KR20120019367A - 광원 장치 - Google Patents
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Abstract
(과제) 복수개의 LED 광원의 방사광을 합성하여 출사하는 구성의 것에 있어서, 복수의 피크 파장을 가지는 연속한 광범위한 파장 범위의 광을 출사할 수 있음과 더불어 높은 휘도를 얻을 수 있는 광원 장치를 제공하는 것이다.
(해결 수단) 이 광원 장치는, 피크 파장이 서로 상이한 3개 이상의 LED 광원의 각각의 방사광을 합성하여 출사하는 것에 있어서, 제1의 LED 광원으로부터의 방사광 및 제2의 LED 광원으로부터의 방사광을 합성하는 제1의 다이크로익 미러와, 제1의 다이크로익 미러에 의한 합성광 및 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 합성하는 제2의 다이크로익 미러를 가지고, 제2의 다이크로익 미러는, 제1의 다이크로익 미러에 의해 얻어지는 합성광을 반사함과 더불어 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 투과하여 합성광을 얻는 것이다.
(해결 수단) 이 광원 장치는, 피크 파장이 서로 상이한 3개 이상의 LED 광원의 각각의 방사광을 합성하여 출사하는 것에 있어서, 제1의 LED 광원으로부터의 방사광 및 제2의 LED 광원으로부터의 방사광을 합성하는 제1의 다이크로익 미러와, 제1의 다이크로익 미러에 의한 합성광 및 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 합성하는 제2의 다이크로익 미러를 가지고, 제2의 다이크로익 미러는, 제1의 다이크로익 미러에 의해 얻어지는 합성광을 반사함과 더불어 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 투과하여 합성광을 얻는 것이다.
Description
본 발명은, 예를 들면, 반도체나 액정 기판, 컬러 필터 등의 제조 공정에 있어서의 노광 처리를 행할 때의 노광용 광원, 혹은, 프로젝터 장치에 있어서의 광원으로서 이용되는 광원 장치에 관한 것이다.
예를 들면, 반도체나 액정 기판, 컬러 필터 등의 제조 공정에 있어서의 노광 처리를 행할 때 이용되는 노광용 광원으로서, 도 4에 나타낸 바와 같은, 자외선 파장역의 LED 소자의 복수의 것이 면형상으로 배치되어 이루어지는 LED 발광부(80)를 가지고, 당해 LED 발광부(80)로부터 방사되는 방사광을 적절한 집광 광학계에 의해 집광하여 노광면(S)에 출사하는 구성으로 된 광원 장치가 알려져 있다(예를 들면 특허 문헌 1 참조.). 도 4에 있어서, 부호 81은 타원면 반사경, 82는 구면 렌즈, 83은 원추 반사경, 84는 투광성 로드, 85는 콘덴서 렌즈, 86은 릴레이 렌즈이다.
그러나, 이러한 구성의 광원 장치에서는, LED 소자의 피크 파장을 중심으로 한 비교적 파장 범위가 좁은 단색의 광밖에 출사할 수 없어서, 예를 들면 감광 수지의 개개의 노광 감도에 따른 파장광이 필요하게 되는, 컬러 필터 등의 제조 공정에 있어서의 노광 처리를 행하기 위한 노광용 광원으로서 이용할 수 없다는 문제가 있다.
또, LED 소자로부터 방사된 광이 집광 광학계에 의해 집광해 가는 과정에서 여러 가지 로스가 발생하게 되어 광의 이용 효율이 저하해, 충분히 높은 휘도의 광을 얻을 수 없다는 문제가 있다.
한편, 가시역의 파장 범위에서 선택된 서로 상이한 피크 파장을 가지는 복수의 LED 광원의 각각으로부터 방사되는 광을 예를 들면 다이크로익 미러를 이용하여 합성해서 출사하는 구성으로 된 광원 장치가 제안되어 있다(예를 들면 특허 문헌 2 참조.).
이 광원 장치는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 가시역의 소정의 파장 범위 내에서 서로 상이한 피크 파장을 가지는 3개의 LED 광원(90A, 90B, 90C)과, 서로 파장 선택 특성이 상이한 제1의 다이크로익 미러(91) 및 제2의 다이크로익 미러(92)와, 제1의 LED 광원(90A), 제2의 LED 광원(90B) 및 제3의 LED 광원(90C)의 각각의 광방사 방향 전방측에 배치된, LED 광원으로부터의 방사광을 평행광으로서 다이크로익크 미러에 출사하는 콜리메이터 렌즈(93)를 가진다.
