KR20110105346A - Gas barrier laminated film - Google Patents

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KR20110105346A
KR20110105346A KR1020110023195A KR20110023195A KR20110105346A KR 20110105346 A KR20110105346 A KR 20110105346A KR 1020110023195 A KR1020110023195 A KR 1020110023195A KR 20110023195 A KR20110023195 A KR 20110023195A KR 20110105346 A KR20110105346 A KR 20110105346A
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curable resin
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KR1020110023195A
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미츠히로 코이케
타카시 사이토
유코 무라카미
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신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

투명성, 내열성, 내충격성 및 치수 안정성이 뛰어난 가스 배리어성 적층체 필름을 제공한다.
케이지형 실세스퀴옥산 구조를 가진 경화성 수지를 포함한 경화성 수지 조성물로 이루어지며, 인장 응력-변형 곡선에서의 인장 탄성률이 2000MPa 이상, 선팽창 계수가 80ppm/K 이하, 및 유리전이온도가 300℃ 이상인 제1층과, 케이지형 실세스퀴옥산 구조를 가진 경화성 수지를 포함한 경화성 수지 조성물로 이루어지며, 인장 응력-변형 곡선에서의 인장 탄성률이 100MPa 이상이고 제1층의 인장 탄성률 미만이면서, 항복점을 가지고 소성 변형을 나타내는 제2층이 적층되고, 이 적층물의 한쪽 면 또는 양쪽 면에는 가스 배리어층이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 가스 배리어성 적층체 필름이다.
Provided is a gas barrier laminate film that is excellent in transparency, heat resistance, impact resistance and dimensional stability.
It consists of curable resin composition containing curable resin which has cage type silsesquioxane structure, The tensile elasticity modulus in a tensile stress-strain curve is 2000 Mpa or more, the linear expansion coefficient is 80 ppm / K or less, and the glass transition temperature is 300 degreeC or more. It consists of a curable resin composition comprising a curable resin having a first layer and a cage-type silsesquioxane structure, and has a yield point at a tensile modulus of 100 MPa or more in a tensile stress-strain curve, less than the tensile modulus of the first layer, and having a yield point. The 2nd layer which shows a deformation | transformation is laminated | stacked, The gas barrier layered film characterized by the gas barrier layer provided in one or both surfaces of this laminated body.

Description

가스 배리어성 적층체 필름{GAS BARRIER LAMINATED FILM}Gas barrier laminate film {GAS BARRIER LAMINATED FILM}

본 발명은 투명성, 내열성, 내충격성 및 치수 안정성이 뛰어난 가스 배리어성 적층체 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a gas barrier laminate film excellent in transparency, heat resistance, impact resistance and dimensional stability.

종래, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 전자 페이퍼 등으로 대표되는 플랫 패널 디스플레이에는 유리 재료가 사용되어 왔다. 그러나 최근 디스플레이에는 박형화, 경량화, 대화면화, 의장성, 내충격성이 요구되어, 굴곡이나 충격에 대하여 깨지기 쉬운 점, 비중이 큰 점, 유연성 및 가공성이 부족한 점 등의 과제를 가지는 유리 재료 대신에 플라스틱 필름의 적응이 검토되고 있다. 플라스틱 필름은 유리 재료에 비해 경량이면서, 굴곡이나 충격에 대하여 깨지기 어렵고, 롤 to 롤 생산에 적응 가능하다는 등의 특징을 가진다. 특히 플렉시블 디스플레이의 제조를 목적으로 한 경우에 바람직하다. Conventionally, glass materials have been used for flat panel displays represented by liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, electronic paper and the like. However, in recent years, displays are required to be thinner, lighter, larger screens, design, impact resistance, plastic instead of glass materials that have the problems such as fragile, high specific gravity, lack of flexibility and workability due to bending and impact Adaptation of the film is under consideration. Plastic films are lighter than glass materials, are less susceptible to bending and impact, and are adaptable to roll to roll production. It is especially preferable when it aims at manufacture of a flexible display.

그러나 플라스틱 필름은 유리에 비해 내열성이 낮아, 열팽창이나 수증기의 흡수·탈수에 의한 치수 안정성이 떨어진다는 문제가 있다. 예를 들어 플라스틱 필름을 디스플레이용 기판으로서 이용할 경우, 컬러 필터 형성 공정, 박막 트랜지스터 형성 공정, 패널의 접합 공정, 배향막 형성 공정, 투명 전극 형성 공정 등의 각종 제조 공정에 있어서, 높은 프로세스 온도나 물세정 과정에 반복해서 노출되므로, 열산화 열화(劣化)에 의한 기판에의 손상이나 열팽창이나 물의 흡수·탈수에 의한 치수변동 거동이 커, 정밀도가 높은 디스플레이를 작성하기가 곤란하다. However, a plastic film has a problem that it is low in heat resistance compared with glass, and inferior in dimensional stability by thermal expansion and absorption and dehydration of water vapor. For example, when a plastic film is used as a display substrate, high process temperature and water washing in various manufacturing processes, such as a color filter formation process, a thin film transistor formation process, a panel bonding process, an orientation film formation process, and a transparent electrode formation process, are mentioned. Since it is repeatedly exposed to a process, it is difficult to produce a display with high precision, since the damage to the board | substrate by thermal oxidation deterioration, the dimensional fluctuation behavior by thermal expansion, or water absorption and dehydration are large.

상기와 같은 열프로세스에서 받는 기판에의 영향을 막기 위해, 플라스틱 필름상에 무기나 유기 화합물로 이루어지는 박막(가스 배리어층이라고 함)을 형성하여, 가스 배리어성을 부여한 가스 배리어 필름의 검토가 이루어지고 있다. 가스 배리어층을 마련함으로써, 기판과 산소의 접촉을 차단하여 열산화 열화를 막고, 또한 기판의 흡수율(吸水率)을 저하시켜 치수변동 거동을 억제하는 것이 가능해진다. 또한 가스 배리어층은 액정 표시 패널이나 EL 표시 패널 등에 형성되어 있는 소자와, 산소나 수증기 등의 외부로부터 침입하는 가스와의 접촉을 차단하여 발광 성능의 열화를 방지하는 역할을 가진다. In order to prevent the influence on the substrate which is subjected to the thermal process as described above, a thin film made of an inorganic or organic compound (called a gas barrier layer) is formed on the plastic film to examine the gas barrier film provided with gas barrier properties. have. By providing the gas barrier layer, it is possible to block the contact between the substrate and oxygen to prevent thermal oxidation deterioration, to lower the water absorption rate of the substrate, and to suppress the dimensional variation behavior. In addition, the gas barrier layer serves to prevent the deterioration of light emission performance by blocking contact between elements formed in a liquid crystal display panel, an EL display panel, or the like, and gases invading from outside such as oxygen or water vapor.

상기와 같은 요구에 대한 재료로서, 폴리카보네이트 필름이나 폴리에스테르필름 등의 투명 플라스틱 필름상에 가스 배리어층을 형성한 재료가 제안되어 있다(특허문헌 1, 2 참조). 또한 적층체로서, 가요성(可撓性;flexibility) 기재의 한 면 또는 양면에 두께 0.1∼10㎛의 아크릴계 수지층 및 두께 20∼100nm의 무기 가스 배리어층을 순차 적층한 적층 구조를 마련한 재료도 제안되어 있다(특허문헌 3 참조). 그러나 이러한 재료는 투명성, 유연성이 뛰어난 필름을 얻을 수 있기는 하지만, 필름의 유리전이온도가 200℃ 이하이기 때문에, 150℃∼200℃ 이상의 고온 프로세스에 있어서 기판의 열팽창에 의한 가스 배리어층의 깨짐에 의해 가스 배리어성을 유지할 수 없고, 또한 열에 의한 기판의 변형과 같은 문제가 생긴다. As a material for such a request, a material in which a gas barrier layer is formed on a transparent plastic film such as a polycarbonate film or a polyester film is proposed (see Patent Documents 1 and 2). In addition, as a laminate, a material having a laminated structure obtained by sequentially laminating an acrylic resin layer having a thickness of 0.1 to 10 µm and an inorganic gas barrier layer having a thickness of 20 to 100 nm on one or both surfaces of a flexible substrate is also provided. It is proposed (refer patent document 3). However, although such a material can obtain a film having excellent transparency and flexibility, the film has a glass transition temperature of 200 ° C. or lower, and therefore, it is difficult to break the gas barrier layer due to thermal expansion of the substrate in a high temperature process of 150 ° C. to 200 ° C. or higher. As a result, gas barrier properties cannot be maintained and problems such as deformation of the substrate due to heat occur.

일본국 공개특허공보 2000-338901호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-338901 일본국 공개특허공보 2007-268711호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-268711 일본국 공개특허공보 2005-313560호Japanese Laid-Open Patent Publication 2005-313560

플라스틱 필름 등의 기재상에 가스 배리어층을 형성할 때 가능한 한 고온에서 형성시킴으로써, 치밀한 막 구조가 되어 가스 배리어 성능을 높이는 것이 가능해진다. 또한 가열 프로세스를 상정하여, 기재의 열팽창에 따른 치수변화의 절대량을 작게 함으로써, 가스 배리어층에의 스트레스를 억제하여 가스 배리어층의 크랙을 막는 것으로 이어진다. 그 때문에 내열성이 뛰어나고, 저열팽창성 플라스틱 필름에 가스 배리어층을 마련한 가스 배리어 필름이 요구되고 있다. When the gas barrier layer is formed on a substrate such as a plastic film, the gas barrier layer is formed at a high temperature as much as possible, whereby it becomes possible to obtain a dense film structure and to increase the gas barrier performance. In addition, assuming that the heating process is small, the absolute amount of the dimensional change caused by thermal expansion of the substrate is reduced, so that stress to the gas barrier layer is suppressed and cracks in the gas barrier layer are prevented. Therefore, the gas barrier film which is excellent in heat resistance and provided the gas barrier layer in the low thermal expansion plastic film is calculated | required.

본 발명은 투명성, 내열성, 내충격성 및 치수 안정성이 뛰어난 가스 배리어성 적층체 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a gas barrier laminate film excellent in transparency, heat resistance, impact resistance and dimensional stability.

본 발명자들은 상기와 같은 종래기술의 문제를 감안하여 예의 검토를 거듭한 결과, 케이지(cage)형 실세스퀴옥산(silsesquioxane) 구조를 함유한 경화성 수지로 이루어지는 층을 적층한 적층물에 가스 배리어층을 마련함으로써, 지금까지의 과제를 해결할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly examined in view of the above-mentioned prior art problem, and, as a result, the gas barrier layer was laminated | stacked on the laminated body which laminated | stacked the layer which consists of curable resin containing cage-type silsesquioxane structure. By providing the present invention, the present inventors have found that the present invention can be solved, and have completed the present invention.

즉, 본 발명은 케이지형 실세스퀴옥산 구조를 가진 경화성 수지를 포함한 경화성 수지 조성물로 이루어지며, 인장 응력-변형 곡선(strain curve)에서의 인장 탄성률이 2000MPa 이상, 선팽창 계수가 80ppm/K 이하, 및 유리전이온도가 300℃ 이상인 제1층과, 케이지형 실세스퀴옥산 구조를 가진 경화성 수지를 포함한 경화성 수지 조성물로 이루어지며, 인장 응력-변형 곡선에서의 인장 탄성률이 100MPa 이상으로서 제1층의 인장 탄성률 미만이면서, 항복점을 가지고 소성 변형을 나타내는 제2층이 적층되고, 이 적층물의 한쪽 면 또는 양쪽 면에는 가스 배리어층이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 가스 배리어성 적층체 필름이다. That is, the present invention is composed of a curable resin composition containing a curable resin having a cage-type silsesquioxane structure, the tensile modulus of elasticity in the tensile stress-strain curve is 2000MPa or more, the linear expansion coefficient is 80ppm / K or less, And a curable resin composition comprising a first layer having a glass transition temperature of 300 ° C. or higher and a curable resin having a cage-type silsesquioxane structure, wherein the tensile modulus in the tensile stress-strain curve is 100 MPa or more. A second layer having a yield point and exhibiting plastic deformation while being less than the tensile modulus of elasticity is laminated, and a gas barrier layered film is provided on one or both sides of the laminate.

