KR20110128152A - 브랜치드 나노와이어를 포함하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투명전도성 코팅 필름의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 1) 브랜치드(branched) 금속 나노시드(nano seed)를 제조한 후, 정제하는 단계, 2) 상기 브랜치드 금속 나노시드와 폴리올 공정(polyol process)을 이용하여 브랜치드 은 나노와이어를 성장시키는 단계, 및 3) 상기 브랜치드 은 나노와이어를 기판 상에 코팅하여 코팅층을 형성한 후, 상기 코팅층을 어닐링(annealing)하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따라 제조되는 투명전도성 코팅 필름은 전기적, 광학적, 기계적 특성 등이 우수할 뿐만 아니라, 브랜치드 은 나노와이어의 균일도를 향상시킬 수 있고, 전자 소자 등에 유용하게 적용할 수 있다.

Description

브랜치드 나노와이어를 포함하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법{METHOD FOR PREPARING TRANSPARENT CONDUCTIVE COATING FILM COMPRISING BRANCHED NANOWIRE}
본 발명은 투명전도성 코팅 필름의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 브랜치드 나노와이어를 포함함으로써 전기적, 광학적, 기계적 특성 등이 우수한 투명전도성 코팅 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
투명 도전체는 고투과율 절연 표면 또는 기판 상에 코팅된 얇은 도전막을 말한다. 투명 도전체는 적절한 광학적 투명성을 유지하면서 표면 도전성을 갖도록 제조될 수 있다. 그러한 표면 도전 투명 도전체는 평판 액정 표시 장치(flat liquid crystal display), 터치 패널(touch panel), 전자 발광 장치(electroluminescent device), 박막 광전지(thin film photovoltaic cell) 등에서 투명 전극들로서 널리 사용되고, 대전 방치층 및 전자기파 차폐층으로 널리 사용되고 있다.
현재, 인듐 주석 산화물(indium tin oxide, ITO)과 같은 진공 증착 금속 산화물(vacuum deposited metal oxide)은 글래스(glass)와 중합체 막(polymeric film)과 같은 유전체 표면들에 대해 광학적 투명성 및 전기적 도전성을 제공하기 위한 산업 표준 물질이다. 그러나, 금속 산화막은 약하고 휨이나 다른 물리적인 스트레스들에 의해 손상되기 쉽다. 또한, 이들은 높은 도전성 수준들을 달성하기 위해 높은 증착온도 및/또는 높은 어닐링(annealing) 온도를 요한다. 플라스틱 및 유기 기판들, 예를 들어 폴리카보네이트와 같이 습기를 흡착하기 쉬운 기판들에게 급속 산화막의 접착력이 또한 문제될 수 있다. 따라서, 플렉서블(flexible) 기판 상에 금속 산화막을 적용하는 것은 매우 제한된다. 또한, 진공 증착은 비용이 많이 드는 공정이고 특수한 장비를 요구한다. 더구나, 진공 증착 공정은 패턴 및 회로를 형성하는데 있어서 도움이 되지 않으며, 이는 전형적으로 포토리소그래피와 같이 비용이 많이 드는 패터닝 공정들로 귀결된다.
또한, 도전성 중합체는 광학적으로 투명한 전기적 도전체로서 사용되어 왔다. 그러나, 이들은 일반적으로 금속 산화막에 비해 낮은 전도율 값과 높은 광흡수성을 가지며, 화학적 및 장기적 안정성이 부족하다.
따라서, 저비용, 고처리율 공정으로 제조될 수 있고, 적절한 전기적, 광학적, 기계적 특성 등을 갖는 투명 도전체를 제조하는 연구가 필요하다.
한편, 최근 나노 크기의 입자에 대한 관심이 증대되면서 나노 크기의 금속 물질에 대한 제조 및 응용 분야 연구가 활발히 진행되고 있다. 나노 입자는 같은 화학적 조성을 갖는 벌크상의 재료들과 비교하여 독특한 전기적, 자기적, 광학적, 기계적 성질들을 나타내기 때문에 전자재료, 센서, 흡착제, 크로마토그래피의 충진제, 촉매 담체 등 광범위한 분야에서 응용되고 있다. 특히, 그 중에서도 일차원적 구조(rods, wires, tubes, belts)를 가진 여러 금속 물질들은 나노 크기의 장치를 이루는데 중요한 역할을 할 것이라 기대되고 있다. 이러한 기대는 일차원적 구조를 지닌 물질들이 가지는 특별한 전기적, 기계적 물성에 기인하고, 일반적으로 나노 크기 금속 물질의 물성은 그것들의 크기와 구조에 따라 변화된다. 필요한 물성을 얻기 위한 방법은 나노 크기 물질의 형태를 어떻게 조절하는가에 따라 달라지며, 따라서 형태조절의 중요성이 부각되고 있는 상황이다. 나노와이어는 최근 일차원 구조를 가진 물질 중 그것들의 제조와 특성 평과에 관한 연구들이 활발히 수행되고 있다.
