KR20230147167A - Curable compositions, hard coat films, articles having hard coat films, image display devices, and flexible displays - Google Patents

Curable compositions, hard coat films, articles having hard coat films, image display devices, and flexible displays Download PDF

Info

Publication number
KR20230147167A
KR20230147167A KR1020237032020A KR20237032020A KR20230147167A KR 20230147167 A KR20230147167 A KR 20230147167A KR 1020237032020 A KR1020237032020 A KR 1020237032020A KR 20237032020 A KR20237032020 A KR 20237032020A KR 20230147167 A KR20230147167 A KR 20230147167A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
curable composition
hard coat
compound
meth
Prior art date
Application number
KR1020237032020A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
데츠 기타무라
유타 후쿠시마
아야코 마츠모토
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20230147167A publication Critical patent/KR20230147167A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F22/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
    • C08F22/10Esters
    • C08F22/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. ethylene glycol dimethacrylate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/308Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/301Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

분자량이 2000 이하인 중합성 화합물을 포함하는 경화성 조성물로서, 상기 경화성 조성물의 전고형분 중의 상기 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율이 70질량% 이상이며, 분자 내에, 1개 이상의 수소 결합성기와 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖고, 수소 결합성의 프로톤가가 3.5mol/kg 이상이며, (메트)아크릴가가 5.0mol/kg 이상이고, 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물 (a1)을 포함하는, 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름, 상기 하드 코트 필름을 구비한 물품, 화상 표시 장치, 및 플렉시블 디스플레이에 의하여, 연필 경도 및 내굴곡성이 우수하며, 또한 자기 수복성을 구비한 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름, 상기 하드 코트 필름을 구비한 물품, 및 화상 표시 장치를 제공한다.A curable composition containing a polymerizable compound with a molecular weight of 2000 or less, wherein the content of the polymerizable compound with a molecular weight of 2000 or less in the total solid content of the curable composition is 70% by mass or more, and in the molecule, one or more hydrogen bonding groups and three A curable composition comprising a polymerizable compound (a1) having the above (meth)acrylic group, a hydrogen-bonding proton value of 3.5 mol/kg or more, a (meth)acrylic value of 5.0 mol/kg or more, and a molecular weight of 2000 or less, the above curable composition A hard coat film having a hard coat layer containing a cured product of a curable composition, an article including the hard coat film, an image display device, and a flexible display are excellent in pencil hardness and bending resistance, and also have self-healing properties. A curable composition capable of forming a cured film, a hard coat film having a hard coat layer containing a cured product of the curable composition, an article including the hard coat film, and an image display device are provided.

Description

경화성 조성물, 하드 코트 필름, 하드 코트 필름을 구비한 물품, 화상 표시 장치, 및 플렉시블 디스플레이Curable compositions, hard coat films, articles having hard coat films, image display devices, and flexible displays

본 발명은, 경화성 조성물, 하드 코트 필름, 하드 코트 필름을 구비한 물품, 화상 표시 장치, 및 플렉시블 디스플레이에 관한 것이다.The present invention relates to curable compositions, hard coat films, articles with hard coat films, image display devices, and flexible displays.

경화성 조성물은, 자외선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열 등에 의하여 경화하는 조성물이다. 예를 들면, 기재 상에 경화성 조성물을 도포하여 경화함으로써 경화막을 형성할 수 있다. 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD)나 마이크로 LED(Light Emitting Diode), 마이크로 OLED(Organic Light Emitting Diode) 등의 화상 표시 장치에서는, 표시면에 대한 스크래치를 방지하기 위하여, 기재 상에 하드 코트층을 갖는 광학 필름(하드 코트 필름)을 마련하는 것이 적합하고, 하드 코트층의 형성을 위하여 하드 코트층 형성용 조성물로서 경화성 조성물이 이용되고 있다.A curable composition is a composition that is cured by irradiation or heating of active energy rays such as ultraviolet rays. For example, a cured film can be formed by applying a curable composition on a substrate and curing it. In image display devices such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), micro LED (Light Emitting Diode), and micro OLED (Organic Light Emitting Diode), the display surface In order to prevent scratches, it is suitable to provide an optical film (hard coat film) having a hard coat layer on the substrate, and a curable composition is used as a composition for forming the hard coat layer to form the hard coat layer.

예를 들면, 특허문헌 1에는, 유레테인기를 갖는 반응성 (메트)아크릴레이트 폴리머와, 중합 개시제와, 반응성 모노머를 함유하는 경화성 조성물이 기재되어 있다. 특허문헌 1에 의하면, 상기 경화성 조성물에 의하여 표면 경도나 굴곡성이 우수한 경화막을 형성할 수 있다고 기재되어 있다.For example, Patent Document 1 describes a curable composition containing a reactive (meth)acrylate polymer having a urethane group, a polymerization initiator, and a reactive monomer. According to Patent Document 1, it is described that a cured film excellent in surface hardness and flexibility can be formed using the curable composition.

또, 특허문헌 2에는, 유레테인기를 갖는 모노머 등을 포함하는 고체 촬상 소자의 화소 형성에 이용되는 감광성 수지 조성물이 기재되어 있다.Additionally, Patent Document 2 describes a photosensitive resin composition used for forming pixels of a solid-state imaging device containing a monomer having a urethane group, etc.

특허문헌 1: 국제 공개공보 제2009/142237호Patent Document 1: International Publication No. 2009/142237 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2010-49029호Patent Document 2: Japanese Patent Publication No. 2010-49029

그러나, 표면 경도나 내굴곡성 등이 더 우수한 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물이 요구되고 있다. 또, 손상이 발생해도 스스로 수복하는 기능(자기 수복성)을 구비한 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물도 요구되고 있다.However, there is a demand for a curable composition that can form a cured film with superior surface hardness and bending resistance. In addition, there is also a demand for a curable composition that can form a cured film with a self-repairing function (self-healing property) even when damage occurs.

본 발명의 과제는, 연필 경도 및 내굴곡성이 우수하고, 또한 자기 수복성을 구비한 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름, 상기 하드 코트 필름을 구비한 물품, 화상 표시 장치, 및 플렉시블 디스플레이를 제공하는 것에 있다.The object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a cured film that is excellent in pencil hardness and bending resistance and has self-healing properties, a hard coat film having a hard coat layer containing a cured product of the curable composition, and The object is to provide articles with hard coat films, image display devices, and flexible displays.

본 발명자들은 예의 검토하여, 하기 수단에 의하여 상기 과제를 해소할 수 있는 것을 알아냈다.The present inventors conducted intensive studies and found that the above problem can be solved by the following means.

<1><1>

분자량이 2000 이하인 중합성 화합물을 포함하는 경화성 조성물로서,A curable composition containing a polymerizable compound having a molecular weight of 2000 or less,

상기 경화성 조성물의 전고형분 중의 상기 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율이 70질량% 이상이며,The content of the polymerizable compound having a molecular weight of 2000 or less in the total solid content of the curable composition is 70% by mass or more,

분자 내에, 1개 이상의 수소 결합성기와 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖고, 수소 결합성의 프로톤가가 3.5mol/kg 이상이며, (메트)아크릴가가 5.0mol/kg 이상이고, 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물 (a1)을 포함하는, 경화성 조성물.Polymerizable, having one or more hydrogen-bonding groups and three or more (meth)acrylic groups in the molecule, a hydrogen-bonding proton value of 3.5 mol/kg or more, a (meth)acrylic value of 5.0 mol/kg or more, and a molecular weight of 2000 or less. A curable composition comprising compound (a1).

<2><2>

상기 중합성 화합물 (a1)의 상기 수소 결합성의 프로톤가와 상기 (메트)아크릴가의 합이 10.5mol/kg 이상인, <1>에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to <1>, wherein the sum of the hydrogen-bonded proton value and the (meth)acrylic value of the polymerizable compound (a1) is 10.5 mol/kg or more.

<3><3>

상기 경화성 조성물을 하기 경화 조건에서 경화시키고, 하기 측정 조건에서 측정한 탄성률이 9.5GPa 이상이며, 파단 신도가 10.0% 이상인, <1> 또는 <2>에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to <1> or <2>, wherein the curable composition is cured under the following curing conditions, the elastic modulus measured under the following measurement conditions is 9.5 GPa or more, and the elongation at break is 10.0% or more.

경화 조건: 두께 50μm의 폴리이미드 기재 상에, 상기 경화성 조성물을 건조 후의 두께가 11μm가 되도록 바 도포한 후, 120℃에서 1분간 건조시키고, 80℃ 하, 조도 60mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선으로 경화시켜 경화물을 형성한다.Curing conditions: On a polyimide substrate with a thickness of 50 μm, the curable composition was applied to a bar so that the thickness after drying was 11 μm, then dried at 120 ° C. for 1 minute, at 80 ° C., illuminance 60 mW / cm 2 , irradiation dose 600 mJ / cm. 2 is cured with ultraviolet rays to form a cured product.

측정 조건: 상기 폴리이미드 기재와 상기 경화물의 적층체에 대하여, 미소(微小) 경도계를 이용하여 최대 하중 50mN으로 측정한다.Measurement conditions: The laminate of the polyimide substrate and the cured product is measured with a maximum load of 50 mN using a micro hardness tester.

<4><4>

상기 경화성 조성물의 전고형분 중의 상기 중합성 화합물 (a1)의 함유율이, 51질량% 이상인, <1> 내지 <3> 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of <1> to <3>, wherein the content of the polymerizable compound (a1) in the total solid content of the curable composition is 51% by mass or more.

<5><5>

상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물의 파장 400~700nm의 영역에 있어서의 투과율이, 어느 파장에 있어서도 80% 이상인, <3>에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to <3>, wherein the cured product obtained by curing the curable composition under the curing conditions has a transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm of 80% or more at any wavelength.

<6><6>

상기 수소 결합성기가, 유레테인기, 싸이오유레테인기, 유레아기, 싸이오유레아기, 아마이드기, 및 싸이오아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인, <1> 내지 <5> 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물.Any one of <1> to <5>, wherein the hydrogen bonding group is at least one selected from the group consisting of a urethane group, a thiourethane group, a urea group, a thiourea group, an amide group, and a thioamide group. The curable composition according to the clause.

<7><7>

상기 중합성 화합물 (a1)이, 하기 일반식 (1) 또는 (2)로 나타나는 화합물인, <1> 내지 <6> 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of <1> to <6>, wherein the polymerizable compound (a1) is a compound represented by the following general formula (1) or (2).

[화학식 1][Formula 1]

일반식 (1) 중, R은 치환기를 나타내고, X는 C 또는 N을 나타내며, L1 및 L2는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A는 수소 결합성기를 나타내며, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 0~2의 정수를 나타내며, n은 2~4의 정수를 나타낸다. 단, X가 C를 나타내는 경우는 m과 n의 합은 4이며, X가 N을 나타내는 경우는 m과 n의 합은 3이다. m이 2를 나타내는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 상이해도 된다. 복수의 L1, A, L2, 및 Q는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In general formula (1) , R represents a substituent , represents an atom or a methyl group, m represents an integer from 0 to 2, and n represents an integer from 2 to 4. However, when X represents C, the sum of m and n is 4, and when X represents N, the sum of m and n is 3. When m represents 2, the two R's may be the same or different. A plurality of L 1 , A, L 2 , and Q may each be the same or different.

[화학식 2][Formula 2]

일반식 (2) 중, Z는 k+w가의 연결기를 나타내고, L3 및 L4는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, A는 수소 결합성기를 나타내고, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, R은 치환기를 나타내고, k는 2~8의 정수를 나타내며, w는 0~2의 정수를 나타낸다. 복수의 L3, A, L4, 및 Q는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. w가 2를 나타내는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 상이해도 된다.In general formula (2), Z represents a k+w valent linking group, L 3 and L 4 each independently represent a single bond or a divalent linking group, A represents a hydrogen bonding group, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group. , R represents a substituent, k represents an integer of 2 to 8, and w represents an integer of 0 to 2. A plurality of L 3 , A, L 4 , and Q may each be the same or different. When w represents 2, the two R's may be the same or different.

<8><8>

불소계 화합물 및 실리콘계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 화합물을 더 포함하는, <1> 내지 <7> 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of <1> to <7>, further comprising at least one compound selected from the group consisting of a fluorine-based compound and a silicone-based compound.

<9><9>

용매를 더 포함하고, 상기 용매의 80질량% 이상이 유기 용매인, <1> 내지 <8> 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물.The curable composition according to any one of <1> to <8>, further comprising a solvent, wherein 80% by mass or more of the solvent is an organic solvent.

<10><10>

상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물에 있어서, 상기 경화성 조성물에 포함되는 (메트)아크릴기의 80몰% 이상이, (메트)아크릴기 이외의 기로 변화되어 있는, <3>에 기재된 경화성 조성물.In the cured product obtained by curing the curable composition under the curing conditions, 80 mol% or more of the (meth)acrylic group contained in the curable composition is changed to a group other than the (meth)acrylic group, as described in <3>. Curable composition.

<11><11>

상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시켜 얻어진 상기 폴리이미드 기재와 상기 경화물의 적층체를 이용하여, 상기 폴리이미드 기재를 외측으로 하여, 곡률 반경 1.5mm로 180° 절곡 시험을 1만회 반복하여 행한 경우에 크랙이 발생하지 않는, <3>에 기재된 경화성 조성물.Using a laminate of the polyimide substrate and the cured product obtained by curing the curable composition under the curing conditions, the 180° bending test was repeated 10,000 times with the polyimide substrate facing outward at a radius of curvature of 1.5 mm. The curable composition according to <3>, which does not generate cracks.

<12><12>

상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시켜 얻어진 상기 폴리이미드 기재와 상기 경화물의 적층체를 이용하여, 상기 폴리이미드 기재를 내측으로 하여, 원통형 맨드릴법에 의하여 내굴곡성 시험을 행한 경우에, 직경 4mm의 맨드릴로 크랙이 발생하지 않는, <3>에 기재된 경화성 조성물.When a bending resistance test was conducted using a laminate of the polyimide base material and the cured product obtained by curing the curable composition under the above curing conditions using the cylindrical mandrel method with the polyimide base material on the inside, a bending resistance test of 4 mm in diameter was performed. The curable composition according to <3>, wherein cracks do not occur with a mandrel.

<13><13>

기재와, <1> 내지 <12> 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름.A hard coat film having a base material and a hard coat layer containing a cured product of the curable composition according to any one of <1> to <12>.

<14><14>

상기 하드 코트 필름의 파장 450~700nm의 영역에 있어서의 투과율이, 어느 파장에 있어서도 80% 이상인, <13>에 기재된 하드 코트 필름.The hard coat film according to <13>, wherein the transmittance of the hard coat film in the wavelength range of 450 to 700 nm is 80% or more at any wavelength.

<15><15>

상기 기재가, 폴리이미드, 폴리아라미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리유레테인, 아크릴 수지, 및 셀룰로스 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리머를 포함하는, <13> 또는 <14>에 기재된 하드 코트 필름.<13>, wherein the substrate contains at least one polymer selected from the group consisting of polyimide, polyaramid, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, polyurethane, acrylic resin, and cellulose resin. Or the hard coat film described in <14>.

<16><16>

<13> 내지 <15> 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름을 구비한 물품.An article provided with the hard coat film according to any one of <13> to <15>.

<17><17>

<13> 내지 <15> 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름을 표면 보호 필름으로서 구비한 화상 표시 장치.An image display device comprising the hard coat film according to any one of <13> to <15> as a surface protection film.

<18><18>

<13> 내지 <15> 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름을 표면 보호 필름으로서 구비한 플렉시블 디스플레이.A flexible display comprising the hard coat film according to any one of <13> to <15> as a surface protection film.

본 발명에 의하면, 연필 경도 및 내굴곡성이 우수하고, 또한 자기 수복성을 구비한 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름, 상기 하드 코트 필름을 구비한 물품, 화상 표시 장치, 및 플렉시블 디스플레이를 제공할 수 있다.According to the present invention, a curable composition capable of forming a cured film that is excellent in pencil hardness and bending resistance and has self-healing properties, a hard coat film having a hard coat layer containing a cured product of the curable composition, and the hard coat. Articles equipped with coat films, image display devices, and flexible displays can be provided.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 있어서, 수치가 물성값, 특성값 등을 나타내는 경우에, "(수치 1)~(수치 2)"라는 기재는 "(수치 1) 이상 (수치 2) 이하"의 의미를 나타낸다. 또, 본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"라는 기재는, "아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 적어도 어느 하나"의 의미를 나타낸다. "(메트)아크릴산", "(메트)아크릴로일", "(메트)아크릴아마이드", "(메트)아크릴로일옥시" 등도 동일하다.Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to these. In addition, in this specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description "(numerical value 1) to (numerical value 2)" indicates "(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less." In addition, in this specification, the description "(meth)acrylate" means "at least one of acrylate and methacrylate." The same applies to “(meth)acrylic acid,” “(meth)acryloyl,” “(meth)acrylamide,” and “(meth)acryloyloxy.”

〔경화성 조성물〕[Curable composition]

본 발명의 경화성 조성물은,The curable composition of the present invention,

분자량이 2000 이하인 중합성 화합물을 포함하는 경화성 조성물로서,A curable composition containing a polymerizable compound having a molecular weight of 2000 or less,

경화성 조성물의 전고형분 중의 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율이 70질량% 이상이며,The content of a polymerizable compound with a molecular weight of 2000 or less in the total solid content of the curable composition is 70% by mass or more,

분자 내에, 1개 이상의 수소 결합성기와 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖고, 수소 결합성의 프로톤가가 3.5mol/kg 이상이며, (메트)아크릴가가 5.0mol/kg 이상이고, 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물 (a1)을 포함하는, 경화성 조성물이다.Polymerizable, having one or more hydrogen-bonding groups and three or more (meth)acrylic groups in the molecule, a hydrogen-bonding proton value of 3.5 mol/kg or more, a (meth)acrylic value of 5.0 mol/kg or more, and a molecular weight of 2000 or less. It is a curable composition containing compound (a1).

"분자 내에, 1개 이상의 수소 결합성기와 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖고, 수소 결합성의 프로톤가가 3.5mol/kg 이상이며, (메트)아크릴가가 5.0mol/kg 이상이고, 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물 (a1)"을, "중합성 화합물 (a1)"이라고도 부른다."Polymerization that has one or more hydrogen bonding groups and three or more (meth)acrylic groups in the molecule, a hydrogen bonding proton value of 3.5 mol/kg or more, a (meth)acrylic value of 5.0 mol/kg or more, and a molecular weight of 2000 or less. “Polymerizable compound (a1)” is also called “polymerizable compound (a1).”

<중합성 화합물 (a1)><Polymerizable compound (a1)>

중합성 화합물 (a1)은, 분자 내에, 1개 이상의 수소 결합성기와 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖고, 수소 결합성의 프로톤가가 3.5mol/kg 이상이며, (메트)아크릴가가 5.0mol/kg 이상이고, 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물이다.The polymerizable compound (a1) has one or more hydrogen-bonding groups and three or more (meth)acrylic groups in the molecule, a hydrogen-bonding proton value of 3.5 mol/kg or more, and a (meth)acrylic value of 5.0 mol/kg or more. and is a polymerizable compound with a molecular weight of 2000 or less.

이하, 중합성 화합물 (a1)에 대하여 설명한다.Hereinafter, polymerizable compound (a1) will be described.

(수소 결합성기)(hydrogen bonding group)

중합성 화합물 (a1)은, 분자 내에 하나 이상의 수소 결합성기를 갖는다.Polymerizable compound (a1) has one or more hydrogen bonding groups in the molecule.

수소 결합성기란, 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자(프로톤)를 포함하는 기이다. 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자란, 전기 음성도가 큰 원자에 공유 결합으로 결합된 수소 원자이며, 근방에 위치한 질소 원자, 산소 원자 등과 수소 결합을 형성할 수 있는 것이다.A hydrogen bondable group is a group containing a hydrogen atom (proton) that can form a hydrogen bond. A hydrogen atom that can form a hydrogen bond is a hydrogen atom that is covalently bonded to an atom with high electronegativity, and can form a hydrogen bond with a nearby nitrogen atom or oxygen atom.

중합성 화합물 (a1)이 갖는 수소 결합성기로서는, 특별히 한정되지 않고, 일반적으로 알려져 있는 수소 결합성기여도 된다.The hydrogen bonding group contained in the polymerizable compound (a1) is not particularly limited, and generally known hydrogen bonding groups may be used.

중합성 화합물 (a1)이 갖는 수소 결합성기는, 유레테인기, 싸이오유레테인기, 유레아기, 싸이오유레아기, 아마이드기, 및 싸이오아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 바람직하고, 유레테인기, 유레아기, 및 아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 보다 바람직하며, 유레테인기 또는 유레아기인 것이 더 바람직하고, 유레아기인 것이 특히 바람직하다.The hydrogen bonding group of the polymerizable compound (a1) is preferably at least one selected from the group consisting of a urethane group, a thiourethane group, a urea group, a thiourea group, an amide group, and a thioamide group, It is more preferable that it is at least one selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, and an amide group, more preferably a urethane group or a urea group, and particularly preferably a urea group.

본 발명에 있어서, 아마이드기란, -NH-C(=O)-로 나타나는 2가의 연결기를 나타내고, 유레테인기란, -NH-C(=O)-O-로 나타나는 2가의 연결기를 나타내며, 유레아기란, -NH-C(=O)-NH-로 나타나는 2가의 연결기를 나타내고, 싸이오유레테인기란, -NH-C(=S)-O-로 나타나는 2가의 연결기를 나타내며, 싸이오유레아기란, -NH-C(=S)-NH-로 나타나는 2가의 연결기를 나타내고, 싸이오아마이드기란, -NH-C(=S)-로 나타나는 2가의 연결기를 나타내는 것으로 한다.In the present invention, an amide group refers to a divalent linking group represented by -NH-C(=O)-, and a urethane group refers to a divalent linking group expressed by -NH-C(=O)-O-, and urea A group refers to a divalent linking group represented by -NH-C(=O)-NH-, a thiourethane group refers to a divalent linking group expressed by -NH-C(=S)-O-, and a thiourea group refers to a divalent linking group represented by -NH-C(=S)-O-. , represents a divalent linking group represented by -NH-C(=S)-NH-, and thioamide group shall represent a divalent linking group represented by -NH-C(=S)-.

(수소 결합성의 프로톤가)(Hydrogen bonding proton value)

중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가는, 3.5mol/kg 이상이다.The hydrogen bondable proton number of polymerizable compound (a1) is 3.5 mol/kg or more.

수소 결합성의 프로톤가란, 화합물 중의 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자(프로톤)의 밀도를 나타내고, 하기 식 (i)로부터 산출된다.The hydrogen bondable proton number represents the density of hydrogen atoms (protons) that can form hydrogen bonds in a compound, and is calculated from the following formula (i).

수소 결합성의 프로톤가=화합물의 1분자 내의 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자(프로톤)의 물질량(mol)/화합물의 1분자의 질량(kg)…(i)Hydrogen bonding proton value = amount of substance (mol) of hydrogen atoms (protons) that can form hydrogen bonds in one molecule of a compound/mass of one molecule of a compound (kg)... (i)

또한, 아마이드기 및 싸이오아마이드기에 포함되는 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자의 수는 1, 유레테인기 및 싸이오유레테인기에 포함되는 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자의 수는 1, 유레아기 및 싸이오유레아기에 포함되는 수소 결합을 형성할 수 있는 수소 원자의 수는 2이다.In addition, the number of hydrogen atoms capable of forming hydrogen bonds in the amide group and thioamide group is 1, the number of hydrogen atoms capable of forming hydrogen bonds in the urethane group and thiourethane group is 1, The number of hydrogen atoms that can form hydrogen bonds contained in the urea group and thiourea group is 2.

중합성 화합물 (a1)이 구성 단위를 갖는 중합체인 경우에 대하여, 수소 결합성의 프로톤가를 구하는 방법을 설명한다.In the case where the polymerizable compound (a1) is a polymer having structural units, a method for calculating the hydrogen bondable proton number will be explained.

구성 단위란, 반복 단위이며, 예를 들면, 중합성 화합물 (a1)이 1종의 모노머만으로 중합되어 이루어지는 중합체인 경우는, 중합성 화합물 (a1)이 갖는 구성 단위는 1종이고, 2종의 모노머의 공중합체인 경우는, 구성 단위는 2종이 된다.A structural unit is a repeating unit. For example, when polymerizable compound (a1) is a polymer formed by polymerizing only one type of monomer, polymerizable compound (a1) has one type of structural unit and two types. In the case of a monomer copolymer, there are two types of structural units.

중합성 화합물 (a1)이 1종의 구성 단위를 갖는 경우는, 중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가는, 상기 식 (i)에 의하여 산출된 1구성 단위에 있어서의 수소 결합가가 된다.When the polymerizable compound (a1) has one type of structural unit, the hydrogen bonding proton number of the polymeric compound (a1) is the hydrogen bonding value in one structural unit calculated by the above formula (i).

중합성 화합물 (a1)이 복수 종의 구성 단위를 갖는 경우는, 상기 식 (i)에 의하여 산출된 각 구성 단위에 있어서의 수소 결합성의 프로톤가에, 중합성 화합물 (a1)에 있어서의 각 구성 단위의 조성 비율(몰%)을 곱하여 100으로 나눈 값의 총합(몰분율 평균값)을 중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가로 한다.When the polymerizable compound (a1) has multiple types of structural units, the hydrogen bonding proton value of each structural unit calculated by the above formula (i) The total sum (average mole fraction) of the values multiplied by the composition ratio (mol%) and divided by 100 is taken as the hydrogen bonding proton value of the polymerizable compound (a1).

구체적으로는, 중합성 화합물 (a1)이 2종의 구성 단위(구성 단위 1 및 구성 단위 2)를 갖는 경우, 중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가는, 이하의 하기 식 (iiA)로부터 산출된다.Specifically, when the polymerizable compound (a1) has two types of structural units (structural unit 1 and structural unit 2), the hydrogen bonding proton number of the polymeric compound (a1) is calculated from the following formula (iiA): It is calculated.

