치 사이에서 승강 가능하게 된다. 또한, 도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)에는, 노즐 아암(82)이 통과 가능한 개구(50m)가 형성되어 있다. 컵 외주통(50)은 도 5에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치에 있을 때에, 컵 외주통(50) 안의 영역을 외부에 대하여 격리시킨다.
이러한 컵 외주통(50)의 구성의 세부 사항에 대해서 도 6을 이용하여 설명한다. 도 6은 컵 외주통(50)의 구성을 도시하는 사시도이다. 도 6에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)의 측면에는, 노즐 아암(82)이 통과 가능한 개구(50m)가, 노즐 아암(82)의 개수에 따라 형성되어 있다[예컨대 노즐 아암(82)이 6개인 경우, 6개의 개구(50m)가 형성된다]. 또한, 컵 외주통(50)의 상부에는, 이 컵 외주통(50)을 지지하기 위한 지지 부재(50a)가 연결되어 있고, 지지 부재(50a)에는 그 지지 부재(50a)를 승강시키는 구동 기구(50b)가 설치되어 있다. 그리고, 구동 기구(50b)에 의해 지지 부재(50a)를 승강시킴으로써, 이 지지 부재(50a)에 지지되는 컵 외주통(50)도 승강하게 된다.
또한, 도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, FFU(70)에는 가이드 부재(51)가 부착되어 있다. 이 가이드 부재(51)는 도 5에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에, 이 컵 외주통(50)으로부터 내측에 약간 거리를 두고 위치하도록 배치된다. 또한, 본 실시형태의 액처리 장치(10)에서는, 도 5에 도시하는 바와 같이 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에는, 컵 외주통(50) 안의 기압은 컵 외주통(50)의 외측 기압보다 높다. 이 때문에, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에는, 도 9에 도시하는 바와 같이, FFU(70)에 의해 생기는 처리실(20) 안의 다운플로우의 가스가 가이드 부재(51)에 의해 컵 외주통(50)의 상단 근방에서 그 컵 외주통(50)의 내측으로부터 외측으로 안내되게 된다.
또한, 도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, 처리실(20) 안에는, 컵 외주통(50)을 세정하기 위한 세정부(52)가 설치되어 있다. 이 세정부(52)는 순수 등의 세정액을 저류하기 위한 저류 부분(52a)을 갖고 있고, 도 4에 도시하는 바와 같이 컵 외주통(50)이 아래쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통(50)이 저류 부분(52a)에 저류된 세정액에 침지되게 된다. 세정부(52)는 저류 부분(52a)에 저류된 세정액에 컵 외주통(50)이 침지됨으로써, 이 컵 외주통(50)을 세정하게 된다. 저류 부분(52a)에 저류되는 세정액으로서는, 예컨대 실온 이상, 바람직하게는 40℃ 이상, 더 바람직하게는 60℃ 이상의 순수 등이 이용된다. 저류 부분(52a)에 저류되는 세정액의 온도가 높은 경우에는, 컵 외주통(50)에 대한 세정 효과가 보다 커진다.
이러한 세정부(52)의 구성의 세부 사항에 대해서 도 7을 이용하여 설명한다. 도 7은 세정부(52)의 구성을 도시하는 측단면도이다. 구체적으로는, 도 7의 (a)는 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하고 있고, 도 7의 (b)는 컵 외주통(50)이 아래쪽 위치에 있을 때의 상태를 도시하고 있다.
도 7에 도시하는 바와 같이, 세정액을 저류하기 위한 저류 부분(52a)에는 세정액 공급관(52b)이 접속되어 있고, 이 세정액 공급관(52b)에 의해 저류 부분(52a)에 세정액이 연속적으로 보내진다. 세정액 공급관(52b)에는 세정액 공급부(53)가 접속되고, 이 세정액 공급부(53)로부터 세정액 공급관(52b)에 세정액이 공급된다. 또한, 도 7에 도시하는 바와 같이, 세정액 공급관(52b)에는 가온 장치(53a)가 설치되어 있고, 이 가온 장치(53a)에 의해 세정액 공급관(52b) 안의 세정액이 가온된다. 또한, 저류 부분(52a)의 측부에는 드레인관(52c)이 설치되어 있고, 이 드레인관(52c)에 의해 저류 부분(52a) 안의 세정액이 배출되게 된다. 즉, 세정액 공급관(52b)에 의해 저류 부분(52a)에 세정액이 연속적으로 보내지고, 이 저류 부분(52a) 안의 세정액이 드레인관(52c)에 의해 배출됨으로써, 저류 부분(52a)에 저류되는 세정액은 항상 청정한 상태로 유지된다. 또한, 저류 부분(52a)의 상부에는, 컵 외주통(50)이 통과 가능한 상부 개구(52d)가 형성되어 있다.
