KR20110112560A - Electro-conducitve copper powder coated with anti-oxidizng material and method for preparing the same - Google Patents

Electro-conducitve copper powder coated with anti-oxidizng material and method for preparing the same Download PDF

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KR20110112560A
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Abstract

본 발명은 표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말로서, 상기 내산화성물질은 구리 분말보다 내산화성이 크고, 소성온도가 낮은 물질인 것이 특징인 도전성 구리 분말, 그 제조방법 및 상기 도전성 구리 분말을 포함하는 도전성 페이스트를 제공한다.
본 발명에 의하면, 도전성 구리 분말의 표면을 유리 또는 은(Ag) 등의 내산화성 물질로 코팅함으로써, 구리 분말의 산화를 방지할 수 있어, 전극 페이스트에 사용시 우수한 전기 전도 특성을 나타낼 수 있으며, 전극의 소성온도를 낮추어 전극의 형성을 용이하게 할 수 있다.
The present invention provides a conductive copper powder coated on the surface with an oxidation resistant material, wherein the oxidation resistant material has a higher oxidation resistance than the copper powder and a lower firing temperature, a method for producing the conductive copper powder, and the conductive copper powder It provides a conductive paste comprising a.
According to the present invention, by coating the surface of the conductive copper powder with an oxidation resistant material such as glass or silver (Ag), the oxidation of the copper powder can be prevented, and when used in an electrode paste, excellent electrical conduction characteristics can be exhibited. The firing temperature of the can be lowered to facilitate the formation of the electrode.

Description

내산화성 물질로 표면이 코팅된 도전성 구리 분말 및 그 제조방법{ELECTRO-CONDUCITVE COPPER POWDER COATED WITH ANTI-OXIDIZNG MATERIAL AND METHOD FOR PREPARING THE SAME }ELECTRO-CONDUCITVE COPPER POWDER COATED WITH ANTI-OXIDIZNG MATERIAL AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}

본 발명은 전극 페이스트 등에 도전물질로 사용되는 구리 분말에 관한 것으로서, 상세하게는 내산화성 물질로 표면이 코팅되어 산화되지 않고 우수한 전도특성을 갖는 도전성 구리 분말 및 그 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a copper powder used as a conductive material for electrode pastes and the like, and more particularly, to a conductive copper powder having a superior conductive property without being oxidized by being coated with an oxidation resistant material and a method of manufacturing the same.

인쇄회로기판 등의 전자부품에 사용되는 전극형성용 도전성 페이스트는 일반적으로 도전성 금속분말, 유기 바인더, 글래스 프릿 및 기타 첨가제를 혼합하여 제조되며, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 포토리소그래피 등의 방법을 이용하여 패턴 형태로 인쇄된 후, 소성 공정을 통해 전극으로 형성된다. 이 때, 도전성 금속분말로는 전기 전도성이 우수하고, 산화특성이 좋은 은(Ag) 분말을 주로 사용하였으나, 단가가 비싸기 때문에 비용상승의 원인이 되고 있으며, 전극 형성 후에도 전자의 마이그레이션에 의한 단락이 발생하는 등의 문제점이 지적되어 왔다. 따라서, 전극용 페이스트의 도전성 금속 분말을 은(Ag) 분말 대신에 알루미늄, 구리, 니켈 등으로 대체하고자 하는 시도가 있어 왔다. Electroconductive pastes for forming electrodes used in electronic parts such as printed circuit boards are generally manufactured by mixing conductive metal powders, organic binders, glass frits, and other additives, and using screen printing, offset printing, photolithography, and the like. After printing in the form of a pattern, it is formed into an electrode through a firing process. At this time, silver (Ag) powder, which has excellent electrical conductivity and good oxidation characteristics, was mainly used as the conductive metal powder. However, due to the high unit cost, it is a cause of increase in cost, and short circuit due to migration of electrons occurs even after electrode formation. Problems have been pointed out. Therefore, there have been attempts to replace the conductive metal powder of the electrode paste with aluminum, copper, nickel, or the like instead of silver (Ag) powder.

구리(Cu) 분말의 경우, 은(Ag) 분말보다 단가가 싸고 은 분말과 유사한 수준의 전기 전도도를 나타내어 전극 형성용 재료로서의 장점이 있으나, 산화가 일어나기 쉽고, 소성온도가 은 분말보다 높은 문제점이 있다. In the case of copper (Cu) powder, the unit price is lower than that of silver (Ag) powder and exhibits a similar level of electrical conductivity as silver powder, which has advantages as an electrode forming material. have.

현재 전극 재료로서 주로 사용되는 금속 분말은 기상법이나 액상법에 의해 합성되었기 때문에 대부분이 구형의 형상을 가지고 있다. 현재 글래스 프릿 분말 합성 기술은 전통적인 용융법을 이용하고 있다. 기본 공정 하에서는 용융된 원재료를 플래이크 형태로 급랭시킨 후 여러 단계의 밀링 공정 및 분급공정을 거쳐 원하는 입도의 글래스 프릿 분말을 합성하였다. 상기 기술에서 여러 단계의 밀링과 분급 공정은 필수적이며 이는 글래스 프릿 분말의 성능저하, 많은 단위공정 수, 원하는 입도의 분말을 얻기 위한 수율 저하 등의 단점이 있다. 현재 상당부분 단점이 극복되었으나 여전히 단점이 존재하며 이를 감수해야만 했고 분산성의 문제를 극복하기 위하여 페이스트 제조 기술에 큰 노력을 기울여 왔다. Metal powders, which are mainly used as electrode materials, are synthesized by a gas phase method or a liquid phase method, and thus most have a spherical shape. Currently, glass frit powder synthesis techniques use traditional melting methods. Under the basic process, the molten raw material was quenched in the form of a flake and then subjected to various milling and classification processes to synthesize glass frit powder having a desired particle size. In the above technique, several steps of milling and classification processes are essential, which has disadvantages such as poor performance of the glass frit powder, a large number of unit processes, and a yield reduction for obtaining a powder having a desired particle size. Although many disadvantages have been overcome at present, there are still disadvantages and they have to be taken care of, and in order to overcome the problem of dispersibility, much efforts have been made in paste manufacturing technology.

전극 소재로서 구리 분말의 크기는 수십 나노미터에서 수 마이크론 까지 다양한 크기가 적용되고 있다. 반면에 전통적인 방법에 의해서는 글래스 분말의 나노 크기화에 어려움이 따른다. 따라서 은 및 글래스 분말들의 서로 다른 크기 및 형태 특성으로 인해 안정한 페이스트의 제조에 어려움이 따른다. Copper powders are available in electrode sizes ranging from tens of nanometers to several microns. On the other hand, the conventional method is difficult to nano-size the glass powder. Therefore, different size and shape characteristics of silver and glass powders make it difficult to prepare a stable paste.

본 발명자들은 구리 분말을 유리 또는 은(Ag) 등의 내산화성 물질로 표면 코팅할 경우 구리 분말의 산화를 방지할 수 있기 때문에, 전극 페이스트용 도전성 분말로 사용시, 우수한 전기 전도 특성을 나타낼 수 있음은 물론, 표면에 코팅된 유리, 은 등의 내산화성 물질로 인하여 전극의 소성온도를 낮추어 전극의 형성을 용이하게 할 수 있다는 것을 밝혀 내었다. 특히, 구리 분말 표면에 코팅하는 내산화성 물질로서 글래스 물질을 사용할 경우, 종래의 구리 분말과 글래스프릿을 혼합하여 페이스트화하는 공정에서 발생할 수 있는 불균일성 및 페이스트의 불안정성을 동시에 해결할 수 있다는 것을 알아내었다. The inventors of the present invention can prevent oxidation of the copper powder when the surface of the copper powder is coated with an oxidation resistant material such as glass or silver (Ag), and thus, when used as a conductive powder for electrode paste, it is possible to exhibit excellent electrical conductivity. Of course, it has been found that the oxidation temperature of glass, silver, and the like coated on the surface may lower the firing temperature of the electrode to facilitate the formation of the electrode. In particular, when using a glass material as the oxidation-resistant material to coat the surface of the copper powder, it was found that the non-uniformity and paste instability that may occur in the process of pasting and mixing the conventional copper powder and glass frit has been found.

본 발명은 상기에 기초한 것이다. The present invention is based on the above.

