KR20120008445A - Luminescent element and composition for forming particle-containing layer - Google Patents

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KR20120008445A
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유키오 마에다
아키히사 이노우에
우라라 다카야나기
유스케 무라타
노리야스 시노하라
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

PURPOSE: A light emitting device and a composition material for particle containing layer formation are provided to arrange a particle containing layer with a hardening material of a specific composition material, thereby improving light emitting efficiency by improving the refractive index of the particle containing layer. CONSTITUTION: A first electrode(13) is arranged on a substrate(11). A light-emitting layer(15) is arranged on the first electrode. A second electrode(17) is arranged on the light-emitting layer. A particle-containing layer(18) is arranged on the second electrode. Light generated from the light-emitting layer is extracted to the outside of a light emitting device(10) by passing the second electrode and particle-containing layer.

Description

발광 소자 및 입자 함유층 형성용 조성물 {LUMINESCENT ELEMENT AND COMPOSITION FOR FORMING PARTICLE-CONTAINING LAYER}LUMINESCENT ELEMENT AND COMPOSITION FOR FORMING PARTICLE-CONTAINING LAYER}

본 발명은 발광 소자 및, 발광 소자를 구성하는 입자 함유층의 재료로서 이용되는 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a light emitting element and a composition used as a material of the particle-containing layer constituting the light emitting element.

발광 소자는, 투명 기판의 표면에, 투명 양(陽)전극층, 발광 재료층 및, 음(陰)전극층이 이 순으로 적층된 기본 구성을 갖는다. 예를 들면, 유기 일렉트로 루미네선스 소자는, 그 양전극층으로부터 정공(正孔)을, 그 음전극층으로부터 전자를, 유기 재료로 이루어지는 발광 재료층의 내부에 주입하고, 발광 재료층의 내부에서 정공과 전자를 재결합시킴으로써, 여기자(엑시톤)를 생성시켜, 이 여기자가 실활될 때의 빛의 방출(형광, 인광)에 의해 발광하는 발광 소자이다. 발광 재료층에서 발생한 빛은, 투명 기판의 측으로부터 발광 소자의 외부로 취출된다.The light emitting element has a basic configuration in which a transparent positive electrode layer, a light emitting material layer, and a negative electrode layer are stacked in this order on the surface of a transparent substrate. For example, the organic electroluminescent device injects holes from the positive electrode layer and electrons from the negative electrode layer into the light emitting material layer made of an organic material, and holes inside the light emitting material layer. An exciton (exciton) is produced by recombination of electrons and electrons, and the light emitting element emits light by emission of light (fluorescence and phosphorescence) when the excitons are deactivated. Light generated in the light emitting material layer is taken out of the light emitting element from the side of the transparent substrate.

특허문헌 1에는, 폴리에테르술폰 수지, 폴리에테르이미드 수지 등의 고굴절률 수지를 이용한 고굴절률층을 갖는 발광 소자가 개시되어 있다.Patent Literature 1 discloses a light emitting device having a high refractive index layer using high refractive index resins such as polyether sulfone resin and polyetherimide resin.

일본공개특허공보 2004-296438호Japanese Patent Laid-Open No. 2004-296438

특허문헌 1에 기재된 투명 도전성 기판을 이용함으로써, 발광 소자가 발하는 빛을, 투명 기판의 측으로부터 어느 정도 효율 좋게 취출할 수 있다. 그러나, 발광 소자가 발하는 빛에 의해, 폴리에테르술폰 수지, 폴리에테르이미드 수지 등의 고굴절률 수지가 열화되어 버린다는 문제가 있다.By using the transparent conductive substrate of patent document 1, the light which a light emitting element emits can be taken out efficiently to some extent from the side of a transparent substrate. However, there exists a problem that high refractive index resins, such as a polyether sulfone resin and a polyether imide resin, deteriorate by the light which a light emitting element emits.

그래서 본 발명은, 발광 효율 및 내구성이 개선된 발광 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, an object of the present invention is to provide a light emitting device having improved luminous efficiency and durability.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정의 성분을 함유하는 입자 함유층을 구비한 발광 소자에 의하면, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성했다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, it discovered that the said objective could be achieved by the light emitting element provided with the particle | grain containing layer containing a specific component, and completed this invention.

즉, 본 발명은, 이하의 [1]~[7]을 제공하는 것이다.That is, this invention provides the following [1]-[7].

[1] 기판과 제1 전극과 발광층과 제2 전극과 입자 함유층을 구비하고, 상기 기판과 상기 제1 전극과 상기 발광층과 상기 제2 전극이 이 순으로 적층되어 이루어지고, 상기 입자 함유층은, 상기 제1 전극의, 상기 발광층이 형성된 측과는 반대측 및, 상기 제2 전극의, 상기 발광층이 형성된 측과는 반대측의 적어도 어느 한쪽에 형성되어 있고, 상기 입자 함유층이, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 함유하는 입자 함유층 형성용 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 발광 소자:[1] a substrate, a first electrode, a light emitting layer, a second electrode, and a particle containing layer, wherein the substrate, the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are laminated in this order; The first electrode is formed on at least one side opposite to the side on which the light emitting layer is formed and on the side opposite to the side on which the light emitting layer is formed of the second electrode, and the particle-containing layer comprises the following component (A) and A light emitting device comprising the cured product of the composition for forming a particle-containing layer containing the component (B):

(A) 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체;(A) at least one polymer selected from siloxane-based polymers, titanoxane-based polymers and these copolymers;

(B) 금속 산화물 입자.(B) metal oxide particles.

[2] 발광 소자가 유기 일렉트로 루미네선스 소자인, 상기 [1]에 기재된 발광 소자.[2] The light emitting element according to the above [1], wherein the light emitting element is an organic electroluminescent element.

[3] 상기 입자 함유층을 상기 기판과 상기 제1 전극과의 사이에 구비하여 이루어지는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 발광 소자.[3] The light emitting device according to [1] or [2], wherein the particle-containing layer is provided between the substrate and the first electrode.

[4] 상기 중합체가, 하기의 일반식 (1)로 나타나는 화합물 및 하기의 일반식 (2)로 나타나는 화합물로부터 선택되는 적어도 일종의 화합물이 축합하여 이루어지는 중합체인 상기 [1]~[3] 중 어느 것에 기재된 발광 소자:[4] Any of the above [1] to [3], wherein the polymer is a polymer obtained by condensation of at least one compound selected from a compound represented by the following General Formula (1) and a compound represented by the following General Formula (2). Light emitting element described in:

(R1)pSi(X)4-p …(1)(R 1 ) p Si (X) 4-p ... (One)

[일반식 (1) 중, R1은 탄소수가 1~12인 비(非)가수분해성의 유기기, X는 가수분해성 기 및, p는 0~3 중 정수임];[In General Formula (1), R 1 is a non-hydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon atoms, X is a hydrolyzable group, and p is an integer of 0 to 3;

     (R1)pTi(X)4-p …(2)(R 1 ) p Ti (X) 4-p ... (2)

[일반식 (2) 중, R1은 탄소수가 1~12인 비가수분해성의 유기기, X는 가수분해성 기 및, p는 0~3의 정수임].[In General Formula (2), R <1> is a non-hydrolyzable organic group whose carbon number is 1-12, X is a hydrolysable group, and p is an integer of 0-3.].

[5] 상기 (B) 성분의 배합량이, 상기 (A) 성분 100질량부에 대하여, 50~2,000질량부인, 상기 [1]~[4] 중 어느 것에 기재된 발광 소자.[5] The light emitting element according to any one of [1] to [4], wherein a compounding amount of the component (B) is 50 to 2,000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

[6] 상기 (B) 성분은, 수 평균 1차 입자 지름이 1~100㎚의 미립자인, 상기 [1]~[5] 중 어느 것에 기재된 발광 소자.[6] The light emitting device according to any one of [1] to [5], in which the component (B) is a fine particle having a number average primary particle diameter of 1 to 100 nm.

[7] 상기 [1]~[6] 중 어느 것에 기재된 발광 소자의 입자 함유층을 형성하기 위한 조성물로서, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 입자 함유층 형성용 조성물:[7] A composition for forming a particle-containing layer, comprising the following component (A) and (B) as a composition for forming the particle-containing layer of the light emitting device according to any one of the above [1] to [6]:

(A) 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체;(A) at least one polymer selected from siloxane-based polymers, titanoxane-based polymers and these copolymers;

(B) 금속 산화물 입자.(B) metal oxide particles.

본 발명의 발광 소자는, 특정의 조성물의 경화물로 이루어지는 입자 함유층을 구비하고 있고, 당해 입자 함유층의 굴절률이 높기 때문에, 우수한 발광 효율을 갖는다.The light emitting element of this invention is equipped with the particle | grain containing layer which consists of hardened | cured material of a specific composition, and since the refractive index of the said particle | grain containing layer is high, it has the outstanding luminous efficiency.

또한, 본 발명의 발광 소자는, 내구성도 우수하기 때문에, 엄격한 사용 조건하에서라도, 장기에 걸쳐 성능을 저하시키지 않고 이용할 수 있다. Moreover, since the light emitting element of this invention is excellent also in durability, it can be used, even under severe use conditions, without degrading performance over a long term.

도 1은 본 발명의 발광 소자의 실시 형태예 1을 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 발광 소자의 실시 형태예 2를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 발광 소자의 실시 형태예 3을 개념적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view conceptually showing Embodiment 1 of a light emitting device of the present invention.
Fig. 2 is a sectional view conceptually showing Embodiment 2 of the light emitting device of the present invention.
3 is a cross-sectional view conceptually showing Embodiment 3 of a light emitting device of the present invention.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form to carry out invention)

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 발광 소자의 여러 가지의 실시 형태예를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, various embodiment examples of the light emitting element of this invention are described with reference to drawings.

도 1 중, 발광 소자(10)는, 본 발명의 발광 소자의 실시 형태예 1이다. 발광 소자(10)는, 기판(11), 제1 전극(13), 발광층(15), 제2 전극(17) 및, 입자 함유층(18)이 차례로 적층된 구조를 갖는다. 제2 전극(17)은 투과형 전극이며, 발광층(15)에서 생성한 빛은, 제2 전극(17) 및 입자 함유층(18)을 통과하여, 발광 소자(10)의 외부로 취출될 수 있다.In FIG. 1, the light emitting element 10 is Embodiment 1 of the light emitting element of this invention. The light emitting element 10 has a structure in which the substrate 11, the first electrode 13, the light emitting layer 15, the second electrode 17, and the particle containing layer 18 are sequentially stacked. The second electrode 17 is a transmissive electrode, and the light generated by the light emitting layer 15 may pass through the second electrode 17 and the particle-containing layer 18 and may be extracted to the outside of the light emitting device 10.

기판(11)으로서는, 일반적인 발광 소자에서 사용되는 기판을 사용할 수 있지만, 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급 용이성 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판이 바람직하다.As the board | substrate 11, although the board | substrate used with a general light emitting element can be used, the glass substrate or transparent plastic substrate which is excellent in mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, handling property, and waterproofness is preferable.

제1 전극(13)은, 기판(11)의 상면에 제1 전극 형성용 물질을 증착법 또는 스퍼터링법 등을 이용하여 공급함으로써 형성된다. 제1 전극(13)은, 후술하는 발광층(15)에 맞닿는 제1 면 및, 기판(11)에 맞닿는 제2 면을 갖는다. 제1 전극 형성용 물질로서는, 투명이고 전도성이 우수한 산화 인듐 주석(ITO), 산화 인듐 아연(IZO), 산화 주석(SnO2), 산화 아연(ZnO) 등을 이용할 수 있다. 혹은, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등을 이용하면, 제1 전극(13)을 반사형 전극으로서 형성할 수 있다.The first electrode 13 is formed by supplying a material for forming the first electrode to the upper surface of the substrate 11 by vapor deposition, sputtering, or the like. The 1st electrode 13 has the 1st surface which contact | connects the light emitting layer 15 mentioned later, and the 2nd surface which contact | connects the board | substrate 11. As shown in FIG. As the material for forming the first electrode, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), or the like which is transparent and excellent in conductivity can be used. Alternatively, when magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag), or the like is used, The electrode 13 can be formed as a reflective electrode.

발광층(15)은, 전계가 인가됨으로써 발광 현상을 나타내는 물질에 의해 성막 된 것이다. 이러한 물질로서는, 부활(付活) 산화 아연 ZnS:X(단, X는, Mn, Tb, Cu, Sm 등의 부활 원소임), CaS:Eu, SrS:Ce, SrGa2S4:Ce, CaGa2S4:Ce, CaS:Pb, BaAl2S4:Eu 등의 종래부터 사용되고 있는 무기 EL 물질, 8-하이드록시퀴놀린의 알루미늄 착체, 방향족 아민류, 안트라센 단결정 등의 저(低)분자 색소계의 유기 EL 물질, 폴리(p-페닐렌비닐렌), 폴리[2-메톡시-5-(2-에틸헥실옥시)-1,4-페닐렌비닐렌], 폴리(3-알킬티오펜), 폴리비닐카르바졸 등의 공액 고분자계의 유기 EL 물질 등, 종래부터 사용되고 있는 유기 EL 물질을 이용할 수 있다. 발광층(15)의 두께는, 통상 10~1000㎚, 바람직하게는 30~500㎚, 더욱 바람직하게는 50~200㎚이다. 발광층(15)은, 증착이나 스퍼터링 등의 진공 성막 프로세스, 혹은 클로로포름 등을 용매로 하는 도포 프로세스에 의해 형성할 수 있다.The light emitting layer 15 is formed by a material exhibiting a light emission phenomenon by applying an electric field. Examples of such a substance include activated zinc oxide ZnS: X (where X is an activated element such as Mn, Tb, Cu, Sm, etc.), CaS: Eu, SrS: Ce, and SrGa 2 S 4 : Ce, CaGa. 2 S 4: Ce, CaS: Pb, BaAl 2 S 4: a low (低) dye molecule-based aluminum complex, such as an aromatic amine, an anthracene single crystal of 8-hydroxyquinoline inorganic EL materials conventionally used, such as Eu Organic EL materials, poly (p-phenylenevinylene), poly [2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene], poly (3-alkylthiophene) Conventionally used organic EL materials, such as conjugated polymer type organic EL materials, such as polyvinylcarbazole, can be used. The thickness of the light emitting layer 15 is 10-1000 nm normally, Preferably it is 30-500 nm, More preferably, it is 50-200 nm. The light emitting layer 15 can be formed by a vacuum film forming process such as vapor deposition or sputtering, or a coating process using chloroform or the like as a solvent.

제2 전극(17)은, 전자 주입 전극인 캐소드이다. 제2 전극(17)의 형성용의 금속으로서는, 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등을 들 수 있다. 이들 금속을 박막에 형성함으로써, 투과형 전극을 얻을 수 있다. 한편, 소자측으로부터 빛을 취출하는 톱 에미션 방식의 발광 소자를 얻기 위해, ITO, IZO를 이용한 투과형 전극을 형성할 수도 있다.The second electrode 17 is a cathode which is an electron injection electrode. Examples of the metal for forming the second electrode 17 include lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), and magnesium-indium (Mg-In). And magnesium-silver (Mg-Ag). By forming these metals in a thin film, a transmissive electrode can be obtained. On the other hand, in order to obtain the light emitting element of the top emission system which takes out light from the element side, the transmissive electrode using ITO and IZO can also be formed.

입자 함유층(18)은 하기 (A) 성분 및 하기(B) 성분을 함유하는 입자 함유층 형성용 조성물의 경화물이다.The particle containing layer 18 is a hardened | cured material of the composition for particle | grain containing layer formation containing the following (A) component and the following (B) component.

본 발명에 이용되는 각 성분에 대해서 상세하게 설명한다.Each component used for this invention is demonstrated in detail.

[(A) 성분 ; 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체][(A) component; Siloxane-based polymers, titanoxane-based polymers and at least one polymer selected from these copolymers]

실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체로서는, 예를 들면, 하기 일반식 (1)로 나타나는 화합물 및 하기 일반식 (2)로 나타나는 화합물로부터 선택되는 적어도 일종의 화합물이 축합하여 이루어지는 중합체를 들 수 있다.As the at least one polymer selected from the siloxane polymer, the titanoxane polymer and these copolymers, for example, at least one compound selected from the compound represented by the following general formula (1) and the compound represented by the following general formula (2) And polymers formed by condensation.

(R1)pSi(X)4-p …(1)(R 1 ) p Si (X) 4-p ... (One)

[일반식 (1) 중, R1은 탄소수가 1~12인 비가수분해성의 유기기, X는 가수분해성 기 및, p는 0~3의 정수임];[In General Formula (1), R 1 is a non-hydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon atoms, X is a hydrolyzable group, and p is an integer of 0 to 3;

(R1)pTi(X)4-p …(2)(R 1 ) p Ti (X) 4-p ... (2)

[일반식 (2) 중, R1은 탄소수가 1~12인 비가수분해성의 유기기, X는 가수분해성 기 및, p는 0~3의 정수임].[In General Formula (2), R <1> is a non-hydrolyzable organic group whose carbon number is 1-12, X is a hydrolysable group, and p is an integer of 0-3.].

일반식 (1) 및 일반식 (2) 중의 X로 나타나는 가수분해성 기는, 통상, 무촉매 그리고 과잉의 물의 존재하에서 실온(25℃)~100℃의 온도 범위 내에서 가열함으로써, 알콕시기 등의 가수분해성 기가 가수분해되어 실라놀기 또는 티타놀기를 생성할 수 있는 기이다. 또한, 가수분해성 기는, 가수분해 후에 추가로 축합하여 실록산 축합물 또는 티타녹산 축합물을 형성할 수 있다.Hydrolyzable groups represented by X in General formula (1) and General formula (2) are usually heated in the temperature range of room temperature (25 degreeC)-100 degreeC in presence of a non-catalyst and excess water, and a valence such as an alkoxy group Degradable groups are groups that can be hydrolyzed to produce silanol groups or titanol groups. In addition, the hydrolyzable group may be further condensed after hydrolysis to form a siloxane condensate or a titanoxane condensate.

  일반식 (1) 중의 첨자 p는, 0~3의 정수, 바람직하게는 0~2의 정수이다.The subscript p in General formula (1) is an integer of 0-3, Preferably it is an integer of 0-2.

 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체는, 실라놀기 또는 티타놀기를 포함하는 것이 바람직하다. 당해 실라놀기 및 티타놀기에 포함되는 수산기의 수는, 중합체 중의 규소 원자 및 티탄 원자의 수의 총합에 대하여, 바람직하게는 15~300%, 보다 바람직하게는 30~250%, 더욱 바람직하게는 50~200%이다. 실라놀기 및 티타놀기에 포함되는 수산기의 수가 중합체 중의 규소 원자 및 티탄 원자의 수의 총합에 대하여 상기 범위 내이면, 금속 산화물 입자의 분산성이 우수한 입자 함유층 형성용 조성물이 얻어지고, 나아가서는 굴절률이 높고, 투명성, 내열성, 크랙 내성 및 내광성이 우수한 막이 얻어진다.It is preferable that the at least 1 sort (s) of polymer chosen from a siloxane type polymer, a titanoxane type polymer, and these copolymers contain a silanol group or a titanol group. The number of hydroxyl groups contained in the silanol group and the titanol group is preferably 15 to 300%, more preferably 30 to 250%, further preferably 50 to the total of the number of silicon atoms and titanium atoms in the polymer. It is-200%. When the number of hydroxyl groups contained in the silanol group and the titanol group is within the above range with respect to the sum of the number of silicon atoms and titanium atoms in the polymer, a composition for forming a particle-containing layer having excellent dispersibility of metal oxide particles is obtained. A film that is high and excellent in transparency, heat resistance, crack resistance and light resistance is obtained.

실록산계 중합체는, 일부에 미(未)가수분해의 가수분해성 기가 남아 있어도 된다. 또한, 실록산계 중합체는, 일부의 실라놀기 또는 가수분해성 기끼리가 축합 한 부분 축합물이라도 된다.In the siloxane polymer, a microhydrolyzable hydrolyzable group may remain in part. The siloxane polymer may be a partial condensate obtained by condensation of some silanol groups or hydrolyzable groups.

일반식 (1) 및 일반식 (2) 중의 유기기 R1은, 탄소수가 1~12인 비가수분해성의 유기기이다. 유기기 R1에 있어서의 비가수분해성이란, 가수분해성 기 X가 가수분해되는 조건에 있어서, 그대로 안정되게 존재하는 성질인 것을 의미한다.The organic group R 1 in General Formula (1) and General Formula (2) is a non-hydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon atoms. The non-hydrolyzable property in organic group R <1> means that it is a property to remain stable as it is on the conditions by which hydrolyzable group X hydrolyzes.

유기기 R1로서는, 예를 들면, 탄소수 1~12의 탄화 수소기, 탄소수 1~12의 할로겐화 탄화 수소기 등을 들 수 있다. 유기기 R1은, 직쇄상, 분기상, 환상 혹은 이들의 조합이라도 좋다. 또한, 유기기 R1은, 헤테로 원자를 포함하는 구조 단위를 갖고 있어도 좋다. 그러한 구조 단위로서는, 에테르 결합, 에스테르 결합, 술피드 결합 등을 예시할 수 있고, 이러한 결합을 포함하는 유기기 R1로서는, 예를 들면, 옥세타닐기, 옥시라닐기 등의 에폭시기를 갖는 기, (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 기 등을 들 수 있다.As the organic group R 1, for example, there may be mentioned hydrocarbon groups of 1 to 12 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms and the like. The organic group R 1 may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof. In addition, the organic group R 1 may have a structural unit containing a hetero atom. Group includes such structural units, may be mentioned an ether bond, an ester bond, sulfide bond or the like, Examples of the organic group R 1 comprising such a combination, for example, having an epoxy group such as an oxetanyl group, an oxiranyl group, The group etc. which have a (meth) acryloyloxy group are mentioned.

유기기 R1에 있어서 탄소수 1~12의 탄화 수소기로서는, 반응성 및 얻어지는 막의 크랙 내성의 관점에서, 탄소수 1~8의 탄화 수소기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~4의 탄화 수소기인 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기 등의 지방족 탄화 수소기, 사이클로프로필기, 사이클로부틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기 등의 지환족 탄화 수소기, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 벤질기 등의 방향족 탄화 수소기를 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, 페닐기, 메틸페닐기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기인 것이 보다 바람직하다.In view of the organic group R in the first 1 to 12 carbon atoms carbide as a hydrogen group, a reactivity and the obtained film of the crack resistance, and preferably hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably hydrocarbon group having from 1 to 4 carbon atoms . Specifically, aliphatic hydrocarbon groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group and t-butyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and cyclo Aromatic hydrocarbon groups, such as an alicyclic hydrocarbon group, such as a hexyl group, a phenyl group, a methylphenyl group, an ethylphenyl group, and a benzyl group, are mentioned, A methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, t-butyl group, a phenyl group, It is preferable that it is a methylphenyl group, and it is more preferable that it is a methyl group and an ethyl group.

또한, 유기기 R1에 있어서 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1~12의 탄화 수소기로서는, 불소화 탄화 수소기, 염소화 탄화 수소기, 브롬화 탄화 수소기를 들 수 있으며, 불소화 탄화 수소기인 것이 보다 바람직하다. 당해 탄화 수소기의 탄소수는, 반응성 및 얻어지는 막의 크랙 내성의 관점에서, 바람직하게는 1~4이다.Further, the organic halogen atom-substituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms in R 1, may be a fluorinated hydrocarbon group, a chlorinated hydrocarbon group, a group brominated hydrocarbon, more preferably a fluorinated hydrocarbon group. Carbon number of the said hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-4 from a viewpoint of reactivity and the crack tolerance of the film | membrane obtained.

구체적으로는 클로로메틸기, 디클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 퍼플루오로-n-프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로-n-부틸기, 퍼플루오로이소부틸기, 퍼플루오로-t-부틸기를 들 수 있고, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 퍼플루오로-n-프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로-t-부틸기인 것이 바람직하고, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기인 것이 보다 바람직하다.Specifically, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, perfluoro-n-propyl Group, perfluoroisopropyl group, perfluoro-n-butyl group, perfluoroisobutyl group, perfluoro-t-butyl group, and a fluoromethyl group, difluoromethyl group, and trifluoromethyl group And a 2,2,2-trifluoroethyl group, a pentafluoroethyl group, a perfluoro-n-propyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluoro-t-butyl group, and a fluoromethyl group and di It is more preferable that they are a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2, 2- trifluoroethyl group, and a pentafluoroethyl group.

일반식 (1) 및 일반식 (2)에 있어서의 가수분해성 기 X로서는, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1~12의 알콕시기, 탄소수 1~12의 할로겐화 알콕시기, 탄소수 2~12의 아실옥시기, 탄소수 2~12의 할로겐화 아실옥시기 등을 들 수 있다. 탄소수 1~12의 알콕시기의 바람직한 예로서는, 메톡시기, 에톡시기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자의 바람직한 예로서는, 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다. 아실옥시기의 바람직한 예로서는, 아세톡시기, 프로피오닐옥시기, 부틸로일옥시 등을 들 수 있다.As hydrolyzable group X in General formula (1) and (2), a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C12 alkoxy group, a C1-C12 halogenated alkoxy group, C2-C12 acyl jade And a halogenated acyloxy group having 2 to 12 carbon atoms may be mentioned. A methoxy group, an ethoxy group, etc. are mentioned as a preferable example of a C1-C12 alkoxy group. Preferred examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Preferable examples of the acyloxy group include an acetoxy group, propionyloxy group, butyloyloxy and the like.

일반식 (1)로 나타나는 가수분해성 실란 화합물(이하, 실란 화합물이라고 생략하는 경우가 있음)의 구체예를 설명한다.The specific example of the hydrolyzable silane compound (Hereinafter, it may abbreviate as a silane compound) represented by General formula (1) is demonstrated.

4개의 가수분해성 기를 갖는 실란 화합물로서는, 테트라클로로실란, 테트라아미노실란, 테트라아세톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라부톡시실란, 테트라페녹시실란, 테트라벤질옥시실란, 트리메톡시실란, 트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane compound having four hydrolyzable groups include tetrachlorosilane, tetraaminosilane, tetraacetoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraphenoxysilane, tetrabenzyloxysilane and trimeth Oxysilane, triethoxysilane, etc. are mentioned.

3개의 가수분해성 기를 갖는 실란 화합물로서는, 메틸트리클로로실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리부톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리이소프로폭시실란, 에틸트리부톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 펜타플루오로페닐트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, d3-메틸트리메톡시실란, 노나플루오로부틸에틸트리메톡시실란, 트리플루오로메틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane compound having three hydrolyzable groups include methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane and ethyltributoxy Silane, butyltrimethoxysilane, pentafluorophenyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, d 3 -methyltrimethoxysilane, nonafluorobutylethyltrimethoxysilane, trifluoromethyltrimethoxysilane Etc. can be mentioned.

2개의 가수분해성 기를 갖는 실란 화합물로서는, 디메틸디클로로실란, 디메틸디아미노실란, 디메틸디아세톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디부틸디메톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane compound having two hydrolyzable groups include dimethyldichlorosilane, dimethyldiaminosilane, dimethyldiacetoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dibutyldimethoxysilane, and the like.

1개의 가수분해성 기를 갖는 실란 화합물로서는, 트리메틸클로로실란, 헥사메틸디실라잔, 트리메틸실란, 트리부틸실란, 트리메틸메톡시실란, 트리부틸에톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane compound having one hydrolyzable group include trimethylchlorosilane, hexamethyldisilazane, trimethylsilane, tributylsilane, trimethylmethoxysilane, tributylethoxysilane, and the like.

일반식 (2)로 나타나는 가수분해성 티탄 화합물(이하, 티탄 화합물이라고 생략하는 경우가 있음)의 구체예를 설명한다.The specific example of the hydrolyzable titanium compound represented by General formula (2) (hereinafter, it may abbreviate as a titanium compound) is demonstrated.

4개의 가수분해성 기를 갖는 티탄 화합물로서는, 테트라클로로티탄, 테트라 아미노티탄, 테트라아세톡시티탄, 테트라메톡시티탄, 테트라에톡시티탄, 테트라부톡시티탄, 테트라페녹시티탄, 테트라벤질옥시티탄, 트리메톡시티탄, 트리에톡시티탄 등을 들 수 있다.Examples of the titanium compound having four hydrolyzable groups include tetrachlorotitanium, tetra aminotitanium, tetraacetitanium titanium, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetrabutoxytitanium, tetraphenoxytitanium, tetrabenzyloxytitanium and trimeth Oxytitanium, triethoxytitanium, and the like.

3개의 가수분해성 기를 갖는 티탄 화합물로서는, 메틸트리클로로티탄, 메틸트리메톡시티탄, 메틸트리에톡시티탄, 메틸트리부톡시티탄, 에틸트리메톡시티탄, 에틸트리이소프로폭시티탄, 에틸트리부톡시티탄, 부틸트리메톡시티탄, 펜타플루오로페닐트리메톡시티탄, 페닐트리메톡시티탄, d3-메틸트리메톡시티탄, 노나플루오로부틸에틸트리메톡시티탄, 트리플루오로메틸트리메톡시티탄 등을 들 수 있다.Examples of the titanium compound having three hydrolyzable groups include methyltrichlorotitanium, methyltrimethoxytitanium, methyltriethoxytitanium, methyltributoxytitanium, ethyltrimethoxytitanium, ethyltriisopropoxytitanium and ethyltributoxy Titanium, butyltrimethoxytitanium, pentafluorophenyltrimethoxytitanium, phenyltrimethoxytitanium, d 3 -methyltrimethoxytitanium, nonafluorobutylethyltrimethoxytitanium, trifluoromethyltrimethoxytitanium Etc. can be mentioned.

2개의 가수분해성 기를 갖는 티탄 화합물로서는, 디메틸디클로로티탄, 디메틸디아미노티탄, 디메틸디아세톡시티탄, 디메틸디메톡시티탄, 디페닐디메톡시티탄, 디부틸디메톡시티탄 등을 들 수 있다.Examples of the titanium compound having two hydrolyzable groups include dimethyldichlorotitanium, dimethyldiaminotitanium, dimethyldiacetoxytitanium, dimethyldimethoxytitanium, diphenyldimethoxytitanium and dibutyldimethoxytitanium.

1개의 가수분해성 기를 갖는 티탄 화합물로서는, 트리메틸클로로티탄, 트리메틸티탄, 트리부틸티탄, 트리메틸메톡시티탄, 트리부틸에톡시티탄 등을 들 수 있다. Examples of the titanium compound having one hydrolyzable group include trimethylchlorotitanium, trimethyltitanium, tributyltitanium, trimethylmethoxytitanium and tributylethoxytitanium.

(A) 성분인 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체의 분자량에 대해서 설명한다. 이러한 분자량은, 이동상에 테트라하이드로푸란을 사용한 겔 투과 크로마토그래피(이하, GPC라고 생략하는 경우가 있음)를 이용하여, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량으로서 측정할 수 있다.The molecular weight of the at least 1 sort (s) of polymer chosen from the siloxane type polymer, titanoxane type polymer which are (A) component, and these copolymers is demonstrated. Such molecular weight can be measured as a weight average molecular weight of polystyrene conversion using gel permeation chromatography (hereinafter sometimes referred to as GPC) using tetrahydrofuran in the mobile phase.

실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 500~100,000, 보다 바람직하게는 800~30,000, 더욱 바람직하게는 1,000~5,000이다. 당해 값이 500 미만에서는, 경화막의 형성시의 크랙 내성이 저하되는 경향이 있다. 당해 값이 100,000을 초과하면, (B) 성분인 금속 산화물 입자의 분산성이 저하되는 경향이 있다.The weight average molecular weight of the siloxane polymer, the titanoxane polymer, and at least one polymer selected from these copolymers is preferably 500 to 100,000, more preferably 800 to 30,000, still more preferably 1,000 to 5,000. When the said value is less than 500, there exists a tendency for the crack tolerance at the time of formation of a cured film to fall. When the said value exceeds 100,000, there exists a tendency for the dispersibility of the metal oxide particle which is (B) component to fall.

실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체를 얻을 때의 촉매는, 금속 킬레이트 화합물, 산성 화합물 및, 염기성 화합물로부터 선택된 적어도 1종의 화합물인 것이 바람직하고, 산성 화합물인 것이 보다 바람직하다.The catalyst for obtaining at least one kind of polymer selected from a siloxane polymer, a titanoxane polymer and these copolymers is preferably at least one compound selected from a metal chelate compound, an acidic compound and a basic compound. It is more preferable.

(d-1) 금속 킬레이트 화합물(d-1) metal chelate compounds

촉매로서 사용 가능한 금속 킬레이트 화합물은, 하기 일반식 (2)로 나타난다.The metal chelate compound which can be used as a catalyst is represented by following General formula (2).

  R15 eM(OR16)f-e ?????(2)R 15 e M (OR 16 ) fe ????? (2)

(식 중, R15는 킬레이트제, M은 금속 원자, R16은 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, f는 금속 M의 원자가를 나타내고, e는 1~f의 정수를 나타냄).(Wherein, R 15 represents a chelating agent, M represents a metal atom, R 16 represents an alkyl group or an aryl group, f represents the valence of the metal M, and e represents an integer of 1 to f).

여기에서, 금속 M으로서는, IIIB족 금속(알루미늄, 갈륨, 인듐, 탈륨) 및 IVA족 금속(티탄, 지르코늄, 하프늄)으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것이 바람직하고, 티탄, 알루미늄, 지르코늄이 보다 바람직하다.Here, the metal M is preferably at least one metal selected from Group IIIB metals (aluminum, gallium, indium, thallium) and Group IVA metals (titanium, zirconium, hafnium), and titanium, aluminum, and zirconium are more preferred. desirable.

R15로 나타나는 킬레이트제로서는, CH3COCH2COCH3, CH3COCH2COOC2H5 등을 들 수 있다.Examples of the chelating agent represented by R 15 include CH 3 COCH 2 COCH 3 , CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 , and the like.

R16으로 나타나는 알킬기 또는 아릴기로서는, 상기 일반식 (1)에 있어서의 R1로 나타나는 알킬기 또는 아릴기를 들 수 있다.As an alkyl group or aryl group represented by R <16> , the alkyl group or aryl group represented by R <1> in the said General formula (1) is mentioned.

금속 킬레이트 화합물의 적합한 구체예로서는,As a suitable embodiment of the metal chelate compound,

(CH3(CH3)HCO)4- tTi(CH3COCH2COCH3)t, (CH3(CH3)HCO)4- tTi(CH3COCH2COOC2H5)t, (CH 3 (CH 3 ) HCO) 4- t Ti (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (CH 3 (CH 3 ) HCO) 4- t Ti (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(C4H9O)4- tTi(CH3COCH2COCH3)t, (C4H9O)4- tTi(CH3COCH2COOC2H5)t, (C 4 H 9 O) 4- t Ti (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (C 4 H 9 O) 4- t Ti (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(C2H5(CH3)CO)4- tTi(CH3COCH2COCH3)t, (C2H5(CH3)CO)4- tTi(CH3COCH2COOC2H5)t, (C 2 H 5 (CH 3 ) CO) 4- t Ti (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (C 2 H 5 (CH 3 ) CO) 4- t Ti (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(CH3(CH3)HCO)4- tZr(CH3COCH2COCH3)t, (CH3(CH3)HCO)4- tZr(CH3COCH2COOC2H5)t, (CH 3 (CH 3 ) HCO) 4- t Zr (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (CH 3 (CH 3 ) HCO) 4- t Zr (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(C4H9O)4- tZr(CH3COCH2COCH3)t, (C4H9O)4- tZr(CH3COCH2COOC2H5)t, (C 4 H 9 O) 4- t Zr (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (C 4 H 9 O) 4- t Zr (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(C2H5(CH3)CO)4- tZr(CH3COCH2COCH3)t, (C2H5(CH3)CO)4- tZr(CH3COCH2COOC2H5)t, (C 2 H 5 (CH 3 ) CO) 4- t Zr (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (C 2 H 5 (CH 3 ) CO) 4- t Zr (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(CH3(CH3)HCO)3- tAl(CH3COCH2COCH3)t, (CH3(CH3)HCO)3- tAl(CH3COCH2COOC2H5)t, (CH 3 (CH 3 ) HCO) 3- t Al (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (CH 3 (CH 3 ) HCO) 3- t Al (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(C4H9O)3- tAl(CH3COCH2COCH3)t, (C4H9O)3- tAl(CH3COCH2COOC2H5)t, (C 4 H 9 O) 3- t Al (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (C 4 H 9 O) 3- t Al (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t ,

(C2H5(CH3)CO)3- tAl(CH3COCH2COCH3)t, (C2H5(CH3)CO)3- tAl(CH3COCH2COOC2H5)t 등을 들 수 있다.(C 2 H 5 (CH 3 ) CO) 3- t Al (CH 3 COCH 2 COCH 3 ) t , (C 2 H 5 (CH 3 ) CO) 3- t Al (CH 3 COCH 2 COOC 2 H 5 ) t etc. are mentioned.

금속 킬레이트 화합물의 양은, 실란 화합물과 티탄 화합물(이하, 실란 화합물 등이라고도 함)의 합계량 100질량부(완전 가수분해 축합물 환산)에 대하여, 바람직하게는 0.0001~10질량부, 보다 바람직하게는 0.001~5질량부이다. 당해 양이 0.0001질량부 미만에서는, 도막의 도포성이 떨어지는 경우가 있고, 10질량부를 초과하면, 폴리머 성장을 제어할 수 없어, 겔화를 일으키는 경우가 있다.The amount of the metal chelate compound is preferably 0.0001 to 10 parts by mass, more preferably 0.001 to 100 parts by mass of the total amount of the silane compound and the titanium compound (hereinafter also referred to as a silane compound). It is-5 mass parts. When the said amount is less than 0.0001 mass part, the applicability | paintability of a coating film may be inferior, and when it exceeds 10 mass parts, polymer growth cannot be controlled and gelation may arise.

금속 킬레이트 화합물의 존재하에서 가수분해성 실란 화합물을 가수분해 축합시키는 경우, 실란 화합물 등의 합계량 1몰당 0.5~20몰의 물을 이용하는 것이 바람직하고, 1~10몰의 물을 이용하는 것이 특히 바람직하다. 물의 양이 0.5몰 미만이면, 가수분해 반응이 충분히 진행하지 않아, 도포성 및 보존 안정성에 문제가 발생하는 경우가 있고, 20몰을 초과하면, 가수분해 및 축합 반응 중의 폴리머의 석출이나 겔화가 발생하는 경우가 있다. 또한, 물은 단속적 혹은 연속적으로 첨가되는 것이 바람직하다.When hydrolytically condensing a hydrolyzable silane compound in the presence of a metal chelate compound, it is preferable to use 0.5 to 20 moles of water per mole of the total amount of the silane compound and the like, and particularly preferably 1 to 10 moles of water. When the amount of water is less than 0.5 mole, the hydrolysis reaction does not proceed sufficiently, and problems may occur in coating properties and storage stability. When it exceeds 20 moles, precipitation or gelation of the polymer during the hydrolysis and condensation reaction occurs. There is a case. In addition, water is preferably added intermittently or continuously.

이들 금속 킬레이트 화합물은 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(d-2) 산성 화합물(d-2) acidic compounds

촉매로서 사용 가능한 산성 화합물로서는, 유기산 또는 무기산을 예시할 수 있으며, 유기산이 바람직하다.As an acidic compound which can be used as a catalyst, an organic acid or an inorganic acid can be illustrated and an organic acid is preferable.

유기산으로서는, 예를 들면, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 헵탄산, 옥탄산, 노난산, 데칸산, 옥살산, 말레산, 메틸말론산, 아디프산, 세바크산, 갈산, 부티르산, 멜리트산, 아라키돈산, 시킴산(shikimic acid), 2-에틸헥산산, 올레인산, 스테아스산, 리놀산, 리놀렌산, 살리실산, 벤조산, p-아미노벤조산, p-톨루엔술폰산, 벤젠술폰산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로아세트산, 포름산, 말론산, 술폰산, 프탈산, 푸마르산, 구연산, 타르타르산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 숙신산, 메사콘산, 시트라콘산, 말산, 말론산, 글루타르산의 가수분해물, 무수 말레산의 가수분해물, 무수 프탈산의 가수분해물 등을 들 수 있다.Examples of the organic acid include acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, oxalic acid, maleic acid, methylmalonic acid, adipic acid, sebacic acid and gallic acid. , Butyric acid, melit acid, arachidonic acid, shikimic acid, 2-ethylhexanoic acid, oleic acid, stearic acid, linoleic acid, linolenic acid, salicylic acid, benzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, monochloro Acetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, formic acid, malonic acid, sulfonic acid, phthalic acid, fumaric acid, citric acid, tartaric acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, succinic acid, mesaconic acid, citraconic acid, malic acid, mal acid Lonic acid, the hydrolyzate of glutaric acid, the hydrolyzate of maleic anhydride, the hydrolyzate of phthalic anhydride, etc. are mentioned.

무기산으로서는, 예를 들면, 염산, 질산, 황산, 불산, 인산 등을 들 수 있다.As an inorganic acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid etc. are mentioned, for example.

그 중에서도, 가수분해 축합(가수분해 및 그에 이어지는 축합)의 반응 중의 폴리머의 석출이나 겔화의 우려가 적은 점에서 유기산이 바람직하고, 이 중, 카복실기를 갖는 화합물이 보다 바람직하다.Especially, an organic acid is preferable at the point that there is little concern of precipitation and gelation of a polymer in reaction of hydrolysis condensation (hydrolysis and subsequent condensation), and the compound which has a carboxyl group is more preferable among these.

카복실기를 갖는 화합물 중에서도, 아세트산, 옥살산, 말레산, 포름산, 말론산, 프탈산, 푸마르산, 이타콘산, 숙신산, 메사콘산, 시트라콘산, 말산, 말론산, 글루타르산, 무수 말레산의 가수분해물 등의 유기산이 특히 바람직하다.Among the compounds having a carboxyl group, acetic acid, oxalic acid, maleic acid, formic acid, malonic acid, phthalic acid, fumaric acid, itaconic acid, succinic acid, mesaconic acid, citraconic acid, malic acid, malonic acid, glutaric acid, maleic anhydride and the like Organic acids of are particularly preferred.

이들 산성 화합물은 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.These acidic compounds can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

산성 화합물의 양은, 실란 화합물 등의 합계량 100질량부(완전 가수분해 축합물 환산)에 대하여, 바람직하게는 0.0001~10질량부, 보다 바람직하게는 0.001~5질량부이다. 당해 양이 0.0001질량부 미만에서는, 도막의 도포성이 떨어지는 경우가 있고, 10질량부를 초과하면, 급격하게 가수분해 축합 반응이 진행하여 겔화를 일으키는 경우가 있다.The amount of the acidic compound is preferably 0.0001 to 10 parts by mass, and more preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the silane compound or the like (complete hydrolysis condensate conversion). When the said quantity is less than 0.0001 mass part, the applicability | paintability of a coating film may be inferior, and when it exceeds 10 mass parts, a hydrolysis condensation reaction may advance rapidly and may gelatinize.

산성 화합물의 존재하에서 실란 화합물 등을 가수분해 축합시키는 경우, 실란 화합물 등의 합계량 1몰당 0.5~20몰의 물을 이용하는 것이 바람직하고, 1~10몰의 물을 이용하는 것이 특히 바람직하다. 물의 양이 0.5몰 미만에서는, 가수분해 반응이 충분히 진행하지 않아, 도포성 및 보존 안정성에 문제가 발생하는 경우가 있고, 20몰을 초과하면, 가수분해 축합 반응 중의 폴리머의 석출이나 겔화가 발생하는 경우가 있다. 또한, 물은 단속적 혹은 연속적으로 첨가되는 것이 바람직하다.When hydrolytically condensing a silane compound or the like in the presence of an acidic compound, it is preferable to use 0.5 to 20 moles of water per mole of the total amount of the silane compound and the like, and particularly preferably 1 to 10 moles of water. If the amount of water is less than 0.5 mole, the hydrolysis reaction may not proceed sufficiently, and problems may occur in coating properties and storage stability. When the amount of water exceeds 20 moles, precipitation or gelation of the polymer in the hydrolysis condensation reaction may occur. There is a case. In addition, water is preferably added intermittently or continuously.

(d-3) 염기성 화합물(d-3) basic compound

촉매로서 사용 가능한 염기성 화합물로서는, 예를 들면, 메탄올아민, 에탄올아민, 프로판올아민, 부탄올아민, N-메틸메탄올아민, N-에틸메탄올아민, N-프로필메탄올아민, N-부틸메탄올아민, N-메틸에탄올아민, N-에틸에탄올아민, N-프로필에탄올아민, N,N-디메틸메탄올아민, N,N-디에틸메탄올아민, N,N-디프로필메탄올아민, N,N-디부틸메탄올아민, N-메틸디메탄올아민, N-에틸디메탄올아민, N-프로필디메탄올아민, N-부틸디메탄올아민, N-(아미노메틸)메탄올아민, N-(아미노메틸)에탄올아민, N-(아미노메틸)프로판올아민, N-(아미노메틸)부탄올아민, 메톡시메틸아민, 메톡시에틸아민, 메톡시프로필아민, 메톡시부틸아민, N,N-디메틸아민, N,N-디에틸아민, N,N-디프로필아민, N,N-디부틸아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 테트라메틸에틸렌디아민, 테트라에틸에틸렌디아민, 테트라프로필에틸렌디아민, 암모니아, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 테트라메틸암모늄, 수산화 테트라에틸암모늄, 수산화 테트라-n-프로필암모늄, 수산화 테트라-n-부틸암모늄, 브롬화 테트라메틸암모늄, 염화 테트라메틸암모늄, 브롬화 테트라에틸암모늄 등을 들 수 있다.As a basic compound which can be used as a catalyst, For example, methanolamine, ethanolamine, propanolamine, butanolamine, N-methylmethanolamine, N-ethylmethanolamine, N-propylmethanolamine, N-butylmethanolamine, N- Methylethanolamine, N-ethylethanolamine, N-propylethanolamine, N, N-dimethylmethanolamine, N, N-diethylmethanolamine, N, N-dipropylmethanolamine, N, N-dibutylmethanolamine , N-methyldimethanolamine, N-ethyldimethanolamine, N-propyldimethanolamine, N-butyldimethanolamine, N- (aminomethyl) methanolamine, N- (aminomethyl) ethanolamine, N- ( Aminomethyl) propanolamine, N- (aminomethyl) butanolamine, methoxymethylamine, methoxyethylamine, methoxypropylamine, methoxybutylamine, N, N-dimethylamine, N, N-diethylamine, N, N-dipropylamine, N, N-dibutylamine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tetramethylammon Hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetramethylethylenediamine, tetraethylethylenediamine, tetrapropylethylenediamine, ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetra hydroxide Methyl ammonium, tetraethylammonium hydroxide, tetra-n-propylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium hydroxide, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, etc. are mentioned.

염기성 화합물의 양은, 실란 화합물 등의 가수분해성 기의 합계량 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.00001~10몰, 보다 바람직하게는 0.00005~5몰이다. 당해 양이 0.00001몰 미만에서는, 가수분해 축합이 충분히 진행하지 않는 경우가 있고, 10몰을 초과하면, 얻어진 가수분해 축합물의 보존 안정성이 떨어지는 경우가 있다.The amount of the basic compound is preferably 0.00001 to 10 mol, more preferably 0.00005 to 5 mol, with respect to 1 mol of the total amount of hydrolyzable groups such as a silane compound. When the said amount is less than 0.00001 mol, hydrolysis condensation may not fully advance, and when it exceeds 10 mol, the storage stability of the obtained hydrolysis-condensation thing may fall.

[(B) 성분; 금속 산화물 입자][(B) component; Metal oxide particles]

본 발명에서는, 고굴절률을 갖는 경화물을 얻기 위해, 고굴절률을 갖는 금속 산화물 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 금속 산화물 입자는, 25℃에 있어서의 파장 400㎚의 빛의 굴절률이 바람직하게는 1.55 이상, 보다 바람직하게는 1.60 이상, 특히 바람직하게는 1.70 이상의 미립자이다. 이러한 금속 산화물 입자로서는, 예를 들면, 산화 지르코늄, 산화 티탄, 산화 아연, 산화 탄탈, 산화 인듐, 산화 하프늄, 산화 주석, 산화 니오브 및 이들 복합체 등의 금속 산화물 입자를 들 수 있다. 그 중에서도, 산화 지르코늄(ZrO2)의 미립자가 바람직하다.In this invention, in order to obtain the hardened | cured material which has a high refractive index, it is preferable to use the metal oxide particle which has a high refractive index. Such metal oxide particles are fine particles having a refractive index of light having a wavelength of 400 nm at 25 ° C. of preferably 1.55 or more, more preferably 1.60 or more, and particularly preferably 1.70 or more. Examples of such metal oxide particles include zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tantalum oxide, indium oxide, hafnium oxide, tin oxide, niobium oxide, and metal oxide particles such as these composites. Among them, fine particles of zirconium oxide (ZrO 2) are preferred.

상기 산화 티탄은, TiO2 구조를 갖는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 아나타제형, 루틸형, 브루카이트형 등을 들 수 있다.The titanium oxide is not particularly limited as long as it has a TiO 2 structure, and examples thereof include anatase type, rutile type, and brookite type.

이들 금속 산화물 입자는, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.These metal oxide particles can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

(B) 성분인 금속 산화물 입자의 수 평균 1차 입자 지름은, 바람직하게는 1~100㎚, 보다 바람직하게는 3~70㎚, 특히 바람직하게는 5~50㎚이다. 수 평균 1차 입자 지름이 상기 범위 내이면, 투명성이 우수한 경화물을 얻을 수 있다.The number average primary particle diameter of the metal oxide particle which is (B) component becomes like this. Preferably it is 1-100 nm, More preferably, it is 3-70 nm, Especially preferably, it is 5-50 nm. When the number average primary particle diameter is in the above range, a cured product excellent in transparency can be obtained.

(B) 성분인 금속 산화물 입자는, (A) 성분 및 (C) 성분과의 혼합 전에, 분체 형상이라도 좋고, 용매 분산 졸이라도 좋다. 용매로서는, 예를 들면 유기용매가 이용된다. 유기용매로서는, 예를 들면, 2-부탄올, 메탄올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, N-메틸-2-피롤리돈, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등을 들 수 있다.The metal oxide particle which is (B) component may be powder shape, or may be a solvent dispersion sol before mixing with (A) component and (C) component. As the solvent, for example, an organic solvent is used. Examples of the organic solvent include 2-butanol, methanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, propylene glycol monomethyl ether, and the like.

(B) 성분의 배합량은, (A) 성분 100질량부에 대하여, 바람직하게는 50~2,000질량부, 보다 바람직하게는 100~1,500질량부, 더욱 바람직하게는 150~1,000질량부이다. 당해 양이 50질량부 미만에서는, 경화막(조성물의 경화물)의 굴절률이 저하되어, 발광 장치의 발광 효율이 저하될 우려가 있고, 당해 양이 2,000질량부를 초과하면, 충분한 크랙 내성이 얻어지지 않을 우려가 있다.The compounding quantity of (B) component becomes like this. Preferably it is 50-2,000 mass parts, More preferably, it is 100-1,500 mass parts, More preferably, it is 150-1,000 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component. If the amount is less than 50 parts by mass, the refractive index of the cured film (cured product of the composition) may decrease, and the luminous efficiency of the light emitting device may decrease. If the amount exceeds 2,000 parts by mass, sufficient crack resistance may not be obtained. There is no fear.

또한, (B) 성분이 용매 분산 졸인 경우, (B) 성분의 배합량은, 용매를 포함하지 않는 질량을 의미한다. 또한, (B) 성분이 용매 분산 졸인 경우, (B) 성분의 용매로서의 유기용매의 양은, (C) 성분인 유기용매의 배합량의 일부를 구성하는 것으로 한다. In addition, when (B) component is a solvent dispersion sol, the compounding quantity of (B) component means the mass which does not contain a solvent. In addition, when (B) component is a solvent dispersion sol, the quantity of the organic solvent as a solvent of (B) component shall comprise a part of compounding quantity of the organic solvent which is (C) component.

(A) 성분과 (B) 성분의 합계의 배합량은, 특별히 한정되지 않지만, 유기용매를 제외하는 조성물의 성분 전체량 100질량%에 대하여, 얻어지는 입자 함유층의 내열성의 관점에서, 50~100질량%인 것이 바람직하고, 70~100질량%인 것이 보다 바람직하고, 80~100질량%인 것이 더욱 바람직하고, 90~100질량%인 것이 특히 바람직하다.Although the compounding quantity of the sum total of (A) component and (B) component is not specifically limited, 50-100 mass% from a heat resistant viewpoint of the particle content layer obtained with respect to 100 mass% of component total amounts of the composition except an organic solvent. It is preferable that it is, It is more preferable that it is 70-100 mass%, It is further more preferable that it is 80-100 mass%, It is especially preferable that it is 90-100 mass%.

[(C) 성분; 유기용매][(C) component; Organic solvent]

본 발명에서는, 유기용매를 배합함으로써, 조성물의 보존 안정성을 향상시키고, 그리고 적당한 점도를 부여할 수 있다.In this invention, the storage stability of a composition can be improved and a suitable viscosity can be provided by mix | blending an organic solvent.

유기용매로서는, 에테르계 유기용매, 에스테르계 유기용매, 케톤계 유기용매, 탄화 수소계 유기용매, 알코올계 유기용매 등을 들 수 있다. 유기용매로서는, 대기압하(1,013hPa)에서의 비점이 50~250℃의 범위 내이고, 각 성분을 균일하게 분산시킬 수 있는 유기용매를 이용하는 것이 바람직하다.As an organic solvent, an ether type organic solvent, an ester type organic solvent, a ketone type organic solvent, a hydrocarbon type organic solvent, an alcohol type organic solvent, etc. are mentioned. As an organic solvent, it is preferable to use the organic solvent which the boiling point in atmospheric pressure (1,013 hPa) exists in 50-250 degreeC, and can disperse | distribute each component uniformly.

이러한 유기용매로서는, 예를 들면 지방족 탄화 수소계 용매, 방향족 탄화 수소계 용매, 모노알코올계 용매, 다가 알코올계 용매, 케톤계 용매, 에테르계 용매, 에스테르계 용매, 함-질소계 용매, 함-황계 용매 등을 들 수 있다. 이들 유기용매는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용된다.Examples of such organic solvents include aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents, monoalcohol solvents, polyhydric alcohol solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and nitrogen-containing solvents. Sulfur solvents and the like. These organic solvents are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

유기용매 중에서는, 조성물의 보존 안정성을 보다 향상시키는 관점에서, 모노알코올계 용매, 다가 알코올계 용매 및, 케톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매의 바람직한 화합물의 예로서는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 락트산 에틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메탄올, 에탄올, 2-부탄올 등을 들 수 있다. 이들의 바람직한 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용된다.Among the organic solvents, monoalcohol solvents, polyhydric alcohol solvents, and ketone solvents are preferable from the viewpoint of further improving the storage stability of the composition. Examples of preferred compounds of these solvents include propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, methanol, ethanol, 2-butanol and the like. These preferable compounds are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

본 발명에 있어서, 유기용매의 종류는, 바람직하게는, 조성물의 도포 방법을 고려하여 선택된다. 예를 들면, 균일한 두께를 갖는 경화막(조성물의 경화물)을 용이하게 얻기 위해, 스핀 코팅법을 이용하는 경우, 유기용매로서는, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 락트산 에틸, 2-하이드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 등의 디에틸렌글리콜류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵탄온, 사이클로헥사논, 메틸아밀케톤 등의 케톤류; γ-부틸올락톤 등을 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, the type of organic solvent is preferably selected in consideration of the coating method of the composition. For example, in order to easily obtain the cured film (hardened | cured material of a composition) which has a uniform thickness, when using spin coating method, as an organic solvent, glycol ethers, such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether, are mentioned. ; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, and propylene glycol ethyl ether acetate; Esters such as ethyl lactate and ethyl 2-hydroxypropionate; Diethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol ethyl methyl ether; Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone and methyl amyl ketone; It is preferable to use gamma -butyl olactone and the like.

특히 바람직한 유기용매는, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산 에틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸아밀케톤 등이다.Especially preferred organic solvents are ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone and the like.

(C) 성분(유기용매)의 배합량은, 당해 유기용매를 제외한 조성물의 성분의 전체량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 50~20,000질량부, 보다 바람직하게는 100~1,000질량부이다. 상기 바람직한 범위 내이면, 조성물의 보존 안정성을 향상시키고, 또한 적당한 점도를 부여할 수 있어, 균일한 두께를 갖는 고굴절률의 경화막을 용이하게 형성할 수 있다.The compounding quantity of (C) component (organic solvent) becomes like this. Preferably it is 50-20,000 mass parts, More preferably, it is 100-1,000 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of the component except the said organic solvent. If it is in the said preferable range, the storage stability of a composition can be improved and a moderate viscosity can be provided, and the high refractive index cured film which has a uniform thickness can be formed easily.

(C) 성분의 첨가 방법은, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, (A) 성분을 제조할 때에 첨가해도 좋고, (B) 성분을 포함하는 분산액을 조제할 때에 첨가해도 좋고, (A) 성분과 (B) 성분을 혼합할 때에 첨가해도 좋다.Although the addition method of (C) component is not restrict | limited, For example, you may add when manufacturing (A) component, you may add when preparing the dispersion liquid containing (B) component, (A) You may add when mixing a component and (B) component.

[(D) 성분; 분산제][(D) component; Dispersant]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물은, 금속 산화물 입자의 분산성을 향상시키기 위해, 각종의 분산제를 포함할 수 있다.The composition for forming a particle-containing layer of the present invention may contain various dispersants in order to improve the dispersibility of the metal oxide particles.

분산제로서는, 예를 들면, 알루미늄 화합물을 이용할 수 있다. 알루미늄 화합물의 예로서는, 알루미늄알콕사이드, 알루미늄β-디케토네이트 착체 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 트리에톡시알루미늄, 트리(n-프로폭시)알루미늄, 트리(i-프로폭시)알루미늄, 트리(n-부톡시)알루미늄, 트리(sec-부톡시)알루미늄 등의 알콕사이드 화합물, 알루미늄트리스(메틸아세토아세테이트), 알루미늄트리스(에틸아세토아세테이트), 트리스(아세트아세토네이트)알루미늄, 알루미늄모노아세틸아세토네이트비스(메틸아세토아세테이트), 알루미늄모노아세틸아세토네이트비스(에틸아세토아세테이트) 등의 β-디케토네이트 착체 등을 들 수 있다. As a dispersing agent, an aluminum compound can be used, for example. As an example of an aluminum compound, an aluminum alkoxide, an aluminum (beta) -diketonate complex, etc. are mentioned. Specifically, alkoxide compounds, such as triethoxy aluminum, tri (n-propoxy) aluminum, tri (i-propoxy) aluminum, tri (n-butoxy) aluminum, and tri (sec-butoxy) aluminum, aluminum Β- such as tris (methylacetoacetate), aluminum tris (ethylacetoacetate), tris (aceacetonate) aluminum, aluminum monoacetylacetonate bis (methylacetoacetate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate) And diketonate complexes.

알루미늄 화합물의 시판품으로서는, AIPD, PADM, AMD, ASBD, 알루미늄에톡사이드, ALCH, ALCH-50F, ALCH-75, ALCH-TR, ALCH-TR-20, 알루미늄 킬레이트 M, 알루미늄 킬레이트 D, 알루미늄 킬레이트 A(W), 표면 처리제 OL-1000, 알고머(ALGOMAR), 알고머 800AF, 알고머 1000SF(이상, 카와켄파인케미컬 가부시키가이샤 제조) 등을 사용할 수 있다.As a commercial item of an aluminum compound, AIPD, PADM, AMD, ASBD, aluminum ethoxide, ALCH, ALCH-50F, ALCH-75, ALCH-TR, ALCH-TR-20, aluminum chelate M, aluminum chelate D, aluminum chelate A (W), surface treatment agent OL-1000, Algomar (ALGOMAR), Algorma 800AF, Algorithm 1000SF (above, Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), etc. can be used.

분산제로서는, 비이온형 분산제를 이용할 수도 있다. 비이온형 분산제를 이용함으로써, 분산성을 높일 수 있다. 본 발명에 사용하는 비이온형 분산제는, 바람직하게는, 폴리옥시에틸렌알킬 구조를 갖는 인산 에스테르계 비이온형 분산제이다.As a dispersing agent, a nonionic dispersing agent can also be used. Dispersibility can be improved by using a nonionic dispersing agent. The nonionic dispersant used in the present invention is preferably a phosphate ester nonionic dispersant having a polyoxyethylene alkyl structure.

분산제의 배합량은, 특별히 한정되지 않지만, 분산제를 포함하는 경우에는, 유기용매를 제외한 조성물의 성분 전체량 100질량%에 대하여, 예를 들면 0.1~5질량%이다.Although the compounding quantity of a dispersing agent is not specifically limited, When it contains a dispersing agent, it is 0.1-5 mass% with respect to 100 mass% of component total amounts of the composition except the organic solvent.

[(E) 성분; 분산 보조제][(E) component; Dispersion Aids]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물은, 분산성을 높이기 위해, 추가로 분산 보조제를 포함할 수 있다. 분산 보조제로서는, 아세틸아세톤, N,N-디메틸아세토아세트아미드 등으로부터 선택되는 1종 이상을 적합하게 사용할 수 있다.The composition for forming a particle-containing layer of the present invention may further contain a dispersing aid in order to increase dispersibility. As the dispersion aid, one or more selected from acetylacetone, N, N-dimethylacetoacetamide, and the like can be suitably used.

분산 보조제의 배합량은, 특별히 한정되지 않지만, 분산 보조제를 포함하는 경우에는, 유기용매를 제외한 조성물의 성분 전체량 100질량%에 대하여, 예를 들면 0.1~5질량%이다.Although the compounding quantity of a dispersal auxiliary agent is not specifically limited, When it contains a dispersion auxiliary agent, it is 0.1-5 mass% with respect to 100 mass% of component total amounts of the composition except the organic solvent.

[(F) 성분; 계면활성제][(F) component; Surfactants]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물을 스핀 코팅에 의해 기재 등에 도포하는 경우에는, 균일한 두께를 갖는 도막을 얻는 관점에서, 계면활성제를 배합하는 것이 바람직하다. 본 발명으로 이용되는 계면활성제로서는, 실리콘계의 계면활성제, 불소계의 계면활성제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 실리콘계의 계면활성제가 바람직하다.When apply | coating the composition for particle | grain containing layer formation of this invention to a base material etc. by spin coating, it is preferable to mix | blend surfactant from a viewpoint of obtaining the coating film which has a uniform thickness. As surfactant used by this invention, silicone type surfactant, fluorine type surfactant, etc. are mentioned. Especially, surfactant of silicone type is preferable.

실리콘계의 계면활성제의 예로서는, 예를 들면, SH28PA(토레다우코닝 가부시키가이샤 제조, 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체), 페인테드(PAINTAD) 19, 54(토레 다우코닝 가부시키가이샤 제조, 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체), FM-0411(사일러플렌(SILAPLANE), 칫소 가부시키가이샤 제조), SF8428(토레다우코닝 가부시키가이샤 제조, 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체(측쇄 OH 함유)), BYKUV3510(빅케미?재팬 가부시키가이샤 제조, 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체), DC57(토레?다우코닝?실리콘 가부시키가이샤 제조, 디메틸 폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체), DC190(토레?다우코닝?실리콘 가부시키가이샤 제조, 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체), 사일러플렌 FM-4411, FM-4421, FM-4425, FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM-0411, FM-0421, FM-0425, FM-DA11, FM-DA21, FM-DA26, FM-0711, FM-0721, FM-0725, TM-0701, TM-0701T(칫소 가부시키가이샤 제조), UV3500, UV3510, UV3530(빅케미?재팬 가부시키가이샤 제조), BY16-004, SF8428(토레?다우코닝?실리콘 가부시키가이샤 제조), VPS-1001(와코준야쿠 제조) 등을 들 수 있다. 특히 바람직한 예로서는, 사일러플렌 FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM-0411, FM-0421, FM-0425, FM-0711, FM-0721, FM-0725, VPS-1001 등을 들 수 있다. 또한, 에틸렌성 불포화기를 갖는 실리콘 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, TegoRad 2300, 2200N(테고?케미 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.As an example of silicone type surfactant, SH28PA (made by Toray Dow Corning Co., dimethyl polysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), Painted (PAINTAD) 19, 54 (made by Tole Dow Corning Co., dimethyl, for example) Polysiloxane-Polyoxyalkylene Copolymer), FM-0411 (SILAPLANE, Chisso Co., Ltd.), SF8428 (Toreda Corning Co., Ltd., Dimethyl Polysiloxane-Polyoxyalkylene Copolymer (Contains Side Chain OH) )), BYKUV3510 (manufactured by Big Chem Japan Japan, dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), DC57 (Torre Dow Corning Silicon Silicon Co., Ltd., dimethyl polysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), DC190 (Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer), silaplen FM-4411, FM-4421, FM-4425, FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM -0411, FM-0421, FM-0 425, FM-DA11, FM-DA21, FM-DA26, FM-0711, FM-0721, FM-0725, TM-0701, TM-0701T (manufactured by Tosso Co., Ltd.), UV3500, UV3510, UV3530 (Big Chemie? Japan Co., Ltd.), BY16-004, SF8428 (made by Toray Dow Corning Silicon Co., Ltd.), VPS-1001 (made by Wako Pure Chemical Industries Ltd.), etc. are mentioned. As a particularly preferable example, silaplen FM-7711, FM-7721, FM-7725, FM-0411, FM-0421, FM-0425, FM-0711, FM-0721, FM-0725, VPS-1001, etc. are mentioned. . Moreover, as a commercial item of the silicone compound which has an ethylenically unsaturated group, TegoRad 2300, 2200N (made by Tego Chemical Co., Ltd.), etc. are mentioned, for example.

불소계의 계면활성제의 예로서 예를 들면, 메가팩(MEGAFAC) F-114, F410, F411, F450, F493, F494, F443, F444, F445, F446, F470, F471, F472SF, F474, F475, R30, F477, F478, F479, F480SF, F482, F483, F484, F486, F487, F172D, F178K, F178RM, ESM-1, MCF350SF, BL20, R08, R61, R90(DIC 가부시키가이샤 제조)을 들 수 있다.Examples of fluorine-based surfactants include, for example, MEGAFAC F-114, F410, F411, F450, F493, F494, F443, F444, F445, F446, F470, F471, F472SF, F474, F475, R30, F477, F478, F479, F480SF, F482, F483, F484, F486, F487, F172D, F178K, F178RM, ESM-1, MCF350SF, BL20, R08, R61, R90 (manufactured by DIC Corporation).

(F) 성분의 배합 비율은, 유기용매를 제외한 조성물의 성분 전체량 100질량%에 대하여, 바람직하게는 0~10질량%, 보다 바람직하게는 0.1~5질량%, 특히 바람직하게는 0.5~3 질량%이다. 당해 양이 10질량%를 초과하면, 조성물의 경화물의 굴절률이 저하될 우려가 있다.The blending ratio of the component (F) is preferably 0 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, particularly preferably 0.5 to 3 with respect to 100% by mass of the total component of the composition excluding the organic solvent. It is mass%. When the said amount exceeds 10 mass%, there exists a possibility that the refractive index of the hardened | cured material of a composition may fall.

[(G) 성분; 탈수제][(G) component; Dehydrating agent]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물은, 탈수제를 포함할 수도 있다. 탈수제를 첨가함으로써, 조성물의 방사선 경화 반응을 촉진시킴과 함께, 조성물의 보존 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.The composition for particle-containing layer formation of this invention may also contain a dehydrating agent. By adding the dehydrating agent, the radiation curing reaction of the composition can be promoted, and the storage stability of the composition can be further improved.

본 발명에서 사용되는 탈수제는, 화학 반응에 의해 물을 물 이외의 물질로 변환하는 화합물, 또는, 물리 흡착 또는 포접에 의해, 물을 방사선 경화성 및 보존 안정성에 영향을 주지 않는 물질로 변환하는 화합물이라고 정의된다. 탈수제를 함유함으로써, 조성물의 내광성이나 내열성을 손상시키는 일 없이, 보존 안정성과 방사선 경화성이 상반되는 2개의 특성을 향상시킬 수 있다. 이 이유로서, 외부로부터 침입해 오는 물을, 탈수제가 유효하게 흡수함으로써, 조성물의 보존 안정성이 향상하는 한편, 방사선 경화 반응인 축합 반응에 있어서는, 생성한 물을 탈수제가 순차 흡수함으로써, 조성물의 방사선 경화성이 향상하는 것에 의한 것으로 생각된다.The dehydrating agent used in the present invention is a compound that converts water into a substance other than water by a chemical reaction, or a compound that converts water into a substance that does not affect radiation curability and storage stability by physical adsorption or inclusion. Is defined. By containing a dehydrating agent, two characteristics in which storage stability and radiation curability oppose can be improved, without impairing the light resistance and heat resistance of a composition. For this reason, the dehydrating agent effectively absorbs water invading from the outside, thereby improving the storage stability of the composition, and in the condensation reaction of the radiation curing reaction, the dehydrating agent sequentially absorbs the generated water, thereby causing radiation of the composition. It is thought that it is because hardenability improves.

[(H) 성분; 산발생제][(H) component; Acid generator]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물은, 산발생제를 포함할 수도 있다. 산발생제란 광조사 또는 가열에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물이라고 정의된다.The composition for particle-containing layer formation of this invention may contain an acid generator. An acid generator is defined as a compound which can generate an acid by light irradiation or heating.

여기에서 광조사란, 예를 들면 적외선, 가시광선, 자외선 및, X선, 전자선,α선, β선, γ선과 같은 전리(電離) 방사선의 조사를 의미한다.Here, light irradiation means irradiation of ionizing radiation, such as infrared rays, visible rays, an ultraviolet-ray, and X-rays, an electron beam, (alpha) ray, (beta) ray, (gamma) ray.

또한, 광조사에 의해 산을 발생할 수 있는 광산(光酸)발생제로서는, 일반식 (3)으로 나타나는 구조를 갖는 오늄염(제1 군의 화합물)이나, 일반식 (4)로 나타나는 구조를 갖는 술폰산 유도체(제2 군의 화합물)를 들 수 있다.Moreover, as a photo-acid generator which can generate an acid by light irradiation, the onium salt (compound of 1st group) which has a structure represented by General formula (3), or the structure represented by General formula (4) And sulfonic acid derivatives (compounds in the second group) to have.

  [R2 aR3 bR4 cR5 dW]+m[MZm +n]-m      (3)[R 2 a R 3 b R 4 c R 5 d W] + m [MZ m + n ] -m (3)

[일반식 (3) 중, 양이온은 오늄 이온이고, W는 S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl 또는 -N≡N이고, R2, R3, R4 및 R5는 동일 또는 상이한 유기기이고, a, b, c 및 d는 각각 0~3의 정수이고, (a+b+c+d)-m은 W의 가수(價數)와 동일하다. 또한, M은 할로겐화물 착체[MXm+n]의 중심 원자를 구성하는 금속 또는 메탈로이드이며, 예를 들면 B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, 또는 Co이다. Z는, 예를 들면 F, Cl, Br 등의 할로겐 원자 또는 아릴기이고, m은 할로겐화물 착체 이온의 정미(正味)의 전하이고, n은 M의 원자가임];[A general formula (3), cation is an onium ion, W is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl or -N≡N, R 2, R 3, R 4 and R 5 are the same or different organic groups, a, b, c and d are each an integer of 0 to 3, and (a + b + c + d) -m is the same as the valence of W. In addition, M is a metal or metalloid constituting the center atom of the halide complex [MX m + n ], for example, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, or Co. Z is, for example, a halogen atom or an aryl group such as F, Cl, Br, m is a net charge of a halide complex ion, and n is a valency of M;

   Qs-[S(=O)2-R6]t    (4)Q s- [S (= O) 2 -R 6 ] t (4)

[일반식 (4) 중, Q는 1가 또는 2가의 유기기, R6은 탄소수 1~12의 1가의 유기기, 첨자 s는 0 또는 1, 첨자 t는 1 또는 2임].[In general formula (4), Q is a monovalent or divalent organic group, R <6> is a C1-C12 monovalent organic group, subscript s is 0 or 1, and subscript t is 1 or 2.].

우선, 제1 군의 화합물인 오늄염은, 빛을 받음으로써 산성 활성 물질을 방출할 수 있는 화합물이다. 이러한 제1 군의 화합물 중, 보다 유효한 오늄염은 방향족 오늄염이고, 특히 바람직하게는 하기 일반식 (5)로 나타나는 디아릴요오도늄염이다.First, the onium salt, which is a compound of the first group, is a compound capable of releasing an acidic active substance by receiving light. Among these compounds of the first group, more effective onium salts are aromatic onium salts, and particularly preferably diaryl iodonium salts represented by the following general formula (5).

   [R7-Ar1-I-Ar2-R8][Y-]    (5) [R 7 -Ar 1 -I + -Ar 2 -R 8] [Y -] (5)

[일반식 (5) 중, R7 및 R8은, 각각 1가의 유기기이며, 동일 또는 상이해도 좋고, R7 및 R8의 적어도 한쪽은 탄소수가 4 이상의 알킬기를 갖고 있고, Ar1 및 Ar2는 각각 방향족 기이며, 동일해도 상이해도 좋고, Y-는 1가의 음이온이며, 주기율표 3족, 5족의 불화물 음이온 또는, ClO4 -, CF3-SO3 -으로부터 선택되는 음이온이다.][In General Formula (5), R <7> and R <8> is a monovalent organic group, respectively, may be same or different, At least one of R <7> and R <8> has a C4 or more alkyl group, Ar <1> and Ar 2 are each an aromatic group, a well may be the same or different, Y - is an anion selected from; - 1 is the divalent anion, periodic table group 3, the group 5 or fluoride anion, ClO 4 -, CF 3 -SO 3.

또한, 제2 군의 화합물로서의 일반식 (4)로 나타나는 술폰산 유도체의 예를 나타내면, 디술폰류, 디술포닐디아조메탄류, 디술포닐메탄류, 술포닐벤조일메탄류, 이미드술포네이트류, 벤조인술포네이트류, 1-옥시-2-하이드록시-3-프로필알코올의 술포네이트류, 피로갈롤트리술포네이트류, 벤질술포네이트류를 들 수 있다. 또한, 일반식 (4)로 나타나는 술폰산 유도체 중, 보다 바람직하게는 이미드술포네이트류이며, 더욱 바람직하게는 이미드술포네이트 중, 트리플루오로메틸술포네이트 유도체이다.Moreover, when the example of the sulfonic acid derivative represented by General formula (4) as a compound of 2nd group is shown, disulfone, disulfonyl diazomethane, disulfonyl methane, sulfonyl benzoyl methane, imide sulfonate, benzo Insulfonates, sulfonates of 1-oxy-2-hydroxy-3-propyl alcohol, pyrogallol trisulfonates, and benzyl sulfonates. Moreover, in the sulfonic acid derivative represented by General formula (4), More preferably, they are imide sulfonates, More preferably, they are trifluoromethyl sulfonate derivatives in imide sulfonate.

광산발생제의 첨가량(함유 비율)에 대해서 설명한다. 광산발생제의 첨가량은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 입자 함유층 형성용 조성물의 고형분 전체량을 100질량부로 하여, 통상 15질량부 이내의 값으로 하는 것이 바람직하다. 당해 첨가량이 15질량부를 초과하면, 얻어지는 경화물의 내광성이나 내열성이 저하되는 경향이 있다.The addition amount (content rate) of a photo-acid generator is demonstrated. Although the addition amount of a photo-acid generator is not restrict | limited especially, It is preferable to make the total solid amount of the composition for particle | grain containing layer formation into 100 mass parts, and to set it as the value within 15 mass parts normally. When the said addition amount exceeds 15 mass parts, there exists a tendency for the light resistance and heat resistance of the hardened | cured material obtained to fall.

[(I) 성분; 그 외의 첨가제][(I) component; Other additives]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위 내에서, 상기 이외의 각종의 첨가제를 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로서는, 예를 들면, 상기 성분 이외의 경화성 화합물, 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.The composition for particle-containing layer formation of this invention can contain various additives of that excepting the above within the range which does not impair the effect of this invention. As such an additive, curable compounds other than the said component, antioxidant, a ultraviolet absorber, etc. are mentioned, for example.

[입자 함유층 형성용 조성물의 제조 방법][Method for Producing Composition for Forming Particle-Containing Layer]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물은, 상기 성분 (A)~(C) 및, 필요에 따라서 배합되는 기타 임의 성분을 혼합함으로써 조제된다. 통상, 성분 (A)(실록산계 중합체 등)와 성분 (B)(금속 산화물 입자) 그리고 임의적으로 첨가되는 그 외의 성분을, 성분 (C)(유기용매) 중에서 소정의 비율로 혼합함으로써, 입자 함유층 형성용 조성물을 조제할 수 있다.The composition for particle-containing layer formation of this invention is prepared by mixing the said components (A)-(C) and the other arbitrary components mix | blended as needed. Usually, a particle-containing layer by mixing component (A) (siloxane type polymer, etc.), component (B) (metal oxide particles), and other components optionally added at a predetermined ratio in component (C) (organic solvent). The composition for formation can be prepared.

[경화막][Curing film]

본 발명의 입자 함유층 형성용 조성물의 경화물인 경화막의 굴절률은, 바람직하게는 1.6 이상이다. 당해 굴절률이 1.6 이상이면, 발광 장치의 발광 효율이 높아진다. 경화막의 막두께는, 특별히 한정되지 않지만, 발광 소자의 종류에 따라, 예를 들면 50㎚~100㎛의 범위 내에서 적절히 정할 수 있다.Preferably the refractive index of the cured film which is the hardened | cured material of the composition for particle | grain containing layer formation of this invention is 1.6 or more. If the said refractive index is 1.6 or more, the luminous efficiency of a light emitting device will become high. Although the film thickness of a cured film is not specifically limited, According to the kind of light emitting element, it can determine suitably within the range of 50 nm-100 micrometers, for example.

본 발명의 발광 소자는, 입자 함유층(18)을 구비하고 있기 때문에, 발광층(15)에서 생성한 빛이 제2 전극(17)을 통과하여 공기 중에 진입할 때에, 보강 간섭의 원리에 의해, 발광 소자의 외부로 취출되는 효율을 높일 수 있어, 발광 소자의 발광 효율의 개선에 크게 기여할 수 있다.Since the light emitting element of this invention is equipped with the particle containing layer 18, when the light produced | generated in the light emitting layer 15 passes through the 2nd electrode 17 and enters in air, it emits light by the principle of constructive interference. The efficiency taken out to the outside of the device can be increased, which can greatly contribute to the improvement of the luminous efficiency of the light emitting device.

도 1 중, 입자 함유층(18)은, 제2 전극(17)의 일면에 접촉하여 형성된 것으로서 도시되어 있지만, 입자 함유층(18)과 제2 전극(17)의 사이에는, 필요하게 따라 다양한 층이 추가로 구비될 수 있다. 한편, 도 1에는 도시되어 있지 않지만, 입자 함유층(18)의 상부에는, 발광 소자(10)의 밀봉을 위한 공지의 구조의 밀봉층이 추가로 구비될 수 있는 등, 다양한 변형예가 가능하다. In FIG. 1, the particle-containing layer 18 is illustrated as being formed in contact with one surface of the second electrode 17, but various layers may be provided between the particle-containing layer 18 and the second electrode 17 as necessary. It may be provided additionally. Although not shown in FIG. 1, various modifications are possible, such as a sealing layer having a known structure for sealing the light emitting element 10 may be further provided on the particle containing layer 18.

도 2 중, 발광 소자(20)는, 본 발명의 발광 소자의 실시 형태예 2이다.In FIG. 2, the light emitting element 20 is Embodiment 2 of the light emitting element of this invention.

발광 소자(20)는, 기판(21), 입자 함유층(28), 제1 전극(23), 발광층(25) 및 제2 전극(27)이 차례로 적층된 구조를 갖는다. 제1 전극(23)은 투과형 전극이며, 발광층(25)에서 생성된 빛은, 제1 전극(23) 및 입자 함유층(28)을 통과하고, 발광 소자(20)의 외부로 취출될 수 있다. 입자 함유층(28)은, 제1 전극(23)의, 발광층이 형성된 면과는 반대측의 면에 형성되어 있다. 발광 소자(20)를 구성하는 각층에 대한 상세한 설명은, 전술과 동일하다. 상기 실란 화합물 등이 축합하여 이루어지는 중합체로 이루어지는 입자 함유층(28)은, 높은 굴절률을 갖고, 발광층(25)에서 생성한 빛은, 보강 간섭의 원리에 의해 효과적으로 외부로 취출될 수 있기 때문에, 개선된 광 효율 특성을 가질 수 있다.The light emitting element 20 has a structure in which a substrate 21, a particle-containing layer 28, a first electrode 23, a light emitting layer 25, and a second electrode 27 are sequentially stacked. The first electrode 23 is a transmissive electrode, and the light generated in the light emitting layer 25 passes through the first electrode 23 and the particle-containing layer 28, and may be extracted to the outside of the light emitting device 20. The particle-containing layer 28 is formed on the surface of the first electrode 23 opposite to the surface on which the light emitting layer is formed. The detailed description about each layer which comprises the light emitting element 20 is the same as that of the above-mentioned. The particle-containing layer 28 made of a polymer obtained by condensation of the silane compound or the like has a high refractive index, and the light generated in the light emitting layer 25 can be effectively taken out to the outside by the principle of constructive interference. It may have a light efficiency characteristic.

도 3 중, 발광 소자(30)는, 본 발명의 발광 소자의 실시 형태예 3이다.In FIG. 3, the light emitting element 30 is Embodiment 3 of the light emitting element of this invention.

발광 소자(30)는, 기판(31), 입자 함유층(38), 제1 전극(33), 발광층(35), 제2 전극(37) 및 입자 함유층(39)이 차례로 적층된 구조를 갖는다. 제1 전극(33)및 제2 전극(37)은 투과형 전극이며, 발광층(35)에서 생성한 빛은, 제1 전극(33) 및 제2 전극(37)을 통과한 후, 각각, 입자 함유층(38) 및 입자 함유층(39)을 통과하여, 발광 소자(30)의 외부로 취출될 수 있다. 발광 소자(30)를 구성하는 각층에 대한 상세한 설명은, 전술과 동일하다. 상기 실란 화합물 등이 축합하여 이루어지는 중합체로 이루어지는 입자 함유층(38) 및 입자 함유층(39)은, 높은 굴절률을 갖고, 발광층(35)에서 생성된 빛은, 보강 간섭의 원리에 의해 효과적으로 외부로 취출될 수 있기 때문에, 개선된 광 효율 특성을 가질 수 있다.The light emitting element 30 has a structure in which a substrate 31, a particle containing layer 38, a first electrode 33, a light emitting layer 35, a second electrode 37, and a particle containing layer 39 are sequentially stacked. The first electrode 33 and the second electrode 37 are transmissive electrodes, and the light generated in the light emitting layer 35 passes through the first electrode 33 and the second electrode 37, and then each contains a particle-containing layer. Pass through the 38 and the particle-containing layer 39, it can be taken out of the light emitting element (30). The detailed description about each layer which comprises the light emitting element 30 is the same as that of the above-mentioned. The particle-containing layer 38 and the particle-containing layer 39 made of a polymer obtained by condensation of the silane compound or the like have a high refractive index, and light generated in the light-emitting layer 35 can be effectively extracted to the outside by the principle of constructive interference. As such, it may have improved light efficiency characteristics.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예에 의해 하등 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited at all by these Examples.

〔(A) 성분의 조제〕[Preparation of (A) Component]

〔합성예 1〕Synthesis Example 1

교반기, 환류관 부착의 플라스크에, 메틸트리메톡시실란(45.7g), 테트라에톡시실란(12.33g), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(19.56g) 및, 옥살산(0.03g)을 첨가, 교반하여, 용액을 얻은 후, 이 용액을 가열하여 액체의 온도를 60℃로 했다. 이어서, 증류수(22.38g)를 적하하고, 적하 종료 후, 용액을 100℃에서 3시간 교반했다. 그 후, 감압하에서 농축을 행하여, 최종적으로 고형분을 30질량%로 조정한 (A) 성분(프로필렌글리콜모노메틸에테르 용액)을 얻었다. 이것을 「A-1」라고 한다.To a flask with a stirrer and a reflux tube, methyltrimethoxysilane (45.7 g), tetraethoxysilane (12.33 g), propylene glycol monomethyl ether (19.56 g), and oxalic acid (0.03 g) were added and stirred, After the solution was obtained, the solution was heated to set the temperature of the liquid to 60 ° C. Subsequently, distilled water (22.38 g) was added dropwise, and after completion of dropwise addition, the solution was stirred at 100 ° C for 3 hours. Then, it concentrated under reduced pressure and finally obtained (A) component (propylene glycol monomethyl ether solution) which adjusted solid content to 30 mass%. This is called "A-1".

〔합성예 2〕Synthesis Example 2

교반기, 환류관 부착의 플라스크에, 메틸트리메톡시실란(17.89g), 페닐트리메톡시실란(35.80g), 테트라에톡시실란(3.42g), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(24.84g) 및, 옥살산(0.03g)를 첨가, 교반하여, 용액을 얻은 후, 이 용액을 가열하여 액체의 온도를 60℃로 했다. 이어서, 증류수(18.02g)를 적하하고, 적하 종료후, 용액을 100℃에서 3시간 교반했다. 그 후, 감압하에서 농축을 행하여, 최종적으로 고형분을 30질량%로 조정한 (A) 성분(프로필렌글리콜모노메틸에테르 용액)을 얻었다. 이것을 「A-2」라고 한다.In a flask with a stirrer and a reflux tube, methyltrimethoxysilane (17.89g), phenyltrimethoxysilane (35.80g), tetraethoxysilane (3.42g), propylene glycol monomethyl ether (24.84g), and oxalic acid (0.03 g) was added and stirred to obtain a solution, and then the solution was heated to set the temperature of the liquid to 60 ° C. Subsequently, distilled water (18.02 g) was added dropwise, and after completion of dropwise addition, the solution was stirred at 100 ° C for 3 hours. Then, it concentrated under reduced pressure and finally obtained (A) component (propylene glycol monomethyl ether solution) which adjusted solid content to 30 mass%. This is called "A-2".

「A-1」및 「A-2」의 성분 조성 등을 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the component compositions of "A-1" and "A-2".

「A-3」으로서는, 토아고세이 가부시키가이샤 제조의 OX-SQ ME-20을 이용했다.As "A-3", OX-SQ 'ME-20 by Toagosei Co., Ltd. was used.

「A-4」로서는, 신나카무라카가쿠코교 가부시키가이샤 제조의 테트라메틸올 메탄트리아크릴레이트를 이용했다.As "A-4", the tetramethylol methane triacrylate by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. was used.

Figure pat00001
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[조성물의 조제 1][Preparation of Composition 1]

(B) 성분으로서 산화 지르코늄(일차 평균 입자 지름: 15㎚)을 21.0g, 「A-1」을 29.7g(고형분 8.9g), 유기용매의 총 중량이 70g이 되는 양의 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 용기에 넣고, 여기에 입경 0.1㎜의 지르코니아 비즈(닉카토(NIKKATO) 가부시키가이샤 제조) 350g을 더하고, 비즈밀에 의해, 1500rpm, 10시간 교반하여, 산화 지르코늄의 미립자((B) 성분)를 분산시켰다.Propylene glycol monomethyl ether in an amount of 21.0 g of zirconium oxide (primary average particle diameter: 15 nm), 29.7 g of "A-1" (solid content of 8.9 g), and 70 g of the total weight of the organic solvent as the component (B). Into a container, 350 g of zirconia beads (NIKKATO) manufactured by 0.1 mm in diameter were added thereto, and the mixture was stirred at 1500 rpm for 10 hours with a bead mill to form fine particles of zirconium oxide ((B) component). Was dispersed.

얻어진 산화 지르코늄의 미립자의 분산액에, 디메틸 폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체를 0.10g 더하여, 조성물 「J-1」을 얻었다.0.10 g of a dimethyl polysiloxane-polyoxyalkylene copolymer was added to the dispersion liquid of the obtained zirconium oxide microparticles | fine-particles, and the composition "J-1" was obtained.

또한, 표 2에 나타내는 성분을 이용한 것 이외는 조성물 「J-1」과 동일하게 하여, 조성물 「J-2」, 「J-4」, 「J-6」을 조제했다. 성분 조성 등을 표 2에 나타낸다.In addition, compositions "J-2", "J-4", and "J-6" were prepared like composition "J-1" except having used the component shown in Table 2. A component composition etc. are shown in Table 2.

[조성물의 조제 2][Preparation of Composition 2]

(B) 성분으로서 산화 지르코늄 미립자(수 평균 일차 입자 지름: 15㎚)를 15.9g, PLADD ED-151(화합물명: 폴리옥시에틸렌알킬인산 에스테르)을 1.9g, 트리(sec-부톡시)알루미늄 2.2g, 아세틸아세톤 0.9g, 2-부탄올 2.3g, 메틸에틸케톤 54.3g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 15.7g을 용기에 넣고, 여기에 입경 0.1㎜의 지르코니아 비즈(닉카토 가부시키가이샤 제조) 300g를 더하고, 비즈밀에 의해, 1500rpm, 10시간 교반하여, 산화 지르코늄의 미립자((B) 성분)를 분산시켰다.As the component (B), 15.9 g of zirconium oxide fine particles (number average primary particle diameter: 15 nm), 1.9 g of PLADD'ED-151 (compound name: polyoxyethylene alkyl phosphate ester), tri (sec-butoxy) aluminum 2.2 g, acetylacetone 0.9 g, 2-butanol 2.3 g, methyl ethyl ketone 54.3 g, and propylene glycol monomethyl ether 15.7 g were placed in a container, and 300 g of zirconia beads (manufactured by Nikkato Co., Ltd.) having a particle diameter of 0.1 mm were added thereto. And bead mill were stirred at 1500 rpm for 10 hours to disperse the fine particles of zirconium oxide (component (B)).

얻어진 산화 지르코늄의 미립자를 포함하는 분산액 77.5g에, 「A-1」을 22.4g(고형분 6.7g), 디메틸폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체를 0.1g첨가하여, 조성물 「J-3」을 얻었다. 성분 조성 등을 표 2에 나타낸다.To 77.5 g of the dispersion containing fine particles of zirconium oxide obtained, 22.4 g of "A-1" (solid content of 6.7 g) and 0.1 g of a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer were added to obtain a composition "J-3". . A component composition etc. are shown in Table 2.