도 7의 (b)에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)이 아래쪽 위치에 있을 때에는 이 컵 외주통(50)의 대부분이 저류 부분(52a)에 저류된 세정액에 침지된다. 한편, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때는, 이 컵 외주통(50)은 저류 부분(52a)에 저류된 세정액으로부터 위쪽으로 이격된다. 이 때문에, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에는, 저류 부분(52a)에 저류된 세정액과 컵 외주통(50)의 하부 사이에서 간극이 형성되기 때문에, 이 간극을 통해 컵 외주통(50) 안의 분위기를 컵 외주통(50)의 외측으로 보낼 수 있게 된다.
또한, 도 7에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)의 상단에는, 이 컵 외주통(50)이 도 7의 (b)에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 있을 때에 저류 부분(52a)에 저류된 세정액을 덮는 덮개 부분(50c)이 설치되어 있다. 구체적으로는, 덮개 부분(50c)은 컵 외주통(50)이 도 7의 (b)에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 있을 때에, 저류 부분(52a)의 상부 개구(52d)를 막게 된다. 세정부(52)에서, 저류 부분(52a)에 저류되는 세정액의 온도가 고온(구체적으로는, 예컨대 60℃ 이상)인 경우에는, 저류 부분(52a)에 저류되는 세정액은 증발하기 쉬워, 이 세정액의 증기가 예컨대 처리실(20) 안에서의 웨이퍼(W) 건조 처리 시에 웨이퍼(W) 등에 부착되면 건조 효율이 나빠진다고 하는 문제가 있다. 또한, 저류 부분(52a)에 저류되는 세정액의 온도가 40℃ 정도에서도, 이 세정액이 증발하여, 세정액의 증기가 예컨대 처리실(20) 안에서의 웨이퍼(W) 건조 처리 시에 웨이퍼(W) 등에 부착될 우려가 있다. 이것에 대하여, 본 실시형태의 액처리 장치(10)에 의하면, 덮개 부분(50c)이 컵 외주통(50)의 상단에 설치되어 있기 때문에, 컵 외주통(50)이 도 7의 (b)에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 있을 때에는, 저류 부분(52a)에 저류된 세정액이 증발하여 이 세정액의 분위기가 처리실(20) 안이나 아암 대기부(80)에 들어가는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이 경우, 비록 저류 부분(52a)에 저류된 세정액이 증발하여 이 세정액의 분위기가 처리실(20) 안이나 아암 대기부(80)에 들어갔을 때라도, 처리실(20)의 바닥부에서의 컵 외주통(50)의 외측에 배기부(56)가 형성되어 있기 때문에, 이러한 세정액의 분위기는 배기부(56)에 의해 배기된다.
또한, 컵 외주통(50)이 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치에 있을 때에는, FFU(70)에 부착된 가이드 부재(51)는 이 컵 외주통(50)의 상단으로부터 내측에 약간 간극을 두고 위치하게 된다. 또한, 전술한 바와 같이, 컵 외주통(50)이 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치에 있을 때에는, 컵 외주통(50) 안의 기압이 컵 외주통(50)의 외측 기압보다 높다. 이 때문에, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같이, FFU(70)에 의해 생기는 처리실(20) 안의 다운플로우의 가스가 가이드 부재(51)에 의해 컵 외주통(50)의 상단 근방에서 그 컵 외주통(50)의 내측으로부터 외측으로 안내된다.
