JP7108505B2 - Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film - Google Patents

Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film Download PDF

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Description

本発明は、機械加工性向上フィルム、積層体(機械加工性向上フィルムを貼付した樹脂板)、及び機械加工性向上フィルムの使用方法に関する。
特に、タッチパネルや液晶表示装置等を製造する際に用いる、切削性や耐久性等に優れた機械加工性向上フィルム、積層体、及びそのような機械加工性向上フィルムの使用方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a machinability-improving film, a laminate (a resin plate to which a machinability-improving film is attached), and a method of using the machinability-improving film.
In particular, the present invention relates to a machinability-improving film and laminate excellent in machinability, durability, and the like, and a method of using such a machinability-improving film, which are used when manufacturing touch panels, liquid crystal display devices, and the like.

従来、光の干渉による干渉縞の発生を抑制し、かつ、加飾フィルムが容易に交換できることを目的としたタッチパネルが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
より具体的には、タッチ入力を受け付ける操作領域とタッチ入力を受け付けない非操作領域とを有するタッチパネルであって、前記操作領域に対応する前記加飾フィルムの下面に凹凸が形成されていることを特徴とするタッチパネル装置である。
Conventionally, there has been proposed a touch panel aimed at suppressing the generation of interference fringes due to light interference and enabling easy replacement of decorative films (see, for example, Patent Document 1).
More specifically, the touch panel has an operation area for receiving touch input and a non-operation area for not receiving touch input, and unevenness is formed on the lower surface of the decorative film corresponding to the operation area. It is a touch panel device characterized by the following.

また、タッチパネルや液晶表示装置等において、凹凸を有する一対の光学部材同士を接着するのに適した粘着シートが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
より具体的には、ベースポリマー(A)と、重合性不飽和基を少なくとも1つ有する単量体(B)と、熱架橋剤(C)と、重合開始剤(D)と、溶剤(E)と、を含有する粘着組成物を加熱により半硬化させた粘着剤を含む粘着剤層(X)を備える粘着シートである。
Further, in a touch panel, a liquid crystal display device, etc., a pressure-sensitive adhesive sheet suitable for bonding a pair of uneven optical members has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
More specifically, a base polymer (A), a monomer (B) having at least one polymerizable unsaturated group, a thermal cross-linking agent (C), a polymerization initiator (D), and a solvent (E ), and a pressure-sensitive adhesive layer (X) comprising a pressure-sensitive adhesive layer (X) obtained by semi-curing a pressure-sensitive adhesive composition containing and by heating.

更にまた、打ち抜き加工の際に、粘着剤がはみ出しにくく、切断面における粘着剤はみ出し付着が少なくて、取り扱い時に糊汚染や糊欠け生じにくい光学部材も提案されている(例えば、特許文献3参照)。
より具体的には、打ち抜き加工した際に、その切断面において粘着剤以外の部分に付着する粘着剤の面積を、粘着層の面積の20%以下とした光学部材である。
Furthermore, an optical member has been proposed in which the adhesive is less likely to protrude during the punching process, less adhesion of the adhesive to the cut surface, and less likely to cause glue contamination or glue chipping during handling (see, for example, Patent Document 3). .
More specifically, it is an optical member in which the area of the adhesive that adheres to the portion other than the adhesive on the cut surface when punched is set to 20% or less of the area of the adhesive layer.

特開2018-5698号公報(特許請求の範囲等)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-5698 (Claims etc.) WO2013-61938号公報(特許請求の範囲等)WO2013-61938 (Claims etc.) 特開2001-235626号公報(特許請求の範囲等)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-235626 (Claims, etc.)

しかしながら、特許文献1に開示されているタッチパネル装置は、所定の外装ユニット(板金/接着層/加飾フィルム)を備え、このような外装ユニットは、板金及び接着層がそれぞれ所定の形状に加工された後で積層されて製造される。このため、当該外装ユニットを得るためには、製造工程が多いことが難点である。
その上、接着層は、加飾フィルムが容易に交換可能である設計としていること、及び粘着力について、何ら考慮していないことから、耐久条件(例えば、85℃、85%RH、500時間等)に供した場合、接着界面において浮きや剥がれの発生によって加飾フィルムから接着剤層が剥離して、耐久性が乏しくなるという問題も見られた。
However, the touch panel device disclosed in Patent Document 1 includes a predetermined exterior unit (metal sheet/adhesive layer/decorative film), and in such an exterior unit, the metal sheet and the adhesive layer are each processed into a predetermined shape. After that, it is laminated and manufactured. For this reason, it is difficult to obtain the exterior unit in that there are many manufacturing processes.
In addition, since the adhesive layer is designed so that the decorative film can be easily replaced, and no consideration is given to the adhesive strength, durability conditions (e.g., 85 ° C., 85% RH, 500 hours, etc.) ), there was also a problem that the adhesive layer was peeled off from the decorative film due to floating or peeling at the adhesive interface, resulting in poor durability.

また、特許文献2に開示されている粘着シートは、凹凸を有する一対の光学部材同士の接着のみを考慮しており、粘着シートを光学部材同士の間に挟んで、所定形状に切削加工することまでは、何ら考慮していなかった。
したがって、粘着剤層の貯蔵弾性率の値を何ら考慮していないことから、粘着シートの切削性が乏しいという問題も見られた。
In addition, the adhesive sheet disclosed in Patent Document 2 is intended only for bonding a pair of optical members having unevenness, and the adhesive sheet is sandwiched between the optical members and cut into a predetermined shape. Up until now, I hadn't considered anything.
Therefore, since the value of the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is not considered at all, there is also the problem of poor machinability of the pressure-sensitive adhesive sheet.

更にまた、特許文献3に開示されている光学部材は、具体的に、打ち抜き加工した際に、その切断面において粘着剤以外の部分に付着する粘着剤の面積を、粘着層の面積の20%以下とする制御方法が記載されておらず、実用性に乏しいという問題が見られた。 Furthermore, in the optical member disclosed in Patent Document 3, specifically, when punched, the area of the adhesive that adheres to the portion other than the adhesive on the cut surface is 20% of the area of the adhesive layer. The following control method was not described, and there was a problem of poor practicality.

そこで、本発明者等は、以上のような事情に鑑みて鋭意努力したところ、樹脂板に貼付する、所定基材に積層してなる活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルムの、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2)を所定値以上とすることにより、切削装置等を用いて、樹脂板を含んだ状態で、所定基材の一つである機能性フィルム等及び機械加工性向上層を切削した場合であっても、切削加工において機械加工性向上層の欠けや伸びの発生が抑制されて、加工後の切削面が良好となり、優れた機械加工処理性(切削性)が得られることを見出した。
更に、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の粘着力(P2)を所定値以上とすることにより、樹脂板を含んだ状態で、所定基材の一つである機能性フィルム等及び機械加工性向上層を厳しい耐久条件(例えば、85℃、85%RH、500時間の湿熱環境条件)に供した場合であっても、浮きや剥がれ等の発生が抑制され、優れた耐久性を発揮することも見出した。
すなわち、本発明者等は、上述した切削性の問題とともに、耐久性の問題も解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
したがって、本発明は、タッチパネルや液晶表示装置等の樹脂板とともに、所定基材を同時に機械加工処理(切削処理)する際の、優れた機械加工処理性(切削性)、及び耐久条件に供した際に優れた耐久性が得られる機械加工性向上フィルム、そのような機械加工性向上フィルムを樹脂板に貼付してなる積層体、及びそのような機械加工性向上フィルムの効率的な使用方法を提供することを目的とする。
Therefore, the inventors of the present invention have made diligent efforts in view of the above circumstances, and have found a machine equipped with an active energy ray-curable machinability improving layer laminated on a predetermined base material, which is attached to a resin plate. By setting the storage elastic modulus (M2) of the machinability-improving layer of the workability-improving film after irradiation with active energy rays to a predetermined value or more, a predetermined substrate containing a resin plate is cut using a cutting device or the like. Even when the functional film, which is one of the materials, and the machinability improvement layer are cut, the occurrence of chipping and elongation of the machinability improvement layer is suppressed during cutting, and the cut surface after processing is It was found that excellent machinability (cuttability) was obtained.
Furthermore, by setting the adhesive strength (P2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays to a predetermined value or more, a functional film or the like, which is one of the predetermined base materials, and a machine Even when the workability improving layer is subjected to severe durability conditions (e.g., 85°C, 85% RH, 500 hours of wet heat environment conditions), the occurrence of lifting and peeling is suppressed, and excellent durability is exhibited. I also found that
That is, the present inventors have found that it is possible to solve not only the problem of machinability but also the problem of durability, and have completed the present invention.
Therefore, the present invention provides excellent machinability (cuttability) and durability conditions when simultaneously machining (cutting) a predetermined base material together with a resin plate such as a touch panel or a liquid crystal display device. A machinability-improving film that can obtain excellent durability when used, a laminate obtained by attaching such a machinability-improving film to a resin plate, and an efficient method of using such a machinability-improving film. intended to provide

本発明によれば、樹脂板に貼付する、所定基材に積層してなる活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルムであって、樹脂板に対して貼付した状態の、機械加工性向上層につき、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)が0.2MPa以上の値であり、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)が10N/25mm以上の値であることを特徴とする機械加工性向上フィルムが提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、このように機械加工性向上フィルムを構成し、樹脂板に貼付した状態の、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2)を所定値以上とすることにより、樹脂板を含んだ状態で、機械加工性向上フィルムを同時に切削した場合であっても、切削加工において機械加工性向上層の欠けや伸びの発生が抑制されて、加工後の切削面が良好となり、優れた切削性を得ることができる。
また、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の粘着力(P2)を所定値以上とすることにより、樹脂板に対して、機械加工性向上層を貼付した状態で、耐久試験(例えば、85℃、85%RH、500時間等)を施した場合であっても、気泡や浮き剥がれが発生せず、優れた耐久性を発揮することができる。
According to the present invention, a machinability-improving film having an active energy ray-curable machinability-improving layer laminated on a predetermined base material to be attached to a resin plate is attached to the resin plate. The storage modulus (M2) after irradiation with an active energy ray is 0.2 MPa or more, and the adhesive strength (P2) after irradiation with an active energy ray is 10 N/25 mm or more for the machinability-improving layer in the state. A machinability-enhancing film is provided, which can solve the above-mentioned problems.
That is, the storage elastic modulus (M2) of the machinability-improving layer after the active energy ray irradiation in the state where the machinability-improving film is configured in this way and attached to the resin plate is set to a predetermined value or more, so that the resin Even when the machinability-improving film is cut at the same time while the plate is included, chipping and elongation of the machinability-improving layer are suppressed during cutting, and the cut surface after processing is improved. Excellent machinability can be obtained.
In addition, by setting the adhesive strength (P2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays to a predetermined value or more, a durability test (for example, 85° C., 85% RH, 500 hours, etc.), no air bubbles or floating peeling occurs, and excellent durability can be exhibited.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、所定基材として、機能性フィルム又は剥離フィルムを含むことが好ましい。
このように機能性フィルム又は剥離フィルムを含むことによって、機械加工性向上フィルムの取り扱いが良好になり、樹脂板との貼合性が向上する。
これにより、貼合ミスによる積層体の外観不良発生の抑制や、積層界面に空気をかみこんでしまうことを起因とした耐久性の低下を防止することができる。
なお、所定基材として、機能性フィルム及び剥離フィルムを両方含むこともより好ましい。
Moreover, in constructing the machinability-improved film of the present invention, it is preferable that a functional film or a release film is included as a predetermined base material.
By including the functional film or the release film in this way, the handling of the film for improving machinability is improved, and the lamination property with the resin plate is improved.
As a result, it is possible to suppress the occurrence of defective appearance of the laminate due to a lamination error, and to prevent deterioration in durability caused by air entrainment at the lamination interface.
In addition, it is more preferable to include both the functional film and the release film as the predetermined base material.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、活性エネルギー線照射後における、機械加工性向上層のゲル分率(G2)を60%以上の値とすることが好ましい。
このように機械加工性向上層のゲル分率(G2)を制御することによって、更に良好な切削性等を得ることができる。
加えて、活性エネルギー線照射後における、機械加工性向上層の凝集力が適度なものとなるため、耐久性向上にも寄与する。
In forming the machinability-improving film of the present invention, the gel fraction (G2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays is preferably 60% or more.
By controlling the gel fraction (G2) of the machinability-enhancing layer in this manner, even better machinability and the like can be obtained.
In addition, the cohesion of the machinability-improving layer becomes moderate after irradiation with active energy rays, which contributes to the improvement of durability.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、活性エネルギー線照射前における、機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M1)を0.01~1MPaの範囲内の値とすることが好ましい。
このように活性エネルギー線照射前における、機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M1)を制御することにより、樹脂板との貼合性が優れたものになり、貼合時に空気をかみこんでしまうことを起因とした耐久性の低下を防止することができる。
In forming the machinability-improving film of the present invention, it is preferable that the storage modulus (M1) of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays is set to a value within the range of 0.01 to 1 MPa. .
By controlling the storage elastic modulus (M1) of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays in this way, the lamination property with the resin plate becomes excellent, and air is absorbed during lamination. It is possible to prevent deterioration of durability caused by putting away.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、活性エネルギー線照射後における、機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2)を0.2~3MPaの範囲内の値とすることが好ましい。
このように活性エネルギー線照射後における、機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2)を制御することにより、機械加工性向上層は適度な凝集力を有するものとなり、良好な切削性を発揮することに加えて、更に耐久性を両立し易いものとなる。
In forming the machinability-improving film of the present invention, it is preferable that the storage modulus (M2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays is a value within the range of 0.2 to 3 MPa. .
By controlling the storage elastic modulus (M2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays in this way, the machinability-improving layer has an appropriate cohesive force and exhibits good machinability. In addition to this, it becomes easier to achieve both durability.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、活性エネルギー線照射前における、機械加工性向上層の貯蔵弾性率をM1、活性エネルギー線照射後における、機械加工性向上層の貯蔵弾性率をM2としたときに、M2/M1×100で表された数値(貯蔵弾性率の増加率)を320~30000%の範囲内の値とすることが好ましい。
このように貯蔵弾性率の増加率(%)を所定範囲内の値に制御することで、機械加工性向上層が硬化前の良好な貼合性と、硬化後の適度な凝集力を両立し易くなり、更に良好な切削性及び耐久性を得ることができる。
また、硬化前に良好に貼合されると、硬化後の貼合界面との密着性も高まるため、その効果も相まって、切削処理における機械加工性向上層の欠けや伸びを抑制し易い傾向にある。
In forming the machinability-improving film of the present invention, M1 is the storage elastic modulus of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays, and the storage elastic modulus of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays is is M2, the numerical value represented by M2/M1×100 (rate of increase in storage elastic modulus) is preferably in the range of 320 to 30000%.
By controlling the increase rate (%) of the storage elastic modulus to a value within a predetermined range in this way, the machinability-improving layer achieves both good bonding properties before curing and appropriate cohesive strength after curing. It becomes easy to cut, and it is possible to obtain better machinability and durability.
In addition, if it is laminated well before curing, the adhesion to the laminated interface after curing increases, so this effect is combined with the tendency to easily suppress chipping and elongation of the machinability improving layer during cutting processing. be.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、機械加工性向上層の厚さを3~40μmの範囲内の値とすることが好ましい。
このように機械加工性向上フィルムの機械加工性向上層の厚さを制御することにより、活性エネルギー線照射前後における、JIS Z 0237:2000に準拠して測定されるガラスに対する180°剥離粘着力(以下、単に粘着力と称する場合がある。)を所望範囲内の値に調整することが容易となり、良好な耐久性を発揮するものとなる。
また、比較的薄い厚みであることから、得られる積層体の軽量化にも寄与することができる。
In forming the machinability-improving film of the present invention, the thickness of the machinability-improving layer is preferably in the range of 3 to 40 μm.
By controlling the thickness of the machinability-improving layer of the machinability-improving film in this way, the 180° peel adhesive force ( Hereinafter, it may be simply referred to as adhesive strength.) can be easily adjusted to a value within a desired range, and good durability can be exhibited.
Moreover, since the thickness is relatively small, it can contribute to the weight reduction of the obtained laminate.

また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの機械加工性向上フィルムが、樹脂板に貼付されてなることを特徴とする積層体である。
このような積層体であれば、樹脂板は従来の金属フレーム等に比べると加工性に優れるため、各種機器において使用される各種機能性フィルムを、機械加工性向上層を介して樹脂板に貼合した状態で、精度良く切削処理することができる。
また、樹脂板は従来の金属フレーム等よりも軽量であるため、当該積層体が適用される機器の軽量化も可能となる。
Another aspect of the present invention is a laminate comprising any one of the machinability-improving films described above attached to a resin plate.
With such a laminate, the resin plate has better workability than conventional metal frames, etc., so various functional films used in various devices are attached to the resin plate via a machinability improving layer. Cutting can be performed with high precision in a combined state.
In addition, since the resin plate is lighter than a conventional metal frame or the like, it is possible to reduce the weight of equipment to which the laminate is applied.

また、本発明の積層体を構成するにあたり、樹脂板が、光学用樹脂板であることが好ましい。
このような光学用樹脂板を含む積層体であれば、光学分野における機器に適用し易くなり、例えば、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品において、光学特性を有しながらも軽量化も可能となる。
Moreover, in forming the laminate of the present invention, the resin plate is preferably an optical resin plate.
A laminate containing such an optical resin plate can be easily applied to equipment in the optical field. For example, in optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices, it is possible to reduce the weight while maintaining optical characteristics. Become.

また、本発明の更に別の態様は、上述したいずれかの機械加工性向上フィルムの使用方法であって、下記工程(1)~(4)を含むことを特徴とする機械加工性向上フィルムの使用方法である。
(1)所定基材としての機能性フィルムの表面に、活性エネルギー線硬化性成分を含む組成物を塗布し、加熱処理することにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルムとする工程
(2)得られた機械加工性向上フィルムを、樹脂板に貼付する工程
(3)樹脂板又は所定基材側から活性エネルギー線を照射し、機械加工性向上層中における活性エネルギー線硬化性成分を硬化させ、硬化後の機械加工性向上層とする工程
(4)硬化後の機械加工性向上層及び樹脂板を含む積層体に対して、所定の機械加工処理を施す工程
このように機械加工性向上フィルムを使用することにより、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。すなわち、一度の切削処理によって、所望の形状を有する積層体を容易に得ることができる。更に、切削処理において機械加工性向上層の欠けや伸びはないため、加工後の切削面は良好となり、得られる積層体は、優れた外観品質を有するものとなる。更に、得られる積層体は、耐久性に優れるため、厳しい環境下で使用される光学部品(例えば、車載用のタッチパネルや液晶表示装置等)にも適用可能である。
Further, still another aspect of the present invention is a method of using any one of the machinability-improving films described above, wherein the machinability-improving film comprises the following steps (1) to (4): How to use.
(1) A machine provided with an active energy ray-curable machinability-enhancing layer by applying a composition containing an active energy ray-curable component to the surface of a functional film as a predetermined substrate and heat-treating it. Step (2) Affixing the resulting machinability-improved film to a resin plate (3) Irradiating active energy rays from the resin plate or a predetermined substrate side to form a machinability-improving layer Step (4): Curing the active energy ray-curable component to form a cured machinability-improving layer; By using the machinability-improving film in this way, it is possible to easily manufacture a resin plate with a functional film through the machinability-improving layer, which can be applied to optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices. can do. That is, a laminate having a desired shape can be easily obtained by one cutting process. Furthermore, since the machinability-enhancing layer does not chip or stretch during the cutting process, the machined surface after machining is good, and the resulting laminate has excellent appearance quality. Furthermore, since the obtained laminate is excellent in durability, it can also be applied to optical parts used in harsh environments (for example, touch panels for vehicles, liquid crystal display devices, etc.).

図1(a)~(b)は、機械加工性向上フィルムを用いてなる積層体の構成例をそれぞれ説明するために供する図である。FIGS. 1(a) and 1(b) are diagrams provided for explaining configuration examples of laminates each using a machinability-enhancing film. 図2は、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の、貯蔵弾性率(MPa)と切削性(相対値)との関係を説明するために供する図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the relationship between the storage elastic modulus (MPa) and the machinability (relative value) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays. 図3(a)~(e)は、熱架橋工程を含む機械加工性向上フィルムの製造方法及び、当該機械加工性向上フィルムを用いた、積層体の製造方法を説明するために供する図である。FIGS. 3A to 3E are diagrams provided for explaining a method for manufacturing a machinability-improved film including a thermal crosslinking step, and a method for manufacturing a laminate using the machinability-improved film. . 図4(a)~(f)は、所定基材として機能性フィルムを用いた、機械加工性向上フィルムを用いてなる積層体の作成工程及び使用工程を説明するために供する図である(その1)。FIGS. 4(a) to 4(f) are diagrams provided for explaining the steps of creating and using a laminate using a functional film as a predetermined base material and a film for improving machinability (the 1). 図5(a)~(f)は、所定基材として剥離フィルムを用いた、機械加工性向上フィルムを用いてなる、別の積層体の作成工程及び使用工程を説明するために供する図である(その2)。5(a) to 5(f) are diagrams provided for explaining the steps of producing and using another laminate using a release film as a predetermined base material and using a machinability-enhancing film. (Part 2).