[조성물의 조제 3][Preparation 3 of Composition]

(B) 성분으로서 산화 지르코늄 미립자(수 평균 일차 입자 지름: 15㎚)를 15.91g, PLADD ED-151을 1.91g, 트리(sec-부톡시)알루미늄 2.20g, 아세틸아세톤 0.85g, 2-부탄올 2.30g, 메틸에틸케톤 70.00g을 용기에 넣고, 여기에 입경 0.1㎜의 지르코니아 비즈(닉카토 가부시키가이샤 제조) 350g을 더하고, 비즈밀에 의해, 1500rpm, 10시간 교반하여 산화 지르코늄 미립자(B)를 분산시켰다.As component (B), 15.91 g of zirconium oxide fine particles (number average primary particle diameter: 15 nm), 1.91 g of PLADD'ED-151, 2.20 g of tri (sec-butoxy) aluminum, 0.85 g of acetylacetone, and 2.30 of 2.30 g and 70.00 g of methyl ethyl ketone were placed in a container, and 350 g of zirconia beads (manufactured by Nikkato Co., Ltd.) having a particle diameter of 0.1 mm were added thereto, followed by stirring at 1500 rpm for 10 hours with a bead mill to form zirconium oxide fine particles (B). Dispersed.

얻어진 산화 지르코늄의 미립자의 분산액 93.17g에, 「A-4」를 5.73g, 광중합 개시제로서 Irgacure184(BASF 가부시키가이샤 제조)를 1.0g, 디메틸 폴리실록산-폴리옥시알킬렌 공중합체 0.1g을 첨가하여 조성물 「J-5」를 얻었다. 성분 조성 등을 표 2에 나타낸다.To 93.17 g of the obtained dispersion of zirconium oxide fine particles, 5.73 g of "A-4" and 1.0 g of Irgacure184 (manufactured by BASF Corporation) and 0.1 g of a dimethyl polysiloxane-polyoxyalkylene copolymer were added as a photopolymerization initiator. "J-5" was obtained. A component composition etc. are shown in Table 2.

[조성물의 조제 4][Preparation of Composition 4]

질소 기류하에서, 테트라-n-부톡시티탄 42.54g(125밀리몰)과 디에틸렌글리콜 26.53g(250밀리몰)을, 용매(n-부탄올, 60mL)에 첨가하고, 혼합했다. 이와 병행하여, 이온 교환수 4.5g(250밀리몰)과 하이드라진 염산염 0.085g(1.25밀리몰)을, 용매(n-부탄올, 100mL)에 첨가하고, 혼합했다. 얻어진 2종류의 혼합 용액을 합하여, 25℃로 조정한 인큐베이터 내에서 2시간 교반 혼합하여, 조성물 「J-7」을 얻었다.Under a nitrogen stream, 42.54 g (125 mmol) of tetra-n-butoxytitanium and 26.53 g (250 mmol) of diethylene glycol were added to a solvent (n-butanol, 60 mL) and mixed. In parallel with this, 4.5 g (250 mmol) of ion-exchanged water and 0.085 g (1.25 mmol) of hydrazine hydrochloride were added to the solvent (n-butanol, 100 mL) and mixed. The obtained two types of mixed solutions were combined and stirred and mixed for 2 hours in the incubator adjusted to 25 degreeC, and the composition "J-7" was obtained.

Figure pat00002
Figure pat00002

[실시예 1~4, 비교예 1~3]EXAMPLES 1-4, COMPARATIVE EXAMPLES 1-3

상기 조성물 「J-1」~「J-4」(실시예 1~4), 및 「J-5」~「J-7」(비교예 1~3) 의 각각에 대해서, 이하와 같이 평가했다.Each of the said composition "J-1"-"J-4" (Examples 1-4) and "J-5"-"J-7" (Comparative Examples 1-3) was evaluated as follows. .

<조성물의 특성의 평가><Evaluation of the composition>

(1) 분산 입경(1) dispersion particle diameter

얻어진 조성물 중의 미립자에 대해서, 25℃에서의 체적 평균 입경을 가부시키가이샤 호리바세이사쿠쇼 제조의 동적 광산란식 입경 분포 측정 장치에 의해 측정했다. 체적 평균 입경이 50㎚ 미만의 것을 「○」, 50㎚ 이상이고 100㎚미만의 것을 「△」, 100㎚ 이상의 것을 「×」로 했다. 결과를 표 3에 나타낸다.About the microparticles | fine-particles in the obtained composition, the volume average particle diameter in 25 degreeC was measured with the dynamic light-scattering type | mold particle size distribution measuring apparatus by Horiba Seisakusho Corporation. The thing whose volume average particle diameter is less than 50 nm was "(circle)", 50 nm or more, and less than 100 nm made "(triangle | delta)" and the thing of 100 nm or more "x". The results are shown in Table 3.

<경화막의 제작><Production of a cured film>

? 조성물 「J-1」~ 「J-5」, 「J-7」? Composition "J-1"-"J-5", "J-7"

4인치 지름의 용융 석영 또는 실리콘 기판 상에, 조성물을 디스펜스하고, 두께 약 1㎛가 되도록 스핀 코팅 도포하고, 120℃에서 1분간 및, 150℃에서 60분간 가열하여, 경화막(막두께: 1㎛)을 제작했다.The composition was dispensed on a 4 inch diameter fused quartz or silicon substrate, spin-coated to a thickness of about 1 μm, and heated at 120 ° C. for 1 minute and at 150 ° C. for 60 minutes to form a cured film (film thickness: 1 Μm) was produced.

? 조성물 「J-6」? Composition "J-6"

4인치 지름의 용융 석영 또는 실리콘 기판 상에, 조성물을 디스펜스하고, 두께 약 1㎛가 되도록 스핀 코팅 도포하고, 120℃에서 1분간 가열했다. 그 후, 콘택트마스크얼라이너를 이용하여, 대기 중에서 노광량이 2000mJ/㎠가 되도록 자외선을 조사하고, 이어서, 150℃에서 60분간 가열하여, 경화막을 제작했다.The composition was dispensed on a 4 inch diameter molten quartz or silicon substrate, spin coated to a thickness of about 1 μm, and heated at 120 ° C. for 1 minute. Then, the ultraviolet-ray was irradiated so that exposure amount might be 2000mJ / cm <2> in air | atmosphere using the contact mask aligner, and then it heated at 150 degreeC for 60 minutes, and produced the cured film.

<경화막의 특성 평가><Characteristic Evaluation of Cured Film>

상기 경화막에 대하여, 하기의 특성을 측정하여 평가했다. 결과를 표 3에 나타낸다.The following characteristics were measured and evaluated about the said cured film. The results are shown in Table 3.

(2) 경화성(2) curability

상기 경화막의 표면을 손가락으로 만져, 끈적거림이 없는 것을 「○」, 끈적거림이 있는 것을 「×」로 했다.The surface of the said cured film was touched with a finger, and it was made into "(circle)" that the thing without stickiness was "x" and the thing with stickiness.

(3) 크랙 내성(3) crack resistance

상기 경화막의 외관을 눈으로 관찰하여, 크랙이 없는 것을 「○」, 크랙이 있는 것을 「×」로 했다.The external appearance of the said cured film was observed visually, and the thing without a crack was made into "(circle)", and the thing with a crack was made into "x".

(4) 투명성(4) transparency

니혼분코 가부시키가이샤 제조의 분광 광도계를 사용하여, 상기 경화막의 파장 400㎚에 있어서의 투과율(%)을 측정했다. 투과율이 90% 이상의 경우를 「○」, 90% 미만의 경우를 「×」로 했다.The transmittance | permeability (%) in wavelength 400nm of the said cured film was measured using the spectrophotometer made from Nihon Bunco. The case where the transmittance | permeability was 90% or more was made into "(circle)" and the case of less than 90% was made into "x".

(5) 굴절률(5) refractive index

메트리콘 가부시키가이샤 제조의 프리즘 커플러를 사용하여, 23℃, 파장 633㎚에 있어서의 굴절률을 측정했다. 굴절률이 1.6 이상의 경우를 「○」, 1.6 미만의 경우를 「×」로 했다.The refractive index in 23 degreeC and the wavelength 633 nm was measured using the prism coupler made from a METRICON Corporation. The case where refractive index is 1.6 or more was made into "(circle)" and the case of less than 1.6 was made into "x".

(6) 내열성(6) heat resistance

오븐을 이용하여, 상기 경화막을 온도 300℃에서 5분간 가열 처리했다. 처리 전후의 경화막의 투과율의 저하(투과율의 감소의 비율)가 10% 미만의 경우를 「○」, 10% 이상의 경우를 「×」로 했다.The cured film was heat-processed at the temperature of 300 degreeC for 5 minutes using oven. "(Circle)" and the case of 10% or more were made into "x" for the case where the fall (rate of reduction of transmittance) of the transmittance | permeability of the cured film before and behind a process was less than 10%.

Figure pat00003
Figure pat00003

10, 20, 30 : 발광 소자
11, 21, 31 : 기판
13, 23, 33 : 제1 전극
15, 25, 35 : 발광층
17, 27, 37 : 제2 전극
18, 28, 38, 39 : 입자 함유층
10, 20, 30: light emitting element
11, 21, 31: substrate
13, 23, 33: first electrode
15, 25, 35: light emitting layer
17, 27, 37: second electrode
18, 28, 38, 39: particle containing layer

Claims (7)

기판과 제1 전극과 발광층과 제2 전극과 입자 함유층을 구비하고,
상기 기판과 상기 제1 전극과 상기 발광층과 상기 제2 전극이 이 순으로 적층되어 이루어지고,
상기 입자 함유층은, 상기 제1 전극의, 상기 발광층이 형성된 측과는 반대측 및, 상기 제2 전극의, 상기 발광층이 형성된 측과는 반대측의 적어도 어느 한쪽에 형성되어 있고,
상기 입자 함유층이, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 함유하는 입자 함유층 형성용 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 발광 소자:
(A) 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체;
(B) 금속 산화물 입자.
A substrate, a first electrode, a light emitting layer, a second electrode and a particle containing layer,
The substrate, the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are stacked in this order;
The particle-containing layer is formed on at least one side of the first electrode on the side opposite to the side where the light emitting layer is formed and on the side opposite to the side on which the light emitting layer is formed of the second electrode,
The said particle containing layer is hardened | cured material of the composition for particle | grain containing layer formation containing the following (A) component and (B) component, The light emitting element characterized by the above-mentioned:
(A) at least one polymer selected from siloxane-based polymers, titanoxane-based polymers and these copolymers;
(B) metal oxide particles.
제1항에 있어서,
발광 소자가 유기 일렉트로 루미네선스 소자인 발광 소자.
The method of claim 1,
The light emitting element whose light emitting element is an organic electroluminescent element.
제1항에 있어서,
상기 입자 함유층을 상기 기판과 상기 제1 전극과의 사이에 구비하여 이루어지는 발광 소자.
The method of claim 1,
A light emitting element comprising the particle-containing layer between the substrate and the first electrode.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합체가, 하기의 일반식 (1)로 나타나는 화합물 및 하기의 일반식 (2)로 나타나는 화합물로부터 선택되는 적어도 일종의 화합물이 축합하여 이루어지는 중합체인 발광 소자:
     (R1)pSi(X)4-p …(1)
[일반식 (1) 중, R1은 탄소수가 1~12인 비(非)가수분해성의 유기기, X는 가수분해성 기 및, p는 0~3의 정수임];
     (R1)pTi(X)4-p …(2)
[일반식 (2) 중, R1은 탄소수가 1~12인 비가수분해성의 유기기, X는 가수분해성 기 및, p는 0~3의 정수임].
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A light emitting device wherein the polymer is a polymer obtained by condensation of at least one compound selected from a compound represented by the following General Formula (1) and a compound represented by the following General Formula (2):
(R 1 ) p Si (X) 4-p ... (One)
[In General Formula (1), R 1 is a non-hydrolyzable organic group having 1 to 12 carbon atoms, X is a hydrolyzable group, and p is an integer of 0 to 3;
(R 1 ) p Ti (X) 4-p ... (2)
[In General Formula (2), R <1> is a non-hydrolyzable organic group whose carbon number is 1-12, X is a hydrolysable group, and p is an integer of 0-3.].
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B) 성분의 배합량이, 상기 (A) 성분 100질량부에 대하여, 50~2,000질량부인 발광 소자.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The light emitting element whose compounding quantity of the said (B) component is 50-2,000 mass parts with respect to 100 mass parts of said (A) components.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B) 성분은, 수 평균 1차 입자 지름이 1~100㎚의 미립자인 발광 소자.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The said (B) component is a light emitting element whose number average primary particle diameter is 1-100 nm fine particles.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 발광 소자의 입자 함유층을 형성하기 위한 조성물로서, 하기 (A) 성분 및 (B) 성분을 함유하는 것을 특징으로 하는 입자 함유층 형성용 조성물:
(A) 실록산계 중합체, 티타녹산계 중합체 및 이들 공중합체로부터 선택되는 적어도 일종의 중합체;
(B) 금속 산화물 입자.
A composition for forming the particle-containing layer of the light emitting device according to any one of claims 1 to 3, comprising the following component (A) and component (B):
(A) at least one polymer selected from siloxane-based polymers, titanoxane-based polymers and these copolymers;
(B) metal oxide particles.
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