또한, 도 4 및 도 5에 도시하는 바와 같이, 처리실(20) 안에서, 세정부(52)의 외측에는 처리실(20) 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부(56)가 형성되어 있다. 이러한 배기부(56)가 형성되어 있기 때문에, 컵 외주통(50)이 도 4에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 있을 때에는, 처리실(20) 안 전체 분위기를 배기할 수 있다(도 8 참조). 또한, 컵 외주통(50)이 도 5에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치에 있을 때에는, 도 9에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50) 안의 분위기는 저류 부분(52a)에 저류된 세정액과 컵 외주통(50)의 하부 사이에서 형성된 간극을 통해 컵 외주통(50)의 외측으로 보내지고, 최종적으로 배기부(56)에 의해 배기된다. 이와 같이, 처리실(20) 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부(56)가 처리실(20) 안에서 컵 외주통(50)의 외측에 형성되어 있는 경우에는, 컵 외주통(50) 안의 분위기를 적절히 배기할 수 있기 때문에, 컵 외주통(50) 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 하나의 액처리 장치(10)에 복수(구체적으로는 예컨대 6개)의 노즐 아암(82)이 설치되어 있고, 각 노즐 아암(82)의 선단에 노즐(82a)이 설치되어 있다. 구체적으로는, 각 노즐(82a)은, 각각 제1 약액(구체적으로는, 예컨대 산성 약액), 제2 약액(구체적으로는, 예컨대 알칼리성 약액), 순수, N2 가스, IPA(이소프로필 알코올), 순수의 미스트를 웨이퍼(W) 상면에 공급하게 된다.
다음에, 이러한 구성을 포함하는 액처리 장치(10)의 동작에 대해서 설명한다.
우선, 유지부(21)에서의 리프트핀 플레이트(22) 및 처리액 공급관(28)을 도 4에 도시하는 위치로부터 위쪽으로 이동시키고, 처리실(20)의 개구(94a)에 설치된 셔터(94)를 이 개구(94a)로부터 후퇴시킴으로써 개구(94a)를 개방한다. 그리고, 액처리 장치(10)의 외부로부터 웨이퍼(W)가 반송 아암(104)에 의해 개구(94a)를 통해 처리실(20) 안으로 반송되어, 이 웨이퍼(W)가 리프트핀 플레이트(22)의 리프트핀(23) 위에 배치되고, 그 후, 반송 아암(104)은 처리실(20)로부터 후퇴한다. 이 때에, 컵 외주통(50)은 도 4에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 위치하고 있다. 또한, 각 노즐 아암(82)은 처리실(20)로부터 후퇴한 후퇴 위치에 위치하고 있다. 즉, 각 노즐 아암(82)은 아암 대기부(80)에서 대기하고 있다. 또한, FFU(70)로부터 처리실(20) 안에 클린 에어 등의 가스가 항상 다운플로우로 보내지고, 이 가스가 컵 외주통(50)의 내부로부터 외부로 보내진 후, 배기부(56)에 의해 배기됨으로써, 처리실(20) 안의 분위기가 치환되게 된다.
다음에, 리프트핀 플레이트(22) 및 처리액 공급관(28)을 아래쪽으로 이동시켜, 이들 리프트핀 플레이트(22) 및 처리액 공급관(28)을 도 4에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 위치시킨다. 이 때에, 유지 플레이트(26)에 설치된 각 유지 부재(25)가 리프트핀(23) 위의 웨이퍼(W)를 지지하여, 이 웨이퍼(W)를 리프트핀(23)으로부터 약간 이격시킨다.
그 후에, 또는 리프트핀 플레이트(22)의 하강중에, 컵 외주통(50)에 설치된 구동 기구(50b)에 의해, 이 컵 외주통(50)을 위쪽으로 이동시켜, 컵 외주통(50)을 도 5에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치에 위치시킨다. 그리고, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치로 이동한 후, 아암 대기부(80)에서 대기하고 있는 6개의 노즐 아암(82) 중 하나 또는 복수의 노즐 아암(82)이 벽(90)의 아암 세정부(88)의 개구(88a) 및 컵 외주통(50)의 개구(50m)를 통해 처리실(20) 안으로 진출한다. 이 때에, 노즐 아암(82)은 직선 운동을 한다.
다음에, 유지부(21)에서의 유지 플레이트(26) 및 리프트핀 플레이트(22)를 회전시킨다. 이것에 의해, 유지 플레이트(26)의 각 유지 부재(25)에 의해 지지되어 있는 웨이퍼(W)도 회전한다. 그리고, 웨이퍼(W)가 회전한 상태에서, 처리실(20) 안으로 진출한 노즐 아암(82)의 노즐(82a)로부터 웨이퍼(W)의 상면에 처리액을 공급한다. 또한, 이 때에, 웨이퍼(W)의 하면(이면)을 향해 처리액 공급관(28)으로부터 약액이나 순수 등의 처리액을 공급한다. 이와 같이 하여, 웨이퍼(W)의 상면 및 하면 양쪽 모두에 처리액이 공급되어, 웨이퍼(W)의 액처리가 행해진다. 웨이퍼(W)에 공급된 처리액은 이 처리액의 종류에 기초하여, 각 안내컵(43, 44, 45)이 위쪽 위치 또는 아래쪽 위치에 각각 위치함으로써, 4개의 처리액 회수용 탱크(46a, 46b, 46c, 46d) 중 어느 하나의 처리액 회수용 탱크에 선택적으로 보내져 회수된다.
