KR20120072689A - The radiant heat circuit board and the method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A heat sink circuit board and a manufacturing method thereof are provided to improve the thermal characteristics of a heating device by plating the outer surface of a heat sink slug formed on the underside of a pad including the heating device. CONSTITUTION: A first circuit pattern(125) is buried between first and second insulating plates(110,130). A second circuit pattern(190) is formed on the top and bottom of the first and second insulating plates. A plating layer(175) is formed in the inner wall of a heat dissipation hole passing through one side to the other side of the first and second insulating plates. A cooling fin(160) fills in the heat dissipation hole. A plating member fills in a groove formed between the cooling fin and the first and second insulating plates.

Description

방열회로기판 및 그 제조 방법{The radiant heat circuit board and the method for manufacturing the same}The radiant heat circuit board and the method for manufacturing the same

본 발명은 방열회로기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a heat radiation circuit board and a manufacturing method thereof.

인쇄회로기판(PCB; Printed Circuit Board)은 전기 절연성 기판에 구리와 같Printed Circuit Boards (PCBs) are like copper on electrically insulating substrates.

은 전도성 재료로 회로라인 패턴을 인쇄하여 형성한 것으로, 전자부품을 탑재하기 직전의 기판(Board)을 말한다. 즉, 여러 종류의 많은 전자 소자를 평판 위에 밀집 탑재하기 위해, 각 부품의 장착 위치를 확정하고, 부품을 연결하는 회로 패턴을 평판 표면에 인쇄하여 고정한 회로 기판을 의미한다. Is formed by printing a circuit line pattern with a conductive material, and refers to a board immediately before mounting an electronic component. That is, it means the circuit board which fixed the mounting position of each component, and printed and fixed the circuit pattern which connects components to the flat surface surface, in order to mount many electronic elements of various types densely on a flat plate.

상기와 같은 인쇄회로기판은 설계된 회로 패턴에 따라 기판에 다수의 도전 패턴에 형성되어 있어 도전 패턴 및 실장 소자에 따라 고온의 열이 방출되며, 특히 발광 다이오드(LED: Light Emitting Diode) 등과 같은 소자는 상당한 열을 방출하게 된다.The printed circuit board is formed on a plurality of conductive patterns on the substrate according to the designed circuit pattern, so that high temperature heat is emitted according to the conductive pattern and the mounting device. In particular, a device such as a light emitting diode (LED) It will release considerable heat.

도 1은 종래의 회로 기판을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional circuit board.

도 1을 참고하면, 종래의 회로 기판(1)은 절연 플레이트(10) 및 도전층이 패턴화되어 있는 회로 패턴부(20) 및 발열소자 패드(25)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional circuit board 1 includes an insulating plate 10, a circuit pattern portion 20 on which a conductive layer is patterned, and a heating element pad 25.

이러한 회로 기판(1)은 에폭시(epoxy)계의 절연 플레이트(10)를 사용할 수 있고, 전자 부품이 연결되는 관통홀(11)을 포함할 수 있으며, 절연 플레이트(10) 위에 형성되어 있는 회로 패턴부(20)는 도전성 물질로 형성되어 있다. The circuit board 1 may use an epoxy-based insulating plate 10, may include a through hole 11 to which electronic components are connected, and a circuit pattern formed on the insulating plate 10. The portion 20 is formed of a conductive material.

발열소자 패드(25)는 회로 패턴부(20)와 동일한 평면 상에 형성되어 있고, 패드(25) 위에 발열 소자(30)가 장착되며, 발열 소자(30)는 와이어(35) 등을 통하여 회로 패턴부(20)와 전기적으로 연결된다.The heating element pad 25 is formed on the same plane as the circuit pattern portion 20, and the heating element 30 is mounted on the pad 25, and the heating element 30 is connected to the circuit through the wire 35. It is electrically connected to the pattern portion 20.

이러한 발열 소자(30)는 발광 다이오드(LED:light emitting diode) 등일 수 있는데 상기 발열 소자(30)는 심각한 열을 방출한다. 발열 소자(30)로부터의 방출 열은 회로 기판(1)의 온도를 상승시켜 발열 소자(30)의 오동작 및 신뢰성에 문제를 야기한다.The heating element 30 may be a light emitting diode (LED) or the like, and the heating element 30 emits severe heat. The heat emitted from the heat generating element 30 raises the temperature of the circuit board 1, causing problems in the malfunction and reliability of the heat generating element 30.

이때, 도 1의 회로 기판(1)의 경우, 탑재된 발열 소자(30)로부터 방출되는 열이 수지를 포함하는 절연 플레이트(10)의 간섭으로 인하여 외부로 방출되지 못한다.In this case, in the circuit board 1 of FIG. 1, heat emitted from the mounted heating element 30 may not be emitted to the outside due to interference of the insulating plate 10 including the resin.

실시 예는 새로운 구조를 가지는 방열회로기판 및 그의 제조 방법을 제공한다.The embodiment provides a heat dissipation circuit board having a new structure and a method of manufacturing the same.

실시 예는 열 효율이 향상된 방열회로기판 및 그의 제조 방법을 제공한다.The embodiment provides a heat dissipation circuit board having improved thermal efficiency and a method of manufacturing the same.

본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판은 복수의 절연층고, 상기 복수의 절연층의 일면과 타면을 관통하여 형성된 방열홀과, 상기 방열홀을 매립하는 방열 핀을 포함한다.The heat dissipation circuit board according to the embodiment of the present invention includes a plurality of insulating layers, heat dissipation holes formed through one surface and the other surface of the plurality of insulating layers, and heat dissipation fins filling the heat dissipation holes.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판의 제조 방법은 복수의 절연 플레이트를 부착하는 단계와, 상기 부착된 복수의 절연 플레이트의 일면과 타면을 관통하는 방열 홀을 형성하는 단계와, 상기 형성된 방열 홀에 방열 핀을 삽입하여 상기 방열 홀을 매립하는 단계를 포함한다.In addition, the method of manufacturing a heat dissipation circuit board according to an embodiment of the present invention includes the steps of attaching a plurality of insulating plates, forming a heat dissipation hole penetrating through one surface and the other surface of the plurality of attached insulating plates, the formed And inserting a heat radiation fin into the heat radiation hole to bury the heat radiation hole.