본 발명의 가스 배리어성 적층체 필름은 가스 배리어성, 투명성, 내열성, 내충격성 및 치수 안정성이 뛰어나므로, 경량인 동시에, 굴곡이나 충격에 대하여 깨지기 어렵고, 게다가 롤 to 롤 생산에 적응 가능한 점 등, 플렉시블 디스플레이의 제조를 목적으로 한 디스플레이 기판으로서 특히 적합하다. 그 때문에 본 발명은 그 산업상의 이용 가치가 매우 높은 것이다. Since the gas barrier laminate film of the present invention is excellent in gas barrier property, transparency, heat resistance, impact resistance and dimensional stability, it is lightweight, difficult to be broken against bending and impact, and also adaptable to roll to roll production, It is especially suitable as a display substrate for the purpose of manufacture of a flexible display. Therefore, this invention is very high in the industrial use value.

도 1은 제조예 3에서 얻어진 성형체(제2층)의 인장 응력-변형 곡선을 나타낸다.
도 2는 제조예 4에서 얻어진 성형체(제2층)의 인장 응력-변형 곡선을 나타낸다.
1 shows the tensile stress-strain curve of the molded product (second layer) obtained in Production Example 3. FIG.
2 shows a tensile stress-strain curve of the molded product (second layer) obtained in Production Example 4. FIG.

이하, 본 발명의 가스 배리어성 적층체 필름에 대하여, 바람직한 실시형태에 기초하여 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the gas barrier laminate film of this invention is demonstrated in detail based on preferable embodiment.

(제1층) (1st floor)

제1층(내층재)은 다른 한쪽인 제2층의 열팽창을 구속하여, 가스 배리어성 적층체 필름의 면내(面內)방향의 열팽창을 억제하는 동시에, 면충격에 대하여 가스 배리어성 적층체 필름의 휨량(amount of deflection)을 저감시키는 역할을 담당한다. 그 때문에, 치수 안정성이 뛰어나고 강성이 높은 재료로 이루어질 것이 조건이 된다. The first layer (inner layer material) restrains thermal expansion of the second layer, which is the other layer, suppresses thermal expansion in the in-plane direction of the gas barrier laminate film, and at the same time, the gas barrier laminate film against surface impact. It is responsible for reducing the amount of deflection. Therefore, the condition is made of a material having excellent dimensional stability and high rigidity.

구체적으로는, 케이지형 실세스퀴옥산 구조를 함유한 경화성 수지를 경화하여 얻어지는 성형체로서, 인장 응력-변형 곡선에서의 인장 탄성률이 2000MPa 이상, 선팽창 계수가 80ppm/K 이하, 및 유리전이온도가 300℃ 이상을 만족시키는 필름인 것이 필요하며, 파장 550nm에서의 광투과율이 90% 이상인 것이 바람직하다. Specifically, a molded product obtained by curing a curable resin containing a cage-type silsesquioxane structure, the tensile modulus of elasticity in the tensile stress-strain curve is 2000 MPa or more, the linear expansion coefficient is 80 ppm / K or less, and the glass transition temperature is 300 It is required to be a film that satisfies at least C, and it is preferable that the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 90% or more.

제1층의 인장 탄성률에 대하여, 2000MPa 미만이면 면충격에 대하여 내층의 휨량이 커져, 가스 배리어성 적층체 필름으로서 충분한 내충격성이 얻어지지 않는다. When the tensile modulus of the first layer is less than 2000 MPa, the amount of warpage of the inner layer increases with respect to the surface impact, and sufficient impact resistance is not obtained as the gas barrier laminate film.

가스 배리어성 적층체 필름의 면내방향의 열팽창은 제1층이 제2층의 팽창을 구속함으로써, 가스 배리어성 적층체 필름으로서의 선팽창 계수를 제1층의 값까지 억제하는 것이 가능해진다. 고로, 제1층의 선팽창 계수가 80ppm/K를 넘는 값이면, 가스 배리어성 적층체 필름의 선팽창 계수가 80ppm/K 이상이 되고, 가스 배리어성 적층체 필름을 가열 처리했을 때, 가스 배리어층과, 제1층과 제2층으로 이루어지는 적층물(이하, '적층 필름'이라고 하기도 함)과의 열팽창 차이가 커지므로, 가스 배리어층에 크랙이 생겨 충분한 가스 배리어 기능을 발휘할 수 없게 된다. In the in-plane direction of the gas barrier laminate film, the first layer restrains the expansion of the second layer, whereby the coefficient of linear expansion as the gas barrier laminate film can be suppressed to the value of the first layer. Therefore, if the coefficient of linear expansion of the first layer is more than 80 ppm / K, the coefficient of linear expansion of the gas barrier laminate film is 80 ppm / K or more, and when the gas barrier laminate film is heat treated, the gas barrier layer and Since the difference in thermal expansion between the laminate composed of the first layer and the second layer (hereinafter also referred to as a "laminated film") becomes large, cracks are generated in the gas barrier layer, so that a sufficient gas barrier function cannot be exhibited.

제1층의 유리전이온도에 대하여, 300℃ 미만이면 얻어지는 가스 배리어성 적층체 필름으로서, 디스플레이 제조 공정에서 중요한 내열성이 부족하다. It is a gas barrier laminated body film obtained when it is less than 300 degreeC with respect to the glass transition temperature of a 1st layer, and lacks important heat resistance in a display manufacturing process.

제1층의 파장 550nm에서의 광투과율이 90% 미만이면, 얻어지는 가스 배리어성 적층체 필름으로서, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 투명 필름 용도에 있어서 중요한 광투과성이 부족해져, 화상의 시인성(視認性;visibility) 등에 문제가 생긴다. When the light transmittance at the wavelength of 550 nm of a 1st layer is less than 90%, as a gas barrier laminated body film obtained, light transparency which is important in transparent film applications, such as a liquid crystal display and an organic electroluminescent display, falls short, and the visibility of an image problems such as; visibility).

상기와 같은 제1층을 형성할 때에, 경화성을 가지는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 사용하도록 한다. When forming the above first layer, a curable resin composition containing a cage-type silsesquioxane resin having curability is used.

바람직하게는, 제1층의 형성에 사용되는 경화성 수지 조성물에는 하기 일반식(1) Preferably, in curable resin composition used for formation of a 1st layer, following General formula (1)

[RSiO3 /2]n (1) [RSiO 3/2] n ( 1)

[단, n은 8∼14의 정수를 나타내고, R은 또는 하기 일반식 (2), (3) 또는 (4) [Wherein n represents an integer of 8 to 14, and R or General Formula (2), (3) or (4)

Figure pat00001
Figure pat00001

Figure pat00002
(3)
Figure pat00002
(3)

Figure pat00003
(4)
Figure pat00003
(4)

(단, m은 1∼3의 정수이고, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다) 중 어느 하나에서 선택되는 유기 관능기)이다]로 표시되는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유시키는 것이 좋다. (Wherein m is an integer of 1 to 3, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group), and the cage silsesquioxane resin represented by the above formula.

제1층의 형성에 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 수지는 규소원자 모두에 (메타)아크릴로일기, 글리시딜기 또는 비닐기를 가지는 유기 관능기로 이루어지는 반응성 관능기를 가지며, 분자량 분포 및 분자 구조가 제어된 케이지형 실세스퀴옥산 수지인 것이 바람직하지만, 일부가 알킬기, 페닐기 등으로 치환되어 있어도 지장이 없고, 또한 완전히 닫힌 다면체 구조가 아니라 일부가 개열(開裂)된 구조여도 된다. The cage-type silsesquioxane resin used for formation of the first layer has a reactive functional group composed of an organic functional group having a (meth) acryloyl group, a glycidyl group or a vinyl group on all silicon atoms, and the molecular weight distribution and molecular structure are controlled. Although it is preferable that it is a cage type silsesquioxane resin, even if one part may be substituted by the alkyl group, the phenyl group, etc., it may be a structure which does not interfere and is not a completely closed polyhedral structure but a part cleaved structure.

또한 제1층의 형성에 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물은 케이지형 실세스퀴옥산 수지 외에, 이 케이지형 실세스퀴옥산 수지와 상용성 및 반응성을 가지는 경화성 수지를 혼합한 경화성 수지 조성물인 것이 좋다. 이러한 경화성 수지 조성물로서는 가열 처리에 의해 경화 가능한 수지 조성물, 혹은 활성 에너지선을 조사하여 경화 가능한 수지 조성물이면 되고, 특별히 제한되지 않는다. Moreover, curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin used for formation of a 1st layer uses curable resin which has compatibility and reactivity with this cage-type silsesquioxane resin other than cage-type silsesquioxane resin. It is good that it is the curable resin composition mixed. As such curable resin composition, what is necessary is just a resin composition which can be hardened by heat processing, or the resin composition which can harden | cure by irradiating an active energy ray, and is not specifically limited.

케이지형 실세스퀴옥산 수지와 상용성 및 반응성을 가지는 경화성 수지로서는 예를 들면, 구조단위의 반복수가 2∼20 정도의 중합체인 반응성 올리고머 또는 저분자량, 저점도의 반응성 모노머를 들 수 있다. 구체적으로는, 반응성 올리고머로서는 에폭시아크릴레이트, 에폭시화유 아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 비닐아크릴레이트, 폴리엔/티올, 실리콘아크릴레이트, 폴리부타디엔, 폴리스티릴에틸메타크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 또한 반응성 모노머로서는 스티렌, 아세트산비닐, N-비닐피롤리돈, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, n-데실아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 트리플루오로에틸메타크릴레이트 등의 단관능 모노머 또는 디시클로펜타닐디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등의 다관능 모노머를 예시할 수 있다. As curable resin which is compatible and reactive with cage-type silsesquioxane resin, the reactive oligomer which is a polymer of the repeating number of a structural unit about 2-20, or the reactive monomer of low molecular weight, low viscosity is mentioned, for example. Specific examples of the reactive oligomer include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl acrylate, polyene / thiol, silicone acrylate, polybutadiene, Polystyryl ethyl methacrylate etc. can be illustrated. As the reactive monomer, styrene, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, n-decyl acrylate, isobornyl acrylate, and dish Monofunctional monomers such as clofentenyloxyethyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate or dicyclopentanyl diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate , Bisphenol A diglycidyl ether diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, hydroxy pivalic acid neopentyl glycol diacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, di Polyfunctional monomers, such as pentaerythritol hexaacrylate, can be illustrated. .

케이지형 실세스퀴옥산 수지와 상용성 및 반응성을 가지는 경화성 수지로서는 이상에 예시한 것 이외에 각종 반응성 올리고머, 모노머를 사용할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 사용해도, 2종류 이상 혼합해서 사용해도 된다. As curable resin which has compatibility and reactivity with cage-type silsesquioxane resin, various reactive oligomers and monomers can be used other than what was illustrated above, These may be used individually, or may be used in mixture of 2 or more types.

제1층의 형성에 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물은 본 발명의 목적에서 벗어나지 않는 범위에서 각종 첨가제를 첨가할 수 있다. 각종 첨가제로서 유기/무기 필러, 가소제, 난연제(難燃劑), 열안정제, 산화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 활제, 대전 방지제, 이형제(離型劑;releasing agent), 발포제, 핵제, 착색제, 가교제, 분산 조제 등을 예시할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. Curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin used for formation of a 1st layer can add various additives in the range which does not deviate from the objective of this invention. As various additives, organic / inorganic fillers, plasticizers, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, lubricants, antistatic agents, release agents, foaming agents, nucleating agents, coloring agents, Although a crosslinking agent, a dispersal adjuvant, etc. can be illustrated, it is not limited to these.

또한 제1층의 형성에 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물은 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유하는 것일 필요가 있는데, 이러한 케이지형 실세스퀴옥산 수지의 함유량은 3질량% 이상이 되는 양인 것이 바람직하다. 상기 함유량이 3질량% 미만에서는, 얻어지는 가스 배리어성 적층체 필름을 고온 프로세스가 필요한 용도로 이용했을 경우, 충분한 내열성이 얻어지지 않는다. Moreover, although curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin used for formation of a 1st layer needs to contain cage-type silsesquioxane resin, content of such cage-type silsesquioxane resin is 3 It is preferable that it is the quantity used as the mass% or more. When the said content is less than 3 mass%, when using the gas barrier laminated body film obtained for the use which requires a high temperature process, sufficient heat resistance will not be obtained.

또한 제1층의 형성에 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물은 필요에 따라서 중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 이러한 중합 개시제로서는 광중합 개시제 또는 열중합 개시제이면 되고, 시판되어 있는 것을 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 광중합 개시제로서는 예를 들면 알킨페논계, 아실포스핀옥사이드계, 티타노센계 등을 들 수 있다. 열중합 개시제로서는 예를 들면 케톤퍼옥사이드계, 퍼옥시케탈계, 하이드로퍼옥사이드계, 디알킬퍼옥사이드계, 디아실퍼옥사이드계, 퍼옥시디카보네이트계, 퍼옥시에스테르계 등을 들 수 있다. Moreover, the curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin used for formation of a 1st layer may contain the polymerization initiator as needed. As such a polymerization initiator, what is necessary is just a photoinitiator or a thermal polymerization initiator, and a commercially available thing can be selected suitably and can be used. As a photoinitiator, an alkynphenone type, an acyl phosphine oxide type, a titanocene type, etc. are mentioned, for example. As a thermal polymerization initiator, a ketone peroxide type, a peroxy ketal type, a hydroperoxide type, a dialkyl peroxide type, a diacyl peroxide type, a peroxydicarbonate type, a peroxy ester type, etc. are mentioned, for example.

본 발명에서는 적당한 용매를 희석제로서 사용하여, 경화성 수지 조성물의 점도를 조정하는 등으로 이용할 수도 있지만, 용매의 휘발 제거 공정을 고려하면, 시간을 필요로 하여 생산 효율이 저하하는 점, 또한 경화 후에 얻어지는 수지층 내부에 잔류 용매 등이 존재하여 성형 필름의 특성 저하로 이어지는 점 등으로 인해, 도포되는 경화성 수지 조성물 중 용매의 함유량은 5% 이하에 그치는 것이 좋고, 보다 바람직하게는 용매가 함유되지 않은 것을 사용하는 것이 좋다. 또한 이러한 경화성 수지 조성물은 경화 시에 휘발분을 발생시키지 않는 것이 바람직하다. In the present invention, a suitable solvent may be used as a diluent to adjust the viscosity of the curable resin composition, but in consideration of the volatilization removal process of the solvent, time is required to reduce production efficiency, and is also obtained after curing. It is preferable that the content of the solvent in the curable resin composition to be applied is only 5% or less, and more preferably no solvent is contained due to the presence of a residual solvent or the like in the resin layer, leading to deterioration of the properties of the molded film. It is good to use. Moreover, it is preferable that such curable resin composition does not generate | occur | produce a volatile matter at the time of hardening.

(제2층) (2nd floor)

제2층(외층재)은 가스 배리어성 적층체 필름으로서 이용할 때, 면충격으로 발생한 가스 배리어층의 크랙 전파를 억제하여 필름의 파단을 막기 위한 충격 흡수층으로서의 역할을 담당한다. 그 때문에, 외부 응력에 대하여 탄성 한계를 넘어서 바로 파단하는 것이 아니라, 소성 변형으로 변하는 항복 거동에 의해 응력을 분산시키는 재료인 것이 필요 조건이 된다. When used as a gas barrier laminate film, the second layer (outer layer material) plays a role as a shock absorbing layer for preventing crack propagation of the gas barrier layer generated due to surface impact and preventing breakage of the film. Therefore, it is a necessary condition that it is a material which disperses a stress by the yielding behavior which changes by plastic deformation instead of breaking directly beyond an elastic limit with respect to external stress.

구체적으로는 케이지형 실세스퀴옥산 구조를 함유한 경화성 수지로부터 얻어지는 성형체로서, 인장 응력-변형 곡선에서의 인장 탄성률이 100MPa 이상이고 제1층의 인장 탄성률 미만이면서, 항복점을 가지고 소성 변형을 나타내는 재료로 구성되는 것이 필요하며, 또한 파장 550nm에서의 광투과율이 90% 이상인 것이 바람직하다. 또한 인장 탄성률의 상한 기준으로서는 3000MPa 정도이다. Specifically, a molded article obtained from a curable resin containing a cage-type silsesquioxane structure, wherein the tensile modulus in the tensile stress-strain curve is 100 MPa or more and is less than the tensile modulus of the first layer, but has a yield point and exhibits plastic deformation. It is necessary to be composed of, and the light transmittance at a wavelength of 550 nm is preferably 90% or more. The upper limit of the tensile modulus is about 3000 MPa.

제2층의 인장 탄성률이 100MPa 미만이면, 면충격에 대하여 제2층의 휨량이 커지기 때문에, 가스 배리어성 적층체 필름으로서 충분한 내충격성을 얻을 수 없다. 또한 인장 탄성률이 제1층의 탄성률을 넘는 값이면, 가스 배리어성 적층체 필름을 가열했을 때, 제1층이 제2층의 열팽창을 억제할 수 없게 되기 때문에 적층체 필름의 열팽창이 커진다. 그 결과, 가스 배리어층과 적층 필름의 열팽창 차이도 커지기 때문에, 가스 배리어층에 크랙이 생겨 충분한 가스 배리어 기능을 발휘할 수 없게 된다. When the tensile modulus of elasticity of the second layer is less than 100 MPa, the warpage amount of the second layer increases with respect to the surface impact, so that sufficient impact resistance cannot be obtained as the gas barrier laminate film. If the tensile modulus is a value exceeding the modulus of elasticity of the first layer, when the gas barrier laminate film is heated, the thermal expansion of the laminate film becomes large because the first layer cannot suppress thermal expansion of the second layer. As a result, the difference in thermal expansion between the gas barrier layer and the laminated film also becomes large, so that cracks occur in the gas barrier layer, so that a sufficient gas barrier function cannot be exhibited.

또한 제2층이 인장 응력-변형 곡선에 있어서 항복점을 가지고 소성 변형을 나타내지 않는 재료이면, 면충격에 의해 생긴 가스 배리어층의 크랙 전파를 억제할 수 없어 필름이 쉽게 파단된다. 구체적으로는 인장 응력-변형 곡선에 있어서, 인장항복 신장 및 인장파괴 신장을 가지는 것이 필요하며, 인장항복 신장은 특별히 제한은 없고, 인장파괴 신장이 바람직하게는 5% 이상, 보다 바람직하게는 10% 이상, 및 인장항복 강도가 바람직하게는 10MPa 이상, 보다 바람직하게는 30MPa 이상, 또한 인장파괴 강도가 바람직하게는 10MPa 이상, 보다 바람직하게는 30MPa 이상인 재료가 좋다. In addition, if the second layer is a material having a yield point in the tensile stress-strain curve and showing no plastic deformation, crack propagation of the gas barrier layer caused by the surface impact cannot be suppressed and the film breaks easily. Specifically, in the tensile stress-strain curve, it is necessary to have tensile yield elongation and tensile fracture elongation, and the tensile yield elongation is not particularly limited, and tensile elongation elongation is preferably 5% or more, more preferably 10%. The material having a tensile yield strength of preferably 10 MPa or more, more preferably 30 MPa or more, and tensile strength of preferably 10 MPa or more, and more preferably 30 MPa or more is preferable.

제2층의 파장 550nm에서의 광투과율이 90% 미만이면, 얻어지는 가스 배리어성 적층체 필름으로서, 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이 등의 투명 필름 용도에 있어서 중요한 광투과성이 부족해져 화상의 시인성 등에 문제가 생긴다. If the light transmittance at the wavelength of 550 nm of a 2nd layer is less than 90%, as a gas barrier laminated body film obtained, important light transmittance will run short in transparent film applications, such as a liquid crystal display and an organic electroluminescent display, and a problem, such as image visibility, will arise. .

상기와 같은 제2층을 형성할 때에는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 사용하도록 한다. When forming such a 2nd layer, curable resin composition containing cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer resin is used.

제2층을 형성하는 경화성 수지 조성물은 바람직하게는 하기 일반식(5) Curable resin composition which forms a 2nd layer, Preferably it is following General formula (5)

Y-[Z-(O1 /2-R2 2SiO1 /2)a-(R3SiO3 /2)k-(O1 /2)b]l-Z-Y (5) Y- [Z- (O 1/2 -R 2 2 SiO 1/2) a - (R 3 SiO 3/2) k - (O 1/2) b] l -ZY (5)

[단, R2 및 R3은 비닐기, 알킬기, 페닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 또는 옥시란(oxirane)환을 가지는 기로서, R2 또는 R3에 있어서, 각 치환기는 서로 같거나 다른 것이어도 되지만, 1분자 중에 포함되는 R3 중 적어도 1개는 비닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 또는 옥시란환을 가지는 기 중 어느 하나이다. 또한 a 및 b는 0∼3의 수로서, 1≤a+b≤4의 관계를 만족하고, k는 8∼14의 수를 나타내며, k가 홀수일 경우에는 a와 b는 제로를 포함한 짝수와 홀수의 조합이고, k가 짝수일 경우에는 a와 b는 제로를 포함한 짝수의 조합이며, l은 1∼2000의 수를 나타낸다. 또한 Z는 하기 일반식(6) [Where R 2 and R 3 are a group having a vinyl group, an alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group or an oxirane ring, and in R 2 or R 3 , each substituent is the same as Although it may be different or it may be sufficient, at least 1 of R <3> contained in 1 molecule is any of the group which has a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group, or an oxirane ring. In addition, a and b are numbers of 0 to 3, satisfying a relationship of 1≤a + b≤4, k represents a number of 8 to 14, and when k is odd, a and b are an even number including zero When odd is an even number and k is an even number, a and b are even number combinations including zero, and l represents the number of 1-2000. In addition, Z is the following general formula (6)

Figure pat00004
Figure pat00004

(단, R4는 수소원자, 비닐기, 알킬기, 페닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 또는 옥시란환을 가지는 기로서, R4는 서로 같거나 다른 것이어도 되고, 또한 p는 0∼30의 수를 나타낸다.)로 표시되는 2가의 기이고, Y는 하기 일반식 (7)∼(10)에서 선택되는 어느 하나의 1가의 기이다. (Wherein R 4 is a group having a hydrogen atom, a vinyl group, an alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group or an oxirane ring, R 4 may be the same or different from each other, and p is 0 to Represents a number of 30.), and Y is any monovalent group selected from the following general formulas (7) to (10).

[(R5O)R6 2SiO1 /2]c-[R7SiO3 /2]d-[O1 /2]- (7) [(R 5 O) R 6 2 SiO 1/2] c - [R 7 SiO 3/2] d - [O 1/2] - (7)

[R5O1 /2]e-[R7SiO3 /2]d-[O1 /2-R6 2SiO1 /2]- (8) [R 5 O 1/2] e - [R 7 SiO 3/2] d - [O 1/2 -R 6 2 SiO 1/2] - (8)

(R5O1 /2)- (9) (R 5 O 1/2) - (9)

(R5 3SiO1 /2)- (10) (R 5 3 SiO 1/2 ) - (10)

(단, R6 및 R7은 비닐기, 알킬기, 페닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기, 또는 옥시란환을 가지는 기로서, R6 또는 R7에 있어서, 각 치환기는 서로 같거나 다른 것이어도 되고, R5는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기에서 선택되며, 또한 c 및 e는 0∼3의 수이고, d는 8∼14의 수이며, d가 홀수일 경우에는 c와 e는 각각 독립적으로 0 또는 2이고, d가 짝수일 경우에는 c와 e는 각각 독립적으로 1 또는 3이다.)]로 표시되는 구성단위를 가지는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 함유하는 것이 좋다. (However, R 6 and R 7 is a group having a vinyl group, an alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group, or an oxirane ring, and in R 6 or R 7 , each substituent is the same or different. R 5 may be selected from a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, c and e are 0 to 3, d is 8 to 14, and when d is odd, c and e are each independently. Is 0 or 2, and d is an even number, c and e are each independently 1 or 3.). It is preferable to contain a cage-type silsesquioxane-containing curable silicone copolymer having a structural unit represented by

제2층의 형성에 사용하는 경화성 수지 조성물로서는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체, 및 이 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체와 상용성 및 반응성을 가지는 수지라면 특별히 한정되는 것은 아니다. As curable resin composition used for formation of a 2nd layer, if it is resin which has compatibility and reactivity with cage type silsesquioxane containing curable silicone copolymer, and this cage type silsesquioxane containing curable silicone copolymer, it will be specifically limited. no.

