JP5648372B2 - 光源装置 - Google Patents
光源装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5648372B2 JP5648372B2 JP2010188150A JP2010188150A JP5648372B2 JP 5648372 B2 JP5648372 B2 JP 5648372B2 JP 2010188150 A JP2010188150 A JP 2010188150A JP 2010188150 A JP2010188150 A JP 2010188150A JP 5648372 B2 JP5648372 B2 JP 5648372B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dichroic mirror
- light
- light source
- led
- led light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/70391—Addressable array sources specially adapted to produce patterns, e.g. addressable LED arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7065—Production of alignment light, e.g. light source, control of coherence, polarization, pulse length, wavelength
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
また、LED素子から放射された光が集光光学系により集光していく過程において種々のロスが生ずることとなって光の利用効率が低下し、十分に高い輝度の光を得ることができない、という問題がある。
この光源装置は、図5に示すように、可視域の所定の波長範囲内において互いに異なるピーク波長を有する3つのLED光源90A,90B,90Cと、互いに波長選択特性の異なる第1のダイクロイックミラー91および第2のダイクロイックミラー92と、第1のLED光源90A、第2のLED光源90Bおよび第3のLED光源90Cの各々の光放射方向前方側に配置された、LED光源からの放射光を平行光としてダイクロイックミラーに出射するコリメータレンズ93とを有する。
この光源装置においては、第1のLED光源90Aからの放射光が第1のダイクロイックミラー91を透過した透過光に、第2のLED光源90Bからの放射光が第1のダイクロイックミラー91により反射された反射光が合成され、さらに、第1のダイクロイックミラー91による合成光が第2のダイクロイックミラー92を透過した透過光に、第3のLED光源90Cからの放射光が第2のダイクロイックミラー92により反射された反射光が合成される。
ピーク波長が互いに異なる第1のLED光源、第2のLED光源および第3のLED光源が、ダイクロイックミラー配置面の一面側における、ダイクロイックミラー配置面の面方向に離間して並んだ位置において、各LED光源からの光軸が互いに平行に伸びるよう配置され、
ダイクロイックミラー配置面の他面側には、第1の反射ミラーおよび第2の反射ミラーが、それぞれ対応する第1のダイクロイックミラーおよび第2のダイクロイックミラーの各々に対してダイクロイックミラー配置面の面方向に変位した位置において、各々の反射面がダイクロイックミラー配置面に対向するよう配置されており、
第1のLED光源からの放射光が第1の反射ミラーによって反射された反射光が第1のダイクロイックミラーによって反射されると共に、第1のダイクロイックミラーに入射される第2のLED光源からの放射光が第1のダイクロイックミラーを透過することにより、第1のLED光源からの放射光および第2のLED光源からの放射光が合成されると共に、
第2のダイクロイックミラーに入射される、第1のダイクロイックミラーによる合成光が第2の反射ミラーにより反射された反射光が、第2のダイクロイックミラーによって反射されると共に、第2のダイクロイックミラーに入射される第3のLED光源からの放射光が第2のダイクロイックミラーを透過することにより、第1のLED光源からの放射光および第2のLED光源からの放射光の合成光と、第3のLED光源からの放射光とが合成されることを特徴とする。
図1は、参照用の光源装置に係る光学系の一例における構成の概略を示す説明図である。
この光学系は、各々、互いに異なるピーク波長λ1 〔nm〕,λ2 〔nm〕およびλ3 〔nm〕(λ1 >λ2 >λ3 )を有する光を放射する第1のLED光源、第2のLED光源および第3のLED光源の3つのLED光源の各々の放射光を合成するものである。
この光学系においては、(円)板状の第1のダイクロイックミラー51および(円)板状の第2のダイクロイックミラー56が、一方が他方に対して面方向に変位した位置において、第1のダイクロイックミラー51の一面51Aと第2のダイクロイックミラー56の他面56Bとが互いに対向するよう配置されており、第1のLED光源を構成する第1のLED素子10が、第1のダイクロイックミラー51の一面側において、第1のLED素子10の光出射面10Aの中心軸C1が第1のダイクロイックミラー51の一面51Aに対して傾斜した状態で、配置されている。