본 발명에 따르면, 발열 소자가 부착되는 패드의 하부에 방열 슬러그를 형성하고, 상기 방열 슬러그의 외주면을 도금 처리함으로써, 상기 형성된 방열 슬러그의 신뢰성을 높이면서 발열 소자의 열 특성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, by forming a heat dissipation slug under the pad to which the heat generating element is attached, and plating the outer circumferential surface of the heat dissipating slug, the thermal characteristics of the heat generating element can be improved while increasing the reliability of the formed heat dissipating slug.

또한, 열 특성이 향상됨으로 발열 소자로 발광 다이오드를 사용하는 경우, 소자의 수명이 증가하고, 광 효율이 증가할 수 있다.In addition, when the light emitting diode is used as a heat generating device due to improved thermal characteristics, the lifespan of the device may be increased and light efficiency may be increased.

도 1은 종래의 방열 회로기판을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판을 나타낸 단면도이다.
도 3 내지 도 12는 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판을 제조하기 위한 방법을 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing a conventional heat dissipation circuit board.
2 is a cross-sectional view illustrating a heat dissipation circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 to 12 are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a heat dissipation circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

명세서 전체에서, 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명확하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또는 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들 것 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. Throughout the specification, the terminology used is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. Or in the present application, the term "comprises" or "having" is intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, one or more other It should be understood that the features or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof do not preclude the existence or possibility of addition.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.In order to clearly illustrate the present invention in the drawings, thicknesses are enlarged in order to clearly illustrate various layers and regions, and parts not related to the description are omitted, and like parts are denoted by similar reference numerals throughout the specification .

층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우 뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.Whenever a portion of a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" another portion, it includes not only the case where it is "directly on" another portion, but also the case where there is another portion in between. On the contrary, when a part is "just above" another part, there is no other part in the middle.

도면에서, 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장, 생략 또는 개략적으로 도시되었다. 또한, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.In the drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated, omitted or schematically illustrated for convenience and clarity of description. In addition, the size of each component does not entirely reflect the actual size.

본 발명은 절연 수지 기판을 이용한 회로 기판에 있어서 방열 구조를 포함하는 회로 기판을 제공한다.The present invention provides a circuit board including a heat dissipation structure in a circuit board using an insulated resin substrate.

이하에서는 도 2 내지 도 12를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판을 설명한다.Hereinafter, a heat dissipation circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 12.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a heat dissipation circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판(100)은 제 1 절연 플레이트(110), 제 2 절연 플레이트(130), 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110), (130) 사이에 매립되어 형성된 제 1 회로 패턴(125), 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110). (130)의 상부 및 하부에 각각 형성된 제 2 회로 패턴(190), 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110), (130)의 일면과 타면을 관통하는 방열홀(140)의 내벽에 형성되는 도금층(175), 상기 방열홀(140)을 매립하는 방열 핀(160) 및 상기 방열 핀(160)과 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트 사이에 형성된 이격 홈을 매립하는 도금 부재(175)를 포함하여 구성된다.2, a heat dissipation circuit board 100 according to an exemplary embodiment of the present invention may include a first insulating plate 110, a second insulating plate 130, and first and second insulating plates 110 and 130. The first circuit pattern 125 and the first and second insulating plates 110 embedded in the gap; A second circuit pattern 190 formed on the upper and lower portions of the 130, and formed on an inner wall of the heat dissipation hole 140 passing through one surface and the other surface of the first and second insulating plates 110 and 130, respectively. A plating layer 175, a heat dissipation fin 160 to bury the heat dissipation hole 140, and a plating member 175 to bury a spaced groove formed between the heat dissipation fin 160 and the first and second insulating plates. It is configured by.

상기 제 1 절연 플레이트(110)는 단일 회로 패턴이 형성되는 방열회로기판(100)의 지지기판일 수 있으나, 상기 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 방열회로기판(100)은 복수의 절연 플레이트가 서로 부착된 복수의 적층 구조를 가지기 때문에, 상기 제 1 절연 플레이트(110)는 복수의 적층 구조를 가지는 방열회로기판 중 한 기저회로 패턴(125)이 형성되어 있는 절연층 영역을 의미한다.The first insulating plate 110 may be a supporting substrate of the heat dissipation circuit board 100 in which a single circuit pattern is formed, but as shown in FIG. 2, the heat dissipation circuit board 100 according to the embodiment of the present invention is Since the plurality of insulating plates have a plurality of laminated structures attached to each other, the first insulating plate 110 may have an insulating layer region in which one base circuit pattern 125 is formed among heat dissipating circuit boards having a plurality of laminated structures. it means.

상기 제 2 절연 플레이트(130)는 상기 제 1 절연 플레이트(110) 위에 형성되어 있는 제 1 회로 패턴(125)을 보호한다.The second insulating plate 130 protects the first circuit pattern 125 formed on the first insulating plate 110.

이때, 상기 제 1 절연 플레이트(110)와 제 2 절연 플레이트(130)는 복수의 적층 구조 중 어느 하나의 절연층을 각각 의미하며, 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 상부 또는 하부, 제 2 절연 플레이트(130)의 상부 또는 하부에는 복수의 기저회로 패턴이 연속적으로 형성될 수 있다.In this case, the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130 means one insulating layer among a plurality of stacked structures, respectively, and the upper or lower portion of the first insulating plate 110, the second insulating A plurality of base circuit patterns may be continuously formed on the upper or lower portion of the plate 130.