케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체와 상용성 및 반응성을 가지는 경화성 수지로서는, 예를 들면 구조단위의 반복수가 2∼20 정도의 중합체인 반응성 올리고머 또는 저분자량, 저점도의 반응성 모노머를 들 수 있다. 구체적으로는, 반응성 올리고머로서는 에폭시아크릴레이트, 에폭시화유 아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 비닐아크릴레이트, 폴리엔/티올, 실리콘아크릴레이트, 폴리부타디엔, 폴리스티릴에틸메타크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 또한 반응성 모노머로서는 스티렌, 아세트산비닐, N-비닐피롤리돈, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, n-데실아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 트리플루오로에틸메타크릴레이트 등의 단관능 모노머 또는 디시클로펜타닐디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 비스페놀 A 디글리시딜에테르디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등의 다관능 모노머를 예시할 수 있고, 이들은 각각 단독으로 사용해도, 2종류 이상 혼합해서 사용해도 된다. Examples of curable resins having compatibility and reactivity with cage-type silsesquioxane-containing curable silicone copolymers include reactive oligomers or polymers having a repeating number of structural units of about 2 to 20 or low molecular weight and low viscosity reactive monomers. Can be. Specific examples of the reactive oligomer include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl acrylate, polyene / thiol, silicone acrylate, polybutadiene, Polystyryl ethyl methacrylate etc. can be illustrated. As the reactive monomer, styrene, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, n-decyl acrylate, isobornyl acrylate, and dish Monofunctional monomers such as clofentenyloxyethyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate or dicyclopentanyl diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate , Bisphenol A diglycidyl ether diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, hydroxy pivalic acid neopentyl glycol diacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, di Polyfunctional monomers such as pentaerythritol hexaacrylate; These may be used independently, respectively, or may mix and use two or more types.

또한 투명성, 내열성, 광학 특성, 치수 안정성 등의 가스 배리어성 적층체 필름의 특성을 손상하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 첨가할 수 있다. 각종 첨가제로서 열가소성 수지 및 열경화성 엘라스토머나 고무, 유기/무기 필러, 가소제, 난연제, 열안정제, 산화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 활제, 대전 방지제, 이형제, 발포제, 핵제, 착색제, 가교제, 분산 조제 등을 예시할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. Moreover, various additives can be added in the range which does not impair the characteristic of gas barrier laminated body films, such as transparency, heat resistance, an optical characteristic, and dimensional stability. As various additives, thermoplastic resins and thermosetting elastomers, rubbers, organic / inorganic fillers, plasticizers, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, lubricants, antistatic agents, mold release agents, foaming agents, nucleating agents, coloring agents, crosslinking agents, dispersion aids, etc. Although it can illustrate, it is not limited to these.

제2층의 형성에 사용하는 경화성 수지 조성물에 있어서의 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체의 함유량은 바람직하게는 3질량% 이상, 보다 바람직하게는 15질량% 이상이다. 상기 함유량이 3질량% 미만에서는, 얻어지는 적층체 필름을 고온 프로세스가 필요한 용도로 이용했을 경우, 충분한 내열성이 얻어지지 않는다. Content of cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer in curable resin composition used for formation of a 2nd layer becomes like this. Preferably it is 3 mass% or more, More preferably, it is 15 mass% or more. When the said content is less than 3 mass%, when using the obtained laminated | multilayer film for the use which requires a high temperature process, sufficient heat resistance will not be obtained.

또한 제2층의 형성에 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 함유한 경화성 수지 조성물에는 필요에 따라서 중합 개시제를 더 가지고 있어도 된다. 이러한 중합 개시제로서는, 광중합 개시제, 열중합 개시제이면 되고, 시판되어 있는 것을 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 광중합 개시제로서는, 예를 들면 알킨페논계, 아실포스핀옥사이드계, 티타노센계 등을 들 수 있다. 열중합 개시제로서는, 예를 들면 케톤퍼옥사이드계, 퍼옥시케탈계, 하이드로퍼옥사이드계, 디알킬퍼옥사이드계, 디아실퍼옥사이드계, 퍼옥시디카보네이트계, 퍼옥시에스테르계 등을 들 수 있다. Moreover, you may further have a polymerization initiator in the curable resin composition containing the cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer used for formation of a 2nd layer. As such a polymerization initiator, what is necessary is just a photoinitiator and a thermal polymerization initiator, and what is marketed can be selected suitably, and can be used. As a photoinitiator, an alkynphenone type, an acyl phosphine oxide type, a titanocene type, etc. are mentioned, for example. As a thermal polymerization initiator, a ketone peroxide type, a peroxy ketal type, a hydroperoxide type, a dialkyl peroxide type, a diacyl peroxide type, a peroxydicarbonate type, a peroxy ester type, etc. are mentioned, for example.

본 발명에서는 적당한 용매를 희석제로서 사용해서 경화성 수지 조성물의 점도 조정 등으로 이용할 수도 있지만, 용매의 휘발 제거 공정을 고려하면 시간을 필요로 하여 생산 효율이 저하하는 점, 경화 후에 얻어지는 수지층 내부에 잔류 용매 등이 존재하여 성형 필름의 특성 저하로 이어지는 점 등으로 인해, 도포되는 경화성 수지 조성물 중 용매의 함유량은 5% 이하에 그치는 것이 좋고, 보다 바람직하게는 용매가 함유되지 않은 것을 사용하는 것이 좋다. 또한 이러한 경화성 수지 조성물은 경화 시에 휘발분을 발생시키지 않는 것이 바람직하다. In the present invention, a suitable solvent may be used as a diluent to be used for viscosity adjustment of the curable resin composition, but in consideration of the volatilization removal process of the solvent, time is required and production efficiency decreases, and remains in the resin layer obtained after curing. Due to the presence of a solvent and the like, leading to a deterioration of the properties of the molded film, the content of the solvent in the curable resin composition to be applied is preferably only 5% or less, and more preferably, a solvent is not contained. Moreover, it is preferable that such curable resin composition does not generate | occur | produce a volatile matter at the time of hardening.

(적층 필름) (Laminated film)

제1층과 제2층을 적층시킨 적층물(적층체 필름)의 두께는 1∼400㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10∼200㎛이며, 더욱 바람직하게는 50∼100㎛인 것이 좋다. 또한 적층 필름의 제2층과 제1층의 두께비율(제2층의 두께÷제1층의 두께)은 0.01 이상 및 5.0 이하가 되도록 하는 것이 좋다. 보다 바람직하게는 0.01 이상 및 2.0 이하인 것이 좋다. 두께비율이 5.0 이상이면 제2층이 너무 두꺼워져서, 가열에 의해 제1층이 제2층의 열팽창을 억제할 수 없게 되어, 가스 배리어층을 마련한 가스 배리어성 적층체 필름으로 했을 때 가스 배리어층에 크랙이 발생하기 쉬워진다. 한편 두께비율이 0.01 미만이면 제2층이 너무 얇아져서, 충격 흡수층으로서의 효과를 발휘할 수 없어 충분한 내충격성이 얻어지지 않는다. As for the thickness of the laminated body (laminated body film) which laminated | stacked the 1st layer and the 2nd layer, 1-400 micrometers is preferable, More preferably, it is 10-200 micrometers, More preferably, it is 50-100 micrometers. Moreover, it is good to make thickness ratio (thickness of the 2nd layer / thickness of a 1st layer) of a 2nd layer and a 1st layer of laminated | multilayer film become 0.01 or more and 5.0 or less. More preferably, it is 0.01 or more and 2.0 or less. When the thickness ratio is 5.0 or more, the second layer becomes too thick, and the first layer cannot suppress thermal expansion of the second layer by heating, and when the gas barrier layered film is provided with a gas barrier layer, the gas barrier layer Cracking becomes easy to occur. On the other hand, when the thickness ratio is less than 0.01, the second layer becomes too thin, so that the effect as the shock absorbing layer cannot be exhibited, and sufficient impact resistance is not obtained.

적층 필름은 제1층을 안쪽으로 해서, 외측 양면에 제2층을 마련한 3층 구조 로 이루어지는 적층체 필름으로 하는 것이 바람직하다. 외층재를 한 면에만 마련한 적층체 필름에 비해 휨이나 변형 등을 더욱 저감시킬 수 있다. It is preferable to set it as the laminated | multilayer film which consists of a three-layered structure which made the 1st layer inside, and provided the 2nd layer in the outer both surfaces. The warpage, deformation, and the like can be further reduced as compared with the laminate film provided with only one outer layer material.

적층 필름의 면방향의 선팽창 계수는 바람직하게는 80ppm/K 이하, 보다 바람직하게는 60ppm/K 이하인 것이 좋다. 80ppm/K를 넘는 값이면 가스 배리어층을 마련한 가스 배리어성 적층체 필름을 가열했을 때, 가스 배리어층과 적층체 필름의 열팽창 차이가 커지기 때문에 가스 배리어층에 크랙이 발생하여 충분한 가스 배리어 기능을 발휘할 수 없게 된다. 또한 이 적층 필름의 열팽창 계수에 대하여, 외층재의 면내방향의 열팽창은 저열팽창성이 뛰어난 내층재에 의해 구속되기 때문에, 단층에서는 면내방향과 두께방향에서 같은 열팽창 거동을 나타내는 것이라도, 적층 필름으로 함으로써 외층재의 열팽창의 일부는 두께방향의 열팽창의 증가분으로서 나타나, 적층 필름의 열팽창 계수는 면방향과 두께방향에서 다른 값을 나타내게 된다. 따라서 상기 적층 필름의 열팽창 계수란, 적층 필름의 상태에서 그 면내방향의 열팽창 계수를 구한 것이다. The linear expansion coefficient in the plane direction of the laminated film is preferably 80 ppm / K or less, and more preferably 60 ppm / K or less. If the value exceeds 80 ppm / K, when the gas barrier laminate film provided with the gas barrier layer is heated, the difference in thermal expansion between the gas barrier layer and the laminate film becomes large, so that cracks may occur in the gas barrier layer, thereby providing sufficient gas barrier function. It becomes impossible. In addition, since the thermal expansion in the in-plane direction of the outer layer material is constrained by the inner layer material having excellent low thermal expansion property with respect to the thermal expansion coefficient of the laminated film, even if the single layer exhibits the same thermal expansion behavior in the in-plane direction and the thickness direction, the outer layer can be made into a laminated film. Part of the thermal expansion of the ash appears as an increase in the thermal expansion in the thickness direction, so that the thermal expansion coefficient of the laminated film shows different values in the surface direction and the thickness direction. Therefore, the thermal expansion coefficient of the said laminated | multilayer film calculate | requires the thermal expansion coefficient of the in-plane direction in the state of a laminated | multilayer film.

