JP2014095051A - Thermosetting epoxy resin composition, reflector for led using the composition, and led device - Google Patents

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賢司 福井
Yoshihiro Tsutsumi
吉弘 堤
Takayuki Aoki
貴之 青木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition giving a set matter maintaining heat resistance and light resistance and having a reduced yellowing change, and also having high strength and high toughness using an epoxy resin and an acid anhydride setting agent, a reflector for LED formed with the composition, and an LED apparatus.SOLUTION: Provided is a thermosetting epoxy resin composition comprising: (A) an epoxy resin; (B) a setting agent; (C) a setting catalyst; and (D) an inorganic filler (wherein, the amount of the (D) component is 50 to 1,100 pts.mass to 100 pts.mass of the total of the (A) component and the (B) component), and, as the setting agent in the (B) component, acid anhydride represented by the general formula (1) is included.

Description

本発明は、熱硬化性エポキシ樹脂組成物及び該組成物の硬化物で成形したLED用リフレクター、ならびにLED装置に関する。   The present invention relates to a thermosetting epoxy resin composition, a reflector for LED molded with a cured product of the composition, and an LED device.

半導体・電子機器装置の封止材への信頼性要求は、薄型化、小型化と共に、高出力化によって、益々厳しくなっている。一例として、LED(light emitting diode)やLD(lazer diode)等の半導体素子は、小型で効率よく鮮やかな色の発光をし、また半導体素子であるため球切れがなく、駆動特性が優れ、振動やON/OFF点灯の繰り返しに強い。そのため、各種インジケータや種々の光源として利用されている。   The reliability requirements for the sealing materials of semiconductor / electronic device devices are becoming more and more severe due to the increase in output as well as the reduction in thickness and size. As an example, semiconductor elements such as LEDs (light emitting diodes) and LDs (laser diodes) emit light with a small, efficient, and vivid color, and since they are semiconductor elements, they do not break the bulb, have excellent driving characteristics, and vibration. Strong against repeated ON / OFF lighting. Therefore, it is used as various indicators and various light sources.

しかしながら、今日の光半導体技術の飛躍的な進歩により、光半導体装置の高出力化及び短波長化が著しく、高エネルギー光を発光するLEDなどの光半導体装置では、特に無着色・白色の材料として従来のPPA(ポリフタルアミド)樹脂を用いたリフレクターでは、長期間使用による変色や酸化による劣化が著しく、LEDの輝度劣化や色ムラの発生や封止樹脂との剥離、機械的強度の低下等が起こりやすく、このため、このような問題を効果的に解決することが望まれた。   However, due to dramatic progress in today's optical semiconductor technology, the output power and wavelength of optical semiconductor devices have been remarkably reduced, and in optical semiconductor devices such as LEDs that emit high-energy light, especially as uncolored and white materials. In reflectors using conventional PPA (polyphthalamide) resin, deterioration due to discoloration and oxidation due to long-term use is remarkable, LED brightness deterioration, color unevenness, peeling from sealing resin, mechanical strength reduction, etc. Therefore, it was desired to solve such a problem effectively.

更に、特許文献1では、封止樹脂が、エポキシ樹脂、硬化剤及び硬化促進剤を構成成分とするBステージ状の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、上記構成成分が分子レベルで均一に混合されている樹脂組成物の硬化体で構成されていることを特徴とする光半導体装置が記載されている。この場合、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂が主として用いられ、トリグリシジルイソシアネート等を使用し得ることも記載されている。   Furthermore, in Patent Document 1, the sealing resin is a B-stage-shaped epoxy semiconductor composition for encapsulating an optical semiconductor containing an epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator as constituent components, and the constituent components are at the molecular level. An optical semiconductor device characterized in that it is composed of a cured body of a resin composition that is uniformly mixed is described. In this case, as the epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin is mainly used, and it is also described that triglycidyl isocyanate or the like can be used.

特許第2656336号公報Japanese Patent No. 2656336 特開2000−196151号公報JP 2000-196151 A 特開2003−224305号公報JP 2003-224305 A 特開2005−306952号公報JP 2005-306952 A

しかしながら、トリグリシジルイソシアネートは、特許文献1の実施例においてビスフェノール型エポキシ樹脂に少量添加使用されているもので、本発明者らの検討によれば、このBステージ状半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、特に高温、長時間の放置で黄変するという問題がある。   However, triglycidyl isocyanate is used by adding a small amount to the bisphenol type epoxy resin in the example of Patent Document 1, and according to the study by the present inventors, this epoxy resin composition for B-stage semiconductor encapsulation is used. Has a problem of yellowing when left for a long time, particularly at high temperatures.

また、発光素子封止用エポキシ樹脂組成物におけるトリアジン誘導体エポキシ樹脂の使用については、特許文献2〜特許文献4に記載があるが、これらは、いずれもトリアジン誘導体エポキシ樹脂と酸無水物とを用いたものであるが、最近の薄型テレビなどのLEDバックライト用リフレクターとして使用した場合、リフレクターが非常に小型化、薄型化していることで強度、靱性が不足し容易にリフレクターが破壊するといった問題点が指摘されている。   Moreover, although there exists description in patent document 2-patent document 4 about use of the triazine derivative epoxy resin in the epoxy resin composition for light emitting element sealing, these all use triazine derivative epoxy resin and an acid anhydride. However, when used as a reflector for LED backlights such as recent flat-screen TVs, the reflector is very small and thin, so the strength and toughness are insufficient and the reflector is easily destroyed. Has been pointed out.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、長期間にわたり耐熱性、耐光性を保持し、均一でかつ黄変の少ない硬化物を与え、かつ高強度、高靱性を有する熱硬化性エポキシ樹脂組成物及び該組成物の硬化物で成形したLED用リフレクター、並びにLED装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has heat resistance and light resistance over a long period of time, gives a cured product that is uniform and has little yellowing, and has high strength and high toughness. An object of the present invention is to provide a curable epoxy resin composition, a reflector for LED molded with a cured product of the composition, and an LED device.

上記課題を解決するため、本発明では、熱硬化性エポキシ樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化触媒、及び(D)無機質充填剤(但し、(D)成分は(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対し50〜1100質量部となる量)を含有し、前記(B)成分の硬化剤として下記一般式(1)で示される酸無水物を含有するものであることを特徴とする熱硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。

Figure 2014095051
(一般式(1)中、R、Rは同一でも異なってもよく、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基もしくはアルケニル基である。) In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, a thermosetting epoxy resin composition comprising (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, (C) a curing catalyst, and (D) an inorganic filler (provided that (D) component contains 50-1100 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component), and the following general formula (1) as a hardening | curing agent of the said (B) component. The thermosetting epoxy resin composition characterized by containing the acid anhydride shown by these.
Figure 2014095051
(In general formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different and are a hydrogen atom or an alkyl or alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms.)

このようなエポキシ樹脂と特定の構造を有する酸無水物硬化剤を含有する熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化性に優れ、耐熱性、耐光性に優れると共に、良好な強度と靱性を有する硬化物を与えるものとなる。   A thermosetting epoxy resin composition containing such an epoxy resin and an acid anhydride curing agent having a specific structure is excellent in curability, heat resistance and light resistance, and has good strength and toughness. It will give things.