상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)는 열경화성 또는 열가소성 고분자 기판, 세라믹 기판, 유-무기 복합 소재 기판, 또는 글라스 섬유 함침 기판일 수 있으며, 고분자 수지를 포함하는 경우, 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 폴리 이미드계 수지를 포함할 수도 있다.The first and second insulating plates 110 and 130 may be thermosetting or thermoplastic polymer substrates, ceramic substrates, organic-inorganic composite material substrates, or glass fiber impregnated substrates, and may include an epoxy resin. It may include, alternatively may include a polyimide resin.

이때, 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130))는 열전도도(약 0.2 ~ 0.4W/mk)가 낮은 에폭시계 절연 수지를 포함할 수 있으며, 이와 달리 열전도도가 상대적으로 높은 폴리 이미드계 수지를 포함할 수도 있다.In this case, the first and second insulating plates 110 and 130 may include an epoxy-based insulating resin having a low thermal conductivity (about 0.2 to 0.4 W / mk). It may also contain a de-based resin.

상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130) 사이에는 제 1 회로 패턴(125)이 형성되어 있다. 상기 제 1 회로 패턴(125)은 상기 제 1 절연 플레이트(110) 위에 적층되어 있는 도전층을 패터닝하여 형성된다.A first circuit pattern 125 is formed between the first and second insulating plates 110 and 130. The first circuit pattern 125 is formed by patterning a conductive layer stacked on the first insulating plate 110.

상기 제 1 회로 패턴(125)은 전기전도도가 높고, 저항이 낮은 물질로 형성되는데, 얇은 구리층인 동박을 도전층으로 패터닝하여 형성될 수 있다.The first circuit pattern 125 is formed of a material having high electrical conductivity and low resistance, and may be formed by patterning a copper foil, which is a thin copper layer, as a conductive layer.

상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)는 적어도 하나의 홀을 포함한다.The first and second insulating plates 110 and 130 include at least one hole.

이때, 상기 홀은 방열 구조를 형성하기 위한 방열홀(140)을 포함한다. 상기 방열홀(140)은 레이저에 의해 형성될 수 있다.At this time, the hole includes a heat radiation hole 140 for forming a heat radiation structure. The heat dissipation hole 140 may be formed by a laser.

또한, 도면상에는 하나의 방열홀(140)만이 형성되어 있다고 도시하였으나, 상기 방열홀이 복수 개 형성될 수 있음은 당업자에게 자명한 사항일 것이다. In addition, although only one heat dissipation hole 140 is illustrated in the drawing, it will be apparent to those skilled in the art that a plurality of heat dissipation holes may be formed.

또한, 도 2에서는 방열홀(140)만이 도시되어 있으나, 외부의 소자와의 전기적 관통을 위한 관통홀(도시되지 않음)도 추가로 형성되어 있을 수 있다.In addition, although only the heat dissipation hole 140 is illustrated in FIG. 2, a through hole (not shown) may be additionally formed to electrically penetrate an external device.

즉, 상기 방열회로기판(100)은 복수의 절연플레이트(110, 130) 사이에 매립되어 있는 제 1 회로 패턴(125)을 상부 또는 하부의 제 2 회로 패턴(190)과 전기적으로 연결하는 비아홀(도시되지 않음)과 전도성 비아(도시되지 않음)를 더 포함할 수 있다. 상기 비아홀은 레이저에 의해 형성될 수 있으며, 상기 비아홀의 단면은 설계에 따라 원형 또는 사각형의 형상을 가질 수 있다. 또한, 상기 비아홀은 절연 플레이트에 대하여 소정 각도로 기울어져 형성될 수 있으며, 이와 달리 수직으로 형성될 수도 있다.That is, the heat dissipation circuit board 100 may include a via hole for electrically connecting the first circuit pattern 125 embedded between the plurality of insulating plates 110 and 130 to the second circuit pattern 190 of the upper or lower portion. And not shown) and conductive vias (not shown). The via hole may be formed by a laser, and the cross section of the via hole may have a circular or rectangular shape according to design. In addition, the via hole may be formed to be inclined at a predetermined angle with respect to the insulating plate. Alternatively, the via hole may be vertically formed.

상기 방열홀(140) 내에는 방열핀(160)이 매립되어 있다.The heat dissipation fins 160 are embedded in the heat dissipation holes 140.

상기 방열핀(160)은 열전도도가 높은 금속을 포함하며 형성될 수 있으며, 예를 들어 구리를 포함하는 합금으로써, 구리와 니켈의 합금으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 방열핀(160)은 도금으로 많이 사용되는 은 또는 알루미늄 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.The heat dissipation fin 160 may be formed to include a metal having high thermal conductivity, for example, an alloy including copper, and may be formed of an alloy of copper and nickel. In addition, the heat dissipation fins 160 may be formed of an alloy including silver or aluminum, which are commonly used for plating.

이때, 상기 방열핀(160)의 모서리는 만곡되어 형성될 수 있다. 즉, 상기 방열핀(160)의 모서리에 일정한 곡률을 가지는 곡면을 갖도록 형성함으로써, 추후 상기 방열홀(140)에 상기 방열핀(160)이 용이하게 삽입될 수 있도록 한다.At this time, the corner of the heat dissipation fin 160 may be formed to be curved. That is, it is formed to have a curved surface having a predetermined curvature at the corner of the heat radiation fins 160, so that the heat radiation fins 160 can be easily inserted into the heat radiation holes 140 later.

또한, 상기 기재된 방열핀(160)의 형상은 본 발명의 일 실시 예에 불과할 뿐, 다른 형상으로 상기 방열핀(160)이 형성될 수도 있을 것이다.In addition, the shape of the heat dissipation fin 160 described above is only one embodiment of the present invention, the heat dissipation fin 160 may be formed in another shape.

상기 방열홀(140)의 내벽에는 도금층(155)이 형성되어 있다.A plating layer 155 is formed on an inner wall of the heat dissipation hole 140.

