KR101575440B1 - Composition for forming resin layer and flexible display substrate using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수지층 형성용 조성물, 이를 이용한 플렉서블 디스플레이 기판의 및 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 수지층 형성용 조성물을 이용하여 플렉서블 디스플레이 기판을 제조하는 경우 기존 사용되던 유리를 대체할 수 있는, 성형성이 우수하고 투명하며 플렉서블한 특성을 가지면서, 또한 내열성, 열팽창성, 난연성이 우수한 플렉서블 디스플레이 기판을 제조할 수 있는 이점을 가지고 있다.The present invention relates to a composition for forming a resin layer, a flexible display substrate using the same, and a manufacturing method thereof. When a flexible display substrate is manufactured using the composition for forming a resin layer of the present invention, it is possible to replace the glass used in the past, to have excellent moldability, to have a transparent and flexible property, and to exhibit heat resistance, thermal expansion, It has an advantage that a superior flexible display substrate can be manufactured.

Description

수지층 형성용 조성물 및 이를 이용한 플렉서블 디스플레이 기판 {COMPOSITION FOR FORMING RESIN LAYER AND FLEXIBLE DISPLAY SUBSTRATE USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for forming a resin layer and a flexible display substrate using the composition.

본 발명은 수지층 형성용 조성물, 이를 이용한 플렉서블 디스플레이 기판 및 상기 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for forming a resin layer, a flexible display substrate using the composition, and a method of manufacturing the flexible display substrate.

최근에는 디스플레이 방식이 종래의 CRT(Cathode Ray Tube) 방식에서 평판 디스플레이인 플라즈마 디스플레이(Plasma display panel, PDP), 액정표시장치(Liquid crystal display, LCD), 유기EL(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등으로 전환되었고, 특히, 향후에는 이러한 평판 디스플레이를 플렉서블 디스플레이로 실현할 수 있도록 연구가 활발하게 진행되고 있는 중이다.2. Description of the Related Art Recently, a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), an organic EL (Organic Light Emitting Diodes) OLED, and the like have been used as a display method in a conventional CRT (Cathode Ray Tube) . In particular, researches are being actively conducted in order to realize such a flat panel display as a flexible display in the future.

한편, 플라스틱 기판소재는 플라스틱 평판 디스플레이(기존의 FPD의 유리기판 대체용)이나 차세대 디스플레이의 구현에 핵심적인 소재로서 플렉서블 디스플레이 산업 전개에 의해 수요가 창출되는 재료이다. 플렉서블 디스플레이 구현을 위한 플라스틱 기판소재의 물성을 기존의 유기 기판소재와 비교를 해보면, 플렉서블 디스플레이의 핵심 요구특성인 무게, 성형성(deformability), 비파괴성(nonbreakability), 디자인(design), 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정성 면에서는 플라스틱 소재가 우수하다. 그러나 플라스틱 광학필름을 기판용으로 사용하기 위해서는, 유리에 비해 플라스틱 기판의 취약한 내화학성, 열적특성, 기체 차단성 측면에서는 물성 개선이 요구된다 On the other hand, plastic substrate material is a key material for realizing plastic flat panel displays (for replacing glass substrates of conventional FPDs) or next generation displays, and is a material that is created by the development of the flexible display industry. Comparing the physical properties of plastic substrate materials for flexible display with those of existing organic substrate materials, it is expected that the key features of flexible displays such as weight, deformability, nonbreakability, design, - Roll-to-roll The plastic material is superior in terms of fairness. However, in order to use a plastic optical film for a substrate, it is required to improve the physical properties in view of the weak chemical resistance, thermal properties, and gas barrier properties of the plastic substrate compared to glass

이를 위해 유리섬유시트에 수지를 함침시키는 방법이 제안되었다. 그러나 종래의 필름 함침조성으로 아크릴계 및 에폭시계 조성만 사용한 경우 내열성이 낮아 고온공정에 적용되기에 커다란 어려움을 가지고 있었으며, 필름이 브리틀(brittle)하여 플렉서블 디스플레이 기판에 적용하기 어려운 문제점이 있었다.For this purpose, a method of impregnating a glass fiber sheet with a resin has been proposed. However, the conventional film-impregnating composition has a problem in that it is difficult to apply to acrylic resin and epoxy resin compositions because it has a low heat resistance and is difficult to apply to a high temperature process, and the film is brittle and difficult to apply to a flexible display substrate.

상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 실리콘계 바인더와 아크릴계 단량체 또는 에폭시계 수지를 혼합한 수지층 형성용 조성물과, 이를 이용하여 유연도와 내열성이 향상된 기판 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art as described above, the present invention provides a composition for forming a resin layer in which a silicone based binder is mixed with an acrylic monomer or an epoxy resin, and a substrate having improved flexibility and heat resistance using the same, .

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1의 구조를 갖는 실리콘계 바인더;In order to achieve the above object, the present invention provides a silicone-based binder having a structure represented by the following formula (1):

아크릴계 단량체 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물; 및At least one compound selected from the group consisting of an acrylic monomer and an epoxy resin; And

개시제를 포함하는 수지층 형성용 조성물을 제공한다.There is provided a composition for forming a resin layer comprising an initiator.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013120516115-pat00001
Figure 112013120516115-pat00001

상기 화학식 1에서, R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있으며, 독립적으로 C1 내지 C12의 알킬기, C2 내지 C12의 아릴기, C2 내지 C12의 아랄킬기, 또는 C2 내지 C12의 알케닐기이며, R5 및 R6는 서로 같거나 다를 수 있으며, 독립적으로 수소 또는 비닐기이며, S는 2 내지 1000의 정수일 수 있다.In Formula 1, R 1 to R 4 may be the same or different from each other, independently represent a C 1 to C 12 alkyl group, C 2 to the aryl group of C 12, C 2 to C 12 aralkyl, or C 2 to the an alkenyl group of C 12, R 5 and R 6 may be the same or different from each other, are hydrogen or a vinyl group independently, S may be an integer of 2 to 1,000.