이 광원 장치에 있어서는, 제1의 LED 광원(90A)으로부터의 방사광이 제1의 다이크로익 미러(91)를 투과한 투과광에, 제2의 LED 광원(90B)으로부터의 방사광이 제1의 다이크로익 미러(91)에 의해 반사된 반사광이 합성되고, 또한, 제1의 다이크로익 미러(91)에 의한 합성광이 제2의 다이크로익 미러(92)를 투과한 투과광에, 제3의 LED 광원(90C)으로부터의 방사광이 제2의 다이크로익 미러(92)에 의해 반사된 반사광이 합성된다.
그러나, 각각, 피크 파장이 서로 상이한 복수의 LED 광원의 각각으로부터 방사되는 방사광을 다이크로익 미러에 의해 합성하는 경우에는, 복수개의 LED 광원 및 다이크로익 미러를, 단순히, 상기 구성의 광학계를 구성하도록 배치하는 것만으로는, 충분히 높은 휘도의 광을 출사하지 못함이 판명되었다.
본 발명은, 이상과 같은 사정에 의거하여 이루어진 것이며, 복수개의 LED 광원의 방사광을 합성하여 출사하는 구성의 것에 있어서, 복수의 피크 파장을 가지는 연속한 광범위의 파장 범위의 광을 출사할 수 있음과 더불어 높은 휘도를 얻을 수 있는 광원 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 광원 장치는, 피크 파장이 서로 상이한 3개 이상의 LED 광원과,
제1의 LED 광원으로부터 방사된 방사광과, 제2의 LED 광원으로부터 방사된 방사광을 합성하는 제1의 다이크로익 미러와,
당해 제1의 다이크로익 미러에 의해 합성된 합성광과, 제3의 LED 광원으로부터 방사되는 방사광을 합성하는, 상기 제1의 다이크로익 미러와 파장 선택 특성이 상이한 제2의 다이크로익 미러를 갖고,
상기 제2의 다이크로익 미러는, 상기 제1의 다이크로익 미러에 의해 얻어지는 합성광을 반사함과 더불어 상기 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 투과하는 것임을 특징으로 한다.
본 발명의 광원 장치에 의하면, 제2의 다이크로익 미러가, 제1의 다이크로익 미러에 의해 얻어지는, 제1의 LED 광원으로부터의 방사광 및 제2의 LED 광원으로부터의 방사광의 합성광을 반사함과 더불어 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 투과하는 것임에 따라, 각각의 LED 광원으로부터의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 투과 회수의 합계를 가급적으로 적게 할 수 있으므로, 각각의 다이크로익 미러에 있어서는, 광이 다이크로익 미러에 의해 반사됨에 따른 방사광량의 감쇠의 정도에 비해, 광이 다이크로익 미러를 투과함에 따른 방사광량의 감쇠의 정도는 크다는 점으로부터, 광의 이용 효율을 한층 높게 할 수 있어 충분히 높은 휘도를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 광원 장치에 따른 광학계의 일례에 있어서의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 2는 제1의 LED 소자로부터의 방사광, 제2의 LED 소자로부터의 방사광 및 제3의 LED 소자로부터의 방사광의 합성광의 분광 분포 곡선을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 3은 본 발명의 광원 장치에 따른 광학계의 다른 예에 있어서의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 4는 종래에 있어서의 LED 소자를 이용한 광원 장치의 일례에 있어서의 광학계의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 5는 종래에 있어서의 LED 소자를 이용한 광원 장치의 다른 예에 있어서의 광학계의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 2는 제1의 LED 소자로부터의 방사광, 제2의 LED 소자로부터의 방사광 및 제3의 LED 소자로부터의 방사광의 합성광의 분광 분포 곡선을 개략적으로 나타내는 설명도이다.
도 3은 본 발명의 광원 장치에 따른 광학계의 다른 예에 있어서의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 4는 종래에 있어서의 LED 소자를 이용한 광원 장치의 일례에 있어서의 광학계의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
도 5는 종래에 있어서의 LED 소자를 이용한 광원 장치의 다른 예에 있어서의 광학계의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 상세하게 설명한다.