수소 결합성의 프로톤가=H1(구성 단위 1의 수소 결합성의 프로톤가)×W1(구성 단위 1의 조성 비율(몰%))/100+H2(구성 단위 2의 수소 결합성의 프로톤가)×W2(구성 단위 2의 조성 비율(몰%))/100…(iiA)Hydrogen bonding proton value = H 1 (hydrogen bonding proton value of structural unit 1) × W 1 (composition ratio (mol%) of structural unit 1)/100 + H 2 (hydrogen bonding proton value of structural unit 2 ) (Composition ratio (mol%) of structural unit 2)/100… (iiA)

또, 중합성 화합물 (a1)이 구성 단위 1, 구성 단위 2, …구성 단위 X(X는 3 이상의 정수를 나타낸다)를 갖는 경우, 중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가는, 이하의 하기 식 (iiB)로부터 산출된다.Additionally, the polymerizable compound (a1) contains structural unit 1, structural unit 2,... When it has a structural unit

수소 결합성의 프로톤가=H1(구성 단위 1의 수소 결합성의 프로톤가)×W1(구성 단위 1의 조성 비율(몰%))/100+H2(구성 단위 2의 수소 결합성의 프로톤가)×W2(구성 단위 2의 조성 비율(몰%))/100+ … HX(구성 단위 X의 수소 결합성의 프로톤가)×WX(구성 단위 X의 조성 비율(몰%))/100…(iiB)Hydrogen bonding proton value = H 1 (hydrogen bonding proton value of structural unit 1) × W 1 (composition ratio (mol%) of structural unit 1)/100 + H 2 (hydrogen bonding proton value of structural unit 2 ) (Composition ratio (mol%) of structural unit 2)/100+... H _ (iiB)

중합성 화합물 (a1)에 있어서의 수소 결합성의 프로톤가는, 3.5mol/kg 이상이다. 이로써, 중합성 화합물 (a1)이 형성하는 수소 결합의 밀도를 높게 하는 것이 가능해지기 때문에, 본 발명의 경화성 조성물을 경화하여 이루어지는 경화막의 표면의 경도(연필 경도)를 높게 할 수 있다고 추측된다. 또, 수소 결합은 가역적으로 해리(解離), 재형성이 가능하기 때문에, 변형 시의 응력을 수소 결합의 해리로 빠져 나가게 할 수 있고, 구조 변화 후에 수소 결합이 재형성됨으로써, 경화막에 내굴곡성 및 자기 수복성을 부여할 수 있다고 추측된다. 특히, 기재와, 경화성의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름에 대하여, 기재를 내측으로 하고, 하드 코트층을 외측으로 하여 행하는 내굴곡성 시험(바깥 굽힘 시험)에 있어서도 우수한 내굴곡성을 나타낼 수 있다고 추측된다.The hydrogen bondable proton number in the polymerizable compound (a1) is 3.5 mol/kg or more. Because this makes it possible to increase the density of hydrogen bonds formed by the polymerizable compound (a1), it is assumed that the hardness (pencil hardness) of the surface of the cured film formed by curing the curable composition of the present invention can be increased. In addition, since hydrogen bonds can be reversibly dissociated and reformed, the stress during deformation can be released through the dissociation of hydrogen bonds, and the hydrogen bonds are reformed after the structural change, providing bending resistance to the cured film. and self-healing properties. In particular, for a hard coat film having a base material and a hard coat layer containing a curable cured material, excellent bending resistance even in a bending resistance test (outward bending test) conducted with the base material on the inside and the hard coat layer on the outside. It is assumed that it can represent .

중합성 화합물 (a1)에 있어서의 수소 결합성의 프로톤가는, 3.5mol/kg 이상이며, 4.0mol/kg 이상인 것이 바람직하고, 5.0mol/kg 이상인 것이 보다 바람직하며, 6.0mol/kg 이상인 것이 더 바람직하다.The hydrogen bonding proton number in the polymerizable compound (a1) is 3.5 mol/kg or more, preferably 4.0 mol/kg or more, more preferably 5.0 mol/kg or more, and still more preferably 6.0 mol/kg or more. .

또, 용해성을 양호하게 하며, 성막 시의 응집물의 발생을 억제하는 관점에서, 중합성 화합물 (a1)에 있어서의 수소 결합성의 프로톤가는, 20.0mol/kg 이하인 것이 바람직하고, 17.5mol/kg 이하인 것이 보다 바람직하며, 15.0mol/kg 이하인 것이 더 바람직하고, 12.5mol/kg 이하인 것이 더 바람직하다.In addition, from the viewpoint of improving solubility and suppressing the generation of aggregates during film formation, the hydrogen bonding proton number in the polymerizable compound (a1) is preferably 20.0 mol/kg or less, and 17.5 mol/kg or less. More preferably, it is more preferably 15.0 mol/kg or less, and even more preferably 12.5 mol/kg or less.

((메트)아크릴가)((meth)acrylic)

중합성 화합물 (a1)은, 분자 내에 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖는다. 즉, 중합성 화합물 (a1)은, 분자 내에, 아크릴기(아크릴로일기) 및 메타크릴기(메타크릴로일기)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기(하기 일반식 (T)로 나타나는 기)를 적어도 3개 갖는다.Polymerizable compound (a1) has three or more (meth)acrylic groups in the molecule. That is, the polymerizable compound (a1) contains at least a group (a group represented by the following general formula (T)) selected from the group consisting of an acrylic group (acryloyl group) and a methacryl group (methacryloyl group) in the molecule. I have 3.

[화학식 3][Formula 3]

일반식 (T) 중, Q1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, *는 결합 위치를 나타낸다.In general formula (T), Q 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and * represents a bonding position.

일반식 (T) 중, Q1이 수소 원자인 경우는 아크릴기이며, Q1이 메틸기인 경우는 메타크릴기이다.In general formula (T), when Q 1 is a hydrogen atom, it is an acrylic group, and when Q 1 is a methyl group, it is a methacryl group.

일반식 (T) 중, *는 결합 위치를 나타내지만, *에 있어서 결합하는 원자의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, *에 있어서 산소 원자와 결합하는 경우, 이 산소 원자도 포함하여 일반식 (T)로 나타나는 기는, (메트)아크릴로일옥시기가 된다. 또, *에 있어서 질소 원자(수소 원자 또는 치환기와 결합된 질소 원자)와 결합하는 경우, 이 질소 원자도 포함하여 일반식 (T)로 나타나는 기는, (메트)아크릴로일아미노기((메트)아크릴아마이드기)가 된다.In general formula (T), * indicates a bonding position, but the type of atom bonded to * is not particularly limited. For example, when * bonds to an oxygen atom, the group represented by the general formula (T) including this oxygen atom becomes a (meth)acryloyloxy group. In addition, when * is bonded to a nitrogen atom (a nitrogen atom bonded to a hydrogen atom or a substituent), the group represented by the general formula (T) including this nitrogen atom is a (meth)acryloylamino group ((meth)acrylate becomes an amide group).

또한, (메트)아크릴아마이드기는, 아마이드기를 내재하는 것이며, 수소 결합성기에도 상당한다.In addition, the (meth)acrylamide group contains an amide group and also corresponds to a hydrogen bonding group.

(메트)아크릴가란, 화합물 중의 (메트)아크릴기 밀도를 나타내고, 하기 식 (iii)로부터 산출된다.The (meth)acrylic value represents the density of (meth)acrylic groups in the compound, and is calculated from the following formula (iii).

(메트)아크릴가=화합물의 1분자 내의 (메트)아크릴기의 물질량(mol)/화합물의 1분자의 질량(kg)…(iii)(Meth)acrylic value = Amount of substance of (meth)acrylic group in 1 molecule of compound (mol)/Mass of 1 molecule of compound (kg)… (iii)

중합성 화합물 (a1)이 구성 단위를 갖는 중합체인 경우에 대하여, (메트)아크릴가를 구하는 방법을 설명한다.In the case where the polymerizable compound (a1) is a polymer having structural units, a method for determining the (meth)acrylic value will be explained.

중합성 화합물 (a1)이 1종의 구성 단위를 갖는 중합체인 경우는, 1구성 단위에 있어서 산출한 (메트)아크릴가를 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴가로 한다.When the polymerizable compound (a1) is a polymer having one type of structural unit, the (meth)acrylic value calculated for one structural unit is taken as the (meth)acrylic value of the polymeric compound (a1).

중합성 화합물 (a1)이 복수 종의 구성 단위를 갖는 경우는, 상기 식(iii)에 의하여 산출된 각 구성 단위에 있어서의 (메트)아크릴가에, 중합성 화합물 (a1)에 있어서의 각 구성 단위의 조성 비율(몰%)을 곱하여 100으로 나눈 값의 총합(몰분율 평균값)을 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴가로 한다.When the polymerizable compound (a1) has multiple types of structural units, the (meth)acrylic value in each structural unit calculated by the formula (iii) above is equal to each structural unit in the polymeric compound (a1). The total sum (average mole fraction) of the values multiplied by the composition ratio (mol%) and divided by 100 is taken as the (meth)acrylic value of the polymerizable compound (a1).

구체적으로는, 중합성 화합물 (a1)이 2종의 구성 단위(구성 단위 1 및 구성 단위 2)를 갖는 경우, 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴가는, 이하의 하기 식 (ivA)로부터 산출된다.Specifically, when the polymerizable compound (a1) has two types of structural units (structural unit 1 and structural unit 2), the (meth)acrylic value of the polymeric compound (a1) is calculated from the following formula (ivA): It is calculated.

(메트)아크릴가=C1(구성 단위 1의 (메트)아크릴가)×W1(구성 단위 1의 조성 비율(몰%))/100+C2(구성 단위 2의 (메트)아크릴가)×W2(구성 단위 2의 조성 비율(몰%))/100…(ivA)(meth)acrylic value = C 1 ((meth)acrylic value of structural unit 1) × W 1 (composition ratio (mol%) of structural unit 1) / 100 + C 2 ((meth)acrylic value of structural unit 2) × W 2 (Composition ratio (mol%) of structural unit 2)/100… (ivA)

또, 중합성 화합물 (a1)이 구성 단위 1, 구성 단위 2,...구성 단위 X(X는 3 이상의 정수를 나타낸다)를 갖는 경우, 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴가는, 이하의 하기 식 (ivB)로부터 산출된다.In addition, when the polymerizable compound (a1) has structural unit 1, structural unit 2,... structural unit It is calculated from the following formula (ivB).

(메트)아크릴가=C1(구성 단위 1의 (메트)아크릴가)×W1(구성 단위 1의 조성 비율(몰%))/100+C2(구성 단위 2의 (메트)아크릴가)×W2(구성 단위 2의 조성 비율(몰%))/100+ … Cx(구성 단위 X의 (메트)아크릴)×WX(구성 단위 X의 조성 비율(몰%))/100…(ivB)(meth)acrylic value = C 1 ((meth)acrylic value of structural unit 1) × W 1 (composition ratio (mol%) of structural unit 1) / 100 + C 2 ((meth)acrylic value of structural unit 2) × W 2 (Composition ratio (mol%) of structural unit 2)/100+... Cx ((meth) acrylic of structural unit (ivB)

중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴가는 5.0mol/kg 이상이며, 5.3mol/kg 이상인 것이 바람직하고, 5.6mol/kg 이상인 것이 보다 바람직하다.The (meth)acrylic value of the polymerizable compound (a1) is 5.0 mol/kg or more, preferably 5.3 mol/kg or more, and more preferably 5.6 mol/kg or more.

중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴가는, 샘플을 적당한 용매에 용해시켜 두고, (메트)아크릴기와 정량적으로 반응하는 싸이올을 일정한 양 첨가함으로써 엔·싸이올 반응시켜, 그것에 의하여 소비된 싸이올양으로부터 추측하는 것이 가능하다. 소비된 싸이올양은, NMR(Nuclear Magnetic Resonance)이나 GC(Gas Chromatograph)에 의하여 정량할 수 있다.The (meth)acrylic value of the polymerizable compound (a1) is determined by dissolving a sample in an appropriate solvent and adding a certain amount of thiol that quantitatively reacts with the (meth)acrylic group, thereby causing en-thiol reaction, thereby producing the thiol consumed. It is possible to guess from Ollyang. The amount of thiol consumed can be quantified by NMR (Nuclear Magnetic Resonance) or GC (Gas Chromatograph).

중합성 화합물 (a1)이 갖는 (메트)아크릴기의 수는, 3~20인 것이 바람직하고, 3~8인 것이 보다 바람직하며, 3~6인 것이 더 바람직하고, 3~4인 것이 특히 바람직하다.The number of (meth)acrylic groups in the polymerizable compound (a1) is preferably 3 to 20, more preferably 3 to 8, more preferably 3 to 6, and especially preferably 3 to 4. do.

(수소 결합성의 프로톤가와 (메트)아크릴가의 합)(Sum of hydrogen bondable proton value and (meth)acrylic value)

중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가와 (메트)아크릴가의 합은, 특별히 한정되지 않지만, 10.5mol/kg 이상인 것이 바람직하고, 11.0mol/kg 이상인 것이 보다 바람직하며, 11.5mol/kg 이상인 것이 더 바람직하고, 12.0mol/kg 이상인 것이 특히 바람직하다. 중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가와 (메트)아크릴가의 합이 10.5mol/kg 이상이면, 탄성률이 높아지고, 표면 경도가 높아진다는 관점에서 바람직하다.The sum of the hydrogen bondable proton value and (meth)acrylic value of the polymerizable compound (a1) is not particularly limited, but is preferably 10.5 mol/kg or more, more preferably 11.0 mol/kg or more, and 11.5 mol/kg or more. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 12.0 mol/kg or more. It is preferable that the sum of the hydrogen bondable proton value and (meth)acrylic value of the polymeric compound (a1) is 10.5 mol/kg or more from the viewpoint of increasing the elastic modulus and increasing surface hardness.

(수소 결합성의 프로톤가와 (메트)아크릴가의 비)(Ratio of hydrogen bondable proton number to (meth)acrylic number)

중합성 화합물 (a1)의 수소 결합성의 프로톤가와 (메트)아크릴가의 비는, 특별히 한정되지 않지만, 수소 결합성의 프로톤가/(메트)아크릴가가, 0.25 이상 4.0 이하인 것이 바람직하고, 0.35 이상 3.5 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.45 이상 3.0 이하인 것이 더 바람직하고, 0.55 이상 2.5 이하인 것이 특히 바람직하며, 0.60 이상 2.0 이하인 것이 가장 바람직하다.The ratio between the hydrogen-bondable proton number and the (meth)acrylic number of the polymerizable compound (a1) is not particularly limited, but the hydrogen-bondable proton number/(meth)acrylic number is preferably 0.25 to 4.0, and more preferably 0.35 to 3.5. Preferred, it is more preferable that it is 0.45 or more and 3.0 or less, it is especially preferable that it is 0.55 or more and 2.5 or less, and it is most preferable that it is 0.60 or more and 2.0 or less.

(분자량)(Molecular Weight)

중합성 화합물 (a1)의 분자량은 2000 이하이며, 1500 이하인 것이 바람직하고, 1250 이하인 것이 보다 바람직하며, 1000 이하인 것이 더 바람직하다.The molecular weight of the polymerizable compound (a1) is 2000 or less, preferably 1500 or less, more preferably 1250 or less, and still more preferably 1000 or less.

(중합성 화합물 (a1)의 구조)(Structure of polymerizable compound (a1))

중합성 화합물 (a1)의 구조는 특별히 한정되지 않지만, 하기 일반식 (1) 또는 (2)로 나타나는 화합물인 것이 바람직하다.The structure of the polymerizable compound (a1) is not particularly limited, but it is preferably a compound represented by the following general formula (1) or (2).

[화학식 4][Formula 4]

일반식 (1) 중, R은 치환기를 나타내고, X는 C 또는 N을 나타내며, L1 및 L2는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A는 수소 결합성기를 나타내며, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 0~2의 정수를 나타내며, n은 2~4의 정수를 나타낸다. 단, X가 C를 나타내는 경우는 m과 n의 합은 4이며, X가 N을 나타내는 경우는 m과 n의 합은 3이다. m이 2를 나타내는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 상이해도 된다. 복수의 L1, A, L2, 및 Q는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.In general formula (1) , R represents a substituent , represents an atom or a methyl group, m represents an integer from 0 to 2, and n represents an integer from 2 to 4. However, when X represents C, the sum of m and n is 4, and when X represents N, the sum of m and n is 3. When m represents 2, the two R's may be the same or different. A plurality of L 1 , A, L 2 , and Q may each be the same or different.

[화학식 5][Formula 5]

일반식 (2) 중, Z는 k+w가의 연결기를 나타내고, L3 및 L4는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, A는 수소 결합성기를 나타내고, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, R은 치환기를 나타내고, k는 2~8의 정수를 나타내며, w는 0~2의 정수를 나타낸다. 복수의 L3, A, L4, 및 Q는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. w가 2를 나타내는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 상이해도 된다.In general formula (2), Z represents a k+w valent linking group, L 3 and L 4 each independently represent a single bond or a divalent linking group, A represents a hydrogen bonding group, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group. , R represents a substituent, k represents an integer of 2 to 8, and w represents an integer of 0 to 2. A plurality of L 3 , A, L 4 , and Q may each be the same or different. When w represents 2, the two R's may be the same or different.

일반식 (1) 중, R이 나타내는 치환기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 알킬기(예를 들면 탄소수 1~10), 아릴기(예를 들면 탄소수 6~20), 사이클로알킬기(예를 들면 탄소수 3~10), 알켄일기(예를 들면 탄소수 2~10), 알카인일기(예를 들면 탄소수 2~10), 할로젠 원자, 알킬옥시기(예를 들면 탄소수 1~10), 아릴옥시기(예를 들면 탄소수 6~20), 알킬옥시카보닐기(예를 들면 탄소수 2~10), 아릴옥시카보닐기(예를 들면 탄소수 7~20), 알킬카보닐옥시기(예를 들면 탄소수 2~10), 아릴카보닐옥시기(예를 들면 탄소수 7~20), 헤테로환기(예를 들면 탄소수 2~10), 하이드록시기, 사이아노기, 나이트로기 등을 들 수 있다.In General Formula (1), the substituent represented by R is not particularly limited, but examples include an alkyl group (e.g., 1 to 10 carbon atoms), an aryl group (e.g., 6 to 20 carbon atoms), and a cycloalkyl group (e.g., Carbon number 3 to 10), alkenyl group (e.g. carbon number 2 to 10), alkynyl group (e.g. carbon number 2 to 10), halogen atom, alkyloxy group (e.g. carbon number 1 to 10), aryl oxide group (e.g., carbon atoms 6 to 20), alkyloxycarbonyl group (e.g., carbon atoms 2 to 10), aryloxycarbonyl group (e.g., carbon atoms 7 to 20), alkylcarbonyloxy group (e.g., carbon atoms 2 to 20), 10), arylcarbonyloxy group (for example, 7 to 20 carbon atoms), heterocyclic group (for example, 2 to 10 carbon atoms), hydroxy group, cyano group, nitro group, etc.

일반식 (1) 중, L1 및 L2이 2가의 연결기를 나타내는 경우의 2가의 연결기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 알킬렌기(예를 들면 탄소수 1~10), 사이클로알킬렌기(예를 들면 탄소수 3~10), 알켄일렌기(예를 들면 탄소수 2~10), 아릴렌기(예를 들면 탄소수 6~20), 2가의 헤테로환기(예를 들면 탄소수 2~10), -O-, -SO2-, -CO-, -S-, 또는 이들의 복수를 조합한 2가의 연결기가 바람직하다. L1 및 L2는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상술한 일반식 (1) 중의 R이 나타내는 치환기로서 기재한 치환기, (메트)아크릴기, (메트)아크릴로일옥시기, (메트)아크릴아마이드기 등을 들 수 있다.In General Formula (1), when L 1 and L 2 represent a divalent linking group, the divalent linking group is not particularly limited, but includes, for example, an alkylene group (for example, having 1 to 10 carbon atoms), a cycloalkylene group (for example, For example, 3 to 10 carbon atoms), alkenylene group (for example, 2 to 10 carbon atoms), arylene group (for example, 6 to 20 carbon atoms), divalent heterocyclic group (for example, 2 to 10 carbon atoms), -O-, A divalent linking group such as -SO 2 -, -CO-, -S-, or a combination of a plurality thereof is preferred. L 1 and L 2 may have a substituent. There is no particular limitation on the substituent, and for example, the substituent described as the substituent represented by R in the above-mentioned general formula (1), (meth)acryl group, (meth)acryloyloxy group, (meth)acrylamide group, etc. I can hear it.

일반식 (1) 중, A는 수소 결합성기를 나타내며, 유레테인기, 싸이오유레테인기, 유레아기, 싸이오유레아기, 아마이드기, 및 싸이오아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 바람직하고, 유레테인기, 유레아기, 및 아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 보다 바람직하며, 유레아기인 것이 더 바람직하다.In General Formula (1), A represents a hydrogen bonding group, and is preferably at least one selected from the group consisting of a urethane group, a thiourethane group, a urea group, a thiourea group, an amide group, and a thioamide group. It is more preferable that it is at least one selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, and an amide group, and more preferably a urea group.

일반식 (1) 중, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 수소 원자를 나타내는 것이 바람직하다.In General Formula (1), Q represents a hydrogen atom or a methyl group, and preferably represents a hydrogen atom.

일반식 (1) 중, m은 0~2의 정수를 나타내고, 0 또는 1을 나타내는 것이 바람직하다.In General Formula (1), m represents an integer of 0 to 2, and preferably represents 0 or 1.

일반식 (2) 중, Z가 나타내는 k+w가의 연결기는 특별히 한정되지 않지만, 쇄 중에 헤테로 원자를 가져도 되는 쇄상 탄화 수소기(예를 들면, 탄소수 2~10), 또는 환원으로서 헤테로 원자를 가져도 되는 환상 탄화 수소기(예를 들면, 탄소수 2~10)인 것이 바람직하다. 상기 헤테로 원자로서는, 예를 들면, 산소 원자, 질소 원자, 황 원자 등을 들 수 있고, 산소 원자가 바람직하다. 상기 쇄상 탄화 수소기에는 치환기가 결합해도 된다. 상기 환상 탄화 수소기의 환원의 탄소 원자에는 치환기가 결합해도 되고, 옥소기(=O)가 결합해도 된다. 상기 치환기로서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상술한 일반식 (1) 중의 R이 나타내는 치환기로서 기재한 치환기, (메트)아크릴기, (메트)아크릴로일옥시기, (메트)아크릴아마이드기 등을 들 수 있다.In General Formula (2), the k+w linking group represented by Z is not particularly limited, but may be a chain hydrocarbon group (for example, having 2 to 10 carbon atoms) which may have a hetero atom in the chain, or a hetero atom as a reduction. It is preferable that it is an optional cyclic hydrocarbon group (for example, having 2 to 10 carbon atoms). Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, with the oxygen atom being preferable. A substituent may be bonded to the chain hydrocarbon group. A substituent may be bonded to the reducing carbon atom of the cyclic hydrocarbon group, or an oxo group (=O) may be bonded to it. There is no particular limitation on the substituent, and for example, the substituent described as the substituent represented by R in the above-mentioned general formula (1), (meth)acryl group, (meth)acryloyloxy group, (meth)acrylamide group, etc. can be mentioned.

일반식 (2) 중, L3 및 L4가 2가의 연결기를 나타내는 경우의 2가의 연결기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 알킬렌기(예를 들면 탄소수 1~10), 사이클로알킬렌기(예를 들면 탄소수 3~10), 알켄일렌기(예를 들면 탄소수 2~10), 아릴렌기(예를 들면 탄소수 6~20), 2가의 헤테로환기(예를 들면 탄소수 2~10), -O-, -SO2-, -CO-, -S-, 또는 이들의 복수를 조합한 2가의 연결기가 바람직하다. L3 및 L4는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상술한 일반식 (1) 중의 R이 나타내는 치환기로서 기재한 치환기, (메트)아크릴기, (메트)아크릴로일옥시기, (메트)아크릴아마이드기 등을 들 수 있다.In General Formula (2), when L 3 and L 4 represent a divalent linking group, the divalent linking group is not particularly limited, but includes, for example, an alkylene group (for example, having 1 to 10 carbon atoms), a cycloalkylene group (for example, For example, 3 to 10 carbon atoms), alkenylene group (for example, 2 to 10 carbon atoms), arylene group (for example, 6 to 20 carbon atoms), divalent heterocyclic group (for example, 2 to 10 carbon atoms), -O-, A divalent linking group such as -SO 2 -, -CO-, -S-, or a combination of a plurality thereof is preferred. L 3 and L 4 may have a substituent. There is no particular limitation on the substituent, and for example, the substituent described as the substituent represented by R in the above-mentioned general formula (1), (meth)acryl group, (meth)acryloyloxy group, (meth)acrylamide group, etc. I can hear it.

일반식 (2) 중, A는 수소 결합성기를 나타내며, 유레테인기, 싸이오유레테인기, 유레아기, 싸이오유레아기, 아마이드기, 및 싸이오아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 바람직하고, 유레테인기, 유레아기, 및 아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 보다 바람직하며, 유레아기인 것이 더 바람직하다.In general formula (2), A represents a hydrogen bonding group, and is preferably at least one selected from the group consisting of a urethane group, a thiourethane group, a urea group, a thiourea group, an amide group, and a thioamide group. It is more preferable that it is at least one selected from the group consisting of a urethane group, a urea group, and an amide group, and more preferably a urea group.

일반식 (2) 중, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 수소 원자를 나타내는 것이 바람직하다.In General Formula (2), Q represents a hydrogen atom or a methyl group, and preferably represents a hydrogen atom.

일반식 (2) 중의 R은, 일반식 (1) 중의 R과 동일한 의미를 나타내고, 구체예 및 바람직한 범위도 동일하다.R in General Formula (2) has the same meaning as R in General Formula (1), and the specific examples and preferred ranges are the same.

일반식 (2) 중, k는 2~8의 정수를 나타내고, 4~8의 정수를 나타내는 것이 바람직하다.In General Formula (2), k represents an integer of 2 to 8, and preferably represents an integer of 4 to 8.

중합성 화합물 (a1)의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.Specific examples of polymerizable compound (a1) are shown below, but the present invention is not limited to these.

[화학식 6][Formula 6]

[화학식 7][Formula 7]

[화학식 8][Formula 8]

[화학식 9][Formula 9]

[화학식 10][Formula 10]

중합성 화합물 (a1)로서 든 것 중에서, 유레테인기를 갖는 것을 합성하기 위해서는, 분자 내에 적어도 하나의 1급 수산기를 갖는 화합물의 1급 수산기에 대하여, 분자 내에 (메트)아크릴기를 갖는 모노아이소사이아네이트의 아이소사이아네이트기의 몰비가 0.7~1.5, 바람직하게는 0.8~1.3, 보다 바람직하게는 0.9~1.2, 가장 바람직하게는 0.95~1.1이 되도록 조제한다. 0.7 이상으로 함으로써, 미반응의 1급 수산기를 갖는 생성물의 비율을 적게 할 수 있어, 정제가 용이해진다. 또, 1.5 이하로 함으로써, 반응 종료 후에 의도하지 않은 부반응이 진행되기 어려워, 젤화의 발생을 억제할 수 있다.In order to synthesize a compound having a urethane group among the polymerizable compounds (a1), a monoisocythane having a (meth)acrylic group in the molecule is added to the primary hydroxyl group of the compound having at least one primary hydroxyl group in the molecule. It is prepared so that the molar ratio of the isocyanate group of the anate is 0.7 to 1.5, preferably 0.8 to 1.3, more preferably 0.9 to 1.2, and most preferably 0.95 to 1.1. By setting it to 0.7 or more, the ratio of products having unreacted primary hydroxyl groups can be reduced, making purification easier. Additionally, by setting it to 1.5 or less, unintended side reactions are less likely to proceed after completion of the reaction, and the occurrence of gelation can be suppressed.