本発明の実施形態は、図1(a)~(b)に例示されるように、樹脂板12に貼付する、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14、及び、所定基材16(機能性フィルム等)を備えてなる機械加工性向上フィルム18や、そのような機械加工性向上フィルム18を用いてなる積層体10、更には、機械加工性向上フィルム18の使用方法である。
そして、本実施形態の機械加工性向上フィルム18は、樹脂板12に対して積層した状態の機械加工性向上層14の、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)が0.2MPa以上の値であり、活性エネルギー線の照射後の粘着力(P2)が10N/25mm以上の値であることを特徴とする。
以下、適宜図面を参照しつつ、機械加工性向上フィルム18を、構成要件ごとに、具体的に説明する。
なお、図1(a)は、機械加工性向上フィルム18を積層してなる樹脂板12から構成されてなる積層体10の態様を例示しており、図1(b)は、別の積層体10の一態様であって、機械加工性向上層14の一部に、所定空間14aを有するタッチパネル(但し、電気配線等を省略)の一例を示している。
As illustrated in FIGS. 1(a) and 1(b), the embodiment of the present invention includes an active energy ray-curable machinability improving layer 14 attached to a resin plate 12, and a predetermined base material 16 ( functional film, etc.), a laminate 10 using such a machinability-improving film 18, and a method of using the machinability-improving film 18.
In the machinability-improving film 18 of the present embodiment, the machinability-improving layer 14 laminated on the resin plate 12 has a storage elastic modulus (M2) of 0.2 MPa or more after irradiation with active energy rays. It is characterized by having an adhesive strength (P2) of 10 N/25 mm or more after irradiation with an active energy ray.
Hereinafter, the machinability improving film 18 will be specifically described for each component with reference to the drawings as appropriate.
Note that FIG. 1(a) illustrates a mode of a laminate 10 composed of a resin plate 12 laminated with a machinability improving film 18, and FIG. 1(b) shows another laminate. 10, showing an example of a touch panel having a predetermined space 14a in a part of the machinability improving layer 14 (however, electric wiring etc. are omitted).

1.樹脂板
(1)種類
図1(a)等に示される樹脂板12の種類としては、特に制限されるものではないが、機械加工性が良好なため、公知の透明又は半透明の樹脂板を用いることが好ましい。
1. Resin Plate (1) Type The type of the resin plate 12 shown in FIG. It is preferable to use

このような樹脂板として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂板、ポリエチレン樹脂板、ポリプロピレン樹脂板、ジアセチルセルロース樹脂板、トリアセチルセルロース樹脂板、アセチルセルロースブチレート樹脂板、ポリ塩化ビニル樹脂板、ポリ塩化ビニリデン樹脂板、ポリビニルアルコール樹脂板、エチレン-酢酸ビニル共重合体樹脂板、ポリスチレン樹脂板、ポリカーボネート樹脂板、ポリメチルペンテン樹脂板、ポリスルホン樹脂板、ポリエーテルエーテルケトン樹脂板、ポリエーテルスルホン樹脂板、ポリエーテルイミド樹脂板、ポリイミド樹脂板、フッ素樹脂板、ポリアミド樹脂板、アクリル樹脂板、ノルボルネン系樹脂板、シクロオレフィン樹脂板等が挙げられる。 Examples of such resin plates include polyester resin plates such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene resin plates, polypropylene resin plates, diacetylcellulose resin plates, triacetylcellulose resin plates, and acetylcellulose butyrate resin plates. , polyvinyl chloride resin plate, polyvinylidene chloride resin plate, polyvinyl alcohol resin plate, ethylene-vinyl acetate copolymer resin plate, polystyrene resin plate, polycarbonate resin plate, polymethylpentene resin plate, polysulfone resin plate, polyether ether ketone Resin plates, polyethersulfone resin plates, polyetherimide resin plates, polyimide resin plates, fluororesin plates, polyamide resin plates, acrylic resin plates, norbornene resin plates, cycloolefin resin plates, and the like.

これらの中でも、光学特性や耐熱性が良好であって、寸法安定性にも優れていることから、ポリエステル樹脂板、ポリカーボネート樹脂板、ポリメチルペンテン樹脂板、ポリスルホン樹脂板、アクリル樹脂板、ポリエーテルエーテルケトン樹脂板、ポリイミド樹脂板、ノルボルネン系樹脂板、シクロオレフィン樹脂板のうち少なくとも一つであることが好ましい。
また、透明性や、機械的強度、柔軟性、加工性、耐候性、更には経済性にも優れていることから、特に、アクリル樹脂板(MMA樹脂板等)やポリカーボネート樹脂板であることが更に好ましい。
Among these, polyester resin plate, polycarbonate resin plate, polymethylpentene resin plate, polysulfone resin plate, acrylic resin plate, and polyether resin plate have excellent optical properties and heat resistance and are excellent in dimensional stability. At least one of an ether ketone resin plate, a polyimide resin plate, a norbornene resin plate, and a cycloolefin resin plate is preferable.
In addition, acrylic resin plates (MMA resin plates, etc.) and polycarbonate resin plates are particularly preferred because they are excellent in transparency, mechanical strength, flexibility, workability, weather resistance, and economic efficiency. More preferred.

(2)厚さ
図1(a)等に示される樹脂板12の厚さを、通常、200~10000μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる樹脂板の厚さが200μm未満の値となると、樹脂板の強度が低下したり、樹脂板を含むタッチパネル等の配置固定性が低下したりする場合があるためである。
一方、樹脂板の厚さが10000μmを超えた値となると、機械加工性向上層を介して、樹脂板と、所定基材としての機能性フィルム等とともに同時に機械加工処理することが困難となる場合があるためである。
したがって、樹脂板の厚さを500~5000μmの範囲内の値とすることがより好ましく、700~2000μmの範囲内の値とすることが更に好ましい。
(2) Thickness It is preferable that the thickness of the resin plate 12 shown in FIG.
The reason for this is that if the thickness of the resin plate is less than 200 μm, the strength of the resin plate may decrease, and the arrangement fixability of the touch panel including the resin plate may decrease.
On the other hand, if the thickness of the resin plate exceeds 10,000 μm, it may be difficult to simultaneously machine the resin plate and the functional film or the like as the predetermined base material through the machinability improving layer. This is because
Therefore, it is more preferable to set the thickness of the resin plate to a value within the range of 500 to 5000 μm, more preferably to a value within the range of 700 to 2000 μm.

(3)光学特性
樹脂板の光学特性に関し、タッチパネルや液晶表示装置等の用途に使用可能な程度に透明性を有することが好ましい。
具体的には、樹脂板の可視光透過率が過度に低くなると、歩留まりが著しく低下したり、使用可能な構成材料の種類が過度に制限されたりする場合がある。
したがって、樹脂板の可視光透過率の下限として、60%以上の値とすることが好ましく、75%以上の値とすることがより好ましく、85%以上の値とすることが更に好ましい。
一方、樹脂板の可視光透過率の上限は、通常、100%以下であり、99.9%以下の値とすることが好ましく、99%以下の値とすることがより好ましく、98%以下の値とすることが更に好ましい。
(3) Optical properties Regarding the optical properties of the resin plate, it is preferable that the resin plate has transparency to the extent that it can be used for applications such as touch panels and liquid crystal display devices.
Specifically, if the visible light transmittance of the resin plate is excessively low, the yield may be remarkably reduced, or the types of usable constituent materials may be excessively limited.
Therefore, the lower limit of the visible light transmittance of the resin plate is preferably 60% or more, more preferably 75% or more, and even more preferably 85% or more.
On the other hand, the upper limit of the visible light transmittance of the resin plate is usually 100% or less, preferably 99.9% or less, more preferably 99% or less, and 98% or less. It is more preferable to set it as a value.

(4)添加剤
樹脂板において、耐久性、物理特性、機械特性等を改良すべく、酸化防止剤、加水分解防止剤、紫外線吸収剤、無機フィラー、有機フィラー、無機繊維、有機繊維、導電性材料、電気絶縁性材料、金属イオン捕捉剤、軽量化剤、充填剤、研磨剤、着色剤、粘度調整剤等のうち少なくとも一つの公知の添加剤を、配合することも好ましい。
そして、これらの公知の添加剤を樹脂板中に配合する場合、その添加剤の種類にもよるが、通常、その配合量を、樹脂板の全体量(100重量%)に対して、0.1~30重量%の範囲内の値とすることが好ましく、0.5~20重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、1~10重量%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(4) Additives Anti-oxidants, anti-hydrolysis agents, UV absorbers, inorganic fillers, organic fillers, inorganic fibers, organic fibers, conductive additives are used to improve the durability, physical properties, mechanical properties, etc. of resin boards. It is also preferable to add at least one known additive from materials, electrically insulating materials, metal ion scavengers, lightening agents, fillers, abrasives, colorants, viscosity modifiers, and the like.
When these known additives are blended into the resin board, the blending amount is usually 0.00% with respect to the total amount (100% by weight) of the resin board, although it depends on the type of the additive. A value in the range of 1 to 30% by weight is preferable, a value in the range of 0.5 to 20% by weight is more preferable, and a value in the range of 1 to 10% by weight is further preferable. preferable.

2.機械加工性向上層
本実施形態における機械加工性向上層14は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、熱硬化性成分(B)と、活性エネルギー線硬化性成分(C)を必須成分とする、機械加工性向上層を形成するための組成物に由来した樹脂層13を加熱処理によって熱架橋することで得ることができる。
すなわち、かかる機械加工性向上層14は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、熱硬化性成分(B)とから構成される架橋構造と、未硬化の活性エネルギー線硬化性成分(C)によって構成される。この機械加工性向上層14に、活性エネルギー線照射により硬化させることにより、硬化後の機械加工性向上層14´を得ることができる。
2. Machinability-improving layer The machinability-improving layer 14 in the present embodiment includes a (meth)acrylic acid ester copolymer as a main agent (A), a thermosetting component (B), and an active energy ray-curable component ( It can be obtained by thermally cross-linking the resin layer 13 derived from the composition for forming the machinability-improving layer, which contains C) as an essential component, by heat treatment.
That is, the machinability improving layer 14 has a crosslinked structure composed of a (meth)acrylic acid ester copolymer as a main agent (A) and a thermosetting component (B), and an uncured active energy ray It is composed of a curable component (C). By curing the machinability-improving layer 14 by irradiating it with active energy rays, a cured machinability-improving layer 14' can be obtained.

なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を意味するものとし、以下、他の類似用語も含めて同様である。
以下、機械加工性向上層14を構成する、各成分等について、具体的に説明する。
In this specification, "(meth)acrylate" means both acrylate and methacrylate, and the same applies hereinafter, including other similar terms.
Hereinafter, each component and the like constituting the machinability improving layer 14 will be specifically described.

(1)主剤(A)
機械加工性向上層14を構成する、主剤(A)の種類としては、特に制限されるものではない。
しかしながら、例えば、入手しやすく、後述する活性エネルギー線硬化性成分(C)と均一に混合し易いことから、所定の(メタ)アクリル酸エステルモノマー成分に由来した(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、主剤(A)であることが好ましい。
(1) Main agent (A)
The type of the main agent (A) that constitutes the machinability-enhancing layer 14 is not particularly limited.
However, for example, since it is easily available and easily mixed with the active energy ray-curable component (C) described later, a (meth)acrylic acid ester copolymer derived from a predetermined (meth)acrylic acid ester monomer component is preferably the main agent (A).

かかる主剤が、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の場合、当該共重合体を構成するモノマー単位として、熱硬化性成分(B)と反応する、反応性基を分子内に有するモノマー(反応性官能基含有モノマー)と、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、を含有することが好ましい。
この理由は、反応性基含有モノマー由来の反応性基が熱硬化性成分(B)と反応して、架橋構造(三次元網目構造)が形成されることにより、被膜強度の比較的高い機械加工性向上層を得ることができるためである。
When the main agent is a (meth)acrylic acid ester copolymer, a monomer having a reactive group in the molecule that reacts with the thermosetting component (B) (reactive It preferably contains a functional group-containing monomer) and a (meth)acrylic acid alkyl ester.
The reason for this is that the reactive group derived from the reactive group-containing monomer reacts with the thermosetting component (B) to form a crosslinked structure (three-dimensional network structure), resulting in a relatively high mechanical processing film strength. This is because a property-improving layer can be obtained.

(1)-1 モノマー1(反応性官能基含有モノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル重合体の一部を構成する反応性基含有モノマーとしては、分子内に水酸基を有するモノマー(以下、水酸基含有モノマーと称する場合がある。)、分子内にカルボキシ基を有するモノマー(以下、カルボキシ基含有モノマーと称する場合がある。)、分子内にアミノ基を有するモノマー(以下、アミノ基含有モノマーと称する場合がある。)などが挙げられる。
これらの中でも、熱硬化性成分(B)との反応性に優れ、被着体への悪影響が少ない観点から水酸基含有モノマーが好ましく、また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が比較的低くても、所望の凝集力が発揮される観点から、カルボキシ基含有モノマーが好ましい。
(1)-1 Monomer 1 (reactive functional group-containing monomer)
Examples of reactive group-containing monomers constituting a part of the (meth)acrylic acid ester polymer as the main agent (A) include monomers having a hydroxyl group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as hydroxyl group-containing monomers), molecules A monomer having a carboxy group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as a carboxy group-containing monomer), a monomer having an amino group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as an amino group-containing monomer), and the like.
Among these, a hydroxyl group-containing monomer is preferable from the viewpoint of excellent reactivity with the thermosetting component (B) and less adverse effect on the adherend, and the weight average molecular weight of the (meth) acrylic acid ester copolymer is Carboxy group-containing monomers are preferred from the viewpoint of exhibiting the desired cohesive strength, even if they are relatively low.

水酸基含有モノマーの種類としては、例えば、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等が挙げられる。
これらの中でも、得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体における水酸基と熱硬化性成分(B)との反応性及び他の単量体との共重合性の観点から、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル及び(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルが好ましく、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル及びアクリル酸4-ヒドロキシブチルがより好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, and hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 3-hydroxybutyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate.
Among these, from the viewpoint of the reactivity between the hydroxyl group and the thermosetting component (B) in the obtained (meth)acrylic acid ester copolymer and the copolymerizability with other monomers, (meth)acrylic acid 2 -hydroxyethyl and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate are preferred, and 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate are more preferred. These may be used alone or in combination of two or more.

また、モノマー単位としての水酸基含有モノマーの配合量を、モノマー全体量(100重量%、以下、同様である。)に対して、1重量%以上含有することが好ましく、10重量%以上含有することがより好ましく、15重量%以上含有することが更に好ましい。
更に、かかる水酸基含有モノマーの配合量を、モノマー全体量に対して、50重量%以下含有することが好ましく、40重量%以下含有することがより好ましく、30重量%以下含有することが更に好ましい。
すなわち、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、モノマー単位として水酸基含有モノマーを所定範囲で含有することにより、熱硬化性成分(B)と好適に反応し易くなり、良好な架橋構造が形成される。その結果、得られる機械加工性向上層は、被膜強度が比較的高く、機械加工性向上層の貯蔵弾性率が所望の値を満たしやすくなり、良好な切削性を有するものとなる。
In addition, the amount of the hydroxyl group-containing monomer as a monomer unit is preferably 1% by weight or more, preferably 10% by weight or more, relative to the total amount of monomers (100% by weight, hereinafter the same). is more preferable, and it is even more preferable to contain 15% by weight or more.
Furthermore, the amount of the hydroxyl group-containing monomer compounded is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and even more preferably 30% by weight or less, based on the total amount of the monomers.
That is, when the (meth)acrylic acid ester copolymer contains a hydroxyl group-containing monomer in a predetermined range as a monomer unit, it becomes easier to react appropriately with the thermosetting component (B), and a good crosslinked structure is formed. be. As a result, the resulting machinability-improving layer has a relatively high film strength, the storage elastic modulus of the machinability-improving layer easily satisfies a desired value, and has good machinability.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が挙げられる。
これらの中でも、得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体におけるカルボキシ基と熱硬化性成分(B)との反応性及び他の単量体との共重合性の観点から、アクリル酸が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
そして、モノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを含む場合、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該カルボキシ基含有モノマーを、モノマー全体量に対して、1重量%以上含有することが好ましく、5重量%以上含有することが特に好ましく、8重量%以上含有することが更に好ましい。
更に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを、30重量%以下含有することが好ましく、20重量%以下含有することがより好ましく、15重量%以下含有することが更に好ましい。
すなわち、モノマー単位としてカルボキシ基含有モノマーを所定範囲で含有することにより、熱硬化性成分(B)と好適に反応し易くなり、良好な架橋構造が形成される。
その結果、得られる機械加工性向上層は、被膜強度が比較的高く、機械加工性向上層の貯蔵弾性率が所望の値を満たしやすくなり、良好な切削性を有するものとなる。
Carboxy group-containing monomers include, for example, ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid.
Among these, acrylic acid is preferable from the viewpoint of the reactivity between the carboxy groups in the resulting (meth)acrylic acid ester copolymer and the thermosetting component (B) and the copolymerizability with other monomers. These may be used alone or in combination of two or more.
Then, when a carboxy group-containing monomer is included as a monomer unit, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of the carboxy group-containing monomer with respect to the total amount of the monomers. It is particularly preferable to contain 8% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more.
Furthermore, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, of a carboxy group-containing monomer as a monomer unit constituting the polymer. It is more preferable to contain 15% by weight or less.
That is, by containing a carboxy group-containing monomer as a monomer unit in a predetermined range, it becomes easier to react favorably with the thermosetting component (B), and a good crosslinked structure is formed.
As a result, the resulting machinability-improving layer has a relatively high film strength, the storage elastic modulus of the machinability-improving layer easily satisfies a desired value, and the machinability-improving layer has good machinability.

また、モノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを微量含むか、又は、全く含まないことも好ましい。
この理由は、カルボキシ基は酸成分であるため、カルボキシ基含有モノマーを含有しないことにより、粘着剤の貼付対象に、酸により不具合が生じるもの、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)等の透明導電膜や金属膜などが存在する場合にも、酸によるそれらの不具合(腐食、抵抗値変化等)を抑制することができるためである。
ただし、このような不具合が生じない程度に、カルボキシ基含有モノマーを所定量含有することは許容される。
具体的には、(メタ)アクリル酸エステル共重合体中に、モノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを5重量%以下、好ましくは1重量%以下、より好ましくは0.1重量%以下の量で含有することが許容される。
It is also preferable that the monomer units contain a small amount of a carboxy group-containing monomer or do not contain any at all.
The reason for this is that the carboxyl group is an acid component, and by not containing a carboxyl group-containing monomer, the adhesive may cause problems due to the acid, such as a transparent conductive film such as tin-doped indium oxide (ITO). This is because even if there is a metal film or the like, it is possible to suppress the problems (corrosion, resistance value change, etc.) caused by the acid.
However, it is permissible to contain a predetermined amount of the carboxy group-containing monomer to the extent that such problems do not occur.
Specifically, in the (meth)acrylic acid ester copolymer, as a monomer unit, a carboxy group-containing monomer is 5% by weight or less, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less. Allowed to contain.

また、アミノ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸n-ブチルアミノエチル等が挙げられる。
これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of amino group-containing monomers include aminoethyl (meth)acrylate and n-butylaminoethyl (meth)acrylate.
These may be used alone or in combination of two or more.

(1)-2 モノマー2((メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、アルキル基の炭素数が1~20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含有することが好ましい。
これにより、機械加工性向上層が好ましい粘着性を発現することができる。
また、アルキル基の炭素数が1~20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、より好ましい粘着性を発現できる観点から、直鎖状又は分岐鎖状の構造であることが好ましい。
(1)-2 Monomer 2 ((meth)acrylic acid alkyl ester monomer)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) may contain a (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms as a monomer unit constituting the copolymer. preferable.
This allows the machinability-improving layer to exhibit preferable adhesiveness.
In addition, the (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms preferably has a linear or branched structure from the viewpoint of exhibiting more preferable adhesiveness.

アルキル基の炭素数が1~20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、ホモポリマーとしてのガラス転移温度(Tg)が0℃未満であることが好ましい(以下、低Tgアルキルアクリレートと称する場合がある。)。
この理由は、かかる低Tgアルキルアクリレートを構成モノマー単位として含有することにより、得られる機械加工性向上層の粘着性を、より向上させることができるためである。
The (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms preferably has a glass transition temperature (Tg) of less than 0° C. as a homopolymer (hereinafter sometimes referred to as a low Tg alkyl acrylate). be.).
The reason for this is that by containing such a low Tg alkyl acrylate as a constituent monomer unit, the adhesiveness of the obtained machinability-improving layer can be further improved.