도 1은, 본 발명의 광원 장치에 따른 광학계의 일례에 있어서의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
이 광학계는, 각각, 서로 상이한 피크 파장 λ1〔nm〕, λ2〔nm〕 및 λ3〔nm〕(λ1>λ2>λ3)를 가지는 광을 방사하는 제1의 LED 광원, 제2의 LED 광원 및 제3의 LED 광원의 3개의 LED 광원의 각각의 방사광을 합성하는 것이다.
이 광학계에 있어서는, (원)판형상의 제1의 다이크로익 미러(51) 및 (원)판형상의 제2의 다이크로익 미러(56)가, 한쪽이 다른쪽에 대해 면방향으로 변위한 위치에서, 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면(51A)과 제2의 다이크로익 미러(56)의 타면(56B)이 서로 대향하도록 배치되어 있으며, 제1의 LED 광원을 구성하는 제1의 LED 소자(10)가, 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면측에 있어서, 제1의 LED 소자(10)의 광출사면(10A)의 중심축(C1)이 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면(51A)에 대해 경사진 상태로, 배치되어 있다.
그리고, 제2의 LED 광원을 구성하는 제2의 LED 소자(20)가, 제1의 다이크로익 미러(51)의 타면측에 있어서, 제2의 LED 소자(20)의 광출사면(20A)의 중심축(C2)이, 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면(51A)에 있어서의, 제1의 LED 소자(10)의 광출사면(10A)의 중심축(C1) 상의 위치와 교차하는 상태로, 제1의 다이크로익 미러(51)의 타면(51B)에 대해 경사져 신장되도록, 배치되어 있음과 더불어, 제3의 LED 광원을 구성하는 제3의 LED 소자(30)가, 제2의 다이크로익 미러(56)의 일면측에 있어서, 제3의 LED 소자(30)의 광출사면(30A)의 중심축(C3)이, 제2의 다이크로익 미러(56)의 타면(56B)에 있어서의, 제2의 LED 소자(20)의 광출사면(20A)의 중심축(C2) 상의 위치와 교차하는 상태로, 제2의 다이크로익 미러(56)의 일면(56A)에 대해 경사져 신장되도록, 배치되어 있다.
또, 각각의 LED 소자의 에텐듀(etendue)(방사 면적×입체각)는, 서로 같은 크기로 되어 있는 것이 바람직하고, 이에 의해, 각각의 LED 소자로부터의 방사광을 효율적으로 합성할 수 있다.
각각의 LED 소자(10, 20, 30)의 광방사 방향 전방의 위치에는, 각각, LED 소자(10(20, 30))로부터의 방사광을 평행광으로서 출사하는 콜리메이터 렌즈(61(62, 63))가 그 광축이 LED 소자(10(20, 30))의 광출사면(10A(20A, 30A))의 중심축(C1(C2, C3)) 상에 위치되도록 배치되어 있으며, 제1의 LED 소자(10)로부터의 방사광은, 제1의 콜리메이터 렌즈(61)에 의해 대략 평행광이 되어 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면(51A)에 조사된다. 또, 제2의 LED 소자(20)로부터의 방사광은, 제2의 콜리메이터 렌즈(62)에 의해 대략 평행광이 되어 제1의 다이크로익 미러(51)의 타면(51B)에, 제2의 LED 소자(20)로부터의 방사광이 제1의 다이크로익 미러(51)를 투과한 투과광의 출사 영역이 제1의 LED 소자(10)의 방사광의 조사 영역과 겹쳐지도록, 조사되고, 제3의 LED 소자(30)로부터의 방사광은, 제3의 콜리메이터 렌즈(63)에 의해 대략 평행광이 되어 제2의 다이크로익 미러(56)의 일면(56A)에, 제3의 LED 소자(30)로부터의 방사광이 제2의 다이크로익 미러(56)를 투과한 투과광의 출사 영역이 제1의 다이크로익 미러(51)에 의해 합성된 제1의 LED 소자(10)의 방사광 및 제2의 LED 소자(20)의 방사광의 합성광의 조사 영역에 겹쳐지도록, 조사된다.