적층 필름의 생산방법에는 특별히 제한은 없고, 예를 들면 제1층(내층재)이 되는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 경화한 필름 성형체의 양면에, 제2층을 형성하는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 도포하여 경화함으로써 적층 필름을 제작하는 방법, 또는 제2층(외층재)이 되는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 경화한 필름 성형체 사이에, 내층재가 되는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 끼워서 적층 필름을 제작하는 방법, 나아가 외층재 및 내층재가 되는 수지를 도포하여 동시에 경화함으로써 적층 필름으로 하는 방법 등을 들 수 있다. There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of laminated | multilayer film, For example, a 2nd layer is formed in both surfaces of the film molding which hardened curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin used as a 1st layer (inner layer material). Cage-type silsesquioxane-containing curable silicone used as a method of manufacturing laminated | multilayer film by apply | coating and hardening curable resin composition containing cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer resin, or 2nd layer (outer layer material) A method of producing a laminated film by sandwiching a curable resin composition containing a cage-type silsesquioxane resin serving as an inner layer material between the film moldings cured curable resin composition containing a copolymer resin, and further, an outer layer material and a resin serving as an inner layer material. The method of making into a laminated | multilayer film by apply | coating and hardening simultaneously is mentioned.

(가스 배리어층) (Gas barrier layer)

가스 배리어층은 높은 프로세스 온도나 물세정 과정에 반복해서 노출되는 제조 공정이 필요한 부재로서 이용할 경우, 적층 필름과 산소의 접촉을 차단하여 열산화 열화를 막고, 또한 적층 필름의 흡수율을 저하시켜 치수변동 거동을 억제하며, 나아가 액정 표시 패널이나 EL 표시 패널 등에 형성되어 있는 소자와, 산소나 수증기 등의 외부로부터 침입하는 가스와의 접촉을 차단하여 발광 성능의 열화를 방지하는 역할을 담당한다. When the gas barrier layer is used as a member that requires a manufacturing process that is repeatedly exposed to a high process temperature or water cleaning process, it prevents thermal oxidation deterioration by blocking contact between the laminated film and oxygen, and decreases the water absorption of the laminated film, thereby causing dimensional variation. It suppresses the behavior and further prevents the deterioration of the luminous performance by blocking the contact between the elements formed in the liquid crystal display panel, the EL display panel and the like and the gas invading from outside such as oxygen or water vapor.

가스 배리어층은 적어도 1층 이상을 적층하여 이루어지는 것이 바람직하고, 예를 들면 산화규소, 질화규소, 질화산화규소, 산화알루미늄, 산화탄탈, 알루미늄막으로 이루어지는 것 등을 들 수 있으며, 특히 광학 특성, 가스 배리어 성능, 고정밀 디스플레이에 중요한 치수 안정성이 뛰어난 점에서 산화규소, 질화규소, 질화산화규소를 주체로 하는 것이 바람직하다. 또한 가스 배리어층의 두께는 1nm∼1000nm가 바람직하고, 특히 10nm∼300nm인 것이 바람직하다. 이들 가스 배리어층은 유기층과 적층화, 다층화할 수도 있다. 또한 가스 배리어층은 증착, 스퍼터, PECVD, CatCVD, 코팅이나 라미네이팅 등 공지의 수법으로 형성할 수 있다. The gas barrier layer is preferably formed by laminating at least one or more layers, and examples thereof include silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, and an aluminum film. It is preferable to mainly use silicon oxide, silicon nitride, and silicon nitride oxide from the viewpoint of excellent dimensional stability, which is important for barrier performance and high precision display. In addition, the thickness of the gas barrier layer is preferably 1 nm to 1000 nm, particularly preferably 10 nm to 300 nm. These gas barrier layers can also be laminated and multilayered with an organic layer. In addition, the gas barrier layer can be formed by a known method such as vapor deposition, sputtering, PECVD, CatCVD, coating or laminating.

가스 배리어층은 투명한 것이 바람직하고, 제1층과 제2층을 적층시킨 적층물(적층 필름)에 가스 배리어층을 적층한 가스 배리어성 적층체 필름에 있어서의 파장 550nm에서의 광투과율이 90% 이상의 투명성을 가지도록 구성되는 것이 바람직하다. 가시광선의 투과율은 가스 배리어층의 조성이나 두께에도 영향을 끼치므로 양자를 고려하여 구성한다. The gas barrier layer is preferably transparent, and the light transmittance at a wavelength of 550 nm in the gas barrier laminate film in which the gas barrier layer is laminated on the laminate (lamination film) in which the first layer and the second layer are laminated is 90%. It is preferable to be comprised so that it may have transparency. Since the transmittance of visible light also affects the composition and thickness of the gas barrier layer, both are considered in consideration.

(가스 배리어성 적층체 필름) (Gas barrier laminate film)

본 발명에서의 가스 배리어성 적층체 필름은 상온에서 150℃까지 승온했을 때에 가스 배리어층에 크랙이 생기지 않는 것이 바람직하다. 크랙 발생 온도에 대하여, 150℃ 미만이면 고온 프로세스가 필요한 용도에 이용했을 경우, 가스 배리어층에 크랙이 생겨 충분한 가스 배리어 기능을 발휘할 수 없게 된다. It is preferable that a crack does not generate | occur | produce the gas barrier layered film in this invention, when heated up to 150 degreeC from normal temperature. When it is less than 150 degreeC with respect to a crack generation temperature, when it uses for the use which requires a high temperature process, a crack will generate | occur | produce in a gas barrier layer and it will not be able to exhibit sufficient gas barrier function.

가스 배리어성 적층체 필름은 흡수율이 1% 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5% 이하인 것이 좋다. 흡수율이 1% 이상이 되면 가스 배리어성 적층체 필름의 치수변화 거동이 커지기 때문에, 높은 프로세스 온도나 물세정 과정에 반복해서 노출되는 제조 공정이 필요한 용도에 이용했을 경우, 가스 배리어층에 크랙이 생겨 충분한 가스 배리어 기능을 발휘할 수 없게 된다. The gas barrier laminate film preferably has a water absorption of less than 1%, more preferably 0.5% or less. When the water absorption rate is 1% or more, the dimensional change behavior of the gas barrier laminate film increases, so when used in applications requiring a high process temperature or a manufacturing process that is repeatedly exposed to water washing, cracks may occur in the gas barrier layer. It becomes impossible to exert sufficient gas barrier function.

가스 배리어성 적층체 필름은 160℃까지 가열한 후 23℃ 50%RH의 조건하에서 냉각하는 가열 시험에서 치수변화율이 0.1% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.01% 이하이다. 치수변화율이 0.1% 이상이면 소자가 설계 도면대로 기판상에 형성되지 않아 위치가 어긋나 버린다. The gas barrier laminate film preferably has a dimensional change rate of 0.1% or less in a heating test heated to 160 ° C. and then cooled under the condition of 23 ° C. 50% RH. More preferably, it is 0.01% or less. If the rate of dimensional change is 0.1% or more, the element is not formed on the substrate as the design drawing, and the position is shifted.

이하, 본 발명의 가스 배리어성 적층체 필름에 대하여, 실시예 및 비교예에 의해 상세하게 설명하지만, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, although the gas barrier laminate film of this invention is demonstrated in detail by an Example and a comparative example, this invention is not limited to the following Example.

[실시예][Example]

[합성예 1: 제1층(내층재)을 형성하는데 사용하는 경화성 수지의 제조] Synthesis Example 1: Production of curable resin used to form first layer (inner layer material)

내층재를 형성하는데 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 수지는 일본국 공개특허공보 2004-143449호에 기재된 방법으로 아래와 같이 해서 합성하였다. The cage-type silsesquioxane resin used for forming an inner layer material was synthesize | combined as follows by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-143449.

교반기, 적하 깔때기 및 온도계를 구비한 반응 용기에 용매로서 2-프로판올(IPA) 40ml와, 염기성 촉매로서 5% 테트라메틸암모늄하이드록시드 수용액(TMAH 수용액) 3.1g을 장입하였다. 적하 깔때기에 IPA 15ml와 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 12.7g을 넣고, 반응 용기를 교반하면서, 실온에서 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란의 IPA 용액을 30분에 걸쳐 적하하였다. 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 적하 종료 후, 서서히 실온으로 되돌려 가열하지 않고 2시간 교반하였다. 교반 후 감압하에서 IPA를 제거하고 톨루엔 50ml로 용해하였다. 반응 용액을 포화 식염수로 중성이 될 때까지 수세한 후 무수 황산마그네슘으로 탈수하였다. 무수 황산마그네슘을 여과 분별하고 농축함으로써 가수분해 생성물(실세스퀴옥산)을 8.6g 얻었다. 이 실세스퀴옥산은 각종 유기 용제에 가용인 무색의 점성 액체였다. In a reaction vessel equipped with a stirrer, a dropping funnel and a thermometer, 40 ml of 2-propanol (IPA) as a solvent and 3.1 g of 5% aqueous tetramethylammonium hydroxide solution (TMAH aqueous solution) as a basic catalyst were charged. 15 ml of IPA and 12.7 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane were added to the dropping funnel, and the IPA solution of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added dropwise over 30 minutes while the reaction vessel was stirred. After completion | finish of 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane dripping, it returned to room temperature gradually and stirred for 2 hours, without heating. After stirring, IPA was removed under reduced pressure and dissolved in 50 ml of toluene. The reaction solution was washed with saturated brine until neutral and dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. 8.6 g of a hydrolysis product (silsesquioxane) was obtained by filtering anhydrous magnesium sulfate and concentrating. This silsesquioxane was a colorless viscous liquid soluble in various organic solvents.

다음으로 교반기, 딘스탁(Dean-Stark), 냉각관을 구비한 반응 용매에 상기에서 얻어진 실세스퀴옥산 5.0g과 톨루엔 20.5ml와 10% TMAH 수용액 0.75g을 넣고, 130℃로 물을 증류 제거하면서 톨루엔을 환류 가열하여 재축합 반응을 행하였다. 톨루엔 환류 후 3시간 교반한 후, 실온으로 되돌려 반응을 종료하였다. 반응 용액을 10% 구연산으로 중화시킨 후, 포화 식염수로 세정하여 무수 황산마그네슘으로 탈수하였다. 무수 황산마그네슘을 여과 분별하고 농축함으로써 재축합물을 4.5g 얻었다. 얻어진 재축합물은 각종 유기 용제에 가용인 무색의 점성 액체이며, 질량분석(LC-MS), 1H-NMR을 측정한 결과, 케이지형 실세스퀴옥산 구조를 주로 한 수지인 것을 확인하였다. Next, 5.0 g of silsesquioxane, 20.5 ml of toluene and 0.75 g of a 10% TMAH aqueous solution were added to a reaction solvent equipped with a stirrer, Dean-Stark, and a cooling tube, and water was distilled off at 130 ° C. While toluene was heated to reflux to carry out a recondensation reaction. After stirring for 3 hours after refluxing toluene, the reaction was returned to room temperature to complete the reaction. The reaction solution was neutralized with 10% citric acid, washed with saturated brine and dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. 4.5 g of recondensates were obtained by filtering anhydrous magnesium sulfate and concentrating. The obtained recondensate was a colorless viscous liquid soluble in various organic solvents, and mass spectrometry (LC-MS) and 1 H-NMR were measured, and it was confirmed that the resin mainly had a cage silsesquioxane structure.

[제조예 1: 내층재 1의 제조] Production Example 1: Preparation of Inner Layer Material 1

합성예 1에서 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 수지:20질량부, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트:25질량부, 디시클로펜타닐디아크릴레이트:55질량부, 광중합 개시제로서 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤:2.5질량부를 혼합하고 탈포하여 액상의 경화성 수지 조성물을 얻었다. 다음으로 롤 코터를 이용해서 두께 100㎛가 되도록 캐스트(유연;流延)하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 성형체를 얻었다. 얻어진 성형체는 인장 탄성률이 3000MPa, 선팽창 계수가 45ppm/K, 유리전이온도가 300℃ 이상으로, 내층재로서의 물성을 만족하는 재료였다. Cage-type silsesquioxane resin obtained by the synthesis example 1: 20 mass parts, trimethylol propane triacrylate: 25 mass parts, dicyclopentanyl diacrylate: 55 mass parts, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as a photoinitiator : 2.5 parts by mass was mixed and degassed to obtain a liquid curable resin composition. Next, using a roll coater, the sheet was cast to have a thickness of 100 μm, cured to a cumulative exposure amount of 2000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp of 80 W / cm, and a sheet-shaped molded article having a predetermined thickness was formed. Got it. The obtained molded article was a material having a tensile modulus of 3000 MPa, a linear expansion coefficient of 45 ppm / K, a glass transition temperature of 300 ° C or higher, and satisfying physical properties as an inner layer material.

[제조예 2: 내층재 2의 제조] Production Example 2: Preparation of Inner Layer Material 2

합성예 1에서 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 수지:30질량부, 디시클로펜타닐디아크릴레이트:70질량부, 광중합 개시제로서 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤:2.5질량부를 혼합하고, 탈포하여 액상의 경화성 수지 조성물로 한 것 이외에는 내층재의 제조예 1과 동일한 조작에 의해 성형체를 얻었다. 얻어진 성형체는 인장 탄성률이 2500MPa, 선팽창 계수가 60ppm/K, 유리전이온도가 300℃ 이상으로, 내층재로서의 물성을 만족하는 재료였다.Cage-type silsesquioxane resin obtained in the synthesis example 1: 30 mass parts, dicyclopentanyl diacrylate: 70 mass parts, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 2.5 mass parts as a photoinitiator, mixed, defoaming, and liquid Except having set it as curable resin composition, the molded object was obtained by operation similar to the manufacture example 1 of an inner layer material. The obtained molded product was a material having a tensile modulus of 2500 MPa, a linear expansion coefficient of 60 ppm / K, a glass transition temperature of 300 ° C or higher, and satisfying physical properties as an inner layer material.

상기 제조예 1 및 2에서 얻은 내층 후보재 필름(성형체)에 대하여 아래와 같이 해서 평가하고, 그 결과를 표 1에 묶어서 나타낸다. The inner layer candidate material films (molded bodies) obtained in Production Examples 1 and 2 were evaluated as follows, and the results are shown in Table 1.

[평가방법: 인장 탄성률] Evaluation Method: Tensile Modulus

인장 시험기(ORIENTEC사 제품 RTE-1210)을 이용해서 25℃에서의 각 필름 성형체의 인장 탄성률을 측정하였다. 이때 척간 거리 50mm 및 인장속도 2mm/min의 조건으로 측정하였다. The tensile elastic modulus of each film molded object in 25 degreeC was measured using the tensile tester (RTE-1210 by ORIENTEC company). At this time, it was measured under the condition of the distance between the chuck 50mm and the tensile speed 2mm / min.

[평가방법: 열팽창 계수] [Evaluation method: thermal expansion coefficient]

열기계 분석장치(Bruker AXS 제품 TMA4030SA)를 이용하고, 열기계 분석(TMA)법에 기초하여, 승온속도 5℃/min의 조건으로 50℃에서 150℃에 있어서의 열팽창량의 변화를 측정하였다. Using a thermomechanical analyzer (TMA4030SA, manufactured by Bruker AXS), the change in the amount of thermal expansion at 50 ° C to 150 ° C was measured under the condition of a temperature increase rate of 5 ° C / min based on the thermomechanical analysis (TMA) method.

[평가방법: 유리전이온도] [Evaluation method: glass transition temperature]

동적 점탄성 분석장치(레올로지사 제품 DVE-V4형)를 이용해서 승온속도 5℃/min, 척간 거리 10mm의 조건으로 측정하였다. It measured using the dynamic viscoelasticity analyzer (DVE-V4 type | mold by the rheology company) on the conditions of the temperature increase rate of 5 degree-C / min, and the distance between chucks.

[평가방법: 광선 투과율] [Evaluation method: light transmittance]

자외가시 분광 광도계(히타치세이사쿠쇼사 제품 U4000)를 이용해서 각 필름의 400∼800nm의 광에서의 광투과율 스펙트럼을 측정하고, 대표값으로서 파장 550nm의 광의 투과율을 나타냈다. The light transmittance spectrum in 400-800 nm light of each film was measured using the ultraviolet visible spectrophotometer (U4000 by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.), and the transmittance | permeability of the light of wavelength 550 nm was shown as a representative value.

내층재의
제조
Inner layer
Produce
인장 탄성률
[GPa]
Tensile modulus
[GPa]
열팽창 계수
[ppm/K]
Thermal expansion coefficient
[ppm / K]
유리전이온도
[℃]
Glass transition temperature
[° C]
투과율
[%]
Transmittance
[%]
제조예 1Preparation Example 1 30003000 4545 >300> 300 9191 제조예 2Production Example 2 25002500 6060 >300> 300 9090

[합성예 2: 제2층(외층재)을 형성하는데 사용하는 경화성 수지의 제조] Synthesis Example 2: Production of curable resin used to form second layer (outer layer material)

외층재를 형성하는데 사용하는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체 수지는 일본국 공개특허공보 2009-227863호에 기재된 방법으로 아래와 같이 해서 합성하였다. Cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer resin used for forming an outer layer material was synthesize | combined as follows by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-227863.

반응 용기에 톨루엔 250ml와 페닐트리클로로실란 52.5g을 장입하고 0℃로 냉각하였다. 물을 적량 적하하고 가수분해가 완료될 때까지 교반하였다. 가수분해 생성물을 수세한 후 시판되는 30% 벤질트리메틸암모늄하이드록사이드 용액 8.3ml를 첨가하고, 이 혼합물을 4시간 환류 온도로 가열하였다. 이어서 전체를 냉각하고 약 96시간 방치하였다. 이 시간 경과 후 얻어진 슬러리를 다시 24시간 환류 온도로 가열하고 이어서 냉각하고 여과하여, 백색의 분말로서 옥타페닐실세스퀴옥산 37.5g을 얻었다. 250 ml of toluene and 52.5 g of phenyltrichlorosilane were charged to the reaction vessel, and it cooled to 0 degreeC. Water was added dropwise and stirred until hydrolysis was complete. After washing the hydrolysis product, 8.3 ml of a commercially available 30% benzyltrimethylammonium hydroxide solution was added and the mixture was heated to reflux for 4 hours. The whole was then cooled and left for about 96 hours. The slurry obtained after this time was again heated to reflux for 24 hours, then cooled and filtered to obtain 37.5 g of octaphenylsilsesquioxane as a white powder.

이어서 딘스탁 및 냉각관을 구비한 반응 용기에 톨루엔 100ml, 수산화테트라메틸암모늄 0.123g(1.35mmol, 25%의 메탄올 용액으로서 0.49g), 상기 옥타페닐실세스퀴옥산 20.3g(19.7mmol) 및 3-메타크릴옥시프로필디에톡시메틸실란 5.12g (19.7mmol)을 넣고, 80℃로 1시간 가열하여 메탄올을 증류 제거하고, 100℃로 더 가열하여 2시간 후 실온으로 되돌려 반응을 종료하였다. 반응 용액은 옥타페닐실세스퀴옥산의 백색 분말이 사라져 완전히 반응이 진행되었다고 판단할 수 있었다. Subsequently, 100 ml of toluene, 0.123 g (1.35 mmol, 0.49 g as a 25% methanol solution), 20.3 g (19.7 mmol) of the octaphenylsilsesquioxane and 3 were added to a reaction vessel equipped with a Deanstock and a cooling tube. 5.12 g (19.7 mmol) of methacryloxypropyl diethoxymethylsilane were added, the mixture was heated at 80 ° C for 1 hour to distill off methanol, further heated to 100 ° C, and returned to room temperature after 2 hours to complete the reaction. The reaction solution was judged that the reaction proceeded completely because the white powder of octaphenylsilsesquioxane disappeared.

반응 용액을 10% 구연산 수용액으로 중화한 후 물로 세정하여 무수 황산마그네슘으로 탈수하였다. 무수 황산마그네슘을 여과 분별하고 농축함으로써 케이지형 실세스퀴옥산을 무색 투명의 점성 액체를 19.7g, 수율 78%로 얻었다. 얻어진 케이지형 실세스퀴옥산은 GPC 및 NMR 측정에 의해 구조가 확인되었다. 또한 질소 분위기하, 적하 깔때기 및 냉각관을 구비한 반응 용기에 톨루엔 15ml, 상기에서 얻어진 케이지형 실세스퀴옥산 9.0g(7mmol), 및 수산화테트라메틸암모늄 4mg(0.044mmol, 2.5%의 메탄올 용액으로서 153mg)을 장입하였다. 반응 용액을 70℃로 교반하면서, 적하 깔때기로 실라놀 말단 폴리디메틸실록산(DMS-S12:Mn(수평균 분자량)=400-700: 아즈막스 가부시키가이샤) 4.6g을 3시간에 걸쳐 적하하였다. 3시간 더 교반한 후 실온까지 냉각하였다. The reaction solution was neutralized with an aqueous 10% citric acid solution, washed with water, and dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. Anhydrous magnesium sulfate was filtered off and concentrated to obtain 19.7 g of a colorless transparent viscous liquid in a cage-type silsesquioxane with a yield of 78%. The cage-type silsesquioxane obtained was confirmed by GPC and NMR structures. Furthermore, in a reaction vessel equipped with a dropping funnel and a cooling tube under a nitrogen atmosphere, 15 ml of toluene, 9.0 g (7 mmol) of the cage-type silsesquioxane obtained above, and 4 mg (0.044 mmol, 2.5% methanol solution of tetramethylammonium hydroxide) were obtained. 153 mg) was charged. While stirring the reaction solution at 70 ° C, 4.6 g of silanol-terminated polydimethylsiloxane (DMS-S12: Mn (number average molecular weight) = 400-700: Azmax Inc.) was added dropwise with a dropping funnel over 3 hours. After further stirring for 3 hours, the mixture was cooled to room temperature.

반응 용액을 10% 구연산 수용액으로 중화한 후, 물로 세정하여 무수 황산마그네슘으로 탈수하였다. 무수 황산마그네슘을 여과 분별하고 농축함으로써 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 무색 투명의 점성 액체로서 12.5g 얻었다. 얻어진 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체의 GPC를 측정한 결과, 중량평균 분자량(Mw)=14000이었다. 또한 1H-NMR을 측정한 결과, 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 주로 한 수지인 것을 확인하였다. The reaction solution was neutralized with 10% aqueous citric acid solution, washed with water and dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. Anhydrous magnesium sulfate was filtered off and concentrated to obtain 12.5 g of a cage-type silsesquioxane-containing curable silicone copolymer as a colorless transparent viscous liquid. GPC of the obtained cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer was measured, and the weight average molecular weight (Mw) was 14000. Moreover, as a result of measuring 1H-NMR, it was confirmed that it was resin which mainly used cage type silsesquioxane containing curable silicone copolymer.

[제조예 3: 외층재 1의 제조] Production Example 3: Production of Outer Layer Material 1

합성예 2에서 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체 수지:30질량부, 디시클로펜타닐디아크릴레이트:70질량부, 광중합 개시제로서 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논:1.5질량부를 혼합하고, 탈포하여 얻은 액상의 경화성 수지 조성물을 두께 100㎛가 되도록 캐스트하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 성형체를 얻었다. 상기 성형체는 인장 시험을 행하여, 얻어지는 인장 응력-변형 곡선에 있어서, 인장 탄성률 1650MPa, 및 항복점을 가지고 소성 변형 영역을 가진 곡선으로서, 외층재로서의 물성을 만족하는 재료였다. 도 1에 얻어진 성형체의 인장 응력-변형 곡선을 나타낸다. Cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer resin obtained by the synthesis example 2: 30 mass parts, dicyclopentanyl diacrylate: 70 mass parts, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone as a photoinitiator: 1.5 mass The curable resin composition obtained by mixing the parts and degassing was cast so as to have a thickness of 100 μm, and cured at an integrated exposure dose of 2000 mJ / cm 2 using an 80 W / cm high-pressure mercury lamp to form a sheet-shaped molded article having a predetermined thickness. Got it. In the tensile stress-strain curve obtained by performing a tensile test, the molded body was a material having a tensile modulus of 1650 MPa, a yield point and a plastic strain region, and satisfying physical properties as an outer layer material. The tensile stress-strain curve of the molded object obtained in FIG. 1 is shown.