そして、第2のLED光源を構成する第2のLED素子20が、第1のダイクロイックミラー51の他面側において、第2のLED素子20の光出射面20Aの中心軸C2が、第1のダイクロイックミラー51の一面51Aにおける、第1のLED素子10の光出射面10Aの中心軸C1上の位置と交わる状態で、第1のダイクロイックミラー51の他面51Bに対して傾斜して伸びるよう、配置されていると共に、第3のLED光源を構成する第3のLED素子30が、第2のダイクロイックミラー56の一面側において、第3のLED素子30の光出射面30Aの中心軸C3が、第2のダイクロイックミラー56の他面56Bにおける、第2のLED素子20の光出射面20Aの中心軸C2上の位置と交わる状態で、第2のダイクロイックミラー56の一面56Aに対して傾斜して伸びるよう、配置されている。
第2のダイクロイックミラー56は、第2のLED素子20のピーク波長λ2 と第3のLED素子30のピーク波長λ3 との間の波長範囲内において反射−透過変換波長(境界波長)λ02(λ3 <λ02<λ2 )を有し、反射−透過変換波長λ02より長波長の光を反射し、反射−透過変換波長λ02より短波長の光を透過する波長選択特性を有する。
従って、各々のダイクロイックミラーにおいては、光がダイクロイックミラーにより反射されることによる放射光量の減衰の程度に比して、光がダイクロイックミラーを透過することによる放射光量の減衰の程度は大きいので、ダイクロイックミラーを透過する透過回数の合計が可及的に少なくなる状態で構成されていることにより、光の利用効率を一層高くすることができて十分に高い輝度を得ることができる。
この光学系は、各々、互いに異なるピーク波長λ1 〔nm〕,λ2 〔nm〕,λ3 〔nm〕およびλ4 〔nm〕(λ1 >λ2 >λ3 >λ4 )を有する光を放射する第1のLED光源101からの放射光、第2のLED光源201からの放射光、第3のLED光源301からの放射光および第4のLED光源401からの放射光を合成するものである。
第2のダイクロイックミラー56は、第2のLED素子20のピーク波長λ2 と第3のLED素子30のピーク波長λ3 との間の波長範囲内において反射−透過変換波長(境界波長)λ02(λ3 <λ02<λ2 )を有し、反射−透過変換波長λ02より長波長の光を反射し、反射−透過変換波長λ02より短波長の光を透過する波長選択特性を有する。
第3のダイクロイックミラー58は、第3のLED素子30のピーク波長λ3 と第4のLED素子40のピーク波長λ4 との間の波長範囲内において反射−透過変換波長(境界波長)λ03(λ4 <λ03<λ3 )を有し、反射−透過変換波長λ03より長波長の光を反射し、反射−透過変換波長λ03より短波長の光を透過する波長選択特性を有する。
そして、第2のダイクロイックミラー56の他面56Bに所定の大きさの入射角で入射される、第1のダイクロイックミラー51による合成光が第2の反射ミラー71により反射された反射光が、第2のダイクロイックミラー56の他面56Bによって反射されると共に、第2のダイクロイックミラー56の一面56Aに所定の大きさの入射角で入射される、第3のLED光源301からの放射光が第2のダイクロイックミラー56を透過し、これにより、第1のLED光源101からの放射光および第2のLED光源201からの放射光の合成光と、第3のLED光源301からの放射光が合成される。
さらに、第3のダイクロイックミラー58の他面58Bに所定の大きさの入射角で入射される、第2のダイクロイックミラー56による合成光が第3の反射ミラー72により反射された反射光が、第3のダイクロイックミラー58の他面58Bによって反射されると共に、第3のダイクロイックミラー58の一面58Aに所定の大きさの入射角で入射される、第4のLED光源401からの放射光が第3のダイクロイックミラー58を透過し、これにより、第1のLED光源101からの放射光、第2のLED光源201からの放射光および第3のLED光源301からの放射光の合成光と、第4のLED光源401からの放射光が合成される。
10A 光出射面
20 第2のLED素子
20A 光出射面
30 第3のLED素子
30A 光出射面
40 第4のLED素子
C1 基準軸(第1のLED素子の光出射面の中心軸)
C2 第2のLED素子の光出射面の中心軸
C3 第3のLED素子の光出射面の中心軸
51 第1のダイクロイックミラー
51A 一面
51B 他面
56 第2のダイクロイックミラー
56A 一面
56B 他面
58 第3のダイクロイックミラー
58A 一面
58B 他面
61 第1のコリメータレンズ
62 第2のコリメータレンズ
63 第3のコリメータレンズ
70 第1の反射ミラー
71 第2の反射ミラー
72 第3の反射ミラー
70A,71A,72A 反射面
80 LED発光部
81 楕円面反射鏡
82 球面レンズ
83 円錐反射鏡
84 透光性ロッド
85 コンデンサレンズ
86 リレーレンズ
90A 第1のLED光源
90B 第2のLED光源
90C 第3のLED光源
91 第1のダイクロイックミラー
92 第2のダイクロイックミラー
93 コリメータレンズ
S 露光面
101 第1のLED光源
201 第2のLED光源
301 第3のLED光源
401 第4のLED光源
102,202,302,402 パラボラミラー
Claims (1)
- 第1のダイクロイックミラーおよび第2のダイクロイックミラーが、同一の平面であるダイクロイックミラー配置面上に並んで配置され、
