JP2009107979A - Method for producing carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, epoxy resin composition, and cured product of epoxy resin - Google Patents

Method for producing carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, epoxy resin composition, and cured product of epoxy resin Download PDF

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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • C08L63/06Triglycidylisocyanurates

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, and to provide an epoxy resin composition useful as a sealing material for LED (liquid crystal display) emitting short-wavelength light. <P>SOLUTION: There is provided the method for producing the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having ≥80% light transmittance when the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is dissolved in methyl ethyl ketone so that the concentration of the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is 80 mass% and measurement is made with a spectrophotometer at 400 nm wavelength using a quartz cell having 1 cm optical path length. The method for producing the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is characterized by reacting a monocarboxylic acid in an amount of 0.1-0.6 mol based on 1 mol of the triglycidyl isocyanurate in an organic solvent in the presence of a quaternary phosphonium salt. The epoxy resin composition comprises an epoxy resin component comprising >90 mass% of the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate and a curing agent. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法及び該製造方法で得られるカルボン酸変性イソシアヌレートとエポキシ樹脂用硬化剤が配合されたエポキシ樹脂組成物、並びに該組成物の硬化物に関するものである。本発明のエポキシ樹脂組成物は、特にその硬化物が耐熱性、耐光性に優れるため、LEDのような光半導体関連の発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物として有用である。   The present invention relates to a method for producing carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, an epoxy resin composition containing a carboxylic acid-modified isocyanurate obtained by the production method and a curing agent for epoxy resin, and a cured product of the composition. It is. The epoxy resin composition of the present invention is particularly useful as an epoxy resin composition for a light-emitting device sealing material related to an optical semiconductor such as an LED because the cured product is excellent in heat resistance and light resistance.

エポキシ樹脂は、耐熱性、接着性、耐水性、機械的強度及び電気特性等に優れていることから、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々の分野で使用されている。常温又は加熱硬化型のエポキシ樹脂としては、ビスフェノ−ルAのジグリシジルエ−テル、ビスフェノ−ルFのジグリシジルエ−テル、フェノ−ル又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の芳香族エポキシ樹脂が一般的である。   Epoxy resins are excellent in heat resistance, adhesion, water resistance, mechanical strength, electrical properties, etc., so they are used in various fields such as adhesives, paints, materials for civil engineering and construction, insulating materials for electrical and electronic parts, etc. in use. As the normal temperature or heat curable epoxy resin, aromatic epoxy resins such as diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol F, phenol or cresol novolac type epoxy resin are generally used.

近年、種々の表示板、画像読み取り用光源、交通信号、大型ディスプレイ用ユニット等に実用化されている光半導体(LED)等の発光装置は、大部分が樹脂封止によって製造されている。ここに使用されている封止用の樹脂は、上記の芳香族エポキシ樹脂と、硬化剤として脂環式酸無水物を含有するものが一般的である。   In recent years, most of light emitting devices such as optical semiconductors (LEDs) that have been put to practical use in various display panels, image reading light sources, traffic signals, large display units, and the like are manufactured by resin sealing. The sealing resin used here generally contains the above aromatic epoxy resin and an alicyclic acid anhydride as a curing agent.

また、今日のLEDの飛躍的な進歩により、LED素子の高出力化及び短波長化が急速に現実のものとなり始めていて、特に窒化物半導体を用いたLEDは、短波長でかつ高出力な発光が可能となる。しかしながら、窒化物半導体を用いたLED素子を、上述の芳香族エポキシ樹脂で封止すると、芳香環が短波長の光を吸収するため経時的に封止した樹脂の劣化が起こり、黄変により発光輝度が顕著に低下するという問題が発生する。   Also, due to the dramatic progress of today's LEDs, high output and short wavelength of LED elements are rapidly becoming a reality, especially LEDs using nitride semiconductors have a short wavelength and high output light emission. Is possible. However, when an LED element using a nitride semiconductor is sealed with the above-described aromatic epoxy resin, the aromatic ring absorbs light of a short wavelength, so that the resin sealed over time deteriorates, and light emission occurs due to yellowing. There arises a problem that the luminance is significantly reduced.

そこで、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートで代表される、環状オレフィンを酸化して得られる脂環式エポキシ樹脂を用いて封止したLEDが提案されている(特許文献1、特許文献2)。
しかし、上述の脂環式エポキシ樹脂で封止した硬化樹脂は非常に脆く、冷熱サイクルによって亀裂破壊を生じ易く、耐湿性も極端に悪いため、長時間の信頼特性が要求されるような用途には不向きであった。
Therefore, an LED sealed with an alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing a cyclic olefin, represented by 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, has been proposed. (Patent Document 1, Patent Document 2).
However, the cured resin encapsulated with the alicyclic epoxy resin described above is very fragile, is liable to be cracked by the thermal cycle, and has extremely poor moisture resistance. Was unsuitable.

そこで、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂を主体とし、脂環式エポキシ樹脂及びリン系酸化防止剤を配合し、無水メチルヘキサヒドロフタル酸硬化剤を用いて封止したLEDが提案されている(特許文献3)。このエポキシ硬化物は無色透明性に優れるが、耐熱性が低下するため黄変しやすいという欠点があり、熱に対する特性を要求されるLED素子を封止する用途には問題がある。   In view of this, there has been proposed an LED mainly composed of hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, blended with an alicyclic epoxy resin and a phosphorus antioxidant, and sealed with a methylhexahydrophthalic anhydride curing agent (patent) Reference 3). Although this epoxy cured product is excellent in colorless and transparent properties, it has a drawback that it tends to yellow due to a decrease in heat resistance, and there is a problem in applications for sealing LED elements that require heat resistance.

更に、トリアジン誘導体エポキシ樹脂と酸無水物硬化剤を用いる方法も提案されている(特許文献4)。この硬化物の耐熱性は改善されるが、トリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートに代表されるトリアジン誘導体エポキシ樹脂は結晶性のエポキシ樹脂であるため、酸無水物硬化剤と混合する時に100℃以上の加熱を要する。この混合作業はエポキシ樹脂と硬化剤の反応温度で行うため、エポキシ樹脂組成物がゲル化を起こし易く、かつこの組成物を冷却するとトリアジン誘導体エポキシ樹脂が結晶化する問題がある。このように作業性が悪いという問題を有するため、トリアジン誘導体エポキシ樹脂と酸無水物硬化剤の組成物を液状のLED封止材用途へ使用するのは非常に困難であった。   Furthermore, a method using a triazine derivative epoxy resin and an acid anhydride curing agent has also been proposed (Patent Document 4). Although the heat resistance of the cured product is improved, a triazine derivative epoxy resin typified by tris- (2,3-epoxypropyl) -isocyanurate is a crystalline epoxy resin and therefore mixed with an acid anhydride curing agent. When heating, heating at 100 ° C. or higher is required. Since this mixing operation is performed at the reaction temperature of the epoxy resin and the curing agent, the epoxy resin composition is likely to be gelled, and the triazine derivative epoxy resin is crystallized when the composition is cooled. Thus, since it has the problem that workability | operativity is bad, it was very difficult to use the composition of a triazine derivative epoxy resin and an acid anhydride hardening | curing agent for a liquid LED sealing material use.