[제조예 4: 외층재 2의 제조] Production Example 4: Manufacture of Outer Layer Material 2

합성예 2에서 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체 수지:45질량부, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트:55질량부, 광중합 개시제로서 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논:1.5질량부를 혼합하고, 탈포하여 얻은 액상의 경화성 수지 조성물을 두께 100㎛가 되도록 캐스트하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 성형체를 얻었다. 상기 성형체는 인장 시험을 행하여, 얻어지는 인장 응력-변형 곡선에 있어서, 인장 탄성률 1300MPa, 및 항복점을 가지고 소성 변형 영역을 가진 곡선으로서, 외층재로서의 물성을 만족하는 재료였다. 도 2에 얻어진 성형체의 인장 응력-변형 곡선을 나타낸다. Cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer resin obtained by the synthesis example 2: 45 mass parts, trimethylol propane triacrylate: 55 mass parts, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone as a photoinitiator: 1.5 mass The curable resin composition obtained by mixing the parts and degassing was cast so as to have a thickness of 100 μm, and cured at an integrated exposure dose of 2000 mJ / cm 2 using an 80 W / cm high-pressure mercury lamp to form a sheet-shaped molded article having a predetermined thickness. Got it. In the tensile stress-strain curve obtained by performing a tensile test, the molded body was a material having a tensile modulus of 1300 MPa, a yield point, and a plastic strain region, which satisfied physical properties as an outer layer material. The tensile stress-strain curve of the molded object obtained in FIG. 2 is shown.

상기 제조예 3 및 4에서 얻은 외층 후보재 필름(성형체)에 대하여 아래와 같이 해서 평가하고, 그 결과를 표 2에 묶어서 나타낸다. The outer layer candidate material films (molded products) obtained in Production Examples 3 and 4 were evaluated as follows, and the results are shown in Table 2.

[평가방법: 인장 탄성률, 인장항복 강도, 인장파괴 강도, 인장파괴 신장] [Evaluation method: tensile modulus, tensile yield strength, tensile fracture strength, tensile fracture elongation]

인장 시험기(ORIENTEC사 제품 RTE-1210)를 이용해서 25℃에서의 각 필름 성형체의 인장 탄성률을 측정하였다. 이때 척간 거리 50mm 및 인장속도 2mm/min의 조건으로 측정하였다. The tensile elastic modulus of each film molded object in 25 degreeC was measured using the tensile tester (RTE-1210 by ORIENTEC company). At this time, it was measured under the condition of the distance between the chuck 50mm and the tensile speed 2mm / min.

[평가방법: 광선 투과율] [Evaluation method: light transmittance]

자외가시 분광 광도계(히타치세이사쿠쇼사 제품 U4000)를 이용해서 각 필름의 400∼800nm의 광에서의 광투과율 스펙트럼을 측정하고, 대표값으로서 파장 550nm의 광의 투과율을 나타냈다. The light transmittance spectrum in 400-800 nm light of each film was measured using the ultraviolet visible spectrophotometer (U4000 by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.), and the transmittance | permeability of the light of wavelength 550 nm was shown as a representative value.

내층재의 제조Manufacture of inner layer material 인장 탄성률
[MPa]
Tensile modulus
[MPa]
인장항복 강도
[GPa]
Tensile yield strength
[GPa]
인장파괴 강도
[GPa]
Tensile strength
[GPa]
인장파괴 신장
[%]
Tensile failure elongation
[%]
투과율
[%]
Transmittance
[%]
제조예 3Production Example 3 16501650 4646 4545 1010 9292 제조예 4Preparation Example 4 13001300 3030 2929 1212 9191

[실시예 1: 가스 배리어성 적층체 필름 1의 제조] Example 1: Preparation of Gas Barrier Layered Film 1

제조예 1(내층재 1의 제조)과 동일한 배합으로 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을 롤 코터를 이용해서 두께 50㎛가 되도록 캐스트(유연)하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 성형체를 얻었다. 이어서, 얻어진 성형체의 양면에, 제조예 3(외층재 1의 제조)과 동일한 배합으로 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 함유한 경화성 수지 조성물을 각 두께 15㎛가 되도록 캐스트하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 적층물을 얻었다. 또한 이 적층물의 표층 양면에 CVD법에 의해 SiNO막(가스 배리어층)을 150nm의 두께로 형성하여, 가스 배리어성 적층체 필름 1을 얻었다. 또한 가스 배리어층의 성막 조건에 대해서는 성막온도 120℃, 성막 가스 도입 압력 10Pa, 모노실란 유량 8sccm, 암모니아 유량 20sccm, 수소 유량 200sccm 및 산소 유량 30sccm로 하였다. The curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin obtained by the same formulation as Production Example 1 (preparation of inner layer material 1) was cast (flexible) to a thickness of 50 μm using a roll coater, and the high pressure was 80 W / cm. It hardened | cured by the accumulated exposure amount of 2000mJ / cm <2> using a mercury lamp, and the sheet-like molded object made into the predetermined thickness was obtained. Subsequently, the curable resin composition containing the cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer obtained by the same formulation as the manufacture example 3 (production of the outer layer material 1) was cast on both surfaces of the obtained molded object so that it might become each 15 micrometers in thickness, It hardened | cured by the accumulated exposure amount of 2000mJ / cm <2> using the high pressure mercury lamp of 80W / cm, and the sheet-like laminated material which made it into predetermined thickness was obtained. Furthermore, the SiNO film (gas barrier layer) was formed in the surface layer both surfaces of this laminated body by the CVD method by thickness of 150 nm, and the gas barrier laminate film 1 was obtained. In addition, the film forming conditions of the gas barrier layer were set at a film forming temperature of 120 ° C., a film forming gas introduction pressure of 10 Pa, a monosilane flow rate of 8 sccm, an ammonia flow rate of 20 sccm, a hydrogen flow rate of 200 sccm, and an oxygen flow rate of 30 sccm.

[실시예 2∼12: 가스 배리어성 적층체 필름 2∼12의 제조] [Examples 2 to 12: Production of Gas Barrier Layered Films 2 to 12]

내층재(제조예 1, 2)와 외층재(제조예 3, 4)의 조합, 또는 두께 구성을 바꾼 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 해서, 표 3에 나타내는 것과 같이 가스 배리어성 적층체 필름을 얻었다. A gas barrier laminate film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the combination of the inner layer materials (Manufacture Examples 1 and 2) and the outer layer materials (Manufacture Examples 3 and 4) or the thickness configuration were changed. Got it.

[비교예 1] Comparative Example 1

제조예 1과 동일한 배합으로 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유한 경화성 수지 조성물을, 롤 코터를 이용해서 두께 50㎛가 되도록 캐스트(유연)하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 성형체를 얻었다. 이어서, 얻어진 성형체의 양면에 제조예 3과 동일한 배합으로 얻은 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 함유한 경화성 수지 조성물을 각 두께 15㎛가 되도록 캐스트하고, 80W/cm의 고압 수은 램프를 이용해서 2000mJ/㎠의 적산 노광량으로 경화시켜, 소정 두께로 한 시트형상의 적층체 필름을 얻었다. The curable resin composition containing cage-type silsesquioxane resin obtained by the same formulation as in Production Example 1 was cast (flexible) to a thickness of 50 μm using a roll coater, and 2000 mJ using a high-pressure mercury lamp of 80 W / cm. The sheet-shaped molded object which hardened | cured by the integrated exposure amount of / cm <2> and made it into predetermined thickness was obtained. Subsequently, the curable resin composition containing the cage-type silsesquioxane containing curable silicone copolymer obtained by the same formulation as the manufacture example 3 on both surfaces of the obtained molded object was cast so that each thickness might be 15 micrometers, and the high pressure mercury lamp of 80 W / cm was cast It hardened | cured by the accumulated exposure amount of 2000mJ / cm <2>, and the sheet-like laminated film which made into predetermined thickness was obtained.

[비교예 2] Comparative Example 2

제조예 1과 동일한 방법으로 얻은 성형체에, 실시예 1과 동일한 조건으로 성형체 표층 양면에 SiNO막을 형성시켜 가스 배리어성 필름을 얻었다. SiNO film was formed in the molded object surface layer both surfaces on the molded object obtained by the method similar to manufacture example 1, and the gas barrier film was obtained.

[비교예 3]Comparative Example 3

제조예 3과 동일한 방법으로 얻은 성형체에, 실시예 1과 동일한 조건으로 성형체 표층 양면에 SiNO막을 형성시켜 가스 배리어성 필름을 얻었다. SiNO film was formed in the molded object surface layer both surfaces on the molded object obtained by the method similar to manufacture example 3, and the gas barrier film was obtained.

[비교예 4] [Comparative Example 4]

내층재에 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(쿄에이샤카가쿠(주) 제품 라이트 아크릴레이트 TMP-A)를 사용하고, 외층재에 디시클로펜타닐디아크릴레이트(쿄에이샤카가쿠(주) 제품 라이트 아크릴레이트 DCP-A)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 표 3에 나타내는 바와 같이 가스 배리어성 적층체 필름을 얻었다. Trimethylolpropane triacrylate (light acrylate TMP-A manufactured by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.) is used for the inner layer material, and dicyclopentanyl diacrylate (light acrylate manufactured by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.) is used as the outer layer material. Except having used DCP-A), it carried out similarly to Example 1, and obtained the gas barrier laminated body film as shown in Table 3.

상기 실시예 및 비교예에서 얻은 필름(여기서 말하는 '필름'은 적층 필름, 가스 배리어성 적층체 필름, 및 가스 배리어성 필름을 포함시킨 것임)에 대하여 아래와 같이 평가하였다. 결과를 표 3에 나타낸다. The film obtained by the said Example and the comparative example ('film' said here including a laminated | multilayer film, a gas barrier laminate film, and a gas barrier film) was evaluated as follows. The results are shown in Table 3.

[평가방법: 포화 흡수율 시험] Evaluation Method: Saturation Absorption Test

10mm×10mm로 절단한 필름을 열풍 오븐을 이용해서 200℃로 1시간 가열 건조하였다(초기 건조). 그 후 순수에 침지시켜 23℃×50%RH의 환경하에서 물 속에 완전 침지하고, 소정 시간 후의 필름의 질량을 측정하였다. 측정은 24시간마다 실시하고, 포화에 달한 시점의 값을 흡수율로 하였다. 흡수율은 다음 식을 이용해서 산출하였다. The film cut | disconnected to 10 mm x 10 mm was heated and dried at 200 degreeC for 1 hour using the hot air oven (initial drying). Subsequently, it was immersed in pure water, completely immersed in water in the environment of 23 degreeCx50% RH, and the mass of the film after predetermined time was measured. The measurement was performed every 24 hours, and the value at the time point of reaching saturation was taken as the water absorption. Absorption rate was computed using the following formula.

c={(b-a)/a}×100 c = {(b-a) / a} × 100

여기서 c: 흡수율(%), a: 초기 건조 후이자 침지 전의 샘플 질량(g), b: 침지 후의 샘플 질량(g)이다. C: water absorption (%), a: sample mass (g) after initial drying and before immersion, and b: sample mass (g) after immersion.

[평가방법: 필름의 치수변화율] Evaluation Method: Dimensional Change Rate of Film

150mm×150mm로 절단한 필름의 네 모퉁이에 이웃하는 마킹간의 거리가 약100mm가 되도록 미세한 십자형 마킹을 실시하고, 정확하게(정밀도±1㎛) 각 마킹간의 거리를 측정하였다. 이 필름을 열풍 오븐을 이용해서 160℃로 1시간 가열한 후 23℃ 50%RH의 조건하에서 15분 방치하여 냉각한 후, 가열 전과 마찬가지로 각 마킹간의 거리를 측정하고, 그 값으로부터 치수변화율을 구하였다. 치수변화율은 다음 식을 이용해서 산출하였다. The fine cross marking was performed so that the distance between the markings adjacent to the four corners of the film cut | disconnected by 150 mm x 150 mm might be about 100 mm, and the distance between each marking was measured correctly (precision +/- 1micrometer). After heating the film to 160 ° C. for 1 hour using a hot air oven, and leaving it to cool for 15 minutes under the condition of 23 ° C. 50% RH, the distance between the markings was measured as before the heating, and the dimensional change rate was calculated from the values. It was. The dimensional change rate was calculated using the following equation.

f={(d-e)/d}×100 f = {(d-e) / d} × 100

여기서 f: 치수변화율(%), d: 가열 전의 마킹간의 거리(㎛), e: 가열 후의 마킹간의 거리(㎛)이다. Where f is dimensional change rate (%), d is distance between markings before heating (mu m), and e is distance between markings after heating (mu m).

