KR20120046327A - 혼합된-금속-원자가 화합물에 기초한 멤리스터 - Google Patents
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Abstract
혼합된-금속-원자가 화합물을 기초로 한 멤리스터(100, 100', 100")는, 제 1 전극(115); 제 2 전극(120); 완전히 산화된 상의 하나 이상의 층(110, 110a, 110b)과 물리적으로 접촉한 상태의 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)을 포함한다. 상기 혼합된-금속-원자가 상이, 적용된 전기장(125)에 대한 응답으로 상기 완전히 산화된 상의 내부로 및 외부로 표류하는, 완전히 산화된 상을 위한 도판트의 응축상이다. 제 1 및 제 2 전극들 중 하나는 혼합된-금속-원자가 상의 층 또는 완전히 산화된 상의 층(110a)과 전기적으로 접촉되고 있고, 다른 하나는 완전히 산화된 상의 층과 전기적으로 접촉되어 있다. 멤리스터는, 상기 혼합된-금속-원자가 상의 층 및 완전히 산화된 상의 층을, 어떠한 순서든지 하나의 상 위에 또다른 상을 형성함으로써 제조된다. 가역적 다이오드(100') 및 온-스위칭된 다이오드(100")도 제공된다. 멤리스터의 작동 방법도 추가로 제공된다.
Description
전자 장치의 개발의 연속적인 경향은 장치의 크기를 최소화하는 것이다. 상업적인 마이크로전자 공학의 현 세대는 서브-마이크론의 디자인 법칙에 기반하고 있지만, 상당한 연구 개발 노력이, 그 치수가 종종 나노미터 또는 수십 나노미터로 측정되는, 최신 나노-규모의 장치를 향하고 있다. 마이크로-규모의 장치에 비해 개별적인 장치 크기의 상당한 감소 및 보다 높은 팩킹 밀도 이외에도, 나노-규모 장치들은, 마이크로-규모에서는 관찰되지 않은 나노-규모 상의 물리적 현상으로 인하여 새로운 기능들을 제공할 수 있다.
예를 들어, 티타늄 옥사이드를 스위치 물질로서 사용하는 나노-규모 장치의 전자 스위칭이 보고되어 왔다. 이러한 장치의 저항성 스위칭 거동은, 근원적으로는 1971년 츄아(L.O.Chua)에 의해 예견된 멤리스터 회로 부재 이론와 연관된다. 나노-규모 스위치에서의 멤리스티브(memristive) 거동의 발견은 상당한 흥미를 발생시키고, 이러한 나노-규모 스위치를 추가로 개발하고 다양한 적용례에서 이들을 시행하기 위해서 실질적으로 지속적인 연구 노력이 있어 왔다. 다수의 중요한 잠재적인 적용례 중 하나는, 이러한 스위칭 장치를 디지털 데이터를 저장하는 메모리 유닛으로서 사용하는 것이다.
티타늄 옥사이드(및 다른 옥사이드)를 사용하는 것으로 최근에 보고된 장치는, 전형적으로 2개의 옥사이드 상(TiO2 및 산소-결핍 상인 TiO2-x)을 포함한다. 그러나, 계속되는 연구는, 티타늄 시스템 뿐만 아니라 다른 전이 금속 시스템에서 적합한 옥사이드를 밝히고 확인하는데 유용할 수 있다.
본원에서는, 본 발명을 수행하기 위해서 본 발명자들이 고려하는 최적의 모드를 설명하는 구체적인 실시양태에 대해 보다 상세하게 설명한다. 대안의 실시양태도 적용가능한 것으로 간략하게 기술되어 있다.
이전의 연구는, 하기 특성들을 갖는 스위치를 포함하는 멤리스터를 개시하고 있다(예를 들어, 본원에서 그 전체를 참고로 인용하는 알. 스탠리 윌리암(R. Stanley Williams)의 미국특허 공개공보 제 2008/0090337A1 호(2008년 4월 17일) 참조):
스위치의 제 1 활성층 또는 제 1 활성 영역은 전자적으로 반도체성이거나 명목상 전자적으로 절연성인 물질 및 또한 약하게 이온성인 전도체의 박막을 포함한다. 제 1 활성층 물질은 스위치 전반에 걸쳐 전자의 유동을 제어하기 위해서 도판트로서 작용하는 이온을 수송 및 호스팅할 수 있다. 기본 모드의 작동은, 이온 수송을 통해 제 1 물질 내부로 또는 외부로 이온성 종들의 수송을 야기하기에 충분히 크도록 스위치에 걸쳐서 전기장(제 1 물질내 이온의 움직임을 가능하게 하기 위한 일부 역치값을 초과할 수 있는 표류장)을 인가하는 것이다. 이온성 종들은 구체적으로 제 1 물질에 대해 전기적 도판트로서 작용하는 것 중에서 선택되어, 물질의 전기 전도도를 저 전도도(즉, 미도핑된 반도체 또는 절연체 - 스위치 오프(switch off) 배열)로부터 고 전도도(높은 전도도를 제공하도록 도핑됨 - 스위치 온(swith on) 배열)로, 또는 고 전기 전도도로부터 저 전도도(스위치-온으로부터 스위치-오프)로 변화시킨다. 추가로, 제 1 물질 및 도판트 종들은, 제 1 물질 내부로 또는 외부로의 이온의 표류가 가능하지만, 너무 용이하지는 않아서, 합리적으로 장기간, 아마도 상온에서의 수년 동안, 스위치가, 이것이 설정된 상태가 무엇이든지 그대로 유지되는 것을 보장하도록, 선택된다. 이는 스위치가 비휘발성임이 보장되어야 한다. 즉, 이것은 표류장이 제거된 이후에도 그의 상태를 유지해야 한다. 상기 스위치는 2단자 장치이다 - 스위치에 고 바이어스를 적용하면, 전자 전류 및 이온 전류 둘다가 유동하는 반면, 낮은 바이어스에서는, 이온 전류는 무시할 만하고, 이는 스위치를 그의 저항 상태로 고정시킨다.
제 2 활성층 또는 영역은 제 1 물질을 위한 도판트의 공급원 물질의 박막을 포함한다. 이러한 도판트는, 제 1 물질을 위한 전자 도너로서 작용하는, 불순물 원자, 예를 들어 수소 또는 일부 다른 양이온 종, 예를 들어 알칼리 또는 전이 금속일 수 있거나, 제 1 물질이 하전되어 그 결과 격자를 위한 도너인, 음이온 공공(vacancy)일 수 있다. 또한, 음이온성 종들을, 전자 억셉터(또는 정공 도너)가 될 제 1 호스트 물질로 수송하는 것도 가능하다.