特開平9−213997号公報JP-A-9-213997 特開2000−196151号公報JP 2000-196151 A 特開2003−12896号公報JP 2003-12896 A 特開2003−224305号公報JP 2003-224305 A

本発明はカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを用い、上記作業性の悪さを改善し、耐熱性及び耐光性に優れた硬化物を与えることができ、特に短波長の光を発するLEDの封止材として有用であるエポキシ樹脂組成物及びエポキシ樹脂硬化物を提供しようとするものである。   The present invention uses a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, can improve the above-mentioned poor workability, can give a cured product excellent in heat resistance and light resistance, and in particular, an LED encapsulant that emits light of a short wavelength It is intended to provide an epoxy resin composition and a cured epoxy resin that are useful as:

上記課題を解決するための本発明は、以下の各発明を包含する。 The present invention for solving the above problems includes the following inventions.

(1)カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの濃度が80質量%となるようにメチルエチルケトンに溶解し、光路長が1cmの石英セルを使用し、400nm波長の分光光度計で測定した時の光線透過率が80%以上であるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法であって、トリグリシジルイソシアヌレート1モルに対しモノカルボン酸 0.1〜0.6モルを、有機溶媒中、第4級ホスホニウム塩の存在下で反応させることを特徴とするカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。 (1) Light transmittance when measured with a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm using a quartz cell having a 1 cm optical path length dissolved in methyl ethyl ketone so that the concentration of carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is 80% by mass. Is a method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having a quaternary phosphonium salt of 0.1 to 0.6 mol of a monocarboxylic acid per mol of triglycidyl isocyanurate in an organic solvent. A process for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, characterized by reacting in the presence of

(2)モノカルボン酸が炭素数11以下の脂肪族モノカルボン酸又は脂環式モノカルボン酸であることを特徴とする、(1)項に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。 (2) The method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to item (1), wherein the monocarboxylic acid is an aliphatic monocarboxylic acid or alicyclic monocarboxylic acid having 11 or less carbon atoms.

(3)モノカルボン酸が酢酸、プロピオン酸、酪酸及び乳酸から選ばれる少なくとも1種であり、トリグリシジルイソシアヌレート1モルに対しモノカルボン酸0.2〜0.5モルの割合で反応させることを特徴とする、(1)項又は(2)項に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。 (3) The monocarboxylic acid is at least one selected from acetic acid, propionic acid, butyric acid, and lactic acid, and the reaction is performed at a ratio of 0.2 to 0.5 mol of monocarboxylic acid with respect to 1 mol of triglycidyl isocyanurate. A method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to (1) or (2), which is characterized in that

(4)前記第4級ホスホニウム塩は、塩素、臭素及び沃素からなるハロゲン原子を含まない第4級ホスホニウム塩であることを特徴とする、(1)項〜(3)項のいずれか1項に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。 (4) The quaternary phosphonium salt is a quaternary phosphonium salt that does not contain a halogen atom composed of chlorine, bromine, and iodine, and is any one of the items (1) to (3) A process for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate as described in 1.

(5)有機溶媒が、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類及びエーテル類から選ばれる常圧における沸点が70〜170℃の有機溶媒であることを特徴とする、(1)項〜(4)項のいずれか1項に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。 (5) The organic solvent is an organic solvent having a boiling point of 70 to 170 ° C. at normal pressure selected from aromatic hydrocarbons, ketones, esters and ethers, (1) to ( The method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to any one of items 4).

(6)(A)成分;(1)項〜(5)項のいずれか1項に記載の製造方法により製造されたカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを90質量%を超えて含有するエポキシ樹脂、
(B)成分;エポキシ樹脂用硬化剤、
を必須成分として含有して成るエポキシ樹脂組成物。
(6) (A) component; an epoxy resin containing more than 90% by mass of carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate produced by the production method according to any one of items (1) to (5),
(B) component; curing agent for epoxy resin,
An epoxy resin composition comprising as an essential component.

(7)前記(B)成分のエポキシ樹脂用硬化剤が酸無水物であることを特徴とする、(6)項記載のエポキシ樹脂組成物。 (7) The epoxy resin composition according to item (6), wherein the epoxy resin curing agent of component (B) is an acid anhydride.

(8)前記(6)項又は(7)項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物。 (8) An epoxy resin composition for a light emitting device sealing material, comprising the epoxy resin composition according to (6) or (7).

(9)前記発光素子が、350〜550nmに主発光ピークを有する発光ダイオード(LED)であることを特徴とする、(8)項記載の発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物。 (9) The epoxy resin composition for a light-emitting element sealing material according to (8), wherein the light-emitting element is a light-emitting diode (LED) having a main light emission peak at 350 to 550 nm.

(10)前記(6)項〜(9)項のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物であって、2mm厚硬化物の150℃、 100時間加熱後のYI値(Yellowness Index)が10以下であるエポキシ樹脂硬化物。 (10) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of items (6) to (9), wherein a 2 mm thick cured product is heated at 150 ° C. for 100 hours. A cured epoxy resin having a YI value (Yellowness Index) of 10 or less.

本発明の製造によって得られるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートは無色に近い色相を有しており、それを用いたエポキシ樹脂組成物の硬化物は耐熱性及び耐光性に優れるため、短波長の光を放出するIII族窒化物系化合物半導体を封止するLED封止材用エポキシ樹脂組成物として特に有利に使用できる。   The carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate obtained by the production of the present invention has a hue close to colorless, and the cured product of the epoxy resin composition using the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is excellent in heat resistance and light resistance. It can be particularly advantageously used as an epoxy resin composition for an LED sealing material that seals a group III nitride compound semiconductor that emits.

(カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート)
本発明のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法は、トリグリシジルイソシアヌレート1モル及びモノカルボン酸0.1〜0.6モルを有機溶媒中、第4級ホスホニウム塩の存在下で反応させて、カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを得る方法である。
(Carboxylic acid modified triglycidyl isocyanurate)
The method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to the present invention comprises reacting 1 mol of triglycidyl isocyanurate and 0.1 to 0.6 mol of a monocarboxylic acid in an organic solvent in the presence of a quaternary phosphonium salt. This is a method for obtaining carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate.

トリグリシジルイソシアヌレート1モルに対し、モノカルボン酸が0.1モル未満であると、得られるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート中のトリグリシジルイソシアヌレートが結晶として析出しやすくなるため好ましくない。また、0.6モルを越えるとカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの色相が悪くなり、硬化物の耐熱性も低下するため好ましくない。   When the amount of monocarboxylic acid is less than 0.1 mol with respect to 1 mol of triglycidyl isocyanurate, triglycidyl isocyanurate in the resulting carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate tends to precipitate as crystals, which is not preferable. On the other hand, when the amount exceeds 0.6 mol, the hue of the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is deteriorated, and the heat resistance of the cured product is also deteriorated.

得られたカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートは、濃度が80質量%となるようにメチルエチルケトン溶媒に溶解し、光路長が1cmの石英セルを使用し、400nm波長の分光光度計で測定した時の光線透過率が80%以上のエポキシ樹脂である。   The obtained carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate was dissolved in a methyl ethyl ketone solvent so that the concentration was 80% by mass, and a light beam when measured with a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm using a quartz cell having an optical path length of 1 cm. It is an epoxy resin having a transmittance of 80% or more.

トリグリシジルイソシアヌレートは、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレートのことであり、含有する全塩素量が0.3質量%以下の精製されたエポキシ樹脂であることが好ましい。全塩素量が0.3質量%を越えると耐湿信頼性が著しく悪くなるため好ましくない。   Triglycidyl isocyanurate is tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate and is preferably a purified epoxy resin having a total chlorine content of 0.3% by mass or less. If the total chlorine content exceeds 0.3% by mass, the moisture resistance reliability is remarkably deteriorated.

本発明の反応に使用できるモノカルボン酸は、プロピオン酸、乳酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソ酪酸、ピバリン酸、2−メチル乳酸、2−エチルヘキサン酸、エトキシ酢酸等の脂肪族モノカルボン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、4−メチルシクロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン酸である。   Monocarboxylic acids that can be used in the reaction of the present invention are propionic acid, lactic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, palmitic acid, stearic acid, isobutyric acid, pivalic acid, 2-methyllactic acid. Aliphatic monocarboxylic acids such as 2-ethylhexanoic acid and ethoxyacetic acid, cycloaliphatic monocarboxylic acids such as cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid and 4-methylcyclohexanecarboxylic acid.

これらのモノカルボン酸の中で、炭素数が11以下のモノカルボン酸が、トリグリシジルイソシアヌレートの特性を低下させないという点で好ましく、更に、酢酸、プロピオン酸、酪酸及び乳酸から選ばれるモノカルボン酸0.2〜0.5モルとトリグリシジルイソシアヌレート1モルを反応させて得られる、カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートは無色に近い色相になり、かつ硬化剤で硬化させた時に耐熱性の低下が少なくなる面でより好ましい。   Among these monocarboxylic acids, monocarboxylic acids having 11 or less carbon atoms are preferable in that they do not deteriorate the characteristics of triglycidyl isocyanurate, and monocarboxylic acids selected from acetic acid, propionic acid, butyric acid, and lactic acid. Carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate obtained by reacting 0.2 to 0.5 mol with 1 mol of triglycidyl isocyanurate has a nearly colorless hue, and when it is cured with a curing agent, the heat resistance is reduced. More preferable in terms of reduction.

トリグリシジルイソシアヌレートとカルボン酸の反応を第4級ホスホニウム塩の存在下で行うことにより無色に近い色相のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートが得られる。第4級ホスホニウム塩を触媒を使用するとカルボン酸とエポキシ基の反応が無触媒と比べ早く進行し、光路長が1cmの石英セルを使用し、400nm波長の分光光度計で測定した時の光線透過率が80%以上であるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを効率良く製造できるためより好ましい。   Carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having a nearly colorless hue can be obtained by performing the reaction of triglycidyl isocyanurate and carboxylic acid in the presence of a quaternary phosphonium salt. When a quaternary phosphonium salt is used as a catalyst, the reaction between the carboxylic acid and the epoxy group proceeds faster than the non-catalyst, and the light transmission when measured with a spectrophotometer with a wavelength of 400 nm using a quartz cell with an optical path length of 1 cm. A carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having a rate of 80% or more is more preferable because it can be produced efficiently.

使用できる第4級ホスホニウム塩は、例えば、テトラブチルホスホニウム・ベンゾトリアゾラート、テトラ-n-ブチルホスホニウム・ヘキサフルオロホスフェート、テトラ-n-ブチルホスホニウム o,o−ジエチルホスホロジチオエート、メチルトリブチルホスホニウム・ジメチルホスフェート、テトラ-n-ブチルホスホニウム・テトラフルオロボレート、テトラ-n-ブチルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート等の一分子中に塩素、臭素及びヨウ素から選ばれるハロゲン原子を含まない化合物が好ましい。   The quaternary phosphonium salts that can be used are, for example, tetrabutylphosphonium benzotriazolate, tetra-n-butylphosphonium hexafluorophosphate, tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithioate, methyltributylphosphonium. -Halogen atoms selected from chlorine, bromine and iodine in one molecule such as dimethyl phosphate, tetra-n-butylphosphonium, tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium, tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium, tetraphenylborate Non-comprising compounds are preferred.

本発明の反応で使用できる有機溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラハイドロフラン、ジオキサン等のエーテル類であり、常圧の沸点が70〜170℃の有機溶媒が好ましく、トリグリシジルイソシアヌレート100質量部に対し、20〜200質量部の範囲内で用いられる。   Organic solvents that can be used in the reaction of the present invention include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate. Such as esters, tetrahydrofuran, dioxane, and the like, preferably an organic solvent having a boiling point of 70 to 170 ° C. under a normal pressure, and within a range of 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of triglycidyl isocyanurate. Used in

常圧における沸点が70℃未満の有機溶媒は、常圧で還流しながら反応させる時、反応温度が低いため、反応の進行が遅く好ましくない。また、沸点が170℃を越えると有機溶媒を留去する際に高温で長時間を要し、かつ有機溶媒がカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート中に残存しやすくなるため好ましくない。   An organic solvent having a boiling point of less than 70 ° C. at normal pressure is not preferable because the reaction temperature is low when the reaction is performed while refluxing at normal pressure, so that the reaction proceeds slowly. On the other hand, if the boiling point exceeds 170 ° C., it takes a long time at a high temperature to distill off the organic solvent, and the organic solvent tends to remain in the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate.

トリグリシジルイソシアヌレートとモノカルボン酸を前記の仕込み条件で、温度が70〜170℃の範囲、時間が0.5〜10時間で反応させた後、有機溶媒を100〜180℃の温度で、常圧及び減圧下で留去させることによりカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを得ることができる。   After reacting triglycidyl isocyanurate and monocarboxylic acid under the above-mentioned charging conditions in a temperature range of 70 to 170 ° C. for a time of 0.5 to 10 hours, the organic solvent is usually used at a temperature of 100 to 180 ° C. Carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate can be obtained by distilling off under reduced pressure and reduced pressure.

光線透過率の測定方法は、上記カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの濃度が80質量%(79.5〜80.5質量%の濃度範囲なら構わない)となるようにメチルエチルケトン溶媒へ溶解した後、光路長が1cmの石英セルへ上記のエポキシ樹脂溶液を入れ、分光光度計装置を用いて400nmの波長で光線透過率を測定する。   The light transmittance is measured by dissolving in a methyl ethyl ketone solvent so that the concentration of the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is 80% by mass (any concentration range of 79.5-80.5% by mass). The above epoxy resin solution is put into a quartz cell having an optical path length of 1 cm, and light transmittance is measured at a wavelength of 400 nm using a spectrophotometer device.

400nm波長の分光光度計で測定した時の光線透過率が80%未満のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートは、硬化剤で硬化させると、得られるエポキシ樹脂硬化物が褐色に着色して色相が極端に悪くなり、無色透明性を要求される用途へは適用できないため、カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートとしては光線透過率が80%以上のものを使用する必要がある。   Carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having a light transmittance of less than 80% when measured with a spectrophotometer with a wavelength of 400 nm, when cured with a curing agent, the resulting epoxy resin cured product is colored brown and the hue is extreme Therefore, it is necessary to use a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having a light transmittance of 80% or more.

(エポキシ樹脂組成物)
本発明のエポキシ樹脂組成物は、前記本発明の製造方法により製造されたカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを90質量%を越えて含有し、他のエポキシ樹脂を10質量%未満で含有するエポキシ樹脂100質量部と、エポキシ樹脂用硬化剤が0.1〜200質量部を配合することができる。
(Epoxy resin composition)
The epoxy resin composition of the present invention contains more than 90% by mass of the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate produced by the production method of the present invention and contains other epoxy resin at less than 10% by mass. 100 mass parts and the hardening | curing agent for epoxy resins can mix | blend 0.1-200 mass parts.

カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートへ他のエポキシ樹脂を10質量%以上の割合で配合すると得られる硬化物の耐熱性が低下する傾向がある。   When another epoxy resin is blended with carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate at a ratio of 10% by mass or more, the heat resistance of the resulting cured product tends to decrease.

(他のエポキシ樹脂)
本発明で使用できるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート以外の他のエポキシ樹脂としては、例えば次のものが挙げられる。
ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、テルペンジフェノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ジブチルハイドロキノン、レゾルシン、メチルレゾルシン、ビスフェノールS、チオジフェノール、ジヒドロキシジフェニルエーテル及びジヒドロキシナフタレンから得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールAのノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、テルペンフェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ビフェニルアラルキル樹脂及びナフトールノボラック樹脂などの種々の多価フェノール類から得られる多価エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、アミノフェノール及びキシレンジアミンなどの種々のアミン化合物から得られるアミン型エポキシ樹脂、メチルヘキサヒドロキシフタル酸、ダイマー酸などの種々のカルボン酸類から得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂などがあげられる。この他に多価脂肪族アルコールのエポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂等の芳香族エポキシ樹脂を直接水添したエポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の二重結合を酸化させて得られる脂環式エポキシ樹脂等である。これらのエポキシ樹脂の中で、水添エポキシ樹脂及び脂環式エポキシ樹脂を併用すると、耐光性が向上するためより好ましい。
(Other epoxy resins)
Examples of the epoxy resin other than the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate that can be used in the present invention include the following.
Bisphenol type epoxy obtained from bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, biphenol, tetramethylbiphenol, terpene diphenol, hydroquinone, methylhydroquinone, dibutylhydroquinone, resorcin, methylresorcin, bisphenol S, thiodiphenol, dihydroxydiphenyl ether and dihydroxynaphthalene Polyvalents derived from various polyhydric phenols such as resins, phenol novolac resins, cresol novolac resins, bisphenol A novolak resins, dicyclopentadiene phenol resins, terpene phenol resins, phenol aralkyl resins, biphenyl aralkyl resins and naphthol novolac resins. Epoxy resin, diaminodiphenylmethane, aminopheno And amine-type epoxy resins obtained from a variety of amine compounds such as xylene diamine, methylhexahydrophthalic hydroxy phthalic acid, various glycidyl ester type epoxy resin obtained from carboxylic acids such as dimer acid. In addition, epoxy resin of polyhydric aliphatic alcohol, epoxy resin directly hydrogenated aromatic epoxy resin such as hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxy An alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing a double bond such as a rate. Among these epoxy resins, it is more preferable to use a hydrogenated epoxy resin and an alicyclic epoxy resin because light resistance is improved.

(エポキシ樹脂用硬化剤)
本発明で使用できるエポキシ樹脂用硬化剤としては、例えば、次のものが挙げられる。
(1)アミン類;ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、m−キシリレンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラスピロ[5,5]ウンデカン等の脂肪族及び脂環族アミン類、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族アミン類、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ−ル、1,8−ジアザビシクロ−(5,4,0)−ウンデセン−7、1,5−アザビシクロ−(4,3,0)−ノネン−7等の3級アミン類及びその塩類。
(Curing agent for epoxy resin)
Examples of the epoxy resin curing agent that can be used in the present invention include the following.
(1) Amines; bis (4-aminocyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, m-xylylenediamine, 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraspiro [ 5,5] Aliphatic and alicyclic amines such as undecane, aromatic amines such as metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) pheno And tertiary amines such as 1,8-diazabicyclo- (5,4,0) -undecene-7, 1,5-azabicyclo- (4,3,0) -nonene-7 and salts thereof.

(2)酸無水物類;無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香族酸無水物類、無水テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリアルキルテトラヒドロフタル酸等の環状脂肪族酸無水物類。 (2) Acid anhydrides; aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexa anhydride Cyclic aliphatic acid anhydrides such as hydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, and trialkyltetrahydrophthalic anhydride.

(3)多価フェノ−ル類;カテコ−ル、レゾルシン、ハイドロキノン、ビスフェノ−ルF、ビスフェノ−ルA、ビスフェノ−ルS、ビフェノ−ル、フェノ−ルノボラック類、クレゾ−ルノボラック類、ビスフェノ−ルA等の2価フェノ−ルのノボラック化物類、トリスヒドロキシフェニルメタン類、アラルキルポリフェノ−ル類、ジシクロペンタジエンポリフェノ−ル類等。 (3) Multivalent phenols: catechol, resorcin, hydroquinone, bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, biphenol, phenol novolacs, cresol novolacs, bisphenol Divalent phenol novolacs such as A, trishydroxyphenylmethanes, aralkylpolyphenols, dicyclopentadiene polyphenols and the like.

(4)その他;アミンのBF錯体化合物、脂肪族スルホニウム塩、芳香族スルホニウム塩、ヨードニウム塩及びホスホニウム塩等のブレンステッド酸塩類、ジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジッド及びフタル酸ジヒドラジッド等の有機酸ヒドラジッド類、レゾール類、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、トリメリット酸及びカルボキシル基含有ポリエステル等のポリカルボン酸類等が挙げられる。 (4) Other: BF 3 complex compounds of amines, Bronsted acid salts such as aliphatic sulfonium salts, aromatic sulfonium salts, iodonium salts and phosphonium salts, organic acid hydrazides such as dicyandiamides, adipic acid dihydrazide and phthalic acid dihydrazide And resoles, adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, and polycarboxylic acids such as carboxyl group-containing polyester.

これらのエポキシ樹脂用硬化剤は、単独で使用しても良いが、2種以上を併用して使用することも可能である。   These epoxy resin curing agents may be used singly or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物を発光素子封止材用に用いる場合、エポキシ樹脂用硬化剤は、酸無水物が好ましく、酸無水物しては、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香族酸無水物類、無水テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドエチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドエチレンヘキサヒドロフタル酸、無水トリアルキルテトラヒドロフタル酸等の環状脂肪族酸無水物が挙げられる。これらの中で、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸等の水素化された環状脂肪族酸無水物を使用するのが、本発明エポキシ樹脂組成物の耐光性が向上する点で特に好ましい。   When the epoxy resin composition of the present invention is used for a light emitting device sealing material, the epoxy resin curing agent is preferably an acid anhydride, and examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, anhydrous Aromatic anhydrides such as pyromellitic acid, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylendoethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendoethylenehexahydro anhydride And cyclic aliphatic acid anhydrides such as phthalic acid and trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Of these, hydrogenated cycloaliphatic anhydrides such as hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride are used, particularly in terms of improving the light resistance of the epoxy resin composition of the present invention. preferable.

また、酸無水物の硬化を促進する目的で、硬化促進剤を配合することができる。硬化促進剤の例としては、3級アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン化合物類又はこれらの塩類、オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズ等の金属石鹸類が挙げられる。   Moreover, a hardening accelerator can be mix | blended in order to accelerate | stimulate hardening of an acid anhydride. Examples of the curing accelerator include tertiary soaps, imidazoles, organic phosphine compounds or salts thereof, and metal soaps such as zinc octylate and tin octylate.

酸無水物類の使用割合は、(A)成分のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを含有するエポキシ樹脂100質量部に対し、20〜200質量部の範囲内であり、硬化促進剤の使用割合は、(A)成分のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート100質量部に対し、0.01〜10質量部の範囲内である。   The usage rate of the acid anhydrides is in the range of 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin containing the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate of the component (A), and the usage rate of the curing accelerator is (A) It exists in the range of 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxylic acid modification | denaturation triglycidyl isocyanurate of a component.

(酸化防止剤)
本発明のエポキシ樹脂組成物を発光素子封止材用に用いる場合、酸化防止剤を配合し、加熱時の酸化劣化を防止して着色の少ない硬化物とすることが好ましい。使用できる酸化防止剤は、フェノール系、硫黄系、リン系の酸化防止剤を使用することができ、酸化防止剤はエポキシ樹脂組成物100質量部中に0.01〜10質量部配合される。使用できる酸化防止剤の具体例としては、以下のような酸化防止剤が挙げられる。
(Antioxidant)
When using the epoxy resin composition of this invention for light emitting element sealing materials, it is preferable to mix | blend antioxidant and to prevent the oxidative degradation at the time of a heating and to make hardened | cured material with little coloring. The antioxidant which can be used can use a phenol type, sulfur type, and phosphorus type antioxidant, and 0.01-10 mass parts of antioxidant is mix | blended in 100 mass parts of epoxy resin compositions. Specific examples of the antioxidant that can be used include the following antioxidants.

モノフェノール類;2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等。
ビスフェノール類;2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等。
Monophenols; 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl-β- (3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and the like.
Bisphenols; 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-thiobis (3-methyl-) 6-t-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-t-butyl-4) -Hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like.

高分子型フェノール類;1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、1,3,5−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、トコフェノール等。   Polymeric phenols; 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3' -Bis- (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 1,3,5-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, tocophenol and the like.

硫黄系酸化防止剤:
ジラウリル−3,3'−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルル−3,3’−チオジプロピオネート等。
Sulfur-based antioxidants:
Dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, and the like.

リン系酸化防止剤:
ホスファイト類;トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ(2,4−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、ビス[2−t−ブチル−6−メチル−4−{2−(オクタデシルオキシカルボニル)エチル}フェニル]ヒドロゲンホスファイト等。
Phosphorous antioxidants:
Phosphites; triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, Cyclic neopentanetetraylbis (octadecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbi (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbi (2,4-di-t-butyl) -4-methylphenyl) phosphite, bis [2-tert-butyl-6-methyl-4- {2- (octadecyloxycarbonyl) ethyl} phenyl] hydrogen phosphite, and the like.

オキサホスファフェナントレンオキサイド類;9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等。
上記の各種酸化防止剤はそれぞれ単独で使用できるが、フェノール系/硫黄系又はフェノール系/リン系の組み合わせで使用することが特に好ましい。
Oxaphosphaphenanthrene oxides; 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10- Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and the like.
Each of the above-mentioned various antioxidants can be used alone, but it is particularly preferable to use a combination of phenol / sulfur or phenol / phosphorus.

(紫外線吸収剤)
本発明のエポキシ樹脂組成物を発光素子封止材用に用いる場合、エポキシ樹脂組成物100質量部中に、紫外線吸収剤を0.01〜10質量部配合し、耐光性を更に向上させることができる。紫外線吸収剤としては、一般のプラスチック用紫外線吸収剤を使用でき、具体例としては次のものが挙げられる。
(UV absorber)
When using the epoxy resin composition of the present invention for a light-emitting device sealing material, 0.01 to 10 parts by mass of an ultraviolet absorber may be blended in 100 parts by mass of the epoxy resin composition to further improve the light resistance. it can. As the ultraviolet absorber, general ultraviolet absorbers for plastics can be used, and specific examples include the following.

フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸類;2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジtert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジtert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’、5’−ジtert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−{(2’−ヒドロキシ−3’、3’’、4’’、5’’、6’ ’−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5’−メチルフェニル}ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[{3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドリキシフェニル}メチル]ブチルマロネート等のヒンダートアミン類。   Salicylic acids such as phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate; 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy Benzophenones such as -4-dodecyloxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5 ′; -Di-tert-Buchi Phenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-ditert-) Butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-ditert-amylphenyl) benzotriazole, 2-{(2′-hydroxy-3 ′, 3 ″, 4 '' 5 '', 6 ''-tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl} benzotriazole and other benzotriazoles; bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [ Hindered amines such as {3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl} methyl] butyl malonate;