また、前記一般式(1)の酸無水物の含有率が前記(B)成分の硬化剤全体の5〜100質量%であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the content rate of the acid anhydride of the said General formula (1) is 5-100 mass% of the whole hardening | curing agent of the said (B) component.

このように(B)成分の硬化剤に一般式(1)の酸無水物を上記範囲内で含有することで、熱硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により一層高強度と高靱性をあたえることができる。   In this way, by containing the acid anhydride of the general formula (1) within the above range in the curing agent of the component (B), the cured product of the thermosetting epoxy resin composition has higher strength and high toughness. Can do.

また、前記(A)成分のエポキシ樹脂が脂環式エポキシ樹脂であることが好ましい。   The epoxy resin as the component (A) is preferably an alicyclic epoxy resin.

このような(A)成分であれば、より一層耐熱性や耐光性に優れた硬化物を与える熱硬化性エポキシ樹脂組成物となる。   If it is such (A) component, it will become a thermosetting epoxy resin composition which gives the hardened | cured material which was further excellent in heat resistance and light resistance.

また、前記(A)成分の熱硬化性エポキシ樹脂がトリアジン誘導体エポキシ樹脂であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the thermosetting epoxy resin of the said (A) component is a triazine derivative epoxy resin.

このような(A)成分であれば、耐光性により一層優れ、また電気絶縁性に優れた硬化物を与える熱硬化性エポキシ樹脂組成物となる。   If it is such (A) component, it will become a thermosetting epoxy resin composition which gives the hardened | cured material which was further excellent by light resistance and was excellent in electrical insulation.

さらに、酸化防止剤としてフェノール系、リン系、硫黄系酸化防止剤から選ばれる1種又は2種以上を含有するものが好ましい。   Furthermore, what contains 1 type, or 2 or more types chosen from phenol type, phosphorus type, and sulfur type antioxidant as an antioxidant is preferable.

このような酸化防止剤を使用することによって、更に組成物の変色を防止することができる。   By using such an antioxidant, discoloration of the composition can be further prevented.

また、前記(D)成分の無機質充填剤が二酸化チタンを含有するものであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the inorganic filler as the component (D) contains titanium dioxide.

このような(D)成分であれば、硬化物の白色度を高め、LED素子が発する光を効率よく反射することができる。   If it is such (D) component, the whiteness of hardened | cured material can be raised and the light which an LED element emits can be reflected efficiently.

さらに、本発明では、前記熱硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化成形し、LED用リフレクターを提供する。   Furthermore, in the present invention, the thermosetting epoxy resin composition is cured and molded to provide a reflector for LED.

このように、前記熱硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化成形し、高輝度LED用リフレクターとして利用することができる。   Thus, the thermosetting epoxy resin composition can be cured and used as a reflector for high-brightness LEDs.

また、本発明では、前記熱硬化性エポキシ樹脂組成物からなるLED用リフレクター、LED素子、接続用リード、素子電極を具備し、透明な封止材で封止保護をしたLED装置を提供する。   Moreover, in this invention, the LED device which comprises the reflector for LED which consists of the said thermosetting epoxy resin composition, an LED element, the lead for connection, and an element electrode, and was sealed and protected with the transparent sealing material is provided.

このようなLED装置であれば、耐熱性、耐光性を保持し、均一でかつ黄変が少なく、高強度、高靱性を有する硬化物で封止された信頼性の高いものとなる。   With such an LED device, heat resistance and light resistance are maintained, and it is uniform and less yellowing, and is highly reliable sealed with a cured product having high strength and high toughness.

以上説明したように、本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物であれば、硬化性に優れ、良好な強度及び靱性を有する硬化物となる。また、長期間にわたり耐熱性、耐光性を保持し、均一でかつ黄変の少ない硬化物を与える。本発明の組成物の硬化物にて成形したリフレクターは産業上特に有用な高輝度LED装置に利用することができる。   As explained above, the thermosetting epoxy resin composition of the present invention is a cured product having excellent curability and good strength and toughness. In addition, it retains heat resistance and light resistance over a long period of time, and gives a cured product that is uniform and has little yellowing. The reflector molded from the cured product of the composition of the present invention can be used for industrially particularly useful high-brightness LED devices.

リフレクターの破壊強度の測定方法に関する概略図である。It is the schematic regarding the measuring method of the fracture strength of a reflector. マトリックスタイプの凹型リフレクターの概略図である。It is the schematic of a matrix type concave reflector. マトリックス型リフレクター基板をダイシングし個片化したリフレクターの図であり(A)は概略上面図、(B)、(C)は概略断面図ある。It is the figure of the reflector which diced the matrix type reflector board | substrate into pieces, (A) is a schematic top view, (B), (C) is a schematic sectional drawing.

以下、本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物、該組成物の硬化物で成形したLED用リフレクター、及びLED装置についてより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定するものではない。
前述のように、長期間にわたり耐熱性、耐光性を保持し、均一でかつ黄変の少ない硬化物を与え、かつ高強度、高靱性を有する熱硬化性樹脂組成物の開発が望まれていた。
Hereinafter, although the thermosetting epoxy resin composition of this invention, the reflector for LED shape | molded with the hardened | cured material of this composition, and an LED device are demonstrated in detail, this invention is not limited to these.
As described above, it has been desired to develop a thermosetting resin composition that retains heat resistance and light resistance for a long period of time, gives a cured product that is uniform and has little yellowing, and has high strength and high toughness. .

そこで、本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討を行った結果、エポキシ樹脂、一般式(1)で示される酸無水物を含有する硬化剤、硬化触媒、無機質充填剤からなる熱硬化性エポキシ樹脂組成物が、硬化性に優れ、耐熱性、耐光性に優れると共に、良好な強度と靱性を有する硬化物となり得ることを見出し、本発明をなすに至った。以下、本発明について詳細を説明する。   Accordingly, as a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a heat comprising an epoxy resin, a curing agent containing an acid anhydride represented by the general formula (1), a curing catalyst, and an inorganic filler. It has been found that the curable epoxy resin composition can be a cured product having excellent curability, heat resistance and light resistance, and having good strength and toughness, and has led to the present invention. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(A)成分 エポキシ樹脂
本発明の(A)成分は、エポキシ樹脂としてはいずれのエポキシ樹脂であっても使用できるが、耐熱性や耐光性の面から望ましくは芳香族環を含有しない、脂環式エポキシ樹脂やトリアジン誘導体エポキシ樹脂が好ましい。
脂環式エポキシ樹脂としては1,2:8,9−ジエポキシリモネン、4−ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイド、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチレン)アジペート、ビス−(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、(2,3−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、ジシクロペンタジエンジオキサイド等の分子内に少なくとも1個の4〜7員環の環状脂肪族基と分子内に少なくとも1個のエポキシ基とを有する化合物等が挙げられる。
(A) Component Epoxy Resin The component (A) of the present invention can be used with any epoxy resin as an epoxy resin, but preferably contains no aromatic ring from the viewpoint of heat resistance and light resistance. A formula epoxy resin or a triazine derivative epoxy resin is preferred.
Examples of the alicyclic epoxy resin include 1,2: 8,9-diepoxy limonene, 4-vinylcyclohexene monooxide, vinylcyclohexene dioxide, methylated vinylcyclohexene dioxide, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl-3, 4-epoxycyclohexylcarboxylate, bis- (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, bis- (3,4-epoxycyclohexylmethylene) adipate, bis- (2,3-epoxycyclopentyl) ether, (2,3-epoxy And compounds having at least one 4- to 7-membered cyclic aliphatic group in the molecule and at least one epoxy group in the molecule, such as -6-methylcyclohexylmethyl) adipate and dicyclopentadiene dioxide. It is done.