상기 도금층(155)은 상기 방열핀(160)이 삽입되기 이전에 형성되며, 상기 방열홀(140)이 형성된 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)의 외주면을 따라 형성되는 금속층을 식각하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 금속층은 구리, 은, 알루미늄 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 금속을 도금하여 형성된다.The plating layer 155 is formed before the heat dissipation fin 160 is inserted, and the metal layer is formed along the outer circumferential surfaces of the first and second insulating plates 110 and 130 on which the heat dissipation holes 140 are formed. Can be formed. At this time, the metal layer is formed by plating a metal selected from the group consisting of copper, silver, aluminum and alloys thereof.

상기 도금층(155)은 플래시(Flash) 도금으로 전기적 신호에 대한 신뢰성을 보장하기 위해 형성되며, 10~15㎛를 충족하는 두께를 갖도록 형성하는 것이 바람직하다.The plating layer 155 is formed to ensure reliability of an electrical signal by flash plating, and is preferably formed to have a thickness satisfying 10 to 15 μm.

이때, 상기 도금층(155)과 상기 방열핀(160)은 동일한 금속을 포함하여 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 도금층(155)은 열전도도가 높은 금속을 포함하며 형성될 수 있으며, 예를 들어 구리를 포함하는 합금, 은을 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.In this case, the plating layer 155 and the heat dissipation fin 160 are preferably formed of the same metal. That is, the plating layer 155 may be formed to include a metal having high thermal conductivity. For example, the plating layer 155 may be formed of at least one of an alloy including copper, an alloy including silver, and an alloy including aluminum.

상기 방열홀(140)이 형성된 제 1 및 제 2 절연플레이트(110, 130)와 상기 삽입된 방열핀(160)의 사이에는 도금 부재(175)가 형성된다.A plating member 175 is formed between the first and second insulating plates 110 and 130 having the heat dissipation holes 140 and the inserted heat dissipation fins 160.

상기 도금 부재(175)는 상기 방열홀(140)이 형성된 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)에 선택적으로 형성된 도금층(1150)과 상기 삽입된 방열핀(160) 사이에 형성되는 이격홈을 매립한다.The plating member 175 is spaced apart between the plating layer 1150 formed on the first and second insulating plates 110 and 130 on which the heat dissipation holes 140 are formed and the inserted heat dissipation fin 160. Landfill.

다시 말해서, 상기 방열핀(160)의 모서리가 만곡되어 형성되기 때문에, 상기방열핀(160)의 형상에 의해 상기 도금층(155)의 일부는 외부로 노출되어 있다. 따라서, 상기 도금 부재(175)는 상기 노출된 도금층(155)을 매립하여, 상기 도금층(155)과 상기 삽입된 방열핀(160) 사이의 접합력을 높여준다.In other words, since the edges of the heat dissipation fins 160 are curved, the portion of the plating layer 155 is exposed to the outside by the shape of the heat dissipation fins 160. Accordingly, the plating member 175 fills up the exposed plating layer 155 to increase the bonding force between the plating layer 155 and the inserted heat dissipation fin 160.

또한, 상기 방열핀(160)은 상기 형성된 방열홀(140)보다 작은 폭을 가지도록 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the heat dissipation fin 160 is preferably formed to have a smaller width than the formed heat dissipation hole 140.

즉, 상기 방열홀(140)의 내벽에는 상기 도금층(155)이 형성되기 때문에 상기 방열핀(160)은 상기 방열홀(140)보다 작은 폭으로 형성되어, 상기 도금층(155)이 형성된 방열홀(140)에 용이하게 삽입될 수 있도록 한다.That is, since the plating layer 155 is formed on the inner wall of the heat dissipation hole 140, the heat dissipation fin 160 is formed to have a smaller width than the heat dissipation hole 140, and the heat dissipation hole 140 in which the plating layer 155 is formed. ) So that it can be easily inserted.

한편, 상기 방열핀(160)의 사이즈에 의해 방열회로기판(100)의 방열 신뢰성이 결정된다.Meanwhile, the heat dissipation reliability of the heat dissipation circuit board 100 is determined by the size of the heat dissipation fin 160.

즉, 상기 방열핀(160)의 기준치보다 사이즈가 클 경우에는 상기 방열홀(140) 내로 상기 방열핀(160)을 삽입할 수 없는 문제가 있다. 상기 기준치는 상기 도금층(155)이 형성된 방열홀(140)의 사이즈에 대응될 수 있다. 또한, 상기 방열핀(160)의 사이즈가 기준치보다 작을 경우에는 상기 방열핀(160)이 상기 방열홀(140)로부터 이탈될 가능성이 있다. 또한, 상기 방열핀(160)의 사이즈가 상기 기준치에 대응될 경우에는 상기 방열핀(160)이 상기 방열홀(140) 내에 완전하게 삽입될 수 있다. 그러나, 상기 방열핀(160)의 삽입은 완전한 접합이 아닌 단순한 끼움 방식으로 이루어지기 때문에, 추후 온도 및 습도의 변화나 전처리 과정에서의 물리 또는 화학적 충격에 의해 상기 방열핀(160)이 이탈될 수 있다.That is, when the size is larger than the reference value of the heat dissipation fins 160, there is a problem that the heat dissipation fins 160 cannot be inserted into the heat dissipation holes 140. The reference value may correspond to the size of the heat dissipation hole 140 in which the plating layer 155 is formed. In addition, when the size of the heat dissipation fin 160 is smaller than the reference value, the heat dissipation fin 160 may be separated from the heat dissipation hole 140. In addition, when the size of the heat dissipation fin 160 corresponds to the reference value, the heat dissipation fin 160 may be completely inserted into the heat dissipation hole 140. However, since the insertion of the heat dissipation fins 160 is made by a simple fitting method, not a perfect bonding, the heat dissipation fins 160 may be separated by physical or chemical impacts during the pretreatment or a change in temperature and humidity.