ピーク波長が互いに異なる第1のLED光源、第2のLED光源および第3のLED光源が、ダイクロイックミラー配置面の一面側における、ダイクロイックミラー配置面の面方向に離間して並んだ位置において、各LED光源からの光軸が互いに平行に伸びるよう配置され、
ダイクロイックミラー配置面の他面側には、第1の反射ミラーおよび第2の反射ミラーが、それぞれ対応する第1のダイクロイックミラーおよび第2のダイクロイックミラーの各々に対してダイクロイックミラー配置面の面方向に変位した位置において、各々の反射面がダイクロイックミラー配置面に対向するよう配置されており、
第1のLED光源からの放射光が第1の反射ミラーによって反射された反射光が第1のダイクロイックミラーによって反射されると共に、第1のダイクロイックミラーに入射される第2のLED光源からの放射光が第1のダイクロイックミラーを透過することにより、第1のLED光源からの放射光および第2のLED光源からの放射光が合成されると共に、
第2のダイクロイックミラーに入射される、第1のダイクロイックミラーによる合成光が第2の反射ミラーにより反射された反射光が、第2のダイクロイックミラーによって反射されると共に、第2のダイクロイックミラーに入射される第3のLED光源からの放射光が第2のダイクロイックミラーを透過することにより、第1のLED光源からの放射光および第2のLED光源からの放射光の合成光と、第3のLED光源からの放射光とが合成されることを特徴とする光源装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010188150A JP5648372B2 (ja) | 2010-08-25 | 2010-08-25 | 光源装置 |
TW100123668A TWI521162B (zh) | 2010-08-25 | 2011-07-05 | Light source device |
KR1020110071476A KR101444508B1 (ko) | 2010-08-25 | 2011-07-19 | 광원 장치 |
CN201110237000.XA CN102385162B (zh) | 2010-08-25 | 2011-08-18 | 光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010188150A JP5648372B2 (ja) | 2010-08-25 | 2010-08-25 | 光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012047872A JP2012047872A (ja) | 2012-03-08 |
JP5648372B2 true JP5648372B2 (ja) | 2015-01-07 |
Family
ID=45824726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010188150A Expired - Fee Related JP5648372B2 (ja) | 2010-08-25 | 2010-08-25 | 光源装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5648372B2 (ja) |
KR (1) | KR101444508B1 (ja) |
CN (1) | CN102385162B (ja) |
TW (1) | TWI521162B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6199591B2 (ja) * | 2013-04-12 | 2017-09-20 | 株式会社オーク製作所 | 光源装置および露光装置 |
WO2016073952A1 (en) * | 2014-11-07 | 2016-05-12 | Uvlrx Therapeutics, Inc. | High efficiency optical combiner for multiple non-coherent light sources |
CN106151999A (zh) * | 2015-01-30 | 2016-11-23 | 欧帝尔光学镀膜有限公司 | 使用led或荧光粉转换光源的投射系统 |
NL2018317A (en) | 2016-03-03 | 2017-09-07 | Asml Netherlands Bv | Wavelength combining of multiple sources |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3015201B2 (ja) * | 1992-05-06 | 2000-03-06 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置、投射型表示装置並びに光変調装置 |
JP2004335949A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2004335952A (ja) | 2002-12-27 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 照明光源装置、照明装置、露光装置、及び露光方法 |
