KR20120008559A - 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 - Google Patents
정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120008559A KR20120008559A KR1020100069290A KR20100069290A KR20120008559A KR 20120008559 A KR20120008559 A KR 20120008559A KR 1020100069290 A KR1020100069290 A KR 1020100069290A KR 20100069290 A KR20100069290 A KR 20100069290A KR 20120008559 A KR20120008559 A KR 20120008559A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- static mixer
- mixing
- etchant
- unit
- chamber
- Prior art date
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 74
- 230000003068 static effect Effects 0.000 title claims abstract description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000004063 acid-resistant material Substances 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 46
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 35
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Accessories For Mixers (AREA)
Abstract
Description
도2는 연결장치가 있는 에칭액 공급장치의 개략도이다.
도3은 정적혼합기와 혼합부의 실제 촬영도이다.
도4는 정적혼합기의 측면도 및 유체의 흐름을 나타낸 도면이다.
도5는 정적혼합기의 각 엘리먼트를 통과했을 때 혼합정도를 나타낸 도면이다.
도6은 엘리먼트가 각각 4, 8, 14, 20개 결합되어 있을 때의 혼합정도를 나타내는 도면이다.
도7은 혼합부와 챔버사이에 연결장치를 포함하는 에칭액 공급장치의 개략도이다.
도8은 상기 혼합부에 흡입장치가 구비된 에칭액 공급장치의 개략도이다.
도9는 농도감지센서를 장착한 에칭액공급장치의 개략도이다.
112 엘리먼트 120 혼합부 유입구
130 혼합부 배출구 150 농도감지센서
200 제어부 300 챔버
400 연결장치 410 결합부재
500 에칭액공급부 510 물공급부
600 흡입장치 700 에어콤프레셔
Claims (10)
- 기판 에칭 공정을 수행하는 챔버에 에칭액을 공급하는 에칭액공급장치에 있어서,
파이프 형태의 양 끝에 유입구, 배출구를 구비하고 내부에 에칭액과 물을 혼합하여 균일한 혼합액을 생성하도록 설치된 정적혼합기를 포함하는 혼합부;
상기 혼합부의 유입구와 연결되어 있으며 에칭액을 공급하는 에칭액 공급부;
상기 혼합부의 유입구와 연결되어 있으며 물을 공급하는 물 공급부;
상기 에칭액 공급부와 물 공급부에서 각각 공급하는 에칭액과 물의 공급량을 조절하기 위하여 상기 에칭액 공급부와 물 공급부를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하고 상기 혼합부의 배출구는 상기 챔버에 연결된 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치.
- 제1항에 있어서,
상기 혼합부의 배출구와 상기 챔버 사이에 연결장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제1항에 있어서,
상기 혼합부 내부의 정적혼합기는 1개 이상의 엘리먼트로 구성되어 있으며 각각의 엘리먼트는 시계방향 내지는 반시계방향으로 비틀려진 형상을 하고, 각각의 엘리먼트의 비틀림 방향을 달리하는 엘리먼트의 연속된 연결로 구성되는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제1항에 있어서,
상기 챔버 상단에 상기 정적혼합기가 포함된 혼합부의 배출구가 연결되어 노즐이 있는 챔버 상부 파이프에 물과 혼합된 에칭액이 공급되도록 하는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제2항에 있어서,
상기 연결장치가 상기 챔버의 상단에 연결되어 노즐이 있는 챔버 상부 파이프에 물과 혼합된 에칭액이 공급되도록 하는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제1항에 있어서,
상기 혼합부는 상기 챔버의 상단에 수직으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제1항에 있어서,
상기 혼합부의 유입구에 상기 혼합부에 남아 있는 혼합액을 제거하기 위한 흡입장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제1항에 있어서,
상기 혼합부의 유입구에 상기 혼합부에 남아 있는 혼합액을 완전히 소모하도록 하기 위해 에어콤프레셔를 포함하는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치. - 제1항에 있어서,
상기 혼합부의 배출구에 농도감지센서가 포함되어 있으며 상기 농도감지센서는 상기 제어부에 연결되어 설정농도와 다른 농도의 에칭액이 공급될 경우 이를 감지하여 상기 제어부에서 에칭액의 공급을 중단하도록 에칭액 공급부와 물 공급부를 제어하는 것을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 - 제1항에 있어서,