본 발명은 a) 구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체를 용매에 용해시켜 전구체 용액을 준비하는 단계; b) 상기 전구체 용액을 분무장치를 통하여 액적화하는 단계; c) 상기 액적을 가열장치 내로 투입하는 단계; d) 상기 가열장치를 통과한 분말을 수득하는 단계를 포함하는, 표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말의 제조방법을 제공한다. The present invention comprises the steps of: a) preparing a precursor solution by dissolving a precursor of copper and a precursor of an oxidation resistant material in a solvent; b) dropleting the precursor solution through a spray device; c) introducing the droplets into a heating device; d) providing a method for producing a conductive copper powder coated with an oxidizing material, the surface comprising the step of obtaining the powder passed through the heating apparatus.

또한, 본 발명은 표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말로서, 상기 내산화성물질은 구리 분말보다 내산화성이 큰 것이 특징인 도전성 구리 분말을 제공한다. In addition, the present invention provides a conductive copper powder, the surface of which is coated with an oxidation resistant material, the oxidation resistant material is characterized by greater oxidation resistance than copper powder.

그리고, 본 발명은 상기에 기재된 도전성 구리 분말을 포함하는 도전성 페이스트를 제공한다.And this invention provides the electrically conductive paste containing the electroconductive copper powder as described above.

또한, 본 발명은 상기에 기재된 도전성 페이스트를 기재 상의 전부 또는 일부에 도포하는 단계; 및 상기 도포된 기재를 500 ~ 1000 ℃ 범위에서 소성하여 전극을 형성하는 단계를 포함하는 전극의 제조방법을 제공한다. In addition, the present invention comprises the steps of applying the conductive paste described above to all or part of the substrate; And it provides a method for producing an electrode comprising the step of forming the electrode by firing the applied substrate in the range 500 ~ 1000 ℃.

그리고, 본 발명은 상기에 기재된 전극의 제조방법에 의하여 제조된 전극을 제공한다.And this invention provides the electrode manufactured by the manufacturing method of the electrode as described above.

본 발명에 의하면, 도전성 구리 분말의 표면을 유리 또는 은(Ag) 등의 내산화성 물질로 코팅함으로써, 구리 분말의 산화를 방지할 수 있어, 전극 페이스트에 사용시 우수한 전기 전도 특성을 나타낼 수 있으며, 전극의 소성온도를 낮추어 전극의 형성을 용이하게 할 수 있다. 특히, 본 발명의 도전성 구리 분말 페이스트를 사용하여 전극을 제조하는 경우, 도전성 구리 분말과 다른 성분들이 매우 균일하게 혼합되어 있기 때문에 매우 치밀한 전극을 얻을 수 있으며, 기판과의 접착특성 역시 매우 우수하다. According to the present invention, by coating the surface of the conductive copper powder with an oxidation resistant material such as glass or silver (Ag), the oxidation of the copper powder can be prevented, and when used in an electrode paste, excellent electrical conduction characteristics can be exhibited. The firing temperature of the can be lowered to facilitate the formation of the electrode. In particular, when the electrode is manufactured using the conductive copper powder paste of the present invention, since the conductive copper powder and other components are very uniformly mixed, a very dense electrode can be obtained, and the adhesion property with the substrate is also very excellent.

도1은 분무열분해법을 이용한 구리 분말 제조장치의 모식도이다.
도2는 실시예1의 제조공정에 대한 흐름도이다.
도3은 분무열분해법에 의하여 구리 분말이 합성되는 과정을 나타낸 모식도이다.
도4는 분무열분해법에 의하여 표면이 내산화성 물질로 코팅된 구리 분말이 합성되는 과정을 나타낸 모식도이다.
도5는 실시예1 및 비교예 1에서 제조된 도전성 구리 분말의 TGA(Thermal Gravimetry Analysis) 그래프이다.
도6은 실시예 1및 비교예 1에서 제조된 도전성 구리 분말의 DSC(Differential Scanning Calorimetry) 그래프이다.
도7은 실시예 2에서 제조된 3중량부의 은(Ag)으로 코팅된 도전성 구리 분말의 TGA 및 DSC 그래프이다.
도8은 실시예 1에서 제조된 도전성 구리 분말의 TEM(Transmission Electron Microscope) 사진이다.
도9는 실시예 1에서 제조된 10중량부의 유리로 코팅된 도전성 구리 분말의 TEM 사진이다.
도10은 실시예2에서 제조된 15 중량부의 은(Ag)으로 코팅된 도전성 구리 분말의 TEM사진 및 EDS에 의한 단면 성분 프로파일 그래프이다.
도11은 실시예1에서 제조된 도전성 구리 분말을 이용하여, 실시예3과 같이 도전성 필름을 제조했을 때, 소성온도에 따른 도전성 필름의 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진 및 시트저항(sheet resistance) 측정결과 그래프이다.
도12는 실시예1에서 제조된 도전성 구리 분말에 대한, 유리의 함량에 따른 XRD(X-Ray Diffraction) 분석결과이다.
도13은 실시예2에서 제조된 도전성 구리 분말을 이용하여, 실시예3과 같이 도전성 필름을 제조했을 때, 소성온도에 따른 도전성 필름의 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진 및 시트저항(sheet resistance) 측정결과 그래프이다.
도14는 실시예2에서 제조된 도전성 구리 분말에 대한, 은(Ag)의 함량에 따른 XRD(X-Ray Diffraction) 분석결과이다.
도15는 실시예 1에서 제조된 도전성 구리 분말에 대한, 유리의 함량에 따른 SEM 사진이다.
도16는 실시예 2에서 제조된 도전성 구리 분말에 대한, 은(Ag)의 함량에 따른 SEM 사진이다.
1 is a schematic diagram of a copper powder production apparatus using spray pyrolysis.
2 is a flowchart of a manufacturing process of Example 1;
3 is a schematic diagram showing a process of synthesizing a copper powder by spray pyrolysis.
FIG. 4 is a schematic diagram showing a process of synthesizing a copper powder whose surface is coated with an oxidation resistant material by spray pyrolysis.
5 is a TGA (Thermal Gravimetry Analysis) graph of the conductive copper powder prepared in Example 1 and Comparative Example 1.
6 is a differential scanning calorimetry (DSC) graph of the conductive copper powders prepared in Example 1 and Comparative Example 1. FIG.
7 is a TGA and DSC graph of conductive copper powder coated with 3 parts by weight of silver (Ag) prepared in Example 2. FIG.
8 is a transmission electron microscope (TEM) photograph of the conductive copper powder prepared in Example 1. FIG.
9 is a TEM photograph of a conductive copper powder coated with 10 parts by weight of glass prepared in Example 1. FIG.
FIG. 10 is a TEM photograph and a cross-sectional component profile graph by EDS of a conductive copper powder coated with 15 parts by weight of silver (Ag) prepared in Example 2. FIG.
FIG. 11 is a SEM (Scanning Electron Microscope) photograph and sheet resistance measurement of a conductive film according to firing temperature when the conductive film is manufactured as in Example 3 using the conductive copper powder prepared in Example 1 The result graph.
12 is an XRD (X-Ray Diffraction) analysis result according to the glass content of the conductive copper powder prepared in Example 1. FIG.
FIG. 13 is a SEM (Scanning Electron Microscope) photograph and sheet resistance measurement of a conductive film according to firing temperature when the conductive film is prepared as in Example 3 using the conductive copper powder prepared in Example 2 The result graph.
14 is an XRD (X-Ray Diffraction) analysis result according to the content of silver (Ag) for the conductive copper powder prepared in Example 2. FIG.
15 is a SEM photograph according to the content of glass for the conductive copper powder prepared in Example 1. FIG.
16 is a SEM photograph according to the content of silver (Ag) for the conductive copper powder prepared in Example 2. FIG.

본 명세서에서, 내산화성이란, 산소와 접촉시 산화가 일어나지 않는 특성을 의미하며, 내산화성이 크다는 것은 고온으로의 가열에 의해 산화가 일어나더라도 산화가 일어나는 온도가 높은 것을 의미한다. In the present specification, the oxidation resistance means a property that oxidation does not occur when contacted with oxygen, and the high oxidation resistance means that the temperature at which oxidation occurs is high even when oxidation occurs by heating to a high temperature.

본 명세서에서 소성이란, 도전성 페이스트를 기판 등에 도포한 후, 바인더를 태워서 제거하고 도전성 입자 간에 융착이 일어나도록 열처리하는 것을 의미하며, 소성온도는, 도전성 입자 상호간에 융착이 발생하는 온도를 의미하고, 도전성 페이스트의 조성 및 도전성 입자의 종류에 따라 상이할 수 있으나, 일반적으로 1000℃이하의 온도를 의미한다. 예를 들어, 구리를 도전성 입자로 사용하는 경우, 소성온도는 900 ~ 1000℃ (MLCC용도) 범위가 될 수 있으며, 은을 도전성 입자로 사용하는 경우의 소성온도는 500~1000℃ (solar cell, MLCC, PDP 용도) 범위일 수 있다. 다만, 상기 소성온도는 특별히 제한되는 것은 아니며, 내산화물질의 특성에 따라 다양하게 제어될 수 있으므로, 본 발명의 도전성 구리 분말은 다양한 전자소자(electronic device)에 적용될 수 있다. In the present specification, the firing means applying the conductive paste to a substrate or the like, then burning and removing the binder and heat-treating the fusion between the conductive particles, and the firing temperature means the temperature at which the fusion occurs between the conductive particles, Although it may differ according to the composition of a conductive paste and the kind of electroconductive particle, it generally means the temperature below 1000 degreeC. For example, when copper is used as the conductive particles, the firing temperature may be in the range of 900 to 1000 ° C. (for MLCC), and the firing temperature when silver is used as the conductive particles is 500 to 1000 ° C. (solar cell, MLCC, PDP use). However, the firing temperature is not particularly limited and may be variously controlled according to the characteristics of the oxide material, and thus the conductive copper powder of the present invention may be applied to various electronic devices.

본 발명은 도전성 페이스트에 사용되는 도전성 구리 분말의 표면을 유리 또는 은(Ag) 등의 내산화성 물질로 코팅하여 구리 분말의 내산화성을 향상시키는 것이 특징이다. 본 발명에 의한, 표면이 내산화성 물질로 코팅된 도전성 구리 분말은 다르게 표현한다면, 내산화성 물질을 쉘(shell)로, 구리를 코어(core)로 하는 코어-쉘 구조의 도전성 분말이라고 할 수도 있다. The present invention is characterized by improving the oxidation resistance of the copper powder by coating the surface of the conductive copper powder used for the conductive paste with an oxidation resistant material such as glass or silver (Ag). According to the present invention, the conductive copper powder coated on the surface with an oxidation resistant material may be referred to as a conductive powder having a core-shell structure in which the oxidation resistant material is a shell and the copper is a core. .

또한, 표면이 내산화성 물질로 코팅된 도전성 구리 분말을 제조시, 분무열분해법을 사용함으로서, 여러 단계의 공정을 거치지 않고 비교적 용이하게 내산화성 구리 분말을 제조하는 것이 특징이다. In addition, when manufacturing the conductive copper powder coated with the oxidation-resistant material, by using the spray pyrolysis method, it is characterized in that the oxidation-resistant copper powder is relatively easily prepared without undergoing a multi-step process.

본 발명의 일실시예에 의하면, 도전성 구리 분말의 표면을 유리로 코팅하는 경우, 구리와 산소와의 접촉을 방지하여, 상온에서 구리 분말이 산화하는 것을 억제할 수 있다. 구리 분말의 표면이 산화되는 경우에는 전기 전도성이 급격히 떨어지므로, 전극으로서 제 역할을 못 할 수 있으나, 본 발명에 의해 표면이 내산화성 물질로 코팅된 도전성 구리 분말은 구리 자체의 전기 전도 특성을 전혀 저해하지 않은 상태로 전극을 형성할 수 있기 때문에, 우수한 전기 전도 특성을 갖는 전극을 형성할 수 있는 장점이 있다. According to one embodiment of the present invention, when the surface of the conductive copper powder is coated with glass, it is possible to prevent the contact of copper and oxygen, and to suppress the oxidation of the copper powder at room temperature. When the surface of the copper powder is oxidized, the electrical conductivity drops sharply, and thus may not play a role as an electrode. However, the conductive copper powder coated with the oxidation resistant material according to the present invention has no electrical conductivity of copper itself. Since the electrode can be formed in a non-inhibited state, there is an advantage of forming an electrode having excellent electrical conductivity.

또한, 도전성 구리 분말 표면에 코팅된 유리는, 일반적인 도전성 페이스트 조성물 내에 포함되는 글래스 프릿의 조성과 동일 또는 유사한 조성으로 이루어져 있어 내산화성 물질로서의 역할을 할 뿐 만 아니라, 도전성 페이스트에서 무기 바인더의 역할을 하며, 입자간 컨택특성 및 입자-기판간의 컨택특성을 향상시킴과 동시에, 도전성 페이스트의 소성온도를 낮추는 역할을 할 수 있다. 또한, 페이스트 내에서 구리 분말과 글래스 프릿의 상분리가 일어나지 않기 때문에 안정적인 페이스트 제조가 가능하고, 구리와 글래스 성분이 균일하게 혼합되어 있기 때문에 형성된 전극이 매우 치밀하며 기판과의 접착특성도 매우 우수하다. In addition, the glass coated on the surface of the conductive copper powder is composed of the same or similar composition to the glass frit contained in the general conductive paste composition, and thus not only serves as an oxidation resistant material, but also serves as an inorganic binder in the conductive paste. In addition, the inter-particle contact characteristics and the particle-substrate contact characteristics may be improved, and at the same time, the firing temperature of the conductive paste may be lowered. In addition, since the phase separation of the copper powder and the glass frit does not occur in the paste, stable paste production is possible, and since the copper and glass components are uniformly mixed, the formed electrode is very dense and has excellent adhesion property with the substrate.

따라서, 본 발명에 의한 표면이 유리로 코팅된 도전성 구리 분말을 도전성 페이스트에 사용하는 경우에는 별도의 글래스 프릿을 첨가하지 않거나 또는 소량의 글래스 프릿 만을 첨가함으로써 우수한 특성을 가진 전극을 형성할 수 있는 장점이 있다. Therefore, when the conductive copper powder coated with a glass according to the present invention is used for the conductive paste, an electrode having excellent properties can be formed by adding no glass frit or adding only a small amount of glass frit. There is this.

본 발명의 또 다른 일 실시예는 도전성 구리 분말의 표면을 은(Ag)으로 코팅하는 것일 수 있다. Another embodiment of the present invention may be to coat the surface of the conductive copper powder with silver (Ag).

은(Ag)의 경우, 내산화성이 구리보다 우수하므로 도전성 구리 분말 표면을 은(Ag)으로 코팅할 경우, 구리와 산소와의 접촉을 방지하여, 구리 분말이 산화하는 것을 억제할 수 있다. In the case of silver (Ag), since the oxidation resistance is superior to copper, when the conductive copper powder surface is coated with silver (Ag), contact between copper and oxygen can be prevented, and the oxidation of the copper powder can be suppressed.

또한, 은(Ag)의 녹는점이 구리보다 낮기 때문에, 구리 만으로 된 도전성 분말을 도전성 페이스트에 사용할 때보다 소성온도를 낮출 수 있는 장점이 있다. In addition, since the melting point of silver (Ag) is lower than that of copper, there is an advantage that the firing temperature can be lowered than when the conductive powder made of copper is used for the conductive paste.

본 발명의 도전성 구리 분말은 평균 입경이 0.1 ~ 10㎛ 범위일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The conductive copper powder of the present invention may have an average particle diameter in the range of 0.1 to 10 μm, but is not limited thereto.

본 발명의 도전성 구리 분말의 표면에 코팅되는 내산화성 물질은 구리 분말보다 내산화성이 크고, 소성온도가 낮은 물질인 것이 바람직하다. The oxidation resistant material coated on the surface of the conductive copper powder of the present invention is preferably a material having a higher oxidation resistance and a lower firing temperature than the copper powder.

그러한 내산화성 물질의 일 예로는 산화물 유리를 들 수 있다. 산화물 유리는 일반적으로 알려진 판유리, 디스플레이용 유리 등에 사용되는 조성의 유리도 사용될 수 있으나, 바람직하게는 도전성 페이스트에 첨가되는 글래스 프릿의 조성을 갖는 유리일 수 있으며, 그 비제한적인 예로는 PbO-SiO2-P2O5계 유리, PbO-B2O3계 유리, P2O5-ZnO계 유리 및 SiO2-B2O3계 유리 등이 있고, 더욱 바람직하게는 ZnO-B2O3-SiO2 계 유리 또는 BaO-B2O3-SiO2 계 유리일 수 있다. One example of such an oxidation resistant material is oxide glass. The oxide glass may be a glass having a composition generally used for flat glass, display glass, and the like, but may be glass having a composition of glass frit added to the conductive paste, and non-limiting examples thereof include PbO-SiO 2. -P 2 O 5 -based glass, PbO-B 2 O 3 -based glass, P 2 O 5 -ZnO-based glass and SiO 2 -B 2 O 3 -based glass, and more preferably ZnO-B 2 O 3- SiO 2 based glass or BaO—B 2 O 3 —SiO 2 based glass.

예를 들면, BaO-B2O3-SiO2 계 유리가 사용되는 경우, 그 조성비는 전체 유리 중량 대비 BaO 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 20 내지 40 중량%, B2O3 30 내지 80 중량%, 바람직하게는 50 내지 70 중량%, SiO2은 3내지 20 중량%이며, 바람직하게는 5 내지 15중량% 범위가 될 수 있다. For example, when BaO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass is used, the composition ratio thereof is 10 to 50% by weight, preferably 20 to 40% by weight, B 2 O 3 30 to 80, based on the total glass weight. Weight percent, preferably 50 to 70 weight percent, SiO 2 is 3 to 20 weight percent, preferably in the range of 5 to 15 weight percent.

또한, 상기 유리 형성제 이외에 첨가제로 Al2O3, Na2O가 각각 전체 유리 중량 대비 0.1 내지 10중량%로 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 범위로 사용될 수도 있다. In addition, in addition to the glass former, Al 2 O 3 and Na 2 O may be used in an amount of 0.1 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight, based on the total glass weight.

상기 조성을 갖는 유리를 도전성 구리 분말의 표면에 코팅하는 경우, 구리 분말의 산화를 방지할 수 있음은 물론, 도전성 페이스트의 소성온도를 낮추고, 도전성 입자간 또는 도전성 입자와 기판 간의 컨택특성을 향상시킬 수 있다. When the glass having the composition is coated on the surface of the conductive copper powder, the oxidation of the copper powder can be prevented, as well as the firing temperature of the conductive paste can be lowered, and the contact characteristics between the conductive particles or between the conductive particles and the substrate can be improved. have.

상기 산화물 유리는 1000℃이하 환원분위기에서도 환원되지 않는 것이 좋으며, 바람직하게는 800℃이하 환원분위기에서도 환원되지 않는 것이 바람직하다. 도전성 페이스트는 1000℃이하의 환원분위기에서 소성되는 것이 일반적이므로, 그러한 온도 및 분위기에서 산화물 유리 내에 포함된 금속원소가 환원되어 석출되는 경우, 전극의 전기 전도 특성 및 기타 특성에 악영향을 끼칠 우려가 있기 때문이다. It is preferable that the oxide glass is not reduced in a reducing atmosphere of 1000 ° C or less, and preferably, it is not reduced in a reducing atmosphere of 800 ° C or less. Since the conductive paste is generally calcined in a reducing atmosphere of 1000 ° C. or less, when the metal element contained in the oxide glass is reduced and precipitated at such a temperature and atmosphere, there is a possibility that the conductive paste may adversely affect the electrical conductivity and other properties of the electrode. Because.

한편, 상기 내산화성 물질의 또 다른 일 예로는 은(Ag)을 들 수 있다. 은(Ag)은 구리분말보다 내산화성이 크고, 소성온도가 낮으므로 도전성 구리 분말 표면에 코팅되어 패시베이션 층(passivation layer)으로 작용할 수 있다. Meanwhile, another example of the oxidation resistant material may be silver (Ag). Silver (Ag) has a higher oxidation resistance than copper powder and a lower firing temperature, so that silver (Ag) may be coated on the surface of the conductive copper powder to act as a passivation layer.

이는 후술하는 실시예 및 비교예의 경우에서 알 수 있듯이, 상기 범위 내에 있는 경우에 내산화성 물질(ex. 산화물 유리)과 도전성 구리 분말 간의 반응이 일어나지 않으며, 제조공정상 내산화성 물질과 도전성 구리 분말이 원활히 상분리되어 표면 패시베이션 층을 형성할 수 있기 때문이다. 또한, 상기 범위인 경우가 그렇지 않은 경우보다, 형성된 전극의 시트저항(sheet resistance) 특성이 우수하다. As can be seen in the examples and comparative examples to be described later, the reaction between the oxidation-resistant material (ex. Oxide glass) and the conductive copper powder does not occur when in the above range, the oxidation-resistant material and the conductive copper powder smoothly in the manufacturing process This is because phase separation can form a surface passivation layer. In addition, sheet resistance characteristics of the formed electrodes are superior to those in the above ranges.

본 발명에 기재된, 표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말은 다음과 같이, The conductive copper powder coated on the surface of the present invention with an oxidation resistant material is as follows.

A) 구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체를 용매에 용해시켜 전구체 용액을 준비하는 단계;A) preparing a precursor solution by dissolving a precursor of copper and a precursor of an oxidation resistant material in a solvent;

B) 상기 전구체 용액을 분무장치를 통하여 액적화하는 단계;B) dropletizing the precursor solution through a spray device;

C) 상기 액적을 가열장치 내로 투입하는 단계;C) introducing the droplets into a heating device;

D) 상기 가열장치를 통과한 분말을 수득하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 제조할 수 있다. D) can be prepared by a method comprising the step of obtaining the powder passed through the heating apparatus.

상기 표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말의 제조방법을 각 단계별로 나누어 구체적으로 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the method for preparing the conductive copper powder coated with the oxidation resistant material will be described in detail for each step.

A) 구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체를 용매에 용해시켜 전구체 용액을 준비하는 단계A) preparing a precursor solution by dissolving a precursor of copper and a precursor of an oxidation resistant material in a solvent

구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체는 물이나 알코올 등의 용매에 쉽게 용해되는 물질이면 특별히 제한되지 않으며, 그 비제한적인 예로는 질산염(nitrate), 초산염(acetate), 염화물(chloride), 수화물(hydroxide), 또는 산화물(oxide) 등이 사용될 수 있고, 상기 열거된 종류를 통일하여 사용(예를 들면, 질산구리와 내산화성 물질의 금속원소를 포함하는 질산염)되거나 혹은 2종류 이상의 전구체를 혼합하여 사용(예를 들면, 질산구리와 내산화성 물질의 금속원소를 포함하는 수화물)될 수 있다. The precursors of copper and the precursors of oxidizing materials are not particularly limited as long as they are easily dissolved in a solvent such as water or alcohol. Non-limiting examples include nitrate, acetate, chloride, hydrate ( hydroxide) or an oxide, or the like, may be used in the same manner as described above (for example, a nitrate containing a metal element of copper nitrate and an oxidation resistant material), or a mixture of two or more kinds of precursors May be used (eg, hydrates including metal nitrates of copper nitrate and oxidation resistant materials).

상기 전구체를 용해시키는 용매 역시 특별히 제한되지 않으며, 그 비제한적인 예로는 물, 알코올, 산, 기타 유기용매 등이 있다. The solvent for dissolving the precursor is also not particularly limited, and non-limiting examples thereof include water, alcohols, acids, other organic solvents, and the like.

구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체를 용매에 용해시킬 때, 용액의 농도는 특별히 제한되지 않으나, 바람직하게는 0.02 ~ 3 M 범위가 될 수 있다. When dissolving the precursor of copper and the precursor of the oxidation resistant material in a solvent, the concentration of the solution is not particularly limited, but may preferably be in the range of 0.02 to 3 M.

상기 용액의 농도가 0.02M보다 작은 경우에는 제조되는 분말의 평균 입경이 작아지는 효과가 있으나, 용액의 농도가 낮기 때문에 분말의 생산성이 낮아지는 문제점이 있으며, 용액의 농도가 3M보다 큰 경우에는 입경이 필요 이상으로 커지는 문제점이 있다. When the concentration of the solution is less than 0.02M has the effect of reducing the average particle diameter of the powder produced, there is a problem that the productivity of the powder is lowered because the concentration of the solution is low, when the concentration of the solution is larger than 3M There is a problem that grows beyond this need.

내산화성 물질로 유리가 사용되는 경우, 구리의 전구체 및 유리의 전구체의 혼합 비율은, 최종적으로 합성된 도전성 분말을 놓고 볼 때, 구리 분말 100 중량부 기준 유리의 중량이 0.5 중량부 내지 10 중량부 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.5 중량부 내지 3 중량부 범위일 수 있다. When glass is used as the oxidation resistant material, the mixing ratio of the precursor of copper and the precursor of glass is 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper powder based on the finally synthesized conductive powder. It is preferably in the range, and more preferably in the range of 0.5 parts by weight to 3 parts by weight.

상기 범위 내에 있는 경우, 유리 성분이 구리 분말의 소결 특성을 좋게 하며, 기판과의 접착성도 좋아질 수 있다. 또한, 유리 성분의 과다로 인한 전도특성 저해도 방지할 수 있다. If it is in the said range, a glass component may improve the sintering characteristic of a copper powder, and adhesiveness with a board | substrate may also improve. In addition, it is possible to prevent the deterioration of the conductive property due to the excessive amount of the glass component.

내산화성 물질로 은(Ag)가 사용되는 경우, 구리의 전구체 및 은(Ag)의 전구체의 혼합 비율은, 최종적으로 합성된 도전성 분말을 놓고 볼 때, 구리 분말 100 중량부 기준 은(Ag)의 중량이 0.5 중량부 내지 50 중량부 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 5 중량부 내지 30 중량부 범위, 더욱 바람직하게는 10내지 20 중량부 범위일 수 있다. When silver (Ag) is used as the oxidation resistant material, the mixing ratio of the precursor of copper and the precursor of silver (Ag) is based on 100 parts by weight of silver (Ag) based on 100 parts by weight of the copper powder. The weight is preferably in the range of 0.5 to 50 parts by weight, more preferably in the range of 5 to 30 parts by weight, more preferably in the range of 10 to 20 parts by weight.

B) 상기 전구체 용액을 분무장치를 통하여 액적화하는 단계B) dropletizing the precursor solution through a spray device

전구체 용액을 액적으로 분무시키는 분무장치는 당업계에서 통상적으로 사용되는 분무장치를 사용할 수 있으며, 그 비제한적인 예로는 초음파 분무장치, 공기노즐 분무장치, 초음파노즐 분무장치, 필터 팽창 액적 발생장치(filter expansion aerosol generator, FEAG), 디스크 타입 액적 발생장치 등이 있다. 바람직하게는 초음파 분무장치를 사용할 수 있다. A spray device for spraying the precursor solution into the droplets may be used as a spray device commonly used in the art, non-limiting examples of the ultrasonic spray device, air nozzle spray device, ultrasonic nozzle spray device, filter expansion droplet generator ( filter expansion aerosol generator (FEAG), and disk type droplet generator. Preferably an ultrasonic atomizer can be used.

상기 분무장치에 의해 발생되는 액적의 크기는 특별히 제한되지 않으나, 바람직하게는 0.1 ~ 100 ㎛ 범위일 수 있다. The size of the droplets generated by the spraying device is not particularly limited, but may preferably be in the range of 0.1 to 100 μm.

C) 상기 액적을 가열장치 내로 투입하는 단계 및 D) 상기 가열장치를 통과한 분말을 수득하는 단계C) injecting the droplets into a heating device and D) obtaining powder that has passed through the heating device.

상기 분무된 액적을 가열장치 내로 투입하면 용매의 증발, 전구체 물질의 다공체 형성, 전구체 물질의 용융, 전구체 물질의 분해, 구리 및 내산화성 물질의 상분리를 통한 코어-쉘 구조 형성, 입자의 치밀화 등의 과정을 거쳐 표면이 내산화성 물질로 코팅된 도전성 구리 분말 입자가 형성된다. When the sprayed droplets are introduced into a heating apparatus, evaporation of the solvent, formation of the porous body of the precursor material, melting of the precursor material, decomposition of the precursor material, formation of a core-shell structure through phase separation of copper and oxidizing materials, densification of particles, etc. Through the process, conductive copper powder particles having a surface coated with an oxidation resistant material are formed.

이러한 과정의 모식도를 도 3 및 4에 나타내었다. A schematic diagram of this process is shown in FIGS. 3 and 4.

분무열분해법에 의하여 표면이 내산화성 물질로 코팅된 도전성 구리 분말은 예를 들면 도 1에 도시한 제조장치를 통하여 제조될 수 있다. 특히, 인시츄(in situ) 공정에 의해 내산화성 물질을 쉘(shell)로, 구리를 코어(core)로 하는 코어-쉘 구조의 전도성 구리 분말을 합성하기 위해서는, 전구체 용액이 분무장치를 통하여 액적화되고, 그 액적이 가열장치 내에서 분말로 합성되는 과정에서 다음과 같은 작용원리 및 조건이 필요하다. The conductive copper powder whose surface is coated with an oxidation resistant material by spray pyrolysis can be produced through, for example, the manufacturing apparatus shown in FIG. 1. In particular, in order to synthesize a core-shell structured conductive copper powder having an oxidation resistant material as a shell and a copper as a core by an in situ process, a precursor solution is applied through a spray apparatus. The following principles and conditions are required in the process of the accumulation and the synthesis of the droplets into powder in the heating apparatus.

a) 구리에 대한 쉘물질(내산화성물질)의 용해도가 매우 낮아 상분리가 일어남.a) The solubility of the shell material (oxidation resistant material) in copper is very low, resulting in phase separation.

b) 쉘물질(내산화성물질)이 표면으로 확산되기에 충분할 정도의 확산속도(diffusion rate)를 가짐. b) has a diffusion rate sufficient to allow the shell material (oxidation resistant material) to diffuse to the surface.

c) MxCuy 또는 MxCuyOz 등의 반응물이 생성되지 않아야 함. (이 때, M은 쉘물질을 구성하는 성분)c) no reactants such as M x Cu y or M x Cu y O z are produced. (M is the component constituting the shell material)

d) 쉘 물질의 소성이 충분히 일어날 정도의 공정온도 필요. d) a process temperature sufficient to cause sufficient firing of the shell material.

가열장치로는 무기 분말 합성에 사용되는 통상적인 가열장치를 사용할 수 있으며, 그 비제한적인 예로는 박스형 전기로, 튜브형 전기로 등이 있고, 바람직하게는 연속형 튜브 전기로(continuous type tube furnace)를 사용할 수 있다. As a heating apparatus, a conventional heating apparatus used for synthesizing inorganic powder may be used, and non-limiting examples thereof include a box type electric furnace, a tube type electric furnace, and the like, and preferably a continuous type tube furnace. Can be used.

가열온도는 전구체 물질의 건조, 분해 및 입자의 치밀화가 일어나기 위하여 물질의 종류에 따라 상이할 수 있으나, 600 ~ 1500℃ 범위가 될 수 있다. 분무열분해 공정을 통해 얻어지는 구리와 내산화성 물질의 복합체 분말은 반응기 온도 및 운반기체의 유량이 적절한 경우에 전구체 물질들의 건조 및 분해와 거의 동시에 구성 성분들이 용융이 되며, 액체 상태인 전구물질은 자유도를 낮추기 위해 구형의 형태를 갖게 되고, 하나의 액적에서 하나의 분말이 형성되기 때문에 추가적인 밀링 및 분급공정이 필요 없이 서브마이크론 단위의 패시베이션 층(passivation layer)을 가지는 복합체 분말이 합성될 수 있다. The heating temperature may vary depending on the type of the material in order to cause drying, decomposition and densification of the precursor material, but may range from 600 to 1500 ° C. The composite powder of copper and oxidizing materials obtained through the spray pyrolysis process melts the constituents almost simultaneously with drying and decomposition of the precursor materials when the reactor temperature and the flow rate of the carrier gas are appropriate. In order to lower the spherical shape, one powder is formed in one droplet, so that a composite powder having a passivation layer of submicron units can be synthesized without the need for additional milling and classification.

본 발명에 의한, 도전성 페이스트는 표면에 내산화성 물질이 코팅된 도전성 구리 분말을 도전성 물질로서 포함하는 이외에, 유기 바인더, 용매 및 기타 첨가제를 포함하는 조성물로 구성될 수 있으며, 추가로 글래스 프릿을 더 포함할 수도 있다. According to the present invention, the conductive paste may be composed of a composition including an organic binder, a solvent, and other additives, in addition to including the conductive copper powder coated with an oxidation resistant material on the surface as the conductive material, and further adding a glass frit. It may also include.

상기 유기 바인더는 도전성 물질, 글래스 프릿, 또는 기타 첨가제 등을 혼합해주고, 일정한 점성을 갖도록 하여 소성공정 이전에 패터닝된 전극이 형태를 유지하도록 하기 위해 첨가되는 것으로서, 당업자에게 알려진 유기 바인더를 사용할 수 있다. 유기 바인더의 비제한적인 예로는 아크릴계 고분자, 셀룰로오즈계 고분자 및 이 들의 혼합물 등이 있다. The organic binder is added to mix the conductive material, glass frit, or other additives, and to have a constant viscosity to maintain the patterned electrode prior to the firing process, an organic binder known to those skilled in the art can be used. . Non-limiting examples of organic binders include acrylic polymers, cellulose polymers, and mixtures thereof.

상기 용매는 유기 바인더를 용해시키고 제조되는 조성물의 점성을 조절해 줌으로써 도포가 용이한 페이스트를 제조하기 위해 사용되는 것으로서, 당업자에게 알려진 용매를 사용할 수 있다. 용매의 비제한적인 예로는 메틸 셀로솔브(Methyl Cellosolve), 에틸 셀로솔브(Ethyl Cellosolve), 부틸 셀로솔브(Butyl Cellosolve), 지방족 알코올(Alcohol), α-터피네올(Terpineol), β-터피네올, 다이하이드로 터피네올(Dihydro-terpineol), 에틸렌 글리콜(Ethylene Grycol), 에틸렌 글리콜 모노 부틸 에테르(Ethylene glycol mono butyl ether), 부틸셀로솔브 아세테이트(Butyl Cellosolve acetate), 텍사놀(Texanol) 및 이 들의 혼합물 등이 있다. The solvent is used to prepare a paste that is easy to apply by dissolving the organic binder and adjusting the viscosity of the composition to be prepared, and a solvent known to those skilled in the art can be used. Non-limiting examples of solvents include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, aliphatic alcohol, α-terpineol, β-terpine All, Dihydro-terpineol, Ethylene Grycol, Ethylene glycol mono butyl ether, Butyl Cellosolve Acetate, Texanol and Mixtures thereof.

상기 글래스 프릿은 기판과의 접착성 향상을 위해 첨가되는 무기 바인더의 역할을 하며, PbO, Bi2O3, SiO2, B2O3, P2O5, ZnO, Al2O3 등의 성분 중 하나 이상을 포함하는 금속산화물계 유리일 수 있다. The glass frit serves as an inorganic binder added to improve adhesion with the substrate, and components such as PbO, Bi 2 O 3 , SiO 2 , B 2 O 3 , P 2 O 5 , ZnO, Al 2 O 3, and the like. It may be a metal oxide-based glass containing at least one of.

또한, 상기 도전성 페이스트의 유동 특성, 공정 특성 및 안정성 등을 향상시키기 위하여 필요에 따라 자외선 안정제, 점도 안정제, 소포제, 분산제, 레벨링제, 산화방지제, 열중합금지제 등의 기타 첨가제를 더 첨가할 수도 있다. In addition, other additives such as an ultraviolet stabilizer, viscosity stabilizer, antifoaming agent, dispersant, leveling agent, antioxidant, and thermal polymerization inhibitor may be further added as necessary to improve the flow characteristics, process characteristics and stability of the conductive paste. .

상기 도전성 페이스트를 이용한 전극 패턴의 형성은 당업자에게 알려진 방법으로 행해질 수 있으며, 그 비제한적인 예로는 스크린 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 코터법, 포토리소그래피법, 및 DFR법(Dry Film Resistor) 등이 있다. Formation of the electrode pattern using the conductive paste may be performed by a method known to those skilled in the art, and non-limiting examples thereof include screen printing, offset printing, coater, photolithography, and DFR (Dry Film Resistor). have.

상기와 같이 도전성 페이스트를 기재 상의 전부 또는 일부에 도포한 후에는, 도포된 기재를 500 ~ 1000 ℃ 범위에서 소성하여 전극을 형성할 수 있다. 본원발명의 전극 제조방법은 도전성 구리 분말의 소성온도가 일반적인 구리 분말의 소성온도보다 낮을 수 있다. 도전성 구리 분말 표면에 코팅되는 내산화성 물질로 은(Ag)을 사용하는 경우, 낮은 온도에서부터 용융(melting)이 시작되기 때문에 500℃ 정도의 저온으로 소성하더라도 구리분말의 저항 증가분을 은(Ag)이 상쇄하여 도전성 분말 전체의 저항을 낮게 유지할 수 있으며, 내산화성 물질로 유리 물질을 사용하는 경우, 유리의 조성에 따라 도전성 분말 전체의 용융(melting) 온도를 조절 가능하다. 특히, 전술한 글래스 프릿과 동일 또는 유사한 조성의 유리를 사용하는 경우에는 유리 전이온도가 약 600℃ 초반이므로 650℃ 이상의 온도에서 용융(melting)이 일어나기 때문에 액상 소결을 유도하여 구리 분말 단독으로 사용되었을 때보다 낮은 온도에서 소결하여 낮은 저항치를 얻을 수 있다. After the conductive paste is applied to all or part of the substrate as described above, the applied substrate may be baked in a range of 500 to 1000 ° C. to form an electrode. In the electrode manufacturing method of the present invention, the firing temperature of the conductive copper powder may be lower than that of the general copper powder. When silver (Ag) is used as the oxidation-resistant material coated on the surface of the conductive copper powder, since the melting starts from a low temperature, the increase in the resistance of the copper powder may be increased even if it is baked at a low temperature of about 500 ° C. By offsetting, the resistance of the entire conductive powder can be kept low, and when the glass material is used as the oxidation resistant material, the melting temperature of the entire conductive powder can be adjusted according to the composition of the glass. In particular, when glass having the same or similar composition as the glass frit is used, the glass transition temperature is about 600 ° C., so melting occurs at a temperature of 650 ° C. or higher. It can be sintered at a lower temperature than usual to obtain a low resistance value.

한편, 상기 방법에 의하여 제조된 전극은 우수한 전기 전도 특성을 나타낼 수 있음은 물론, 표면에 코팅된 유리, 은 등의 내산화성 물질로 인하여 전극의 소성온도를 낮추어 전극의 형성을 용이하게 하고 내산화성 물질로 글래스 물질을 사용할 경우 구리 분말과 글래스 프릿을 혼합하여 페이스트화 하는 공정에서 발생할 수 있는 불균일성 및 페이스트의 불안정성을 동시에 해결할 수 있다. On the other hand, the electrode manufactured by the above method can exhibit excellent electrical conduction properties, of course, by lowering the firing temperature of the electrode due to the oxidation-resistant material such as glass, silver coated on the surface to facilitate the formation of the electrode and oxidation resistance When using a glass material as a material, it is possible to simultaneously solve the unevenness and paste instability that may occur in the process of mixing and pasting copper powder and glass frit.

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 자세히 설명할 것이다. 그러나 본 발명이 이로써 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited thereto.

[실시예 1] 표면이 유리로 코팅된 도전성 구리 분말의 제조 Example 1 Preparation of Conductive Copper Powder Coated with Glass

표면이 유리로 코팅된 도전성 구리 분말은 초음파 분무 열분해법에 의해 제조되었다. The conductive copper powder whose surface was coated with glass was prepared by ultrasonic spray pyrolysis.

먼저, 분무용액은 구리의 전구체인 Cu(NO3)3 를 증류수에 용해한 0.5 M용액 및 유리의 전구체인 H3BO3, Ba(NO3)2 및 테트라에틸오르쏘실리케이트(TEOS)를 증류수에 용해한 0.5 M 용액을 혼합하고, 소량의 질산을 첨가하여 제조하였다. 이 때, 유리의 조성은 30wt% BaO - 60wt% B2O3 - 10wt% SiO2 가 되도록 전구체의 양을 조절하였으며, 유리 중량이 구리 분말 100중량부 기준0.5 ~ 10 중량부 범위에서 전구체 용액의 혼합비를 조절한 일련의 분무용액을 실험셋트로 마련하여 진행하였다. First, the spray solution is a 0.5 M solution in which Cu (NO 3 ) 3 , a precursor of copper, is dissolved in distilled water, and H 3 BO 3 , Ba (NO 3 ) 2, and tetraethylorthosilicate (TEOS), which are precursors of glass, are added to distilled water. The dissolved 0.5 M solution was mixed and prepared by adding a small amount of nitric acid. At this time, the composition of the glass is 30wt% BaO - 60wt% B 2 O 3 - was controlling the amount of the precursor such that 10wt% SiO 2, the glass weight is in the copper powder 100 parts by weight based on the range of 0.5 to 10 parts by weight of the precursor solution A series of spray solutions with controlled mixing ratios were prepared as experimental sets.

상기 분무 용액을 분무 열분해 장치로 투입하여 표면이 유리로 코팅된 도전성 구리 분말을 얻을 수 있었다. The spray solution was introduced into a spray pyrolysis apparatus to obtain a conductive copper powder having a surface coated with glass.

분무 열분해 장치는 1.7 MHz로 작동되는 6개의 초음파 스프레이 제너레이터(ultrasonic spray generator), 1000 mm 길이 및 50 mm의 내경을 갖는 관형 알루미나 반응기, 및 백필터(bag filter)로 구성되었으며, 열분해 온도는 900 ℃였고, 캐리어 기체인 공기의 유속은 10 L/min ~ 40L/min였다. 구리 분말 합성시 질산구리의 분해 후 생성되는 산화물 형태를 금속으로 환원시키기 위한 환원기체로는 5 % H2/Ar 혼합기체를 사용하였다. The spray pyrolysis unit consisted of six ultrasonic spray generators operating at 1.7 MHz, a tubular alumina reactor with an inner diameter of 1000 mm length and 50 mm, and a bag filter, with a pyrolysis temperature of 900 ° C. The flow rate of the air which is a carrier gas was 10 L / min-40 L / min. 5% H 2 / Ar mixed gas was used as a reducing gas to reduce the oxide form formed after decomposition of copper nitrate to metal during copper powder synthesis.

[실시예 2] 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전성 구리 분말의 제조 Example 2 Preparation of Conductive Copper Powder with Surface Coated with Silver (Ag)

표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전성 구리 분말은 초음파 분무 열분해법에 의해 제조되었다. The conductive copper powder whose surface was coated with silver (Ag) was prepared by ultrasonic spray pyrolysis.

먼저, 분무용액은 구리의 전구체인 Cu(NO3)3 를 증류수에 용해한 0.5 M용액 및 은(Ag)의 전구체인 Ag(NO3)를 증류수에 용해한 0.5 M 용액을 혼합하고, 소량의 질산을 첨가하여 제조하였다. 이 때, 은(Ag)의 중량이 구리 분말 100중량부 기준 0.5 ~ 50 중량부가 되도록 전구체 용액의 혼합비를 조절한 일련의 분무용액을 실험셋트로 마련하여 진행하였다.First, the spray solution is a mixture of 0.5 M solution in which Cu (NO 3 ) 3 , a precursor of copper, is dissolved in distilled water, and 0.5 M solution in which Ag (NO 3 ), a precursor of silver (Ag), is dissolved in distilled water. Prepared by addition. At this time, a series of spraying solutions in which the mixing ratio of the precursor solution was adjusted so that the weight of silver (Ag) was 0.5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper powder was prepared as an experimental set.

상기 분무 용액을 분무 열분해 장치로 투입하여 표면이 은(Ag)으로 코팅된 도전성 구리 분말을 얻을 수 있었다. The spray solution was introduced into a spray pyrolysis apparatus to obtain a conductive copper powder coated with silver (Ag).

분무 열분해 장치는 1.7 MHz로 작동되는 6개의 초음파 스프레이 제너레이터(ultrasonic spray generator), 1000 mm 길이 및 50 mm의 내경을 갖는 관형 알루미나 반응기, 및 백필터(bag filter)로 구성되었으며, 열분해 온도는 900 ℃였고, 캐리어 기체인 공기의 유속은 10 L/min ~ 40L/min였다. The spray pyrolysis unit consisted of six ultrasonic spray generators operating at 1.7 MHz, a tubular alumina reactor with an inner diameter of 1000 mm length and 50 mm, and a bag filter, with a pyrolysis temperature of 900 ° C. The flow rate of the air which is a carrier gas was 10 L / min-40 L / min.

구리 분말 합성시 질산구리의 분해 후 생성되는 산화물 형태를 금속으로 환원시키기 위한 환원기체로는 5 % H2/Ar 혼합기체를 사용하였다. 5% H 2 / Ar mixed gas was used as a reducing gas to reduce the oxide form formed after decomposition of copper nitrate to metal during copper powder synthesis.

[비교예 1] 표면 코팅되지 않은 도전성 구리 분말의 제조Comparative Example 1 Preparation of Conductive Copper Powder Without Surface Coating

표면 코팅되지 않은 도전성 구리 분말은 유리의 전구체를 혼합하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다. The conductive copper powder which was not surface coated was prepared in the same manner as in Example 1 except that the precursors of the glass were not mixed.

[실시예 3] 도전성 페이스트 및 도전성 필름의 제조 Example 3 Preparation of Conductive Paste and Conductive Film

실시예 1, 2 및 비교예 1에서 제조된 도전성 구리 분말을 에틸셀룰로오스(Ethyl cellulose), α-터피네올(α-terpineol), 및 부틸카비톨아세테이트(Butyl carbitol acetate, BCA)와 혼합하여 도전성 페이스트를 제조하였다. 상기 제조된 도전성 페이스트를 알루미나 기판에 스크린 인쇄한 후, 용매를 제거하기 위해 120 ℃에서 30분간 건조하였다. 건조된 알루미나 기판은 700 ~ 900 ℃ 온도로 10분간 소성하였다. 이 때, 승온속도는 5 ℃/min 였으며, 워킹가스는 N2를 사용하였다. The conductive copper powders prepared in Examples 1, 2 and Comparative Example 1 were mixed with ethyl cellulose, α-terpineol, and butyl carbitol acetate (BCA) to conduct conductivity. Paste was prepared. The conductive paste prepared above was screen printed onto an alumina substrate and then dried at 120 ° C. for 30 minutes to remove the solvent. The dried alumina substrate was calcined for 10 minutes at a temperature of 700 ~ 900 ℃. At this time, the temperature increase rate was 5 ℃ / min, and N 2 was used as the working gas.

도5 및 도6에 실시예1 및 비교예 1에서 제조된 도전성 구리 분말의 TGA(Thermal Gravimetry Analysis) 그래프 및 DSC(Differential Scanning Calorimetry) 그래프를 각각 나타내었다. 5 and 6 show TGA (Thermal Gravimetry Analysis) graphs and Differential Scanning Calorimetry (DSC) graphs of the conductive copper powders prepared in Example 1 and Comparative Example 1, respectively.

표면이 코팅되지 않은 순수한 구리 분말인 비교예 1의 경우, 200℃ 이하의 온도에서 산화가 일어나는 것을 알 수 있으나, 표면이 유리로 코팅된 실시예 1의 경우에는 300℃ 이상에서 표면의 산화가 발생하는 것으로부터 도전성 구리 분말의 내산화성이 향상된 것을 알 수 있다. 구리 분말은 산화가 일어남에 따라, Cu 에서 Cu2O를 거쳐 CuO로 변화하게 되며, 이론적인 질량 증가는 25.1%인데, 도5에 나타난 결과와 잘 일치하고 있는 것을 알 수 있다. In Comparative Example 1, the surface of which is pure copper powder without coating, it can be seen that oxidation occurs at a temperature of 200 ° C. or lower, but in Example 1, where the surface is coated with glass, oxidation of the surface occurs at 300 ° C. or higher. It turns out that the oxidation resistance of electroconductive copper powder improved by doing so. As the oxidation occurs, the copper powder changes from Cu to CuO through Cu 2 O, and the theoretical mass increase is 25.1%, which is in good agreement with the result shown in FIG. 5.

한편, 도6의 DSC 그래프에서, 표면이 코팅되지 않은 순수한 구리 분말의 경우, T1온도는 4Cu + O2 => 2Cu2O의 반응에 해당하는 피크 온도이며, T2온도는 2Cu2O + O2 => 4CuO의 반응에 해당하는 피크온도를 나타내고 있다. 표면이 유리로 코팅된 구리 분말의 경우, T온도는 2Cu + O2 => 2CuO 의 반응에 해당하는 피크온도를 나타내고 있다. On the other hand, in the DSC graph of Figure 6, in the case of pure copper powder without a surface coating, T1 temperature is the peak temperature corresponding to the reaction of 4Cu + O 2 => 2Cu 2 O, T2 temperature is 2Cu 2 O + O 2 => The peak temperature corresponding to the reaction of 4CuO is shown. In the case of the copper powder coated on the surface, the T temperature represents the peak temperature corresponding to the reaction of 2Cu + O 2 => 2CuO.

도 7은 실시예 2에서 제조된, 은(Ag)으로 표면코팅된 도전성 구리 분말의 TGA 및 DSC 그래프를 나타내고 있으며, 역시 실시예1의 경우와 마찬가지로 도전성 구리 분말의 내산화성이 향상된 것을 알 수 있다. Figure 7 shows the TGA and DSC graphs of the conductive copper powder surface-coated with silver (Ag) prepared in Example 2, it can be seen that the oxidation resistance of the conductive copper powder is also improved as in the case of Example 1 .

도8 및 도9의 TEM사진에서 알 수 있듯이 구리 분말의 표면에 고르게 유리가 코팅된 것을 알 수 있으며, 유리의 함량을 조절함에 따라, 코팅층의 두께도 조절가능한 것을 알 수 있다. As can be seen in the TEM photographs of FIGS. 8 and 9, it can be seen that the glass is evenly coated on the surface of the copper powder. As the content of the glass is controlled, the thickness of the coating layer can also be adjusted.

도10은 실시예2에서 제조된 도전성 구리 분말의 TEM사진 및 Line profile분석결과를 나타내고 있으며, 은(Ag)이 구리 분말 표면에 코팅되어 있는 것을 알 수 있다. 10 shows a TEM photograph and a line profile analysis result of the conductive copper powder prepared in Example 2, and it can be seen that silver (Ag) is coated on the surface of the copper powder.

도11의 시트저항 측정결과에 따르면, 표면에 코팅된 유리의 함량이 구리분말 100중량부 기준 0.5 중량부 ~ 3 중량부 인 경우에 가장 우수한 시트저항 값을 나타내는 것을 알 수 있다. 이는 도12의 XRD 결과에서도 알 수 있다. 즉, 유리의 함량이 0.5 ~ 3 중량부 인 경우에는 유리와 구리 간의 별다른 부반응이 일어나지 않고, 유리 성분이 도전성 구리 분말의 표면으로 이동되어 균일한 코팅층을 형성할 수 있으나, 유리의 함량이 그보다 증가하는 경우에는 글래스의 합성이 쉽게 일어나서 쉘(shell) 구조를 형성하여, 내부의 구리산화물(copper oxide)이 환원 기체에 의해 구리금속(copper)으로 환원되지 못하고 산화물 형태로 남아 있는 것으로 생각된다. According to the sheet resistance measurement results of FIG. 11, it can be seen that the sheet resistance value is best when the content of the glass coated on the surface is 0.5 parts by weight to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of copper powder. This can also be seen in the XRD results of FIG. That is, when the glass content is 0.5 to 3 parts by weight, no side reaction occurs between the glass and the copper, and the glass component may be moved to the surface of the conductive copper powder to form a uniform coating layer, but the content of the glass is increased. In this case, it is thought that the synthesis of the glass easily occurs to form a shell structure, so that the copper oxide inside is not reduced to the copper metal by the reducing gas and remains in the oxide form.

도13에 의하면, 도전성 구리 분말 표면을 은(Ag)으로 코팅한 경우, 코팅하지 않은 경우보다 더욱 낮은 온도에서 용융되어 시트저항 값이 더 낮은 결과를 보임을 알 수 있다. 특히, 은(Ag)의 함량이 증가할수록 소결특성이 향상되어 도전성 필름 내에 공공(void)가 감소하며, 전기적 특성이 더욱 향상되는 것을 알 수 있다.
According to FIG. 13, when the surface of the conductive copper powder is coated with silver (Ag), the surface of the conductive copper powder is melted at a lower temperature than the uncoated surface, and thus the sheet resistance value is lower. In particular, it can be seen that as the content of silver (Ag) increases, the sintering characteristics are improved, so that voids in the conductive film are reduced, and electrical characteristics are further improved.

Claims (15)

a) 구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체를 용매에 용해시켜 전구체 용액을 준비하는 단계;
b) 상기 전구체 용액을 분무장치를 통하여 액적화하는 단계;
c) 상기 액적을 가열장치 내로 투입하는 단계;
d) 상기 가열장치를 통과한 분말을 수득하는 단계를 포함하는,
표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말의 제조방법.
a) preparing a precursor solution by dissolving a precursor of copper and a precursor of an oxidation resistant material in a solvent;
b) dropleting the precursor solution through a spray device;
c) introducing the droplets into a heating device;
d) obtaining a powder that has passed through the heating apparatus,
Method for producing a conductive copper powder coated on the surface with an oxidation resistant material.
제1항에 있어서, 상기 내산화성 물질은 산화물 유리 또는 은(Ag)인 것이 특징인 도전성 구리 분말의 제조방법. The method of claim 1, wherein the oxidation resistant material is oxide glass or silver (Ag). 제2항에 있어서, 상기 산화물 유리는 ZnO-B2O3-SiO2 계 유리 또는 BaO-B2O3-SiO2 계 유리인 것이 특징인 도전성 구리 분말의 제조방법. The method of claim 2, wherein the oxide glass is ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass or BaO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass. 제2항에 있어서, 상기 산화물 유리의 함량은 구리 분말 100중량부 기준 0.5 중량부 내지 10 중량부 범위인 것이 특징인 도전성 구리 분말의 제조방법. The method of claim 2, wherein the content of the oxide glass is in the range of 0.5 parts by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper powder. 제2항에 있어서, 상기 은(Ag)의 함량은 구리 분말 중량 100 중량부 기준 0.5 중량부 내지 50 중량부 범위인 것이 특징인 도전성 구리 분말의 제조방법. The method of claim 2, wherein the content of silver (Ag) is in the range of 0.5 parts by weight to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper powder. 제1항에 있어서, 구리의 전구체 및 내산화성 물질의 전구체는 각각 독립적으로 질산염(nitrate), 초산염(acetate), 염화물(chloride), 수화물(hydroxide), 및 산화물(oxide)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것이 특징인 도전성 구리 분말의 제조방법. The method of claim 1, wherein the precursor of copper and the precursor of the oxidation resistant material are each independently selected from the group consisting of nitrate, acetate, chloride, hydrate, and oxide. The manufacturing method of the electroconductive copper powder characterized by the above-mentioned. 표면을 내산화성 물질로 코팅한 도전성 구리 분말로서, 상기 내산화성물질은 구리 분말보다 내산화성이 큰 것이 특징인 도전성 구리 분말. A conductive copper powder coated on the surface with an oxidation resistant material, wherein the oxidation resistant material has a higher oxidation resistance than the copper powder. 제7항에 있어서, 상기 내산화성 물질은 산화물 유리 또는 은(Ag)인 것이 특징인 도전성 구리 분말. 8. The conductive copper powder of claim 7, wherein the oxidation resistant material is oxide glass or silver (Ag). 제8항에 있어서, 상기 산화물 유리는 ZnO-B2O3-SiO2 계 유리 또는 BaO-B2O3-SiO2 계 유리인 것이 특징인 도전성 구리 분말. The conductive copper powder of claim 8, wherein the oxide glass is ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass or BaO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass. 제8항에 있어서, 상기 산화물 유리의 함량은 구리 분말 100중량부 기준 0.5 중량부 내지 10 중량부 범위인 것이 특징인 도전성 구리 분말. The conductive copper powder according to claim 8, wherein the content of the oxide glass ranges from 0.5 part by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper powder. 제8항에 있어서, 상기 은(Ag)의 함량은 구리 분말 중량 100 중량부 기준 0.5 중량부 내지 50 중량부 범위인 것이 특징인 도전성 구리 분말. The conductive copper powder of claim 8, wherein the silver (Ag) is in a range of 0.5 part by weight to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper powder. 제 7항에 있어서, 평균입경이 0.1 ~ 10㎛ 범위인 것이 특징인 도전성 구리 분말. The electroconductive copper powder of Claim 7 whose average particle diameter is the range of 0.1-10 micrometers. 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 구리 분말을 포함하는 도전성 페이스트.The electroconductive paste containing the electroconductive copper powder in any one of Claims 7-12. 제13항에 기재된 도전성 페이스트를 기재 상의 전부 또는 일부에 도포하는 단계; 및
상기 도포된 기재를 500 ~ 1000 ℃ 범위에서 소성하여 전극을 형성하는 단계를 포함하는 전극의 제조방법.
Applying the conductive paste of claim 13 to all or part of the substrate; And
The method of manufacturing an electrode comprising the step of forming the electrode by firing the applied substrate in the range 500 ~ 1000 ℃.
제14항에 기재된 방법에 의하여 제조된 전극. The electrode manufactured by the method of Claim 14.
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