また、本発明で用いられる(A)成分をトリアジン誘導体エポキシ樹脂とする場合は、1,3,5−トリアジン核誘導体エポキシ樹脂であることが好ましい。特にイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂は、耐光性や電気絶縁性に優れており、1つのイソシアヌレート環に対して、2価の、より好ましくは3価のエポキシ基を有することが望ましい。具体的には、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート等を用いることができる。   In addition, when the component (A) used in the present invention is a triazine derivative epoxy resin, it is preferably a 1,3,5-triazine nucleus derivative epoxy resin. In particular, an epoxy resin having an isocyanurate ring is excellent in light resistance and electrical insulation, and desirably has a divalent, more preferably a trivalent epoxy group per one isocyanurate ring. Specifically, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, tris (α-methylglycidyl) isocyanurate, or the like can be used.

本発明で用いるトリアジン誘導体エポキシ樹脂の軟化点は90〜125℃であることが好ましい。なお、本発明において、このトリアジン誘導体エポキシ樹脂としては、トリアジン環を水素化したもの以外のものが好ましい。   The softening point of the triazine derivative epoxy resin used in the present invention is preferably 90 to 125 ° C. In the present invention, the triazine derivative epoxy resin is preferably one other than those obtained by hydrogenating the triazine ring.

本発明では、上記以外のエポキシ樹脂を単独で、又は上記エポキシ樹脂を併用して用いることができる。このエポキシ樹脂の例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂又は4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂のようなビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、トリスフェニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラキスフェニロールエタン型エポキシ樹脂、及びフェノールジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂の芳香環を水素化したエポキシ樹脂等が挙げられる。また、その他のエポキシ樹脂の軟化点は望ましくは70〜100℃であることが好ましい。   In the present invention, epoxy resins other than those described above can be used alone or in combination with the above epoxy resins. Examples of this epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol type epoxy resin, or 4,4′-biphenol type epoxy resin. Biphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, trisphenylol methane type epoxy resin, tetrakisphenylol ethane type epoxy resin, And an epoxy resin obtained by hydrogenating an aromatic ring of a phenol dicyclopentadiene novolac type epoxy resin. The softening point of other epoxy resins is desirably 70 to 100 ° C.

(B)硬化剤
本発明で用いられる(B)成分に含有される一般式(1)で示される酸無水物は、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物に高強度と高靱性を与えるものである。

Figure 2014095051
(式(1)中、R、Rは同一でも異なってもよく、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基もしくはアルケニル基である。)
ここで、R、Rは、硬化物の高強度性、高靱性の点から、R、Rのいずれか一方、特には両方が、炭素数1〜10、特に、炭素数2〜10のアルキル基もしくはアルケニル基であることが好ましく、炭素数2〜10のアルキル基(例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基等)がより好ましい。 (B) Curing agent The acid anhydride represented by the general formula (1) contained in the component (B) used in the present invention gives high strength and high toughness to the cured product of the epoxy resin composition of the present invention. It is.
Figure 2014095051
(In formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and are a hydrogen atom or an alkyl or alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
Here, R 1 and R 2 are either one of R 1 or R 2 , particularly both having 1 to 10 carbon atoms, particularly 2 to 2 carbon atoms from the viewpoint of the high strength and toughness of the cured product. 10 alkyl group or alkenyl group, preferably an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms (for example, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, A cyclohexyl group, an octyl group and the like are more preferable.

前記一般式(1)の酸無水物の含有率は(B)成分全体の5〜100質量%であることが好ましい。   It is preferable that the content rate of the acid anhydride of the said General formula (1) is 5-100 mass% of the whole (B) component.

本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化剤としては、下記に示される酸無水物を一般式(1)に示される酸無水物と組合せて併用してもよい。例えば、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、水素化メチルナジック酸無水物、無水メチルハイミック酸などが挙げられ、これらの中でもメチルヘキサヒドロ無水フタル酸やヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。これらの酸無水物系硬化剤は、(B)成分に対して、0〜95質量%、特に0〜90質量%の範囲で1種類を単独で、または2種類以上を混合して使用しても良い。   As a hardening | curing agent of the epoxy resin composition of this invention, you may use together the acid anhydride shown below in combination with the acid anhydride shown by General formula (1). Examples include hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hydrogenated methylnadic acid anhydride, methylhymic anhydride, etc. Among these, methylhexahydrophthalic anhydride and hexahydro Phthalic anhydride is preferred. These acid anhydride-based curing agents are used alone or in combination of two or more in the range of 0 to 95% by weight, particularly 0 to 90% by weight, relative to the component (B). Also good.

(B)成分(その他の酸無水物硬化剤を含む)の配合量としては、上記したエポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対し、酸無水物系硬化剤中の酸無水物基が0.6〜2.0当量であり、好ましくは1.0〜2.0当量、更に好ましくは1.2〜1.6当量である。0.6当量以上であれば硬化不良が生じて、信頼性が低下する恐れはなくなり、2.0当量以下であれば未反応硬化剤が硬化物中に残り、得られる硬化物の耐湿性を悪化させる恐れがなくなるため好ましい。なお、酸無水物基(−(C=O)=O−(C=O)−)1モルは、エポキシ基1モル(1当量)に対して2当量に相当するものである。   (B) As a compounding quantity of a component (another acid anhydride hardening | curing agent is included), the acid anhydride group in an acid anhydride type hardening | curing agent is 0.6 with respect to 1 equivalent of epoxy groups in an above-described epoxy resin. It is -2.0 equivalent, Preferably it is 1.0-2.0 equivalent, More preferably, it is 1.2-1.6 equivalent. If it is 0.6 equivalents or more, curing failure occurs, and there is no fear that the reliability is lowered. If it is 2.0 equivalents or less, the unreacted curing agent remains in the cured product, and the moisture resistance of the resulting cured product is reduced. This is preferable because there is no risk of deterioration. In addition, 1 mol of an acid anhydride group (— (C═O) ═O— (C═O) —) corresponds to 2 equivalents per 1 mol (1 equivalent) of an epoxy group.

(C)硬化触媒
この(C)成分の硬化触媒としては、エポキシ樹脂組成物の硬化触媒として公知のもののいずれのものも使用でき、特に限定されないが、第三級アミン類、イミダゾール類、それらの有機カルボン酸塩、有機カルボン酸金属塩、金属−有機キレート化合物、芳香族スルホニウム塩、有機ホスフィン化合物類、ホスホニウム化合物類等のリン系硬化触媒、これらの塩類等の1種類又は2種類以上を使用することができる。これらの中でも、イミダゾール類、リン系硬化触媒、例えば2−エチル−4−メチルイミダゾール又はメチル−トリブチルホスホニウム−ジメチルホスフェイト、第四級ホスホニウムブロマイドが更に好ましい。
(C) Curing catalyst As the curing catalyst of this component (C), any of those known as curing catalysts for epoxy resin compositions can be used, although not particularly limited, tertiary amines, imidazoles, those Use one or more of organic carboxylates, organic carboxylic acid metal salts, metal-organic chelate compounds, aromatic sulfonium salts, organic phosphine compounds, phosphorus-based curing catalysts such as phosphonium compounds, and salts thereof can do. Among these, imidazoles, phosphorus-based curing catalysts such as 2-ethyl-4-methylimidazole, methyl-tributylphosphonium-dimethyl phosphate, and quaternary phosphonium bromide are more preferable.