[평가방법: 내열 평가 시험] [Evaluation method: heat resistance test]

얻어진 필름에 대하여, 각각 열풍 오븐을 이용해서 소정의 온도로 1시간 가열 처리하고, 그 후 실온까지 냉각하여, 필름 표면의 크랙 유무를 편광 현미경으로 관찰하였다. 그때 열풍 오븐의 온도를 100℃로 하여 1시간, 110℃로 하여 1시간, 120℃로 1시간과 같이, 가열 처리 온도를 100℃에서 10℃ 간격으로 올려가면서, 필름 표면에 크랙의 발생이 확인될 때까지 이것을 계속하는 내열 평가 시험을 행하고, 표 3에는 크랙 발생이 확인되기 전의 온도를 기록하였다. The obtained film was heat-treated at predetermined temperature for 1 hour using the hot air oven, respectively, it cooled to room temperature after that, and the presence or absence of the crack of the film surface was observed with the polarization microscope. At that time, the occurrence of cracks was confirmed on the surface of the film while raising the temperature of the hot air oven at 100 ° C. for 1 hour, 110 ° C. for 1 hour, and 120 ° C. for 1 hour. The heat-resistant evaluation test which continued this until it was carried out was carried out, and Table 3 recorded the temperature before crack generation was confirmed.

[평가방법: 낙추 충격 시험] [Evaluation method: Fall impact test]

임의의 높이에서 10g의 추(R=2.5mm)를 필름의 표면에 수직으로 자유낙하시키는 시험을 5회 이상 실시하여, 50% 이상의 확률로 이 적층체 필름이 파괴될 때의 높이를 평가하였다. Five or more tests were conducted to freely drop 10 g of the weight (R = 2.5 mm) perpendicular to the surface of the film at any height, and a height of 50% or more was evaluated to evaluate the height when the laminate film was broken.

[평가방법: 광선 투과율] [Evaluation method: light transmittance]

자외가시 분광 광도계(히타치세이사쿠쇼사 제품 U4000)를 이용해서 각 필름의 400∼800nm의 광에서의 광투과율 스펙트럼을 측정하고, 대표값으로서 파장 550nm의 광의 투과율을 나타냈다. The light transmittance spectrum in 400-800 nm light of each film was measured using the ultraviolet visible spectrophotometer (U4000 by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.), and the transmittance | permeability of the light of wavelength 550 nm was shown as a representative value.

[평가방법: 열팽창 계수] [Evaluation method: thermal expansion coefficient]

열기계 분석장치(Bruker AXS 제품 TMA4030SA)를 이용하고, 열기계 분석(TMA)법에 기초하여, 승온속도 5℃/min의 조건으로 50℃에서 150℃에 있어서의 열팽창량의 변화를 측정하였다. Using a thermomechanical analyzer (TMA4030SA, manufactured by Bruker AXS), the change in the amount of thermal expansion at 50 ° C to 150 ° C was measured under the condition of a temperature increase rate of 5 ° C / min based on the thermomechanical analysis (TMA) method.

[평가방법: 인장 탄성률] Evaluation Method: Tensile Modulus

인장 시험기(ORIENTEC사 제품 RTE-1210)를 이용해서 25℃에서의 각 필름 성형체의 인장 탄성률을 측정하였다. 이때 척간 거리 50mm 및 인장속도 2mm/min의 조건으로 측정하였다. The tensile elastic modulus of each film molded object in 25 degreeC was measured using the tensile tester (RTE-1210 by ORIENTEC company). At this time, it was measured under the condition of the distance between the chuck 50mm and the tensile speed 2mm / min.

Figure pat00005
Figure pat00005

본 발명의 가스 배리어성 적층체 필름은 가스 배리어성, 투명성, 내열성, 내충격성 및 치수 안정성이 뛰어나므로 액정 표시 소자용 플라스틱 기판, 컬러 필터용 기판, 유기 EL 표시 소자용 플라스틱 기판, 전자 페이퍼용 기판, 태양전지 기판 등의 디스플레이 기판으로서 적합하다. Since the gas barrier laminate film of the present invention is excellent in gas barrier property, transparency, heat resistance, impact resistance and dimensional stability, a plastic substrate for liquid crystal display elements, a substrate for color filters, a plastic substrate for organic EL display elements, a substrate for electronic paper And a display substrate, such as a solar cell board | substrate.

Claims (4)

케이지(cage)형 실세스퀴옥산 구조를 가진 경화성 수지를 포함한 경화성 수지 조성물로 이루어지며, 인장 응력-변형 곡선(strain curve)에서의 인장 탄성률이 2000MPa 이상, 선팽창 계수가 80ppm/K 이하, 및 유리전이온도가 300℃ 이상인 제1층과,
케이지형 실세스퀴옥산 구조를 가진 경화성 수지를 포함한 경화성 수지 조성물로 이루어지며, 인장 응력-변형 곡선에서의 인장 탄성률이 100MPa 이상이고 제1층의 인장 탄성률 미만이면서, 항복점을 가지고 소성 변형을 나타내는 제2층이 적층되고,
이 적층물의 한쪽 면 또는 양쪽 면에는 가스 배리어층이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 가스 배리어성 적층체 필름.
A curable resin composition comprising a curable resin having a cage-type silsesquioxane structure, the tensile modulus of elasticity of which is at least 2000 MPa, the coefficient of linear expansion of 80 ppm / K or less, and glass in a tensile stress-strain curve The first layer having a transition temperature of 300 ° C. or higher,
A curable resin composition comprising a curable resin having a cage-type silsesquioxane structure, the tensile modulus of which is at least 100 MPa in the tensile stress-strain curve and less than the tensile modulus of the first layer, having a yield point and exhibiting plastic deformation Two layers are stacked,
A gas barrier laminate film, wherein a gas barrier layer is provided on one or both surfaces of the laminate.
제1항에 있어서,
제1층을 형성하는 경화성 수지 조성물이, 하기 일반식(1)
[RSiO3 /2]n (1)
[단, n은 8∼14의 정수를 나타내고, R은 하기 일반식 (2), (3) 또는 (4)
[화학식 1]
Figure pat00006
(2)
Figure pat00007
(3)
Figure pat00008
(4)
(단, m은 1∼3의 정수이고, R1은 수소원자 또는 메틸기를 나타낸다) 중 어느 하나에서 선택되는 유기 관능기)이다]로 표시되는 케이지형 실세스퀴옥산 수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 가스 배리어성 적층체 필름.
The method of claim 1,
Curable resin composition which forms a 1st layer is following General formula (1)
[RSiO 3/2] n ( 1)
[Wherein n represents an integer of 8 to 14 and R represents the following General Formula (2), (3) or (4)
[Formula 1]
Figure pat00006
(2)
Figure pat00007
(3)
Figure pat00008
(4)
(Wherein m is an integer of 1 to 3, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group), and a cage silsesquioxane resin Gas barrier laminate film.
제1항에 있어서,
제2층을 형성하는 경화성 수지 조성물이, 하기 일반식(5)
Y-[Z-(O1 /2-R2 2SiO1 /2)a-(R3SiO3 /2)k-(O1 /2)b]l-Z-Y (5)
[단, R2 및 R3은 비닐기, 알킬기, 페닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 또는 옥시란환을 가지는 기로서, R2 또는 R3에 있어서, 각 치환기는 서로 같거나 달라도 되지만, 1분자 중에 포함되는 R3 중 적어도 1개는 비닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 또는 옥시란환을 가지는 기 중 어느 하나이다. 또한 a 및 b는 0∼3의 수로서, 1≤a+b≤4의 관계를 만족하고, k는 8∼14의 수를 나타내며, k가 홀수일 경우에는 a와 b는 제로를 포함한 짝수와 홀수의 조합이고, k가 짝수일 경우에는 a와 b는 제로를 포함한 짝수의 조합이며, l은 1∼2000의 수를 나타낸다. 또한 Z는 하기 일반식(6)
[화학식 2]
Figure pat00009
(6)
(단, R4는 수소원자, 비닐기, 알킬기, 페닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기 또는 옥시란환을 가지는 기로서, R4는 서로 같거나 다른 것이어도 되고, 또한 p는 0∼30의 수를 나타낸다.)로 표시되는 2가의 기이고, Y는 하기 일반식(7)∼(10)에서 선택되는 어느 하나의 1가의 기이다.
[(R5O)R6 2SiO1/2]c-[R7SiO3/2]d-[O1/2]- (7)
[R5O1 /2]e-[R7SiO3 /2]d-[O1 /2-R6 2SiO1 /2]- (8)
(R5O1 /2)- (9)
(R5 3SiO1 /2)- (10)
(단, R6 및 R7은 비닐기, 알킬기, 페닐기, (메타)아크릴로일기, 알릴기, 또는 옥시란환을 가지는 기로서, R6 또는 R7에 있어서, 각 치환기는 서로 같거나 다른 것이어도 되고, R5는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기에서 선택되며, 또한 c 및 e는 0∼3의 수이고, d는 8∼14의 수이며, d가 홀수일 경우에는 c와 e는 각각 독립적으로 0 또는 2이고, d가 짝수일 경우에는 c와 e는 각각 독립적으로 1 또는 3이다.)]로 표시되는 구성단위를 가지는 케이지형 실세스퀴옥산 함유 경화성 실리콘 공중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 가스 배리어성 적층체 필름.
The method of claim 1,
Curable resin composition which forms a 2nd layer is the following General formula (5)
Y- [Z- (O 1/2 -R 2 2 SiO 1/2) a - (R 3 SiO 3/2) k - (O 1/2) b] l -ZY (5)
[Wherein R 2 and R 3 are a group having a vinyl group, an alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group or an oxirane ring, and in R 2 or R 3 , the substituents may be the same or different. And at least one of R 3 contained in one molecule is any one of a group having a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group, or an oxirane ring. In addition, a and b are numbers of 0 to 3, satisfying a relationship of 1≤a + b≤4, k represents a number of 8 to 14, and when k is odd, a and b are an even number including zero When odd is an even number and k is an even number, a and b are even number combinations including zero, and l represents the number of 1-2000. In addition, Z is the following general formula (6)
(2)
Figure pat00009
(6)
(Wherein R 4 is a group having a hydrogen atom, a vinyl group, an alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group or an oxirane ring, R 4 may be the same or different from each other, and p is 0 to Represents a number of 30.), and Y is any monovalent group selected from the following general formulas (7) to (10).
[(R 5 O) R 6 2 SiO 1/2 ] c- [R 7 SiO 3/2 ] d- [O 1/2 ]-(7)
[R 5 O 1/2] e - [R 7 SiO 3/2] d - [O 1/2 -R 6 2 SiO 1/2] - (8)
(R 5 O 1/2) - (9)
(R 5 3 SiO 1/2 ) - (10)
(However, R 6 and R 7 is a group having a vinyl group, an alkyl group, a phenyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group, or an oxirane ring, and in R 6 or R 7 , each substituent is the same or different. R 5 may be selected from a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, c and e are 0 to 3, d is 8 to 14, and when d is odd, c and e are each independently. And 0 or 2, and when d is even, c and e are each independently 1 or 3.), and a cage-type silsesquioxane-containing curable silicone copolymer having a structural unit represented by A gas barrier laminate film.
제1항에 있어서,
가스 배리어층이, 산화규소, 질화규소, 질화산화규소 중 적어도 1종을 주성분으로 하는 층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 가스 배리어성 적층체 필름.
The method of claim 1,
A gas barrier laminate film, wherein the gas barrier layer is composed of a layer containing at least one of silicon oxide, silicon nitride, and silicon nitride oxide as a main component.
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