제1의 다이크로익 미러(51)는, 제1의 LED 소자(10)의 피크 파장λ1과 제2의LED 소자(20)의 피크 파장λ2의 사이의 파장 범위 내에서 반사-투과 변환 파장(경계 파장)λO1(λ2<λO11<λ1)을 가지고, 반사-투과 변환 파장λO1보다 장파장의 광을 반사하고, 반사-투과 변환 λO1보다 단파장의 광을 투과하는 파장 선택 특성을 가진다.
제2의 다이크로익 미러(56)는, 제2의 LED 소자(20)의 피크 파장λ2과 제3의LED 소자(30)의 피크 파장λ3의 사이의 파장 범위 내에서 반사-투과 변환 파장(경계 파장)λO2(λ3<λO2<λ2)를 가지고, 반사-투과 변환 파장λO2보다 장파장의 광을 반사하고, 반사-투과 변환 파장λO2보다 단파장의 광을 투과하는 파장 선택 특성을 가진다.
이 광학계에 있어서는, 제1의 LED 소자(10)로부터의 방사광이 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면(51A)에 의해 반사된 반사광에, 제2의 LED 소자(20)로부터의 방사광이 제1의 다이크로익 미러(51)를 투과한 투과광이 합성되고, 제1의 다이크로익 미러(51)에 의한 합성광이 제2의 다이크로익 미러(56)의 타면(56B)에 의해 반사된 반사광에, 제3의 LED 소자(30)로부터의 방사광이 제2의 다이크로익 미러(56)를 투과한 투과광이 합성되고, 이에 의해, 도 2에 나타낸 바와 같은, 파장λ1〔nn〕, λ2〔nm〕및 λ3〔nm〕의 3개의 피크 파장을 가지는 연속한 넓은 파장 범위의 분광 분포 특성을 가지는 합성광이 출사된다.
그리고, 이러한 광학계를 구비한 광원 장치에 의하면, 제2의 다이크로익 미러(56)에 의해, 제1의 LED 소자(10)의 방사광 및 제2의 LED 소자(20)의 방사광의 합성광을 반사시킴과 더불어 제3의 LED 소자(30)로부터의 방사광을 투과시키고, 제1의 LED 소자(10)의 방사광, 제2의 LED 소자(20)의 방사광 및 제3의 LED 소자(30)로부터의 방사광을 합성하는 구성으로 되어 있음으로써, 제1의 LED 소자(10)의 방사광, 제2의 LED소자(20)의 방사광 및 제3의 LED 소자(30)의 각각이 제1의 다이크로익 미러(51)및 제2의 다이크로익 미러(56)를 투과하는 투과 회수의 합계를, 예를 들면 도 5에 나타낸 구성의 것에 비해 작게 할 수 있다. 즉, 도 5에 나타낸 구성의 광학계에서는, 제1의 LED 광원(90A)의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 회수가 2회, 제2의 LED 광원(90B)의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 회수가 1회, 제3의 LED 광원(90C)의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 회수가 0회로, 투과 회수의 합계가 3회인데 반해, 상기한 구성의 광학계에서는, 제1의 LED 소자(10)의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 회수가 0회, 제2의 LED 소자(20)의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 회수가 1회, 제3의 LED 소자(30)의 방사광이 다이크로익 미러를 투과하는 회수가 1회로, 투과 회수의 합계가 2회가 된다.
따라서, 각각의 다이크로익 미러에 있어서는, 광이 다이크로익 미러에 의해 반사됨에 따른 방사광량의 감쇠의 정도에 비해, 광이 다이크로익 미러를 투과함에 따른 방사광량의 감쇠의 정도는 크기 때문에, 다이크로익 미러를 투과하는 투과 회수의 합계가 가급적으로 적게 되는 상태로 구성되어 있음으로써, 광의 이용 효율을 한층 높게 할 수 있어 충분히 높은 휘도를 얻을 수 있다.
이상, 본 발명의 광원 장치의 일 실시형태에 대해서 설명했는데, 본 발명은, 상기 구성의 것으로 한정되는 것은 아니다.
도 3은, 본 발명의 광원 장치에 따른 광학계의 다른 예에 있어서의 구성의 개략을 나타내는 설명도이다.
이 광학계는, 각각, 서로 상이한 피크 파장 λ1〔nm〕, λ2〔nm〕, λ3〔nm〕및 λ4〔nm〕(λ1>λ2>λ3>λ4)를 가지는 광을 방사하는 제1의 LED 광원(101)으로부터의 방사광, 제2의 LED 광원(201)으로부터의 방사광, 제3의 LED 광원(301)으로부터의 방사광 및 제4의 LED 광원(401)으로부터의 방사광을 합성하는 것이다.