그 후, 웨이퍼(W)의 액처리가 종료하면, 처리실(20)에 진출한 노즐 아암(82)은 이 처리실(20)로부터 후퇴하여 아암 대기부(80)에서 대기하게 된다. 그리고, 컵 외주통(50)에 설치된 구동 기구(50b)에 의해, 이 컵 외주통(50)을 아래쪽으로 이동시켜, 컵 외주통(50)을 도 4에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 위치시킨다.
그 후, 유지부(21)에서의 리프트핀 플레이트(22) 및 처리액 공급관(28)을 도 4에 도시하는 위치로부터 위쪽으로 이동시킨다. 이 때에, 유지 플레이트(26)의 유지 부재(25)에 의해 지지된 웨이퍼(W)가 리프트핀 플레이트(22)의 리프트핀(23) 위에 전달된다. 다음에, 처리실(20)의 개구(94a)에 설치된 셔터(94)를 이 개구(94a)로부터 후퇴시킴으로써 개구(94a)를 개방하여, 액처리 장치(10)의 외부로부터 개구(94a)를 통해 반송 아암(104)을 처리실(20) 안으로 진출시키고, 이 반송 아암(104)에 의해 리프트핀 플레이트(22)의 리프트핀(23) 위의 웨이퍼(W)를 취출한다. 반송 아암(104)에 의해 취출된 웨이퍼(W)는 액처리 장치(10)의 외부에 반송된다. 이와 같이 하여, 일련의 웨이퍼(W)의 액처리가 완료된다.
이상과 같이 본 실시형태의 액처리 장치(10)에 의하면, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통(50) 안의 분위기가 그 컵 외주통(50)의 외측으로 보내지고, 처리실(20) 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부(56)가 처리실(20) 안에서 컵 외주통(50)의 외측에 설치되어 있다. 이에 의해, 컵 외주통(50)이 도 4에 도시하는 바와 같은 아래쪽 위치에 있을 때에는, 처리실(20) 안 전체의 분위기를 배기할 수 있다(도 8 참조). 또한, 컵 외주통(50)이 도 5에 도시하는 바와 같은 위쪽 위치에 있을 때에도, 컵 외주통(50) 안의 분위기가 그 컵 외주통(50)의 외측으로 보내지기 때문에, 배기부(56)에 의해 컵 외주통(50) 안의 분위기를 배기할 수 있다(도 9 참조).
여기서, 처리실 안에서 웨이퍼(W)를 액처리할 때에 이 처리실 안에서 약액 등이 비산되면, 이 약액의 분위기가 그 영역에서 잔존하고, 그 후의 웨이퍼(W)의 처리에서 이 잔존된 약액의 분위기에 의해 웨이퍼(W)가 오염되는 등의 악영향을 미칠 우려가 있다. 구체적으로는, 처리 후의 웨이퍼(W)를 포함하는 여러 가지 건조물에 대하여 약액 등이 재부착되면, 파티클의 원인이 된다고 하는 문제가 있다. 또한, 잔존된 약액에서의 알칼리성이나 산성의 분위기가 화학 반응을 일으킴으로써, 결정물이 생성되어, 파티클의 원인이 된다고 하는 문제가 있다. 그러나, 본실시형태의 액처리 장치(10)에서는, 처리실(20) 안, 특히 컵 외주통(50) 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있을 수 있기 때문에, 웨이퍼(W)를 액처리할 때에 비산된 약액 등의 분위기가 처리실(20) 안이나 아암 대기부(80)에 잔존하지 않도록 할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 액처리 장치(10)에서는, 전술한 바와 같이, 컵 외주통(50)을 세정하기 위한 세정부(52)가 설치되어 있다. 이것에 의해, 컵 외주통(50)을 청정한 상태로 유지할 수 있어, 웨이퍼(W)를 액처리할 때에 비산된 약액 등이 컵 외주통(50)에 잔존하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 액처리 장치(10)에 있어서, 세정부(52)는 세정액을 저류하기 위한 저류 부분(52a)을 가지며, 컵 외주통(50)이 아래쪽 위치에 있을 때에 그 컵 외주통(50)이 저류 부분(52a)에 저류된 세정액에 침지되게 된다. 이것에 의해, 세정부(52)는 저류 부분(52a)에 저류된 세정액에 컵 외주통(50)을 침지시킨다고 하는 간단한 방법으로 그 컵 외주통(50)을 세정할 수 있게 된다.