ここで、低Tgアルキルアクリレートとしては、例えば、アクリル酸n-ブチル(Tg:-55℃)、アクリル酸n-オクチル(Tg:-65℃)、アクリル酸イソオクチル(Tg:-58℃)、アクリル酸2-エチルヘキシル(Tg:-70℃)、アクリル酸イソノニル(Tg:-58℃)、アクリル酸イソデシル(Tg:-60℃)、メタクリル酸イソデシル(Tg:-41℃)、メタクリル酸n-ラウリル(Tg:-65℃)、アクリル酸トリデシル(Tg:-55℃)、メタクリル酸トリデシル(Tg:-40℃)等の少なくとも一つが好ましく挙げられる。
これらの中でも、より効果的に粘着性を向上させる観点から、低Tgアルキルアクリレートとして、ホモポリマーのTgが、-25℃以下であるものがより好ましく、-50℃以下であるものが更に好ましい。
具体的には、アクリル酸n-ブチル及びアクリル酸2-エチルヘキシルが特に好ましい。
Examples of low Tg alkyl acrylates include n-butyl acrylate (Tg: -55°C), n-octyl acrylate (Tg: -65°C), isooctyl acrylate (Tg: -58°C), acrylic 2-ethylhexyl acid (Tg: -70°C), isononyl acrylate (Tg: -58°C), isodecyl acrylate (Tg: -60°C), isodecyl methacrylate (Tg: -41°C), n-lauryl methacrylate (Tg: -65°C), tridecyl acrylate (Tg: -55°C), tridecyl methacrylate (Tg: -40°C) and the like are preferably mentioned.
Among these, from the viewpoint of more effectively improving adhesiveness, as the low Tg alkyl acrylate, those having a homopolymer Tg of −25° C. or less are more preferable, and those having −50° C. or less are even more preferable.
Specifically, n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate are particularly preferred.

また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、低Tgアルキルアクリレートを、下限値として30重量%以上含有することが好ましく、特に40重量%以上含有することがより好ましく、50重量%以上含有することが更に好ましい。
この理由は、このようにかかる低Tgアルキルアクリレートを配合すると、得られる機械加工性向上層の粘着性を良好に向上させることができ、樹脂板への貼合性をより優れたものとできるためである。
また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、低Tgアルキルアクリレートを、上限値として、99重量%以下含有することが好ましく、特に90重量%以下含有することがより好ましく、80重量%以下含有することが更に好ましい。
この理由は、このようにかかる低Tgアルキルアクリレートを配合すると、(メタ)アクリル酸エステル重合体中に他のモノマー成分(特に反応性官能基含有モノマー)を好適な量導入することができるためである。
In addition, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains a low Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer in an amount of 30% by weight or more as a lower limit, particularly 40% by weight or more. is more preferable, and it is even more preferable to contain 50% by weight or more.
The reason for this is that when such a low-Tg alkyl acrylate is blended, the resulting machinability-improving layer can have a good improvement in adhesiveness and can be more excellently attached to a resin plate. is.
Further, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 99% by weight or less, particularly 90% by weight or less, of a low-Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer. is more preferable, and it is even more preferable to contain 80% by weight or less.
The reason for this is that by blending such a low Tg alkyl acrylate, it is possible to introduce a suitable amount of other monomer components (especially reactive functional group-containing monomers) into the (meth)acrylic acid ester polymer. be.

また、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、モノマー単位として、ホモポリマーとしてのガラス転移温度(Tg)が0℃を超えるモノマー(以下、高Tgアルキルアクリレートと称する場合がある。)を併用することも好ましい。
この理由は、得られる機械加工性向上層に適度な凝集力を付与し、機械加工性向上層の貯蔵弾性率が所望の値を満たし易くなり、切削性を向上させることができるためである。
In addition, the (meth)acrylic acid ester polymer may be used in combination with a monomer having a glass transition temperature (Tg) exceeding 0 ° C. as a homopolymer (hereinafter sometimes referred to as a high Tg alkyl acrylate). is also preferred.
The reason for this is that the obtained machinability-improving layer is imparted with an appropriate cohesive force, the storage elastic modulus of the machinability-improving layer easily satisfies a desired value, and machinability can be improved.

但し、ここで記載する高Tgアルキルアクリレートは、後述する脂環式構造含有モノマー及び窒素含有モノマーを除くものとする。
このような高Tgアルキルアクリレートとしては、例えば、アクリル酸メチル(Tg:10℃)、メタクリル酸メチル(Tg:105℃)、メタクリル酸エチル(Tg:65℃)、メタクリル酸n-ブチル(Tg:20℃)、メタクリル酸イソブチル(Tg:48℃)、メタクリル酸t-ブチル(Tg:107℃)、アクリル酸n-ステアリル(Tg:30℃)、メタクリル酸n-ステアリル(Tg:38℃)等のアクリル系モノマー、酢酸ビニル(Tg:32℃)、スチレン(Tg:30℃)等の少なくとも一つが挙げられる。
これらの中でも、機械加工性向上層に適度な凝集力を付与でき、所望の貯蔵弾性率を発現できることから、高Tgアルキルアクリレートとしては、特にメタクリル酸メチルであることが好ましい。
However, the high Tg alkyl acrylate described here excludes alicyclic structure-containing monomers and nitrogen-containing monomers, which will be described later.
Examples of such high Tg alkyl acrylates include methyl acrylate (Tg: 10°C), methyl methacrylate (Tg: 105°C), ethyl methacrylate (Tg: 65°C), n-butyl methacrylate (Tg: 20°C), isobutyl methacrylate (Tg: 48°C), t-butyl methacrylate (Tg: 107°C), n-stearyl acrylate (Tg: 30°C), n-stearyl methacrylate (Tg: 38°C), etc. acrylic monomer, vinyl acetate (Tg: 32°C), styrene (Tg: 30°C), and the like.
Among these, methyl methacrylate is particularly preferable as the high Tg alkyl acrylate because it can impart an appropriate cohesive force to the machinability-improving layer and can exhibit a desired storage elastic modulus.

すなわち、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として上記高Tgアルキルアクリレートを含有する場合、当該高Tgアルキルアクリレートを、モノマー成分の全体量に対して、1重量%以上含有することがより好ましく、3重量%以上含有することがより好ましい。
また、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、当該高Tgアルキルアクリレートを20重量%以下含有することが好ましく、12重量%以下含有することがより好ましく、8重量%以下含有することが更に好ましい。
この理由は、高Tgアルキルアクリレートを、低Tgアルキルアクリレートとともに、上記の量となるように併用することにより、得られる機械加工性向上層は、好適な粘着性及び凝集力を発現し、粘着力及び貯蔵弾性率が所望の値を満たし易くなり、切削性及び耐久性が発揮し易くなるためである。
That is, when the (meth)acrylic acid ester polymer contains the high Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer, the high Tg alkyl acrylate is added to 1% by weight with respect to the total amount of the monomer components. It is more preferable to contain at least 3% by weight, more preferably at least 3% by weight.
In addition, the (meth)acrylic acid ester polymer preferably contains 20% by weight or less, more preferably 12% by weight or less, of the high Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer. It is more preferable to contain not more than weight %.
The reason for this is that by using the high Tg alkyl acrylate together with the low Tg alkyl acrylate in the above amount, the resulting machinability-improving layer exhibits suitable adhesiveness and cohesion. This is because the desired values of storage elastic modulus and storage elastic modulus are easily satisfied, and machinability and durability are easily exhibited.

(1)-3 モノマー3(脂環式構造含有モノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、分子内に脂環式構造を有するモノマー(脂環式構造含有モノマー)を含有することが好ましい。
この理由は、脂環式構造含有モノマーが分子構造上、嵩高いためで、これを共重合体中に存在させることにより、重合体同士の間隔を広げるものと推定される。その結果、得られる機械加工性向上層を柔軟性に優れたものとすることができるためである。
したがって、(メタ)アクリル酸エステル重合体がモノマー単位として脂環式構造含有モノマーを含有することにより、組成物を架橋させて得られる機械加工性向上層は、樹脂板への貼合性に優れたものとなる。
(1)-3 Monomer 3 (alicyclic structure-containing monomer)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) contains a monomer having an alicyclic structure in the molecule (alicyclic structure-containing monomer) as a monomer unit constituting the copolymer. is preferred.
The reason for this is that the alicyclic structure-containing monomer is bulky in terms of molecular structure, and it is presumed that the presence of this in the copolymer widens the distance between the polymers. As a result, the resulting machinability-improving layer can have excellent flexibility.
Therefore, when the (meth)acrylic acid ester polymer contains an alicyclic structure-containing monomer as a monomer unit, the machinability-improving layer obtained by cross-linking the composition has excellent bonding properties to the resin plate. It becomes a thing.

また、脂環式構造含有モノマーにおける脂環式構造の炭素環は、飽和構造のものであってもよいし、不飽和結合を一部に有するものであってもよい。
また、このような脂環式構造は、単環の脂環式構造であってもよいし、二環、三環等の多環の脂環式構造であってもよい。
得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体において重合体同士の間隔を広げ、機械加工性向上層の柔軟性を効果的に発揮させる観点から、上記の脂環式構造は、多環の脂環式構造(多環構造)であることが好ましい。
更に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体と他の成分との相溶性が良好であることから、上記の多環構造は、二環から四環であることが特に好ましい。
In addition, the carbon ring of the alicyclic structure in the alicyclic structure-containing monomer may have a saturated structure or may partially have an unsaturated bond.
Moreover, such an alicyclic structure may be a monocyclic alicyclic structure, or may be a polycyclic alicyclic structure such as bicyclic or tricyclic.
In the obtained (meth)acrylic acid ester copolymer, from the viewpoint of widening the distance between the polymers and effectively exhibiting the flexibility of the machinability-improving layer, the above alicyclic structure is a polycyclic alicyclic structure. A formula structure (polycyclic structure) is preferred.
Furthermore, the above polycyclic structure is particularly preferably bicyclic to tetracyclic, because the (meth)acrylic acid ester copolymer has good compatibility with other components.

また、上記と同様に粘着剤の柔軟性を効果的に発揮させる観点から、脂環式構造の炭素数(環を形成している部分の全ての炭素数を意味し、複数の環が独立して存在する場合には、その合計の炭素数を意味する)は、通常5以上であることが好ましく、7以上であることがより好ましい。
一方、脂環式構造の炭素数の上限は特に制限されないが、上記と同様に相溶性の観点から、15以下であることが好ましく、10以下であることがより好ましい。
In the same manner as described above, from the viewpoint of effectively exhibiting the flexibility of the adhesive, the number of carbon atoms in the alicyclic structure (meaning the number of all carbon atoms in the portion forming the ring, and (meaning the total number of carbon atoms, if present) is usually preferably 5 or more, more preferably 7 or more.
On the other hand, although the upper limit of the number of carbon atoms in the alicyclic structure is not particularly limited, it is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, from the viewpoint of compatibility as described above.

よって、脂環式構造含有モノマーに含まれる脂環式構造としては、例えば、シクロヘキシル骨格、ジシクロペンタジエン骨格、アダマンタン骨格、イソボルニル骨格、シクロアルカン骨格(シクロヘプタン骨格、シクロオクタン骨格、シクロノナン骨格、シクロデカン骨格、シクロウンデカン骨格、シクロドデカン骨格等)、シクロアルケン骨格(シクロヘプテン骨格、シクロオクテン骨格等)、ノルボルネン骨格、ノルボルナジエン骨格、キュバン骨格、バスケタン骨格、ハウサン骨格、スピロ骨格などの少なくとも一つが挙げられる。 Therefore, the alicyclic structure contained in the alicyclic structure-containing monomer includes, for example, a cyclohexyl skeleton, a dicyclopentadiene skeleton, an adamantane skeleton, an isobornyl skeleton, a cycloalkane skeleton (cycloheptane skeleton, cyclooctane skeleton, cyclononane skeleton, cyclodecane skeleton, cycloundecane skeleton, cyclododecane skeleton, etc.), cycloalkene skeleton (cycloheptene skeleton, cyclooctene skeleton, etc.), norbornene skeleton, norbornadiene skeleton, cubane skeleton, basketane skeleton, hausan skeleton, spiro skeleton, and the like.

そして、これらの中でも、より優れた耐久性を得る観点から、ジシクロペンタジエン骨格(脂環式構造の炭素数:10)、アダマンタン骨格(脂環式構造の炭素数:10)又はイソボルニル骨格(脂環式構造の炭素数:7)を含むものが好ましく、イソボルニル骨格を含むものがより好ましい。
したがって、上記の脂環式構造含有モノマーとしては、上記の骨格を含む(メタ)アクリル酸エステルモノマーが好ましい。具体的には、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル等の少なくとも一つが挙げられる。
その上、これらの中でも、より優れた耐久性を得る観点から、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル又は(メタ)アクリル酸イソボルニルが好ましく、(メタ)アクリル酸イソボルニルがより好ましく、アクリル酸イソボルニルが特に好ましい。
Among these, from the viewpoint of obtaining more excellent durability, a dicyclopentadiene skeleton (the number of carbon atoms in the alicyclic structure: 10), an adamantane skeleton (the number of carbon atoms in the alicyclic structure: 10) or an isobornyl skeleton (alicyclic structure) Those containing 7 carbon atoms in the cyclic structure are preferred, and those containing an isobornyl skeleton are more preferred.
Therefore, as the alicyclic structure-containing monomer, a (meth)acrylic acid ester monomer containing the above skeleton is preferable. Specifically, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid At least one of dicyclopentenyloxyethyl and the like is included.
Moreover, among these, dicyclopentanyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, or isobornyl (meth)acrylate are preferred from the viewpoint of obtaining better durability, and isobornyl (meth)acrylate is preferred. More preferred, isobornyl acrylate is particularly preferred.

また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、当該共重合体を構成するモノマー単位として、モノマーの全体量に対して、脂環式構造含有モノマーを1重量%以上含有することが好ましく、4重量%以上含有することがより好ましく、8重量%以上含有することが更に好ましい。
同様に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、脂環式構造含有モノマーを40重量%以下含有することが好ましく、30重量%以下含有することがより好ましく、24重量%以下含有することが更に好ましく、耐久性をより優れたものにする観点においては、18重量%以下含有することが特に好ましい。
このように脂環式構造含有モノマーの含有量が上記の範囲内であることにより、得られる機械加工性向上層の柔軟性が良好となり、樹脂板への貼合性がより優れたものとなるため、所望の粘着力の値をより満たし易くなり、良好な耐久性を発揮し易くなるためである。
In addition, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of an alicyclic structure-containing monomer with respect to the total amount of monomers as a monomer unit constituting the copolymer. It is more preferably contained in an amount of 8% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more.
Similarly, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 40% by weight or less of an alicyclic structure-containing monomer as a monomer unit constituting the copolymer, and may contain 30% by weight or less. More preferably, it is contained in an amount of 24% by weight or less, and particularly preferably in an amount of 18% by weight or less from the viewpoint of improving durability.
When the content of the alicyclic structure-containing monomer is within the above range, the resulting machinability-improving layer has good flexibility and can be laminated to a resin plate more excellently. Therefore, it becomes easier to satisfy the desired adhesive strength value, and it becomes easier to exhibit good durability.

(1)-4 モノマー4(窒素原子含有モノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、分子内に窒素原子を有するモノマー(窒素原子含有モノマー)を含有することが好ましい。
なお、反応性基含有モノマーとして例示したアミノ基含有モノマーは、当該窒素原子含有モノマーから除かれる。窒素原子含有モノマーを構成単位として共重合体中に存在させることにより、アクリル酸エステル共重合体と熱硬化性成分(B)との反応を促進させることができ、機械加工性向上層に極性を付与し、機械加工性向上層の凝集力を高めることができる。
(1)-4 Monomer 4 (nitrogen atom-containing monomer)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) preferably contains a monomer having a nitrogen atom in its molecule (nitrogen atom-containing monomer) as a monomer unit constituting the copolymer.
The amino group-containing monomers exemplified as reactive group-containing monomers are excluded from the nitrogen atom-containing monomers. By allowing the nitrogen atom-containing monomer to be present in the copolymer as a structural unit, the reaction between the acrylic acid ester copolymer and the thermosetting component (B) can be promoted, and the machinability improving layer has polarity. It can be added to increase the cohesive strength of the machinability-enhancing layer.

上記の窒素原子含有モノマーとしては、第3級アミノ基を有するモノマー、アミド基を有するモノマー、窒素含有複素環を有するモノマーなどが挙げられる。これらの中でも、窒素含有複素環を有するモノマーが好ましい。
かかる窒素含有複素環を有するモノマーとしては、例えば、N-(メタ)アクリロイルモルフォリン、N-ビニル-2-ピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-(メタ)アクリロイルアジリジン、アジリジニルエチル(メタ)アクリレート、2-ビニルピリジン、4-ビニルピリジン、2-ビニルピラジン、1-ビニルイミダゾール、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルフタルイミド等の少なくとも一つが挙げられる。
そして、これらの中でも、より優れた粘着力を得る観点から、N-(メタ)アクリロイルモルフォリンが好ましく、N-アクリロイルモルフォリンがより好ましいと言える。
Examples of the nitrogen atom-containing monomers include monomers having a tertiary amino group, monomers having an amide group, and monomers having a nitrogen-containing heterocyclic ring. Among these, monomers having a nitrogen-containing heterocyclic ring are preferred.
Monomers having such a nitrogen-containing heterocyclic ring include, for example, N-(meth)acryloylmorpholine, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-(meth)acryloylpyrrolidone, N-(meth)acryloylpiperidine, N-(meth) ) acryloylpyrrolidine, N-(meth)acryloylaziridine, aziridinylethyl (meth)acrylate, 2-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyrazine, 1-vinylimidazole, N-vinylcarbazole, N-vinylphthalimide At least one such as
Among these, N-(meth)acryloylmorpholine is preferred, and N-acryloylmorpholine is more preferred, from the viewpoint of obtaining superior adhesive strength.

また、上述の窒素含有複素環を有するモノマー以外の窒素原子含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-tert-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-エチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-フェニル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ビニルカプロラクタム、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル等の少なくとも一つが挙げられる。 Examples of nitrogen atom-containing monomers other than the above-mentioned nitrogen-containing heterocyclic ring-containing monomers include (meth)acrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-tert-butyl (meth)acrylamide, ) acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N,N-ethyl (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N-phenyl (meth)acrylamide , dimethylaminopropyl (meth)acrylamide, N-vinylcaprolactam, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and the like.

そして、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、モノマー成分の全体量に対して、窒素原子含有モノマーを1重量%以上含有することが好ましく、2重量%以上含有することがより好ましく、4重量%以上含有することが更に好ましい。
また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、窒素原子含有モノマーを40重量%以下含有することが好ましく、30重量%以下含有することがより好ましく、20重量%以下含有することが更に好ましく、耐久性をより優れたものにすることから、10重量%以下の含有にすることが特に好ましい。
これは、このように窒素原子含有モノマーの含有量が上記の範囲内にあることで、得られる機械加工性向上層の凝集力が効果的に向上し、所望の貯蔵弾性率の値を満たし易くなり、耐久性が優れたものとなるためである。
Then, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of the nitrogen atom-containing monomer, more preferably 2% by weight or more, relative to the total amount of the monomer components, and 4% by weight. % or more is more preferable.
Further, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 40% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, of a nitrogen atom-containing monomer as a monomer unit constituting the copolymer. It is more preferably contained in an amount of 20% by weight or less, and is particularly preferably contained in an amount of 10% by weight or less in order to improve the durability.
This is because when the content of the nitrogen atom-containing monomer is within the above range, the cohesive force of the obtained machinability-improving layer is effectively improved, and the desired value of storage elastic modulus can be easily satisfied. It is because it becomes a thing excellent in durability.

(1)-5 モノマー5(その他のモノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、必要に応じて、当該共重合体を構成するモノマー単位として、上述したモノマー成分とは異なる他のモノマーを含有するのが好ましい。
このような他のモノマーとしては、反応性を有する官能基を含まないモノマーが好ましい。
すなわち、例えば、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、酢酸ビニル、スチレンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重合態様は、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよい。
(1)-5 Monomer 5 (other monomers)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main component (A) preferably contains other monomers different from the monomer components described above as monomer units constituting the copolymer, if necessary.
As such other monomers, monomers containing no reactive functional groups are preferred.
Examples include alkoxyalkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate, vinyl acetate, and styrene. These may be used alone or in combination of two or more.
The polymerization mode of the (meth)acrylic acid ester copolymer may be a random copolymer or a block copolymer.

(1)-6 重量平均分子量
機械加工性向上層14を構成する主剤(A)が、(メタ)アクリル酸エステル共重合体である場合、その重量平均分子量(Mw)を5万~250万の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が5万未満の値になると、凝集力が低下して、樹脂板から剥離したり、接着性が著しく低下したりする場合があるためである。
一方、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が250万を超えた値になると、取り扱いが困難になったり、樹脂板への貼合性が低下したりする場合があるためである。
したがって、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量を10万~180万の範囲の値とすることがより好ましく、20~120万の範囲の値とすることが特に好ましく、30~80万の範囲の値とすることが更に好ましい。
なお、機械加工性向上層の主剤の重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)によって、予め作成してある標準ポリスチレン粒子に対する検量線と対比して求めることができる。
(1)-6 Weight Average Molecular Weight When the main agent (A) constituting the machinability improving layer 14 is a (meth)acrylic acid ester copolymer, the weight average molecular weight (Mw) is 50,000 to 2,500,000. A value within the range is preferred.
The reason for this is that when the weight-average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer is less than 50,000, the cohesive force is reduced, which may lead to peeling from the resin plate or markedly reduced adhesion. Because there is
On the other hand, if the weight-average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer exceeds 2,500,000, it may become difficult to handle or the adhesion to the resin plate may deteriorate. .
Therefore, the weight average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer is more preferably in the range of 100,000 to 1,800,000, particularly preferably in the range of 200,000 to 1,200,000. A value in the range of 10,000 is more preferable.
The weight-average molecular weight of the main component of the machinability-improving layer can be determined by GPC (gel permeation chromatography) by comparing with a previously prepared calibration curve for standard polystyrene particles.

