JP7227797B2 - Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film - Google Patents

Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film Download PDF

Info

Publication number
JP7227797B2
JP7227797B2 JP2019044442A JP2019044442A JP7227797B2 JP 7227797 B2 JP7227797 B2 JP 7227797B2 JP 2019044442 A JP2019044442 A JP 2019044442A JP 2019044442 A JP2019044442 A JP 2019044442A JP 7227797 B2 JP7227797 B2 JP 7227797B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
machinability
active energy
film
meth
improving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019044442A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020147640A (en
Inventor
翔 小鯖
洋一 高橋
隆行 荒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2019044442A priority Critical patent/JP7227797B2/en
Publication of JP2020147640A publication Critical patent/JP2020147640A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7227797B2 publication Critical patent/JP7227797B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、機械加工性向上フィルム、積層体(機械加工性向上フィルムを貼付した樹脂板)、及び機械加工性向上フィルムの使用方法に関する。
特に、タッチパネルや液晶表示装置等を製造する際に用いる、切削性や耐久性等に優れた機械加工性向上フィルム、積層体、及びそのような機械加工性向上フィルムの使用方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a machinability-improving film, a laminate (a resin plate to which a machinability-improving film is attached), and a method of using the machinability-improving film.
In particular, the present invention relates to a machinability-improving film and laminate excellent in machinability, durability, and the like, and a method of using such a machinability-improving film, which are used when manufacturing touch panels, liquid crystal display devices, and the like.

従来、光の干渉による干渉縞の発生を抑制し、かつ、加飾フィルムが容易に交換できることを目的としたタッチパネルが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
より具体的には、タッチ入力を受け付ける操作領域とタッチ入力を受け付けない非操作領域とを有するタッチパネルであって、前記操作領域に対応する前記加飾フィルムの下面に凹凸が形成されていることを特徴とするタッチパネル装置である。
Conventionally, there has been proposed a touch panel aimed at suppressing the generation of interference fringes due to light interference and enabling easy replacement of decorative films (see, for example, Patent Document 1).
More specifically, the touch panel has an operation area for receiving touch input and a non-operation area for not receiving touch input, and unevenness is formed on the lower surface of the decorative film corresponding to the operation area. It is a touch panel device characterized by the following.

また、タッチパネルや液晶表示装置等において、凹凸を有する一対の光学部材同士を接着するのに適した粘着シートが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
より具体的には、ベースポリマー(A)と、重合性不飽和基を少なくとも1つ有する単量体(B)と、熱架橋剤(C)と、重合開始剤(D)と、溶剤(E)と、を含有する粘着組成物を加熱により半硬化させた粘着剤を含む粘着剤層(X)を備える粘着シートである。
Further, in a touch panel, a liquid crystal display device, etc., a pressure-sensitive adhesive sheet suitable for bonding a pair of uneven optical members has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
More specifically, a base polymer (A), a monomer (B) having at least one polymerizable unsaturated group, a thermal cross-linking agent (C), a polymerization initiator (D), and a solvent (E ), and a pressure-sensitive adhesive layer (X) comprising a pressure-sensitive adhesive layer (X) obtained by semi-curing a pressure-sensitive adhesive composition containing and by heating.

更にまた、打ち抜き加工の際に、粘着剤がはみ出しにくく、切断面における粘着剤はみ出し付着が少なくて、取り扱い時に糊汚染や糊欠けが生じにくい光学部材も提案されている(例えば、特許文献3参照)。
より具体的には、打ち抜き加工した際に、その切断面において粘着剤以外の部分に付着する粘着剤の面積を、粘着層の面積の20%以下とした光学部材である。
Furthermore, an optical member has been proposed in which the adhesive is less likely to protrude during the punching process, less adhesion of the adhesive to the cut surface, and less likely to cause adhesive contamination or adhesive failure during handling (see, for example, Patent Document 3). ).
More specifically, it is an optical member in which the area of the adhesive that adheres to the portion other than the adhesive on the cut surface when punched is set to 20% or less of the area of the adhesive layer.

特開2018-5698号公報(特許請求の範囲等)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-5698 (Claims, etc.) WO2013-61938号公報(特許請求の範囲等)WO2013-61938 (Claims etc.) 特開2001-235626号公報(特許請求の範囲等)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-235626 (Claims, etc.)

しかしながら、特許文献1に開示されているタッチパネル装置は、所定の外装ユニット(板金/接着層/加飾フィルム)を備え、このような外装ユニットは、板金及び接着層がそれぞれ所定の形状に加工された後で積層されて製造される。このため、当該外装ユニットを得るためには、製造工程が多いことが難点である。
その上、接着層は、加飾フィルムが容易に交換可能である設計としていること、及び粘着力について、何ら考慮していないことから、耐久条件(例えば、85℃、85%RH、500時間等)に供した場合、接着界面において浮きや剥がれの発生によって加飾フィルムから接着剤層が剥離して、耐久性が乏しくなるという問題も見られた。
However, the touch panel device disclosed in Patent Document 1 includes a predetermined exterior unit (metal sheet/adhesive layer/decorative film), and in such an exterior unit, the metal sheet and the adhesive layer are each processed into a predetermined shape. After that, it is laminated and manufactured. Therefore, it is difficult to obtain the exterior unit in that there are many manufacturing processes.
In addition, since the adhesive layer is designed so that the decorative film can be easily replaced, and no consideration is given to the adhesive strength, durability conditions (e.g., 85 ° C., 85% RH, 500 hours, etc.) ), there was also a problem that the adhesive layer was peeled off from the decorative film due to the occurrence of floating or peeling at the adhesive interface, resulting in poor durability.

また、特許文献2に開示されている粘着シートは、凹凸を有する一対の光学部材同士の接着のみを考慮しており、粘着シートを光学部材同士の間に挟んで、所定形状に切削加工することまでは、何ら考慮していなかった。
したがって、粘着剤層のゲル分率の値を何ら考慮していないことから、粘着シートの切削性が乏しいという問題も見られた。
In addition, the adhesive sheet disclosed in Patent Document 2 is intended only for bonding a pair of optical members having unevenness, and the adhesive sheet is sandwiched between the optical members and cut into a predetermined shape. Up until now, I hadn't considered anything.
Therefore, since the value of the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer is not taken into consideration at all, the problem of poor machinability of the pressure-sensitive adhesive sheet has also been observed.

更にまた、特許文献3に開示されている光学部材は、具体的に、打ち抜き加工した際に、その切断面において粘着剤以外の部分に付着する粘着剤の面積を、粘着層の面積の20%以下とする制御方法が記載されておらず、実用性に乏しいという問題が見られた。 Furthermore, in the optical member disclosed in Patent Document 3, specifically, when punched, the area of the adhesive that adheres to the portion other than the adhesive on the cut surface is 20% of the area of the adhesive layer. There was a problem that the following control method was not described and that it was not practical.

そこで、本発明者等は、以上のような事情に鑑みて鋭意努力したところ、基材と活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルムとし、かつ、活性エネルギー線照射後の、機械加工性向上層のゲル分率(G1)を所定値以上の値とすることで、切削装置等を用いて、樹脂板を含んだ状態で、基材の一つである機能性フィルム等及び機械加工性向上層を切削した場合であっても、良好な切削性等が得られることを見出した。
また、活性エネルギー線照射前の機械加工性向上層の粘着力(P1)を所定値以上とし、かつ、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の粘着力(P2)を所定値以上とすることで、良好な耐久性が得られることも見出し、ひいては、上述した切削性の問題とともに、耐久性の問題も解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、タッチパネルや液晶表示装置等の樹脂板とともに、基材を同時に機械加工処理(切削処理等)する際に、優れた機械加工処理性(切削性)や耐久性が得られる機械加工性向上フィルム、そのような機械加工性向上フィルムを樹脂板に貼付してなる積層体、及びそのような機械加工性向上フィルムの効率的な使用方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present inventors have made earnest efforts in view of the above circumstances, and have made a machinability-improving film comprising a substrate and an active energy ray-curable machinability-improving layer, and an active energy ray By setting the gel fraction (G1) of the machinability-improving layer after irradiation to a value equal to or higher than a predetermined value, a cutting device or the like is used to cut the resin plate, which is one of the base materials. It has been found that good machinability and the like can be obtained even when the mechanical film and the machinability improving layer are cut.
Further, the adhesive strength (P1) of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays is set to a predetermined value or more, and the adhesive strength (P2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays is set to a predetermined value or more. The present inventors have also found that good durability can be obtained by this, and that the problem of durability as well as the above-described problem of machinability can be solved, thus completing the present invention.
That is, the present invention provides a machine capable of obtaining excellent machinability (cuttability) and durability when simultaneously machining (cutting, etc.) a base material together with a resin plate such as a touch panel or a liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide a workability-improving film, a laminate obtained by attaching such a machinability-improving film to a resin plate, and an efficient method of using such a machinability-improving film.

本発明によれば、基材と、活性エネルギー線硬化性成分及び架橋性成分の反応物を含む活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層から構成されており、活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)を、1N/25mm以上の値とする。
それとともに、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)を10N/25mm以上の値とし、かつ、活性エネルギー線照射後の、機械加工性向上層のゲル分率(G1)を75%以上の値とすることを特徴とする機械加工性向上フィルムが提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、このように機械加工性向上フィルムを構成し、活性エネルギー線の照射前の粘着力(P1)を所定値以上とし、かつ、活性エネルギー線照射後の、機械加工性向上層のゲル分率(G1)を所定値以上の値とすることで、樹脂板を含んだ状態で、機械加工性向上フィルムを同時に切削した場合であっても、機械加工性向上フィルムと、樹脂板との間の境界面が極めて明瞭であって、良好な切削性を得ることができる。
また、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)を所定値以上とすることで、タッチパネルや液晶表示装置等の樹脂板に対して、機械加工性向上層を貼付した場合に、良好な耐久性も得ることができる。
According to the present invention, it is composed of a substrate and an active energy ray-curable machinability improving layer containing a reaction product of an active energy ray-curable component and a crosslinkable component, and adhesive strength before active energy ray irradiation. Let (P1) be a value of 1 N/25 mm or more.
At the same time, the adhesive strength (P2) after irradiation with active energy rays is set to a value of 10 N/25 mm or more, and the gel fraction (G1) of the machinability improving layer after irradiation of active energy rays is set to a value of 75% or more. A machinability-enhancing film characterized by is provided to solve the above-mentioned problems.
That is, the machinability-improving film is configured in this way, the adhesive strength (P1) before irradiation with active energy rays is set to a predetermined value or more, and the gel fraction of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays By setting (G1) to a value equal to or greater than a predetermined value, even when the machinability-improving film is cut at the same time while the resin plate is included, the gap between the machinability-improving film and the resin plate The interface is very clear and good machinability can be obtained.
In addition, by setting the adhesive strength (P2) after irradiation with active energy rays to a predetermined value or more, good durability is obtained when the machinability improving layer is attached to a resin plate such as a touch panel or a liquid crystal display device. can also be obtained.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、架橋性成分の反応物が、反応性官能基含有モノマー及び(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーに由来した(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、熱架橋剤と、の反応物であることが好ましい。
このように架橋性成分の反応物を構成することにより、良好な反応性を維持でき、機械加工性向上層の凝集力を得ることが容易になる。
In forming the machinability-improved film of the present invention, the reactant of the crosslinkable component is a (meth)acrylic acid ester copolymer derived from a reactive functional group-containing monomer and a (meth)acrylic acid alkyl ester monomer. and a thermal cross-linking agent.
By forming the reactant of the crosslinkable component in this manner, good reactivity can be maintained, and cohesive strength of the machinability-enhancing layer can be easily obtained.

また、本発明の機械加工性向上フィルムを構成するにあたり、反応性官能基含有モノマーが、水酸基含有モノマー又はカルボキシ基含有モノマーであることが好ましい。
このように反応性官能基含有モノマーを有することにより、架橋性成分との反応性を、優れたものとすることができ、良好な架橋構造が形成され易くなる。
その結果、得られる機械加工性向上層は、被膜強度が比較的高く、良好な切削性を有するものとなる。
In forming the machinability-improved film of the present invention, the reactive functional group-containing monomer is preferably a hydroxyl group-containing monomer or a carboxy group-containing monomer.
By having such a reactive functional group-containing monomer, the reactivity with the crosslinkable component can be made excellent, and a good crosslinked structure can be easily formed.
As a result, the resulting machinability-enhancing layer has relatively high film strength and good machinability.

また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの機械加工性向上フィルムが、樹脂板に貼付されてなることを特徴とする積層体である。
このような樹脂板及び機械加工性向上フィルムを含む積層体であれば、各種機器において使用される各種機能性フィルムを、機械加工性向上層を介して、樹脂板とともに精度良く機械加工処理(切削処理)して、樹脂板付きの機能性フィルム等の積層体として容易に製造することができる。
Another aspect of the present invention is a laminate comprising any one of the machinability-improving films described above attached to a resin plate.
In the case of a laminate including such a resin plate and machinability-enhancing film, various functional films used in various devices can be precisely machined (cut) together with the resin plate through the machinability-enhancing layer. processing) to easily produce a laminate such as a functional film with a resin plate.

また、本発明の積層体を構成するにあたり、樹脂板が、光学用樹脂板であることが好ましい。
このような光学用樹脂板を含む積層体であれば、タッチパネルや液晶表示装置等の光学機器において、それらに使用される各種機能性フィルム等を、光学用樹脂板とともに精度良く機械加工処理(切削処理)し、機械加工性向上層を介して、光学用樹脂板付きの機能性フィルム等として製造することができる。
Moreover, in forming the laminate of the present invention, the resin plate is preferably an optical resin plate.
If it is a laminate containing such an optical resin plate, in optical devices such as touch panels and liquid crystal display devices, various functional films used in them can be precisely machined (cut) together with the optical resin plate. processing), and through the machinability improving layer, it can be produced as a functional film with an optical resin plate or the like.

また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの機械加工性向上フィルムの使用方法であって、下記工程(1)~(3)を含むことを特徴とする機械加工性向上フィルムの使用方法である。
(1)機械加工性向上フィルムを、樹脂板に貼付する工程
(2)活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性成分を硬化させる工程
(3)機械加工性向上層及び樹脂板を含む積層体に対して、所定の機械加工処理を施す工程
このように機械加工性向上フィルムを使用することにより、タッチパネルや液晶表示装置等において、機能性フィルム付きの樹脂板を製造する際に、切削装置等の機械処理装置を用いて、機械加工性向上層を介して樹脂板及び機能性フィルムを機械加工処理した場合に、機械加工性向上フィルムと、樹脂板との境界面が極めて明瞭であり、良好な機械加工性(切削性や耐久性等)を得ることができる。
Further, still another aspect of the present invention is a method of using any one of the machinability-improved films described above, wherein the machinability-improved film includes the following steps (1) to (3): How to use.
(1) Step of attaching a machinability-improving film to a resin plate (2) Step of irradiating an active energy ray to cure an active energy ray-curable component (3) Lamination including a machinability-improving layer and a resin plate By using the machinability improving film in this way, when manufacturing a resin plate with a functional film in a touch panel or a liquid crystal display device, a cutting device can be used. When the resin plate and the functional film are machined through the machinability-improving layer using a mechanical processing apparatus such as Good machinability (cuttability, durability, etc.) can be obtained.

図1(a)~(b)は、機械加工性向上フィルムを用いてなる積層体の構成例をそれぞれ説明するために供する図である。FIGS. 1(a) and 1(b) are diagrams provided for explaining configuration examples of laminates each using a machinability-enhancing film. 図2(a)~(e)は、熱架橋工程を含む機械加工性向上フィルムの製造方法及び、当該機械加工性向上フィルムを用いた、積層体の製造方法を説明するために供する図である。FIGS. 2A to 2E are diagrams provided for explaining a method for manufacturing a machinability-improved film including a thermal crosslinking step and a method for manufacturing a laminate using the machinability-improved film. . 図3(a)~(f)は、基材として機能性フィルムを用いた、機械加工性向上フィルムを用いてなる積層体の作成工程及び使用工程を説明するために供する図である(その1)。FIGS. 3(a) to 3(f) are diagrams provided for explaining the production process and the use process of a laminate using a functional film as a base material and a film for improving machinability (part 1 ). 図4(a)~(f)は、基材として剥離フィルムを用いた、機械加工性向上フィルムを用いてなる、別の積層体の作成工程及び使用工程を説明するために供する図である(その2)。FIGS. 4(a) to 4(f) are diagrams provided for explaining the steps of creating and using another laminate using a release film as a base material and a machinability-improving film ( Part 2).

[第1の実施形態]
本発明の第1の実施形態は、図1(a)~(b)に例示されるように、樹脂板12に貼付する、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14、及び、基材(機能性フィルム等)16を備えてなる機械加工性向上フィルム18である。
そして、樹脂板12に対して積層した状態の機械加工性向上層14の、活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)が1N/25mm以上の値であり、活性エネルギー線の照射後の粘着力(P2)が10N/25mm以上の値であるとともに、活性エネルギー線照射後の、機械加工性向上層14´のゲル分率を75%以上の値とすることを特徴とする機械加工性向上フィルム18である。
以下、適宜図面を参照しつつ、第1の実施形態の機械加工性向上フィルム18を、構成要件ごとに、具体的に説明する。
なお、図1(a)は、機械加工性向上フィルム18を積層してなる樹脂板12から構成されてなる積層体10の態様を例示しており、図1(b)は、別の積層体10の一態様であって、機械加工性向上層14の一部に、所定空間14aを有するタッチパネル(但し、電気配線等を省略)の一例を示している。
[First embodiment]
The first embodiment of the present invention, as exemplified in FIGS. It is a machinability-enhancing film 18 comprising a (functional film, etc.) 16 .
The adhesive strength (P1) of the machinability improving layer 14 in a state of being laminated on the resin plate 12 before the active energy ray irradiation is 1 N/25 mm or more, and the adhesive strength after the active energy ray irradiation. A machinability-improving film characterized by having (P2) a value of 10 N/25 mm or more and a gel fraction of a machinability-improving layer 14' after irradiation with an active energy ray of 75% or more. is 18.
Hereinafter, the machinability-enhancing film 18 of the first embodiment will be specifically described for each component with reference to the drawings as appropriate.
Note that FIG. 1(a) illustrates a mode of a laminate 10 composed of a resin plate 12 laminated with a machinability improving film 18, and FIG. 1(b) shows another laminate. 10, showing an example of a touch panel having a predetermined space 14a in a part of the machinability improving layer 14 (however, electric wiring etc. are omitted).

1.樹脂板
(1)種類
図1(a)等に示される樹脂板12の種類としては、特に制限されるものではないが、機械加工性が良好なため、公知の透明又は半透明の樹脂板を用いることが好ましい。
1. Resin Plate (1) Type The type of the resin plate 12 shown in FIG. It is preferable to use

このような樹脂板として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂板、ポリエチレン樹脂板、ポリプロピレン樹脂板、ジアセチルセルロース樹脂板、トリアセチルセルロース樹脂板、アセチルセルロースブチレート樹脂板、ポリ塩化ビニル樹脂板、ポリ塩化ビニリデン樹脂板、ポリビニルアルコール樹脂板、エチレン-酢酸ビニル共重合体樹脂板、ポリスチレン樹脂板、ポリカーボネート樹脂板、ポリメチルペンテン樹脂板、ポリスルホン樹脂板、ポリエーテルエーテルケトン樹脂板、ポリエーテルスルホン樹脂板、ポリエーテルイミド樹脂板、ポリイミド樹脂板、フッ素樹脂板、ポリアミド樹脂板、アクリル樹脂板、ノルボルネン系樹脂板、シクロオレフィン樹脂板等が挙げられる。 Examples of such resin plates include polyester resin plates such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene resin plates, polypropylene resin plates, diacetylcellulose resin plates, triacetylcellulose resin plates, and acetylcellulose butyrate resin plates. , polyvinyl chloride resin plate, polyvinylidene chloride resin plate, polyvinyl alcohol resin plate, ethylene-vinyl acetate copolymer resin plate, polystyrene resin plate, polycarbonate resin plate, polymethylpentene resin plate, polysulfone resin plate, polyether ether ketone Resin plates, polyethersulfone resin plates, polyetherimide resin plates, polyimide resin plates, fluororesin plates, polyamide resin plates, acrylic resin plates, norbornene resin plates, cycloolefin resin plates, and the like.

これらの中でも、光学特性や耐熱性が良好であって、寸法安定性にも優れていることから、ポリエステル樹脂板、ポリカーボネート樹脂板、ポリメチルペンテン樹脂板、ポリスルホン樹脂板、アクリル樹脂板、ポリエーテルエーテルケトン樹脂板、ポリイミド樹脂板、ノルボルネン系樹脂板、シクロオレフィン樹脂板の少なくとも一つであることがより好ましい。
また、透明性や、機械的強度、柔軟性、加工性、耐候性、更には経済性にも優れていることから、特に、アクリル樹脂板(MMA樹脂板等)やポリカーボネート樹脂板であることが更に好ましい。
Among these, polyester resin plate, polycarbonate resin plate, polymethylpentene resin plate, polysulfone resin plate, acrylic resin plate, and polyether resin plate have excellent optical properties and heat resistance and are excellent in dimensional stability. More preferably, it is at least one of an ether ketone resin plate, a polyimide resin plate, a norbornene resin plate, and a cycloolefin resin plate.
In addition, acrylic resin plates (MMA resin plates, etc.) and polycarbonate resin plates are particularly preferred because they are excellent in transparency, mechanical strength, flexibility, workability, weather resistance, and economic efficiency. More preferred.