제1의 LED 광원(101)은, 제1의 LED 소자(10)와, 광축이 제1의 LED 소자(10)의 광출사면의 중심축에 일치하는 상태로 배치된, 제1의 LED 소자(10)로부터의 방사광을 대략 평행광으로서 조사하는 예를 들면 파라볼라 미러(102)에 의해 구성되어 있다. 또, 제2의 LED 광원(201), 제3의 LED 광원(301) 및 제4의 LED 광원(401)의 각각도, 제1의 LED 광원(101)과 동일한 구성을 가지고, LED 소자(20, 30, 40)와 파라볼라 미러(202, 302, 402)에 의해 구성되어 있다.
이 광학계에 있어서는, 원판형상의 제1의 다이크로익 미러(51), 원판형상의 제2의 다이크로익 미러(56) 및 원판형상의 제3의 다이크로익 미러(58)가, 예를 들면 동일한 평면(다이크로익 미러 배치면) 상에 나열되어, 배치되어 있으며, 제1의 LED 광원(101), 제2의 LED 광원(201), 제3의 LED 광원(301) 및 제4의 LED 광원(401)이, 다이크로익 미러 배치면의 일면측에 있어서의, 다이크로익 미러 배치면의 면방향으로 이간하여 나열된 위치에 있어서, 파라볼라 미러(102, 202, 302, 402)의 광축이 예를 들면 서로 평행하게 신장되도록 배치되어 있다. 또, 다이크로익 미러 배치면의 타면측에는, 3개의 반사 미러(70, 71, 72)가, 각각 대응하는 3개의 다이크로익 미러(51, 56, 58)의 각각에 대해 다이크로익 미러 배치면의 면방향으로 변위한 위치에 있어서, 반사면(70A, 71A, 72A)이 다이크로익 미러 배치면에 대향하도록 배치되어 있다.
제1의 다이크로익 미러(51)는, 제1의 LED 소자(10)의 피크 파장λ1와 제2의LED 소자(20)의 피크 파장λ2의 사이의 파장 범위 내에서 반사-투과 변환 파장(경계 파장)λO1(λ2<λO1<λ1)을 가지고, 반사-투과 변환 파장λO1보다 장파장의 광을 반사하고, 반사-투과 변환 파장λO1보다 단파장의 광을 투과하는 파장 선택 특성을 가진다.
제2의 다이크로익 미러(56)는, 제2의 LED 소자(20)의 피크 파장λ2와 제3의LED 소자(30)의 피크 파장 λ3의 사이의 파장 범위 내에서 반사-투과 변환 파장(경계 파장)λO2(λ3<λO2<λ2)을 가지고, 반사-투과 변환 파장λO2보다 장파장의 광을 반사하고, 반사-투과 변환 파장λO2보다 단파장의 광을 투과하는 파장 선택 특성을 가진다.
제3의 다이크로익 미러(58)는, 제3의 LED 소자(30)의 피크 파장λ3와 제4의LED 소자(40)의 피크 파장λ4의 사이의 파장 범위 내에서 반사-투과 변환 파장(경계 파장)λO3(λ4<λO3<λ3)을 가지고, 반사-투과 변환 파장λO3보다 장파장의 광을 반사하고, 반사-투과 변환 파장λO3보다 단파장의 광을 투과하는 파장 선택 특성을 가진다.
이 광학계에 있어서는, 제1의 다이크로익 미러(51)의 타면(51B)에 소정의 입사각으로 입사되는, 제1의 LED 광원(101)으로부터의 방사광이 반사 미러(70)에 의해 반사된 반사광이, 제1의 다이크로익 미러(51)의 타면(51B)에 의해 반사됨과 더불어, 제1의 다이크로익 미러(51)의 일면(51A)에 소정의 크기의 입사각으로 입사 되는 제2의 LED 광원(201)으로부터의 방사광이 제1의 다이크로익 미러(51)를 투과하고, 이에 의해, 제1의 LED 광원(101)으로부터의 방사광 및 제2의 LED 광원(201)으로부터의 방사광이 합성된다.