상기 혼합부 내의 상기 정적혼합기는 내산성 있는 재질로 되어 있음을 특징으로 하는 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100069290A KR20120008559A (ko) | 2010-07-19 | 2010-07-19 | 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100069290A KR20120008559A (ko) | 2010-07-19 | 2010-07-19 | 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120008559A true KR20120008559A (ko) | 2012-02-01 |
Family
ID=45833551
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100069290A KR20120008559A (ko) | 2010-07-19 | 2010-07-19 | 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20120008559A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10332762B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-06-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical liquid supply apparatus and semiconductor processing apparatus having the same |
KR20190138789A (ko) | 2017-04-19 | 2019-12-16 | 닛폰 고도시 코포레이션 | 전기 화학 소자용 세퍼레이터 및 전기 화학 소자 |
KR20200089672A (ko) | 2017-11-21 | 2020-07-27 | 닛폰 고도시 코포레이션 | 전기 화학 소자용 세퍼레이터 및 전기 화학 소자 |
-
2010
- 2010-07-19 KR KR1020100069290A patent/KR20120008559A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10332762B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-06-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical liquid supply apparatus and semiconductor processing apparatus having the same |
KR20190138789A (ko) | 2017-04-19 | 2019-12-16 | 닛폰 고도시 코포레이션 | 전기 화학 소자용 세퍼레이터 및 전기 화학 소자 |
KR20200089672A (ko) | 2017-11-21 | 2020-07-27 | 닛폰 고도시 코포레이션 | 전기 화학 소자용 세퍼레이터 및 전기 화학 소자 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4021309B2 (ja) | 液晶滴下装置及び液晶滴下量の制御方法 | |
CN204419150U (zh) | 一种压裂裂缝内支撑剂沉降及运移的模拟装置 | |
JP4578856B2 (ja) | 液晶滴下装置及び液晶滴下方法 | |
TWI381149B (zh) | 檢測化學液體洩漏之裝置及方法 | |
JP4863782B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
KR20120008559A (ko) | 정적혼합기를 이용한 에칭액 공급장치 | |
JP2006201768A (ja) | スペーサ情報を利用する液晶滴下装置及び液晶滴下方法 | |
JP4488808B2 (ja) | 液晶滴下装置 | |
CN206652677U (zh) | 一种用于涂胶设备的涂胶针头及涂胶设备 | |
WO2019127688A1 (zh) | 一种高粘度液体供排装置 | |
KR100987910B1 (ko) | 액정적하장치 및 액정적하방법 | |
KR101010450B1 (ko) | 액정적하장치 | |
KR100557500B1 (ko) | 액정용기의 정보가 판독 가능한 액정적하장치 및 이를이용한 액정적하방법 | |
KR102159913B1 (ko) | 유량제어시스템 | |
KR100996554B1 (ko) | 분리가능한 액정토출펌프를 구비한 액정적하장치 | |
KR20090005586A (ko) | 평판표시장치 제조용 슬릿 노즐 | |
KR100978258B1 (ko) | 액정적하장치 및 액정적하방법 | |
CN206445951U (zh) | 一种均匀湿化搅拌器 | |
WO2013121814A1 (ja) | 塗布装置 | |
KR100672252B1 (ko) | 액정적하장치 및 액정적하방법 | |
KR101015344B1 (ko) | 액정적하시스템 및 액정적하방법, 이를 이용한액정표시소자 제조방법 | |
KR101131249B1 (ko) | 액정적하장치 및 적하방법 | |
KR101186201B1 (ko) | 실리콘 공급장치 | |
CN206143063U (zh) | 一种用于刻蚀机的鼓泡装置 | |
KR100807588B1 (ko) | 효율적인 액정적하가 가능한 액정적하장치 및 적하방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20100719 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20110929 Patent event code: PE09021S01D |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20120824 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20110929 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |