JP2008202008A - Sealing resin composition for optical element - Google Patents

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JP2008202008A JP2007042982A JP2007042982A JP2008202008A JP 2008202008 A JP2008202008 A JP 2008202008A JP 2007042982 A JP2007042982 A JP 2007042982A JP 2007042982 A JP2007042982 A JP 2007042982A JP 2008202008 A JP2008202008 A JP 2008202008A
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trialkoxysilane
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silsesquioxane derivative
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Shingo Kanetani
慎吾 金谷
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Nagase Chemtex Corp
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Nagase Chemtex Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealing resin composition for an optical element which exhibits high transparency, excellent resistance to an ultraviolet ray and high refractive index, in combination. <P>SOLUTION: This sealing resin composition for the optical element comprises (i) a ladder or random structure of a silsesquioxane derivative and (ii) an inorganic fine particle as a main component, and is in the state of the B-stage. The silsesquioxane derivative is obtained by co-hydrolyzing and co-condensating a trialkoxysilane (A) having a 1-20C alkyl group or a phenyl group which may have a 1-8C hydrocarbon group, and a trialkoxysilane (B) having a substituent containing a reactive cyclic ether group. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明性、耐紫外線性、さらに高い屈折率を併せ持つ光素子用封止樹脂組成物及び該組成物で封止された光素子に関する。   The present invention relates to a sealing resin composition for optical elements having both transparency, ultraviolet resistance, and a higher refractive index, and an optical element sealed with the composition.

近年、発光波長が350〜490nmであるInGaN等のGaN系化合物半導体を利用した高輝度LEDが実用化されている。さらに、蛍光体との組み合わせによって白色LEDも得られるようになった。これらは液晶テレビ、携帯電話等の表示デバイス用バックライトとして活発に用いられるようになり、さらには、一般照明としての需要が高まりつつある。   In recent years, high-intensity LEDs using a GaN-based compound semiconductor such as InGaN having an emission wavelength of 350 to 490 nm have been put into practical use. Furthermore, a white LED can be obtained by combining with a phosphor. These have been actively used as backlights for display devices such as liquid crystal televisions and mobile phones, and demand for general lighting is increasing.

従来、LEDの封止樹脂として、加工性に優れるエポキシ樹脂が多用されてきた(例えば、特許文献1、2参照)。これらは接着性、耐熱性が高い一方で、青色〜紫外線領域の光に対して耐性が低く、黄変し易い性質があった。黄変はLEDの輝度低下の原因となるため、高輝度化が進むLED封止剤に適応することが困難となってきている。   Conventionally, an epoxy resin excellent in processability has been frequently used as an LED sealing resin (see, for example, Patent Documents 1 and 2). While these have high adhesiveness and heat resistance, they have low resistance to light in the blue to ultraviolet region, and have the property of easily yellowing. Since yellowing causes a decrease in the luminance of the LED, it has become difficult to adapt to an LED sealant that is increasing in luminance.

一方、シロキサン骨格が耐紫外線性に優れることから、カゴ型シルセスキオキサン樹脂や、ゴム状シリコーン樹脂がLED用封止樹脂として用いられている(例えば、特許文献3、4参照)。しかしながら、一般的にケイ素系樹脂は屈折率が1.40〜1.55程度であって必ずしも充分に高い屈折率を持つものではなく、光の取り出し効率低下の原因となる。さらに、ケイ素系樹脂は硬度が低いものが多く、表面に傷がついたり、あるいは、ゴミが付着し易いという問題がある。また、これらは通常液状であり、大量生産を目的としたトランスファー成型に使用することが出来ない。   On the other hand, since the siloxane skeleton has excellent ultraviolet resistance, a cage-type silsesquioxane resin or a rubbery silicone resin is used as an LED sealing resin (see, for example, Patent Documents 3 and 4). However, in general, a silicon-based resin has a refractive index of about 1.40 to 1.55 and does not necessarily have a sufficiently high refractive index, which causes a reduction in light extraction efficiency. Furthermore, many silicon-based resins have low hardness, and there is a problem that the surface is scratched or dust easily adheres. Further, these are usually liquid and cannot be used for transfer molding for mass production.

すなわち、LEDを効率良く連続的に封止する方法として、低圧トランスファー成形機を使用する方法が知られている。この方法は、Bステージ(半硬化状態)にある固形のLED用封止材を用いるものであり、液状LED封止材を用いる注型に比べて、LEDを大量に封止することが可能である。なお、Bステージとは、熱硬化性樹脂の反応におけるステージのことであって、樹脂が溶媒に可溶のままであるAステージの後に続き、かつ完全に硬化した状態であるCステージの前にあって、粘度増加過程として特徴づけられる。即ち、反応が適度に進み半硬化の状態にあることを言う。
特開平9−208805号公報 特開2002−302533号公報 特開2006−299150号公報 特開2002−374007号公報
That is, a method using a low-pressure transfer molding machine is known as a method for efficiently and continuously sealing LEDs. This method uses a solid LED sealing material in a B-stage (semi-cured state), and can seal LEDs in large quantities compared to casting using a liquid LED sealing material. is there. The B stage is a stage in the reaction of the thermosetting resin, which follows the A stage where the resin remains soluble in the solvent, and before the C stage where the resin is completely cured. And characterized as a viscosity increasing process. That is, it means that the reaction proceeds moderately and is in a semi-cured state.
JP-A-9-208805 JP 2002-302533 A JP 2006-299150 A JP 2002-374007 A

上述の現状に鑑み、本発明は、トランファー成型に適応可能で、透明性、耐紫外線性に優れ、さらに、高屈折率を併せ持つ光素子用封止樹脂組成物を提供することを目的とする。   In view of the above-mentioned present situation, an object of the present invention is to provide a sealing resin composition for optical elements that can be applied to transfer molding, has excellent transparency and ultraviolet resistance, and also has a high refractive index. .

発明者は上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、特定種類の側鎖を導入したラダー型又はランダム型構造のシルセスキオキサン誘導体(イ)及び無機微粒子(ロ)を主成分とする、Bステージ化された封止樹脂組成物が優れた光透過性、耐紫外線性、高い屈折率を併せ持つことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。すなわち、本発明は、下記一般式(1):   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventor has a ladder-type or random-type silsesquioxane derivative (i) and inorganic fine particles (b) containing a specific type of side chain as a main component, B It was found that the staged encapsulating resin composition had excellent light transmittance, ultraviolet resistance and high refractive index, and the present invention was completed based on this finding. That is, the present invention provides the following general formula (1):

Figure 2008202008
Figure 2008202008

(式中、複数のRは各々独立してメチル基またはエチル基を表し、R1は炭素数1〜20のアルキル基を表すか、又は、炭素数1〜8の炭化水素基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表されるトリアルコキシシラン(A)と、
下記一般式(2):
(In the formula, each of a plurality of R's independently represents a methyl group or an ethyl group, and R1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or has a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. A trialkoxysilane (A) represented by:
The following general formula (2):

Figure 2008202008
Figure 2008202008

(式中、複数のRは各々独立してメチル基またはエチル基を表し、R2は反応性環状エーテル基を含有する置換基を表す。)で表されるトリアルコキシシラン(B)とを共加水分解、共縮合することによって得られるラダー型又はランダム型構造のシルセスキオキサン誘導体(イ)と無機微粒子(ロ)を主成分とする、Bステージ化された光素子用封止樹脂組成物である。
本発明はまた、上記封止樹脂組成物で封止されてなる光素子でもある。
(Wherein a plurality of R's independently represent a methyl group or an ethyl group, and R2 represents a substituent containing a reactive cyclic ether group) and a trialkoxysilane (B) represented by A B-staged encapsulating resin composition for optical elements, which is mainly composed of a silsesquioxane derivative (A) having a ladder type structure or a random type structure obtained by decomposition and cocondensation and inorganic fine particles (B). is there.
The present invention is also an optical element that is sealed with the sealing resin composition.

(1)本発明の封止樹脂組成物は上述の構成により、耐紫外線性が優れている。
(2)本発明の封止樹脂組成物は上述の構成により、高い屈折率を併せ持ち、高輝度光素子封止剤に要求される必要性能をそれぞれ充分な水準で満たすことができる。
(3)本発明の封止樹脂組成物は上述の構成により、トランスファー成形が可能である。
(1) The sealing resin composition of this invention is excellent in ultraviolet-ray resistance by the above-mentioned structure.
(2) The sealing resin composition of the present invention has a high refractive index and can satisfy the required performance required for the high-luminance optical element sealing agent at a sufficient level by the above-described configuration.
(3) The sealing resin composition of the present invention can be transfer molded by the above-described configuration.

本発明における上記トリアルコキシシラン(A)においては、上記一般式(1)中、R1は炭素数1〜20のアルキル基を表すか、又は、炭素数1〜8の炭化水素基を有していてもよいフェニル基を表す。   In the trialkoxysilane (A) in the present invention, in the general formula (1), R1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or has a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Represents an optionally substituted phenyl group.

上記炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−又はt−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、オクチル、イソオクチル、ドデシル、テトラデシル等を挙げることができる。これらのうち、炭素数1〜12のアルキル基が好ましく、炭素数2〜8のアルキル基がより好ましい。   Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s- or t-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, octyl, isooctyl, dodecyl, tetradecyl and the like. Can do. Among these, a C1-C12 alkyl group is preferable and a C2-C8 alkyl group is more preferable.

上記炭素数1〜8の炭化水素基を有していてもよいフェニル基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、クメニル等のほか、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル等の置換基を有するフェニル基等を挙げることができる。   Examples of the phenyl group which may have a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms include, for example, phenyl, tolyl, xylyl, cumenyl, methyl, ethyl, propyl, butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, heptyl And a phenyl group having a substituent such as octyl.

上記トリアルコキシシラン(A)においては、一般式(1)においてR1としては、炭素数2〜8のアルキル基、又は、炭素数1〜2の炭化水素基を有していてもよいフェニル基が好ましい。   In the trialkoxysilane (A), R1 in the general formula (1) is an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms or a phenyl group optionally having a hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms. preferable.

上記トリアルコキシシラン(A)の具体例としては、例えば、Rがメチル基であるか、エチル基であるか、メチル基が二つにエチル基が一つであるか、又は、メチル基が一つにエチル基が二つであって、そのそれぞれについて、R1がエチル、イソブチル、イソオクチル又はフェニル等であるもの、等が挙げられる。   Specific examples of the trialkoxysilane (A) include, for example, R is a methyl group, an ethyl group, two methyl groups and one ethyl group, or one methyl group. In particular, there are two ethyl groups, and for each of them, R1 is ethyl, isobutyl, isooctyl, phenyl or the like.

本発明においては、上記トリアルコキシシラン(A)としては、上述の基を有するものの1種又は2種以上を併用することができる。   In the present invention, as the trialkoxysilane (A), one or two or more of the above-mentioned groups can be used in combination.

本発明における上記トリアルコキシシラン(B)においては、上記一般式(2)中、R2は反応性環状エーテル基を含有する置換基を表す。   In the trialkoxysilane (B) in the present invention, in the general formula (2), R2 represents a substituent containing a reactive cyclic ether group.

上記反応性環状エーテル基としては、例えば、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等を挙げることができる。これらのうち、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基が好ましく、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基がより好ましい。   Examples of the reactive cyclic ether group include an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, an oxetanyl group, tetrahydrofuran, and tetrahydropyran. Among these, an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, and an oxetanyl group are preferable, and an epoxy group and a 3,4-epoxycyclohexyl group are more preferable.

上記反応性環状エーテル基を含有する置換基としては、とくに限定されず、例えば、上記反応性環状エーテル基(例えば、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基等)を含有し、エーテル結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素基、上記反応性環状エーテル基(例えば、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、オキセタニル基等)を含有するシリルオキシ基等を挙げることができる。   The substituent containing the reactive cyclic ether group is not particularly limited, and includes, for example, the reactive cyclic ether group (for example, an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, an oxetanyl group, etc.) and an ether. C1-10 hydrocarbon group which may have a bond, silyloxy group containing the above reactive cyclic ether group (for example, epoxy group, 3,4-epoxycyclohexyl group, oxetanyl group, etc.) be able to.

上記トリアルコキシシラン(B)の具体例としては、例えば、Rがメチル基であるか、エチル基であるか、メチル基が二つにエチル基が一つであるか、又は、メチル基が一つにエチル基が二つであって、そのそれぞれについて、R1がエポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基若しくはオキセタニル基を含有し、エーテル結合を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素基、又は、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基若しくはオキセタニル基を含有するシリルオキシ基であるもの、等が挙げられる。   Specific examples of the trialkoxysilane (B) include, for example, R is a methyl group, an ethyl group, two methyl groups and one ethyl group, or one methyl group. Each of which has two ethyl groups, and for each of them, R1 contains an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group or an oxetanyl group, and may have an ether bond. Examples thereof include a hydrogen group or a silyloxy group containing an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, or an oxetanyl group.

本発明においては、上記トリアルコキシシラン(B)としては、上述の基を有するものの1種又は2種以上を併用することができる。   In the present invention, as the trialkoxysilane (B), one or two or more of the above-mentioned groups can be used in combination.

本発明におけるシルセスキオキサン誘導体は、上記トリアルコキシシラン(A)とトリアルコキシシラン(B)とを共加水分解、共縮合することによって得られるラダー型又はランダム型構造のものである。本発明におけるシルセスキオキサン誘導体はは、ラダー型構造のもののみ、ランダム型構造のもののみ、又は、ラダー型構造のものとランダム型構造のものの混合物のいずれであってもよい。   The silsesquioxane derivative in the present invention has a ladder type structure or a random type structure obtained by cohydrolyzing and cocondensing the trialkoxysilane (A) and the trialkoxysilane (B). The silsesquioxane derivative in the present invention may be a ladder structure only, a random structure only, or a mixture of a ladder structure and a random structure.

シルセスキオキサン誘導体は、トリアルコキシシランの共加水分解、共縮合の条件によりラダー型又はランダム型構造のものを得ることができることが知られており、ラダー型又はランダム型構造体の製造方法としては、例えば、本明細書の実施例に記載の方法、又は、特開平6−306173号公報に記載の方法等により製造することができる。   It is known that silsesquioxane derivatives can be obtained in a ladder type or a random type structure depending on the conditions of co-hydrolysis and co-condensation of trialkoxysilane, and as a method for producing a ladder type or random type structure Can be produced by, for example, the method described in the examples of the present specification or the method described in JP-A-6-306173.

ラダー型構造のシルセスキオキサン誘導体は、例えば、以下のような構造を有する。   The ladder-type silsesquioxane derivative has, for example, the following structure.

Figure 2008202008
Figure 2008202008

上記式中、複数のXは同一又は異なって反応性環状エーテル基を、複数のYは同一又は異なって炭素数1〜12のアルキル基を表すか、又は、炭素数1〜8の炭化水素基を有していてもよいフェニル基を表す。   In the above formula, a plurality of X are the same or different and represent a reactive cyclic ether group, and a plurality of Y are the same or different and represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Represents a phenyl group which may have

上記トリアルコキシシラン(A)と上記トリアルコキシシラン(B)との配合モル比は、10:90〜90:10であることが好ましく、より好ましくは、40:60〜80:20である。トリアルコキシシラン(A)のモル比が10未満であると硬化後の架橋密度が高くなり、機械強度が低くなる恐れがある。   The mixing molar ratio of the trialkoxysilane (A) and the trialkoxysilane (B) is preferably 10:90 to 90:10, and more preferably 40:60 to 80:20. If the molar ratio of trialkoxysilane (A) is less than 10, the crosslink density after curing increases, and the mechanical strength may decrease.

本発明におけるシルセスキオキサン誘導体の重量平均分子量は1500〜10000であることが好ましく、より好ましくは2000〜8000である。重量平均分子量が1500未満であると、耐熱性が充分でないおそれがあり、10000を超えると高粘度となり、取り出しが困難となるおそれがある。   It is preferable that the weight average molecular weights of the silsesquioxane derivative in this invention are 1500-10000, More preferably, it is 2000-8000. If the weight average molecular weight is less than 1500, the heat resistance may not be sufficient, and if it exceeds 10,000, the viscosity may be high and it may be difficult to take out.

上記シルセスキオキサン誘導体は、本発明の目的を阻害しない範囲で、上記トリアルコキシシラン(A)及びトリアルコキシシラン(B)以外のアルコキシシラン(例えば、モノ、ジ又はトリアルコキシシラン)を併用(例えば、0.1〜5モル%程度)することを排除するものではない。   The silsesquioxane derivative is used in combination with an alkoxysilane other than the trialkoxysilane (A) and trialkoxysilane (B) (for example, mono, di, or trialkoxysilane) as long as the object of the present invention is not impaired. For example, it is not excluded that about 0.1 to 5 mol%.

本発明の組成物においては、上記ラダー型又はランダム型構造のシルセスキオキサン誘導体を主成分とするものであるが、本発明の目的を阻害しない範囲で籠型構造のシルセスキオキサン誘導体を含有していることを排除するものではない。   In the composition of the present invention, the above-mentioned ladder-type or random-type silsesquioxane derivative is the main component. However, the silsesquioxane derivative having a cage-type structure is used as long as the object of the present invention is not impaired. It does not exclude the inclusion.

本発明における無機微粒子(ロ)は、封止剤の屈折率制御のために使用されるものである。上記化合物としては、高屈折率を与える観点から、セラミックスが好ましい。上記セラミックスとしては、例えば、鉱物(石膏、石英、方解石等)、金属の酸化物、金属の複合酸化物(チタン及びジルコニウム原子のうち少なくとも一種を含む複合酸化物、例えば、TiMOx(MはZr、Fe、Si、Sn、Sb、W、Ce等の金属)等)、窒化物(BN、AiN、Si等)、炭酸塩(SrCO、BaCO等)、炭化物(SiC、TiC、BC、WC等)、硫化物(CdS、MoS、希土類硫化物等)、リン酸化物(リン酸カルシウム、リン酸ビスマス等)、ホウ化物(LaB、TiB、ZrB等)等を挙げることができる。中でも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化セリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化イットリウム、酸化ホルミウム等の金属の酸化物;チタン及びジルコニウム原子のうち少なくとも一種を含む複合酸化物が可視光領域での透明性に優れる点で好ましく、(a)酸化チタン、(b)酸化ジルコニウム、並びに(c)チタン及び/又はジルコニウム原子を含む複合酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であることがより好ましい。 The inorganic fine particles (b) in the present invention are used for controlling the refractive index of the sealant. As the compound, ceramics is preferable from the viewpoint of giving a high refractive index. Examples of the ceramics include minerals (gypsum, quartz, calcite, etc.), metal oxides, metal composite oxides (complex oxides containing at least one of titanium and zirconium atoms, such as TiMOx (M is Zr, Fe, Si, Sn, Sb, W, Ce, etc.)), nitrides (BN, AiN, Si 3 N 4 etc.), carbonates (SrCO 3 , BaCO 3 etc.), carbides (SiC, TiC, B 4 C, WC, etc.), sulfides (CdS, MoS 2 , rare earth sulfides, etc.), phosphorus oxides (calcium phosphate, bismuth phosphate, etc.), borides (LaB 6 , TiB 2 , ZrB 2 etc.), etc. Can do. Among them, metal oxides such as zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, cerium oxide, calcium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, antimony oxide, yttrium oxide, holmium oxide; among titanium and zirconium atoms A composite oxide containing at least one kind is preferable in terms of excellent transparency in the visible light region, and is composed of (a) titanium oxide, (b) zirconium oxide, and (c) a composite oxide containing titanium and / or zirconium atoms. More preferably, it is at least one selected from the group.

上記無機微粒子の態様としては特に限定されず、例えば、微粒子粉体、ペースト又はゾルであってよい。好ましくはゾルである。 The form of the inorganic fine particles is not particularly limited, and may be fine particle powder, paste or sol, for example. A sol is preferable.

上記無機微粒子(ロ)の平均一次粒子径は、一般には光の波長未満であればよく、例えば、100nm以下が好ましく、より好ましくは30nm以下の粒径である。上記無機微粒子の具体例としては、「QUEEN TITANIC」(商品名、触媒化成工業製)(チタニア系複合酸化物、5〜10nm)、「NZD−8E61」(商品名、住友大阪セメント製)(酸化ジルコニウムゾル、3〜10nm)等が挙げられる。 Generally the average primary particle diameter of the said inorganic fine particle (b) should just be less than the wavelength of light, for example, 100 nm or less is preferable, More preferably, it is a particle diameter of 30 nm or less. Specific examples of the inorganic fine particles include “QUEEN TITANIC” (trade name, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo) (titania-based composite oxide, 5 to 10 nm), “NZD-8E61” (trade name, manufactured by Sumitomo Osaka Cement) (oxidation) Zirconium sol, 3 to 10 nm) and the like.

上記シルセスキオキサン誘導体(イ)と上記無機微粒子(ロ)との配合重量比は、屈折率の調節量や透明性、耐紫外線性等の所望の性能にもよるが、一般的には90:10〜10:90が好ましく、70:30〜30:70がより好ましい。   The blending weight ratio of the silsesquioxane derivative (a) and the inorganic fine particles (b) depends on the desired performance such as the refractive index adjustment, transparency and UV resistance, but is generally 90%. : 10 to 10:90 is preferable, and 70:30 to 30:70 is more preferable.

無機微粒子(ロ)を樹脂組成物中に分散させる目的で、分散剤を必要に応じて添加することができる。上記分散剤としては種々の界面活性剤が用いられ、例えば、硫酸エステル系、カルボン系、ポリカルボン酸系等のアニオン系界面活性、高級脂肪族アミンの4級塩等のカチオン界面活性剤、高級脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系等のノニオン界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッソ系界面活性剤、アマイドエステル結合を有する高分子活性剤等が挙げられる。 For the purpose of dispersing the inorganic fine particles (b) in the resin composition, a dispersant can be added as necessary. Various surfactants are used as the dispersant, and examples thereof include anionic surfactants such as sulfate esters, carboxylic acids, and polycarboxylic acids, cationic surfactants such as quaternary salts of higher aliphatic amines, and the like. Nonionic surfactants such as fatty acid polyethylene glycol esters, silicon surfactants, fluorine surfactants, polymer surfactants having an amide ester bond, and the like can be mentioned.

これら分散剤の添加量は、無機微粒子(ロ)100重量部に対して0.1重量部以上10重量部以下が好ましい。 The amount of the dispersant added is preferably 0.1 parts by weight or more and 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the inorganic fine particles (b).

本発明において、上記シルセスキオキサン誘導体は、架橋物を形成して硬化するのであるが、この硬化は、例えば、カチオン重合触媒(ルイス酸触媒、例えば、ハロゲン化金属(BF、AlCl等)、有機金属化合物(CAlCl等)等)の使用により行うことができる。 In the present invention, the silsesquioxane derivative is cured by forming a cross-linked product. For example, this curing may be performed by using, for example, a cationic polymerization catalyst (Lewis acid catalyst, for example, metal halide (BF 3 , AlCl 3, etc.). ), Organometallic compounds (C 2 H 5 AlCl 2 and the like) can be used.

本発明においては、上記シルセスキオキサン誘導体の架橋物を形成するために、硬化剤を使用してもよい。このような硬化剤としては、反応性環状エーテル基と反応可能な硬化剤を使用することができ、例えば、熱硬化性樹脂の硬化に使用される硬化剤を使用することができる。このような硬化剤としては、酸無水物化合物、アミン化合物、フェノール化合物などが挙げられる。これらのうち、硬化後の透明性を考慮して、酸無水物が好適であり、例えば、以下のような化合物が挙げられる:無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、2,4−ジエチルグルタル酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸など。これらの化合物は、その1種のみを単独で使用できるほか、2種以上を併用して使用することもできる。   In the present invention, a curing agent may be used to form a crosslinked product of the silsesquioxane derivative. As such a curing agent, a curing agent capable of reacting with a reactive cyclic ether group can be used. For example, a curing agent used for curing a thermosetting resin can be used. Examples of such a curing agent include acid anhydride compounds, amine compounds, and phenol compounds. Of these, acid anhydrides are preferable in consideration of transparency after curing, and examples include the following compounds: phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride Hexahydrophthalic anhydride, 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, or a mixture of 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride and 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, 2,4- Diethyl glutaric anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, etc. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

上記硬化剤の配合量は、一般的には硬化剤の種類により異なり得るので一概に規定することはできないが、例えば、酸無水化合物の場合、反応性環状エーテル基1モルに対して酸無水物基0.2〜2.0モルの割合が好ましく、より好ましくは0.5〜1.0モルである。他種類の硬化剤の場合も、上記値を参照して当業者は適宜に使用することができる。   The amount of the curing agent is generally different depending on the type of the curing agent, and thus cannot be generally defined. For example, in the case of an acid anhydride compound, an acid anhydride with respect to 1 mol of a reactive cyclic ether group. A ratio of 0.2 to 2.0 mol of the group is preferable, and more preferably 0.5 to 1.0 mol. In the case of other types of curing agents, those skilled in the art can appropriately use them with reference to the above values.

上記硬化剤とともに、硬化触媒を使用することができる。上記硬化触媒としては、例えば、イミダゾール化合物、3級アミン類、有機ホスフィン化合物類またはこれらの塩類等が挙げられる。具体的には例えば、イミダゾール化合物としては、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、4−メチルイミダゾール、4−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。また、有機リン化合物を使用することができ、その具体例としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン、トリ(p−トルイル)ホスフィン、トリ(p−メトキシフェニル)ホスフィン、トリ(p−エトキシフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボラン等のトリオルガノホスフィン化合物やテトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等の4級ホスホニウム塩などのオルガノホスフィン類及びその誘導体が挙げられる。3級アミン類としては、トリエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルベンジルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノ)フェノール、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン等を挙げることができる。これらの化合物は、その1種のみを単独で使用できるほか、2種以上を併用して使用することもできる。   A curing catalyst can be used together with the curing agent. Examples of the curing catalyst include imidazole compounds, tertiary amines, organic phosphine compounds, or salts thereof. Specifically, for example, as imidazole compounds, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 4-methylimidazole, 4-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4 -Hydroxymethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, etc. Can be mentioned. Organic phosphorus compounds can also be used, and specific examples thereof include triphenylphosphine, tributylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, tri (p-toluyl) phosphine, tri Organophosphines such as (p-methoxyphenyl) phosphine, tri (p-ethoxyphenyl) phosphine, triorganophosphine compounds such as triphenylphosphine and triphenylborane and quaternary phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium and tetraphenylborate; And derivatives thereof. Examples of tertiary amines include triethylamine, dimethylethanolamine, dimethylbenzylamine, 2,4,6-tris (dimethylamino) phenol, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

これらの硬化触媒は、シルセスキオキサン誘導体100重量部に対して好ましくは0.01から1重量部配合される。   These curing catalysts are preferably blended in an amount of 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the silsesquioxane derivative.

本発明の封止樹脂組成物には、本発明の目的を阻害しないかぎり、助触媒を添加することが出来る。助触媒として用いる多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール等を用いることができる。また、これら多価アルコールのうちの1種又は2種以上を用いることもできる。多価アルコール又は、酸無水物に対して0.1〜5.0当量、好ましくは0.2〜3.0当量用いることが望ましい。   A promoter can be added to the encapsulating resin composition of the present invention as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the polyhydric alcohol used as the cocatalyst include ethylene glycol, diethylene glycol, trimethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and the like. Moreover, 1 type, or 2 or more types of these polyhydric alcohols can also be used. It is desirable to use 0.1 to 5.0 equivalents, preferably 0.2 to 3.0 equivalents, relative to the polyhydric alcohol or acid anhydride.

本発明の封止樹脂組成物には、加熱時の酸化劣化を防止するために、酸化防止剤を添加することが出来る。この酸化防止剤としては、例えば、フェノール系、硫黄系、リン系酸化防止剤等が挙げられる。   An antioxidant may be added to the encapsulating resin composition of the present invention in order to prevent oxidative degradation during heating. As this antioxidant, a phenol type, sulfur type, phosphorus type antioxidant, etc. are mentioned, for example.

フェノール系酸化防止剤の具体例としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等のモノフェノール類、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等のビスフェノール類、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3′−ビス−(4′−ヒドロキシ−3′−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、1,3,5−トリス(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、トコフェノール等の高分子型フェノール類が挙げられる。   Specific examples of the phenolic antioxidant include, for example, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, dibutylhydroxytoluene, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol. Monophenols such as stearyl-β- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2 ′ -Methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl Bisphenols such as 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, , 3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t- Butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3'-bis- (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 1,3,5-tris ( 3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, tocophenol and other high-molecular phenols .

硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3′−チオジプロピオネート等が挙げられる。   Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate.

リン系酸化防止剤としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、ビス[2−t−ブチル−6−メチル−4−{2−(オクタデシルオキシカルボニル)エチル}フェニル]ヒドロゲンホスファイト等のホスファイト類、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のオキサホスファフェナントレンオキサイド類が挙げられる。   Phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) ) Phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (octadecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4 -Di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, bis [2-t-butyl-6-methyl-4- {2- (octadecyloxycarbonyl) ethyl} phenyl] hydrogen phosphite, etc. 9,10-dihydro- -Oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10- Examples thereof include oxaphosphaphenanthrene oxides such as oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide.

これら酸化防止剤は、単独で使用できるほか、2種以上を組み合わせて使用することが出来る。これらの酸化防止剤は、シルセスキオキサン誘導体100重量部に対して好ましくは0.01から1重量部配合される。   These antioxidants can be used alone or in combination of two or more. These antioxidants are preferably added in an amount of 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the silsesquioxane derivative.

本発明の封止樹脂組成物には、耐光性を向上させる目的で紫外線吸収剤を添加することが出来る。紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸類、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジtert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジtert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジtert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−{(2′−ヒドロキシ−3′,3′′,4′′,5′′,6′′−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル}ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[{3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル}メチル]ブチルマロネート等のヒンダードアミン類などが挙げられる。これらは、単独で使用できるほか、2種以上を組み合わせて使用することが出来る。   An ultraviolet absorber can be added to the sealing resin composition of the present invention for the purpose of improving light resistance. Specific examples of the ultraviolet absorber include salicylic acids such as phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2- Hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4 Benzophenones such as -methoxy-5-sulfobenzophenone, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hi Roxy-3 ', 5'-ditert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2' -Hydroxy-3 ', 5'-ditert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-ditert-amylphenyl) benzotriazole, 2-{(2 Benzotriazoles such as ′ -hydroxy-3 ′, 3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl} benzotriazole, bis (2,2,6, 6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2, , 6-pentamethyl-4-piperidyl) [{3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl} methyl] like hindered amines, such as butyl malonate. These can be used alone or in combination of two or more.

これらの紫外線吸収剤は、シルセスキオキサン誘導体100重量部に対して好ましくは0.01から1重量部配合される。   These ultraviolet absorbers are preferably blended in an amount of 0.01 to 1 part by weight per 100 parts by weight of the silsesquioxane derivative.

本発明の封止樹脂組成物には、耐光性を向上させる目的で光安定剤を添加することが出来る。光安定剤の具体例としては、例えば、ポリ[{6−(1,1,3,3,−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)イミノ}]等のヒンダードアミン類が挙げられる。これらは単独で使用できるほか、2種以上を組み合わせて使用することが出来る。   A light stabilizer can be added to the sealing resin composition of the present invention for the purpose of improving light resistance. Specific examples of the light stabilizer include, for example, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2, And hindered amines such as 2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) imino}]. These can be used alone or in combination of two or more.

これらの光安定剤は、シルセスキオキサン誘導体100重量部に対して好ましくは0.01から1重量部配合される。   These light stabilizers are preferably blended in an amount of 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the silsesquioxane derivative.

本発明の封止樹脂組成物には、本発明の目的を阻害しないかぎり、その他の各種の添加剤を配合することができ、例えば、組成物の硬化性を調整するための反応性希釈剤、密着性を更に向上させるためのシランカップリング剤などが挙げられる。   The sealing resin composition of the present invention can be blended with various other additives as long as the object of the present invention is not impaired, for example, a reactive diluent for adjusting the curability of the composition, Examples thereof include a silane coupling agent for further improving the adhesion.

上記反応性希釈剤としては、例えば、グリセリンジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ネオペンチルグリコールグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、アルキレンジグリシジルエーテル、ポリグリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、4−ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイド等を挙げることができる。これら反応性希釈剤は単独で使用できる他、2種以上を混合しても使用することができる。   Examples of the reactive diluent include glycerin diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, diglycidyl aniline, neopentyl glycol glycidyl ether, cyclohexane dimethanol diglycidyl ether, alkylene diglycidyl ether, polyglycol diglycidyl ether, and polypropylene. Examples thereof include glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 4-vinylcyclohexene monooxide, vinylcyclohexene dioxide, and methylated vinylcyclohexene dioxide. These reactive diluents can be used alone or in admixture of two or more.

上記シランカップリングとしては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、ビルニトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silane coupling include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4 -Epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, virnitrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and the like.

本発明の封止樹脂組成物は、上記シルセスキオキサン誘導体(イ)及び上記無機微粒子(ロ)とともに、必要に応じて上記硬化剤、硬化触媒、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、離型剤、染料、顔料などの、公知の各種の添加剤のうちの1種又は2種以上を配合して混合したものを、Bステージ化することにより得ることができる。   The sealing resin composition of the present invention, together with the silsesquioxane derivative (ii) and the inorganic fine particles (b), the curing agent, curing catalyst, co-catalyst, antioxidant, ultraviolet absorber, if necessary, It can be obtained by blending and mixing one or more of various known additives such as light stabilizers, mold release agents, dyes, pigments and the like into a B-stage.

すなわち、本発明の組成物は、例えば、以下の方法等を用いて得ることができる。第一の方法は、上記シルセスキオキサン誘導体、無機微粒子、硬化剤及び硬化触媒を溶融混合し、加熱下で硬化反応を途中まで進行させ、Bステージ化する。Bステージ化の目安は、150℃におけるゲル化時間が好ましくは10〜70秒、より好ましくは10〜40秒になるように設定する。つぎに、Bステージ化した組成物を室温に冷却した後、公知の手法で粉砕し、必要に応じて打錠する。なお、Bステージ化した後、組成物を溶解可能な有機溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、メチルカルビトール、ブチルカルビトールなどのアルキルエーテル類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類等)に一旦溶解し、混合を均一化してもよい。第二の方法は、各成分を有機溶媒に溶解し、溶液中で加熱下に硬化反応を進行させてBステージ化し、有機溶媒を除去して冷却した後、粉砕する。第三の方法は、各成分を有機溶媒に溶解したのち、加熱せずに有機溶媒を揮散除去し、その後に低温加熱してBステージ化する方法である。   That is, the composition of the present invention can be obtained using, for example, the following method. In the first method, the silsesquioxane derivative, the inorganic fine particles, the curing agent, and the curing catalyst are melted and mixed, and the curing reaction proceeds halfway under heating to form a B stage. The standard of B-stage is set so that the gelation time at 150 ° C. is preferably 10 to 70 seconds, more preferably 10 to 40 seconds. Next, the B-staged composition is cooled to room temperature, then pulverized by a known method, and tableted as necessary. After the B-stage, an organic solvent capable of dissolving the composition (for example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, toluene, xylene and hexane) , Hydrocarbons such as cyclohexane, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, alkyl ethers such as methyl carbitol and butyl carbitol, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, etc. Then, the mixing may be made uniform. In the second method, each component is dissolved in an organic solvent, and a curing reaction is allowed to proceed under heating in a solution to form a B stage. After the organic solvent is removed and cooled, it is pulverized. The third method is a method in which each component is dissolved in an organic solvent, and then the organic solvent is volatilized and removed without heating.

本発明の組成物の態様としては、Bステージ化された態様であれば特に限定されないが、トランスファー成形や取扱上の観点から、例えば、Bステージ化した後、粉砕した粉状組成物、粉砕後ペレット化、タブレット化等した組成物、等であってよい。   The embodiment of the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a B-staged embodiment, but from the viewpoint of transfer molding and handling, for example, after being B-staged, pulverized powder composition, after pulverization The composition may be pelletized or tableted.

本発明の封止樹脂組成物を使用してトランスファー成形することができる。トランスファー成形は、一般的手法としては、Bステージ化した成形材料を余熱室で余熱軟化してからプランジャによって小さな穴を通して封止用金型のキャビティに送り、そこで硬化させる。成形機には、補助ラム式成形機、スライド式成形機、二重ラム式形成機、低圧封入用成形機等があるが、いずれでもよい。   The sealing resin composition of the present invention can be used for transfer molding. In the transfer molding, as a general method, the B-staged molding material is softened in the preheating chamber, and then sent by a plunger through a small hole to the cavity of the sealing mold, where it is cured. Examples of the molding machine include an auxiliary ram type molding machine, a slide type molding machine, a double ram type molding machine, and a low pressure sealing molding machine.

本発明の封止樹脂組成物を適用する光素子としては、発光素子、受光素子、複合光素子、光集積回路等があり、具体的には、例えば、LED、LD等が挙げられる。   Examples of the optical element to which the sealing resin composition of the present invention is applied include a light emitting element, a light receiving element, a composite optical element, an optical integrated circuit, and the like. Specific examples include an LED and an LD.

本発明の光素子は、上述の例示の態様が示すように、本発明の封止樹脂組成物を適用してなる光素子、例えば、LED、なかでも例えば、発光のピーク波長が350〜490nmのLEDである。   The optical element of the present invention is an optical element obtained by applying the encapsulating resin composition of the present invention, for example, an LED, particularly, for example, having a peak wavelength of emitted light of 350 to 490 nm as shown in the above-described exemplary embodiment. LED.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の記載は専ら説明のためであって、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, the following description is only for description and the present invention is not limited to these Examples.

合成例1
シルセスキオキサン誘導体(SQ−1)の合成
撹拌機及び温度計を設置した反応容器に、MIBK50g、水酸化テトラメチルアンモニウムの20%水溶液4.7g(水酸化テトラメチルアンモニウム10.3mmol)、蒸留水13.2(940.0mmol)gを仕込んだ後、エチルトリメトキシシラン42.6g(283.0mmol)、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン7.4g(31.0mmol)を50〜55℃で徐々に加え、3時間撹拌放置した。反応終了後、系内、にMIBK50gを加え、さらに20gの蒸留水で水層のpHが中性になるまで水洗した。次に20gの蒸留水で2回水洗後、減圧下でMIBKを留去して目的の化合物(SQ−1)を得た。Mwは5820であった。分散度Mw/Mn=1.7、IR測定で3500cm−1付近の残存シラノールのピークを持つ、ラダー型もしくはランダム型構造を主体とするシルセスキオキサン誘導体を得た。
Synthesis example 1
Synthesis of silsesquioxane derivative (SQ-1) In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 50 g of MIBK, 4.7 g of tetramethylammonium hydroxide 20% aqueous solution (tetramethylammonium hydroxide 10.3 mmol), distillation After charging 13.2 (940.0 mmol) g of water, 42.6 g (283.0 mmol) of ethyltrimethoxysilane and 7.4 g (31.0 mmol) of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were added at 50 to 55 ° C. The mixture was gradually added and stirred for 3 hours. After completion of the reaction, 50 g of MIBK was added to the system, and further washed with 20 g of distilled water until the pH of the aqueous layer became neutral. Next, after washing twice with 20 g of distilled water, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain the target compound (SQ-1). Mw was 5820. A silsesquioxane derivative mainly having a ladder type structure or a random type structure having a residual silanol peak in the vicinity of 3500 cm −1 by IR measurement with a dispersity Mw / Mn = 1.7 was obtained.

合成例2
シルセスキオキサン誘導体(SQ−2)の合成
撹拌機及び温度計を設置した反応容器に、MIBK50g、水酸化テトラメチルアンモニウムの20%水溶液3.6g(水酸化テトラメチルアンモニウム7.9mmol)、蒸留水10.1g(720.0mmol)を仕込んだ後、イソブチルトリメトキシシラン21.5g(121.0mmol)、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン28.5g(121.0mmol)を50〜55℃で徐々に加え、3時間撹拌放置した。反応終了後、系内にMIBK50gを加え、さらに20gの蒸留水で水層のpHが中性になるまで水洗した。次に20gの蒸留水で2回水洗後、減圧下でMIBKを留去して目的の化合物(SQ−2)を得た。Mwは3200であった。分散度Mw/Mn=1.4、IR測定で3500cm−1付近の残存シラノールのピークを持つ、ラダー型もしくはランダム型構造を主体とするシルセスキオキサン誘導体を得た。
Synthesis example 2
Synthesis of Silsesquioxane Derivative (SQ-2) In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, MIBK 50 g, tetramethylammonium hydroxide 20% aqueous solution 3.6 g (tetramethylammonium hydroxide 7.9 mmol), distillation After charging 10.1 g (720.0 mmol) of water, 21.5 g (121.0 mmol) of isobutyltrimethoxysilane and 28.5 g (121.0 mmol) of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane at 50 to 55 ° C. Slowly added and left stirring for 3 hours. After completion of the reaction, 50 g of MIBK was added to the system, and further washed with 20 g of distilled water until the pH of the aqueous layer became neutral. Next, after washing twice with 20 g of distilled water, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain the target compound (SQ-2). Mw was 3200. A silsesquioxane derivative mainly having a ladder type structure or a random type structure having a residual silanol peak in the vicinity of 3500 cm −1 as measured by IR measurement was obtained.

合成例3
シルセスキオキサン誘導体(SQ−3)の合成
撹拌機及び温度計を設置した反応容器に、MIBK50g、水酸化テトラメチルアンモニウムの20%水溶液3.2g(水酸化テトラメチルアンモニウム7.0mmol)、蒸留水8.9g(640.0mmol)を仕込んだ後、イソオクチルトリメトキシシラン31.2g(133.0mmol)、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン18.8g(80.0mmol)を50〜55℃で徐々に加え、3時間撹拌放置した。反応終了後、系内にMIBK50gを加え、さらに20gの蒸留水で水層のpHが中性になるまで水洗した。次に20gの蒸留水で2回水洗後、減圧下でMIBKを留去して目的の化合物(SQ−3)を得た。Mwは2200であった。分散度Mw/Mn=1.2、IR測定で3500cm−1付近の残存シラノールのピークを持つ、ラダー型もしくはランダム型構造を主体とするシルセスキオキサン誘導体を得た。
Synthesis example 3
Synthesis of Silsesquioxane Derivative (SQ-3) In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, MIBK 50 g, tetramethylammonium hydroxide 20% aqueous solution 3.2 g (tetramethylammonium hydroxide 7.0 mmol), distillation After charging 8.9 g (640.0 mmol) of water, 31.2 g (133.0 mmol) of isooctyltrimethoxysilane and 18.8 g (80.0 mmol) of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed at 50 to 55 ° C. The mixture was gradually added and stirred for 3 hours. After completion of the reaction, 50 g of MIBK was added to the system, and further washed with 20 g of distilled water until the pH of the aqueous layer became neutral. Next, after washing twice with 20 g of distilled water, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain the target compound (SQ-3). Mw was 2200. A silsesquioxane derivative mainly having a ladder type structure or a random type structure having a residual silanol peak in the vicinity of 3500 cm −1 by IR measurement with a dispersity Mw / Mn = 1.2 was obtained.

合成例4
シルセスキオキサン誘導体(SQ−4)の合成
撹拌機及び温度計を設置した反応容器に、MIBK50g、水酸化テトラメチルアンモニウムの20%水溶液3.2g(水酸化テトラメチルアンモニウム7.0mmol)、蒸留水9.0g(640.0mmol)を仕込んだ後、フェニルトリメトキシシラン10.6g(53.0mmol)、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン39.4g(160.0mmol)を50〜55℃で徐々に加え、3時間撹拌放置した。反応終了後、系内にMIBK50gを加え、さらに20gの蒸留水で水層のpHが中性になるまで水洗した。次に20gの蒸留水で2回水洗後、減圧下でMIBKを留去して目的の化合物(SQ−4)を得た。Mwは4030であった。分散度Mw/Mn=1.5、IR測定で3500cm−1付近の残存シラノールのピークを持つ、ラダー型もしくはランダム型構造を主体とするシルセスキオキサン誘導体を得た。
Synthesis example 4
Synthesis of silsesquioxane derivative (SQ-4) In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, MIBK 50 g, tetramethylammonium hydroxide 20% aqueous solution 3.2 g (tetramethylammonium hydroxide 7.0 mmol), distillation After charging 9.0 g (640.0 mmol) of water, 10.6 g (53.0 mmol) of phenyltrimethoxysilane and 39.4 g (160.0 mmol) of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane were added. The mixture was gradually added at 50 to 55 ° C. and left to stir for 3 hours. After completion of the reaction, 50 g of MIBK was added to the system, and further washed with 20 g of distilled water until the pH of the aqueous layer became neutral. Next, after washing twice with 20 g of distilled water, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain the target compound (SQ-4). Mw was 4030. A silsesquioxane derivative mainly having a ladder type structure or a random type structure having a residual silanol peak in the vicinity of 3500 cm −1 by IR measurement with a dispersity Mw / Mn = 1.5 was obtained.

合成例5
シルセスキオキサン誘導体(SQ−5)の合成
撹拌機及び温度計を設置した反応容器に、MIBK50g、水酸化テトラメチルアンモニウムの20%水溶液3.0g(水酸化テトラメチルアンモニウム6.6mmol)、蒸留水8.5g(610.0mmol)を仕込んだ後、ヘキシルトリメトキシシラン5.0g(20.0mmol)、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン45.0g(182.0mmol)を50〜55℃で徐々に加え、3時間撹拌放置した。反応終了後、系内にMIBK50gを加え、さらに20gの蒸留水で水層のpHが中性になるまで水洗した。次に20gの蒸留水で2回水洗後、減圧下でMIBKを留去して目的の化合物(SQ−5)を得た。Mwは4700であった。分散度Mw/Mn=1.5、IR測定で3500cm−1付近の残存シラノールのピークを持つ、ラダー型もしくはランダム型構造を主体とするシルセスキオキサン誘導体を得た。
Synthesis example 5
Synthesis of Silsesquioxane Derivative (SQ-5) In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 50 g of MIBK, 3.0 g of tetramethylammonium hydroxide, 3.0 g (tetramethylammonium hydroxide, 6.6 mmol), distillation After charging 8.5 g (610.0 mmol) of water, 5.0 g (20.0 mmol) of hexyltrimethoxysilane and 45.0 g (182.0 mmol) of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane were added. The mixture was gradually added at 50 to 55 ° C. and left to stir for 3 hours. After completion of the reaction, 50 g of MIBK was added to the system, and further washed with 20 g of distilled water until the pH of the aqueous layer became neutral. Next, after washing twice with 20 g of distilled water, MIBK was distilled off under reduced pressure to obtain the target compound (SQ-5). Mw was 4700. A silsesquioxane derivative mainly having a ladder type structure or a random type structure having a residual silanol peak in the vicinity of 3500 cm −1 by IR measurement with a dispersity Mw / Mn = 1.5 was obtained.

実施例1
合成例1で得られたシルセスキオキサン誘導体SQ−1を20重量部、脂環式酸無水物(新日本理化製;商品名「リカシッドMH−700G」)を8重量部、テトラフェニルホスホニウムブロミド(北興化学製)0.08重量部、不揮発分10%酸化ジルコニウムゾル(大阪住友セメント製;商品名「NZD−8E61」)280重量部混合攪拌して樹脂組成物を得た。
Example 1
20 parts by weight of the silsesquioxane derivative SQ-1 obtained in Synthesis Example 1, 8 parts by weight of an alicyclic acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika; trade name “Licacid MH-700G”), tetraphenylphosphonium bromide (Made by Hokuko Chemical Co., Ltd.) 0.08 parts by weight, non-volatile content 10% zirconium oxide sol (manufactured by Osaka Sumitomo Cement; trade name “NZD-8E61”) 280 parts by weight were mixed and stirred to obtain a resin composition.

得られた樹脂組成物を加熱し、樹脂組成物の硬化反応を進ませ、温度150℃におけるゲル化時間が約30秒のBステージ化した樹脂を得、次に含有する溶剤を除去し冷却した後、粉砕し、粉状の樹脂組成物を得た。この粉状の樹脂組成物をタブレット状に成形し、タブレット化した本発明の封止樹脂組成物を得た。これを用いて150℃/5分のトランスファー成形を行った後、更に120℃において10時間硬化させて、厚み1mmの硬化物を得た。得られた硬化物を下記の方法で評価した。結果を表1に示した。   The obtained resin composition was heated to advance the curing reaction of the resin composition to obtain a B-staged resin having a gel time of about 30 seconds at a temperature of 150 ° C. Next, the solvent contained was removed and cooled. Then, it grind | pulverized and obtained the powdery resin composition. This powdery resin composition was molded into a tablet shape to obtain a sealed resin composition of the present invention. This was used for transfer molding at 150 ° C. for 5 minutes and then cured at 120 ° C. for 10 hours to obtain a cured product having a thickness of 1 mm. The obtained cured product was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

実施例2
合成例2で得られたシルセスキオキサン誘導体SQ−2を20量部、脂環式酸無水物(新日本理化製;商品名「リカシッドMH−700G」)を8重量部、テトラフェニルホスホニウムブロミド(北興化学製)を0.08重量部、不揮発分10%酸化ジルコニウムゾル(大阪住友セメント製;商品名「NZD−8E61」)を650量部混合攪拌した。次に減圧下で溶剤を留去して、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した本発明の組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Example 2
20 parts by weight of the silsesquioxane derivative SQ-2 obtained in Synthesis Example 2, 8 parts by weight of an alicyclic acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika; trade name “Licacid MH-700G”), tetraphenylphosphonium bromide 0.08 parts by weight (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) and 650 parts by weight of a non-volatile content 10% zirconium oxide sol (manufactured by Osaka Sumitomo Cement; trade name “NZD-8E61”) were mixed and stirred. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a resin composition. In the same manner as in Example 1, the tableted composition of the present invention was obtained and evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例3
合成例3で得られたシルセスキオキサン誘導体SQ−3を20重量部、2,4ジエチルグルタル酸無水物(ジャパンエポキシレジン製;商品名「JERキュアYH−1120」)を12.0重量部、テトラフェニルホスホニウムブロミド(北興化学製)を0.08重量部、不揮発分30%チタニア系複合酸化物ゾル(触媒化成工業製;商品名「QUEEN TITANIC」)を47重量部混合攪拌した。次に減圧下で溶媒を留去して、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した本発明の組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Example 3
20 parts by weight of the silsesquioxane derivative SQ-3 obtained in Synthesis Example 3 and 12.0 parts by weight of 2,4 diethylglutaric anhydride (manufactured by Japan Epoxy Resin; trade name “JER Cure YH-1120”) Then, 0.08 part by weight of tetraphenylphosphonium bromide (manufactured by Hokuko Chemical) and 47 parts by weight of 30% non-volatile content titania-based composite oxide sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo; trade name “QUEEN TITANIC”) were mixed and stirred. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a resin composition. In the same manner as in Example 1, the tableted composition of the present invention was obtained and evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例4
合成例4で得られたシルセスキオキサン誘導体SQ−4を20重量部、脂環式酸無水物(新日本理化製;商品名「リカシッドMH−700G」)を18重量部、テトラフェニルホスホニウムブロミド(北興化学製)を0.08重量部、不揮発分30%チタニア系複合酸化物ゾル(触媒化成工業製;商品名「QUEEN TITANIC」)を127重量部混合攪拌した。次に減圧下で溶媒を留去して、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した本発明の組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Example 4
20 parts by weight of the silsesquioxane derivative SQ-4 obtained in Synthesis Example 4, 18 parts by weight of an alicyclic acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika; trade name “Licacid MH-700G”), tetraphenylphosphonium bromide 0.08 part by weight (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) and 127 parts by weight of a titania-based composite oxide sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo; trade name “QUEEN TITANIC”) having a nonvolatile content of 30% were mixed and stirred. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a resin composition. In the same manner as in Example 1, the tableted composition of the present invention was obtained and evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例5
合成例5で得られたシルセスキオキサン誘導体SQ−5を20重量部、2,4ジエチルグルタル酸無水物(ジャパンエポキシレジン製;商品名「JERキュアYH−1129」)グリセリンジグリシジルエーテルを16重量部、テトラフェニルホスホニウムブロミド(北興化学製)を0.08重量部、不揮発分30%チタニア系複合酸化物ゾル(触媒化成工業製;商品名「QUEEN TITANIC」)を280重量部混合攪拌した。次に減圧下で溶媒を留去して、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した本発明の組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Example 5
20 parts by weight of the silsesquioxane derivative SQ-5 obtained in Synthesis Example 5, 2,4 diethylglutaric anhydride (manufactured by Japan Epoxy Resin; trade name “JER Cure YH-1129”) 16 glycerin diglycidyl ether Part by weight, 0.08 part by weight of tetraphenylphosphonium bromide (manufactured by Hokuko Chemical), and 280 parts by weight of 30% non-volatile content titania-based composite oxide sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo; trade name “QUEEN TITANIC”) were mixed and stirred. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a resin composition. In the same manner as in Example 1, the tableted composition of the present invention was obtained and evaluated. The results are shown in Table 1.

比較例1
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製;商品名「エピコート1001」)20重量部、脂環式酸無水物(新日本理化製;商品名「MH−700G」16部:(新日本理化社製)テトラフェニルホスホニウムブロミド0.1部(北興化学製)を混合し、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Comparative Example 1
20 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin; trade name “Epicoat 1001”), alicyclic acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika; 16 parts by trade name “MH-700G”) (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) ) 0.1 parts of tetraphenylphosphonium bromide (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) were mixed to obtain a resin composition, which was evaluated by obtaining a tableted composition in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. .

比較例2
水素添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製;商品名「YX8000」)10重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製;商品名「エピコート1001」)10重量部、脂環式酸無水物(新日本理化製;商品名「MH−700G」10部:(新日本理化社製)テトラフェニルホスホニウムブロミド0.1部(北興化学製)を混合し、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Comparative Example 2
10 parts by weight of hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin; trade name “YX8000”), 10 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin; trade name “Epicoat 1001”), alicyclic acid anhydride Product (manufactured by Nippon Nippon Chemical Co., Ltd .; trade name “MH-700G” 10 parts: (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) 0.1 part of tetraphenylphosphonium bromide (manufactured by Hokuko Chemical) was mixed to obtain a resin composition. A tableted composition was obtained and evaluated in the same manner as in Table 1. The results are shown in Table 1.