(2)厚さ
図1(a)等に示される樹脂板12の厚さを、通常、200~10000μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる樹脂板12の厚さが200μm未満の値となると、樹脂板12の強度が低下したり、樹脂板12を含むタッチパネル等の配置固定性が低下したりする場合があるためである。
一方、樹脂板12の厚さが10000μmを超えた値となると、機械加工性向上層14、14´を介して、樹脂板12と、基材16としての機能性フィルム等とを同時に機械加工処理することが困難となる場合があるためである。
したがって、樹脂板12の厚さを500~5000μmの範囲内の値とすることがより好ましく、700~2000μmの範囲内の値とすることが更に好ましい。
(2) Thickness It is preferable that the thickness of the resin plate 12 shown in FIG.
The reason for this is that if the thickness of the resin plate 12 is less than 200 μm, the strength of the resin plate 12 may be reduced, or the arrangement fixability of the touch panel including the resin plate 12 may be reduced. be.
On the other hand, when the thickness of the resin plate 12 exceeds 10000 μm, the resin plate 12 and the functional film or the like as the base material 16 are simultaneously machined through the machinability improving layers 14 and 14′. This is because it may be difficult to
Therefore, it is more preferable to set the thickness of the resin plate 12 to a value within the range of 500 to 5000 μm, and more preferably to a value within the range of 700 to 2000 μm.

(3)光学特性
樹脂板12の光学特性に関し、タッチパネルや液晶表示装置等の用途に使用可能な程度に透明性を有することが好ましい。
具体的には、樹脂板12の可視光透過率が過度に低くなると、歩留まりが著しく低下したり、使用可能な構成材料の種類が過度に制限されたりする場合がある。
したがって、樹脂板12の可視光透過率の下限として、60%以上の値とすることが好ましく、75%以上の値とすることがより好ましく、85%以上の値とすることが更に好ましい。
一方、樹脂板12の可視光透過率の上限は、通常、100%以下であり、99.9%以下の値とすることが好ましく、99%以下の値とすることがより好ましく、98%以下の値とすることが更に好ましい。
(3) Optical Properties Regarding the optical properties of the resin plate 12, it is preferable that the resin plate 12 has transparency to the extent that it can be used for applications such as touch panels and liquid crystal display devices.
Specifically, if the visible light transmittance of the resin plate 12 is excessively low, the yield may be remarkably lowered, or the types of usable constituent materials may be excessively limited.
Therefore, the lower limit of the visible light transmittance of the resin plate 12 is preferably 60% or more, more preferably 75% or more, and even more preferably 85% or more.
On the other hand, the upper limit of the visible light transmittance of the resin plate 12 is usually 100% or less, preferably 99.9% or less, more preferably 99% or less, and 98% or less. is more preferable.

(4)添加剤
樹脂板12において、耐久性、物理特性、機械特性等を改良すべく、酸化防止剤、加水分解防止剤、紫外線吸収剤、無機フィラー、有機フィラー、無機繊維、有機繊維、導電性材料、電気絶縁性材料、金属イオン捕捉剤、軽量化剤、充填剤、研磨剤、着色剤、粘度調整剤等の少なくとも一つの公知の添加剤を、配合することも好ましい。
そして、これらの公知の添加剤を樹脂板中に配合する場合、その添加剤の種類にもよるが、通常、その配合量を、樹脂板12の全体量(100重量%)に対して、0.1~30重量%の範囲内の値とすることが好ましく、0.5~20重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、1~10重量%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(4) Additives In the resin plate 12, antioxidants, hydrolysis inhibitors, ultraviolet absorbers, inorganic fillers, organic fillers, inorganic fibers, organic fibers, and conductive additives are added to improve the durability, physical properties, mechanical properties, and the like. It is also preferable to add at least one known additive such as a conductive material, an electrically insulating material, a metal ion scavenger, a weighting agent, a filler, an abrasive, a coloring agent, a viscosity modifier, and the like.
When these known additives are blended into the resin plate, the blending amount is usually set to 0 with respect to the total amount (100% by weight) of the resin plate 12, although it depends on the type of the additive. A value in the range of 1 to 30% by weight is preferable, a value in a range of 0.5 to 20% by weight is more preferable, and a value in a range of 1 to 10% by weight is preferable. More preferred.

2.機械加工性向上層
本実施形態における機械加工性向上層14は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、架橋性成分(B)と、活性エネルギー線硬化性成分(C)を必須成分とする、機械加工性向上層14を形成するための組成物に由来した樹脂層13(前駆体と称する場合がある。)を加熱処理によって熱架橋することで得ることができる。
すなわち、かかる機械加工性向上層14は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、架橋性成分(B)とが熱によって形成される架橋構造からなる反応物と、未硬化の活性エネルギー線硬化性成分(C)によって構成される。この機械加工性向上層14に、活性エネルギー線照射により、活性エネルギー線硬化性成分(C)が架橋することで、前記反応物と複雑に絡み合った架橋構造が形成されることにより、硬化後の機械加工性向上層14´を得ることができる。
2. Machinability-improving layer The machinability-improving layer 14 in the present embodiment includes a (meth)acrylic acid ester copolymer as a main agent (A), a crosslinkable component (B), and an active energy ray-curable component (C ) as an essential component and is derived from a composition for forming the machinability improving layer 14 (sometimes referred to as a precursor).
That is, the machinability-improving layer 14 is composed of a (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) and a crosslinkable component (B), which is a reaction product composed of a crosslinked structure formed by heat, and It is composed of a curing active energy ray-curable component (C). The active energy ray-curable component (C) crosslinks the machinability-improving layer 14 by irradiating the active energy ray, thereby forming a crosslinked structure that is intricately entangled with the reaction product. A machinability improving layer 14' can be obtained.

なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を意味するものとし、以下、他の類似用語も含めて同様である。
以下、機械加工性向上層14及びその前駆体を構成する、各成分(A)~(E)等について、具体的に説明する。
In this specification, "(meth)acrylate" means both acrylate and methacrylate, and the same applies hereinafter, including other similar terms.
Components (A) to (E), etc., constituting the machinability improving layer 14 and its precursor will be specifically described below.

(1)主剤(A)
機械加工性向上層14及びその前駆体を構成する、主剤(A)の種類としては、特に制限されるものではない。
しかしながら、例えば、入手しやすく、後述する活性エネルギー線硬化性成分(C)と均一に混合(相溶)し易いことから、所定(メタ)アクリル酸エステルモノマー成分に由来した(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、主剤(A)であることが好ましい。
(1) Main agent (A)
The type of the main agent (A) that constitutes the machinability-improving layer 14 and its precursor is not particularly limited.
However, for example, since it is easily available and easily mixed (compatible) with the active energy ray-curable component (C) described later, a (meth)acrylic acid ester derived from a predetermined (meth)acrylic acid ester monomer component It is preferable that the copolymer is the main agent (A).

かかる主剤(A)が、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の場合、当該共重合体を構成するモノマー単位として、架橋性成分(B)と反応する、反応性基を分子内に有するモノマー(反応性官能基含有モノマー)と、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、を含有することが好ましい。
この理由は、反応性基含有モノマー由来の反応性基が架橋性成分(B)と反応して、架橋構造(三次元網目構造)が形成されることにより、所望の貯蔵弾性率及びゲル分率を満たし易くなることで被膜強度の比較的高い機械加工性向上層14を得ることができるためである。
When the main agent (A) is a (meth)acrylic acid ester copolymer, a monomer having a reactive group in the molecule that reacts with the crosslinkable component (B) as a monomer unit constituting the copolymer ( It is preferable to contain a reactive functional group-containing monomer) and a (meth)acrylic acid alkyl ester.
The reason for this is that the reactive group derived from the reactive group-containing monomer reacts with the crosslinkable component (B) to form a crosslinked structure (three-dimensional network structure), thereby achieving the desired storage elastic modulus and gel fraction. is easily satisfied, it is possible to obtain the machinability improving layer 14 having a relatively high film strength.

(1)-1 モノマー1(反応性官能基含有モノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル重合体の一部を構成する反応性基含有モノマーとしては、分子内に水酸基を有するモノマー(以下、水酸基含有モノマーと称する場合がある。)、分子内にカルボキシ基を有するモノマー(以下、カルボキシ基含有モノマーと称する場合がある。)、分子内にアミノ基を有するモノマー(以下、アミノ基含有モノマーと称する場合がある。)などが挙げられる。
これらの中でも、架橋性成分(B)との反応性に優れ、被着体への悪影響が少ない観点から水酸基含有モノマー、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が比較的低くても、所望の凝集力が発揮されることで粘着力及びゲル分率が所望の値を満たし易くなる観点から、カルボキシ基含有モノマーが好ましい。
(1)-1 Monomer 1 (reactive functional group-containing monomer)
Examples of reactive group-containing monomers constituting a part of the (meth)acrylic acid ester polymer as the main agent (A) include monomers having a hydroxyl group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as hydroxyl group-containing monomers), molecules A monomer having a carboxy group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as a carboxy group-containing monomer), a monomer having an amino group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as an amino group-containing monomer), and the like.
Among these, from the viewpoint of excellent reactivity with the crosslinkable component (B) and less adverse effect on the adherend, even if the weight average molecular weight of the hydroxyl group-containing monomer and (meth)acrylic acid ester copolymer is relatively low A carboxyl group-containing monomer is preferred from the viewpoint that the desired cohesive force is exhibited and the adhesive force and the gel fraction easily satisfy the desired values.

水酸基含有モノマーの種類としては、例えば、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等が挙げられる。
これらの中でも、得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体における水酸基と架橋性成分(B)との反応性、及び他の単量体との共重合性の観点から、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル及び(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルが好ましく、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル及びアクリル酸4-ヒドロキシブチルがより好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, and hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 3-hydroxybutyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate.
Among these, from the viewpoint of the reactivity between the hydroxyl group and the crosslinkable component (B) in the obtained (meth)acrylic acid ester copolymer, and the copolymerizability with other monomers, (meth)acrylic acid 2 -hydroxyethyl and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate are preferred, and 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and 4-hydroxybutyl acrylate are more preferred. These may be used alone or in combination of two or more.

また、モノマー単位としての水酸基含有モノマーの配合量を、モノマー全体量(100重量%、以下、同様である。)に対して、1重量%以上含有することが好ましく、10重量%以上含有することがより好ましく、15重量%以上含有することが更に好ましく、ゲル分率増加率等を所望の値とできる観点から20重量%以上含有することが好ましい。
更に、かかる水酸基含有モノマーの配合量を、モノマー全体量に対して、50重量%以下含有することが好ましく、40重量%以下含有することがより好ましく、30重量%以下含有することが更に好ましい。
すなわち、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、モノマー単位として水酸基含有モノマーを所定範囲で含有することにより、架橋性成分(B)と好適に反応し易くなり、良好な架橋構造が形成される。
その結果、得られる機械加工性向上層14は、所望の貯蔵弾性率及びゲル分率を満たし易くなることで被膜強度が比較的高く、良好な切削性を有するものとなる。
In addition, the amount of the hydroxyl group-containing monomer as a monomer unit is preferably 1% by weight or more, preferably 10% by weight or more, relative to the total amount of monomers (100% by weight, hereinafter the same). is more preferable, more preferably 15% by weight or more, and preferably 20% by weight or more from the viewpoint of achieving desired values of the gel fraction increase rate and the like.
Furthermore, the amount of such hydroxyl group-containing monomers is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and even more preferably 30% by weight or less, relative to the total amount of monomers.
That is, when the (meth)acrylic acid ester copolymer contains a hydroxyl group-containing monomer in a predetermined range as a monomer unit, it becomes easier to react appropriately with the crosslinkable component (B), and a good crosslinked structure is formed. .
As a result, the obtained machinability-improving layer 14 easily satisfies the desired storage elastic modulus and gel fraction, and thus has relatively high film strength and good machinability.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が挙げられる。
これらの中でも、得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体におけるカルボキシ基と架橋性成分(B)との反応性及び他の単量体との共重合性の観点から、アクリル酸が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
そして、モノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを含む場合、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該カルボキシ基含有モノマーを、モノマー全体量に対して、1重量%以上含有することが好ましく、5重量%以上含有することが特に好ましく、8重量%以上含有することが更に好ましい。
更に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを、30重量%以下含有することが好ましく、20重量%以下含有することがより好ましく、15重量%以下含有することが更に好ましい。
すなわち、モノマー単位としてカルボキシ基含有モノマーを所定範囲で含有することにより、架橋性成分(B)と好適に反応し易くなり、良好な架橋構造が形成される。
その結果、得られる機械加工性向上層14は、所望の貯蔵弾性率及びゲル分率を満たし易くなり、良好な切削性を有するものとなる。
Examples of carboxy group-containing monomers include ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid.
Among these, acrylic acid is preferable from the viewpoint of the reactivity between the carboxyl groups in the resulting (meth)acrylic acid ester copolymer and the crosslinkable component (B) and the copolymerizability with other monomers. These may be used alone or in combination of two or more.
Then, when a carboxy group-containing monomer is included as a monomer unit, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of the carboxy group-containing monomer with respect to the total amount of the monomers. It is particularly preferably contained in an amount of 8% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more.
Furthermore, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, of a carboxy group-containing monomer as a monomer unit constituting the polymer. It is more preferable to contain 15% by weight or less.
That is, by containing a carboxyl group-containing monomer as a monomer unit in a predetermined range, it becomes easier to react favorably with the crosslinkable component (B), and a good crosslinked structure is formed.
As a result, the resulting machinability-enhancing layer 14 easily satisfies the desired storage elastic modulus and gel fraction, and has good machinability.

また、モノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを微量含むか、又は、全く含まないことも好ましい。
この理由は、カルボキシ基は酸成分であるため、カルボキシ基含有モノマーを含有しないことにより、粘着剤の貼付対象に、酸により不具合が生じるもの、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)等の透明導電膜や金属膜などが存在する場合にも、酸によるそれらの不具合(腐食、抵抗値変化等)を抑制することができるためである。
ただし、このような不具合が生じない程度に、カルボキシ基含有モノマーを所定量含有することは許容される。
具体的には、(メタ)アクリル酸エステル共重合体中に、モノマー単位として、カルボキシ基含有モノマーを5重量%以下、好ましくは1重量%以下、より好ましくは0.1重量%以下の量で含有することが許容される。
It is also preferable that the monomer units contain a small amount of a carboxy group-containing monomer or do not contain any at all.
The reason for this is that the carboxyl group is an acid component, and by not containing a carboxyl group-containing monomer, the adhesive may cause problems due to the acid, such as a transparent conductive film such as tin-doped indium oxide (ITO). This is because even if there is a metal film or the like, it is possible to suppress the problems (corrosion, resistance value change, etc.) caused by the acid.
However, it is permissible to contain a predetermined amount of the carboxy group-containing monomer to the extent that such problems do not occur.
Specifically, in the (meth)acrylic acid ester copolymer, as a monomer unit, a carboxy group-containing monomer is 5% by weight or less, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.1% by weight or less. Allowed to contain.

また、アミノ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸n-ブチルアミノエチル等が挙げられる。
これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
そして、モノマー単位として、アミノ基含有モノマーを含む場合、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該アミノ基含有モノマーを、モノマー全体量に対して、1重量%以上含有することが好ましく、5重量%以上含有することが特に好ましく、8重量%以上含有することが更に好ましい。
更に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、アミノ基含有モノマーを、30重量%以下含有することが好ましく、20重量%以下含有することがより好ましく、15重量%以下含有することが更に好ましい。
すなわち、モノマー単位としてアミノ基含有モノマーを所定範囲で含有することにより、架橋性成分(B)と好適に反応し易くなり、良好な架橋構造が形成される。
その結果、得られる機械加工性向上層14は、所望の貯蔵弾性率及びゲル分率を満たし易くなり、良好な切削性を有するものとなる。
Examples of amino group-containing monomers include aminoethyl (meth)acrylate and n-butylaminoethyl (meth)acrylate.
These may be used alone or in combination of two or more.
Then, when an amino group-containing monomer is included as a monomer unit, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of the amino group-containing monomer with respect to the total amount of the monomers. It is particularly preferably contained in an amount of 8% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more.
Furthermore, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, of an amino group-containing monomer as a monomer unit constituting the polymer. It is more preferable to contain 15% by weight or less.
That is, by containing the amino group-containing monomer as a monomer unit in a predetermined range, it becomes easier to react favorably with the crosslinkable component (B), and a good crosslinked structure is formed.
As a result, the resulting machinability-enhancing layer 14 easily satisfies the desired storage elastic modulus and gel fraction, and has good machinability.

(1)-2 モノマー2((メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、アルキル基の炭素数が1~20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含有することが好ましい。
これにより、機械加工性向上層14が好ましい粘着性を発現することができる。
また、アルキル基の炭素数が1~20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、より好ましい粘着性を発現できる観点からは、直鎖状又は分岐鎖状の構造であることが好ましい。
(1)-2 Monomer 2 ((meth)acrylic acid alkyl ester monomer)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) may contain a (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms as a monomer unit constituting the copolymer. preferable.
Thereby, the machinability improving layer 14 can exhibit preferable adhesiveness.
In addition, the (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms preferably has a linear or branched structure from the viewpoint of exhibiting more preferable adhesiveness.

アルキル基の炭素数が1~20の(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、ホモポリマーとしてのガラス転移温度(Tg)が0℃未満であることが好ましい(以下、低Tgアルキルアクリレートと称する場合がある。)。
この理由は、かかる低Tgアルキルアクリレートを構成モノマー単位として含有することにより、得られる機械加工性向上層14の粘着性を、より向上させることができるためである。
The (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms preferably has a glass transition temperature (Tg) of less than 0° C. as a homopolymer (hereinafter sometimes referred to as a low Tg alkyl acrylate). be.).
The reason for this is that the adhesiveness of the resulting machinability-improving layer 14 can be further improved by containing such a low-Tg alkyl acrylate as a constituent monomer unit.

ここで、低Tgアルキルアクリレートとしては、例えば、アクリル酸n-ブチル(Tg-55℃)、アクリル酸n-オクチル(Tg-65℃)、アクリル酸イソオクチル(Tg-58℃)、アクリル酸2-エチルヘキシル(Tg-70℃)、アクリル酸イソノニル(Tg-58℃)、アクリル酸イソデシル(Tg-60℃)、メタクリル酸イソデシル(Tg-41℃)、メタクリル酸n-ラウリル(Tg-65℃)、アクリル酸トリデシル(
Tg-55℃)、メタクリル酸トリデシル(Tg-40℃)等の少なくとも一つが好ましく挙げられる。
これらの中でも、より効果的に粘着性を向上させる観点から、低Tgアルキルアクリレートとして、ホモポリマーのTgが、-25℃以下であるものであることがより好ましく、-50℃以下であるものであることが更に好ましい。
具体的には、アクリル酸n-ブチル及びアクリル酸2-エチルヘキシルが特に好ましい。
Examples of low Tg alkyl acrylates include n-butyl acrylate (Tg-55°C), n-octyl acrylate (Tg-65°C), isooctyl acrylate (Tg-58°C), 2- ethylhexyl (Tg-70°C), isononyl acrylate (Tg-58°C), isodecyl acrylate (Tg-60°C), isodecyl methacrylate (Tg-41°C), n-lauryl methacrylate (Tg-65°C), tridecyl acrylate (
Tg-55°C), tridecyl methacrylate (Tg-40°C) and the like are preferred.
Among these, from the viewpoint of more effectively improving the adhesiveness, as the low Tg alkyl acrylate, it is more preferable that the Tg of the homopolymer is −25° C. or less, and −50° C. or less. It is even more preferable to have
Specifically, n-butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate are particularly preferred.

また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、低Tgアルキルアクリレートを、下限値として30重量%以上含有することが好ましく、特に40重量%以上含有することがより好ましく、50重量%以上含有することが更に好ましい。
この理由は、このようにかかる低Tgアルキルアクリレートを配合すると、得られる機械加工性向上層14の粘着性を良好に向上させることができ、樹脂板12への貼合性をより優れたものとできるためである。
また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、低Tgアルキルアクリレートを、上限値として、99重量%以下含有することが好ましく、特に90重量%以下含有することがより好ましく、80重量%以下含有することが更に好ましい。
この理由は、このようにかかる低Tgアルキルアクリレートを配合すると、(メタ)アクリル酸エステル重合体中に他のモノマー成分(特に反応性官能基含有モノマー)を好適な量導入することができるためである。
In addition, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains a low Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer in an amount of 30% by weight or more as a lower limit, particularly 40% by weight or more. is more preferable, and it is even more preferable to contain 50% by weight or more.
The reason for this is that when such a low-Tg alkyl acrylate is blended, the resulting machinability improving layer 14 can be improved in adhesion, and the adhesion to the resin plate 12 can be improved. Because we can.
Further, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 99% by weight or less, particularly 90% by weight or less, of a low-Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer. is more preferable, and it is even more preferable to contain 80% by weight or less.
The reason for this is that by blending such a low Tg alkyl acrylate, it is possible to introduce a suitable amount of other monomer components (especially reactive functional group-containing monomers) into the (meth)acrylic acid ester polymer. be.

また、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、当該重合体を構成する、ホモポリマーとしてのガラス転移温度(Tg)が0℃を超えるモノマー(以下、高Tgアルキルアクリレートと称する場合がある。)を併用することも好ましい。
この理由は、得られる機械加工性向上層14に適度な凝集力を付与し、所望の貯蔵弾性率及びゲル分率を満たし易くなり、切削性を向上させることができるためである。
In addition, the (meth)acrylic acid ester polymer is a monomer having a glass transition temperature (Tg) exceeding 0 ° C. as a homopolymer (hereinafter sometimes referred to as a high Tg alkyl acrylate), which constitutes the polymer. It is also preferable to use them together.
The reason for this is that the obtained machinability-improving layer 14 is imparted with an appropriate cohesive force, the desired storage elastic modulus and gel fraction can be easily satisfied, and machinability can be improved.