중합성 화합물 (a1)로서 든 것 중에서 유레아기를 갖는 것을 합성하기 위해서는, 분자 내에 적어도 하나의 1급 아미노기를 갖는 화합물의 1급 아미노기에 대하여, 분자 내에 (메트)아크릴기를 갖는 모노아이소사이아네이트의 아이소사이아네이트기의 몰비가 0.7~1.5, 바람직하게는 0.8~1.3, 보다 바람직하게는 0.9~1.2, 가장 바람직하게는 0.95~1.1이 되도록 조제한다. 0.7 이상으로 함으로써, 미반응의 1급 아미노기를 갖는 생성물의 비율을 적게 할 수 있어, 정제가 용이해진다. 또, 1.5 이하로 함으로써, 반응 종료 후에 의도하지 않은 부반응이 진행되기 어려워, 젤화의 발생을 억제할 수 있다.In order to synthesize a polymerizable compound (a1) having a urea group, a monoisocyanate having a (meth)acryl group in the molecule is added to the primary amino group of the compound having at least one primary amino group in the molecule. It is prepared so that the molar ratio of the isocyanate group is 0.7 to 1.5, preferably 0.8 to 1.3, more preferably 0.9 to 1.2, and most preferably 0.95 to 1.1. By setting it to 0.7 or more, the ratio of products having unreacted primary amino groups can be reduced, making purification easier. Additionally, by setting it to 1.5 or less, unintended side reactions are less likely to proceed after completion of the reaction, and the occurrence of gelation can be suppressed.

중합성 화합물 (a1)로서 든 것 중에서 아마이드기를 갖는 것을 합성하기 위해서는, 분자 내에 적어도 하나의 1급 아미노기를 갖는 화합물의 1급 아미노기에 대하여, 분자 내에 (메트)아크릴기를 갖는 산 클로라이드 화합물의 산 클로라이드기의 몰비가 0.7~1.5, 바람직하게는 0.8~1.3, 보다 바람직하게는 0.9~1.2, 가장 바람직하게는 0.95~1.1이 되도록 조제한다. 0.7 이상으로 함으로써, 미반응의 1급 아미노기를 갖는 생성물의 비율을 적게 할 수 있어, 정제가 용이해진다. 또, 1.5 이하로 함으로써, 반응 종료 후에 의도하지 않은 부반응이 진행되기 어려워, 젤화의 발생을 억제할 수 있다.In order to synthesize a compound having an amide group among the polymerizable compounds (a1), the acid chloride of an acid chloride compound having a (meth)acryl group in the molecule is added to the primary amino group of the compound having at least one primary amino group in the molecule. It is prepared so that the molar ratio of groups is 0.7 to 1.5, preferably 0.8 to 1.3, more preferably 0.9 to 1.2, and most preferably 0.95 to 1.1. By setting it to 0.7 or more, the ratio of products having unreacted primary amino groups can be reduced, making purification easier. Additionally, by setting it to 1.5 or less, unintended side reactions are less likely to proceed after completion of the reaction, and the occurrence of gelation can be suppressed.

본 발명의 경화성 조성물은, 중합성 화합물 (a1)을 1종만 포함해도 되고, 구조가 상이한 2종 이상을 포함해도 된다.The curable composition of the present invention may contain only one type of polymerizable compound (a1), or may contain two or more types with different structures.

본 발명의 경화성 조성물의 전고형분 중의 중합성 화합물 (a1)의 함유율은, 51질량% 이상인 것이 바람직하고, 51~100질량%인 것이 보다 바람직하며, 60~100질량%인 것이 더 바람직하고, 70~100질량%인 것이 특히 바람직하며, 80~100질량%인 것이 가장 바람직하다.The content of polymerizable compound (a1) in the total solid content of the curable composition of the present invention is preferably 51% by mass or more, more preferably 51 to 100% by mass, further preferably 60 to 100% by mass, and 70% by mass. It is especially preferable that it is ~100 mass%, and it is most preferable that it is 80-100 mass%.

또한, 전고형분이란 용매 이외의 전체 성분을 의미한다.In addition, total solid content means all components other than the solvent.

<중합 개시제><Polymerization initiator>

본 발명의 경화성 조성물은, 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하고, 라디칼 중합 개시제를 포함하는 것이 보다 바람직하다.The curable composition of the present invention preferably contains a polymerization initiator, and more preferably contains a radical polymerization initiator.

중합 개시제는, 라디칼 중합 개시제인 것이 바람직하다. 라디칼 중합 개시제는, 라디칼 광중합 개시제여도 되고, 라디칼 열중합 개시제여도 되지만, 라디칼 광중합 개시제인 것이 보다 바람직하다.The polymerization initiator is preferably a radical polymerization initiator. The radical polymerization initiator may be a radical photopolymerization initiator or a radical thermal polymerization initiator, but it is more preferable that the radical photopolymerization initiator is a radical photopolymerization initiator.

중합 개시제는 1종만 이용해도 되고, 구조가 상이한 2종 이상을 병용해도 된다.Only one type of polymerization initiator may be used, or two or more types with different structures may be used in combination.

라디칼 광중합 개시제로서는, 광조사에 의하여 활성종으로서 라디칼을 발생할 수 있는 것이면 되고, 공지의 라디칼 광중합 개시제를, 아무런 제한없이 이용할 수 있다. 구체예로서는, 예를 들면, 다이에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질다이메틸케탈, 4-(2-하이드록시에톡시)페닐-(2-하이드록시-2-프로필)케톤, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-메틸-2-모폴리노(4-싸이오메틸페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)뷰탄온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸바이닐)페닐]프로판온 올리고머, 2-하이드록시-1-{4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피온일)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온 등의 아세토페논류; 1,2-옥테인다이온, 1-[4-(페닐싸이오)-, 2-(O-벤조일옥심)], 에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-, 1-(0-아세틸옥심) 등의 옥심에스터류; 벤조인, 벤조인메틸에터, 벤조인에틸에터, 벤조인아이소프로필에터, 벤조인아이소뷰틸에터 등의 벤조인류; 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-다이페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-뷰틸퍼옥시카보닐)벤조페논, 2,4,6-트라이메틸벤조페논, 4-벤조일-N,N-다이메틸-N-[2-(1-옥소-2-프로펜일옥시)에틸]벤젠메타나미늄 브로마이드, (4-벤조일벤질)트라이메틸암모늄 클로라이드 등의 벤조페논류; 2-아이소프로필싸이오잔톤, 4-아이소프로필싸이오잔톤, 2,4-다이에틸싸이오잔톤, 2,4-다이클로로싸이오잔톤, 1-클로로-4-프로폭시싸이오잔톤, 2-(3-다이메틸아미노-2-하이드록시)-3,4-다이메틸-9H-싸이오잔톤-9-온메소 클로라이드 등의 싸이오잔톤류; 2,4,6-트라이메틸벤조일-다이페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-다이메톡시벤조일)-2,4,4-트라이메틸-펜틸포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스폰옥사이드류; 등을 들 수 있다. 또, 라디칼 광중합 개시제의 조제(助劑)로서, 트라이에탄올아민, 트라이아이소프로판올아민, 4,4'-다이메틸아미노벤조페논(미힐러케톤), 4,4'-다이에틸아미노벤조페논, 2-다이메틸아미노에틸벤조산, 4-다이메틸아미노벤조산 에틸, 4-다이메틸아미노벤조산(n-뷰톡시)에틸, 4-다이메틸아미노벤조산 아이소아밀, 4-다이메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 2,4-다이에틸싸이오잔톤, 2,4-다이아이소프로필싸이오잔톤 등을 병용해도 된다.The radical photopolymerization initiator may be any that can generate radicals as active species by light irradiation, and known radical photopolymerization initiators can be used without any restrictions. Specific examples include, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl-(2) -Hydroxy-2-propyl)ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-2-morpholino(4-thiomethylphenyl)propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino -1-(4-morpholinophenyl)butanone, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone oligomer, 2-hydroxy-1-{4- Acetophenones such as [4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one; 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)- oxime esters such as 9H-carbazol-3-yl]-, 1-(0-acetyloxime); Benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether; Benzophenone, o-benzoylbenzoic acid methyl, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone , 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-benzoyl-N,N-dimethyl-N-[2-(1-oxo-2-propenyloxy)ethyl]benzenemetanaminium bromide, (4 -benzophenones such as benzoylbenzyl)trimethylammonium chloride; 2-Isopropyl thioxanthone, 4-isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxy thioxanthone, 2- thioxanthone such as (3-dimethylamino-2-hydroxy)-3,4-dimethyl-9H-thioxanthone-9-one meso chloride; 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis(2,4,6- Acylphosphone oxides such as trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; etc. can be mentioned. In addition, as an adjuvant for the radical photopolymerization initiator, triethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2 -Dimethylaminoethylbenzoic acid, ethyl 4-dimethylaminobenzoic acid, (n-butoxy)ethyl 4-dimethylaminobenzoic acid, isoamyl 4-dimethylaminobenzoic acid, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoic acid, 2 , 4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, etc. may be used together.

이상의 라디칼 광중합 개시제 및 조제는, 공지의 방법으로 합성 가능하고, 시판품으로서 입수도 가능하다.The above radical photopolymerization initiators and adjuvants can be synthesized by known methods and are also available as commercial products.

경화성 조성물 중의 중합 개시제의 함유율은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 중합성 화합물 (a1) 100질량부에 대하여, 0.1~100질량부가 바람직하고, 1~50질량부가 보다 바람직하며, 1~10 질량부가 더 바람직하다.The content rate of the polymerization initiator in the curable composition is not particularly limited, but for example, is preferably 0.1 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable compound (a1), and 1 to 10 parts by mass. The mass part is more preferable.

<중합성 화합물 (a1) 이외의 중합성 화합물><Polymerizable compounds other than polymerizable compound (a1)>

본 발명의 경화성 조성물은, 중합성 화합물 (a1)에 더하여, 중합성 화합물 (a1) 이외의 중합성 화합물을 더 함유해도 된다. "중합성 화합물 (a1) 이외의 중합성 화합물"을, "화합물 (b1)"이라고도 부른다.In addition to the polymerizable compound (a1), the curable composition of the present invention may further contain polymerizable compounds other than the polymerizable compound (a1). “Polymerizable compounds other than polymerizable compound (a1)” are also called “compound (b1).”

화합물 (b1)은, 라디칼 중합성기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.Compound (b1) is preferably a compound having a radical polymerizable group.

화합물 (b1)에 있어서의 라디칼 중합성기로서는, 특별히 한정되지 않으며, 일반적으로 알려져 있는 라디칼 중합성기를 이용할 수 있다. 라디칼 중합성기로서는, 중합성 불포화기를 들 수 있으며, 구체적으로는, (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 알릴기 등을 들 수 있고, (메트)아크릴로일기가 바람직하다. 또한, 상기한 각 기는 치환기를 갖고 있어도 된다.The radical polymerizable group in compound (b1) is not particularly limited, and a generally known radical polymerizable group can be used. Examples of the radical polymerizable group include polymerizable unsaturated groups, and specifically, (meth)acryloyl group, vinyl group, and allyl group, and (meth)acryloyl group is preferable. Additionally, each of the above groups may have a substituent.

화합물 (b1)은, 1분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 1분자 중에 3개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다.Compound (b1) is preferably a compound having two or more (meth)acryloyl groups in one molecule, and more preferably is a compound having three or more (meth)acryloyl groups in one molecule.

화합물 (b1)의 분자량은 특별히 한정되지 않으며, 모노머여도 되고, 올리고머여도 되며, 폴리머여도 된다.The molecular weight of compound (b1) is not particularly limited, and may be a monomer, an oligomer, or a polymer.

화합물 (b1)의 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 2000 이하인 것이 바람직하고, 1500 이하인 것이 보다 바람직하며, 1250 이하인 것이 더 바람직하고, 1000 이하인 것이 특히 바람직하다.The molecular weight of compound (b1) is not particularly limited, but is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less, further preferably 1250 or less, and especially preferably 1000 or less.

상기 화합물 (b1)의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다.Specific examples of the compound (b1) are shown below, but the present invention is not limited to these.

1분자 중에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로서는, 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이(메트)아크릴레이트, 다이프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 트라이프로필렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 하이드록시피발산 네오펜틸글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜텐일옥시에틸(메트)아크릴레이트, 다이사이클로펜탄일다이(메트)아크릴레이트 등이 적합하게 예시된다.Compounds having two (meth)acryloyl groups in one molecule include neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, and dipropylene glycol di(meth)acrylate ( Meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol die. Suitable examples include (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, and dicyclopentanyl di(meth)acrylate.

1분자 중에 3개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로서는, 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스터를 들 수 있다. 구체적으로는, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올에테인트라이(메트)아크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 고가교라는 점에서는 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 혹은 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 또는 이들 혼합물이 바람직하다.Examples of compounds having three or more (meth)acryloyl groups in one molecule include esters of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid. Specifically, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylol ethane tri(meth)acrylate, and ditrimethyl. Allpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol hexa(meth)acrylate, etc. However, in terms of high crosslinking, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, or mixtures thereof are preferable.

화합물 (b1)은 1종만 이용해도 되고, 구조가 상이한 2종 이상을 병용해도 된다.Compound (b1) may be used alone, or two or more types with different structures may be used together.

본 발명의 경화성 조성물 중의 화합물 (b1)의 함유율은, 경화성 조성물의 전고형분에 대하여, 0~49질량%인 것이 바람직하고, 0~40질량%인 것이 보다 바람직하며, 0~30질량%인 것이 더 바람직하고, 0~20질량%인 것이 특히 바람직하다.The content of compound (b1) in the curable composition of the present invention is preferably 0 to 49% by mass, more preferably 0 to 40% by mass, and 0 to 30% by mass, based on the total solid content of the curable composition. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 0-20 mass %.

<불소계 화합물 및 실리콘계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 화합물><At least one compound selected from the group consisting of fluorine-based compounds and silicon-based compounds>

본 발명의 경화성 조성물은, 불소계 화합물 및 실리콘계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 화합물(이하, "화합물 (c1)"이라고도 부른다.)을 함유하는 것이 바람직하다.The curable composition of the present invention preferably contains at least one compound (hereinafter also referred to as “compound (c1)”) selected from the group consisting of fluorine-based compounds and silicone-based compounds.

화합물 (c1)은, 중합성 화합물 (a1) 이외의 화합물인 것이 바람직하다. 또, 화합물 (c1)은, 중합성 화합물 (b1)이어도 되고, 중합성 화합물 (b1) 이외의 화합물이어도 된다.Compound (c1) is preferably a compound other than polymerizable compound (a1). In addition, the compound (c1) may be the polymerizable compound (b1) or may be a compound other than the polymerizable compound (b1).

화합물 (c1)은, 레벨링제인 것이 바람직하다.Compound (c1) is preferably a leveling agent.

화합물 (c1)은, 저분자 화합물이어도 되고, 올리고머 또는 폴리머여도 된다.Compound (c1) may be a low molecular weight compound, or may be an oligomer or polymer.

불소계 레벨링제(불소계 화합물)는, 플루오로 지방족기와, 예를 들면 이 레벨링제를 첨가제로서 사용했을 때에, 코팅용, 성형 재료용 등의 각종 조성물에 대한 친화성에 기여하는 친매성기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이며, 이와 같은 화합물은, 일반적으로, 플루오로 지방족기를 갖는 모노머와 친매성기를 갖는 모노머를 공중합시켜 얻을 수 있다.A fluorine-based leveling agent (fluorine-based compound) has a fluoroaliphatic group and a philophilic group in the same molecule that contribute to affinity for various compositions such as coatings and molding materials when this leveling agent is used as an additive, for example. It is a compound, and such a compound can generally be obtained by copolymerizing a monomer having a fluoroaliphatic group and a monomer having an ophilic group.

플루오로 지방족기를 갖는 모노머와 공중합되는, 친매성기를 갖는 모노머의 대표적인 예로서는, 폴리(옥시알킬렌)아크릴레이트, 폴리(옥시알킬렌)메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Representative examples of monomers having an philophilic group that are copolymerized with monomers having a fluoroaliphatic group include poly(oxyalkylene)acrylate, poly(oxyalkylene)methacrylate, and the like.

바람직한 시판의 불소계 레벨링제로서는, 전리 방사선 경화기를 갖지 않는 것으로서 DIC(주)제의 메가팍 시리즈(MCF350-5, F472, F476, F445, F444, F443, F178, F470, F475, F479, F477, F482, F486, TF1025, F478, F178K, F-784-F 등); 네오스(주)제의 프터젠트 시리즈(FTX218, 250, 245M, 209F, 222F, 245F, 208G, 218G, 240G, 206D, 240D 등)를 들 수 있고, 전리 방사선 경화기를 갖는 것으로서 다이킨 고교(주)제의 옵툴 DAC; DIC(주)제의 디펜서 시리즈(TF3001, TF3000, TF3004, TF3028, TF3027, TF3026, TF3025 등), 메가팍 RS 시리즈(RS-71, RS-90, RS-101, RS-102, RS-103, RS-104, RS-105 등)를 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다.Preferred commercially available fluorine-based leveling agents include those that do not have an ionizing radiation hardener and include the Megapak series manufactured by DIC Corporation (MCF350-5, F472, F476, F445, F444, F443, F178, F470, F475, F479, F477, F482). , F486, TF1025, F478, F178K, F-784-F, etc.); Examples include the Aftergent series (FTX218, 250, 245M, 209F, 222F, 245F, 208G, 218G, 240G, 206D, 240D, etc.) manufactured by Neos Co., Ltd., and those having an ionizing radiation hardener manufactured by Daikin Kogyo Co., Ltd. First Optul DAC; DIC Co., Ltd.'s Defensor series (TF3001, TF3000, TF3004, TF3028, TF3027, TF3026, TF3025, etc.), Megapak RS series (RS-71, RS-90, RS-101, RS-102, RS-103, RS-104, RS-105, etc.), but is not limited to these.

또, 일본 공개특허공보 2004-331812호, 일본 공개특허공보 2004-163610호에 기재된 화합물 등을 이용할 수도 있다.Additionally, compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-331812 and Japanese Patent Application Publication No. 2004-163610, etc. can also be used.

실리콘계 레벨링제(실리콘계 화합물)의 바람직한 예로서는, 다이메틸시릴옥시 단위를 반복 단위로서 복수 개 포함하고, 말단 및/또는 측쇄에 치환기를 갖는 폴리머 혹은 올리고머를 들 수 있다. 다이메틸시릴옥시를 반복 단위로서 포함하는 폴리머 혹은 올리고머 중에는 다이메틸시릴옥시 이외의 구조 단위를 포함해도 된다. 치환기는 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수 개 있는 것이 바람직하다. 바람직한 치환기의 예로서는 폴리에터기, 알킬기, 아릴기, 아릴옥시기, 아릴기, 신나모일기, 옥세탄일기, 플루오로알킬기, 폴리옥시알킬렌기 등을 포함하는 기를 들 수 있다.Preferred examples of silicone-based leveling agents (silicon-based compounds) include polymers or oligomers that contain a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units and have substituents at the terminals and/or side chains. The polymer or oligomer containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may also contain structural units other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and it is preferable that there are two or more substituents. Examples of preferable substituents include groups containing a polyether group, an alkyl group, an aryl group, an aryloxy group, an aryl group, a cinnamoyl group, an oxetanyl group, a fluoroalkyl group, a polyoxyalkylene group, etc.

실리콘계 레벨링제의 수평균 분자량에 특별히 제한은 없지만, 10만 이하인 것이 바람직하고, 5만 이하인 것이 보다 바람직하며, 1000~30000인 것이 특히 바람직하고, 1000~20000인 것이 가장 바람직하다.There is no particular limitation on the number average molecular weight of the silicone-based leveling agent, but it is preferably 100,000 or less, more preferably 50,000 or less, particularly preferably 1,000 to 30,000, and most preferably 1,000 to 20,000.

바람직한 실리콘계 레벨링제의 예로서는, 전리 방사선 경화기를 갖지 않는 시판의 실리콘계 레벨링제로서 신에쓰 가가쿠 고교(주)제의 X22-3710, X22-162C, X22-3701E, X22160AS, X22170DX, X224015, X22176DX, X22-176F, X224272, KF8001, X22-2000 등; 치소(주)제의 FM4421, FM0425, FMDA26, FS1265 등; 도레이·다우코닝(주)제의 BY16-750, BY16880, BY16848, SF8427, SF8421, SH3746, SH8400, SF3771, SH3749, SH3748, SH8410 등; 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬사제의 TSF 시리즈(TSF4460, TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4453, TSF4452, TSF4730, TSF4770 등), FGF502, SILWET 시리즈(SILWETL77, SILWETL2780, SILWETL7608, SILWETL7001, SILWETL7002, SILWETL7087, SILWETL7200, SILWETL7210, SILWETL7220, SILWETL7230, SILWETL7500, SILWETL7510, SILWETL7600, SILWETL7602, SILWETL7604, SILWETL7604, SILWETL7605, SILWETL7607, SILWETL7622, SILWETL7644, SILWETL7650, SILWETL7657, SILWETL8500, SILWETL8600, SILWETL8610, SILWETL8620, SILWETL720) 등을 들 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of preferable silicone-based leveling agents include commercially available silicone-based leveling agents that do not have an ionizing radiation hardener, such as X22-3710, X22-162C, X22-3701E, X22160AS, X22170DX, -176F, X224272, KF8001, X22-2000, etc.; FM4421, FM0425, FMDA26, FS1265, etc. manufactured by Chiso Co., Ltd.; BY16-750, BY16880, BY16848, SF8427, SF8421, SH3746, SH8400, SF3771, SH3749, SH3748, SH8410, etc. manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.; Momentive Performance Materials Japan TSF series (TSF4460, TSF4440, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4453, TSF4452, TSF4730, TSF4770, etc.), FGF502, SILWET series (SILWETL77, SILWETL2780, SILWETL76) 08, SILWETL7001, SILWETL7002, SILWETL7087 , SILWETL7200, SILWETL7210, SILWETL7220, SILWETL7230, SILWETL7500, SILWETL7510, SILWETL7600, SILWETL7602, SILWETL7604, SILWETL7604, SILWETL7605, SILWETL7607, SILWETL7622, SILWETL TL7644, SILWETL7650, SILWETL7657, SILWETL8500, SILWETL8600, SILWETL8610, SILWETL8620, SILWETL720), etc., but are limited to these. It doesn't work.

전리 방사선 경화기를 갖는 것으로서, 신에쓰 가가쿠 고교(주)제의 X22-163A, X22-173DX, X22-163C, KF101, X22164A, X24-8201, X22174DX, X22164C, X222426, X222445, X222457, X222459, X22245, X221602, X221603, X22164E, X22164B, X22164C, X22164D, TM0701 등; 치소(주)제의 사일라플레인 시리즈(FM0725, FM0721, FM7725, FM7721, FM7726, FM7727 등); 도레이·다우코닝(주)제의 SF8411, SF8413, BY16-152D, BY16-152, BY16-152C, 8388A 등; 에보닉 데구사 재팬(주)제의 TEGO Rad2010, 2011, 2100, 2200N, 2300, 2500, 2600, 2700 등; 빅케미·재팬(주)제의 BYK3500; 신에쓰 실리콘사제의 KNS5300; 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬사제의 UVHC1105, UVHC8550 등을 들 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.As having an ionizing radiation hardening machine, X22-163A, X22-173DX, X22-163C, KF101, X22164A, X24-8201, X22174DX, 9,X22245 , X221602, X221603, X22164E, X22164B, X22164C, X22164D, TM0701, etc.; Sylaplane series (FM0725, FM0721, FM7725, FM7721, FM7726, FM7727, etc.) manufactured by Chiso Co., Ltd.; SF8411, SF8413, BY16-152D, BY16-152, BY16-152C, 8388A, etc. manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.; TEGO Rad2010, 2011, 2100, 2200N, 2300, 2500, 2600, 2700, etc. manufactured by Evonik Degusa Japan Co., Ltd.; BYK3500 manufactured by Big Chemi Japan Co., Ltd.; KNS5300 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.; Examples include, but are not limited to, UVHC1105 and UVHC8550 manufactured by Momentive, Performance, Materials, and Japan.

또, 후술하는 내찰상층 형성용 조성물이 포함해도 되는 활제(滑劑)로서 기재되어 있는 함불소 화합물도, 화합물 (c1)의 바람직한 예로서 들 수 있다.Additionally, a fluorine-containing compound described as a lubricant that may be included in the composition for forming a scratch-resistant layer described later can also be cited as a preferred example of compound (c1).

본 발명의 경화성 조성물 중의 화합물 (c1)의 함유율은, 경화성 조성물의 전고형분에 대하여, 0.001~5.0질량%인 것이 바람직하고, 0.005~2.0질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.01~1.0질량%인 것이 가장 바람직하다.The content of compound (c1) in the curable composition of the present invention is preferably 0.001 to 5.0% by mass, more preferably 0.005 to 2.0% by mass, and 0.01 to 1.0% by mass, based on the total solid content of the curable composition. Most desirable.

<용매><Solvent>

본 발명의 경화성 조성물은, 용매를 포함하고 있어도 된다.The curable composition of the present invention may contain a solvent.

용매로서는, 유기 용매여도 되고, 비유기 용매(예를 들면, 물)여도 되지만, 용매의 80질량% 이상이 유기 용매인 것이 바람직하며, 용매의 90질량% 이상이 유기 용매인 것이 보다 바람직하다. 용매의 80질량% 이상이 수산기를 갖지 않는 유기 용매인 것이 보다 바람직하고, 용매의 90질량% 이상이 수산기를 갖지 않는 유기 용매인 것이 더 바람직하다.The solvent may be an organic solvent or an inorganic solvent (for example, water), but it is preferable that 80% by mass or more of the solvent is an organic solvent, and more preferably, 90% by mass or more of the solvent is an organic solvent. It is more preferable that 80% by mass or more of the solvent is an organic solvent that does not have a hydroxyl group, and it is more preferable that 90% by mass or more of the solvent is an organic solvent that does not have a hydroxyl group.

유기 용매는, 1종 또는 2종 이상을 임의의 비율로 혼합하여 이용할 수 있다.Organic solvents can be used one type or two or more types mixed in any ratio.

유기 용매의 구체예로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-뷰탄올, i-뷰탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류; 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족류; 프로필렌글라이콜모노메틸에터 등의 글라이콜에터류; 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸 등의 아세트산 에스터류; 다이아세톤알코올 등을 들 수 있다.Specific examples of organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, and i-butanol; Ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; Cellosolves such as ethyl cellosolve; aromatics such as toluene and xylene; Glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; Acetic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; Diacetone alcohol, etc. can be mentioned.