은(Ag)은 모든 금속 중에서 가장 높은 전기 및 열전도도를 가지는 특성으로 많은 관심과 연구가 진행되고 있다. 또한, 은은 상업적으로 응용분야가 넓고, 이러한 은의 일차원적 구조로의 변화는 높은 종횡비(aspect ratio)와 잘 정제된 결정면의 조절을 통해 여러 응용분야로의 확대가 기대되고 있는 바이다. 예를 들면, 은과 고분자의 혼합체에서 은 나노와이어가 혼재되었을 때 은 나노 입자가 혼재되어 있을 때보다 현저하게 낮은 전기적 부하가 발생된다.
대부분의 연구에서는 반도체로서부터 유전체까지의 쓰임을 위해서 와이어를 제조하고 있다. 이러한 와이어들은 대부분 전기적 또는 전기화학적 방법을 포함한 주형(template)을 이용하여 제조하고 있고, 세공막(macroporous membranes), 메조포러스 물질(mesoporous materials), 탄소 나노튜브(carbon nanotubes), DNA 체인(DNA chain), 블록공중합체(block copolymer) 등이 와이어 성장을 위한 주형으로 이용되고 있다. 그러나, 이러한 주형을 이용한 방법은 최종 결과물인 와이어의 형상을 조절하기는 쉬우나, 주형의 이용은 주형의 제조와 와이어 형성, 주형의 제거 등 다단계 제조공정과 주형 이용의 제한성으로 대량생산에 적합하지 않아서, 상업적으로 의미 있는 생산성 확보를 위해서는 개선해야 할 과제가 많이 남아있다.
본 발명은, 저비용, 고처리율 공정으로 제조될 수 있고, 전기적, 광학적, 기계적 특성 등이 우수한 투명전도성 코팅 필름의 제조방법을 제공하고자 한다.
이에, 본 발명은
1) 브랜치드(branched) 금속 나노시드(nano seed)를 제조한 후, 정제하는 단계,
2) 상기 브랜치드 금속 나노시드와 폴리올 공정(polyol process)을 이용하여 브랜치드 은 나노와이어를 성장시키는 단계, 및
3) 상기 브랜치드 은 나노와이어를 기판 상에 코팅하여 코팅층을 형성한 후, 상기 코팅층을 어닐링(annealing)하는 단계
를 포함하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 투명전도성 코팅 필름의 제조방법으로 제조되는 투명전도성 코팅 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 투명전도성 코팅 필름을 포함하는 전자 소자를 제공한다.
본 발명은, 저비용, 고처리율 공정으로 전기적, 광학적, 기계적 특성 등이 우수한 투명전도성 코팅 필름을 제조할 수 있다. 또한, 별도로 생성된 크기가 균일한 브랜치드 금속 나노시드를 이용함으로써, 브랜치드 은 나노와이어의 균일도를 향상시킬 수 있고, 이러한 브랜치드 은 나노와이어는 투명전도성 코팅필름 등에 유용하게 적용할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 일구체예로서, 브랜치드 금속 나노시드로부터 성장시킨 브랜치드 은 나노와이어를 개략적으로 나타낸 도이다.
이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
본 발명에 따른 투명전도성 코팅 필름의 제조방법의 일구체예는 1) 브랜치드(branched) 금속 나노시드(nano seed)를 제조한 후, 정제하는 단계, 2) 상기 브랜치드 금속 나노시드와 폴리올 공정(polyol process)을 이용하여 브랜치드 은 나노와이어를 성장시키는 단계, 및 3) 상기 브랜치드 은 나노와이어를 기판 상에 코팅하여 코팅층을 형성한 후, 상기 코팅층을 어닐링(annealing)하는 단계를 포함한다.
종래에는 금속 나노시드의 형성공정과 상기 금속 나노시드를 이용한 나노와이어의 제조공정을 하나의 반응기에서 연속적으로 수행하는 방법으로서 나노와이어를 제조하였다. 그러나, 이러한 방법은 금속 나노시드의 형성속도가 일정하지 않아서 금속 나노시드의 생성속도 및 크기의 균일도가 떨어지게 되고, 이에 따라 생성되는 나노와이어의 길이 및 두께 또한 균일하게 형성되지 못하는 문제점이 있었다.
한편, 본 발명은 별도로 브랜치드 금속 나노시드를 제조 및 정제함으로써 브랜치드 금속 나노시드의 생성속도 및 크기의 균일도를 향상시킬 수 있고, 이에 따라 최종적으로 제조되는 브랜치드 은 나노와이어의 길이, 두께 등의 균일도 또한 향상시킬 수 있는 특징이 있다.
본 발명에 따른 투명전도성 코팅 필름의 제조방법에 있어서, 상기 1) 단계의 브랜치드 금속 나노시드는 백금, 금, 은, 구리, 니켈, 철, 알루미늄, 팔라듐, 이리듐 등을 1종 이상 포함할 수 있다.
상기 1) 단계의 브랜치드 금속 나노시드는 당 기술분야에 알려져 있는 결정핵생성(nucleation) 공정에 의하여 제조 및 정제될 수 있다. 보다 구체적으로 브랜치드 금속 나노시드는 금속염의 환원과정을 통하여 제조될 수 있고, 제조되는 브랜치드 금속 나노시드는 필터, 원심분리 등을 통하여 정제될 수 있다.
본 발명에 따른 투명전도성 코팅 필름의 제조방법에 있어서, 상기 2) 단계의 브랜치드 은 나노와이어의 성장은 상기 브랜치드 금속 나노시드와 폴리올 공정을 이용하여 수행될 수 있다. 일반적으로, 폴리올 공정에서 금속염의 환원을 통한 나노 크기 입자의 형성은 다음과 같은 과정을 거치게 된다. 최초의 단계로 전구체 물질인 금속염이 액상 폴리올에서 용해되고, 용해된 염이 폴리올에 의해 환원되며, 용액으로부터 금속 입자의 핵생성과 성장과정을 통하여 나노 크기 입자들이 생성되게 된다. 상기 폴리올 공정의 대표적인 환원 반응식은 하기와 같다.
2(CH2OH-CH2OH) → 2CH3CHO + 2H2O
2CH3CHO + 금속염 → 2M + 2H+ + CH3-CO-CO-CH3
상기 반응식은, 에틸렌글리골의 탈수소화 반응으로 우선 아세트알데하이드가 생성되고, 아세트알데하이드의 산화반응을 거쳐서 금속염을 치환하는 환원반응을 거쳐 디아세틸로 형성되는 과정을 나타낸 것이다.
본 발명에 있어서, 상기 2) 단계의 폴리올 공정은 은을 포함하는 화합물과 폴리올을 이용하고, 은의 환원공정에 의해 수행될 수 있다. 상기 은을 포함하는 화합물의 구체적인 예로는 질산은, 은 실리케이트 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 폴리올의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 2-에톡시에탄올 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 2) 단계에서, 브랜치드 은 나노와이어의 성장시 캡핑제(capping agent)를 추가로 투입할 수 있다. 상기 캡핑제는 분산 안정화 및 캡핑(capping) 효과를 나타낼 수 있는 물질로서, 폴리비닐피롤리돈(polyvinyl pyrrolidone, PVP), 폴리비닐알콜(polyvinyl alcohol), 폴리(메타)아크릴산(poly(meth)acrylic acid) 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 상기 캡핑제에 의하여 폴리올 공정으로부터 생성되는 나노 입자들이 뭉치지 않고 안정하게 존재하게 되며, 환원공정을 촉지하는 역할 또한 하게 된다.
일반적인 선형 나노와이어를 전도성 코팅재료로 이용하는 경우에는 전기전도도가 균일한 일반 금속 코팅에 비해서 저하되는 경향이 있다. 이는 나노와이어 간의 접촉부위의 계면에서의 저항으로 인해서 발생하는 문제로 알려져 있다.
이에, 본 발명은 브랜치드 금속 나노시드를 이용함으로써 브랜치드 은 나노와이어를 제조할 수 있고, 상기 3) 단계의 어닐링 공정을 통하여 은 나노와이어 간의 접촉면수를 줄여줄 수 있으며, 이에 따라 브랜치드 은 나노와이어의 전도도를 향상시킬 수 있다.
상기 3) 단계의 어닐링의 온도는 90 ~ 150℃인 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 상기 어닐링의 온도가 150℃를 초과하는 경우에는 미량의 산소가 존재하는 경우에도 쉽게 산화할 수 있고, 와이어의 형태를 완전히 잃어버리고 응집이 될 수 있는 문제점이 발생할 수 있고, 90℃ 미만인 경우에는 어닐링 효과가 미미하여 바람직하지 않다.
본 발명에 따른 투명전도성 코팅 필름의 제조방법에 있어서, 상기 3) 단계의 기판은 당 기술분야에 알려진 유리판, 플라스틱 필름 등을 이용할 수 있다. 또한, 상기 3) 단계의 코팅 공정은 당 기술분야에 알려져 있는 방법을 이용할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 투명전도성 코팅 필름의 제조방법으로 제조되는 투명전도성 코팅 필름을 제공한다.
은의 벌크 전도도(bulk conductivity)는 약 6.2 × 105 S/cm 이고, 선형 은 나노와이어의 벌크 전도도는 이보다 다소 낮아지는 것으로 알려져 있다(Chem. Mater. 2002, 14, 4736-4745). 한편, 본 발명에 따른 투명전도성 코팅 필름은 브랜치드 은 나노와이어를 포함함으로써, 상기 전도도 값보다 향상된 전도도를 나타낼 수 있다.
또한, 종래의 투명전도성 필름의 대표적인 예인 ITO는 약 85%의 투과도를 나타내나, 본 발명에 따른 투명전도성 필름은 약 85 ~ 95%의 투과도를 나타낼 수 있는 특징이 있다.
본 발명에 따른 투명전도성 코팅 필름은 저비용, 고처리율 공정으로 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 전기적, 광학적, 기계적 특성 등이 우수하다. 또한, 별도로 생성된 크기가 균일한 브랜치드 금속 나노시드를 이용함으로써, 브랜치드 은 나노와이어의 균일도를 향상시킬 수 있고, 투명전도성 코팅필름, 이를 포함하는 전자 소자 등에 유용하게 적용할 수 있다.
상기 전자 소자로는 평판 액정 표시 장치(flat liquid crystal display), 터치 패널(touch panel), 전자 발광 장치(electroluminescent device), 박막 광전지(thin film photovoltaic cell) 등을 들 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것일 뿐이며, 이에 의해서 본 발명의 범위 또는 내용을 축소되거나 제한하여 해석할 수 없다.
실시예 1
세틸트리메틸암모늄 브로마이드(CTAB, 0.1 M) 50 mL에 10 mM HAuCl4 1.5 mL, 5 μL의 농축된 실버 플레이트, 3 mL의 10 mM L-아스코르브산를 넣고 오렌지색이 무색으로 변화되었을 때, 1 M NaOH 수용액 2.5 mL를 한 번에 투입하고 15 시간 동안 반응시켰다. 이 과정을 통해 tripod 형태를 포함하는 금 나노입자를 합성하고, 이 수용액을 원심분리하고 나서, 에틸렌글리콜로 세척하는 과정을 3회 반복하여, 금 나노입자를 분리하였다. 이와 같이 합성된 tripod 금 나노입자를 에틸렌글리콜 용액 0.1 mg/mL 농도로 만들어 seed 주입용액(seed 용액 1)으로 준비하였다.
에틸렌글리콜 100 mL와 10 mL seed 용액 혼합액에 100 mL의 질산은(silver nitrate) 함유 에틸렌글리콜 용액(질산은 농도: 1.0 × 10-1 mol/L) 및 100 mL의 PVP(polyvinyl pyrrolidone) 함유 에틸렌글리콜 용액(PVP 농도: 5.0 × 10-1 mol/L)을 일정한 유량으로 120 분 동안 투입하였다. 그 후에, 5 시간 동안 160 ℃로 유지시키면서 은 이온을 환원시킴으로써 브랜치드 은 나노와이어를 제조하였다. 반응이 완료된 후 온도를 상온으로 낮추고, 원심분리와 에틸렌글리콜로 3회 세척을 반복하고, 에탄올 100 mL로 생산된 브랜치드 은 나노와이어를 분산시켰다.
실시예 2
세틸트리메틸암모늄 브로마이드(CTAB, 0.1 M) 50 mL에 10 mM HAuCl4 1.5 mL, 5 μL의 농축된 실버 플레이트, 3 mL의 10 mM L-아르코브산을 넣고 오렌지색이 무색으로 변화가 되었을 때, 1 M NaOH 수용액 2.5 mL를 한번에 투입하고 15 시간 반응시켰다. 이 과정을 통해 tripod 형태를 포함하는 금 나노입자 을 합성하고, 이 수용액을 원심분리하고, 에틸렌글리콜로 세척하는 과정을 3회 반복하여, 금 나노입자를 분리하였다. 이와 같이 합성된 tripod 금 나노입자를 에틸렌글리콜 용액 0.1 mg/mL 농도로 만들어 seed 주입용액(seed 용액 1)으로 준비하였다.
에틸렌글리콜 100 mL와 20 mL seed 용액 혼합액에 100 mL의 질산은(silver nitrate) 함유 에틸렌글리콜 용액(질산은 농도: 1.0 × 10-1 mol/L) 및 100 mL의 PVP(polyvinyl pyrrolidone) 함유 에틸렌글리콜 용액(PVP 농도: 5.0 × 10-1 mol/L)을 일정한 유량으로 120 분 동안 투입하였다. 그 후에, 5 시간 동안 160 ℃로 유지시키면서 은 이온을 환원시킴으로써 브랜치드 은 나노와이어를 제조하였다. 반응이 완료된 후 온도를 상온으로 낮추고, 원심분리와 에틸렌그리콜로 3회 세척을 반복하고, 에탄올 100 mL로 생산된 브랜치드 은 나노와이어를 분산시켰다.
실시예 3
세틸트리메틸암모늄 브로마이드(CTAB, 0.1 M) 50 mL에 10 mM HAuCl4 1.5 mL, 5 μL의 농축된 실버 플레이트, 3 mL의 10 mM L-아르코브산을 넣고 오렌지색이 무색으로 변화가 되었을 때, 1 M NaOH 수용액 2.5 mL를 한번에 투입하고 15 시간 반응시켰다. 이 과정을 통해 tripod 형태를 포함하는 금 나노입자 을 합성하고, 이 수용액을 원심분리하고, 에틸렌글리콜로 세척하는 과정을 3회 반복하여, 금 나노입자를 분리하였다. 이와 같이 합성된 tripod 금 나노입자를 에틸렌글리콜 용액 0.1 mg/mL 농도로 만들어 seed 주입용액(seed 용액 1)으로 준비하였다.
에틸렌글리콜 100 mL와 30 mL seed 용액 혼합액에 100 mL의 질산은(silver nitrate) 함유 에틸렌글리콜 용액(질산은 농도: 1.0 × 10-1 mol/L) 및 100 mL의 PVP(polyvinyl pyrrolidone) 함유 에틸렌글리콜 용액(PVP 농도: 5.0 × 10-1 mol/L)을 일정한 유량으로 120 분 동안 투입하였다. 그 후에, 5 시간 동안 160 ℃로 유지시키면서 은 이온을 환원시킴으로써 브랜치드 은 나노와이어를 제조하였다.
반응이 완료된 후 온도를 상온으로 낮추고, 원심분리와 에틸렌그리콜로 3회 세척을 반복하고, 에탄올 100 mL로 생산된 브랜치드 은 나노와이어를 분산시켰다.
비교예 1
에틸렌글리콜 110 mL에 100 mL의 질산은(silver nitrate) 함유 에틸렌글리콜 용액(질산은 농도: 1.0 × 10-1 mol/L) 및 100 mL의 PVP(polyvinyl pyrrolidone) 함유 에틸렌글리콜 용액(PVP 농도: 5.0 × 10-1 mol/L)을 일정한 유량으로 120 분 동안 투입하였다. 그 후에, 5 시간 동안 160 ℃로 유지시키면서 은 이온을 환원시킴으로써 은 나노와이어를 제조하였다. 반응이 완료된 후 온도를 상온으로 낮추고, 원심분리와 에틸렌그리콜로 3회 세척을 반복하고, 에탄올 100 mL로 생산된 은 나노와이어를 분산시켰다.