본 발명의 일 구현예는 상기 실리콘계 바인더와 상기 화합물의 혼합비율이 중량비로 7:3 내지 1:9 일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the mixing ratio of the silicon-based binder and the compound may be 7: 3 to 1: 9 by weight.

또 다른 일 구현예는 수지층 형성용 조성물에서, 실리콘계 바인더 9.5 내지 70 중량%; 아크릴계 단량체 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물 30 내지 90 중량%; 및 개시제 0.5 내지 20 중량%를 포함할 수 있다.Another embodiment is a composition for forming a resin layer, which comprises 9.5 to 70% by weight of a silicone-based binder; 30 to 90% by weight of at least one compound selected from the group consisting of acrylic monomers and epoxy resins; And 0.5 to 20% by weight of initiator.

또 다른 일 구현예는 상기 아크릴계 단량체가 비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디메타아크릴레이트, 비스페놀-에이 에톡시레이트 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 에톡시레이트 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 폴리에톡시레이트 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 디아크릴레이트, 비스페놀-에스 디아크릴레이트, 디사이클로펜타디에닐 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 비스페놀-에이 디메타크릴레이트, 비스페놀-에스 디메타크릴레이트, 디사이클로펜타디에닐 디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 및 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인 것일 수 있다.In another embodiment, the acrylic monomer is selected from the group consisting of bisphenol-ether oxide diacrylate, bisphenol-aeethylene oxide dimethacrylate, bisphenol-aethoxylate diacrylate, bisphenol-aethoxylate diacrylate, bisphenol- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, bisphenol-acrylate, bisphenol-acrylate, bisphenol-diacrylate, dicyclopentadienyl diacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris (Meth) acrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, bisphenol-adiethacrylate, bisphenol-ester dimethacrylate, dicyclopentadienyl dimethacrylate, -Hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate, and Other pentaerythritol tetra meth may be at least one member selected from the group consisting of methacrylate.

또 다른 일 구현예는 상기 에폭시계 수지가 글리시딜형 에폭시 수지 및 지환식 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것일 수 있다.In another embodiment, the epoxy resin may be at least one selected from the group consisting of a glycidyl type epoxy resin and an alicyclic epoxy resin.

또 다른 일 구현예는 상기 계면활성제를 더 포함하는 수지층 형성용 조성물일 수 있다.Another embodiment may be a composition for forming a resin layer further comprising the above surfactant.

또 다른 일 구현예는 용매를 더 포함하는 수지층 형성용 조성물일 수 있다.Another embodiment may be a composition for forming a resin layer further comprising a solvent.

또한, 본 발명은 유리섬유시트에 상기 수지층 형성용 조성물이 함침된 플렉서블 디스플레이 기판을 제공한다.Further, the present invention provides a flexible display substrate in which a glass fiber sheet is impregnated with the resin layer forming composition.

또한, 본 발명은 유리섬유시트와 상기 유리섬유시트의 양면에 형성된 수지층을 포함하는 플랙서블 디스플레이 기판의 제조방법에 있어서, 유리섬유시트를 수지층 형성용 조성물에 함침하는 단계; 및 상기 함침에 의하여 수지층 형성용 조성물이 코팅된 유리섬유시트에 자외선을 조사하여 자외선 경화시키는 단계를 포함하는 것인 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing a flexible display substrate comprising a glass fiber sheet and a resin layer formed on both sides of the glass fiber sheet, the method comprising the steps of: impregnating a glass fiber sheet into a composition for forming a resin layer; And irradiating ultraviolet rays onto the glass fiber sheet coated with the composition for forming a resin layer by the impregnation, thereby curing the ultraviolet curable resin.

본 발명의 일 구현예는 유리섬유시트를 수지층 형성용 조성물에 함침하는 단계; 상기 함침에 의하여 수지층 형성용 조성물이 코팅된 유리섬유시트의 양면에 이형필름을 라미네이팅하는 단계; 상기 라미네이팅하는 단계 이후 자외선을 조사하여 자외선 경화시키는 단계; 및 상기 자외선 조사 이후 라미네이팅된 이형필름을 분리시키는 단계를 포함할 수 있다.One embodiment of the present invention is a method for manufacturing a resin layer, comprising: impregnating a glass fiber sheet into a composition for forming a resin layer; Laminating the release film on both sides of the glass fiber sheet coated with the composition for forming a resin layer by the impregnation; Irradiating ultraviolet rays after the step of laminating to cure ultraviolet rays; And separating the release film laminated after the ultraviolet ray irradiation.

다른 일 구현예는 상기 자외선 경화시키는 단계 이후 UV 경화된 시트에 200 내지 300℃의 온도로 열을 가하여 열경화시키는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.
Another embodiment may further include a step of applying heat to the UV cured sheet after the ultraviolet curing step at a temperature of 200 to 300 ° C to thermally cure the UV cured sheet.

본 발명의 수지층 형성용 조성물을 이용하여 플렉서블 디스플레이 기판을 제조하는 경우 기존 사용되던 유리를 대체할 수 있는, 성형성이 우수하고 투명하며 플렉서블한 특성을 가지면서, 또한 내열성, 열팽창성, 난연성이 우수한 플렉서블 디스플레이 기판을 제조할 수 있는 이점을 가지고 있다.
When a flexible display substrate is manufactured using the composition for forming a resin layer of the present invention, it is possible to replace the glass used in the past, to have excellent moldability, to have a transparent and flexible property, and to exhibit heat resistance, thermal expansion, It has an advantage that a superior flexible display substrate can be manufactured.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 하기 화학식 1의 구조를 갖는 실리콘계 바인더, 아크릴계 단량체 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물, 및 개시제를 포함하는 수지층 형성용 조성물, 이를 이용한 플렉서블 디스플레이 기판 및 상기 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for forming a resin layer comprising at least one compound selected from the group consisting of a silicone-based binder having the structure represented by the following formula (1), an acrylic monomer and an epoxy resin, and an initiator, a flexible display substrate using the same, And a method of manufacturing a substrate.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013120516115-pat00002
Figure 112013120516115-pat00002

상기 화학식 1에서, R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있으며, 독립적으로 C1 내지 C12의 알킬기, C2 내지 C12의 아릴기, C2 내지 C12의 아랄킬기, 또는 C2 내지 C12의 알케닐기이며, R5 및 R6는 서로 같거나 다를 수 있으며, 독립적으로 수소 또는 비닐기이며, S는 2 내지 1000의 정수일 수 있다.In Formula 1, R 1 to R 4 may be the same or different from each other, independently represent a C 1 to C 12 alkyl group, C 2 to the aryl group of C 12, C 2 to C 12 aralkyl, or C 2 to the an alkenyl group of C 12, R 5 and R 6 may be the same or different from each other, are hydrogen or a vinyl group independently, S may be an integer of 2 to 1,000.

