KR20120026778A - 선박용 프로펠러 가공장치 - Google Patents

선박용 프로펠러 가공장치 Download PDF

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KR20120026778A
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Abstract

본 발명 선박용 프로펠러 가공 장치는 프로펠러를 장착하여 원주방향으로 회전시키는 로터리 테이블; 로터리 테이블의 회전 각도를 제어하는 로터리 테이블 인덱스 유닛; 로터리 테이블을 원주 방향으로 구동시키는 구동 장치를 내장한 메인 기어 박스; 프로펠러 및 로터리 테이블을 부드럽게 회전시키며 로터리 테이블 및 프로펠러를 동시에 지지하고 있는 라이닝 플레이트를 갖는 베이스; 베이스의 상측에 설치되는 크로스레일; 베이스의 양측에 배치되어 크로스레일을 지지하는 컬럼; 프로펠러의 블레이드 가공을 위한 블레이드 밀링 램 헤드; 프로펠러의 보스 가공을 위한 보스 보링 램 헤드; 각 기능부에 연결되는 유압 시스템;을 포함하되, 크로스레일 상에 블레이드 밀링 램 헤드 및 보스 보링 램 헤드가 동시에 장착되고, 블레이드 밀링 램 헤드 및 보스 보링 램 헤드의 원활한 수평 및 수직 이동을 위해 크로스레일 및 헤드들 상에 복수의 수평 방향 피드 유닛 및 수직 방향 피드 유닛이 장착되며, 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드의 무게 하중에 의한 크로스레일의 처짐을 방지하기 위하여 크로스레일 상부에 크로스레일 처짐 보상 장치를 더욱 구성하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 크로스레일 상에 복수의 램 헤드, 즉 프로펠러의 블레이드 가공을 위한 블레이드 밀링 램 헤드 및 프로펠러의 보스 가공을 위한 보스 보링 램 헤드가 동시에 설치되어 있으므로 하나의 장치에서 전자 제어를 통해 프로펠러의 가공 과정을 모두 수행 가능하여 가공 공정을 줄일 수 있고, 이에 따라 작업 시간이 단축되고, 작업의 효율성이 향상되어 선박용 프로펠러의 생산성이 증대될 수 있는 이점이 있다.

Description

선박용 프로펠러 가공장치{MARINE PROPELLER PROCESSING DEVICE}
본 발명은 선박용 프로펠러 가공장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 선박용 프로펠러의 블레이드 및 보스의 동시 가공이 가능한 선박용 프로펠러 가공장치에 관한 것이다.
일반적으로 선박용 프로펠러는 크게 블레이드와, 프로펠러의 중심부에 위치한 보스로 구성되어 있다.
이러한 선박용 프로펠러를 가공하기 위한 장치는, 프로펠러의 보스를 전용으로 가공하기 위한 선삭 기능을 갖춘 수직 선반 장치와, 블레이드를 전용으로 가공하기 위한 5축 가공 장치가 사용되고 있다.
종래에 선박용 프로펠러를 가공하기 위하여는 상술한 보스 및 블레이드 전용의 각각의 가공 장치를 사용하여 프로펠러의 보스 및 블레이드를 별도의 공정으로 가공하였다. 즉, 프로펠러의 보스는 보스 가공 전용의 선삭 기능을 갖는 수직 선반 장치에서 가공하고, 프로펠러의 블레이드는 블레이드 가공 전용의 5축 가공 장치를 사용하여 가공하였다.
따라서, 프로펠러를 가공하기 위하여 프로펠러의 부위에 따라 전용되는 가공 장치를 사용하여 가공하므로 가공 시간이 길어지고, 작업 효율이 떨어지는 문제가 있었고, 결과적으로 프로펠러의 생산성이 저하되는 문제가 있었다.
따라서, 본 발명이 해결하려는 과제는 프로펠러의 보스 및 블레이드 가공을 하나의 장치에서 연속하여 실행할 수 있도록 한 선박용 프로펠러 가공 장치를 제공하는데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 선박용 프로펠러 가공 장치는 프로펠러를 장착하여 원주방향으로 회전시키는 로터리 테이블; 상기 로터리 테이블의 회전 각도를 제어하는 로터리 테이블 인덱스 유닛; 상기 로터리 테이블을 원주 방향으로 구동시키는 구동 장치를 내장한 메인 기어 박스; 상기 프로펠러 및 상기 로터리 테이블을 부드럽게 회전시키며 상기 로터리 테이블 및 상기 프로펠러를 동시에 지지하고 있는 라이닝 플레이트를 갖는 베이스; 상기 베이스의 상측에 설치되는 크로스레일; 상기 베이스의 양측에 배치되어 상기 크로스레일을 지지하는 컬럼; 상기 프로펠러의 블레이드 가공을 위한 블레이드 밀링 램 헤드; 상기 프로펠러의 보스 가공을 위한 보스 보링 램 헤드; 각 기능부에 연결되는 유압 시스템;을 포함하되, 상기 크로스레일 상에 상기 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드가 동시에 장착되고, 상기 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드의 원활한 수평 및 수직 이동을 위해 상기 크로스레일 및 상기 헤드들 상에 복수의 수평 방향 피드 유닛 및 수직 방향 피드 유닛이 장착되며, 상기 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드의 무게 하중에 의한 크로스레일의 처짐을 방지하기 위하여 상기 크로스레일 상부에 크로스레일 처짐 보상 장치를 더욱 구성하는 것을 특징으로 한다.
상기 크로스레일 처짐 보상 장치는 상기 크로스레일 상부에 설치 고정되는 수직 보강빔 및 수평 보강빔으로 구성될 수 있다.
상기 로터리 테이블은, 안쪽 테이블, 상기 안쪽 테이블의 외곽측으로 배열되는 바깥 테이블, 절삭 작업시 변형 및 진동을 방지하기 위한 원형 리브 및 방사선형 리브, 프로펠라의 블레이드의 수량에 따라 척킹 방향을 변경하기 위하여 상기 안쪽테이블 상면에 배치되는 방사상의 T홈 및 원형 T홈으로 구성될 수 있다.