硬化触媒の使用量は、組成物全体の0.05〜5質量%、特に0.1〜2質量%の範囲内で配合することが好ましい。上記範囲では、エポキシ樹脂組成物の硬化物の耐熱性及び耐湿性のバランスが悪くなる恐れがなくなるため好ましい。   It is preferable to mix the curing catalyst in an amount of 0.05 to 5% by mass, particularly 0.1 to 2% by mass of the entire composition. In the said range, since there exists no possibility that the balance of the heat resistance of the hardened | cured material of an epoxy resin composition and moisture resistance may worsen, it is preferable.

本発明においては、上記した(A)、(B)成分、好ましくは(A)、(B)、(C)成分を、より好ましくは(A)、(B)、(C)成分と後述する酸化防止剤とを、予め70〜120℃、好ましくは80〜110℃にて4〜20時間、好ましくは6〜15時間反応して、軟化点が50〜100℃、好ましくは60〜90℃である固形物とし、これを粉砕して配合しても良い。   In the present invention, the components (A) and (B) described above, preferably the components (A), (B) and (C), more preferably the components (A), (B) and (C) are described later. The antioxidant is reacted in advance at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C. for 4 to 20 hours, preferably 6 to 15 hours, and the softening point is 50 to 100 ° C., preferably 60 to 90 ° C. You may make it into a certain solid substance and pulverize and mix | blend this.

(D)無機質充填剤
本発明のエポキシ樹脂組成物に配合する(D)成分の無機質充填剤としては、通常エポキシ樹脂組成物やシリコーン樹脂組成物に配合されるものを使用することができる。例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ系微粉末、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化ランタンなどの希土類酸化物、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、中空シリカ、更にガラス繊維、ウォラステナイトなどの繊維状充填剤、三酸化アンチモン等が挙げられる。これら無機質充填剤は一種類単独であっても2種類以上を併用しても問題はない。また、充填剤の平均粒径や形状は特に限定されない。
(D) Inorganic filler As the inorganic filler of component (D) to be blended in the epoxy resin composition of the present invention, those usually blended in epoxy resin compositions and silicone resin compositions can be used. For example, silica-based fine powders such as fused silica and crystalline silica, rare earth oxides such as alumina, magnesium oxide, aluminum hydroxide and lanthanum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, hollow silica, glass fiber, walla Examples thereof include fibrous fillers such as stenite and antimony trioxide. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the average particle diameter and shape of a filler are not specifically limited.

特に、溶融シリカ、溶融球状シリカが好適に用いられ、その粒径は特に限定されるものではないが、成形性、流動性からみて、平均粒径は4〜40μm、特には7〜35μmが好ましい。また、高流動化を得るためには、3μm以下の微細領域、4〜8μmの中粒径領域、10〜40μmの粗領域のものを組み合わせて使用することが望ましい。狭部を有するプレモールドパッケージを成形する場合やアンダーフィル材として使用する場合は狭部の厚みに対し平均粒径が1/2以下である無機質充填剤を使用した方がよい。なお、平均粒径は、例えば、レーザー光回折法による粒度分布測定における累積質量平均径D50(又はメジアン径)等として測定することができる。   In particular, fused silica and fused spherical silica are preferably used, and the particle size is not particularly limited, but the average particle size is preferably 4 to 40 μm, particularly 7 to 35 μm from the viewpoint of moldability and fluidity. . Moreover, in order to obtain high fluidization, it is desirable to use a combination of a fine region of 3 μm or less, a medium particle size region of 4 to 8 μm, and a coarse region of 10 to 40 μm. When forming a premold package having a narrow portion or when using it as an underfill material, it is better to use an inorganic filler having an average particle size of 1/2 or less with respect to the thickness of the narrow portion. The average particle diameter can be measured, for example, as a cumulative mass average diameter D50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by a laser light diffraction method.

上記無機質充填剤は、樹脂と無機質充填剤との結合強度を強くするため、シランカップリング剤(例えば、アルケニル基、エポキシ基、(メタ)アクリロキシ基、アミノ基、メルカプト基、ウレイド基等の官能性基で置換された1価炭化水素基を含有するアルコキシシラン及び/又はこれらの部分加水分解縮合物)、チタネートカップリング剤などのカップリング剤で予め表面処理したものを配合してもよい。このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではない。   In order to increase the bond strength between the resin and the inorganic filler, the inorganic filler has a silane coupling agent (for example, alkenyl group, epoxy group, (meth) acryloxy group, amino group, mercapto group, ureido group, etc.). The alkoxysilane containing a monovalent hydrocarbon group substituted with a functional group and / or a partial hydrolysis-condensation product thereof) or a surface-treated one with a coupling agent such as a titanate coupling agent may be blended. Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-mercapto It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as propyltrimethoxysilane. The amount of coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited.

(D)成分の無機質充填剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤の合計100質量部に対し、50〜1100質量部であり、特に100〜1000質量部、更には200〜800質量部が好ましい。50質量部未満では、十分な強度を得ることができないおそれがあり、1100質量部を超えると、増粘による未充填不良や柔軟性が失われる場合がある。なお、この無機質充填剤は、組成物全体の30〜90質量%、特に60〜90質量%の範囲で含有することが好ましい。   (D) The compounding quantity of the inorganic filler of a component is 50-1100 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) epoxy resin and (B) hardening | curing agent, especially 100-1000 mass parts, Furthermore, 200 -800 mass parts is preferable. If the amount is less than 50 parts by mass, sufficient strength may not be obtained. If the amount exceeds 1100 parts by mass, unfilled defects due to thickening and flexibility may be lost. In addition, it is preferable to contain this inorganic filler in 30-90 mass% of the whole composition, especially 60-90 mass%.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、(D)成分の無機質充填剤の一部または全部として二酸化チタンを含有することができる。二酸化チタンは、白色着色剤として、LED素子が発する光を効率よく反射するため硬化物の白色度を高めるために配合するものである。この二酸化チタンの単位格子はルチル型、アナタース型のどちらでも構わない。また、平均粒径や形状も限定されない。上記二酸化チタンは、樹脂や無機質充填剤との相溶性、分散性を高めるため、AlやSiなどの含水酸化物等で予め表面処理することができる。   Moreover, the epoxy resin composition of this invention can contain titanium dioxide as a part or all of the inorganic filler of (D) component. Titanium dioxide is added as a white colorant in order to efficiently reflect the light emitted from the LED element and to increase the whiteness of the cured product. The unit cell of titanium dioxide may be either a rutile type or an anatase type. Also, the average particle size and shape are not limited. The titanium dioxide can be surface-treated in advance with a hydrous oxide such as Al or Si in order to enhance the compatibility and dispersibility with a resin or an inorganic filler.