제 1 활성 물질은 박막(일반적으로 두께가 50nm 미만)일 수 있고, 많은 경우에 나노결정성, 나노다공성 또는 무정형이다. 이러한 나노구조화 물질의 도판트 종의 이동도는, 그레인 경계선, 기공, 또는 무정성 물질내 국소적인 구조적 결합을 통해 확산이 유발될 수 있기 때문에, 벌크 결정성 물질보다 크다. 또한, 상기 필름이 너무 얇기 때문에, 그의 전도도를 실질적으로 변화시키기 위해서 필름의 국소 영역으로 또는 국소 영역 밖으로 충분한 도판트를 표류시키기에 요구되는 시간이 상대적으로 빠르다(예를 들어, 확산 과정을 위해 요구되는 시간 t는, 덮힌 거리의 제곱에 따라 변하여, 1나노미터를 확산시키는 시간은 1마이크로미터를 확산시키기 위해서 요구되는 시간의 백만분의 1이다).
상기 스위치 물질(제 1 활성 및 제 2 활성 물질)은, 금속 전극 또는 와이어와 어느 한쪽 측면에서 접촉하거나, 한쪽 측면에서는 반도체와 접촉하고 다른 측면에서는 금속과 접촉한다. 스위치 물질에 금속이 접촉하면, 자유 전하 캐리어인 반도체를 결핍시켜, 사실상 상기 물질은 도판트 성분에 따라 좌우되는 네트 전하(net charge)를 갖는다(즉, 도너인 경우에는 +를, 억셉터의 경우에는 -를 갖는다). 금속-반도체 접촉 영역은 전기적으로 쇼트키 장벽(shcottky barrier)과 유사하다. 금속-반도체 쇼트키 장벽에 대한 전통적인 설명은, 상기 물질들이 나노미터 규모로 구조화된다는 사실에 의해 변경되어 그 구조적 및 전기적 특성이 반도체-금속 접촉 이론이 발달되어 온 장거리에 걸쳐 평균화되지 않는다.
제 1 활성 물질을 통한 전자들의 전도는, 전자들의 양자 기계적 터널링을 통한 것이다. 반도체 물질이 본질적으로 고유한 경우, 터널링 장벽은 높고 넓어서, 스위치를 통한 전도도가 낮다(오프 상태). 상당 수의 도판트 종들이 반도체에 주입되면, 터널링 장벽의 폭 및 아마도 높이가, 하전된 종들의 포텐셜에 의해 감소된다. 이는, 스위치의 전도도를 증가시킨다(온 상태).
하전된 종들을 제 1 물질의 내부로 및 외부로 확산시키는 능력은, 스위치를 금속성 또는 반도체성 전극에 연결시키는 인터페이스들 중 하나가 비-공유 결합되는 경우, 실질적으로 개선된다. 이러한 인터페이스들은 물질내 공극에 의해 유발될 수 있거나, 이는 전극, 제 1 스위치 물질 또는 둘다와 공유 결합을 형성하지 않는 분자 물질을 함유하는 인터페이스의 결과일 수 있다. 이러한 비-공유 결합된 인터페이스는, 제 1 물질에서의 이온성 종들의 표류를 위해 요구되는 원자 재배열의 활성화 에너지를 낮춘다. 이 인터페이스는, 필수적으로 극도로 얇은 절연체이어서, 상기 스위치의 총 직렬 저항에는 거의 부가되지 않는다.
적합한 조합의 많은 예, 예를 들어 전이 금속 및 희토류 금속의 옥사이드, 설파이드, 셀레나이드, 니트라이드, 포스파이드, 아르세나이드, 클로라이드 및 브로마이드가 전술한 참고문헌에 기재되어 있고, 알칼리 토금속도 종종 화합물에 존재한다. 추가로, 서로 유사한 화합물들의 다양한 합금들이 존재하며, 이는 이들이 서로 가용성인 경우, 폭넓은 조성을 가질 수 있다. 그다음, 일부 전기음성 원소와 조합된 2종, 3종 이상의 상이한 금속 원자가 존재하는 혼합된 화합물도 존재한다. 도판트는 호스트에 도핑된 음이온 공공 또는 상이한 원자가 원소일 수 있다.
하기 물질을 구체적으로 열거한다:
Ti, Zr 및 Hf의 옥사이드;
쌍으로, 또는 동시에 존재하는 상기 3종의 옥사이드를 갖는, 3종의 옥사이드 합금(예를 들어, TixZryHfzO2, 여기서 x+y+z=1이다);
ABO3 화합물로서 표현될 수 있는 티타네이트, 지르코네이트 및 하프네이트(여기서, A는 적어도 1종의 2가 원소이고, B는 Ti, Zr, 및 Hf 중 하나 이상이고, 상기 화합물들은 페로브스카이트 구조를 가질 수 있다);
이러한 다양한 화합물들의 합금, 예를 들어 CaaSrbBacTixZryHfzO3(여기서, a+b+c=1이고 x+y+z=1이다);
일부 이온성 결합 특성을 갖는 전이 금속의 설파이드 및 세레나이드, 본질적으로, 전술한 옥사이드의 S 및 Se 유사체;
반도체성 니트라이드, 예를 드어 AIN, GaN, ScN, YN, LaN, 희토류 니트라이드, 및 이러한 화합물들과 보다 복잡한 혼합된 금속 니트라이드의 합금;
다양한 전이 및 희토류 금속, 예를 들어 Sc, Y, La 등의 포스파이드 및 아르세나이드;
반도체성 할라이드, 예를 들어 CuCl, CuBr, 및 AgCl.
개시된 도판트들은 수소, 알칼리, 알칼리 토금속 양이온, 전이 금속 양이온, 희토류 금속 양이온, 산소 음이온 또는 공공, 칼코게나이드 음이온 또는 공공, 질소 음이온 또는 공공, 닉타이드(pnictide) 음이온 또는 공공, 및 할라이드 음이온 또는 공공으로 구성된 군 중에서 선택된다.