비교예 2
에틸렌글리콜 120 mL에 100 mL의 질산은(silver nitrate) 함유 에틸렌글리콜 용액(질산은 농도: 1.0 × 10-1 mol/L) 및 100 mL의 PVP(polyvinyl pyrrolidone) 함유 에틸렌글리콜 용액(PVP 농도: 5.0 × 10-1 mol/L)을 일정한 유량으로 120 분 동안 투입하였다. 그 후에, 5 시간 동안 160 ℃로 유지시키면서 은 이온을 환원시킴으로써 은 나노와이어를 제조하였다. 반응이 완료된 후 온도를 상온으로 낮추고, 원심분리와 에틸렌그리콜로 3회 세척을 반복하고, 에탄올 100 mL로 생산된 은 나노와이어를 분산시켰다.
비교예 3
에틸렌글리콜 130 mL에 100 mL의 질산은(silver nitrate) 함유 에틸렌글리콜 용액(질산은 농도: 1.0 × 10-1 mol/L) 및 100 mL의 PVP(polyvinyl pyrrolidone) 함유 에틸렌글리콜 용액(PVP 농도: 5.0 × 10-1 mol/L)을 일정한 유량으로 120 분 동안 투입하였다. 그 후에, 5 시간 동안 160 ℃로 유지시키면서 은 이온을 환원시킴으로써 은 나노와이어를 제조하였다. 반응이 완료된 후 온도를 상온으로 낮추고, 원심분리와 에틸렌그리콜로 3회 세척을 반복하고, 에탄올 100 mL로 생산된 은 나노와이어를 분산시켰다.
시험예
위와 같이 합성한 나노와이어 용액을 spin coater를 이용하여, 슬라이드 글라스 위에 코팅하고, 코팅 후 진공오븐에서 1 시간 건조하였다. 나노와이어의 전기특성, 광특성 평가를 위해 4 point probe를 이용해서 면저항을 측정하고, 투과율 측정기로 투과율을 측정하였다. 또한, 어닐링 효과를 확인하기 위해 면저항과 투과율은 120 ℃ 오븐 내 질소 분위기 하에서 1 시간 어닐링 전과 후에 각각 측정하였다.
샘플 어닐링 전 어닐링 후
투과율(%) 면저항(Ω/ㅁ) 투과율(%) 면저항(Ω/ㅁ)
실시예1 80 208 82 57
실시예2 79 185 79 39
실시예3 80 153 81 27
비교예1 79 248 82 88
비교예2 80 275 81 75
비교예3 81 259 80 90

Claims (8)

1) 브랜치드(branched) 금속 나노시드(nano seed)를 제조한 후, 정제하는 단계,
2) 상기 브랜치드 금속 나노시드와 폴리올 공정(polyol process)을 이용하여 브랜치드 은 나노와이어를 성장시키는 단계, 및
3) 상기 브랜치드 은 나노와이어를 기판 상에 코팅하여 코팅층을 형성한 후, 상기 코팅층을 어닐링(annealing)하는 단계
를 포함하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 1) 단계의 브랜치드 금속 나노시드는 백금, 금, 은, 구리, 니켈, 철, 알루미늄, 팔라듐 및 이리듐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 2) 단계의 폴리올 공정은 은을 포함하는 화합물과 폴리올을 이용하고, 은의 환원공정에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법.
제3항에 있어서,
상기 은을 포함하는 화합물은 질산은 및 은 실리케이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 2) 단계의 수행시 캡핑제(capping agent)를 추가로 투입하는 것을 특징으로 하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 3) 단계의 어닐링의 온도는 90 ~ 150℃인 것을 특징으로 하는 투명전도성 코팅 필름의 제조방법.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 투명전도성 코팅 필름의 제조방법으로부터 제조되는 투명전도성 코팅 필름.
제7항의 투명전도성 코팅 필름을 포함하는 전자 소자.
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KR101280898B1 (ko) * 2012-02-09 2013-07-02 전자부품연구원 필름형 산화아연 나노와이어를 이용한 나노발전기 및 이의 제조 방법
KR101284873B1 (ko) * 2012-03-02 2013-07-09 포항공과대학교 산학협력단 도전성 플렉서블 기판 및 그 제조방법

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