二酸化チタンの充填量は、組成物全体の2〜30質量%、特に5〜20質量%が好ましい。2質量%以上で十分な白色度が得られ、30質量%以下では未充填やボイド等の成形性が低下する恐れがなくなるために好ましい。   The filling amount of titanium dioxide is preferably 2 to 30% by mass, particularly 5 to 20% by mass, based on the entire composition. Sufficient whiteness is obtained at 2% by mass or more, and 30% by mass or less is preferable because there is no possibility that moldability such as unfilling or voids is reduced.

その他の成分
更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて任意成分としての酸化防止剤を配合することができる。この酸化防止剤としては、フェノール系、リン系、硫黄系酸化防止剤を使用でき、酸化防止剤の具体例としては、以下のような酸化防止剤が挙げられる。
Other components Further, an antioxidant as an optional component can be blended in the epoxy resin composition of the present invention as necessary. As the antioxidant, phenol-based, phosphorus-based and sulfur-based antioxidants can be used, and specific examples of the antioxidant include the following antioxidants.

フェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられ、中でも2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールが好ましい。   Examples of phenolic antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl-β- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [ 5,5] undecane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, among which 2,6-di-t-butyl-p-cresol is preferable.

リン系酸化防止剤としては、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フェニルジアルキル、亜リン酸トリ(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、トリフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスファイト、ジ(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト及びテトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニルジホスホネート等が挙げられ、中でも亜リン酸トリフェニルが好ましい。   Phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, diphenylalkyl phosphite, phenyl dialkyl phosphite, tri (nonylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, trioctadecyl phosphite, triphenyl phosphite , Distearyl pentaerythritol diphosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol diphosphite, di (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite , Tristearyl sorbitol triphosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4′-biphenyl diphosphonate and the like, among which triphenyl phosphite is preferable.

また、硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート等が挙げられる。   Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate. .

これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で使用できるが、リン系酸化防止剤単独、又はフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤との使用割合は、質量比でフェノール系酸化防止剤:リン系酸化防止剤=0:100〜70:30、特に0:100〜50:50とすることが好ましい。   Each of these antioxidants can be used alone, but it is particularly preferable to use a phosphorus-based antioxidant alone or a combination of a phenol-based antioxidant and a phosphorus-based antioxidant. In this case, the use ratio of the phenolic antioxidant and the phosphorus antioxidant is, as a mass ratio, phenolic antioxidant: phosphorus antioxidant = 0: 100 to 70:30, particularly 0: 100 to 50: 50 is preferable.

酸化防止剤の配合量は、通常、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して10質量部以下(0〜10質量部)程度とすればよいが、酸化防止剤を配合する場合には、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部、特に0.03〜5質量部とすることが好ましい。配合量が0.01質量部以上であれば十分な耐熱性が得られ、変色する恐れがなくなり、10質量部以下であれば、硬化阻害を起こし、十分な硬化性、強度を得ることができない恐れがなくなる。   The blending amount of the antioxidant may be usually about 10 parts by mass or less (0 to 10 parts by mass) with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin. A) It is preferable to set it as 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins, especially 0.03-5 mass parts. If the blending amount is 0.01 parts by mass or more, sufficient heat resistance is obtained, and there is no fear of discoloration. If it is 10 parts by mass or less, curing inhibition is caused, and sufficient curability and strength cannot be obtained. No fear.

本発明のエポキシ樹脂組成物には、更に必要に応じて各種の添加剤を配合することができる。例えば、樹脂の性質を改善する目的で種々の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、シリコーン系等の低応力剤、ワックス類、ハロゲントラップ剤等の添加剤を添加配合することができる。   Various additives can be further blended in the epoxy resin composition of the present invention as necessary. For example, various thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, organic synthetic rubbers, silicone-based low stress agents, waxes, halogen trapping agents and other additives can be added and blended for the purpose of improving the properties of the resin.

熱硬化性エポキシ樹脂組成物の製造方法
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物の製造方法としては上述したエポキシ樹脂、硬化剤、硬化触媒、無機質充填剤、その他の添加物を所定の組成比で配合し、これをミキサー等によって十分均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕してエポキシ樹脂組成物の成形材料とすることができる。
Production method of thermosetting epoxy resin composition As the production method of the thermosetting epoxy resin composition of the present invention, the above-mentioned epoxy resin, curing agent, curing catalyst, inorganic filler, and other additives are added at a predetermined composition ratio. After blending and mixing it sufficiently uniformly with a mixer, etc., it is melt mixed with a hot roll, kneader, extruder, etc., then cooled and solidified, pulverized to an appropriate size and molded into an epoxy resin composition It can be.

LED用リフレクター
本発明では上述した熱硬化性エポキシ樹脂を硬化成形したものであることを特徴とするLED用リフレクターを提供する。
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物の最も一般的な成形方法としては低圧トランスファー成形法やインジェクション成形、圧縮成型法などが挙げられる。なお、本発明のエポキシ樹脂組成物の成形を150〜185℃で30〜180秒行うことが望ましい。後硬化は150〜185℃で2〜20時間行ってもよい。このような本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物の波長380nm〜750nmの光での反射率は初期値で70%以上、180℃、24時間の劣化テスト後の反射率が初期値の70%以上(即ち、49%以上)であることが好ましい。この反射率が、70%以下であると、LED用リフレクターとしては輝度が低下してしまい所定の性能が出ないといった問題が発生する。
Reflector for LED The present invention provides a reflector for LED, which is obtained by curing and molding the thermosetting epoxy resin described above.
Examples of the most common molding method for the thermosetting epoxy resin composition of the present invention include a low-pressure transfer molding method, an injection molding method, and a compression molding method. The epoxy resin composition of the present invention is desirably molded at 150 to 185 ° C. for 30 to 180 seconds. The post-curing may be performed at 150 to 185 ° C. for 2 to 20 hours. The reflectance of the cured product obtained by curing the thermosetting epoxy resin composition of the present invention with light having a wavelength of 380 nm to 750 nm is 70% or more at an initial value, and the reflectance after a deterioration test at 180 ° C. for 24 hours. Is preferably 70% or more of the initial value (that is, 49% or more). When the reflectance is 70% or less, the LED reflector has a problem that the luminance is lowered and a predetermined performance cannot be obtained.

LED装置
更に、本発明では上記のLED用リフレクター、LED素子、接続用リード、素子電極を具備し、透明な封止材で封止保護をしたLED装置を提供する。
リード部やパッド部が形成されたマトリックスアレー型の金属基板や有機基板上で、LED素子搭載部分のみを空けた状態で本材料を用い一括封止するプレモールドパッケージも本発明の範疇に入る。
LED Device Furthermore, the present invention provides an LED device comprising the above-described reflector for LED, LED element, connection lead, and element electrode, which is sealed and protected with a transparent sealing material.
A pre-molded package in which the present material is collectively sealed on a matrix array type metal substrate or organic substrate on which lead portions and pad portions are formed and only the LED element mounting portion is open also falls within the scope of the present invention.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to these.