그리고, 제2의 다이크로익 미러(56)의 타면(56B)에 소정의 크기의 입사각으로 입사되는, 제1의 다이크로익 미러(51)에 의한 합성광이 제2의 반사 미러(71)에 의해 반사된 반사광이, 제2의 다이크로익 미러(56)의 타면(56B)에 의해 반사됨과 더불어, 제2의 다이크로익 미러(56)의 일면(56A)에 소정의 크기의 입사각으로 입사 되는, 제3의 LED 광원(301)으로부터의 방사광이 제2의 다이크로익 미러(56)를 투과하고, 이에 의해, 제1의 LED 광원(101)으로부터의 방사광 및 제2의 LED 광원(201)으로부터의 방사광의 합성광과, 제3의 LED 광원(301)으로부터의 방사광이 합성된다.
또한, 제3의 다이크로익 미러(58)의 타면(58B)에 소정의 크기의 입사각으로 입사되는, 제2의 다이크로익 미러(56)에 의한 합성광이 제3의 반사 미러(72)에 의해 반사된 반사광이, 제3의 다이크로익 미러(58)의 다른 면(58B)에 의해 반사됨과 더불어, 제3의 다이크로익 미러(58)의 일면(58A)에 소정의 크기의 입사각으로 입사 되는, 제4의 LED 광원(401)으로부터의 방사광이 제3의 다이크로익 미러(58)를 투과 하고, 이에 의해, 제1의 LED 광원(101)으로부터의 방사광, 제2의 LED 광원(201)으로부터의 방사광 및 제3의 LED 광원(301)으로부터의 방사광의 합성광과, 제4의 LED 광원(401)으로부터의 방사광이 합성된다.
이러한 구성의 광학계를 가지는 광원 장치에 있어서도, 도 1에 나타낸 구성의 광학계를 가지는 것과 동일한 효과, 즉, 다이크로익 미러를 투과하는 투과 회수의 합계가 가급적으로 적게 되는 상태로 구성되어 있음으로써, 광의 이용 효율을 한층 높게 할 수 있어 충분히 높은 휘도를 얻을 수 있다.
10:제1의 LED 소자
10A:광출사면
20:제2의 LED 소자
20A:광출사면
30:제3의 LED 소자
30A:광출사면
40:제4의 LED 소자
C1:기준축(제1의 LED 소자의 광출사면의 중심축)
C2:제2의 LED 소자의 광출사면의 중심축
C3:제3의 LED 소자의 광출사면의 중심축
51:제1의 다이크로익 미러
51A:일면
51B:타면
56:제2의 다이크로익 미러
56A:일면
56B:타면
58:제3의 다이크로익 미러
58A:일면
58B:타면
61:제1의 콜리메이터 렌즈
62:제2의 콜리메이터 렌즈
63:제3의 콜리메이터 렌즈
70:제1의 반사 미러
71:제2의 반사 미러
72:제 3의 반사 미러
70A, 71A, 72A:반사면
80:LED 발광부
81:타원면 반사경
82:구면 렌즈
83:원추 반사경
84:투광성 로드
85:콘덴서 렌즈
86:릴레이 렌즈
90A:제1의 LED 광원
90B:제2의 LED 광원
90C:제3의 LED 광원
91:제1의 다이크로익 미러
92:제2의 다이크로익 미러
93:콜리메이터 렌즈
S:노광면
101:제1의 LED 광원
201:제2의 LED 광원
301:제3의 LED 광원
401:제4의 LED 광원
102, 202, 302, 402:파라볼라 미러
10A:광출사면
20:제2의 LED 소자
20A:광출사면
30:제3의 LED 소자
30A:광출사면
40:제4의 LED 소자
C1:기준축(제1의 LED 소자의 광출사면의 중심축)
C2:제2의 LED 소자의 광출사면의 중심축
C3:제3의 LED 소자의 광출사면의 중심축
51:제1의 다이크로익 미러
51A:일면
51B:타면
56:제2의 다이크로익 미러
56A:일면
56B:타면
58:제3의 다이크로익 미러
58A:일면
58B:타면
61:제1의 콜리메이터 렌즈
62:제2의 콜리메이터 렌즈
63:제3의 콜리메이터 렌즈
70:제1의 반사 미러
71:제2의 반사 미러
72:제 3의 반사 미러
70A, 71A, 72A:반사면
80:LED 발광부
81:타원면 반사경
82:구면 렌즈
83:원추 반사경
84:투광성 로드
85:콘덴서 렌즈
86:릴레이 렌즈
90A:제1의 LED 광원
90B:제2의 LED 광원
90C:제3의 LED 광원
91:제1의 다이크로익 미러
92:제2의 다이크로익 미러
93:콜리메이터 렌즈
S:노광면
101:제1의 LED 광원
201:제2의 LED 광원
301:제3의 LED 광원
401:제4의 LED 광원
102, 202, 302, 402:파라볼라 미러
Claims (1)
- 피크 파장이 서로 상이한 3개 이상의 LED 광원과,
제1의 LED 광원으로부터 방사된 방사광과 제2의 LED 광원으로부터 방사된 방사광을 합성하는 제1의 다이크로익 미러와,
당해 제1의 다이크로익 미러에 의해 합성된 합성광과 제3의 LED 광원으로부터 방사되는 방사광을 합성하는, 상기 제1의 다이크로익 미러와 파장 선택 특성이 상이한 제2의 다이크로익 미러를 갖고,
상기 제2의 다이크로익 미러는, 상기 제1의 다이크로익 미러에 의해 얻어지는 합성광을 반사함과 더불어 상기 제3의 LED 광원으로부터의 방사광을 투과하는 것임을 특징으로 하는 광원 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010188150A JP5648372B2 (ja) | 2010-08-25 | 2010-08-25 | 光源装置 |