따라서, 본 발명에 따른 실시 예에서는 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)와 상기 방열핀(160) 사이에 도금 부재(175)를 형성시킴으로써, 상기 방열핀(160)의 접합성을 높임과 동시에 방열 신뢰성을 높일 수 있도록 한다.Therefore, in the embodiment according to the present invention, the plating member 175 is formed between the first and second insulating plates 110 and 130 and the heat dissipation fin 160 to increase the bonding property of the heat dissipation fin 160. To improve heat dissipation reliability.

또한, 상기 도금 부재(175)는 상기 방열핀(160)과 동일한 금속을 포함하여 형성된다. 즉, 상기 도금 주재(175)는 열전도도가 높은 금속을 포함하며 형성될 수 있으며, 예를 들어 구리를 포함하는 합금, 은을 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.In addition, the plating member 175 is formed to include the same metal as the heat radiation fin (160). That is, the plating main material 175 may be formed to include a metal having high thermal conductivity, and for example, may be formed of at least one of an alloy including copper, an alloy including silver, and an alloy including aluminum. .

이와 같이, 본 발명에 따른 방열회로기판(100)은 복수의 절연 플레이트에 형성된 방열홀(140)에 미리 제작된 방열핀(160)을 삽입하는 방식으로 방열 구조를 형성시킴으로써 열 방출률을 높일 수 있으며, 상기 복수의 절연플레이트와 상기 방열핀(160) 사이에 형성된 이격 홈을 매립하는 도금 부재(175)를 형성시킴으로써, 상기 삽입된 방열핀(160)의 접합성을 높일 수 있도록 한다.As described above, the heat dissipation circuit board 100 according to the present invention can increase the heat dissipation rate by forming a heat dissipation structure by inserting the heat dissipation fins 160 prepared in advance into the heat dissipation holes 140 formed in the plurality of insulating plates. By forming a plating member 175 to fill the spaced groove formed between the plurality of insulating plates and the heat dissipation fin 160, the bonding property of the inserted heat dissipation fin 160 may be improved.

이하에서는 도 3 내지 도 12를 참조하여 도 2의 방열회로기판을 제조하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the heat dissipation circuit board of FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 3 to 12.

도 3 내지 도 12는 도 2의 방열회로기판을 제조하기 위한 방법을 나타내는 단면도이다.3 to 12 are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the heat dissipation circuit board of FIG. 2.

먼저, 도 3과 같이 제 1 절연 플레이트(110) 위에 도전층(120)을 형성한다.First, as shown in FIG. 3, the conductive layer 120 is formed on the first insulating plate 110.

상기 제 1 절연 플레이트(110)와 상기 도전층(120)은 열 압착에 의하여 형성될 수 있는데, 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 경화제의 반응 온도에 따라 열 압착의 온도가 결정된다. The first insulating plate 110 and the conductive layer 120 may be formed by thermocompression, and the temperature of thermocompression is determined according to the reaction temperature of the curing agent of the first insulation plate 110.

또한, 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 하부에도 상기와 같은 도전층이 더 포함될 수 있으며, 상기 하부의 도전층과 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 접착도 열 압착에 의해 형성될 수 있다.In addition, the conductive layer as described above may be further included in the lower portion of the first insulating plate 110, and the adhesion between the lower conductive layer and the first insulating plate 110 may be formed by thermocompression bonding.

이러한 제 1 절연 플레이트(110)는 열전도율이 높은 고가의 세라믹 재질을 사용하지 않고, 에폭시계 수지 또는 폴리 이미드계 수지를 포함할 수 있으며, 도전층(120)은 전기전도도가 높고 저항이 낮은 구리를 포함하는 얇은 박막인 동박일 수 있다. The first insulation plate 110 may include an epoxy resin or a polyimide resin without using an expensive ceramic material having high thermal conductivity, and the conductive layer 120 may include copper having high electrical conductivity and low resistance. It may be copper foil which is a thin thin film to contain.

상기 제 1 절연 플레이트(110)의 상부 또는 하부에 형성되어 있는 도전층(120)이 구리를 포함하는 동박인 경우, 도 3의 적층 구조는 CCL(Cupper clad laminate)를 사용할 수 있다.When the conductive layer 120 formed on the upper or lower portion of the first insulating plate 110 is a copper foil containing copper, a stacking structure of FIG. 3 may use a cupper clad laminate (CCL).

다음으로, 도 4와 같이 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 상부 또는 하부에 형성되어 있는 도전층(120)을 소정의 패턴으로 식각하여 제 1 회로 패턴(125)을 형성한다.Next, as illustrated in FIG. 4, the conductive layer 120 formed on the upper or lower portion of the first insulating plate 110 is etched in a predetermined pattern to form the first circuit pattern 125.

이때, 상기 회로 패턴(125)은 포토리소그래피 공정을 통한 에칭을 수행하거나, 레이저로 직접 패턴을 형성하는 레이저 공정을 수행함으로써 형성될 수 있다.In this case, the circuit pattern 125 may be formed by etching through a photolithography process or by performing a laser process to form a pattern directly with a laser.

또한, 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 상부 및 하부에 각각 상기 제 1 회로 패턴(125)이 형성될 수 있으며, 이와 달리 상부에만 상기 제 1 회로 패턴(125)이 형성될 수 있다.In addition, the first circuit pattern 125 may be formed on the upper and lower portions of the first insulating plate 110, respectively. Alternatively, the first circuit pattern 125 may be formed only on the upper portion.

다음으로, 도 5와 같이 상기 제 1 회로 패턴(125)이 형성된 제 1 절연 플레이트(110) 위에 제 2 절연 플레이트(130)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 5, a second insulating plate 130 is formed on the first insulating plate 110 on which the first circuit pattern 125 is formed.

상기 제 2 절연 플레이트(130)는 상기 제 1 절연 플레이트와 동일한 열 전도도가 높은 재질로 형성될 수 있다.The second insulating plate 130 may be formed of a material having the same high thermal conductivity as that of the first insulating plate.