또한, 본 실시형태의 액처리 장치(10)에서는, 도 2a와 도 2b 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 처리실(20)과 아암 대기부(80) 사이에는 수직 방향으로 연장되는 벽(90)이 설치되어 있고, 벽(90)의 아암 세정부(88)에는, 노즐 아암(82)이 통과 가능한 개구(88a)가 형성되어 있다.
또한, 본 실시형태에 의한 액처리 장치는 상기한 양태에 한정되는 것이 아니라, 여러 가지의 변경을 가할 수 있다. 예컨대 처리실(20) 안으로 진출한 노즐 아암(82)의 노즐(82a) 및 처리액 공급관(28)에 의해 웨이퍼(W)의 상면 및 하면 양쪽 모두에 처리액을 공급할 필요는 없고, 노즐 아암(82)의 노즐(82a)을 통해 웨이퍼(W)의 상면에만 처리액을 공급하도록 되어 있어도 좋다. 또한, 본 실시형태에 의한 액처리 장치는 기판의 세정 처리 이외에, 에칭 처리, 도금 처리, 현상 처리 등의 처리에도 이용할 수 있다.
또한, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통(50) 안의 분위기를 컵 외주통(50)의 외측으로 보내는 방법으로서, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같은, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 저류 부분(52a)에 저류된 세정액과 컵 외주통(50)의 하부 사이에 간극을 형성해서, 이 간극을 통해 컵 외주통(50) 안의 분위기를 컵 외주통(50)의 외측으로 보내는 것에 한정되지 않는다. 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통(50) 안의 분위기를 컵 외주통(50)의 외측으로 보내는 다른 방법에 대해서 도 10 및 도 11을 이용하여 설명한다. 도 10은 본 발명에 의한 액처리 장치(20)에서의 컵 외주통(50)의 다른 구성을 도시하는 사시도이며, 도 11은 도 10에 도시하는 컵 외주통(50)을 이용한 경우에 있어서, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때의 처리실(20)에서의 가스의 흐름을 도시하는 도면이다.
도 10에 도시하는 바와 같이, 변형예에 따른 컵 외주통(50)에는, 아암(82)이 통과 가능한 개구(50m)에 추가로, 컵 외주통(50) 안의 분위기를 컵 외주통(50)의 외측으로 보내기 위한 통기용 개구(50n)가 복수개 형성되어 있다. 도 10에 도시하는 바와 같이, 복수의 통기용 개구(50n)는 컵 외주통(50)의 측면에서 둘레 방향으로 등간격으로 배치되어 있다.
또한, 도 11에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통(50)의 하부가 저류 부분(52a)에 저류된 세정액에 침지되게 된다. 이 때문에, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에는, 저류 부분(52a)에 저류된 세정액과 컵 외주통(50)의 하부 사이에 시일이 이루어진다. 그리고, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에는, 도 11에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50) 안의 분위기가 이 컵 외주통(50)에 형성된 통기용 개구(50n)를 통해 컵 외주통(50)의 외측으로 보내지고, 최종적으로 배기부(56)에 의해 배기된다. 이와 같이, 처리실(20) 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부(56)가 처리실(20) 안에서 컵 외주통(50)의 외측에 형성되는 경우라도, 통기용 개구(50n)를 통해 컵 외주통(50) 안의 분위기를 배기할 수 있기 때문에, 컵 외주통(50) 안의 분위기의 치환성을 향상시킬 수 있다.