상기 로터리 테이블 인덱스 유닛은, 상기 베이스의 일측에 배치되는 기어박스, 상기 기어박스 내에 조립되어 있는 웜과 웜휠 및 기어들로 구성된 기어장치, 상기 기어박스의 외측에 장착되고 상기 기어장치와 연결되어 상기 기어장치를 구동시키는 서브 모터, 상기 로터리 테이블과 연결되어 상기 기어장치의 동력을 상기 로터리 테이블의 마스터 기어에 전달하는 피니언, 상기 기어장치의 기어들 사이 및 상기 피니언과 상기 마스터 기어 사이에 연결되어 상기 기어들 사이 및 상기 피니언과 상기 마스터 기어 사이의 백래쉬를 제거하기 위한 백래쉬 제거 장치로 구성될 수 있다.
상기 블레이드 밀링 램 헤드는, 상기 수평 방향 피드 유닛과 연결되어 상기 크로스레일 상에서 수평 이동되는 수평 새들, 상기 수평 새들의 전방에 배치되는 스위벨 새들, 상기 스위벨 새들에 장착되는 램, 상기 스위벨 새들의 일측에 배치되어 상기 스위벨 새들을 회전 구동시키는 스위벨 시스템, 상기 램의 하단에 장착되는 밀링 헤드, 상기 밀링 헤드의 일측에 장착되는 스핀들 드라이브, 상기 스핀들 드라이브 하측에서 상기 밀링 헤드에 장착되어 상기 스핀들 드라이브를 구동시키는 서브 모터, 상기 밀링 헤드의 다른 일측에 장착되고 상기 스핀들 드라이브와 연결되어 구동되며 프로펠러 블레이드의 평면, 경사진면, 겹치는 부분 등의 가공을 위한 어타치먼트를 포함하되, 상기 램은 절삭 가공시 절삭에 충분히 견딜 수 있도록 사각 형태로 구성되고, 상기 스위벨 시스템은 상기 스위벨 새들을 ±21.6도의 범위로 회전시킬 수 있다.
상기 어타치먼트는 밀링 툴을 양쪽 방향으로 클램핑할 수 있도록 구성되며, 절삭 가공시 열 발생에 대비한 오일 쿨링 장치를 내장할 수 있다.
상기 보스 보링 램 헤드는 스핀들, 상기 스핀들과 연결되는 다수의 기어를 갖는 기어박스, 상기 기어박스 내의 기어와 연결되어 상기 스핀들을 회전시키기 위한 스핀들 모터, 중앙에 수직 방향으로 장착된 툴 클램핑 장치, 상기 수평 방향 피드 유닛과 연결되어 상기 크로스레일 상에서 수평 이동되는 수평 새들, 상기 수평 새들의 전방에 배치되는 수직 새들, 상기 수직 새들 내에 배치되고 상기 보스 보링 램 헤드의 수직 이동을 위한 램, 상기 램의 하단에 장착되고 프로펠러 보스의 내경 가공 및 드릴링, 탭핑, 엔드밀의 가공을 위한 툴 홀더를 포함할 수 있다.
상기 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드 각각에는 램의 양측에 배치되어 상기 유압 시스템과 연결되고 램 헤드의 자중에 의한 수직 하중을 보상하여 위치 결정 정도를 높이고 상기 램의 원활한 상하 운동을 위한 램 발란싱 유니트를 더욱 구성할 수 있다.
상기 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드 각각에는 정전에 의한 강제 정지 또는 작업 종료 후 램의 낙하를 방지하기 위한 낙하 방지 장치를 더욱 구성할 수 있다.
상기 낙하 방지 장치는 상기 블레이드 밀링 램 헤드 및 상기 보스 보링 램 헤드 각각의 상부에 장착되고 상기 수직 방향 피드 유닛과 연결되어 상기 수직 방향 피드 유닛을 정지시키는 전자 브레이크가 내장된 서브 모터, 상기 램 발란싱 유니트에 설치된 체크 밸브로 구성될 수 있다.
상기 램에는, 산화크롬(Cr2O3) 96?98% 및 이산화티타늄(TiO2) 2?4%가 혼합되어 이루어진 세라믹 분말, 산화크롬(Cr2O3) 분말, 산화알루미늄(Al2O3) 분말, 이산화티타늄(TiO2) 분말, 산화이트륨(Y2O3) 분말, 지르코니아(ZrO2) 분말, 크롬니켈(Cr3C2 25 NiCr) 분말(chromium carbide 75%, nickel 20%, chromium 5%) 중, 어느 한 종류의 분말이 10?44㎛의 분말입도를 갖도록 구비되며, 상기의 분말입도를 갖는 분말이 램의 둘레에 용사되어 이루어진 코팅층이 구비될 수 있다.
상기 코팅층은, 상기 램의 둘레에 50?600㎛의 두께로 이루어지고, 경도는 900?1000HV, 표면조도는 0.1?0.3㎛를 유지하도록 플라즈마 코팅될 수 있다.
상기 코팅층은, 상기의 분말가루들 중 선택된 한 종류의 분말가루와 14000℃의 가스를 마하 2 정도의 속도로 상기 램의 둘레에 제트분사하여서 이루어지며, 가열된 상기 램(23, 24)의 변형이 방지되도록 상기 램이 냉각장치로 냉각되어서 150?200℃의 온도를 유지하도록 될 수 있다.
본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치에 의하면, 크로스레일 상에 복수의 램 헤드, 즉 프로펠러의 블레이드 가공을 위한 블레이드 밀링 램 헤드 및 프로펠러의 보스 가공을 위한 보스 보링 램 헤드가 동시에 설치되어 있으므로 하나의 장치에서 전자 제어를 통해 프로펠러의 가공 과정을 모두 수행 가능하여 가공 공정을 줄일 수 있고, 이에 따라 작업 시간이 단축되고, 작업의 효율성이 향상되어 선박용 프로펠러의 생산성이 증대될 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 구성을 나타낸 정면도.