(1)-7 (メタ)アクリル酸エステル共重合体の重合
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマーの混合物を、通常のラジカル重合法で重合することにより製造することができる。
かかる(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重合は、所望により重合開始剤を使用して、溶液重合法等により行うことができる。
重合溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン等が挙げられ、2種類以上を併用してもよい。
(1)-7 Polymerization of (meth)acrylic acid ester copolymer The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) is obtained by polymerizing a mixture of monomers constituting the polymer by a normal radical polymerization method. It can be produced by polymerization.
Polymerization of such a (meth)acrylic acid ester copolymer can be carried out by a solution polymerization method or the like using a polymerization initiator if desired.
Examples of the polymerization solvent include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, toluene, acetone, hexane, and methyl ethyl ketone, and two or more of them may be used in combination.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体を重合する際の重合開始剤としては、アゾ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、2種類以上を併用してもよい。
より具体的に、アゾ系化合物としては、例えば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1'-アゾビス(シクロヘキサン1-カルボニトリル)、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、4,4'-アゾビス(4-シアノバレリック酸)、2,2'-アゾビス(2-ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2'-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]等が挙げられる。
Examples of the polymerization initiator for polymerizing the (meth)acrylic acid ester copolymer include azo compounds and organic peroxides, and two or more of them may be used in combination.
More specifically, the azo compounds include, for example, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis(cyclohexane 1- carbonitrile), 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobis(2- methyl propionate), 4,4′-azobis(4-cyanovaleric acid), 2,2′-azobis(2-hydroxymethylpropionitrile), 2,2′-azobis[2-(2-imidazoline -2-yl)propane] and the like.

また、有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、t-ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2-エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5-トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等が挙げられる。
なお、上記重合工程において、2-メルカプトエタノール等の連鎖移動剤を配合することにより、得られる重合体の重量平均分子量を所望の値に調節することができる。
Examples of organic peroxides include benzoyl peroxide, t-butylperbenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropylperoxydicarbonate, di-n-propylperoxydicarbonate, and di(2-ethoxyethyl). peroxydicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxybivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dipropionyl peroxide, diacetyl peroxide and the like.
In addition, in the polymerization step, the weight average molecular weight of the obtained polymer can be adjusted to a desired value by blending a chain transfer agent such as 2-mercaptoethanol.

(2)熱硬化性成分(B)
熱硬化性成分(B)を含有する組成物を加熱すると、当該熱硬化性成分(B)は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と架橋反応し、架橋構造(三次元網目構造)を形成する。これにより、被膜強度の比較的高い機械加工性向上層を得ることができる。
このような熱硬化性成分(B)の種類としては、主剤(A)(例えば、(メタ)アクリル酸エステル共重合体等)と反応するものであればよく、好ましくは、組成物の主剤(A)に導入されてなる反応性基(例えば、水酸基やカルボキシ基等)と反応するものであればよい。
したがって、熱硬化性成分(B)として、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アミン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、ヒドラジン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、アンモニウム塩系架橋剤等の少なくとも一つが挙げられる。
これら熱硬化性成分(B)の種類は、主剤(A)が有する反応性基の反応性に応じて選択すればよい。
例えば、主剤(A)が有する反応性基が水酸基の場合、水酸基との反応性に優れたイソシアネート系架橋剤を配合することが好ましい。
また、主剤(A)が有する反応性基がカルボキシ基の場合、カルボキシ基との反応性に優れたエポキシ系架橋剤を使用することが好ましい。
なお、熱硬化性成分(B)は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(2) thermosetting component (B)
When the composition containing the thermosetting component (B) is heated, the thermosetting component (B) undergoes a cross-linking reaction with the (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) to form a cross-linked structure (tertiary form a network structure). As a result, a machinability-enhancing layer having a relatively high coating strength can be obtained.
The type of such a thermosetting component (B) may be any one that reacts with the main component (A) (e.g., (meth)acrylic acid ester copolymer, etc.), preferably the main component of the composition ( Any material can be used as long as it reacts with a reactive group (for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, etc.) introduced into A).
Therefore, as the thermosetting component (B), for example, isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, amine-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, hydrazine-based cross-linking agents, aldehyde-based cross-linking agents, oxazoline-based At least one of a cross-linking agent, a metal alkoxide cross-linking agent, a metal chelate cross-linking agent, a metal salt cross-linking agent, an ammonium salt cross-linking agent and the like can be used.
The type of these thermosetting components (B) may be selected according to the reactivity of the reactive groups of the main component (A).
For example, when the reactive group of the main agent (A) is a hydroxyl group, it is preferable to blend an isocyanate-based cross-linking agent having excellent reactivity with the hydroxyl group.
Moreover, when the reactive group which the main agent (A) has is a carboxy group, it is preferable to use an epoxy-based cross-linking agent having excellent reactivity with the carboxy group.
In addition, a thermosetting component (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

また、イソシアネート系架橋剤は、少なくともポリイソシアネート化合物を含むものが好適である。
ここで、ポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネートなど、及びそれらのビウレット体、イソシアヌレート体、更にはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などが挙げられる。これらの中でも水酸基との反応性の観点から、トリメチロールプロパン変性の芳香族ポリイソシアネート、特にトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート及びトリメチロールプロパン変性キシリレンジイソシアネートの少なくとも一つであることが好ましい。
Moreover, the isocyanate-based cross-linking agent preferably contains at least a polyisocyanate compound.
Examples of polyisocyanate compounds include aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate; Polyisocyanates, etc., their biuret forms, isocyanurate forms, and adduct forms which are reaction products with low-molecular weight active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, castor oil, etc. mentioned. Among these, from the viewpoint of reactivity with hydroxyl groups, at least one of trimethylolpropane-modified aromatic polyisocyanate, particularly trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate and trimethylolpropane-modified xylylene diisocyanate is preferred.

また、エポキシ系架橋剤としては、例えば、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等の少なくとも一つが挙げられる。
これらの中でもカルボキシ基との反応性の観点から、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサンが特に好適である。
Examples of epoxy-based cross-linking agents include 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, ethylene glycol di At least one of glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, diglycidylaniline, diglycidylamine and the like can be mentioned.
Among these, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane is particularly preferred from the viewpoint of reactivity with carboxy groups.

また、熱硬化性成分(B)の配合量を、主剤(A)100重量部に対して、0.05~10重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる熱硬化性成分(B)の配合量が0.05重量部未満の値になると、主剤に導入された水酸基やカルボキシ基との反応性が著しく低下して、得られる機械加工性向上層の所望の凝集力を得ることができず、所定の粘着性を発揮することができない場合があるためである。その結果、機械加工性向上層が樹脂板から剥離したり、接着性が著しく低下したりする場合がある。
一方、かかる熱硬化性成分(B)の配合量が10重量部を超えた値になると、主剤(A)に導入された水酸基やカルボキシ基と過度に反応して、得られる機械加工性向上層の凝集力が高くなりすぎて、粘着性が著しく低下したりする場合がある。
したがって、主剤(A)100重量部に対して、熱硬化性成分(B)の配合量を0.1~5重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、0.3~1重量部の範囲内の値とすることが更に好ましい。
Moreover, it is preferable to set the amount of the thermosetting component (B) to be within the range of 0.05 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component (A).
The reason for this is that when the amount of the thermosetting component (B) is less than 0.05 parts by weight, the reactivity with the hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the main agent is significantly reduced, resulting in machining. This is because the desired cohesive strength of the property-enhancing layer cannot be obtained, and the desired adhesiveness cannot be exhibited in some cases. As a result, the machinability-enhancing layer may be peeled off from the resin plate, or the adhesiveness may be remarkably lowered.
On the other hand, when the amount of the thermosetting component (B) exceeds 10 parts by weight, it excessively reacts with the hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the main component (A), resulting in a machinability-improving layer. The cohesive force of becomes too high, and the adhesiveness may be remarkably lowered.
Therefore, it is more preferable that the amount of the thermosetting component (B) is in the range of 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.3 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the main agent (A). It is more preferable to set the value within the range of

(3)活性エネルギー線硬化性成分(C)
本実施形態における機械加工性向上層は、活性エネルギー線硬化性成分(C)を含有していることが好ましい。
このような機械加工性向上層を、被着体(樹脂板)に貼付後に、活性エネルギー線が照射されると、後述する光重合開始剤(D)の開裂を契機として、活性エネルギー線硬化性成分(C)の重合が促進される。
その重合した活性エネルギー線硬化性成分(C)は、主剤(A)及び熱硬化性成分(B)の熱架橋により形成された架橋構造(三次元網目構造)に絡み付くものと推定される。
したがって、このような高次構造を有する機械加工性向上層は、所望の粘着力の値を満たし易くなり、高温高湿条件下での耐久性に優れたものとなるとともに、所望の貯蔵弾性率の値を満たし易くなり、切削性に優れたものとなる。
(3) Active energy ray-curable component (C)
The machinability improving layer in the present embodiment preferably contains an active energy ray-curable component (C).
When such a machinability-improving layer is applied to an adherend (resin plate) and then irradiated with an active energy ray, cleavage of the photopolymerization initiator (D), which will be described later, is triggered, resulting in an active energy ray-curing property. Polymerization of component (C) is accelerated.
It is presumed that the polymerized active energy ray-curable component (C) is entwined with the crosslinked structure (three-dimensional network structure) formed by thermally cross-linking the main agent (A) and the thermosetting component (B).
Therefore, the machinability-improving layer having such a higher-order structure easily satisfies the desired adhesive strength value, exhibits excellent durability under high-temperature and high-humidity conditions, and has a desired storage elastic modulus. It becomes easy to satisfy the value of, and it becomes excellent in machinability.

ここで、活性エネルギー線硬化性成分(C)としては、活性エネルギー線照射によって硬化反応を生じさせ、上記の効果が得られる成分であれば特に制限されるものではない。
また、活性エネルギー線硬化性成分(C)は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよいし、それらの混合物であってもよい。
これらの中でも、主剤(A)等との相溶性に優れる重量平均分子量が1,000未満の多官能アクリレート系モノマーが好ましい。
Here, the active energy ray-curable component (C) is not particularly limited as long as it causes a curing reaction upon exposure to active energy ray and provides the above effects.
Moreover, the active energy ray-curable component (C) may be a monomer, an oligomer, a polymer, or a mixture thereof.
Among these, polyfunctional acrylate-based monomers having a weight average molecular weight of less than 1,000, which are excellent in compatibility with the main agent (A) and the like, are preferred.

より具体的には、重量平均分子量が1000未満の多官能アクリレート系モノマーとしては、反応性官能基を2~6個有するアクリレート系モノマーが好ましい。
ここで、反応性官能基を2個有するアクリレート系モノマーとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、ジ(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の少なくとも一つが挙げられる。
More specifically, the polyfunctional acrylate monomer having a weight average molecular weight of less than 1000 is preferably an acrylate monomer having 2 to 6 reactive functional groups.
Examples of acrylate-based monomers having two reactive functional groups include 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, Acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol adipate di(meth)acrylate, neopentylglycol hydroxypivalate di(meth)acrylate, dicyclopentanyl di(meth)acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di(meth)acrylate ) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid di(meth)acrylate, di(acryloxyethyl) isocyanurate, allylated cyclohexyl di(meth)acrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, 9,9-bis[4-(2-acryloyl At least one of oxyethoxy)phenyl]fluorene and the like can be mentioned.

また、反応性官能基を3個有するアクリレート系モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-(メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート等の少なくとも一つが挙げられる。 Examples of acrylate-based monomers having three reactive functional groups include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate. At least one of meth)acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tris(acryloxyethyl)isocyanurate, ε-caprolactone-modified tris-(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate, etc. .

更に、反応性官能基を4個有するアクリレート系モノマーとしては、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
反応性官能基を5個有するアクリレート系モノマーとしては、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の少なくとも一つが挙げられる。
反応性官能基を6個有するアクリレート系モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の少なくとも一つが挙げられる。
Furthermore, examples of acrylate-based monomers having four reactive functional groups include diglycerin tetra(meth)acrylate and pentaerythritol tetra(meth)acrylate.
Examples of the acrylate-based monomer having five reactive functional groups include at least one such as propionic acid-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate.
Examples of the acrylate-based monomer having six reactive functional groups include at least one of dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and the like.

これらの中でも、機械加工性向上層の耐久性の観点から、反応性官能基を3~6個有するアクリレート系モノマーが特に好ましい。
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-(メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレートが特に好ましい。
Among these, acrylate-based monomers having 3 to 6 reactive functional groups are particularly preferable from the viewpoint of durability of the machinability-improving layer.
Specifically, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and ε-caprolactone-modified tris-(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate are particularly preferred.

また、活性エネルギー線硬化性成分(C)としては、活性エネルギー線硬化型のアクリレート系オリゴマーを用いることも好ましい。
このようなアクリレート系オリゴマーの例としては、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリブタジエンアクリレート系、シリコーンアクリレート系等の少なくとも一つが挙げられる。
そして、このようなアクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は、50000以下であることが好ましく、500~50000であることがより好ましく、3000~40000であることが更に好ましい。
As the active energy ray-curable component (C), it is also preferable to use an active energy ray-curable acrylate-based oligomer.
Examples of such acrylate oligomers include at least one of polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polybutadiene acrylate, silicone acrylate, and the like.
The weight average molecular weight of such an acrylate oligomer is preferably 50,000 or less, more preferably 500 to 50,000, even more preferably 3,000 to 40,000.

また、活性エネルギー線硬化性成分(C)としては、(メタ)アクリロイル基を有する基が側鎖に導入されたアダクトアクリレート系ポリマーを用いることも好ましい。
このようなアダクトアクリレート系ポリマーは、(メタ)アクリル酸エステルと、分子内に架橋性官能基を有する単量体との共重合体を用い、当該共重合体の架橋性官能基の一部に、(メタ)アクリロイル基及び架橋性官能基と反応する基を有する化合物を反応させることにより得ることができる。
上記のアダクトアクリレート系ポリマーの重量平均分子量は、5万~90万程度であることが好ましく、10万~50万程度であることがより好ましい。
Moreover, as the active energy ray-curable component (C), it is also preferable to use an adduct acrylate polymer in which a group having a (meth)acryloyl group is introduced into the side chain.
Such an adduct acrylate polymer uses a copolymer of a (meth)acrylic acid ester and a monomer having a crosslinkable functional group in the molecule, and a part of the crosslinkable functional group of the copolymer is , (meth)acryloyl group and a compound having a group reactive with a crosslinkable functional group.
The weight average molecular weight of the adduct acrylate polymer is preferably about 50,000 to 900,000, more preferably about 100,000 to 500,000.

本実施形態において、活性エネルギー線硬化性成分(C)は、前述した多官能アクリレート系モノマーを用いることが好ましいが、多官能アクリレート系モノマー、アクリレート系オリゴマー及びアダクトアクリレート系ポリマーから、1種を選んで用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよいし、これらの成分と他の活性エネルギー線硬化性成分とを組み合わせて用いてもよい。 In the present embodiment, the active energy ray-curable component (C) is preferably the polyfunctional acrylate-based monomer described above, and one type is selected from the polyfunctional acrylate-based monomer, acrylate-based oligomer, and adduct acrylate-based polymer. or two or more of them may be used in combination, or these components may be used in combination with other active energy ray-curable components.

そして、活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量を、通常、主剤(A)100重量部に対して、1~50重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量が、1重量部未満の値になると、反応性が乏しくなって、良好な機械加工処理性が得られない場合があるためである。
一方、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量が、50重量部を超えると、逆に反応性が制御できずに、主剤(A)と過度に反応し、架橋構造が密になり過ぎてしまい、粘着力が低下して良好な耐久性が得られない場合があるためである。
したがって、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量の下限を、主剤(A)100重量部に対して、3重量部以上とすることが好ましく、6重量部以上とすることが特に好ましく、10重量部以上とすることが更に好ましい。
一方、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量の上限を、30重量部以下とすることが好ましく、20重量部以下とすることが特に好ましく、13重量部以下とすることが更に好ましい。
The amount of active energy ray-curable component (C) to be blended is generally preferably in the range of 1 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of main component (A).
The reason for this is that if the amount of the active energy ray-curable component (C) is less than 1 part by weight, the reactivity may be poor and good machinability may not be obtained. be.
On the other hand, if the amount of the active energy ray-curable component (C) exceeds 50 parts by weight, the reactivity cannot be controlled and the component reacts excessively with the main component (A), resulting in a dense crosslinked structure. This is because there is a case where the adhesive strength is lowered and good durability cannot be obtained.
Therefore, the lower limit of the amount of the active energy ray-curable component (C) is preferably 3 parts by weight or more, particularly preferably 6 parts by weight or more, with respect to 100 parts by weight of the main component (A). , 10 parts by weight or more.
On the other hand, the upper limit of the amount of the active energy ray-curable component (C) is preferably 30 parts by weight or less, particularly preferably 20 parts by weight or less, and further preferably 13 parts by weight or less. .

(4)光重合開始剤(D)
活性エネルギー線の照射によって、活性エネルギー線硬化性成分(C)を効率的に硬化できることから、所望により光重合開始剤(D)を含有することが好ましい。
(4) Photoinitiator (D)
Since the active energy ray-curable component (C) can be efficiently cured by irradiation with an active energy ray, it is preferable to contain a photopolymerization initiator (D) as desired.

このような光重合開始剤(D)としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-プロパン-1-オン、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル-2(ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p-フェニルベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-ターシャリーブチルアントラキノン、2-アミノアントラキノン、2-メチルチオキサントン、2-エチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p-ジメチルアミン安息香酸エステル、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等の少なくとも一つが挙げられる。 Examples of such photoinitiators (D) include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2 -phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio ) Phenyl]-2-morpholino-propan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-2(hydroxy-2-propyl)ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, dichloro Benzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4- Diethylthioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamine benzoate, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide At least one such as

これらの中でも、活性エネルギー線として紫外線を使用する場合、紫外線吸収波長領域外にも吸収波長を有する光重合開始剤(D)を含有することが好ましく、中でも紫外線領域よりも長波長側(380nm以上)に吸収波長を有する光重合開始剤(D)を含有することがより好ましく、特に380nm~410nmの波長領域に吸収波長を有する光重合開始剤(D)を含有することが好ましく、具体的には2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドやビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等を含有することが好ましい。
この理由は、以下のとおりである。
タッチパネル等を備えるモバイル電子機器等は屋外で多く使用されるため、その構成部材は紫外線の影響により劣化してしまう問題がある。
この問題を解決するため、紫外線吸収性能を有する部材(紫外線遮蔽部材)を電子機器内に組み込むことによって、紫外線の影響による劣化を抑制する手法がとられることがある。
このように紫外線遮蔽部材を電子機器内に組み込んで、紫外線遮蔽部材側から紫外線を照射する場合において、機械加工性向上層に紫外線吸収波長領域外に吸収波長を有さない光重合開始剤(D)を使用すると、紫外線が紫外線遮蔽部材に遮蔽されてしまい機械加工性向上層の硬化ができなくなる。
逆に言えば、このような場合において、機械加工性向上層に紫外線吸収波長領域外にも吸収波長を有する光重合開始剤(D)を使用すれば、紫外線吸収波長領域外の波長を利用して十分に硬化をすることができるためである。
Among these, when ultraviolet rays are used as the active energy ray, it is preferable to contain a photopolymerization initiator (D) having an absorption wavelength outside the ultraviolet absorption wavelength region, and among them, the wavelength side (380 nm or more) longer than the ultraviolet region ) more preferably contains a photopolymerization initiator (D) having an absorption wavelength in the wavelength region of 380 nm to 410 nm. preferably contains 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and the like.
The reason for this is as follows.
Since mobile electronic devices equipped with touch panels and the like are often used outdoors, there is a problem that their constituent members deteriorate due to the influence of ultraviolet rays.
In order to solve this problem, a method of suppressing deterioration due to the influence of ultraviolet rays may be taken by incorporating a member having ultraviolet absorption performance (ultraviolet shielding member) into the electronic device.
When the ultraviolet shielding member is incorporated in an electronic device in this way and ultraviolet rays are irradiated from the side of the ultraviolet shielding member, the machinability improving layer contains a photopolymerization initiator (D ), the ultraviolet rays are blocked by the ultraviolet shielding member, making it impossible to cure the machinability improving layer.
Conversely, in such a case, if a photopolymerization initiator (D) having an absorption wavelength outside the ultraviolet absorption wavelength region is used in the machinability improving layer, wavelengths outside the ultraviolet absorption wavelength region can be used. This is because it is possible to sufficiently harden the resin.

そして、光重合開始剤(D)の配合量としては、活性エネルギー線硬化性成分(C)100重量部に対して、0.5~25重量部の範囲内の値とすることが好ましく、2~20重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、5~15重量部の範囲内の値とすることが更に好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator (D) is preferably within the range of 0.5 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable component (C). A value in the range of up to 20 parts by weight is more preferable, and a value in the range of 5 to 15 parts by weight is even more preferable.

(5)シランカップリング剤(E)
機械加工性向上層を形成するための組成物は、更にシランカップリング剤(E)を含有することも好ましい。
これにより、被着体にガラス部材や樹脂部材が含まれている場合、機械加工性向上層と、被着体との密着性が向上するためである。
したがって、シランカップリング剤(E)を含有する機械加工性向上層は、高温高湿条件下での耐久性により優れたものとなる。
(5) Silane coupling agent (E)
The composition for forming the machinability-improving layer preferably further contains a silane coupling agent (E).
This is because, when the adherend includes a glass member or a resin member, the adhesion between the machinability improving layer and the adherend is improved.
Therefore, the machinability-enhancing layer containing the silane coupling agent (E) is more excellent in durability under high-temperature and high-humidity conditions.

ここで、シランカップリング剤(E)の種類として、分子内にアルコキシシリル基を少なくとも1個有する有機ケイ素化合物であって、光透過性を有するものが好ましい。
このようなシランカップリング剤(E)としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の重合性不飽和基含有ケイ素化合物;3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ構造を有するケイ素化合物;3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン等のメルカプト基含有ケイ素化合物;3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有ケイ素化合物;3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、あるいはこれらの少なくとも1つと、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等のアルキル基含有ケイ素化合物との縮合物などが挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Here, as the type of silane coupling agent (E), an organosilicon compound having at least one alkoxysilyl group in the molecule and having optical transparency is preferred.
Examples of such silane coupling agents (E) include polymerizable unsaturated group-containing silicon compounds such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane; 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane; silicon compounds having an epoxy structure such as silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane; 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyldimethoxymethylsilane Mercapto group-containing silicon compound; amino such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane Group-containing silicon compound; 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, or at least one of these and alkyl such as methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane Examples include condensates with group-containing silicon compounds. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

また、シランカップリング剤(E)の配合量を、主剤(A)100重量部に対して、通常、0.01~5重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるシランカップリング剤(E)の配合量が0.01重量部未満の値になると、配合効果が得られにくい場合があるためである。
一方、かかるシランカップリング剤(E)の配合量が5重量部を超えた値になると、かかるシランカップリング剤(E)に起因して、主剤(A)に導入された水酸基やカルボキシ基と、熱硬化性成分(B)とが過度に反応して、粘着性が、著しく低下したりする場合があるためである。
したがって、シランカップリング剤(E)の配合量を、主剤(A)100重量部に対して、0.1~3重量部の範囲内の値とすることが好ましく、0.2~1重量部の範囲内の値とすることが更に好ましい。
Also, the amount of the silane coupling agent (E) to be blended is preferably within the range of 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the main agent (A).
The reason for this is that if the amount of the silane coupling agent (E) to be blended is less than 0.01 part by weight, it may be difficult to obtain the blending effect.
On the other hand, when the amount of the silane coupling agent (E) exceeds 5 parts by weight, the silane coupling agent (E) causes the hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the main agent (A) to , and the thermosetting component (B) may react excessively, resulting in a significant decrease in adhesiveness.
Therefore, the compounding amount of the silane coupling agent (E) is preferably set to a value within the range of 0.1 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main agent (A), and 0.2 to 1 part by weight. It is more preferable to set the value within the range of

(6)添加剤
機械加工性向上層の機械加工性向上性や機械特性等を更に改良すべく、上述したシランカップリング剤(E)以外に、無機フィラー、有機フィラー、無機繊維、有機繊維、導電性材料、電気絶縁性材料、金属イオン捕捉剤、軽量化剤、増粘剤、充填剤、研磨剤、着色剤、酸化防止剤、加水分解防止剤、紫外線吸収剤等の少なくとも一つの公知の添加剤を、配合することも好ましい。
そして、これらの公知の添加剤を配合する場合、その配合量を、通常、主剤(A)の全体量(100重量%)に対して、0.1~50重量%の範囲内の値とすることが好ましく、0.5~30重量%の範囲内の値とすることがより好ましい。
(6) Additives In order to further improve the machinability-enhancing properties and mechanical properties of the machinability-enhancing layer, in addition to the silane coupling agent (E) described above, inorganic fillers, organic fillers, inorganic fibers, organic fibers, At least one of known conductive materials, electrically insulating materials, metal ion scavengers, lightening agents, thickeners, fillers, abrasives, coloring agents, antioxidants, hydrolysis inhibitors, ultraviolet absorbers, etc. Additives are also preferably added.
When these known additives are blended, the blending amount is usually set to a value within the range of 0.1 to 50% by weight with respect to the total amount (100% by weight) of the main agent (A). is preferred, and a value within the range of 0.5 to 30% by weight is more preferred.

(7)厚さ
機械加工性向上層の厚さを、3~40μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる械加工性向上層の厚さが3μm未満の値となると、所望の粘着性を発現できず、樹脂板への貼合性や耐久性が悪化する傾向があるためである。
一方、かかる機械加工性向上層の厚さが40μmを超えた値になると、切削性が悪化する場合や、活性エネルギー線照射前後における、粘着力等を所望範囲内の値に調整することが困難になる場合があるためである。
したがって、機械加工性向上層の厚さを、8~30μmの範囲内の値とすることがより好ましく、10~20μmの範囲内の値とすることが更に好ましい。
(7) Thickness It is preferable to set the thickness of the machinability improving layer to a value within the range of 3 to 40 μm.
The reason for this is that if the thickness of the machinability-improving layer is less than 3 μm, the desired adhesiveness cannot be exhibited, and there is a tendency for the adhesion to the resin plate and the durability to deteriorate.
On the other hand, if the thickness of the machinability-improving layer exceeds 40 μm, the machinability may deteriorate, or it may be difficult to adjust the adhesive strength, etc., within the desired range before and after the active energy ray irradiation. This is because it may become
Therefore, the thickness of the machinability-enhancing layer is more preferably in the range of 8 to 30 μm, more preferably in the range of 10 to 20 μm.

3.所定基材
所定基材の種類は特に制限されるものでないが、通常、機能性フィルムや剥離フィルムが典型的である。
3. Predetermined Base Material Although the type of the predetermined base material is not particularly limited, functional films and release films are typically typical.

所定基材が機能性フィルムである場合、その種類としては、タッチパネルにおける加飾フィルム、液晶表示装置における偏向フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、光制御フィルム、防眩性フィルム、光触媒性フィルム、紫外線遮蔽フィルム、遮熱性フィルム、帯電防止フィルム、導電性フィルム、ハーフミラーフィルム、ハードコートフィルム、装飾フィルム、ホログラフフィルム性等の少なくとも一つが挙げられる。
上述した各種機能性フィルムは、PETフィルム、PENフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、あるいはTACフィルム等の表面に、各種機能(加飾性、光偏光性、光位相性、光拡散性、光制御性、防眩性、紫外線遮蔽、遮熱性、帯電防止性、導電性、ハーフミラー性、ハードコート性、装飾性、ホログラフ性等)を付与するための機能層を表面又は内部に備えており、これらは目的に応じて適宜選択される。
When the predetermined substrate is a functional film, its types include decorative films in touch panels, polarizing films in liquid crystal displays, retardation films, light diffusion films, light control films, antiglare films, photocatalytic films, At least one of ultraviolet shielding film, heat shielding film, antistatic film, conductive film, half-mirror film, hard coat film, decorative film, holographic film and the like can be mentioned.
The various functional films described above have various functions (decorative properties, light polarization properties, light phase properties, light diffusion properties, light control properties) on the surface of PET film, PEN film, acrylic film, polycarbonate film, or TAC film. , anti-glare properties, UV shielding properties, heat shielding properties, anti-static properties, conductivity, half-mirror properties, hard coating properties, decorative properties, holographic properties, etc.). is appropriately selected depending on the purpose.

所定基材としての機能性フィルムの厚さは、用途や光透過率等を考慮して定められるが、通常、10~300μmの範囲の値とすることが好ましい。
この理由は、機能性フィルムの厚さが10μm未満の値になると、機械的強度や耐久性が著しく低下する場合があるためである。
一方、機能性フィルムの厚さが300μmを超えた値になると、タッチパネル等に用いた場合に、感度が低下したり、活性エネルギー線の透過性が著しく低下したりする場合があるためである。
したがって、機能性フィルムの厚さを20~250μmの範囲の値とすることがより好ましく、30~200μmの範囲の値とすることが更に好ましい。
The thickness of the functional film as the predetermined base material is determined in consideration of the application, light transmittance, etc., and is usually preferably in the range of 10 to 300 μm.
The reason for this is that if the thickness of the functional film is less than 10 μm, the mechanical strength and durability may be remarkably lowered.
On the other hand, if the thickness of the functional film exceeds 300 μm, the sensitivity may be lowered and the transparency of active energy rays may be significantly lowered when used in a touch panel or the like.
Therefore, the thickness of the functional film is more preferably in the range of 20-250 μm, more preferably in the range of 30-200 μm.

所定基材が剥離フィルムの場合、その種類としては、剥離面を有するポリエステルフィルム(PETフィルム等)、オレフィンフィルム、アクリルフィルム、ウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルム、フッ素フィルム、ポリイミドフィルム等の少なくとも一つが挙げられる。
なお、本明細書における剥離面とは、剥離処理を施した面及び剥離処理を施さなくても剥離性を示す面のいずれをも含むものである。
When the predetermined substrate is a release film, the type thereof is at least one of a polyester film having a release surface (PET film, etc.), an olefin film, an acrylic film, a urethane film, a polycarbonate film, a TAC film, a fluorine film, a polyimide film, and the like. One is mentioned.
The release surface in this specification includes both a surface that has been subjected to a release treatment and a surface that exhibits releasability without being subjected to a release treatment.

所定基材としての剥離フィルムの厚さは、用途や光透過率等を考慮して定められるが、通常、10~300μmの範囲の値とすることが好ましい。
この理由は、剥離フィルムの厚さが10μm未満の値になると、機械的強度や耐久性が著しく低下する場合があるためである。
一方、剥離フィルムの厚さが300μmを超えた値になると、ロール状に席巻したり、取り扱いが困難となったりする場合があるためである。
したがって、剥離フィルムの厚さを20~250μmの範囲の値とすることがより好ましく、30~200μmの範囲の値とすることが更に好ましい。
The thickness of the release film as the predetermined base material is determined in consideration of the application, light transmittance, etc., and is usually preferably in the range of 10 to 300 μm.
The reason for this is that if the release film has a thickness of less than 10 μm, the mechanical strength and durability may be significantly reduced.
On the other hand, if the thickness of the release film exceeds 300 μm, the release film may roll up or become difficult to handle.
Therefore, the thickness of the release film is more preferably in the range of 20 to 250 μm, more preferably in the range of 30 to 200 μm.

所定基材(機能性フィルムや剥離フィルム等)の光学特性としては、タッチパネルや液晶表示装置等の用途として好適な透明性を有することが好ましい。
すなわち、樹脂板の可視光透過率の下限として、60%以上の値とすることが好ましく、75%以上の値とすることがより好ましく、85%以上の値とすることが更に好ましい。
また、樹脂板の可視光透過率の上限は、通常、100%以下であり、99.9%以下の値とすることが好ましく、99%以下の値とすることがより好ましく、98%以下の値とすることが更に好ましい。
As for the optical properties of the predetermined base material (functional film, release film, etc.), it is preferable that the base material has transparency suitable for applications such as touch panels and liquid crystal display devices.
That is, the lower limit of the visible light transmittance of the resin plate is preferably 60% or more, more preferably 75% or more, and even more preferably 85% or more.
The upper limit of the visible light transmittance of the resin plate is usually 100% or less, preferably 99.9% or less, more preferably 99% or less, and 98% or less. It is more preferable to set it as a value.

4.機械加工性向上層の諸物性
(1)活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)
本実施形態にかかる機械加工性向上層は、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)を0.01~1MPaの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる貯蔵弾性率(M1)を所定範囲に制御することにより、活性エネルギー線照射前における機械加工性向上層の柔軟性が適度なものとなり、樹脂板への貼合性が良好なものとなるためである。
したがって、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)を0.04~0.20MPaの範囲内の値とすることがより好ましく、更には、活性エネルギー線照射後の耐久性と切削性を両立しやすいことから、0.07~0.08MPaの範囲内の値とすることが更に好ましい。
なお、特に断りが無い場合、本明細書においては、温度25℃相当の貯蔵弾性率(M1、M2)を意味するものとする(以下、同様である。)。
4. Various physical properties of the machinability-enhancing layer (1) Storage modulus (M1) before active energy ray irradiation
The machinability-improving layer according to the present embodiment preferably has a storage modulus (M1) before irradiation with an active energy ray within the range of 0.01 to 1 MPa.
The reason for this is that by controlling the storage elastic modulus (M1) within a predetermined range, the flexibility of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays becomes moderate, and the bonding property to the resin plate is good. It is to become a thing.
Therefore, it is more preferable to set the storage modulus (M1) before active energy ray irradiation to a value within the range of 0.04 to 0.20 MPa, and furthermore, to achieve both durability and machinability after active energy ray irradiation. It is more preferable to set the value within the range of 0.07 to 0.08 MPa because it is easy to
In this specification, unless otherwise specified, it means the storage modulus (M1, M2) corresponding to a temperature of 25°C (the same shall apply hereinafter).

(2)活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)
本実施形態にかかる機械加工性向上層は、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)を0.20MPa以上の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかる貯蔵弾性率(M2)を0.20MPa以上の値に制御することにより、機械加工性向上フィルムを、樹脂板に貼付した状態で、切削装置を用いて切削した場合において、機械加工性向上層由来の欠けや、はみ出しの発生が抑制され、良好な切削性を得られるためである。
したがって、かかる貯蔵弾性率(M2)の下限を0.22MPa以上の値とすることが好ましく、0.25MPa以上の値とすることがより好ましく、0.30MPa以上の値とすることが更に好ましい。
一方、上述した貯蔵弾性率(M2)の値が過度に大きくなると、耐久性が低下する場合がある。
したがって、かかる貯蔵弾性率(M2)の上限を5MPa以下の値とすることが好ましく、2MPa以下の値とすることがより好ましく、1MPa以下の値とすることが特に好ましく、0.6MPa以下の値とすることが更に好ましい。
(2) Storage modulus after active energy ray irradiation (M2)
The machinability improving layer according to the present embodiment is characterized by having a storage modulus (M2) of 0.20 MPa or more after irradiation with active energy rays.
The reason for this is that by controlling the storage modulus (M2) to a value of 0.20 MPa or more, when the machinability improving film is attached to a resin plate and cut with a cutting device, the machine This is because the occurrence of chipping and protrusion due to the workability-enhancing layer is suppressed, and good machinability can be obtained.
Therefore, the lower limit of the storage modulus (M2) is preferably 0.22 MPa or more, more preferably 0.25 MPa or more, and even more preferably 0.30 MPa or more.
On the other hand, if the value of the storage elastic modulus (M2) is excessively large, the durability may decrease.
Therefore, the upper limit of the storage modulus (M2) is preferably 5 MPa or less, more preferably 2 MPa or less, particularly preferably 1 MPa or less, and 0.6 MPa or less. It is more preferable that

ここで、図2を参照して、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層における貯蔵弾性率(M2)と、切削性との関係を説明する。
図2は、後述する実施例及び比較例に準拠した評価結果に基づいており、横軸に、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層における貯蔵弾性率(M2)(MPa)の値を採ってあり、縦軸に、切削性の評価(相対値)の値が採ってある。
なお、切削性の評価(相対値)の値は、後述する実施例及び比較例の切削性の評価において、◎を5点、○を3点、△を1点、×を0点として、算出した相対的数値である。
図2より、かかる貯蔵弾性率(M2)の値が0.2MPa未満では、切削性の評価(相対値)の値は0点であるが、0.20MPa以上になると、切削性の評価(相対値)の値が大きくなる傾向があることが分かる。
そして、かかる貯蔵弾性率(M2)の値が0.25~0.3MPa程度になると、切削性の評価(相対値)の値が更に大きくなって3~5点程度になり、更に0.3MPa以上においては、切削性の評価(相対値)の値は最高の5点となっていることが分かる。
したがって、図2より、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)の値を少なくとも0.2MPa以上とすることによって、比較的良好な切削性が得られ、更に、その値が大きくなればなるほど、切削性が良好となることが理解できる。
Here, with reference to FIG. 2, the relationship between the storage modulus (M2) of the machinability-enhancing layer after irradiation with active energy rays and machinability will be described.
FIG. 2 is based on evaluation results according to Examples and Comparative Examples to be described later, and the horizontal axis represents the storage modulus (M2) (MPa) of the machinability-enhancing layer after irradiation with active energy rays. , and the vertical axis indicates the value of machinability evaluation (relative value).
The value of the machinability evaluation (relative value) is calculated by setting ◎ to 5 points, ○ to 3 points, Δ to 1 point, and × to 0 points in the machinability evaluation of Examples and Comparative Examples described later. It is a relative numerical value.
From FIG. 2, when the value of the storage elastic modulus (M2) is less than 0.2 MPa, the machinability evaluation (relative value) is 0 points, but when it is 0.20 MPa or more, the machinability evaluation (relative value) tends to increase.
Then, when the value of the storage modulus (M2) is about 0.25 to 0.3 MPa, the machinability evaluation (relative value) value is further increased to about 3 to 5 points, and further 0.3 MPa. In the above, it can be seen that the machinability evaluation (relative value) is the highest 5 points.
Therefore, from FIG. 2, relatively good machinability can be obtained by setting the value of the storage elastic modulus (M2) after irradiation with active energy rays to at least 0.2 MPa, and furthermore, the higher the value, the more , it can be understood that machinability is improved.

(3)貯蔵弾性率の増加率(M2/M1×100)
本実施形態にかかる機械加工性向上層は、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)に対する、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)の増加率(=M2/M1×100)を、通常、320~30000%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、前述した貯蔵弾性率の増加率(%)を所定範囲内の値に制御することにより、活性エネルギー線照射前における樹脂板への貼合性と、活性エネルギー線照射前後における耐久性及び切削性を両立し易いものにするためである。
したがって、貯蔵弾性率の増加率を350~10000%の範囲内の値とすることがより好ましく、380~1000%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(3) Increase rate of storage modulus (M2/M1×100)
The machinability-improving layer according to the present embodiment has an increase rate (=M2/M1×100) of the storage elastic modulus (M1) before irradiation with active energy rays with respect to the storage elastic modulus (M2) after irradiation with active energy rays. , it is usually preferable to set the value within the range of 320 to 30000%.
The reason for this is that by controlling the increase rate (%) of the storage elastic modulus described above to a value within a predetermined range, the bonding property to the resin plate before the active energy ray irradiation and the durability before and after the active energy ray irradiation and machinability are easily compatible with each other.
Therefore, it is more preferable to set the rate of increase in storage elastic modulus to a value within the range of 350 to 10,000%, and more preferably to a value within the range of 380 to 1,000%.

(4)活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)
本実施形態にかかる機械加工性向上層は、活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)を、通常、40~78%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるゲル分率(G1)を所定範囲内の値に制御することにより、樹脂板に対する貼合性を良好なものにすることができるためである。
より具体的には、かかるゲル分率(G1)が、40%未満である場合、機械加工性向上層の凝集力不足により、機械加工性向上フィルムの取扱性が悪くなる場合がある。
一方、上述したゲル分率(G1)が、78%を超える値の場合、機械加工性向上層が硬くなり過ぎてしまい、樹脂板への貼合性が悪化し、それに伴って耐久性が悪化する場合がある。
したがって、かかるゲル分率(G1)を50~76%の範囲内の値とすることがより好ましく、60~72%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
なお、かかるゲル分率(G1)の測定方法は、後述する実施例において、詳細に説明する。
(4) Gel fraction before active energy ray irradiation (G1)
The machinability-improving layer according to the present embodiment preferably has a gel fraction (G1) before irradiation with an active energy ray, usually within a range of 40 to 78%.
The reason for this is that by controlling the gel fraction (G1) to a value within a predetermined range, it is possible to improve the adhesion to the resin plate.
More specifically, when the gel fraction (G1) is less than 40%, the handling properties of the machinability-improving film may deteriorate due to insufficient cohesion of the machinability-improving layer.
On the other hand, when the gel fraction (G1) described above exceeds 78%, the machinability improving layer becomes too hard, and the lamination property to the resin plate deteriorates, resulting in deterioration of durability. sometimes.
Therefore, the gel fraction (G1) is more preferably set to a value within the range of 50-76%, and more preferably set to a value within the range of 60-72%.
A method for measuring the gel fraction (G1) will be described in detail in Examples described later.

(5)活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)
本実施形態にかかる機械加工性向上層は、活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)を60%以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるゲル分率(G2)が60%未満の値の場合、切削性が著しく低下し、粘着剤残りが発生したりする場合があるためである。
したがって、かかるゲル分率(G2)の下限を70%以上の値とすることがより好ましく、75%以上の値とすることが特に好ましく、77%以上の値とすることが更に好ましい。
また、かかるゲル分率(G2)の上限値は、特に制限はないが、100%であってもよいが、切削性と耐久性の両立の観点から、95%以下が好ましく、90%以下が特に好ましい。
なお、かかるゲル分率(G2)の測定方法は、後述する実施例において、詳細に説明する。
(5) Gel fraction after active energy ray irradiation (G2)
The machinability-enhancing layer according to the present embodiment preferably has a gel fraction (G2) of 60% or more after irradiation with active energy rays.
The reason for this is that if the gel fraction (G2) is less than 60%, the machinability may be remarkably lowered and adhesive residue may occur.
Therefore, the lower limit of the gel fraction (G2) is more preferably 70% or more, particularly preferably 75% or more, and even more preferably 77% or more.
The upper limit of the gel fraction (G2) is not particularly limited, but it may be 100%, but from the viewpoint of achieving both machinability and durability, it is preferably 95% or less, and 90% or less. Especially preferred.
A method for measuring the gel fraction (G2) will be described in detail in the examples below.

(6)ゲル分率の増加率(G2/G1×100)
本実施形態にかかる機械加工性向上層は、活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)に対する、活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)の増加率(=G2/G1×100)を、通常、110~250%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるゲル分率の増加率を所定範囲内の値に制御することにより、活性エネルギー線照射前における樹脂板への貼合性が好適なものとなるとともに、活性エネルギー線照射後における耐久性及び切削性が両立し易いものとなるためである。
より具体的には、かかるゲル分率の増加率が110%未満の値となると切削性が低下し、機械加工性向上層の欠け等が発生したり、耐久性が低下したりする場合がある。
一方、かかるゲル分率の増加率が250%を超えた値となると、機械加工性向上層が脆くなって割れたりする場合がある。
したがって、かかるゲル分率の増加率を114~200%の範囲内の値とすることがより好ましく、120~160%の範囲内の値とすることが更に好ましく、128~140%の範囲内の値とすることが特に好ましい。
(6) Increase rate of gel fraction (G2/G1×100)
The machinability-improving layer according to the present embodiment has an increase rate (=G2/G1×100) of the gel fraction (G1) before active energy ray irradiation with respect to the gel fraction (G2) after active energy ray irradiation. , it is usually preferable to set the value within the range of 110 to 250%.
The reason for this is that by controlling the increase rate of the gel fraction to a value within a predetermined range, the bonding property to the resin plate before the active energy ray irradiation becomes suitable, and after the active energy ray irradiation This is because durability and machinability are easily compatible.
More specifically, if the increase rate of the gel fraction is less than 110%, the machinability may deteriorate, causing chipping of the machinability-improving layer, or the like, or lowering the durability. .
On the other hand, if the increase rate of the gel fraction exceeds 250%, the machinability improving layer may become brittle and crack.
Therefore, the increase rate of the gel fraction is more preferably in the range of 114 to 200%, more preferably in the range of 120 to 160%, and more preferably in the range of 128 to 140%. value is particularly preferred.

(7)活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)
本実施形態にかかる機械加工性向上フィルムは、活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)を1~60N/25mmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる粘着力(P1)を所定範囲内の値に制御することにより、樹脂板に対する密着性が良好となるためである。
かかる粘着力(P1)が1N/25mm未満であると、そもそも樹脂板への貼合が困難となってしまったり、貼合できたとしても工程中に樹脂板から機械加工性向上層が剥がれたりする不具合が生じ易くなる場合がある。
一方、かかる粘着力(P1)が60N/25mmを超えた値の場合、取扱性が悪くなる場合がある。
したがって、かかる粘着力(P1)を8~40N/25mmの範囲内の値とすることがより好ましく、15~30N/25mmの値とすることが更に好ましい。
なお、かかる粘着力(P1)は、活性エネルギー線照射前において、JIS Z0237:2009に準じた180°引き剥がし法により測定することができるが、より具体的な測定方法は、後述する実施例に示す通りである。
(7) Adhesive strength before active energy ray irradiation (P1)
The machinability-improving film according to the present embodiment preferably has an adhesive strength (P1) before irradiation with an active energy ray within the range of 1 to 60 N/25 mm.
The reason for this is that by controlling the adhesive force (P1) to a value within a predetermined range, the adhesiveness to the resin plate is improved.
If the adhesive strength (P1) is less than 1 N/25 mm, it will be difficult to bond to the resin plate in the first place. It may become easy to cause trouble to do.
On the other hand, if the adhesive strength (P1) exceeds 60 N/25 mm, handleability may deteriorate.
Therefore, it is more preferable to set the adhesive strength (P1) to a value within the range of 8 to 40 N/25 mm, and more preferably to a value of 15 to 30 N/25 mm.
The adhesive strength (P1) can be measured by a 180° peeling method according to JIS Z0237:2009 before irradiation with active energy rays, but a more specific measuring method is described in Examples described later. As shown.

(8)活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)
本実施形態にかかる機械加工性向上フィルムは、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)を10N/25mm以上の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかる粘着力(P2)を10N/25mm以上の値に制御することにより、密着性が良好なものとなり、優れた耐久性を発揮するためである。
したがって、かかる粘着力(P2)の下限値を15N/25mm以上の値とすることが好ましく、20N/25mm以上の値とすることがより好ましく、24N/25mm以上の値とすることが更に好ましい。
一方、かかる粘着力(P2)の上限値を、200N/25mm以下の値とすることが好ましく、120N/25mm以下の値とすることがより好ましく、60N/25mm以下の値とすることが更に好ましく、40N/25mm以下の値とすることが特に好ましい。
なお、かかる粘着力(P2)についても、活性エネルギー線照射後において、JIS Z0237:2009に準じた180度引き剥がし法により測定することができるが、より具体的な測定方法は、後述する実施例に示す通りである。
(8) Adhesive strength after active energy ray irradiation (P2)
The machinability-improving film according to the present embodiment is characterized by having an adhesive strength (P2) after irradiation with active energy rays of 10 N/25 mm or more.
The reason for this is that by controlling the adhesive strength (P2) to a value of 10 N/25 mm or more, good adhesion can be obtained and excellent durability can be exhibited.
Therefore, the lower limit of the adhesive strength (P2) is preferably 15 N/25 mm or more, more preferably 20 N/25 mm or more, and even more preferably 24 N/25 mm or more.
On the other hand, the upper limit of the adhesive strength (P2) is preferably 200 N/25 mm or less, more preferably 120 N/25 mm or less, and even more preferably 60 N/25 mm or less. , 40 N/25 mm or less is particularly preferred.
The adhesive strength (P2) can also be measured by a 180-degree peeling method according to JIS Z0237:2009 after irradiation with active energy rays, but a more specific measuring method is described in Examples described later. as shown in

(9)粘着力の増加率(P2/P1×100)
本実施形態にかかる機械加工性向上フィルムは、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)に対する、活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)の増加率(=P2/P1×100)を80~300%の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる粘着力の増加率を所定範囲内の値に制御することにより、活性エネルギー線照射前における樹脂板への貼合性と、活性エネルギー線照射後における耐久性との両立がより容易となるためである。
したがって、かかる粘着力の増加率を100~200%の範囲内の値とすることがより好ましく、120~140%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(9) Increase rate of adhesive strength (P2/P1 x 100)
In the machinability-improving film according to the present embodiment, the increase rate (=P2/P1×100) of the adhesive strength (P1) before active energy ray irradiation with respect to the adhesive strength (P2) after active energy ray irradiation is 80 to A value of 300% is preferred.
The reason for this is that by controlling the rate of increase in adhesive strength to a value within a predetermined range, it is possible to achieve both sticking property to a resin plate before irradiation with active energy rays and durability after irradiation with active energy rays. This is because it becomes easier.
Therefore, it is more preferable to set the rate of increase in adhesive strength to a value within the range of 100 to 200%, and more preferably to a value within the range of 120 to 140%.

(10)最大応力(S2)
本実施形態にかかる機械加工性向上フィルムは、活性エネルギー線照射後の引張応力を測定した際の最大応力(S2)を、通常、1.5N/mm2以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる最大応力(S2)を1.5N/mm2以上の値とすることによって、機械加工時において機械加工性向上層の欠けが抑制される傾向にあり、切削性が良好となるためである。
したがって、かかる最大応力(S2)を2.0N/mm2以上の値とすることがより好ましく、耐久性との両立の観点からは2.5N/mm2以上の値とすることが更に好ましい。
一方、かかる最大応力(S2)の上限値は、特に限定されないが、耐久性と切削性を両立させる観点から、20N/mm2以下の値とすることが好ましく、10N/mm2以下の値とすることがより好ましく、4N/mm2以下の値とすることが特に好ましい。
(10) Maximum stress (S2)
The machinability-improving film according to the present embodiment preferably has a maximum stress (S2) of 1.5 N/mm 2 or more when the tensile stress after irradiation with active energy rays is measured.
The reason for this is that by setting the maximum stress (S2) to a value of 1.5 N/mm 2 or more, chipping of the machinability improving layer tends to be suppressed during machining, and machinability is improved. Because.
Therefore, the maximum stress (S2) is more preferably set to a value of 2.0 N/mm 2 or more, and more preferably set to a value of 2.5 N/mm 2 or more from the viewpoint of compatibility with durability.
On the other hand, the upper limit of the maximum stress (S2) is not particularly limited, but from the viewpoint of achieving both durability and machinability, it is preferably a value of 20 N/mm 2 or less, and a value of 10 N/mm 2 or less. is more preferable, and it is particularly preferable to set the value to 4 N/mm 2 or less.

(11)100%伸長時応力(E2)
本実施形態にかかる機械加工性向上フィルムは、活性エネルギー線照射後の100%伸長時応力(E2)を、通常、10N/mm2以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる100%伸長時応力(E2)を10N/mm2以下の値とすることによって、機械加工時において機械加工性向上層が伸び難くなる傾向にあり、切削後に機械加工性向上層がはみ出すことのない切断面を得ることができ、ひいては、切削性が良好となるためである。
したがって、かかる100%伸長時応力(E2)の上限値を6N/mm2以下の値とすることがより好ましく、耐久性との両立の観点からは、1N/mm2以下の値とすることが更に好ましい。
一方、かかる100%伸長時応力(E2)の下限値は、特に限定されないが、耐久性と切削性を両立させる観点から、0.1N/mm2以上の値とすることが好ましく、0.4N/mm2以上の値とすることがより好ましく、0.7N/mm2以上の値とすることが特に好ましい。
(11) Stress at 100% elongation (E2)
The machinability-improving film according to the present embodiment preferably has a stress (E2) at 100% elongation after irradiation with active energy rays, which is usually 10 N/mm 2 or less.
The reason for this is that by setting the stress at 100% elongation (E2) to a value of 10 N/mm 2 or less, the machinability-improving layer tends to be difficult to stretch during machining, and the machinability-improving layer after cutting. This is because it is possible to obtain a cut surface without protruding, which in turn improves the machinability.
Therefore, it is more preferable to set the upper limit of the stress at 100% elongation (E2) to a value of 6 N/mm 2 or less, and from the viewpoint of compatibility with durability, it is preferable to set the value to 1 N/mm 2 or less. More preferred.
On the other hand, the lower limit of the stress at 100% elongation (E2) is not particularly limited, but from the viewpoint of achieving both durability and machinability, a value of 0.1 N / mm 2 or more is preferable, and 0.4 N /mm 2 or more, and particularly preferably 0.7 N/mm 2 or more.

5.積層体
本実施形態にかかる機械加工性向上フィルムを使用した積層体は、図1(a)等に示される機械加工性向上フィルム18を積層してなる樹脂板12から構成されてなる積層体であれば、特に制限されるものではない。
したがって、各種機器において使用される各種機能性フィルムを、機械加工性向上層を介して、樹脂板とともに精度良く機械加工処理(切削処理)し、樹脂板付きの機能性フィルム等の積層体として容易に製造することができる。
以下、かかる積層体の態様を具体的に説明する。
5. Laminate The laminate using the machinability-improving film according to the present embodiment is a laminate composed of a resin plate 12 formed by laminating a machinability-improving film 18 shown in FIG. If there is, it is not particularly limited.
Therefore, various functional films used in various devices can be precisely machined (cut) together with the resin plate via the machinability improving layer, and can be easily formed into a laminate of functional films with the resin plate. can be manufactured to
Hereinafter, aspects of such a laminate will be specifically described.

(1)活性エネルギー線硬化前の積層体
活性エネルギー線硬化前の積層体は、図1(a)、図3(c)、図4(d)、図5(d)等に示すように、所定基材16としての機能性フィルムと、機械加工性向上フィルム18と、樹脂板12とが順次積層された積層体10である。
なお、図3~5の内容については、後述する機械加工性向上フィルムの使用方法として具体的に説明する。
(1) Laminate before curing with active energy ray The laminate before curing with active energy ray is shown in FIGS. It is a laminate 10 in which a functional film as a predetermined base material 16, a machinability improving film 18, and a resin plate 12 are sequentially laminated.
3 to 5 will be specifically described as a method of using the machinability-enhancing film, which will be described later.

(2)活性エネルギー線硬化後の積層体
活性エネルギー線硬化後の積層体は、前述した活性エネルギー線硬化前の積層体の所定基材16、又は、樹脂板12側より活性エネルギー線を照射することにより、機械加工性向上層14を、硬化後の機械加工性向上層14´とすることができる。
すなわち、図3(d)及び図3(e)、図4(e)及び図4(f)、図5(e)及び図5(f)に示すように、所定基材16としての機能性フィルムと、硬化後の機械加工性向上層14´と、樹脂板12とが順次積層された積層体10´である。
(2) Laminate after active energy ray curing The laminate after active energy ray curing is irradiated with an active energy ray from the predetermined base material 16 or the resin plate 12 side of the laminate before active energy ray curing. Thus, the machinability-enhancing layer 14 can be used as the machinability-enhancing layer 14' after curing.
That is, as shown in FIGS. 3(d) and 3(e), FIGS. 4(e) and 4(f), FIGS. 5(e) and 5(f), the functionality as the predetermined base material 16 It is a laminate 10' in which a film, a machine workability improving layer 14' after curing, and a resin plate 12 are sequentially laminated.

硬化後の機械加工性向上層14´は、上述した機械加工性向上フィルム18が有する機械加工性向上層14を、活性エネルギー線照射により硬化させたものである。
本実施形態では、この硬化後の機械加工性向上層14´は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と熱硬化性成分(B)とから構成される架橋構造を有するとともに、活性エネルギー線硬化性成分(C)が重合して硬化した構造(重合構造)を含有する粘着剤からなる。
当該重合構造は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と熱硬化性成分(B)とから構成される架橋構造に絡み付いているものと推定される。
複数の三次元構造が絡み合う構造を有していることにより、硬化後の機械加工性向上層14´は高い凝集力を有するものとなり、所望の粘着力及び貯蔵弾性率の値を満たし易いものとなる。
したがって、硬化後の機械加工性向上層14´は優れた切削性を発揮しながら、耐久性も優れたものとなる。
The cured machinability-improving layer 14' is obtained by curing the machinability-improving layer 14 of the machinability-improving film 18 described above by irradiation with active energy rays.
In this embodiment, the cured machinability-improving layer 14' has a crosslinked structure composed of a (meth)acrylic acid ester copolymer as a main agent (A) and a thermosetting component (B). Together, it consists of an adhesive containing a structure (polymerized structure) in which the active energy ray-curable component (C) is polymerized and cured.
The polymerized structure is presumed to be entwined with a crosslinked structure composed of the (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) and the thermosetting component (B).
By having a structure in which a plurality of three-dimensional structures are intertwined, the machinability-improving layer 14' after curing has a high cohesive force, and easily satisfies the desired adhesion and storage modulus values. Become.
Therefore, the hardened machinability-enhancing layer 14' exhibits excellent machinability as well as excellent durability.

なお、本発明の効果が得られる限りにおいては、上記の硬化後の機械加工性向上層14´には、活性エネルギー線照射によっても開裂しなかった光重合開始剤(D)が含まれていてもよい。
本実施形態では、硬化後の機械加工性向上層14´中において、光重合開始剤の残量は0.1質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましい。
As long as the effects of the present invention can be obtained, the post-curing machinability-improving layer 14' contains a photopolymerization initiator (D) that has not been cleaved by active energy ray irradiation. good too.
In the present embodiment, the residual amount of the photopolymerization initiator in the machinability improving layer 14' after curing is preferably 0.1% by mass or less, and more preferably 0.01% by mass or less. .

6.使用方法
機械加工性向上フィルム18の使用方法としては、図3(a)~(e)に例示するように、下記工程(1)~(4)を含むことが好ましい。
(1)所定基材16としての機能性フィルムの表面に、活性エネルギー線硬化性成分を含む組成物(機械加工性向上層を形成するための組成物を由来とした樹脂層13)を塗布し、加熱処理することにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14を備えた機械加工性向上フィルム18とする工程
(2)得られた機械加工性向上フィルム18を、樹脂板12に貼付する工程
(3)樹脂板12又は所定基材16側から活性エネルギー線を照射し、機械加工性向上層14中における活性エネルギー線硬化性成分を硬化させ、硬化後の機械加工性向上層14´とする工程
(4)硬化後の機械加工性向上層14´及び樹脂板12を含む積層体10´に対して、所定の機械加工処理を施す工程
以下、適宜図面を参照して、機械加工性向上フィルム18の使用方法を具体的に説明する。
6. Usage Method The usage method of the machinability-enhancing film 18 preferably includes the following steps (1) to (4), as illustrated in FIGS. 3(a) to 3(e).
(1) A composition containing an active energy ray-curable component (a resin layer 13 derived from a composition for forming a machinability improving layer) is applied to the surface of a functional film as a predetermined base material 16. , heat treatment to form a machinability-improving film 18 having an active energy ray-curable machinability-improving layer 14; Step (3) irradiating active energy rays from the side of the resin plate 12 or the predetermined base material 16 to cure the active energy ray-curable component in the machinability improving layer 14 to form the machinability improving layer 14' after curing. (4) A step of applying a predetermined machining treatment to the laminated body 10' including the cured machinability improving layer 14' and the resin plate 12. Hereinafter, referring to the drawings as appropriate, machinability A method of using the enhancement film 18 will be specifically described.

6-1:工程(1)-1
工程(1)-1は、機械加工性向上層を形成するための組成物の準備工程である。
したがって、図3(a)等に示される、機械加工性向上層を形成するための組成物を由来とした樹脂層13は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、熱硬化性成分(B)と、活性エネルギー線硬化性成分(C)とを主成分として含む組成物から構成される。
当該組成物は、必要に応じて光重合開始剤(D)、シランカップリング剤(E)及び有機溶剤等を含むことができ、これらを均一に混合することで、上述した樹脂層13とするため塗布液を得ることができる。
6-1: Step (1)-1
Step (1)-1 is a step of preparing a composition for forming a machinability improving layer.
Therefore, the resin layer 13 derived from the composition for forming the machinability improving layer shown in FIG. It is composed of a composition containing a thermosetting component (B) and an active energy ray-curable component (C) as main components.
The composition can contain a photopolymerization initiator (D), a silane coupling agent (E), an organic solvent, etc., as necessary, and by uniformly mixing these, the resin layer 13 described above can be obtained. Therefore, a coating liquid can be obtained.

6-2:工程(1)-2
工程(1)-2は、前述した所定組成物を含む塗布液の塗布工程である。
したがって、図3(a)に示されるように、所定基材16(機能性フィルム等)の表面に、前述した組成物の塗布液を塗布し、所定基材16と機械加工性向上層を形成するための組成物を由来とした樹脂層13とが積層された積層物を得る。
塗布液を塗布する方法としては、特に制限されず、公知の方法で行うことができる。
たとえば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が例示される。
そして、図3(b)に示されるように、所定の加熱処理(H)を施して、主剤(A)に含まれる官能基と、熱硬化性成分(B)とを熱架橋反応させ、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14とすることで、機械加工性向上フィルム18を得る。
当該加熱処理(H)は、前述した組成物の塗布液に含まれる溶剤等の飛散除去も兼ねることができる。
その際、具体的に、加熱処理(H)の加熱温度は、50~150℃であることが好ましく、70~120℃であることがより好ましい。
また、加熱時間は、10秒~10分であることが好ましく、50秒~2分であることがより好ましい。
更に、加熱処理後、常温(例えば、23℃、50%RH)で1~2週間程度の養生期間を設けることが好ましい。
このような加熱処理(及び養生)により、熱硬化性成分(B)を介して(メタ)アクリル酸エステル共重合体が良好に架橋され、架橋構造が形成される。
すなわち、このような工程を経て、機械加工性向上層を形成するための組成物を由来とした樹脂層13を熱架橋してなる、機械加工性向上層14が得られ、所定の機械加工性向上フィルム18となる。
なお、機械加工性向上層を形成するための組成物に含まれる他の成分(活性エネルギー線硬化性成分(C)、光重合開始剤(D)、カップリング剤(E)等)は、熱架橋前後で含有量及び性質等は変化しない。
6-2: Step (1)-2
Step (1)-2 is a step of applying a coating liquid containing the predetermined composition described above.
Therefore, as shown in FIG. 3A, the surface of a predetermined base material 16 (functional film or the like) is coated with the coating liquid of the composition described above to form a machinability improving layer together with the predetermined base material 16. A laminate is obtained in which a resin layer 13 derived from a composition for carrying out is laminated.
A method for applying the coating liquid is not particularly limited, and a known method can be used.
Examples include bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating.
Then, as shown in FIG. 3(b), a predetermined heat treatment (H) is applied to cause a thermal cross-linking reaction between the functional groups contained in the main component (A) and the thermosetting component (B), thereby activating the A machinability-improving film 18 is obtained by forming the energy ray-curable machinability-improving layer 14 .
The heat treatment (H) can also serve to remove scattering of the solvent or the like contained in the coating liquid of the composition described above.
At that time, specifically, the heating temperature of the heat treatment (H) is preferably 50 to 150°C, more preferably 70 to 120°C.
The heating time is preferably 10 seconds to 10 minutes, more preferably 50 seconds to 2 minutes.
Furthermore, after the heat treatment, it is preferable to provide a curing period of about 1 to 2 weeks at normal temperature (eg, 23° C., 50% RH).
By such heat treatment (and curing), the (meth)acrylate copolymer is satisfactorily crosslinked via the thermosetting component (B) to form a crosslinked structure.
That is, through such steps, the machinability-improving layer 14 is obtained by thermally cross-linking the resin layer 13 derived from the composition for forming the machinability-improving layer, and the machinability-improving layer 14 has a predetermined machinability. It becomes the improvement film 18 .
Note that other components contained in the composition for forming the machinability-improving layer (active energy ray-curable component (C), photopolymerization initiator (D), coupling agent (E), etc.) The content, properties, etc. do not change before and after cross-linking.

6-3:工程(2)
次いで、工程(2)は、機械加工性向上フィルムの樹脂板への積層工程である。
したがって、図3(c)に示されるように、樹脂板12と、機械加工性向上フィルム18の機械加工性向上層14とを貼合して積層する。
このような樹脂板12と機械加工性向上フィルム18の貼合は、ラミメーター等、公知の貼合方法を用いることができる。
これにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14が、所定基材(機能性フィルム等)16と樹脂板12に挟持された積層体10を得ることができる。
6-3: Step (2)
Next, step (2) is a step of laminating the machinability improving film on the resin plate.
Therefore, as shown in FIG. 3(c), the resin plate 12 and the machinability improving layer 14 of the machinability improving film 18 are bonded and laminated.
For bonding the resin plate 12 and the machinability improving film 18, a known bonding method such as a lamination method can be used.
As a result, the laminate 10 in which the active energy ray-curable machinability improving layer 14 is sandwiched between the predetermined base material (functional film or the like) 16 and the resin plate 12 can be obtained.

6-4:工程(3)
次いで、工程(3)は、活性エネルギー線の照射工程である。
したがって、図3(d)に示されるように、紫外線等の活性エネルギー線(L)を所定基材16の背面側から照射する。
これにより、機械加工性向上層14中の活性エネルギー線硬化性成分(C)が硬化し、硬化後の機械加工性向上層14´が形成される。
すなわち、硬化後の機械加工性向上層14´が、所定基材16(機能性フィルム等)と、樹脂板12との間に挟持された積層体10´を得ることができる。
なお、図3(d)においては、樹脂板12の背面側から、活性エネルギー線(L)を照射しているが、所定基材16(機能性フィルム等)が設けられた側、すなわち、背面側とは反対側から活性エネルギー線(L)を照射しても良く、更には、樹脂板12の背面側と、所定基材16(機能性フィルム等)の側の両面から、活性エネルギー線(L)を照射しても良い。
6-4: Step (3)
Next, step (3) is a step of irradiating with active energy rays.
Therefore, as shown in FIG. 3D, active energy rays (L) such as ultraviolet rays are irradiated from the back side of the predetermined base material 16 .
As a result, the active energy ray-curable component (C) in the machinability-improving layer 14 is cured to form a cured machinability-improving layer 14'.
That is, it is possible to obtain the laminate 10 ′ in which the cured machinability improving layer 14 ′ is sandwiched between the predetermined base material 16 (functional film or the like) and the resin plate 12 .
In FIG. 3(d), the active energy ray (L) is irradiated from the back side of the resin plate 12. The active energy ray (L) may be irradiated from the side opposite to the side, and further, from both the back side of the resin plate 12 and the side of the predetermined base material 16 (functional film etc.), the active energy ray ( L) may be irradiated.

ここで、活性エネルギー線とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものをいい、具体的には、紫外線、電子線などが挙げられる。
本実施形態における活性エネルギー線としては、200~450nmの波長を有する光を含む活性エネルギー線であることが好ましい。
上記の条件を満足する活性エネルギー線を得るためには、例えば、高圧水銀ランプ、フュージョンHランプ、キセノンランプ等の紫外線を照射可能な光源を用いればよい。
活性エネルギー線の照射量は、照度が50~1000mW/cm2の範囲内の値であることが好ましい。
光量は、50mJ/cm2以上であることが好ましく、80mJ/cm2以上であることがより好ましく、200mJ/cm2以上であることが更に好ましい。
また、光量は、10000mJ/cm2以下であることが好ましく、5000mJ/cm2以下であることがより好ましく、2000mJ/cm2以下であることが更に好ましい。
Here, the active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam that has energy quanta, and specifically includes ultraviolet rays, electron beams, and the like.
The active energy ray in this embodiment is preferably an active energy ray containing light having a wavelength of 200 to 450 nm.
In order to obtain an active energy ray that satisfies the above conditions, for example, a light source capable of irradiating ultraviolet rays, such as a high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, and a xenon lamp, may be used.
The irradiation amount of active energy rays is preferably a value within the range of illuminance from 50 to 1000 mW/cm 2 .
The amount of light is preferably 50 mJ/cm 2 or more, more preferably 80 mJ/cm 2 or more, and even more preferably 200 mJ/cm 2 or more.
Also, the amount of light is preferably 10000 mJ/cm 2 or less, more preferably 5000 mJ/cm 2 or less, and even more preferably 2000 mJ/cm 2 or less.

6-5:工程(4)
工程(4)は機械加工処理工程である。
したがって、図3(e)に示されるように、所定基材16(機能性フィルム等)とともに、機械加工性向上層14´が積層された樹脂板12に対して、所定の機械加工処理(例えば、矢印Aで示す方向への切削処理)を行うことになる。
そして、本実施形態の機械加工性向上フィルムは、優れた切削性を有することから、一度の切削処理によって、所望の形状を有する積層体を容易に得ることができる。
更に、切削処理において機械加工性向上層の欠けや伸びはないため、加工後の切削面は良好となり、得られる積層体は、優れた外観品質を有するものとなる。
また、得られる積層体は、耐久性に優れるため、厳しい環境下で使用される光学部品(例えば、車載用のタッチパネルや液晶表示装置等)にも適用可能である。
よって、本実施形態の機械加工性向上フィルムを上述したように使用することにより、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。
6-5: Step (4)
Step (4) is a machining process step.
Therefore, as shown in FIG. 3(e), a resin plate 12 laminated with a predetermined base material 16 (functional film or the like) and a machinability improving layer 14' is subjected to a predetermined machining process (for example, , cutting in the direction indicated by the arrow A).
Further, since the machinability-improving film of the present embodiment has excellent machinability, a laminate having a desired shape can be easily obtained by a single cutting process.
Furthermore, since the machinability-enhancing layer does not chip or stretch during the cutting process, the machined surface after machining is good, and the resulting laminate has excellent appearance quality.
In addition, since the obtained laminate is excellent in durability, it can also be applied to optical parts used in harsh environments (for example, an in-vehicle touch panel, a liquid crystal display device, etc.).
Therefore, by using the machinability-improving film of the present embodiment as described above, it is possible to obtain a resin with a functional film via the machinability-improving layer, which can be applied to optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices. A board can be manufactured simply.

7.その他の使用方法
7-1 変形例1
図4(a)~(f)に例示される工程は、前述した工程(1)において、所定基材16´(剥離フィルム等)を使用する場合の工程例である。
したがって、例えば、所定基材16´(剥離フィルム等)を使用する場合、図4(a)~(f)に例示されるように、下記工程(1´)~(4´)を含むことにより、機械加工性向上フィルム18を機械加工処理(切削処理)に好適に使用することができる。
7. Other Usage 7-1 Modification 1
The steps exemplified in FIGS. 4A to 4F are examples of steps in the case of using the predetermined base material 16' (release film, etc.) in the step (1) described above.
Therefore, for example, when using a predetermined base material 16' (release film, etc.), by including the following steps (1') to (4') as illustrated in FIGS. , the machinability improving film 18 can be suitably used for machining (cutting).

(1)工程(1´)
工程(1´)は、熱処理工程である。
したがって、図4(a)および図4(b)に示す通り、所定基材16´(剥離フィルム等)の表面に、機械加工性向上層を形成するための組成物を由来とした樹脂層13を塗布して、熱処理(H)を施すことにより、機械加工性向上層14を含む機械加工性向上フィルム18´とする工程である。
ここで、機械加工性向上層を形成するための組成物の準備工程及び塗布工程は、前述した工程(1)-1及び工程(1)-2に準ずる。
なお、図示しないものの、図4(b)において、機械加工性向上層14の一方の面に所定基材16´(剥離フィルム等)を設けても良い。
このような構成とすることで、使用するまでの間、機械加工性向上層14が汚染されるリスクが低減する。
(1) Step (1')
Step (1') is a heat treatment step.
Therefore, as shown in FIGS. 4(a) and 4(b), a resin layer 13 derived from a composition for forming a machinability-improving layer is formed on the surface of a predetermined base material 16' (release film or the like). is applied and subjected to heat treatment (H) to form a machinability-enhancing film 18' including the machinability-enhancing layer 14. FIG.
Here, the preparation step and coating step of the composition for forming the machinability-improving layer conform to Steps (1)-1 and (1)-2 described above.
Although not shown, in FIG. 4B, a predetermined base material 16' (release film or the like) may be provided on one surface of the machinability improving layer 14. As shown in FIG.
With such a configuration, the risk of contamination of the machinability-enhancing layer 14 before use is reduced.

(2)工程(2´)
次いで、工程(2´)は、機械加工性向上フィルムの樹脂板への積層工程である。
すなわち、図4(c)および図4(d)に示すように、機械加工性向上フィルム18´の機械加工性向上層14の露出面と、所定基材16(機能性フィルム)とを貼合して、積層する。
そして、所定基材16´(剥離フィルム等)を剥がして、樹脂板12を積層する。
これにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14が、所定基材16(機能性フィルム等)と樹脂板12に挟持された積層体10を得ることができる。
(2) Step (2')
Next, step (2') is a step of laminating the machinability improving film on the resin plate.
That is, as shown in FIGS. 4(c) and 4(d), the exposed surface of the machinability-improving layer 14 of the machinability-improving film 18' is laminated to the predetermined substrate 16 (functional film). to laminate.
Then, the predetermined base material 16' (separation film or the like) is peeled off, and the resin plate 12 is laminated.
Thereby, the laminate 10 in which the active energy ray-curable machinability improving layer 14 is sandwiched between the predetermined base material 16 (functional film or the like) and the resin plate 12 can be obtained.

(3)工程(3´)
次いで、工程(3´)は、活性エネルギー線の照射工程である。
したがって、図4(e)に示すように、活性エネルギー線(L)を照射して、機械加工性向上層14に含まれる活性エネルギー線硬化性成分(C)を硬化させて、機械加工性向上層14´とする。すなわち、硬化後の機械加工性向上層14´が、所定基材16(機能性フィルム等)と、樹脂板12との間に挟持された積層体10´を得ることができる。
なお、活性エネルギー線の照射条件等は、前述した工程(3)に準ずる。
(3) Step (3')
Next, step (3') is an active energy ray irradiation step.
Therefore, as shown in FIG. 4(e), the active energy ray (L) is irradiated to cure the active energy ray-curable component (C) contained in the machinability improving layer 14, thereby improving the machinability. Layer 14'. That is, it is possible to obtain the laminate 10 ′ in which the cured machinability improving layer 14 ′ is sandwiched between the predetermined base material 16 (functional film or the like) and the resin plate 12 .
In addition, the irradiation conditions of the active energy ray and the like conform to the step (3) described above.

(4)工程(4´)
工程(4´)は、機械加工処理工程である。
したがって、図4(f)に示すように、所定基材16(機能性フィルム等)とともに、機械加工性向上層14´が積層された樹脂板12に対して、所定の機械加工処理(例えば、矢印Aで示す方向への切削処理)を行う。
そして、上述した工程(1´)~(4´)においても、前述した工程(1)~(4)と同様に、本実施形態の機械加工性向上フィルムを好適に使用することができる。
よって、当該変形例1においても、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。
(4) Step (4')
Step (4') is a machining step.
Therefore, as shown in FIG. 4(f), a predetermined machining process (for example, Cutting processing in the direction indicated by arrow A) is performed.
Also in the steps (1′) to (4′) described above, the machinability-improved film of the present embodiment can be suitably used as in the steps (1) to (4) described above.
Therefore, also in Modification 1, it is possible to easily manufacture a resin plate with a functional film via a machinability improving layer, which is applicable to optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices.

7-2 変形例2
図5(a)~(f)に例示される工程は、前述した変形例1の工程(2´)において、機械加工性向上フィルム18´の貼合の順番が異なる場合の工程例である。
すなわち、図5(c)に示すように、図5(b)に示す機械加工性向上フィルム18´の機械加工性向上層14の一方の面と、樹脂板12とを貼合して、積層する。
そして、図5(d)に示すように、所定基材16´(剥離フィルム等)を剥がして、所定基材16(機能性フィルム)を積層する工程である。なお、上述した工程(2´)以外については、前述した変形例1に準ずる。
したがって、当該変形例2においても、前述した工程(1)~(4)及び前述した工程(1´)~(4´)と同様に、本実施形態の機械加工性向上フィルムを好適に使用することができる。
よって、当該工程(1´)~(4´)においても、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。
7-2 Modification 2
The steps illustrated in FIGS. 5A to 5F are examples of steps in which the machinability improving film 18' is laminated in a different order in the step (2') of Modification 1 described above.
That is, as shown in FIG. 5C, one surface of the machinability improving layer 14 of the machinability improving film 18' shown in FIG. do.
Then, as shown in FIG. 5(d), the predetermined base material 16' (release film or the like) is peeled off, and the predetermined base material 16 (functional film) is laminated. In addition, except for the step (2') described above, it conforms to the modified example 1 described above.
Therefore, also in Modification 2, the machinability-improved film of the present embodiment is preferably used in the same manner as in the above-described steps (1) to (4) and the above-described steps (1') to (4'). be able to.
Therefore, even in the steps (1′) to (4′), it is possible to easily manufacture a resin plate with a functional film through the machinability improving layer, which can be applied to optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices. can do.

以下、実施例を参照して、本実施形態の機械加工性向上フィルム及び機械加工性向上フィルムの使用方法等を更に詳細に説明する。
但し、本実施形態は、特に理由なく、これらの実施例の記載に限定されるものではない。
Hereinafter, the machinability-improving film of the present embodiment and the method of using the machinability-improving film will be described in more detail with reference to examples.
However, the present embodiment is not limited to the description of these examples for no particular reason.

[実施例1]
1.機械加工性向上フィルムの作成及び使用
1-(1) 主剤(A)の調整
モノマー成分としての全体量を100重量部として、ブチルアクリレート30重量部と、2-エチルヘキシルアクリレート25重量部と、イソボロニルアクリレート10重量部と、メチルメタクリレート5重量部と、アクリロイルモルフォリン5重量部と、2-ヒドロキシエチルアクリレート25重量部とを溶液重合させて、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体を調整した。
得られた(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量(Mw)を以下に示す方法で測定したところ、50万であった。
[Example 1]
1. Preparation and use of film with improved machinability 1-(1) Preparation of main agent (A) Based on 100 parts by weight of the total monomer component, 30 parts by weight of butyl acrylate, 25 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, and isoborane 10 parts by weight of nil acrylate, 5 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of acryloylmorpholine, and 25 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate are solution-polymerized to obtain a (meth)acrylic acid ester co-polymer as the main agent (A). A polymer was prepared.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained (meth)acrylic acid ester copolymer was measured by the method described below and found to be 500,000.

また、かかる重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用い、以下の条件で測定(GPC測定)したポリスチレン換算の重量平均分子量である。
(測定条件)
・GPC測定装置:東ソー社製,HLC-8020
・GPCカラム(以下の順に通過):東ソー社製
TSK guard column HXL-H
TSK gel GMHXL(×2)
TSK gel G2000HXL
・測定溶媒:テトラヒドロフラン
・測定温度:40℃
Moreover, this weight average molecular weight (Mw) is the weight average molecular weight of polystyrene conversion measured on the following conditions (GPC measurement) using a gel permeation chromatography (GPC).
(Measurement condition)
・ GPC measurement device: HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation
・ GPC column (passed in the following order): TSK guard column HXL-H manufactured by Tosoh Corporation
TSK gel GMHXL (x2)
TSK gel G2000HXL
・Measurement solvent: tetrahydrofuran ・Measurement temperature: 40°C

なお、表1に記載の、略号等の詳細は、以下の通りである。
(主剤(A):((メタ)アクリル酸エステル共重合体))
BA:ブチルアクリレート
2EHA:アクリル酸2-エチルヘキシル
IBXA:アクリル酸イソボルニル
MMA:メチルメタクリレート
ACMO:N-アクリロイルモルフォリン
HEA:アクリル酸2-ヒドロキシエチル
AA:アクリル酸
4HBA:アクリル酸4-ヒドロキシブチル
HEMA:メタクリル酸2-ヒドロキシエチル
Details such as abbreviations in Table 1 are as follows.
(Main agent (A): ((meth)acrylate copolymer))
BA: butyl acrylate 2EHA: 2-ethylhexyl acrylate IBXA: isobornyl acrylate MMA: methyl methacrylate ACMO: N-acryloyl morpholine HEA: 2-hydroxyethyl acrylate AA: acrylic acid 4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate HEMA: methacrylic Acid 2-hydroxyethyl

1-(2) 機械加工性向上層を形成するための組成物の調整
次いで、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体(固形分)100重量部に対し、熱硬化性成分(B)として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネートを0.3重量部と、活性エネルギー線硬化性成分(C)として、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレートを8重量部と、光重合開始剤(D)として、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドを0.8重量部と、シランカップリング剤(E)として、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを0.3重量部の割合で配合し、均一になるまで攪拌して、メチルエチルケトンで希釈することにより、固形分濃度が30重量%である塗布溶液を得た。
1-(2) Adjustment of composition for forming machinability-improving layer 0.3 parts by weight of trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate as (B) and 8 parts by weight of ε-caprolactone-modified tris-(2-acryloxyethyl) isocyanurate as active energy ray-curable component (C). and 0.8 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide as a photopolymerization initiator (D) and 3-glycidoxypropyltrimethoxy as a silane coupling agent (E). Silane was blended at a ratio of 0.3 parts by weight, stirred until uniform, and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating solution having a solid content concentration of 30% by weight.

なお、表2中に記載の、略号等の詳細は、以下の通りである。
(熱硬化性成分(B))
B1:トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート
B2:トリメチロールプロパン変性キシレンジイソシアネート
B3:1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン
(活性エネルギー線硬化性成分(C))
C1:ε-カプロラクトン変性トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレート
C2:トリメチロールプロパントリアクリレート
C3:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Details such as abbreviations in Table 2 are as follows.
(Thermosetting component (B))
B1: trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate B2: trimethylolpropane-modified xylene diisocyanate B3: 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane (active energy ray-curable component (C))
C1: ε-caprolactone-modified tris-(2-acryloxyethyl) isocyanurate C2: trimethylolpropane triacrylate C3: dipentaerythritol hexaacrylate

1-(3)機械加工性向上層の形成工程
得られた塗布溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した重剥離型剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP-PET752150」)の剥離処理面に、乾燥後の厚さが15μmとなるように、バーコーターを用いて塗布した。
そして、塗布層に対し、90℃で1分間加熱処理して熱架橋反応を進行させ、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と熱硬化性成分(B)とから構成される架橋構造を有する機械加工性向上層を形成した。
1-(3) Step of Forming Machinability-Enhancing Layer The resulting coating solution was applied to a heavy-release type release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET752150 ”) was applied using a bar coater to a thickness of 15 μm after drying.
Then, the coating layer is heat-treated at 90° C. for 1 minute to allow the thermal crosslinking reaction to proceed, and a (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) and a thermosetting component (B) are formed. A machinability-enhancing layer having a crosslinked structure was formed.

次いで、上記で得られた重剥離型剥離フィルム上の塗布層と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した軽剥離型剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP-PET382120」)とを、当該軽剥離型剥離フィルムの剥離処理面が、機械加工性向上層に接触するように貼合し、23℃、50%RHの条件下で7日間養生することにより、重剥離型剥離フィルム/機械加工性向上層(厚さ:15μm)/軽剥離型剥離フィルムの構成からなる、評価用機械加工性向上フィルムを作成した。
なお、機械加工性向上層の厚さは、JIS K7130に準拠し、定圧厚さ測定器(テクロック社製,製品名「PG-02」)を使用して測定した値である。
Next, the coating layer on the heavy release release film obtained above and a light release release film (manufactured by Lintec, product name "SP-PET382120") in which one side of the polyethylene terephthalate film is release-treated with a silicone release agent. is laminated so that the release-treated surface of the light release release film is in contact with the machinability improving layer, and cured for 7 days under conditions of 23 ° C. and 50% RH to obtain a heavy release release. A machinability-improving film for evaluation consisting of a film/a machinability-improving layer (thickness: 15 μm)/lightly peelable release film was prepared.
The thickness of the machinability-enhancing layer is a value measured using a constant-pressure thickness gauge (manufactured by Teclock, product name "PG-02") in accordance with JIS K7130.

2.機械加工性向上フィルムの評価
2-(1)活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)の測定
評価用機械加工性向上フィルムのうち、機械加工性向上層から、軽剥離型剥離フィルムを剥離し、易接着層を有するポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡社製,製品名「PET A4300」,厚さ:100μm)の易接着層に貼合し、重剥離型剥離フィルム/機械加工性向上層(15μm)/PETフィルムの積層体を得た。
得られた積層体を25mm幅、150mm長に裁断し、これをサンプルとした。
23℃、50%RHの環境下にて、上記により得たサンプルから重剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層をガラス板に貼付したのち、2kgのローラーを1往復させることにより圧着した。
その後、23℃、50%RHの条件下で24時間放置してから、引張試験機(オリエンテック社製,テンシロン)を用い、剥離速度300mm/min、剥離角度180度の条件で粘着力(P1、N/25mm)を測定した。
なお、ここに記載した以外の条件はJIS Z 0237:2000に準拠して、測定を行った。結果を表2に示す。
2. Evaluation of machinability-improved film 2-(1) Measurement of adhesive strength (P1) before irradiation with active energy ray Of the machinability-improved film for evaluation, peel off the light release type release film from the machinability-improved layer. , A polyethylene terephthalate (PET) film having an easy-adhesive layer (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name "PET A4300", thickness: 100 μm) is laminated to an easy-adhesive layer, and a heavy-release type release film / machinability improvement layer ( 15 μm)/PET film laminate was obtained.
The laminate thus obtained was cut into a piece having a width of 25 mm and a length of 150 mm, which was used as a sample.
In an environment of 23 ° C. and 50% RH, peel the heavy release type release sheet from the sample obtained above, attach the exposed machinability improving layer to the glass plate, and then reciprocate a 2 kg roller once. crimped by
Then, after leaving it for 24 hours under the conditions of 23 ° C. and 50% RH, using a tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon), the adhesive strength (P1 , N/25 mm) were measured.
In addition, the conditions other than those described here were measured according to JIS Z 0237:2000. Table 2 shows the results.

2-(2)活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)の測定
23℃、50%RHの環境下にて、上記により得たサンプルから重剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層をガラス板に貼付したのち、2kgのローラーを1往復させることにより圧着し、PETフィルム側から活性エネルギー線として紫外線を下記条件で照射した。
その後、23℃、50%RHの条件下で24時間放置してから、引張試験機(オリエンテック社製,テンシロン)を用い、剥離速度300mm/min、剥離角度180度の条件で活性エネルギー線照射後の粘着力(P2、N/25mm)を測定した。
なお、ここに記載した以外の条件はJIS Z 0237:2000に準拠して、測定を行った。結果を表2に示す。
<紫外線照射条件>
・高圧水銀ランプ使用
・照度200mW/cm2,光量2000mJ/cm2
・UV照度・光量計はアイグラフィックス社製「UVPF-A1」を使用
2-(2) Measurement of adhesive strength (P2) after irradiation with active energy ray In an environment of 23 ° C. and 50% RH, the heavy release type release sheet was peeled off from the sample obtained above, and the exposed machinability After the improvement layer was attached to the glass plate, it was pressure-bonded by reciprocating a 2 kg roller once, and irradiated with ultraviolet rays as active energy rays from the PET film side under the following conditions.
Then, after leaving it for 24 hours under conditions of 23 ° C. and 50% RH, using a tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon), active energy ray irradiation was performed under the conditions of a peel speed of 300 mm / min and a peel angle of 180 degrees. Post adhesion (P2, N/25 mm) was measured.
In addition, the conditions other than those described here were measured according to JIS Z 0237:2000. Table 2 shows the results.
<Ultraviolet irradiation conditions>
・Using a high-pressure mercury lamp ・Illuminance 200mW/cm 2 , Light intensity 2000mJ/cm 2
・The UV illuminance/light meter uses “UVPF-A1” manufactured by Eye Graphics.

2-(3)粘着力の増加率の算出
上記で測定した活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)に対する、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)の増加率(=P2/P1×100、%)を算出した。結果を表2に示す。
2-(3) Calculation of increase rate of adhesive strength Increase rate of adhesive strength (P2) after active energy ray irradiation with respect to adhesive strength (P1) before active energy ray irradiation measured above (= P2 / P1 × 100 , %) were calculated. Table 2 shows the results.

2-(4)活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムのうち、機械加工性向上層のみをポリエステル製メッシュ(メッシュサイズ200)に包み、その質量を精密天秤にて秤量し、上記メッシュ単独の質量を差し引くことにより、機械加工性向上層のみの質量を算出した。このときの質量をm1とする。
次に、上記の手法で作成したポリエステル製メッシュに包まれた状態の機械加工性向上層を、室温下(23℃)で酢酸エチルに72時間浸漬させた。
その後、ポリエステル製メッシュに包まれた状態の機械加工性向上層を取り出し、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、24時間風乾させ、更に80℃のオーブン中にて12時間乾燥させた。
乾燥後、その質量を精密天秤にて秤量し、上記メッシュ単独の質量を差し引くことにより、機械加工性向上層のみの質量を算出した。このときの質量をm2とする。
上記にて算出した質量をもとに、活性エネルギー線照射前における機械加工性向上層のゲル分率(G1)(=(m2/m1)×100、%)を導出した。結果を表2に示す。
2-(4) Measurement of gel fraction (G1) before irradiation with active energy ray Of the obtained machinability-improving film for evaluation, only the machinability-improving layer was wrapped in a polyester mesh (mesh size 200), The mass was weighed with a precision balance, and the mass of the mesh alone was subtracted to calculate the mass of the machinability improving layer alone. Let the mass at this time be m1.
Next, the machinability-improving layer wrapped in the polyester mesh produced by the above method was immersed in ethyl acetate at room temperature (23° C.) for 72 hours.
After that, the machinability-enhancing layer wrapped in a polyester mesh was taken out, air-dried for 24 hours in an environment with a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%, and further dried in an oven at 80°C for 12 hours. .
After drying, the mass was weighed with a precision balance, and the mass of the machinability improving layer alone was calculated by subtracting the mass of the mesh alone. Let the mass at this time be m2.
Based on the mass calculated above, the gel fraction (G1) (=(m2/m1)×100, %) of the machinability improving layer before irradiation with active energy rays was derived. Table 2 shows the results.

2-(5)活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムから軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した機械加工性向上層に対して、上述した条件で活性エネルギー線を直接照射し、機械加工性向上層を硬化させた。
この硬化後の機械加工性向上層について、上記と同様にして活性エネルギー線照射後における機械加工性向上層のゲル分率(G2)を導出した。結果を表2に示す。
2-(5) Measurement of gel fraction (G2) after irradiation with active energy ray After peeling off the light release type release film from the obtained machinability-improving film for evaluation, the exposed machinability-improving layer was subjected to The active energy ray was directly irradiated under the conditions described above to cure the machinability improving layer.
For this cured machinability-improving layer, the gel fraction (G2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays was derived in the same manner as described above. Table 2 shows the results.

2-(6)ゲル分率の増加率の算出
上記で導出した活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)に対する、活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)の増加率(=G2/G1×100、%)を算出した。結果を表2に示す。
2-(6) Calculation of gel fraction increase rate Increase rate (= G2/ G1×100, %) was calculated. Table 2 shows the results.

2-(7)最大応力(S2)及び100%伸長時応力(E2)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムから軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した機械加工性向上層に対して、上述した条件で活性エネルギー線を直接照射し、機械加工性向上層を硬化させた。
この硬化後の機械加工性向上層のみについて、最大応力(S2、N/mm2)及び100%伸長時応力(E2、N/mm2)を、引張試験機(オリエンテック社製,テンシロン、剥離速度200mm/min)を用いて、測定した。
なお、ここに記載した以外の条件はJIS K 7162-2:2014に準拠して、測定を行った。結果を表2に示す。
2-(7) Measurement of maximum stress (S2) and stress at 100% elongation (E2) Peel off the light release type release film from the obtained machinability-improving film for evaluation, and measure the exposed machinability-improving layer. Then, an active energy ray was directly irradiated under the conditions described above to cure the machinability improving layer.
The maximum stress (S2, N/mm 2 ) and the stress at 100% elongation (E2, N/mm 2 ) of only this cured machinability-enhancing layer were measured using a tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon, peeling speed of 200 mm/min).
The measurement was performed under conditions other than those described here in accordance with JIS K 7162-2:2014. Table 2 shows the results.

2-(8)活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムのうち、機械加工性向上層のみにつき、JIS K7244-4:1999に準じて、粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント社製,ARES、周波数1Hz)を用いて、活性エネルギー線照射前における機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M1、MPa(25℃))を測定した。結果を表2に示す。
2-(8) Measurement of storage modulus (M1) before irradiation with active energy ray Of the obtained machinability-improved film for evaluation, only the machinability-improved layer was measured according to JIS K7244-4: 1999, Measure the storage modulus (M1, MPa (25°C)) of the machinability-enhancing layer before irradiation with active energy rays using a viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments, ARES, frequency 1 Hz). did. Table 2 shows the results.

2-(9)活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムから軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した機械加工性向上層に対して、上述した条件で活性エネルギー線を直接照射し、機械加工性向上層を硬化させた。
この硬化後の機械加工性向上層のみについて、上記と同様の条件にて、活性エネルギー線照射後における機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2、MPa(25℃))を測定した。結果を表2に示す。
2-(9) Measurement of storage elastic modulus (M2) after irradiation with active energy ray After peeling off the light-release type release film from the obtained machinability-improving film for evaluation, the exposed machinability-improving layer was subjected to The active energy ray was directly irradiated under the conditions described above to cure the machinability improving layer.
The storage elastic modulus (M2, MPa (25° C.)) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays was measured under the same conditions as above for only this cured machinability-improving layer. Table 2 shows the results.

2-(10)貯蔵弾性率の増加率の算出
上記で測定した活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)に対する、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)の増加率(=M2/M1×100、%)を算出した。結果を表2に示す。
2-(10) Calculation of increase rate of storage elastic modulus Increase rate (= M2/ M1×100, %) was calculated. Table 2 shows the results.

2-(11)切削性の評価
得られた評価用機械加工性向上フィルムの軽剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層を、PETフィルム(100μm)に貼付した。
更に、重剥離型剥離シートを剥離して、露出した機械加工性向上層を、PETフィルム(100μm)に貼付することで、試験片を得た。
上述した条件で活性エネルギー線を照射して、機械加工性向上層を硬化させた後、カッターを用いて、試験片の一方のPETフィルム面に対して鉛直方向に切断した。
そして、切断面を顕微鏡観察し、下記基準に沿って切削性を評価した。
◎:機械加工性向上層の欠けや伸びは観察されず、良好な切削面であった。
○:機械加工性向上層の欠けや伸びがわずかに見られたが、実用上問題ない切削面であった。
△:機械加工性向上層の欠けや伸びが見られ、実用上好ましくない切削面であった。
×:機械加工性向上層の欠けや伸びが観察され、実用上使用できない切削面であった。
2-(11) Evaluation of machinability The light release type release sheet of the obtained film for improving machinability for evaluation was peeled off, and the exposed machinability improving layer was attached to a PET film (100 µm).
Further, the heavy release type release sheet was peeled off, and the exposed machinability improving layer was attached to a PET film (100 μm) to obtain a test piece.
After curing the machinability improving layer by irradiating the active energy ray under the conditions described above, the test piece was cut vertically with respect to one PET film surface of the test piece using a cutter.
Then, the cut surface was observed under a microscope, and machinability was evaluated according to the following criteria.
A: No chipping or elongation of the machinability-enhancing layer was observed, and the cut surface was good.
◯: Slight chipping and elongation of the machinability-enhancing layer were observed, but the cut surface was practically satisfactory.
Δ: Chipping and elongation of the machinability-enhancing layer were observed, and the cut surface was practically unfavorable.
x: Chipping and elongation of the machinability-enhancing layer were observed, and the cut surface was practically unusable.

2-(12)耐久性の評価
得られた評価用機械加工性向上フィルムの軽剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層を、ポリメチルメタクリレート(PMMA)とポリカーボネート(PC)とが積層された樹脂板(厚さ:1mm、紫外線吸収剤含有)のポリカーボネート側の面に貼付した。
更に、評価用機械加工性向上フィルムから重剥離型剥離シートを剥離して、露出した機械加工性向上層を、機能性フィルムとしてのTACフィルム(厚み100μm)に貼付することで、試験片を得た。得られた試験片を、50℃、0.5MPaの条件下で30分間オートクレーブ処理した後、常圧、23℃、50%RHにて24時間放置した。
次いで、上述した条件で樹脂板側より活性エネルギー線を照射して、機械加工性向上層を硬化させた後、85℃、85%RHの高温高湿条件下にて500時間保管した。
その後、機械加工性向上層と被着体との界面における浮き剥がれを目視で確認し、以下の基準により耐久性を評価した。結果を表2に示す。
◎:気泡も浮き剥がれも確認できない。
○:微小な気泡がわずかに発生するが、大きな気泡や剥がれは確認できない。
△:中程度の気泡が発生し、大きな気泡や剥がれが僅かに確認される。
×:大きな気泡又は浮き剥がれが顕著に確認できる。
2-(12) Evaluation of Durability The light release type release sheet of the obtained film for improving machinability for evaluation was peeled off, and the exposed machinability improving layer was treated with polymethyl methacrylate (PMMA) and polycarbonate (PC). was attached to the surface of the polycarbonate side of the laminated resin plate (thickness: 1 mm, containing an ultraviolet absorber).
Furthermore, a test piece was obtained by peeling the heavy release type release sheet from the machinability-improving film for evaluation and attaching the exposed machinability-improving layer to a TAC film (thickness: 100 μm) as a functional film. rice field. The obtained test piece was autoclaved under conditions of 50° C. and 0.5 MPa for 30 minutes, and then left at normal pressure, 23° C. and 50% RH for 24 hours.
Then, under the conditions described above, the resin plate side was irradiated with active energy rays to cure the machinability improving layer, and then stored under high temperature and high humidity conditions of 85° C. and 85% RH for 500 hours.
After that, lifting and peeling at the interface between the machinability-enhancing layer and the adherend was visually confirmed, and the durability was evaluated according to the following criteria. Table 2 shows the results.
(double-circle): Neither air bubbles nor floating peeling can be confirmed.
◯: Although minute air bubbles are slightly generated, no large air bubbles or peeling can be confirmed.
Δ: Moderate air bubbles are generated, and large air bubbles and peeling are slightly observed.
x: Large air bubbles or floating peeling can be remarkably confirmed.

[実施例2~9、比較例1~4]
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体の組成および分子量、熱硬化性成分(B)の種類及び配合量、活性エネルギー線硬化性成分(C)の種類及び配合量、光重合開始剤(D)の配合量、シランカップリング剤(E)の配合量を、表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様に、機械加工性向上フィルムを得て、機械加工性向上フィルムの評価を行った。得られた結果を表2に示す。
[Examples 2 to 9, Comparative Examples 1 to 4]
Composition and molecular weight of (meth)acrylic acid ester copolymer as main agent (A), type and amount of thermosetting component (B), type and amount of active energy ray-curable component (C), photopolymerization A film with improved machinability was obtained and machined in the same manner as in Example 1, except that the blending amount of the initiator (D) and the blending amount of the silane coupling agent (E) were changed as shown in Table 1. The property-enhancing film was evaluated. Table 2 shows the results obtained.

Figure 0007108505000001
Figure 0007108505000001

Figure 0007108505000002
Figure 0007108505000002

以上、詳述したように、本発明の機械加工性向上フィルムによれば、所定の樹脂板に貼付し、更に活性エネルギー線を照射した後の機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2)を所定値とすることにより、機械処理装置を用いて、樹脂板を含んだ状態で、機械加工性向上層を同時に切削等したような場合であっても、良好な切削性が得られるようになった。
また、本発明の機械加工性向上フィルムによれば、活性エネルギー線を照射した後の機械加工性向上層の粘着力(P2)を所定値とすることにより、良好な耐久性が得られるようになった。
As described in detail above, according to the machinability-improving film of the present invention, the storage elastic modulus (M2) of the machinability-improving layer after being attached to a predetermined resin plate and further irradiated with active energy rays is By setting the value to a predetermined value, good machinability can be obtained even when the machinability improving layer is cut at the same time while the resin plate is included, using a mechanical processing device. rice field.
Further, according to the machinability-improving film of the present invention, by setting the adhesion (P2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays to a predetermined value, good durability can be obtained. became.

そして、そのような機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルム、そのような機械加工性向上層を含む積層体(機械加工性向上フィルムが貼付された樹脂板)及び、そのような機械加工性向上フィルムの効率的な使用方法を提供できるようになった。
したがって、本発明の機械加工性向上フィルムは、タッチパネルや液晶表示装置等における生産効率化や高品質化等に寄与することが期待される。
Then, a machinability-improving film provided with such a machinability-improving layer, a laminate including such a machinability-improving layer (resin plate to which the machinability-improving film is attached), and such a machine It has become possible to provide an efficient method of using the workability-enhancing film.
Therefore, the machinability-improving film of the present invention is expected to contribute to production efficiency and quality improvement in touch panels, liquid crystal display devices, and the like.

10、10´:積層体
12:樹脂板
13:機械加工性向上層を形成するための組成物を由来とした樹脂層
14:機械加工性向上層
14´:硬化後の機械加工性向上層
16:所定基材(機能性フィルム等)
16´:所定基材(剥離フィルム等)
18、18´:機械加工性向上フィルム
10, 10': Laminate 12: Resin plate 13: Resin layer derived from a composition for forming a machinability-improving layer 14: Machinability-improving layer 14': Machinability-improving layer 16 after curing : Predetermined base material (functional film, etc.)
16': Predetermined base material (release film, etc.)
18, 18': Machinability-enhancing film

Claims (9)

厚さを200~10000μmの範囲内の値とする樹脂板に貼付する、所定基材としての機能性フィルム又は剥離フィルムに積層してなる活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルムであって、
前記樹脂板に対して貼付した状態の、前記機械加工性向上層につき、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率が0.2MPa以上の値であり、
活性エネルギー線照射後の粘着力を10N/25mm以上の値とすることを特徴とする機械加工性向上フィルム。
A machine equipped with an active energy ray-curable machinability-enhancing layer laminated on a functional film or release film as a predetermined substrate, which is attached to a resin plate having a thickness in the range of 200 to 10,000 μm. A processability improving film,
The storage modulus of the machinability-enhancing layer attached to the resin plate after irradiation with an active energy ray is 0.2 MPa or more,
A machinability-improving film characterized by having an adhesive strength of 10 N/25 mm or more after being irradiated with an active energy ray.
活性エネルギー線照射後の、前記機械加工性向上層のゲル分率を60%以上の値とすることを特徴とする請求項に記載の機械加工性向上フィルム。 2. The machinability-improving film according to claim 1 , wherein the machinability-improving layer has a gel fraction of 60% or more after irradiation with active energy rays. 活性エネルギー線照射前における、前記機械加工性向上層の貯蔵弾性率を0.01~1MPaの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の機械加工性向上フィルム。 3. The machinability-improving film according to claim 1 , wherein the machinability-improving layer has a storage elastic modulus of 0.01 to 1 MPa before irradiation with active energy rays. 活性エネルギー線照射後における、前記機械加工性向上層の貯蔵弾性率を0.2~5MPaの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1~のいずれか一項に記載の機械加工性向上フィルム。 The machining according to any one of claims 1 to 3 , wherein the storage modulus of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays is set to a value within the range of 0.2 to 5 MPa. performance-enhancing film. 活性エネルギー線照射前における、前記機械加工性向上層の貯蔵弾性率をM1とし、活性エネルギー線照射後における、前記機械加工性向上層の貯蔵弾性率をM2としたときに、M2/M1×100で表された数値を320~30000%の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1~のいずれか一項に記載の機械加工性向上フィルム。 M2/M1×100, where M1 is the storage modulus of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays, and M2 is the storage modulus of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays. The machinability-improving film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the numerical value represented by is within the range of 320 to 30000%. 前記機械加工性向上層の厚さを3~40μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1~のいずれか一項に記載の機械加工性向上フィルム。 The machinability-improving film according to any one of claims 1 to 5 , wherein the machinability-improving layer has a thickness in the range of 3 to 40 µm. 請求項1~のいずれか一項の機械加工性向上フィルムが、樹脂板に貼付されてなることを特徴とする積層体。 A laminate comprising the machinability-enhancing film according to any one of claims 1 to 6 attached to a resin plate. 前記樹脂板が、光学用樹脂板であることを特徴とする請求項に記載の積層体。 8. The laminate according to claim 7 , wherein the resin plate is an optical resin plate. 請求項1~のいずれか一項に記載の機械加工性向上フィルムの使用方法であって、下記工程(1)~(4)を含むことを特徴とする機械加工性向上フィルムの使用方法。
(1)所定基材としての機能性フィルムの表面に、活性エネルギー線硬化性成分を含む組成物を塗布し、加熱処理することにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルムとする工程
(2)前記機械加工性向上フィルムを、樹脂板に貼付する工程
(3)樹脂板又は所定基材側から活性エネルギー線を照射し、前記機械加工性向上層中における活性エネルギー線硬化性成分を硬化させ、硬化後の機械加工性向上層とする工程
(4)硬化後の機械加工性向上層及び樹脂板を含む積層体に対して、所定の機械加工処理を施す工程
A method of using the machinability-improving film according to any one of claims 1 to 6 , comprising the following steps (1) to (4).
(1) A machine provided with an active energy ray-curable machinability-enhancing layer by applying a composition containing an active energy ray-curable component to the surface of a functional film as a predetermined substrate and heat-treating it. (2) Step of attaching the machinability-improving film to a resin plate (3) Irradiating an active energy ray from the side of the resin plate or a predetermined base material to form a film in the machinability-improving layer Step (4): Curing the active energy ray-curable component to form a cured machinability-improving layer; process
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