JP6142782B2 - Epoxy resin composition and optical semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、例えば、光半導体素子から発する光を反射させる、リフレクター(反射部)の形成材料となる光半導体装置用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置に関するものである。   The present invention relates to, for example, an epoxy resin composition for an optical semiconductor device, which is a material for forming a reflector (reflecting portion) that reflects light emitted from an optical semiconductor element, and an optical semiconductor device.

近年、LEDなどの光半導体素子は高エネルギー効率、長寿命などの利点から、屋外用ディスプレイ、携帯液晶バックライト、車載用途などその需要を拡大しつつある。このような光半導体装置では、上記リフレクターの形成材料を、ポリフタルアミド樹脂(PPA)等に代表される熱可塑性樹脂を用いてインジェクション成形により成形し、製造している。そして、上記熱可塑性樹脂には、一般に白色顔料を配合し、光半導体素子から発する光を反射させている(特許文献1参照)。   In recent years, demand for optical semiconductor elements such as LEDs has been increasing due to advantages such as high energy efficiency and long life, such as outdoor displays, portable liquid crystal backlights, and in-vehicle applications. In such an optical semiconductor device, the material for forming the reflector is manufactured by injection molding using a thermoplastic resin typified by polyphthalamide resin (PPA) or the like. And generally the white pigment is mix | blended with the said thermoplastic resin, and the light emitted from an optical semiconductor element is reflected (refer patent document 1).

上記リフレクターの形成材料として熱可塑性樹脂を用いる場合、次のような問題が生じる。すなわち、最近では、実装に用いられる半田材の鉛フリー化により、半田材の融点が高温化しており、上記光半導体装置のような表面実装型パッケージにおいては高温でのリフロー環境に対する耐熱性が要求されることとなる。したがって、パッケージの半田実装温度での耐熱性の要求や、光半導体素子の高パワー化によるさらなる長期での耐熱性の要求に対して、上記熱可塑性樹脂を用いると高温での変色等が発生し、それに伴い、光の反射効率の低下等が問題となっている。   When a thermoplastic resin is used as the material for forming the reflector, the following problems occur. In other words, recently, the melting point of the solder material has been increased due to the lead-free solder material used for mounting, and surface mount packages such as the above-mentioned optical semiconductor devices require heat resistance against a reflow environment at a high temperature. Will be. Therefore, when the above thermoplastic resin is used to meet the heat resistance requirement at the solder mounting temperature of the package and the long-term heat resistance requirement due to the higher power of the optical semiconductor element, discoloration at a high temperature occurs. Along with this, a decrease in light reflection efficiency has become a problem.

これに対し、上記リフレクターの形成材料として熱硬化性樹脂を用いると、耐熱変色性に優れ、良好な光反射性を得ることが可能となる。しかしながら、上記リフレクターの形成材料として熱硬化性樹脂を用い、熱硬化性樹脂組成物とする際には、通常、酸化防止剤が配合されている(特許文献2〜5)。しかしながら、リン系或いはヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系酸化防止剤は単独で使用した際、リン系酸化防止剤は熱による揮発が多く、ヒンダードフェノール系及びヒンダードアミン系酸化防止剤は熱による変色が多く、リン系酸化防止剤とヒンダードフェノール系酸化防止剤を併用し、良好な耐熱性を発揮することが報告されている(特許文献6、7)。   On the other hand, when a thermosetting resin is used as a material for forming the reflector, it is excellent in heat discoloration and good light reflectivity can be obtained. However, when a thermosetting resin is used as a material for forming the reflector to form a thermosetting resin composition, an antioxidant is usually blended (Patent Documents 2 to 5). However, when phosphorus-based or hindered phenol-based or hindered amine-based antioxidants are used alone, phosphorus-based antioxidants are often volatilized by heat, and hindered phenol-based and hindered amine-based antioxidants are often discolored by heat. In addition, it has been reported that a phosphorus-based antioxidant and a hindered phenol-based antioxidant are used in combination to exhibit good heat resistance (Patent Documents 6 and 7).

特開2002−283498号JP 2002-283498 A 特開2005−239901号JP-A-2005-239901 特開2012−178567号JP 2012-178567 A 特開2012−77235号JP 2012-77235 A 特開2012−41422号JP 2012-41422 A 特開2003―40972号JP 2003-40972 特開2002−12743号JP 2002-12743

しかしながら、特許文献6で使用されている水素化エポキシ樹脂や脂環式エポキシ樹脂を使用した場合、次のような問題が生じる。近年、半導体装置の高密度実装化に伴って表面実装型パッケージが主流になり、価格競争力が年々厳しくなってきている。コストダウンに対応するため、大面積実装化及びパッケージの取り個数の増大化が進められていることから、パッケージを封止するリフレクター材の壁厚が薄くなる傾向にあり、搬送の際のパッケージの割れ、カケが問題視されるようになってきている。上記要求に対し、上記エポキシ樹脂を使用した際に強度の低下が問題となる。また、特許文献7で使用されているフェノール系硬化剤を使用した場合、長期耐熱性が低下する問題が発生する。   However, when the hydrogenated epoxy resin or alicyclic epoxy resin used in Patent Document 6 is used, the following problems occur. In recent years, surface mounting packages have become mainstream as semiconductor devices are mounted at higher density, and price competitiveness has become more severe year by year. In order to cope with cost reductions, the mounting of large areas and the increase in the number of packages are being promoted. Therefore, the wall thickness of the reflector material that seals the package tends to be reduced, and the package is not transported. Cracks and cracks are becoming a problem. In response to the above requirement, a decrease in strength becomes a problem when the epoxy resin is used. Moreover, when the phenol type hardening | curing agent currently used by patent document 7 is used, the problem that long-term heat resistance falls will generate | occur | produce.