본 발명의 실시양태는, 전자 전도성 접점(또는 전극)으로서, 혼합된-금속-원자가 화합물(그 예로는 소위 "마그넬리 상(Magneli phase))", 및 균일하고 높은 원자가를 갖는 제 2(아마도 관련) 금속 화합물에 기초한, 반도체성 또는 절연성 층(스위치 물질)을 위한 도판트 종들(예를 들어 산소 공공 또는 금속 간극(interstitial))의 공급원을 사용함을 기초로 하는, 신규한 부류의 멤리스터 또는 메모리 레지스터에 관한 것이다. 적절하게 외부적으로 적용된 전기장(도 1 참조) 하에서, 도판트(예를 들어, 산소 공공, 금속 간극 또는 일부 다른 종들)는 혼합된-금속-원자가 화합물로부터 분리되어 반도체성 또는 절연성 물질로 표류할 수 있고, 이로써 이것을 도핑하고 전자가 보다 용이하게 스위칭 층을 통해 전도되는 수단(예를 들어, 터널링, 공명 터널링(resonant tunneling), 호핑(hopping), 또는 임의의 다른 수송 과정)을 제공하여, 반도체성 또는 절연성 물질의 전기 저항을 낮춘다. 반대 극의 전기장을 적용하면, 도판트 종들은 혼합된-금속-원자가 화합물을 향해 되돌아 표류하여 상기 층에 쌓인다. 바로 기술한 쌍극자 스위칭 과정은 본질적으로 멤리스터의 조작에 대한 정의이다.
도 1은 본원에서 교시한 실시양태에 따른 구조를 갖는 멤리스터(100)를 도시한다. 멤리스터와 병렬인 정류기를 포함하고 그 조합이 레지스터와 직렬인 등가 회로를, 상기 구조 옆에 도시하였다. 멤리스터(100)는, 전자 차단 층, 반도체 또는 절연체일 수 있는, 완전히 산화된 상(110)의 층과 물리적으로 접촉하는, 혼합된-금속-원자가 전도성 물질(예를 들어, 마그넬리 상)(105)의 층을 포함한다. 제 1 전기전도성 층(115), 예를 들어 금속 와이어는, 혼합된-금속-원자가 층(105)에 대한 전기 접점을 만드는 반면, 제 2 전기 전도성 층(120), 예를 들어 금속 와이어는, 완전히 산화된 상 층(110)에 대한 전기 접점을 만든다. 마그넬리 상은, 혼합된-금속-원자가 상의 하부 세트임을 알 것이다. 따라서, 혼합된-금속-원자가 상은 필수적으로 마그넬리 상일 필요는 없다.
공급원(125)으로부터의 전압(V)이 제 2 전도성 층(120)에 적용되는 반면, 제 1 전도성 층은 그라운드(130)에 연결된다.
전압을 적용하면, 하전된 도판트(예를 들어, 산소 공공, 금속 간극 또는 일부 다른 종들)는 혼합된-금속-원자가 상 밖으로 당겨져서 전자 차단 층을 향하고, 이로써 이러한 층을 통한 전자의 전도를 보다 용이하게 만든다.
반대 전압이 적용되면, 도판트는 전자 차단 층으로부터 혼합된-금속-원자가 상으로 방출되어, 전자 전도도를 감소시킨다.
스위칭에 대한 이러한 기작은 명백하게 쌍극성이다(다시 말해서, 이것은, 상기 장치를 낮은 저항인 온 상태 및 높은 저항인 오프 상태로 스위칭하기 위해서는 반대 극성의 전압이 요구된다). 이러한 전압의 적용은, 낮은 농도의 도판트를 함유하는 완전히 또는 불균일하게 산화된 금속 화합물(전자 차단 층)과 접촉하는 마그넬리 또는 혼합된-금속-원자가 화합물(도판트의 공급원/싱크(sink)) 사이의 평형을 교란시킨다(단지 적은 개수의 도판트가 공급원/싱크와 전자 차단(반도체 또는 절연체) 층 사이에서 교환되어, 상기 스위칭은 매우 빠르고(나노초 이상으로 빠르고) 적은 에너지(피코줄 이하)를 소비한다). 이러한 기작은 몇가지 점에서 "상-변화 메모리"(Phase-Change Memory; PCM)와 상이하다. 먼저, PCM은 단극성 스위칭 모드이며, 따라서 이것은 멤리스터가 아니다. 두번째, PCM 스위치에서, 스위치 물질의 용량은 이것이 용융될 때까지 가열되어야만 하고, 그다음 각각 상기 물질이 고 저항성 무정형 또는 유리 상이 되도록 또는 저 저항성 결정성 상이 되도록 고화시키기 위하여 빠른 또는 느린 냉각 공정을 수행하여야 한다. 이러한 핵형성 과정은, 본질적으로 느리고, 2개의 상들 사이에서 도판트의 평형 분포를 교란시키는데 요구되는 것보다 많은 에너지를 요구한다.
공지된 혼합된-금속-원자가 화합물 중 하나인 마그넬리 상의 고전적인 예는, 화학식 TinO2n-1(여기서, n은 3 이상의 정수이고, 일반적으로 9 정도의 상한치를 갖는다)의 열역학적으로 안정한 티타늄 옥사이드 물질이다(도 2 참조).
도 2는, 혼합된-금속-원자가(마그넬리) 상을 포함하는, Ti-O 화합물의 다양한 상을 도시한, Ti-O 시스템의 전통적인 상태도이다. Ti-O 시스템은, 이것이 연구되고 특성화된 몇몇의 혼합된-금속-원자가 시스템을 갖는 것으로 도시하였다. 그러나, Ti-O의 경우는, 대부분이 이러한 마그넬리 유형 상을 갖지만 아직 완전히 특성화되고 확인되지 않은, 전이 금속 옥사이드 시스템의 많은 가능성들 중 단지 하나이다.