이때, 상기 제 2 절연 플레이트(130)는 반경화된 수지를 상기 제 1 회로 패턴(125)이 형성된 제 1 절연 플레이트(110의 위에 도포한 후 경화시킴으로써 형성할 수 있다.In this case, the second insulating plate 130 may be formed by applying a semi-cured resin on the first insulating plate 110 on which the first circuit pattern 125 is formed and then curing.

다음으로, 도 6과 같이 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 일면과 제 2 절연 플레이트(130)의 타면을 관통하는 방열홀(140)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 6, a heat dissipation hole 140 penetrating one surface of the first insulating plate 110 and the other surface of the second insulating plate 130 is formed.

보다 바람직하게, 상기 방열홀(140)은 상기 제 1 절연 플레이트(110)의 하면과 상기 제 2 절연 플레이트(130)의 상면을 관통하여 형성된다.More preferably, the heat dissipation hole 140 is formed through the lower surface of the first insulating plate 110 and the upper surface of the second insulating plate 130.

상기 방열홀(140)은 상기 제 1 회로 패턴(125)이 매립되어 있는 상기 제 1 절연 플레이트(110) 및 제 3 절연 플레이트(130)를 물리적 가공 방법에 의해 제거함으로써 형성될 수 있다.The heat dissipation hole 140 may be formed by removing the first insulating plate 110 and the third insulating plate 130 having the first circuit pattern 125 embedded therein by a physical processing method.

이때, 레이저를 사용하여 상기 방열홀(140)을 형성하는 경우, YAG 레이저 또는 CO2 레이저를 사용하여 상기 제 1 절연 플레이트(110)와 제 2 절연 플레이트(130)의 내벽을 각각 개방할 수 있다. 또한, 상기 방열홀(140)은 드릴 가공에 의해 형성될 수도 있다.In this case, when the heat dissipation hole 140 is formed using a laser, inner walls of the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130 may be opened using a YAG laser or a CO 2 laser. . In addition, the heat dissipation hole 140 may be formed by drilling.

다음으로, 도 7과 같이 상기 방열홀(140)이 형성된 제 1 절연 플레이트(110)와 제 2 절연 플레이트(130)의 외주면을 감싸는 제 1 도금층(150)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 7, the first plating layer 150 covering the outer circumferential surfaces of the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130 having the heat dissipation holes 140 are formed.

상기 제 1 도금층(150)은 10~15㎛의 두께를 충족하는 열전도도가 높은 금속으로 형성되며, 상기 금속으로는 구리를 포함하는 합금, 은을 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금 등이 포함될 수 있다.The first plating layer 150 is formed of a metal having high thermal conductivity satisfying a thickness of 10 to 15㎛, and the metal includes an alloy including copper, an alloy containing silver, an alloy containing aluminum, and the like. Can be.

또한, 상기 제 1 도금층(150)은 상기 제 1 절연 플레이트(110)와 제 2 절연 플레이트(130)에 상기와 같은 금속을 비전해 도금하여 형성할 수 있다. 이때, 상기 제 1 도금층(150)은 플래시(Flash) 도금으로 전기적 신호에 대한 신뢰성을 보장하기 위해 형성된다.In addition, the first plating layer 150 may be formed by electroless plating the above metal on the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130. In this case, the first plating layer 150 is formed to ensure reliability of an electrical signal by flash plating.

다음으로, 도 8과 같이 상기 형성된 방열홀(140)에 방열핀(160)을 매립한다.Next, the heat dissipation fins 160 are buried in the heat dissipation holes 140 formed as shown in FIG. 8.

상기 방열핀(160)은 상기 방열홀(140)의 면적보다 작은 면적을 가지는 열전도율이 높은 물질로 형성될 수 있다.The heat dissipation fin 160 may be formed of a material having a high thermal conductivity having an area smaller than that of the heat dissipation hole 140.

보다 바람직하게, 상기 방열핀(160)은 상기 제 1 도금층(150)과 동일 금속을 포함하며, 상기 금속에는 구리를 포함하는 합금, 은을 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금이 포함될 수 있다.More preferably, the heat dissipation fin 160 includes the same metal as the first plating layer 150, and the metal may include an alloy including copper, an alloy including silver, and an alloy including aluminum.

또한, 상기 방열홀(140)의 내벽에는 상기 제 1 도금층(150)이 형성되기 때문에, 상기 방열홀(140)의 면적보다 상기 방열핀(160)의 면적을 작게 한다.In addition, since the first plating layer 150 is formed on the inner wall of the heat dissipation hole 140, the area of the heat dissipation fin 160 is smaller than the area of the heat dissipation hole 140.

또한, 상기 방열핀(160)의 모서리는 만곡되어 형성됨으로써, 상기 방열홀(140) 내부로 상기 방열핀(160)이 용이하게 삽입될 수 있도록 한다.In addition, the corners of the heat dissipation fins 160 are formed to be curved, so that the heat dissipation fins 160 can be easily inserted into the heat dissipation holes 140.

이때, 상기 방열핀(160) 삽입은 상기 방열핀(160)을 상기 방열홀(140)에 절렬하고, 열과 압력을 가함으로써 수행될 수 있다.In this case, the heat radiation fin 160 may be inserted by cutting the heat radiation fin 160 into the heat radiation hole 140 and applying heat and pressure.

또한, 상기 방열핀(160)은 사전에 상기 방열홀(140)의 면적보다 작은 면적을 갖도록 제조될 수 있으며, 방열핀(160)의 제조는 금형에 의하거나 레이저 커팅 등의 방법으로 수행될 수 있으며, 에칭 등의 표면 처리된 물질일 수 있다. In addition, the heat dissipation fin 160 may be manufactured to have an area smaller than the area of the heat dissipation hole 140 in advance, and the manufacture of the heat dissipation fin 160 may be performed by a mold or a laser cutting method. It may be a surface treated material such as etching.