よって、本発明は上記事情に鑑みなされたもので、強度及び充填性を維持しながら高い耐熱性を有する光半導体装置用エポキシ樹脂組成物、及び該樹脂組成物の硬化物で封止した光半導体装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and has an epoxy resin composition for an optical semiconductor device having high heat resistance while maintaining strength and fillability, and an optical semiconductor sealed with a cured product of the resin composition. An object is to provide an apparatus.

上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂、(B)酸無水物系硬化剤、(C)白色顔料以外の無機充填剤、(D)硬化促進剤、(E)白色顔料、及び(F)酸化防止剤を含有するエポキシ樹脂組成物において、(F)酸化防止剤として、(F1)リン系酸化防止剤及び(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤を含有することを特徴とする光半導体装置用エポキシ樹脂組成物の硬化物が、LED等の光半導体素子のリフレクター材料に有用であることを見出した。   As a result of intensive studies to achieve the above object, (A) triazine derivative epoxy resin, (B) acid anhydride curing agent, (C) inorganic filler other than white pigment, (D) curing accelerator, ( E) In the epoxy resin composition containing white pigment and (F) antioxidant, (F1) contains phosphorous antioxidant and (F2) hindered phenol antioxidant as antioxidant It has been found that a cured product of an epoxy resin composition for an optical semiconductor device characterized in that it is useful as a reflector material for an optical semiconductor element such as an LED.

本発明の光半導体装置用エポキシ樹脂組成物は、強度及び充填性を維持しながら高い耐熱性を有するため、LED等の光半導体素子のリフレクター材料として有用である。   Since the epoxy resin composition for optical semiconductor devices of the present invention has high heat resistance while maintaining strength and filling properties, it is useful as a reflector material for optical semiconductor elements such as LEDs.

以下、本発明について更に詳しく説明する。
[(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂]
本発明で用いられるトリアジン誘導体エポキシ樹脂としては、エポキシ基を有する、好ましくは2〜3個のエポキシ基を有するトリアジン化合物(特に、1,3,5−トリアジン化合物)、特にエポキシ基を2〜3個有するイソシアヌレート環を有する化合物、即ち、イソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂が好ましい。このようなイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂は、耐光性や電気絶縁性に優れており、1つのイソシアヌレート環に対して、2個、より好ましくは3個のエポキシ基を有することが望ましい。具体的には、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリス(α−メチルグリシジル)イソシアヌレート等を用いることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
[(A) Triazine derivative epoxy resin]
The triazine derivative epoxy resin used in the present invention has an epoxy group, preferably a triazine compound having 2 to 3 epoxy groups (particularly a 1,3,5-triazine compound), particularly 2 to 3 epoxy groups. A compound having a single isocyanurate ring, that is, an epoxy resin having an isocyanurate ring is preferred. Such an epoxy resin having an isocyanurate ring is excellent in light resistance and electrical insulation, and desirably has two, more preferably three epoxy groups per one isocyanurate ring. Specifically, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, tris (α-methylglycidyl) isocyanurate, or the like can be used.

本発明で用いる(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂は、液状のものから固形のものまでいずれのものも使用可能であるが、該エポキシ樹脂の軟化点が50〜120℃で、エポキシ当量が100〜400であるものが好ましい。軟化点が50℃より低いエポキシ樹脂を用いた場合、硬化物のガラス転移温度が低下するばかりか、成形時にバリやボイドが発生し易くなる。また、軟化点が120℃より高いエポキシ樹脂を用いた場合には、粘度が高くなりすぎて成形できなくなるおそれがある。   As the (A) triazine derivative epoxy resin used in the present invention, any one from liquid to solid can be used, but the softening point of the epoxy resin is 50 to 120 ° C., and the epoxy equivalent is 100 to 400. Are preferred. When an epoxy resin having a softening point lower than 50 ° C. is used, not only the glass transition temperature of the cured product is lowered, but also burrs and voids are easily generated during molding. Further, when an epoxy resin having a softening point higher than 120 ° C. is used, there is a possibility that the viscosity becomes too high to be molded.

また、上記エポキシ樹脂を光半導体封止用に用いる場合、該エポキシ樹脂中の加水分解性塩素が1000ppm以下、特に500ppm以下、ナトリウム及びカリウムはそれぞれ10ppm以下とすることが好適である。加水分解性塩素が1000ppmを超えたり、ナトリウム及びカリウムが10ppmを超える樹脂で光半導体装置を封止し、長時間高温高湿下に該半導体装置を放置すると、耐湿性が劣化する場合がある。   Moreover, when using the said epoxy resin for optical semiconductor sealing, it is suitable for the hydrolyzable chlorine in this epoxy resin to be 1000 ppm or less, especially 500 ppm or less, and sodium and potassium to each 10 ppm or less. If the optical semiconductor device is sealed with a resin having hydrolyzable chlorine exceeding 1000 ppm or sodium and potassium exceeding 10 ppm, and the semiconductor device is left under high temperature and high humidity for a long time, the moisture resistance may deteriorate.