Ti-O 시스템에서 이러한 혼합된-금속-원자가 화합물을 고려하는 또다른 방식은, 하기 형식적인 방식에 따라 화학식을 기재하는 것이다: (n-2)×ΤiO2+Τi2O3 - 이 화학식은, 상기 화합물이 혼합된-금속-원자가 화합물임을 설명한다. 즉, 이 화합물내의 티타늄은 +4 및 +3의 형식 산화상태로 존재한다. +3의 원자가 상태를 갖는 티타늄은, 상기 화합물의 전도 상태에 "자유" 전자들을 부여할 수 있고, 따라서 구조의 세부사항에 따라, 상기 화합물이 완전히 산화된 TiO2에 비해 금속성 또는 적어도 비교적 높은 전도도를 갖는 것이 가능하다. 이러한 유형의 화합물은 일반적으로 상온에서 금속성이지만, 이들은 보다 낮은 온도에서 정렬 상전이를 경험할 것이고, 일반적으로 작은 밴드 갭을 갖는 반도체성이 될 것이다. 임의의 경우, 이들은 "모(parent)" 또는 단일 원자가 화합물인 TiO2(여기서, 티타늄은 +4의 균일한 형식 산화 상태를 갖는다)보다 전도성이 된다. TiO2내 모든 티타늄 원자가 전자들이 산소와의 화학 결합을 포함하기 때문에, 어떠한 "자유" 전도 전자도 없고, 따라서 TiO2는 넓은 밴드갭 반도체이다. 문헌["Thermodynamics of oxygen defective Magenli phases in rutile: A first principles study" by L. Liborio and N. Harrison, Phys. Rev B, vol. 77, pp. 104104-1 to 104104-10 (2008)]에는, 산소 결함, 티타늄 간극, 가스상 산소 분압, 다양한 마그넬리 상 및 호스트 화합물로서의 루틸 사이의 열역학적 평형이 존재함이 공지되어 있다. 낮은 산소 화학적 포텐셜에서, 산소 공공은 TiO2 루틸에서 정렬되어 마그넬리 상의 영역을 형성한다. 그러나, 전기장의 적용은 하전된 산소 공공 또는 티타늄 간극을 마그넬리 상 밖으로 밀 수 있고, 산소의 화학적 포텐셜에 따라 이들은 (거의) 화학량론적 TiO2까지 표류되도록 한다.
따라서, 멤리스터 구조의 한가지 부류는 마그넬리 상인 TinO2n-1(여기서, n은 3 내지 9의 범위이다)의 박막(1 내지 20나노미터의 두께)의 상부에 침착된 TiO2의 박막(1 내지 약 20nm)을 포함한다. 장치 제조는, 리쏘그래피, 침착 및 에칭 기법의 적합한 조합을 사용하여 상기 장치를 위한 바닥부 금속 접점 또는 와이어를 한정함으로써 시작된다. 바닥부 금속은, 이로서 한정하는 것은 아니지만, 백금, 팔라듐, 루테늄, 탄탈, 텅스텐, 니오븀, 이리듐, 구리 및 알루미늄을 비롯한 전자 회로에서 일반적으로 사용되는 것 중 임의의 것일 수 있고, 이들은 와이어의 금속과 멤리스터의 물질 사이의 화학 반응을 억제하는 일부 유형의 장벽 층, 예를 들어 텅스텐 또는 티타늄 니트라이드를 가질 수도 있다. 티타늄 옥사이드 필름은 목적하는 상을 제조하는 임의의 양식, 예를 들어 목적하는 상의 공급원 타겟으로부터 각각의 물질을 스퍼터링하는 것; 원자 층 침착의 기법을 사용하고, 화학적 조성을 정의하도록 각각 층으로 진행하는 산소의 양을 제어하는 것; 목적하는 화학량론의 층을 침착시키기 위해서 적절한 화합물의 타겟으로부터 레이저 삭마의 기법을 사용하는 것; 또는 혼합된-금속-원자가 상의 단일 층을 침착시키고 그다음 상기 필름의 상부 부분을 산화하여 TiO2 층을 형성함으로서 침착될 수 있다. 다르게는, TiO2의 단일층을 침착시키고 그다음 상기 필름의 상부 부분을 환원시켜 목적하는 혼합된-금속-원자가 상을 생성할 수 있다. 원하는 목적을 달성하기 위한 또다른 공정, 예를 들어 티타늄 또는 전이 금속 또는 금속 합금의 적합한 혼합된-금속-원자가 상으로의 산화(예를 들어, 티타늄 니트라이드 또는 티타늄 카바이드의 티타늄 혼합된-금속-원자가 상으로의 산화)를 사용할 수도 있다.
장치 작동은 이전에 기술한 바와 같다. 상부 또는 바닥부 전극으로의 적합한 전압의 적용은, 전기적으로 하전되고 활성인 종들이 혼합된-금속-원자가 상으로부터 떨어져서 TiO2 스위칭 층으로 표류하여, 이로써 그의 저항을 감소시킬 것이다. 전압의 극성을 바꿈으로서 활성 종들이 다시 혼합된-금속-원자가 상으로 표류하도록 하고, 이로써 TiO2 스위칭 층의 저항을 증가시키고, 멤리스터를 위해 요구되는 쌍극자 스위칭이 생성될 것이다.
따라서, 전술한 윌리암의 참고문헌에서와 같이 유사한 많은 화합물이 본원에 개시되어 있고 본원에서 주장되는 것으로 보이지만, 본원에서는, 완전히 산화된 화합물과 조합하는 경우, 멤리스티브 효과를 유발하는 구체적인 상들을 정확히 찾아내어 보여줄 것이다.
일례로서, 앞서 인용된 윌리암의 참고문헌에서는 시스템 TiO2/TiO2-x을 개시하고 있다. 그러나, 우수하게 작동하는 산소-결핍 화합물은, 본질적으로 호스트 옥사이드 내부의 도판트의 응축상이어서, 상기 상이 호스트 최대 산화 상 내부에서 고체상 개재물로서 평형을 이루고, 도판트 종들, 특히 산소(또는 음이온) 공공 또는 금속 원자 간극과 평형을 이룬, Ti-O 상 시스템에서의 이러한 상인 것으로 밝혀졌다. 이러한 응축된 상은 결정성이거나 비-정렬될 수 있거나, 멤리스터의 목적을 위해, 열역학적으로 안정하거나 준안정성일 수 있다. 전술한 바와 같이, 그 예는, 완전히 산화된 층(TiO2)과 조합된, 마그넬리 상, TinO2n-1(여기서, n은 3 내지 9의 범위이다)을 포함한다. 상기 마그넬리 상은 TiO2내 산소 공공의 정렬된 어레이로서 고려될 수 있고, 이러한 공공은, 마그넬리 상이 TiO2와 물리적으로 접촉하는 경우 마그넬리 상으로부터 증발하거나 여기에 응축될 수 있다. 그다음, 이러한 이층 구조물내 멤리스티브 스위칭은, 전도도를 증가시켜, 2개의 상들 사이의 경계를 효율적으로 움직이기 위해서, "결함", 예를 들어 음이온 공공 또는 금속 간극의 완전히 산화된 층으로의 전기적-유도 표류를 수반한다. 따라서, 이러한 스위칭은, 적용례를 위해 바람직한 체류 시간/스위칭 시간의 비를 증가시키는, Ti-O 상 시스템의 안정적인 상들 사이의 전이를 수반한다. 추가로, 초기 및 최종 상태가 잘 정의된 상이기 때문에, 스위칭은 확률 과정보다는 결정론적 과정을 통해 발생하여, 장치 내부의 사이클 마다 및 상이한 장치에서 재현성을 증가시킨다. 확률 과정보다는 결정론적 과정에 의존하는 스위칭은 또한 본질적으로 보다 빠르다.