JPJP-P-2010-188150 | 2010-08-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120019367A true KR20120019367A (ko) | 2012-03-06 |
KR101444508B1 KR101444508B1 (ko) | 2014-09-24 |
Family
ID=45824726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110071476A KR101444508B1 (ko) | 2010-08-25 | 2011-07-19 | 광원 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5648372B2 (ko) |
KR (1) | KR101444508B1 (ko) |
CN (1) | CN102385162B (ko) |
TW (1) | TWI521162B (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6199591B2 (ja) * | 2013-04-12 | 2017-09-20 | 株式会社オーク製作所 | 光源装置および露光装置 |
US10754165B2 (en) * | 2014-11-07 | 2020-08-25 | PhotonX TherapeutX, Inc. | High efficiency optical combiner for multiple non-coherent light sources |
CN106151999A (zh) * | 2015-01-30 | 2016-11-23 | 欧帝尔光学镀膜有限公司 | 使用led或荧光粉转换光源的投射系统 |
NL2018317A (en) * | 2016-03-03 | 2017-09-07 | Asml Netherlands Bv | Wavelength combining of multiple sources |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3015201B2 (ja) * | 1992-05-06 | 2000-03-06 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置、投射型表示装置並びに光変調装置 |
JP2004335949A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2004335952A (ja) | 2002-12-27 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 照明光源装置、照明装置、露光装置、及び露光方法 |
US7212344B2 (en) * | 2004-02-27 | 2007-05-01 | Philips Lumileds Lighting Company, Llc | Illumination system with aligned LEDs |
TWI359282B (en) * | 2007-10-09 | 2012-03-01 | Coretronic Corp | Projector |
TWI375108B (en) * | 2007-12-14 | 2012-10-21 | Young Optics Inc | Light projection apparatus and light-mixing module thereof |
JP5077086B2 (ja) * | 2008-06-13 | 2012-11-21 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | 照明光学系および画像投影装置 |
CN101950083B (zh) * | 2010-07-30 | 2012-07-04 | 广东威创视讯科技股份有限公司 | 用于投影仪的led照明光路 |
-
2010
- 2010-08-25 JP JP2010188150A patent/JP5648372B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-07-05 TW TW100123668A patent/TWI521162B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-07-19 KR KR1020110071476A patent/KR101444508B1/ko active IP Right Grant
- 2011-08-18 CN CN201110237000.XA patent/CN102385162B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201209321A (en) | 2012-03-01 |
JP5648372B2 (ja) | 2015-01-07 |
TWI521162B (zh) | 2016-02-11 |
CN102385162B (zh) | 2015-09-02 |
JP2012047872A (ja) | 2012-03-08 |
CN102385162A (zh) | 2012-03-21 |
KR101444508B1 (ko) | 2014-09-24 |
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FPAY | Annual fee payment |
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