다음으로, 도 9와 같이 상기 제 1 도금층(150)이 형성된 제 1 절연 플레이트(110) 및 제 2 절연 플레이트(130)의 외주면과, 상기 방열홀(140)에 삽입된 외주면에 제 2 도금층(170)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 9, the second plating layer (not shown) is formed on the outer circumferential surfaces of the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130 on which the first plating layer 150 is formed, and the outer circumferential surface inserted into the heat dissipation hole 140. 170).

상기 제 2 도금층(170)은 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)와 상기 방열핀(160) 사이에 형성된 이격홈을 매립하여 형성되며, 상기 방열핀(160)과 동일한 금속을 포함할 수 있다.The second plating layer 170 may be formed by filling gaps formed between the first and second insulating plates 110 and 130 and the heat dissipation fin 160, and may include the same metal as the heat dissipation fin 160. have.

즉, 상기 제 2 도금층(170)은 구리를 포함하는 합금, 은을 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금 중 적어도 어느 하나의 금속으로 형성될 수 있다.That is, the second plating layer 170 may be formed of at least one metal of an alloy containing copper, an alloy containing silver, and an alloy containing aluminum.

다음으로, 상기 제 1 및 2 도금층(150, 170)이 형성된 제 1 절연 플레이트(110)의 아래 및 제 2 절연 플레이트(130)의 위에 마스크(180)를 적층한다.Next, a mask 180 is stacked below the first insulating plate 110 on which the first and second plating layers 150 and 170 are formed and on the second insulating plate 130.

상기 마스크(180)는 상기 제 2 도금층(170)의 일부를 개방하는 윈도우를 포함하여, 포토 레지스트 또는 드라이 필름으로 형성할 수 있다.The mask 180 may include a window for opening a portion of the second plating layer 170 and may be formed of a photoresist or a dry film.

이때, 상기 마스크(180)는 회로 패턴이 형성될 위치에 선택적으로 형성될 수 있다.In this case, the mask 180 may be selectively formed at a position where a circuit pattern is to be formed.

다음으로, 도 11과 같이 상기 마스크(180)로 인해 상기 윈도우로 노출되어 있는 제 1 금속층(150) 및 제 2 금속층(170)을 식각한다.Next, as shown in FIG. 11, the first metal layer 150 and the second metal layer 170 exposed by the window are etched by the mask 180.

즉, 상기 방열홀(140)의 내벽에 형성된 제 1 도금층과, 상기 제 1 및 제 2 절연 플레이트(110, 130)와 상기 방열 핀(160) 사이에 형성된 이격홈을 매립하는 제 2 도금층과, 제 2 회로 패턴(190)으로 사용될 제 1 도금층 및 제 2 도금층만을 남기고 그 이외의 제 1 도금층과 제 2 도금층을 식각하여 제거한다.That is, a first plating layer formed on an inner wall of the heat dissipation hole 140, a second plating layer filling a spaced groove formed between the first and second insulating plates 110 and 130 and the heat dissipation fin 160; The first plating layer and the second plating layer other than the first plating layer and the second plating layer to be used as the second circuit pattern 190 are etched and removed.

다시 말해서, 제 2 회로 패턴(190)으로 사용될 제 1 도금층(152)과 제 2 도금층(172)을 형성한다.In other words, the first plating layer 152 and the second plating layer 172 to be used as the second circuit pattern 190 are formed.

또한, 상기 방열홀(140)의 내벽에 전기적 신호의 신뢰성을 보장하기 위한 도금층(155)을 형성한다.In addition, the plating layer 155 is formed on the inner wall of the heat dissipation hole 140 to ensure the reliability of the electrical signal.

또한, 상기 제 1 절연 플레이트(110) 및 제 2 절연 플레이트(130)와 상기 방열핀(160) 사이에 형성된 이격홈을 매립하는 매립 부재(175)를 형성한다.In addition, a buried member 175 may be formed to fill a spaced groove formed between the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130 and the heat dissipation fin 160.

이때, 상기 매립 부재(175)는 상기 이격홈을 매립함으로써, 상기 방열핀(160)의 접합성에 대한 신뢰성을 높여준다.In this case, the buried member 175 fills the separation groove, thereby increasing the reliability of the bonding property of the heat dissipation fin 160.

다음으로, 도 12와 같이 상기 제 1 절연 플레이트(110)와 제 2 절연 플레이트(130)에 적층된 마스크(180)를 제거하여, 상기 형성된 제 2 회로 패턴(190)을 노출시킨다.Next, as shown in FIG. 12, the mask 180 stacked on the first insulating plate 110 and the second insulating plate 130 is removed to expose the formed second circuit pattern 190.

이와 같이, 본 발명에 따른 방열회로기판(100)은 복수의 절연 플레이트에 형성된 방열홀(140)에 미리 제작된 방열핀(160)을 삽입하는 방식으로 방열 구조를 형성시킴으로써 열 방출률을 높일 수 있으며, 상기 복수의 절연플레이트와 상기 방열핀(160) 사이에 형성된 이격 홈을 매립하는 도금 부재(175)를 형성시킴으로써, 상기 삽입된 방열핀(160)의 접합성을 높일 수 있도록 한다.As described above, the heat dissipation circuit board 100 according to the present invention can increase the heat dissipation rate by forming a heat dissipation structure by inserting the heat dissipation fins 160 prepared in advance into the heat dissipation holes 140 formed in the plurality of insulating plates. By forming a plating member 175 to fill the spaced groove formed between the plurality of insulating plates and the heat dissipation fin 160, the bonding property of the inserted heat dissipation fin 160 may be improved.