완전히 산화된 상과 혼합된-금속-원자가 상의 다른 층 배열도 매우 유용할 수 있다. 예를 들어, 전극/완전히 산화된 상/혼합된-금속-원자가 상/완전히 산화된 상/전극 구조는, 혼합된-금속-원자가 상 내부의 도판트가 상부 또는 바닥부의 완전히 산화된 상으로 표류할 수 있어서, 결과적으로 반대되는 정류 방향으로 I-V 곡선을 정류하는 스위칭가능한 다이오드로 사용될 수 있다.
도 3a는 도 1과 유사하지만, 완전히 산화된 층(110)이 110a로 표시되고, 추가의 완전히 산화된 층(110b)이 제 1 전기 전도성 층(115)과 혼합된-금속-원자가 전도성 층(105) 사이에 개입되어 있는, 구조물(100')을 도시한다. 상기 장치는 가역 정류기(invertible rectifier) 또는 가역적 다이오드를 형성한다. 등가 회로는 상기 구조 옆에 도시하였으며, 상기 등가 회로는 멤리스터와 병렬인 하나의 극성을 갖는 정류기를 포함하고 그 조합이 멤리스터와 병렬인 반대 극성을 갖는 정류기를 포함하는 또다른 조합과 직렬이다.
도 3b는 이 구조물의 주요한 변형을 도시하며, 여기서 완전히 산화된 층들 중 하나는 다른 층에 비해 두껍다. 이러한 구조물(100")에서, 층(110a)은 층(110b)에 비해 두꺼운 것으로 도시되어 있지만, 반대 상황도 사용될 수 있다. 등가 회로는 상기 구조물 옆에 도시되어 있다.
도 3b의 경우, 도 3a에서 도시한 장치와 같이, 하나의 극성을 갖는 정류기로부터 반대 극성을 갖는 정류기로 스위칭하는 장치(100') 대신에, 이러한 비대칭 장치(100")는, 본질적으로 오프 상태인 전기적으로 개방된 회로인 배열("헤드-투-헤드(head-to-head)" 직렬 연결의 2개의 정류기)와 온 상태의 정류기 사이를 스위칭할 것이다. 온-스위칭 다이오드를 형성하는 이러한 배열은, 메모리 회로에 있어서 가장 중요한 특성이다. 정류기의 극성은 완전히 산화된 물질의 얇고 두꺼운 층들의 배향에 의존한다.
여기에서, TiO2 및 그와 관련된 혼합된-금속-원자가 화합물에 기초한, 원형(prototype) 멤리스터가 기술되어 있지만, 동일한 기작에 의해 쌍극자 스위칭을 제공할 몇몇의 다른 화합물 쌍도 하기에서 기술된다. 그의 예로는 혼합된-금속-원자가 층 위의 완전히 산화된 층(예를 들어, Ti4O7 위의 TiO2)을 제공하지만, 그 반대, 즉 완전히 산화된 층 위의 혼합된-금속-원자가 층(예를 들어, TiO2 위의 Ti4O7)도 적용가능한 것임을 알 것이다.
다른 전이 금속 시스템을 고려하면, 지르코늄 및 하프늄에 대해 보고된 어떠한 열역학적으로 안정한 마그넬리 또는 다른 혼합된-금속-원자가 옥사이드도 없지만, 준안정성 상들은 항상 형성될 수 있기 때문에, 완전히 산화된 필름과 접촉된 산소 결핍 필름을 형성하는 전체적인 전략은 여전히 유효하다. 이러한 경우, 혼합된-금속-원자가 상은 준안정성이고, 따라서 상기 장치로부터 대기의 산소를 배제하기 위해 적합한 부동태화 및 회로 포장에 의해 원치않은 산화로부터 보호할 필요가 있다. 또한, 목적하는 특성들을 수득하기 위해서 층들의 전자성 및 이온성 특성들을 조율하기 위해서 (주기율표의) IVB족 금속의 합금을 사용함으로써 유발되는 구조 및 조성물도 존재한다. 상기 구조 및 예시적인 화합물은 하기와 같다:
Tin02n -1 위의 TiO2(여기서, n은 3 내지 9의 범위이고, 예를 들어, Ti4O7 위의 TiO2이다);
Zr02-x 위의 ZrO2(여기서, x는 0.01 내지 0.5, 보다 구체적으로 0.1 내지 0.3의 범위이다), 예를 들어, Zr2O3 위의 ZrO2;
HfO2-x 위의 HfO2(여기서, x는 0.01 내지 0.5, 보다 구체적으로 0.1 내지 0.3의 범위이다), 예를 들어, Hf2O3 위의 HfO2; 및
(TidZreHff)nO2n-1 위의 TiaZrbHfcO2(여기서, a+b+c=1이고, d+e+f=1이고, n은 3 내지 12이다).