(発光素子)
本発明のエポキシ樹脂組成物は耐光性に優れることにより、封止する発光素子は、ピーク波長が350〜550nmの比較的短い波長の光を発光する素子が好適である。
このような発光素子としては有機金属気相成長法(MOCVD法)、分子線結晶成長法(MBE法)ハライド系気相成長法(HVPE法)により形成されたIII族窒化物系化合物半導体が挙げられ、一般式としてAlGaIn1-x-yN(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦x+y≦1)で表され、AlGaN及びInNのいわゆる2元系、AlGa1-xN、AlIn1-xN及びGaIn1-xN(以上において0≦x≦1)のいわゆる3元系を包含する。半導体の構造としては、MIS接合、PIN接合やpn接合などを有するホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルヘテロ構成のものが挙げられる。半導体層の材料やその混晶度によって発光波長を種々選択することができる。また、半導体活性層を量子効果が生ずる薄膜に形成させた単一量子井戸構造や多重量子井戸構造とすることもできる。
(Light emitting element)
Since the epoxy resin composition of the present invention is excellent in light resistance, the light-emitting element to be sealed is preferably an element that emits light having a relatively short wavelength with a peak wavelength of 350 to 550 nm.
Examples of such a light emitting device include a group III nitride compound semiconductor formed by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), molecular beam crystal growth (MBE), or halide vapor deposition (HVPE). Represented by the general formula Al x Ga y In 1-xy N (0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ x + y ≦ 1), a so-called binary system of Al x GaN and InN, It includes so-called ternary systems of Al x Ga 1-x N, Al x In 1-x N, and Ga x In 1-x N (where 0 ≦ x ≦ 1). Examples of the semiconductor structure include a homostructure having a MIS junction, a PIN junction, a pn junction, or the like, a heterostructure, or a double heterostructure. Various emission wavelengths can be selected depending on the material of the semiconductor layer and the degree of mixed crystal. In addition, a single quantum well structure or a multiple quantum well structure in which the semiconductor active layer is formed in a thin film in which a quantum effect is generated can be used.

(任意成分)
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて次の成分を添加配合することができる。
(1)粉末状の補強剤や充填剤、たとえば酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物、ガラスビーズ等の透明フィラー、水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物、その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデン等。
これらの配合は、本発明のエポキシ組成物の透明性を損なわない範囲で配合され、本発明のエポキシ樹脂組成物100質量部に対して、10〜100質量部が適当である。
(Optional component)
In the epoxy resin composition of the present invention, the following components can be added and blended as necessary.
(1) Powdery reinforcing agents and fillers such as metal oxides such as aluminum oxide and magnesium oxide, silicon compounds such as fine powder silica, fused silica and crystalline silica, transparent fillers such as glass beads, and aluminum hydroxide Metal hydroxide, others, kaolin, mica, quartz powder, graphite, molybdenum disulfide, etc.
These compounding is mix | blended in the range which does not impair the transparency of the epoxy composition of this invention, and 10-100 mass parts is suitable with respect to 100 mass parts of epoxy resin compositions of this invention.

(2)着色剤又は顔料、たとえば二酸化チタン、モリブデン赤、紺青、群青、カドミウム黄、カドミウム赤及び有機色素等。
(3)難燃剤、例えば、三酸化アンチモン、ブロム化合物及びリン化合物等。
(4)イオン吸着体。
(5)カップリング剤.
これらは本発明のエポキシ樹脂組成物100質量部に対して、0.01〜30質量部配合される。
(2) Colorants or pigments such as titanium dioxide, molybdenum red, bitumen, ultramarine blue, cadmium yellow, cadmium red and organic dyes.
(3) Flame retardants such as antimony trioxide, bromine compounds and phosphorus compounds.
(4) Ion adsorbent.
(5) Coupling agent.
These are blended in an amount of 0.01 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin composition of the present invention.

(6)さらに、エポキシ硬化物の性質を改善する目的で種々の硬化性モノマ−、オリゴマ−及び合成樹脂を配合することができる。たとえば、モノエポキシ等のエポキシ樹脂用希釈剤、ジオール又はトリオール類、ビニルエーテル類、オキセタン化合物、フッ素樹脂、アクリル樹脂、シリコ−ン樹脂等の1種又は2種以上の組み合わせを挙げることができる。これらの化合物及び樹脂類の配合割合は、本発明のエポキシ樹脂組成物100質量部に対して、50質量部以下が好ましい。 (6) Furthermore, various curable monomers, oligomers and synthetic resins can be blended for the purpose of improving the properties of the epoxy cured product. For example, a diluent for epoxy resins such as monoepoxy, diols or triols, vinyl ethers, oxetane compounds, fluororesins, acrylic resins, silicone resins and the like can be used. The compounding ratio of these compounds and resins is preferably 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin composition of the present invention.

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。なお、例中の部は質量部を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, the part in an example means a mass part.

実施例1(製造例1)
1Lのフラスコ中に、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート297g(1モル)、酢酸18g(0.3モル)、第4級ホスホニウム塩としてヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業社商品名;メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート)0.15g及びトルエン200gを仕込み、トルエンの還流温度(114℃)で攪拌しながら5時間反応を行った。反応終了後、トルエンを減圧下、110〜140℃の温度で留去し、微黄色で高粘性液体のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート310gを得た(エポキシ当量;120)。このカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート20gをメチルエチルケトン5g中に溶解させた溶液を1cmの石英セルに入れ、400nm波長の分光光度計より求めた光線透過率は93%であった。
Example 1 (Production Example 1)
In a 1 L flask, 297 g (1 mol) of tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 18 g (0.3 mol) of acetic acid, and Hishicolin PX-4MP (trade name of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) as a quaternary phosphonium salt; 0.15 g of methyltributylphosphonium dimethyl phosphate) and 200 g of toluene were charged, and the reaction was carried out for 5 hours while stirring at the reflux temperature (114 ° C.) of toluene. After completion of the reaction, toluene was distilled off under reduced pressure at a temperature of 110 to 140 ° C. to obtain 310 g of carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate as a slightly yellow and highly viscous liquid (epoxy equivalent; 120). A solution in which 20 g of this carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate was dissolved in 5 g of methyl ethyl ketone was placed in a 1 cm quartz cell, and the light transmittance determined from a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm was 93%.

実施例2(製造例2)
モノカルボン酸を酢酸から酢酸9g(0.15モル)と乳酸13.5g(0.15モル)に変える以外は実施例1と同様の操作を行って、微黄色で高粘性液体のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート315gを得た(エポキシ当量;122)。このカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート20gをメチルエチルケトン5g中に溶解させた溶液の400nmに於ける光線透過率は93%であった。
樹脂20gをメチルエチルケトン5gに溶解した後、この溶液を1cmの石英セルに入れ、400nm波長の分光光度計より求めた光線透過率は92%であった。
Example 2 (Production Example 2)
Carboxylic acid modification of a slightly yellow and highly viscous liquid was carried out in the same manner as in Example 1 except that the monocarboxylic acid was changed from acetic acid to 9 g (0.15 mol) of acetic acid and 13.5 g (0.15 mol) of lactic acid. 315 g of triglycidyl isocyanurate was obtained (epoxy equivalent; 122). The light transmittance at 400 nm of a solution prepared by dissolving 20 g of this carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate in 5 g of methyl ethyl ketone was 93%.
After 20 g of the resin was dissolved in 5 g of methyl ethyl ketone, this solution was put into a 1 cm quartz cell, and the light transmittance determined from a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm was 92%.

比較例1(比較製造例1)
モノカルボン酸を酢酸42g(0.7モル)に変える以外は実施例1と同様の操作を行って、黄褐色で高粘性液体のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート334gを得た(エポキシ当量;150)。このカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート20gをメチルエチルケトン5gに溶解した後、この溶液を1cmの石英セルに入れ、400nm波長の分光光度計より求めた光線透過率は77%であった。
Comparative Example 1 (Comparative Production Example 1)
The same operation as in Example 1 was carried out except that the monocarboxylic acid was changed to 42 g (0.7 mol) of acetic acid to obtain 334 g of a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate having a tan and high viscosity liquid (epoxy equivalent: 150). ). After 20 g of this carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate was dissolved in 5 g of methyl ethyl ketone, this solution was put into a 1 cm quartz cell, and the light transmittance determined from a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm was 77%.

比較例2(比較製造例2)
反応触媒をヒシコーリンPX−4MPから塩化テトラメチルアンモニウム0.15gに変える以外は実施例1と同様の操作を行って、褐色で高粘性液体のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート311gを得た(エポキシ当量;121)。このカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート20gをメチルエチルケトン5gに溶解した後、この溶液を1cmの石英セルに入れ、400nm波長の分光光度計より求めた光線透過率は72%であった。
Comparative Example 2 (Comparative Production Example 2)
The same procedure as in Example 1 was carried out except that the reaction catalyst was changed from Hishicolin PX-4MP to 0.15 g of tetramethylammonium chloride to obtain 311 g of a brown and highly viscous liquid carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate (epoxy equivalent). 121). After 20 g of this carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate was dissolved in 5 g of methyl ethyl ketone, this solution was put into a 1 cm quartz cell, and the light transmittance determined from a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm was 72%.

実施例3
実施例1(製造例1)で得られたカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート100部、硬化剤としてリカシッドMH−700(新日本理化社商品名;無水メチルヘキサヒドロフタル酸)140部を温度80℃で均一になるまで混合した後、硬化促進剤としてヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業社商品名;メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート)0.5部を添加し、攪拌、溶解してエポキシ樹脂組成物を得た。
この組成物を減圧下で脱泡した後、型の中に流し込み、オーブン中にて100℃で3時間、次いで、150℃で3時間硬化し硬化物を得た。このエポキシ硬化物の物性値を表1に示す。
Example 3
100 parts of carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate obtained in Example 1 (Production Example 1) and 140 parts of Ricacid MH-700 (trade name of Shin Nippon Rika Co., Ltd .; methylhexahydrophthalic anhydride) as a curing agent were heated at 80 ° C. After mixing until uniform, 0.5 part of Hishicolin PX-4MP (Nippon Chemical Industry Co., Ltd .; trade name: methyltributylphosphonium dimethyl phosphate) is added as a curing accelerator, stirred and dissolved to obtain an epoxy resin composition. It was.
After defoaming this composition under reduced pressure, it was poured into a mold and cured in an oven at 100 ° C. for 3 hours and then at 150 ° C. for 3 hours to obtain a cured product. The physical property values of this epoxy cured product are shown in Table 1.

実施例4〜5及び比較例1〜2
エポキシ樹脂を表1に示すように変える以外は、実施例3と同様の操作を行い、エポキシ樹脂組成物を得た後、所定時間硬化して硬化物を得た。なお、実施例4は、酸化防止剤を添加した以外は実施例3と同様にしてエポキシ樹脂組成物を調製した。結果を表1に示す。
Examples 4-5 and Comparative Examples 1-2
Except changing the epoxy resin as shown in Table 1, the same operation as in Example 3 was performed to obtain an epoxy resin composition, and then cured for a predetermined time to obtain a cured product. In addition, Example 4 prepared the epoxy resin composition like Example 3 except having added antioxidant. The results are shown in Table 1.

表1から明らかなように、本発明の製造方法で製造されるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレート100質量%をエポキシ樹脂成分として用いて調製されているエポキシ樹脂組成物の硬化物(実施例3〜5)は、LED封止材用途に求められる硬化物の色相、耐紫外線性、耐熱劣化性、吸湿性の各特性をバランスが良く備えている。
これに対して、カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造工程で、トリグリシジルシアヌレート1モルに対して0.6モルを越える0.7モルのモノカルボン酸を使用して製造されている比較例3のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートをエポキシ樹脂として調製されているエポキシ樹脂組成物の硬化物や、本発明の製造方法で製造されているカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートをエポキシ樹脂成分として90質量%を越える量で含有していない比較例4(80質量%含有)のエポキシ樹脂組成物の硬化物は、いずれも硬化物の色相、耐紫外線性、耐熱劣化性、吸湿性の各特性がバランスよく備わっていない。
As is apparent from Table 1, a cured product of an epoxy resin composition prepared using 100% by mass of a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate produced by the production method of the present invention as an epoxy resin component (Examples 3 to 3). 5) has a well-balanced balance between the hue, UV resistance, heat deterioration resistance, and hygroscopic properties of cured products required for LED encapsulant applications.
On the other hand, in the production process of carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, a comparative example is produced using 0.7 mol of monocarboxylic acid exceeding 0.6 mol with respect to 1 mol of triglycidyl cyanurate. Cured product of epoxy resin composition prepared using 3 carboxylic acid modified triglycidyl isocyanurate as epoxy resin, and 90 mass using carboxylic acid modified triglycidyl isocyanurate produced by the production method of the present invention as epoxy resin component The cured product of the epoxy resin composition of Comparative Example 4 (containing 80% by mass) not contained in an amount exceeding 50% balances the properties of the cured product, such as hue, ultraviolet resistance, heat deterioration resistance, and hygroscopicity. Not well equipped.

本発明の製造方法で製造されるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートは、発光素子封止材用のエポキシ樹脂組成物に使用されるエポキシ樹脂成分として優れており、該カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートをエポキシ樹脂成分とする硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に短波長領域の光を放出するIII族窒化物系化合物半導体封止用の硬化性エポキシ樹脂組成物として有用である。
The carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate produced by the production method of the present invention is excellent as an epoxy resin component used in an epoxy resin composition for a light emitting device sealing material, and the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is The curable epoxy resin composition used as an epoxy resin component is particularly useful as a curable epoxy resin composition for encapsulating a group III nitride compound semiconductor that emits light in a short wavelength region.

Claims (10)

カルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの濃度が80質量%となるようにメチルエチルケトンに溶解し、光路長が1cmの石英セルを使用し、400nm波長の分光光度計で測定した時の光線透過率が80%以上であるカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法であって、トリグリシジルイソシアヌレート1モルに対しモノカルボン酸 0.1〜0.6モルを、有機溶媒中、第4級ホスホニウム塩の存在下で反応させることを特徴とするカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。   Dissolved in methyl ethyl ketone so that the concentration of carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate is 80% by mass, using a quartz cell with an optical path length of 1 cm, and having a light transmittance of 80% when measured with a spectrophotometer having a wavelength of 400 nm A method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate as described above, wherein 0.1 to 0.6 mol of a monocarboxylic acid is added to 1 mol of triglycidyl isocyanurate in an organic solvent in the presence of a quaternary phosphonium salt. A process for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate, characterized in that モノカルボン酸が炭素数11以下の脂肪族モノカルボン酸又は脂環式モノカルボン酸であることを特徴とする、請求項1に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。   The method for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to claim 1, wherein the monocarboxylic acid is an aliphatic monocarboxylic acid or alicyclic monocarboxylic acid having 11 or less carbon atoms. モノカルボン酸が酢酸、プロピオン酸、酪酸及び乳酸から選ばれる少なくとも1種であり、トリグリシジルイソシアヌレート1モルに対しモノカルボン酸0.2〜0.5モルの割合で反応させることを特徴とする、請求項1又は2に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。   The monocarboxylic acid is at least one selected from acetic acid, propionic acid, butyric acid, and lactic acid, and is reacted at a ratio of 0.2 to 0.5 mol of monocarboxylic acid with respect to 1 mol of triglycidyl isocyanurate. A process for producing a carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to claim 1 or 2. 第4級ホスホニウム塩が塩素、臭素及びヨウ素からなるハロゲン原子を含まない第4級ホスホニウム塩であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。   The carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanate according to any one of claims 1 to 3, wherein the quaternary phosphonium salt is a quaternary phosphonium salt containing no halogen atom composed of chlorine, bromine and iodine. A method for producing nurate. 有機溶媒が、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類及びエーテル類から選ばれる常圧における沸点が70〜170℃である有機溶媒であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートの製造方法。   The organic solvent is an organic solvent having a boiling point of 70 to 170 ° C at normal pressure selected from aromatic hydrocarbons, ketones, esters and ethers. A method for producing the carboxylic acid-modified triglycidyl isocyanurate according to item 1. (A)成分;請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法により製造されたカルボン酸変性トリグリシジルイソシアヌレートを90質量%を超えて含有するエポキシ樹脂、
(B)成分;エポキシ樹脂用硬化剤、
を必須成分として含有して成るエポキシ樹脂組成物。
(A) component; the epoxy resin which contains the carboxylic acid modification | denaturation triglycidyl isocyanurate manufactured by the manufacturing method of any one of Claims 1-5 over 90 mass%,
(B) component; curing agent for epoxy resin,
An epoxy resin composition comprising as an essential component.
前記(B)成分のエポキシ樹脂用硬化剤が酸無水物であることを特徴とする、請求項6記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 6, wherein the epoxy resin curing agent of component (B) is an acid anhydride. 前記請求項6又は7に記載のエポキシ樹脂組成物からなる発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition for light emitting element sealing materials which consists of the epoxy resin composition of the said Claim 6 or 7. 前記発光素子が、350〜550nmに主発光ピークを有する発光ダイオード(LED)であることを特徴とする、請求項8記載の発光素子封止材用エポキシ樹脂組成物。   The said light emitting element is a light emitting diode (LED) which has a main light emission peak in 350-550 nm, The epoxy resin composition for light emitting element sealing materials of Claim 8 characterized by the above-mentioned. 前記請求項6〜9のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物であって、2mm厚硬化物の150℃、 100時間加熱後のYI値(Yellowness Index)が10以下であるエポキシ樹脂硬化物。
A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 6 to 9, wherein a YI value (Yellowness Index) of a 2 mm thick cured product after heating at 150 ° C for 100 hours is Epoxy resin cured product that is 10 or less.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013077795A (en) * 2011-09-16 2013-04-25 Sekisui Chem Co Ltd Optical semiconductor device
JP2013249470A (en) * 2012-05-31 2013-12-12 Lg Innotek Co Ltd Epoxy resin composition and light emitting device
CN111825627A (en) * 2020-07-28 2020-10-27 清远高新华园科技协同创新研究院有限公司 Preparation method of high-solid-content hydroxyl resin
CN115572384A (en) * 2021-06-21 2023-01-06 万华化学(宁波)容威聚氨酯有限公司 Polyester ether polyol and preparation method thereof, polyurethane rigid foam and preparation method and application thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4637494B1 (en) * 1966-06-16 1971-11-04
JPH02275867A (en) * 1989-01-31 1990-11-09 Nissan Chem Ind Ltd Novel isocyanurate derivative
JPH02279684A (en) * 1989-04-19 1990-11-15 Nissan Chem Ind Ltd Production of isocyanuric acid derivative
JP2005306952A (en) * 2004-04-20 2005-11-04 Japan Epoxy Resin Kk Epoxy resin composition as sealing material for light-emitting element
JP2008045014A (en) * 2006-08-14 2008-02-28 Mitsubishi Chemicals Corp Epoxy resin composition and its use

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4637494B1 (en) * 1966-06-16 1971-11-04
JPH02275867A (en) * 1989-01-31 1990-11-09 Nissan Chem Ind Ltd Novel isocyanurate derivative
JPH02279684A (en) * 1989-04-19 1990-11-15 Nissan Chem Ind Ltd Production of isocyanuric acid derivative
JP2005306952A (en) * 2004-04-20 2005-11-04 Japan Epoxy Resin Kk Epoxy resin composition as sealing material for light-emitting element
JP2008045014A (en) * 2006-08-14 2008-02-28 Mitsubishi Chemicals Corp Epoxy resin composition and its use

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013077795A (en) * 2011-09-16 2013-04-25 Sekisui Chem Co Ltd Optical semiconductor device
JP2016086185A (en) * 2011-09-16 2016-05-19 積水化学工業株式会社 White curable composition for optical semiconductor device
JP2013249470A (en) * 2012-05-31 2013-12-12 Lg Innotek Co Ltd Epoxy resin composition and light emitting device
EP2669332A3 (en) * 2012-05-31 2015-10-28 LG Innotek Co., Ltd. Epoxy resin composition and light emitting apparatus
CN111825627A (en) * 2020-07-28 2020-10-27 清远高新华园科技协同创新研究院有限公司 Preparation method of high-solid-content hydroxyl resin
CN111825627B (en) * 2020-07-28 2023-04-25 清远高新华园科技协同创新研究院有限公司 Preparation method of high-solid hydroxyl resin
CN115572384A (en) * 2021-06-21 2023-01-06 万华化学(宁波)容威聚氨酯有限公司 Polyester ether polyol and preparation method thereof, polyurethane rigid foam and preparation method and application thereof

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