但し、ここで記載する高Tgアルキルアクリレートは、後述する脂環式構造含有モノマー及び窒素含有モノマーを除くものとする。
このような高Tgアルキルアクリレートとしては、例えば、アクリル酸メチル(Tg:10℃)、メタクリル酸メチル(Tg:105℃)、メタクリル酸エチル(Tg:65℃)、メタクリル酸n-ブチル(Tg:20℃)、メタクリル酸イソブチル(Tg:48℃)、メタクリル酸t-ブチル(Tg:107℃)、アクリル酸n-ステアリル(Tg:30℃)、メタクリル酸n-ステアリル(Tg:38℃)等のアクリル系モノマー、酢酸ビニル(Tg:32℃)、スチレン(Tg:30℃)等の少なくとも一つが挙げられる。
これらの中でも、機械加工性向上層14に適度な凝集性を付与でき、所望の貯蔵弾性率およびゲル分率を発現し易くなることから、高Tgアルキルアクリレートとしては、特にメタクリル酸メチルであることが好ましい。
However, the high Tg alkyl acrylate described here excludes alicyclic structure-containing monomers and nitrogen-containing monomers, which will be described later.
Examples of such high Tg alkyl acrylates include methyl acrylate (Tg: 10°C), methyl methacrylate (Tg: 105°C), ethyl methacrylate (Tg: 65°C), n-butyl methacrylate (Tg: 20°C), isobutyl methacrylate (Tg: 48°C), t-butyl methacrylate (Tg: 107°C), n-stearyl acrylate (Tg: 30°C), n-stearyl methacrylate (Tg: 38°C), etc. acrylic monomer, vinyl acetate (Tg: 32°C), styrene (Tg: 30°C), and the like.
Among these, methyl methacrylate is particularly preferred as the high-Tg alkyl acrylate because it can impart appropriate cohesiveness to the machinability-improving layer 14 and facilitate the expression of desired storage elastic modulus and gel fraction. is preferred.

すなわち、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として上記高Tgアルキルアクリレートを含有する場合、上記高Tgアルキルアクリレートを、モノマー成分の全体量に対して、1重量%以上含有することがより好ましく、3重量%以上含有することがより好ましい。
また、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、当該重合体を構成するモノマー単位として、当該上記高Tgアルキルアクリレートを20重量%以下含有することが好ましく、12重量%以下含有することがより好ましく、8重量%以下含有することが更に好ましい。
この理由は、高Tgアルキルアクリレートを、低Tgアルキルアクリレートとともに、上記の量となるように併用することにより、得られる機械加工性向上層14は、好適な粘着性及び凝集力を発現し、粘着力及びゲル分率が所望の値を満たし易くなり、所望の耐久性を満たし易くなるためである。
That is, when the (meth)acrylic acid ester polymer contains the high Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer, the high Tg alkyl acrylate is added to 1% by weight with respect to the total amount of the monomer components. It is more preferable to contain at least 3% by weight, more preferably at least 3% by weight.
In addition, the (meth)acrylic acid ester polymer preferably contains 20% by weight or less, more preferably 12% by weight or less, of the high Tg alkyl acrylate as a monomer unit constituting the polymer. It is more preferable to contain 8% by weight or less.
The reason for this is that by using the high Tg alkyl acrylate together with the low Tg alkyl acrylate in the amounts described above, the obtained machinability improving layer 14 exhibits suitable adhesiveness and cohesive strength, and the adhesion This is because the desired values of the force and the gel fraction are easily satisfied, and the desired durability is easily satisfied.

(1)-3 モノマー3(脂環式構造含有モノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、分子内に脂環式構造を有するモノマー(脂環式構造含有モノマー)を含有することが好ましい。
この理由は、脂環式構造含有モノマーが分子構造上、嵩高いためで、これを共重合体中に存在させることにより、重合体同士の間隔を広げるものと推定される。その結果、得られる機械加工性向上層14を柔軟性に優れたものとすることができるためである。
したがって、(メタ)アクリル酸エステル重合体がモノマー単位として脂環式構造含有モノマーを含有することにより、組成物を架橋させて得られる機械加工性向上層14は、所望の粘着性を発現し易くなり、樹脂板12への貼合性に優れたものとなる。
(1)-3 Monomer 3 (alicyclic structure-containing monomer)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) contains a monomer having an alicyclic structure in the molecule (alicyclic structure-containing monomer) as a monomer unit constituting the copolymer. is preferred.
The reason for this is that the alicyclic structure-containing monomer is bulky in terms of molecular structure, and it is presumed that the presence of this in the copolymer widens the distance between the polymers. This is because, as a result, the resulting machinability improving layer 14 can have excellent flexibility.
Therefore, when the (meth)acrylic acid ester polymer contains an alicyclic structure-containing monomer as a monomer unit, the machinability-improving layer 14 obtained by cross-linking the composition easily exhibits desired adhesiveness. As a result, the bonding property to the resin plate 12 is excellent.

また、脂環式構造含有モノマーにおける脂環式構造の炭素環は、飽和構造のものであってもよいし、不飽和結合を一部に有するものであってもよい。
また、このような脂環式構造は、単環の脂環式構造であってもよいし、二環、三環等の多環の脂環式構造であってもよい。
得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体において重合体同士の間隔を広げ、機械加工性向上層14の柔軟性を効果的に発揮させる観点から、上記の脂環式構造は、多環の脂環式構造(多環構造)であることが好ましい。
更に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体と他の成分との相溶性が良好であることから、上記の多環構造は、二環から四環であることが特に好ましい。
In addition, the carbon ring of the alicyclic structure in the alicyclic structure-containing monomer may have a saturated structure or may partially have an unsaturated bond.
Moreover, such an alicyclic structure may be a monocyclic alicyclic structure, or may be a polycyclic alicyclic structure such as bicyclic or tricyclic.
In the obtained (meth)acrylic acid ester copolymer, from the viewpoint of widening the distance between the polymers and effectively exhibiting the flexibility of the machinability improving layer 14, the above alicyclic structure is a polycyclic alicyclic structure. A cyclic structure (polycyclic structure) is preferred.
Furthermore, the above polycyclic structure is particularly preferably bicyclic to tetracyclic, because the (meth)acrylic acid ester copolymer has good compatibility with other components.

また、上記と同様に粘着剤の柔軟性を効果的に発揮させる観点から、脂環式構造の炭素数(環を形成している部分の全ての炭素数を意味し、複数の環が独立して存在する場合には、その合計の炭素数を意味する)は、通常5以上であることが好ましく、7以上であることがより好ましい。
一方、脂環式構造の炭素数の上限は特に制限されないが、上記と同様に相溶性の観点から、15以下であることが好ましく、10以下であることがより好ましい。
In the same manner as described above, from the viewpoint of effectively exhibiting the flexibility of the adhesive, the number of carbon atoms in the alicyclic structure (meaning the number of all carbon atoms in the portion forming the ring, and (meaning the total number of carbon atoms, if present) is usually preferably 5 or more, more preferably 7 or more.
On the other hand, although the upper limit of the number of carbon atoms in the alicyclic structure is not particularly limited, it is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, from the viewpoint of compatibility as described above.

よって、脂環式構造含有モノマーに含まれる脂環式構造としては、例えば、シクロヘキシル骨格、ジシクロペンタジエン骨格、アダマンタン骨格、イソボルニル骨格、シクロアルカン骨格(シクロヘプタン骨格、シクロオクタン骨格、シクロノナン骨格、シクロデカン骨格、シクロウンデカン骨格、シクロドデカン骨格等)、シクロアルケン骨格(シクロヘプテン骨格、シクロオクテン骨格等)、ノルボルネン骨格、ノルボルナジエン骨格、キュバン骨格、バスケタン骨格、ハウサン骨格、スピロ骨格などの少なくとも一つが挙げられる。 Therefore, the alicyclic structure contained in the alicyclic structure-containing monomer includes, for example, a cyclohexyl skeleton, a dicyclopentadiene skeleton, an adamantane skeleton, an isobornyl skeleton, a cycloalkane skeleton (cycloheptane skeleton, cyclooctane skeleton, cyclononane skeleton, cyclodecane skeleton, cycloundecane skeleton, cyclododecane skeleton, etc.), cycloalkene skeleton (cycloheptene skeleton, cyclooctene skeleton, etc.), norbornene skeleton, norbornadiene skeleton, cubane skeleton, basketane skeleton, hausan skeleton, spiro skeleton, and the like.

そして、これらの中でも、より優れた耐久性を得る観点から、ジシクロペンタジエン骨格(脂環式構造の炭素数:10)、アダマンタン骨格(脂環式構造の炭素数:10)又はイソボルニル骨格(脂環式構造の炭素数:7)を含むものが好ましく、イソボルニル骨格を含むものがより好ましい。
したがって、上記の脂環式構造含有モノマーとしては、上記の骨格を含む(メタ)アクリル酸エステルモノマーが好ましい。具体的には、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル等の少なくとも一つが挙げられる。
その上、これらの中でも、より優れた耐久性を得る観点から、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル又は(メタ)アクリル酸イソボルニルが好ましく、(メタ)アクリル酸イソボルニルがより好ましく、アクリル酸イソボルニルが特に好ましい。
Among these, from the viewpoint of obtaining better durability, a dicyclopentadiene skeleton (the number of carbon atoms in the alicyclic structure: 10), an adamantane skeleton (the number of carbon atoms in the alicyclic structure: 10) or an isobornyl skeleton (alicyclic structure) Those containing 7 carbon atoms in the cyclic structure are preferred, and those containing an isobornyl skeleton are more preferred.
Therefore, as the alicyclic structure-containing monomer, a (meth)acrylic acid ester monomer containing the above skeleton is preferable. Specifically, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid At least one of dicyclopentenyloxyethyl and the like is included.
Moreover, among these, dicyclopentanyl (meth)acrylate, adamantyl (meth)acrylate, or isobornyl (meth)acrylate are preferred from the viewpoint of obtaining better durability, and isobornyl (meth)acrylate is preferred. More preferred, isobornyl acrylate is particularly preferred.

また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、当該共重合体を構成するモノマー単位として、モノマーの全体量に対して、脂環式構造含有モノマーを1重量%以上含有することが好ましく、4重量%以上含有することがより好ましく、8重量%以上含有することが更に好ましい。
同様に、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、脂環式構造含有モノマーを40重量%以下含有することが好ましく、30重量%以下含有することがより好ましく、24重量%以下含有することが更に好ましく、所望の粘着力、ゲル分率及び貯蔵弾性率を発揮して耐久性をより優れたものにする観点においては、18重量%以下含有することが特に好ましい。
このように脂環式構造含有モノマーの含有量が上記の範囲内であることにより、得られる機械加工性向上層14の柔軟性が良好となり、樹脂板12への貼合性がより優れたものとなるため、所望の粘着力及び貯蔵弾性率の値をより満たし易くなり、良好な耐久性を発揮し易くなるためである。
In addition, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of an alicyclic structure-containing monomer with respect to the total amount of monomers as a monomer unit constituting the copolymer. It is more preferably contained in an amount of 8% by weight or more, and more preferably 8% by weight or more.
Similarly, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 40% by weight or less of an alicyclic structure-containing monomer as a monomer unit constituting the copolymer, and may contain 30% by weight or less. More preferably, it is contained in an amount of 24% by weight or less, and from the viewpoint of exhibiting the desired adhesive strength, gel fraction, and storage elastic modulus to improve durability, it is contained in an amount of 18% by weight or less. is particularly preferred.
When the content of the alicyclic structure-containing monomer is within the above range, the resulting machinability improving layer 14 has good flexibility and is more excellent in bonding to the resin plate 12. Therefore, it becomes easier to satisfy the desired adhesive strength and storage elastic modulus, and it becomes easier to exhibit good durability.

(1)-4 モノマー4(窒素原子含有モノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、分子内に窒素原子を有するモノマー(窒素原子含有モノマー)を含有することが好ましい。
なお、反応性基含有モノマーとして例示したアミノ基含有モノマーは、当該窒素原子含有モノマーから除かれる。窒素原子含有モノマーを構成単位として共重合体中に存在させることにより、アクリル酸エステル共重合体と架橋性成分(B)との反応を促進させることができ、機械加工性向上層14に極性を付与し、機械加工性向上層14の凝集力を高め、所望の粘着力、ゲル分率及び貯蔵弾性率を発現し易くすることができる。
(1)-4 Monomer 4 (nitrogen atom-containing monomer)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) preferably contains a monomer having a nitrogen atom in its molecule (nitrogen atom-containing monomer) as a monomer unit constituting the copolymer.
The amino group-containing monomers exemplified as reactive group-containing monomers are excluded from the nitrogen atom-containing monomers. By allowing the nitrogen atom-containing monomer to exist in the copolymer as a structural unit, the reaction between the acrylic acid ester copolymer and the crosslinkable component (B) can be promoted, and the machinability improving layer 14 has polarity. It is possible to increase the cohesive strength of the machinability improving layer 14 and facilitate the development of desired adhesive strength, gel fraction and storage elastic modulus.

上記の窒素原子含有モノマーとしては、第3級アミノ基を有するモノマー、アミド基を有するモノマー、窒素含有複素環を有するモノマーなどが挙げられる。これらの中でも、窒素含有複素環を有するモノマーが好ましい。
かかる窒素含有複素環を有するモノマーとしては、例えば、N-(メタ)アクリロイルモルフォリン、N-ビニル-2-ピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-(メタ)アクリロイルアジリジン、アジリジニルエチル(メタ)アクリレート、2-ビニルピリジン、4-ビニルピリジン、2-ビニルピラジン、1-ビニルイミダゾール、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルフタルイミド等の少なくとも一つが挙げられる。
そして、これらの中でも、より優れた粘着力を得る観点から、N-(メタ)アクリロイルモルフォリンが好ましく、N-アクリロイルモルフォリンがより好ましい。
Examples of the nitrogen atom-containing monomers include monomers having a tertiary amino group, monomers having an amide group, and monomers having a nitrogen-containing heterocyclic ring. Among these, monomers having a nitrogen-containing heterocyclic ring are preferred.
Monomers having such a nitrogen-containing heterocyclic ring include, for example, N-(meth)acryloylmorpholine, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-(meth)acryloylpyrrolidone, N-(meth)acryloylpiperidine, N-(meth) ) acryloylpyrrolidine, N-(meth)acryloylaziridine, aziridinylethyl (meth)acrylate, 2-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyrazine, 1-vinylimidazole, N-vinylcarbazole, N-vinylphthalimide At least one such as
Among these, N-(meth)acryloylmorpholine is preferred, and N-acryloylmorpholine is more preferred, from the viewpoint of obtaining superior adhesive strength.

また、上述の窒素含有複素環を有するモノマー以外の窒素原子含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-tert-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-エチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-フェニル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ビニルカプロラクタム、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル等の少なくとも一つが挙げられる。 Nitrogen atom-containing monomers other than the above-mentioned nitrogen-containing heterocyclic ring-containing monomers include, for example, (meth)acrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-tert-butyl (meth)acrylamide, ) acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N,N-ethyl (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N-phenyl (meth)acrylamide , dimethylaminopropyl (meth)acrylamide, N-vinylcaprolactam, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and the like.

そして、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が、モノマー成分の全体量に対して、窒素原子含有モノマーを1重量%以上含有することが好ましく、2重量%以上含有することがより好ましく、4重量%以上含有することが更に好ましい。
また、(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該共重合体を構成するモノマー単位として、窒素原子含有モノマーを40重量%以下含有することが好ましく、30重量%以下含有することがより好ましく、20重量%以下含有することが更に好ましく、所望の粘着力、ゲル分率及び貯蔵弾性率を発揮して耐久性をより優れたものにすることから、10重量%以下の含有にすることが特に好ましい。
このように窒素原子含有モノマーの含有量が上記の範囲内にあることで、得られる機械加工性向上層14の凝集力が効果的に向上し、所望の粘着力、ゲル分率及び貯蔵弾性率を発揮し易くなって耐久性が優れたものとなるためである。
Then, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 1% by weight or more of the nitrogen atom-containing monomer, more preferably 2% by weight or more, based on the total amount of the monomer components, and 4% by weight. % or more is more preferable.
Further, the (meth)acrylic acid ester copolymer preferably contains 40% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, of a nitrogen atom-containing monomer as a monomer unit constituting the copolymer. It is more preferable to contain 20% by weight or less, and the desired adhesive strength, gel fraction and storage elastic modulus are exhibited to make the durability more excellent, so it is particularly preferable to contain 10% by weight or less. preferable.
When the content of the nitrogen atom-containing monomer is within the above range, the resulting machinability-improving layer 14 has effectively improved cohesive strength, and desired adhesive strength, gel fraction, and storage elastic modulus. This is because it becomes easy to exhibit the above, and the durability becomes excellent.

(1)-5 モノマー5(その他のモノマー)
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、必要に応じて、当該共重合体を構成するモノマー単位として、上述したモノマー成分とは異なる他のモノマーを含有してもよい。
このような他のモノマーとしては、反応性を有する官能基を含まないモノマーが好ましい。
すなわち、例えば、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、酢酸ビニル、スチレンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重合態様は、ランダム共重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよい。
(1)-5 Monomer 5 (other monomers)
The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main component (A) may, if necessary, contain other monomers different from the monomer components described above as monomer units constituting the copolymer.
As such other monomers, monomers containing no reactive functional groups are preferred.
Examples include alkoxyalkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate, vinyl acetate, and styrene. These may be used alone or in combination of two or more.
The polymerization mode of the (meth)acrylic acid ester copolymer may be a random copolymer or a block copolymer.

(1)-6 重量平均分子量
機械加工性向上層14の前駆体を構成する主剤(A)が、(メタ)アクリル酸エステル共重合体である場合、その重量平均分子量(Mw)を5万~250万の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が5万未満の値になると、凝集力が低下して、樹脂板12から剥離したり、接着性が著しく低下したりする場合があるためである。
一方、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量が250万を超えた値になると、取り扱いが困難になったり、樹脂板12への貼合性が低下する場合があるためである。
したがって、(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量を10万~180万の範囲の値とすることがより好ましく、30~100万の範囲の値とすることが更に好ましく、40~80万の範囲の値とすることが最も好ましい。
なお、機械加工性向上層14の主剤の重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)によって、予め作成してある標準ポリスチレン粒子に対する検量線と対比して求めることができる。
(1)-6 Weight average molecular weight When the main component (A) constituting the precursor of the machinability improving layer 14 is a (meth)acrylic acid ester copolymer, the weight average molecular weight (Mw) is 50,000 to 50,000. A value within the range of 2.5 million is preferred.
The reason for this is that when the weight-average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer is less than 50,000, the cohesive force is reduced, resulting in peeling from the resin plate 12 or markedly reduced adhesiveness. This is because
On the other hand, if the weight-average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer exceeds 2,500,000, handling may become difficult, and bonding to the resin plate 12 may deteriorate.
Therefore, the weight average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer is more preferably in the range of 100,000 to 1,800,000, more preferably in the range of 300,000 to 1,000,000, and 40 to 80 Values in the range of 10,000 are most preferred.
The weight-average molecular weight of the main component of the machinability-enhancing layer 14 can be determined by GPC (gel permeation chromatography) by comparing with a calibration curve prepared in advance for standard polystyrene particles.

(1)-7 (メタ)アクリル酸エステル共重合体の重合
主剤(A)として(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、当該重合体を構成するモノマーの混合物を通常のラジカル重合法で重合することにより製造することができる。
かかる(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重合は、所望により重合開始剤を使用して、溶液重合法等により行うことができる。
すなわち、重合溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン等が挙げられ、2種類以上を併用してもよい。
(1)-7 Polymerization of (meth)acrylic acid ester copolymer The (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) is obtained by polymerizing a mixture of monomers constituting the polymer by a conventional radical polymerization method. It can be manufactured by
Polymerization of such a (meth)acrylic acid ester copolymer can be carried out by a solution polymerization method or the like using a polymerization initiator if desired.
Examples of the polymerization solvent include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, toluene, acetone, hexane, and methyl ethyl ketone, and two or more of them may be used in combination.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体を重合する際の重合開始剤としては、アゾ系化合物、有機過酸化物等が挙げられ、2種類以上を併用してもよい。
より具体的に、アゾ系化合物としては、例えば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1'-アゾビス(シクロヘキサン1-カルボニトリル)、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、4,4'-アゾビス(4-シアノバレリック酸)、2,2'-アゾビス(2-ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2'-アゾビス[2-(2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]等が挙げられる。
Examples of the polymerization initiator for polymerizing the (meth)acrylic acid ester copolymer include azo compounds and organic peroxides, and two or more of them may be used in combination.
More specifically, the azo compounds include, for example, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis(2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis(cyclohexane 1- carbonitrile), 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobis(2- methyl propionate), 4,4′-azobis(4-cyanovaleric acid), 2,2′-azobis(2-hydroxymethylpropionitrile), 2,2′-azobis[2-(2-imidazoline -2-yl)propane] and the like.

また、有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、t-ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2-エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5-トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等が挙げられる。
なお、上記重合工程において、2-メルカプトエタノール等の連鎖移動剤を配合することにより、得られる重合体の重量平均分子量を所望の値に調節することができる。
Examples of organic peroxides include benzoyl peroxide, t-butylperbenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropylperoxydicarbonate, di-n-propylperoxydicarbonate, and di(2-ethoxyethyl). peroxydicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxybivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dipropionyl peroxide, diacetyl peroxide and the like.
In addition, in the polymerization step, the weight average molecular weight of the obtained polymer can be adjusted to a desired value by blending a chain transfer agent such as 2-mercaptoethanol.