티타늄의 옥사이드와 마찬가지로, 바나듐 원소의 옥사이드는 유형 VnO2n-1의 마그넬리 상을 나타낸다 - VnO2n -1 위의 유형 VO2의 구조에 의해 멤리스터 구조가 수득되지만, 이러한 경우, 65℃ 초과의 온도에서 VO2는 절연체로부터 금속으로의 전이를 경험하는 반면, 마그넬리 상은 상당히 낮은 온도에서도 절연체로부터 금속으로의 전이를 나타낸다. 따라서, 바나듐 시스템은, 장치에서의 줄 가열에 의해 야기되는 온도-의존성 상 전이가 상기 장치에 대해 추가의 복잡성 및 잠재적인 유용성을 부여하는 복잡한 멤리스티브 장치의 아주 흥미로운 축조 가능성을 제공한다. 이것은 하나 초과의 "상태 변수"가 존재하는 시스템이며 - 이러한 경우, 상기 장치의 온도는 저항에 큰 영향을 미치며, 전자 차단 층의 화학적 조성 이외에 또다른 상태 변수를 나타낸다. 원칙상, VO2의 바나듐은 +4의 형식 원자가를 갖지만, 상기 화합물에서 바나듐 원자 당 하나의 "비결합된" 전자를 남김에 주목해야 한다. 그러나, 65℃ 미만의 온도에서, 이러한 전자들은 스핀-페어(spin-pair) 경향이 있고, 따라서 VO2 반도체성을 만드는 밴드 갭을 유도한다. 바나듐 +5 원자가 화합물인 V2O5는 공지되어 있으나, 장치 구조물내에서는 안정화될 필요가 있는, 상당히 화학적으로 반응성인 물질(산화제)이다. 그러나, 상응하는 (주기율표의) VB족 +5 원자가 화합물인 Nb2O5 및 Ta2O5는 매우 비반응성이다. 사실상, 후자의 화합물은 극히 안정한 커패시터를 제조하는데 사용된다. Nb 및 Ta 둘다도 +5 이외의 열역학적으로 안정한 산화 상태를 나타낸다. 따라서, 다이오드도 절연체로부터 금속으로의 전이를 나타내는 것으로 공지되어 있지만, NbO2 또는 혼합된 원자가 화합물 위의 Nb2O5 유형, 및 TaO2 또는 혼합된 원자가 화합물 위의 Ta2O5의 멤리스터는, 매우 매력적이다. 따라서, 주기율표의 VB족으로는, 특히 화합물을 안정화시키거나 도판트 표류를 개선시키기 위해서 상이한 금속과의 합금을 고려하면, 매우 다양한 멤리스터 화합물 및 구조가 수득된다:
VnO2n-1 위의 VO2(여기서, n은 3 내지 9이다), 예를 들어, V4O7 위의 VO2;
(VdNbeTaf)nO2n-1 위의 VaNbbTacO2(여기서, a+b+c=1이고, d+e+f=1이고, n은 3 내지 12의 범위이다);
Nb가 +5, +4, 또는 +3 원자가 상태인 혼합된 원자가 화합물 또는 NbO2 위의 Nb2O5, 예를 들어 NbO2 +x 위의 Nb2O5(여기서 x는 -0.5 내지 0.5의 범위이다), 예를 들어, Nb2O3 위의 N2O5;
예를 들어, Ta가 +5, +4, 또는 +3 원자가 상태인 혼합된 원자가 화합물 또는 TaO2 위의 Ta2O5, 예를 들어, TaO2 +x 위의 Ta2O5(여기서, x는 -0.5 내지 +0.5이다), 예를 들어, Ta2O3 위의 Ta2O5.
VIB 족 금속의 경우, 또다른 유형의 마그넬리 상은, MO 및 W의 옥사이드로 표현되고, 여기서 Mo 마그넬리 상의 화학식은 MonO3n -1, 또는 (n-1)×ΜoO3+MoO2이며, 이 경우 Mo 산화 상태는 각각 +6 및 +4이다. 따라서, 이는 하기 유형의 몰리브덴 및 텅스텐 옥사이드에 기초한 구조를 정의한다: MonO3n -1 위의 MoO3 및 Wn03n -1 위의 WO3. 이 경우, 유사한 화합물인 CrO3도 크롬산으로서 공지된 강한 산화제이며, 그의 순수한 형태로 멤리스터 구조에 적합하지 않다. 그러나, 합금 구조물의 일부로서, 이는 구조물에 개선된 도판트 이동도를 제공할 수 있다. 따라서, 하기 멤리스터 구조물을 포함한다:
MonO3n-1 위의 MoO3(여기서, n은 4 내지 12이다), 예를 들어, MO4O11 위의 MoO3;
WnO3n-1 위의 WO3(여기서, n은 4 내지 12이다), 예를 들어, W4O11 위의 WO3; 및
(CrdMOeWf)nO3n-1 위의 CraMObWcO3(여기서, a+b+c=1이고, d+e+f=1이고, n은 3 내지 15이다).
마지막으로, 혼합된-금속-원자가 화합물의 또 다른 세트의 합금 부류는, 전자 차단 및 스위칭 특성을 추가로 최적화하기 위해서, 주기율표의 IVB, VB 및 VIB족으로부터의 화합물을 조합함으로써 정의될 수 있다. 그 예는, 도판트 표류를 개선시키는, 상(TinO2n -1)y(MomO3m-1)z(여기서, y+z=1이고, n은 3 내지 9이고, m은 4 내지 12이다) 위의 전자 차단 특성을 개선시키는, 유형 (HfO2)u(Ta2O5)v(여기서, u+v=1이다)의 최대 원자가 3원 합금(2종의 금속 + 산소)이다. 하나는, 전술한 시스템의 모든 가능한 조합을 고갈시킴으로써, 이는 매우 넓은 부류의 장치가 되는 것을 발견할 수 있다. 특히, 몇몇의 특성들, 예를 들어 화학적 안정성, 스위칭 내구성, 저항 오프/온의 비, 스위칭 속도 및 에너지, 상 수명, 반 주기 선택(half-select)에 대한 저항성 등을 동시에 최적화하는 것을 기대한다. 또한, 주기율표로부터의 다른 원소들은 이러한 옥사이드의 특성들을 안정화시키거나 다르게는 개질시키기 위해서 다양한 양으로 사용되고, 이러한 첨가는 또한 본원에서 한정된 구조물에 대해 수행될 수 있음에 주목해야 한다. 이러한 원소들은 종종 주기율표의 IIA족, IIIB족 및 VIIB족으로부터 선택되지만, 란탄족 원소들을 비롯한 다른 족들로부터 선택될 수도 있다.
또한 사용될 수 있는 다른 혼합된-금속-원자가 시스템이 존재한다. 예를 들어, Fe3O4 위의 Fe2O3, Ni3O4 위의 Ni2O3, 및 Co3O4 위의 Co2O3는 전기적 스위칭과 자성의 특성을 조합하고, 물론, 이러한 "VIII 족" 금속의 다양한 합금은 서로 조합될 수 있다.