상기 수지층 형성용 조성물에서 아크릴계 단량체는 2관능 이상의 아크릴 또는 메타크릴 화합물인 것이 바람직하고, 이 때, 상기 아크릴계 단량체는 비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디아크릴레이트(bisphenol-A ethylene oxide diacrylate), 비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디메타아크릴레이트(bisphenol-A ethylene oxide dimethacrylate), 비스페놀-에이 에톡시레이트 디아크릴레이트(bisphenol-A ethoxylate diacrylate), 비스페놀-에이 에톡시레이트 디아크릴레이트(bisphenol-A ethoxylate diacrylate), 비스페놀-에이 폴리에톡시레이트 디아크릴레이트 (bisphenol-A polyethoxylate diacrylate), 비스페놀-에이 디아크릴레이트 (bisphenol-A diacrylate), 비스페놀-에스 디아크릴레이트 (bisphenol-S diacrylate), 디사이클로펜타디에닐 디아크릴레이트 (dicyclopentadienyl diacrylate), 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 (pentaerythritol triacrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리아크릴레이트 (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate triacrylate), 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 (pentaerythritol tetraacrylate), 비스페놀-에이 디메타크릴레이트 (bisphenol-A dimethacrylate), 비스페놀-에스 디메타크릴레이트 (bisphenol-S dimethacrylate), 디사이클로펜타디에닐 디메타크릴레이트 (dicyclopentadienyl dimethacrylate), 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트 (pentaerythritol trimethacrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리메타크릴레이트 (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate trimethacrylate), 및 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트(pentaerythritol tetramethacrylate)로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상일 수 있다.In the composition for forming a resin layer, the acrylic monomer is preferably an acrylic or methacrylic compound having two or more functionalities. The acrylic monomer may be bisphenol-A ethylene oxide diacrylate, bisphenol- Bisphenol-A ethoxylate diacrylate, bisphenol-A ethoxylate diacrylate, bisphenol-2-ethoxylate diacrylate, bisphenol- Bisphenol-A polyethoxylate diacrylate, bisphenol-A diacrylate, bisphenol-S diacrylate, dicyclopentadienyl diacrylate, Dicyclopentadienyl diacrylate, pentaerythritol triacrylate, triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, bisphenol (meth) acrylate, -A dimethacrylate, bisphenol-S dimethacrylate, dicyclopentadienyl dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, tris (2- Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate), and pentaerythritol tetramethacrylate. In the present invention, it is also possible to use one or more selected from the group consisting of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate and pentaerythritol tetramethacrylate.

상기 수지층 형성용 조성물에서 에폭시계 수지는 분자 중에 적어도 1개 이상의 에폭시기를 포함한 것을 말한다. 예컨대, 상기 에폭시계 수지는 글리시딜형 에폭시 수지 또는 지환식 에폭시 수지일 수 있다.The epoxy resin in the composition for forming a resin layer means a resin containing at least one epoxy group in the molecule. For example, the epoxy resin may be a glycidyl type epoxy resin or an alicyclic epoxy resin.

상기 글리시딜형 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지 또는 이들의 수소 첨가물; 디시클로펜타디엔 골격을 가지는 에폭시 수지; 트리글리시딜이소시아누레이트 골격을 가지는 에폭시 수지; 카르도 골격을 가지는 에폭시 수지; 또는 폴리실록산 구조를 가지는 에폭시 수지; 일 수 있다.The glycidyl type epoxy resin may be a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol S type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin or a hydrogenated product thereof; An epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton; An epoxy resin having a triglycidyl isocyanurate skeleton; An epoxy resin having a cardo skeleton; Or an epoxy resin having a polysiloxane structure; Lt; / RTI >

상기 지환식 수지는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 1,2,8,9-디에폭시리모넨, ε-카프로락톤 올리고머의 양단에 각각 3,4-에폭시시클로헥실메탄올과 3,4-에폭시시클로헥산카르복시산이 에스테르 결합된 것, 또는 수소 첨가 비스페놀 A 골격을 가지는 에폭시 수지일 수 있다.The alicyclic resin can be produced by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2,8,9-diepoxy limonene and epsilon -caprolactone oligomers at both ends with 3, 4-epoxycyclohexylmethanol and 3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid, or an epoxy resin having a hydrogenated bisphenol A skeleton.

상기 수지층 형성용 조성물에서 상기 실리콘계 바인더와 상기 화합물의 혼합비율은 중량비로 7:3 내지 1:9일 수 있다. 유연도와 내열성이 좋은 실리콘계 바인더를 단독으로 사용하면 좋지만 열경화 온도가 150 ℃ 이상이기 때문에, 함침된 유리섬유시트 양면에 150 ℃ 이상에서 버틸 수 없는 이형필름을 합지시키고 경화시키는 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정에는 적용할 수 없다, 따라서 실리콘계 바인더와 UV 경화 타입인 아크릴계 단량체 또는 에폭시계 수지와 조합하여 사용하면 함침된 유리섬유시트 양면에 이형필름을 합지시키고 광경화를 진행한 후, 이형필름을 제거하고 열경화를 진행할 수 있다. 이때 실리콘계 바인더와 아크릴계 단량체 또는 에폭시계 수지의 조성비를 적절하게 맞추어야 롤-투-롤 공정에서 광경화 후 열경화 진행 전 이형필름을 제거하였을 때 필름이 끈적거리지 않고 원활히 롤(roll)을 타고 이동할 수 있다. 따라서, 상기 실리콘계 바인더와 상기 화합물의 혼합비율이 중량비로 7:3보다 실리콘계 바인더의 비율이 높은 경우 광경화 후 이형필름을 제거하였을 때 필름이 끈적거리면서 원활히 롤을 타고 이동할 수 없으며, 1:9보다 화합물의 비율이 높은 경우 실리콘계 바인더의 함량이 너무 적어 유연도와 내열성 향상 효과를 기대할 수가 없다.The mixing ratio of the silicon-based binder and the compound in the composition for forming a resin layer may be 7: 3 to 1: 9 by weight. A silicone-based binder having good flexibility and heat resistance may be used alone, but since the heat-curing temperature is not lower than 150 ° C, a roll-to-roll roll-to-roll process. Therefore, when used in combination with a silicone-based binder and an UV-curing acrylic monomer or epoxy resin, the release film is laminated on both sides of the impregnated glass fiber sheet, , The release film can be removed and the thermosetting can proceed. In this case, the composition ratio of the silicone-based binder and the acrylic monomer or epoxy resin must be appropriately adjusted so that the film is not sticky and can smoothly roll on the roll when the releasing film is removed before the curing is proceeded in the roll- have. Therefore, when the ratio of the silicon-based binder and the compound is higher than 7: 3 by weight, the film is sticky and can not smoothly move on the roll when the releasing film is removed after the photo-curing, If the proportion of the compound is higher than that, the content of the silicon-based binder is too small and the effect of improving the flexibility and heat resistance can not be expected.

본 발명의 수지층을 형성하기 위한 수지층 형성용 조성물은 상술한 실리콘계 바인더 및 화합물들 이외에, 이들을 경화시키기 위한 개시제를 더 포함하며, 상기 개시제는 광 중합 개시제 또는 열 중합 개시제일 수 있다. The composition for forming a resin layer for forming the resin layer of the present invention may further include an initiator for curing the above-described silicon-based binder and compounds, and the initiator may be a photo polymerization initiator or a thermal polymerization initiator.

본 발명에서의 광 중합 개시제란 노광에 의해 분해 또는 결합을 일으키며 라디칼, 음이온, 양이온 등의 상기 단량체 또는 수지, 및 실리콘계 바인더의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생시키는 화합물을 의미한다. 예컨대, 광 중합 개시제는 아세토페논 화합물, 예를 들어 4-(2-하이드록시에톡시)페닐(2-하이드록시-2-프로필)케톤, α-하이드록시-α,α'-디메틸아세토페논, 메톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-하이드록시사이클로헥실 페닐케톤, 및 2-메틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모폴리노프로판-1; 벤조인 에테르 화합물, 예를 들어 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 및 아니소인 메틸 에테르; α-케톨 화합물, 예를 들어 2-메틸-2-하이드록시프로피오페논; 케탈 화합물, 예를 들어 벤질 디메틸 케탈; 방향족 설포닐 클로라이드 화합물, 예를 들어 2-나프탈렌설포닐 클로라이드; 광활성 옥심 화합물, 예를 들어 1-페논-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카보닐)옥심; 벤조페논 화합물, 예를 들어 벤조페논, 벤조일벤조산, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 및 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논; 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일 포스핀 옥사이드; 및 메틸 벤조일포르메이트;로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.The photopolymerization initiator in the present invention means a compound which causes decomposition or bonding by exposure and generates an active species capable of initiating polymerization of the monomer or resin, such as radicals, anions, and cations, and the silicone binder. For example, the photopolymerization initiator may be an acetophenone compound such as 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone,? -Hydroxy- ?,? Methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and 2-methyl-1- [4- (methylthio) -Phenyl] -2-morpholinopropane-1 < / RTI > Benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and anisoin methyl ether; alpha -ketol compounds such as 2-methyl-2-hydroxypropiophenone; Ketal compounds such as benzyl dimethyl ketal; Aromatic sulfonyl chloride compounds such as 2-naphthalenesulfonyl chloride; Photoactive oxime compounds such as 1-phenone-1,1-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime; Benzophenone compounds such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, and 3,3 ', 4,4'-tetra (t- butylperoxycarbonyl) benzophenone ; Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoylphosphine oxide; and methylbenzoylformate).

상기 열 중합 개시제는 유기 과산화물, 예를 들어 벤조일 퍼옥사이드, t-부틸 퍼벤조에이트, 큐멘 하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필 퍼옥시디카보네이트, 디-n-프로필 퍼옥시디카보네이트, 디(2-에톡시에틸) 퍼옥시디카보네이트, t-부틸 퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일) 퍼옥사이드, 디프로피오닐 퍼옥사이드, 및 디아세틸 퍼옥사이드;및 아조 화합물, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴, 1,1'-아조비스(사이클로헥산-1-카보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메닐발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 2,2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피오니트릴), 및 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판]으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.The thermal polymerization initiator may be an organic peroxide such as benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di (2-ethoxyethyl ) Peroxydicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxypivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dipropionyl peroxide, and diacetyl peroxide; and Azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile, 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) Azo compounds such as 2,2'-azobis (2,4-dimenyl valeronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethyl-4-methoxy valeronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2'-azobis (2-hydroxymethylpropionitrile) Bis [2- (2- The 2-yl) may be at least one selected from the group consisting of propane.

상기 수지층 형성용 조성물은, 수지층 형성용 조성물에서 실리콘계 바인더 9.5 내지 70 중량%; 아크릴계 단량체 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물 30 내지 90 중량%; 및 개시제 0.5 내지 20 중량%를 포함할 수 있다. 수지층 형성용 조성물의 실리콘계 바인더, 화합물, 및 개시제의 함량이 상기 범위 밖인 경우 내열성, 열팽창성, 난연성이 떨어질 염려가 있다.Wherein the composition for forming a resin layer contains 9.5 to 70% by weight of a silicon-based binder in the composition for forming a resin layer; 30 to 90% by weight of at least one compound selected from the group consisting of acrylic monomers and epoxy resins; And 0.5 to 20% by weight of initiator. When the content of the silicone-based binder, the compound, and the initiator in the composition for forming a resin layer is outside the above range, the heat resistance, thermal expansion, and flame retardancy may deteriorate.

본 발명에 있어서 수지층 형성용 조성물은 특별한 기능의 발현이나 필요에 따라 계면활성제, 용매 등을 더 포함할 수 있다.In the present invention, the composition for forming a resin layer may further contain a surfactant, a solvent and the like in accordance with necessity of manifesting a special function.

상기 계면활성제는 수지층 표면 개질 효과가 있으며, 실리콘 계열 계면활성제 또는 불소계 계면활성제가 바람직할 수 있다. 상기 실리콘 계열 계면활성제로는 실리콘 기와 이온성 기를 포함할 수 있다. 예컨대 상기 이온성 기는 음이온성 기일 수 있으며, 구체적으로 카르복실레이트, 설포네이트, 포스포네이트, 설페이트, 포스페이트 일 수 있다. The surfactant has a surface modifying effect on the resin layer, and a silicon-based surfactant or a fluorine-based surfactant may be preferable. The silicon-based surfactant may include a silicon group and an ionic group. For example, the ionic group may be an anionic group, and specifically may be carboxylate, sulfonate, phosphonate, sulfate, phosphate.

상기 계면활성제는 플렉서블 디스플레이 기판의 공정 중 자외선 경화 또는 열경화 시 계면활성제가 흄(fume)으로 발생하는 것을 방지하기 위하여, 고형분 함량이 계면활성제 100 중량%를 기준으로 80 내지 100 중량%인 것이 바람직하며, 인화점은 100℃ 이상인 것이 바람직하다. The surfactant preferably has a solid content of 80 to 100% by weight based on 100% by weight of the surfactant, in order to prevent the surfactant from being generated as a fume upon ultraviolet curing or thermosetting during the process of the flexible display substrate And the flash point is preferably 100 ° C or higher.

또한, 상기 계면활성제는 수지층 형성용 조성물의 고형분 100 중량부에 대해 고형분 기준으로 0.005 내지 5 중량부, 바람직하게는 0.01 내지 1 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 계면활성제가 0.005 중량부 미만으로 포함되는 경우 수지층 표면의 개질 효과가 미미할 수 있으며, 5 중량부를 초과하여 포함되는 경우 수지층의 내열성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다.The surfactant is preferably contained in an amount of 0.005 to 5 parts by weight, more preferably 0.01 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the composition for forming a resin layer. When the surfactant is contained in an amount of less than 0.005 part by weight, the surface of the resin layer may be insufficiently modified, and if it exceeds 5 parts by weight, heat resistance of the resin layer may be deteriorated.

상기 용매는 케톤류, 에테르류, 에스테르류, 알코올류, 탄화수소계, 아세토니트릴, 니트로메탄, 또는 물이거나 이들의 혼합물일 수 있다. 예컨대 상기 용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤류; 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄 등의 에테르류, 아세트산에틸, 아세트산에톡시에틸 등의 에스테르류; 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 2-메틸-2-프로판올, 2-에톡시에탄올, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올 등의 알콜류; n-헥산, n-헵탄, 이소옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 가솔린, 경유, 등유 등의 탄화수소류; 아세토니트릴; 니트로메탄; 또는 물일 수 있으며, 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent may be a ketone, an ether, an ester, an alcohol, a hydrocarbon, acetonitrile, nitromethane, water, or a mixture thereof. For example, the solvent may include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and 1,2-dimethoxyethane; esters such as ethyl acetate and ethoxyethyl; Butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-methyl-2-propanol, 2-ethoxyethanol, 1-methoxy-2-propanol , 2-butoxyethanol; hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, isooctane, benzene, toluene, xylene, gasoline, light oil and kerosene; Acetonitrile; Nitromethane; Or water, and they may be used alone or in combination of two or more.

상기 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법은 유리섬유시트를 상기 수지층 형성용 조성물에 함침하는 단계; 및 상기 함침에 의하여 수지층 형성용 조성물이 코팅된 유리섬유시트에 자외선을 조사하여 자외선 경화시키는 단계를 포함하는 것일 수 있다.The method for fabricating the flexible display substrate includes: impregnating a glass fiber sheet into the composition for forming a resin layer; And irradiating ultraviolet rays onto the glass fiber sheet coated with the composition for forming a resin layer by the impregnation, thereby curing the ultraviolet ray.

상기 자외선 경화시키는 단계에서 조사되는 자외선은 수지층 형성용 조성물에 포함되는 성분의 종류와 광 중합 개시제의 함량에 따라 조사량이 달라질 수 있다. 또한, 상기 자외선 경화시키는 단계 전에, 코팅된 유리섬유시트의 양면에 이형필름을 라이네이팅하고, 상기 자외선 조사를 완료한 후에 코팅된 유리섬유시트의 양면에 라미네이팅된 이형필름을 분리시키는 것이 바람직하다. 이형필름을 라미네이팅 할 때는 발명의 목적에 따라 라미네이터의 온도와 압력을 조절할 수 있다. 이와 같이 유리섬유시트에 이형필름을 라미네이팅하여 자외선 경화를 시킴으로써, 자외선 후에 형성될 수지층의 최종 두께가 균일하게 되도록 제어하는 것이 용이할 수 있다.The amount of ultraviolet light to be irradiated in the ultraviolet curing step may be varied depending on the kind of components contained in the composition for forming a resin layer and the content of the photopolymerization initiator. In addition, it is preferable that the release film is lined on both sides of the coated glass fiber sheet before the ultraviolet curing step, and the release film laminated on both sides of the coated glass fiber sheet is separated after the ultraviolet irradiation is completed. When laminating a release film, the temperature and pressure of the laminator can be adjusted for the purpose of the invention. By thus laminating the release film to the glass fiber sheet and performing ultraviolet curing, it may be easy to control so that the final thickness of the resin layer to be formed after ultraviolet ray becomes uniform.

또한, 유리섬유시트에 코팅하는 조성물의 종류에 따라 자외선 경화시키는 단계 후에 UV 경화된 시트에 열을 가하여 열경화시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때, 열경화 온도는 200 내지 300 ℃의 온도로 할 수 있고, 열경화 시간은 조성물의 종류 및 열경화 온도 등을 고려하여 적절히 조절하여 결정할 수 있다. 이와 같은 열경화시키는 단계는 자외선 경화시키는 단계에서 경화가 덜 이루어진 조성이 존재하는 경우에 이를 열경화 공정을 통하여 완전한 경화가 이루어지도록 함으로써, 최종 제품인 기판의 내열특성을 향상시킬 수 있는 것이다.Further, according to the kind of the composition to be coated on the glass fiber sheet, it may further include a step of applying heat to the UV-cured sheet after the ultraviolet curing step to thermally cure it. In this case, the heat curing temperature can be 200 to 300 ° C, and the heat curing time can be determined by appropriately adjusting the type of composition and the heat curing temperature. In such a step of thermosetting, when there is a composition having less curing in a stage of ultraviolet curing, it is possible to achieve complete curing through a thermosetting process, thereby improving the heat resistance characteristics of the substrate as a final product.

상기 기판은 유리섬유시트에 상기 수지층 형성용 조성물이 함침된 것일 수 있다.The substrate may be a glass fiber sheet impregnated with the resin layer forming composition.

상기 플렉서블 디스플레이 기판은 상기 제조방법에 따라 제조되며, 상기 기판의 두께는 10 내지 200 um일 수 있다.The flexible display substrate is manufactured according to the manufacturing method, and the thickness of the substrate may be 10 to 200 탆.

상기 기판은 유연도와 내열성이 우수한 것이 특징이며, 일례로 상기 기판은 10 ppm/℃ 이하의 열팽창률을 가질 수 있다.
The substrate is characterized by excellent flexibility and heat resistance. For example, the substrate may have a thermal expansion coefficient of 10 ppm / ° C or less.

이하, 본 발명을 실시예, 비교예 및 실험예를 이용하여 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 하기 실시예, 비교예 및 실험예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서, 본 발명은 하기 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 한정되지 않고 다양하게 수정 및 변경될 수 있다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, Comparative Examples and Experimental Examples. However, the following examples, comparative examples and experimental examples are for illustrating the present invention, and the present invention is not limited by the following examples, comparative examples and experimental examples, and can be variously modified and changed.

실시예Example 1 One

비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디아크릴레이트(bisphenol-A ethylene oxide diacrylate)(제조사: 미원케미칼, 제품명: Miramer M240) 20 중량%, 비스페놀 에이 에틸렌옥사이드 디메타아크릴레이트 (bisphenol A ethylene oxide dimethacrylate)(제조사: KYOEISHA, 제품명: BP-4EM) 30 중량%, 및 화학식 1의 구조(R1 부터 R3는 메틸기, R4는 페닐기, R5 및 R6는 비닐기, S는 10)를 갖는 실리콘계 바인더 50 중량%를 먼저 혼합한 후, 상기 혼합된 총 혼합물의 함량을 기준으로 1-히드록시사이클로헥실 페닐 케톤(Irgacure 184)(제조사: Basf)과 벤조일 퍼옥사이드를 각 2 중량%를 첨가하여 교반기를 통해 1시간 교반하여 수지층 형성용 조성물을 제조하였다.20% by weight of bisphenol-A ethylene oxide diacrylate (trade name: Miramer M240 manufactured by MIWON CHEMICAL Co., Ltd.), bisphenol A ethylene oxide dimethacrylate (manufactured by KYOEISHA , 50 wt% of a silicone-based binder having a structure represented by the following formula (R 1 to R 3 are methyl groups, R 4 is a phenyl group, R 5 and R 6 are vinyl groups, and S is 10) (Irgacure 184) (manufactured by Basf) and benzoyl peroxide were added in an amount of 2% by weight based on the total amount of the mixed mixture, and the mixture was stirred for 1 hour through a stirrer Followed by stirring to prepare a composition for forming a resin layer.

상기 수지층 형성용 조성물로 두께 40 내지 60 um의 유리섬유시트를 사용하여 함침공정을 1시간 이상 상온에서 진행시켰다. 이후, 라미네이터를 이용하여 양면의 이형필름을 대고 라미네이터하였으며, UV 노광기를 이용하여 UV 경화공정을 진행시켰고, 양면의 이형필름을 제거한 후 열경화공정을 진행하여 최종 기판을 얻었다.
The glass fiber sheet having a thickness of 40 to 60 μm was used as the composition for forming a resin layer, and the impregnation process was conducted at room temperature for 1 hour or more. Thereafter, a release film of both sides was laminated using a laminator, and a UV curing process was performed using a UV exposing machine. After removing the release films on both sides, a thermosetting process was performed to obtain a final substrate.

실시예Example 2 2

3,4-에폭시시클로헥실메틸-3 50 중량%, 비스페놀 에이 에틸렌옥사이드 디메타아크릴레이트 10 중량% 및 화학식 1의 구조 (R1 부터 R3는 메틸기, R4는 페닐기, R5 및 R6는 비닐기, S는 10)를 갖는 실리콘계 바인더 40 중량%를 먼저 혼합한 후, 상기 혼합된 총 혼합물의 함량을 기준으로 벤조일 퍼옥사이드를 2 중량%를 첨가하여 교반기를 통해 1시간 교반하여 수지층 형성용 조성물을 제조하였다.50% by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3, 10% by weight of bisphenol A ethylene oxide dimethacrylate and the structure of formula 1 (R 1 to R 3 are methyl, R 4 is phenyl, R 5 and R 6 are 40% by weight of a silicone-based binder having a vinyl group, S = 10) was first mixed, and then 2% by weight of benzoyl peroxide was added based on the total amount of the mixed mixture and stirred for 1 hour with a stirrer to form a resin layer Lt; / RTI >

상기 수지층 형성용 조성물로 두께 40 내지 60 um의 유리섬유시트를 사용하여 함침공정을 1시간 이상 상온에서 진행시켰다. 이후, 라미네이터를 이용하여 양면의 이형필름을 대고 라미네이터하였으며, UV 노광기를 이용하여 UV 경화공정을 진행시켰고, 양면의 이형필름을 제거한 후 열경화공정을 진행하여 최종 기판을 얻었다.
The glass fiber sheet having a thickness of 40 to 60 μm was used as the composition for forming a resin layer, and the impregnation process was conducted at room temperature for 1 hour or more. Thereafter, a release film of both sides was laminated using a laminator, and a UV curing process was performed using a UV exposing machine. After removing the release films on both sides, a thermosetting process was performed to obtain a final substrate.

비교예Comparative Example

상기 실시예의 수지층 형성용 조성물과 달리, 비스페놀 에이 에톡시레이트 디아크릴레이트 25 중량%, 에톡실화 비스페놀 플루오렌 디아크릴레이트(제조사: HANNONG CHEMICAL, 제품명: BPF-022) 15 중량%, 에톡시화 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트 (제조사: HANNONG CHEMICAL, 제품명: PE-044) 50 중량%, 및 2가의 작용기를 갖는 플루오렌 아크릴레이트 (제조사: 미원케미칼, 제품명: HR-6082) 10 중량%를 먼저 혼합한 후, 상기 혼합된 총 혼합물의 함량을 기준으로 1-히드록시사이클로헥실 페닐 케톤 2 중량%를 첨가하여 교반기를 통해 1시간 교반하여 함침액을 제조하였고, 이후 상기 실시예와 같은 과정으로 최종 기판을 얻었다.
The composition for forming a resin layer of the present invention was prepared by mixing 25 wt% of bisphenol aethoxylate diacrylate, 15 wt% of ethoxylated bisphenol fluorene diacrylate (HANNONG CHEMICAL, product name: BPF-022) 50% by weight of erythritol tetraacrylate (manufacturer: HANNONG CHEMICAL, product name: PE-044) and 10% by weight of fluorene acrylate having a bivalent functional group (product name: , 2 weight% of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone was added based on the content of the mixed total mixture, and the mixture was stirred for 1 hour through a stirrer to prepare an impregnation solution. Then, a final substrate was obtained in the same manner as in the above example .

실험예Experimental Example

상기 실시예 1, 2 및 비교예에 대하여, CTE(Coefficient of Thermal Expansion), TGA(Thermogravimetric Analysis), 및 열처리 후 표면특성의 평가를 수행하였으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
Evaluation of CTE (Coefficient of Thermal Expansion), TGA (Thermogravimetric Analysis), and surface characteristics after heat treatment was performed on Examples 1 and 2 and Comparative Examples, and the results are shown in Table 1 below.

<CTE 측정방법><CTE measurement method>

TMA 측정기 N2 조건 하에서 상온부터 330℃까지 10℃/min 승온시킨 후 상온까지 5℃/min 하강시키고, 다시 상온부터 330℃까지 10℃/min 승온시켰으며, 2번째 승온 시에는 상온부터 330℃까지 구간을 50℃부터 300℃까지 50℃간격으로 CTE 측정한 후 평균값을 구하였다.
The temperature was raised from room temperature to 330 ° C at a rate of 10 ° C / min under a TMA measuring instrument N 2 condition. The temperature was then decreased from room temperature to 330 ° C by 5 ° C / min. The CTE was measured at intervals of 50 ° C from 50 ° C to 300 ° C, and the average value was obtained.

<TGA 분석방법><TGA analysis method>

TGA 측정기 N2 조건 하에서 상온부터 150℃까지 10℃/min 승온시킨 후, 150℃에서 10분간 홀딩 시켰다. 이후 150℃에서 300℃까지 10℃/min 승온시키고 1시간 10분 동안 온도 300℃로 일정하게 유지시켰으며, 300℃ 도달 후 2분 뒤부터 62분 뒤까지 1시간 구간에서 발생하는 무게감소율(weight loss(%))를 측정하였다.
The temperature was raised from room temperature to 150 ° C at a rate of 10 ° C / min under the condition of a TGA measuring instrument N2, and then held at 150 ° C for 10 minutes. Thereafter, the temperature was raised from 150 ° C. to 300 ° C. at a rate of 10 ° C./min. The temperature was maintained at 300 ° C. for 1 hour and 10 minutes. The weight loss rate (weight loss (%)) were measured.

<표면특성 평가방법><Surface Property Evaluation Method>

3D Profiler로 10배율의 렌즈를 사용하여 250℃/10min 열처리 전 후 기판 1mm x 1mm 면적의 표면 조도를 측정하여 ΔRa(Roughness)을 측정하였다.
Roughness was measured by measuring the surface roughness of 1 mm x 1 mm area of the substrate before and after heat treatment at 250 ° C / 10 min using a 10x magnification lens with a 3D Profiler.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 CTECTE < 7ppm/℃<7 ppm / ° C < 9ppm/℃<9 ppm / ° C < 14ppm/℃<14 ppm / ° C Weight loss (300℃ for 1hr)Weight loss (300 ° C for 1hr) < 1%<1% < 1.2%<1.2% < 1.5%<1.5% ΔRa (Roughness)? Ra (Roughness) < 100nm<100 nm < 200nm<200 nm < 600nm<600 nm

상기 표 1에 기재된 바와 같이, CTE는 비교예 1의 경우 14ppm/℃ 이하인 반면 실시예 1은 7ppm/℃ 이하 실시예 2는 9ppm/℃ 이하를 나타내었고, 무게감소율은 비교예 1의 경우 1.5% 이하를 나타내었으나, 실시예 1은 1% 이하 실시예 2는 1.2% 이하를 나타내었다. 또한 ΔRa의 경우 비교예 1은 600nm 이하를 나타내었으나, 실시예 1은 100nm 이하 실시예 2는 200nm 이하를 나타내었다.As shown in Table 1, the CTE was 14 ppm / ° C or less in Comparative Example 1, 7 ppm / ° C or less in Example 1, 9 ppm / ° C or less in Example 2, But less than 1% in Example 1 and 1.2% or less in Example 2. Also, in the case of? Ra, Comparative Example 1 showed 600 nm or less, whereas Example 1 showed 100 nm or less. Example 2 showed 200 nm or less.

Claims (11)

하기 화학식 1의 구조를 갖는 실리콘계 바인더;
아크릴계 단량체 및 에폭시계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물; 및
개시제를 포함하며,
상기 실리콘계 바인더와 상기 화합물의 혼합비율은 중량비로 7:3 내지 1:9이고,
상기 실리콘계 바인더는 전체 조성물에 대하여 9.5 내지 70 중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 수지층 형성용 조성물:
[화학식 1]
Figure 112015066897815-pat00003

상기 화학식 1에서, R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있으며, 독립적으로 C1 내지 C12의 알킬기, C2 내지 C12의 아릴기, C2 내지 C12의 아랄킬기, 또는 C2 내지 C12의 알케닐기이며,
R5 및 R6는 서로 같거나 다를 수 있으며, 독립적으로 수소 또는 비닐기이며,
S는 2 내지 1000의 정수이다.
A silicon-based binder having a structure represented by the following formula (1);
At least one compound selected from the group consisting of an acrylic monomer and an epoxy resin; And
An initiator,
The mixing ratio of the silicon-based binder and the compound is 7: 3 to 1: 9 by weight,
Wherein the silicone-based binder is contained in an amount of 9.5 to 70% by weight based on the total composition.
[Chemical Formula 1]
Figure 112015066897815-pat00003

In Formula 1, R 1 to R 4 may be the same or different from each other, independently represent a C 1 to C 12 alkyl group, C 2 to the aryl group of C 12, C 2 to C 12 aralkyl, or C 2 to the C12 alkenyl group,
R 5 and R 6, which may be the same or different, are independently hydrogen or a vinyl group,
S is an integer of 2 to 1000;
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 아크릴계 단량체는 비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 에틸렌옥사이드 디메타아크릴레이트, 비스페놀-에이 에톡시레이트 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 에톡시레이트 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 폴리에톡시레이트 디아크릴레이트, 비스페놀-에이 디아크릴레이트, 비스페놀-에스 디아크릴레이트, 디사이클로펜타디에닐 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 비스페놀-에이 디메타크릴레이트, 비스페놀-에스 디메타크릴레이트, 디사이클로펜타디에닐 디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 및 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인 것인, 수지층 형성용 조성물.
The method according to claim 1,
The acrylic monomer may be at least one selected from the group consisting of bisphenol-ether oxide diacrylate, bisphenol-aeethylene oxide dimethacrylate, bisphenol-aethoxylate diacrylate, bisphenol-aethoxylate diacrylate, bisphenol- (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, dicyclopentadienyl triacrylate, dicyclopentadienyl diacrylate, Pentaerythritol tetramethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) iso-pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, Cyanurate trimethacrylate, and pentaerythritol tetra A is at least one member selected from the group consisting of methacrylate, the resin layer forming composition.
제1항에 있어서,
상기 에폭시계 수지는 글리시딜형 에폭시 수지, 및 지환식 에폭시 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것인, 수지층 형성용 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the epoxy resin is at least one selected from the group consisting of a glycidyl type epoxy resin and an alicyclic epoxy resin.
제1항에 있어서,
상기 조성물은 계면활성제를 더 포함하는 것인, 수지층 형성용 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the composition further comprises a surfactant.
제1항에 있어서,
상기 조성물은 용매를 더 포함하며,
상기 용매는 케톤류, 에테르류, 에스테르류, 알코올류, 탄화수소계, 아세토니트릴, 니트로메탄, 또는 물이거나 이들의 혼합물인 것인, 수지층 형성용 조성물.
The method according to claim 1,
The composition further comprises a solvent,
Wherein the solvent is a ketone, an ether, an ester, an alcohol, a hydrocarbon, acetonitrile, nitromethane, water, or a mixture thereof.
유리섬유시트에 제1항의 수지층 형성용 조성물이 함침된, 플렉서블 디스플레이 기판.A flexible display substrate, wherein the glass fiber sheet is impregnated with the resin layer forming composition of claim 1. 유리섬유시트와 상기 유리섬유시트의 양면에 형성된 수지층을 포함하는 플랙서블 디스플레이 기판의 제조방법에 있어서,
유리섬유시트를 제1항의 수지층 형성용 조성물에 함침하는 단계; 및
상기 함침에 의하여 수지층 형성용 조성물이 코팅된 유리섬유시트에 자외선을 조사하여 자외선 경화시키는 단계를 포함하는 것인, 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법.
A method of manufacturing a flexible display substrate comprising a glass fiber sheet and a resin layer formed on both sides of the glass fiber sheet,
Impregnating the glass fiber sheet with the resin layer forming composition of claim 1; And
And irradiating ultraviolet rays onto the glass fiber sheet coated with the composition for forming a resin layer by the impregnation, thereby curing the ultraviolet curable resin.
제9항에 있어서,
유리섬유시트를 제1항의 수지층 형성용 조성물에 함침하는 단계;
상기 함침에 의하여 수지층 형성용 조성물이 코팅된 유리섬유시트의 양면에 이형필름을 라미네이팅하는 단계;
상기 라미네이팅하는 단계 이후 자외선을 조사하여 자외선 경화시키는 단계; 및
상기 자외선 조사 이후 라미네이팅된 이형필름을 분리시키는 단계를 포함하는 것인, 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Impregnating the glass fiber sheet with the resin layer forming composition of claim 1;
Laminating the release film on both sides of the glass fiber sheet coated with the composition for forming a resin layer by the impregnation;
Irradiating ultraviolet rays after the step of laminating to cure ultraviolet rays; And
And separating the release film laminated after the ultraviolet ray irradiation.
제9항에 있어서,
상기 자외선 경화시키는 단계 이후 UV 경화된 시트에 200 내지 300℃의 온도로 열을 가하여 열경화시키는 단계를 더 포함하는 것인, 플렉서블 디스플레이 기판의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Further comprising the step of applying heat to the UV cured sheet at a temperature of 200 to 300 ° C after the ultraviolet curing step to thermally cure the UV cured sheet.
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