도 2는 도 1의 우측면도
도 3은 도 1의 좌측면도
도 4는 도 1의 평면도
도 5는 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 베이스 및 로터리 테이블을 나타낸 측면도.
도 6은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 베이스 및 로터리 테이블의 구성을 나타낸 개략적 단면도.
도 7 및 도 8은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 로터리 테이블의 구성을 나타낸 평면도 및 측면도.
도 9는 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 메인 기어 박스의 구성을 나타낸 상세도.
도 10은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 로터리 테이블 인덱스 유닛의 구성을 나타낸 상세도.
도 11은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 크로스레일 처짐 보상 장치의 구성을 나타낸 부분 확대도.
도 12은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 블레이드 밀링 램 헤드를 나타낸 부분 확대도.
도 13은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 보스 보링 램 헤드를 나타낸 부분 확대도.
도 14는 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 로터리 테이블 클램핑 장치를 나타낸 부분 확대도.
도 15은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 수평 방향 피드 유닛을 나타낸 부분 확대도.
도 16 및 도 17는 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 수직 방향 피드 유닛을 나타낸 부분 확대도.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다.
그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치에 대하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치의 정면도이고, 도 2는 도 1의 우측면도이고, 도 3은 도 1의 좌측면도이다.
본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치는 로터리 테이블(1), 로터리 테이블 인덱스 유닛(3), 메인 기어 박스(4), 베이스(2), 크로스레일(6), 컬럼(5-a, 5-b), 블레이드 밀링 램 헤드(7), 보스 보링 램 헤드(8), 유압 시스템, 수평 방향 피드 유닛(18, 19), 수직 방향 피드 유닛(20, 21), 크로스레일 처짐 보상 장치(16, 17)를 포함한다.
로터리 테이블(1)은 프로펠러(미도시)를 장착하여 원주방향으로 회전시키며, 하나의 안쪽 테이블(1a), 안쪽 테이블(1a)의 외곽측으로 배열되는 복수의 바깥 테이블(1b, 1b')로 구성되어 있으며, 최대 적재 중량에도 충분히 견딜 수 있고, 절삭 작업시 변형 및 진동을 방지하기 위하여 안쪽 테이블(1a)과 바깥 테이블(1b, 1b')의 내부에 원형 리브(미도시)와 방사선 리브(미도시)가 조합 배치될 수 있다.
또한 안쪽 테이블(1a)의 상면에는 방사상의 T홈(1c) 및 원형 T홈(1c')이 배치되어 있다.
그리고 로터리 테이블(1) 내부에는 별도의 로터리 엔코더(미도시)를 내장하여 로터리 테이블의 정밀한 인덱싱이 가능하게 할 수 있다.
베이스(2)는 로터리 테이블(1)을 지지하는 것으로, 내부에는 로터리 테이블(1)을 지지하여 로터리 테이블(1)을 부드럽게 회전시키는 라이닝 플레이트(27-a, 27-b)가 설치되어 있다.
라이닝 플레이트(27-a, 27-b)는 가이드 웨이로서 마스터 기어(26) 자체가 웨이로 구성되며, 특수 재질로 제작되어 있고 그 각각마다 오일 포켓이 독립적으로 설치되는 하이드로스타틱 베어링으로 구성된다.
또한 베이스(2)의 좌, 우 양측에는 로터리 테이블(1)을 클램핑하는 로터리 테이블 클램핑 장치(25)가 설치되어 있으며, 로터리 테이블 클램핑 장치(25)는 로터리 테이블(1) 클램핑시에는 내부의 실린더(미도시)의 양쪽에 유압이 가해져 체결된 클램핑 로드(25-a, 25-b)가 동시에 작동되어 로터리 테이블(1)이 움직이지 못하도록 좌, 우 동시에 클램핑 되며, 언클램핑 시에는 내부에 설치된 실린더(미도시) 및 스프링(미도시)에 의해 자동으로 동시에 언클램핑 되도록 구성되어 있다.
메인 기어 박스(4)는 로터리 테이블(1)을 원주 방향으로 구동시키기 위한 것으로, 로터리 테이블(1) 운전을 위한 가변속도와 감속용 기어 열을 포함하고 있으며, 소음과 진동을 없게 하였고, 반대편 입력 측은 V-벨트(28)에 의해서 메인 드라이브 모터(29)와 연결되어 있으며, 내면에는 2단 변속 기어용 하이드로 시프트로 구성되어 있고, 기어변속은 유압 실린더에 의해 고속과 저속에서 시프팅 된다.
로터리 테이블 인덱스 유닛(3)은 기어박스(3a), 기어장치(44), 서브 모터(30), 피니언(45), 백래쉬 제거장치(43)를 포함한다.
기어박스(3a)는 베이스(2)의 일측에 배치되며, 기어장치(44)는 기어박스(3a) 내에 조립되어 있는 웜과 웜휠(44a) 및 기어들로 구성된다.
서브 모터(30)는 기어박스(3a)의 외측에 장착되고 기어장치(44)와 연결되어 기어장치(44)를 구동시킨다.
피니언(45)은 로터리 테이블(1)과 연결되어 기어장치(44)의 동력을 로터리 테이블(1)의 마스터 기어(26)에 전달하며, 정밀하게 제작된 헬리컬 기어로 구성될 수 있고, 정, 역회전의 원활한 작동을 위해 더블 피니언 시스템으로 구성하는 것이 바람직하다.
백래쉬 제거장치(43)는 기어장치(44)의 기어들 사이 및 피니언(45)과 마스터 기어(26) 사이에 연결되어 기어들 사이 및 피니언(45)과 마스터 기어(26) 사이의 백래쉬를 제거하며, 로터리 테이블(1)의 인덱스 전에 작동하여 마스터 기어(26)와 피니언(45) 사이의 백래쉬를 제거한다.
