KR20110120124A - 알칼리 가용성 고분자 화합물과 이를 이용한 감광성 수지 조성물 - Google Patents

알칼리 가용성 고분자 화합물과 이를 이용한 감광성 수지 조성물 Download PDF

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KR20110120124A
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이창순
김혜현
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주식회사 엘지화학
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Abstract

본 발명은 피마르산 및 이의 이성질체를 반복단위로 포함하는 신규한 알칼리 가용성 고분자 화합물, 및 이를 유효한 바인더 격자(binder matrix)로서 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따른 레진 산 탈수소화물(dehydrogenated resin acid)을 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물을 이용한 감광성 조성물은 광감도와 현상성이 우수하고 소성 과정에 의한 변형이 적으며 탄성이 우수하여 LCD(Liquid Crystal Display)용 컬러 필터 제조에 사용되는 각종 투명 감광성 소재, 특히 컬럼 스페이서, 오버코트, 패시베이션(passivation) 재료 등의 경화에 유리하다.

Description

알칼리 가용성 고분자 화합물과 이를 이용한 감광성 수지 조성물 {Alkali soluble polymer compounds and photoresist resin composition comprising the same}
본 발명은 한 분자 내에 레진 산 탈수소화물(dehydrogenated resin acid)을 단량체 성분으로 함유하는 알칼리 가용성 고분자 화합물과 이를 유효한 바인더 격자 물질로 포함하여 액정 표시 장치에 사용되는 투명한 박막을 패턴 또는 전면 도포의 형태로 빠르게 광경화시킬 수 있고, 현상 시 스컴(scum)이 발생하지 않으며 소성 공정시 패턴의 변화가 적어 수직 형상에 가까운 패턴을 형성하는 투명한 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
감광성 수지 조성물은 기판상에 도포되어 도막을 형성하고, 이 도막을 전체적으로 노광시켜 절연막 또는 보호막을 형성하거나, 이 도막의 특정 부분에 포토마스크 등을 이용하여 광 조사에 의한 노광을 실시한 후, 비노광부를 현상 처리하여 제거함으로써 패턴을 형성하는데 사용될 수 있다.
이러한 감광성 수지 조성물은 광을 조사하여 중합하고 경화시키는 것이 가능하므로 광경화성 잉크, 감광성 인쇄판, 각종 포토레지스트, 액정표시소자(Liquid Crystal Display, LCD)용 컬러 필터 포토레지스트, 수지 블랙 매트릭스용 포토레지스트, 또는 투명 감광재 등에 이용되고 있다.
그 중 투명 감광성 수지 조성물은 컬럼 스페이서와 오버코트, 패시베이션 막을 아우르는 것으로, 통상적으로 안료와 같은 착색 조제를 사용하지 않고 알칼리 가용성 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하는 액체 상태의 조성물을 뜻한다.
LCD의 용도가 고급화, 다양화 됨에 따라 종래의 노트북, 모바일 등의 용도 외에 TV, 모니터 등의 액정 표시 소자를 구성하는 용도로 제작되고 있으며, 생산성 및 내구성 향상을 위해 빛에 빠르게 반응하고, 기계적으로 우수한 물성을 지닌 재료에 대한 요구가 높아지고 있다. 광식각법(Photo-lithography)에 의해 패턴을 형성시키거나, 전면 노광을 통해 절연 보호막을 형성하는 경우에 있어 빛에 빠르게 반응하는 특성, 즉 광감도는 매우 중요한 역할을 하는 요인이 된다. 또한, 패턴을 형성하는 경우 빛에 의해 반응하지 않은 부분이 깨끗이 씻겨 나가도록 하여 액정층을 오염시키거나 그 다음의 공정 진행 시 문제점을 유발하지 않도록 해야 한다. 그리고, 외부에서 가한 충격에 의해 액정 표시 소자가 파손되지 않고 원래의 성능을 발휘하게 하기 위해서 지지대 역할을 하는 컬럼 스페이서 패턴의 기계적 물성이 우수해야 한다. 이러한 요구는 패턴의 상부 면적을 증가시킴으로써 충족될 수 있다.
알칼리 가용성 수지는 감광성 수지 조성물에서 바인더 격자로서 작용하고 첨가량이 가장 많은 성분이며, 그 역할에 따라 빛에 의해 반응하지 않은 부위를 알칼리 수용액에 의해 가능한 빨리 깨끗하게 씻겨 나가도록, 빛에 빨리 반응할 수 있도록, 그리고 열을 가하는 소성 공정에 따른 변화가 최소화되도록 그 구조가 최적화되어야 한다. 알칼리 수용액에 의해 완전하게 씻겨나가야 하는 특성은 오버코트 박막 위에 컬럼 스페이서를 형성시키는 경우에 특히 중요해진다. 오버코트는 일반적으로 수지 조성물을 빛이나 열에 의해 가교시켜 형성하는 유기 박막이므로, 무기 박막인 인듐-주석 산화물(Indium-Tin Oxide)과 비교하여 컬럼 스페이서의 고분자와 가교제 성분과 친화력이 크다. 따라서, 빛에 반응하지 않은 컬럼 스페이서 수지 조성물을 알칼리 수용액에 의해 씻어내려 해도 완전히 씻기지 않고, 오버코트 위에 작은 알갱이 형태로 남아 있는 경우가 있다. 이후, 배향막을 문지름(Rubbing 또는 Mechanical Rubbing) 공정으로 처리하여 액정 배향을 유도할 때 이물질로서 검출되어 긁힘 현상을 유발할 수 있다. 또한, 빛에 대한 반응성이 좋아 빨리 가교 반응이 진행되는 경우 가교된 고분자 구조가 더욱 치밀하게 구성되어 액정의 오염원이 줄어들고, 패턴의 잔막률이 상승될 뿐만 아니라, 조성물 제조시 다른 원재료의 가용 폭을 높일 수 있다는 장점을 지니게 된다. 끝으로 소성 공정시 열에 대한 변형이 적은 경우는 패턴의 겉보기 강도와 밀접한 연관이 있다. 컬럼 스페이서의 경우 일반적으로 소성 공정 이전과 이후는 두께의 감소뿐만 아니라 상부 형태의 변형이 일어난다. 이러한 변형이 크게 일어나게 되면, 박막 트랜지스터 기판을 지지하는 부분의 면적이 줄어들게 되고, 패널의 외력에 대한 저항 특성이 약화된다. 따라서, 소성 공정시 변화폭을 줄여 지지 면적을 크게 유지하는 것은 컬럼 스페이서의 기계적인 물성을 유지하는 것과 직접적인 연관성이 있다.
이러한 특성을 구현하기 위해서는 알칼리 가용성 수지를 만들 때 공중합에 의해 여러 기능성 단량체를 함유시킴으로써 구조를 최적화할 필요가 있으며, 상기 특성에 대한 효과가 탁월한 단량체를 적정량 첨가하여 공중합하는 방법이 효과적이다. 이렇게 하여 얻어진 고분자의 분자량과 산가(Acid Value)를 조절하면, 특별히 첨가제를 사용하지 않고도 원하는 효과를 얻을 수 있다.
현재까지 알려진 투명한 감광성 수지 조성물에는 알칼리에 씻겨나가게 하기 위해 카르복실산을 함유한 메틸 메타크릴산과 패턴의 접착력을 부여하는 벤질 메타크릴레이트의 공중합체를 기본으로 하여 여러 가지 기능성 단량체를 첨가한 고분자를 이용해 왔다. 예를 들어 대한민국 공개 특허 제2001-0018075호에는 상기 구조를 지닌 고분자에 자기 경화가 가능한 구조를 첨가하여 빛에 의해 가교된 부분의 화학적 결합을 강화시켜 용해도 차이를 향상함으로써 분해능을 증가시키고 추가적으로 가교성 화합물의 사용량을 줄이는 방법에 대해 기재되어 있다. 그러나, 이러한 방법을 통해서는 빛에 대해 노광되지 않은 부위의 씻김 특성을 개선할 수 없기 때문에, 여전히 액정의 오염이나 액정 배향시의 문지름 공정시 발생할 수 있는 문제점들을 해결할 수는 없다는 단점이 있다. 이러한 단점을 최소화하기 위해 시트르 산과 같은 유기산을 지닌 첨가물을 사용할 수도 있으나, 일반적으로 가격이 비싸거나 용해도가 낮고 액정의 오염원이 될 수 있는 가능성이 있다는 점 때문에 사용이 제한적이다.
따라서, 원하는 효과를 얻을 수 있으며 부수적인 단점을 최소화할 수 있는 고분자의 개발이 필요하다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 구체적으로는 알칼리 가용성 고분자를 포함하는 감광성 수지 조성물을 사용하여 패턴을 형성하는 경우 통상 노광-현상-소성 공정을 거치게 되는데, 상기 소성 전후 패턴 두께의 변화, 및 상부 막의 변형이 발생되는 문제들이 있게 된다. 따라서, 본 발명에서는 이러한 일련의 과정, 특히 소성 공정에서 열 변형을 최소화시킬 수 있는 구조적 특징을 가지는 알칼리 가용성 고분자, 및 이를 바인더 격자 성분으로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제조하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 특정한 구조의 레진 산 탈수소화물(dehydrogenated resin acid)을 단량체로서 포함하는 신규한 알칼리 가용성 고분자 화합물을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 신규한 고분자 화합물을 바인더 격자 물질로서 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 추가의 다른 목적은 상기 투명 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 투명 박막층을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 상기 투명 박막층을 포함하여 이루어진 액정 표시 장치를 제공하고자 한다.
본 발명자들은 한 분자 내에 레진 산 탈수소화물(dehydrogenated resin acid)로 이루어진 단량체, 구체적으로는 피마르산 및 이의 이성질체를 공중합시켜 알칼리 가용성 고분자 화합물을 제조하고, 이를 바인더 격자 물질로 사용하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
상기 피마르산 및 이의 이성질체는 1)구조 내에 이중결합을 포함하고 있어 자외선 노출시 이중결합에 의해 광중합 반응이 빠르게 일어날 수 있으며, 2)방향족 링을 포함한 벌키한 구조로 인해 고분자 사슬의 엉킴 현상(entanglement)을 방지할 수 있어 광중합 반응의 저해요소를 없앨 수 있고, 알칼리 현상성을 개선시킬 수 있으며, 3)고온 소성 과정에서 고분자 사슬 간의 이동을 방지하여 열에 대한 변형이 적은 패턴 형성이 가능하다.
본 발명에서와 같이 피마르산 및 이의 이성질체를 포함하여 제조된 알칼리 가용성 고분자 화합물을 바인더 격자 물질로 사용할 때 감광성 수지 조성물의 빛에 대한 반응성, 즉 광감도가 우수해지고 빛에 의해 가교되지 않은 부위의 알칼리에 대한 씻김 특성이 향상되며, 열에 의한 변형이 적고, 탄성이 우수해 액정 표시 소자의 컬럼 스페이서, 오버코트, 패시베이션 재료의 경화에 유리할 뿐만 아니라 공정시 불량률을 감소시킬 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 알칼리 가용성 고분자 화합물은 이하의 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체를 포함하는 것을 그 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 다른 목적을 달성하기 감광성 수지 조성물은 이하의 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체를 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물 2~20 중량부; 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5~20 중량부; 광활성 라디칼 개시제 0.1~20 중량부; 및 용매 10~95 중량부를 포함하는 것을 그 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 추가의 다른 목적을 달성하기 위하여 상기 감광성 수지 조성물을 이용한 투명 박막층을 제공하는 데도 그 특징이 있다.
또한, 본 발명의 추가의 다른 목적을 달성하기 위하여 상기 투명 박막층을 포함하여 이루어진 액정 표시 장치를 제공하는 데도 그 특징이 있다.
이하에서 본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 피마르산 및 이의 이성질체를 반복단위로 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
1. 알칼리 가용성 고분자 화합물
본 발명에 따른 알칼리 가용성 고분자 화합물은 다음 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Figure pat00001
Figure pat00002
Figure pat00003
본 발명에 따른 알칼리 가용성 고분자 화합물에 포함되는 상기 피마르산 및 이의 이성질체는, 구체적으로 화학식 1로 표시되는 피마르산(Pimaric acid), 화학식 2로 표시되는 이소피마르산(Isopimaric acid), 및 화학식 3으로 표시되는 산다라코피마르산(Sandaracopimaric acid) 중에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.
상기 피마르산 및 이의 이성질체는 일반 분자에 비해 이중 결합을 포함하고 있으며 벌키(Bulky)한 특성을 지니고 있고 카르복실 산(carboxylic acid)를 포함한다. 따라서 상기 피마르산 및 이의 이성질체를 알칼리 가용성 고분자 화합물의 반복단위에 포함시켜 제조된 고분자 화합물을 사용한 감광성 조성물이 자외선에 노출되었을 경우 이중 결합에 의해 보다 빠른 광중합 반응이 진행된다. 또한 벌키(bulky)한 특성에 의해 광중합 반응의 저해요소가 되며 빛에 의해 가교되지 않은 부위의 알칼리에 대한 씻김 특성을 악화시키는 고분자 사슬의 엉김(entanglement) 현상을 방지할 수 있어 결과적으로 감도와 씻김 특성의 향상이 이루어진다. 또한, 소성 공정과 같은 높은 온도를 가하는 경우, 상기와 같은 구조적 특징으로 인해 고분자 사슬 간의 이동을 방지해주어 열에 대해 변형이 적은 패턴을 형성할 수 있는 등 다양한 효과를 가진다.
상기 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체는 알칼리 가용성 고분자 화합물 중 3~50몰%, 바람직하기로는 10~30몰%로 포함된다. 상기 피마르산 및 이의 이성질체의 함량이 3몰% 미만으로 포함되면 본 발명에 기재된 효과를 얻기 어렵고, 50 몰%를 초과하는 경우에는 씻김 특성이 과도하게 향상되어 패턴이 떨어져 나갈 수 있어 바람직하지 못하다.
한편, 본 발명에 따른 알칼리 가용성 고분자 화합물은 상기 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체 이외에도, 산기(acid functional group)를 포함하는 단량체, 상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체를 공중합시켜 제조된다. 선택적으로, 에폭시기와 에틸렌성 불포화 화합물을 함유한 단량체를 이용하여 산기 일부를 치환할 수도 있다.
상기 산기를 포함하는 단량체로는 (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트, 또는 이들의 혼합물 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산기를 포함하는 단량체와 공중합 가능한 단량체로는 벤질(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 디시클로펜타닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐 옥시에틸 (메타)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복시산 에스테르류; 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, (o,m,p)-클로로 스티렌과 같은 방향족 비닐류; 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 알릴 글리시딜 에테르와 같은 불포화 에테르류; N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카바졸, N-비닐 모폴린과 같은 N-비닐 삼차아민류; N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, N-시클로헥실 말레이미드와 같은 불포화 이미드류; 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산과 같은 무수 말레인산류; 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트와 같은 불포화 글리시딜 화합물류; 또는 이들의 혼합물 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물로는 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센, 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것이 바람직하나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 상기 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물은 알칼리 가용성 고분자 화합물 중 3~40몰%, 바람직하게는 5~30몰% 로 포함될 수 있다.
본 발명에 따른 알칼리 가용성 고분자 화합물은 상기 반복단위를 구성하는 각 화합물을 해당 몰 비율로 혼합하고, 열중합 개시제, 및 용매를 혼합하여 불활성 분위기에서 반응시켜 제조할 수 있다. 이때 열중합 개시제와 용매는 통상의 알칼리 가용성 고분자 화합물 제조시 사용되는 것이면 특별히 한정되지 않는다.
이러한 과정을 거쳐 제조된 본 발명에 따른 알칼리 가용성 고분자 화합물의 산가는 30~300 KOH mg/g 인 것이 바람직하다. 산가가 30 KOH mg/g 미만인 경우에는 현상이 잘 이루어지지 않아 깨끗한 패턴을 얻을 수 없고, 300 KOH mg/g 를 초과하는 경우에는 씻김성이 과도하게 되어 패턴이 떨어져 나갈 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 알칼리 가용성 고분자 화합물의 중량평균분자량은 1,000~200,000, 바람직하게는 5,000~50,000의 범위이다. 중량평균분자량이 1,000 미만인 경우에는 안정적인 패턴을 얻을 수 없고 내열성이 악화되며, 200,000을 초과하는 경우에는 용액의 점도가 지나치게 증가하여 균일한 도포가 어렵다는 단점이 있다.
2. 감광성 수지 조성물
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 1)상기 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체를 반복단위로 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물 2~20 중량부; 2)에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5~20 중량부; 3)광 활성을 지닌 라디칼 개시제 0.1~20 중량부; 및 4)용매 10~95 중량부를 포함한다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 1) 알칼리 가용성 고분자 화합물의 함량은 2~20 중량부가 바람직하다. 알칼리 가용성 고분자 화합물의 함량이 2 중량부 미만인 경우에는 점도가 너무 낮아 박막 형성이 제대로 되지 않을 가능성이 있고 산가가 낮아져 현상이 어려워지며, 20 중량부를 초과하는 경우에는 고분자 성분이 많아져 점도가 너무 높아지므로 원하는 두께의 박막 형성이 어려워지게 된다. 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 알칼리 가용성 고분자 화합물을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 2) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2~14인 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 2-트리스아크릴로일옥시메틸에틸프탈산, 프로필렌기의 수가 2~14인 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트의 산성 변형물과 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트의 혼합물(상품명으로 일본 동아합성사의 M520, TO-2348, TO-2349) 등의 다가 알콜을 α, β-불포화 카르복실산으로 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물, 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물 등의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 프탈산디에스테르, β-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트 부가물 등의 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 및 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 알킬에스테르; 9,9'-비스 [4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으며, 이들로만 한정되지 않고 당 기술분야에 알려져 있는 것들을 사용할 수 있다. 또한, 경우에 따라서는 이들 화합물에 실리카 분산체를 사용할 수 있는데, 예를 들면 Hanse Chemie 사의 Nanocryl XP series(0596, 1045, 21/1364)와 Nanopox XP series(0516, 0525) 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 2) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물의 함량은 0.5~20 중량부가 바람직하다. 상기 함량이 0.5 중량부 미만인 경우에는 원하는 중합 효과를 얻을 수 없고, 20 중량부를 초과하는 경우에는 현상액에 대한 씻김 특성이 악화될 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 3) 광 활성을 지닌 라디칼 개시제는 하나 또는 둘 이상을 혼합하여 사용할 수 있는데, 그 예로는 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(피플로닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(3',4'-디메톡시페닐)-6-트리아진, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오} 프로판산, 2,4-트리클로로메틸-(4'-에틸비페닐)-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메틸비페닐)-6-트리아진 등의 트리아진계 화합물; 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등의 비이미다졸 화합물; 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐 (2-히드록시)프로필 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐 아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-몰폴리노-1-프로판-1-온(Irgacure-907), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온(Irgacure-369) 등의 아세토페논계 화합물; Ciba Geigy사의 Irgacure OXE 01, Irgacure OXE 02와 같은 O-아실옥심계 화합물; 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 이소프로필 티옥산톤, 디이소프로필 티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일) 프로필 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 3,3'-카르보닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라하이드로-1H,5H,11H-Cl]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 3) 광 활성을 지닌 라디칼 개시제의 함량은 0.1~20 중량부가 바람직하다. 상기 함량이 0.1 중량부 미만인 경우에는 광감도가 떨어지게 되며, 20 중량부를 초과하는 경우에는 빛에 의해 미처 반응하지 못하고 남은 개시제가 황변 현상과 같은 부반응을 유발할 가능성이 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 4) 용매로는 메틸에틸케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르, 또는 이들의 1종 이상 혼합물 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 4) 용매의 함량은 10~95 중량부가 바람직하다. 상기 함량이 10 중량부 미만인 경우에는 구성 성분을 충분히 용해하기 어렵고, 95 중량부를 초과하는 경우에는 전체 용액의 점도가 낮아져 코팅 시 두께를 일정하기 유지할 수 없게 된다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 경화 촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제 또는 계면 활성제 등의 첨가제를 추가적으로 1종 이상 포함할 수 있다.
상기 경화 촉진제로는 2-머캡토벤조이미다졸, 2-머캡토벤조티아졸, 2-머캡토벤조옥사졸, 2,5-디머캡토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캡토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 트리스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-머캡토아세테이트), 펜타에리스리톨 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(3-머캡토프로피오네이트), 트리메틸올에탄 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸옥에탄 트리스(3-머캡토프로피오네이트)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술 분야에 알려져 있는 것들을 사용할 수 있다.
상기 열 중합 억제제로는 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술 분야에 알려져 있는 것들을 사용할 수 있다.
상기 가소제, 접착 촉진제, 충전제 및 계면 활성제 등도 종래 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있는 모든 화합물이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 첨가제의 함량은 0.01 내지 10 중량부가 바람직하다. 상기 함량이 0.01 중량부 미만인 경우에는 원하는 효과를 얻기 어렵고, 10 중량부를 초과하는 경우에는 다른 성분들과 반응하여 부반응을 일으킬 가능성이 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 롤 코터(roll coater), 커튼 코터(curtain coater), 스핀 코터(spin coater), 슬롯 다이 코터, 각종 인쇄, 침적 등에 사용되며, 금속, 종이, 유리 플라스틱 기판 등의 지지체 상에 적용될 수 있다. 또한, 필름 등의 지지체 상에 도포한 후 기타 지지체 상에 전사하거나, 제1의 지지체에 도포한 후 블랭킷 등에 전사한 후, 다시 제2의 지지체에 전사하는 것도 가능하며, 그 적용 방법은 특별히 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250~450nm의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 사용될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 광경화성 도료, 광경화성 잉크, TFT(Thin Film Transistor) LCD 컬러 필터 제조용 투명 감광성 수지 조성물, 안료 분산형 감광성 수지 조성물, TFT LCD 혹은 유기 발광 다이오드의 블랙 매트릭스 형성용 감광성 수지 조성물의 제조 등에 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 두지 않는다.
또한, 본 발명은 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 투명 박막층의 제조방법을 제공한다.
상기 액정 표시 장치용 투명 박막층은 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려진 일반적인 제조방법을 통하여 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 액정 표시 장치용 투명 박막층을 포함하여 제조하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조방법을 제공한다.
상기 액정 표시 장치는 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 액정 표시 장치용 투명 박막층을 포함하여 제조하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려진 일반적인 제조방법을 통하여 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 레진 산 탈수소화물을 포함하는 고분자 화합물을 유효한 바인더 격자 물질로서 사용함으로써, 감광성 수지 조성물의 감도가 우수하고 현상성이 개선되며, 열처리 과정시의 패턴의 변형 정도가 적고 탄성이 우수 해 액정 표시 소자의 컬럼 스페이서, 오버코트, 패시베이션 재료의 경화에 유리할 뿐만 아니라 공정시 불량률을 감소시킬 수 있다.
이하의 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 이들만으로 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예에서는 특정의 예만을 나타냈지만, 이들의 균등물을 사용하는 경우에도 유사한 효과를 나타낸다는 것은 당업자에게 자명하다.
< 합성예 1 : 알칼리 가용성 고분자 화합물의 제조>
레진 산 탈수소화물로서 상기 화학식 1로 표시되는 피마르산을 함유하는 바인더 고분자는 다음과 같은 방법에 의해 합성하였다. 반응 용기에 열 개시제로 V-65 3중량부를 용매에 녹인 후 피마르 산과 (메타)아크릴산, 벤질 메타크릴레이트를 각각 10몰%, 20몰%, 70몰%로 투입한 후, 질소 분위기에서 60℃를 유지하며 12시간 반응시켰다. 얻어진 알칼리 가용성 고분자 화합물의 몰 함량비는 투입 때와 같이 각각 10%, 20%, 70%이었다. 상기 알칼리 가용성 고분자 화합물의 산가는 98 KOH mg/g이며, 중량평균분자량은 Mw = 25,000 이었다.
합성예 2
레진 산 탈수소화물로서 상기 화학식 2로 표시되는 이소피마르산을 사용하는 것을 제외하고는, 상기 합성예 1과 동일한 방법으로 알칼리 가용성 고분자 화합물을 합성하였다. 합성예 2를 통해 얻어진 알칼리 가용성 고분자 화합물의 산가는 98 KOH mg/g이며, 중량평균분자량은 Mw = 25,300 이었다.
합성예 3
레진 산 탈수소화물로서 상기 화학식 3으로 표시되는 산다라코피마르 산을 사용한 것을 제외하고는, 상기 합성예 1과 동일한 방법으로 알칼리 가용성 고분자 화합물을 합성하였다. 합성예 3을 통해 얻어진 알칼리 가용성 고분자 화합물의 산가는 98 KOH mg/g이며, 중량평균분자량은 Mw = 24,800 이었다.
비교합성예 1
레진 산 탈수소화물을 포함하지 않고 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트를 몰 비 20%와 80%를 투입하여 공중합시킨 것을 제외하고는, 상기 합성예 1과 동일한 방법으로 알칼리 가용성 고분자 화합물을 합성하였다. 비교합성예 1을 통해 얻어진 알칼리 가용성 고분자 화합물의 산가는 65 KOH mg/g이며, 중량평균분자량은 Mw = 24,000 이었다.
실시예 1 : 감광성 수지 조성물의 제조
상기 합성예 1에서 준비된 알칼리 가용성 고분자 화합물 8 중량부, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 16 중량부, 광중합 개시제로 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온(상품명 Irgacure-369, Ciba Geigy 사) 1 중량부와 유기 용매인 PGMEA(propylene glycol monomethyl ether acetate) 75 중량부를 쉐이커를 이용하여 3시간 동안 혼합시켜 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
이 혼합 감광성 용액을 5마이크론 크기의 필터를 이용하여 여과하고 유리에 스핀 코팅하여 약 100℃로 2분 동안 전열 처리하여 두께가 약 2.5㎛되는 균등한 필름을 형성하였다. 상기 필름을 지름 30㎛의 원형 독립 패턴(Isolated Pattern)형 포토마스크를 이용하여 고압 수은 램프 하에서 노광시킨 후, 패턴을 pH 11.3 ∼ 11.7의 KOH 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온수로 세척하였다. 이를 200℃에서 약 40분간 후열 처리한 다음 패턴의 상태를 광학 현미경과 패턴 프로파일러로 관찰하였다.
실시예 2
합성예 1에서 합성된 알칼리 가용성 고분자 화합물 대신 합성예 2에서 합성된 알칼리 가용성 고분자 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
실시예 3
합성예 1에서 합성된 알칼리 가용성 고분자 화합물 대신 합성예 3에서 합성된 알칼리 가용성 고분자 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
비교예 1
합성예 1에서 합성된 알칼리 가용성 고분자 화합물 대신 비교합성예 1에서 합성된 알칼리 가용성 고분자 화합물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
<투명 감광성 조성물의 물성 평가>
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 투명 감광성 수지 조성물의 물성을 다음과 같은 방법으로 측정하였고, 그 결과를 하기 표 1에 정리하였다.
(1) 광감도
지름 30㎛의 원형 독립 패턴(Isolated Pattern)형 포토마스크를 이용해서 두께가 더 이상 증가하지 않는 노광량을 감도라고 규정을 하고, 노광량에 변화를 주면서 감도를 측정하였다. 노광량이 적을수록 감도가 우수하다고 할 수가 있다. 광원으로서 고압 수은 등으로부터 나오는 전 파장영역의 빛을 특정 파장에 대한 필터 없이 사용하였고, 노광량에 대해서는 365nm(I선)에서 측정을 하였다.
(2) 현상성
패턴 주위의 유리 기판 바닥면을 원자 현미경(Atomic force spectroscopy)을 이용하여 거칠기를 측정하였다. 거칠기 값의 정확도를 위해 가로와 세로 각각 500nm의 정사각형 부위를 측정하였다. 거칠기의 정도가 작을수록 현상성이 더 우수하다.
(3) 소성 과정에 의한 변형
조성 실시예와 비교예를 통해 만들어진 패턴의 상부 지름(두께 95% 되는 지점에서의 지름을 기준으로 측정함)을 열처리(200℃, 40분) 전과 후에 측정하여 비교하였다. 열처리 전과 후의 지름의 차이가 적을수록 열변형 정도가 적다.
(4) 탄성
조성 실시예와 비교예를 통해 만들어진 패턴을 평면 압자(Fischerscope H100ⓒ)를 이용해 1 N까지 누른 후 힘을 제거했을 때 최고 변형량과 복원된 변형량의 비율인 탄성 회복률을 기준으로 탄성 정도를 비교했다. 수치가 높을수록 탄성이 우수하다.
광감도
(mJ/㎠)		 현상성
(거칠기,nm)		 소성과정에 의한 변형 탄성
회복률
(%)
열처리전 패턴 상부 지름(㎛) 열처리후 패턴 상부 지름(㎛) 상부지름
차이(㎛)
실시예1 155 21 32 31 1 92
실시예2 155 18 34 32 2 94
실시예3 150 22 33 30 3 91
비교예1 210 92 36 28 8 88
상기 표 1의 결과에서와 같이, 피마르산 및 이의 이성질체를 반복단위로 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물을 유효한 바인더 격자 물질로서 사용함으로써, 감광성 수지 조성물의 감도가 우수하고 현상성이 개선되며, 열처리 과정시의 패턴의 변형 정도가 적어 5㎛ 이내로 억제되고, 탄성이 우수해져서 90%를 상회하는 것을 확인할 수 있다.
그러나, 본 발명과 같이 피마르산 및 이의 이성질체를 포함하지 않고 종래의 구조를 가지는 알칼리 가용성 고분자 화합물을 바인더 격자 물질로 포함하는 경우, 광 감도, 현상성이 미흡하며, 특히 소성 과정에서 열변형이 심한 것을 알 수 있다.
이로부터 본 발명과 같이 알칼리 가용성 고분자 화합물 내에 특정 구조를 만족하도록 함으로써 패턴을 형성하는 전체 공정에서 변형없이 우수한 박막 형성이 가능하며, 이로부터 제조된 박막의 물성 또한 우수한 것을 확인하였다.

Claims (16)

  1. 하기 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체를 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물:
    화학식 1
    Figure pat00004

    화학식 2
    Figure pat00005

    화학식 3
    Figure pat00006

  2. 제 1항에 있어서, 상기 알칼리 가용성 고분자 화합물의 산가는 30 ~ 300 KOH mg/g 인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 알칼리 가용성 고분자 화합물의 중량평균분자량은 1,000 ~ 200,000의 범위인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체는 알칼리 가용성 고분자 화합물 중 3 ~ 50 몰%의 범위로 포함되는 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 알칼리 가용성 고분자 화합물은 상기 화학식 1~3으로 표시되는 단량체, 산기(acid functional group) 함유 단량체, 및 상기 산기 함유 단량체와 공중합 가능한 단량체를 포함하는 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 알칼리 가용성 고분자 화합물은 선택적으로 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  7. 제 5항에 있어서, 상기 산기 함유 단량체는 (메트)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메트)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메트)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  8. 제 5항에 있어서, 상기 산기 함유 단량체와 공중합 가능한 단량체는 불포화 카르복시산 에스테르류, 방향족 비닐류, 불포화 에테르류, N-비닐 삼차아민류, 불포화 이미드류, 무수 말레인산류, 불포화 글리시딜 화합물류, 또는 이들의 혼합물 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  9. 제 6항에 있어서, 상기 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물은 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메트)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센, 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 화합물.
  10. 1)제 1항에 따른 화학식 1~3으로 표시되는 피마르산 및 이의 이성질체를 반복단위로 포함하는 알칼리 가용성 고분자 화합물 2~20 중량부;
    2) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5~20 중량부;
    3) 광활성 라디칼 개시제 0.1~20 중량부; 및
    4) 용매 10~95 중량부
    를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 2) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물은 다가 알콜을 α, β-불포화 카르복실산으로 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메트)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; (메트)아크릴산 알킬에스테르; 및 9,9'-비스 [4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌으로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  12. 제 10항에 있어서, 상기 3) 광활성 라디칼 개시제는 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 아세토페논계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 포스핀 옥사이드계 화합물, 및 쿠마린계 화합물 중에서 선택되는 1종, 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  13. 제 10항에 있어서, 상기 4) 용매는 메틸 에틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르, 또는 이들의 1종 이상 혼합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  14. 제 10항에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물은 추가적으로 경화 촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제 및 계면 활성제 중에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  15. 제 10항에 따른 감광성 수지 조성물을 이용한 투명 박막층.
  16. 제 15항에 따른 투명 박막층을 포함하여 이루어진 액정 표시 장치.
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