추가로, 산소를 함유하는 혼합된-금속-원자가 화합물 이외에, 음이온성 또는 산화 종으로서, 단독으로서 N, P, S, Cl, 및 Br 원소를 함유하거나, 상기 원소들을 서로 조합된 상태를 함유하거나, O와 함께 상기 원소들을 함유하는 혼합된-금속-원자가 화합물도 존재한다. 유사한 멤리스터 구조물은, 이러한 원소들의 적절한 최대 원자가 및 이들 원소들의 혼합된-금속-원자가 금속 화합물로 구성될 수 있다.
마지막으로, 상이한 시스템들의 특성들을 조합하기 위해서 사용될 수 있는 슈도(pseudo) 2원 합금, 예를 들어 HfWO4 위의 HfWO5도 존재한다.
원칙상, 침착의 최종 단계 동안 산소를 도입하거나 또는 서브옥사이드 필름의 상부층의 집중적인 산화에 의해, 필름의 상부에서 최대 산화 상태를 달성하는 것도 가능하다.
혼합된-금속-원자가 또는 마그넬리 상을 제조하기 위해서, 먼저 올바른 조성(금속/O 비)을 선택할 필요가 있고, 결정성 상이 요구되는 경우, 어닐링이 포함될 수 있다. 제조 동안 올바른 조성을 선택하기 위한 몇가지 방법이 있다. 예를 들어, 목적하는 혼합된-금속-원자가 상 조성을 갖는 타겟으로부터 펄스화된 레이저 침착(PLD) 또는 스퍼터링 침착에 의해 층을 침착시킬 수 있으며, 여기서 챔버내의 작은 분압의 산소는 필름 침착 동안 임의의 산소 손실을 보상하기 위해서 필름의 화학량론을 조정하는 것을 보조할 수 있다.
일부 다른 경우에, 혼합된-금속-원자가 상 조성을 달성하기 위해서, 잘-정의된 산소 열역학적 포텐셜 하에서 조성 밖 (off-composition) 옥사이드 필름을 어닐링하여, 조성 밖 옥사이드 필름을 산화 또는 환원시키는 것이 바람직할 수 있다. 산소 열역학적 포텐셜은, 목적하는 혼합된-금속-원자가 상 형성의 자유 에너지를 선택하도록 조정될 수 있다. 실무 상, 요구되는 산소 포텐셜을 달성하기 위해서, 특정 분압의 비를 갖는 CO2/CO(또는 일부 경우, H2O/H2)의 가스 혼합물이 사용될 수 있다. CO2/CO의 비를 변화시킴으로써, 상이한 산소 포텐셜이 달성될 수 있다. 이 방법은, 원자 층 침착(ALD) 공정으로 통합될 수 있다.
필름이 결정성인 경우, X-선 회절을 수행하는 것( 및 상기 필름을 어닐링하여 상기 필름을 결정화시킬 수 있음)을 비롯한, 적합한 상을 확인하는 몇가지 방법이 있다. 다르게는, X-선 광전자 방출이 수행될 수 있고, 적합한 화학적 쉬프트된 광전자 방출 피크의 세기가 모니터링될 수 있다. 예를 들어, Ti+4 및 Ti+3이 용이하게 분석될 수 있다. 또다른 기법에서, X-선 흡수 측정법이 수행될 수 있고, 화학적 쉬프트된 흡수 피크의 세기가 모니터링될 수 있다. 여전히 추가로, 러더포드 후방산란(Rutherford backscattering)이 수행될 수 있고, 필름내 산소/금속의 비가 측정될 수 있다. 마지막으로, 필름의 전기 전도성이 측정될 수 있거나, 다르게는 전기 전도성의 온도 의존성이 측정될 수 있고, 보정 표준과 비교될 수 있다. 많은 이러한 화합물은 우수한 식별자인 구체적인 온도에서 전기적 상 전이를 갖는다. 실제로, 몇몇의 이러한 기법들을 수행하면 비교 결과는 일치할 것이다.
본원에서 개시한 멤리스터 장치는 다양한 시스템, 예를 들어 전술한 윌리암 참고문헌에서 개시된 바와 같은 크로스바 메모리, 뿐만 아니라 시냅스를 포함한 다수의 다른 적용례에서 그 용도를 발견할 수 있다. 추가로, 이러한 장치들은 알. 스텐리 윌리암의 "Multi-terminal Electrically Actuated Switch"를 제목으로 하고 2008년 4월 3일자 미국특허 공개공보 제 2008/0079029A1 호에서 개시된 바와 같은 다중 단자 스위치에서의 용도를 발견할 수도 있다.
도 1은, 본 발명의 실시양태에 따른 멤리스터 장치를, 그의 등가 회로(equivalent circuit)와 함께 도시한 개략도이다.
도 2는, 본 발명을 수행하는데 사용되는, 본 시스템내의 혼합된-금속-원자가 상을, 그의 완전히 산화된 상과 함께 도시한 Ti-O 시스템의 상태도이다.
도 3a는, 본 발명의 실시양태에 따른 또다른 멤리스터 장치를, 그의 등가 회로와 함께 도시한 개략도이다.
도 3b는 본 발명의 실시양태에 따른 또다른 멤리스터 장치를, 그의 등가 회로와 함께 도시한 개략도이다.
도 2는, 본 발명을 수행하는데 사용되는, 본 시스템내의 혼합된-금속-원자가 상을, 그의 완전히 산화된 상과 함께 도시한 Ti-O 시스템의 상태도이다.
도 3a는, 본 발명의 실시양태에 따른 또다른 멤리스터 장치를, 그의 등가 회로와 함께 도시한 개략도이다.
도 3b는 본 발명의 실시양태에 따른 또다른 멤리스터 장치를, 그의 등가 회로와 함께 도시한 개략도이다.
Claims (15)
- 제 1 전극(115);
제 2 전극(120);
완전히 산화된 상의 하나 이상의 층(110, 110a, 110b)과 물리적으로 접촉한 상태의 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)
을 포함하는, 혼합된-금속-원자가 화합물을 기초로 한 멤리스터(100, 100', 100")로서,
상기 혼합된-금속-원자가 상이, 본질적으로, 적용된 전기장에 대한 응답으로 완전히 산화된 상의 내부로 및 외부로 표류하는, 완전히 산화된 상을 위한 도판트의 응축상이고,
상기 제 1 및 제 2 전극들 중 하나는 상기 혼합된-금속-원자가 상의 층과 전기적으로 접촉되고 있고, 상기 제 1 및 제 2 전극들 중 다른 하나는 상기 완전히 산화된 상의 층과 전기적으로 접촉되어 있는, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항에 있어서,
상기 혼합된-금속-원자가 상(105)이 마그넬리 상(Magneli phase)인, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 혼합된-금속-원자가 상이, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo, W, Cr, Fe, Ni, Co 및 이들의 조합으로 구성된 군 중에서 선택된 금속을 결정성 또는 비-정렬된(disordered) 상으로 포함하는, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 혼합된-금속-원자가 상이, O, N, P, S, Cl, Br 및 이들의 조합으로 구성된 군 중에서 선택된 음이온을 산화(oxidizing) 종으로서 포함하는, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도판트가 완전히 산화된 층(110, 100a, 110b) 내의 음이온 공공(vacancy) 또는 금속 간극(interstitial)인, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 완전히 산화된 상(110, 110a, 110b)이, 전자 차단 층, 반도체 및 절연체로 구성된 군 중에서 선택되는, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)이 상기 완전히 산화된 상의 2개의 층들(110a, 110b) 사이에 삽입되어 있고, 여기서 상기 2개의 층들이 동일한 두께이고, 상기 제 1 및 제 2 전극(115, 120)이 상기 완전히 산화된 상의 층과 각각 전기적으로 접촉되어 있는, 멤리스터(100'). - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)이 상기 완전히 산화된 상의 2개의 층들(110a, 110b) 사이에 삽입되어 있고, 여기서 상기 2개의 층들이 상이한 두께이고, 상기 제 1 및 제 2 전극(115, 120)이 상기 완전히 산화된 상의 층과 각각 전기적으로 접촉되어 있는, 멤리스터(100'). - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
Tin02n -1 위의 TiO2(여기서, n은 3 내지 9의 범위임);
Zr02 -x 위의 ZrO2(여기서, x는 0.01 내지 0.5임);
HfO2 -x 위의 HfO2(여기서, x는 0.01 내지 0.5임);
(TidZreHff)nO2n -1 위의 TiaZrbHfcO2(여기서, a+b+c=1이고, d+e+f=1이고, n은 3 내지 15임);
VnO2n -1 위의 VO2(여기서, n은 3 내지 9임);
(VdNbeTaf)nO2n -1 위의 VaNbbTacO2(여기서, a+b+c=1이고, d+e+f=1이고, n은 3 내지 12의 범위임);
NbO2 위의 Nb2O5;
NbO2 +x(여기서, x는 -0.5 내지 +0.5의 범위임) 위의 Nb2O5를 비롯한, Nb +5 및 +4 원자가 상태를 갖는 혼합된 원자가 화합물 위의 Nb2O5;
TaO2 위의 Ta2O5;
TaO2 +x(여기서, x는 -0.5 내지 +0.5임) 위의 Ta2O5를 비롯한, Ta +5 및 +4 원자가 상태를 갖는 혼합된 원자가 화합물 위의 Ta2O5;
MonO3n -1 위의 MoO3(여기서, n은 4 내지 12임);
WnO3n -1 위의 WO3(여기서, n은 4 내지 12임);
(CrdMOeWf)nO3n -1 위의 CraMObWcO3(여기서, a+b+c=1이고, d+e+f=1이고, n은 4 내지 15임);
Fe3O4 위의 Fe2O3;
Ni3O4 위의 Ni2O3; 및
Co3O4 위의 Co2O3
의 조합들 중 하나를 포함하는, 멤리스터(100, 100', 100"). - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 멤리스터(100, 100', 100")의 제조 방법으로서,
상기 혼합된-금속-원자가 상의 층(105) 및 상기 완전히 산화된 상의 층(110, 110a, 110b)을 임의의 순서로 형성하는 것을 포함하는, 방법. - 제 10 항에 있어서,
제 1 및 제 2 전극(115, 120)을 부착하되, 하나는 상기 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)에 부착하고 다른 하나는 완전히 산화된 상의 층(110)에 부착하거나, 완전히 산화된 상의 층들(110a, 110b)에 각각 하나를 부착하는 것을 포함하는, 방법. - 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
상기 장치내 저항 변화의 기작이, 상기 완전히 산화된 층(110, 110a, 110b)의 폭으로 한정되는 전자 터널링 장벽의 폭을 변화시키는 것에 의한 것인, 방법. - 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 따른 멤리스터(100, 100', 100")의 작동 방법으로서,
상기 제 1 전극(115)을 그라운드(130)에 연결한 채로, 공급원(125)으로부터 상기 제 2 전극(120)에 전압을 적용하는 것을 포함하고,
전압의 적용시, 하전된 도판트가 상기 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)으로부터 상기 완전히 산화된 상(100, 110a, 110b)으로 이동하여, 상기 완전히 산화된 상을 통한 전자의 전도를 보다 용이하게 만들고,
반대 전압의 적용시, 도판트가 상기 완전히 산화된 상으로부터 상기 혼합된-금속-원자가 상의 층으로 방출되어, 전자 전도를 감소시킴을 포함하는, 방법. - 제 1 전극(115);
제 2 전극(120);
각각 완전히 산화된 상인 2개의 층들(110, 110a, 110b)과 물리적으로 접촉하고 상기 2개의 층들 사이에 삽입된, 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)
을 포함하는 가역적 다이오드(100')로서,
상기 혼합된-금속-원자가 상이, 본질적으로, 적용된 전기장에 대한 응답으로 완전히 산화된 상의 내부로 및 외부로 표류되는, 완전히 산화된 상을 위한 도판트의 응축상이고,
상기 완전히 산화된 상들이 실질적으로 동일한 두께를 갖고, 상기 제 1 및 제 2 전극 각각이 완전히 산화된 상의 층과 전기적으로 접촉되어 있는, 가역적 다이오드(100'). - 제 1 전극(115);
제 2 전극(120);
각각 완전히 산화된 상인 2개의 층들(110a, 110b)과 물리적으로 접촉하고 상기 2개의 층들 사이에 삽입된, 혼합된-금속-원자가 상의 층(105)
을 포함하는 온(ON)-스위칭된 다이오드(100")로서,
상기 혼합된-금속-원자가 상이, 본질적으로, 적용된 전기장에 대한 응답으로 완전히 산화된 상의 내부로 및 외부로 표류되는, 완전히 산화된 상을 위한 도판트의 응축상이고,
상기 완전히 산화된 상들이 상이한 두께를 갖고, 제 1 및 제 2 전극 각각이 완전히 산화된 상의 층과 전기적으로 접촉되어 있는, 온-스위칭된 다이오드(100").
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