크로스레일(6)은 베이스(2) 및 로터리 테이블(1)의 상측에 배치되어 양측이 컬럼(5)에 의해 지지된다.
크로스레일(6)의 높이는 최대 크기의 프로펠러 자료에 근거하여 최상의 높이에 고정되어있고, 후술할 두 개의 램 헤드(7, 8)를 지지하며, 램 헤드(7, 8)를 부드럽게 움직이기 위하여 라이너 베어링 타입의 가이드가 적용된다.
여기서, 크로스레일(6)은 두 개의 램 헤드(7, 8)를 지지하므로 램 헤드(7, 8)의 무게 하중에 의한 처짐이 발생할 수 있는데, 이를 방지하기 위하여 크로스레일(6)의 상부에는 크로스레일 처짐 보상 장치(16, 17)가 설치된다.
크로스레일 처짐 보상 장치(16, 17)는 수직 보강빔(16) 및 수평 보강빔(17)으로 구성되며, 수직 보강빔(16) 및 수평 보강빔(17)은 크로스레일(6) 상부에 설치되어 크로스레일(6)의 처짐을 방지한다.
즉, 수직 보강빔(16)은 크로스 레일(6) 상면에 수직으로 세워지고 양 끝단을 볼트로 결합 한 후 중간 부분에 라이너를 받치고 다시 볼트를 체결 함으로써 크로스레일(6)이 상하 휨을 보상하고, 수평 보강빔(17)은 크로스 레일(6)의 상면에 평으로 엊혀 놓고 크로스 레일(6)의 뒤 쪽에서 볼트로 체결하여 결합하고 볼트의 쪼임으로써 크로스 레일(6)의 앞뒤 휨을 보상한다.
컬럼(5-a, 5-b)은 크로스레일(6)의 양 끝단을 지지하며, 컬럼(5) 사이의 거리는 프로펠러의 최대 회전직경에 맞게 설치되어 있고, 쓰리 피스 타입의 레벨링 블록에 의해 지지되어 장시간 사용 동안에도 고정밀도를 보장한다.
블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 보스 보링 램 헤드(8)는 크로스레일(6) 상에 동시에 장착되어 있으며, 수평 방향 피드 유닛(18, 19) 및 수직 방향 피드 유닛(20, 21)에 의해 원활한 수평 및 수직 이동이 가능하게 설치된다.
수평 방향 피드 유닛(18, 19)은 크로스레일(6)상에 설치되며, 블레이드 밀링 램 헤드(7)의 수평 방향 이동을 위해 블레이드 밀링 램 헤드(7)와 연결되는 제1 수평 방향 피드 유닛(18), 보스 보링 램 헤드(8)의 수평 방향 이동을 위해 보스 보링 램 헤드(8)와 연결되는 제2 수평 방향 피드 유닛(19)으로 구성된다.
수직 방향 피드 유닛(20, 21)은 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 보스 보링 램 헤드(8) 각각에 설치되어 각각의 램(23, 24)의 수직 이동을 위하여 각각의 램(23, 24)에 연결되고, 블레이드 밀링 램 헤드(7)에 설치되는 제1 수직 방향 피드 유닛(20), 보스 보링 램 헤드(8)에 설치되는 제2 수직 방향 피드 유닛(21)으로 구성된다.
여기서, 수평 방향 피드 유닛(18, 19) 및 수직 방향 피드 유닛(20, 21)은 고정밀의 볼 스크류(37, 38, 40)을 적용하였고, 텔레스코픽 커버(48)는 칩과 먼지로부터 볼 스크류(40)를 보호하고 있다.
블레이드 밀링 램 헤드(8)는 수평 새들(12), 스위벨 새들(11), 램(23), 스위벨 시스템(22), 밀링 헤드(9), 스핀들 드라이브(46), 서브 모터(47), 어타치먼트(10)를 포함한다.
수평 새들(12)은 제1 수평 방향 피드 유닛(18)과 연결되어 크로스레일(6) 상에서 수평 이동되고, 스위벨 새들(11)은 수평 새들(12)의 전방에 배치되며, 램(23)은 스위벨 새들(11)에 장착된다.
스위벨 시스템(22)은 스위벨 새들(11)의 일측에 배치되어 스위벨 새들(11)과 연결되고 스위벨 새들(11)을 구동시킨다. 이때, 스위벨 시스템(22)은 스위벨 새들(11)을 ±21.6도의 범위로 회전시킨다.
밀링 헤드(9)는 램(23)의 하단에 장착되며, 밀링 헤드(9)의 일측에 스핀들 드라이브(46)가 장착된다.
서브 모터(47)는 스핀들 드라이브(46) 하측에서 밀링 헤드(9)에 장착되어 스핀들 드라이브(46)를 구동시킨다.
어타치먼트(10)는 밀링 헤드(9)의 다른 일측에 장착되고, 스핀들 드라이브(46)와 연결되어 구동되며, 프로펠러 블레이드의 평면, 경사진면, 겹치는 부분 등의 가공을 위해 구비된다.
그리고 어타치먼트(10)는 밀링 툴을 양쪽 방향으로 클램핑할 수 있도록 구성되며, 도시하지는 않았지만 절삭 가공시 열 발생에 대비한 오일 쿨링 장치를 내장하는 것이 바람직하다.
보스 보링 램 헤드(8)는 스핀들(49), 스핀들과 연결되는 다수의 기어를 갖는 기어박스(32), 기어박스(32) 내의 기어와 연결되어 스핀들(49)을 회전시키기 위한 스핀들 모터(31), 중앙에 수직 방향으로 장착된 툴 클램핑 장치(42), 제2 수평 방향 피드 유닛(19)과 연결되어 크로스레일(6) 상에서 수평 이동되는 수평 새들(13), 수평 새들(13)의 전방에 배치되는 수직 새들(14), 수직 새들(14) 내에 배치되고 제2 수직 방향 피드 유닛(21)과 연결되어 수직 이동되는 램(24), 램(24)의 하단에 장착되고 프로펠러 보스의 내경 가공 및 드릴링, 탭핑, 엔드밀의 가공을 위한 툴 홀더(15)로 구성된다.