比較例3
合成例1で得られたシルセスキオキサン誘導体SQ−1を20重量部、脂環式酸無水物(新日本理化製;商品名「リカシッドMH−700G」)を8重量部、テトラフェニルホスホニウムブロミド(北興化学製)0.08重量部混合して、樹脂組成物を得た。実施例1と同様にしてタブレット化した組成物を得、評価した。結果を表1に示した。
Comparative Example 3
20 parts by weight of the silsesquioxane derivative SQ-1 obtained in Synthesis Example 1, 8 parts by weight of an alicyclic acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika; trade name “Licacid MH-700G”), tetraphenylphosphonium bromide (Hokuko Chemical Co., Ltd.) 0.08 parts by weight were mixed to obtain a resin composition. A tableted composition was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

評価方法
各実施例の組成物及び各比較例の樹脂又は組成物を用いて試験片を作成し(実施例1〜5及び比較例1、2、3の各封止樹脂組成物については120℃、10hの硬化条件)、それぞれについて、以下の方法で、性能を評価した。結果を表1に示した。
(1)屈折率:アッベ屈折計を用いて、試料温度25℃にて測定した。
(2)透明性:1mm厚みの硬化物を上記硬化条件にて作成し、島津製作所社製分光光度計紫外線−2450にて450nm波長光の透過率を求めた。
(3)耐紫外線性:1mm厚みの硬化物をメタリングウエザーメーター(スガ試験機製M6T)83℃、100h曝露後の450nm波長光の透過率を求めた。
Evaluation method A test piece was prepared using the composition of each example and the resin or composition of each comparative example (120 ° C. for each sealing resin composition of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1, 2 and 3). For each of the 10 h curing conditions), the performance was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.
(1) Refractive index: Measured at a sample temperature of 25 ° C. using an Abbe refractometer.
(2) Transparency: A cured product having a thickness of 1 mm was prepared under the above-mentioned curing conditions, and the transmittance of 450 nm wavelength light was determined with a spectrophotometer ultraviolet ray-2450 manufactured by Shimadzu Corporation.
(3) Ultraviolet resistance: The transmittance of 450 nm wavelength light after exposure of a cured product having a thickness of 1 mm to a metalling weather meter (M6T manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) at 83 ° C. for 100 hours was determined.

Figure 2008202008
Figure 2008202008

実施例の結果から、本発明におけるシルセスキオキサン誘導体及び無機微粒子を主成分とする封止樹脂組成物を使用した実施例1〜5は、高い透明性を維持しつつ、耐紫外線性、屈折率おいて有意に優れていることが明らかであった。なお、従来技術に属する比較例1、2のエポキシ樹脂は、透明性において優れていたが、耐紫外線性が極めて低く、屈折率も低かった。比較例3の無機微粒子を含まないシルセスキオキサン誘導体は、透明性と耐紫外線性に優れていたが、屈折率は低いものであった。   From the results of the Examples, Examples 1 to 5 using the sealing resin composition mainly composed of the silsesquioxane derivative and the inorganic fine particles in the present invention are UV resistant and refracting while maintaining high transparency. It was clear that it was significantly superior. In addition, although the epoxy resin of Comparative Examples 1 and 2 belonging to the prior art was excellent in transparency, the ultraviolet resistance was extremely low and the refractive index was also low. The silsesquioxane derivative containing no inorganic fine particles of Comparative Example 3 was excellent in transparency and ultraviolet resistance, but had a low refractive index.

本発明の封止樹脂組成物は、トランスファー成型により、光素子が大量生産可能なものであり、従来のエポキシ樹脂における欠点であった低い耐紫外線性と低い屈折率を同時に克服するものである。これらは透明性、耐紫外線性、光の取り出し効率に優れた光素子封止材として極めて好適であり、例えば、今後さらなる高輝度化が進むと予想されるLEDの封止材として有用である。   The encapsulating resin composition of the present invention enables mass production of optical elements by transfer molding, and simultaneously overcomes the low ultraviolet resistance and low refractive index that were disadvantages of conventional epoxy resins. These are extremely suitable as an optical element sealing material excellent in transparency, ultraviolet resistance, and light extraction efficiency. For example, they are useful as LED sealing materials that are expected to further increase in luminance in the future.

Claims (9)

(イ)下記一般式(1):
Figure 2008202008
(式中、複数のRは各々独立してメチル基またはエチル基を表し、R1は炭素数1〜20のアルキル基を表すか、又は、炭素数1〜8の炭化水素基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表されるトリアルコキシシラン(A)と、
下記一般式(2):
Figure 2008202008
(式中、複数のRは各々独立してメチル基またはエチル基を表し、R2は反応性環状エーテル基を含有する置換基を表す。)で表されるトリアルコキシシラン(B)とを共加水分解、共縮合することによって得られるラダー型又はランダム型構造のシルセスキオキサン誘導体、及び
(ロ)無機微粒子
を主成分とすることを特徴とする、Bステージ化された光素子用封止樹脂組成物。
(A) The following general formula (1):
Figure 2008202008
(In the formula, each of a plurality of R's independently represents a methyl group or an ethyl group, and R1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or has a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. A trialkoxysilane (A) represented by:
The following general formula (2):
Figure 2008202008
(Wherein a plurality of R's independently represent a methyl group or an ethyl group, and R2 represents a substituent containing a reactive cyclic ether group) and a trialkoxysilane (B) represented by B-stage encapsulating resin for optical elements, characterized by comprising a silsesquioxane derivative of ladder type or random type structure obtained by decomposition and co-condensation, and (b) inorganic fine particles as main components Composition.
反応性環状エーテル基は、エポキシ基、3,4−エポキシシクロヘキシル基及びオキセタニル基からなる群から選択される少なくとも1種である請求項1記載の封止樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to claim 1, wherein the reactive cyclic ether group is at least one selected from the group consisting of an epoxy group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, and an oxetanyl group. トリアルコキシシラン(A)は、一般式(1)においてR1が炭素数2〜8のアルキル基、又は、炭素数1〜2の炭化水素基を有していてもよいフェニル基である請求項1又は2記載の封止樹脂組成物。 The trialkoxysilane (A) is a phenyl group optionally having an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 2 carbon atoms in the general formula (1). Or the sealing resin composition of 2. トリアルコキシシラン(A)は、R1がエチル、イソブチル、イソオクチル又はフェニルであり、シルセスキオキサン誘導体は、ラダー型構造を主成分とする請求項3記載の封止樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to claim 3, wherein the trialkoxysilane (A) has R1 as ethyl, isobutyl, isooctyl or phenyl, and the silsesquioxane derivative has a ladder structure as a main component. トリアルコキシシラン(A)とトリアルコキシシラン(B)との配合モル比は、10:90〜90:10である請求項1〜4のいずれか記載の封止樹脂組成物。 The sealing resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein a compounding molar ratio of the trialkoxysilane (A) and the trialkoxysilane (B) is 10:90 to 90:10. 無機微粒子(ロ)が、(a)酸化チタン、(b)酸化ジルコニウム、並びに(c)チタン及び/又はジルコニウム原子を含む複合酸化物からなる群から選択される少なくとも一種である請求項1〜5のいずれか記載の封止樹脂組成物。 The inorganic fine particles (b) are at least one selected from the group consisting of (a) titanium oxide, (b) zirconium oxide, and (c) a composite oxide containing titanium and / or zirconium atoms. The sealing resin composition in any one of these. シルセスキオキサン誘導体(イ)と無機微粒子(ロ)の重量比が、90:10〜10:90である請求項1〜6のいずれか記載の封止樹脂組成物。 The encapsulating resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the weight ratio of the silsesquioxane derivative (i) to the inorganic fine particles (b) is 90:10 to 10:90. 請求項1〜7のいずれかに記載の封止樹脂組成物で封止されてなる光素子。 The optical element formed by sealing with the sealing resin composition in any one of Claims 1-7. 発光のピーク波長が350〜490nmのLEDである請求項8記載の光素子。 The optical element according to claim 8, which is an LED having a peak wavelength of emitted light of 350 to 490 nm.
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