[(B)酸無水物系硬化剤]
本発明で用いられる(B)成分の酸無水物は、硬化剤として作用するものであり、耐光性を与えるために非芳香族系であり、かつ炭素−炭素二重結合等の不飽和結合を有さないものが好ましく、例えば、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。これらの酸無水物系硬化剤は、1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。
[(B) Acid anhydride curing agent]
The acid anhydride of the component (B) used in the present invention acts as a curing agent, is non-aromatic to give light resistance, and has an unsaturated bond such as a carbon-carbon double bond. What does not have is preferable, for example, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc. are mentioned. These acid anhydride curing agents may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分を、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B)酸無水物系硬化剤とを含む混合物、即ち、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B)酸無水物系硬化剤との組合せとして構成する場合には、(A)、(B)成分の配合量は、上記(B)酸無水物系硬化剤が有する酸無水物基
1モルに対して、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂が有するエポキシ基が1.0〜2.0モル、好ましくは1.2〜1.6モルとなる量である。2.0モルを超える量では硬化不良が生じ、信頼性が低下する場合がある。また、1.0モル未満では未反応の酸無水物硬化剤が硬化物中に残り、揮発分の増加と得られる硬化物の耐湿性を悪化させる場合がある。
The resin component is composed of a mixture containing (A) a triazine derivative epoxy resin and (B) an acid anhydride curing agent, that is, a combination of (A) a triazine derivative epoxy resin and (B) an acid anhydride curing agent. In this case, the blending amount of the components (A) and (B) is determined based on the acid anhydride group possessed by the (B) acid anhydride curing agent.
The amount of the epoxy group contained in the (A) triazine derivative epoxy resin is 1.0 to 2.0 mol, preferably 1.2 to 1.6 mol, relative to 1 mol. If the amount exceeds 2.0 mol, curing failure may occur and reliability may be lowered. Moreover, if it is less than 1.0 mol, an unreacted acid anhydride curing agent remains in the cured product, and the volatile matter may increase and the moisture resistance of the resulting cured product may be deteriorated.

また、樹脂成分(A)、(B)は、これらを予めプレポリマー化して用いることもできるが、樹脂成分を、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と、(B)酸無水物系硬化剤とを予め反応させて得られたプレポリマーとして構成する場合には、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B)酸無水物とを、〔(A)成分が有するエポキシ基〕/〔(B)成分が有する酸無水物基〕のモル比(即ち、〔(A)成分が有するエポキシ基の数/(B)成分が有する酸無水物の数〕)が1.0〜2.0、好ましくは1.2〜1.6となる量で配合し、好ましくは後述する(F)成分と同じ酸化防止剤及び/又は後述する(D)成分と同じ硬化促進剤の存在下において反応して得られた固体生成物(即ち、プレポリマー)を樹脂成分として使用することもできる。
このとき、該固体生成物は粉砕等により微粉末状態で用いることが好ましい。該微粉末の粒子径は10μm〜3mmの範囲が好ましい。本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物としては、樹脂成分を上記固体状のプレポリマー(特に微粉末状で)として使用した方が、作業性のよい固体の熱硬化性樹脂として使用できるため、望ましい。
The resin components (A) and (B) can also be prepolymerized and used, but the resin component comprises (A) a triazine derivative epoxy resin and (B) an acid anhydride curing agent. In the case of constituting a prepolymer obtained by reacting in advance, (A) a triazine derivative epoxy resin and (B) an acid anhydride, [(E) epoxy group of component (A)] / [(B) component is The acid anhydride group possessed] has a molar ratio (that is, [number of epoxy groups possessed by component (A) / number of acid anhydrides possessed by component (B))] of 1.0 to 2.0, preferably 1.2 to A solid product obtained by reacting in the presence of the same antioxidant as the component (F) and / or the same curing accelerator as the component (D) described later, preferably in an amount of 1.6. (Ie prepolymer) as a resin component It can be.
At this time, the solid product is preferably used in a fine powder state by pulverization or the like. The particle diameter of the fine powder is preferably in the range of 10 μm to 3 mm. As the thermosetting epoxy resin composition of the present invention, the resin component used as the solid prepolymer (particularly in the form of fine powder) can be used as a solid thermosetting resin with good workability. desirable.

上記プレポリマーを合成する際には、必要に応じて、(A)成分以外のエポキシ樹脂を本発明の効果を損なわない範囲で一定量以下併用することができる。このエポキシ樹脂の例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂又は4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂のようなビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、トリスフェニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラキスフェニロールエタン型エポキシ樹脂、及びフェノールジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂の芳香環を水素化したエポキシ樹脂や脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。これらエポキシ樹脂の中でも耐熱性や耐紫外線性から芳香環を水素化したエポキシ樹脂や脂環式エポキシ樹脂が望ましい。また、その他のエポキシ樹脂の軟化点は70〜100℃であることが好ましい。   When synthesizing the prepolymer, an epoxy resin other than the component (A) can be used in combination with a certain amount or less as long as it does not impair the effects of the present invention. Examples of this epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol type epoxy resin, or 4,4′-biphenol type epoxy resin. Biphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, naphthalenediol type epoxy resin, trisphenylol methane type epoxy resin, tetrakisphenylol ethane type epoxy resin, And an epoxy resin obtained by hydrogenating an aromatic ring of a phenol dicyclopentadiene novolac type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or the like. Among these epoxy resins, an epoxy resin in which an aromatic ring is hydrogenated or an alicyclic epoxy resin is desirable because of heat resistance and ultraviolet resistance. Moreover, it is preferable that the softening point of another epoxy resin is 70-100 degreeC.

なお、これらの酸無水物系硬化剤は、光半導体封止用に用いる場合、ナトリウム、カリウムは10ppm以下とすることが好ましく、10ppmを超えたものを用いて光半導体装置を封止し、長時間高温高湿下で半導体装置を放置した場合、耐湿性の劣化が促進される場合がある。   In addition, when using these acid anhydride type hardening | curing agents for optical semiconductor sealing, it is preferable that sodium and potassium shall be 10 ppm or less, and the optical semiconductor device is sealed using what exceeded 10 ppm, and long. When the semiconductor device is left under high temperature and high humidity for a long time, deterioration of moisture resistance may be promoted.

[(C)白色顔料以外の無機充填剤]
本発明の樹脂組成物では、線膨張係数の低減および流動性の向上を目的に、(C)成分として後述する(E)成分の白色顔料以外の無機充填剤を用いる。この(C)白色顔料以外の無機充填剤としては、例えば、石英ガラス粉末、タルク、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ粉末、窒化アルミニウム粉末、窒化ケイ素粉末等が挙げられる。中でも、線膨張係数の低減等の観点から、シリカ粉末を用いることが好ましく、特に高充填性および高流動性という観点から、球状溶融シリカ粉末を用いることが好ましい。これら無機充填剤は一種単独でも二種以上併用してもよい。
[(C) Inorganic filler other than white pigment]
In the resin composition of the present invention, an inorganic filler other than the white pigment of the component (E) described later is used as the component (C) for the purpose of reducing the linear expansion coefficient and improving the fluidity. Examples of the inorganic filler other than the (C) white pigment include silica glass powder, silica powder such as talc, fused silica, and crystalline silica, aluminum nitride powder, and silicon nitride powder. Among them, it is preferable to use silica powder from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and it is particularly preferable to use spherical fused silica powder from the viewpoint of high filling property and high fluidity. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

上記(C)白色顔料以外の無機充填剤は、(A)及び(B)成分の樹脂成分との結合強度を強くするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤で予め表面処理したものでもよい。   The inorganic filler other than the (C) white pigment is previously surface-treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent in order to increase the bonding strength with the resin component of the components (A) and (B). It may be processed.

このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではない。   Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-mercapto It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as propyltrimethoxysilane. The amount of coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited.

(C)白色顔料以外の無機充填剤の配合量は、(A)成分及び(B)成分の合計100質量部に対し、100〜1000質量部であることが好ましく、200〜900質量部であることがより好ましい。100質量部以上であれば、硬化物が十分な強度を得ることができ、1000質量部以下であれば、組成物の増粘による未充填不良となる恐れや柔軟性が失われる恐れがなく、LED装置内の剥離等の不良が発生する恐れがないために好ましい。なお、この(C)白色顔料以外の無機充填剤は、本発明の組成物全体の50〜93質量%、より好ましくは60〜90質量%の範囲で含有されることが好ましい。   (C) It is preferable that the compounding quantity of inorganic fillers other than a white pigment is 100-1000 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component, and is 200-900 mass parts. It is more preferable. If it is 100 parts by mass or more, the cured product can obtain sufficient strength, and if it is 1000 parts by mass or less, there is no fear of unfilling failure due to thickening of the composition or loss of flexibility, This is preferable because there is no fear of occurrence of defects such as peeling in the LED device. In addition, it is preferable that inorganic fillers other than this (C) white pigment are contained in 50-93 mass% of the whole composition of this invention, More preferably, it is contained in 60-90 mass%.

[(D)硬化促進剤]
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物に配合される(D)成分の硬化促進剤は、(A)及び(B)成分を硬化させるための縮合触媒である。
この縮合触媒としては、例えば、オクチル酸アミン、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、n−ヘキシルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン(DBU)、ジシアンジアミド、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール等の塩基性化合物類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、チタンアセチルアセトナート、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート、モノアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラ(アセチルアセトナート)、ジルコニウムテトラブチレート、コバルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸亜鉛、安息香酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛等の含金属化合物類;ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等の有機チタンキレート化合物等が挙げられる。これらの中でも、オクチル酸アミン及び2−エチル−4−メチルイミダゾールが好ましい。
なお、(D)硬化促進剤の配合量は、(A)及び(B)成分の熱硬化性エポキシ樹脂を硬化させる触媒としての有効量であれば特に限定されないが、通常は(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して0.10〜0.50質量部である。
[(D) Curing accelerator]
The (D) component curing accelerator blended in the thermosetting epoxy resin composition of the present invention is a condensation catalyst for curing the (A) and (B) components.
Examples of the condensation catalyst include amine octylate, trimethylbenzylammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, n-hexylamine, tributylamine, diazabicycloundecene (DBU), dicyandiamide, 2-ethyl-4-methyl. Basic compounds such as imidazole and 2-methylimidazole; tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, titanium acetylacetonate, aluminum triisobutoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum trisacetylacetonate, aluminum bisethylacetoacetate, mono Acetyl acetonate, zirconium tetra (acetylacetonate), zirconium tetrabutyrate, cobalt octylate, cobalt acetate Metal-containing compounds such as luacetonate, iron acetylacetonate, tin acetylacetonate, dibutyltin octylate, dibutyltin laurate, zinc octylate, zinc benzoate, zinc p-tert-butylbenzoate, zinc laurate, zinc stearate Organic titanium chelate compounds such as diisopropoxybis (ethylacetoacetate) titanium and diisopropoxybis (ethylacetoacetate) titanium; Of these, amine octylate and 2-ethyl-4-methylimidazole are preferred.
The blending amount of the (D) curing accelerator is not particularly limited as long as it is an effective amount as a catalyst for curing the thermosetting epoxy resins of the components (A) and (B), but usually (A) and ( B) It is 0.10-0.50 mass part with respect to 100 mass parts of total of a component.

[(E)白色顔料]
本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物に配合される(E)白色顔料は、白色着色剤として、白色度を高めるために配合するものである。この(E)白色顔料としては、組成物に配合して遮蔽効果と白色度を高めるものであれば特に制限はないが、特に、LED用プレモールドパッケージの製造に本発明の組成物を使用する場合には、白色度を高めるために二酸化チタンを白色着色剤として配合することが好ましい。この二酸化チタンの単位格子はルチル型、アナターゼ型のどちらでも構わない。
[(E) White pigment]
The (E) white pigment blended in the thermosetting epoxy resin composition of the present invention is blended as a white colorant to increase whiteness. The (E) white pigment is not particularly limited as long as it is added to the composition to enhance the shielding effect and the whiteness, but in particular, the composition of the present invention is used for producing a premold package for LED. In some cases, it is preferable to blend titanium dioxide as a white colorant in order to increase whiteness. The unit cell of titanium dioxide may be either a rutile type or an anatase type.

また、平均粒径や形状も限定されないが、少量で白色度を高めるためには微粉のものが望ましく、平均粒径は通常0.05〜5.0μmである。上記二酸化チタンは、樹脂成分や無機充填剤との相溶性、分散性、耐光性を高めるため、AlやSiなどの含水酸化物、シラン等で予め表面処理したもの(特にルチル型が好ましい)を用いる方がよい。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における累積質量平均径D50(又はメジアン径)として求めることができる。 Also, the average particle diameter and shape are not limited, but fine powder is desirable for increasing the whiteness with a small amount, and the average particle diameter is usually 0.05 to 5.0 μm. The above titanium dioxide is a surface treated with a hydrous oxide such as Al or Si, silane or the like (particularly a rutile type is preferred) in order to improve compatibility with resin components and inorganic fillers, dispersibility, and light resistance. It is better to use. The average particle diameter can be determined as a cumulative weight average diameter D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method.

また、(E)白色顔料(白色着色剤)として、二酸化チタン以外にも、チタン酸カリウム、二酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、ガラス繊維等を単独で又は二酸化チタンと併用して使用することもできる。   (E) As white pigment (white colorant), besides titanium dioxide, potassium titanate, zirconium dioxide, zinc sulfide, zinc oxide, magnesium oxide, alumina, aluminum hydroxide, glass fiber, etc. can be used alone or in carbon dioxide. It can also be used in combination with titanium.

(E)白色顔料の配合量は、組成物全体の5〜40質量%、特に10〜30質量%が好ましい。5質量%以上であれば、十分な白色度が得られないという恐れがなく、40質量%以下であれば組成物の流動性が低下し、成形性に不具合が生じ未充填やボイド等が発生する恐れがないために好ましい。   (E) The compounding quantity of a white pigment is 5-40 mass% of the whole composition, and 10-30 mass% is especially preferable. If the amount is 5% by mass or more, there is no fear that sufficient whiteness cannot be obtained. If the amount is 40% by mass or less, the fluidity of the composition is lowered, and there is a problem in moldability, resulting in unfilled or voids. It is preferable because there is no fear of doing so.

[(F)酸化防止剤]
本発明で用いられる(F)成分の酸化防止剤は、(F1)リン系酸化防止剤と(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤との組合せである。
(F1)リン系酸化防止剤としては、通常、エポキシ樹脂のリン系酸化防止剤として用いられるものであればその種類に何ら制限はないが、具体的には、トリフェニルホスファイト、フェニルイソデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイトなどの有機リン系酸化防止剤が例示される。
(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌル酸、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンのようなフェノール系酸化防止剤などが例示される。
好ましくは、(F1)リン系酸化防止剤がジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、(F2)フェノール系酸化防止剤がテトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンである組合せである。
[(F) Antioxidant]
The antioxidant of the component (F) used in the present invention is a combination of (F1) a phosphorus antioxidant and (F2) a hindered phenol antioxidant.
The (F1) phosphorus antioxidant is not particularly limited as long as it is usually used as a phosphorus antioxidant for epoxy resins. Specifically, triphenyl phosphite, phenylisodecyl are used. Examples thereof include organic phosphorus antioxidants such as phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, and tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite.
(F2) As the hindered phenol antioxidant, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) Examples include phenolic antioxidants such as isocyanuric acid and tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane.
Preferably, (F1) phosphorus antioxidant is distearyl pentaerythritol diphosphite and (F2) phenolic antioxidant is tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4- Hydroxyphenyl) propionate] methane.

本発明において、(F1)リン系酸化防止剤及び(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤の各配合量は、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂及び(B)酸無水物系硬化剤の合計100質量部に対し、(F1)リン系酸化防止剤が0.1質量部以上且つ10質量部以下、(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤が0.1質量部以上且つ5質量部以下であることが好ましく、(F1)リン系酸化防止剤が1質量部以上且つ7質量部以下、(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤が0.5質量部以上且つ3質量部以下であることがより好ましい。   In the present invention, the blending amounts of (F1) phosphorus antioxidant and (F2) hindered phenol antioxidant are 100 masses in total of (A) triazine derivative epoxy resin and (B) acid anhydride curing agent. (F1) phosphorus antioxidant is 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and (F2) hindered phenol antioxidant is 0.1 parts by mass or more and 5 parts by mass or less. It is more preferable that (F1) the phosphorus-based antioxidant is 1 part by mass or more and 7 parts by mass or less, and (F2) the hindered phenol-based antioxidant is 0.5 part by mass or more and 3 parts by mass or less. .

[他の配合成分]
本発明のエポキシ樹脂組成物には、本発明の目的及び効果を損なわない範囲において、上記(A)〜(F)成分に加えて下記の成分を配合しても差し支えない。
[Other ingredients]
In the epoxy resin composition of the present invention, the following components may be blended in addition to the components (A) to (F) as long as the objects and effects of the present invention are not impaired.

本発明の組成物には、必要に応じて、該組成物の硬化物に可撓性や強靭性を付与させたり、接着性を付与するため、シリコーン変性共重合体や各種有機合成ゴム;スチレン−ブタジエン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−エチレン−ブテン−スチレン共重合体などの熱可塑性樹脂;又はシリコーンゲルやシリコーンゴムなどの微粉末を添加することができる。また、二液タイプのシリコーンゴムやシリコーンゲルで無機質充填剤の表面を処理してもよい。なお、上述したシリコーン変性共重合体やスチレン−ブタジエン−メタクリル酸メチル共重合体はエポキシ樹脂の低応力化に効果を発揮する。   If necessary, the composition of the present invention is provided with a silicone-modified copolymer, various organic synthetic rubbers, styrene, or the like in order to impart flexibility or toughness to the cured product of the composition or to impart adhesiveness. -A thermoplastic resin such as butadiene-methyl methacrylate copolymer, styrene-ethylene-butene-styrene copolymer; or fine powders such as silicone gel and silicone rubber can be added. Further, the surface of the inorganic filler may be treated with a two-component type silicone rubber or silicone gel. The silicone-modified copolymer and styrene-butadiene-methyl methacrylate copolymer described above are effective in reducing the stress of the epoxy resin.

そのほかの添加剤としては、内部離型剤、接着助剤、イオントラップ剤などを硬化物の特性を損なわない範囲で加えることができる。内部離型剤及び接着助剤を使用する場合、それらは通常、(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して0.10〜1.00質量部の量で使用される。   As other additives, internal mold release agents, adhesion assistants, ion trapping agents, and the like can be added within a range that does not impair the properties of the cured product. When using an internal mold release agent and an adhesion assistant, they are usually used in an amount of 0.10 to 1.00 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the components (A) and (B).

本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物を通常の半導体用封止材や車載用各種モジュールなどの封止に使用する場合、着色剤としてカーボンブラック等を用いることができる。カーボンブラックとしては市販されているものであればどのようなものも使用できるが、望ましくはアルカリ金属やハロゲンを多く含まない純度のよいものが望ましい。   When the thermosetting epoxy resin composition of the present invention is used for sealing a normal semiconductor sealing material or various on-vehicle modules, carbon black or the like can be used as a colorant. Any carbon black may be used as long as it is commercially available, but it is desirable that the carbon black has good purity and does not contain much alkali metal or halogen.

[組成物の製造方法]
本発明の熱硬化性エポキシ組成物の調製方法としては、例えば、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と(B)酸無水物系硬化剤とを〔(A)成分が有するエポキシ基〕/〔(B)成分が有する酸無水物基〕のモル比が1.0〜2.0となる割合で混合した樹脂成分、(C)白色顔料以外の無機充填剤、(D)硬化促進剤、(E)白色顔料、(F1)リン系酸化防止剤及び(F2)ヒンダードフェノール系酸化防止剤を、必要に応じて添加されるその他の添加物、例えば内部離型剤等とともに、所定の割合で配合し、これをミキサー等によって均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕する方法が挙げられる。この際、(A)成分及び(B)成分は取り扱いの面から、固体生成物としてプレポリマー化して用いることが望ましい。
上記プレポリマー合成の詳細な反応条件としては、上記した(A)成分及び(B)成分を70〜120℃、好ましくは80〜110℃にて4〜20時間、好ましくは6〜15時間反応させる。こうして、軟化点が50〜100℃、好ましくは60〜90℃である固体生成物としてプレポリマーを得る。これを本発明の組成物に配合するには、粉砕等により微粉状化して行うことが好ましい。反応して得られる物質の軟化点が、50℃未満では固体とはならず、100℃を超える温度では組成物として成型の時に必要な流動性が低すぎるおそれがある。
[Method for producing composition]
As a method for preparing the thermosetting epoxy composition of the present invention, for example, (A) a triazine derivative epoxy resin and (B) an acid anhydride curing agent [epoxy group contained in component (A)] / [(B Resin component mixed at a ratio of 1.0 to 2.0, (C) inorganic filler other than white pigment, (D) curing accelerator, (E) A white pigment, (F1) phosphorus antioxidant and (F2) hindered phenol antioxidant are blended at a predetermined ratio together with other additives added as necessary, for example, an internal mold release agent. There is a method in which the mixture is uniformly mixed by a mixer or the like, then melt mixed by a hot roll, a kneader, an extruder or the like, then cooled and solidified, and pulverized to an appropriate size. At this time, the component (A) and the component (B) are preferably prepolymerized and used as a solid product from the viewpoint of handling.
As detailed reaction conditions for the prepolymer synthesis, the above-described components (A) and (B) are reacted at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C. for 4 to 20 hours, preferably 6 to 15 hours. . Thus, a prepolymer is obtained as a solid product having a softening point of 50 to 100 ° C., preferably 60 to 90 ° C. In order to mix this with the composition of the present invention, it is preferable to make it fine powder by pulverization or the like. If the softening point of the substance obtained by the reaction is less than 50 ° C., it does not become a solid, and if it exceeds 100 ° C., the fluidity required for molding as a composition may be too low.

このようにして得られた本発明のエポキシ樹脂組成物は、成形性に優れるとともに、その硬化物は携帯用液状バックライト用途においては、LEDの輝度の低下を抑制するだけでなく、ジャンクションの発熱が大きいパワー系のLED用のパッケージ材料としても最適なものである。
更に、リード部やパッド部が形成されたマトリックスアレー型の金属基板や有機基板上で、LED素子搭載部分のみを空けた状態で本材料を用い一括封止するプレモールドパッケージも本発明の範疇に入る。また、通常の半導体用封止材や車載用各種モジュールなどの封止にも使用することができる。
The epoxy resin composition of the present invention thus obtained is excellent in moldability, and the cured product not only suppresses the decrease in the brightness of the LED in portable liquid backlight applications, but also generates heat from the junction. It is also optimal as a package material for a power LED having a large current.
Furthermore, a pre-molded package that collectively seals using this material on a matrix array type metal substrate or organic substrate on which leads and pad portions are formed, leaving only the LED element mounting portion within the scope of the present invention. enter. It can also be used for sealing a normal semiconductor sealing material and various on-vehicle modules.

この場合、本発明の熱硬化性エポキシ樹脂組成物の封止の最も一般的な方法としては、低圧トランスファー成形法が挙げられる。なお、本発明のエポキシ樹脂組成物の成形温度は150〜185℃が望ましく、成形時間は30〜180秒が望ましい。必要に応じて、後硬化を150〜185℃で2〜20時間行ってもよい。   In this case, the most common method for sealing the thermosetting epoxy resin composition of the present invention is a low-pressure transfer molding method. The molding temperature of the epoxy resin composition of the present invention is desirably 150 to 185 ° C., and the molding time is desirably 30 to 180 seconds. If necessary, post-curing may be performed at 150 to 185 ° C. for 2 to 20 hours.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。下記の実施例及び比較例で使用した原料を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to this. The raw materials used in the following examples and comparative examples are shown below.

<(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂>
(A−1):トリアジン誘導体エポキシ樹脂:トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート(TEPIC−S:日産化学(株)製商品名、エポキシ当量100)
<(A) Triazine derivative epoxy resin>
(A-1): Triazine derivative epoxy resin: Tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate (TEPIC-S: trade name, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 100)

<(B)酸無水物>
(B−1):ヘキサヒドロ無水フタル酸(リカシッドHH:新日本理化(株)製商品名)
<(B) Acid anhydride>
(B-1): Hexahydrophthalic anhydride (Ricacid HH: trade name, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)

<(C)無機充填剤>
(C−1):シリカ;球状溶融シリカ(CS−6103 53C2:(株)龍森製、平均粒径15μm)
<(C) Inorganic filler>
(C-1): Silica; Spherical fused silica (CS-6103 53C2: manufactured by Tatsumori Co., Ltd., average particle size: 15 μm)

<(D)硬化促進剤>
(D−1):2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成(株)製商品名)
<(D) Curing accelerator>
(D-1): 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ: trade name, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)

<(E)白色顔料>
(E−1):二酸化チタン;ルチル型(CR−95:石原産業(株)製商品名、平均粒径0.28μm)
<(E) White pigment>
(E-1): Titanium dioxide; rutile type (CR-95: trade name, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., average particle size 0.28 μm)

<(F)酸化防止剤>
(F1−1):リン系酸化防止剤;ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト(PEP−8:ADEKA(株)製商品名)
(F1−2):リン系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト(IRGAFOS168:チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)
(F2−1):フェノール系酸化防止剤;1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌル酸(IRGANOX3114:チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)
(F2−2):フェノール系酸化防止剤;テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン(AO−60:ADEKA(株)製商品名)
<(F) Antioxidant>
(F1-1): Phosphorous antioxidant; distearyl pentaerythritol diphosphite (PEP-8: trade name manufactured by ADEKA Corporation)
(F1-2): Phosphorous antioxidant; Tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite (IRGAFOS168: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
(F2-1): Phenolic antioxidant; 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanuric acid (IRGANOX3114: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
(F2-2): Phenolic antioxidant; tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane (AO-60: manufactured by ADEKA Corporation) Name)

<離型剤>
ステアリルステアレート(SL−900A:理研ビタミン(株)製商品名)
<Release agent>
Stearyl stearate (SL-900A: trade name, manufactured by Riken Vitamin Co., Ltd.)

<接着助剤>
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(KBM−803P:信越化学工業(株)製商品名)
<Adhesion aid>
3-mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM-803P: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

[実施例1〜4、比較例1〜4]
実施例1〜4及び比較例1〜4について、それぞれ表1及び表2に示す割合に従い、原料を配合し、それぞれ樹脂組成物を得た。
なお、(A)及び(B)成分は表1及び表2に示す所定の量で配合し、80℃に6時間加熱することにより、(A)及び(B)成分のプレポリマーを得た。
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-4]
About Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4, according to the ratio shown in Table 1 and Table 2, respectively, the raw material was mix | blended and the resin composition was obtained, respectively.
In addition, (A) and (B) component were mix | blended with the predetermined quantity shown in Table 1 and Table 2, and the prepolymer of (A) and (B) component was obtained by heating at 80 degreeC for 6 hours.

上記で得られた樹脂組成物を、トランスファー成形機を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.8×106Pa、硬化時間2分、ポストキュアを行う場合は150℃2時間の条件で、各試験で用いる試験片を作製した。それぞれの評価方法は以下の通りであり、結果は表にまとめて示す。 Using the transfer molding machine, the resin composition obtained above has a mold temperature of 175 ° C., an injection pressure of 6.8 × 10 6 Pa, a curing time of 2 minutes, and a post-curing condition of 150 ° C. for 2 hours. Thus, test pieces used in each test were prepared. Each evaluation method is as follows, and the results are summarized in a table.

[スパイラルフロー(流動性)の評価]
EMMI−1−66の規格に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、各樹脂組成物を上記条件でトランスファー成形し、そのときの流動距離(inch)を求めた。
[Evaluation of spiral flow]
Each resin composition was transfer-molded under the above conditions using a spiral flow measurement mold according to the standard of EMMI-1-66, and the flow distance (inch) at that time was determined.

[ゲルタイムの評価]
175℃に設定した熱板に各樹脂組成物の測定サンプルを塗布し、硬化が始まるまでの時間をゲルタイム(秒)とした。
[Evaluation of gel time]
A measurement sample of each resin composition was applied to a hot plate set at 175 ° C., and the time until curing started was defined as gel time (seconds).

[室温曲げ強度の評価]
EMMI規格に準じた金型を使用して、上記の成形条件で各樹脂組成物から10×4×100mmの試験片を成形し、室温にて曲げ強度を測定した。
[Evaluation of room temperature bending strength]
Using a mold conforming to the EMMI standard, a 10 × 4 × 100 mm test piece was molded from each resin composition under the above molding conditions, and the bending strength was measured at room temperature.

[耐熱性の評価]
各樹脂組成物から直径50mm、厚み3mmの試験片を成形し、その反射率を初期反射率とした。その後、該試験片を、ポストキュアを行った後、150℃、180℃にそれぞれ240時間置いた。240時間後の反射率を測定し、それぞれ150℃耐熱後反射率、180℃耐熱後反射率とした。
[Evaluation of heat resistance]
A test piece having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was molded from each resin composition, and the reflectance was taken as the initial reflectance. Thereafter, the test piece was post-cured and then placed at 150 ° C. and 180 ° C. for 240 hours, respectively. The reflectance after 240 hours was measured, and the reflectance after heat resistance at 150 ° C. and the reflectance after heat resistance at 180 ° C. were obtained, respectively.

表1及び表2の結果を見れば明らかなように、本発明で見出した光半導体装置用エポキシ樹脂組成物は充填性、強度は維持しながら耐熱性が向上していることから、本発明の樹脂組成物は光半導体のリフレクター材として好適であることが確認できた。   As is apparent from the results of Tables 1 and 2, the epoxy resin composition for optical semiconductor devices found in the present invention has improved heat resistance while maintaining fillability and strength. It was confirmed that the resin composition was suitable as an optical semiconductor reflector material.

Claims (9)

(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂、
(B)酸無水物系硬化剤、
(C)白色顔料以外の無機充填剤、
(D)硬化促進剤、
(E)白色顔料、及び
(F)酸化防止剤
を含有するエポキシ樹脂組成物において、(F)酸化防止剤として、
(F1)ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト及び
(F2)テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン
を含有することを特徴とする光半導体装置用リフレクター材
(A) a triazine derivative epoxy resin,
(B) an acid anhydride curing agent,
(C) inorganic fillers other than white pigments,
(D) a curing accelerator,
In the epoxy resin composition containing (E) a white pigment and (F) an antioxidant, (F) as an antioxidant,
Containing (F1) distearyl pentaerythritol diphosphite and (F2) tetrakis [methylene-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane. Reflector material for optical semiconductor devices.
(F)成分の酸化防止剤として、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂及び(B)酸無水物系硬化剤の合計100質量部に対し、
(F1)ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイトを0.1質量部以上且つ10.0質量部以下、
(F2)テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンを0.1質量部以上且つ5.0質量部以下、
含有することを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置用リフレクター材
As an antioxidant for component (F), a total of 100 parts by weight of (A) triazine derivative epoxy resin and (B) acid anhydride curing agent,
(F1) 0.1 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less of distearyl pentaerythritol diphosphite ,
(F2) tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane in an amount of 0.1 to 5.0 parts by mass,
The reflector material for an optical semiconductor device according to claim 1, which is contained.
(B)成分の酸無水物系硬化剤が、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸及び/又はヘキサヒドロ無水フタル酸であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光半導体装置用リフレクター材The acid anhydride-based curing agent as component (B) is methylhexahydrophthalic anhydride and / or hexahydrophthalic anhydride, 3. The reflector material for an optical semiconductor device according to claim 1 or 2. (D)成分の硬化促進剤が、イミダゾール系触媒を含有するものである請求項1〜3のいずれか1項に記載の光半導体装置用リフレクター材The reflector material for an optical semiconductor device according to any one of claims 1 to 3, wherein the curing accelerator (D) contains an imidazole catalyst. (E)成分の白色顔料が、二酸化チタン、チタン酸カリウム、二酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、アルミナ、酸化マグネシウム及び水酸化アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光半導体装置用リフレクター材(E) white pigment component, characterized in that at least one selected potassium titanium dioxide, titanates, zirconium dioxide, zinc sulfide, zinc oxide, alumina, magnesium oxide and hydroxide aluminum or Ranaru group The reflector material for optical semiconductor devices according to any one of claims 1 to 4. 更に、離型剤を含有するものである請求項1〜5のいずれか1項に記載の光半導体装置用リフレクター材Furthermore, it contains a mold release agent, The reflector material for optical semiconductor devices of any one of Claims 1-5. (C)成分の白色顔料以外の無機充填剤がシリカ粉末である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光半導体装置用リフレクター材The reflector material for optical semiconductor devices according to claim 1, wherein the inorganic filler other than the white pigment of component (C) is silica powder. 〔(A)成分が有するエポキシ基〕/〔(B)成分が有する酸無水物基〕のモル比が1.0〜2.0となる比である、請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用リフレクター材The molar ratio of / [(A) an epoxy group component has] [(B) an acid anhydride group in the component having] is the ratio of the 1.0 to 2.0, any one of claims 1-7 Reflector material for optical semiconductor devices described in 1. 請求項1〜のいずれか1項に記載のリフレクター材を具備する光半導体装置。
The optical semiconductor device which comprises the reflector material of any one of Claims 1-8 .
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