이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

100: 인쇄회로기판
110, 130: 절연 플레이트
125: 190: 회로 패턴
140: 방열홀
150, 170: 도금층
160: 방열핀
175: 도금 부재
100: printed circuit board
110, 130: insulation plate
125: 190: circuit pattern
140: heat dissipation hole
150, 170: plating layer
160: heat radiation fins
175: plating member

Claims (19)

복수의 절연층;
상기 복수의 절연층의 일면과 타면을 관통하여 형성된 방열홀; 그리고
상기 방열홀을 매립하는 방열 핀을 포함하는 방열회로기판.
A plurality of insulating layers;
Heat dissipation holes formed through one surface and the other surface of the plurality of insulating layers; And
A heat dissipation circuit board comprising a heat dissipation fin filling the heat dissipation hole.
제 1항에 있어서,
상기 형성된 방열홀의 내벽에 형성되는 제 1 도금층을 더 포함하는 방열회로기판.
The method of claim 1,
And a first plating layer formed on an inner wall of the formed heat dissipation hole.
제 1항에 있어서,
상기 도금층은 10~15㎛를 충족하는 두께를 갖도록 형성되는 방열회로기판.
The method of claim 1,
The plating layer is a heat radiation circuit board is formed to have a thickness that satisfies 10 ~ 15㎛.
제 1항에 있어서,
상기 방열핀의 모서리는 만곡되어 형성되는 방열회로기판
The method of claim 1,
Radiating circuit board is formed by the corners of the radiating fins are curved
제 1항에 있어서,
상기 절연층과 상기 방열핀 사이의 이격홈을 매립하는 도금 부재를 더 포함하는 방열회로기판.
The method of claim 1,
And a plating member filling a spaced groove between the insulating layer and the heat dissipation fin.
제 5항에 있어서,
상기 도금 부재는 상기 복수의 절연층과 상기 방열핀의 외주면에 증착된 제 2 도금층을 식각하여 형성되는 방열회로기판.
6. The method of claim 5,
The plating member is a heat radiation circuit board formed by etching the plurality of insulating layers and the second plating layer deposited on the outer peripheral surface of the heat radiation fins.
제 6항에 있어서,
상기 복수의 절연층의 위 또는 아래에 형성된 상기 제 2 도금층을 식각하여 형성된 회로패턴을 더 포함하는 방열회로기판.
The method according to claim 6,
And a circuit pattern formed by etching the second plating layer formed above or below the plurality of insulating layers.
제 5항에 있어서,
상기 방열 핀과 상기 도금 부재는 동일한 금속으로 형성되어 있는 방열회로기판.
6. The method of claim 5,
And the heat dissipation fin and the plating member are made of the same metal.
제 8항에 있어서,
상기 금속은 구리를 포함하는 합금, 은을 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금 중에서 선택되는 방열회로기판.
The method of claim 8,
The metal is a heat dissipation circuit board selected from an alloy containing copper, an alloy containing silver and an alloy containing aluminum.
제 1항에 있어서,
상기 방열 핀은 상기 형성된 방열 홀보다 작은 면적을 가지는 방열회로기판.
The method of claim 1,
The heat dissipation fin has a smaller area than the heat dissipation hole formed.
복수의 절연 플레이트를 부착하는 단계;
상기 부착된 복수의 절연 플레이트의 일면과 타면을 관통하는 방열 홀을 형성하는 단계; 그리고
상기 형성된 방열 홀에 방열 핀을 삽입하여 상기 방열 홀을 매립하는 단계를 포함하는 방열회로기판의 제조 방법.
Attaching a plurality of insulating plates;
Forming a heat dissipation hole penetrating one surface and the other surface of the plurality of insulating plates attached thereto; And
And embedding the heat dissipation fins into the heat dissipation holes to bury the heat dissipation holes.
제 11항에 있어서,
상기 방열홀이 형성된 복수의 절연 플레이트의 외주면을 감싸는 제 1 도금층을 형성하는 단계가 더 포함되는 방열회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
And forming a first plating layer surrounding outer circumferential surfaces of the plurality of insulating plates on which the heat dissipation holes are formed.
제 12항에 있어서,
상기 제 1 도금층은 10~15㎛를 충족하는 두께를 갖도록 형성하는 방열회로기판의 제조 방법.
13. The method of claim 12,
The first plating layer is a manufacturing method of the heat radiation circuit board to be formed to have a thickness that satisfies 10 ~ 15㎛.
제 11항에 있어서,
상기 방열핀은 모서리가 만곡되어 형성되는 방열회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The radiating fin is a manufacturing method of a radiating circuit board is formed by curved corners.
제 11항에 있어서,
상기 방열핀은 상기 형성된 방열홀보다 작은 면적을 가지는 방열회로기판의 제조 방법.
12. The method of claim 11,
The heat dissipation fin is a manufacturing method of a heat dissipation circuit board having a smaller area than the formed heat dissipation hole.
제 14항에 있어서,
상기 복수의 절연 플레이트와 상기 삽입된 방열 핀의 외주면을 감싸는 제 2도금층을 형성하는 단계가 더 포함되는 방열회로기판의 제조 방법.
The method of claim 14,
And forming a second plating layer surrounding an outer circumferential surface of the plurality of insulating plates and the inserted heat dissipation fins.
제 16항에 있어서,
상기 형성된 제 2 도금층을 식각하여 상기 복수의 절연 플레이트와 상기 방열 핀 사이에 형성된 이격홈을 매립하는 단계가 더 포함되는 방열회로기판의 제조 방법.
17. The method of claim 16,
Etching the formed second plating layer to bury a spaced groove formed between the plurality of insulating plates and the heat dissipation fins.
제 16항에 있어서,
상기 방열 핀과 상기 제 2 도금층은 동일한 금속을 포함하여 형성되며,
상기 금속은 구리를 포함하는 합금 및 알루미늄을 포함하는 합금에서 선택되는 방열회로기판의 제조 방법.
17. The method of claim 16,
The heat dissipation fin and the second plating layer are formed to include the same metal,
The metal is a method of manufacturing a heat dissipation circuit board is selected from an alloy containing copper and an alloy containing aluminum.
제 16항에 있어서,
상기 절연 플레이트의 적어도 일면에 형성된 제 2 도금층을 식각하여 회로 패턴을 형성하는 단계가 더 포함되는 방열회로기판의 제조 방법.
17. The method of claim 16,
And etching the second plating layer formed on at least one surface of the insulating plate to form a circuit pattern.
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