(2)架橋性成分(B)
架橋性成分(B)を含有する組成物を加熱すると、当該架橋性成分(B)は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と架橋反応し、架橋構造(三次元網目構造)を形成する。これにより、被膜強度の比較的高い機械加工性向上層14を得ることができる。
このような架橋性成分(B)の種類としては、主剤(A)(例えば、(メタ)アクリル酸エステル共重合体等)と反応するものであればよく、好ましくは、組成物の主剤(A)に導入されてなる反応性基(例えば、水酸基やカルボキシ基等)と反応するものであればよい。
また、架橋性成分(B)としては、熱によって反応するものであっても良いし、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって反応するもので合っても良いが、得られる機械加工性向上層14が所望の粘着力及びゲル分率を発現し易くなる観点から、主剤(A)(例えば、(メタ)アクリル酸エステル共重合体等)と熱架橋反応する熱架橋性成分であることが好ましい。
主剤(A)(例えば、(メタ)アクリル酸エステル共重合体等)と熱架橋反応をする熱架橋性成分としては、熱架橋剤が挙げられ、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アミン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、ヒドラジン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、アンモニウム塩系架橋剤等の少なくとも一つが挙げられる。
これら架橋性成分(B)の種類は、主剤(A)が有する反応性基の反応性に応じて選択すればよい。
例えば、主剤(A)が有する反応性基が水酸基の場合、水酸基との反応性に優れたイソシアネート系架橋剤を配合することが好ましい。
また、主剤(A)が有する反応性基がカルボキシ基の場合、カルボキシ基との反応性に優れたエポキシ系架橋剤を使用することが好ましい。
なお、架橋性成分(B)は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
(2) Crosslinkable component (B)
When the composition containing the crosslinkable component (B) is heated, the crosslinkable component (B) undergoes a crosslink reaction with the (meth)acrylic acid ester copolymer as the main component (A) to form a crosslinked structure (three-dimensional network structure). Thereby, the machinability improving layer 14 having a relatively high film strength can be obtained.
The type of such a crosslinkable component (B) may be one that reacts with the main component (A) (for example, a (meth)acrylic acid ester copolymer, etc.), preferably the main component (A .
The crosslinkable component (B) may be one that reacts with heat, or one that reacts with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams. 14 is preferably a heat-crosslinkable component that undergoes a heat-crosslinking reaction with the main agent (A) (e.g., (meth)acrylic acid ester copolymer, etc.) from the viewpoint of facilitating the expression of the desired adhesive strength and gel fraction. .
Examples of the thermally crosslinkable component that undergoes a thermal crosslinking reaction with the main agent (A) (e.g., (meth)acrylic acid ester copolymer, etc.) include thermal crosslinking agents such as isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, Amine cross-linking agent, melamine cross-linking agent, aziridine cross-linking agent, hydrazine cross-linking agent, aldehyde cross-linking agent, oxazoline cross-linking agent, metal alkoxide cross-linking agent, metal chelate cross-linking agent, metal salt cross-linking agent, ammonium salt at least one such as a system cross-linking agent.
The type of these crosslinkable components (B) may be selected according to the reactivity of the reactive groups of the main component (A).
For example, when the reactive group of the main agent (A) is a hydroxyl group, it is preferable to blend an isocyanate-based cross-linking agent having excellent reactivity with the hydroxyl group.
Moreover, when the reactive group which the main agent (A) has is a carboxy group, it is preferable to use an epoxy-based cross-linking agent having excellent reactivity with the carboxy group.
In addition, a crosslinkable component (B) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

また、イソシアネート系架橋剤は、少なくともポリイソシアネート化合物を含むものが好適である。
ここで、ポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネートなど、及びそれらのビウレット体、イソシアヌレート体、更にはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などが挙げられる。これらの中でも水酸基との反応性の観点から、トリメチロールプロパン変性の芳香族ポリイソシアネート、特にトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート及びトリメチロールプロパン変性キシレンジイソシアネートの少なくとも一つであることが好ましい。
Moreover, the isocyanate-based cross-linking agent preferably contains at least a polyisocyanate compound.
Examples of polyisocyanate compounds include aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate; Polyisocyanates, etc., their biuret forms, isocyanurate forms, and adduct forms which are reaction products with low-molecular weight active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, castor oil, etc. mentioned. Among these, from the viewpoint of reactivity with hydroxyl groups, at least one of trimethylolpropane-modified aromatic polyisocyanate, particularly trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate and trimethylolpropane-modified xylene diisocyanate is preferable.

また、エポキシ系架橋剤としては、例えば、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等の少なくとも一つが挙げられる。
これらの中でもカルボキシ基との反応性の観点から、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサンが特に好適である。
Examples of epoxy-based cross-linking agents include 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, ethylene glycol di At least one of glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, diglycidylaniline, diglycidylamine and the like can be mentioned.
Among these, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane is particularly preferred from the viewpoint of reactivity with carboxy groups.

また、架橋性成分(B)の配合量を、主剤(A)100重量部に対して、0.05~10重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる架橋性成分(B)の配合量が0.05重量部未満の値になると、主剤(A)に導入された水酸基やカルボキシ基との反応性が著しく低下して、得られる機械加工性向上層14の凝集力を得ることができず、粘着性を発揮することができない場合があるためである。
その結果、機械加工性向上層14が樹脂板12から剥離したり、接着性が著しく低下したりする場合がある。
一方、かかる架橋性成分(B)の配合量が10重量部を超えた値になると、主剤(A)に導入された水酸基やカルボキシ基と過度に反応して、得られる機械加工性向上層14の凝集力が高くなりすぎて、粘着性が著しく低下したりする場合がある。
したがって、主剤(A)100重量部に対して、架橋性成分(B)の配合量を0.1~5重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、0.3~1重量部の範囲内の値とすることが更に好ましい。
Also, the amount of the crosslinkable component (B) to be blended is preferably within the range of 0.05 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component (A).
The reason for this is that when the amount of the crosslinkable component (B) is less than 0.05 parts by weight, the reactivity with the hydroxyl groups and carboxy groups introduced into the main component (A) is significantly reduced, resulting in This is because the cohesive force of the machinability improving layer 14 cannot be obtained, and adhesiveness may not be exhibited in some cases.
As a result, the machinability improving layer 14 may be separated from the resin plate 12, or the adhesiveness may be remarkably lowered.
On the other hand, if the amount of the crosslinkable component (B) exceeds 10 parts by weight, it will react excessively with the hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the main component (A), resulting in the machinability improving layer 14. The cohesive force of is too high, and the adhesiveness may be significantly reduced.
Therefore, it is more preferable to set the amount of the crosslinkable component (B) in the range of 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component (A), and more preferably 0.3 to 1 part by weight. A value within the range is more preferable.

(3)活性エネルギー線硬化性成分(C)
本実施形態における機械加工性向上層14は、活性エネルギー線硬化性成分(C)を含有していることが好ましい。
このような機械加工性向上層14を、被着体(樹脂板12)に貼付後に、活性エネルギー線が照射されると、後述する光重合開始剤(D)の開裂を契機として、活性エネルギー線硬化性成分(C)の重合が促進される。
その重合した活性エネルギー線硬化性成分(C)は、主剤(A)及び架橋性成分(B)の架橋により形成された架橋構造(三次元網目構造)に絡み付くものと推定される。
したがって、このような高次構造を有する機械加工性向上層14´は、所望の粘着力、貯蔵弾性率およびゲル分率の値を満たし易くなり、高温高湿条件下での耐久性に優れたものとなる。
(3) Active energy ray-curable component (C)
The machinability improving layer 14 in this embodiment preferably contains an active energy ray-curable component (C).
When such a machinability improving layer 14 is applied to an adherend (resin plate 12) and then irradiated with an active energy ray, the photopolymerization initiator (D) described later is cleaved, and the active energy ray Polymerization of the curable component (C) is accelerated.
It is presumed that the polymerized active energy ray-curable component (C) is entwined with the crosslinked structure (three-dimensional network structure) formed by cross-linking the main agent (A) and the crosslinkable component (B).
Therefore, the machinability-improving layer 14' having such a higher-order structure easily satisfies the desired adhesive strength, storage elastic modulus and gel fraction, and has excellent durability under high-temperature and high-humidity conditions. become a thing.

ここで、活性エネルギー線硬化性成分(C)としては、活性エネルギー線照射によって硬化反応を生じさせ、上記の効果が得られる成分であれば特に制限されるものではない。
また、活性エネルギー線硬化性成分(C)は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよいし、それらの混合物であってもよい。
これらの中でも、主剤(A)等との相溶性に優れる重量平均分子量が1,000未満の多官能アクリレート系モノマーが好ましい。
Here, the active energy ray-curable component (C) is not particularly limited as long as it causes a curing reaction upon irradiation with an active energy ray and provides the above effects.
Moreover, the active energy ray-curable component (C) may be a monomer, an oligomer, a polymer, or a mixture thereof.
Among these, polyfunctional acrylate-based monomers having a weight-average molecular weight of less than 1,000, which are excellent in compatibility with the main agent (A) and the like, are preferred.

より具体的には、重量平均分子量が1000未満の多官能アクリレート系モノマーとしては、反応性官能基を2~6個有するアクリレート系モノマーが好ましい。
ここで、反応性官能基を2個有するアクリレート系モノマーとしては、例えば、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、ジ(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の少なくとも一つが挙げられる。
More specifically, the polyfunctional acrylate monomer having a weight average molecular weight of less than 1000 is preferably an acrylate monomer having 2 to 6 reactive functional groups.
Examples of acrylate-based monomers having two reactive functional groups include 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol adipate di(meth)acrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate di(meth)acrylate, dicyclopentanyl di(meth)acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di(meth)acrylate ) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid di(meth)acrylate, di(acryloxyethyl) isocyanurate, allylated cyclohexyl di(meth)acrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, 9,9-bis[4-(2-acryloyl At least one of oxyethoxy)phenyl]fluorene and the like can be mentioned.

また、反応性官能基を3個有するアクリレート系モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-(メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート等の少なくとも一つが挙げられる。 Examples of acrylate-based monomers having three reactive functional groups include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate. At least one of meth)acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tris(acryloxyethyl)isocyanurate, ε-caprolactone-modified tris-(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate, etc. .

更に、反応性官能基を4個有するアクリレート系モノマーとしては、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
反応性官能基を5個有するアクリレート系モノマーとしては、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の少なくとも一つが挙げられる。
反応性官能基を6個有するアクリレート系モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の少なくとも一つが挙げられる。
Furthermore, examples of acrylate-based monomers having four reactive functional groups include diglycerin tetra(meth)acrylate and pentaerythritol tetra(meth)acrylate.
Examples of the acrylate-based monomer having five reactive functional groups include at least one such as propionic acid-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate.
Examples of the acrylate-based monomer having six reactive functional groups include at least one of dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and the like.

これらの中でも、機械加工性向上層14の耐久性の観点から、反応性官能基を3~6個有するアクリレート系モノマーが特に好ましい。
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-(メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレートが特に好ましい。
Among these, acrylate-based monomers having 3 to 6 reactive functional groups are particularly preferable from the viewpoint of durability of the machinability improving layer 14 .
Specifically, trimethylolpropane triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and ε-caprolactone-modified tris-(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate are particularly preferred.

また、活性エネルギー線硬化性成分(C)としては、活性エネルギー線硬化型のアクリレート系オリゴマーを用いることも好ましい。
このようなアクリレート系オリゴマーの例としては、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリブタジエンアクリレート系、シリコーンアクリレート系等の少なくとも一つが挙げられる。
そして、このようなアクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は、50,000以下であることが好ましく、500~50,000であることがより好ましく、3,000~40,000であることが更に好ましい。
As the active energy ray-curable component (C), it is also preferable to use an active energy ray-curable acrylate-based oligomer.
Examples of such acrylate oligomers include at least one of polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polybutadiene acrylate, silicone acrylate, and the like.
The weight average molecular weight of such an acrylate oligomer is preferably 50,000 or less, more preferably 500 to 50,000, even more preferably 3,000 to 40,000.

また、活性エネルギー線硬化性成分(C)としては、(メタ)アクリロイル基を有する基が側鎖に導入されたアダクトアクリレート系ポリマーを用いることも好ましい。
このようなアダクトアクリレート系ポリマーは、(メタ)アクリル酸エステルと、分子内に架橋性官能基を有する単量体との共重合体を用い、当該共重合体の架橋性官能基の一部に、(メタ)アクリロイル基及び架橋性官能基と反応する基を有する化合物を反応させることにより得ることができる。
上記のアダクトアクリレート系ポリマーの重量平均分子量は、5万~90万程度であることが好ましく、10万~50万程度であることがより好ましい。
Moreover, as the active energy ray-curable component (C), it is also preferable to use an adduct acrylate polymer in which a group having a (meth)acryloyl group is introduced into the side chain.
Such an adduct acrylate polymer uses a copolymer of a (meth)acrylic acid ester and a monomer having a crosslinkable functional group in the molecule, and a part of the crosslinkable functional group of the copolymer is , (meth)acryloyl group and a compound having a group reactive with a crosslinkable functional group.
The weight average molecular weight of the adduct acrylate polymer is preferably about 50,000 to 900,000, more preferably about 100,000 to 500,000.

本実施形態において、活性エネルギー線硬化性成分(C)は、前述した多官能アクリレート系モノマーを用いることが好ましいが、多官能アクリレート系モノマー、アクリレート系オリゴマー及びアダクトアクリレート系ポリマーから、1種を選んで用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよいし、これらの成分と他の活性エネルギー線硬化性成分とを組み合わせて用いてもよい。 In the present embodiment, the active energy ray-curable component (C) is preferably the polyfunctional acrylate-based monomer described above, and one type is selected from the polyfunctional acrylate-based monomer, acrylate-based oligomer, and adduct acrylate-based polymer. or two or more of them may be used in combination, or these components may be used in combination with other active energy ray-curable components.

そして、活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量を、通常、主剤(A)100重量部に対して、1~50重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量が、1重量部未満の値になると、反応性が乏しくなって、所望の貯蔵弾性率及びゲル分率が発現し難くなり、良好な機械加工処理性が得られない場合があるためである。
一方、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量が、50重量部を超えると、逆に反応性が制御できずに、主剤(A)と過度に反応し、架橋構造が密になり過ぎてしまい、粘着力が低下して良好な耐久性が得られない場合があるためである。
したがって、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量の下限を、主剤(A)100重量部に対して、3重量部以上とすることが好ましく、6重量部以上とすることが特に好ましく、10重量部以上とすることが更に好ましい。
一方、かかる活性エネルギー線硬化性成分(C)の配合量の上限を、30重量部以下とすることが好ましく、20重量部以下とすることが特に好ましく、13重量部以下とすることが更に好ましい。
The amount of the active energy ray-curable component (C) is generally preferably in the range of 1 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the main component (A).
The reason for this is that when the amount of the active energy ray-curable component (C) is less than 1 part by weight, the reactivity becomes poor, making it difficult to achieve the desired storage elastic modulus and gel fraction. This is because good machinability may not be obtained.
On the other hand, if the amount of the active energy ray-curable component (C) exceeds 50 parts by weight, the reactivity cannot be controlled and the component reacts excessively with the main component (A), resulting in a dense crosslinked structure. This is because there is a case where the adhesive strength is lowered and good durability cannot be obtained.
Therefore, the lower limit of the amount of the active energy ray-curable component (C) is preferably 3 parts by weight or more, particularly preferably 6 parts by weight or more, relative to 100 parts by weight of the main component (A). , 10 parts by weight or more.
On the other hand, the upper limit of the amount of the active energy ray-curable component (C) is preferably 30 parts by weight or less, particularly preferably 20 parts by weight or less, and further preferably 13 parts by weight or less. .

(4)光重合開始剤(D)
活性エネルギー線の照射によって、活性エネルギー線硬化性成分(C)を効率的に硬化できることから、所望により光重合開始剤(D)を含有することが好ましい。
(4) Photoinitiator (D)
Since the active energy ray-curable component (C) can be efficiently cured by irradiation with an active energy ray, it is preferable to contain a photopolymerization initiator (D) as desired.

このような光重合開始剤(D)としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノ-プロパン-1-オン、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル-2(ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p-フェニルベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-ターシャリーブチルアントラキノン、2-アミノアントラキノン、2-メチルチオキサントン、2-エチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p-ジメチルアミン安息香酸エステル、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等の少なくとも一つが挙げられる。 Examples of such photoinitiators (D) include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2 -phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio ) Phenyl]-2-morpholino-propan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-2(hydroxy-2-propyl)ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, dichloro Benzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4- Diethylthioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamine benzoate, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide At least one such as

これらの中でも、活性エネルギー線として紫外線を使用する場合、紫外線吸収波長領域外にも吸収波長を有する光重合開始剤(D)を含有することが好ましく、中でも紫外線領域よりも長波長側(380nm以上)に吸収波長を有する光重合開始剤(D)を含有することがより好ましく、特に380nm~410nmの波長領域に吸収波長を有する光重合開始剤(D)を含有することが好ましく、具体的には2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドやビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等を含有することが好ましい。
この理由は、以下のとおりである。
タッチパネル等を備えるモバイル電子機器等は屋外で多く使用されるため、その構成部材は紫外線の影響により劣化してしまう問題がある。
この問題を解決するため、紫外線吸収能を有する部材(紫外線遮蔽部材)を電子機器内に組み込むことによって、紫外線の影響による劣化を抑制する手法がとられることがある。
このように紫外線遮蔽部材を電子機器内に組み込んで、紫外線遮蔽部材側から紫外線を照射する場合において、機械加工性向上層14に紫外線吸収波長領域外に吸収波長を有さない光重合開始剤(D)を使用すると、紫外線が紫外線遮蔽部材に遮蔽されてしまい機械加工性向上層14の硬化ができなくなる。
逆に言えば、このような場合において、機械加工性向上層14に紫外線吸収波長領域外にも吸収波長を有する光重合開始剤(D)を使用すれば、紫外線吸収波長領域外の波長を利用して十分に硬化をすることができるためである。
Among these, when ultraviolet rays are used as the active energy ray, it is preferable to contain a photopolymerization initiator (D) having an absorption wavelength outside the ultraviolet absorption wavelength range. ) more preferably contains a photopolymerization initiator (D) having an absorption wavelength in the wavelength region of 380 nm to 410 nm. preferably contains 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide and the like.
The reason for this is as follows.
Since mobile electronic devices equipped with touch panels and the like are often used outdoors, there is a problem that their constituent members deteriorate due to the influence of ultraviolet rays.
In order to solve this problem, a method of suppressing deterioration due to the influence of ultraviolet rays is sometimes taken by incorporating a member having an ultraviolet absorbing ability (ultraviolet shielding member) into the electronic device.
When the ultraviolet shielding member is incorporated in an electronic device in this way and ultraviolet rays are irradiated from the side of the ultraviolet shielding member, the machinability improving layer 14 contains a photopolymerization initiator ( When D) is used, ultraviolet rays are shielded by the ultraviolet shielding member, making it impossible to cure the machinability improving layer 14 .
Conversely, in such a case, if a photopolymerization initiator (D) having absorption wavelengths outside the ultraviolet absorption wavelength region is used in the machinability improving layer 14, wavelengths outside the ultraviolet absorption wavelength region can be used. This is because it can be sufficiently hardened by

そして、光重合開始剤(D)の配合量としては、活性エネルギー線硬化性成分(C)100重量部に対して、0.5~25重量部の範囲内の値とすることが好ましく、2~20重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、5~15重量部の範囲内の値とすることが更に好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator (D) is preferably within the range of 0.5 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable component (C). A value in the range of up to 20 parts by weight is more preferable, and a value in the range of 5 to 15 parts by weight is even more preferable.

(5)シランカップリング剤(E)
機械加工性向上層14を形成するための組成物は、更にシランカップリング剤(E)を含有することも好ましい。
これにより、被着体にガラス部材や樹脂部材が含まれている場合、機械加工性向上層14と、被着体との密着性が向上するためである。
したがって、シランカップリング剤(E)を含有する機械加工性向上層14は、高温高湿条件下での耐久性により優れたものとなる。
(5) Silane coupling agent (E)
The composition for forming the machinability improving layer 14 preferably further contains a silane coupling agent (E).
This is because, when the adherend includes a glass member or a resin member, the adhesion between the machinability improving layer 14 and the adherend is improved.
Therefore, the machinability-enhancing layer 14 containing the silane coupling agent (E) is more excellent in durability under high-temperature and high-humidity conditions.

ここで、シランカップリング剤(E)の種類として、分子内にアルコキシシリル基を少なくとも1個有する有機ケイ素化合物であって、光透過性を有するものが好ましい。
このようなシランカップリング剤(E)としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の重合性不飽和基含有ケイ素化合物;3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ構造を有するケイ素化合物;3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン等のメルカプト基含有ケイ素化合物;3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有ケイ素化合物;3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、あるいはこれらの少なくとも1つと、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等のアルキル基含有ケイ素化合物との縮合物などが挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Here, as the type of silane coupling agent (E), an organosilicon compound having at least one alkoxysilyl group in the molecule and having optical transparency is preferred.
Examples of such silane coupling agents (E) include polymerizable unsaturated group-containing silicon compounds such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane; 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane; silicon compounds having an epoxy structure such as silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane; 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyldimethoxymethylsilane Mercapto group-containing silicon compound; amino such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane Group-containing silicon compound; 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, or at least one of these and alkyl such as methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane Examples include condensates with group-containing silicon compounds. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

また、シランカップリング剤(E)の配合量を、主剤(A)100重量部に対して、通常、0.01~5重量部の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるシランカップリング剤(E)の配合量が0.01重量部未満の値になると、配合効果が得られにくい場合があるためである。
一方、かかるシランカップリング剤(E)の配合量が5重量部を超えた値になると、かかるシランカップリング剤(E)に起因して、主剤(A)に導入された水酸基やカルボキシ基と、架橋性成分(B)とが過度に反応して、粘着性が、著しく低下したりする場合があるためである。
したがって、シランカップリング剤(E)の配合量を、主剤(A)100重量部に対して、0.1~3重量部の範囲内の値とすることが好ましく、0.2~1重量部の範囲内の値とすることが更に好ましい。
Also, the amount of the silane coupling agent (E) to be blended is preferably within the range of 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the main agent (A).
The reason for this is that if the amount of the silane coupling agent (E) to be blended is less than 0.01 part by weight, it may be difficult to obtain the blending effect.
On the other hand, when the amount of the silane coupling agent (E) exceeds 5 parts by weight, the silane coupling agent (E) causes the hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the main agent (A) to , and the crosslinkable component (B) may react excessively, resulting in a marked decrease in adhesiveness.
Therefore, the blending amount of the silane coupling agent (E) is preferably set to a value within the range of 0.1 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main agent (A), and 0.2 to 1 part by weight. It is more preferable to set the value within the range of

(6)添加剤
機械加工性向上層14の機械加工性向上性や機械特性等を更に改良すべく、上述したシランカップリング剤(E)以外に、無機フィラー、有機フィラー、無機繊維、有機繊維、導電性材料、電気絶縁性材料、金属イオン捕捉剤、軽量化剤、増粘剤、充填剤、研磨剤、着色剤、酸化防止剤、加水分解防止剤、紫外線吸収剤等の少なくとも一つの公知の添加剤を、配合することも好ましい。
そして、これらの公知の添加剤を配合する場合、その配合量を、通常、主剤(A)の全体量(100重量%)に対して、0.1~50重量%の範囲内の値とすることが好ましく、0.5~30重量%の範囲内の値とすることがより好ましい。
(6) Additives In order to further improve the machinability-enhancing properties and mechanical properties of the machinability-enhancing layer 14, in addition to the silane coupling agent (E) described above, inorganic fillers, organic fillers, inorganic fibers, and organic fibers are added. , conductive materials, electrically insulating materials, metal ion scavengers, lightening agents, thickeners, fillers, abrasives, coloring agents, antioxidants, hydrolysis inhibitors, ultraviolet absorbers, etc. It is also preferable to blend the additive of
When these known additives are blended, the blending amount is usually set to a value within the range of 0.1 to 50% by weight with respect to the total amount (100% by weight) of the main agent (A). is preferred, and a value within the range of 0.5 to 30% by weight is more preferred.

(7)厚さ
機械加工性向上層14の厚さとしては、3~40μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる械加工性向上層の厚さが3μm未満の値となると、所望の粘着性を発現できず、樹脂板12への貼合性が悪化する傾向があるためである。
一方、かかる機械加工性向上層14の厚さが40μmを超えた値になると、切削性が悪化する場合や、活性エネルギー線照射前後における、粘着力等を所望範囲内の値に調整することが困難になる場合があるためである。
したがって、機械加工性向上層14の厚さを、8~30μmの範囲内の値とすることがより好ましく、10~20μmの範囲内の値とすることが更に好ましい。
(7) Thickness The thickness of the machinability improving layer 14 is preferably set to a value within the range of 3 to 40 μm.
The reason for this is that if the thickness of the machinability-enhancing layer is less than 3 μm, the desired adhesiveness cannot be exhibited, and there is a tendency for the adhesion to the resin plate 12 to deteriorate.
On the other hand, if the thickness of the machinability-enhancing layer 14 exceeds 40 μm, machinability may deteriorate, or the adhesive strength before and after the active energy ray irradiation may be adjusted to a value within the desired range. This is because it may become difficult.
Therefore, the thickness of the machinability-enhancing layer 14 is more preferably set to a value within the range of 8 to 30 μm, and more preferably set to a value within the range of 10 to 20 μm.

3.基材
基材16の種類は特に制限されるものでないが、通常、樹脂フィルムであり、中でも、機能性フィルムや剥離フィルムが典型的である。
3. Substrate Although the type of substrate 16 is not particularly limited, it is usually a resin film, and functional films and release films are typical among them.

基材16が機能性フィルムである場合、その種類としては、タッチパネルにおける加飾フィルム、液晶表示装置における偏向フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、光制御フィルム、防眩性フィルム、光触媒性フィルム、紫外線遮蔽フィルム、遮熱性フィルム、帯電防止フィルム、導電性フィルム、ハーフミラーフィルム、ハードコートフィルム、装飾フィルム、ホログラフフィルム性等の少なくとも一つが挙げられる。
上述した各種機能性フィルムは、PETフィルム、PENフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、あるいはTACフィルム等の表面に、各種機能(加飾性、光偏光性、光位相性、光拡散性、光制御性、防眩性、紫外線遮蔽、遮熱性、帯電防止性、導電性、ハーフミラー性、ハードコート性、装飾性、ホログラフ性等)を付与するための機能層を表面又は内部に備えており、これらは目的に応じて適宜選択される。
When the base material 16 is a functional film, its types include a decorative film in a touch panel, a polarizing film in a liquid crystal display device, a retardation film, a light diffusion film, a light control film, an antiglare film, a photocatalytic film, At least one of ultraviolet shielding film, heat shielding film, antistatic film, conductive film, half-mirror film, hard coat film, decorative film, holographic film and the like can be mentioned.
The various functional films described above have various functions (decorative properties, light polarization properties, light phase properties, light diffusion properties, light control properties) on the surface of PET film, PEN film, acrylic film, polycarbonate film, or TAC film. , anti-glare properties, UV shielding properties, heat shielding properties, anti-static properties, conductivity, half-mirror properties, hard coating properties, decorative properties, holographic properties, etc.). is appropriately selected depending on the purpose.

基材16としての機能性フィルムの厚さは、用途や光透過率等を考慮して定められるが、通常、10~300μmの範囲の値とすることが好ましい。
この理由は、機能性フィルムの厚さが10μm未満の値になると、機械的強度や耐久性が著しく低下する場合があるためである。
一方、機能性フィルムの厚さが300μmを超えた値になると、タッチパネル等に用いた場合に、感度が低下したり、活性エネルギー線の透過性が著しく低下したりする場合があるためである。
したがって、機能性フィルムの厚さを20~250μmの範囲の値とすることがより好ましく、30~190μmの範囲の値とすることが更に好ましい。
The thickness of the functional film as the base material 16 is determined in consideration of the application, light transmittance, etc., and is usually preferably in the range of 10 to 300 μm.
The reason for this is that if the thickness of the functional film is less than 10 μm, the mechanical strength and durability may be remarkably lowered.
On the other hand, if the thickness of the functional film exceeds 300 μm, the sensitivity may be lowered and the transparency of active energy rays may be significantly lowered when used in a touch panel or the like.
Therefore, the thickness of the functional film is more preferably in the range of 20-250 μm, more preferably in the range of 30-190 μm.

基材16が剥離フィルムの場合、その種類としては、剥離面を有するポリエステルフィルム(PETフィルム等)、オレフィンフィルム、アクリルフィルム、ウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルム、フッ素フィルム、ポリイミドフィルム等の少なくとも一つが挙げられる。
なお、本明細書における剥離面とは、剥離処理を施した面及び剥離処理を施さなくても剥離性を示す面のいずれをも含むものである。
When the base material 16 is a release film, its type is at least one of a polyester film having a release surface (PET film, etc.), an olefin film, an acrylic film, a urethane film, a polycarbonate film, a TAC film, a fluorine film, a polyimide film, and the like. One is mentioned.
The release surface in this specification includes both a surface that has been subjected to a release treatment and a surface that exhibits releasability without being subjected to a release treatment.

基材16としての剥離フィルムの厚さは、用途や光透過率等を考慮して定められるが、通常、10~300μmの範囲の値とすることが好ましい。
この理由は、剥離フィルムの厚さが10μm未満の値になると、機械的強度や耐久性が著しく低下する場合があるためである。
一方、剥離フィルムの厚さが300μmを超えた値になると、ロール状に席巻したり、取り扱いが困難となったりする場合があるためである。
したがって、剥離フィルムの厚さを20~250μmの範囲の値とすることがより好ましく、30~200μmの範囲の値とすることが更に好ましい。
The thickness of the release film as the base material 16 is determined in consideration of the application, light transmittance, etc., but it is usually preferable to set the thickness within the range of 10 to 300 μm.
The reason for this is that if the release film has a thickness of less than 10 μm, the mechanical strength and durability may be significantly reduced.
On the other hand, if the thickness of the release film exceeds 300 μm, the release film may roll up or become difficult to handle.
Therefore, the thickness of the release film is more preferably in the range of 20 to 250 μm, more preferably in the range of 30 to 200 μm.

基材(機能性フィルムや剥離フィルム等)16の光学特性としては、タッチパネルや液晶表示装置等の用途として好適な透明性を有することが好ましい。
すなわち、樹脂板12の可視光透過率の下限として、60%以上の値とすることが好ましく、75%以上の値とすることがより好ましく、85%以上の値とすることが更に好ましい。
また、樹脂板12の可視光透過率の上限は、通常、100%以下であり、99.9%以下の値とすることが好ましく、99%以下の値とすることがより好ましく、98%以下の値とすることが更に好ましい。
As for the optical properties of the base material (functional film, release film, etc.) 16, it is preferable to have transparency suitable for applications such as touch panels and liquid crystal display devices.
That is, the lower limit of the visible light transmittance of the resin plate 12 is preferably 60% or more, more preferably 75% or more, and even more preferably 85% or more.
The upper limit of the visible light transmittance of the resin plate 12 is usually 100% or less, preferably 99.9% or less, more preferably 99% or less, and 98% or less. is more preferable.

4.機械加工性向上層の諸物性
(1)活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)
本実施形態に係る機械加工性向上層14、14´は、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)を、0.01~1MPaの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、上述した貯蔵弾性率(M1)を所定範囲に制御することにより、活性エネルギー線照射前における機械加工性向上層14の柔軟性が適度なものとなり、樹脂板12への貼合性が良好なものとなるためである。
したがって、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)を0.04~0.20MPaの範囲内の値とすることがより好ましく、更には、活性エネルギー線照射後の耐久性と切削性を両立しやすいことから、0.07~0.08MPaの範囲内の値とすることが更に好ましい。
なお、特に断りが無い場合、本明細書においては、温度25℃相当の貯蔵弾性率(M1、M2)を意味するものとする(以下、同様である。)。
4. Various physical properties of the machinability-enhancing layer (1) Storage modulus (M1) before active energy ray irradiation
The machinability improving layers 14, 14' according to the present embodiment preferably have a storage elastic modulus (M1) before irradiation with active energy rays within a range of 0.01 to 1 MPa.
The reason for this is that by controlling the above-mentioned storage modulus (M1) within a predetermined range, the flexibility of the machinability-improving layer 14 before irradiation with active energy rays becomes appropriate, and the lamination property to the resin plate 12 is improved. It is because it becomes a good thing.
Therefore, it is more preferable to set the storage modulus (M1) before active energy ray irradiation to a value within the range of 0.04 to 0.20 MPa, and furthermore, to achieve both durability and machinability after active energy ray irradiation. It is more preferable to set the value within the range of 0.07 to 0.08 MPa because it is easy to
In this specification, unless otherwise specified, it means the storage elastic modulus (M1, M2) corresponding to a temperature of 25°C (the same shall apply hereinafter).

(2)活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)
本実施形態に係る機械加工性向上層14、14´において、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)を0.10MPa以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる貯蔵弾性率(M2)を0.10MPa以上の値に制御することにより、機械加工性向上フィルム18を、樹脂板12に貼合した状態で、切削装置を用い切削した場合において、機械加工性向上層由来の欠けや、はみ出しの発生が抑制され、良好な切削性を得られるためである。
したがって、かかる貯蔵弾性率(M2)の下限を0.20MPa以上の値とすることが好ましく、0.25MPa以上の値とすることがより好ましく、0.30MPa以上の値とすることが更に好ましい。
一方、上述した貯蔵弾性率(M2)の値が過度に大きくなると、耐久性が低下する場合がある。したがって、かかる貯蔵弾性率(M2)の上限を5MPa以下の値とすることが好ましく、2MPa以下の値とすることがより好ましく、1MPa以下の値とすることが特に好ましく、0.6MPa以下の値とすることが更に好ましい。
(2) Storage modulus after active energy ray irradiation (M2)
In the machinability improving layers 14 and 14' according to the present embodiment, it is preferable to set the storage elastic modulus (M2) after irradiation with active energy rays to a value of 0.10 MPa or more.
The reason for this is that by controlling the storage modulus (M2) to a value of 0.10 MPa or more, when the machinability improving film 18 is bonded to the resin plate 12 and cut using a cutting device, This is because the occurrence of chipping and protrusion derived from the machinability-enhancing layer is suppressed, and good machinability can be obtained.
Therefore, the lower limit of the storage modulus (M2) is preferably 0.20 MPa or more, more preferably 0.25 MPa or more, and even more preferably 0.30 MPa or more.
On the other hand, if the value of the storage elastic modulus (M2) mentioned above is excessively large, the durability may decrease. Therefore, the upper limit of the storage modulus (M2) is preferably 5 MPa or less, more preferably 2 MPa or less, particularly preferably 1 MPa or less, and 0.6 MPa or less. It is more preferable that

(3)貯蔵弾性率の増加率(M2/M1×100)
本実施形態に係る機械加工性向上層14、14´は、活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)に対する、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)の増加率(=M2/M1×100)を、通常、320~30000%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、前述した貯蔵弾性率の増加率(%)を所定範囲内の値に制御することにより、活性エネルギー線照射前における樹脂板12への貼合性と、活性エネルギー線照射前後における耐久性及び切削性を両立し易いものするためである。
したがって、貯蔵弾性率の増加率(%)を350~10000%の範囲内の値とすることがより好ましく、380~1000%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(3) Increase rate of storage modulus (M2/M1×100)
The machinability-improving layers 14 and 14' according to the present embodiment have an increase rate (=M2/M1 ×100) is usually preferably set to a value within the range of 320 to 30000%.
The reason for this is that by controlling the increase rate (%) of the storage elastic modulus described above to a value within a predetermined range, the bonding property to the resin plate 12 before the active energy ray irradiation and the durability before and after the active energy ray irradiation are improved. This is because it is easy to achieve both of the durability and the machinability.
Therefore, the increase rate (%) of storage elastic modulus is more preferably set to a value within the range of 350 to 10000%, and more preferably set to a value within the range of 380 to 1000%.

(4)活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)
本実施形態における機械加工性向上層14、14´は、活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)を、通常、40~78%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるゲル分率(G1)を所定範囲内の値に制御することにより、樹脂板12に対する貼合性を良好なものにすることができるためである。
より具体的には、かかるゲル分率(G1)が、40%未満である場合、機械加工性向上層14の凝集力不足により、機械加工性向上フィルム18の取扱性が悪くなる場合がある。
一方、上述したゲル分率(G1)が、78%を超える値の場合、機械加工性向上層14が硬くなり過ぎてしまい、樹脂板12への貼合性が悪化する場合がある。
したがって、かかるゲル分率を50~76%の範囲内の値とすることがより好ましく、60~70%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(4) Gel fraction before active energy ray irradiation (G1)
The machinability-enhancing layers 14, 14' in the present embodiment preferably have a gel fraction (G1) before irradiation with active energy rays, usually within a range of 40 to 78%.
The reason for this is that by controlling the gel fraction (G1) to a value within a predetermined range, the adhesion to the resin plate 12 can be improved.
More specifically, when the gel fraction (G1) is less than 40%, the machinability-improving film 18 may be difficult to handle due to insufficient cohesion of the machinability-improving layer 14 .
On the other hand, when the gel fraction (G1) described above exceeds 78%, the machinability improving layer 14 becomes too hard, and the adhesion to the resin plate 12 may deteriorate.
Therefore, it is more preferable to set the gel fraction to a value within the range of 50 to 76%, and more preferably to a value within the range of 60 to 70%.

(5)活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)
本実施形態に係る機械加工性向上層14、14´は、活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)を75%以上の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかるゲル分率(G2)が75%未満の値の場合、切削性が著しく低下し、粘着剤残りが発生したりする場合があるためである。
したがって、かかるゲル分率(G2)の下限を77%以上の値とすることがより好ましく、79%以上の値とすることが特に好ましく、80%以上の値とすることが更に好ましい。
また、かかるゲル分率(G2)の上限値は、特に制限はないが、100%であってもよいが、切削性と耐久性の両立の観点から、95%以下が好ましく、90%以下が特に好ましい。
なお、かかるゲル分率(G2)の測定方法は、後述する実施例において、詳細に説明する。
(5) Gel fraction after active energy ray irradiation (G2)
The machinability improving layers 14 and 14' according to the present embodiment are characterized by having a gel fraction (G2) of 75% or more after irradiation with active energy rays.
The reason for this is that if the gel fraction (G2) is less than 75%, the machinability may be remarkably lowered and adhesive residue may occur.
Therefore, the lower limit of the gel fraction (G2) is more preferably 77% or more, particularly preferably 79% or more, and even more preferably 80% or more.
The upper limit of the gel fraction (G2) is not particularly limited, but it may be 100%, but from the viewpoint of achieving both machinability and durability, it is preferably 95% or less, and 90% or less. Especially preferred.
A method for measuring the gel fraction (G2) will be described in detail in the examples below.

(6)ゲル分率の増加率(G2/G1×100)
本実施形態に係る機械加工性向上層14、14´は、活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)に対する、活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)の増加率(=G2/G1×100)を、通常、110~250%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるゲル分率の増加率を所定範囲内の値に制御することにより、活性エネルギー線照射前における樹脂板12への貼合性が好適なものとなるとともに、活性エネルギー線照射後における耐久性及び切削性が両立し易いものとなるためである。
より具体的には、かかるゲル分率の増加率が110%未満の値となると切削性が低下し、機械加工性向上層14、14´の欠け等が発生したり、耐久性が低下したりする場合がある。
一方、かかるゲル分率の増加率が250%を超えた値となると、機械加工性向上層14、14´が脆くなって割れたりする場合がある。
したがって、かかるゲル分率の増加率を114~200%の範囲内の値とすることがより好ましく、120~160%の範囲内の値とすることが更に好ましく、128~140%の範囲内の値とすることが特に好ましい。
(6) Increase rate of gel fraction (G2/G1×100)
In the machinability improving layers 14 and 14' according to the present embodiment, the increase rate (=G2/G1 ×100) is usually preferably set to a value within the range of 110 to 250%.
The reason for this is that by controlling the increase rate of the gel fraction to a value within a predetermined range, the bonding property to the resin plate 12 before the active energy ray irradiation becomes suitable, and after the active energy ray irradiation This is because the durability and the machinability in are easily compatible with each other.
More specifically, when the increase rate of the gel fraction is less than 110%, the machinability deteriorates, chipping occurs in the machinability improving layers 14 and 14', and the durability deteriorates. sometimes.
On the other hand, if the increase rate of the gel fraction exceeds 250%, the machinability improving layers 14, 14' may become brittle and crack.
Therefore, the increase rate of the gel fraction is more preferably in the range of 114 to 200%, more preferably in the range of 120 to 160%, and more preferably in the range of 128 to 140%. value is particularly preferred.

(7)活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)
本実施形態に係る機械加工性向上フィルム18は、活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)を1N/25mm以上の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかる粘着力(P1)を所定範囲内の値に制御することにより、樹脂板12に対する密着性が良好となるためである。
かかる粘着力(P1)が1N/25mm未満であると、そもそも樹脂板12への貼合が困難となってしまったり、貼合できたとしても工程中に樹脂板12から機械加工性向上層14が剥がれたりする不具合が生じ易くなる場合がある。
一方、かかる粘着力(P1)は、60N/25mm以下であることが好ましい。
これは、かかる粘着力(P1)が60N/25mmを超えた値の場合、取扱性が悪くなる傾向があるためである。
したがって、かかる粘着力(P1)を8~40N/25mmの範囲内の値とすることがより好ましく、15~30N/25mmの値とすることが更に好ましい。
なお、かかる粘着力(P1)は、活性エネルギー線照射前において、JIS Z0237:2009に準じた180度引き剥がし法により測定することができるが、より具体的な測定方法は、後述する実施例に示す通りである。
(7) Adhesive strength before active energy ray irradiation (P1)
The machinability-enhancing film 18 according to the present embodiment is characterized by having an adhesive strength (P1) of 1 N/25 mm or more before irradiation with active energy rays.
The reason for this is that the adhesion to the resin plate 12 is improved by controlling the adhesive force (P1) to a value within a predetermined range.
If the adhesive strength (P1) is less than 1 N/25 mm, it becomes difficult to bond the resin plate 12 in the first place. In some cases, problems such as peeling off may easily occur.
On the other hand, such adhesive strength (P1) is preferably 60 N/25 mm or less.
This is because when the adhesive strength (P1) exceeds 60 N/25 mm, the handleability tends to deteriorate.
Therefore, it is more preferable to set the adhesive strength (P1) to a value within the range of 8 to 40 N/25 mm, and more preferably to a value of 15 to 30 N/25 mm.
The adhesive strength (P1) can be measured by a 180-degree peeling method according to JIS Z0237:2009 before irradiation with active energy rays, but a more specific measuring method is described in Examples described later. As shown.

(8)活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)
本実施形態に係る機械加工性向上フィルム18´は、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)を10N/25mm以上の値とすることを特徴とする。
この理由は、かかる粘着力(P2)を10N/25mm以上の値に制御することにより、密着性が良好なものとなり、優れた耐久性を発揮するためである。
したがって、かかる粘着力(P2)の下限値を15N/25mm以上の値とすることが好ましく、20N/25mm以上の値とすることがより好ましく、24N/25mm以上の値とすることが更に好ましい。
一方、かかる粘着力(P2)の上限値を、200N/25mm以下の値とすることが好ましく、120N/25mm以下の値とすることがより好ましく、60N/25mm以下の値とするが更に好ましく、40N/25mm以下の値とすることが特に好ましい。
なお、かかる粘着力(P2)は、活性エネルギー線照射後において、JIS Z0237:2009に準じた180度引き剥がし法により測定することができるが、より具体的な測定方法は、後述する実施例に示す通りである。
(8) Adhesive strength after active energy ray irradiation (P2)
The machinability-enhancing film 18' according to the present embodiment is characterized by having an adhesive strength (P2) of 10 N/25 mm or more after irradiation with active energy rays.
The reason for this is that by controlling the adhesive strength (P2) to a value of 10 N/25 mm or more, good adhesion can be obtained and excellent durability can be exhibited.
Therefore, the lower limit of the adhesive strength (P2) is preferably 15 N/25 mm or more, more preferably 20 N/25 mm or more, and even more preferably 24 N/25 mm or more.
On the other hand, the upper limit of the adhesive strength (P2) is preferably 200 N/25 mm or less, more preferably 120 N/25 mm or less, and even more preferably 60 N/25 mm or less. A value of 40 N/25 mm or less is particularly preferred.
The adhesive strength (P2) can be measured by a 180-degree peeling method according to JIS Z0237:2009 after irradiation with active energy rays, but a more specific measuring method is described in Examples described later. As shown.

(9)粘着力の増加率(=P2/P1×100)
本実施形態に係る機械加工性向上フィルム18、18´は、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)に対する、活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)の増加率(=P2/P1×100)を80~300%の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる粘着力の増加率を所定範囲内の値に制御することにより、活性エネルギー線照射前における樹脂板12への貼合性と、活性エネルギー線照射後における耐久性の両立がより容易となるためである。
したがって、粘着力の増加率を100~200%の範囲内の値とすることがより好ましく、120~140%の範囲内の値とすることが更に好ましい。
(9) Increase rate of adhesive strength (= P2 / P1 × 100)
The machinability-improving films 18 and 18' according to the present embodiment have an increase rate (=P2/P1×100 ) is preferably set to a value of 80 to 300%.
The reason for this is that by controlling the rate of increase in adhesive strength to a value within a predetermined range, both the bonding property to the resin plate 12 before irradiation with active energy rays and the durability after irradiation with active energy rays are more compatible. This is because it becomes easier.
Therefore, it is more preferable to set the rate of increase in adhesive strength to a value within the range of 100 to 200%, and more preferably to a value within the range of 120 to 140%.

(10)最大応力(S2)
本実施形態に係る機械加工性向上フィルム18´は、活性エネルギー線照射後の引張応力を測定した際の最大応力(S2)を、通常、1.5N/mm2以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる最大応力(S2)を1.5N/mm以上の値とすることによって、機械加工時において機械加工性向上層14´の欠けが抑制される傾向にあり、切削性が良好となるためである。
したがって、かかる最大応力(S2)を2.0N/mm2以上の値とすることがより好ましく、耐久性との両立の観点からは2.5N/mm2以上の値とすることが更に好ましい。
一方、かかる最大応力(S2)の上限値は、特に限定されないが、耐久性と切削性を両立させる観点から、20N/mm2以下の値とすることが好ましく、10N/mm2以下の値とすることがより好ましく、4N/mm2以下の値とすることが特に好ましい。
(10) maximum stress (S2)
The machinability-improving film 18' according to the present embodiment preferably has a maximum stress (S2) of 1.5 N/mm 2 or more when the tensile stress after irradiation with active energy rays is measured. .
The reason for this is that by setting the maximum stress (S2) to a value of 1.5 N/mm 2 or more, chipping of the machinability improving layer 14′ tends to be suppressed during machining, and machinability is good. This is because
Therefore, the maximum stress (S2) is more preferably set to a value of 2.0 N/mm 2 or more, and more preferably set to a value of 2.5 N/mm 2 or more from the viewpoint of compatibility with durability.
On the other hand, the upper limit of the maximum stress (S2) is not particularly limited. is more preferable, and it is particularly preferable to set the value to 4 N/mm 2 or less.

(11)100%伸長時応力(E2)
本実施形態に係る機械加工性向上フィルム18´は、活性エネルギー線照射後の100%伸長時応力(E2)を、通常、10N/mm2以下の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる100%伸長時応力(E2)を10N/mm2以下の値とすることによって、機械加工時において機械加工性向上層14´が伸び難くなる傾向にあり、切削後に機械加工性向上層14´がはみ出すことのない切断面を得ることができ、ひいては、切削性が良好となるためである。
したがって、かかる100%伸長時応力(E2)の上限値を6N/mm2以下の値とすることがより好ましく、耐久性との両立の観点からは、1N/mm2以下の値とすることが更に好ましい。
一方、かかる100%伸長時応力(E2)の下限値は、特に限定されないが、耐久性と切削性を両立させる観点から、0.1N/mm2以上の値とすることが好ましく、0.4N/mm2以上の値とすることがより好ましく、0.7N/mm2以上の値とすることが特に好ましい。
(11) Stress at 100% elongation (E2)
The machinability-improving film 18' according to the present embodiment preferably has a stress (E2) at 100% elongation after irradiation with active energy rays of generally 10 N/mm 2 or less.
The reason for this is that by setting the stress at 100% elongation (E2) to a value of 10 N/mm 2 or less, the machinability-improving layer 14′ tends to be difficult to stretch during machining, and machinability after cutting. This is because it is possible to obtain a cut surface in which the improvement layer 14' does not protrude, thereby improving machinability.
Therefore, it is more preferable to set the upper limit of the stress at 100% elongation (E2) to a value of 6 N/mm 2 or less, and from the viewpoint of compatibility with durability, it is preferable to set the value to 1 N/mm 2 or less. More preferred.
On the other hand, the lower limit of the stress at 100% elongation (E2) is not particularly limited, but from the viewpoint of achieving both durability and machinability, a value of 0.1 N / mm 2 or more is preferable, and 0.4 N /mm 2 or more, and particularly preferably 0.7 N/mm 2 or more.

5.積層体
本実施形態に係る機械加工性向上フィルム18、18´を使用した積層体10、10´は、図1(a)等に示される機械加工性向上フィルム18、18´を積層してなる樹脂板12から構成されてなる積層体であれば、特に制限されるものではない。
したがって、各種機器において使用される各種機能性フィルムを、機械加工性向上層14´を介して、樹脂板12とともに精度良く機械加工処理(切削処理)し、樹脂板付きの機能性フィルム等の積層体10、10´として容易に製造することができる。
以下、かかる積層体10、10´の態様を具体的に説明する。
5. Laminate The laminate 10, 10' using the machinability-improving films 18, 18' according to the present embodiment is formed by laminating the machinability-improving films 18, 18' shown in FIG. As long as it is a laminate composed of the resin plates 12, it is not particularly limited.
Therefore, various functional films used in various devices are precisely machined (cut) together with the resin plate 12 through the machinability improving layer 14', and the functional film with the resin plate is laminated. It can easily be manufactured as a body 10, 10'.
Hereinafter, aspects of such laminates 10 and 10' will be specifically described.

(1)活性エネルギー線硬化前の積層体
活性エネルギー線硬化前の積層体10は、図1(a)、図2(c)、図3(d)、図4(d)等に示すように、基材16としての機能性フィルムと、機械加工性向上フィルム18と、樹脂板12とが順次積層された積層体10である。
なお、図2~4については、後述する機械加工性向上フィルム18、18´の使用方法として具体的に説明する。
(1) Laminate before active energy ray curing Laminate 10 before active energy ray curing is shown in FIGS. , a functional film as a substrate 16, a machinability improving film 18, and a resin plate 12 are sequentially laminated.
2 to 4 will be specifically described as a method of using the machinability improving films 18, 18', which will be described later.

(2)活性エネルギー線硬化後の積層体
活性エネルギー線硬化後の積層体10´は、前述した活性エネルギー線硬化前の積層体10の基材16、又は、樹脂板12側より活性エネルギー線を照射することにより、機械加工性向上層14を、硬化後の機械加工性向上層14´とすることができる。
すなわち、図2(d)及び図2(e)、図3(e)及び図3(f)、図4(e)及び図4(f)に示すように、基材16としての機能性フィルムと、硬化後の機械加工性向上層14´と、樹脂板12とが順次積層された積層体10´である。
(2) Laminate after active energy ray curing The laminate 10′ after active energy ray curing is obtained by applying an active energy ray from the base material 16 of the laminate 10 before active energy ray curing or the resin plate 12 side. By irradiating, the machinability-improving layer 14 can be made into a machinability-improving layer 14' after curing.
That is, as shown in FIGS. 2(d) and 2(e), FIGS. 3(e) and 3(f), FIGS. 4(e) and 4(f), the functional film as the substrate 16 , a cured machinability improving layer 14 ′, and a resin plate 12 are sequentially laminated to form a laminate 10 ′.

硬化後の機械加工性向上層14´は、上述した機械加工性向上フィルム18が有する機械加工性向上層14を、活性エネルギー線照射により硬化させたものである。
本実施形態では、この硬化後の機械加工性向上層14´は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と架橋性成分(B)とが熱によって形成される架橋構造からなる反応物を有するとともに、活性エネルギー線硬化性成分(C)が重合して硬化した構造(重合構造)を含有する粘着剤からなる。
当該重合構造は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と架橋性成分(B)とから構成される架橋構造に絡み付いているものと推定される。
複数の三次元構造が絡み合う構造を有していることにより、硬化後の機械加工性向上層14´は高い凝集力を有するものとなり、所望の粘着力及びゲル分率の値を満たし易いものとなる。
したがって、硬化後の機械加工性向上層14´は優れた切削性を発揮しながら、耐久性も優れたものとなる。
The cured machinability-improving layer 14' is obtained by curing the machinability-improving layer 14 of the machinability-improving film 18 described above by irradiation with active energy rays.
In the present embodiment, the cured machinability-improving layer 14′ has a crosslinked structure formed by heat of the (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) and the crosslinkable component (B). It is composed of a pressure-sensitive adhesive containing a reaction product and a structure (polymerized structure) in which the active energy ray-curable component (C) is polymerized and cured.
It is presumed that the polymerized structure is entwined with a crosslinked structure composed of the (meth)acrylic acid ester copolymer as the main agent (A) and the crosslinkable component (B).
By having a structure in which a plurality of three-dimensional structures are intertwined, the machinability-improving layer 14' after curing has a high cohesive force, and easily satisfies the desired adhesion and gel fraction values. Become.
Therefore, the hardened machinability-enhancing layer 14' exhibits excellent machinability as well as excellent durability.

なお、本発明の効果が得られる限りにおいては、上記の硬化後の機械加工性向上層14´には、活性エネルギー線照射によっても開裂しなかった光重合開始剤(D)が含まれていてもよい。
本実施形態では、硬化後の機械加工性向上層14´中において、光重合開始剤の残量は0.1質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることがより好ましい。
As long as the effects of the present invention can be obtained, the post-curing machinability-improving layer 14' contains a photopolymerization initiator (D) that has not been cleaved by active energy ray irradiation. good too.
In this embodiment, the residual amount of the photopolymerization initiator in the machinability improving layer 14' after curing is preferably 0.1% by mass or less, and more preferably 0.01% by mass or less. .

6.使用方法
機械加工性向上フィルム18の使用方法としては、図2(a)~(e)に例示するように、所望の機械加工性向上フィルム18を準備工程にて得たのち、下記工程(1)~(3)を含むことを特徴とすることが好ましい。
(1)得られた機械加工性向上フィルム18を、樹脂板12に貼付する工程
(2)樹脂板12又は基材16側から活性エネルギー線を照射し、前記機械加工性向上層14中における活性エネルギー線硬化性成分を硬化させ、硬化後の機械加工性向上層14´とする工程
(3)硬化後の機械加工性向上層14´及び樹脂板12を含む積層体10´に対して、所定の機械加工処理を施す工程
以下、適宜図面を参照して、機械加工性向上フィルム18の使用方法を具体的に説明する。
6. Method of use As a method of using the machinability-improving film 18, the desired machinability-improving film 18 is obtained in the preparatory step, as illustrated in FIGS. ) to (3) are preferably included.
(1) A step of attaching the obtained machinability-improving film 18 to the resin plate 12 (2) A step of irradiating an active energy ray from the resin plate 12 or base material 16 side to activate the machinability-improving layer 14 Step (3): Curing the energy ray-curable component to form a cured machinability-enhancing layer 14'; Step of Machining Treatment A method of using the machinability improving film 18 will be specifically described below with reference to the drawings as appropriate.

6-1:準備工程(1)
準備工程(1)は、機械加工性向上層14を形成するための組成物の準備工程である。
したがって、図2(a)等に示される、機械加工性向上層14を形成するための組成物を由来とした樹脂層13は、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、架橋性成分(B)と、活性エネルギー線硬化性成分(C)とを主成分として含む組成物から構成される。
当該組成物は、必要に応じて光重合開始剤(D)、シランカップリング剤(E)及び有機溶剤等を含むことができ、これらを均一に混合することで、前記樹脂層13とするため塗布液を得ることができる。
6-1: Preparation process (1)
The preparation step (1) is a step of preparing a composition for forming the machinability improving layer 14 .
Therefore, the resin layer 13 derived from the composition for forming the machinability improving layer 14 shown in FIG. , a composition comprising a crosslinkable component (B) and an active energy ray-curable component (C) as main components.
The composition may contain a photopolymerization initiator (D), a silane coupling agent (E), an organic solvent, etc., as necessary, and the resin layer 13 is formed by uniformly mixing these. A coating liquid can be obtained.

6-2:準備工程(2)
準備工程(2)は、前述した所定組成物を含む塗布液の塗布工程である。
したがって、図2(a)に示されるように、基材(機能性フィルム等)16の表面に、前述した組成物の塗布液を塗布し、基材16と機械加工性向上層14を形成するための組成物を由来とした樹脂層13とが積層された積層物を得る。
塗布液を塗布する方法としては、特に制限されず、公知の方法で行うことができ、たとえば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が例示される。
そして、図2(b)に示されるように、所定の加熱処理(H)を施して、主剤(A)に含まれる官能基と、架橋性成分(B)とを熱架橋反応させ、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14とすることで、機械加工性向上フィルム18を得る。
当該加熱処理(H)は、前述した組成物の塗布液に含まれる溶剤等の飛散除去も兼ねることができる。
その際、具体的に、加熱処理(H)の加熱温度は、50~160℃であることが好ましく、70~140℃であることがより好ましい。
また、加熱時間は、10秒~10分であることが好ましく、50秒~2分であることがより好ましい。
更に、加熱処理後、常温(例えば、23℃、50%RH)で1~2週間程度の養生期間を設けることが好ましい。
このような加熱処理(及び養生)により、架橋性成分(B)を介して(メタ)アクリル酸エステル共重合体が良好に架橋され、架橋構造が形成される。
すなわち、このような工程を経て、機械加工性向上層14を形成するための組成物を由来とした樹脂層13を熱架橋してなる、機械加工性向上層14が得られ、所定の機械加工性向上フィルム18となる。
なお、機械加工性向上層14を形成するための組成物に含まれる他の成分(活性エネルギー線硬化性成分(C)、光重合開始剤(D)、カップリング剤(E)等)は、熱架橋前後で含有量及び性質等は変化しない。
6-2: Preparation process (2)
The preparation step (2) is a step of applying a coating liquid containing the predetermined composition described above.
Therefore, as shown in FIG. 2( a ), the surface of a substrate (functional film or the like) 16 is coated with the coating liquid of the composition described above to form the substrate 16 and the machinability improving layer 14 . A laminate is obtained in which the resin layer 13 derived from the composition for the purpose is laminated.
The method of applying the coating liquid is not particularly limited, and can be performed by a known method. Examples include bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, gravure coating, and the like. be done.
Then, as shown in FIG. 2(b), a predetermined heat treatment (H) is applied to cause a thermal cross-linking reaction between the functional groups contained in the main component (A) and the cross-linkable component (B), and the activation energy is A machinability-improving film 18 is obtained by forming the line-curing machinability-improving layer 14 .
The heat treatment (H) can also serve to remove scattering of the solvent or the like contained in the coating liquid of the composition described above.
At that time, specifically, the heating temperature of the heat treatment (H) is preferably 50 to 160°C, more preferably 70 to 140°C.
The heating time is preferably 10 seconds to 10 minutes, more preferably 50 seconds to 2 minutes.
Furthermore, after the heat treatment, it is preferable to provide a curing period of about 1 to 2 weeks at normal temperature (eg, 23° C., 50% RH).
By such heat treatment (and curing), the (meth)acrylate copolymer is satisfactorily crosslinked via the crosslinkable component (B) to form a crosslinked structure.
That is, through such steps, the machinability-improving layer 14 is obtained by thermally cross-linking the resin layer 13 derived from the composition for forming the machinability-improving layer 14, and the machinability-improving layer 14 is obtained. A property-enhancing film 18 is obtained.
Note that other components contained in the composition for forming the machinability improving layer 14 (active energy ray-curable component (C), photopolymerization initiator (D), coupling agent (E), etc.) The content, properties, etc. do not change before and after thermal crosslinking.

6-3:工程(1)
次いで、工程(1)は、機械加工性向上フィルム18の樹脂板12への積層工程である。
したがって、図2(c)に示されるように、樹脂板12と、機械加工性向上フィルム18の機械加工性向上層14とを貼合して積層する。
このような樹脂板12と機械加工性向上フィルム18の貼合は、ラミメーター等、公知の貼合方法を用いることができる。
これにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14が、基材(機能性フィルム等)16と樹脂板12に挟持された積層体10を得ることができる。
6-3: Step (1)
Next, step (1) is a step of laminating the machinability improving film 18 on the resin plate 12 .
Therefore, as shown in FIG. 2(c), the resin plate 12 and the machinability improving layer 14 of the machinability improving film 18 are bonded and laminated.
For bonding the resin plate 12 and the machinability improving film 18 as described above, a known bonding method such as a lamination method can be used.
Thereby, the laminate 10 in which the active energy ray-curable machinability improving layer 14 is sandwiched between the substrate (functional film or the like) 16 and the resin plate 12 can be obtained.

6-4:工程(2)
次いで、工程(2)は、活性エネルギー線の照射工程である。
したがって、図2(d)に示されるように、紫外線等の活性エネルギー線(L)を基材16の機械加工性向上層と接する側と反対側の面から照射する。
これにより、機械加工性向上層14中の活性エネルギー線硬化性成分(C)が硬化し、硬化後の機械加工性向上層14´が形成される。
すなわち、硬化後の機械加工性向上層14´が、基材(機能性フィルム等)16と、樹脂板12との間に挟持された積層体10´を得ることができる。
なお、図2(d)においては、樹脂板12の背面側から、活性エネルギー線(L)を照射しているが、基材(機能性フィルム等)16が設けられた側、すなわち、樹脂側とは反対側から活性エネルギー線(L)を照射しても良く、更には、樹脂板12の背面側と、基材(機能性フィルム等)16の側の両面から、活性エネルギー線(L)を照射しても良い。
6-4: Step (2)
Next, step (2) is a step of irradiating active energy rays.
Therefore, as shown in FIG. 2(d), active energy rays (L) such as ultraviolet rays are irradiated from the surface of the substrate 16 opposite to the side in contact with the machinability improving layer.
As a result, the active energy ray-curable component (C) in the machinability-enhancing layer 14 is cured to form a cured machinability-enhancing layer 14'.
That is, it is possible to obtain the laminate 10 ′ in which the cured machinability improving layer 14 ′ is sandwiched between the substrate (functional film or the like) 16 and the resin plate 12 .
In FIG. 2D, the active energy ray (L) is irradiated from the back side of the resin plate 12, but the side on which the substrate (functional film, etc.) 16 is provided, that is, the resin side The active energy ray (L) may be irradiated from the opposite side, and further, from both the back side of the resin plate 12 and the substrate (functional film etc.) 16 side, the active energy ray (L) may be irradiated.

ここで、活性エネルギー線とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものをいい、具体的には、紫外線、電子線などが挙げられる。
本実施形態における活性エネルギー線としては、200~450nmの波長を有する光を含む活性エネルギー線であることが好ましい。
上記の条件を満足する活性エネルギー線を得るためには、例えば、高圧水銀ランプ、フュージョンHランプ、キセノンランプ等の紫外線を照射可能な光源を用いればよい。
活性エネルギー線の照射量は、照度が50mW/cm以上1000mW/cm以下であることが好ましい。
光量は、50mJ/cm以上であることが好ましく、80mJ/cm以上であることがより好ましく、200mJ/cm以上であることが更に好ましい。
また、光量は、10000mJ/cm以下であることが好ましく、5000mJ/cm以下であることがより好ましく、2000mJ/cm以下であることが更に好ましい。
Here, the active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam that has energy quanta, and specifically includes ultraviolet rays, electron beams, and the like.
The active energy ray in this embodiment is preferably an active energy ray containing light having a wavelength of 200 to 450 nm.
In order to obtain an active energy ray that satisfies the above conditions, for example, a light source capable of irradiating ultraviolet rays, such as a high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, and a xenon lamp, may be used.
As for the irradiation amount of active energy rays, the illuminance is preferably 50 mW/cm 2 or more and 1000 mW/cm 2 or less.
The amount of light is preferably 50 mJ/cm 2 or more, more preferably 80 mJ/cm 2 or more, and even more preferably 200 mJ/cm 2 or more.
Also, the amount of light is preferably 10000 mJ/cm 2 or less, more preferably 5000 mJ/cm 2 or less, and even more preferably 2000 mJ/cm 2 or less.

6-5:工程(3)
最後に、工程(3)は機械加工処理工程である。
したがって、図2(e)に示されるように、基材(機能性フィルム等)16とともに、機械加工性向上層14´が積層された樹脂板12に対して、所定の機械加工処理(例えば、矢印Aで示す方向への切削処理)を行うことになる。
そして、本実施形態の機械加工性向上フィルム18は、優れた切削性を有することから、一度の切削処理によって、所望の形状を有する積層体10´を容易に得ることができる。
更に、切削処理において機械加工性向上層14´の欠けや伸びはないため、加工後の切削面は良好となり、得られる積層体10´は、優れた外観品質を有するものとなる。
また、得られる積層体10´は、耐久性に優れるため、厳しい環境下で使用される光学部品(例えば、車載用のタッチパネルや液晶表示装置等)にも適用可能である。
よって、本実施形態の機械加工性向上フィルム18を上述したように使用することにより、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層14´を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。
6-5: Step (3)
Finally, step (3) is the machining process step.
Therefore, as shown in FIG. 2(e), a resin plate 12 laminated with a substrate (functional film or the like) 16 and a machinability improving layer 14' is subjected to a predetermined machining process (for example, Cutting processing in the direction indicated by the arrow A) is performed.
Since the machinability-enhancing film 18 of the present embodiment has excellent machinability, it is possible to easily obtain a laminate 10' having a desired shape by a single cutting process.
Furthermore, since the machinability-enhancing layer 14' does not chip or stretch during the cutting process, the cut surface after processing is good, and the obtained laminate 10' has excellent appearance quality.
In addition, since the laminate 10' obtained has excellent durability, it can also be applied to optical components (for example, an in-vehicle touch panel, a liquid crystal display device, etc.) used in severe environments.
Therefore, by using the machinability-improving film 18 of the present embodiment as described above, a functional film having the machinability-improving layer 14 ′ interposed therebetween can be applied to optical components such as touch panels and liquid crystal display devices. It is possible to easily manufacture a resin plate with the .

7.その他の使用方法
7-1 変形例1
図3(a)~(f)に例示される工程は、前述した準備工程(1)において、基材(剥離フィルム等)16を使用する場合の工程例である。
したがって、例えば、基材(剥離フィルム等)16を使用する場合、図4(a)~(f)に例示されるように、下記工程(1´)~(3´)を含むことにより、機械加工性向上フィルム18を機械加工処理(切削処理)に好適に使用することができる。
7. Other Usage 7-1 Modification 1
The steps illustrated in FIGS. 3(a) to 3(f) are examples of steps in the case of using the substrate (release film, etc.) 16 in the preparation step (1) described above.
Therefore, for example, when using the base material (release film, etc.) 16, as illustrated in FIGS. The workability improving film 18 can be suitably used for machining processing (cutting processing).

(1)準備工程(1´)
準備工程(1´)は、基材への樹脂層13の塗布、及び熱処理工程である。
すなわち、図3(a)及び図3(b)に示す通り、基材(剥離フィルム等)16の表面に、機械加工性向上層14を形成するための組成物を由来とした樹脂層13を塗布して、熱処理(H)を施すことにより、機械加工性向上層14を含む機械加工性向上フィルム18´とする工程である。
ここで、機械加工性向上層14を形成するための組成物の準備工程及び塗布工程は、前述した準備工程(1)及び準備工程(2)に準ずる。
なお、図示しないものの、図3(b)において、機械加工性向上層14の暴露面に基材(剥離フィルム等)16を設けても良い。
このような構成とすることで、使用するまでの間、機械加工性向上層14が汚染されるリスクが低減する。
(1) Preparatory step (1')
The preparation step (1') is a step of applying the resin layer 13 to the substrate and a heat treatment step.
That is, as shown in FIGS. 3A and 3B, a resin layer 13 derived from a composition for forming a machinability improving layer 14 is formed on the surface of a substrate (release film, etc.) 16. In this step, the machinability-enhancing film 18 ′ including the machinability-enhancing layer 14 is formed by coating and heat-treating (H).
Here, the preparation step and application step of the composition for forming the machinability improving layer 14 conform to the preparation step (1) and preparation step (2) described above.
In addition, although not shown, in FIG. 3B, a base material (release film, etc.) 16 may be provided on the exposed surface of the machinability improving layer 14 .
With such a configuration, the risk of contamination of the machinability-enhancing layer 14 before use is reduced.

(2)工程(1´)
次いで、工程(1´)は、機械加工性向上フィルム18´の樹脂板12への積層工程である。
すなわち、図3(c)及び図3(d)に示すように、機械加工性向上フィルム18´の機械加工性向上層14の暴露面と、基材(機能性フィルム)16とを貼合して、積層する。
そして、基材(剥離フィルム等)16を剥がして、樹脂板12を積層する。
これにより、活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層14が、基材(機能性フィルム等)16と樹脂板12に挟持された積層体10を得ることができる。
(2) Step (1')
Next, step (1') is a step of laminating the machinability improving film 18' on the resin plate 12. As shown in FIG.
That is, as shown in FIGS. 3(c) and 3(d), the exposed surface of the machinability-improving layer 14 of the machinability-improving film 18′ and the base material (functional film) 16 are laminated. and stack them.
Then, the base material (separation film, etc.) 16 is peeled off, and the resin plate 12 is laminated.
As a result, the laminate 10 in which the active energy ray-curable machinability improving layer 14 is sandwiched between the substrate (functional film or the like) 16 and the resin plate 12 can be obtained.

(3)工程(2´)
次いで、工程(2´)は、活性エネルギー線の照射工程である。
したがって、図3(e)に示すように、活性エネルギー線(L)を照射して、機械加工性向上層14に含まれる活性エネルギー線硬化性成分(C)を硬化させて、機械加工性向上層14´とする。すなわち、硬化後の機械加工性向上層14´が、基材(機能性フィルム等)16と、樹脂板12との間に挟持された積層体10´を得ることができる。
なお、活性エネルギー線の照射条件等は、前述した工程(2)に準ずる。
(3) Step (2')
Next, step (2') is an active energy ray irradiation step.
Therefore, as shown in FIG. 3(e), the active energy ray (L) is irradiated to cure the active energy ray-curable component (C) contained in the machinability improving layer 14, thereby improving the machinability. Layer 14'. That is, it is possible to obtain the laminate 10 ′ in which the cured machinability improving layer 14 ′ is sandwiched between the substrate (functional film or the like) 16 and the resin plate 12 .
In addition, the irradiation conditions of the active energy ray and the like conform to the step (2) described above.

(4)工程(3´)
最後に、工程(3´)は、機械加工処理工程である。
したがって、図3(f)に示すように、基材(機能性フィルム等)16とともに、機械加工性向上層14´が積層された樹脂板12に対して、所定の機械加工処理(例えば、矢印Aで示す方向への切削処理)を行う。
そして、上述した工程(1´)~(3´)においても、前述した工程(1)~(3)と同様に、本実施形態の機械加工性向上フィルム18、18´を好適に使用することができる。
よって、当該変形例1においても、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層14´を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。
(4) Step (3')
Finally, step (3') is a machining process step.
Therefore, as shown in FIG. 3( f ), a resin plate 12 laminated with a substrate (functional film or the like) 16 and a machinability improving layer 14 ′ is subjected to a predetermined machining process (for example, arrow Cutting processing in the direction indicated by A) is performed.
Also in the steps (1′) to (3′) described above, the machinability improving films 18 and 18′ of the present embodiment can be suitably used in the same manner as in the steps (1) to (3) described above. can be done.
Therefore, also in Modification 1, it is possible to easily manufacture a resin plate with a functional film through the machinability improving layer 14', which is applicable to optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices.

7-2 変形例2
図4(a)~(f)に例示される工程は、前述した変形例1の工程(1´)において、機械加工性向上フィルム18´の貼合の順番が異なる場合の工程例である。
すなわち、図4(c)に示すように、図4(b)に示す機械加工性向上フィルム18´の機械加工性向上層14の暴露面と、樹脂板12とを貼合して、積層する。
そして、図4(d)に示すように、基材(剥離フィルム等)16を剥がして、基材(機能性フィルム)16を積層する工程である。なお、上述した工程(1´)以外については、前述した変形例1に準ずる。
したがって、当該変形例2においても、前述した工程(1)~(3)及び前述した工程(1´)~(3´)と同様に、本実施形態の機械加工性向上フィルム18、18´を好適に使用することができる。
よって、当該工程(1´)~(3´)においても、タッチパネルや液晶表示装置等の光学部品等に適用可能な、機械加工性向上層14´を介した機能性フィルム付きの樹脂板を簡便に製造することができる。
7-2 Modification 2
The steps illustrated in FIGS. 4A to 4F are examples of steps in which the machinability improving film 18' is laminated in a different order in the step (1') of Modification 1 described above.
That is, as shown in FIG. 4C, the exposed surface of the machinability improving layer 14 of the machinability improving film 18' shown in FIG. .
Then, as shown in FIG. 4D, the base material (separation film or the like) 16 is peeled off, and the base material (functional film) 16 is laminated. In addition, except for the step (1') described above, it conforms to the modified example 1 described above.
Therefore, in the modified example 2 as well, the machinability improving films 18 and 18' of the present embodiment are used in the same manner as the above-described steps (1) to (3) and the above-described steps (1') to (3'). It can be used preferably.
Therefore, even in the steps (1′) to (3′), a resin plate with a functional film, which is applicable to optical parts such as touch panels and liquid crystal display devices, is easily formed via the machinability improving layer 14′. can be manufactured to

以下、実施例を参照して、本実施形態の機械加工性向上フィルム及び機械加工性向上フィルムの使用方法等を更に詳細に説明する。
但し、本実施形態は、特に理由なく、これらの実施例の記載に限定されるものではない。
Hereinafter, the machinability-improving film of the present embodiment and the method of using the machinability-improving film will be described in further detail with reference to examples.
However, the present embodiment is not limited to the description of these examples for no particular reason.

[実施例1]
1.機械加工性向上フィルムの作成及び使用
1-(1) 主剤(A)の調整
モノマー成分として、アクリル酸n-ブチル30重量部と、アクリル酸2-エチルヘキシル25重量部と、アクリル酸イソボルニル10重量部と、メタクリル酸メチル5重量部と、N-アクリロイルモルフォリン5重量部と、アクリル酸2-ヒドロキシエチル25重量部とを溶液重合させて、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体を調整した。
得られた(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量(Mw)を以下に示す方法で測定したところ、50万であった。
[Example 1]
1. Preparation and use of machinability-improved film 1-(1) Preparation of main agent (A) As monomer components, 30 parts by weight of n-butyl acrylate, 25 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, and 10 parts by weight of isobornyl acrylate , 5 parts by weight of methyl methacrylate, 5 parts by weight of N-acryloylmorpholine, and 25 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate are solution-polymerized to form a (meth)acrylic ester copolymer as the main agent (A). Adjusted coalescence.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained (meth)acrylic acid ester copolymer was measured by the method described below and found to be 500,000.

また、かかる重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用い、以下の条件で測定(GPC測定)したポリスチレン換算の重量平均分子量である。
(測定条件)
・GPC測定装置:東ソー社製,HLC-8020
・GPCカラム(以下の順に通過):東ソー社製
TSK guard column HXL-H
TSK gel GMHXL(×2)
TSK gel G2000HXL
・測定溶媒:テトラヒドロフラン
・測定温度:40℃
The weight average molecular weight (Mw) is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured under the following conditions (GPC measurement) using gel permeation chromatography (GPC).
(Measurement condition)
・ GPC measurement device: HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation
・ GPC column (passed in the following order): TSK guard column HXL-H manufactured by Tosoh Corporation
TSK gel GMHXL (x2)
TSK gel G2000HXL
・Measurement solvent: tetrahydrofuran ・Measurement temperature: 40°C

なお、表1に記載の、略号等の詳細は、以下の通りである。
(主剤(A):((メタ)アクリル酸エステル共重合体))
BA:アクリル酸n-ブチル
2EHA:アクリル酸2-エチルヘキシル
IBXA:アクリル酸イソボルニル
MMA:メタクリル酸メチル
ACMO:N-アクリロイルモルフォリン
HEA:アクリル酸2-ヒドロキシエチル
AA:アクリル酸
4HBA:アクリル酸4-ヒドロキシブチル
HEMA:メタクリル酸2-ヒドロキシエチル
Details such as abbreviations in Table 1 are as follows.
(Main agent (A): ((meth)acrylate copolymer))
BA: n-butyl acrylate 2EHA: 2-ethylhexyl acrylate IBXA: isobornyl acrylate MMA: methyl methacrylate ACMO: N-acryloylmorpholine HEA: 2-hydroxyethyl acrylate AA: 4HBA acrylic acid 4HBA: 4-hydroxy acrylate Butyl HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

1-(2) 機械加工性向上層を形成するための組成物の調整
次いで、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体(固形分)100重量部に対して、架橋性成分(B)として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネートを0.3重量部と、活性エネルギー線硬化性成分(C)として、ε-カプロラクトン変性トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレートを8重量部と、光重合開始剤(D)として、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドを0.8重量部と、シランカップリング剤(E)として、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを0.3重量部の割合で配合し、均一になるまで攪拌して、メチルエチルケトンで希釈することにより、固形分濃度が30重量%である塗布溶液を得た。
1-(2) Adjustment of composition for forming machinability-improving layer 0.3 parts by weight of trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate as (B) and 8 parts by weight of ε-caprolactone-modified tris-(2-acryloxyethyl) isocyanurate as active energy ray-curable component (C). and 0.8 parts by weight of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide as a photopolymerization initiator (D) and 3-glycidoxypropyltrimethoxy as a silane coupling agent (E). Silane was blended at a ratio of 0.3 parts by weight, stirred until uniform, and diluted with methyl ethyl ketone to obtain a coating solution having a solid content concentration of 30% by weight.

なお、表1中に記載の、略号等の詳細は、以下の通りである。
(架橋性成分(B))
B1:トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート
B2:トリメチロールプロパン変性キシレンジイソシアネート
B3:1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン
(活性エネルギー線硬化性成分(C))
C1:ε-カプロラクトン変性トリス-(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレート
C2:トリメチロールプロパントリアクリレート
C3:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Details such as abbreviations in Table 1 are as follows.
(Crosslinkable component (B))
B1: trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate B2: trimethylolpropane-modified xylene diisocyanate B3: 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane (active energy ray-curable component (C))
C1: ε-caprolactone-modified tris-(2-acryloxyethyl) isocyanurate C2: trimethylolpropane triacrylate C3: dipentaerythritol hexaacrylate

1-(3)機械加工性向上層の形成工程
得られた塗布溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した重剥離型剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP-PET752150」)の剥離処理面に、乾燥後の厚さが15μmとなるように、バーコーターを用いて塗布した。
そして、塗布層に対し、90℃で1分間加熱処理して熱架橋反応を進行させ、主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体と架橋性成分(B)とから構成される架橋構造を有する機械加工性向上層を形成した。
1-(3) Step of Forming Machinability-Enhancing Layer The resulting coating solution was applied to a heavy-release type release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET752150 ”) was applied using a bar coater to a thickness of 15 μm after drying.
Then, the coating layer is heat-treated at 90° C. for 1 minute to promote a thermal cross-linking reaction. A machinability improving layer having a crosslinked structure was formed.

次いで、上記で得られた重剥離型剥離フィルム上の塗布層と、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面をシリコーン系剥離剤で剥離処理した軽剥離型剥離フィルム(リンテック社製,製品名「SP-PET382120」)とを、当該軽剥離型剥離フィルムの剥離処理面が、機械加工性向上層に接触するように貼合し、23℃、50%RHの条件下で7日間養生することにより、重剥離型剥離フィルム/機械加工性向上層(厚さ:15μm)/軽剥離型剥離フィルムの構成からなる、評価用機械加工性向上フィルムを作成した。
なお、機械加工性向上層の厚さは、JIS K7130に準拠し、定圧厚さ測定器(テクロック社製,製品名「PG-02」)を使用して測定した値である。
Next, the coated layer on the heavy release release film obtained above and a light release release film (manufactured by Lintec, product name “SP-PET382120”) obtained by releasing the polyethylene terephthalate film on one side with a silicone release agent. is laminated so that the release-treated surface of the light release release film is in contact with the machinability improving layer, and cured for 7 days under conditions of 23 ° C. and 50% RH to obtain a heavy release release. A machinability-improving film for evaluation consisting of a film/a machinability-improving layer (thickness: 15 μm)/lightly peelable release film was prepared.
The thickness of the machinability-enhancing layer is a value measured using a constant-pressure thickness gauge (manufactured by Teclock, product name "PG-02") in accordance with JIS K7130.

2.機械加工性向上フィルムの評価
2-(1)活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)の測定
評価用機械加工性向上フィルムのうち、機械加工性向上層から、軽剥離型剥離フィルムを剥離し、易接着層を有するポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡社製,製品名「PET A4300」,厚さ:100μm)の易接着層に貼合し、重剥離型剥離フィルム/機械加工性向上層(15μm)/PETフィルムの積層体を得た。
得られた積層体を25mm幅、150mm長に裁断し、これをサンプルとした。
23℃、50%RHの環境下にて、上記により得たサンプルから重剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層をガラス板に貼付したのち、2kgのローラーを1往復させることにより圧着した。
その後、23℃、50%RHの条件下で24時間放置してから、引張試験機(オリエンテック社製,テンシロン)を用い、剥離速度300mm/min、剥離角度180度の条件で粘着力(P1、N/25mm)を測定した。
なお、ここに記載した以外の条件はJIS Z 0237:2000に準拠して、測定を行った。結果を表2に示す。
2. Evaluation of machinability-improving film 2-(1) Measurement of adhesive strength (P1) before irradiation with active energy ray Of the machinability-improving film for evaluation, peel off the light release type release film from the machinability-improving layer. , A polyethylene terephthalate (PET) film having an easy-adhesive layer (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name “PET A4300”, thickness: 100 μm). 15 μm)/PET film laminate was obtained.
The laminate thus obtained was cut into a piece having a width of 25 mm and a length of 150 mm, which was used as a sample.
In an environment of 23 ° C. and 50% RH, peel off the heavy release type release sheet from the sample obtained above, attach the exposed machinability improving layer to the glass plate, and then reciprocate a 2 kg roller once. crimped by
Then, after leaving it for 24 hours under the conditions of 23 ° C. and 50% RH, using a tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon), the adhesive strength (P1 , N/25 mm) were measured.
In addition, the conditions other than those described here were measured according to JIS Z 0237:2000. Table 2 shows the results.

2-(2)活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)の測定
23℃、50%RHの環境下にて、上記により得たサンプルから重剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層をガラス板に貼付したのち、2kgのローラーを1往復させることにより圧着し、PETフィルム側から活性エネルギー線として紫外線を下記条件で照射した。
その後、23℃、50%RHの条件下で24時間放置してから、引張試験機(オリエンテック社製,テンシロン)を用い、剥離速度300mm/min、剥離角度180度の条件で活性エネルギー線照射後の粘着力(P2、N/25mm)を測定した。
なお、ここに記載した以外の条件はJIS Z 0237:2000に準拠して、測定を行った。結果を表2に示す。
<紫外線照射条件>
・高圧水銀ランプ使用
・照度200mW/cm,光量2000mJ/cm
・UV照度・光量計はアイグラフィックス社製「UVPF-A1」を使用
2-(2) Measurement of adhesive strength (P2) after irradiation with active energy ray In an environment of 23 ° C. and 50% RH, the heavy release type release sheet was peeled off from the sample obtained above, and the exposed machinability After the improvement layer was attached to the glass plate, it was pressure-bonded by reciprocating a 2 kg roller once, and irradiated with ultraviolet rays as active energy rays from the PET film side under the following conditions.
Then, after leaving it for 24 hours under conditions of 23 ° C. and 50% RH, using a tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon), active energy ray irradiation was performed under the conditions of a peel speed of 300 mm / min and a peel angle of 180 degrees. Post adhesion (P2, N/25 mm) was measured.
In addition, the conditions other than those described here were measured according to JIS Z 0237:2000. Table 2 shows the results.
<Ultraviolet irradiation conditions>
・Using a high-pressure mercury lamp ・Illuminance 200mW/cm 2 , Light intensity 2000mJ/cm 2
・Using “UVPF-A1” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd. for UV illuminance and photometer

2-(3)粘着力の増加率の算出
上記で測定した活性エネルギー線照射前の粘着力(P1)に対する、活性エネルギー線照射後の粘着力(P2)の増加率(=P2/P1×100、%)を算出した。結果を表2に示す。
2-(3) Calculation of increase rate of adhesive strength Increase rate of adhesive strength (P2) after active energy ray irradiation with respect to adhesive strength (P1) before active energy ray irradiation measured above (= P2 / P1 × 100 , %) were calculated. Table 2 shows the results.

2-(4)活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムのうち、機械加工性向上層のみをポリエステル製メッシュ(メッシュサイズ200)に包み、その質量を精密天秤にて秤量し、上記メッシュ単独の質量を差し引くことにより、機械加工性向上層のみの質量を算出した。このときの質量をm1とする。
次に、上記の手法で作成したポリエステル製メッシュに包まれた状態の機械加工性向上層を、室温下(23℃)で酢酸エチルに72時間浸漬させた。
その後、ポリエステル製メッシュに包まれた状態の機械加工性向上層を取り出し、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、24時間風乾させ、更に80℃のオーブン中にて12時間乾燥させた。
乾燥後、その質量を精密天秤にて秤量し、活性エネルギー線照射前の機械加工性向上層の質量(m2)を算出した。
上記にて算出した質量をもとに、活性エネルギー線照射前における機械加工性向上層のゲル分率(G1)(=(m2/m1)×100、%)を導出した。結果を表2に示す。
2-(4) Measurement of gel fraction (G1) before irradiation with active energy ray Of the obtained machinability-improving film for evaluation, only the machinability-improving layer was wrapped in a polyester mesh (mesh size 200), The mass was weighed with a precision balance, and the mass of the mesh alone was subtracted to calculate the mass of the machinability improving layer alone. Let the mass at this time be m1.
Next, the machinability-improving layer wrapped in the polyester mesh produced by the above method was immersed in ethyl acetate at room temperature (23° C.) for 72 hours.
After that, the machinability-enhancing layer wrapped in a polyester mesh was taken out, air-dried for 24 hours in an environment with a temperature of 23°C and a relative humidity of 50%, and further dried in an oven at 80°C for 12 hours. .
After drying, the mass was weighed with a precision balance to calculate the mass (m2) of the machinability-improving layer before irradiation with active energy rays.
Based on the mass calculated above, the gel fraction (G1) (=(m2/m1)×100, %) of the machinability improving layer before irradiation with active energy rays was derived. Table 2 shows the results.

2-(5)活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムから軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した機械加工性向上層に対して、上述した条件で活性エネルギー線を直接照射し、機械加工性向上層を硬化させた。
この硬化後の機械加工性向上層について、その質量を精密天秤にて秤量し、活性エネルギー線照射後の機械加工性向上層の質量(m3)を算出した。
上記にて算出した質量をもとに、活性エネルギー線照射後における機械加工性向上層のゲル分率(G2)(=(m3/m1)×100、%)を導出した。結果を表2に示す。
2-(5) Measurement of Gel Fraction (G2) after Irradiation with Active Energy Rays After peeling off the light release type release film from the obtained machinability-improving film for evaluation, the exposed machinability-improving layer was subjected to The active energy ray was directly irradiated under the conditions described above to cure the machinability improving layer.
The mass of the cured machinability-improving layer was weighed with a precision balance, and the mass (m3) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays was calculated.
Based on the mass calculated above, the gel fraction (G2) (=(m3/m1)×100, %) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays was derived. Table 2 shows the results.

2-(6)ゲル分率の増加率の算出
上記で導出した活性エネルギー線照射前のゲル分率(G1)に対する、活性エネルギー線照射後のゲル分率(G2)の増加率(=G2/G1×100、%)を算出した。結果を表2に示す。
2-(6) Calculation of gel fraction increase rate Increase rate (= G2/ G1×100, %) was calculated. Table 2 shows the results.

2-(7)最大応力(S2)及び100%伸長時応力(E2)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムから軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した機械加工性向上層に対して、上述した条件で活性エネルギー線を直接照射し、機械加工性向上層を硬化させた。
この硬化後の機械加工性向上層のみについて、最大応力(S2、N/mm2)及び100%伸長時応力(E2、N/mm2)を、引張試験機(オリエンテック社製,テンシロン、剥離速度200mm/min)を用いて、測定した。
なお、ここに記載した以外の条件はJIS K 7162-2:2014に準拠して、測定を行った。結果を表2に示す。
2-(7) Measurement of maximum stress (S2) and stress at 100% elongation (E2) Peel off the light release type release film from the obtained machinability-improving film for evaluation, and measure the exposed machinability-improving layer. Then, an active energy ray was directly irradiated under the conditions described above to cure the machinability improving layer.
The maximum stress (S2, N/mm 2 ) and the stress at 100% elongation (E2, N/mm 2 ) of only this cured machinability-enhancing layer were measured using a tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon, peeling was measured using a speed of 200 mm/min).
The measurement was performed under conditions other than those described here in accordance with JIS K 7162-2:2014. Table 2 shows the results.

2-(8)活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムのうち、機械加工性向上層のみにつき、JIS K7244-4:1999に準じて、粘弾性測定装置(ティー・エイ・インスツルメント社製,ARES、周波数1Hz)を用いて、活性エネルギー線照射前における機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M1、MPa(25℃))を測定した。結果を表2に示す。
2-(8) Measurement of storage modulus (M1) before irradiation with active energy ray Of the obtained machinability-improved film for evaluation, only the machinability-improved layer was measured according to JIS K7244-4: 1999, Measure the storage modulus (M1, MPa (25°C)) of the machinability-enhancing layer before irradiation with active energy rays using a viscoelasticity measuring device (manufactured by TA Instruments, ARES, frequency 1 Hz). bottom. Table 2 shows the results.

2-(9)活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)の測定
得られた評価用機械加工性向上フィルムから軽剥離型剥離フィルムを剥離し、露出した機械加工性向上層に対して、上述した条件で活性エネルギー線を直接照射し、機械加工性向上層を硬化させた。
この硬化後の機械加工性向上層のみについて、上記と同様の条件にて、活性エネルギー線照射後における機械加工性向上層の貯蔵弾性率(M2、MPa(25℃))を測定した。結果を表2に示す。
2-(9) Measurement of storage elastic modulus (M2) after irradiation with active energy ray After peeling off the light-release type release film from the obtained machinability-improving film for evaluation, the exposed machinability-improving layer was subjected to The active energy ray was directly irradiated under the conditions described above to cure the machinability improving layer.
The storage elastic modulus (M2, MPa (25° C.)) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays was measured under the same conditions as above for only this cured machinability-improving layer. Table 2 shows the results.

2-(10)貯蔵弾性率の増加率の算出
上記で測定した活性エネルギー線照射後の貯蔵弾性率(M2)に対する、活性エネルギー線照射前の貯蔵弾性率(M1)の増加率(=M2/M1×100、%)を算出した。結果を表2に示す。
2-(10) Calculation of increase rate of storage elastic modulus Increase rate (= M2/ M1×100, %) was calculated. Table 2 shows the results.

2-(11)切削性の評価
得られた評価用機械加工性向上フィルムの軽剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層を、PETフィルム(100μm)に貼付した。
更に、重剥離型剥離シートを剥離して、露出した機械加工性向上層を、PETフィルム(100μm)に貼付することで、試験片を得た。
上述した条件で活性エネルギー線を照射して、機械加工性向上層を硬化させた後、カッターを用いて、試験片の一方のPETフィルム面に対して鉛直方向に切断した。
そして、切断面を顕微鏡観察し、下記基準に沿って切削性を評価した。
◎:機械加工性向上層の欠けや伸びは観察されず、良好な切削面であった。
○:機械加工性向上層の欠けや伸びがわずかに見られたが、実用上問題ない切削面であった。
△:機械加工性向上層の欠けや伸びが見られ、実用上好ましくない切削面であった。
×:機械加工性向上層の欠けや伸びが観察され、使用できない切削面であった。
2-(11) Evaluation of Machinability The light release type release sheet of the obtained film for improving machinability for evaluation was peeled off, and the exposed machinability improving layer was attached to a PET film (100 μm).
Furthermore, the heavy release type release sheet was peeled off, and the exposed machinability improving layer was attached to a PET film (100 μm) to obtain a test piece.
After curing the machinability improving layer by irradiating the active energy ray under the conditions described above, the test piece was cut vertically with respect to one PET film surface of the test piece using a cutter.
Then, the cut surface was observed under a microscope, and machinability was evaluated according to the following criteria.
A: No chipping or elongation of the machinability-enhancing layer was observed, and the cut surface was good.
◯: Slight chipping and elongation of the machinability-enhancing layer were observed, but the cut surface was practically satisfactory.
Δ: Chipping and elongation of the machinability-improving layer were observed, and the cut surface was practically not preferable.
x: Chipping and elongation of the machinability-enhancing layer were observed, and the cut surface was unusable.

2-(12)耐久性の評価
得られた評価用機械加工性向上フィルムの軽剥離型剥離シートを剥離し、露出した機械加工性向上層を、ポリメチルメタクリレート(PMMA)とポリカーボネート(PC)とが積層された樹脂板(厚さ:1mm、紫外線吸収剤含有)のポリカーボネート側の面に貼付した。
更に、評価用機械加工性向上フィルムから重剥離型剥離シートを剥離して、露出した機械加工性向上層を、機能性フィルムとしてのTACフィルム(厚み100μm)に貼付することで、試験片を得た。得られた試験片を、50℃、0.5MPaの条件下で30分間オートクレーブ処理した後、常圧、23℃、50%RHにて24時間放置した。
次いで、上述した条件で樹脂板側より活性エネルギー線を照射して、機械加工性向上層を硬化させた後、85℃、85%RHの高温高湿条件下にて500時間保管した。
その後、機械加工性向上層と被着体との界面における浮き剥がれを目視で確認し、以下の基準により耐久性を評価した。結果を表2に示す。
◎:気泡も浮き剥がれも確認できない。
○:微小な気泡がわずかに発生するが、大きな気泡や剥がれは確認できない。
×:大きな気泡又は浮き剥がれが確認できる。
2-(12) Evaluation of Durability The light release type release sheet of the obtained film for improving machinability for evaluation was peeled off, and the exposed machinability improving layer was treated with polymethyl methacrylate (PMMA) and polycarbonate (PC). was attached to the surface of the polycarbonate side of the laminated resin plate (thickness: 1 mm, containing an ultraviolet absorber).
Furthermore, a test piece was obtained by peeling the heavy-release type release sheet from the machinability-improving film for evaluation and attaching the exposed machinability-improving layer to a TAC film (thickness: 100 μm) as a functional film. rice field. The obtained test piece was autoclaved under conditions of 50° C. and 0.5 MPa for 30 minutes, and then allowed to stand at normal pressure, 23° C. and 50% RH for 24 hours.
Then, under the conditions described above, the resin plate side was irradiated with active energy rays to cure the machinability improving layer, and then stored under high temperature and high humidity conditions of 85° C. and 85% RH for 500 hours.
After that, lifting and peeling at the interface between the machinability-enhancing layer and the adherend was visually confirmed, and the durability was evaluated according to the following criteria. Table 2 shows the results.
⊚: Neither air bubbles nor floating and peeling can be observed.
◯: Although minute air bubbles are slightly generated, no large air bubbles or peeling can be confirmed.
x: Large air bubbles or floating peeling can be confirmed.

[実施例2~9、比較例1~4]
主剤(A)としての(メタ)アクリル酸エステル共重合体の組成及び分子量、架橋性成分(B)の種類及び配合量、活性エネルギー線硬化性成分(C)の種類及び配合量、光重合開始剤(D)の配合量、シランカップリング剤(E)の配合量を、表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様に、機械加工性向上フィルムを得て、機械加工性向上フィルムの評価を行った。得られた結果を表2に示す。
[Examples 2 to 9, Comparative Examples 1 to 4]
Composition and molecular weight of (meth)acrylic acid ester copolymer as main agent (A), type and amount of crosslinkable component (B), type and amount of active energy ray-curable component (C), initiation of photopolymerization A film with improved machinability was obtained in the same manner as in Example 1, except that the blending amount of the agent (D) and the blending amount of the silane coupling agent (E) were changed as shown in Table 1. An evaluation of the enhancement film was performed. Table 2 shows the results obtained.

Figure 0007227797000001
Figure 0007227797000001

Figure 0007227797000002
Figure 0007227797000002

以上、詳述したように、本発明の機械加工性向上フィルムによれば、活性エネルギー線照射前の、機械加工性向上層の粘着力(P1)、及び活性エネルギー線照射後の、機械加工性向上層のゲル分率(G2)を所定値以上とすることにより、機械処理装置を用いて、樹脂板を含んだ状態で、機械加工性向上層を同時に切削等したような場合であっても、良好な切削性が得られるようになった。
また、所定の機械加工性向上フィルムにおいて、活性エネルギー線を照射した後の機械加工性向上層の粘着力(P2)を所定値とすることにより、樹脂板に対する良好な耐久性についても得られるようになった。
As described in detail above, according to the machinability-improving film of the present invention, the adhesive strength (P1) of the machinability-improving layer before active energy ray irradiation, and the machinability after active energy ray irradiation By setting the gel fraction (G2) of the improving layer to a predetermined value or more, even when the machinability improving layer is cut at the same time while containing the resin plate using a mechanical processing device. , good machinability can be obtained.
In addition, in a predetermined machinability-improving film, by setting the adhesion (P2) of the machinability-improving layer after irradiation with active energy rays to a predetermined value, it is possible to obtain good durability to the resin plate. Became.

そして、そのような機械加工性向上層を備えた機械加工性向上フィルム、そのような機械加工性向上層を含む積層体(機械加工性向上フィルムが貼付された樹脂板)及び、そのような機械加工性向上フィルムの効率的な使用方法を提供できるようになった。
したがって、本発明の機械加工性向上フィルムは、タッチパネルや液晶表示装置等における生産効率化や高品質化等に寄与することが期待される。
Then, a machinability-improving film provided with such a machinability-improving layer, a laminate including such a machinability-improving layer (resin plate to which the machinability-improving film is attached), and such a machine It has become possible to provide an efficient method of using the workability-enhancing film.
Therefore, the machinability-improving film of the present invention is expected to contribute to production efficiency improvement and quality improvement in touch panels, liquid crystal display devices, and the like.

10、10´:積層体
12:樹脂板
13:樹脂層
14:機械加工性向上層
14´:硬化後の機械加工性向上層
16:基材
18、18´:機械加工性向上フィルム
10, 10': laminate 12: resin plate 13: resin layer 14: machinability-improving layer 14': machinability-improving layer after curing 16: base material 18, 18': machinability-improving film

Claims (8)

少なくとも基材と、機械加工性向上層(但し、粘着剤層が、一方の面側の外層としての第1の粘着剤層と、他方の面側の外層としての第2の粘着剤層と、前記第1の粘着剤層および前記第2の粘着剤層の間に中間層として位置する第3の粘着剤層とを備えている場合を除く。)と、を備えた機械加工性向上フィルムであり、
かつ、
前記機械加工性向上層を介して、厚さが200~10000μmの樹脂板に貼付した状態で、機械加工を行う、機械加工性向上フィルムであって、
活性エネルギー線硬化性成分と、架橋性成分の反応物と、を含み(但し、光重合開始剤を含む場合には、分子内に下記式(1)で示される構造部位と水酸基とを有する分子内水素引き抜き型光重合開始剤を除く。
Figure 0007227797000003
〔式中、Rは、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アルキル基、フェニル基からなる群から選択されるいずれか1つの原子又は基であり、nは0~5の整数である。ただし、nが2以上である場合、各々のRは、同一でも異なっていてもよい。〕)
活性エネルギー線の照射前の粘着力を1N/25mm以上の値とするとともに、活性エネルギー線照射後の粘着力が15N/25mm以上の値となり、
かつ、前記活性エネルギー線照射によりゲル分率が75%以上の値となる活性エネルギー線硬化性の機械加工性向上層を有する機械加工性向上フィルム。
At least a substrate, a machinability improving layer (wherein the pressure-sensitive adhesive layer is a first pressure-sensitive adhesive layer as an outer layer on one side, a second pressure-sensitive adhesive layer as an outer layer on the other side, Except for the case where a third pressure-sensitive adhesive layer is positioned as an intermediate layer between the first pressure-sensitive adhesive layer and the second pressure-sensitive adhesive layer), and can be,
and,
A machinability-improving film that is machined while being attached to a resin plate having a thickness of 200 to 10000 μm through the machinability-improving layer,
Contains an active energy ray-curable component and a reaction product of a crosslinkable component (however, when a photopolymerization initiator is included, a molecule having a structural site represented by the following formula (1) and a hydroxyl group in the molecule Excludes hydrogen-abstracting photopolymerization initiators.
Figure 0007227797000003
[In the formula, R is any one atom or group selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkyl group, and a phenyl group, and n is an integer of 0 to 5. However, when n is 2 or more, each R may be the same or different. ]) ,
The adhesive strength before irradiation with active energy rays is 1 N / 25 mm or more, and the adhesive strength after irradiation with active energy rays is 15 N / 25 mm or more,
and a machinability-improving film having an active energy ray-curable machinability-improving layer having a gel fraction of 75% or more when irradiated with the active energy ray.
前記樹脂板の厚さを700~10000μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1に記載の機械加工性向上フィルム。 2. The machinability-improving film according to claim 1, wherein the resin plate has a thickness in the range of 700 to 10,000 μm. 前記架橋性成分の反応物が、反応性官能基含有モノマー及び(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーに由来した(メタ)アクリル酸エステル共重合体と、熱架橋剤との反応物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の機械加工性向上フィルム。 The reaction product of the crosslinkable component is a reaction product of a (meth)acrylic acid ester copolymer derived from a reactive functional group-containing monomer and a (meth)acrylic acid alkyl ester monomer, and a thermal crosslinking agent. The machinability improving film according to claim 1 or 2 . 前記反応性官能基含有モノマーが、水酸基含有モノマー又はカルボキシ基含有モノマーであることを特徴とする請求項3に記載の機械加工性向上フィルム。 4. The machinability-improving film according to claim 3, wherein the reactive functional group-containing monomer is a hydroxyl group-containing monomer or a carboxy group-containing monomer. 前記(メタ)アクリル酸エステル共重合体100重量部に対して、前記架橋性成分の配合量を0.05~10重量部の範囲内の値とすることを特徴とする請求項3に記載の機械加工性向上フィルム。 4. The method according to claim 3, wherein the amount of the crosslinkable component is set to a value within the range of 0.05 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth)acrylic acid ester copolymer. Machinability improvement film. 請求項1~5のいずれか一項に記載の機械加工性向上フィルムが、前記樹脂板に貼付されてなることを特徴とする積層体。 A laminate comprising the machinability-enhancing film according to any one of claims 1 to 5 attached to the resin plate. 前記樹脂板が、光学用樹脂板であることを特徴とする請求項6に記載の積層体。 7. The laminate according to claim 6, wherein the resin plate is an optical resin plate. 請求項1~5のいずれか一項に記載の機械加工性向上フィルムの使用方法であって、下記工程(1)~(3)を含むことを特徴とする機械加工性向上フィルムの使用方法。
(1)前記機械加工性向上フィルムを、前記樹脂板に貼付する工程
(2)活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性成分を硬化させる工程
(3)前記機械加工性向上層及び前記樹脂板を含む積層体に対して、機械加工処理を施す工程
A method of using the machinability-improving film according to any one of claims 1 to 5 , comprising the following steps (1) to (3).
(1) A step of attaching the machinability-improving film to the resin plate (2) A step of irradiating an active energy ray to cure the active energy ray-curable component (3) The machinability-improving layer and the resin A process of applying a machining treatment to a laminate including a plate
JP2019044442A 2019-03-12 2019-03-12 Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film Active JP7227797B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019044442A JP7227797B2 (en) 2019-03-12 2019-03-12 Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019044442A JP7227797B2 (en) 2019-03-12 2019-03-12 Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020147640A JP2020147640A (en) 2020-09-17
JP7227797B2 true JP7227797B2 (en) 2023-02-22

Family

ID=72431754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019044442A Active JP7227797B2 (en) 2019-03-12 2019-03-12 Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7227797B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022061624A (en) * 2020-10-07 2022-04-19 日東電工株式会社 Adhesive sheet, optical film with adhesive sheet, and image display unit
JPWO2022209556A1 (en) * 2021-03-30 2022-10-06
JP7107455B1 (en) * 2022-01-05 2022-07-27 大日本印刷株式会社 Adhesive tape for semiconductor processing

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011231298A (en) 2010-04-30 2011-11-17 Nitto Denko Corp Photocuring adhesive composition, photocuring adhesive layer, and photocuring adhesive sheet
JP2013234322A (en) 2012-04-10 2013-11-21 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Pressure sensitive adhesive sheet, method of manufacturing laminate with adhesive layer and application of the same
JP2015199813A (en) 2014-04-07 2015-11-12 日本カーバイド工業株式会社 Adhesive composition and adhesive sheet
JP2017075281A (en) 2015-10-16 2017-04-20 リンテック株式会社 Adhesive sheet and display body
JP2018109102A (en) 2016-12-28 2018-07-12 日本合成化学工業株式会社 Adhesive composition, adhesive, adhesive sheet, method for producing laminate with adhesive layer, image display device, and touch panel
JP2019065268A (en) 2017-09-28 2019-04-25 日東電工株式会社 Reinforcing film

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011231298A (en) 2010-04-30 2011-11-17 Nitto Denko Corp Photocuring adhesive composition, photocuring adhesive layer, and photocuring adhesive sheet
JP2013234322A (en) 2012-04-10 2013-11-21 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Pressure sensitive adhesive sheet, method of manufacturing laminate with adhesive layer and application of the same
JP2015199813A (en) 2014-04-07 2015-11-12 日本カーバイド工業株式会社 Adhesive composition and adhesive sheet
JP2017075281A (en) 2015-10-16 2017-04-20 リンテック株式会社 Adhesive sheet and display body
JP2018109102A (en) 2016-12-28 2018-07-12 日本合成化学工業株式会社 Adhesive composition, adhesive, adhesive sheet, method for producing laminate with adhesive layer, image display device, and touch panel
JP2019065268A (en) 2017-09-28 2019-04-25 日東電工株式会社 Reinforcing film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020147640A (en) 2020-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107636499B (en) Polarizing film with adhesive layers attached on both sides and image display device
KR102271568B1 (en) Adhesive sheet, display body and method for producing thereof
JP2017075281A (en) Adhesive sheet and display body
CN113773757B (en) Acrylic pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive layer, method for producing the same, polarizing film with pressure-sensitive adhesive layer, and image display device
KR102470720B1 (en) Adhesive sheet and display
JP7170387B2 (en) Adhesive sheet and display
JP7227797B2 (en) Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film
JP2017066294A (en) Adhesive composition and adhesive sheet
JP6251293B6 (en) Adhesive sheet and display body manufacturing method
CN110093109B (en) Adhesive sheet, structure and method for producing same
KR20190024606A (en) Adhesive sheet, display, and method for manufacturing display
KR20170110006A (en) Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, display, and method of manufacturing display
JP2018173549A (en) Adhesive composition, adhesive, adhesive sheet, and display body
JPWO2016063405A6 (en) Adhesive sheet and display body manufacturing method
JP7415366B2 (en) Photocurable adhesive sheets, adhesive sheet laminates, laminates for image display devices, and image display devices
JP6270941B2 (en) Adhesive, adhesive sheet, and display body manufacturing method
JP6764924B2 (en) Backlight unit manufacturing method
JP7138511B2 (en) Adhesives, Adhesive Sheets and Display Materials
JP7108505B2 (en) Machinability-enhancing film, laminate, and method of using machinability-enhancing film
KR20190045855A (en) Adhesive sheet and display body
KR20220147495A (en) Adhesive sheet, construct and method for manufacturing construct
KR102555270B1 (en) Structure and method for producing thereof, display body, and optical adhesive sheet
JP7138448B2 (en) Adhesive sheet roll
JP2020105360A (en) Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive sheet, structure and method for producing structure
JP7148369B2 (en) Construct manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221018

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221019

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230210

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7227797

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150