KR20110060810A - Antireflective laminate and manufacturing method thereof, and curable composition - Google Patents
Antireflective laminate and manufacturing method thereof, and curable composition Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110060810A KR20110060810A KR1020100114353A KR20100114353A KR20110060810A KR 20110060810 A KR20110060810 A KR 20110060810A KR 1020100114353 A KR1020100114353 A KR 1020100114353A KR 20100114353 A KR20100114353 A KR 20100114353A KR 20110060810 A KR20110060810 A KR 20110060810A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mmol
- group concentration
- less
- curable composition
- concentration
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
Abstract
Description
본 발명은, 반사 방지용 적층체 및 그 제조 방법, 그리고 경화성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection laminate, a method for producing the same, and a curable composition.
최근, 텔레비전이나 퍼스널 컴퓨터 등의 표시 장치로서, 액정 표시 장치가 사용되고 있다. 이러한 액정 표시 장치에 있어서, 외광의 비침을 방지하여 화질을 향상시키기 위해, 저(低)굴절률층을 함유하는 반사 방지막을 사용하는 것이 제안되고 있다.In recent years, a liquid crystal display device is used as a display device, such as a television and a personal computer. In such a liquid crystal display device, it is proposed to use an antireflection film containing a low refractive index layer in order to prevent external light from shining and to improve image quality.
종래의 액정 표시 장치에 사용되는 반사 방지막은, 저굴절률층과 하드코팅층을 다층 도공함으로써 저굴절률성 및 내찰상성(scratch resistance)을 구비하고 있었다. 이러한 다층 구조를 갖는 반사 방지막은, 저굴절률층에 있어서 반사율을 저감시킬 수 있지만, 다층 구조로 하기 때문에 생산성이나 비용에서 뒤떨어진다는 문제가 있었다. 또한, 저굴절률층과 하드코팅층을 적층시킴으로써 제조된 반사 방지막은, 저굴절률층과 하드코팅층과의 계면에서 박리가 일어나기 쉽다는 문제를 안고 있었다.The anti-reflection film used for the conventional liquid crystal display device had low refractive index and scratch resistance by coating the low refractive index layer and the hard coating layer in multiple layers. Although the antireflection film which has such a multilayered structure can reduce a reflectance in a low refractive index layer, since it has a multilayered structure, there existed a problem that it was inferior in productivity and cost. In addition, the antireflection film produced by laminating the low refractive index layer and the hard coating layer has a problem that peeling easily occurs at the interface between the low refractive index layer and the hard coating layer.
이러한 문제를 해결하기 위해, 불소 실란으로 실리카 입자를 수식하고, 표면 에너지에 의해 그 액체 중에서 실리카 입자를 편재화시키고 나서 경화막을 형성한다는 반사 방지막의 제조 방법이 제안되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).In order to solve such a problem, the manufacturing method of the anti-reflective film which modifies a silica particle with fluorine silane, localizes a silica particle in the liquid by surface energy, and forms a cured film is proposed (for example, patent document) 1).
그러나, 특허문헌 1에 기재된 방법에서는, 실리카 입자의 편재성이 불안정하다는 문제가 있었다.However, in the method of patent document 1, there existed a problem that the locality of a silica particle was unstable.
그래서, 본 발명에 따른 몇 가지 실시 형태는, 상기 과제를 해결함으로써 저굴절률성 및 내찰상성이 우수한 경화막을 한번의 도포 공정으로 형성할 수 있는 경화성 조성물, 혹은 당해 경화막을 갖는 반사 방지용 적층체 및 그의 제조 방법을 제공하는 것이다.Then, some embodiment which concerns on this invention is a curable composition which can form the cured film excellent in low refractive index and abrasion resistance by one coating process by solving the said subject, or the reflection prevention laminated body which has this cured film, and its It is to provide a manufacturing method.
본 발명은 전술한 과제의 적어도 일부를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 이하의 실시 형태 또는 적용예로서 실현할 수 있다.This invention is made | formed in order to solve at least one part of the subject mentioned above, and can be implement | achieved as the following embodiment or application example.
[적용예 1][Application Example 1]
본 발명에 따른 반사 방지용 적층체의 일 실시 형태는, One embodiment of the antireflection laminate according to the present invention is,
기재 상에,On the substrate,
하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 매트릭스와, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 경화막을 갖고,A matrix having at least one polar group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, and containing a hydroxyl group concentration, a carboxyl group concentration, and a phosphoric acid in 1 g of the matrix. It has a cured film whose sum of ester group concentration and sulfo group concentration is 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less,
상기 입자가 상기 경화막 중에 있어서 상기 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 편재되어 있는 것을 특징으로 한다.The said particle is localized in the surface side opposite to the surface which contacts the said base material in the said cured film, It is characterized by the above-mentioned.
이러한 반사 방지용 적층체에 의하면, 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 굴절률이 1.40 이하인 입자가 고밀도로 존재하는 층을 갖고, 기재와 접촉하는 면측에 1.40 이하인 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층을 갖고 있기 때문에, 내찰상성 및 저굴절률성의 쌍방을 겸비할 수 있다.According to such an antireflection laminate, there is provided a layer having a high density of particles having a refractive index of 1.40 or less on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate, and a layer substantially free of particles of 1.40 or less on the surface side in contact with the substrate. Since it has, it can have both scratch resistance and low refractive index.
[적용예 2][Application example 2]
적용예 1의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 1,
상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하일 수가 있다.The hydroxyl group concentration in 1 g of the matrix may be 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
[적용예 3][Application Example 3]
적용예 1의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 1,
상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in the matrix 1g may be 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
[적용예 4][Application example 4]
적용예 1의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 1,
상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in the matrix 1g may be 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
[적용예 5][Application Example 5]
적용예 1의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 1,
상기 입자는 중공(hollow) 실리카 입자일 수 있다.The particles may be hollow silica particles.
[적용예 6][Application Example 6]
본 발명에 따른 반사 방지용 적층체의 일 실시 형태는,One embodiment of the antireflection laminate according to the present invention is,
기재 상에,On the substrate,
하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물과, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 경화성 조성물의 경화막을 갖고,The hydroxyl group concentration in 1 g of all polymeric compounds containing the polymeric compound which has 1 or more types of polar groups chosen from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group, and a refractive index is 1.40 or less, and a carboxyl It has a cured film of the curable composition whose sum of group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration is 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less,
상기 입자가 상기 경화막 중에 있어서 상기 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 편재되어 있는 것을 특징으로 한다.The said particle is localized in the surface side opposite to the surface which contacts the said base material in the said cured film, It is characterized by the above-mentioned.
이러한 반사 방지용 적층체에 의하면, 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 굴절률이 1.40 이하인 입자가 고밀도로 존재하는 층을 갖고, 기재와 접촉하는 면측에 1.40 이하인 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층을 갖고 있기 때문에, 내찰상성 및 저굴절률성의 쌍방을 겸비할 수 있다.According to such an antireflection laminate, there is provided a layer having a high density of particles having a refractive index of 1.40 or less on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate, and a layer substantially free of particles of 1.40 or less on the surface side in contact with the substrate. Since it has, it can have both scratch resistance and low refractive index.
[적용예 7][Application Example 7]
적용예 6의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 6,
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하일 수 있다.The hydroxyl group concentration in 1 g of the total polymerizable compounds may be 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
[적용예 8][Application Example 8]
적용예 6의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 6,
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in the total polymerizable compound 1g may be 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
[적용예 9][Application Example 9]
적용예 6의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 6,
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in the total polymerizable compound 1g may be 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
[적용예 10][Application Example 10]
적용예 6의 반사 방지용 적층체에 있어서,In the antireflection laminate of Application Example 6,
상기 입자는 중공 실리카 입자일 수 있다.The particles may be hollow silica particles.
[적용예 11][Application Example 11]
적용예 1 내지 적용예 10 중 어느 일 예에 있어서,In any one of the application examples 1-10,
상기 기재는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름일 수 있다. The substrate may be a triacetyl cellulose resin film or a polyethylene terephthalate resin film.
[적용예 12]Application Example 12
본 발명에 따른 반사 방지용 적층체의 제조 방법의 일 실시 형태는,One embodiment of the method for producing an antireflective laminate according to the present invention,
하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물과, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 경화성 조성물을 기재에 도포한 후, 경화시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.The hydroxyl group concentration in 1 g of all polymeric compounds containing the polymeric compound which has 1 or more types of polar groups chosen from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group, and a refractive index is 1.40 or less, and a carboxyl It is characterized by including the process of hardening | curing after apply | coating to a base material curable composition whose sum of group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration is 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
이러한 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 의하면, 상기 조건을 충족하는 경화성 조성물을 기재에 한번 도포하여 경화시킴으로써, 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 굴절률이 1.40 이하인 입자가 고밀도로 존재하는 층을 형성하고, 기재와 접촉하는 면측에 1.40 이하인 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층을 형성할 수 있다. 이에 따라, 내찰상성 및 저굴절률성의 쌍방을 겸비한 반사 방지용 적층체를 제조할 수 있다.According to the method for producing an antireflective laminate, a layer having a high density of particles having a refractive index of 1.40 or less is present on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate by applying a curable composition that satisfies the above conditions to the substrate and curing it. It is possible to form a layer which is substantially free of particles of 1.40 or less on the surface side in contact with the substrate. Thereby, the antireflection laminated body which has both scratch resistance and low refractive index can be manufactured.
[적용예 13][Application Example 13]
적용예 12의 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the reflection prevention laminated body of the application example 12,
상기 경화성 조성물의 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하일 수 있다.The hydroxyl group concentration in 1 g of all the polymerizable compounds of the curable composition may be 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
[적용예 14][Application Example 14]
적용예 12의 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the reflection prevention laminated body of the application example 12,
상기 경화성 조성물의 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in 1 g of the total polymerizable compound of the curable composition may be 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
[적용예 15][Application Example 15]
적용예 12의 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the reflection prevention laminated body of the application example 12,
상기 경화성 조성물의 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하일 수 있다.The total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in 1 g of the total polymerizable compound of the curable composition may be 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
[적용예 16][Application Example 16]
적용예 12의 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the reflection prevention laminated body of the application example 12,
상기 입자는 중공 실리카 입자일 수 있다.The particles may be hollow silica particles.