(実施例1〜7、比較例1、2)
下記原料を表1に示す割合で配合し、ヘンシェルミキサーで十分均一になるまで混合し、連続式2軸混練装置で溶融混練し熱硬化性エポキシ樹脂組成物を製造した。温調85℃、スクリュー回転数120rpm、吐出量205±kg/hrの条件で混練を行った。
これらの組成物につき、以下の諸特性を測定した。結果を表2に示す。
(Examples 1-7, Comparative Examples 1 and 2)
The following raw materials were blended in the proportions shown in Table 1, mixed with a Henschel mixer until sufficiently uniform, and melt-kneaded with a continuous biaxial kneader to produce a thermosetting epoxy resin composition. Kneading was performed under the conditions of a temperature control of 85 ° C., a screw rotation speed of 120 rpm, and a discharge amount of 205 ± kg / hr.
The following properties were measured for these compositions. The results are shown in Table 2.

[スパイラルフロー値]
EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃、6.9N/mm、成形時間120秒の条件で測定した。
[Spiral flow value]
Measurement was performed under the conditions of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 and a molding time of 120 seconds using a mold conforming to the EMMI standard.

[曲げ強度]
EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃、6.9N/mm2、成形時間120秒、ポストキュアは150℃、2時間の条件で測定した。
[Bending strength]
Using a mold conforming to the EMMI standard, measurement was performed under the conditions of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 , molding time of 120 seconds, and post cure at 150 ° C. for 2 hours.

[たわみ量]
EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃、6.9N/mm2、成形時間120秒、ポストキュアは150℃、2時間の条件で測定した。
[Deflection]
Using a mold conforming to the EMMI standard, measurement was performed under the conditions of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 , molding time of 120 seconds, and post cure at 150 ° C. for 2 hours.

[反射率]
成型温度175℃、成型圧力6.9N/mm、成形時間120秒の条件で厚さ3mm、50mmφの円板を成型し、エス・デイ・ジー(株)製X-rite8200を使用して450nmの光反射率を測定した。
[Reflectance]
A disk with a thickness of 3 mm and a diameter of 50 mmφ was molded under the conditions of a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 6.9 N / mm, and a molding time of 120 seconds, and 450 nm using S-DG 8200 The light reflectance was measured.

[耐熱変色性]
175℃、6.9N/mm、成形時間2分の条件で直径50×3mmの円盤を成形し、180℃で24時間放置し、下記基準で黄変性を評価した。
◎ 白色
○ 微黄色
△ 黄色
× 黄褐色
[Heat-resistant discoloration]
A disk having a diameter of 50 × 3 mm was molded under the conditions of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 , and molding time of 2 minutes, left at 180 ° C. for 24 hours, and yellowing was evaluated according to the following criteria.
◎ White ○ Slightly yellow △ Yellow × Tawny

実施例で使用した原材料を以下に示す。
(A)エポキシ樹脂
トリアジン誘導体エポキシ樹脂
(A1) トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアネート(TEPIC−S:日産化学(株)製商品名、エポキシ当量100)
脂環式エポキシ樹脂
(A2) 3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(セロキサイド2021P:ダイセル化学(株)製商品名、エポキシ等量130)
The raw materials used in the examples are shown below.
(A) Epoxy resin triazine derivative epoxy resin (A1) Tris (2,3-epoxypropyl) isocyanate (TEPIC-S: trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 100)
Alicyclic epoxy resin
(A2) 3,4-epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celoxide 2021P: trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, epoxy equivalent 130)

(B)硬化剤
(B1)2,4―ジエチルペンタン二酸無水物 (YH1120:三菱化学(株)製商品名)
(B2)ヘキサヒドロ無水フタル酸 (リカシッドHH:新日本理化(株)製商品名)
(B3)メチルテトラヒドロ無水フタル酸 (リカシッドMH:新日本理化(株)製商品名)
(B) Curing agent (B1) 2,4-diethylpentanedioic anhydride (YH1120: trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(B2) Hexahydrophthalic anhydride (Licacid HH: trade name, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
(B3) Methyltetrahydrophthalic anhydride (Ricacid MH: trade name, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)

(C)硬化触媒
(C1) リン系硬化触媒 第四級ホスホニウムブロマイド (U−CAT5003;サンアプロ(株)製商品名)
(C2) リン系硬化触媒 メチル−トリブチルホスホニウム−ジメチルホスフェイト
(PX−4MP:日本化学(株)製商品名)
(C3) イミダゾール系触媒 2−エチル−4−メチルイミダゾール (2E4MZ:四国化成(株)製商品名)
(C) Curing catalyst
(C1) Phosphorus curing catalyst quaternary phosphonium bromide (U-CAT5003; trade name, manufactured by San Apro Co., Ltd.)
(C2) Phosphorus-based curing catalyst Methyl-tributylphosphonium-dimethyl phosphate (PX-4MP: product name manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd.)
(C3) Imidazole catalyst 2-Ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ: trade name, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)

(D)無機質充填剤
(D1)二酸化チタン ルチル型 (R−45M:堺化学工業(株)製商品名)
(D2)溶融シリカ (CS-6103(株)龍森製商品名)
(D) Inorganic filler (D1) Titanium dioxide rutile type (R-45M: trade name manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)
(D2) Fused silica (trade name, manufactured by Tatsumori, CS-6103)

(E)酸化防止剤
(E1)リン系酸化防止剤 亜リン酸トリフェニル (和光純薬(株)製商品名)
(E2)フェノール系酸化防止剤 2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール (BHT:和光純薬(株)製商品名)
(F)離型剤
カルナバワックス (東亜化成(株)製)
(G)シランカップリング剤
(KBM403:信越化学工業(株)製)

Figure 2014095051
Figure 2014095051
(E) Antioxidant
(E1) Phosphorous antioxidant Triphenyl phosphite (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(E2) Phenolic antioxidant 2,6-di-t-butyl-p-cresol (BHT: trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
(F) Release agent carnauba wax (manufactured by Toa Kasei Co., Ltd.)
(G) Silane coupling agent
(KBM403: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Figure 2014095051
Figure 2014095051

マトリックスタイプの凹型リフレクター及び青色LED装置の作製
図2のマトリックスタイプの凹型リフレクター101を全面銀メッキした銅リードフレーム100を用い、実施例1、2および5で製造した熱硬化性エポキシ樹脂組成物を下記の成形条件でトランスファー成形し作製した。
成形条件は下記の通り。
成形温度:170℃、成形圧力:70Kg/cm、成形時間:3分
更にポストキュアを170℃で2時間行った。
Production of Matrix Type Recessed Reflector and Blue LED Device The thermosetting epoxy resin composition produced in Examples 1, 2 and 5 was prepared using a copper lead frame 100 in which the matrix type recessed reflector 101 of FIG. It was produced by transfer molding under the following molding conditions.
The molding conditions are as follows.
Molding temperature: 170 ° C., molding pressure: 70 kg / cm 2 , molding time: 3 minutes Further post-curing was performed at 170 ° C. for 2 hours.

成形したリフレクター101はリードと樹脂の密着性も良好で、光反射率はいずれの組成物で成形したリフレクターも92%であった。   The molded reflector 101 had good adhesion between the lead and the resin, and the light reflectance of the reflector molded with any composition was 92%.

上記したリフレクターを用い青色LED装置を組み立てた。
個片化後の図である図3に示す通り、成形したマトリックスタイプのリフレクター101のそれぞれの凹状の底辺に露出したリードフレーム上102に青色LED素子105をシリコーンダイボンド剤(品名:LPS8433、信越化学(株)製)を用い、150℃で1時間硬化させ搭載した後、金線104で外部電極を接続するリード部103と青色LED素子105を接続した。その後、シリコーン封止剤106(LPS3419:信越化学(株)製)をLED素子が配置された凹部開口部内にそれぞれ注入し、120℃で1時間、更に150℃で1時間硬化させ封止した。この封止したマトリックスタイプのリフレクター101をダイシングすることで個片化した。個片化したリフレクター101の側面の厚みをダイシングすることで300μmになるように切断した。
同様に比較のため、比較例1の樹脂組成物で成形したリフレクターを用い、その他は上記と同じ材料、同じ条件でLED装置を組み立てた。これらLED装置をそれぞれ5個ずつ用い、25℃80%の雰囲気中に48時間放置した後、260℃のリフロー炉に3回通した。その後、リフレクター表面や素子表面と封止樹脂との接着不良を調べた。本発明の組成物で成形したリフレクターを用いたものは全く剥離不良が生じなかった。
A blue LED device was assembled using the reflector described above.
As shown in FIG. 3, which is a diagram after separation, a blue LED element 105 is placed on the lead frame 102 exposed on the bottom of each concave shape of the molded matrix type reflector 101 with a silicone die bond agent (product name: LPS 8433, Shin-Etsu Chemical). The lead part 103 which connects an external electrode with the gold wire 104, and the blue LED element 105 were connected after hardening and mounting for 1 hour at 150 degreeC. Thereafter, silicone sealant 106 (LPS3419: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was injected into each of the recess openings where the LED elements were placed, and cured and sealed at 120 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 1 hour. The sealed matrix type reflector 101 was diced into individual pieces. The thickness of the side surface of the separated reflector 101 was cut to 300 μm by dicing.
Similarly, for comparison, an LED device was assembled using the reflector molded with the resin composition of Comparative Example 1 and the other materials and the same conditions as above. Five each of these LED devices were used and left in an atmosphere of 25 ° C. and 80% for 48 hours, and then passed through a reflow furnace at 260 ° C. three times. Thereafter, adhesion failure between the reflector surface or the element surface and the sealing resin was examined. The thing using the reflector shape | molded with the composition of this invention did not produce a peeling defect at all.

リフレクターの破壊強度の測定方法
次に下記方法でリフレクターの破壊強度を測定し、実施例1〜7、比較例1、2のエポキシ樹脂組成物を全面銀メッキした銅リードフレームを用い、図2のマトリックスタイプの凹型リフレクターを下記の成形条件でトランスファー成形し作製した。
成形条件は下記の通り。
成形温度:170℃、成形圧力:70Kg/cm、成形時間:3分
更にポストキュアを170℃で2時間行った。このマトリックスタイプのリフレクターを側面の厚みを300μmになるようにダイシングすることで個片化した。
Measuring method of the breaking strength of the reflector Next, the breaking strength of the reflector was measured by the following method, and a copper lead frame in which the epoxy resin compositions of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 were entirely plated was used, as shown in FIG. A matrix type concave reflector was produced by transfer molding under the following molding conditions.
The molding conditions are as follows.
Molding temperature: 170 ° C., molding pressure: 70 Kg / cm 2 , molding time: 3 minutes Further post-curing was performed at 170 ° C. for 2 hours. The matrix type reflector was diced so as to have a side thickness of 300 μm.

実施例、比較例の組成物で製造した未封止の個片化したリフレクターの底面を接着剤で基板に固定し、リフレクターの側面をプッシュ・プルゲージで加圧することで破壊強度を測定した。加圧速度は100μm/秒で測定した(図1参照)。

Figure 2014095051
Fracture strength was measured by fixing the bottom face of an unsealed individualized reflector manufactured with the compositions of Examples and Comparative Examples to the substrate with an adhesive, and pressing the side surface of the reflector with a push-pull gauge. The pressing speed was measured at 100 μm / second (see FIG. 1).
Figure 2014095051

表2及び3より、(A)成分と化学式(1)で示される酸無水物を有する(B)成分と(C)成分及び(D)成分[(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対し50〜1100質量部]を加えることで、耐熱変色性や反射率、破壊強度が向上していることがわかる。つまり耐熱性、耐光性、強度及び靭性が向上したことがわかる。
これらの結果から本発明の熱硬化性エポキシ樹脂をリフレクター材料として使用することで耐熱性と耐光性を保持し、均一でかつ黄変の少なく、高強度で高靭性に優れたLED用リフレクターとして有用であることが確認できた。一方、本発明のB成分を含有しない比較例1は、特に強度、靱性に問題があり、D成分の配合量が本発明で規定する量に満たない比較例2は、特に反射率、強度が劣るとともに黄変してしまうものであった。
From Tables 2 and 3, the component (A) and the component (B) having the acid anhydride represented by the chemical formula (1), the component (C) and the component (D) [the sum of the components (A) and (B) It can be seen that by adding 50 to 1100 parts by mass with respect to 100 parts by mass, heat discoloration, reflectance, and breaking strength are improved. That is, it can be seen that the heat resistance, light resistance, strength and toughness have been improved.
Based on these results, the thermosetting epoxy resin of the present invention is used as a reflector material, which maintains heat resistance and light resistance, is uniform, has little yellowing, is useful as a reflector for LEDs with high strength and high toughness It was confirmed that. On the other hand, Comparative Example 1 that does not contain the B component of the present invention has a problem in strength and toughness, and Comparative Example 2 in which the blending amount of the D component is less than the amount specified in the present invention has a particularly high reflectance and strength. It was inferior and yellowed.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

100:銅表面を全面銀でメッキしたリードフレーム、 101:リフレクター、 102:発光素子を搭載するリード、 103:外部電極と接続するリード部、 104:金線、 105:青色LED素子、 106:封止材   100: Lead frame with a copper surface plated with silver, 101: Reflector, 102: Lead on which a light emitting element is mounted, 103: Lead portion connected to an external electrode, 104: Gold wire, 105: Blue LED element, 106: Sealed Stop material

Claims (8)

熱硬化性エポキシ樹脂組成物であって、
(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化触媒、及び(D)無機質充填剤(但し、(D)成分は(A)成分と(B)成分との合計100質量部に対し50〜1100質量部となる量)を含有し、前記(B)成分の硬化剤として下記一般式(1)で示される酸無水物を含有するものであることを特徴とする熱硬化性エポキシ樹脂組成物。
Figure 2014095051
(一般式(1)中、R、Rは同一でも異なってもよく、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基もしくはアルケニル基である。)
A thermosetting epoxy resin composition comprising:
(A) epoxy resin, (B) curing agent, (C) curing catalyst, and (D) inorganic filler (provided that (D) component is a total of 100 parts by mass of (A) component and (B) component) 50 to 1100 parts by mass), and a thermosetting epoxy resin containing an acid anhydride represented by the following general formula (1) as a curing agent for the component (B) Composition.
Figure 2014095051
(In general formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different and are a hydrogen atom or an alkyl or alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
前記一般式(1)の酸無水物の含有率が前記(B)成分の硬化剤全体の5〜100質量%であることを特徴とする請求項1に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   2. The thermosetting epoxy resin composition according to claim 1, wherein the content of the acid anhydride of the general formula (1) is 5 to 100% by mass of the entire curing agent of the component (B). 前記(A)成分のエポキシ樹脂が脂環式エポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   The thermosetting epoxy resin composition according to claim 1 or 2, wherein the epoxy resin as the component (A) is an alicyclic epoxy resin. 前記(A)成分のエポキシ樹脂がトリアジン誘導体エポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1又は2に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   The thermosetting epoxy resin composition according to claim 1 or 2, wherein the epoxy resin as the component (A) is a triazine derivative epoxy resin. 更に、酸化防止剤としてフェノール系、リン系、硫黄系酸化防止剤から選ばれる1種又は2種以上を含有するものであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   Furthermore, it contains 1 type, or 2 or more types chosen from phenol type, phosphorus type | system | group, and sulfur type antioxidant as antioxidant, The any one of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned. Thermosetting epoxy resin composition. 前記(D)成分の無機質充填剤が二酸化チタンを含有するものであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の熱硬化性エポキシ樹脂組成物。   The thermosetting epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic filler of the component (D) contains titanium dioxide. 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化成形したものであることを特徴とするLED用リフレクター。   A reflector for LED, wherein the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 6 is cured and molded. 請求項7に記載のLED用リフレクター、LED素子、接続用リード、素子電極を具備し、透明な封止材で封止保護をしたLED装置。
An LED device comprising the LED reflector according to claim 7, an LED element, a connection lead, and an element electrode, wherein the LED device is sealed and protected with a transparent sealing material.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016023199A (en) * 2014-07-16 2016-02-08 積水化学工業株式会社 White curable composition for optical semiconductor device, method for preparing white curable composition for optical semiconductor device, molding for optical semiconductor device, and optical semiconductor device
KR20160102345A (en) 2015-02-20 2016-08-30 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 White heat-curable epoxy resin composition, optical semiconductor element case made of the white heat-curable epoxy resin composition and optical semiconductor device comprised of the optical semiconductor element case
US10388837B2 (en) 2016-06-20 2019-08-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. White heat-curable epoxy resin composition for optical semiconductor element encapsulation and optical semiconductor device using same

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004027005A (en) * 2002-06-25 2004-01-29 Matsushita Electric Works Ltd Sealing liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP2004131623A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Kyowa Yuka Co Ltd Resin composition
JP2005068234A (en) * 2003-08-21 2005-03-17 Japan Epoxy Resin Kk Epoxy resin composition and epoxy resin composition for sealant for light emitting device
WO2005100445A1 (en) * 2004-04-16 2005-10-27 Jsr Corporation Composition for sealing optical semiconductor, optical semiconductor sealing material, amd method for producing composition for sealing optical semiconductor
JP2006206827A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Matsushita Electric Works Ltd Liquid sealing epoxy resin composition and semiconductor device
JP2007297601A (en) * 2006-04-06 2007-11-15 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition for light reflection, substrate for loading photosemiconductor device using the same, method for producing the same, and photosemiconductor device
JP2007308631A (en) * 2006-05-19 2007-11-29 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Zirconia-containing epoxy resin composition, transparent composite containing the same, light-emitting element and photosemiconductor device
JP2008202008A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Nagase Chemtex Corp Sealing resin composition for optical element
US20100140638A1 (en) * 2006-11-15 2010-06-10 Hitachi Chemical Co., Ltd. Thermosetting resin composition for light reflection, method for manufacturing the resin composition and optical semiconductor element mounting substrate and optical semiconductor device using the resin composition
JP2011219683A (en) * 2010-04-13 2011-11-04 Sony Chemical & Information Device Corp Curable resin composition, adhesive epoxy resin paste, die-bonding agent, non-conductive paste, adhesive epoxy resin film, non-conductive epoxy resin film, anisotropic conductive paste, and anisotropic conductive film
JP2012138610A (en) * 2006-11-15 2012-07-19 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition for light reflection, and optical semiconductor element mounting substrate using the same, optical semiconductor device, and method of manufacturing those
JP2012178567A (en) * 2006-04-06 2012-09-13 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition for reflecting light, substrate for mounting optical semiconductor element using the same and method for manufacturing the same, and optical semiconductor device
JP2013028659A (en) * 2011-07-26 2013-02-07 Hitachi Chemical Co Ltd Epoxy resin liquid sealing material for underfill and electric component apparatus using the same

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004027005A (en) * 2002-06-25 2004-01-29 Matsushita Electric Works Ltd Sealing liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP2004131623A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Kyowa Yuka Co Ltd Resin composition
JP2005068234A (en) * 2003-08-21 2005-03-17 Japan Epoxy Resin Kk Epoxy resin composition and epoxy resin composition for sealant for light emitting device
WO2005100445A1 (en) * 2004-04-16 2005-10-27 Jsr Corporation Composition for sealing optical semiconductor, optical semiconductor sealing material, amd method for producing composition for sealing optical semiconductor
JP2006206827A (en) * 2005-01-31 2006-08-10 Matsushita Electric Works Ltd Liquid sealing epoxy resin composition and semiconductor device
JP2012178567A (en) * 2006-04-06 2012-09-13 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition for reflecting light, substrate for mounting optical semiconductor element using the same and method for manufacturing the same, and optical semiconductor device
JP2007297601A (en) * 2006-04-06 2007-11-15 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition for light reflection, substrate for loading photosemiconductor device using the same, method for producing the same, and photosemiconductor device
JP2007308631A (en) * 2006-05-19 2007-11-29 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Zirconia-containing epoxy resin composition, transparent composite containing the same, light-emitting element and photosemiconductor device
US20100140638A1 (en) * 2006-11-15 2010-06-10 Hitachi Chemical Co., Ltd. Thermosetting resin composition for light reflection, method for manufacturing the resin composition and optical semiconductor element mounting substrate and optical semiconductor device using the resin composition
JP2012138610A (en) * 2006-11-15 2012-07-19 Hitachi Chem Co Ltd Thermosetting resin composition for light reflection, and optical semiconductor element mounting substrate using the same, optical semiconductor device, and method of manufacturing those
JP2008202008A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Nagase Chemtex Corp Sealing resin composition for optical element
JP2011219683A (en) * 2010-04-13 2011-11-04 Sony Chemical & Information Device Corp Curable resin composition, adhesive epoxy resin paste, die-bonding agent, non-conductive paste, adhesive epoxy resin film, non-conductive epoxy resin film, anisotropic conductive paste, and anisotropic conductive film
JP2013028659A (en) * 2011-07-26 2013-02-07 Hitachi Chemical Co Ltd Epoxy resin liquid sealing material for underfill and electric component apparatus using the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016023199A (en) * 2014-07-16 2016-02-08 積水化学工業株式会社 White curable composition for optical semiconductor device, method for preparing white curable composition for optical semiconductor device, molding for optical semiconductor device, and optical semiconductor device
KR20160102345A (en) 2015-02-20 2016-08-30 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 White heat-curable epoxy resin composition, optical semiconductor element case made of the white heat-curable epoxy resin composition and optical semiconductor device comprised of the optical semiconductor element case
US9884960B2 (en) 2015-02-20 2018-02-06 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. White heat-curable epoxy resin composition, optical semiconductor element case made of the white heat-curable epoxy resin composition and optical semiconductor device comprised of the case
US10388837B2 (en) 2016-06-20 2019-08-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. White heat-curable epoxy resin composition for optical semiconductor element encapsulation and optical semiconductor device using same

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