여기서, 툴 클램핑 장치(42)는 스핀들 상부에 조립 된 디스크 스프링(50)에 의하여 툴 홀더(15)를 클램핑 하도록 되어 있고, 언클램핑 시에는 하이드로 실린더에 의해서 언클램핑 가능하도록 되어있고 스핀들 부분은 ISO 7/24 테이퍼 No.50규격의 툴 생크로 되어 있으며, 풀 스터드 볼트는 BT50-I형을 사용토록 되어 있고, 도시하지는 않았지만 공구 교환 시에는 테이퍼 부분의 이물질 제거를 위하여 에어 세척 장치가 내장 되어 있다.
한편, 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 보스 보링 램 헤드(8) 각각에는 램(23, 24)의 양측에 배치되어 유압 시스템과 연결되고 램 헤드(7, 8)의 자중에 의한 수직 하중을 보상하여 위치 결정 정도를 높이고 램(23, 24)의 원활한 상하 운동을 위한 램 발란싱 유니트(34, 35)가 더욱 구성될 수 있다.
또한, 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 보스 보링 램 헤드(8) 각각에는 정전에 의한 강제 정지 또는 작업 종료 후 램(23, 24)의 낙하를 방지하기 위한 낙하 방지 장치가 더욱 구성될 수 있다.
낙하 방지 장치는 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 보스 보링 램 헤드(8) 각각의 상부에 장착되고, 수직 방향 피드 유닛(20, 21)과 연결되어 수직 방향 피드 유닛(20, 21)을 정지시키는 전자 브레이크가 내장된 서브 모터(33, 36)와, 램 발란싱 유니트(34, 35)에 설치된 체크 밸브(미도시)로 구성된다.
또한, 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 보스 보링 램 헤드(8)의 램(23, 24)들의 표면에는 코팅층(100)이 더욱 구성될 수 있다.
코팅층(100)은, 램(23, 24)의 샌드블라스팅(Sand Blasting)작업, 클리닝(cleaning)작업을 수행한 후 그 둘레에 코팅층(100)을 형성시킨다.
이와 같은 코팅층(100)은, 산화크롬(Cr2O3) 96?98% 및 이산화티타늄(TiO2) 2?4%가 혼합되어 이루어진 세라믹 분말, 산화크롬(Cr2O3) 분말, 산화알루미늄(Al2O3) 분말, 이산화티타늄(TiO2) 분말, 산화이트륨(Y2O3) 분말, 지르코니아(ZrO2) 분말, 크롬니켈(Cr3C2 25 NiCr) 분말(chromium carbide 75%, nickel 20%, chromium 5%) 중, 어느 한 종류의 분말이 10?44㎛의 분말입도를 갖도록 구비되며, 상기의 분말입도를 갖는 분말이 램(23, 24)의 둘레에 용사되어 이루어진다.
산화크롬(Cr2O3)은, 금속 내부로 침입하는 산소를 차단시키는 부동태피막(Passivity Layer)의 역할을 함으로써 녹이 잘 슬지 않도록 하는 역할을 한다.
이산화티타늄(TiO2)은, 물리화학적으로 매우 안정적이고 은폐력이 높아서 백색안료로 많이 된다. 또한 굴절율이 높아서 고굴절율의 세라믹스에도 많이 이용되고 있다. 그리고 광촉매적 특성과 초친수성의 특성을 갖는다. 이산화티타늄(TiO2)은, 공기정화 작용, 항균작용, 유해물질 분해작용, 오염방지 기능, 변색 방지기능의 역할을 수행한다. 이러한 이산화티타늄(TiO2)은, 코팅층(100)이 램(23, 24)의 둘레에 확실하게 피복되도록 하며, 램(23, 24)에 부착된 이물질을 분해, 제거하여 램(23, 24)의 손상을 방지시킨다.
여기서, 산화크롬(Cr2O3)과 이산화티타늄(TiO2)을 혼합하여서 사용할 경우, 이들의 혼합 비율은, 산화크롬(Cr2O3) 96?98%에 이산화티타늄(TiO2) 2?4%가 혼합되는 것이 바람직하다.
산화크롬(Cr2O3)의 혼합비율이 96?98%보다 적을 경우, 고온 등의 환경에서 산화크롬(Cr2O3)의 피복이 파괴되는 경우가 종종 발생되었으며, 이에 따라 램(23, 24)의 녹방지 효과가 급격이 저하되었다.
이산화티타늄(TiO2)의 혼합비율이 2?4%보다 적을 경우, 이를 산화크롬(Cr2O3)에 혼합하는 목적이 퇴색될 정도로 이산화티타늄(TiO2)의 효과가 미미하였다. 즉, 이산화티타늄(TiO2)은 램(23, 24)의 둘레에 부착되는 이물질을 분해, 제거하여서 램(23, 24)가 부식되거나 손상되는 것을 방지시키는데, 그 혼합비율이 2?4%보다 작을 경우, 부착된 이물질을 분해하는데 많은 시간이 소요되는 문제점이 있다.
산화알루미늄(Al2O3)은, 램(23, 24)의 둘레에 코팅층(100)으로 형성될 경우, 그 피막이 고르고 빈틈이 없어 램(23, 24)의 둘레를 확실하게 보호한다. 이러한 산화알루미늄(Al2O3)의 녹는점은 매우 높아서 고온에서 램(23, 24)을 보호하며, 산화방지에 큰 효과가 있다. 따라서 램(23, 24)에 코팅된 산화알루미늄(Al2O3)은, 해수나 공기가 램(23, 24)의 둘레에 접촉되는 것을 차단하여서 램(23, 24)이 산화되지 않도록 방지한다.
산화이트륨(Y2O3)은, 내열성이나 내고온 산화성, 내식성이 우수하며 플라즈마 에칭 분위기 속에 있더라도 내플라즈마 부식성을 발휘하는 점에서 용사 코팅에 적합하다.
지르코니아(ZrO2)는, 높은 용융온도(약 2,700℃)를 갖는 내열성 재료로서 이외에도 낮은 열전도도, 산성에서 알카리성 영역까지의 넓은 내화학안정성을 가지며 낮은 열팽창성, 고강도 및 고경도(7.0이상의 모오스 경도)의 내마찰성 등 우수한 재료적 특성을 가지고 있다.
크롬니켈(Cr3C2 25 NiCr) 분말은, 크롬 카바이드(chromium carbide) 75%, 니켈(nickel) 20%, 크롬(chromium) 5%가 혼합되어서 이루어진다.
이러한 재료들 중 선택된 하나의 종류로 이루어진 코팅층(100)은, 램(23, 24)의 둘레에 50?600㎛의 두께로 이루어지고, 경도는 900?1000HV, 표면조도는 0.1?0.3㎛를 유지하도록 플라즈마 코팅된다.
이러한 코팅층(100)은, 상기의 분말가루들 중 선택된 한 종류의 분말가루와 14000℃의 가스를 마하 2정도의 속도로 램(23, 24)의 둘레에 제트분사하여서 400㎛으로 용사한 후 다이아몬드휠(Diamond Wheel) 및 필름(Film)을 이용하여 50?600㎛으로 랩핑한다.
코팅층(100)의 두께가 50㎛ 미만일 경우, 상술한 세라믹 코팅층(100)에 의한 효과가 보장되지 못하게 되며, 코팅층(100)의 두께가 600㎛을 초과할 경우, 상술한 효과의 증대는 미미한 반면 과다한 세라믹코팅에 의해 작업시간 및 재료비가 낭비되는 문제점이 있다.
램(23, 24)에 코팅층(100)이 코팅되는 동안 램(23, 24)의 온도는 상승되는데, 가열된 램(23, 24)의 변형이 방지되도록 램(23, 24)이 냉각장치(미도시)로 냉각되어서 150?200℃의 온도를 유지하도록 된다.
램(23, 24)의 둘레에 코팅층(100)을 형성시키기 위한 용사법은 금속, 세라믹스 및 이들의 혼합물을 고온의 가스 불꽃(gas-flame) 또는 플라즈마(plasma) 내에 투입하여 용융 또는 반용융 상태로 고속으로 분사시켜서 모재의 표면에 피막을 형성시켜 나가는 표면 처리 기술이다.
용사건의 텅스텐 음극과 Cu양극 노즐 사이에 전기에너지를 가하면 아크가 발생되며 여기에 가스나 가스 혼합물을 흘리면 플라즈마가 발생하게 된다. 여기서 플라즈마란 분자상의 가스를 고온으로 가열하면 원자로 해리하게 되며 여기에 에너지를 부가하면 전자를 방출하게 되는데, 이 상태를 말하며 매우 높은 에너지를 가진 열원으로서 유용하게 사용된다. 용사열원으로 플라즈마 제트(plasma jet)의 특징은 다음과 같다.
에너지 밀도가 높은 열원이기 때문에 고융점 금속이나 세라믹스의 용사가 용이하다. 금속, 세라믹스, 플라스틱 등 안전한 용융 현상을 수반하는 물질이라면 용사가 가능하기 때문에 피막재료의 선택 영역이 높다. 플라즈마 제트의 속도가 크므로 용사재료가 고속으로 피처리물에 출돌하고 이로 인해 고밀착강도, 고밀도의 피막이 얻어진다. 대출력화가 용이하므로 단위시간당 용사량이 커서 작업성이 좋고 경제성이 높다. 무산소, 무탄소이며 청정, 열화학적 활성인 열원이기 때문에 용사재료의 오염 및 변화가 적다.
열원의 종류와 조건에 의해 용사비행 입자의 온도, 드웰 타임(dwell time), 분위기 가스성분과의 접촉시간 특히 모재표면에의 충돌에너지, 급냉응고속도 등이 달라진다. 즉 용사피막의 물리화학적 성질이 크게 달라진다.
플라즈마 불꽃 내에 투입된 용사재료는 열원에 의해 가열용융되며 플라즈마 제트에 의해 초고속으로 비행하게 된다. 비행중의 용융입자는 공기와 접촉하여 그 주위에 산화피막을 형성한 상태로 모재에 출돌하므로 램(23, 24)에 형성된 용사피막은 산화막을 표면에 형성한 미립자가 무수히 퇴적한 것과 같은 단면구조를 갖게 된다.
용사에 적당한 분말입도는 10?44㎛ 범위가 바람직하다. 용사의 미립도가 10㎛ 미만이면 용사중에 증기화 되기가 쉽고 용사의 미립도가 44㎛를 초과하면 용사시 미용융되므로 용사의 분말입도는 10?44㎛가 바람직하다. 또한 용사 피막의 품질에 큰 영향을 주는 것은 입도 분포로서 입도차가 크게 되면 열원으로부터 각 분말 입자가 얻게 되는 에너지 및 비행궤적이 서로 상이하게 되므로 코팅층(100)의 조성 및 물성의 균일성이 저하된다. 따라서 엄격한 용사분말의 입도 분포 제어가 요구된다.
용사건의 공급속도를 균일하고 안정되게 하며 공급된 분말의 균일한 가열을 위해서는, 즉 용융입자의 흐름성을 좋게 하기 위해서는 상술한 분말입도 내에서 구상인 것이 바람직하다.
코팅층(100)의 둘레에는 금속계 유리 석영 계통으로 이루어진 무수크롬산(CrO3)으로 이루어진 실링재(미도시)가 도포될 수 있다. 무수크롬산은 무기실링재로써 크롬니켈 분말로 이루어진 코팅층(100) 둘레에 도포될 수 있다.
무수크롬산(CrO3)은, 높은 내마모, 윤활성, 내열성, 내식성, 이형성을 필요로 하는 곳에 사용되며, 대기중에서 변색이 안되고, 내구성이 크며, 내마모성과 내식성이 좋다. 코팅층(100)의 둘레에 실리실가 코팅될 경우, 그 코팅 두께는 0.3?0.5㎛ 정도가 바람직하다. 실링재의 코팅두께가 0.3㎛ 미만이면 약간의 스크래치홈에도 실링재가 쉽게 파이면서 벗겨지게 되므로 상술한 효과를 얻을 수 없게 된다. 실링재의 코팅두께가 0.5㎛를 초과할 정도로 두껍게 하면 도금면에 핀홀(pin hole), 균열 등이 많게 된다. 따라서 실링재의 코팅두께는 0.3?0.5㎛ 정도가 바람직하다.
이러한 구성의 본 발명에 따른 선박용 프로펠러 가공장치는, 크로스레일(6) 상에 복수의 램 헤드(7, 8), 즉 프로펠러의 블레이드 가공을 위한 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 프로펠러의 보스 가공을 위한 보스 보링 램 헤드(8)가 동시에 설치되어 있으므로 하나의 장치에서 전자 제어를 통해 프로펠러의 가공 과정을 모두 수행 가능하여 가공 공정을 줄일 수 있고, 이에 따라 작업 시간이 단축되고, 작업의 효율성이 향상되어 선박용 프로펠러의 생산성이 증대될 수 있다.
또한, 크로스레일(6)의 상부에 수직 보강빔(16) 및 수평 보강빔(17)이 설치되므로 복수의 램 헤드(7, 8)를 크로스레일(6) 상에 동시에 설치함에 따라 발생할 수 있는 크로스레일(6)의 처짐을 방지할 수 있다.
또한, 램(23, 24)의 표면에 코팅층(100)이 형성되므로 램(23, 24)의 부식, 손상을 방지할 수 있다.
1 : 로터리 테이블 1a : 안쪽 테이블
1b, 1b' : 바깥 테이블 1c, 1c' : T홈
2 : 베이스 3 : 로터리 테이블 인덱스 유닛
4 : 메인 기어 박스 5-a, 5-b : 컬럼
6 : 크로스레일 7 : 블레이드 밀링 램 헤드
8 : 보스 보링 램 헤드 9 : 밀링 헤드
10 : 어타치먼트 11 : 스위벨 새들
12, 13 : 수평 새들 14 : 수직 새들
15 : 툴 홀더 16 : 수직 보강빔
17 : 수평 보강빔 18 : 제1 수평 방향 피드 유닛
19 : 제2 수평 방향 피드 유닛 20 : 제1 수직 방향 피드 유닛
21 : 제2 수직 방향 피드 유닛 22 : 스위벨 시스템
23, 24 : 램 25 : 로터리 테이블 클램핑 장치
26 : 마스터 기어 27-a, 27-b : 라이닝 플레이트
28 : V-벨트 29 : 메인 드라이브 모터
30, 33, 36, 39, 47 : 서브 모터 31 : 스핀들 모터
32 : 기어박스 34, 35 : 램 발란싱 유니트
37, 38, 40 : 볼 스크류 42 : 툴 클램핑 장치
43 : 백래쉬 제거장치 44 : 기어장치
44a : 웜과 웜휠 45 : 피니언
46 : 스핀들 드라이브

Claims (13)

  1. 프로펠러를 장착하여 원주방향으로 회전시키는 로터리 테이블(1);
    상기 로터리 테이블(1)의 회전 각도를 제어하는 로터리 테이블 인덱스 유닛(3);
    상기 로터리 테이블(1)을 원주 방향으로 구동시키는 구동 장치를 내장한 메인 기어 박스(4);
    상기 프로펠러 및 상기 로터리 테이블(1)을 부드럽게 회전시키며 상기 로터리 테이블(1) 및 상기 프로펠러를 동시에 지지하고 있는 라이닝 플레이트(27-a, 27-b)를 갖는 베이스(2);
    상기 베이스(2)의 상측에 설치되는 크로스레일(6);
    상기 베이스(2)의 양측에 배치되어 상기 크로스레일(6)을 지지하는 컬럼(5-a, 5-b);
    상기 프로펠러의 블레이드 가공을 위한 블레이드 밀링 램 헤드(7);
    상기 프로펠러의 보스 가공을 위한 보스 보링 램 헤드(8);
    각 기능부에 연결되는 유압 시스템;을 포함하되,
    상기 크로스레일(6) 상에 상기 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 상기 보스 보링 램 헤드(8)가 동시에 장착되고, 상기 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 상기 보스 보링 램 헤드(8)의 원활한 수평 및 수직 이동을 위해 상기 크로스레일(6) 및 상기 헤드(7, 8)들 상에 복수의 수평 방향 피드 유닛(18, 19) 및 수직 방향 피드 유닛(20, 21)이 장착되며, 상기 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 상기 보스 보링 램 헤드(8)의 무게 하중에 의한 크로스레일(6)의 처짐을 방지하기 위하여 상기 크로스레일(6) 상부에 크로스레일 처짐 보상 장치(16, 17)를 더 구성하는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 크로스레일 처짐 보상 장치(16, 17)는
    상기 크로스레일 상부에 설치 고정되는 수직 보강빔(16) 및 수평 보강빔(17)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 로터리 테이블(1)은,
    안쪽 테이블(1a),
    상기 안쪽 테이블(1a)의 외곽측으로 배열되는 바깥 테이블(1b, 1b'),
    절삭 작업시 변형 및 진동을 방지하기 위한 원형 리브 및 방사선형 리브,
    프로펠라의 블레이드의 수량에 따라 척킹 방향을 변경하기 위하여 상기 안쪽테이블(1a) 상면에 배치되는 방사상의 T홈(1c) 및 원형 T홈(1c')으로 구성되는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 로터리 테이블 인덱스 유닛(3)은,
    상기 베이스(2)의 일측에 배치되는 기어박스(3a),
    상기 기어박스(3a) 내에 조립되어 있는 웜과 웜휠(44a) 및 기어들로 구성된 기어장치(44),
    상기 기어박스(3a)의 외측에 장착되고 상기 기어장치(44)와 연결되어 상기 기어장치(44)를 구동시키는 서브 모터(30),