또, 변형예에 따른 컵 외주통(50)은 도 12에 도시하는 바와 같이, 본 실시형태와 마찬가지로, 컵 외주통(50)의 상단에, 컵 외주통(50)이 아래쪽 위치에 있을 때에, 저류 부분(52a)에 저류된 세정액을 덮는 덮개 부분(50c)이 설치되어도 된다. 또한, 컵 외주통(50)의 하단에는, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에 저류 부분(52a)에 저류된 세정액을 덮는 덮개 부분(50d)이 설치되어도 된다. 이와 같은 덮개 부분(50d)이 컵 외주통(50)의 하단에 설치되어 있기 때문에, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에도 저류 부분(52a)에 저류된 세정액이 증발하여 분위기가 처리실(20) 안이나 아암 대기부(80)에 들어가는 것을 방지할 수 있다.
또한, 도 10에 도시하는 바와 같은 컵 외주통(50)이 이용되는 경우에서, 도 7의 (a)에 도시하는 바와 같이, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에, 이 컵 외주통(50)이 저류 부분(52a)에 저류된 세정액으로부터 위쪽으로 이격하도록 되어 있어도 좋다. 이 경우에는, 컵 외주통(50)이 위쪽 위치에 있을 때에, 저류 부분(52a)에 저류된 세정액과 컵 외주통(50)의 하부 사이에 간극이 형성되기 때문에, 이 간극 및 컵 외주통(50)의 통기용 개구(50n)의 양쪽 모두를 통해 컵 외주통(50) 안의 분위기를 컵 외주통(50)의 외측으로 보낼 수 있게 된다.
20: 처리실
50: 컵 외주통
52: 세정부
52a: 저류 부분
56: 배기부
80: 아암 대기부
82: 노즐 아암
82a: 노즐
90: 벽

Claims (6)

  1. 기판을 수평 상태로 유지하여 회전시키기 위한 기판 유지부 및 그 기판 유지부 주위에 배치되는 컵이 내부에 설치된 처리실과,
    상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대하여 처리액을 공급하기 위한 노즐과,
    상기 노즐을 지지하고, 상기 처리실 안으로 진출한 진출 위치와 상기 처리실로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 수평 방향으로 이동 가능하게 되어 있는 아암과,
    상기 처리실에 인접하여 설치되며, 그 처리실로부터 후퇴한 상기 아암이 대기하기 위한 아암 대기부와,
    상기 처리실 안에서 상기 컵의 주위에 배치되어, 위쪽 위치와 아래쪽 위치 사이에서 승강 가능하게 되어 있는 컵 외주통
    을 구비하며,
    상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기가 그 컵 외주통의 외측으로 보내지고,
    상기 처리실 안의 분위기를 배기하기 위한 배기부가 상기 처리실 안에서 상기 컵 외주통의 외측에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 컵 외주통을 세정하기 위한 세정부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 세정부는 세정액을 저류하기 위한 저류 부분을 가지며,
    상기 컵 외주통이 아래쪽 위치에 있을 때에 그 컵 외주통은 상기 저류 부분에 저류된 세정액에 침지되고, 상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 그 컵 외주통은 상기 저류 부분에 저류된 세정액으로부터 위쪽으로 이격되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 컵 외주통에는 통기용 개구가 형성되어 있고, 상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기는 상기 통기용 개구를 통해 상기 컵 외주통의 외측으로 보내지고 상기 배기부에 의해 배기되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리실과 상기 아암 대기부 사이에는 수직 방향으로 연장되는 벽이 설치되어 있고,
    상기 벽에는, 상기 아암이 통과 가능한 개구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
  6. 처리실 내부에 설치된 기판 유지부에 의해 기판을 수평 상태로 유지시키는 공정과,
    상기 처리실 안에서 컵 주위에 배치되어 있는 컵 외주통을 아래쪽 위치로부터 위쪽 위치로 이동시켜, 컵 외주통 안의 영역을 외부로부터 격리시키는 공정과,
    노즐을 지지하는 아암을, 상기 처리실에 인접하여 설치된 아암 대기부로부터 상기 처리실 안으로 진출시키는 공정과,
    상기 기판 유지부에 의해 기판을 회전시키고, 상기 처리실 안으로 진출한 아암의 노즐을 통해, 상기 기판 유지부에 의해 유지되어 회전하는 기판에 처리액을 공급하는 공정
    을 포함하며,
    상기 컵 외주통이 위쪽 위치에 있을 때에 이 컵 외주통 안의 분위기가 그 컵 외주통의 외측으로 보내지고,
    상기 처리실 안에서 상기 컵 외주통의 외측에 형성되어 있는 배기부에 의해, 상기 처리실 안의 분위기가 배기되는 것을 특징으로 하는 액처리 방법.
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