본 발명의 경화성 조성물에 있어서의 용매의 함유율은, 경화성 조성물의 도포 적성을 확보할 수 있는 범위에서 적절히 조정할 수 있다. 예를 들면, 경화성 조성물의 전고형분 100질량부에 대하여, 50~500질량부로 할 수 있고, 바람직하게는 80~200질량부로 할 수 있다.The solvent content in the curable composition of the present invention can be appropriately adjusted within a range that can ensure the applicability of the curable composition. For example, it can be 50 to 500 parts by mass, preferably 80 to 200 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total solid content of the curable composition.

경화성 조성물은, 통상, 액의 형태를 취한다.The curable composition usually takes the form of a liquid.

경화성 조성물의 고형분의 농도는, 통상, 10~90질량% 정도이며, 바람직하게는 20~80질량%, 특히 바람직하게는 40~70질량%이다.The solid content concentration of the curable composition is usually about 10 to 90 mass%, preferably 20 to 80 mass%, and particularly preferably 40 to 70 mass%.

<그 외의 성분><Other ingredients>

본 발명의 경화성 조성물은, 상기 이외의 성분을 함유하고 있어도 되고, 예를 들면, 무기 미립자, 분산제, 방오(防汚)제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등을 함유하고 있어도 된다.The curable composition of the present invention may contain components other than the above, and may contain, for example, inorganic fine particles, dispersants, antifouling agents, antistatic agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, etc.

본 발명의 경화성 조성물은, 이상 설명한 각종 성분을 동시에, 또는 임의의 순서로 순차 혼합함으로써 조제할 수 있다. 조제 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 조제에는 공지의 교반기 등을 이용할 수 있다.The curable composition of the present invention can be prepared by mixing the various components described above simultaneously or sequentially in any order. The preparation method is not particularly limited, and a known stirrer or the like can be used for preparation.

본 발명의 경화성 조성물은, 하기 경화 조건에서 경화시켜, 하기 측정 조건에서 측정한 탄성률이 9.5GPa 이상이며, 파단 신도가 10.0% 이상인 것이 바람직하다.The curable composition of the present invention is preferably cured under the following curing conditions and has an elastic modulus of 9.5 GPa or more and an elongation at break of 10.0% or more as measured under the following measurement conditions.

탄성률은 10.0GPa 이상인 것이 보다 바람직하고, 10.5GPa 이상인 것이 더 바람직하다. 파단 신도는 12.5% 이상인 것이 바람직하고, 15.0% 이상인 것이 더 바람직하다.The elastic modulus is more preferably 10.0 GPa or more, and further preferably 10.5 GPa or more. The elongation at break is preferably 12.5% or more, and more preferably 15.0% or more.

경화 조건: 두께 50μm의 폴리이미드 기재 상에, 경화성 조성물을 건조 후의 두께가 11μm가 되도록 바 도포한 후, 120℃에서 1분간 건조시키고, 80℃ 하, 조도 60mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선으로 경화시켜 경화물을 형성한다.Curing conditions: On a polyimide substrate with a thickness of 50 μm, the curable composition was applied to a bar so that the thickness after drying was 11 μm, then dried at 120 ° C. for 1 minute, at 80 ° C., illuminance 60 mW / cm 2 , irradiation dose 600 mJ / cm 2 It is cured with ultraviolet rays to form a cured product.

측정 조건: 폴리이미드 기재와 경화물의 적층체에 대하여, 미소 경도계를 이용하여 최대 하중 50mN으로 측정한다.Measurement conditions: The laminate of the polyimide base material and the cured product is measured with a maximum load of 50 mN using a micro hardness tester.

상기 경화 조건에서 사용하는 폴리이미드 기재란, 폴리이미드를 포함하는 기재를 가리키고, 폴리이미드 이외의 성분을 포함하고 있어도 된다. 상기 기재는 미소 경도계를 이용하여 최대 하중 50mN으로 측정했을 때의 탄성률(압입 탄성률)의 최댓값의 산술 평균값이, 5~12GPa의 범위이며, 또한 파단 신도의 산술 평균값이 7~30%의 범위이다.The polyimide base material used under the above curing conditions refers to a base material containing polyimide, and may contain components other than polyimide. The arithmetic mean value of the maximum elastic modulus (indentation modulus) when measured at a maximum load of 50 mN using a microhardness tester is in the range of 5 to 12 GPa, and the arithmetic mean value of the elongation at break is in the range of 7 to 30%.

상기 기재의 압입 탄성률 및 파단 신도는 하기 방법으로 측정한다.The indentation modulus and elongation at break of the substrate are measured by the following methods.

(탄성률)(elasticity modulus)

HM2000형 경도계(피셔 인스트루먼츠사제, 다이아몬드제 Knoop 압자)를 이용하여, 하기 조건에서 측정했다.It was measured under the following conditions using an HM2000 type hardness meter (manufactured by Fisher Instruments, Knoop indenter made by Diamond).

최대 하중: 50mNMaximum load: 50mN

하중 인가 시간: 10초Load application time: 10 seconds

크리프: 5초Creep: 5 seconds

하중 제하 시간: 10초Unloading time: 10 seconds

제하중 후 유지 시간: 5초Holding time after unloading: 5 seconds

측정 횟수: 10회Number of measurements: 10

또한, 탄성률은 상기 측정에 있어서의 제하 곡선으로부터 산출했다.Additionally, the elastic modulus was calculated from the unloading curve in the above measurement.

탄성률은 10회 측정의 평균값을 이용했다.The elastic modulus was the average value of 10 measurements.

(파단 신도)(Padan believer)

기재를 길이 120mm, 폭 10mm로 재단하고, 온도 25℃, 상대 습도 60%의 상태로 1시간 정치시킨 후에, 인장 시험기로 100%/분의 속도로 인장하여, 파단이 발생하는 신장률을 조사했다.The substrate was cut to 120 mm in length and 10 mm in width, and left to stand at a temperature of 25°C and a relative humidity of 60% for 1 hour, then stretched at a speed of 100%/min with a tensile tester, and the elongation rate at which fracture occurred was examined.

본 발명의 경화성 조성물은, 상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물의 파장 400~700nm에 있어서의 투과율이, 어느 파장에 있어서도 80% 이상인 것이 바람직하고, 85% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90% 이상인 것이 더 바람직하고, 95% 이상인 것이 특히 바람직하다.The curable composition of the present invention preferably has a transmittance of 80% or more at any wavelength of 400 to 700 nm, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more at any wavelength of 400 to 700 nm. And, it is particularly preferable that it is 95% or more.

상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물에 있어서, 본 발명의 경화성 조성물에 포함되는 (메트)아크릴기의 80몰% 이상이, (메트)아크릴기 이외의 기로 변화되어 있는 것이 바람직하다. "(메트)아크릴기 이외의 기로 변화되어 있다"란, 반응 등에 의하여 (메트)아크릴기의 구조가 변화되어 있는 것을 나타내고, 전형적으로는, (메트)아크릴기가 중합 반응에 의하여 소비되고 있는 것을 나타낸다.In the cured product cured under the above curing conditions, it is preferable that 80 mol% or more of the (meth)acrylic groups contained in the curable composition of the present invention are changed to groups other than (meth)acrylic groups. “Changes to a group other than a (meth)acrylic group” indicates that the structure of the (meth)acrylic group has changed due to a reaction, etc., and typically indicates that the (meth)acrylic group is consumed by a polymerization reaction. .

본 발명의 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시켜 얻어진 폴리이미드 기재와 경화물의 적층체를 이용하여, 폴리이미드 기재를 외측(경화물이 내측)으로 하여, 곡률 반경 1.5mm로 180° 절곡 시험을 1만회 반복하여 행한 경우에 크랙이 발생하지 않는 것이 바람직하고, 10만회 반복하여 행한 경우에 크랙이 발생하지 않는 것이 보다 바람직하며, 100만회 반복하여 행한 경우에 크랙이 발생하지 않는 것이 더 바람직하다.Using the laminate of the polyimide base material and the cured product obtained by curing the curable composition of the present invention under the above curing conditions, a 180° bending test was carried out at a radius of curvature of 1.5 mm with the polyimide base material on the outside (the cured product on the inside). It is preferable that no cracks occur when the process is repeated 10,000 times, more preferably no cracks occur when the process is repeated 100,000 times, and it is more desirable that no cracks occur when the process is repeated 1 million times.

본 발명의 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시켜 얻어진 폴리이미드 기재와 경화물의 적층체를 이용하여, 폴리이미드 기재를 내측(경화물이 외측)으로 하여, 원통형 맨드릴법에 의하여 내굴곡성 시험을 행한 경우에, 직경 6mm의 맨드릴로 크랙이 발생하지 않는 것이 바람직하고, 직경 4mm의 맨드릴로 크랙이 발생하지 않는 것이 보다 바람직하며, 직경 3mm의 맨드릴로 크랙이 발생하지 않는 것이 더 바람직하고, 직경 2mm의 맨드릴로 크랙이 발생하지 않는 것이 특히 바람직하다.Using a laminate of a polyimide base material and a cured product obtained by curing the curable composition of the present invention under the above curing conditions, a bending resistance test was conducted by the cylindrical mandrel method with the polyimide base material on the inside (the cured product on the outside). It is desirable that no cracks occur with a mandrel with a diameter of 6 mm, it is more desirable that no cracks occur with a mandrel with a diameter of 4 mm, and it is more desirable that no cracks occur with a mandrel with a diameter of 3 mm, and it is more desirable that no cracks occur with a mandrel with a diameter of 2 mm. It is particularly desirable that no cracks occur.

<분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율><Content of polymerizable compounds with a molecular weight of 2000 or less>

본 발명의 경화성 조성물의 전고형분 중의 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율은 70질량% 이상이며, 75질량% 이상인 것이 바람직하고, 80질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.The content of the polymerizable compound having a molecular weight of 2000 or less in the total solid content of the curable composition of the present invention is 70% by mass or more, preferably 75% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more.

중합성 화합물이란, 중합성기를 하나 이상 갖는 화합물이다. 중합성 화합물은, 중합성기를 2개 이상 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 중합성기를 3개 이상 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하다. 중합성 화합물은, (메트)아크릴기를 2개 이상 갖는 화합물인 것이 더 바람직하고, (메트)아크릴기를 3개 이상 갖는 화합물인 것이 특히 바람직하다.A polymerizable compound is a compound having one or more polymerizable groups. The polymerizable compound is preferably a compound having two or more polymerizable groups, and is more preferably a compound having three or more polymerizable groups. The polymerizable compound is more preferably a compound having two or more (meth)acrylic groups, and is particularly preferably a compound having three or more (meth)acrylic groups.

"분자량이 2000 이하인 중합성 화합물"에는, 상술한 중합성 화합물 (a1)도 포함된다.“Polymerizable compound with a molecular weight of 2000 or less” also includes the polymerizable compound (a1) described above.

〔하드 코트 필름〕[Hard coat film]

본 발명은, 기재와, 상술한 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름에도 관한 것이다.The present invention also relates to a hard coat film having a base material and a hard coat layer containing a cured product of the curable composition described above.

본 발명의 하드 코트 필름은, 기재 상에 상기 하드 코트층을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the hard coat film of this invention has the said hard coat layer on a base material.

<기재><Description>

본 발명의 하드 코트 필름에 이용하는 기재는, 가시광 영역의 투과율이 70% 이상인 것이 바람직하고, 80% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90% 이상인 것이 더 바람직하다.The base material used for the hard coat film of the present invention preferably has a transmittance in the visible light region of 70% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably 90% or more.

(폴리머)(polymer)

기재는 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다.The substrate preferably contains a polymer.

폴리머로서는, 광학적인 투명성, 기계적 강도, 열안정성 등이 우수한 폴리머가 바람직하다.As the polymer, a polymer having excellent optical transparency, mechanical strength, thermal stability, etc. is preferred.

기재는, 폴리이미드(이미드계 폴리머), 폴리아라미드(아라미드계 폴리머), 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리유레테인, 아크릴 수지, 및 셀룰로스 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다.The base material is at least one selected from the group consisting of polyimide (imide-based polymer), polyaramid (aramid-based polymer), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, polyurethane, acrylic resin, and cellulose resin. It is preferable to include a polymer of

특히, 아마이드계 폴리머(방향족 폴리아마이드) 및 이미드계 폴리머는, JIS(일본 공업 규격) P8115(2001)에 따라 MIT 시험기에 의하여 측정한 파단 절곡 횟수가 크고, 경도도 비교적 높은 점에서, 기재로서 바람직하게 이용할 수 있다. 예를 들면, 일본 특허공보 제5699454호의 실시예 1에 있는 바와 같은 방향족 폴리아마이드, 일본 공표특허공보 2015-508345호, 일본 공표특허공보 2016-521216호, 및 WO2017/014287호에 기재된 폴리이미드를 기재로서 바람직하게 이용할 수 있다.In particular, amide-based polymers (aromatic polyamides) and imide-based polymers are preferable as substrates because they have a high number of breaks and bends measured by an MIT tester according to JIS (Japanese Industrial Standards) P8115 (2001), and their hardness is relatively high. It can be easily used. For example, aromatic polyamide as in Example 1 of Japanese Patent Publication No. 5699454, polyimide as described in Japanese Patent Publication No. 2015-508345, Japanese Patent Publication No. 2016-521216, and WO2017/014287. It can be preferably used as.

기재는, 이미드계 폴리머 및 아라미드계 폴리머로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리머를 함유하는 것이 바람직하다.The base material preferably contains at least one type of polymer selected from imide-based polymers and aramid-based polymers.

또, 기재는, 아크릴계, 유레테인계, 아크릴유레테인계, 에폭시계, 실리콘계 등의 자외선 경화형, 열경화형의 수지의 경화층으로서 형성할 수도 있다.Additionally, the base material can also be formed as a cured layer of ultraviolet curing type or thermosetting type resin such as acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, silicone, etc.

(유연화 소재)(softening material)

기재는, 상기의 폴리머를 더 유연화하는 소재를 함유해도 된다. 유연화 소재란, 파단 절곡 횟수를 향상시키는 화합물을 가리키며, 유연화 소재로서는, 고무질 탄성체, 취성(脆性) 개량제, 가소제, 슬라이드링 폴리머 등을 이용할 수 있다.The base material may contain a material that further softens the polymer. A softening material refers to a compound that improves the number of fractures and bending, and as a softening material, rubbery elastomers, brittleness modifiers, plasticizers, slide ring polymers, etc. can be used.

유연화 소재로서 구체적으로는, 일본 공개특허공보 2016-167043호에 있어서의 단락 번호 [0051]~[0114]에 기재된 유연화 소재를 적합하게 이용할 수 있다.Specifically, the softening material described in paragraph numbers [0051] to [0114] of Japanese Patent Application Publication No. 2016-167043 can be suitably used as the softening material.

유연화 소재는, 폴리머에 단독으로 혼합해도 되고, 복수를 적절히 병용하여 혼합해도 되며, 또, 폴리머와 혼합하지 않고, 유연화 소재만을 단독 또는 복수 병용으로 이용하여 기재로 해도 된다.The softening material may be mixed with the polymer alone or in combination with a plurality of materials as appropriate, or may be used alone or in combination with the softening material as a base material without mixing it with the polymer.

이들 유연화 소재를 혼합하는 양은, 특별히 제한은 없으며, 단독으로 충분한 파단 절곡 횟수를 갖는 폴리머를 단독으로 필름의 기재로 해도 되고, 유연화 소재를 혼합해도 되며, 모두를 유연화 소재(100%)로 하여 충분한 파단 절곡 횟수를 갖게 해도 된다.The amount of mixing these softening materials is not particularly limited. A polymer having a sufficient number of fractures and bending times may be used alone as the film base, or the softening materials may be mixed. It may be possible to have the number of breaks and bends.

(그 외의 첨가제)(Other additives)

기재에는, 용도에 따른 다양한 첨가제(예를 들면, 자외선 흡수제, 매트제, 산화 방지제, 박리 촉진제, 리타데이션(광학 이방성) 조절제, 등)를 첨가할 수 있다. 그들은 고체여도 되고 유상물(油狀物)이어도 된다. 즉, 그 융점 또는 비점에 있어서 특별히 한정되는 것은 아니다. 또 첨가제를 첨가하는 시기는 기재를 제작하는 공정에 있어서 어느 시점에서 첨가해도 되며, 소재 조제 공정에 첨가제를 첨가하여 조제하는 공정을 더하여 행해도 된다. 또한, 각 소재의 첨가량은 기능이 발현되는 한에 있어서 특별히 한정되지 않는다.Various additives (for example, ultraviolet absorbers, matting agents, antioxidants, peeling accelerators, retardation (optical anisotropy) regulators, etc.) depending on the application can be added to the substrate. They may be solid or oily. That is, there is no particular limitation in terms of its melting point or boiling point. Additionally, the additive may be added at any point in the process of manufacturing the base material, or the additive may be added to the material preparation process in addition to the preparation process. Additionally, the amount of each material added is not particularly limited as long as the function is expressed.

그 외의 첨가제로서는, 일본 공개특허공보 2016-167043호에 있어서의 단락 번호 [0117]~[0122]에 기재된 첨가제를 적합하게 이용할 수 있다.As other additives, the additives described in paragraph numbers [0117] to [0122] in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-167043 can be suitably used.

이상의 첨가제는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.The above additives may be used individually, or may be used in combination of two or more types.

(자외선 흡수제)(UV absorbent)

자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조트라이아졸 화합물, 트라이아진 화합물, 벤즈옥사진 화합물을 들 수 있다. 여기에서 벤조트라이아졸 화합물이란, 벤조트라이아졸환을 갖는 화합물이며, 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-111835호 단락 0033에 기재되어 있는 각종 벤조트라이아졸계 자외선 흡수제를 들 수 있다. 트라이아진 화합물이란, 트라이아진환을 갖는 화합물이며, 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-111835호 단락 0033에 기재되어 있는 각종 트라이아진계 자외선 흡수제를 들 수 있다. 벤즈옥사진 화합물로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2014-209162호 단락 0031에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다. 기재 중의 자외선 흡수제의 함유량은, 예를 들면 기재에 포함되는 폴리머 100질량부에 대하여 0.1~10질량부 정도이지만, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또, 자외선 흡수제에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-111835호 단락 0032도 참조할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서는, 내열성이 높고 휘산성이 낮은 자외선 흡수제가 바람직하다. 이러한 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, UVSORB101(후지필름 파인 케미컬즈 주식회사제), TINUVIN 360, TINUVIN 460, TINUVIN 1577(BASF사제), LA-F70, LA-31, LA-46(ADEKA사제) 등을 들 수 있다.Examples of ultraviolet absorbers include benzotriazole compounds, triazine compounds, and benzoxazine compounds. Here, the benzotriazole compound is a compound having a benzotriazole ring, and specific examples include various benzotriazole-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-111835. A triazine compound is a compound having a triazine ring, and specific examples include various triazine-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-111835. As the benzoxazine compound, for example, those described in paragraph 0031 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-209162 can be used. The content of the ultraviolet absorber in the base material is, for example, about 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the polymer contained in the base material, but is not particularly limited. Additionally, regarding the ultraviolet absorber, paragraph 0032 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-111835 can also be referred to. Additionally, in the present invention, an ultraviolet absorber with high heat resistance and low volatilization is preferred. Examples of such ultraviolet absorbers include UVSORB101 (manufactured by Fujifilm Fine Chemicals Co., Ltd.), TINUVIN 360, TINUVIN 460, TINUVIN 1577 (manufactured by BASF Corporation), LA-F70, LA-31, LA-46 (manufactured by ADEKA Corporation), etc. I can hear it.

기재는, 투명성의 관점에서, 기재에 이용하는 유연성 소재 및 각종 첨가제와, 폴리머의 굴절률의 차가 작은 것이 바람직하다.From the viewpoint of transparency, the base material preferably has a small difference in refractive index between the flexible material and various additives used in the base material and the polymer.

(이미드계 폴리머를 포함하는 기재)(Base containing an imide-based polymer)

기재로서, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재를 바람직하게 이용할 수 있다. 본 명세서에 있어서, 이미드계 폴리머란, 식 (PI), 식 (a), 식 (a') 및 식 (b)로 나타나는 반복 구조 단위를 적어도 1종 이상 포함하는 중합체를 의미한다. 그중에서도, 식 (PI)로 나타나는 반복 구조 단위가, 이미드계 폴리머의 주된 구조 단위이면, 필름의 강도 및 투명성의 관점에서 바람직하다. 식 (PI)로 나타나는 반복 구조 단위는, 이미드계 폴리머의 전체 반복 구조 단위에 대하여, 바람직하게는 40몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 50몰% 이상이며, 더 바람직하게는 70몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 90몰% 이상이며, 가장 바람직하게는 98몰% 이상이다.As a substrate, a substrate containing an imide polymer can be preferably used. As used herein, an imide-based polymer refers to a polymer containing at least one type of repeating structural unit represented by formula (PI), formula (a), formula (a'), and formula (b). Among them, it is preferable from the viewpoint of the strength and transparency of the film that the repeating structural unit represented by the formula (PI) is the main structural unit of the imide polymer. The repeating structural unit represented by the formula (PI) is preferably 40 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more, based on the total repeating structural units of the imide polymer. , especially preferably 90 mol% or more, and most preferably 98 mol% or more.

[화학식 11][Formula 11]

식 (PI) 중의 G는 4가의 유기기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타낸다. 식 (a) 중의 G2는 3가의 유기기를 나타내고, A2는 2가의 유기기를 나타낸다. 식 (a') 중의 G3은 4가의 유기기를 나타내고, A3은 2가의 유기기를 나타낸다. 식 (b) 중의 G4 및 A4는, 각각 2가의 유기기를 나타낸다.In formula (PI), G represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group. In formula (a), G 2 represents a trivalent organic group, and A 2 represents a divalent organic group. In formula (a'), G 3 represents a tetravalent organic group, and A 3 represents a divalent organic group. G 4 and A 4 in formula (b) each represent a divalent organic group.

식 (PI) 중, G로 나타나는 4가의 유기기의 유기기(이하, G의 유기기라고 하는 경우가 있다)로서는, 비환식 지방족기, 환식 지방족기 및 방향족기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 들 수 있다. G의 유기기는, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성 및 굴곡성의 관점에서, 4가의 환식 지방족기 또는 4가의 방향족기인 것이 바람직하다. 방향족기로서는, 단환식 방향족기, 축합 다환식 방향족기 및 2 이상의 방향족환을 가지며 그들이 직접 또는 결합기에 의하여 서로 연결된 비축합 다환식 방향족기 등을 들 수 있다. 기재의 투명성 및 착색 억제의 관점에서, G의 유기기는, 환식 지방족기, 불소계 치환기를 갖는 환식 지방족기, 불소계 치환기를 갖는 단환식 방향족기, 불소계 치환기를 갖는 축합 다환식 방향족기 또는 불소계 치환기를 갖는 비축합 다환식 방향족기인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 불소계 치환기란, 불소 원자를 포함하는 기를 의미한다. 불소계 치환기는, 바람직하게는 플루오로기(불소 원자, -F) 및 퍼플루오로알킬기이며, 더 바람직하게는 플루오로기 및 트라이플루오로메틸기이다.In formula (PI), the organic group of the tetravalent organic group represented by G (hereinafter sometimes referred to as the organic group of G) includes a group selected from the group consisting of an acyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group, and an aromatic group. there is. The organic group of G is preferably a tetravalent cyclic aliphatic group or a tetravalent aromatic group from the viewpoint of transparency and flexibility of the substrate containing the imide polymer. Examples of the aromatic group include monocyclic aromatic groups, condensed polycyclic aromatic groups, and non-fused polycyclic aromatic groups that have two or more aromatic rings and are connected to each other directly or through a bonding group. From the viewpoint of transparency of the substrate and suppression of coloring, the organic group of G is a cyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group having a fluorine-based substituent, a monocyclic aromatic group having a fluorine-based substituent, a condensed polycyclic aromatic group having a fluorine-based substituent, or a fluorine-based substituent. It is preferable that it is a non-fused polycyclic aromatic group. In this specification, a fluorine-based substituent means a group containing a fluorine atom. The fluorine-based substituent is preferably a fluoro group (fluorine atom, -F) and a perfluoroalkyl group, and more preferably a fluoro group and a trifluoromethyl group.

보다 구체적으로는, G의 유기기는, 예를 들면, 포화 또는 불포화 사이클로알킬기, 포화 또는 불포화 헤테로사이클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아릴알킬기, 알킬아릴기, 헤테로알킬아릴기, 및, 이들 중 임의의 2개의 기(동일해도 된다)를 가지며 이들이 직접 또는 결합기에 의하여 서로 연결된 기로부터 선택된다. 결합기로서는, -O-, 탄소수 1~10의 알킬렌기, -SO2-, -CO- 또는 -CO-NR-(R은, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~3의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)을 들 수 있다.More specifically, the organic group of G includes, for example, a saturated or unsaturated cycloalkyl group, a saturated or unsaturated heterocycloalkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an arylalkyl group, an alkylaryl group, a heteroalkylaryl group, and, among these, It is selected from groups having any two groups (which may be the same) and which are connected to each other directly or by a linking group. As a linking group, -O-, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, -SO 2 -, -CO- or -CO-NR- (R is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, ethyl group, or propyl group, or a hydrogen atom represents).

G로 나타나는 4가의 유기기의 탄소수는 통상 2~32이며, 바람직하게는 4~15이고, 보다 바람직하게는 5~10이며, 더 바람직하게는 6~8이다. G의 유기기가 환식 지방족기 또는 방향족기인 경우, 이들 기를 구성하는 탄소 원자 중 적어도 하나가 헤테로 원자로 치환되어 있어도 된다. 헤테로 원자로서는, O, N 또는 S를 들 수 있다.The carbon number of the tetravalent organic group represented by G is usually 2 to 32, preferably 4 to 15, more preferably 5 to 10, and still more preferably 6 to 8. When the organic group of G is a cyclic aliphatic group or an aromatic group, at least one of the carbon atoms constituting these groups may be substituted with a hetero atom. Hetero atoms include O, N, or S.

G의 구체예로서는, 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25) 또는 식 (26)으로 나타나는 기를 들 수 있다. 식 중의 *는 결합손을 나타낸다. 식 (26) 중의 Z는, 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은 탄소수 6~20의 아릴기를 나타내고, 예를 들면, 페닐렌기여도 된다. 이들 기의 수소 원자 중 적어도 하나가, 불소계 치환기로 치환되어 있어도 된다.Specific examples of G include groups represented by the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), or formula (26). * in the formula represents a bond. Z in formula (26) is a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and may be, for example, a phenylene group. At least one of the hydrogen atoms of these groups may be substituted with a fluorine-based substituent.