    상기 로터리 테이블(1)과 연결되어 상기 기어장치(44)의 동력을 상기 로터리 테이블(1)의 마스터 기어(26)에 전달하는 피니언(45),
    상기 기어장치(44)의 기어들 사이 및 상기 피니언(45)과 상기 마스터 기어(26) 사이에 연결되어 상기 기어들 사이 및 상기 피니언(45)과 상기 마스터 기어(26) 사이의 백래쉬를 제거하기 위한 백래쉬 제거 장치(43)로 구성되는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 블레이드 밀링 램 헤드(7)는,
    상기 수평 방향 피드 유닛(18, 19)과 연결되어 상기 크로스레일(6) 상에서 수평 이동되는 수평 새들(12),
    상기 수평 새들(12)의 전방에 배치되는 스위벨 새들(11),
    상기 스위벨 새들(11)에 장착되는 램(23),
    상기 스위벨 새들(11)의 일측에 배치되어 상기 스위벨 새들(11)을 회전 구동시키는 스위벨 시스템(22),
    상기 램(23)의 하단에 장착되는 밀링 헤드(9),
    상기 밀링 헤드(9)의 일측에 장착되는 스핀들 드라이브(46),
    상기 스핀들 드라이브(46) 하측에서 상기 밀링 헤드(9)에 장착되어 상기 스핀들 드라이브(46)를 구동시키는 서브 모터(47),
    상기 밀링 헤드(9)의 다른 일측에 장착되고 상기 스핀들 드라이브(46)와 연결되어 구동되며 프로펠러 블레이드의 평면, 경사진면, 겹치는 부분 등의 가공을 위한 어타치먼트(10)를 포함하되,
    상기 램(23)은 절삭 가공시 절삭에 충분히 견딜 수 있도록 사각 형태로 구성되고, 상기 스위벨 시스템(22)은 상기 스위벨 새들(11)을 ±21.6도의 범위로 회전시키는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 어타치먼트(10)는 밀링 툴을 양쪽 방향으로 클램핑할 수 있도록 구성되며, 절삭 가공시 열 발생에 대비한 오일 쿨링 장치를 내장하는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 보스 보링 램 헤드(8)는
    스핀들(49),
    상기 스핀들(49)과 연결되는 다수의 기어를 갖는 기어박스(32),
    상기 기어박스(32) 내의 기어와 연결되어 상기 스핀들(49)을 회전시키기 위한 스핀들 모터(31),
    중앙에 수직 방향으로 장착된 툴 클램핑 장치(42),
    상기 수평 방향 피드 유닛(18, 19)과 연결되어 상기 크로스레일(6) 상에서 수평 이동되는 수평 새들(13),
    상기 수평 새들(13)의 전방에 배치되는 수직 새들(14),
    상기 수직 새들(14) 내에 배치되고 상기 보스 보링 램 헤드(8)의 수직 이동을 위한 램(24),
    상기 램(24)의 하단에 장착되고 프로펠러 보스의 내경 가공 및 드릴링, 탭핑, 엔드밀의 가공을 위한 툴 홀더(15)를 포함하는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 상기 보스 보링 램 헤드(8) 각각에는 램(23, 24)의 양측에 배치되어 상기 유압 시스템과 연결되고 램 헤드의 자중에 의한 수직 하중을 보상하여 위치 결정 정도를 높이고 상기 램(23, 24)의 원활한 상하 운동을 위한 램 발란싱 유니트(34, 35)를 더 구성하는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 상기 보스 보링 램 헤드(8) 각각에는 정전에 의한 강제 정지 또는 작업 종료 후 램(23, 24)의 낙하를 방지하기 위한 낙하 방지 장치를 더 구성하는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 낙하 방지 장치는
    상기 블레이드 밀링 램 헤드(7) 및 상기 보스 보링 램 헤드(8) 각각의 상부에 장착되고 상기 수직 방향 피드 유닛(18, 19)과 연결되어 상기 수직 방향 피드 유닛(20, 21)을 정지시키는 전자 브레이크가 내장된 서브 모터(33, 36),
    상기 램 발란싱 유니트(34, 35)에 설치된 체크 밸브로 구성되는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 램(23, 24)에는,
    산화크롬(Cr2O3) 96?98% 및 이산화티타늄(TiO2) 2?4%가 혼합되어 이루어진 세라믹 분말, 산화크롬(Cr2O3) 분말, 산화알루미늄(Al2O3) 분말, 이산화티타늄(TiO2) 분말, 산화이트륨(Y2O3) 분말, 지르코니아(ZrO2) 분말, 크롬니켈(Cr3C2 25 NiCr) 분말(chromium carbide 75%, nickel 20%, chromium 5%) 중, 어느 한 종류의 분말이 10?44㎛의 분말입도를 갖도록 구비되며, 상기의 분말입도를 갖는 분말이 램(23, 24)의 둘레에 용사되어 이루어진 코팅층(100)이 구비되는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 코팅층(100)은,
    상기 램(23, 24)의 둘레에 50?600㎛의 두께로 이루어지고, 경도는 900?1000HV, 표면조도는 0.1?0.3㎛를 유지하도록 플라즈마 코팅되는 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 코팅층(100)은,
    상기의 분말가루들 중 선택된 한 종류의 분말가루와 14000℃의 가스를 마하 2 정도의 속도로 상기 램(23, 24)의 둘레에 제트분사하여서 이루어지며, 가열된 상기 램(23, 24)의 변형이 방지되도록 상기 램(23, 24)이 냉각장치로 냉각되어서 150?200℃의 온도를 유지하도록 된 것을 특징으로 하는 선박용 프로펠러 가공장치.
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