[적용예 17][Application Example 17]
적용예 12 내지 적용예 16 중 어느 일 예의 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the reflection prevention laminated body of any one of the application examples 12-16,
상기 기재는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름일 수 있다. The substrate may be a triacetyl cellulose resin film or a polyethylene terephthalate resin film.
[적용예 18][Application Example 18]
본 발명에 따른 경화성 조성물의 일 실시 형태는,One embodiment of the curable composition according to the present invention,
하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물과, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 것을 특징으로 한다.The hydroxyl group concentration in 1 g of all polymeric compounds containing the polymeric compound which has 1 or more types of polar groups chosen from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group, and a refractive index is 1.40 or less, and a carboxyl The sum of the group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration is characterized by being 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
[적용예 19][Application Example 19]
적용예 18의 경화성 조성물에 있어서,In the curable composition of Application Example 18,
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하일 수 있다.The hydroxyl group concentration in 1 g of the total polymerizable compounds may be 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
[적용예 20][Application Example 20]
적용예 18의 경화성 조성물에 있어서,In the curable composition of Application Example 18,
상기 중합성 화합물로서 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트를 함유할 수 있다.2-hydroxyethyl (meth) acrylate can be contained as said polymeric compound.
[적용예 21]Application Example 21
적용예 18의 경화성 조성물에 있어서,In the curable composition of Application Example 18,
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in the total polymerizable compound 1g may be 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
[적용예 22][Application Example 22]
적용예 18의 경화성 조성물에 있어서,In the curable composition of Application Example 18,
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하일 수 있다.The sum of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration and the sulfo group concentration in the total polymerizable compound 1g may be 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
[적용예 23]Application Example 23
적용예 18 내지 적용예 22 중 어느 일 예의 경화성 조성물에 있어서,In the curable composition of any one of Application Examples 18 to 22,
상기 입자는 중공 실리카 입자일 수 있다.The particles may be hollow silica particles.
본 발명에 따른 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 의하면, 특정의 경화성 조성물을 기재에 한번 도포하여 경화시킴으로써 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 굴절률이 1.40 이하인 입자가 고밀도로 존재하는 층을 형성하고, 기재와 접촉하는 면측에 1.40 이하인 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층을 형성할 수 있다. 이에 따라, 내찰상성 및 저굴절률성의 쌍방을 겸비한 반사 방지용 적층체를 제조할 수 있다.According to the method for producing an antireflective laminate according to the present invention, by applying a specific curable composition to a substrate once and curing, a layer having a high density of particles having a refractive index of 1.40 or less is present on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate. And it is possible to form a layer where substantially no particles of 1.40 or less are present on the surface side in contact with the substrate. Thereby, the antireflection laminated body which has both scratch resistance and low refractive index can be manufactured.
도 1은 본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체를 모식적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing the antireflection laminate according to the present embodiment.
(발명을 실시하기 위한 형태)(Form to carry out invention)
이하, 본 발명에 따른 매우 적합한 실시 형태에 대해서 상세히 설명한다. 또한, 본 발명은, 하기의 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위에 있어서 실시되는 각종의 변형예도 포함한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the highly suitable embodiment which concerns on this invention is described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, and also includes various modified examples implemented in the range which does not change the summary of this invention.
1. 경화성 조성물1. Curable Composition
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, (A1) 하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물과, (B) 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유한다. 이하, 본 실시 형태에 따른 경화성 조성물의 각 성분에 대해서 상세히 설명한다. 또한, 이하의 기재에 있어서 (A) 내지 (D)의 각 재료를, 각각 (A) 성분 내지 (D) 성분으로 생략하여 기재하는 경우도 있다.The curable composition which concerns on this embodiment contains the polymeric compound which has 1 or more types of polar groups chosen from (A1) hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group, and (B) particle | grains whose refractive index is 1.40 or less. . Hereinafter, each component of the curable composition which concerns on this embodiment is demonstrated in detail. In addition, in the following description, each material of (A)-(D) may be abbreviate | omitted and described as (A) component-(D) component, respectively.
1.1. (A) 중합성 화합물1.1. (A) polymerizable compound
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, (A) 중합성 화합물을 함유한다. (A) 중합성 화합물은 중합성 관능기를 갖는 화합물이며, (메타)아크릴로일기, 비닐기 또는 에폭시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 또한, (A) 중합성 화합물에는, (A1) 하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물이 포함된다. 본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, 상기 (A1) 극성기를 갖는 중합성 화합물을 함유하고 있으면 좋고, 이 이외의 극성기를 갖지 않는 중합성 화합물(이하, (A2) 성분이라고도 함)을 함유해도 좋다. 상기 (A1) 극성기를 갖는 중합성 화합물의 기능의 하나로서는, 경화막을 형성할 때에 후술하는 (B) 성분의 편재화를 일으켜, 경화성 조성물의 성막성을 높이는 것을 들 수 있다.The curable composition which concerns on this embodiment contains the (A) polymeric compound. (A) A polymeric compound is a compound which has a polymerizable functional group, and it is preferable that it is a compound which has a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an epoxy group. In addition, the polymerizable compound (A) includes a polymerizable compound having at least one polar group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group. The curable composition which concerns on this embodiment should just contain the polymeric compound which has the said (A1) polar group, and may contain the polymeric compound (henceforth a (A2) component) which does not have other polar groups other than this. As one of the functions of the polymeric compound which has the said (A1) polar group, when forming a cured film, localization of (B) component mentioned later is raised and the film-forming property of a curable composition is mentioned.
(A1) 성분으로서는, 하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖고 있으면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 (메타)아크릴에스테르류이다.The component (A1) is not particularly limited as long as it has at least one polar group selected from hydroxyl group, carboxyl group, phosphate ester group and sulfo group, but is preferably (meth) acrylic ester.
하이드록실기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 헥사하이드로프탈산 에폭시아크릴레이트, 글리세린에폭시아크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸비닐에테르 등을 들 수 있다.As a polymeric compound which has a hydroxyl group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( Meta) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexahydrophthalic acid epoxy acrylate, glycerin epoxy acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, and the like. Can be mentioned.
카복실기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 아크릴산, 아크릴산 다이머, 숙신산 변성 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 2,2,2-트리아크릴로일옥시메틸에틸숙신산, 10-메타크릴로일옥시데카메틸렌말론산, 4-메타아크릴로일아미노살리실산, 4-메타아크릴로일옥시에틸옥시카보닐프탈산, 4-메타아크릴로일옥시에틸옥시카보닐프탈산 무수물, N-메틸아크릴로일-N',N'-디카복시메틸-1,4-디아미노벤젠, N-2-하이드록시-3-메타크릴로일옥시프로필-N-페닐글리신, 4-비닐벤조산, 3,4,3',4'-비페닐테트라카본산 무수물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트의 1:2 부가물, 필로멜리트산 무수물과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트의 1:2 부가물 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable compound having a carboxyl group include acrylic acid, acrylic acid dimer, succinic acid-modified dipentaerythritol pentaacrylate, 2,2,2-triacryloyloxymethylethyl succinic acid, and 10-methacryloyloxy deca. Methylenemalonic acid, 4-methacryloylaminosalicylic acid, 4-methacryloyloxyethyloxycarbonylphthalic acid, 4-methacryloyloxyethyloxycarbonylphthalic anhydride, N-methylacryloyl-N ', N'-dicarboxymethyl-1,4-diaminobenzene, N-2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl-N-phenylglycine, 4-vinylbenzoic acid, 3,4,3 ', 4' -1: 2 adduct of biphenyl tetracarboxylic anhydride and 2-hydroxyethyl methacrylate, 1: 2 adduct of pilomellitic anhydride and 2-hydroxyethyl methacrylate, etc. are mentioned.
인산 에스테르기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 인산 트리아크릴레이트, 2-메타크릴로일옥시에틸인산, 2-메타크릴로일옥시에틸페닐인산, 10-메타크릴로일옥시데카메틸렌인산, 4-비닐벤질인산, 펜타아크릴로일디펜타에리트리톨인산 등을 들 수 있다.As a polymeric compound which has a phosphoric acid ester group, phosphoric acid triacrylate, 2-methacryloyloxyethyl phosphoric acid, 2-methacryloyloxyethylphenyl phosphoric acid, 10-methacryloyloxy decamethylene phosphoric acid, 4-vinyl benzyl phosphoric acid, pentaacryloyl dipentaerythritol phosphoric acid, etc. are mentioned.
술포기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산 등을 들 수 있다.As a polymeric compound which has a sulfo group, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid etc. are mentioned, for example.
(A1) 성분으로서는, 상기 예시한 성분 중, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아크릴산, 아크릴산 다이머, 숙신산 변성 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 2,2,2-트리아크릴로일옥시메틸에틸숙신산, 인산 트리아크릴레이트, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산 등을 함유하고 있는 것이 바람직하다.As the component (A1), pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acrylic acid, acrylic acid dimer, succinic acid-modified dipentaerythritol pentaacrylate, 2, It is preferable to contain 2, 2- triacryloyl oxymethyl ethyl succinic acid, triacrylate phosphate, 2-acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, etc.
(A1) 성분을 함유함으로써, 기재와 접촉하고 있는 면과는 반대측의 면에 (B) 성분이 편재화된 경화막을 형성시키기 쉽게 할 수 있다.By containing the component (A1), it is possible to easily form a cured film in which the component (B) is localized on the surface on the side opposite to the surface in contact with the substrate.
이들 (A1) 극성기를 갖는 중합성 화합물은, 1종 단독 또는 2종 이상 혼합하여 이용해도 좋고, 전술한 바와 같이 (A2) 극성기를 갖지 않는 중합성 화합물과 병용해도 좋다.The polymeric compound which has these (A1) polar groups may be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types, and may be used together with the polymeric compound which does not have a (A2) polar group as mentioned above.
(A2) 극성기를 갖지 않는 중합성 화합물은, 경화성 조성물의 성막성을 높일 목적으로 이용된다. (A2) 극성기를 갖지 않는 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 다관능의 (메타)아크릴에스테르 화합물, 다관능의 비닐 화합물, 다관능의 에폭시 화합물, 알콕시메틸아민 화합물을 들 수 있고, 다관능의 (메타)아크릴에스테르 화합물이 바람직하다. 다관능의 (메타)아크릴에스테르 화합물로서는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 다관능의 비닐 화합물로서는, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다. 다관능의 에폭시 화합물로서는, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 알콕시메틸아민 화합물로서는, 헥사메톡시메틸화 멜라민, 헥사부톡시메틸화 멜라민, 테트라메톡시메틸화 글리콜우릴, 테트라부톡시메틸화 글리콜우릴 등을 들 수 있다.The polymeric compound which does not have a (A2) polar group is used for the purpose of improving the film-forming property of a curable composition. (A2) As a polymeric compound which does not have a polar group, a polyfunctional (meth) acrylic ester compound, a polyfunctional vinyl compound, a polyfunctional epoxy compound, an alkoxymethylamine compound is mentioned, for example, (Meth) acrylic ester compound is preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylic ester compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1, 3- butanediol di (meth) acrylate, 1, 4- butanediol di (meth) acryl Rate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydro Oxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, etc. are mentioned. Examples of the polyfunctional vinyl compound include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and the like. As a polyfunctional epoxy compound, 1, 4- butanediol diglycidyl ether, 1, 6- hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, and polyethylene glycol di Glycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, and the like. Examples of the alkoxymethylamine compound include hexamethoxymethylated melamine, hexabutoxymethylated melamine, tetramethoxymethylated glycoluril, tetrabutoxymethylated glycoluril and the like.
또한, 본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에 있어서, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 극성기 농도는, 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하의 범위에 있을 필요가 있다.Moreover, in the curable composition which concerns on this embodiment, as for the polar group concentration in 1 g of all polymeric compounds, the sum total of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration is 0.5 mmol / g or more and 15 mmol. It must be in the range of / g or less.
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에 있어서, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도는 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 것이 바람직하다. 또한, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계는 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하인 것이 바람직하고, 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하인 것이 보다 바람직하다.In the curable composition according to the present embodiment, the hydroxyl group concentration in the total polymerizable compound 1g is preferably 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less. Moreover, it is preferable that the sum total of the carboxyl group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration in 1 g of all polymeric compounds is 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less, and it is more preferable that they are 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less. Do.
전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 극성기 농도가 상기 범위를 충족함으로써, 본 실시 형태에 따른 경화성 조성물을 기재 상에 도포한 경우, (A1) 성분의 극성기와 기재와의 상호 작용에 의해 (A1) 성분이 기재와 접촉하고 있는 면 방향으로 이행한다. 그 작용에 의해, 후술하는 (B) 성분이 기재와 접촉하고 있는 면과는 반대측의 면에 편재화 된다고 생각된다. 이러한 상태에서 경화성 조성물을 경화시킴으로써, 기재와 접촉하고 있는 면과는 반대측의 면에 (B) 성분이 편재화된 경화막을 형성할 수 있다. 이러한 경화막은, 경화막의 표면에 (B) 성분이 편재화되어 있기 때문에 반사 방지 기능이 우수한 것이 된다. 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 극성기 농도가 상기 범위를 충족하지 않는 경우에는, 경화막의 표면에 (B) 성분을 편재화시킬 수 없어, 경화막의 반사 방지 기능이 손상되어 버린다. 또한, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도가 상기 범위를 초과하면, (D) 용제로의 용해성이 저하되고 도포성이 악화될 우려가 있다.When the polar group concentration in 1 g of all the polymerizable compounds satisfy | fills the said range, and when apply | coating the curable composition concerning this embodiment on a base material, it is a component (A1) by interaction of the polar group of (A1) component with a base material. It moves to the surface direction which is in contact with this base material. It is thought that by this effect, (B) component mentioned later is localized on the surface on the opposite side to the surface which contact | connects a base material. By hardening curable composition in such a state, the cured film in which (B) component was localized can be formed in the surface on the opposite side to the surface which is in contact with a base material. Since the (B) component is localized on the surface of a cured film, such a cured film becomes the thing excellent in the antireflection function. When the polar group concentration in 1 g of the total polymerizable compounds does not satisfy the above range, the component (B) cannot be localized on the surface of the cured film, and the antireflection function of the cured film is impaired. Moreover, when carboxyl group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration exceed the said range, there exists a possibility that the solubility to (D) solvent may fall and applicability may deteriorate.
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에 있어서의 (A) 성분의 함유량은, 용제를 제외한 성분의 합계를 100질량％로 했을 때에 60∼99.5질량％의 범위 내이며, 70∼99질량％의 범위 내인 것이 바람직하고, 80∼98질량％의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. (A) 성분이 상기 범위로 배합됨으로써, 고경도를 갖는 경화막을 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 기재와 접촉하고 있는 면과는 반대측의 면에 (B) 성분을 편재화시키는 것이 용이해진다.Content of (A) component in the curable composition which concerns on this embodiment is in the range of 60-99.9 mass%, when it makes the sum total of the component except a solvent 100 mass%, and it exists in the range of 70-99 mass%. It is preferable and it is more preferable to exist in the range of 80-98 mass%. By mix | blending (A) component in the said range, not only the cured film which has high hardness can be obtained, but it becomes easy to localize (B) component to the surface on the opposite side to the surface which contact | connects a base material.
1.2. (B) 입자1.2. (B) particles
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, (B) 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유한다. 이러한 입자가 경화막의 표면에 편재화됨으로써 저굴절률층을 형성하여, 경화막에 반사 방지막으로서의 기능을 부여할 수 있다. 또한, 당해 입자가 경화막의 표면에 편재화됨으로써, 경화막의 표면 경도를 향상시키거나, 컬(curl)을 작게 하거나 하는 효과도 기대된다.The curable composition which concerns on this embodiment contains the particle | grains whose (B) refractive index is 1.40 or less. Such particles are localized on the surface of the cured film to form a low refractive index layer, and the cured film can be provided with a function as an antireflection film. Moreover, when the said particle | grain is localized on the surface of a cured film, the effect of improving the surface hardness of a cured film or making curl small is also expected.
입자로서는, 굴절률이 1.40 이하의 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 중공 실리카 입자, 불화 금속 입자 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 실리카를 주성분으로 하는 중공 실리카 입자인 것이 바람직하다. 중공 실리카 입자는 그 내부에 공동(空洞)을 갖기 때문에, 중실(中實) 입자와 비교하여 보다 저굴절률화할 수 있다.The particle is not particularly limited as long as the refractive index is 1.40 or less, and examples thereof include hollow silica particles and metal fluoride particles. Among these, it is preferable that they are hollow silica particles which have silica as a main component. Since the hollow silica particles have voids therein, the refractive index of the hollow silica particles can be made lower than that of the solid particles.
입자의 굴절률은 1.40 이하이고, 바람직하게는 1.35 이하, 보다 바람직하게는 1.30 이하이다. 굴절률을 1.40 이하로 한 이유는, 굴절률이 1.40을 초과하는 입자를 첨가하더라도, 반사 방지성이 우수한 경화막을 얻을 수 없기 때문이다. 또한, 반사 방지 성능은 굴절률 1.00을 하한으로 하여 낮을수록 바람직하지만, 중공 입자를 사용한 경우에는, 굴절률이 낮아짐에 따라 입자의 강도가 저하되기 때문에, 경화막의 경도나 내찰상성도 저하된다. 그 때문에, 굴절률의 하한은 1.20으로 하는 것이 바람직하다.The refractive index of the particles is 1.40 or less, preferably 1.35 or less, and more preferably 1.30 or less. The reason for the refractive index being 1.40 or less is that a cured film excellent in antireflection cannot be obtained even if particles having a refractive index exceeding 1.40 are added. Moreover, although the reflection prevention performance is so preferable that it is low with a refractive index 1.00 as a lower limit, when hollow particles are used, since the intensity | strength of particle | grains falls with a low refractive index, hardness and abrasion resistance of a cured film also fall. Therefore, the lower limit of the refractive index is preferably 1.20.
본 명세서 중에 있어서의 「굴절률」이란, 25℃에 있어서의 Na-D선(파장 589nm)의 굴절률을 말한다. 본 명세서 중에 있어서의 「입자의 굴절률」은, 동일 매트릭스 중에 고형분 중의 입자 함량을 1질량％, 10질량％, 20질량％로 한 조성물을 성막하고, JIS K 7105(ISO489)에 따라 25℃에 있어서의 Na-D선에서의 굴절률을 측정하고, 검량선법으로 계산한 입자 함량 100질량％의 값을 말한다.The "refractive index" in this specification means the refractive index of the Na-D line (wavelength 589 nm) in 25 degreeC. The "refractive index of particle | grains" in this specification forms the composition which made the particle content in solid content 1 mass%, 10 mass%, and 20 mass% in the same matrix, in 25 degreeC according to JISK7105 (ISO489). The refractive index in the Na-D line is measured, and the value of the
투과형 전자 현미경에 의해 측정한 입자의 수 평균 입자경은, 바람직하게는 1∼100nm이며, 보다 바람직하게는 5∼60nm이다. 입자의 형상은, 구 형상에 한정되지 않고 부정형의 형상이라도 좋다.The number average particle diameter of the particles measured by the transmission electron microscope is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 60 nm. The shape of the particles is not limited to a spherical shape, but may be an irregular shape.
중공 실리카 입자의 시판품으로서는, 예를 들면, 닛키쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 제조의 「JX1008SIV」(투과형 전자 현미경으로 구한 수 평균 입자경 50nm, 굴절률 1.29, 고형분 20질량％, 이소프로필알코올 용제), 「JX1009SIV」(투과형 전자 현미경으로 구한 수 평균 입자경 50nm, 굴절률 1.29, 고형분 20질량％, 메틸이소부틸케톤 용제) 등을 들 수 있다.As a commercial item of a hollow silica particle, "JX1008SIV" by Nikki Shokubai Kasei Co., Ltd. (number average particle diameter 50 nm calculated | required with the transmission electron microscope, 1.29 refractive index, 20 mass% of solid content, isopropyl alcohol solvent), " JX1009SIV ”(number average particle diameter 50 nm calculated | required with the transmission electron microscope, 1.29 refractive index, 20 mass% of solid content, the methyl isobutyl ketone solvent), etc. are mentioned.
본 실시 형태에 이용되는 중공 실리카 입자는, 입자 변성제로 변성된 것이라도 좋다. 입자 변성제로서는, 중합성 불포화기 및 가수분해성 실릴기를 갖는 화합물(이하, 「중합성 입자 변성제」라고도 함)을 들 수 있다. 중합성 입자 변성제의 중합성 불포화기로서는 비닐기, (메타)아크릴로일기를 들 수 있다. 또한, 가수분해성 실릴기란 물과 반응하여 실라놀기(Si-OH)를 생성하는 것으로서, 예를 들면, 규소에 1 이상의 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기 등의 알콕실기, 아릴옥시기, 아세톡시기, 아미노기, 할로겐 원자가 결합한 것을 말한다.The hollow silica particles used in the present embodiment may be modified with a particle modifier. Examples of the particle modifier include compounds having a polymerizable unsaturated group and a hydrolyzable silyl group (hereinafter also referred to as "polymerizable particle modifier"). As a polymerizable unsaturated group of a polymeric particle modifier, a vinyl group and a (meth) acryloyl group are mentioned. In addition, hydrolyzable silyl groups react with water to produce silanol groups (Si-OH). For example, silicon has one or more methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups, n-butoxide. The thing which the alkoxyl group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, and a halogen atom, such as a time period, couple | bonded.
본 실시 형태에 이용되는 중합성 입자 변성제는 메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란 등의 시판품을 사용할 수도 있고, 예를 들면, 국제공개공보 WO97/12942호 공보에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다.Commercially available products, such as methacryloyloxypropyl trimethoxysilane, can also be used for the polymeric particle modifier used for this embodiment, For example, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. WO97 / 12942 can also be used.
또한, 입자 변성제로서는 불소를 함유하는 가수분해성 실릴기를 갖는 화합물(이하, 「불소 함유 입자 변성제」라고도 함)을 사용할 수도 있다. 불소 함유 입자 변성제를 사용함으로써, 중공 실리카 입자를 효율 좋게 편재시키는 것이 가능해진다. 본 실시 형태에 이용되는 불소 함유 입자 변성제는 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란 등의 시판품을 사용할 수 있다.As the particle modifier, a compound having a hydrolyzable silyl group containing fluorine (hereinafter also referred to as a "fluorine-containing particle modifier") may be used. By using the fluorine-containing particle modifier, it becomes possible to efficiently localize the hollow silica particles. Commercial products, such as a tridecafluorooctyl trimethoxysilane, can be used for the fluorine-containing particle | grain modifier used for this embodiment.
또한, 알킬기를 갖는 입자 변성제나 실리콘 사슬을 갖는 입자 변성제도 불소 함유 입자 변성제와 동일하게 사용할 수 있다.In addition, a particle modifier having an alkyl group and a particle modifier having a silicone chain can be used in the same manner as the fluorine-containing particle modifier.
상기의 각종 입자 변성제는 1종 단독으로 이용해도 좋고, 복수종을 조합하여 이용해도 좋다.Said various particle modifiers may be used individually by 1 type, and may be used in combination of multiple types.
본 실시 형태에 이용되는 중공 실리카 입자를 변성시키기 위해서는, 중공 실리카 입자와 입자 변성제를 혼합하여 가수분해시킴으로써 양자를 결합시키면 된다. 얻어진 반응성 중공 실리카 입자 중의 유기 중합체 성분, 즉 가수분해성 실란의 가수분해물 및 축합물의 비율은, 통상 건조 분체를 공기 중에서 완전히 연소시킨 경우의 중량 감소 ％의 항량값으로서, 예를 들면 공기 중에서 실온으로부터 통상 800℃까지의 열중량 분석에 의해 구할 수 있다.In order to modify | denature the hollow silica particle used for this embodiment, what is necessary is just to couple both by mixing and hydrolyzing a hollow silica particle and a particle modifier. The ratio of the organic polymer component, ie, the hydrolyzate and condensate of the hydrolyzable silane, in the obtained reactive hollow silica particles is usually a weight loss percentage at the time of completely burning the dry powder in air, for example, usually from room temperature in air. It can obtain | require by thermogravimetric analysis up to 800 degreeC.
반응성 중공 실리카 입자로의 입자 변성제의 결합량은, 변성 후의 중공 실리카 입자를 100질량％로 하여, 바람직하게는 0.01∼40질량％이며, 보다 바람직하게는 0.1∼30질량％, 특히 바람직하게는 1∼20질량％이다. 중공 실리카 입자에 반응시키는 입자 변성제의 양을 상기 범위로 함으로써, 조성물 중에 있어서의 중공 실리카 입자의 분산성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 얻어지는 경화물의 투명성이나 내찰상성을 높이는 효과도 기대할 수 있다.The binding amount of the particle modifier to the reactive hollow silica particles is 100% by mass of the modified hollow silica particles, preferably 0.01 to 40% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, particularly preferably 1 It is -20 mass%. By setting the amount of the particle modifier to react with the hollow silica particles in the above range, not only the dispersibility of the hollow silica particles in the composition can be improved, but also the effect of increasing the transparency and scratch resistance of the resulting cured product can be expected.
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물 중에 있어서, (B) 성분의 함유량은 형성하는 경화막의 막두께에 따라서 적절히 조정할 수 있지만, (D) 용제를 제외한 성분의 합계를 100질량％로 했을 때에 바람직하게는 0.2∼5질량％, 더욱 바람직하게는 0.3∼3질량％로 할 수 있다. 예를 들면, 경화막의 막두께가 10㎛의 경우, 용제를 제외한 성분의 합계를 100질량％로 했을 때에 바람직하게는 0.4∼1.2질량％, 보다 바람직하게는 0.5∼1질량％의 범위 내이다. 예를 들면, 경화막의 막두께가 7㎛의 경우, 바람직하게는 0.6∼1.8질량％, 보다 바람직하게는 0.7∼1.5질량％이며, 경화막의 막두께가 3㎛의 경우, 바람직하게는 1.2∼4질량％, 보다 바람직하게는 1.5∼3질량％의 범위 내이다. (B) 성분의 함유량이 상기의 범위 미만이면, 반사 방지성을 발현하는 (B) 성분이 고밀도로 존재하는 층(저굴절률층)을 형성할 수 없는 경우가 있다. 한편, (B) 성분의 함유량이 상기의 범위를 초과하면, 반사 방지성을 발현하는 (B) 성분이 고밀도로 존재하는 층(저굴절률층)의 두께가 너무 커져, 반사율 저감 효과가 발현되지 않는 경우가 있다.In the curable composition which concerns on this embodiment, content of (B) component can be adjusted suitably according to the film thickness of the cured film to form, However, When the sum total of the component except the (D) solvent is 100 mass%, Preferably it is 0.2 -5 mass%, More preferably, it can be 0.3-3 mass%. For example, when the film thickness of a cured film is 10 micrometers, when the sum total of the component except a solvent is 100 mass%, Preferably it is 0.4-1.2 mass%, More preferably, it exists in the range of 0.5-1 mass%. For example, when the film thickness of a cured film is 7 micrometers, Preferably it is 0.6-1.8 mass%, More preferably, it is 0.7-1.5 mass%, When the film thickness of a cured film is 3 micrometers, Preferably it is 1.2-4 Mass%, More preferably, it exists in the range of 1.5-3 mass%. When content of (B) component is less than the said range, the layer (low refractive index layer) in which (B) component which expresses antireflection exists in high density may not be formed. On the other hand, when content of (B) component exceeds said range, the thickness of the layer (low refractive index layer) in which (B) component which expresses antireflection exists in high density will become large too much, and a reflectance reduction effect will not be expressed. There is a case.
1.3. (C) 중합 개시제1.3. (C) polymerization initiator
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은 (C) 중합 개시제를 함유해도 좋다. 이러한 (C) 중합 개시제로서는, 예를 들면 (A) 성분으로서 (메타)아크릴에스테르 화합물 및/또는 비닐 화합물을 함유하는 경우에는, 열적으로 활성 라디칼종을 발생시키는 화합물(열 라디칼 중합 개시제) 및 방사선(광) 조사에 의해 활성 라디칼종을 발생시키는 화합물(방사선(광) 라디칼 중합 개시제) 등의 범용품을 들 수 있다. 이들 중에서도 방사선(광) 라디칼 중합 개시제가 바람직하다.The curable composition which concerns on this embodiment may contain the (C) polymerization initiator. As such a (C) polymerization initiator, when it contains (meth) acrylic ester compound and / or a vinyl compound as (A) component, for example, the compound (thermal radical polymerization initiator) and radiation which generate | occur | produce an active radical species thermally General purpose products, such as a compound (radiation (photo) radical polymerization initiator) which generate | occur | produces an active radical species by (light) irradiation, are mentioned. Among these, a radiation (photo) radical polymerization initiator is preferable.
방사선(광) 라디칼 중합 개시제로서는, 광 조사에 의해 분해하여 라디칼을 발생시켜 중합이 개시될 수 있는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 잔톤, 플루오레논, 벤즈알데하이드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티옥산톤, 디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1,4-(2-하이드록시에톡시)페닐-(2-하이드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 올리고(2-하이드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로파논) 등을 들 수 있다.The radiation (photo) radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals and polymerization can be initiated. For example, acetophenone, acetophenonebenzyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4- Chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, benzoinpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2- Hydroxy-2-methylpropane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino Phenyl) -butanone-1,4- (2- Hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphineoxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4 -Trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like.
방사선(광) 라디칼 중합 개시제의 시판품으로서는, 예를 들면, 치바재팬 가부시키가이샤 제조의 이르가큐어(Irgacure) 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, 다로큐어(Darocur) 1116, 1173, BASF사 제조의 루시린(Lucirin) TPO, 8893UCB사 제조의 우베크릴(Uvecryl) P36, 람베르티(Lamberti)사 제조의 에자큐어(Esacure) KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTＯ46, KIP75/B 등을 들 수 있다.As a commercial item of a radiation (photo) radical polymerization initiator, Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, for example is manufactured by Chiba Japan. CG24-61, Darocur 1116, 1173, Lucirin TPO, manufactured by BASF, Uvecryl P36, manufactured by 8893UCB, Esacure KIP150, manufactured by Lamberti, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KT46, KIP75 / B, etc. are mentioned.
열 라디칼 중합 개시제로서는, 가열에 의해 분해하여 라디칼을 발생시켜 중합을 개시하는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 과산화물, 아조 화합물을 들 수 있으며, 구체예로서는, 벤조일퍼옥사이드, t-부틸-퍼옥시벤조에이트, 아조비스이소부티로니트릴 등을 들 수 있다.The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it decomposes by heating to generate radicals to initiate polymerization, and examples thereof include peroxides and azo compounds, and specific examples thereof include benzoyl peroxide and t-butyl-perm. Oxybenzoate, azobisisobutyronitrile and the like.
또한, (C) 중합 개시제로서는, (A) 성분으로서 에폭시 화합물 및/또는 알콕시메틸아민 화합물을 함유하는 경우, 산성 화합물 및 방사선(광) 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물(방사선(광) 산 발생제) 등의 범용품을 들 수 있다.Moreover, when (C) polymerization initiator contains an epoxy compound and / or an alkoxy methylamine compound as (A) component, the compound (radiation (light) acid generation | generation) which produces an acid by acidic compound and radiation (light) irradiation General-purpose products, such as a).
방사선(광) 산 발생제로서는, 트리아릴술포늄염류, 디아릴요오드늄염류 등의 화합물을 사용할 수 있다. 방사선(광) 산 발생제의 시판품으로서는, 산아프로(san-apro) 가부시키가이샤 제조의 CIP-100P, 101A 등을 들 수 있다.As a radiation (photo) acid generator, compounds, such as a triaryl sulfonium salt and a diaryl iodonium salt, can be used. As a commercial item of a radiation (photo) acid generator, CIP-100P by the San-apro, 101A, etc. are mentioned.
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물 중에 있어서, 필요에 따라 이용되는 (C) 중합 개시제의 함유량은, 용제를 제외한 성분의 합계를 100질량％로 했을 때에 바람직하게는 0.01∼20질량％, 보다 바람직하게는 0.1∼10질량％의 범위 내이다. 0.01질량％ 미만이면 경화물로 했을 때의 경도가 불충분해질 우려가 있고, 20질량％를 초과하면 도막의 경도가 손상될 우려가 있다.In the curable composition which concerns on this embodiment, when content of the (C) polymerization initiator used as needed makes the sum total of the component except a solvent 100 mass%, Preferably it is 0.01-20 mass%, More preferably, It exists in the range of 0.1-10 mass%. If it is less than 0.01 mass%, the hardness when using it as a hardened | cured material may become inadequate, and when it exceeds 20 mass%, the hardness of a coating film may be damaged.
1.4. (D) 용제1.4. (D) solvent
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, 도막의 두께를 조절하기 위해 (D) 용제로 희석하여 이용할 수 있다. 예를 들면, 본 실시 형태에 따른 경화성 조성물을 반사 방지막이나 피복재로서 이용하는 경우의 점도는 통상 0.1∼50,000mPa·초/25℃이며, 바람직하게는 0.5∼10,000mPa·초/25℃이다.In order to adjust the thickness of a coating film, the curable composition concerning this embodiment can be diluted and used with a solvent (D). For example, the viscosity at the time of using the curable composition which concerns on this embodiment as an antireflection film and a coating material is 0.1-50,000 mPa second / 25 degreeC normally, Preferably it is 0.5-10,000 mPa second / 25 degreeC.
(D) 용제로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; Examples of the solvent (D) include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol;
아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논 등의 케톤류; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone;
아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 에틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate;
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에테르류; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether;
벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene;
디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류 등을 들 수 있다.Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에 있어서, 필요에 따라 이용되는 (D) 용제의 함유량은, (D) 용제를 제외한 성분의 합계를 100질량부로 했을 때에 50∼10,000질량부의 범위 내인 것이 바람직하다. 용제의 함유량은 도포막 두께, 경화성 조성물의 점도 등을 고려하여 적절히 결정할 수 있다.In the curable composition which concerns on this embodiment, it is preferable that content of the (D) solvent used as needed exists in the range of 50-10,000 mass parts when the sum total of the component except the (D) solvent is 100 mass parts. Content of a solvent can be suitably determined in consideration of coating film thickness, the viscosity of a curable composition, etc.
1.5. 그 외의 첨가제1.5. Other additives
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, 필요에 따라서 입자 분산제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 실란 커플링제, 노화 방지제, 열중합 금지제, 착색제, 레벨링제, 계면 활성제, 보존 안정제, 가소제, 활제, 무기계 충전재, 유기계 충전재, 필러, 젖음성 개량제, 도면(塗面) 개량제 등을 함유할 수 있다. 또한, 상기 예시한 입자 분산제로서 불소 원자를 함유하는 화합물 및/또는 실록산 사슬을 갖는 화합물을 사용함으로써, 중공 실리카 입자의 편재화를 촉진하여 도막의 굴절률을 저하시킬 수 있다.The curable composition concerning this embodiment is a particle dispersing agent, antioxidant, a ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, a coloring agent, a leveling agent, surfactant, a storage stabilizer, a plasticizer, a lubricant. And inorganic fillers, organic fillers, fillers, wettability modifiers, drawing improvers, and the like. Moreover, by using the compound containing a fluorine atom and / or the compound which has a siloxane chain as said particle dispersing agent illustrated above, localization of a hollow silica particle can be promoted and the refractive index of a coating film can be reduced.
1.6. 경화성 조성물의 제조 방법1.6. Process for producing curable composition
본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, (A) 중합성 화합물, (B) 입자, 필요에 따라서 (C) 중합 개시제, (D) 용제, 그 외의 첨가제를 각각 첨가하여, 실온 또는 가열 조건하에서 혼합함으로써 조제할 수 있다. 구체적으로는, 믹서, 니더, 볼밀, 3롤 등의 혼합기를 이용하여 조제할 수 있다. 단, 가열 조건하에서 혼합하는 경우에는, 필요에 따라 첨가된 열중합 개시제의 분해 온도 이하에서 행하는 것이 바람직하다.The curable composition which concerns on this embodiment adds (A) polymeric compound, (B) particle | grains, (C) polymerization initiator, (D) solvent, and other additives as needed, respectively, and mixes at room temperature or heating conditions, I can prepare it. Specifically, it can prepare using mixers, such as a mixer, a kneader, a ball mill, and 3 rolls. However, when mixing under heating conditions, it is preferable to carry out below the decomposition temperature of the thermal-polymerization initiator added as needed.
2. 반사 방지용 적층체 및 그의 제조 방법2. Antireflection laminate and its manufacturing method
2.1. 반사 방지용 적층체의 제조 방법2.1. Manufacturing method of antireflection laminate
본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체의 제조 방법은, (a) 하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물과, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하의 관계를 충족하는 경화성 조성물을 준비하는 공정(이하, 「공정(a)」라고도 함)과, (b) 상기 경화성 조성물을 기재에 도포한 후, 경화시키는 공정(이하,「공정(b)」라고도 함)을 포함한다.The method for producing an antireflection laminate according to the present embodiment includes (a) a polymerizable compound having at least one polar group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less. To prepare a curable composition containing a total of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration in 1 g of the total polymerizable compound satisfying a relationship of 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less. The process (henceforth "a process (a)"), and (b) apply | coat the said curable composition to a base material, and harden | cure, it also includes the process (henceforth "a process (b)").
이러한 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 의하면, 상기 조건을 충족하는 경화성 조성물을 기재에 한번 도포하여 경화시킴으로써, 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 굴절률이 1.40 이하인 입자가 고밀도로 존재하는 층을 형성하고, 기재와 접촉하는 면측에 1.40 이하인 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층을 형성할 수 있다. 이에 따라, 내찰상성 및 저굴절률성의 쌍방을 겸비한 반사 방지용 적층체를 제조할 수 있다. 이하, 공정마다 설명한다.According to the method for producing an antireflective laminate, a layer having a high density of particles having a refractive index of 1.40 or less is present on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate by applying a curable composition that satisfies the above conditions to the substrate and curing it. It is possible to form a layer which is substantially free of particles of 1.40 or less on the surface side in contact with the substrate. Thereby, the antireflection laminated body which has both scratch resistance and low refractive index can be manufactured. Hereinafter, it demonstrates for every process.
2.1.1. 공정(a)2.1.1. Process (a)
공정(a)는, 전술한 경화성 조성물을 준비하는 공정이다. 이러한 경화성 조성물의 구성이나 제조 방법 등은 전술한 바와 같기 때문에, 상세한 설명은 생략하는 것으로 한다.Process (a) is a process of preparing the curable composition mentioned above. Since the structure, manufacturing method, etc. of such a curable composition are as above-mentioned, detailed description is abbreviate | omitted.
2.1.2. 공정(b)2.1.2. Process (b)
공정(b)는, 공정(a)에서 준비된 경화성 조성물을 기재에 도포한 후, 경화시키는 공정이다.Process (b) is a process of hardening | curing after apply | coating the curable composition prepared at the process (a) to a base material.
공정(a)에서 준비된 경화성 조성물을 기재에 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 바코팅 도공, 에어 나이프 도공, 그라비어 도공, 그라비어 리버스 도공, 리버스 롤 도공, 립 도공, 다이 도공, 딥 도공, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다.The method of apply | coating the curable composition prepared at the process (a) to a base material is not specifically limited, For example, bar coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, Well-known methods, such as offset printing, flexographic printing, and screen printing, can be used.
경화성 조성물의 경화 조건에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 전술한 경화성 조성물을 여러 종류의 기재, 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스 수지 기재, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재 등에 도포하여 경화시킬 수 있다. 구체적으로는, 상기 경화성 조성물을 도포하여, 바람직하게는 0∼200℃에서 휘발 성분을 건조시킨 후, 방사선 및/또는 열로 경화 처리를 행함으로써 반사 방지용 적층체를 형성할 수 있다. 열로 경화시키는 경우의 바람직한 조건은 20∼150℃이며, 10초∼24시간의 범위에서 행해진다. 방사선으로 경화시키는 경우, 자외선 또는 전자선을 이용하는 것이 바람직하다. 자외선의 조사 광량은 바람직하게는 0.01∼10J/㎠이고, 보다 바람직하게는 0.1∼2J/㎠이다. 또한, 전자선의 조사(照射) 조건은 가압 전압이 10∼300kV, 전자 밀도가 0.02∼0.30mA/㎠, 전자선 조사량이 1∼10Mrad이다.Although it does not specifically limit about the hardening conditions of a curable composition, The curable composition mentioned above can be apply | coated and hardened | cured by various types of base materials, for example, a triacetyl cellulose resin base material, a polyethylene terephthalate base material, etc. Specifically, after coating the said curable composition, and drying a volatile component at 0-200 degreeC preferably, a reflection prevention laminated body can be formed by hardening with radiation and / or heat. Preferable conditions when hardening with heat are 20-150 degreeC, and are performed in 10 second-24 hours. In the case of curing with radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. The irradiation light amount of ultraviolet rays is preferably 0.01 to 10 J / cm 2, more preferably 0.1 to 2 J / cm 2. Moreover, irradiation conditions of an electron beam are 10-300 kV of pressurized voltages, 0.02-0.30 mA / cm <2> of electron densities, and 1-10 Mrad of electron beam irradiation amounts.
2.2. 반사 방지용 적층체2.2. Anti-reflective laminate
본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체는, 전술한 반사 방지용 적층체의 제조 방법에 의해 제조된 것이다. 도 1은, 본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체를 모식적으로 나타낸 단면도이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체(100)는, 기재(10)의 위에 전술한 경화성 조성물을 경화시킨 경화막(20)이 형성되어 있고, 상기 경화막(20) 중 기재(10)와 접촉한 면측에는 입자(22)가 실질적으로 존재하지 않는 하드코팅층(24)이 형성되고, 기재(10)와 접촉한 면과는 반대의 면측에 입자(22)가 고밀도로 존재하는 저굴절률층(26)이 형성되어 있다. 경화막(20) 중 입자 이외의 부분(이하, 「매트릭스」라고도 함)은, 상기 경화성 조성물의 (B) 성분 이외가 경화함으로써 얻어지며, 매트릭스 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 것이 바람직하다. 이하, 본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체의 각 층에 대해서 설명한다.The antireflection laminate according to the present embodiment is produced by the method for producing the antireflection laminate described above. 1 is a cross-sectional view schematically showing the antireflective laminate according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the anti-reflective
2.2.1. 기재2.2.1. materials
본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체에 이용되는 기재(10)의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴계 수지, 유리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 트리아세틸셀룰로오스 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지로 이루어지는 기재인 것이 바람직하다. 이들 기재를 포함하는 반사 방지용 적층체로 함으로써, 전술한 경화성 조성물 중에 포함되는 (A1) 성분이 기재에 끌어당겨지기 쉬워진다. 특히 기재가 트리아세틸셀룰로오스 수지이고, 또한 (A1) 성분으로서 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트를 함유하고 있는 경우에는 이러한 작용 효과가 현저하게 발현된다. 이에 따라, 기재와 접촉한 면과는 반대의 면측에 입자(22)가 고밀도로 존재하는 저굴절률층(26)을 형성할 수 있다.Although the kind of
또한, 이들 기재를 포함하는 반사 방지용 적층체로 함으로써, 카메라의 렌즈부, 텔레비전(CRT; cathode ray tube)의 화면 표시부, 혹은 액정 표시 장치에 있어서의 컬러필터 등의 광범위한 하드코팅 및/또는 반사 방지막의 이용 분야에 있어서, 우수한 내찰상성 및 반사 방지 효과를 얻을 수 있다.In addition, the antireflection laminate including these substrates can be used to provide a wide range of hard coatings and / or antireflection films, such as a lens unit of a camera, a screen display unit of a television (CRT (cathode ray tube)), or a color filter in a liquid crystal display device. In the field of use, excellent scratch resistance and antireflection effect can be obtained.
2.2.2. 하드코팅층2.2.2. Hard coating layer
하드코팅층(24)은, 전술한 경화성 조성물을 경화하여 얻어지는 2층 구조를 갖는 경화막(20) 중 입자(22)가 실질적으로 존재하지 않는 층으로 구성된다.The
하드코팅층(24)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1∼50㎛, 보다 바람직하게는 1∼10㎛이다. 하드코팅층(24)의 두께가 1㎛ 미만이면 기재(10)에 대한 밀착력을 향상시킬 수 없는 경우가 있으며, 한편, 50㎛를 초과하면 균질한 막을 형성하는 것이 곤란해지는 경우가 있기 때문이다.Although the thickness of the
2.2.3. 저굴절률층2.2.3. Low refractive index layer
저굴절률층(26)은 전술한 경화성 조성물을 경화하여 얻어지는 2층 구조를 갖는 경화막(20) 중 입자(22)가 고밀도로 존재하는 층으로 구성된다.The low
저굴절률층(26)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 50∼200nm, 보다 바람직하게는 60∼150nm, 특히 바람직하게는 80∼120nm이다. 저굴절률층(26)의 두께가 50nm 미만이면 충분한 반사 방지 효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 한편, 200nm를 초과하면 반사 방지 효과가 저하되는 경우가 있기 때문이다.Although the thickness of the low
본 실시 형태에 따른 반사 방지용 적층체(100)에 있어서의 하드코팅층(24)과저굴절률층(26)과의 굴절률차는 0.05 이상의 값으로 하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 하드코팅층(24)과 저굴절률층(26)과의 굴절률차가 0.05 미만의 값이면 이들 반사 방지막에서의 상승 효과가 얻어지지 않고, 오히려 반사 방지 효과가 저하되는 경우가 있기 때문이다.It is preferable that the refractive index difference between the
3. 실시예3. Example
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 전혀 아니다.EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
3.1. 실시예 13.1. Example 1
3.1.1. 경화성 조성물의 제조3.1.1. Preparation of Curable Compositions
자외선을 차폐한 용기 중에 있어서, 중공 실리카 입자(상품명 「JX-1009SIV」, 20질량％ 메틸이소부틸케톤졸, 닛키쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 제조) 5질량부(고형분으로서 1질량부), 글리세린에폭시아크릴레이트(상품명 「데나콜(Denacol) DA314」, 나가세켐텍스 가부시키가이샤 제조) 96질량부, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온(상품명 「이르가큐어(등록상표) 907」, 치바재팬 가부시키가이샤 제조) 3질량부, 사일라플레인(Silaplane) FM 0725(칫소 가부시키가이샤 제조) 0.1질량부, 또한 메틸이소부틸케톤(표 중에서는 「MIBK」의 약칭을 이용함)을 적량 더하여 실온에서 2시간 교반함으로써 균일한 용액을 얻었다. 이 용액을 알루미늄 접시에 2g 칭량 후, 175℃의 핫플레이트 상에서 30분간 건조시키고, 칭량한 후 고형분 함량을 구한 결과 50질량％였다.In the container which shielded the ultraviolet-ray, 5 mass parts (1 mass part as solid content), glycerin (hollow silica particle (brand name "JX-1009SIV", 20 mass% methyl isobutyl ketone sol, Nikki Shokubai Kasei Co., Ltd. make)), glycerin 96 parts by mass of epoxy acrylate (trade name "Denacol DA314", manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1- On (brand name `` Irgacure (registered trademark) 907), 3 parts by mass of Chiba Japan Co., Ltd.), 0.1 parts by mass of Silaplane (Silaplane) FM 0725 (manufactured by Chisso Corp.), and methyl isobutyl ketone ( In the table, a uniform solution using the abbreviation of "MIBK" was added and stirred at room temperature for 2 hours to obtain a uniform solution. After weighing 2 g of this solution in an aluminum dish, it dried for 30 minutes on a 175 degreeC hotplate, and weighed, and obtained 50 mass% of solid content.
3.1.2. 경화막 샘플의 제작3.1.2. Preparation of Cured Film Sample
상기 「3.1.1. 경화성 조성물의 제조」에서 얻어진 용액을 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(상품명 「TDY-80UL」, 후지 필름 가부시키가이샤 제조) 상에 바코터를 이용하여 전체의 경화막 두께가 약 7㎛가 되도록 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 질소 흐름 하에서 고압 수은등(300mJ/㎠)을 이용하여 경화시켰다. 또한, 도포는 롤 형상으로 감겨진 필름의 내측 면에 도막을 형성하도록 행했다.Said "3.1.1. Apply the solution obtained in "Preparation of a curable composition" onto a triacetyl cellulose (TAC) film (trade name "TDY-80UL", manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) using a bar coater so that the total cured film thickness is about 7 µm. After drying at 80 ° C. for 2 minutes, the mixture was cured using a high pressure mercury lamp (300 mJ / cm 2) under a nitrogen flow. In addition, application | coating was performed so that a coating film may be formed in the inner surface of the film wound by roll shape.
3.2. 실시예 2∼23, 비교예 1∼43.2. Examples 2 to 23, Comparative Examples 1 to 4
표 2∼표 4에 나타내는 성분을, 표 2∼표 4에 나타내는 조성으로 배합한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 경화성 조성물을 제조하여, 경화막 샘플을 얻었다. 또한, 중합성 화합물의 종류, 상품명, 극성기의 종류, 극성기 농도를 표 1에 정리해 두었다.The curable composition was produced like Example 1 except having mix | blended the component shown in Table 2-Table 4 with the composition shown in Table 2-Table 4, and the cured film sample was obtained. In addition, the kind, brand name, polar group kind, and polar group concentration of a polymeric compound are put together in Table 1.
또한, 실시예 13 및 실시예 23에서 사용한 입자 「B-1」은, 다음과 같이 하여 합성했다. 중공 실리카 입자(상품명 「JX-1009SIV」, 메틸이소부틸케톤졸, 닛키쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 제조) 90.9질량부(고형분 농도; 20질량부), 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란(GE 도시바 실리콘 가부시키가이샤 제조) 1질량부, 이소프로판올 0.1질량부 및 이온 교환수 0.05질량부의 혼합액을, 80℃에서 3시간 교반 후, 오르토 포름산 메틸에스테르 0.7질량부를 첨가하고, 추가로 1시간 동일 온도에서 가열 교반함으로써 무색 투명의 입자 분산액 B-1을 얻었다. B-1을 알루미늄 접시에 2g 칭량 후, 120℃의 핫플레이트 상에서 1시간 건조, 칭량하여 고형분 함량을 구한 결과 22.5질량％였다.In addition, particle | grains "B-1" used in Example 13 and Example 23 were synthesize | combined as follows. Hollow silica particles (trade name "JX-1009SIV", methyl isobutyl ketone sol, manufactured by Nikki Shokubai Kasei Co., Ltd.) 90.9 parts by mass (solid content concentration: 20 parts by mass), tridecafluorooctyltrimethoxysilane (GE 0.7 mass parts of ortho formic acid methyl esters are added after stirring a mixed liquid of 1 mass part of Toshiba Silicone Co., Ltd.), 0.1 mass part of isopropanol, and 0.05 mass part of ion-exchange water at 80 degreeC for 3 hours, and also at the same temperature for 1 hour. Colorless and transparent particle dispersion B-1 was obtained by heating and stirring. After weighing 2 g of B-1 in an aluminum dish, the resultant was dried for 1 hour on a hot plate at 120 ° C and weighed to obtain a solid content, which was 22.5% by mass.
3.3. 평가 시험3.3. Evaluation test
실시예 및 비교예에서 얻어진 경화성 조성물 및 경화막의 특성을 하기 항목목에 대해서 평가했다. 그 결과를 표 2∼표 4에 함께 나타낸다.The properties of the curable composition and cured film obtained in the examples and the comparative examples were evaluated for the following items. The results are shown in Tables 2 to 4 together.
3.3.1 반사율3.3.1 Reflectance
얻어진 경화막의 이면을 흑색 스프레이로 도장하고, 분광 반사율 측정 장치(대형 시료실 적분구 부속 장치 150-09090을 조입한 자기 분광 광도계 U-3410, 히타치세이사쿠쇼 가부시키가이샤 제작)에 의해 파장 340∼700nm의 범위에 있어서의 반사율을 기재측으로부터 측정하여 평가했다. 구체적으로는, 알루미늄의 증착막에 있어서의 반사율을 기준(100％)으로 하여, 각 파장에 있어서의 반사 방지용 적층체(반사 방지막)의 반사율을 측정하고, 그 중 파장 550nm에 있어서의 빛의 반사율을 표 2∼표 4에 함께 나타냈다. 반사율이 3.0％ 미만이면 저반사성을 갖는다고 판단할 수 있다.The back surface of the obtained cured film was apply | coated with black spray, and wavelength 340- was performed by the spectroscopic reflectance measuring apparatus (magnetic spectrophotometer U-3410 which manufactured the large sample chamber integrating apparatus attached to 150-09090, the Hitachi Seisakusho Co., Ltd. make). The reflectance in the range of 700 nm was measured and evaluated from the substrate side. Specifically, the reflectance of the antireflective laminate (antireflection film) at each wavelength is measured based on the reflectance in the vapor deposition film of aluminum, and the reflectance of light at a wavelength of 550 nm is measured. It showed together in Table 2-Table 4. If the reflectance is less than 3.0%, it can be judged to have low reflectivity.
3.3.2. 내찰상성(스틸울(steel wool) 내성 테스트)3.3.2. Scratch Resistance (Steel Wool Resistance Test)
얻어진 경화막을 스틸울(본스타(bonstar) No. 0000, 니혼스틸울 가부시키가이샤 제작)을 학진형(學振) 마찰 견뢰도(堅牢度) 시험기(AB-301, 테스터산교 가부시키가이샤 제작)에 부착하여, 경화막 표면을 하중 200g의 조건으로 10회 반복 찰과(擦過)하여, 당해 경화막의 표면에 있어서의 흠집 발생 유무를 이하의 기준에 의해 육안으로 확인했다. 평가 기준은, 이하와 같다.The obtained cured film was made to steel wool (bonstar No. 0000, manufactured by Nihon Steel Wool Co., Ltd.) in a Hakjin-type friction fastness tester (AB-301, manufactured by Tester Sankyo Co., Ltd.). The surface of the cured film was repeatedly rubbed 10 times under the condition of a load of 200 g, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was visually confirmed by the following criteria. Evaluation criteria are as follows.
AA : 경화막에 흠집이 발생하지 않는다.AA: Scratches do not occur in the cured film.
A : 경화막의 박리나 흠집의 발생이 거의 확인되지 않거나, 혹은 경화막에 근소하게 가는 흠집이 확인된다.A: Peeling of a cured film and generation | occurrence | production of a scratch are hardly confirmed, or the scratches which are slightly thin in a cured film are confirmed.
B : 경화막 전면(全面)에 줄무늬 형상의 흠집이 확인된다.B: Stripe-like scratches are observed on the entire cured film.
C : 경화막의 박리가 발생한다.C: Peeling of the cured film occurs.
3.3.3. 연필 경도3.3.3. Pencil hardness
얻어진 경화막을 유리 기판 상에 고정시켜「JIS K5600-5-4」(ISO)/DIS 15184)에 준거하여 평가했다.The obtained cured film was fixed on the glass substrate and evaluated based on "JIS K5600-5-4" (ISO) / DIS 15184).
3.4. 평가 결과3.4. Evaluation results
표 2 및 표 3의 결과로부터, 전체 중합성 화합물 중의 극성기 농도가 상기의 조건을 충족하는 실시예 1∼23의 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화막에 있어서는, 반사율이 3％ 미만이 되어 반사 방지성을 갖고 있는 것을 알았다. 또한, 내(耐)스틸울성의 결과로부터 내찰상성도 우수한 것을 알았다.From the result of Table 2 and Table 3, in the cured film formed by hardening | curing the curable composition of Examples 1-23 in which the polar group density | concentration in all polymeric compounds satisfy | fills the said conditions, a reflectance becomes less than 3%, and is antireflective I knew that I had. Moreover, it turned out that the scratch resistance is also excellent from the result of steel-resistant.
이에 대하여, 표 4의 결과로부터 전체 중합성 화합물 중의 극성기 농도가 상기의 조건을 충족하지 않는 비교예 1∼4의 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화막에 있어서는, 내찰상성은 우수하지만 반사율이 3％를 초과해 버려 반사율이떨어지는 것을 알았다.On the other hand, from the result of Table 4, in the cured film formed by hardening | curing the curable composition of Comparative Examples 1-4 in which the polar group concentration in all polymeric compounds does not satisfy said condition, although it is excellent in abrasion resistance, a reflectance is 3%. We exceeded and found that reflectance fell.
실시예 1∼23 및 비교예 1∼4의 적층체의 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과, 실시예 1∼23의 적층체는 경화막 표면에 입자가 편재되어 있는 것이 확인되었지만, 비교예 1∼4에서는 입자의 편재는 확인되지 않았다.As a result of observing the cross sections of the laminates of Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 4 with a transmission electron microscope, it was confirmed that particles of the laminates of Examples 1 to 23 were localized on the surface of the cured film. In -4, the ubiquity of the particle was not confirmed.
본 발명은 전술한 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 여러 종류의 변형이 가능하다. 예를 들면, 본 발명은, 실시 형태에서 설명한 구성과 실질적으로 동일한 구성(예를 들면, 기능, 방법 및 결과가 동일한 구성, 혹은 목적 및 효과가 동일한 구성)을 포함한다. 또한, 본 발명은, 실시 형태에서 설명한 구성의 본질적이지 않은 부분을 치환한 구성을 포함한다. 또한, 본 발명은, 실시 형태에서 설명한 구성과 동일한 작용 효과를 가져오는 구성 또는 동일한 목적을 달성할 수 있는 구성을 포함한다. 또한, 본 발명은, 실시 형태에서 설명한 구성에 공지 기술을 부가한 구성을 포함한다.This invention is not limited to embodiment mentioned above, A various kind of deformation | transformation is possible. For example, this invention includes the structure substantially the same as the structure demonstrated by embodiment (for example, the structure of the same function, method, and result, or the structure of the same objective and effect). In addition, this invention includes the structure which substituted the non-essential part of the structure demonstrated by embodiment. Moreover, this invention includes the structure which brings about the same effect as the structure demonstrated by embodiment, or the structure which can achieve the same objective. In addition, this invention includes the structure which added the well-known technique to the structure demonstrated by embodiment.
10 : 기재
20 : 경화막
22 : 입자
24 : 하드코팅층
26 : 저굴절률층
100 : 반사 방지용 적층체10: description
20: cured film
22: particle
24: hard coating layer
26: low refractive index layer
100: antireflection laminate
Claims (23)
하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 매트릭스와, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 경화막을 갖고,
상기 입자가 상기 경화막 중에 있어서 상기 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 편재되어 있는 반사 방지용 적층체.On the substrate,
A matrix having at least one polar group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, and containing a hydroxyl group concentration, a carboxyl group concentration, and a phosphoric acid in 1 g of the matrix. It has a cured film whose sum of ester group concentration and sulfo group concentration is 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less,
The antireflection laminated body in which the said particle is unevenly distributed in the surface side opposite to the surface which contacts the said base material in the said cured film.
상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체.The method of claim 1,
The anti-reflective laminated body of which the hydroxyl group density | concentration in the said matrix 1g is 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체.The method of claim 1,
The sum total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration, and the sulfo group concentration in 1 g of the matrix is 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
상기 매트릭스 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체.The method of claim 1,
The sum total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration, and the sulfo group concentration in 1 g of the matrix is 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
상기 입자는 중공(hollow) 실리카 입자인 반사 방지용 적층체.The method of claim 1,
The particles are anti-reflection laminates are hollow silica particles.
하이드록실기, 카복실기, 인산 에스테르기 및 술포기로부터 선택되는 1종 이상의 극성기를 갖는 중합성 화합물과, 굴절률이 1.40 이하인 입자를 함유하고, 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도, 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 경화성 조성물의 경화막을 갖고,
상기 입자가 상기 경화막 중에 있어서 상기 기재와 접촉하는 면과는 반대의 면측에 편재되어 있는 반사 방지용 적층체.On the substrate,
The hydroxyl group concentration in 1 g of all polymeric compounds containing the polymeric compound which has 1 or more types of polar groups chosen from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group, and a refractive index is 1.40 or less, and a carboxyl It has a cured film of the curable composition whose sum of group concentration, phosphate ester group concentration, and sulfo group concentration is 0.5 mmol / g or more and 15 mmol / g or less,
The antireflection laminated body in which the said particle is unevenly distributed in the surface side opposite to the surface which contacts the said base material in the said cured film.
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체.The method of claim 6,
The hydroxyl group concentration in 1 g of said all polymeric compounds is 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less laminated body for reflection prevention.
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체.The method of claim 6,
The sum total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration, and the sulfo group concentration in 1 g of the above-mentioned entire polymerizable compounds is 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체.The method of claim 6,
The sum total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration, and the sulfo group concentration in 1 g of the above all polymerizable compounds is 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
상기 입자는 중공 실리카 입자인 반사 방지용 적층체.The method of claim 6,
The particle is an antireflection laminate of hollow silica particles.
상기 기재는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름인 반사 방지용 적층체.The method according to any one of claims 1 to 10,
Said base material is a triacetyl cellulose resin film or a polyethylene terephthalate resin film.
상기 경화성 조성물의 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체의 제조 방법.The method of claim 12,
The hydroxyl group density | concentration in 1 g of all polymeric compounds of the said curable composition is a manufacturing method of the antireflection laminated body which is 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
상기 경화성 조성물의 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체의 제조 방법.The method of claim 12,
The manufacturing method of the antireflection laminated body in which the sum total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration, and the sulfo group concentration in 1 g of all the polymeric compounds of the said curable composition is 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
상기 경화성 조성물의 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하인 반사 방지용 적층체의 제조 방법.The method of claim 12,
The manufacturing method of the antireflection laminated body in which the sum total of the carboxyl group concentration, the phosphate ester group concentration, and the sulfo group concentration in 1 g of all the polymeric compounds of the said curable composition is 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
상기 입자는 중공 실리카 입자인 반사 방지용 적층체의 제조 방법.The method of claim 12,
The said particle | grain is a manufacturing method of the antireflection laminated body which is hollow silica particle.
상기 기재는 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 필름인 반사 방지용 적층체의 제조 방법.The method according to any one of claims 12 to 16,
The said base material is a manufacturing method of the antireflection laminated body which is a triacetyl cellulose resin film or a polyethylene terephthalate resin film.
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 하이드록실기 농도가 2.0mmol/g 이상 15mmol/g 이하인 경화성 조성물.The method of claim 18,
Curable composition whose hydroxyl group concentration in 1 g of said all polymeric compounds is 2.0 mmol / g or more and 15 mmol / g or less.
상기 중합성 화합물로서 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트를 함유하는 경화성 조성물.The method of claim 18,
Curable composition containing 2-hydroxyethyl (meth) acrylate as the said polymeric compound.
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 10mmol/g 이하인 경화성 조성물.The method of claim 18,
Curable composition in which the sum total of a carboxyl group concentration, a phosphate ester group concentration, and a sulfo group concentration in 1 g of the said total polymeric compounds is 0.5 mmol / g or more and 10 mmol / g or less.
상기 전체 중합성 화합물 1g 중에 있어서의 카복실기 농도, 인산 에스테르기 농도 및 술포기 농도의 합계가 0.5mmol/g 이상 5mmol/g 이하인 경화성 조성물.The method of claim 18,
Curable composition in which the sum total of a carboxyl group concentration, a phosphate ester group concentration, and a sulfo group concentration in 1 g of the said total polymeric compounds is 0.5 mmol / g or more and 5 mmol / g or less.
상기 입자는 중공 실리카 입자인 경화성 조성물.The method according to any one of claims 18 to 22,
The particles are hollow silica particles.
Applications Claiming Priority (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2009-271392 | 2009-11-30 | ||
| JP2009271392 | 2009-11-30 | ||
| JP2009271394 | 2009-11-30 | ||
| JPJP-P-2009-271394 | 2009-11-30 | ||
| JP2010100664A JP4775603B2 (en) | 2009-11-30 | 2010-04-26 | Antireflection laminate, method for producing the same, and curable composition |
| JPJP-P-2010-100664 | 2010-04-26 | ||
| JP2010100663A JP4831377B2 (en) | 2009-11-30 | 2010-04-26 | Antireflection laminate, method for producing the same, and curable composition |
| JPJP-P-2010-100663 | 2010-04-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20110060810A true KR20110060810A (en) | 2011-06-08 |
| KR101184995B1 KR101184995B1 (en) | 2012-10-02 |
Family
ID=44395499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020100114353A KR101184995B1 (en) | 2009-11-30 | 2010-11-17 | Antireflective laminate and manufacturing method thereof, and curable composition |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101184995B1 (en) |
| CN (1) | CN102152560A (en) |
| TW (1) | TW201127919A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017155337A1 (en) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 주식회사 엘지화학 | Anti-reflection film |
| US10222510B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-03-05 | Lg Chem, Ltd | Anti-reflective film |
| US10627548B2 (en) | 2015-11-04 | 2020-04-21 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008152199A (en) | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Konica Minolta Opto Inc | Antiglare antireflection film, polarizing plate and display apparatus each using the same |
| JP5157162B2 (en) | 2006-12-27 | 2013-03-06 | 日本ゼオン株式会社 | Antireflection laminate and method for producing the same |
-
2010
- 2010-11-17 KR KR1020100114353A patent/KR101184995B1/en active IP Right Grant
- 2010-11-22 TW TW099140217A patent/TW201127919A/en not_active IP Right Cessation
- 2010-11-29 CN CN2010105707415A patent/CN102152560A/en active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10627548B2 (en) | 2015-11-04 | 2020-04-21 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film and manufacturing method thereof |
| US11415726B2 (en) | 2015-11-04 | 2022-08-16 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film and manufacturing method thereof |
| WO2017155337A1 (en) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 주식회사 엘지화학 | Anti-reflection film |
| US10222510B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-03-05 | Lg Chem, Ltd | Anti-reflective film |
| US10627547B2 (en) | 2016-03-09 | 2020-04-21 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film |
| US10802178B2 (en) | 2016-03-09 | 2020-10-13 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film |
| US10895667B2 (en) | 2016-03-09 | 2021-01-19 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film |
| US10983252B2 (en) | 2016-03-09 | 2021-04-20 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film |
| US11262481B2 (en) | 2016-03-09 | 2022-03-01 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film |
| US11275199B2 (en) | 2016-03-09 | 2022-03-15 | Lg Chem, Ltd. | Anti-reflective film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI377236B (en) | 2012-11-21 |
| CN102152560A (en) | 2011-08-17 |
| TW201127919A (en) | 2011-08-16 |
| KR101184995B1 (en) | 2012-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5027915B2 (en) | Antireflection laminate, method for producing the same, and curable composition | |
| KR101009821B1 (en) | Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same | |
| JP4614813B2 (en) | Low refractive index film-forming composition and cured film-coated substrate | |
| JP5372417B2 (en) | Antireflection film | |
| KR20080078801A (en) | Anti-reflective optical film and method for manufacture thereof | |
| JP6354124B2 (en) | Antireflection film | |
| JP2002079600A (en) | Anti-reflection laminate | |
| JP2012247606A (en) | Laminate for antireflection and manufacturing method thereof, and curable composition | |
| JP2016020049A (en) | Fingerprint resistant antireflection film for insert molding and resin molded article using the same | |
| JP2013008025A (en) | Laminate for antireflection and manufacturing method thereof, and curable composition | |
| KR101184995B1 (en) | Antireflective laminate and manufacturing method thereof, and curable composition | |
| JP4775603B2 (en) | Antireflection laminate, method for producing the same, and curable composition | |
| JP2007238897A (en) | Curable resin composition and cured film comprising the same | |
| KR20120127421A (en) | Anti-reflective film and process for production thereof | |
| JP2012159744A (en) | Laminate for antireflection and producing method thereof, and curable composition | |
| JP2012247681A (en) | Laminate for antireflection and manufacturing method thereof, and curable composition | |
| JP4831377B2 (en) | Antireflection laminate, method for producing the same, and curable composition | |
| JP2008058348A (en) | Polarizer protection film | |
| JP2012247667A (en) | Laminate for antireflection and manufacturing method thereof, and curable composition | |
| JP6393970B2 (en) | HARD COAT COMPOSITION, HARD COAT FILM, AND ANTI-REFLECTION FILM | |
| JP2013109169A (en) | Antireflection member | |
| JP2010122267A (en) | Hard coat film, antireflection hard coat film, optical element, and image display | |
| JP2016136280A (en) | Anti-reflection laminate, manufacturing method therefor, and curable composition | |
| JP2006232864A (en) | Curable resin composition and cured film composed of the same | |
| JP6194665B2 (en) | Hard coat composition and antireflection film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| A302 | Request for accelerated examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150904 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170908 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190906 Year of fee payment: 8 |