[화학식 12][Formula 12]

식 (PI) 중, A로 나타나는 2가의 유기기의 유기기(이하, A의 유기기라고 하는 경우가 있다)로서는, 비환식 지방족기, 환식 지방족기 및 방향족기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 들 수 있다. A로 나타나는 2가의 유기기는, 2가의 환식 지방족기 및 2가의 방향족기로부터 선택되는 것이 바람직하다. 방향족기로서는, 단환식 방향족기, 축합 다환식 방향족기, 및 2 이상의 방향족환을 가지며 그들이 직접 또는 결합기에 의하여 서로 연결된 비축합 다환식 방향족기를 들 수 있다. 기재의 투명성, 및 착색 억제의 관점에서, A의 유기기에는, 불소계 치환기가 도입되어 있는 것이 바람직하다.In formula (PI), the organic group of the divalent organic group represented by A (hereinafter sometimes referred to as the organic group of A) includes a group selected from the group consisting of an acyclic aliphatic group, a cyclic aliphatic group, and an aromatic group. there is. The divalent organic group represented by A is preferably selected from a divalent cyclic aliphatic group and a divalent aromatic group. Examples of the aromatic group include monocyclic aromatic groups, condensed polycyclic aromatic groups, and non-fused polycyclic aromatic groups having two or more aromatic rings connected directly or through a bonding group. From the viewpoint of transparency of the substrate and suppression of coloring, it is preferable that a fluorine-based substituent is introduced into the organic group of A.

보다 구체적으로는, A의 유기기는, 예를 들면, 포화 또는 불포화 사이클로알킬기, 포화 또는 불포화 헤테로사이클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아릴알킬기, 알킬아릴기, 헤테로알킬아릴기, 및 이들 중 임의의 2개의 기(동일해도 된다)를 가지며 그들이 직접 또는 결합기에 의하여 서로 연결된 기로부터 선택된다. 헤테로 원자로서는, O, N 또는 S를 들 수 있으며, 결합기로서는, -O-, 탄소수 1~10의 알킬렌기, -SO2-, -CO- 또는 -CO-NR-(R은 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~3의 알킬기 또는 수소 원자를 포함한다)을 들 수 있다.More specifically, the organic group of A includes, for example, a saturated or unsaturated cycloalkyl group, a saturated or unsaturated heterocycloalkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an arylalkyl group, an alkylaryl group, a heteroalkylaryl group, and any of these. It is selected from groups that have two groups (which may be the same) and are connected to each other directly or by a linking group. Examples of the hetero atom include O, N, or S, and examples of the linking group include -O-, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, -SO 2 -, -CO-, or -CO-NR- (R is a methyl group, an ethyl group, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, such as a propyl group, or a hydrogen atom).

A로 나타나는 2가의 유기기의 탄소수는, 통상 2~40이며, 바람직하게는 5~32이고, 보다 바람직하게는 12~28이며, 더 바람직하게는 24~27이다.The carbon number of the divalent organic group represented by A is usually 2 to 40, preferably 5 to 32, more preferably 12 to 28, and still more preferably 24 to 27.

A의 구체예로서는, 이하의 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33) 또는 식 (34)로 나타나는 기를 들 수 있다. 식 중의 *는 결합손을 나타낸다. Z1~Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -CO-NR-(R은 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 탄소수 1~3의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다)을 나타낸다. 하기의 기에 있어서, Z1과 Z2, 및, Z2와 Z3은, 각각, 각 환에 대하여 메타위 또는 파라위에 있는 것이 바람직하다. 또, Z1과 말단의 단결합, Z2와 말단의 단결합, 및, Z3과 말단의 단결합은, 각각 메타위 또는 파라위에 있는 것이 바람직하다. A의 하나의 예에 있어서, Z1 및 Z3이 -O-이며, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2- 또는 -SO2-이다. 이들 기의 수소 원자의 1개 또는 2개 이상이, 불소계 치환기로 치환되어 있어도 된다.Specific examples of A include groups represented by the following formula (30), formula (31), formula (32), formula (33), or formula (34). * in the formula represents a bond. Z 1 to Z 3 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -CO-NR- (R is a methyl group , an alkyl group with 1 to 3 carbon atoms, such as an ethyl group or a propyl group, or a hydrogen atom). In the following groups, Z 1 and Z 2 and Z 2 and Z 3 are preferably in the meta or para position with respect to each ring, respectively. Moreover, the single bond between Z 1 and the terminal, the single bond between Z 2 and the terminal, and the single bond between Z 3 and the terminal are preferably in the meta or para position, respectively. In one example of A, Z 1 and Z 3 are -O-, and Z 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, or -SO 2 -. One or two or more hydrogen atoms of these groups may be substituted with a fluorine-based substituent.

[화학식 13][Formula 13]

A 및 G 중 적어도 일방을 구성하는 수소 원자 중 적어도 하나의 수소 원자가, 불소계 치환기, 수산기, 설폰기 및 탄소수 1~10의 알킬기 등으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환되어 있어도 된다. 또, A의 유기기 및 G의 유기기가 각각 환식 지방족기 또는 방향족기인 경우에, A 및 G 중 적어도 일방이 불소계 치환기를 갖는 것이 바람직하고, A 및 G의 양방이 불소계 치환기를 갖는 것이 보다 바람직하다.At least one of the hydrogen atoms constituting at least one of A and G may be substituted with at least one functional group selected from the group consisting of a fluorine-based substituent, a hydroxyl group, a sulfone group, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Moreover, when the organic group of A and the organic group of G are each a cyclic aliphatic group or an aromatic group, it is preferable that at least one of A and G has a fluorine-based substituent, and it is more preferable that both A and G have a fluorine-based substituent. .

식 (a) 중의 G2는, 3가의 유기기이다. 이 유기기는, 3가의 기인 점 이외에는, 식 (PI) 중의 G의 유기기와 동일한 기로부터 선택할 수 있다. G2의 예로서는, G의 구체예로서 든 식 (20)~식 (26)으로 나타나는 기의 4개의 결합손 중, 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기를 들 수 있다. 식 (a) 중의 A2는 식 (PI) 중의 A와 동일한 기로부터 선택할 수 있다.G 2 in formula (a) is a trivalent organic group. This organic group can be selected from the same groups as the organic group of G in formula (PI) except that it is a trivalent group. Examples of G 2 include groups in which any one of the four bonding hands of groups represented by formulas (20) to (26) given as specific examples of G is substituted with a hydrogen atom. A 2 in formula (a) can be selected from the same group as A in formula (PI).

식 (a') 중의 G3은, 식 (PI) 중의 G와 동일한 기로부터 선택할 수 있다. 식 (a') 중의 A3은, 식 (PI) 중의 A와 동일한 기로부터 선택할 수 있다.G 3 in formula (a') can be selected from the same group as G in formula (PI). A 3 in formula (a') can be selected from the same group as A in formula (PI).

식 (b) 중의 G4는, 2가의 유기기이다. 이 유기기는, 2가의 기인 점 이외에는, 식 (PI) 중의 G의 유기기와 동일한 기로부터 선택할 수 있다. G4의 예로서는, G의 구체예로서 든 식 (20)~식 (26)으로 나타나는 기의 4개의 결합손 중, 어느 2개가 수소 원자로 치환된 기를 들 수 있다. 식 (b) 중의 A4는, 식 (PI) 중의 A와 동일한 기로부터 선택할 수 있다.G 4 in formula (b) is a divalent organic group. This organic group can be selected from the same groups as the organic group of G in formula (PI) except that it is a divalent group. Examples of G 4 include groups in which any two of the four bonding hands of the groups represented by formulas (20) to (26) given as specific examples of G are substituted with hydrogen atoms. A 4 in formula (b) can be selected from the same group as A in formula (PI).

이미드계 폴리머를 포함하는 기재에 포함되는 이미드계 폴리머는, 다이아민류와, 테트라카복실산 화합물(산클로라이드 화합물 및 테트라카복실산 이무수물 등의 테트라카복실산 화합물 유연체(類緣體)를 포함한다) 또는 트라이카복실산 화합물(산클로라이드 화합물 및 트라이카복실산 무수물 등의 트라이카복실산 화합물 유연체를 포함한다) 중 적어도 1종류를 중축합함으로써 얻어지는 축합형 고분자여도 된다. 또한 다이카복실산 화합물(산클로라이드 화합물 등의 유연체를 포함한다)을 중축합시켜도 된다. 식 (PI) 또는 식 (a')로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 다이아민류 및 테트라카복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (a)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 다이아민류 및 트라이카복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (b)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 다이아민류 및 다이카복실산 화합물로부터 유도된다.The imide-based polymer included in the substrate containing the imide-based polymer includes diamines, tetracarboxylic acid compounds (including tetracarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tetracarboxylic dianhydride) or tricarboxylic acids. It may be a condensation type polymer obtained by polycondensing at least one type of compound (including tricarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tricarboxylic acid anhydrides). Additionally, dicarboxylic acid compounds (including flexible substances such as acid chloride compounds) may be polycondensed. The repeating structural unit represented by formula (PI) or formula (a') is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by formula (a) is usually derived from diamines and tricarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by formula (b) is usually derived from diamines and dicarboxylic acid compounds.

테트라카복실산 화합물로서는, 방향족 테트라카복실산 화합물, 지환식 테트라카복실산 화합물 및 비환식 지방족 테트라카복실산 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카복실산 화합물은, 바람직하게는 테트라카복실산 이무수물이다. 테트라카복실산 이무수물로서는, 방향족 테트라카복실산 이무수물, 지환식 테트라카복실산 이무수물, 비환식 지방족 테트라카복실산 이무수물을 들 수 있다.Examples of tetracarboxylic acid compounds include aromatic tetracarboxylic acid compounds, alicyclic tetracarboxylic acid compounds, and acyclic aliphatic tetracarboxylic acid compounds. These may be used in combination of two or more types. The tetracarboxylic acid compound is preferably tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydride include aromatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

이미드계 폴리머의 용매에 대한 용해성, 및 기재를 형성한 경우의 투명성 및 굴곡성의 관점에서, 테트라카복실산 화합물은, 지환식 테트라카복실 화합물 또는 방향족 테트라카복실산 화합물 등인 것이 바람직하다. 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성 및 착색 억제의 관점에서, 테트라카복실산 화합물은, 불소계 치환기를 갖는 지환식 테트라카복실산 화합물 및 불소계 치환기를 갖는 방향족 테트라카복실산 화합물로부터 선택되는 것이 바람직하고, 불소계 치환기를 갖는 지환식 테트라카복실산 화합물인 것이 더 바람직하다.From the viewpoint of the solubility of the imide polymer in a solvent and transparency and flexibility when forming a substrate, the tetracarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tetracarboxylic compound or an aromatic tetracarboxylic acid compound. From the viewpoint of transparency and coloring suppression of the substrate containing the imide polymer, the tetracarboxylic acid compound is preferably selected from alicyclic tetracarboxylic acid compounds having a fluorine-based substituent and aromatic tetracarboxylic acid compounds having a fluorine-based substituent. It is more preferable that it is an alicyclic tetracarboxylic acid compound.

트라이카복실산 화합물로서는, 방향족 트라이카복실산, 지환식 트라이카복실산, 비환식 지방족 트라이카복실산 및 그들 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있다. 트라이카복실산 화합물은, 바람직하게는 방향족 트라이카복실산, 지환식 트라이카복실산, 비환식 지방족 트라이카복실산 및 그들 유연의 산클로라이드 화합물로부터 선택된다. 트라이카복실산 화합물은, 2종 이상을 병용해도 된다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acid, alicyclic tricarboxylic acid, acyclic aliphatic tricarboxylic acid, and their related acid chloride compounds and acid anhydrides. The tricarboxylic acid compound is preferably selected from aromatic tricarboxylic acid, alicyclic tricarboxylic acid, acyclic aliphatic tricarboxylic acid, and acid chloride compounds thereof. Two or more types of tricarboxylic acid compounds may be used together.

이미드계 폴리머의 용매에 대한 용해성, 및 이미드계 폴리머를 포함하는 기재를 형성한 경우의 투명성 및 굴곡성의 관점에서, 트라이카복실산 화합물은, 지환식 트라이카복실산 화합물 또는 방향족 트라이카복실산 화합물인 것이 바람직하다. 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성 및 착색 억제의 관점에서, 트라이카복실산 화합물은, 불소계 치환기를 갖는 지환식 트라이카복실산 화합물 또는 불소계 치환기를 갖는 방향족 트라이카복실산 화합물인 것이 보다 바람직하다.From the viewpoint of the solubility of the imide-based polymer in a solvent and the transparency and flexibility when forming a substrate containing the imide-based polymer, the tricarboxylic acid compound is preferably an alicyclic tricarboxylic acid compound or an aromatic tricarboxylic acid compound. From the viewpoint of transparency and coloring suppression of the substrate containing the imide polymer, the tricarboxylic acid compound is more preferably an alicyclic tricarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent or an aromatic tricarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

다이카복실산 화합물로서는, 방향족 다이카복실산, 지환식 다이카복실산, 비환식 지방족 다이카복실산 및 그들 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있다. 다이카복실산 화합물은, 바람직하게는 방향족 다이카복실산, 지환식 다이카복실산, 비환식 지방족 다이카복실산 및 그들 유연의 산클로라이드 화합물로부터 선택된다. 다이카복실산 화합물은, 2종 이상 병용해도 된다.Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid, acyclic aliphatic dicarboxylic acid, and their related acid chloride compounds and acid anhydrides. The dicarboxylic acid compound is preferably selected from aromatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid, acyclic aliphatic dicarboxylic acid, and acid chloride compounds thereof. Two or more types of dicarboxylic acid compounds may be used in combination.

이미드계 폴리머의 용매에 대한 용해성, 및 이미드계 폴리머를 포함하는 기재를 형성한 경우의 투명성 및 굴곡성의 관점에서, 다이카복실산 화합물은, 지환식 다이카복실산 화합물 또는 방향족 다이카복실산 화합물인 것이 바람직하다. 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성 및 착색 억제의 관점에서, 다이카복실산 화합물은, 불소계 치환기를 갖는 지환식 다이카복실산 화합물 또는 불소계 치환기를 갖는 방향족 다이카복실산 화합물인 것이 더 바람직하다.From the viewpoint of the solubility of the imide-based polymer in a solvent and the transparency and flexibility when forming a substrate containing the imide-based polymer, the dicarboxylic acid compound is preferably an alicyclic dicarboxylic acid compound or an aromatic dicarboxylic acid compound. From the viewpoint of transparency and coloring suppression of the substrate containing the imide polymer, the dicarboxylic acid compound is more preferably an alicyclic dicarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent or an aromatic dicarboxylic acid compound having a fluorine-based substituent.

다이아민류로서는, 방향족 다이아민, 지환식 다이아민 및 지방족 다이아민을 들 수 있으며, 이들은 2종 이상 병용해도 된다. 이미드계 폴리머의 용매에 대한 용해성, 및 이미드계 폴리머를 포함하는 기재를 형성한 경우의 투명성 및 굴곡성의 관점에서, 다이아민류는, 지환식 다이아민 및 불소계 치환기를 갖는 방향족 다이아민으로부터 선택되는 것이 바람직하다.Examples of diamines include aromatic diamine, alicyclic diamine, and aliphatic diamine, and two or more types of these may be used in combination. From the viewpoint of the solubility of the imide-based polymer in a solvent and the transparency and flexibility when forming a substrate containing the imide-based polymer, the diamines are preferably selected from alicyclic diamines and aromatic diamines having a fluorine-based substituent. do.

이와 같은 이미드계 폴리머를 사용하면, 특히 우수한 굴곡성을 갖고, 높은 광투과율(예를 들면, 550nm의 광에 대하여 85% 이상, 바람직하게는 88% 이상), 낮은 황색도(YI값, 5 이하, 바람직하게는 3 이하), 및 낮은 헤이즈(1.5% 이하, 바람직하게는 1.0% 이하)를 갖는 기재가 얻어지기 쉽다.When such an imide-based polymer is used, it has particularly excellent flexibility, high light transmittance (e.g., 85% or more for 550 nm light, preferably 88% or more), and low yellowness (YI value, 5 or less, Preferably 3 or less), and a low haze (1.5% or less, preferably 1.0% or less) is easy to obtain.

이미드계 폴리머는, 상이한 복수의 종류의 상기의 반복 구조 단위를 포함하는 공중합체여도 된다. 폴리이미드계 고분자의 중량 평균 분자량은, 통상 10,000~500,000이다. 이미드계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는, 50,000~500,000이고, 더 바람직하게는 70,000~400,000이다. 중량 평균 분자량은, 젤 침투 크로마토그래피(Gel Permeation Chromatography; GPC)로 측정한 표준 폴리스타이렌 환산 분자량이다. 이미드계 폴리머의 중량 평균 분자량이 크면 높은 굴곡성이 얻어지기 쉬운 경향이 있지만, 이미드계 폴리머의 중량 평균 분자량이 과도하게 크면, 바니시의 점도가 높아져, 가공성이 저하되는 경향이 있다.The imide-based polymer may be a copolymer containing a plurality of different types of the above repeating structural units. The weight average molecular weight of polyimide-based polymers is usually 10,000 to 500,000. The weight average molecular weight of the imide polymer is preferably 50,000 to 500,000, and more preferably 70,000 to 400,000. The weight average molecular weight is the standard polystyrene equivalent molecular weight measured by Gel Permeation Chromatography (GPC). If the weight average molecular weight of the imide polymer is large, high flexibility tends to be easily obtained. However, if the weight average molecular weight of the imide polymer is excessively large, the viscosity of the varnish increases and processability tends to decrease.

이미드계 폴리머는, 상술한 불소계 치환기 등에 의하여 도입할 수 있는 불소 원자 등의 할로젠 원자를 포함하고 있어도 된다. 폴리이미드계 고분자가 할로젠 원자를 포함함으로써, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 탄성률을 향상시키고 또한 황색도를 저감시킬 수 있다. 이로써, 하드 코트 필름에 발생하는 흠집 및 주름 등이 억제되고, 또한, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성을 향상시킬 수 있다. 할로젠 원자로서 바람직하게는, 불소 원자이다. 폴리이미드계 고분자에 있어서의 할로젠 원자의 함유량은, 폴리이미드계 고분자의 질량을 기준으로 하여, 1~40질량%인 것이 바람직하고, 1~30질량%인 것이 보다 바람직하다.The imide-based polymer may contain a halogen atom such as a fluorine atom that can be introduced by the fluorine-based substituent described above. When the polyimide-based polymer contains a halogen atom, the elastic modulus of the substrate containing the imide-based polymer can be improved and the yellowness can be reduced. As a result, scratches and wrinkles occurring in the hard coat film can be suppressed, and the transparency of the substrate containing the imide polymer can be improved. The halogen atom is preferably a fluorine atom. The content of halogen atoms in the polyimide polymer is preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 30% by mass, based on the mass of the polyimide polymer.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재는, 1종 또는 2종 이상의 자외선 흡수제를 함유하고 있어도 된다. 자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것에서, 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400nm 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 이미드계 폴리머와 적절히 조합할 수 있는 자외선 흡수제는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트라이아졸계 화합물 및 트라이아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다.The substrate containing an imide polymer may contain one or two or more types of ultraviolet absorbers. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light with a wavelength of 400 nm or less. An ultraviolet absorber that can be appropriately combined with an imide-based polymer includes, for example, at least one compound selected from the group consisting of benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, benzotriazole-based compounds, and triazine-based compounds. I can hear it.

본 명세서에 있어서, "계 화합물"이란, "계 화합물"이 붙여지는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, "벤조페논계 화합물"이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합되어 있는 치환기를 갖는 화합물을 가리킨다.In this specification, “based compound” refers to a derivative of the compound to which “based compound” is given. For example, the term “benzophenone-based compound” refers to a compound having benzophenone as the parent skeleton and a substituent bonded to the benzophenone.

자외선 흡수제의 함유량은, 기재의 전체 질량에 대하여, 통상 1질량% 이상이며, 바람직하게는 2질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 3질량% 이상이며, 통상 10질량% 이하이고, 바람직하게는 8질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 6질량% 이하이다. 자외선 흡수제가 이들 양으로 포함됨으로써, 기재의 내후성을 높일 수 있다.The content of the ultraviolet absorber is usually 1 mass% or more, preferably 2 mass% or more, more preferably 3 mass% or more, usually 10 mass% or less, and preferably 8 mass% or more, based on the total mass of the substrate. It is % by mass or less, more preferably 6% by mass or less. By including the ultraviolet absorber in these amounts, the weather resistance of the substrate can be improved.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재는, 무기 입자 등의 무기 재료를 더 함유하고 있어도 된다. 무기 재료는, 규소 원자를 포함하는 규소 재료가 바람직하다. 이미드계 폴리머를 포함하는 기재가 규소 재료 등의 무기 재료를 함유함으로써, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 인장 탄성률을 용이하게 4.0GPa 이상으로 할 수 있다. 단, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 인장 탄성률을 제어하는 방법은, 무기 재료의 배합에 한정되지 않는다.The substrate containing an imide-based polymer may further contain inorganic materials such as inorganic particles. The inorganic material is preferably a silicon material containing silicon atoms. When the base material containing an imide-based polymer contains an inorganic material such as a silicon material, the tensile modulus of elasticity of the base material containing the imide-based polymer can be easily set to 4.0 GPa or more. However, the method of controlling the tensile modulus of elasticity of a substrate containing an imide polymer is not limited to mixing of inorganic materials.

규소 원자를 포함하는 규소 재료로서는, 실리카 입자, 오쏘 규산 테트라에틸(TEOS) 등의 4급 알콕시실레인, 실세스퀴옥세인 유도체 등의 규소 화합물을 들 수 있다. 이들 규소 재료 중에서도, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성 및 굴곡성의 관점에서, 실리카 입자가 바람직하다.Examples of silicon materials containing silicon atoms include silica particles, quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate (TEOS), and silicon compounds such as silsesquioxane derivatives. Among these silicon materials, silica particles are preferable from the viewpoint of transparency and flexibility of the substrate containing the imide polymer.

실리카 입자의 평균 1차 입자경은, 통상, 100nm 이하이다. 실리카 입자의 평균 1차 입자경이 100nm 이하이면 투명성이 향상되는 경향이 있다.The average primary particle diameter of silica particles is usually 100 nm or less. When the average primary particle diameter of the silica particles is 100 nm or less, transparency tends to improve.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재 중의 실리카 입자의 평균 1차 입자경은, 투과형 전자 현미경(TEM)에 의한 관찰로 구할 수 있다. 실리카 입자의 1차 입자경은, 투과형 전자 현미경(TEM)에 의한 정방향경으로 할 수 있다. 평균 1차 입자경은, TEM 관찰에 의하여 1차 입자경을 10점 측정하고, 그들의 평균값으로서 구할 수 있다. 이미드계 폴리머를 포함하는 기재를 형성하기 전의 실리카 입자의 입자 분포는, 시판 중인 레이저 회절식 입도 분포계에 의하여 구할 수 있다.The average primary particle diameter of silica particles in a substrate containing an imide polymer can be determined by observation using a transmission electron microscope (TEM). The primary particle diameter of the silica particles can be the normal diameter determined by a transmission electron microscope (TEM). The average primary particle diameter can be obtained by measuring 10 primary particle diameters through TEM observation and finding their average value. The particle distribution of the silica particles before forming the substrate containing the imide polymer can be determined using a commercially available laser diffraction particle size distribution meter.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재에 있어서, 이미드계 폴리머와 무기 재료의 배합비는, 양자의 합계를 10으로 하여, 질량비로, 1: 9~10: 0인 것이 바람직하고, 3: 7~10: 0인 것이 보다 바람직하며, 3: 7~8: 2인 것이 더 바람직하고, 3: 7~7: 3인 것이 보다 더 바람직하다. 이미드계 폴리머 및 무기 재료의 합계 질량에 대한 무기 재료의 비율은, 통상 20질량% 이상이며, 바람직하게는 30질량% 이상이고, 통상 90질량% 이하이며, 바람직하게는 70질량% 이하이다. 이미드계 폴리머와 무기 재료(규소 재료)의 배합비가 상기의 범위 내이면, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 투명성 및 기계적 강도가 향상되는 경향이 있다. 또, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 인장 탄성률을 용이하게 4.0GPa 이상으로 할 수 있다.In a substrate containing an imide-based polymer, the mixing ratio of the imide-based polymer and the inorganic material is preferably 1:9 to 10:0 in mass ratio, with the sum of both being 10, and 3:7 to 10:0. It is more preferable that it is 3:7-8:2, and it is even more preferable that it is 3:7-7:3. The ratio of the inorganic material to the total mass of the imide polymer and the inorganic material is usually 20% by mass or more, preferably 30% by mass or more, usually 90% by mass or less, and preferably 70% by mass or less. If the mixing ratio of the imide polymer and the inorganic material (silicon material) is within the above range, the transparency and mechanical strength of the substrate containing the imide polymer tend to improve. Additionally, the tensile elastic modulus of the substrate containing the imide polymer can be easily set to 4.0 GPa or more.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재는, 투명성 및 굴곡성을 현저하게 저해하지 않는 범위에서, 이미드계 폴리머 및 무기 재료 이외의 성분을 더 함유하고 있어도 된다. 이미드계 폴리머 및 무기 재료 이외의 성분으로서는, 예를 들면, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, 활제, 증점제 및 레벨링제를 들 수 있다. 이미드계 폴리머 및 무기 재료 이외의 성분의 비율은, 기재의 질량에 대하여, 0% 초과 20질량% 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 0% 초과 10질량% 이하이다.The substrate containing the imide polymer may further contain components other than the imide polymer and the inorganic material, as long as transparency and flexibility are not significantly impaired. Components other than imide polymers and inorganic materials include, for example, antioxidants, mold release agents, stabilizers, colorants such as bluing agents, flame retardants, lubricants, thickeners, and leveling agents. The proportion of components other than the imide polymer and the inorganic material is preferably more than 0% and 20% by mass or less, more preferably more than 0% and 10% by mass or less, relative to the mass of the base material.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재가 이미드계 폴리머 및 규소 재료를 함유할 때, 적어도 일방의 면에 있어서의, 질소 원자에 대한 규소 원자의 원자수 비인 Si/N이 8 이상인 것이 바람직하다. 이 원자수 비 Si/N은, X선 광전자 분광(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)에 의하여, 이미드계 폴리머를 포함하는 기재의 조성을 평가하고, 이것에 의하여 얻어진 규소 원자의 존재량과 질소 원자의 존재량으로부터 산출되는 값이다.When the substrate containing an imide polymer contains an imide polymer and a silicon material, it is preferable that Si/N, which is the atomic ratio of silicon atoms to nitrogen atoms on at least one side, is 8 or more. This atomic ratio Si/N is determined by evaluating the composition of the base material containing an imide polymer by It is a value calculated from the amount of abundance.

이미드계 폴리머를 포함하는 기재 중 적어도 일방의 면에 있어서의 Si/N이 8 이상임으로써, 하드 코트층과의 충분한 밀착성이 얻어진다. 밀착성의 관점에서, Si/N은, 9 이상인 것이 보다 바람직하며, 10 이상인 것이 더 바람직하고, 50 이하인 것이 바람직하며, 40 이하인 것이 보다 바람직하다.When Si/N on at least one side of the substrate containing the imide polymer is 8 or more, sufficient adhesion to the hard coat layer is obtained. From the viewpoint of adhesion, Si/N is more preferably 9 or more, more preferably 10 or more, preferably 50 or less, and more preferably 40 or less.

(기재의 두께)(Thickness of substrate)

기재는 필름상인 것이 바람직하다.The substrate is preferably in the form of a film.

기재의 두께는, 100μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 80μm 이하인 것이 더 바람직하고, 50μm 이하가 가장 바람직하다. 기재의 두께가 얇아지면, 절곡 시의 표면과 이면의 곡률차가 작아지고, 크랙 등이 발생하기 어려워져, 복수 회의 절곡에서도, 기재의 파단이 발생하지 않게 된다. 한편, 기재의 취급의 용이성의 관점에서 기재의 두께는 3μm 이상인 것이 바람직하고, 5μm 이상인 것이 보다 바람직하며, 15μm 이상이 가장 바람직하다.The thickness of the base material is more preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and most preferably 50 μm or less. As the thickness of the substrate becomes thinner, the difference in curvature between the front and back surfaces during bending becomes smaller, cracks, etc. are less likely to occur, and fracture of the substrate does not occur even when the substrate is bent multiple times. On the other hand, from the viewpoint of ease of handling of the substrate, the thickness of the substrate is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, and most preferably 15 μm or more.

(기재의 제작 방법)(Method of producing base material)

기재는, 열가소성의 폴리머를 열용융하여 제막해도 되고, 폴리머를 균일하게 용해한 용액으로부터 용액 제막(솔벤트 캐스트법)에 의하여 제막해도 된다. 열용융 제막의 경우는, 상술한 유연화 소재 및 다양한 첨가제를, 열용융 시에 더할 수 있다. 한편, 기재를 용액 제막법으로 제작하는 경우는, 폴리머 용액(이하, 도프라고도 한다)에는, 각 조제 공정에 있어서 상술한 유연화 소재 및 다양한 첨가제를 더할 수 있다. 또 그 첨가하는 시기는 도프 제작 공정에 있어서 언제든지 첨가해도 되지만, 도프 조제 공정의 마지막 조제 공정에 첨가제를 첨가하여 조제하는 공정을 더하여 행해도 된다.The base material may be formed into a film by heat melting a thermoplastic polymer, or may be formed into a film by solution film formation (solvent casting method) from a solution in which the polymer is uniformly dissolved. In the case of heat melt film forming, the above-mentioned softening material and various additives can be added during heat melt. On the other hand, when producing a base material by a solution film forming method, the above-mentioned softening material and various additives can be added to the polymer solution (hereinafter also referred to as dope) in each preparation process. Moreover, the addition may be performed at any time in the dope preparation process, but the process of adding and preparing the additive may be added to the last preparation process of the dope preparation process.

도막의 건조, 및/또는 베이킹을 위하여, 도막을 가열해도 된다. 도막의 가열 온도는, 통상 50~350℃이다. 도막의 가열은, 불활성 분위기하 또는 감압하에서 행해도 된다. 도막을 가열함으로써 용매를 증발시켜, 제거할 수 있다. 기재는, 도막을 50~150℃에서 건조하는 공정과, 건조 후의 도막을 180~350℃에서 베이킹하는 공정을 포함하는 방법에 의하여, 형성되어도 된다.To dry and/or bake the coating film, the coating film may be heated. The heating temperature of the coating film is usually 50 to 350°C. Heating of the coating film may be performed under an inert atmosphere or under reduced pressure. By heating the coating film, the solvent can be evaporated and removed. The base material may be formed by a method including a step of drying the coating film at 50 to 150°C and a step of baking the dried coating film at 180 to 350°C.

기재의 적어도 일방의 면에는, 표면 처리를 실시해도 된다.Surface treatment may be performed on at least one side of the substrate.

<하드 코트층><Hard coat layer>

본 발명의 하드 코트 필름은 상술한 본 발명의 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는다.The hard coat film of the present invention has a hard coat layer containing a cured product of the curable composition of the present invention described above.

하드 코트층은, 기재의 적어도 일방의 면 상에 형성되어 있는 것이 바람직하다.The hard coat layer is preferably formed on at least one side of the substrate.

본 발명의 하드 코트 필름이 후술하는 내찰상층을 갖는 경우는, 적어도 1층의 하드 코트층을, 기재와 내찰상층의 사이에 갖는 것이 바람직하다.When the hard coat film of the present invention has a scratch-resistant layer described later, it is preferable to have at least one hard coat layer between the base material and the scratch-resistant layer.

(경화성 조성물의 경화물)(Cured product of curable composition)

본 발명의 하드 코트 필름의 하드 코트층은, 중합성 화합물 (a1)을 포함하는 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 것이다.The hard coat layer of the hard coat film of the present invention contains a cured product of the curable composition containing the polymerizable compound (a1).

경화성 조성물의 경화물은, 적어도, 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴기가 중합 반응에 의하여 결합하여 이루어지는 경화물을 포함하는 것이 바람직하다.The cured product of the curable composition preferably contains at least a cured product formed by bonding the (meth)acrylic groups of the polymerizable compound (a1) through a polymerization reaction.

본 발명의 하드 코트 필름의 하드 코트층에 있어서의, 상기 경화물의 함유율은, 20~100질량%인 것이 바람직하고, 30~100질량%인 것이 보다 바람직하며, 40~100질량%인 것이 더 바람직하고, 50~100질량%인 것이 특히 바람직하다.The content of the cured product in the hard coat layer of the hard coat film of the present invention is preferably 20 to 100 mass%, more preferably 30 to 100 mass%, and still more preferably 40 to 100 mass%. And, it is particularly preferable that it is 50 to 100% by mass.

(하드 코트층의 막두께)(Film thickness of hard coat layer)

하드 코트층의 막두께는 특별히 한정되지 않지만, 0.5~50μm인 것이 바람직하고, 1~40μm인 것이 보다 바람직하며, 2~30μm인 것이 더 바람직하다.The film thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 50 μm, more preferably 1 to 40 μm, and still more preferably 2 to 30 μm.

하드 코트층의 막두께는, 하드 코트 필름의 단면을 광학 현미경으로 관찰하여 산출한다. 단면 시료는, 단면 절삭 장치 울트라 마이크로톰을 이용한 마이크로톰법이나, 집속(集束) 이온빔(FIB) 장치를 이용한 단면 가공법 등에 의하여 작성할 수 있다.The film thickness of the hard coat layer is calculated by observing a cross section of the hard coat film with an optical microscope. A cross-sectional sample can be created by a microtome method using a cross-section cutting device ultra microtome or a cross-section processing method using a focused ion beam (FIB) device.

본 발명의 하드 코트 필름의 파장 450~700nm에 있어서의 투과율은, 어느 파장에 있어서도 80% 이상인 것이 바람직하고, 85% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90% 이상인 것이 더 바람직하고, 95% 이상인 것이 특히 바람직하다.The transmittance of the hard coat film of the present invention at a wavelength of 450 to 700 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and especially preferably 95% or more at any wavelength. do.

<내찰상층><Scratch-resistant layer>

본 발명의 하드 코트 필름은 내찰상층을 더 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the hard coat film of the present invention further has a scratch-resistant layer.

본 발명의 하드 코트 필름이 내찰상층을 갖는 경우, 적어도 1층의 내찰상층을, 하드 코트층의 기재와 반대 측의 표면 상에 갖는 것이 바람직하다.When the hard coat film of the present invention has a scratch-resistant layer, it is preferable to have at least one layer of the scratch-resistant layer on the surface opposite to the base material of the hard coat layer.

내찰상층은, 적어도 1종의 중합성 화합물을 포함하는 내찰상층 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 것이 바람직하고, 상기 중합성 화합물로서는, 상술한 화합물 (b1)이 바람직하다.The scratch-resistant layer preferably contains a cured product of a composition for forming a scratch-resistant layer containing at least one polymerizable compound, and the above-mentioned compound (b1) is preferable as the polymerizable compound.

내찰상층 형성용 조성물 중의 중합성 화합물의 함유율은, 내찰상층 형성용 조성물 중의 전고형분에 대하여, 80질량% 이상인 것이 바람직하고, 85질량% 이상이 보다 바람직하며, 90질량% 이상이 더 바람직하다.The content of the polymerizable compound in the composition for forming a scratch-resistant layer is preferably 80% by mass or more, more preferably 85% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more, based on the total solid content in the composition for forming a scratch-resistant layer.

내찰상층 형성용 조성물은, 적어도 1종의 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.The composition for forming a scratch-resistant layer preferably contains at least one type of polymerization initiator.

중합 개시제로서는, 상술한 본 발명의 경화성 조성물이 포함하고 있어도 되는 중합 개시제와 동일하다.The polymerization initiator is the same as the polymerization initiator that may be contained in the curable composition of the present invention described above.

내찰상층 형성용 조성물 중의 중합 개시제의 함유율은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 0.1~200질량부가 바람직하고, 1~50질량부가 보다 바람직하다.The content of the polymerization initiator in the composition for forming a scratch-resistant layer is not particularly limited, but for example, it is preferably 0.1 to 200 parts by mass, and more preferably 1 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable compound.

(용매)(menstruum)

내찰상층 형성용 조성물은, 용매를 포함하고 있어도 된다.The composition for forming a scratch-resistant layer may contain a solvent.

용매로서는, 상술한 본 발명의 경화성 조성물이 포함하고 있어도 되는 용매와 동일하다.The solvent is the same as the solvent that the curable composition of the present invention described above may contain.

내찰상층 형성용 조성물에 있어서의 용매의 함유율은, 내찰상층 형성용 조성물의 도포 적성을 확보할 수 있는 범위에서 적절히 조정할 수 있다. 예를 들면, 내찰상층 형성용 조성물의 전고형분 100질량부에 대하여, 50~500질량부로 할 수 있으며, 바람직하게는 80~200질량부로 할 수 있다.The solvent content in the composition for forming a scratch-resistant layer can be appropriately adjusted within a range that can ensure the application suitability of the composition for forming a scratch-resistant layer. For example, it can be 50 to 500 parts by mass, preferably 80 to 200 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total solid content of the composition for forming a scratch-resistant layer.

내찰상층 형성용 조성물은, 통상, 액의 형태를 취한다.The composition for forming a scratch-resistant layer usually takes the form of a liquid.

내찰상층 형성용 조성물의 고형분의 농도는, 통상, 10~90질량% 정도이며, 바람직하게는 20~80질량%, 특히 바람직하게는 40~70질량% 정도이다.The solid content concentration of the composition for forming a scratch-resistant layer is usually about 10 to 90% by mass, preferably about 20 to 80% by mass, and particularly preferably about 40 to 70% by mass.

(그 외 첨가제)(Other additives)

내찰상층 형성용 조성물은, 상기 이외의 성분을 함유하고 있어도 되고, 예를 들면, 무기 입자, 레벨링제, 방오제, 대전 방지제, 활제, 용매 등을 함유하고 있어도 된다.The composition for forming a scratch-resistant layer may contain components other than the above, for example, inorganic particles, leveling agent, antifouling agent, antistatic agent, lubricant, solvent, etc.

특히, 활제로서 하기의 함불소 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.In particular, it is preferable to contain the following fluorine-containing compounds as a lubricant.

[함불소 화합물][Fluorinated compound]

함불소 화합물은, 모노머, 올리고머, 폴리머 중 어느 것이어도 된다. 함불소 화합물은, 내찰상층 중에서 중합성 화합물과의 결합 형성 혹은 상용성에 기여하는 치환기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이 치환기는 동일해도 되고 상이해도 되며, 복수 개 있는 것이 바람직하다.The fluorine-containing compound may be any of monomers, oligomers, and polymers. The fluorine-containing compound preferably has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the polymerizable compound in the scratch-resistant layer. These substituents may be the same or different, and it is preferable that there are two or more substituents.

이 치환기는 중합성기가 바람직하고, 라디칼 중합성, 양이온 중합성, 음이온 중합성, 축중합성 및 부가 중합성 중 어느 하나를 나타내는 중합성 반응기이면 되며, 바람직한 치환기의 예로서는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 바이닐기, 알릴기, 신나모일기, 에폭시기, 옥세탄일기, 수산기, 폴리옥시알킬렌기, 카복실기, 아미노기를 들 수 있다. 그중에서도 라디칼 중합성기가 바람직하고, 그중에서도 아크릴로일기, 메타크릴로일기가 특히 바람직하다.This substituent is preferably a polymerizable group, and may be a polymerizable reactive group exhibiting any one of radical polymerizability, cationic polymerizability, anionic polymerizability, condensation polymerizability, and addition polymerizability. Examples of preferable substituents include acryloyl group and methacrylic group. Examples include diary group, vinyl group, allyl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, and amino group. Among them, a radical polymerizable group is preferable, and among them, an acryloyl group and a methacryloyl group are particularly preferable.

함불소 화합물은 불소 원자를 포함하지 않는 화합물과의 폴리머여도 되고 올리고머여도 된다.The fluorine-containing compound may be a polymer or an oligomer with a compound that does not contain a fluorine atom.

상기 함불소 화합물은, 하기 일반식 (F)로 나타나는 불소계 화합물이 바람직하다.The fluorine-containing compound is preferably a fluorine-based compound represented by the following general formula (F).

일반식 (F): (Rf)-[(W)-(RA)nf]mf General formula (F): (R f )-[(W)-(R A ) nf ] mf

(식 중, Rf는 (퍼)플루오로알킬기 또는 (퍼)플루오로폴리에터기, W는 단결합 또는 연결기, RA는 중합성 불포화기를 나타낸다. nf는 1~3의 정수를 나타낸다. mf는 1~3의 정수를 나타낸다.)(Wherein, R f represents a (per)fluoroalkyl group or (per)fluoropolyether group, W represents a single bond or linking group, and R A represents a polymerizable unsaturated group. nf represents an integer of 1 to 3. mf represents an integer from 1 to 3.)

일반식 (F)에 있어서, RA는 중합성 불포화기를 나타낸다. 중합성 불포화기는, 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 라디칼 중합 반응을 일으킬 수 있는 불포화 결합을 갖는 기(즉, 라디칼 중합성기)인 것이 바람직하고, (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기, 바이닐기, 알릴기 등을 들 수 있으며, (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기, 및 이들 기에 있어서의 임의의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 기가 바람직하게 이용된다.In general formula (F), R A represents a polymerizable unsaturated group. The polymerizable unsaturated group is preferably a group (i.e., a radical polymerizable group) having an unsaturated bond that can cause a radical polymerization reaction by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams, such as a (meth)acryloyl group, (meth) An acryloyloxy group, a vinyl group, an allyl group, etc. are mentioned, and (meth)acryloyl group, (meth)acryloyloxy group, and groups in which any hydrogen atom in these groups is replaced with a fluorine atom are preferably used.

일반식 (F)에 있어서, Rf는 (퍼)플루오로알킬기 또는 (퍼)플루오로폴리에터기를 나타낸다.In general formula (F), R f represents a (per)fluoroalkyl group or a (per)fluoropolyether group.

여기에서, (퍼)플루오로알킬기는, 플루오로알킬기 및 퍼플루오로알킬기 중 적어도 1종을 나타내고, (퍼)플루오로폴리에터기는, 플루오로폴리에터기 및 퍼플루오로폴리에터기 중 적어도 1종을 나타낸다. 내찰상성의 관점에서는, Rf 중의 불소 함유율은 높은 편이 바람직하다.Here, the (per)fluoroalkyl group represents at least one of a fluoroalkyl group and a perfluoroalkyl group, and the (per)fluoropolyether group represents at least one of a fluoropolyether group and a perfluoropolyether group. Represents type 1. From the viewpoint of scratch resistance, it is preferable that the fluorine content in R f is higher.

(퍼)플루오로알킬기는, 탄소수 1~20의 기가 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~10의 기이다.The (per)fluoroalkyl group is preferably a group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a group having 1 to 10 carbon atoms.

(퍼)플루오로알킬기는, 직쇄 구조(예를 들면 -CF2CF3, -CH2(CF2)4H, -CH2(CF2)8CF3, -CH2CH2(CF2)4H)여도 되고, 분기 구조(예를 들면 -CH(CF3)2, -CH2CF(CF3)2, -CH(CH3)CF2CF3, -CH(CH3)(CF2)5CF2H)여도 되며, 지환식 구조(바람직하게는 5원환 또는 6원환이고, 예를 들면 퍼플루오로사이클로헥실기 및 퍼플루오로사이클로펜틸기 및 이들 기로 치환된 알킬기)여도 된다.(Per) fluoroalkyl group has a straight chain structure (e.g. -CF 2 CF 3 , -CH 2 (CF 2 ) 4 H, -CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , -CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H) may be used, and may be a branched structure (e.g. -CH(CF 3 ) 2 , -CH 2 CF(CF 3 ) 2 , -CH(CH 3 )CF 2 CF 3 , -CH(CH 3 )(CF 2 ) 5 CF 2 H) may be used, and may be an alicyclic structure (preferably a 5- or 6-membered ring, for example, a perfluorocyclohexyl group, a perfluorocyclopentyl group, and an alkyl group substituted with these groups).

(퍼)플루오로폴리에터기는, (퍼)플루오로알킬기가 에터 결합을 갖고 있는 경우를 가리키며, 1가여도 되고 2가 이상의 기여도 된다. 플루오로폴리에터기로서는, 예를 들면 -CH2OCH2CF2CF3, -CH2CH2OCH2C4F8H, -CH2CH2OCH2CH2C8F17, -CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H, 불소 원자를 4개 이상 갖는 탄소수 4~20의 플루오로사이클로알킬기 등을 들 수 있다. 또, 퍼플루오로폴리에터기로서는, 예를 들면, -(CF2O)pf-(CF2CF2O)qf-, -[CF(CF3)CF2O]pf-[CF(CF3)]qf-, -(CF2CF2CF2O)pf-, -(CF2CF2O)pf- 등을 들 수 있다.A (per)fluoropolyether group refers to a case where a (per)fluoroalkyl group has an ether bond, and may be monovalent or may be divalent or more. Examples of the fluoropolyether group include -CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , -CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, a fluorocycloalkyl group of 4 to 20 carbon atoms having 4 or more fluorine atoms, etc. Also, examples of the perfluoropolyether group include -(CF 2 O) pf -(CF 2 CF 2 O) qf -, -[CF(CF 3 )CF 2 O] pf -[CF(CF 3 )] qf -, -(CF 2 CF 2 CF 2 O) pf -, -(CF 2 CF 2 O) pf -, etc.

상기 pf 및 qf는 각각 독립적으로 0~20의 정수를 나타낸다. 단 pf+qf는 1 이상의 정수이다.The pf and qf each independently represent an integer of 0 to 20. However, pf+qf is an integer greater than 1.

pf 및 qf의 총계는 1~83이 바람직하고, 1~43이 보다 바람직하며, 5~23이 더 바람직하다.The total of pf and qf is preferably 1 to 83, more preferably 1 to 43, and more preferably 5 to 23.

상기 함불소 화합물은, 내찰상성이 우수하다는 관점에서 -(CF2O)pf-(CF2CF2O)qf-로 나타나는 퍼플루오로폴리에터기를 갖는 것이 특히 바람직하다.It is particularly preferable that the fluorine-containing compound has a perfluoropolyether group represented by -(CF 2 O) pf -(CF 2 CF 2 O) qf - from the viewpoint of excellent scratch resistance.

함불소 화합물은, 퍼플루오로폴리에터기를 갖고, 또한 중합성 불포화기를 1분자 중에 복수 갖는 것이 바람직하다.The fluorine-containing compound preferably has a perfluoropolyether group and also has a plurality of polymerizable unsaturated groups in one molecule.

일반식 (F)에 있어서, W는 연결기를 나타낸다. W로서는, 예를 들면 알킬렌기, 아릴렌기 및 헤테로알킬렌기, 및 이들 기가 조합된 연결기를 들 수 있다. 이들 연결기는, 또한, 옥시기, 카보닐기, 카보닐옥시기, 카보닐이미노기 및 설폰아마이드기 등, 및 이들 기가 조합된 관능기를 가져도 된다.In general formula (F), W represents a linking group. Examples of W include an alkylene group, an arylene group, a heteroalkylene group, and a linking group composed of a combination of these groups. These linking groups may also have functional groups such as oxy groups, carbonyl groups, carbonyloxy groups, carbonylimino groups, and sulfonamide groups, or combinations of these groups.

W로서, 바람직하게는, 에틸렌기, 보다 바람직하게는, 카보닐이미노기와 결합한 에틸렌기이다.W is preferably an ethylene group, more preferably an ethylene group bonded to a carbonylimino group.

함불소 화합물의 불소 원자 함유량에는 특별히 제한은 없지만, 20질량% 이상이 바람직하고, 30~70질량%가 보다 바람직하며, 40~70질량%가 더 바람직하다.There is no particular limitation on the fluorine atom content of the fluorine-containing compound, but it is preferably 20% by mass or more, more preferably 30 to 70% by mass, and still more preferably 40 to 70% by mass.

바람직한 함불소 화합물의 예로서는, 다이킨 가가쿠 고교(주)제의 R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 및 옵툴 DAC(이상 상품명), DIC사제의 메가팍 F-171, F-172, F-179A, RS-78, RS-90, 디펜서 MCF-300 및 MCF-323(이상 상품명)을 들 수 있지만 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of preferred fluorine-containing compounds include R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 and Optul DAC (trade names above) manufactured by Daikin Chemical Co., Ltd., and Megapac F-171 and F manufactured by DIC. -172, F-179A, RS-78, RS-90, Defensor MCF-300, and MCF-323 (above product names), but are not limited to these.

내찰상성의 관점에서, 일반식 (F)에 있어서, nf와 mf의 곱(nf×mf)은 2 이상이 바람직하고, 4 이상이 보다 바람직하다.From the viewpoint of scratch resistance, in general formula (F), the product of nf and mf (nf×mf) is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more.

중합성 불포화기를 갖는 함불소 화합물의 중량 평균 분자량(Mw)은, 분자 배척 크로마토그래피, 예를 들면 젤 침투 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the fluorinated compound having a polymerizable unsaturated group can be measured using molecular exclusion chromatography, for example, gel permeation chromatography (GPC).

함불소 화합물의 Mw는 400 이상 50000 미만이 바람직하고, 400 이상 30000 미만이 보다 바람직하며, 400 이상 25000 미만이 더 바람직하다.The Mw of the fluorine-containing compound is preferably 400 to 50,000, more preferably 400 to 30,000, and still more preferably 400 to 25,000.

함불소 화합물의 함유율은, 내찰상층 형성용 조성물 중의 전고형분에 대하여, 0.01~5질량%가 바람직하고, 0.1~5질량%가 보다 바람직하며, 0.5~5질량%가 더 바람직하고, 0.5~2질량%가 특히 바람직하다.The content of the fluorine-containing compound is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass, based on the total solid content in the composition for forming a scratch resistant layer. Mass % is particularly preferred.

내찰상층 형성용 조성물은, 이상 설명한 각종 성분을 동시에, 또는 임의의 순서로 순차 혼합함으로써 조제할 수 있다. 조제 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 조제에는 공지의 교반기 등을 이용할 수 있다.The composition for forming a scratch-resistant layer can be prepared by mixing the various components described above simultaneously or sequentially in any order. The preparation method is not particularly limited, and a known stirrer or the like can be used for preparation.

(내찰상층 형성용 조성물의 경화물)(Cured product of composition for forming scratch-resistant layer)

내찰상층은, 중합성 화합물을 포함하는 내찰상층 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 라디칼 중합성기를 갖는 중합성 화합물 및 라디칼 중합 개시제를 포함하는 내찰상층 형성용 조성물의 경화물을 포함하는 것이다.The scratch-resistant layer preferably contains a cured product of a composition for forming a scratch-resistant layer containing a polymerizable compound, and more preferably, a composition for forming a scratch-resistant layer containing a polymerizable compound having a radical polymerizable group and a radical polymerization initiator. It contains the hardened product of .

내찰상층 형성용 조성물의 경화물은, 적어도, 라디칼 중합성기를 갖는 중합성 화합물의 라디칼 중합성기가 중합 반응하여 이루어지는 경화물을 포함하는 것이 바람직하다.The cured product of the composition for forming a scratch-resistant layer preferably contains at least a cured product obtained by polymerization of a radical polymerizable group of a polymerizable compound having a radical polymerizable group.

내찰상층에 있어서의 내찰상층 형성용 조성물의 경화물의 함유율은, 내찰상층의 전체 질량에 대하여 60질량% 이상인 것이 바람직하고, 70질량% 이상이 보다 바람직하며, 80질량% 이상이 더 바람직하다.The content of the cured product of the composition for forming a scratch-resistant layer in the scratch-resistant layer is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 80% by mass or more, relative to the total mass of the scratch-resistant layer.

(내찰상층의 막두께)(Film thickness of scratch-resistant layer)

내찰상층의 막두께는, 반복 절곡 내성의 관점에서, 3.0μm 미만인 것이 바람직하고, 0.1~2.0μm인 것이 보다 바람직하며, 0.1~1.0μm인 것이 더 바람직하다.From the viewpoint of repeated bending resistance, the film thickness of the scratch-resistant layer is preferably less than 3.0 μm, more preferably 0.1 to 2.0 μm, and still more preferably 0.1 to 1.0 μm.

<하드 코트 필름의 제조 방법><Method for producing hard coat film>

본 발명의 하드 코트 필름의 제조 방법에 대하여 설명한다.The manufacturing method of the hard coat film of this invention is demonstrated.

본 발명의 하드 코트 필름의 제조 방법은, 하기 공정 (I), (II)를 포함하는 제조 방법인 것이 바람직하다. 또, 하드 코트 필름이 내찰상층을 갖는 경우는, 하기 공정 (III), (IV)를 더 포함하는 제조 방법인 것이 바람직하다.It is preferable that the manufacturing method of the hard coat film of this invention is a manufacturing method including the following processes (I) and (II). Moreover, when the hard coat film has a scratch-resistant layer, it is preferable that the manufacturing method further includes the following steps (III) and (IV).

(I) 기재 상에, 중합성 화합물 (a1)을 포함하는 경화성 조성물을 도포하여 하드 코트층 도막을 형성하는 공정(I) A process of forming a hard coat layer coating film by applying a curable composition containing a polymerizable compound (a1) onto a substrate.

(II) 상기 하드 코트층 도막을 경화함으로써 하드 코트층을 형성하는 공정(II) Process of forming a hard coat layer by curing the hard coat layer coating film

(III) 상기 하드 코트층 상에, 중합성 화합물을 포함하는 내찰상층 형성용 조성물을 도포하여 내찰상층 도막을 형성하는 공정(III) A process of forming a scratch-resistant layer coating film by applying a composition for forming a scratch-resistant layer containing a polymerizable compound on the hard coat layer.

(IV) 상기 내찰상층 도막을 경화함으로써 내찰상층을 형성하는 공정(IV) Process of forming a scratch-resistant layer by curing the scratch-resistant layer coating film

-공정 (I)--Process (I)-

공정 (I)은, 기재 상에 중합성 화합물 (a1)을 포함하는 경화성 조성물을 도포하여 하드 코트층 도막을 마련하는 공정이다.Step (I) is a step of applying a curable composition containing the polymerizable compound (a1) onto a substrate to prepare a hard coat layer coating film.

기재, 중합성 화합물 (a1), 및 경화성 조성물에 대해서는 상술한 바와 같다.The base material, polymerizable compound (a1), and curable composition are as described above.

경화성 조성물의 도포 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고 공지의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 딥 코트법, 에어 나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비어 코트법, 다이 코트법 등을 들 수 있다.The method of applying the curable composition is not particularly limited and any known method can be used. Examples include the dip coat method, air knife coat method, curtain coat method, roller coat method, wire bar coat method, gravure coat method, and die coat method.

-공정 (II)--Process (II)-

공정 (II)는, 상기 하드 코트층 도막을 경화함으로써 하드 코트층을 형성하는 공정이다. 또한, 하드 코트층 도막을 경화한다란, 하드 코트층 도막에 포함되는 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴기 중 적어도 일부를 중합 반응시키는 것을 말한다.Step (II) is a step of forming a hard coat layer by curing the hard coat layer coating film. In addition, curing the hard coat layer coating film means polymerizing at least a part of the (meth)acrylic groups of the polymerizable compound (a1) contained in the hard coat layer coating film.

하드 코트층 도막의 경화는, 전리 방사선의 조사 또는 가열로 행해지는 것이 바람직하다.The hard coat layer coating film is preferably cured by irradiation of ionizing radiation or heating.

전리 방사선의 종류에 대해서는, 특별히 제한은 없으며, X선, 전자선, 자외선, 가시광, 적외선 등을 들 수 있지만, 자외선이 바람직하게 이용된다. 예를 들면 하드 코트층 도막이 자외선 경화성이면, 자외선 램프에 의하여 10mJ/cm2~2000mJ/cm2의 조사량의 자외선을 조사하여 경화성 화합물을 경화하는 것이 바람직하고, 하드 코트 필름이 하드 코트층 상에 내찰상층을 갖는 경우에 있어서는, 경화성 화합물을 반경화하는 것이 바람직하다. 50mJ/cm2~1800mJ/cm2인 것이 보다 바람직하며, 100mJ/cm2~1500mJ/cm2인 것이 더 바람직하다. 자외선 램프종으로서는, 메탈할라이드 램프나 고압 수은 램프 등이 적합하게 이용된다.There is no particular limitation on the type of ionizing radiation, and examples include X-rays, electron beams, ultraviolet rays, visible light, and infrared rays, but ultraviolet rays are preferably used. For example, if the hard coat layer coating is ultraviolet curable, it is preferable to cure the curable compound by irradiating ultraviolet rays at a dose of 10 mJ/cm 2 to 2000 mJ/cm 2 using an ultraviolet lamp, so that the hard coat film is resistant to scratches on the hard coat layer. In the case of having an upper layer, it is preferable to semi-harden the curable compound. More preferably, it is 50mJ/cm 2 to 1800mJ/cm 2 , and more preferably 100mJ/cm 2 to 1500mJ/cm 2 . As ultraviolet lamp types, metal halide lamps, high-pressure mercury lamps, etc. are suitably used.

열에 의하여 경화되는 경우, 온도에 특별히 제한은 없지만, 80℃ 이상 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 100℃ 이상 180℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 120℃ 이상 160℃ 이하인 것이 더 바람직하다.When curing by heat, there is no particular limit to the temperature, but it is preferably 80°C or higher and 200°C or lower, more preferably 100°C or higher and 180°C or lower, and even more preferably 120°C or higher and 160°C or lower.

경화 시의 산소 농도는 0~1.0체적%인 것이 바람직하고, 0~0.1체적%인 것이 더 바람직하며, 0~0.05체적%인 것이 가장 바람직하다.The oxygen concentration during curing is preferably 0 to 1.0 volume%, more preferably 0 to 0.1 volume%, and most preferably 0 to 0.05 volume%.

-공정 (III)--Process (III)-

공정 (III)은, 상기 하드 코트층 상에, 중합성 화합물을 포함하는 내찰상층 형성용 조성물을 도포하여 내찰상층 도막을 형성하는 공정이다.Step (III) is a step of forming a scratch-resistant layer coating film by applying a composition for forming a scratch-resistant layer containing a polymerizable compound on the hard coat layer.

중합성 화합물, 및 내찰상층 형성용 조성물에 대해서는 상술한 바와 같다.The polymerizable compound and the composition for forming a scratch-resistant layer are as described above.

내찰상층 형성용 조성물의 도포 방법으로서는, 특별히 한정되지 않으며 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 딥 코트법, 에어 나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비어 코트법, 다이 코트법 등을 들 수 있다.The method of applying the composition for forming a scratch-resistant layer is not particularly limited and any known method can be used. Examples include the dip coat method, air knife coat method, curtain coat method, roller coat method, wire bar coat method, gravure coat method, and die coat method.

-공정 (IV)--Process (IV)-

공정 (IV)는, 상기 내찰상층 도막을 경화함으로써 내찰상층을 형성하는 공정이다.Step (IV) is a step of forming a scratch-resistant layer by curing the scratch-resistant layer coating film.

내찰상층 도막의 경화는, 전리 방사선의 조사 또는 가열로 행해지는 것이 바람직하다. 전리 방사선의 조사 및 가열에 대해서는, 공정 (II)에 있어서 기재된 것과 동일하다. 또한, 내찰상층 도막을 경화한다란, 내찰상층 도막에 포함되는 중합성 화합물의 중합성기 중 적어도 일부를 중합 반응시키는 것을 말한다.Curing of the scratch-resistant layer coating film is preferably performed by irradiation of ionizing radiation or heating. Irradiation and heating of ionizing radiation are the same as those described in step (II). In addition, curing the scratch-resistant layer coating film means polymerizing at least a part of the polymerizable groups of the polymerizable compound contained in the scratch-resistant layer coating film.

본 발명에서는, 하드 코트 필름이 하드 코트층 상에 내찰상층을 갖는 경우에 있어서는, 상기 공정 (II)에 있어서, 하드 코트층 도막을 반경화시키는 것이 바람직하다. 즉, 공정 (II)에 있어서 하드 코트층 도막을 반경화시키고, 이어서, 공정 (III)에서는, 반경화된 하드 코트층 상에 내찰상층 형성용 조성물을 도포하여 내찰상층 도막을 형성하며, 이어서, 공정 (IV)에서는, 내찰상층 도막을 경화함과 함께, 하드 코트층의 완전 경화를 행하는 것이 바람직하다. 여기에서, 하드 코트층 도막을 반경화시킨다란, 하드 코트층 도막에 포함되는 중합성 화합물 (a1)의 (메트)아크릴기 중 일부만을 중합 반응시키는 것을 말한다. 하드 코트층 도막의 반경화는, 전리 방사선의 조사량이나, 가열의 온도 및 시간을 조절함으로써 행할 수 있다.In the present invention, when the hard coat film has a scratch-resistant layer on the hard coat layer, it is preferable to semi-harden the hard coat layer coating in the above step (II). That is, in step (II), the hard coat layer coating film is semi-cured, and then in step (III), the composition for forming a scratch-resistant layer is applied on the semi-cured hard coat layer to form a scratch-resistant layer coating film, and then, In step (IV), it is preferable to completely cure the hard coat layer while curing the scratch-resistant layer coating film. Here, semi-curing the hard coat layer coating film means polymerizing only a portion of the (meth)acrylic groups of the polymerizable compound (a1) contained in the hard coat layer coating film. Semi-hardening of the hard coat layer coating film can be performed by adjusting the irradiation amount of ionizing radiation or the temperature and time of heating.

공정 (I)과 공정 (II)의 사이, 공정 (II)와 공정 (III)의 사이, 공정 (III)과 공정 (IV)의 사이, 또는 공정 (IV) 후에, 필요에 따라 건조 처리를 행해도 된다. 건조 처리는, 온풍의 분사, 가열로 내로의 배치, 가열로 내에서의 반송, 하드 코트층 및 내찰상층이 마련되어 있지 않은 면(기재면)으로부터의 롤러를 이용한 가열 등에 의하여 행할 수 있다. 가열 온도는, 용매를 건조 제거할 수 있는 온도로 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 여기에서 가열 온도란, 온풍의 온도 또는 가열로 내의 분위기 온도를 말하는 것으로 한다.Drying treatment is performed as necessary between steps (I) and (II), between steps (II) and (III), between steps (III) and steps (IV), or after step (IV). It's okay too. Drying treatment can be performed by spraying warm air, placing in a heating furnace, conveying within the heating furnace, heating using a roller from the side (substrate surface) on which the hard coat layer and the scratch-resistant layer are not provided, etc. The heating temperature may be set to a temperature at which the solvent can be removed by drying, and is not particularly limited. Here, the heating temperature refers to the temperature of warm air or the temperature of the atmosphere within the heating furnace.

본 발명의 하드 코트 필름은, 화상 표시 장치의 표면 보호 필름으로서 이용할 수 있고, 예를 들면, 폴더블 디바이스(폴더블 디스플레이)의 표면 보호 필름으로서 이용할 수 있다. 폴더블 디바이스란, 표시 화면이 변형 가능한 플렉시블 디스플레이를 채용한 디바이스이며, 표시 화면의 변형성을 이용하여 디바이스 본체(디스플레이)를 절첩하는 것이 가능하다.The hard coat film of the present invention can be used as a surface protection film for an image display device, for example, as a surface protection film for a foldable device (foldable display). A foldable device is a device employing a flexible display with a deformable display screen, and the device main body (display) can be folded using the deformability of the display screen.

폴더블 디바이스로서는, 예를 들면, 유기 일렉트로 루미네선스 디바이스 등을 들 수 있다.Examples of foldable devices include organic electroluminescence devices.

본 발명은, 상기 하드 코트 필름을 구비한 물품에도 관한 것이다.The present invention also relates to an article provided with the hard coat film.

또, 본 발명은, 상기 하드 코트 필름을 표면 보호 필름으로서 구비한 화상 표시 장치에도 관한 것이다.Moreover, this invention also relates to an image display device equipped with the said hard coat film as a surface protection film.

또한, 본 발명은, 상기 하드 코트 필름을 표면 보호 필름으로서 구비한 폴더블 디바이스에도 관한 것이다.Furthermore, the present invention also relates to a foldable device provided with the hard coat film as a surface protection film.

실시예Example

이하, 실시예에 의하여 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이것에 의하여 한정하여 해석되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples, but the scope of the present invention is not to be construed as limited thereto.

<기재의 제작><Production of equipment>

(폴리이미드 분말의 제조)(Manufacture of polyimide powder)

교반기, 질소 주입 장치, 적하 깔때기, 온도 조절기 및 냉각기를 장착한 1L의 반응기에, 질소 기류하, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 832g을 더한 후, 반응기의 온도를 25℃로 했다. 여기에, 비스트라이플루오로메틸벤지딘(TFDB) 64.046g(0.2mol)을 더하여 용해했다. 얻어진 용액을 25℃로 유지하면서, 2,2-비스(3,4-다이카복시페닐)헥사플루오로프로페인 이무수물(6FDA) 31.09g(0.07mol)과 바이페닐테트라카복실산 이무수물(BPDA) 8.83g(0.03mol)을 투입하고, 일정 시간 교반하여 반응시켰다. 그 후, 염화 테레프탈로일(TPC) 20.302g(0.1mol)을 첨가하여, 고형분 농도 13질량%의 폴리암산 용액을 얻었다. 이어서, 이 폴리암산 용액에 피리딘 25.6g, 무수 아세트산 33.1g을 투입하여 30분 교반하고, 70℃에서 1시간 더 교반한 후, 상온으로 냉각했다. 여기에 메탄올 20L를 더하고, 침전한 고형분을 여과하여 분쇄했다. 그 후, 100℃하, 진공에서 6시간 건조시켜, 111g의 폴리이미드 분말을 얻었다.After adding 832 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) under a nitrogen stream to a 1 L reactor equipped with a stirrer, nitrogen injection device, dropping funnel, temperature controller, and cooler, the temperature of the reactor was set to 25°C. Here, 64.046 g (0.2 mol) of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) was added and dissolved. While maintaining the obtained solution at 25°C, 31.09 g (0.07 mol) of 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and 8.83 mol of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added. g (0.03 mol) was added and stirred for a certain period of time to cause reaction. After that, 20.302 g (0.1 mol) of terephthaloyl chloride (TPC) was added to obtain a polyamic acid solution with a solid content concentration of 13% by mass. Next, 25.6 g of pyridine and 33.1 g of acetic anhydride were added to this polyamic acid solution, stirred for 30 minutes, stirred for another hour at 70°C, and then cooled to room temperature. 20 L of methanol was added thereto, and the precipitated solid was filtered and pulverized. After that, it was dried in vacuum at 100°C for 6 hours to obtain 111 g of polyimide powder.

(기재 S-1의 제작)(Production of base material S-1)

100g의 상기 폴리이미드 분말을 670g의 N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc)에 용해하여 13질량%의 용액을 얻었다. 얻어진 용액을 스테인리스판에 유연(流延)하고, 130℃의 열풍으로 30분 건조시켰다. 그 후 필름을 스테인리스판으로부터 박리하고, 프레임에 핀으로 고정하여, 필름이 고정된 프레임을 진공 오븐에 넣고, 100℃부터 300℃까지 가열 온도를 서서히 높이면서 2시간 가열하며, 그 후, 서서히 냉각했다. 냉각 후의 필름을 프레임으로부터 분리한 후, 최종 열처리 공정으로서, 추가로 300℃에서 30분간 열처리하여, 폴리이미드 필름으로 이루어지는, 두께 50μm의 기재 S-1을 얻었다.100 g of the polyimide powder was dissolved in 670 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) to obtain a 13% by mass solution. The obtained solution was casted on a stainless steel plate and dried with hot air at 130°C for 30 minutes. Afterwards, the film is peeled from the stainless steel plate, fixed to the frame with pins, the frame with the film fixed is placed in a vacuum oven, and heated for 2 hours while gradually increasing the heating temperature from 100°C to 300°C, and then gradually cooled. did. After the cooled film was separated from the frame, as a final heat treatment step, it was further heat treated at 300°C for 30 minutes to obtain a base material S-1 made of polyimide film and having a thickness of 50 μm.

<(A1)의 합성><Synthesis of (A1)>

트라이메틸올프로페인(200mmol), 다이라우르산 다이뷰틸 주석(2mmol), 탈수 N,N'-다이메틸아세트아마이드(300mL)를 혼합하고, 50℃에서 교반하면서 적하 깔때기를 사용하여 2-메타크릴로일옥시에틸아이소사이아네이트(600mmol)를 적하하며, 50℃에서 5시간 교반했다. 반응액을 실온으로 되돌리고, 물 1L에 투입하면 결정이 석출되었다. 여과 후, 건조하면 (A1)이 수율 90%로 얻어졌다.Trimethylolpropane (200 mmol), dibutyltin dilaurate (2 mmol), and dehydrated N,N'-dimethylacetamide (300 mL) were mixed, and 2-metabolite was added using a dropping funnel while stirring at 50°C. Cryloyloxyethyl isocyanate (600 mmol) was added dropwise and stirred at 50°C for 5 hours. The reaction solution was returned to room temperature and added to 1 L of water, and crystals precipitated. After filtration and drying, (A1) was obtained with a yield of 90%.

<(A2)~(A4)의 합성><Synthesis of (A2) to (A4)>

(A2)~(A4)는, 각각 트라이메틸올프로페인 또는 2-메타크릴로일옥시에틸아이소사이아네이트를 대응하는 구조의 알코올 화합물 또는 아이소사이아네이트 화합물로 치환하는 것 이외에는 동일하게 하여 합성했다.(A2) to (A4) are synthesized in the same manner except that trimethylolpropane or 2-methacryloyloxyethyl isocyanate is replaced with an alcohol compound or isocyanate compound of the corresponding structure, respectively. did.

<(A5)의 합성><Synthesis of (A5)>

비스(2-아미노에틸)아민(200mmol), 탈수 아세토나이트릴(300mL)을 혼합하고, -5℃에서 교반하면서 적하 깔때기를 사용하여 2-메타크릴로일옥시에틸아이소사이아네이트(600mmol)를 적하하며, -5℃에서 3시간 교반했다. 아세트산 에틸, 물로 추출하고, 유기층을 황산 마그네슘에 의하여 건조한 후, 반응 생성물을 칼럼 크로마토그래피(전개 용매: 아세트산 에틸/메탄올)에 의하여 분리 정제하여, 수율 18%로 (A5)를 얻었다.Mix bis(2-aminoethyl)amine (200mmol) and dehydrated acetonitrile (300mL), and add 2-methacryloyloxyethylisocyanate (600mmol) using a dropping funnel while stirring at -5°C. It was added dropwise and stirred at -5°C for 3 hours. After extraction with ethyl acetate and water, and drying the organic layer with magnesium sulfate, the reaction product was separated and purified by column chromatography (developing solvent: ethyl acetate/methanol) to obtain (A5) in a yield of 18%.

<(A6)의 합성><Synthesis of (A6)>

3,3'-다이아미노다이프로필아민(182mmol), 탄산 수소 나트륨(450mmol), 물(100g), 테트라하이드로퓨란(300mL)을 혼합하고, 0℃에서 교반하면서 적하 깔때기를 사용하여 아크릴산 클로라이드(389mmol)를 적하하며, 실온에서 5시간 교반했다. 얻어진 반응 혼합물로부터 테트라하이드로퓨란을 감압 증류 제거한 후, 아세트산 에틸(200mL)을 첨가하여 유기층을 4회 추출하고, 유기층을 일괄하여 황산 마그네슘으로 건조했다. 얻어진 반응 혼합물을 칼럼 크로마토그래피(용리액: 아세트산 에틸/메탄올)에 의하여 분리 정제하여, 수율 40%로 (A6)을 얻었다.3,3'-Diaminodipropylamine (182 mmol), sodium bicarbonate (450 mmol), water (100 g), and tetrahydrofuran (300 mL) were mixed, and acrylic acid chloride (389 mmol) was added using a dropping funnel while stirring at 0°C. ) was added dropwise and stirred at room temperature for 5 hours. After distilling off tetrahydrofuran under reduced pressure from the obtained reaction mixture, ethyl acetate (200 mL) was added to extract the organic layer four times, and the organic layers were dried collectively over magnesium sulfate. The obtained reaction mixture was separated and purified by column chromatography (eluent: ethyl acetate/methanol) to obtain (A6) in a yield of 40%.

실시예 및 비교예에서 사용한 중합성 화합물의 구조를 이하에 나타낸다. (A1)~(A6)은 중합성 화합물 (a1)이며, (RA1)~(RA5)는 중합성 화합물 (a1)이 아니다.The structures of the polymerizable compounds used in the examples and comparative examples are shown below. (A1) to (A6) are polymerizable compounds (a1), and (RA1) to (RA5) are not polymerizable compounds (a1).

[화학식 14][Formula 14]

[화학식 15][Formula 15]

[화학식 16][Formula 16]

[화학식 17][Formula 17]

[화학식 18][Formula 18]

[화학식 19][Formula 19]

[화학식 20][Formula 20]

[화학식 21][Formula 21]

[화학식 22][Formula 22]

[화학식 23][Formula 23]

[화학식 24][Formula 24]

하기 표 1에, 화합물 (A1)~(A6), (RA1)~(RA5)에 대한 분자량, 1분자 내의 수소 결합성의 프로톤의 수, 수소 결합성의 프로톤가, 1분자 내의 (메트)아크릴기의 수, (메트)아크릴가, 탄성률, 및 파단 신도를 기재했다.Table 1 below shows the molecular weight, number of hydrogen-bonding protons in one molecule, hydrogen-bonding proton number, and number of (meth)acrylic groups in one molecule for compounds (A1) to (A6) and (RA1) to (RA5). , (meth)acrylic value, elastic modulus, and elongation at break were described.

탄성률, 및 파단 신도는, 경화성 조성물을 하기 경화 조건에서 경화시킨 경화물을, 하기 측정 조건에서 측정한 탄성률 및 파단 신도이다.The elastic modulus and breaking elongation are the elastic modulus and breaking elongation measured under the following measurement conditions for a cured product obtained by curing the curable composition under the following curing conditions.

(적층체의 제조)(Manufacture of laminate)

기재 S-1 상에 경화성 조성물을 경화 후의 막두께가 11μm가 되도록 바 도포했다. 도포 후, 도막을 120℃에서 1분간 가열했다. 이어서, 산소 농도 100ppm(parts per million) 미만의 조건 하에서, 고압 수은등 램프를 이용하여, 적산 조사량이 600mJ/cm2, 조도가 60mW/cm2가 되도록 자외선을 조사 후, 80℃, 산소 농도 100ppm의 조건에서 고압 수은등 램프를 이용하여, 조도 60mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선을 더 조사함으로써 도막을 완전 경화시켰다. 이와 같이 하여 폴리이미드 기재와 경화물의 막을 갖는 적층체를 얻었다.The curable composition was applied onto the substrate S-1 so that the film thickness after curing was 11 μm. After application, the coating film was heated at 120°C for 1 minute. Next, under conditions of an oxygen concentration of less than 100 ppm (parts per million), using a high-pressure mercury lamp, ultraviolet rays are irradiated so that the cumulative irradiation amount is 600 mJ/cm 2 and the illuminance is 60 mW/cm 2 , and then irradiated with ultraviolet rays at 80°C and with an oxygen concentration of 100 ppm. The coating film was completely cured by further irradiating ultraviolet rays with an illumination intensity of 60 mW/cm 2 and an irradiation amount of 600 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp under the following conditions. In this way, a laminate having a polyimide substrate and a film of the cured product was obtained.

또한, 경화성 조성물로서는 후술하는 실시예 1, 3~6, 8, 비교예 1~5에서 조제한 경화성 조성물을 이용했다.In addition, as the curable composition, the curable composition prepared in Examples 1, 3 to 6, and 8 and Comparative Examples 1 to 5 described later were used.

(탄성률)(elasticity modulus)

각 적층체의 폴리이미드 기재 측과 유리를 아론 알파(등록 상표)(도아 고세이(주)제)를 이용하여 접착하고, HM2000형 경도계(피셔 인스트루먼츠사제, 다이아몬드제 Knoop 압자)를 이용하여, 하기 조건에서 측정했다.The polyimide base side of each laminate and the glass were bonded using Aaron Alpha (registered trademark) (manufactured by Toa Kosei Co., Ltd.), and an HM2000 type hardness tester (manufactured by Fisher Instruments, Knoop indenter made by Diamond) was used under the following conditions. It was measured in

최대 하중: 50mNMaximum load: 50mN

하중 인가 시간: 10초Load application time: 10 seconds

크리프: 5초Creep: 5 seconds

하중 제하 시간: 10초Unloading time: 10 seconds

제하중 후 유지 시간: 5초Holding time after unloading: 5 seconds

측정 횟수: 10회Number of measurements: 10

또한, 탄성률은 상기 측정에 있어서의 제하 곡선으로부터 산출했다.Additionally, the elastic modulus was calculated from the unloading curve in the above measurement.

탄성률은 10회 측정의 평균값을 이용했다.The elastic modulus was the average value of 10 measurements.

탄성률은 이하의 기준으로 평가했다.The elastic modulus was evaluated based on the following standards.

A: 10.5GPa 이상, B: 9.5GPa 이상 10.5GPa 미만, C: 8.5GPa 이상 9.5GPa 미만, D: 8.5GPa 미만A: 10.5 GPa or more, B: 9.5 GPa or more but less than 10.5 GPa, C: 8.5 GPa or more but less than 9.5 GPa, D: Less than 8.5 GPa

(파단 신도)(Padan believer)

각 적층체를 길이 120mm, 폭 10mm로 재단하고, 온도 25℃, 상대 습도 60%의 상태로 1시간 정치시킨 후에, 인장 시험기에서 100%/분의 속도로 인장하여, 파단이 발생하는 신장률을 조사했다.Each laminate was cut to 120 mm in length and 10 mm in width, and left to stand for 1 hour at a temperature of 25°C and a relative humidity of 60%, then stretched at a speed of 100%/min in a tensile tester, and the elongation at which fracture occurred was examined. did.

파단 신도는, 상기 파단이 발생하는 신장률에 대하여, 이하의 기준으로 평가했다.The breaking elongation was evaluated based on the following criteria with respect to the elongation rate at which the above-mentioned breaking occurs.

A: 15% 이상, B: 10% 이상 15% 미만, C: 5% 이상 10% 미만, D: 5% 미만A: 15% or more, B: 10% or more but less than 15%, C: 5% or more but less than 10%, D: less than 5%

(투과율)(transmittance)

UV-3100(시마즈 세이사쿠쇼제)을 이용하여 UV-Vis 흡수 스펙트럼을 측정하고, 폴리이미드 기재 단독의 흡수 스펙트럼을 빼며, 모든 시료에 대하여, 경화물의 투과율이 파장 400~700nm의 어느 파장에 있어서도 80% 이상인 것을 확인했다.The UV-Vis absorption spectrum was measured using UV-3100 (manufactured by Shimadzu Seisakusho), and the absorption spectrum of the polyimide substrate alone was subtracted. For all samples, the transmittance of the cured product was 80% at any wavelength between 400 and 700 nm. It was confirmed that it was more than %.

[표 1][Table 1]

[실시예 1][Example 1]

<경화성 조성물의 조제><Preparation of curable composition>

(경화성 조성물 HC-1)(Curable composition HC-1)

하기 성분의 함유량을 이하와 같이 조정하고, 믹싱 탱크에 투입, 교반했다. 얻어진 조성물을 구멍 직경 0.45μm의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여, 경화성 조성물 HC-1로 했다.The content of the following components was adjusted as follows, and they were placed in a mixing tank and stirred. The obtained composition was filtered through a polypropylene filter with a pore diameter of 0.45 μm to obtain curable composition HC-1.

(A1) 47.45질량부(A1) 47.45 parts by mass

이르가큐어 127(Irg. 127) 2.5질량부Irgacure 127 (Irg. 127) 2.5 parts by mass

메가팍 RS-90 0.05질량부Megapak RS-90 0.05 parts by mass

MIBK(메틸아이소뷰틸케톤) 50.0질량부MIBK (methyl isobutyl ketone) 50.0 parts by mass

또한, 이르가큐어 127(Irg. 127)은 BASF제의 라디칼 중합 개시제이다.Additionally, Irgacure 127 (Irg. 127) is a radical polymerization initiator manufactured by BASF.

메가팍 RS-90은 DIC사제의 UV 반응형 표면 개질제이다.Megapak RS-90 is a UV-responsive surface modifier manufactured by DIC.

(하드 코트 필름의 제조)(Manufacture of hard coat film)

두께 50μm의 폴리이미드 기재 S-1 상에 경화성 조성물 HC-1을 와이어 바 #18을 이용하여, 경화 후의 막두께가 11μm가 되도록 바 도포하고, 기재 상에 하드 코트층 도막을 마련했다.The curable composition HC-1 was applied onto the polyimide substrate S-1 with a thickness of 50 μm using a wire bar #18 so that the film thickness after curing was 11 μm, and a hard coat layer coating film was prepared on the substrate.

이어서, 하드 코트층 도막을 120℃에서 1분간 가열했다. 이어서, 산소 농도 100ppm(parts per million) 미만의 조건하에서, 고압 수은등 램프를 이용하여, 적산 조사량이 600mJ/cm2, 조도가 60mW/cm2가 되도록 자외선을 조사 후, 80℃, 산소 농도 100ppm의 조건에서 고압 수은등 램프를 이용하여, 조도 60mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선을 더 조사함으로써 하드 코트층 도막을 완전 경화시켰다. 이와 같이 하여 하드 코트층 도막을 경화하여, 기재 상에, 하드 코트층(경화성 조성물 HC-1의 경화물)을 갖는 실시예 1의 하드 코트 필름을 얻었다.Next, the hard coat layer coating film was heated at 120°C for 1 minute. Next, under conditions of an oxygen concentration of less than 100 ppm (parts per million), using a high-pressure mercury lamp, ultraviolet rays are irradiated so that the cumulative irradiation amount is 600 mJ/cm 2 and the illuminance is 60 mW/cm 2 , and then irradiated with ultraviolet rays at 80°C and with an oxygen concentration of 100 ppm. The hard coat layer coating film was completely cured by further irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 60 mW/cm 2 and an irradiation amount of 600 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp under the following conditions. In this way, the hard coat layer coating film was cured to obtain a hard coat film of Example 1 having a hard coat layer (cured product of curable composition HC-1) on a base material.

[실시예 2~8, 비교예 1~5][Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 5]

중합성 화합물인 (A1)을, 하기 표 2에 나타낸 것으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2~8, 비교예 1~5의 하드 코트 필름을 각각 제조했다.The hard coat films of Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 to 5 were produced in the same manner as in Example 1, except that (A1), which was a polymerizable compound, was changed to the one shown in Table 2 below.

[비교예 6][Comparative Example 6]

하기 성분의 함유량을 이하와 같이 조정하고, 믹싱 탱크에 투입, 교반했다. 얻어진 조성물을 구멍 직경 0.45μm의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여, 경화성 조성물 HC-R6으로 했다.The content of the following components was adjusted as follows, and they were placed in a mixing tank and stirred. The obtained composition was filtered through a polypropylene filter with a pore diameter of 0.45 μm to obtain curable composition HC-R6.

사이클로머 P-ACA(고형분 농도 50질량%) 13.66질량부Cyclomeric P-ACA (solids concentration 50% by mass) 13.66 parts by mass

(A5) 7.175질량부(A5) 7.175 parts by mass

(RA1) 3.07질량부(RA1) 3.07 parts by mass

이르가큐어 127(Irg. 127) 0.98질량부Irgacure 127 (Irg. 127) 0.98 parts by mass

화합물 III 1.03질량부Compound III 1.03 parts by mass

메가팍 RS-90 0.01질량부Megapak RS-90 0.01 parts by mass

MIBK 69.82질량부MIBK 69.82 parts by mass

중합 금지제(p-메톡시페놀) 0.0051질량부Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol) 0.0051 parts by mass

사이클로머 P-ACA는 다이셀사제의 중량 평균 분자량 30000의 폴리머이다. 사이클로머 P-ACA는 중합성 화합물 (a1)이 아니다. 또, 비교예 6의 경화성 조성물 HC-R6은, 경화성 조성물의 전고형분 중의 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율이 70질량% 미만이다.Cyclomer P-ACA is a polymer with a weight average molecular weight of 30,000 manufactured by Daicel. Cyclomeric P-ACA is not a polymerisable compound (a1). In addition, in the curable composition HC-R6 of Comparative Example 6, the content of a polymerizable compound with a molecular weight of 2000 or less in the total solid content of the curable composition is less than 70% by mass.

화합물 III은, 하기 구조의 자외선 흡수제이다.Compound III is an ultraviolet absorber with the following structure.

[화학식 25][Formula 25]

적외 분광법에 의하여, 실시예 1~8의 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물에 있어서, 경화성 조성물에 포함되는 (메트)아크릴기의 80몰% 이상이, (메트)아크릴기 이외의 기로 변화되어 있는 것을 확인했다.By infrared spectroscopy, in the cured product obtained by curing the curable compositions of Examples 1 to 8 under the above curing conditions, more than 80 mol% of the (meth)acrylic groups contained in the curable composition were groups other than (meth)acrylic groups. I confirmed that it had changed.

[하드 코트 필름의 평가][Evaluation of hard coat film]

제조한 각 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름을, 이하의 방법에 의하여 평가했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.The hard coat films of each manufactured example and comparative example were evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 2.

(연필 경도)(Pencil hardness)

JIS(JIS는, Japanese Industrial Standards(일본 공업 규격)이다) K5400에 따라 연필 경도 평가를 행했다. 각 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름을, 온도 25℃, 상대 습도 60%에서 2시간 조습(調濕)한 후, 하드 코트층의 표면의 상이한 5개소에 대하여, JIS S 6006으로 규정하는 H~9H의 시험용 연필을 이용하여 4.9N의 하중으로 긁었다. 그 후, 육안으로 흠집이 확인되는 개소가 0~2개소였던 연필의 경도 중, 가장 경도가 높은 연필 경도를 평가 결과로 했다. 연필 경도는, "H"의 앞에 기재되는 수치가 높을수록, 경도가 높아 바람직하다.Pencil hardness was evaluated according to JIS (JIS is Japanese Industrial Standards) K5400. After controlling the humidity of the hard coat films of each Example and Comparative Example at a temperature of 25°C and a relative humidity of 60% for 2 hours, five different locations on the surface of the hard coat layer were subjected to H~ specified in JIS S 6006. It was scratched with a load of 4.9N using a 9H test pencil. After that, among the hardnesses of pencils in which 0 to 2 scratches were observed with the naked eye, the pencil hardness with the highest hardness was used as the evaluation result. As for pencil hardness, the higher the numerical value written in front of "H", the higher the hardness is and is preferable.

연필 경도는 이하의 기준으로 평가했다.Pencil hardness was evaluated according to the following standards.

A: 5H 이상, B: 4H 이상 5H 미만, C: 3H 이상 4H 미만, D: 3H 미만A: 5H or more, B: 4H or more but less than 5H, C: 3H or more but less than 4H, D: Less than 3H

(내굴곡성)(bending resistance)

각 시료를, JIS-K-5600-5-1에 기재된 도료 일반 시험 방법-내굴곡성(원통형 맨드릴법)의 방법을 이용하여 평가를 행했다. 각 시료를 온도 25℃, 상대 습도 55%의 조건하에서 1시간 보존 후에, 직경(Φ) 2, 3, 4, 5, 6, 8, 10, 12, 14, 16mm의 맨드릴에 도포면(하드 코트층)을 외측으로 하여(기재를 내측으로 하여) 감고, 크랙의 발생 상황을 관찰하여, 크랙이 발생하지 않았던 최소의 맨드릴의 직경으로 평가했다. 맨드릴의 직경(Φ)이 작을수록 내굴곡성이 우수하며, 직경이 큰 조건에서 크랙이 발생할수록, 내굴곡성이 뒤떨어지는 것을 나타낸다. 또한, 크랙의 발생의 유무는 육안으로 판단했다.Each sample was evaluated using the general test method for paints - bending resistance (cylindrical mandrel method) described in JIS-K-5600-5-1. After storing each sample for 1 hour at a temperature of 25°C and a relative humidity of 55%, the coated surface (hard coat layer) was applied to a mandrel with a diameter (Φ) of 2, 3, 4, 5, 6, 8, 10, 12, 14, and 16 mm. ) was wound on the outside (with the base material on the inside), the occurrence of cracks was observed, and the minimum mandrel diameter at which no cracks occurred was evaluated. The smaller the diameter (Φ) of the mandrel, the better the bending resistance, and as cracks occur under conditions of a larger diameter, the bending resistance is inferior. In addition, the presence or absence of cracks was judged visually.

내굴곡성은 이하의 기준으로 평가했다.The bending resistance was evaluated according to the following criteria.

A: 2mmΦ 이하, B: 4mmΦ 이하 2mmΦ 보다 큼, C: 8mmΦ 이하 4mmΦ 보다 큼, D: 8mmΦ 보다 큼A: 2mmΦ or less, B: 4mmΦ or less but greater than 2mmΦ, C: 8mmΦ or less but greater than 4mmΦ, D: Greater than 8mmΦ

(자기 수복성)(self-repairing)

JIS S 6006으로 규정하는 4H의 시험용 연필을 이용하여, 4.9N의 하중으로, 육안으로 10개소 이상의 흠집이 확인될 때까지 하드 코트층의 표면을 반복하여 긁었다. 이 샘플을 질소 분위기하에서 85℃에서 1시간 가열한 후, 흠집을 관찰하고, 이하의 기준으로 자기 수복성을 평가했다.Using a 4H test pencil specified in JIS S 6006, the surface of the hard coat layer was repeatedly scratched with a load of 4.9 N until 10 or more scratches were visually confirmed. After heating this sample at 85°C for 1 hour in a nitrogen atmosphere, scratches were observed and self-healing properties were evaluated based on the following criteria.

A: 흠집이 사라졌다(90% 이상 회복했다), B: 흠집이 절반 이하로 감소했다(50% 이상 90% 미만 회복했다), C: 흠집이 감소했지만 절반 이하는 아니다(10% 이상 50% 미만 회복했다), D: 흠집이 감소하지 않았다(10% 미만 회복했다)A: The scratch has disappeared (more than 90% recovered), B: The scratch has decreased to less than half (more than 50% and less than 90% recovered), C: The scratch has decreased, but not less than half (10% and more than 50%) less than 10% recovered), D: Scratches did not decrease (less than 10% recovered)

(투과율)(transmittance)

UV-3100(시마즈 세이사쿠쇼제)을 이용하여 UV-Vis 흡수 스펙트럼을 측정하고, 모든 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름의 파장 450nm~700nm의 어느 파장에 있어서도 투과율이 80% 이상인 것을 확인했다.The UV-Vis absorption spectrum was measured using UV-3100 (manufactured by Shimadzu Seisakusho), and it was confirmed that the transmittance of the hard coat films of all examples and comparative examples was 80% or more at any wavelength from 450 nm to 700 nm.

[표 2][Table 2]

실시예 2 및 7의 중합성 화합물의 사용 비율은, 질량비율이다.The usage ratio of the polymerizable compounds in Examples 2 and 7 is mass ratio.

표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1~8의 하드 코트 필름은, 연필 경도, 내굴곡성, 및 자기 수복성이 우수했다.As shown in Table 2, the hard coat films of Examples 1 to 8 were excellent in pencil hardness, bending resistance, and self-healing property.

또, 실시예 1~8의 하드 코트 필름을 이용하여, 폴리이미드 기재를 외측으로 하여, 곡률 반경 1.5mm로 180° 절곡 시험을 1만회 반복하여 행한 경우에 크랙이 발생하지 않는 것을 확인했다.In addition, it was confirmed that no cracks occurred when a 180° bending test was repeated 10,000 times with a radius of curvature of 1.5 mm using the hard coat films of Examples 1 to 8 with the polyimide base material on the outside.

본 발명에 의하면, 연필 경도 및 내굴곡성이 우수하고, 또한 자기 수복성을 구비한 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 상기 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름, 상기 하드 코트 필름을 구비한 물품, 화상 표시 장치, 및 플렉시블 디스플레이를 제공할 수 있다.According to the present invention, a curable composition capable of forming a cured film that is excellent in pencil hardness and bending resistance and has self-healing properties, a hard coat film having a hard coat layer containing a cured product of the curable composition, and the hard coat. Articles equipped with coat films, image display devices, and flexible displays can be provided.

본 발명을 상세하게 또 특정 실시형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않고 다양한 변경이나 수정을 더할 수 있는 것은 당업자에게 있어 명확하다.Although the present invention has been described in detail and with reference to specific embodiments, it is clear to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention.

본 출원은, 2021년 3월 31일 출원된 일본 특허출원(특원 2021-062146)에 근거하는 것이며, 그 내용은 여기에 참조로서 원용된다.This application is based on a Japanese patent application (Japanese patent application 2021-062146) filed on March 31, 2021, the contents of which are incorporated herein by reference.

Claims (18)

분자량이 2000 이하인 중합성 화합물을 포함하는 경화성 조성물로서,
상기 경화성 조성물의 전고형분 중의 상기 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물의 함유율이 70질량% 이상이며,
분자 내에, 1개 이상의 수소 결합성기와 3개 이상의 (메트)아크릴기를 갖고, 수소 결합성의 프로톤가가 3.5mol/kg 이상이며, (메트)아크릴가가 5.0mol/kg 이상이고, 분자량이 2000 이하인 중합성 화합물 (a1)을 포함하는, 경화성 조성물.
A curable composition containing a polymerizable compound having a molecular weight of 2000 or less,
The content of the polymerizable compound having a molecular weight of 2000 or less in the total solid content of the curable composition is 70% by mass or more,
Polymerizable, having one or more hydrogen-bonding groups and three or more (meth)acrylic groups in the molecule, a hydrogen-bonding proton value of 3.5 mol/kg or more, a (meth)acrylic value of 5.0 mol/kg or more, and a molecular weight of 2000 or less. A curable composition comprising compound (a1).
청구항 1에 있어서,
상기 중합성 화합물 (a1)의 상기 수소 결합성의 프로톤가와 상기 (메트)아크릴가의 합이 10.5mol/kg 이상인, 경화성 조성물.
In claim 1,
A curable composition wherein the sum of the hydrogen bondable proton value and the (meth)acrylic value of the polymerizable compound (a1) is 10.5 mol/kg or more.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 경화성 조성물을 하기 경화 조건에서 경화시키고, 하기 측정 조건에서 측정한 탄성률이 9.5GPa 이상이며, 파단 신도가 10.0% 이상인, 경화성 조성물.
경화 조건: 두께 50μm의 폴리이미드 기재 상에, 상기 경화성 조성물을 건조 후의 두께가 11μm가 되도록 바 도포한 후, 120℃에서 1분간 건조시키고, 80℃ 하, 조도 60mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선으로 경화시켜 경화물을 형성한다.
측정 조건: 상기 폴리이미드 기재와 상기 경화물의 적층체에 대하여, 미소 경도계를 이용하여 최대 하중 50mN으로 측정한다.
In claim 1 or claim 2,
The curable composition is cured under the following curing conditions, and has an elastic modulus of 9.5 GPa or more and an elongation at break of 10.0% or more as measured under the following measurement conditions.
Curing conditions: On a polyimide substrate with a thickness of 50 μm, the curable composition was applied to a bar so that the thickness after drying was 11 μm, then dried at 120 ° C. for 1 minute, at 80 ° C., illuminance 60 mW / cm 2 , irradiation dose 600 mJ / cm. 2 is cured with ultraviolet rays to form a cured product.
Measurement conditions: The laminate of the polyimide substrate and the cured product is measured with a maximum load of 50 mN using a micro hardness tester.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화성 조성물의 전고형분 중의 상기 중합성 화합물 (a1)의 함유율이, 51질량% 이상인, 경화성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A curable composition wherein the content of the polymerizable compound (a1) in the total solid content of the curable composition is 51% by mass or more.
청구항 3에 있어서,
상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물의 파장 400~700nm의 영역에 있어서의 투과율이, 어느 파장에 있어서도 80% 이상인, 경화성 조성물.
In claim 3,
A curable composition wherein the cured product obtained by curing the curable composition under the curing conditions has a transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm of 80% or more at any wavelength.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수소 결합성기가, 유레테인기, 싸이오유레테인기, 유레아기, 싸이오유레아기, 아마이드기, 및 싸이오아마이드기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나인, 경화성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5,
A curable composition wherein the hydrogen bonding group is at least one selected from the group consisting of a urethane group, a thiourethane group, a urea group, a thiourea group, an amide group, and a thioamide group.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합성 화합물 (a1)이, 하기 일반식 (1) 또는 (2)로 나타나는 화합물인, 경화성 조성물.
[화학식 1]

일반식 (1) 중, R은 치환기를 나타내고, X는 C 또는 N을 나타내며, L1 및 L2는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, A는 수소 결합성기를 나타내며, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 0~2의 정수를 나타내며, n은 2~4의 정수를 나타낸다. 단, X가 C를 나타내는 경우는 m과 n의 합은 4이며, X가 N을 나타내는 경우는 m과 n의 합은 3이다. m이 2를 나타내는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 상이해도 된다. 복수의 L1, A, L2, 및 Q는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.
[화학식 2]

일반식 (2) 중, Z는 k+w가의 연결기를 나타내고, L3 및 L4는 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, A는 수소 결합성기를 나타내고, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, R은 치환기를 나타내고, k는 2~8의 정수를 나타내며, w는 0~2의 정수를 나타낸다. 복수의 L3, A, L4, 및 Q는 각각 동일해도 되고 상이해도 된다. w가 2를 나타내는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 상이해도 된다.
The method according to any one of claims 1 to 6,
A curable composition wherein the polymerizable compound (a1) is a compound represented by the following general formula (1) or (2).
[Formula 1]

In general formula (1) , R represents a substituent , represents an atom or a methyl group, m represents an integer from 0 to 2, and n represents an integer from 2 to 4. However, when X represents C, the sum of m and n is 4, and when X represents N, the sum of m and n is 3. When m represents 2, the two R's may be the same or different. A plurality of L 1 , A, L 2 , and Q may each be the same or different.
[Formula 2]

In general formula (2), Z represents a k+w valent linking group, L 3 and L 4 each independently represent a single bond or a divalent linking group, A represents a hydrogen bonding group, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group. , R represents a substituent, k represents an integer of 2 to 8, and w represents an integer of 0 to 2. A plurality of L 3 , A, L 4 , and Q may each be the same or different. When w represents 2, the two R's may be the same or different.
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
불소계 화합물 및 실리콘계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 화합물을 더 포함하는, 경화성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 7,
A curable composition further comprising at least one compound selected from the group consisting of fluorine-based compounds and silicone-based compounds.
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
용매를 더 포함하고, 상기 용매의 80질량% 이상이 유기 용매인, 경화성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 8,
A curable composition further comprising a solvent, wherein 80% by mass or more of the solvent is an organic solvent.
청구항 3에 있어서,
상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시킨 경화물에 있어서, 상기 경화성 조성물에 포함되는 (메트)아크릴기의 80몰% 이상이, (메트)아크릴기 이외의 기로 변화되어 있는, 경화성 조성물.
In claim 3,
In the cured product obtained by curing the curable composition under the curing conditions, 80 mol% or more of the (meth)acrylic groups contained in the curable composition are changed to groups other than (meth)acrylic groups.
청구항 3에 있어서,
상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시켜 얻어진 상기 폴리이미드 기재와 상기 경화물의 적층체를 이용하여, 상기 폴리이미드 기재를 외측으로 하여, 곡률 반경 1.5mm로 180° 절곡 시험을 1만회 반복하여 행한 경우에 크랙이 발생하지 않는, 경화성 조성물.
In claim 3,
Using a laminate of the polyimide substrate and the cured product obtained by curing the curable composition under the curing conditions, the 180° bending test was repeated 10,000 times with the polyimide substrate facing outward at a radius of curvature of 1.5 mm. A curable composition that does not cause cracks.
청구항 3에 있어서,
상기 경화성 조성물을 상기 경화 조건에서 경화시켜 얻어진 상기 폴리이미드 기재와 상기 경화물의 적층체를 이용하여, 상기 폴리이미드 기재를 내측으로 하여, 원통형 맨드릴법에 의하여 내굴곡성 시험을 행한 경우에, 직경 4mm의 맨드릴로 크랙이 발생하지 않는, 경화성 조성물.
In claim 3,
When a bending resistance test was conducted using a laminate of the polyimide base material and the cured product obtained by curing the curable composition under the above curing conditions using the cylindrical mandrel method with the polyimide base material on the inside, a bending resistance test of 4 mm in diameter was performed. A curable composition that does not crack with a mandrel.
기재와, 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름.A hard coat film having a base material and a hard coat layer containing a cured product of the curable composition according to any one of claims 1 to 12. 청구항 13에 있어서,
상기 하드 코트 필름의 파장 450~700nm의 영역에 있어서의 투과율이, 어느 파장에 있어서도 80% 이상인, 하드 코트 필름.
In claim 13,
A hard coat film whose transmittance in the wavelength range of 450 to 700 nm is 80% or more at any wavelength.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기재가, 폴리이미드, 폴리아라미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리유레테인, 아크릴 수지, 및 셀룰로스 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리머를 포함하는, 하드 코트 필름.
In claim 13 or claim 14,
A hard coat film wherein the substrate contains at least one polymer selected from the group consisting of polyimide, polyaramid, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, polyurethane, acrylic resin, and cellulose resin. .
청구항 13 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름을 구비한 물품.An article provided with the hard coat film according to any one of claims 13 to 15. 청구항 13 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름을 표면 보호 필름으로서 구비한 화상 표시 장치.An image display device comprising the hard coat film according to any one of claims 13 to 15 as a surface protection film. 청구항 13 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름을 표면 보호 필름으로서 구비한 플렉시블 디스플레이.A flexible display comprising the hard coat film according to any one of claims 13 to 15 as a surface protection film.
KR1020237032020A 2021-03-31 2022-03-16 Curable compositions, hard coat films, articles having hard coat films, image display devices, and flexible displays KR20230147167A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021062146 2021-03-31
JPJP-P-2021-062146 2021-03-31
PCT/JP2022/012086 WO2022209922A1 (en) 2021-03-31 2022-03-16 Curable composition, hardcoat film, and product, image display device, and flexible display including hardcoat film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230147167A true KR20230147167A (en) 2023-10-20

Family

ID=83459076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020237032020A KR20230147167A (en) 2021-03-31 2022-03-16 Curable compositions, hard coat films, articles having hard coat films, image display devices, and flexible displays

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2022209922A1 (en)
KR (1) KR20230147167A (en)
CN (1) CN117120485A (en)
WO (1) WO2022209922A1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009142237A1 (en) 2008-05-23 2009-11-26 昭和電工株式会社 Curable composition containing a reactive (meth)acrylate polymer and a cured product thereof
JP2010049029A (en) 2008-08-21 2010-03-04 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5019833B2 (en) * 2006-09-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 Curable composition, color filter and method for producing the same
WO2017014161A1 (en) * 2015-07-17 2017-01-26 富士フイルム株式会社 Curable composition
JP6668212B2 (en) * 2016-09-29 2020-03-18 四国化成工業株式会社 (Meth) acrylate compound, method for synthesizing the same and use of the (meth) acrylate compound
WO2018212061A1 (en) * 2017-05-16 2018-11-22 富士フイルム株式会社 Laminate, kit, and method for producing laminate
WO2020066630A1 (en) * 2018-09-27 2020-04-02 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing laminate, and laminate
CN113614130B (en) * 2019-03-22 2024-05-03 富士胶片株式会社 Curable resin composition, cured film, laminate, method for producing cured film, and semiconductor device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009142237A1 (en) 2008-05-23 2009-11-26 昭和電工株式会社 Curable composition containing a reactive (meth)acrylate polymer and a cured product thereof
JP2010049029A (en) 2008-08-21 2010-03-04 Fujifilm Corp Photosensitive resin composition, color filter and method of producing the same, and solid-state imaging device

Also Published As

Publication number Publication date
CN117120485A (en) 2023-11-24
JPWO2022209922A1 (en) 2022-10-06
WO2022209922A1 (en) 2022-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6973476B2 (en) Polyimide film, laminates, and surface materials for displays
US11566108B2 (en) Polyimide film, laminate and surface material for display
US11654665B2 (en) Window cover film and flexible display panel including the same
JP7363019B2 (en) Display materials, touch panel materials, liquid crystal display devices, and organic electroluminescent display devices
US11613615B2 (en) Polyimide-based composite film and display device comprising same
WO2018230495A1 (en) Layered body, surface material for displays, touch panel member, liquid crystal display device, and organic electroluminescence display device
JP2001262011A (en) Fluorine-containing curable coating liquid and its use and production method
JP6808956B2 (en) Laminate
CN113167929B (en) Hard coat film, article provided with hard coat film, and image display device
TW201914813A (en) Layered product, polarizing plate, and image display device
JP7139715B2 (en) Polyimide film, laminate, display surface material, touch panel member, liquid crystal display device, and organic electroluminescence display device
WO2018062190A1 (en) Polyimide film, laminate, and display surface material
US11796718B2 (en) Optical laminate and flexible display panel including the same
US11970592B2 (en) Window cover film and flexible display panel including the same
JP2018104682A (en) Polyimide film, polyimide, polyimide precursor, laminate, and surface material for displays
JP2023154059A (en) Polyimide film, laminate, member for display, touch panel member, liquid crystal display device, and organic electronic luminescent display device
JP7377261B2 (en) Hard coat film, article equipped with hard coat film, and image display device
JP7280963B2 (en) Composition for forming hard coat layer, hard coat film, method for producing hard coat film, and article containing hard coat film
WO2019078051A1 (en) Polyimide film, polyimide film production method, laminate, surface material for display, touch panel member, liquid crystal display device, and organic electroluminescence display device
KR20230147167A (en) Curable compositions, hard coat films, articles having hard coat films, image display devices, and flexible displays
CN113840854B (en) Resin composition, hard-coated film and polysilsesquioxane
JP7247510B2 (en) Polyimide film, method for producing polyimide film, laminate, display surface material, touch panel member, liquid crystal display device, and organic electroluminescence display device
JP7388011B2 (en) Polyimide films, polyimide materials, laminates, display members, touch panel members, liquid crystal display devices, and organic electroluminescent display devices
JP2022053257A (en) Dry film and laminate
US11731410B2 (en) Polyamide-based composite film and display device comprising the same