US7212344B2 (en) * | 2004-02-27 | 2007-05-01 | Philips Lumileds Lighting Company, Llc | Illumination system with aligned LEDs |
TWI359282B (en) * | 2007-10-09 | 2012-03-01 | Coretronic Corp | Projector |
TWI375108B (en) * | 2007-12-14 | 2012-10-21 | Young Optics Inc | Light projection apparatus and light-mixing module thereof |
JP5077086B2 (ja) * | 2008-06-13 | 2012-11-21 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | 照明光学系および画像投影装置 |
CN101950083B (zh) * | 2010-07-30 | 2012-07-04 | 广东威创视讯科技股份有限公司 | 用于投影仪的led照明光路 |
-
2010
- 2010-08-25 JP JP2010188150A patent/JP5648372B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-07-05 TW TW100123668A patent/TWI521162B/zh not_active IP Right Cessation
- 2011-07-19 KR KR1020110071476A patent/KR101444508B1/ko active IP Right Grant
- 2011-08-18 CN CN201110237000.XA patent/CN102385162B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102385162A (zh) | 2012-03-21 |
TWI521162B (zh) | 2016-02-11 |
CN102385162B (zh) | 2015-09-02 |
JP2012047872A (ja) | 2012-03-08 |
TW201209321A (en) | 2012-03-01 |
KR20120019367A (ko) | 2012-03-06 |
KR101444508B1 (ko) | 2014-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6186752B2 (ja) | 光源装置及び投影装置 | |
KR101766710B1 (ko) | 발광장치 및 상기 발광장치가 응용되는 투영 시스템 | |
KR101825537B1 (ko) | 발광 장치 및 프로젝션 시스템 | |
JP6195321B2 (ja) | 光源装置および投写型表示装置 | |
US20170293212A1 (en) | Illumination system and projection apparatus | |
US9279987B2 (en) | Optical element and lighting device | |
JP6697765B2 (ja) | 光源装置および投光装置 | |
JP6189338B2 (ja) | 発光装置、発光装置アッセンブリ及びこれに関連する投影システム | |
TWI459122B (zh) | 光學系統 | |
JP5648372B2 (ja) | 光源装置 | |
KR20170100637A (ko) | 소형 프로젝션 시스템 및 관련 구성요소 | |
JP2018510467A5 (ja) | ||
CN108073025B (zh) | 投影装置以及照明系统 | |
KR100565075B1 (ko) | 조명유니트 및 이를 채용한 화상투사장치 | |
CN113272705B (zh) | 准直器透镜、光源装置和图像显示装置 | |
US9904161B2 (en) | Lighting device for generating light by means of wavelength conversion | |
JP2010091846A (ja) | 投写型表示装置 | |
JP2012049226A (ja) | 光源装置 | |
JP2009238990A (ja) | 光源装置 | |
JP5851119B2 (ja) | 光源装置 | |
TWI734621B (zh) | 光源模組 | |
JP2019045529A (ja) | 光源装置、照明装置およびプロジェクター | |
JP6995122B2 (ja) | 車両のヘッドライトのためのレーザ照明モジュール | |
KR100619017B1 (ko) | 조명유니트 및 이를 채용한 화상투사장치 | |
JP2010286688A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141014 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141027 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5648372 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |