KR20110138214A - Compositions and methods for restoring plastic covers and lenses - Google Patents

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Abstract

자동차의 플라스틱 라이트 커버 또는 썬 글라스 또는 보정 광학 렌즈와 같은 다른 플라스틱 표면에 광 투과성 및 광학적 투명성을 효과적으로 부가하는 플라스틱 복원 키트 및 방법. 상기 키트 및 방법은 스크래치 및/또는 UV 유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면을 복원한다. 상기 키트 및 방법은 플라스틱 표면을 폴리싱 및 광택을 내도록 선택된 입자들을 갖는 폴리싱 및 광택 조성물 및 단단한 UV 보호 코팅층을 형성하는 UV 보호 코팅층을 이용한다. 상기 폴리싱 및/또는 광택 조성물은 액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산된 응집된 연마 입자들을 포함하며, 이들은 폴리싱 또는 광택 과정 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때 크기가 점차적으로 작아지는 응집된 연마입자들이다.Plastic restoration kits and methods that effectively add light transmission and optical transparency to plastic light covers or other plastic surfaces, such as automotive glass or corrective optical lenses. The kits and methods restore plastic surfaces damaged by scratches and / or UV induced oxidation. The kits and methods utilize a UV protective coating layer that forms a polishing and varnish composition with particles selected to polish and polish the plastic surface and a rigid UV protective coating layer. The polishing and / or gloss composition comprises agglomerated abrasive particles dispersed in a liquid or gel carrier, which are agglomerated abrasive particles that gradually become smaller in size when exposed to oxygen and mechanical pressure during the polishing or gloss process.

Description

플라스틱 커버 및 렌즈 복원용 조성물 및 복원 방법{COMPOSITIONS AND METHODS FOR RESTORING PLASTIC COVERS AND LENSES}Composition and restoration method for plastic cover and lens restoration {COMPOSITIONS AND METHODS FOR RESTORING PLASTIC COVERS AND LENSES}

본 발명은 플라스틱 커버 및 렌즈의 스크래치 및 산화적 손상을 제거하기 위한 조성물 및 제거하는 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 플라스틱 헤드라이트 커버, 광학 렌즈, 기타 플라스틱 표면에 투명성 및 광택을 복원시키고 스크래치 및 산화로 인한 미래 손상을 방지시키는 것에 대한 것이다.
The present invention relates to compositions and methods for removing scratches and oxidative damage of plastic covers and lenses. In particular, the present invention is directed to restoring transparency and luster to plastic headlight covers, optical lenses, and other plastic surfaces and to prevent future damage due to scratches and oxidation.

플라스틱 재료는 자동차 헤드라이트용 광학 투명 커버로서 광범위하게 유리를 대체해 왔다. 전형적인 플라스틱 헤드라이트 커버는 자동차 전면의 프로파일에 맞는 기체역학적 형상으로 형성된 몰드 폴리카보네이트 플라스틱으로 구성된다.Plastic materials have been widely replacing glass as optically transparent covers for automotive headlights. A typical plastic headlight cover consists of a molded polycarbonate plastic formed into aerodynamic shape that fits the profile of the front of the vehicle.

플라스틱은 수많은 점에서 유리보다 우수하다. 플라스틱은 유사한 투명성을 가지면서도 유리보다 가볍고, 보다 유연하며 작은 충격을 흡수할 수 있고, 큰 충격에 대해 덜 산산조각이 난다. 게다가, 플라스틱은 현대 자동차 디자인에 보다 적합한 다양한 기체역학적 형상으로 쉽게 몰드될 수 있다.Plastics are superior to glass in many ways. Plastics are similar in transparency but lighter than glass, more flexible and can absorb smaller impacts and are less shattered to larger impacts. In addition, plastics can be easily molded into a variety of aerodynamic shapes that are more suitable for modern automotive designs.

그러나, 플라스틱은 수 많은 단점이 있다. 예를 들어, 스크래치 및 UV 유도성 산화적 손상을 입기 쉽다. 그리고 플라스틱 헤드라이트 커버는 전형적으로 스크래치 및 UV 손상에 대해 보호하기 위하여 코팅층으로 잘 코팅되나, 그러한 코팅은 시간이 지남에 따라 100% 보호를 하지 않는다. 예를 들어 도로 입자들 및 다른 단단하고, 거친 물질들이 보호 코팅층을 뚫을 수 있고 스크래치를 일으켜서 플라스틱의 광학 성직을 열화시킬 수 있다. 물리적으로 커버의 광학 성질을 열화시키는 것외에, 스크래치는 플라스틱을 손상시킬 수 있는 수많은 다른 경로들을 만들어 낸다. 예를 들어, 보호 코팅층을 뚫는 스크래치(표면을 세척 및 세정함에 따른 스크래치)는 배기가스 및 산성비의 화학물질이 플라스틱 기판에 접근할 수 있게 한다. However, plastics have a number of disadvantages. For example, it is susceptible to scratches and UV-induced oxidative damage. And plastic headlight covers are typically well coated with a coating layer to protect against scratches and UV damage, but such coatings do not provide 100% protection over time. Road particles and other hard, coarse materials, for example, can penetrate the protective coating layer and cause scratches to degrade the optical cleavage of the plastic. In addition to physically degrading the optical properties of the cover, scratches create numerous other paths that can damage plastics. For example, scratches that penetrate the protective coating layer (scratches from cleaning and cleaning surfaces) allow chemicals from the exhaust gases and acid rain to access the plastic substrate.

UV 코팅층을 뚫는 스크래치는 또한 UV 방사선 및/또는 산소가 플라스틱 기판에 접근할 수 있게 하여 플라스틱의 산화적 손상을 일으킨다. 게다가, 높은 강도의 헤드라이트로 인해 야기된 커버의 열은 스크래치를 확장 및 수축시켜 UV 방사선 및/또는 산소를 플라스틱 기판에 더 많이 접근할 수 있게 한다. 시간이 지남에 따라 만약 이러한 과정을 점검하지 않고 내버려두면, 플라스틱 헤드라이트 커버는 거의 불투명하게 되어 루멘이나 광 출력을 감소시킬 수 있다. 이것은 감소된 헤드라이트 강도 및 유효성으로 인한 안전성 문제를 자연적으로 일으킨다.Scratch through the UV coating layer also allows UV radiation and / or oxygen to access the plastic substrate, causing oxidative damage to the plastic. In addition, the heat of the cover caused by the high intensity headlights expands and contracts the scratches, allowing more UV radiation and / or oxygen to access the plastic substrate. Over time, if this process is left unchecked, the plastic headlight cover can become nearly opaque, reducing lumen or light output. This naturally causes safety issues due to reduced headlight strength and effectiveness.

스크래치 및/또는 산화로 인해 매우 손상된 헤드라이트 커버를 대체하는 것이 차량 소유자들의 하나의 대안일 수 있다. 그러나, 플라스틱 커버를 대체하는 것은 많은 소비자들에게 과다한 비용을 요한다. 예를 들어 헤드라이트 커버를 대체하는 일반적인 비용은 설치비용을 제외하고도 헤드라이트 당 $200~$500이 소요될 수 있다.Replacing headlight covers that are very damaged due to scratches and / or oxidation may be one alternative for vehicle owners. However, replacing plastic covers is costly for many consumers. For example, the typical cost of replacing a headlight cover can cost £ 200 to £ 500 per headlight, in addition to installation costs.

플라스틱 헤드라이트 커버를 복원하기 위한 목적의 제품을 이용할 수 있다. 그러나 이들 제품 대부분들은 거친 클리너나 공정, 값싼 왁스 및 다른 목적의 금속 폴리싱제(polish)를 사용한다. 이들 제품들은 연약한 플라스틱 렌즈에 매우 해로울 수 있다. 또한 이들 제품으로부터 얻을 수 있는 이득이 무엇이든지, 코팅되지 않은 렌즈가 환경적 물리력에 다시 한번 노출될 때 빠르게 손상되는 것처럼 자주 수명이 짧다.Products for the purpose of restoring the plastic headlight cover can be used. However, most of these products use coarse cleaners or processes, cheap waxes, and other metal polishes for other purposes. These products can be very harmful for soft plastic lenses. Whatever the benefit from these products, they are often short-lived, as if an uncoated lens is quickly damaged when exposed to environmental forces.

플라스틱으로부터 스크래치를 제거하기 위해 사용되었던 제품의 한 예로 소위 Micro-MeshTM이 있다. 다른 것은 샌드 페이퍼를 사용한 Permatex이다. Micro-MeshTM 시스템은 다른 크기의 그릿(grit)을 갖는 일련의 러버백샌딩클로스(rubber-backed sanding cloths)를 사용하여 플라스틱의 스크레치를 제거한다. 제1 단계는 2,400 게이지 그릿을 갖는 샌딩클로스를 사용한다. 이후 단계로 12,000 게이지 그릿까지 미세 단계로 업그레이드한 샌딩클로스를 사용한다. 러버샌딩블록(rubber sanding block)을 사용한 것 외에, 폴리싱이 완결된 후 소량의 정전기 방지 크림을 바른다.One example of a product that has been used to remove scratches from plastic is the so-called Micro-Mesh . The other is Permatex with sandpaper. Micro-Mesh systems use a series of rubber-backed sanding cloths with different sized grit to remove scratches from plastic. The first step uses a sanding cloth having 2,400 gauge grit. The next step is to use a sanding cloth that has been upgraded to finer steps up to 12,000 gauge grit. In addition to using a rubber sanding block, a small amount of antistatic cream is applied after polishing is completed.

그러나, Micro-MeshTM 시스템은 많은 단점이 있다. Micro-MeshTM 시스템을 사용하는 단점 중 하나는 작은 스크래치 조차 제거하기 위하여 다량의 플라스틱이 모래로 쓸려 없어진다는 것이다. 즉, 스크래치 깊이를 적어도 동등하게 하기 위하여 충분한 플라스틱 표면을 제거할 필요가 있다. 또한, 스크래치가 제거되는 주변 영역에 있는 플라스틱의 광학적 뒤틀림을 야기시키지 않도록 상당히 큰 면적의 플라스틱이 제거되어야만 한다. 광학적 뒤틀림을 피하기 위하여, 사용자는 높은 수준의 기술 및 인내력이 필요하며, 이는 많은 훈련을 요한다. 또한, 이 시스템을 사용하여 반복적으로 스크래치를 제거하면 플라스틱의 두께가 매우 감소되어 원하는 보호 특성을 파괴할 것이다. Micro-MeshTM 샌딩 시스템의 또 다른 단점은 각각의 형태의 그릿에 대해 각각의 일련의 샌딩을 해야하는 많은 시간이 필요하다. 또한 Micro-MeshTM 샌딩 시스템의 또 다른 단점은 집중적인 샌딩으로 스크래치와 함께 플라스틱으로부터 보호적 UV 코팅층을 제거한다는 것이다.However, Micro-Mesh TM The system has many disadvantages. Micro-Mesh TM One of the drawbacks of using the system is that a large amount of plastic is washed away with sand to remove even small scratches. In other words, it is necessary to remove sufficient plastic surface to at least equalize the scratch depth. In addition, a fairly large area of plastic must be removed so as not to cause optical warping of the plastic in the peripheral area where scratches are removed. In order to avoid optical distortions, the user requires a high level of skill and patience, which requires a lot of training. In addition, repeated scratch removal using this system will greatly reduce the thickness of the plastic and destroy the desired protective properties. Micro-Mesh TM Another disadvantage of the sanding system is that it takes a lot of time to do each series of sanding for each type of grit. Another disadvantage of the Micro-Mesh sanding system is that intensive sanding removes the protective UV coating layer from the plastic with scratches.

다른 제품은 아크릴 스파 바니시(acrylic spar varnish)와 같은 바니시를 사용하여 플라스틱 헤드라이트 커버를 채우고 스크래치를 덮는 것이다. 이들 제품들은 사용이 쉽고 빠르나 궁극적으로는 플라스틱을 복원한 것이 아니다. 바니시 코팅은 단지 스크래치 및 산화를 덮는 것이고 플라스틱이 받고 있는 손상을 수리하는 것이 아니다. 바니시와 페인트는 일반적으로 플라스틱에 잘 부착하지 않고 바니시는 짧은 기간에 떨어져 나가는 경향이 있다. 게다가, 만약 바니시 코팅층의 굴절율(refractie index)이 그 아래 플라스틱의 것과 유사하지 않다면, 스크래치에 채워진 각각은 헤드라이트로부터 빛을 산란시키는 마이크로렌즈로서 작용할 것이다. 헤드라이트는 바니시 코팅을 한 후 더 잘 보이나, 실은 바니시는 커버의 광학적 성질을 복원하지는 않을 것이다.
Another product is to use varnishes such as acrylic spar varnish to fill the plastic headlight cover and cover the scratches. These products are easy to use and fast, but are not ultimately plastic restorations. Varnish coatings only cover scratches and oxidation and do not repair the damage the plastic is experiencing. Varnishes and paints generally do not adhere well to plastic and varnishes tend to fall off in a short period of time. In addition, if the refractive index of the varnish coating layer is not similar to that of the plastic underneath, each filled in scratch will act as a microlens to scatter light from the headlights. The headlights will look better after varnish coating, but in fact the varnish will not restore the optical properties of the cover.

본 발명은 스크래치 및 UV 유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면의 투명성 및 광 투과성을 복원하기 위한 신규 조성물 및 방법을 포함한다. 플라스틱 표면의 결함 또는 흠집이 여기 기술된 플라스틱 표면 재생 조성물을 적용할 때 제거될 수 있다는 것이 발견되었다. 상기 조성물은 예를 들어 플라스틱 표면으로부터 스크래치 및 산화를 제거하기 위한 하나 이상의 폴리싱 조성물, 폴리싱된 플라스틱 표면을 더 부드럽게 하고 광을 복원시키기 위한 하나 이상의 광택(lusterizing) 조성물, 및 플라스틱에 UV 보호를 복원시키기 위한 하나 이상의 조성물을 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 플라스틱 표면의 복원은 오래 지속되는 투명성, 광 투과성 및 UV 보호 마감(finish)를 제공한다.
The present invention includes novel compositions and methods for restoring transparency and light transmission of plastic surfaces damaged by scratch and UV induced oxidation. It has been found that defects or scratches on the plastic surface can be removed when applying the plastic surface regeneration composition described herein. The composition may comprise, for example, one or more polishing compositions for removing scratches and oxidation from the plastic surface, one or more lustering compositions for softening the polished plastic surface and restoring light, and restoring UV protection to the plastic. It may include one or more compositions for. Restoration of the plastic surface according to the invention provides long lasting transparency, light transmission and UV protective finish.

폴리싱 조성물은 약 50 미크론(micron) ~ 약 400 미크론, 바람직하게는 약 60 미크론 ~ 약 300 미크론, 더욱 바람직하게는 약 70 미크론 ~ 약 200 미크론, 가장 바람직하게는 약 75미크론 ~ 약 150 미크론 범위의 초기 그릿 크기(initial grit size)를 갖는 연마 물질(abrasive material)를 포함한다. 미디엄 그릿 폴리싱 조성물(medium grit polishing composition)은 바람직하게는 약 50~100미크론, 바람직하게는 60~90미크론의 초기 그릿 크기를 가지며, 헤비(heavy) 그릿 폴리싱 조성물은 바람직하게는 80~200 미크론, 바람직하게는 100~150미크론 범위의 초기 그릿 크기를 갖는다. 연마 물질는 폴리싱 조성물 제조에 사용되기에 적당한 캐리어 내에 분산된다. 일 실시예에 따라, 폴리싱 조성물에서 연마 물질는, 폴리싱 과정에서 기계적 압력과 산소에 노출될 때, 더 작은 크기 입자(예를 들어 약 10~50 미크론, 바람직하게는 15~45 미크론, 더욱 바람직하게는 20~40 미크론, 가장 바람직하게는 25~35미크론)로 부서지는 연마 입자를 포함한다. 사용 전에, 폴리싱 조성물은 실질적인 무산소(예를 들어 불활성 질소) 환경에서 제조 및 보관되는 것이 유리하다.The polishing composition may range from about 50 microns to about 400 microns, preferably from about 60 microns to about 300 microns, more preferably from about 70 microns to about 200 microns, most preferably from about 75 microns to about 150 microns. An abrasive material having an initial grit size. Medium grit polishing compositions preferably have an initial grit size of about 50-100 microns, preferably 60-90 microns, and heavy grit polishing compositions preferably 80-200 microns, Preferably it has an initial grit size in the range of 100-150 microns. The abrasive material is dispersed in a carrier suitable for use in preparing the polishing composition. According to one embodiment, the abrasive material in the polishing composition, when exposed to mechanical pressure and oxygen during the polishing process, has a smaller size particle (eg about 10-50 microns, preferably 15-45 microns, more preferably 20-40 microns, most preferably 25-35 microns). Prior to use, the polishing composition is advantageously prepared and stored in a substantially oxygen free (eg inert nitrogen) environment.

광택 조성물은 약 10 미크론~ 약 60 미크론, 바람직하게는 15 미크론 ~ 약 50 미크론, 더 바람직하게는 20 미크론 ~ 45 미크론, 가장 바람직하게는 25 미크론 ~ 40 미크론의 초기 그릿 크기를 갖는 연마 물질를 포함한다. 가벼운(light) 연마 광택 조성물은 약 20~60 미크론, 바람직하게는 약 25~55 미크론 범위의 초기 그릿 크기를 갖는다. 마감 광택 조성물은 약 10~50 미크론, 바람직하게는 15~40 미크론의 초기 그릿 크기를 갖는다. 연마 물질는 미세 폴리싱 조성물 제조에 사용되기에 적당한 캐리어 내에 분산된다. 일 실시예에 따라, 상기 연마 물질는, 광택 복원 과정 동안 기계적 압력 및 산소에 노출될 때 더 작은 크기 입자(예를 들어 약 1~20 미크론, 바람직하게는 약 2~15 미크론, 더욱 바람직하게는 2.5~10 미크론, 가장 바람직하게는 약 3~8 미크론)로 부서지는 연마 입자들을 포함한다. 사용 전에, 상기 광택 조성물은 실질적인 무산소(예를 들어 불활성 질소) 환경에서 제조되고 저장되는 것이 유리하다. The gloss composition comprises an abrasive material having an initial grit size of about 10 microns to about 60 microns, preferably 15 microns to about 50 microns, more preferably 20 microns to 45 microns, and most preferably 25 microns to 40 microns. . The light abrasive gloss composition has an initial grit size in the range of about 20 to 60 microns, preferably about 25 to 55 microns. The finish gloss composition has an initial grit size of about 10-50 microns, preferably 15-40 microns. The abrasive material is dispersed in a carrier suitable for use in preparing the fine polishing composition. According to one embodiment, the abrasive material has a smaller size particle (eg, about 1-20 microns, preferably about 2-15 microns, more preferably 2.5, when exposed to mechanical pressure and oxygen during the gloss restoration process). 10 microns, most preferably about 3-8 microns). Prior to use, the gloss composition is advantageously prepared and stored in a substantially oxygen free (eg inert nitrogen) environment.

폴리싱 및 광택 조성물의 연마 물질는 당해 기술분야에서 공지된 폴리싱 물질 제조를 위한 적당한 액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산된다. 예를 들어 캐리어는 물 및/또는 유기 용매, 증점제, 에멀젼제, 착색제 등과 같은 용매를 포함한다.The abrasive materials of the polishing and polishing compositions are dispersed in suitable liquid or gel carriers for the production of polishing materials known in the art. For example, the carrier includes water and / or solvents such as organic solvents, thickeners, emulsifiers, colorants and the like.

일 실시예에 의하면, 폴리싱 및/또는 광택 조성물에서 연마 입자들은 실질적인 무산소 환경에서 저장될 때 초기 입자 크기를 갖지만 폴리싱 및/또는 광택 과정 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때 점차 더 작은 미세 입자 크기를 갖는 더 작은 입자로 점차 부서지는 응집체(agglomerate) 형태이다. 상기 응집체는 초기 입자 크기의 약 75% 보다 작은 미세 입자 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔진다. 바람직하게는, 상기 응집체는 초기 입자 크기의 약 50%, 바람직하게는 초기 입자 크기의 약 33%, 가장 바람직하게는 초기 입자 크기의 20%의 미세 입자 크기를 갖는 입자로 부셔지는 것이 바람직하다. In one embodiment, the abrasive particles in the polishing and / or gloss composition have an initial particle size when stored in a substantially anoxic environment but gradually decrease in fine particle size when exposed to oxygen and mechanical pressure during the polishing and / or polishing process. It is in the form of agglomerates that gradually break down into smaller particles. The aggregates break up into smaller particles having a fine particle size of less than about 75% of the initial particle size. Preferably, the aggregate is broken up into particles having a fine particle size of about 50% of the initial particle size, preferably about 33% of the initial particle size and most preferably 20% of the initial particle size.

상기 UV 보호 조성물은 캐리어 내에 분산된 UV 보호 물질을 포함하며, 상기 캐리어는, 상기 조성물이 버핑(buffing)에 의해 플라스틱 표면에 작용될 때, UV 보호 조성물이 플라스틱 표면으로 효과적으로 어닐링(anneal)되거나 용융되게 하는 용매를 포함한다. 그 결과 광학적으로 투명하고 부드러운, 플라스틱 표면 위에 경화된 UV 보호 코팅층이 얻어진다. 상기 UV 보호 코팅층은, 제조된 플라스틱 표면에 코팅층을 결합시키는 것을 돕는 중합가능한 물질을 선택적으로 포함할 수 있다. 상기 폴리싱 및 광택 조성물이 플라스틱 표면을 제조하는 것을 보조하여, UV 보호 코팅층을 수용하고 UV 보호 코팅층과 더 강한 결합을 형성할 수 있다고 상정된다.The UV protective composition comprises a UV protective material dispersed in a carrier, wherein the carrier effectively anneals or melts the UV protective composition to the plastic surface when the composition is applied to the plastic surface by buffing. Solvents to make them suitable. The result is a UV protective coating layer cured on the plastic surface that is optically transparent and smooth. The UV protective coating layer may optionally include a polymerizable material to help bond the coating layer to the plastic surface produced. It is contemplated that the polishing and gloss composition may assist in manufacturing the plastic surface to accommodate the UV protective coating layer and form a stronger bond with the UV protective coating layer.

본 발명의 폴리싱 및 광택 조성물은 종래 폴리싱 조성물과 같은 방법으로 도포될 수 있으나, 그 결과는 종래 조성물보다 매우 우수하다. 본 발명의 폴리싱 및 광택 조성물을 도포하기 위한 장치는 예를 들어, 로터리(rotary), 오비탈(orbital), 무선 드릴, 또는 진동 연마 기계, 또는 유리 섬유 함침된 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드(open-cell polyurethane buffing pad)와 같은 휴대용 버핑(hand-held buffing) 또는 연마 기계를 포함한다. 좀 더 가벼운 스크래치에 대해서는 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드 또는 소프트 코튼 클로스를 사용하여 상기 조성물을 손으로 바르는 것이 유리하다. 본 발명의 조성물은 현재 사용되고 있는 기존 연마 시스템과 호환할 수 있으나 더 우수하고 수명이 지속되는 결과를 준다.The polishing and gloss compositions of the present invention can be applied in the same way as conventional polishing compositions, but the results are much better than conventional compositions. Apparatus for applying the polishing and gloss composition of the present invention can be, for example, rotary, orbital, cordless drill, or vibration polishing machines, or glass fiber impregnated open cell polyurethane buffing pads. hand-held buffing or polishing machines such as polyurethane buffing pads. For lighter scratches it is advantageous to apply the composition by hand using an open cell polyurethane buffing pad or soft cotton cloth. The compositions of the present invention are compatible with existing polishing systems currently in use but result in better and lasting lifetime.

상기 언급된 개방-셀 폴리우레탄 물질 또는 코튼 패드를 포함하여, 거의 대부분의 버핑 클로스는, 본 발명의 조성물과 협동가능하다. 양털울(fleece wool), 린넨, 뻣뻣한 폴리우레탄, 유리 울, 및 대부분의 다른 천연 및 합성 물질이 잘 작용한다. 버핑 패드 또는 클로스는 버핑 과정의 기계적 힘을 견뎌낼 만큼 충분히 내구성이 있어야 하며, 그의 강도에 따라 일의 어려움이 따르며, 그 구성 물질은 플라스틱 표면을 스크래치하거나 가열시켜 타거나 용융될 정도로 단단해서는 안된다는 제한이 있다.Nearly most buffing cloths, including the aforementioned open-cell polyurethane materials or cotton pads, are cooperative with the compositions of the present invention. Fleece wool, linen, stiff polyurethane, glass wool, and most other natural and synthetic materials work well. The buffing pad or cloth must be durable enough to withstand the mechanical forces of the buffing process and, depending on its strength, is difficult to work with and the construction material must not be hard enough to scratch or heat the plastic surface to burn or melt. There is this.

일 실시예에 따라, 본 발명은 스크래치 및/또는 산화된 플라스틱 표면에 광 투과성 및 투명성을 복원하기 위한 키트를 포함한다. 상기 키트는 플라스틱 표면으로부터 스크래치 제거, 산화적 손상 및 손상된 UV보호 코팅층을 제거하는 적어도 하나의 폴리싱 조성물; 상기 폴리싱 조성물 사용 후 이어지는 플라스틱 표면에 광택 및 광학적 투명성을 복원하는 적어도 하나의 광택 조성물; 및 상기 광택 조성물 사용 후 이어지는 플라스틱 표면에 도포되는 적어도 하나의 UV 보호 조성물을 포함한다. 상기 키트는 UV 보호 조성물을 도포하기 전에 상기 폴리싱 및 광택 조성물의 잔류물을 제거하는데 사용하는 하나 이상의 클리닝 클로스 및/또는 조성물, 및 폴리싱 또는 버핑 패드 또는 클로스(예를 들어 유리 섬유로 함침된 망상의 개구 셀 폴리우레탄으로 구성된 두 개의 버핑 패드)와 같은 다른 구성요소들을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the present invention includes a kit for restoring light transmission and transparency to scratched and / or oxidized plastic surfaces. The kit comprises at least one polishing composition for removing scratches, oxidative damage and damaged UV protective coating layers from the plastic surface; At least one gloss composition that restores gloss and optical transparency to a subsequent plastic surface after use of the polishing composition; And at least one UV protective composition applied to the plastic surface subsequent to use of the gloss composition. The kit may comprise one or more cleaning cloths and / or compositions, and polishing or buffing pads or cloths (eg, meshes impregnated with glass fibers) used to remove residues of the polishing and varnish compositions prior to application of the UV protective composition. Other buffing pads composed of open cell polyurethane).

한 실시예에서, 본 발명은 스크래치 및/또는 산화된 플라스틱 표면에 광 투과성 및 투명성을 복원하는 방법을 포함한다. 상기 방법은 전문가가, 이에 한정되지는 않지만, 플라스틱 헤드라이트 커버, 다른 자동차 플라스틱 라이트 커버, 플라스틱 썬글라스 렌즈 및 플라스틱 보정 안경 렌즈를 포함하여, 어떠한 플라스틱 표면도 복원할 수 있도록 고안된다.In one embodiment, the present invention includes a method of restoring light transmission and transparency to scratched and / or oxidized plastic surfaces. The method is designed to enable a professional to restore any plastic surface, including, but not limited to, plastic headlight covers, other automotive plastic light covers, plastic sunglasses lenses, and plastic correction eyeglass lenses.

본 발명에 따른 일 실시예의 방법은 (1) 폴리싱 조성물 및 버핑 패드 또는 클로스를 사용하여 플라스틱 표면에서 스크래치 및 산화적 손상을 폴리싱 및 제거하기 위해 버핑 패드 또는 클로스에 연마제 조성물을 도포하는 단계, (2) 같거나 다른 버핑 패드 또는 클로스에 광택 조성물을 도포하고 상기 광택 조성물 및 버핑 패드 또는 클로스를 사용하여 헤드라이트에 광택 및 광학적 투명성을 복원하는 단계, (3) 상기 폴리싱 및 광택 조성물의 잔류물을 제거하기 위해 플라스틱 표면을 클리닝하는 단계, 및 (4) 플라스틱 표면에 UV 보호 조성물을 도포하는 단계를 포함한다. 일 실시예에서, 개구-셀 폴리우레탄 버핑 패드는 유리 섬유로 함침된다.The method of one embodiment according to the present invention comprises the steps of: (1) applying an abrasive composition to a buffing pad or cloth to polish and remove scratches and oxidative damage from the plastic surface using the polishing composition and a buffing pad or cloth, (2 ) Applying a gloss composition to the same or different buffing pads or cloths and restoring gloss and optical transparency to the headlights using the gloss composition and the buffing pads or cloths, (3) removing residues of the polishing and glossing compositions Cleaning the plastic surface, and (4) applying the UV protective composition to the plastic surface. In one embodiment, the opening-cell polyurethane buffing pad is impregnated with glass fibers.

본 발명의 이들 및 다른 장점 및 특징은 다음 설명 및 첨부된 청구범위에 따라 보다 완전하게 명확해지거나 이후 기술되는 발명의 실시예에 의해 이해될 것이다.These and other advantages and features of the present invention will be understood by the embodiments of the invention which become more fully apparent or will be described later in accordance with the following description and the appended claims.

본 발명에 따른 플라스틱 표면의 복원은 오래 지속되는 투명성, 광 투과성 및 UV 보호 마감(finish)를 제공한다. Restoration of the plastic surface according to the invention provides long lasting transparency, light transmission and UV protective finish.

본 발명에 따른 조성물 및 방법은, 손쉽게 다량의 플라스틱 손실없이 플라스틱 표면에 투명성 및 광투과성을 복원시킬 수 있다.
The compositions and methods according to the invention can easily restore transparency and light transmission to plastic surfaces without the loss of large amounts of plastic.

본 발명의 상기 및 다른 장점 및 특징을 더 명확하게 하기 위하여, 본 발명의 보다 상세한 설명이 첨부된 도면에 도시된 구체적인 실시예를 참조로 설명될 것이다. 이들 도면들은 단지 본 발명의 전형적인 실시예를 도시한 것이므로 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 생각되어서는 안 된다. 본 발명은 다음 도면을 사용하여 추가적으로 구체적이고 상세하게 기술 및 설명될 것이다:
도 1은 손상되지 않으나 스크래치된 영역, 본 발명에 따라 복원된 영역을 나타내는 플라스틱 헤드라이트 커버의 프로필로메트릭 스캔(profilometric scan)을 나타낸 것이고; 및
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 방법의 플로우 차트이다.
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS To make the above and other advantages and features of the present invention clearer, more detailed description of the present invention will be described with reference to specific embodiments shown in the accompanying drawings. These drawings are only illustrative of exemplary embodiments of the invention and should not be considered as limiting the scope of the invention. The invention will be further described in detail and in detail using the following figures:
1 shows a profilometric scan of a plastic headlight cover showing intact but scratched areas, areas restored according to the present invention; And
2 is a flow chart of a method according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 플라스틱 헤드라이트 커버에 투명성 및 광 투과성을 복원시키도록 구성된 조성물 및 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 스크래치 및 UV 유도성 산화에 의해 손상된 표면의 투명성 및 광 투과성을 복원시키는 새로운 조성물 및 방법을 포함한다. 플라스틱 표면의 결합 또는 흠집은 여기 기술된 플라스틱 복원 조성물을 적용하는 것에 의해 제거될 수 있다는 것이 발견되었다. 상기 조성물은, 예를 들어, 플라스틱 표면의 스크래치 및 산화를 제거하기 위한 조성물뿐만 아니라, 플라스틱 표면에 폴리싱, 광택 및 UV 보호 코팅층을 도포하기 위한 조성물을 포함한다. 여기 개시된 조성물 및 방법은 연마재 및 폴리싱제(polishes)를 사용하여 손상된 플라스틱 표면을 복원시킨다. 여기 개시된 조성물 및 방법은 UV 보호 코팅층을 다시 적용시키기 위한 조성물을 포함한다. 본 발명에 따른 플라스틱 표면의 복원은 오래 지속되는 투명성, 광 투과성 및 마감성(finish)을 제공한다.The present invention relates to compositions and methods configured to restore transparency and light transmission to a plastic headlight cover. In particular, the present invention includes novel compositions and methods for restoring transparency and light transmission of surfaces damaged by scratch and UV induced oxidation. It has been found that bonding or scratching of the plastic surface can be removed by applying the plastic restorative composition described herein. Such compositions include, for example, compositions for removing scratches and oxidation of plastic surfaces, as well as compositions for applying polishing, gloss and UV protective coatings to plastic surfaces. The compositions and methods disclosed herein utilize abrasives and polishes to restore damaged plastic surfaces. The compositions and methods disclosed herein include compositions for applying the UV protective coating layer again. Restoration of the plastic surface according to the present invention provides long lasting transparency, light transmission and finish.

여기 사용된, 용어 "플라스틱 헤드라이트 커버"는 최근 모델 자동차에서 프라이머리 라이트를 덮는 몰드 플라스틱 헤드라이트 커버를 의미한다. 이들 플라스틱 헤드라이트 커버들은 전형적으로 폴리카보네이트로 제조되며, 일반적으로 유리 보다 더 내구성이 좋고 플라스틱이 자동차의 전면 말단에 이음매없이 균일하게 맞춰지는 다양한 공기역학적 형태로 손쉽게 몰드될 수 있기 때문에, 오늘날 보편화되어 있다. As used herein, the term “plastic headlight cover” refers to a molded plastic headlight cover that covers the primary light in recent model cars. These plastic headlight covers are typically made of polycarbonate and are commonplace today because they are generally more durable than glass and plastic can be easily molded into a variety of aerodynamic forms that seamlessly fit into the car's front end seamlessly. have.

그러나, 여기 기술된 조성물 및 방법들에 따라 복원될 수 있는 많은 플라스틱 표면들이 있다는 것은 누구나 인식할 것이다. 여기 개시된 방법 및 키트들은 사용자가 효율적으로 스크래치 및/또는 UV 유도성 산화에 의해 손상된 어떠한 플라스틱 표면이라도 효율적으로 복원할 수 있도록 구성된다. However, it will be appreciated by anyone that there are many plastic surfaces that can be restored according to the compositions and methods described herein. The methods and kits disclosed herein are configured to allow a user to efficiently restore any plastic surface damaged by scratches and / or UV induced oxidation.

도 1은 손상되지 않으나 스크래치된 영역, 본 발명의 일 실시예에 따라 복원된 영역을 나타내는 예시적인 플라스틱 표면의 프로필로메트릭 스캔을 나타낸 것이다. 프로필로메트리는 프로브(probe)가 표면을 가로질러 스캔하여 표면에서 불규칙성을 검출하는 기술이다. 전형적인 프로필로메트리 스캔의 x-축은, 도 1에 도시된 바와 같이, 표면을 가로지르는 프로브에 의해 이동된 선형 거리를 나타낸다. 여기서, 도 1의 x-축은 약 10,000 미크론, 또는 약 1cm의 선형 거리를 가로지르면서 프로브가 수집한 테이터를 나타낸다. 프로필로메트릭 스캔의 y-축은 일반적으로 프로브가 표면을 선형적으로 가로지르며 이동할 때 검출된 비규칙성의 규모(magnitude)를 일반적으로 기록한다. 이 경우에, 표면의 불규칙성은 플라스틱에서 스크래치이다.1 shows a profilometric scan of an exemplary plastic surface showing intact but scratched areas, restored areas according to one embodiment of the invention. Profilometry is a technique by which probes scan across a surface to detect irregularities in the surface. The x-axis of a typical profilometry scan represents the linear distance traveled by the probe across the surface, as shown in FIG. 1. Here, the x-axis of FIG. 1 represents data collected by the probe across a linear distance of about 10,000 microns, or about 1 cm. The y-axis of a profilometric scan typically records the magnitude of irregularity detected as the probe moves across the surface linearly. In this case, the irregularities of the surface are scratches in the plastic.

도 1에 도시된 플라스틱 헤드라이트 커버의 표면을 제조하기 위하여, 다른 영역이 스크래치되는 동안 손상되지 않은 표면을 보존하도록 일부분은 테이프로 마스크 한 후 복원하였다. 마스크하지 않은 영역은 전체적으로 굵은 샌드페이퍼(80 그릿)으로 스크래치하여 전형적인 플라스틱 헤드라이트 커버에 시간 경과에 따라 발생하는 스크래치 및 UV 손상을 모방하였다. 스크래치된 표면의 일부는 손상된 표면의 예를 보전하기 위하여 마스크 벗겨내었다. 마스크되지 않은, 손상된 영역은 이후 여기 개시된 시스템 및 방법을 사용하여 복원되었다.In order to produce the surface of the plastic headlight cover shown in FIG. 1, a portion was masked and then restored to tape to preserve the undamaged surface while the other area was scratched. The unmasked area was entirely scratched with coarse sandpaper (80 grit) to mimic the scratch and UV damage that occurs over time on a typical plastic headlight cover. Some of the scratched surfaces were masked off to preserve examples of damaged surfaces. Damaged areas that were not masked were then restored using the systems and methods disclosed herein.

도 1에 도시된 스캔은 이들 손상되지 않은 영역(10), 손상된 영역(12) 및 복원된 영역(14)을 나타낸다. x-축에서 약 0 미크론 ~ 약 1000 미크론 범위인 손상되지 않은 영역(10)은, Y=0 미크론에서 점선으로 도시된 실질적으로 평편한 표면을 나타낸다. 대조적으로 x-축에서 약 1,000 미크론 ~ 약 7,500 미크론 범위인 손상 영역(12)은 많은 깊은 스크래치를 나타내는 웨이비 프로파일(wavy profile)을 나타낸다. 대조적으로, x-축에서 약 7,000 미크론 ~ 약 10,000 범위인 복원된 영역(14)는 본 발명에 따라 복원된다. 복원된 영역(14)은 손상된 영역(12)에 비해 실질적으로 더 규칙적인 프로파일을 갖는다. 복원된 영역(14)의 표면이 완벽하지 않지만, 스크래치된 영역(12)에서 관찰된 스크래치 수준보다는 매우 개선되어 있다.The scan shown in FIG. 1 shows these undamaged areas 10, damaged areas 12, and restored areas 14. The undamaged region 10, which ranges from about 0 microns to about 1000 microns in the x-axis, exhibits a substantially flat surface, shown in dashed lines, at Y = 0 microns. In contrast, the damaged area 12 in the x-axis ranging from about 1,000 microns to about 7,500 microns exhibits a wavy profile that exhibits many deep scratches. In contrast, the reconstructed region 14, which ranges from about 7,000 microns to about 10,000 in the x-axis, is reconstructed in accordance with the present invention. The restored area 14 has a substantially more regular profile than the damaged area 12. Although the surface of the restored area 14 is not perfect, it is much better than the scratch level observed in the scratched area 12.

도 1에서 복원된 영역(14)과 손상되지 않은 영역(10)을 비교하면, 복원 과정은 플라스틱 표면 두께의 단지 약 30 미크론, 또는 약 1mm의 100분의 3만을 제거하는 경향이 있다는 것을 누구나 알 수 있다. 이는 전형적인 헤드라이트 커버가 몇 mm 두께인 것을 고려할 때 매우 소량의 물질이다. 플라스틱 표면은 본 발명에 따라 소량의 물질을 제거하여 복원되며, 이는 본 발명의 조성물이 점진적으로 미세 연마제에 의해 제거되어야만 하는 추가적인 스크래치를 일으키지 않고도 플라스틱 표면의 스크래치 및/또는 산화를 제거할 수 있기 때문이다. 또한 본 발명의 조성물은, 깊은 v-형 컷트가 얕은 u-형 함몰부로 재형성될 수 있도록 더 큰 스크래치를 관통하여 재형성한다는 것을 또한 알 수 있다. Comparing the restored area 14 and the undamaged area 10 in FIG. 1, everyone knows that the restoration process tends to remove only about 30 microns of plastic surface thickness, or about one third of about 1 mm. Can be. This is a very small amount of material considering that a typical headlight cover is several mm thick. The plastic surface is restored by removing small amounts of material in accordance with the present invention, since the composition of the present invention can remove scratches and / or oxidation of the plastic surface without causing additional scratches that must be gradually removed by fine abrasives. to be. It can also be seen that the compositions of the present invention reform through larger scratches so that deep v-shaped cuts can be reshaped into shallow u-shaped depressions.

본 발명의 폴리싱 및 광택 조성물은 다른 어떠한 폴리싱 조성물과 같은 방법으로 사용될 수 있으나, 그 결과는 기존에 이용되었던 종래 화합물의 어떤 것보다 우수하다. 플라스틱 헤드라이트 커버 및 다른 플라스틱 표면의 스크래치를 제거하기 위해 이용되는 기존의 바람직한 방법은, 예를 들어 유리섬유가 함침된 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드를 사용하여, 로터리, 오비탈 또는 진동 폴리싱 기계와 같은 종래 휴대용 버핑 또는 폴리싱 기계 수단을 사용하여 폴리싱 화합물들을 도포하는 것이다. 더 가벼운 스크래치에 대해서는 개구 셀 폴리우레탄 버핑 패드 또는 소프트 코튼 클로스를 사용하여 화합물들을 손수 도포하는 것이 바람직할 수 있다. 마지막으로, 본 발명의 조성물은 현재 사용된 기존 폴리싱 시스템과 호환가능하나 더 나은 결과를 준다. The polishing and gloss compositions of the present invention can be used in the same way as any other polishing composition, but the results are superior to any of the conventional compounds previously used. Existing preferred methods used to remove scratches on plastic headlight covers and other plastic surfaces are conventional, such as rotary, orbital or vibration polishing machines, for example using open cell polyurethane buffing pads impregnated with fiberglass. The application of the polishing compounds using portable buffing or polishing machine means. For lighter scratches it may be desirable to apply the compounds manually using an open cell polyurethane buffing pad or soft cotton cloth. Finally, the compositions of the present invention are compatible with existing polishing systems currently used but give better results.

상기 언급된 개방 셀 폴리우레탄 물질 및 코튼 패드를 포함하여, 거의 어떠한 버핑 클로스도 본 발명의 화합물과 협동할 것이라는 것이 이해되어야만 한다. 양털 울, 린넨, 뻣뻣한 폴리우레탄, 유리 울, 및 대부분의 다른 천연 및 합성 물질들이 잘 작동한다. 버핑 패드 또는 클로스는 버핑 과정의 기계적 힘을 견뎌낼 만큼 충분히 내구성이 있어야 하며, 그의 강도에 따라 일의 어려움이 따르며, 그 구성 물질은 플라스틱 표면을 스크래치하거나 가열시켜 타거나 용융될 정도로 단단해서는 안 된다는 제한이 있다.
It should be understood that almost any buffing cloth, including the aforementioned open cell polyurethane materials and cotton pads, will cooperate with the compounds of the present invention. Fleece wool, linen, stiff polyurethane, glass wool, and most other natural and synthetic materials work well. The buffing pads or cloths must be durable enough to withstand the mechanical forces of the buffing process and, depending on their strength, are difficult to work with and the material of construction must not be hard enough to scratch or heat the plastic surface to burn or melt. There is a limit.

IIII . 플라스틱 표면 복원용 . For plastic surface restoration 키트Kit 예시 example

일 실시예에서 본 발명은 스크래치 및/또는 UV 유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면에 광학적 투명성 및 광 투과성을 복원시키기 위한 키트를 포함한다. 상기 키트는 플라스틱 표면의 스크래치 및 산화를 용이하게 제거하도록 제형화된 적어도 하나의 폴리싱 조성물, 선택적으로 상기 플라스틱 표면을 마감하기 위한 적어도 하나의 광택 조성물, 및 적어도 하나의 UV 보호 조성물을 포함한다.In one embodiment, the present invention includes a kit for restoring optical transparency and light transmission to plastic surfaces damaged by scratch and / or UV induced oxidation. The kit includes at least one polishing composition formulated to readily remove scratching and oxidation of the plastic surface, optionally at least one gloss composition for finishing the plastic surface, and at least one UV protective composition.

상기 폴리싱 조성물은 약 50 미크론 ~ 약 400 미크론, 바람직하게는 약 60 미크론 ~ 약 300 미크론, 더욱 바람직하게는 약 70 미크론 ~ 약 200 미크론, 가장 바람직하게는 약 75 미크론 ~ 약 150 미크론 범위의 초기 그릿 크기를 갖는 연마 재를 포함한다. 상기 폴리싱 연마제는 "헤비 그릿" 또는 "미디엄 그릿"일 수 있다. 헤비 그릿 폴리싱 연마제는 약 80~200 미크론, 바람직하게는 약 100~150 미크론의 초기 그릿 크기를 갖는다. 미디엄 그릿 폴리싱 연마제는 약 50~100 미크론, 바람직하게는 60~90 미크론의 초기 그릿 크기를 갖는다.The polishing composition has an initial grit in the range of about 50 microns to about 400 microns, preferably about 60 microns to about 300 microns, more preferably about 70 microns to about 200 microns, and most preferably about 75 microns to about 150 microns. Abrasives having a size. The polishing abrasive can be "heavy grit" or "medium grit". Heavy grit polishing abrasives have an initial grit size of about 80-200 microns, preferably about 100-150 microns. Medium grit polishing abrasives have an initial grit size of about 50-100 microns, preferably 60-90 microns.

상기 폴리싱 연마제는 폴리싱 조성물 제조에 사용되기에 적당한 액상 및 겔상 캐리어 내에 분산되는 것이 유리하다. 캐리어 예로는 물 및/또는 유기용매, 증점제, 에멀젼제, 착색제 등과 같은 용매를 포함할 수 있다.The polishing abrasive is advantageously dispersed in liquid and gel carriers suitable for use in preparing the polishing composition. Carrier examples can include water and / or solvents such as organic solvents, thickeners, emulsifiers, colorants and the like.

일 실시예에서, 연마 물질은 폴리싱 과정에서 산소 및 기계적 압력에 노출될 때 더 작은 입자로 점차적으로 부셔지는 연마 입자들을 포함한다. 일 실시예에 따라, 폴리싱 연마제는 폴리싱 과정 동안 기계적 압력 및 산소에 노출될 때, 약 10~50 미크론, 바람직하게는 15~45 미크론, 더 바람직하게는 20~40 미크론, 가장 바람직하게는 약 25~35 미크론의 입자 크기로 부셔진다. 사용 전에, 상기 폴리싱 조성물은 실질적으로 무산소 환경(예를 들어 불활성 질소)에서 제조 및 저장되는 것이 유리하다.In one embodiment, the abrasive material includes abrasive particles that gradually break down into smaller particles when exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing. According to one embodiment, the polishing abrasive is about 10-50 microns, preferably 15-45 microns, more preferably 20-40 microns, most preferably about 25 when exposed to mechanical pressure and oxygen during the polishing process. Break down to a particle size of ˜35 microns. Prior to use, the polishing composition is advantageously prepared and stored in an oxygen free environment (eg inert nitrogen).

이러한 현상으로 사용 동안 점차 미세하게 되는 폴리싱 조성물을 제공한다는 것은 당업자에게 당연히 인식될 것이다. 전형적인 폴리싱 기술이 이전 연마제에 의해 남겨진 스크래치를 제거하기 위하여 점진적으로 더 미세한 일련의 연마제를 사용하는 것과 관련이 있다는 점을 고려할 때 이러한 점은 유리한 장점이 된다. 연마 입자들이 폴리싱 과정이 계속됨에 따라 점차적으로 더 미세하게 된다는 사실 때문에 상기 폴리싱 조성물이 단일 단계에서 많은 폴리싱 단계들을 포함한다는 점에서, 본 발명의 폴리싱 조성물은 최종 폴리싱된 표면을 얻기 위하여 여러 가지 폴리싱 조성물을 사용해야만 한다는 점을 피하도록 제형되는 것이 유리하다. It will of course be appreciated by those skilled in the art that this phenomenon provides a polishing composition that becomes progressively finer during use. This is an advantageous advantage given that typical polishing techniques involve the use of a progressively finer series of abrasives to remove the scratches left by previous abrasives. In view of the fact that the polishing composition comprises many polishing steps in a single step, due to the fact that the abrasive particles become progressively finer as the polishing process continues, the polishing composition of the present invention has various polishing compositions in order to obtain the final polished surface. It is advantageously formulated to avoid having to use.

상기 키트는 폴리싱 조성물의 사용 이후 플라스틱 표면에 광학적 투명성 및 광 투과성을 쉽게 복원시키도록 제형화된 적어도 하나의 광택 조성물을 포함한다. 상기 광택 조성물은 약 10 미크론 ~ 약 60 미크론, 바람직하게는 약 15 미크론 ~ 약 50 미크론, 더욱 바람직하게는 약 20 미크론 ~ 약 45 미크론, 가장 바람직하게는 약 25 미크론 ~ 약 40 미크론 범위의 초기 그릿 크기를 갖는 연마 물질을 포함한다. 상기 광택 연마제는 "라이트 그릿(light grit)" 또는 "화인 그릿(fine grit)"일 수 있다. 라이트 그릿 폴리싱 연마제는 약 20~60 미크론, 바람직하게는 약 25~55 미크론의 초기 그릿 크기를 갖는다. 화인 그릿 폴리싱 연마제는 약 10~50 미크론, 바람직하게는 15~40 미크론의 초기 그릿 크기를 갖는다. The kit includes at least one gloss composition formulated to easily restore optical transparency and light transmission to the plastic surface after use of the polishing composition. The gloss composition has an initial grit in the range of about 10 microns to about 60 microns, preferably about 15 microns to about 50 microns, more preferably about 20 microns to about 45 microns, and most preferably about 25 microns to about 40 microns. Abrasive material having a size. The bright abrasive may be a "light grit" or "fine grit". The light grit polishing abrasive has an initial grit size of about 20-60 microns, preferably about 25-55 microns. Fine grit polishing abrasives have an initial grit size of about 10-50 microns, preferably 15-40 microns.

상기 광택 연마제는 폴리싱 및/또는 마감(finishing) 조성물을 제조할 때 사용되는 적당한 액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산되는 것이 유리하다. 캐리어는 예를 들어 용매, 물 및/또는 유기용매, 증점제, 에멀젼제, 착색제 등의 용매를 포함할 수 있다.The bright abrasive is advantageously dispersed in a suitable liquid or gel carrier which is used when preparing the polishing and / or finishing composition. Carriers may include, for example, solvents, water and / or solvents such as organic solvents, thickeners, emulsifiers, colorants and the like.

일 실시예에서, 상기 광택 조성물은 광택 과정에서 기계적 압력 및 산소에 노출될 때 점차 더 작은 크기 입자로 부셔지는 연마 입자들을 포함한다. 일 실시예에 따라, 광택 과정에서 기계적 압력 및 산소에 노출될 때, 약 1~20 미크론, 바람직하게는 약 2~15 미크론, 더욱 바람직하게는 2.5~10 미크론 및 가장 바람직하게는 약 3~8 미크론의 입자 크기로 상기 광택 연마제는 부셔진다. 사용하기 전에, 상기 광택 조성물은 실질적으로 무산소 환경(예를 들어 불활성 질소)에서 제조 및 저장되는 것이 유리하다. In one embodiment, the gloss composition comprises abrasive particles that gradually break down into smaller size particles when exposed to mechanical pressure and oxygen during the polishing process. According to one embodiment, when exposed to mechanical pressure and oxygen during the polishing process, about 1-20 microns, preferably about 2-15 microns, more preferably 2.5-10 microns and most preferably about 3-8 With a particle size of micron the polished abrasive is broken. Prior to use, the gloss composition is advantageously prepared and stored in an oxygen free environment (eg inert nitrogen).

이러한 현상으로, 사용 동안 점차 미세하게 되는 광택 조성물을 제공한다는 것은 당업자가 당연히 이해할 것이다. 전형적으로 마감 기술이 이전 연마제에 의해 남겨진 스크래치를 제거하기 위하여 점차적으로 더 미세한 일련의 연마제를 사용하는 것과 관련이 있다는 것을 고려할 때 이러한 점은 매우 유리한 점이다. 연마 입자들이 광택 과정이 계속됨에 따라 점차적으로 미세하게 된다는 사실 때문에 단일 단계에서 많은 광택 단계들을 포함해야한다는 점에서, 최종 광택 표면을 얻기 위해 여러 가지 광택 조성물을 사용해야만 하는 것을 피하도록 제형화되는 것이 유리하다. It will be understood by those skilled in the art that with this phenomenon, it is possible to provide a gloss composition which becomes progressively finer during use. This is very advantageous given that the finishing technique typically involves using a series of increasingly finer abrasives to remove the scratches left by the previous abrasive. Formulated to avoid having to use different varnish compositions to obtain the final gloss surface, in that the abrasive particles must include many gloss stages in a single step due to the fact that they gradually become finer as the polishing process continues. It is advantageous.

일 실시예에 따라 폴리싱 및/또는 광택 조성물에서 연마 입자들은 실질적으로 무산소 환경에서 저장될 때 초기 입자 크기를 가지나 폴리싱 및/또는 광택 과정 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때 더 미세한 입자 크기를 갖는 더 작은 입자들로 점차 부셔지는 응집체 형태이다. 상기 응집체들은 초기 입자 크기의 약 75% 보다 작은 미세 입자 크기를 갖는 더 작은 입자들로 부셔지는 것이 유리하다. 바람직하게는 상기 응집체는 초기 입자 크기의 약 50%, 바람직하게는 초기 입자 크기의 33%, 가장 바람직하게는 초기 입자 크기의 20% 보다 작은 미세 입자 크기를 갖는 입자들로 부셔진다. According to one embodiment the abrasive particles in the polishing and / or gloss composition have an initial particle size when stored in substantially an oxygen free environment but a finer particle size when exposed to oxygen and mechanical pressure during the polishing and / or polishing process. It is in the form of aggregates that gradually break down into smaller particles. The aggregates are advantageously broken into smaller particles having a fine particle size of less than about 75% of the initial particle size. Preferably the agglomerates are broken into particles having a fine particle size of less than about 50% of the initial particle size, preferably 33% of the initial particle size and most preferably 20% of the initial particle size.

상기 키트는 폴리싱 및 광택 조성물의 도포 후 이어서 플라스틱 표면에 UV 보호 코팅층을 도포하기 위한 적어도 하나의 조성물을 포함한다. 불행히도, 상기 기술된 키트를 사용하는 플라스틱 표면 복원 과정은 전형적으로 상기 플라스틱 표면에서 공장 도포된 UV 보호 코팅층을 제거한다. 보호 코팅층 없는 상기 표면은 스크래치 및 UV 유도성 산화에 의해 빠르게 열화될 것이다. 상기 UV 보호 조성물은 캐리어 내에 분산된 UV 보호 물질을 포함하며, 상기 캐리어는 버핑 과정 동안 상기 UV 보호 조성물이 상기 플라스틱 표면 내로 효과적으로 어닐링되거나 용융되도록 하는 용매를 포함하는 것이 유리하다. 이 결과 광학적으로 투명하고 부드러운, 플라스틱 표면 위에 형성된 단단한 UV 보호 코팅층이 얻어진다. 상기 UV 보호 코팅층은 제조된 플라스틱 표면에 코팅층을 결합시키는 것을 보조하는 중합가능한 물질을 선택적으로 포함한다. 상기 폴리싱 및 광택 조성물은, 표면을 활성화시켜 상기 보호 조성물이 플라스틱 표면에 물리적 및 화학적 결합을 형성할 수 있는 결합 사이트를 만들어 내는 것에 의해, UV 보호 코팅층을 수용하고 UV 보호 코팅층과의 더 강한 결합을 형성할 수 있도록 플라스틱 표면을 제조하는 것을 보조할 수 있다. The kit comprises at least one composition for applying a polishing and polishing composition followed by application of a UV protective coating to the plastic surface. Unfortunately, the plastic surface restoration process using the kit described above typically removes a factory applied UV protective coating layer from the plastic surface. The surface without a protective coating will quickly deteriorate by scratch and UV induced oxidation. The UV protective composition comprises a UV protective material dispersed in a carrier, which carrier advantageously comprises a solvent that allows the UV protective composition to anneal or melt effectively into the plastic surface during the buffing process. This results in a hard UV protective coating layer formed on the plastic surface that is optically transparent and smooth. The UV protective coating layer optionally comprises a polymerizable material to assist in bonding the coating layer to the plastic surface produced. The polishing and gloss composition receives the UV protective coating layer and creates a stronger bond with the UV protective coating layer by activating the surface to create a bonding site where the protective composition can form physical and chemical bonds to the plastic surface. It can assist in manufacturing the plastic surface to form.

과거에, 스핀(spin) 및 딥(dip) 코팅, 이어서 베이킹(baking)에 의해 플라스틱 기판에 UV 보호용의 높은 광학적 품질의 투명한 보호 코팅층이 얻어졌다. 본 발명의 UV 코팅 조성물은 낮은 온도(T < 130 ℉)에서 적용할 수 있으며, 이는 용매 캐리어 내에 UV 보호 코팅층을 화학적 분산시켜 얻을 수 있으며, 상기 용매 캐리어는 상기 코팅층이 본래 제조과정에서 행해진 방법과 유사하게 헤드라이트 렌즈에 어닐링되게 하는 것이다. 상기 코팅층에서 고체들은 중합가능한 물질에 의해 더 큰 입자로 응집체로 합쳐지는 결정형 및 UV 보호 나노 입자들로 제조된다는 것을 알 수 있다. 이것은 UV 보호 입자들의 침착을 야기하여 두꺼운 단일층 (>400nm)을 형성한다. 가시영역에서 투명도는 높고, T=87%, 연마저항은 DIN 58-196-G10에 합치하며 ASTM D 3363-92a에 따른 경도는 1H이다. 이 도포 과정으로 눈부심방지(antiglare) 코팅층이 60~80 GU의 조절가능한 윤(gloss) 및 >8 lines/mm의 광학 해상도(optical resolution)를 갖게 한다.In the past, high optical quality transparent protective coatings for UV protection have been obtained on plastic substrates by spin and dip coating, followed by baking. The UV coating composition of the present invention can be applied at low temperatures (T <130 ° F), which can be obtained by chemically dispersing the UV protective coating layer in a solvent carrier, the solvent carrier being the Similarly annealing to the headlight lens. It can be seen that the solids in the coating layer are made of crystalline and UV protective nanoparticles that are aggregated into larger particles by a polymerizable material. This causes deposition of UV protective particles to form a thick monolayer (> 400 nm). The transparency is high in the visible range, T = 87%, the polishing resistance complies with DIN 58-196-G10, and the hardness according to ASTM D 3363-92a is 1H. This application process allows the antiglare coating layer to have an adjustable gloss of 60 to 80 GU and an optical resolution of> 8 lines / mm.

상기 키트는 상기 플라스틱 표면에 폴리싱 및 광택 조성물을 도포하기 위한 적어도 하나의 버핑 패드 또는 버핑 클로스를 포함할 수 있다. 상기 버핑 패드 또는 버핑 클로스는 수작업으로 사용되거나 드릴 또는 기계적 폴리셔(polisher)에 부착될 수 있다. 일 실시예에서, 상기 버핑 패드 또는 버핑 클로스는 유리 섬유로 함침되어 폴리싱 및 광택 화합물의 작용을 증가시킨다. 상기 유리 섬유는, 깊은 스크래치에 관통 또는 "도달"하여, 깊은 스크래치가 v-형 홈(groove)에서 얕은 u-형 함몰부(depression)로 재형성되도록 함으로써, 폴리싱 및 광택 화합물의 작용을 증가시키는 것을 알 수 있다. The kit may include at least one buffing pad or buffing cloth for applying a polishing and polishing composition to the plastic surface. The buffing pad or buffing cloth can be used by hand or attached to a drill or mechanical polisher. In one embodiment, the buffing pad or buffing cloth is impregnated with glass fibers to increase the action of the polishing and polishing compound. The glass fibers penetrate or “reach” into deep scratches, causing deep scratches to reform into shallow u-shaped depressions in the v-shaped grooves, thereby increasing the action of polishing and polishing compounds. It can be seen that.

상기 표면을 재형성하는 것에 의해, 상기 유리 섬유들은 가장 깊은 스크래치의 깊이와 동일한 플라스틱 층을 제거할 필요없이, 플라스틱 표면에서 플라스틱 층을 제거할 필요없이 일부 스크래치가 복원될 수 있게 한다.
By reshaping the surface, the glass fibers allow some scratches to be recovered without having to remove the plastic layer from the plastic surface that is equal to the depth of the deepest scratch.

IIIIII . 플라스틱 표면 복원 방법의 예시. Examples of Plastic Surface Restoration Methods

일 실시예에서, 본 발명은 스크래치 및/또는 산화된 플라스틱 표면에 광 투과성 및 투명성을 복원하는 방법을 포함한다. 상기 방법은 전문가가 본질적으로 어떠한 플라스틱 표면이라도 복원하게 구성된다. 본 발명에 따라 복원될 수 있는 플라스틱 표면의 예는 플라스틱 헤드라이트 커버, 다른 플라스틱 자동차 라이트 커버, 및 썬글라스 렌즈 및 플라스틱 보정 렌즈를 포함하는 플라스틱 안경 렌즈를 포함한다. In one embodiment, the present invention includes a method of restoring light transmission and transparency to scratched and / or oxidized plastic surfaces. The method is adapted for the expert to essentially repair any plastic surface. Examples of plastic surfaces that can be restored in accordance with the present invention include plastic headlight covers, other plastic automotive light covers, and plastic spectacle lenses including sunglasses and plastic correction lenses.

본 발명에 따른 예시적 방법은 (1) 폴리싱 조성물 및 버핑 패드 또는 클로스를 사용하여 플라스틱 표면에서 스크래치 및 산화적 손상을 폴리싱 및 제거하기 위해 버핑 패드 또는 클로스에 폴리싱 조성물을 도포하는 단계; (2) 상기 같거나 다른 버핑 패드 또는 클로스에 광택 조성물을 도포하고, 상기 광택 조성물 및 버핑 패드 또는 클로스를 사용하여 헤드라이트에 광택 및 광학적 투명성을 복원시키는 단계; (3) 상기 폴리싱 및 광택 조성물의 잔류물을 제거하기 위하여 상기 플라스틱 표면을 클리닝하는 단계; 및 (4) 상기 플라스틱 표면에 UV 보호 조성물을 도포하는 단계를 포함한다. 일 실시예에서, 상기 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드는 유리 섬유로 함침된다. An exemplary method according to the present invention comprises the steps of: (1) applying a polishing composition to a buffing pad or cloth using a polishing composition and a buffing pad or cloth to polish and remove scratches and oxidative damage on the plastic surface; (2) applying a gloss composition to the same or different buffing pads or cloths and using the gloss composition and the buffing pads or cloths to restore the gloss and optical transparency to the headlights; (3) cleaning the plastic surface to remove residues of the polishing and gloss composition; And (4) applying a UV protective composition to the plastic surface. In one embodiment, the open cell polyurethane buffing pad is impregnated with glass fibers.

도 2는 스크래치 및/또는 UV 유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면을 복원하는 방법의 일 실시예에 대한 플로우 챠트(20)을 나타낸다. 플루우 챠트(20)는 22에서 시작하여 40에서 끝난다. 일 실시예에서, 상기 방법은 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드에 폴리싱 조성물을 도포하는 단계(24)를 포함한다. 상기 폴리싱 조성물 및 버핑 패드는 플라시틱 표면에서 스크래치 및 산화적 손상을 폴리싱 및 제거하기 위해 사용된다(26). 일 실시예에서, 상기 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드는 유리 섬유로 함침될 수 있다. 상기 폴리싱 조성물 및 유리 섬유는 플라스틱 표면의 더 큰 스크래치로 관통하거나 도달할 수 있고 깊은 v-형 홈(gouge)에서 u-형 함몰부로 스크래치를 재형성할 수 있다는 것을 알 수 있다. 이것은 가장 깊은 스크래치의 깊이와 동등한 플라스틱 층을 제거할 필요없이 더 큰 스크래치를 제거할 수 있게하는 폴리싱 시스템의 특성이다.2 shows a flow chart 20 for one embodiment of a method of restoring a plastic surface damaged by scratch and / or UV induced oxidation. The flue chart 20 starts at 22 and ends at 40. In one embodiment, the method includes applying 24 a polishing composition to an open cell polyurethane buffing pad. The polishing composition and buffing pad are used to polish and remove scratches and oxidative damage at the plastic surface (26). In one embodiment, the open cell polyurethane buffing pad may be impregnated with glass fibers. It can be seen that the polishing composition and glass fibers can penetrate or reach larger scratches on the plastic surface and rebuild the scratch into u-shaped depressions in deep v-type grooves. This is a characteristic of a polishing system that allows for the removal of larger scratches without having to remove the plastic layer equivalent to the depth of the deepest scratches.

상기 버핑 패드 및 상기 폴리싱 조성물은, 종래 휴대용 폴리싱 또는 버핑 기계에 버핑 패드를 부착하는 것에 의해 플라스틱 표면으로부터 스트래치 및 산화적 손상을 폴리싱 및 제거하는데 사용될 수 있다. 대안으로서, 버핑 패드는 제1 연마제 조성물을 가지고 수작업으로 플라스틱 표면으로부터 스크래치 및 산화적 손상을 폴리싱 및 제거할 수 있다. 플라스틱 표면은 필요한만큼 린스되어 오물 및/또는 플라스틱 잔류물을 씻어버리고 플라스틱 표면 및 버핑 패드 및 폴리싱 조성물 사이에 광택을 준다.The buffing pad and the polishing composition can be used to polish and remove stretch and oxidative damage from the plastic surface by attaching the buffing pad to a conventional portable polishing or buffing machine. As an alternative, the buffing pad can polish and remove scratches and oxidative damage from the plastic surface manually with the first abrasive composition. The plastic surface is rinsed as needed to wash away dirt and / or plastic residue and to give a luster between the plastic surface and the buffing pad and polishing composition.

당업자는 이 현상이 사용 동안 점차적으로 더 미세하게 되는 폴리싱 조성물을 만든다는 것을 당연하게 알 수 있을 것이다. 이것은 전형적으로 폴리싱 기술이 이전 연마제에 의해 남겨진 스크래치를 제거하기 위해 점차적으로 더 미세한 일련의 연마제를 사용하는 것과 관련이 있다는 것을 고려할 때 매우 유리한 장점이다. 본 발명의 폴리싱 조성물은, 폴리싱 과정이 계속됨에 따라 점진적으로 더 미세하게 되는 연마 입자들 덕분에, 폴리싱 조성물은 단일 단계에서 많은 폴리싱 단계를 포함하는 점에서, 최종 폴리싱된 표면을 얻기 위해 여러 가지 폴리싱 조성물들을 사용해야만 하지 않도록 제형화되는 것이 유리하다.Those skilled in the art will readily appreciate that this phenomenon results in a polishing composition that becomes progressively finer during use. This is a very advantageous advantage given that the polishing technique typically involves using a series of increasingly finer abrasives to remove the scratches left by the previous abrasive. The polishing composition of the present invention is characterized in that the polishing composition comprises many polishing steps in a single step, thanks to the abrasive particles which become progressively finer as the polishing process continues, so that the polishing composition can be polished in various ways to obtain the final polished surface. It is advantageous to be formulated such that the compositions do not have to be used.

일 실시예에서, 상기 방법은 개방 셀 폴리우레탄 버핑 패드에 광택 조성물을 도포하는 단계(30)를 포함한다. 상기 광택 조성물 및 버핑 패드는 플라스틱 표면에 광출력(lumonious output) 및 광택을 복원시키기 위해 사용된다(32). 상기 버핑 패드 및 광택 조성물은 상기 버핑 패드를 종래 무선 드릴 또는 공기 및 전기 휴대용 폴리싱 또는 버핑 기계에 부착시키는 것에 의해 플라스틱 표면에 광택을 복원시키기 위해 사용될 수 있다. 대안적으로, 상기 버핑 패드는 광택 조성물을 수작업으로 사용되어 플라스틱 표면에 광택을 복원시킬 수 있다. 상기 플라스틱 표면은 필요한 만큼 린스되어(34), 오물 및/또는 플라스틱 잔류물을 씻어 버리고, 상기 플라스틱 표면과 상기 버핑 패드 및 광택 조성물 사이에 광택을 줄 수 있다. In one embodiment, the method includes applying 30 a gloss composition to an open cell polyurethane buffing pad. The gloss composition and buffing pad are used to restore the lumonious output and luster to the plastic surface (32). The buffing pad and gloss composition can be used to restore gloss on the plastic surface by attaching the buffing pad to a conventional cordless drill or air and electric portable polishing or buffing machine. Alternatively, the buffing pad can be manually used with a gloss composition to restore gloss to the plastic surface. The plastic surface may be rinsed as needed 34 to wash away dirt and / or plastic residue and to luster between the plastic surface and the buffing pad and gloss composition.

당업자는, 이 현상이 사용동안 점진적으로 더 미세하게 되는 광택 조성물을 제공한다는 것을 당연히 인식할 것이다. 이것은 전형적인 광택 기술이 이전 연마제에 의해 남겨진 스크래치를 제거하기 위하여 점차 더 미세한 일련의 연마제를 사용하는 것과 관련된다는 점을 고려할 때 매우 유리한 점이다. 본 발명의 광택 조성물은, 연마 입자들이 광택 과정이 계속됨에 따라 점차 미세하게 된다는 사실 덕분에, 광택 조성물이 단일 단계에서 많은 광택 단계들을 포함한다는 점에서, 최종 광택 표면을 얻기 위해 여러 가지 광택 조성물을 사용하지 않도록 제형화되는 것이 유리하다. Those skilled in the art will naturally appreciate that this phenomenon provides a glossy composition that becomes progressively finer during use. This is very advantageous considering that the typical gloss technique involves using a series of increasingly finer abrasives to remove the scratches left by the previous abrasive. The gloss composition of the present invention uses various varieties of gloss compositions to obtain the final gloss surface, in that the gloss composition comprises many gloss steps in a single step, thanks to the fact that the abrasive particles are gradually finer as the gloss process continues. It is advantageously formulated to be unused.

일 실시예에서, 본 방법은 폴리싱 및 광택 복원 단계로부터 잔류물을 제거하기 위하여 플라스틱 표면을 클리닝하는 단계(36)를 포함한다. 클리닝은 스프레이 물 또는 축축한 클로스를 사용하여 완결될 수 있다. 일반적으로 클리닝 단계는 플라스틱 표면에 다시 스크래칭을 일으키는 것을 피하도록 주의해서 수행되어야만 한다. 게다가, 클리닝 단계는 UV 보호 코팅층 도포 전에 폴리싱 및 광택 복원 단계에서의 모든 잔류물을 제거하도록 매우 주의를 기울여 수행되어야만 한다.In one embodiment, the method includes the step 36 of cleaning the plastic surface to remove residue from polishing and gloss restoration steps. Cleaning can be completed using spray water or a damp cloth. In general, the cleaning step should be performed with care to avoid causing scratches on the plastic surface again. In addition, the cleaning step must be performed with great care to remove all residues in the polishing and gloss restoration steps before applying the UV protective coating layer.

일 실시예에서, 본 방법은 플라스틱 표면에 UV 보호 조성물을 도포하는 단계(38)를 포함한다. 일반적으로 공장 도포된 UV 보호 코팅층은 플라스틱 표면에 폴리싱 및 광택 복원 과정에서 제거된다. 만약 새로운 UV 보호 코팅층이 도포되지 않으면 소자에 대한 노출로 인하여 플라스틱 표면이 빠르게 열화되고 복원 장점을 잃게될 것이다.In one embodiment, the method includes applying 38 a UV protective composition to the plastic surface. Typically, factory applied UV protective coatings are removed during polishing and restoration of gloss on plastic surfaces. If a new UV protective coating is not applied, the plastic surface will quickly deteriorate due to exposure to the device and lose its restoration advantages.

일 실시예에서, UV 보호 조성물은, 코팅층이 플라스틱 표면에 어닐링하게 하는 적어도 하나의 용매; 플라스틱 표면에 단단하고 깨끗한 코팅층을 형성하게 하는 적어도 하나의 중합체 또는 중합가능한 화합물, 및 미래의 UV 유도성 손상으로부터 플라스틱 표면을 보호하는 적어도 하나의 UV 보호 화합물을 포함한다.In one embodiment, the UV protective composition comprises at least one solvent that allows the coating layer to anneal to the plastic surface; At least one polymer or polymerizable compound that allows to form a hard and clean coating layer on the plastic surface, and at least one UV protective compound that protects the plastic surface from future UV-induced damage.

일 실시예에서, UV 보호 조성물에서 용매는 적어도 하나의 에테르 화합물을 포함한다. 다른 실시예에서, 상기 용매는 알코올이다. 에테르가 주 용매일 때, 에테르 화합물은 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 1% 내지 약 20%로 구성되는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게, 에테르 화합물은 약 5% ~ 약 15% 및 가장 바람직하게는 8~12%로 구성된다. 알코올이 주 용매일 때, 알코올은 바람직하게는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 70 ~ 약 98%로 구성된다. 더욱 바람직하게는, 알코올은 UV 보호 조성물의 약 80% ~ 약 95%로 구성된다. 가장 바람직하게는 알코올은 약 87% ~ 약 93%로 구성된다. 에테르 화합물은 예를 들어 디프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르 및 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르를 포함한다. 알코올은 예를 들어 이소프로필 알코올을 포함한다. 상기 용매는 또한 본 발명의 기술적 사상을 벗어나는 것 없이 알코올 및 에테르 화합물의 혼합물로 이루어질 수 있다.In one embodiment, the solvent in the UV protective composition comprises at least one ether compound. In another embodiment, the solvent is an alcohol. When the ether is the main solvent, the ether compound preferably consists of about 1% to about 20% of the UV protective composition on a weight / weight basis. More preferably, the ether compound consists of about 5% to about 15% and most preferably 8-12%. When the alcohol is the main solvent, the alcohol preferably consists of about 70 to about 98% of the UV protective composition on a weight / weight basis. More preferably, the alcohol consists of about 80% to about 95% of the UV protective composition. Most preferably the alcohol consists of about 87% to about 93%. Ether compounds include, for example, dipropylene glycol n-butyl ether and ethylene glycol monobutyl ether. Alcohols include, for example, isopropyl alcohol. The solvent may also consist of a mixture of alcohol and ether compounds without departing from the spirit of the invention.

일 실시예에서, 단단하고 깨끗한 코팅층을 플라스틱 표면에 형성할 수 있는 중합체 또는 중합가능한 화합물은 적어도 하나의 아크릴-우레탄 하이브리드 중합체 분산액(dispersion)을 포함한다. 아크릴-우레탄 하이브리드 중합체 분산액은 예를 들어, Hybridur 570TM 및 Hybridur 580TM을 포함하며, 이는 에어 프로덕트 앤 케미칼 인크(Air Products and Chemical, Inc.)로부터 구매가능하다. Hybridur 570TM 및 Hybridur 580TM는 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다. 바람직하게는 Hybridur 570TM 는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 40% ~ 약 65%를 구성한다. 더욱 바람직하게는 Hybridur 570TM 는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 45% ~ 약 60%를 구성한다. 가장 바람직하게는 Hybridur 570TM 는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 50% ~ 약 55%를 구성한다. 바람직하게는, Hybridur 580TM 는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 10% ~ 약 35%를 구성한다. 더욱 바람직하게는 Hybridur 580TM 는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 15% ~ 약 30%를 구성한다. 가장 바람직하게는 Hybridur 580TM 는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 20% ~ 약 25%를 구성한다. In one embodiment, the polymer or polymerizable compound capable of forming a hard and clean coating layer on the plastic surface comprises at least one acrylic-urethane hybrid polymer dispersion. Acrylic-urethane hybrid polymer dispersions include, for example, Hybridur 570 and Hybridur 580 , which are commercially available from Air Products and Chemical, Inc. Hybridur 570 and Hybridur 580 can be used alone or in combination. Preferably the Hybridur 570 constitutes about 40% to about 65% of the UV protective composition on a weight / weight basis. More preferably Hybridur 570 constitutes about 45% to about 60% of the UV protective composition on a weight / weight basis. Most preferably Hybridur 570 constitutes about 50% to about 55% of the UV protective composition on a weight / weight basis. Preferably, the Hybridur 580 constitutes about 10% to about 35% of the UV protective composition on a weight / weight basis. More preferably Hybridur 580 constitutes about 15% to about 30% of the UV protective composition on a weight / weight basis. Most preferably Hybridur 580 constitutes about 20% to about 25% of the UV protective composition on a weight / weight basis.

또 다른 실시예에서, 플라스틱 표면에 단단하고 깨끗한 코팅층을 형성하는 상기 중합체 또는 중합 가능한 물질은 적어도 하나의 아크릴 중합체를 포함한다. 아크릴 중합체의 예로는 Elvacite 2776TM(Lucite International)이 있다. 바람직하게 Elvacite 2776TM는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 0.5% ~ 약 10%를 구성한다. 더욱 바람직하게는 Elvacite 2776TM는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 1% ~ 약 8%를 구성한다. 가장 바람직하게는 Elvacite 2776TM는 중량/중량 베이스로 UV 보호 조성물의 약 2% ~ 약 5%를 구성한다. In yet another embodiment, the polymer or polymerizable material to form a hard and clean coating layer on the plastic surface comprises at least one acrylic polymer. An example of an acrylic polymer is Elvacite 2776 (Lucite International). Preferably Elvacite 2776 comprises from about 0.5% to about 10% of the UV protective composition on a weight / weight basis. More preferably Elvacite 2776 constitutes about 1% to about 8% of the UV protective composition by weight / weight. Most preferably Elvacite 2776 constitutes from about 2% to about 5% of the UV protective composition on a weight / weight basis.

UV 보호 코팅층은 UV 유도성 손상으로부터 플라스틱 표면을 보호하기 위하여 적어도 하나의 UV 보호 화합물을 포함한다. 예를 들어 UV 보호 화합물은 Tinuvin 384TM 및 Tinuvin 292TM(Ciba 사 제품), 벤조페논, 벤조트리아졸, 히드록시페닐트리아진 및 히드록시페닐벤조트리아졸과 같은 장애 아민(hindered amine) 화합물들이다. 바람직하게는 UV 보호 화합물 또는 화합물들은 중량/중량 베이스로 UV 보호 코팅층의 약 0.01% ~ 약 1%를 구성한다. 더욱 바람직하게는 UV 보호 화합물 또는 화합물들은 중량/중량 베이스로 UV 보호 코팅층의 약 0.05% ~ 약 0.5%를 구성한다. 가장 바람직하게는 UV 보호 화합물 또는 화합물들은 중량/중량 베이스로 UV 보호 코팅층의 약 0.1% ~ 약 0.3%를 구성한다.
The UV protective coating layer comprises at least one UV protective compound to protect the plastic surface from UV induced damage. UV protection compounds are, for example, hindered amine compounds such as Tinuvin 384 and Tinuvin 292 (from Ciba), benzophenone, benzotriazole, hydroxyphenyltriazine and hydroxyphenylbenzotriazole. Preferably the UV protective compound or compounds constitute from about 0.01% to about 1% of the UV protective coating layer on a weight / weight basis. More preferably, the UV protective compound or compounds constitute from about 0.05% to about 0.5% of the UV protective coating layer on a weight / weight basis. Most preferably the UV protective compound or compounds constitute from about 0.1% to about 0.3% of the UV protective coating layer on a weight / weight basis.

UV 보호 조성물에 포함될 수 있는 추가적인 성분들은, 플라스틱 표면에 도포될 때, 코팅층의 균일성을 개선시키는 습윤제(wetting agent), 코팅층의 내구성을 증가시키는 가소제(Plasticizer), 및 UV 보호 코팅층에서 공기 기포의 형성을 방해하는 소포제(antifoaming agent)를 포함한다. 예를 들어 습윤제는 BYK-345TM, BYK-346TM, BYK-347TM, BYK-348TM, BYK-349TM,(BYK Chemie, Inc. 사 제품)과 같은 폴리에테르 개질 실록산, 및 소듐 디옥틸 설퍼숙시네이트(Cytec 사)를 포함한다. 가소제는 예를 들어 트리에틸 시트레이트, 아세틸 트리에틸 시트레이트, 트리부틸 시트레이트, 아세틸 트리부틸 시트레이트 및 트리-(2-에틸헥식)-시트레이트와 같은 시트르산 유도체를 포함한다. 예를 들어 소포제는 SurfynolTM(Air Products and Chemicals, Inc. 사) 시리즈를 포함한다.
Additional components that may be included in the UV protective composition include wetting agents that improve the uniformity of the coating layer when applied to the plastic surface, plasticizers that increase the durability of the coating layer, and air bubbles in the UV protective coating layer. Antifoaming agents that interfere with their formation. For example, the wetting agent is BYK-345 TM, BYK-346 TM, BYK-347 TM, BYK-348 TM, BYK-349 TM, polyether modified siloxane, and sodium dioctyl like (BYK Chemie, Inc., Inc.) Sulfosuccinate (Cytec). Plasticizers include, for example, citric acid derivatives such as triethyl citrate, acetyl triethyl citrate, tributyl citrate, acetyl tributyl citrate and tri- (2-ethylhexa) -citrate. For example, antifoams include the Surfynol (Air Products and Chemicals, Inc.) series.

구체적 제형의 예Examples of Specific Formulations

하기에 본 발명에 따른 조성물 및 방법의 구체적 예가 개시된다.
In the following specific examples of the compositions and methods according to the invention are disclosed.

실시예Example 1 One

본 발명에 따라 미디엄 연마 폴리싱 조성물이 다음 제형으로 제조되었다.According to the invention a medium abrasive polishing composition was prepared in the following formulation.

% W/W% W / W 단단한 연마 물질Hard abrasive material 30.030.0 프로필렌 글리콜Propylene glycol 5.05.0 카르복시메틸 셀룰로오스Carboxymethyl Cellulose 1.01.0 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 코폴리머Ethylene Oxide / Propylene Oxide Block Copolymer 2.52.5 Fragrance 98164Fragrance 98164 0.20.2 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아자-1-아조니아 아다만탄 클로라이드
[1-(3-chloroallyl)-3,5-7-Triaza-1-azonia adamantane chloride)
1- (3-chloroallyl) -3,5,7-triaza-1-azonia adamantane chloride
(1- (3-chloroallyl) -3,5-7-Triaza-1-azonia adamantane chloride)
0.20.2

충분히 탈이온화된 물을 첨가하여 총 부피 100%(w/w)로 하였다.Fully deionized water was added to bring the total volume to 100% (w / w).

조성물을 실질적으로 무산소 환경에서 제조하고 포장하고 저장하였다. 예를 들어 건조 물질을 혼합기기에 첨가하였다. 연속해서 본질적으로 모든 산소가 건조 성분들로부터 증발되도록 상기 건조 물질 및 믹서를 진공으로 노출시켰다. 질소와 같은 불활성 기체를 믹싱 기기 배후로 첨가하고, 액상 성분을 첨가하고 조성물을 혼합하였다. 상기 조성물을 실질적으로 무산소 환경에서 연속 포장하였다. The composition was prepared, packaged and stored in a substantially oxygen free environment. For example, dry material was added to the mixer. The dry material and the mixer were exposed in vacuo so that essentially all of the oxygen evaporated from the dry ingredients. An inert gas such as nitrogen was added behind the mixing apparatus, the liquid component was added and the composition mixed. The composition was packaged continuously in a substantially oxygen free environment.

무산소 조건에서 조성물을 제조하고 포장함에 따라 연마 입자들은 더 큰 입자들로 응집된다. 산소 부족은 연마 입자의 표면 전하 성질을 변경시키기 때문에 이러한 응집은 실질적으로 무산소 환경에서 일어난다는 것이 상정된다. 당해 기술분야의 전문가는 이러한 응집이 연마 입자들이 폴리싱 과정동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때 점진적으로 반전(reverse)된다는 것을 인식할 것이다.As the composition is prepared and packaged in anoxic conditions, the abrasive particles aggregate into larger particles. Since oxygen deficiency alters the surface charge properties of the abrasive particles, it is assumed that such agglomeration occurs substantially in an oxygen free environment. Those skilled in the art will appreciate that such agglomeration is gradually reversed when abrasive particles are exposed to oxygen and mechanical pressure during the polishing process.

상기 제형은 크림형 점성 로션 농도를 나타내고 크림색이었다. 본 실시예 및 다른 실시예에서 코코넛 향이 미적 목적으로 첨가되었으며, 상기 향은 폴리싱 조성물의 효능을 변경하지 않고 생략되거나 또는 대체될 수 있다는 것을 이해해야 한다. 이 제형은 플라스틱 표면에서 스크래치를 제거하기 위한 광범위하게 다양한 용도를 갖는다. 이것은 플라스틱 헤드라이트 커버로부터 스크래치 및 산화적 손상을 폴리싱 및 제거하는 초기 처치에 바람직한 조성이다.The formulation exhibited a creamy viscous lotion concentration and was creamy in color. It is to be understood that, in this and other embodiments, coconut aromas have been added for aesthetic purposes, which can be omitted or replaced without altering the efficacy of the polishing composition. This formulation has a wide variety of uses for removing scratches from plastic surfaces. This is a preferred composition for the initial treatment of polishing and removing scratch and oxidative damage from the plastic headlight cover.

본 실시예에 따른 헤비 내지 미디엄 연마 제형은 플라스틱 창문, 플라스틱 또는 아크릴 가구, 가면의 플라스틱 실드(shield), 경찰차의 라이트 바(light bar), 스키 전차(tram) 또는 곤돌라, 광고 사인의 전면, 및 많은 다른 응용품들과 같은 플라스틱 물질을 복원 및 수리하는데 있어 초기 처치에 또한 유용할 것이다.Heavy to medium abrasive formulations according to this embodiment may include plastic windows, plastic or acrylic furniture, plastic shields of masks, light bars of police cars, ski trams or gondola, the front of advertising signs, and It may also be useful for initial treatment in repairing and repairing plastic materials such as many other applications.

상술된 제형이 현재 바람직한 제형이지만, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나는 것 없이 다양한 변형이 이루어질 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 본 실시예에서, 단단한 폴리싱 물질은 고령석 수정(kaolinitic quartz), 실리콘 디옥사이드 및 소성 알루미나(calcined alumina)의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 폴리싱 물질의 입자 크기는 약 50 미크론 ~ 약 400 미크론의 범위이다. 총 연마 성분은 약 23%, 연마 성분의 더 넓은 범위는 약 15% ~ 약 35%, 더욱 바람직한 범위는 약 20% ~ 약 30%의 범위이다. 본 실시예에서 기술된 타입의 헤비 내지 메디엄 연마 제형을 제형화하는데 있어 남은 구성성분들의 함량비는 그들의 기능을 유지하기에 필요한 정도로 변화시켜 제조할 수 있다.
While the formulations described above are presently preferred formulations, it should be understood that various modifications may be made without departing from the spirit of the invention. In this embodiment, the hard polishing material may comprise a mixture of kaolinitic quartz, silicon dioxide and calcined alumina. The particle size of the polishing material ranges from about 50 microns to about 400 microns. The total abrasive component is about 23%, the wider range of abrasive component is in the range of about 15% to about 35%, more preferably in the range of about 20% to about 30%. The content ratios of the remaining ingredients in formulating heavy to medium abrasive formulations of the type described in this example can be prepared by varying them to the extent necessary to maintain their function.

실시예Example 2 2

본 발명에 따른 라이트 연마 광택 조성물은 다음 제형으로 제조되었다.The light abrasive gloss composition according to the present invention was prepared in the following formulation.

% W/W% W / W 단단한 연마 물질Hard abrasive material 30.030.0 프로필렌 글리콜Propylene glycol 5.05.0 카르복시메틸 셀룰로오스Carboxymethyl Cellulose 1.01.0 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 코폴리머Ethylene Oxide / Propylene Oxide Block Copolymer 2.52.5 Fragrance 98164 Fragrance 98164 0.20.2 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아자-1-아조니아 아다만탄 클로라이드
[1-(3-chloroallyl)-3,5-7-Triaza-1-azonia adamantane chloride)
1- (3-chloroallyl) -3,5,7-triaza-1-azonia adamantane chloride
(1- (3-chloroallyl) -3,5-7-Triaza-1-azonia adamantane chloride)
0.20.2

충분히 탈이온화된 물을 첨가하여 총 부피 100%(w/w)로 하였으며, 로션과 유사한 농도를 갖는 점성의 크림색 유동액을 제조하였다. 본 실시예 및 다른 실시예에서 코코넛 향이 미적 목적으로 첨가되었으며, 상기 향은 폴리싱 조성물의 효능을 변경하지 않고 생략되거나 또는 대체될 수 있다는 것을 이해해야 한다. Sufficient deionized water was added to a total volume of 100% (w / w), to prepare a viscous creamy liquid with a concentration similar to lotion. It is to be understood that, in this and other embodiments, coconut aromas have been added for aesthetic purposes, which can be omitted or replaced without altering the efficacy of the polishing composition.

이 조성물은 실질적으로 무산소 환경에서 제조, 포장 및 저장된다. 예를 들어 건조 물질이 혼합기기에 첨가된다. 연속해서 본질적으로 모든 산소가 건조 성분들로부터 증발되도록 상기 건조 물질 및 믹서가 진공으로 노출된다. 질소와 같은 불활성 기체를 믹싱 기기 배후로 첨가하고, 액상 성분을 첨가하고 조성물이 혼합된다. 상기 조성물은 실질적으로 무산소 환경에서 연속 포장된다. The composition is manufactured, packaged and stored in a substantially oxygen free environment. Dry material is added to the mixer, for example. The dry material and the mixer are exposed in vacuo so that essentially all of the oxygen is evaporated from the dry ingredients. An inert gas such as nitrogen is added behind the mixing apparatus, the liquid component is added and the composition is mixed. The composition is packaged continuously in a substantially oxygen free environment.

무산소 조건에서 조성물을 제조하고 포장함에 따라 연마 입자들은 더 큰 입자들로 응집된다는 것을 알 수 있다. 산소 부족은 연마 입자의 표면 전하 성질을 변경시키 때문에 이러한 응집은 실질적으로 무산소 환경에서 일어난다는 것이 상정된다. 당해 기술분야의 전문가는 연마 입자들이 폴리싱 과정 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 이러한 응집이 점진적으로 반전된다는 것을 인식할 것이다.It can be seen that as the composition is prepared and packaged in anoxic conditions, the abrasive particles aggregate into larger particles. It is assumed that this agglomeration occurs substantially in an oxygen free environment because oxygen deficiency alters the surface charge properties of the abrasive particles. Those skilled in the art will recognize that this aggregation gradually reverses when abrasive particles are exposed to oxygen and mechanical pressure during the polishing process.

상기 라이트 연마 제형은 다양한 용도를 갖지만, 실시예 1의 폴리싱 조성물로 일차 처리된 플라스틱의 광택 처리로서 특히 바람직하다. 이것은 플라스틱 창문, 플라스틱 또는 아크릴 가구, 가면의 플라스틱 실드(shield), 경찰차의 라이트 바(light bar), 스키 전차(tram) 또는 곤돌라, 광고 사인의 전면, 및 많은 다른 응용품들에 사용되는 것이 바람직하다. 또한 이것은 작은 스크래치의 버핑 또는 제거, 다른 플라스틱의 헤이징(hazing) 및 변색에 유용하며, 특히 안경 렌즈(썬 글래스 및/또는 보정 렌즈)로부터 스크래치를 제거하는 데 특히 유용하다.The light abrasive formulations have a variety of uses, but are particularly preferred as a gloss treatment of plastics primarily treated with the polishing composition of Example 1. It is preferably used for plastic windows, plastic or acrylic furniture, plastic shields of masks, light bars of police cars, ski trams or gondola, fronts of advertising signs, and many other applications. Do. It is also useful for buffing or removing small scratches, hazing and discoloration of other plastics, and especially for removing scratches from spectacle lenses (sunglasses and / or correction lenses).

상술된 제형이 현재 바람직한 제형으로 제시되었지만, 본 발명의 기술적 사상에서 벗어나는 것 없이 다양한 변형을 이룰 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 본 실시예에서, 상기 단단한 폴리싱 물질은 고령석 수정(kaolinitic quartz), 실리콘 디옥사이드 및 소성 알루미나(calcined alumina)의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 폴리싱 물질의 입자 크기는 약 1 미크론 ~ 50 미크론의 범위이다. 총 연마 성분은 약 23%, 연마 성분의 더 넓은 범위는 약 15% ~ 약 35%, 더욱 바람직한 범위는 약 20% ~ 약 30%의 범위이다. 본 실시예에서 기술된 타입의 라이트 연마 제형을 제형화하는데 있어 남은 구성 성분들의 함량비는 그들의 기능을 유지하기에 필요한 정도로 변화시켜 제조할 수 있다는 것이 이해되어야 한다.
While the formulations described above have been presented as presently preferred formulations, it should be understood that various modifications may be made without departing from the spirit of the invention. In this embodiment, the hard polishing material may comprise a mixture of kaolinitic quartz, silicon dioxide and calcined alumina. The particle size of the polishing material is in the range of about 1 micron to 50 microns. The total abrasive component is about 23%, the wider range of abrasive component is in the range of about 15% to about 35%, more preferably in the range of about 20% to about 30%. It is to be understood that the content ratios of the remaining constituents in formulating the light abrasive formulations of the type described in this example can be prepared by varying the amounts necessary to maintain their function.

실시예Example 3 3

본 발명에 따른 헤비 연마 광택 조성물은 다음 제형으로 제조되었다.The heavy abrasive polishing composition according to the present invention was prepared in the following formulation.

성분ingredient 상표명/공급자Brand Name / Supplier % W/W% W / W 마그네슘 알루미늄 실리케이트(5% 분산액)Magnesium Aluminum Silicate (5% Dispersion) Van Gel/RT VanderbiltVan gel / rt vanderbilt 30.030.0 프로필렌 글리콜Propylene glycol 플로필렌 글리콜Plovylene Glycol 5.05.0 카르복시메틸 셀룰로오스Carboxymethyl Cellulose CMC7H 또는 CMC
9M31XF/Aqualon-Hercules
CMC7H or CMC
9M31XF / Aqualon-Hercules
1.01.0
알루미늄 실리케이트Aluminum silicate Kaopolite/Kaopolite Co.Kaopolite / Kaopolite Co. 18.018.0 용융형 실리케이트(8.8 microns average)Melt silicates (8.8 microns average) Siltex 44/Kaopolite Co.Siltex 44 / Kaopolite Co. 3.03.0 베마이트 알루미나(60 microns average)Boehmite alumina (60 microns average) Catapal D/Sasol (formerly Vista)Catapal D / Sasol (formerly Vista) 2.02.0 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 코폴리머Ethylene Oxide / Propylene Oxide Block Copolymer Tergitol 15-S-7/DowTergitol 15-S-7 / Dow 2.52.5 Fragrance 98764Fragrance 98764 Fragrance 98764/NovilleFragrance 98764 / Noville 0.20.2 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아자-1-아조니아 아다만탄 클로라이드
[1-(3-chloroallyl)-3,5-7-Triaza-1-azonia adamantane chloride)
1- (3-chloroallyl) -3,5,7-triaza-1-azonia adamantane chloride
(1- (3-chloroallyl) -3,5-7-Triaza-1-azonia adamantane chloride)
Dowicil 75Dowicil 75 0.20.2
탈이온수Deionized water to 100 to 100

상기 헤비 제형은, 비록 콤팩트 디스크 류와 함께 사용되지 않을지라도, 실시예 1에 나열된 대부분의 플라스틱 물질로부터 스크래치를 빠르게 제거하는데 유용하다. 실시예 1에 기술된 미디엄 제형 및/또는 실시예 2에 기술된 라이트 제형은 상기 헤비 제형으로 초기 처치한 후 수리를 완결하기 위해 사용될 수 있다.
The heavy formulations are useful for quickly removing scratches from most of the plastic materials listed in Example 1, although not used with compact discs. The medium formulation described in Example 1 and / or the light formulation described in Example 2 can be used to complete the repair after initial treatment with the heavy formulation.

실시예4Example 4

본 발명에 따른 미디엄 연마 폴리싱 조성물은 다음 제형으로 제조되었다:Medium abrasive polishing compositions according to the present invention were prepared in the following formulations:

성분ingredient 상표명/공급자Brand Name / Supplier % W/W% W / W 마그네슘 알루미늄 실리케이트(5% 분산액)Magnesium Aluminum Silicate (5% Dispersion) Van Gel/RT VanderbiltVan gel / rt vanderbilt 30.030.0 프로필렌 글리콜Propylene glycol 플로필렌 글리콜Plovylene Glycol 5.05.0 카르복시메틸 셀룰로오스Carboxymethyl Cellulose CMC7H 또는 CMC
9M31XF/Aqualon-Hercules
CMC7H or CMC
9M31XF / Aqualon-Hercules
1.01.0
알루미늄 실리케이트Aluminum silicate Kaopolite/Kaopolite Co.Kaopolite / Kaopolite Co. 8.08.0 셀라이트 규조토(Celite Diatomaceous Silica)Celite Diatomaceous Silica Super Floss 또는 Snow Floww/CeliteSuper Floss or Snow Floww / Celite 7.07.0 베마이트 알루미나(60 microns average)Boehmite alumina (60 microns average) Catapal D/Sasol (formerly Vista)Catapal D / Sasol (formerly Vista) 8.08.0 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 코폴리머Ethylene Oxide / Propylene Oxide Block Copolymer Tergitol 15-S-7/DowTergitol 15-S-7 / Dow 2.52.5 Fragrance 98764Fragrance 98764 Fragrance 98764/NovilleFragrance 98764 / Noville 0.20.2 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아자-1-아조니아 아다만탄 클로라이드1- (3-chloroallyl) -3,5,7-triaza-1-azonia adamantane chloride Dowicil 75Dowicil 75 0.20.2 탈이온수Deionized water to 100 to 100

상기 제형은 실시예 1에 기술된 것과 같은 여러 가지 용도에 적합하다. 베마이트 알루미늄은 상대적으로 부드럽다는 장점을 갖는다. 이것은 사용 동안 좀 더 작은 조각으로 쪼개져서, 수리 과정 동안 증가되는 작은 스크래치들을 수리하는 것을 돕게될 것이다.
The formulation is suitable for a variety of uses such as those described in Example 1. Boehmite aluminum has the advantage of being relatively soft. This will break into smaller pieces during use, which will help to repair small scratches that increase during the repair process.

실시예Example 5 5

본 발명에 따른 미세 연마 광택 조성물이 다음 제형으로 제조되었다:Fine polishing varnish compositions according to the invention were prepared in the following formulations:

성분ingredient 상표명/공급자Brand Name / Supplier % W/W% W / W 마그네슘 알루미늄 실리케이트(5% 분산액)Magnesium Aluminum Silicate (5% Dispersion) Van Gel/RT VanderbiltVan gel / rt vanderbilt 30.030.0 프로필렌 글리콜Propylene glycol 플로필렌 글리콜Plovylene Glycol 5.05.0 카르복시메틸 셀룰로오스Carboxymethyl Cellulose CMC7H 또는 CMC
9M31XF/Aqualon-Hercules
CMC7H or CMC
9M31XF / Aqualon-Hercules
1.01.0
알루미늄 실리케이트Aluminum silicate Kaopolite/Kaopolite Co.Kaopolite / Kaopolite Co. 23.023.0 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 코폴리머Ethylene Oxide / Propylene Oxide Block Copolymer Tergitol 15-S-7/DowTergitol 15-S-7 / Dow 2.52.5 Fragrance 98764Fragrance 98764 Fragrance 98764/NovilleFragrance 98764 / Noville 0.20.2 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아자-1-아조니아 아다만탄 클로라이드1- (3-chloroallyl) -3,5,7-triaza-1-azonia adamantane chloride Dowicil 75Dowicil 75 0.20.2 탈이온수Deionized water to 100 to 100

상기 미세 연마 제형은 실시예 2와 유사하나 더 미세한 연마제를 갖는다. 실시예 2에서처럼, 상기 광택 조성물은 다양한 용도를 가지나, 실시예1 및/또는 실시예 3의 조성물로 1차 처리된 플라스틱 표면의 최종 처리제로서 용도가 특히 바람직하다.
The fine abrasive formulation is similar to Example 2 but with a finer abrasive. As in Example 2, the gloss composition has a variety of uses, but is particularly preferred as a final treatment agent for plastic surfaces primarily treated with the compositions of Examples 1 and / or 3.

실시예Example 6 6

라이트 연마 폴리싱 조성물은 다음 제형을 갖는다:The light abrasive polishing composition has the following formulation:

성분ingredient 상표명/공급자Brand Name / Supplier % W/W% W / W 마그네슘 알루미늄 실리케이트(5% 분산액)Magnesium Aluminum Silicate (5% Dispersion) Van Gel/RT VanderbiltVan gel / rt vanderbilt 30.030.0 프로필렌 글리콜Propylene glycol 플로필렌 글리콜Plovylene Glycol 5.05.0 카르복시메틸 셀룰로오스Carboxymethyl Cellulose CMC7H 또는 CMC
9M31XF/Aqualon-Hercules
CMC7H or CMC
9M31XF / Aqualon-Hercules
1.01.0
알루미늄 실리케이트Aluminum silicate Kaopolite/Kaopolite Co.Kaopolite / Kaopolite Co. 11.511.5 지르코니아(2-4 microns average)Zirconia (2-4 microns average) 11.511.5 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 코폴리머Ethylene Oxide / Propylene Oxide Block Copolymer Tergitol 15-S-7/DowTergitol 15-S-7 / Dow 2.52.5 Fragrance 98764Fragrance 98764 Fragrance 98764/NovilleFragrance 98764 / Noville 0.20.2 1-(3-클로로알릴)-3,5,7-트리아자-1-아조니아 아다만탄 클로라이드1- (3-chloroallyl) -3,5,7-triaza-1-azonia adamantane chloride Dowicil 75Dowicil 75 0.20.2 탈이온수Deionized water to 100 to 100

본 실시예는 연마제로서 지르코니아(지르코늄 옥사이드)를 포함한다. 이것은 주의깊게 사용되어야 하는 단단한 물질이다.
This embodiment includes zirconia (zirconium oxide) as an abrasive. This is a hard material that must be used carefully.

실시예Example 7 7

UV 보호 코팅층은 본 발명에 따라 다음 제형으로 제조되었다:UV protective coatings were prepared according to the invention in the following formulations:

성분 설명Ingredient Description 상표명Brand name % W/W% W / W 디프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르 Dipropylene glycol n-butyl ether Arcosolve DPnB Arcosolve DPnB 9.89.8 폴리에테르 개질된 폴리디메틸실록산Polyether modified polydimethylsiloxane BYK-346BYK-346 0.50.5 라이트 안정화제Light stabilizer Tinuvin 384Tinuvin 384 0.70.7 라이트 안정화제Light stabilizer Tinuvin 292Tinuvin 292 0.40.4 우레탄 하이브리드 중합체Urethane hybrid polymer Hybridur 570 Polymer DispersionHybridur 570 Polymer Dispersion 51.551.5 우레탄 하이브리드 중합체Urethane hybrid polymer Hybridur 580 polymer DispersionHybridur 580 polymer Dispersion 22.122.1 소포제Antifoam Surfynol DF-58Surfynol DF-58 0.20.2 물, DIWater, DI Water, DIWater, DI 14.914.9 총 100.0 100.0 total

상기 코팅 조성물은 균일한 유동성 액체로 나타났다. 상기 라이트 UV 보호 코팅층은 여러가지 용도를 가지나, 실시예 1~6의 하나 이상의 조성물로 처리한 플라스틱 표면에 UV 보호 코팅층을 복원하기 위한 코팅층으로서 용도가 특히 바람직하다. 플라스틱 헤드라이트 커버, 플라스틱 창문, 플라스틱 또는 아크릴 가구, 가면의 플라스틱 실드, 경찰차의 라이트 바, 스키 전차 또는 곤돌라, 광고 사인의 전면 및 많은 다른 응용품에 사용되는 것이 바람직하다. 또한 다른 플라스틱, 특히 안경 렌즈(예를 들어, 썬 글라스 및/또는 보정 렌즈)에 UV 보호 코팅층을 적용하는데 유용할 것이다. The coating composition appeared to be a uniform flowable liquid. The light UV protective coating layer has various uses, but its use is particularly preferred as a coating layer for restoring the UV protective coating layer on the plastic surface treated with one or more compositions of Examples 1-6. It is preferably used for plastic headlight covers, plastic windows, plastic or acrylic furniture, plastic shields of masks, light bars of police cars, ski chariots or gondola, fronts of advertising signs and many other applications. It would also be useful to apply UV protective coatings to other plastics, in particular spectacle lenses (eg, sun glasses and / or correction lenses).

상술한 제형이 바람직한 것으로 제시되었지만, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않고 다양한 변형이 이루어질 수 있다는 것을 이해해야만 한다. 본 실시예에서 기술된 타입의 UV 보호 코팅층 제형을 제형화하는데 있어, 남은 구성 성분들의 함량비는 그들의 기능을 유지하기에 필요한 정도로 변화시켜 제조할 수 있다.
While the formulation described above has been presented as being preferred, it should be understood that various modifications may be made without departing from the spirit of the invention. In formulating UV protective coating layer formulations of the type described in this example, the content ratio of the remaining constituents can be prepared by varying the amount necessary to maintain their function.

실시예Example 8 8

UV 보호 코팅층은 본 발명에 따라 다음 제형으로 제조되었다:UV protective coatings were prepared according to the invention in the following formulations:

성분 ingredient 상표명/공급자Brand Name / Supplier % W/W% W / W 이소프로필 알코올Isopropyl Alcohol 적당한 공급자 Suitable supplier 88.8588.85 아크릴 중합체Acrylic polymer Elvacite 2776/Lucite InternationalElvacite 2776 / Lucite International 3.03.0 소듐디옥틸 설퍼숙시네이트, 75%Sodium dioctyl sulfosuccinate, 75% Aerosol OT-75/CytecAerosol OT-75 / Cytec 0.050.05 트리에틸 시트레이트Triethyl citrate Citroflex 2/MorflexCitroflex 2 / Morflex 0.30.3 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르Ethylene Glycol Monobutyl Ether Dowanol EB/DowDowanol EB / Dow 7.07.0 라이트 안정화제Light stabilizer Tinuvin 384/CibaTinuvin 384 / Ciba 0.50.5 라이트 안정화제Light stabilizer Tinuvin 292/CibaTinuvin 292 / Ciba 0.30.3 총 100.0 100.0 total

상기 코팅 조성물은 균일한 유동성 액체로 나타났으며 약 30분 동안 건조되어 단단하고, 투명한 표면을 얻었다.
The coating composition appeared as a uniform flowable liquid and dried for about 30 minutes to obtain a hard, transparent surface.

실시예Example 9 9

UV 보호 코팅층은 본 발명에 따라 다음 제형으로 제조되었다:UV protective coatings were prepared according to the invention in the following formulations:

성분 ingredient 상표명/공급자Brand Name / Supplier % W/W% W / W 이소프로필 알코올Isopropyl Alcohol 적당한 공급자 Suitable supplier 90.9590.95 아크릴 중합체Acrylic polymer Elvacite 2776/Lucite InternationalElvacite 2776 / Lucite International 3.03.0 소듐디옥틸 설퍼숙시네이트, 75%Sodium dioctyl sulfosuccinate, 75% Aerosol OT-75/CytecAerosol OT-75 / Cytec 0.050.05 디프로필렌 글리콜 n-부틸 에테르Dipropylene glycol n-butyl ether Arcosolve DPnB/ArcoArcosolve DPnB / Arco 5.05.0 라이트 안정화제Light stabilizer Tinuvin 384/CibaTinuvin 384 / Ciba 0.50.5 라이트 안정화제Light stabilizer Tinuvin 292/CibaTinuvin 292 / Ciba 0.30.3 소포제Antifoam Surfynol DF-58/Air ProductsSurfynol DF-58 / Air Products 0.20.2 총 100.0 100.0 total

상기 코팅 조성물은 균일한 유동성 액체로 나타났으며 약 30분 동안 건조되어 단단하고, 투명한 표면을 얻었다.
The coating composition appeared as a uniform flowable liquid and dried for about 30 minutes to obtain a hard, transparent surface.

본 발명은 본 발명의 기술적 사상 또는 특징으로부터 벗어나지 않고 다른 구체적 형태로 구현될 수 있다. 상술된 실시예들은 단지 설명을 위한 것이며 제한적으로 기술된 것이 아니다. 본 발명의 범위는 그러므로 상술된 것보다는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해진다. 청구범위의 등가적 의미 및 범위 내에서의 모든 변형은 보호범위 내에 포함된다.The present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit or features of the invention. The above-described embodiments are merely illustrative and are not intended to be limiting. The scope of the invention is therefore defined by the appended claims rather than the foregoing. All changes that come within the meaning and range of equivalency of the claims are to be embraced within their scope.

Claims (20)

액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산된 약 50 미크론 ~ 약 400 미크론 범위의 그릿(grit) 크기를 갖는 폴리싱 연마제(polishing abrasive)를 갖는 적어도 하나의 폴리싱 조성물;
액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산된 약 10 미크론 ~ 60 미크론 범위의 그릿 크기를 갖는 광택 연마제(lusterizing abrasive)를 갖는 적어도 하나의 광택 조성물; 및
상기 폴리싱 및 광택 조성물을 사용하여 처리된 플라스틱 표면에 UV 보호 코팅층을 도포하기 위한 적어도 하나의 UV 보호 조성물;을 포함하는,
스크래치 및/또는 UV 유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면에 광학적 투명성 및 광 투과성을 복원시키는 키트.
At least one polishing composition having a polishing abrasive having a grit size ranging from about 50 microns to about 400 microns dispersed in a liquid or gel carrier;
At least one gloss composition having a lustering abrasive having a grit size in the range of about 10 microns to 60 microns dispersed in a liquid or gel carrier; And
And at least one UV protective composition for applying a UV protective coating layer to a plastic surface treated using the polishing and polishing composition.
A kit for restoring optical transparency and light transmission to plastic surfaces damaged by scratches and / or UV induced oxidation.
제1항에 있어서,
상기 폴리싱 연마제가 약 60 미크론 ~ 약 300 미크론의 그릿 크기를 갖고 상기 광택 연마제가 약 15 미크론 ~ 약 50 미크론의 그릿 크기를 갖는 키트.
The method of claim 1,
Wherein the polishing abrasive has a grit size of about 60 microns to about 300 microns and the polished abrasive has a grit size of about 15 microns to about 50 microns.
제1항에 있어서,
상기 폴리싱 연마제가 약 70 미크론 ~ 약 200 미크론의 그릿 크기를 갖고 상기 광택 연마제가 약 20 미크론 ~ 약 45 미크론의 그릿 크기를 갖는 키트.
The method of claim 1,
Wherein the polishing abrasive has a grit size of about 70 microns to about 200 microns and the polished abrasive has a grit size of about 20 microns to about 45 microns.
제1항에 있어서,
상기 폴리싱 연마제가 약 75 미크론 ~ 약 150 미크론의 그릿 크기를 갖고 상기 광택 연마제가 약 25 미크론 ~ 약 40 미크론의 그릿 크기를 갖는 키트.
The method of claim 1,
Wherein the polishing abrasive has a grit size of about 75 microns to about 150 microns and the polished abrasive has a grit size of about 25 microns to about 40 microns.
제1항에 있어서,
상기 폴리싱 연마제가, 폴리싱 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 약 10 미크론 ~ 약 50 미크론의 그릿 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지는 응집체를 포함하며,
상기 광택 연마제가 광택 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 약 1 미크론 ~ 약 20 미크론의 그릿 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지는 응집체를 포함하는 키트.
The method of claim 1,
The polishing abrasive comprises aggregates that break down into smaller particles having a grit size of about 10 microns to about 50 microns when exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing,
And agglomerates that break down into smaller particles having a grit size of about 1 micron to about 20 microns when the polished abrasive is exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing.
제1항에 있어서,
상기 폴리싱 연마제가, 폴리싱 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 약 15 미크론 ~ 약 45 미크론의 그릿 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지는 응집체를 포함하며,
상기 광택 연마제가 광택 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 약 2 미크론 ~ 약 15 미크론의 그릿 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지는 응집체를 포함하는 키트.
The method of claim 1,
The polishing abrasive comprises aggregates that break down into smaller particles having a grit size of about 15 microns to about 45 microns when exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing,
And agglomerates that break down into smaller particles having a grit size of about 2 microns to about 15 microns when the polished abrasive is exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing.
제1항에 있어서,
상기 폴리싱 연마제가, 폴리싱 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 약 20 미크론 ~ 약 40 미크론의 그릿 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지는 응집체를 포함하며,
상기 광택 연마제가 광택 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 약 2.5 미크론 ~ 약 10 미크론의 그릿 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지는 응집체를 포함하는 키트.
The method of claim 1,
The polishing abrasive comprises aggregates that break down into smaller particles having a grit size of about 20 microns to about 40 microns when exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing,
And agglomerates that break down into smaller particles having a grit size of about 2.5 microns to about 10 microns when the polished abrasive is exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing.
제1항에 있어서,
플라스틱 표면에 폴리싱 및/또는 광택 조성물을 도포하기 위한 적어도 하나의 버핑 패드(buffing pad) 또는 버핑 클로스(buffing cloth)를 더 포함하며,
여기서 상기 적어도 하나의 버핑 패드 또는 버핑 클로스는 유리 섬유로 함침되어 폴리싱 조성물의 폴리싱 효능 및/또는 광택 조성물의 광택 효능을 더 증가시키는, 키트.
The method of claim 1,
Further comprising at least one buffing pad or buffing cloth for applying a polishing and / or gloss composition to the plastic surface,
Wherein the at least one buffing pad or buffing cloth is impregnated with glass fibers to further increase the polishing efficacy of the polishing composition and / or the gloss efficacy of the glossy composition.
제1항에 있어서,
상기 UV 보호 조성물은 UV 보호 물질; 중합가능한 물질; 및 상기 UV 보호 조성물이 플라스틱 표면에 버프(buff)될 때 플라스틱 표면으로 상기 UV 보호 코팅층이 어닐링되게 하는 적어도 하나의 용매를 포함하는, 키트.
The method of claim 1,
The UV protective composition is a UV protective material; Polymerizable materials; And at least one solvent that causes the UV protective coating layer to anneal to the plastic surface when the UV protective composition is buffed to the plastic surface.
제9항에 있어서,
상기 중합가능한 물질이 도포 후 중합하여 상기 플라스틱 표면에 단단한 보호 코팅층을 형성하는 아크릴-우레탄 분산액을 포함하는 키트.
10. The method of claim 9,
And an acrylic-urethane dispersion wherein the polymerizable material is polymerized after application to form a rigid protective coating layer on the plastic surface.
적어도 하나의 버핑 패드 또는 버핑 클로스를 사용하여 플라스틱 표면에 도포된 폴리싱 조성물을 가지고 플라스틱 표면을 폴리싱하는 단계;
적어도 하나의 버핑 패드 또는 버핑 클로스를 사용하여 상기 플라스틱 표면에 도포된 광택 조성물을 가지고 상기 플라스틱 표면을 광택내는 단계; 및
상기 플라스틱 표면의 폴리싱 및 광택 후에 플라스틱 표면에 UV 보호 코팅층을 도포하는 단계를 포함하며,
상기 폴리싱 조성물이 약 50 미크론 ~ 약 400 미크론의 그릿 크기를 갖는 폴리싱 연마제를 포함하고,
상기 광택 조성물이 약 10 미크론 ~ 약 60 미크론의 그릿 크기를 갖는 광택 연마제를 포함하고,
상기 UV 보호 코팅층이, 상기 플라스틱 표면에 상기 UV 보호 코팅층이 어닐링되게 하는 적어도 하나의 용매; UV 유도성 손상으로부터 플라스틱 표면을 보호하는 적어도 하나의 UV 보호 물질; 및 도포 후 중합하여 상기 플라스틱 표면에 단단한 보호 코팅층을 형성하는 적어도 하나의 중합가능한 물질을 포함하는,
스크래치 및/또는 UV 유도성 산화로 손상된 플라스틱 표면에 광학적 투명성 및 광 투과성을 복원시키는 방법.
Polishing the plastic surface with a polishing composition applied to the plastic surface using at least one buffing pad or buffing cloth;
Polishing the plastic surface with a gloss composition applied to the plastic surface using at least one buffing pad or buffing cloth; And
Applying a UV protective coating to the plastic surface after polishing and polishing the plastic surface,
The polishing composition comprises a polishing abrasive having a grit size of about 50 microns to about 400 microns,
The gloss composition comprises a gloss abrasive having a grit size of about 10 microns to about 60 microns,
At least one solvent for causing the UV protective coating layer to anneal the UV protective coating layer to the plastic surface; At least one UV protective material protecting the plastic surface from UV induced damage; And at least one polymerizable material which polymerizes after application to form a rigid protective coating on the plastic surface.
A method of restoring optical transparency and light transmission to plastic surfaces damaged by scratch and / or UV induced oxidation.
제11항에 있어서,
상기 버핑 패드 또는 버핑 클로스는 유리 섬유로 함침되어 폴리싱 및/또는 광택을 증가시키는 방법.
The method of claim 11,
Said buffing pad or buffing cloth is impregnated with glass fibers to increase polishing and / or gloss.
제11항에 있어서,
상기 플라스틱 표면은 자동차 플라스틱 라이트 커버, 플라스틱 썬 글라스 렌즈 또는 플라스틱 보정 안경 렌즈를 포함하는, 방법.
The method of claim 11,
And the plastic surface comprises an automotive plastic light cover, a plastic sun glass lens or a plastic correcting spectacle lens.
액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산된 연마 입자들로 구성되며; 상기 연마 입자는, 실질적인 무산소 환경에서 저장될 때 초기 입자 크기를 갖고 폴리싱 동안 산소 및 기계적 압력에 노출될 때, 실질적으로 상기 초기 입자 크기보다 작은 최종 입자 크기를 갖는 더 작은 입자들로 점진적으로 부셔지는 응집체로서, 상기 초기 입자 크기 및 상기 최종 입자 크기는 폴리싱 조성물이 플라스틱 표면에서 스크래치 및 산화를 용이하게 제거할 수 있도록 선택되는 응집체를 포함하는, 적어도 하나의 연마제 조성물; 및
상기 폴리싱 및 광택 조성물을 사용하여 처리된 플라스틱 표면에 UV 보호 코팅층을 도포하기 위한 적어도 하나의 UV 보호 조성물을 포함하는,
스크래치 및/또는 UV-유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면에 광학적 투명성 및 광 투과성을 복원시키기 위한 키트.
Consists of abrasive particles dispersed in a liquid or gel carrier; The abrasive particles have an initial particle size when stored in a substantially anoxic environment and gradually break into smaller particles having a final particle size substantially smaller than the initial particle size when exposed to oxygen and mechanical pressure during polishing. At least one abrasive composition, wherein the initial particle size and the final particle size comprise an aggregate selected such that the polishing composition can readily remove scratches and oxidation from the plastic surface; And
At least one UV protective composition for applying a UV protective coating to a plastic surface treated using the polishing and varnish composition,
A kit for restoring optical transparency and light transmission on plastic surfaces damaged by scratches and / or UV-induced oxidation.
제14항에 있어서,
상기 응집체가 초기 입자 크기의 약 75% 보다 작은 최종 입자 크기를 갖는 더 작은 입자들로 부셔지도록 제형화된, 키트.
The method of claim 14,
Wherein the aggregate is formulated to break into smaller particles having a final particle size of less than about 75% of the initial particle size.
제14항에 있어서,
상기 응집체가 초기 입자 크기의 약 50% 보다 작은 최종 입자 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지도록 제형화된, 키트.
The method of claim 14,
And the aggregate is formulated to break into smaller particles having a final particle size of less than about 50% of the initial particle size.
제14항에 있어서,
상기 응집체들이 상기 초기 입자 크기의 약 33% 보다 작은 최종 입자 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지도록 제형화된, 키트.
The method of claim 14,
And the aggregates are formulated to break into smaller particles having a final particle size of less than about 33% of the initial particle size.
제14항에 있어서,
상기 응집체가 상기 초기 입자 크기의 약 20% 보다 작은 최종 입자 크기를 갖는 더 작은 입자로 부셔지도록 제형화된, 키트.
The method of claim 14,
And the aggregate is formulated to break into smaller particles having a final particle size of less than about 20% of the initial particle size.
액상 또는 겔상 캐리어 내에 분산된 연마 입자들로 구성된 적어도 하나의 연마제 조성물로 연마하는 단계; 및
상기 플라스틱 표면에 어닐링된 단단한 UV 보호 코팅층을 형성하도록 상기 연마된 플라스틱 표면에 UV 보호 조성물을 도포하는 단계를 포함하며,
상기 연마 입자들이, 실질적으로 무산소 환경에서 저장될 때 초기 입자 크기를 갖고, 연마 과정에서 산소 및 기계적 압력에 노출될 때 실질적으로 상기 초기 입자 크기보다 작은 최종 입자 크기를 갖는 더 작은 입자들로 점차 부셔지는 응집체를 초기에 포함하고, 여기서 상기 초기 및 최종 입자 크기는 상기 폴리싱 조성물이 플라스틱 표면으로부터 스크래치 및 산화를 용이하게 제거할 수 있도록 선택되는,
스크래치 및/또는 UV 유도성 산화에 의해 손상된 플라스틱 표면에 광학적 투명성 및 광 투과성을 복원시키는 방법.
Polishing with at least one abrasive composition composed of abrasive particles dispersed in a liquid or gel carrier; And
Applying a UV protective composition to the polished plastic surface to form a rigid UV protective coating layer annealed to the plastic surface,
The abrasive particles have an initial particle size when stored in a substantially anoxic environment and gradually break down into smaller particles having a final particle size that is substantially less than the initial particle size when exposed to oxygen and mechanical pressure during the polishing process. Losing aggregates initially, wherein the initial and final particle sizes are selected such that the polishing composition can easily remove scratches and oxidation from the plastic surface.
A method of restoring optical transparency and light transmission to plastic surfaces damaged by scratches and / or UV induced oxidation.
제19항에 있어서,
상기 플라스틱 표면이 자동차 플라스틱 라이트 커버, 플라스틱 썬글라스 렌즈 또는 플라스틱 보정 안경 렌즈를 포함하는, 방법.
20. The method of claim 19,
And the plastic surface comprises an automotive plastic light cover, a plastic sunglasses lens or a plastic correction eyeglass lens.
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